JPH06213571A - バッチ式炉床回転式の雰囲気焼成炉 - Google Patents
バッチ式炉床回転式の雰囲気焼成炉Info
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- JPH06213571A JPH06213571A JP5038891A JP5038891A JPH06213571A JP H06213571 A JPH06213571 A JP H06213571A JP 5038891 A JP5038891 A JP 5038891A JP 5038891 A JP5038891 A JP 5038891A JP H06213571 A JPH06213571 A JP H06213571A
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- gas
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Abstract
(57)【要約】
【目的】焼成雰囲気ガスを匣内の精密な雰囲気焼成を必
要とする製品に均一に供給し、均一な品質を得ることが
できる。 【構成】下方が開口した側壁と天井からなる概略円筒状
の炉本体と、該炉本体に覆われて炉室を形成する回転可
能な炉床と、炉室に雰囲気ガスを供給する側壁の近辺に
設けられた回動可能な複数の供給管と、上記炉室中央部
に設けられた回動可能な複数の中央部供給管と、炉室か
ら上記雰囲気ガスを排出する炉室中央部の上記中央部供
給管の周辺に設けられた回動可能な複数の中央部排気管
と、側壁の近辺の上記供給管の間に配置された回動可能
な排気管とを備えるとともに、該排気管は、上記中央部
供給管の対向する位置の側壁近辺に配置されている雰囲
気焼成炉。
要とする製品に均一に供給し、均一な品質を得ることが
できる。 【構成】下方が開口した側壁と天井からなる概略円筒状
の炉本体と、該炉本体に覆われて炉室を形成する回転可
能な炉床と、炉室に雰囲気ガスを供給する側壁の近辺に
設けられた回動可能な複数の供給管と、上記炉室中央部
に設けられた回動可能な複数の中央部供給管と、炉室か
ら上記雰囲気ガスを排出する炉室中央部の上記中央部供
給管の周辺に設けられた回動可能な複数の中央部排気管
と、側壁の近辺の上記供給管の間に配置された回動可能
な排気管とを備えるとともに、該排気管は、上記中央部
供給管の対向する位置の側壁近辺に配置されている雰囲
気焼成炉。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明はバッチ式の雰囲気焼成炉
に関し、例えば精密な雰囲気制御を要するセラミックス
から成形した製品を匣に収容して焼成するのに適したバ
ッチ式の雰囲気炉床回転式の雰囲気焼成炉に関する。
に関し、例えば精密な雰囲気制御を要するセラミックス
から成形した製品を匣に収容して焼成するのに適したバ
ッチ式の雰囲気炉床回転式の雰囲気焼成炉に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、バッチ式炉床回転式の雰囲気焼成
炉としては、図7及び図8に示されるようなものが知ら
れている。この雰囲気焼成炉101は、下方が開口した
側壁102aと天井102bからなる概略円筒状の炉本
体102と、この炉本体102に覆われて炉室104を
形成する回転可能な炉床103とからなっている。炉室
104に雰囲気ガスを供給するため側壁102a近辺に
設けられた複数の供給管105と炉室104の中央部に
設けられた複数の中央部供給管106と、炉室104か
ら上記雰囲気ガスを排出する炉室104の中央部の上記
中央部供給管106の周辺に設けられた中央部排気管1
07とから構成され、炉室104内の雰囲気の均一性を
得るために、外周に位置した供給管105より雰囲気ガ
スが供給され、中央部に位置した中央部排気管107よ
りガスが排出されていた。炉室104の保護雰囲気を維
持するために炉本体102と回転炉床103とは気密を
保持して摺動できるシール装置112が設けられてい
る。
炉としては、図7及び図8に示されるようなものが知ら
れている。この雰囲気焼成炉101は、下方が開口した
側壁102aと天井102bからなる概略円筒状の炉本
体102と、この炉本体102に覆われて炉室104を
形成する回転可能な炉床103とからなっている。炉室
104に雰囲気ガスを供給するため側壁102a近辺に
設けられた複数の供給管105と炉室104の中央部に
設けられた複数の中央部供給管106と、炉室104か
ら上記雰囲気ガスを排出する炉室104の中央部の上記
中央部供給管106の周辺に設けられた中央部排気管1
07とから構成され、炉室104内の雰囲気の均一性を
得るために、外周に位置した供給管105より雰囲気ガ
スが供給され、中央部に位置した中央部排気管107よ
りガスが排出されていた。炉室104の保護雰囲気を維
持するために炉本体102と回転炉床103とは気密を
保持して摺動できるシール装置112が設けられてい
る。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】上記従来の炉床回転式
焼成炉の場合、製品が炉床とともに回転するため、製品
が固定している固定炉床式焼成炉によるよりも品質は改
善されるものの精密な雰囲気制御を要する製品の焼成の
場合には充分とは言えなかった。
焼成炉の場合、製品が炉床とともに回転するため、製品
が固定している固定炉床式焼成炉によるよりも品質は改
善されるものの精密な雰囲気制御を要する製品の焼成の
場合には充分とは言えなかった。
【0004】本発明は、上記従来技術の問題点に鑑みて
なされたもので、焼成雰囲気ガスを匣内の精密な雰囲気
焼成を必要とする製品に均一に供給し、均一な品質を得
ることができる構造のバッチ式炉床回転式の雰囲気焼成
炉を提供することを目的とする。
なされたもので、焼成雰囲気ガスを匣内の精密な雰囲気
焼成を必要とする製品に均一に供給し、均一な品質を得
ることができる構造のバッチ式炉床回転式の雰囲気焼成
炉を提供することを目的とする。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明に係るバッチ式炉
床回転式の雰囲気焼成炉は、下方が開口した側壁と天井
からなる概略円筒状の炉本体と、該炉本体に覆われて炉
室を形成する回転可能な炉床と、炉室に雰囲気ガスを供
給する側壁の近辺に設けられた回動可能な複数の供給管
と、上記炉室中央部に設けられた回動可能な複数の中央
部供給管と、炉室から上記雰囲気ガスを排出する炉室中
央部の上記中央部供給管の周辺に設けられた回動可能な
複数の中央部排気管と、側壁の近辺の上記供給管の間に
配置された回動可能な排気管とを備えるとともに、該排
気管は、上記中央部供給管の対向する位置の側壁近辺に
配置されていることを特徴とする。ここで供給管と排気
管とは側壁内周に沿って交互に設け、供給管及び排気管
は炉床中心に向かう線を中心にして左右に90゜づつ回
転させてもよい。
床回転式の雰囲気焼成炉は、下方が開口した側壁と天井
からなる概略円筒状の炉本体と、該炉本体に覆われて炉
室を形成する回転可能な炉床と、炉室に雰囲気ガスを供
給する側壁の近辺に設けられた回動可能な複数の供給管
と、上記炉室中央部に設けられた回動可能な複数の中央
部供給管と、炉室から上記雰囲気ガスを排出する炉室中
央部の上記中央部供給管の周辺に設けられた回動可能な
複数の中央部排気管と、側壁の近辺の上記供給管の間に
配置された回動可能な排気管とを備えるとともに、該排
気管は、上記中央部供給管の対向する位置の側壁近辺に
配置されていることを特徴とする。ここで供給管と排気
管とは側壁内周に沿って交互に設け、供給管及び排気管
は炉床中心に向かう線を中心にして左右に90゜づつ回
転させてもよい。
【0006】
【作用】本発明は上記のように構成したので、雰囲気ガ
スの供給を側壁の近辺の供給管から内側の中央部供給管
へと切り換えると同時にガスの排出も、これに対応させ
内側の中央部排気管から側壁の近辺の外側の排気管と切
り換えることにより、ガスの流れが逆転するのでそれだ
け被焼成品とガスの接触が良好になる。この場合、供給
管と排気管とを回動させることは、ガスの流れをそれだ
け変化させることになるので、被焼成品とガスの接触を
それだけよくする。
スの供給を側壁の近辺の供給管から内側の中央部供給管
へと切り換えると同時にガスの排出も、これに対応させ
内側の中央部排気管から側壁の近辺の外側の排気管と切
り換えることにより、ガスの流れが逆転するのでそれだ
け被焼成品とガスの接触が良好になる。この場合、供給
管と排気管とを回動させることは、ガスの流れをそれだ
け変化させることになるので、被焼成品とガスの接触を
それだけよくする。
【0007】
【実施例】以下、本発明の実施例を図面に基づいて説明
する。図1〜図5は本発明に係るバッチ式炉床回転式の
雰囲気焼成炉の一実施例を説明するための図である。図
において1は本実施例の雰囲気焼成炉で、この焼成炉は
下方が開口した側壁2aと天井2bからなる炉本体2
と、この炉本体2に覆われて炉室4を形成する回転可能
な炉床3とからなっている。側壁2a近辺に雰囲気ガス
を炉室4内に供給する回動可能な供給管5が、炉室4内
に挿通して設けられ、2個中心を挟んで対称的にに位置
している。炉室4の中央部にも中央部排気管7を挟んで
2個の中央部供給管6が、炉室4内に挿通して設けら
れ、前記供給管5が配置された円周上の中間の対向する
位置に設けられている。また、側壁2a近辺には炉室内
のガスを排気する排気管8が、中心を挟んで対称の位置
の中央部供給管5に対向する位置に設けられている。
する。図1〜図5は本発明に係るバッチ式炉床回転式の
雰囲気焼成炉の一実施例を説明するための図である。図
において1は本実施例の雰囲気焼成炉で、この焼成炉は
下方が開口した側壁2aと天井2bからなる炉本体2
と、この炉本体2に覆われて炉室4を形成する回転可能
な炉床3とからなっている。側壁2a近辺に雰囲気ガス
を炉室4内に供給する回動可能な供給管5が、炉室4内
に挿通して設けられ、2個中心を挟んで対称的にに位置
している。炉室4の中央部にも中央部排気管7を挟んで
2個の中央部供給管6が、炉室4内に挿通して設けら
れ、前記供給管5が配置された円周上の中間の対向する
位置に設けられている。また、側壁2a近辺には炉室内
のガスを排気する排気管8が、中心を挟んで対称の位置
の中央部供給管5に対向する位置に設けられている。
【0008】上記炉床3は、図示していないベース上に
回転自在に支持され、駆動装置により回転する。この炉
床3上に被焼成物10を積戴し、これを回転しつつ図示
していないヒータにより加熱して焼成する。被焼成物1
0がセラミックス成形体である場合、これが匣内に収容
され、炉床3に匣が多段に積み重ねられる。
回転自在に支持され、駆動装置により回転する。この炉
床3上に被焼成物10を積戴し、これを回転しつつ図示
していないヒータにより加熱して焼成する。被焼成物1
0がセラミックス成形体である場合、これが匣内に収容
され、炉床3に匣が多段に積み重ねられる。
【0009】炉本体2の下部と炉床3との間隙は、シー
ル装置9によって気密を保持して炉床3が回転できるよ
うにシールされている。このシール装置は、炉床3の下
部外周に樋状の溝部9aが配設され、この溝部9aに水
あるいはシリコンラバー等のシール材9bが充填されて
いる。炉本体2の下部の接続部材2cがこのシール材9
bに摺動可能で、かつ気密に接している。これにより、
上記炉室4と外部とは隙間がシールされ炉室4の気密が
保たれる。
ル装置9によって気密を保持して炉床3が回転できるよ
うにシールされている。このシール装置は、炉床3の下
部外周に樋状の溝部9aが配設され、この溝部9aに水
あるいはシリコンラバー等のシール材9bが充填されて
いる。炉本体2の下部の接続部材2cがこのシール材9
bに摺動可能で、かつ気密に接している。これにより、
上記炉室4と外部とは隙間がシールされ炉室4の気密が
保たれる。
【0010】炉室4に雰囲気ガスを供給する供給管5
は、側壁2a近辺に2個180°のピッチで設けられて
おり、図示していない駆動装置により回動されるように
されている。この回動は、例えば、所定のサイクル又は
手動により炉室4の中心に向かう線を挟んで左右それぞ
れ90°〜15°ずつ全体で180゜〜30°の範囲で
往復回動する。この各供給管5には、例えば、直径0.
3〜0.5mmの複数の細孔が、匣間の空間に位置する
ようなピッチで設けられている。また、各供給管5は、
炉室4外に遮断弁15が設けられ、図示していない雰囲
気ガスの供給源にこの遮断弁15を介して連通し、各遮
断弁15は図示していないコントローラに接続され、そ
の制御信号により開閉が制御され、雰囲気ガスの供給を
ON,OFFする。
は、側壁2a近辺に2個180°のピッチで設けられて
おり、図示していない駆動装置により回動されるように
されている。この回動は、例えば、所定のサイクル又は
手動により炉室4の中心に向かう線を挟んで左右それぞ
れ90°〜15°ずつ全体で180゜〜30°の範囲で
往復回動する。この各供給管5には、例えば、直径0.
3〜0.5mmの複数の細孔が、匣間の空間に位置する
ようなピッチで設けられている。また、各供給管5は、
炉室4外に遮断弁15が設けられ、図示していない雰囲
気ガスの供給源にこの遮断弁15を介して連通し、各遮
断弁15は図示していないコントローラに接続され、そ
の制御信号により開閉が制御され、雰囲気ガスの供給を
ON,OFFする。
【0011】また、雰囲気ガスを炉室4の中央から供給
するように、中央部供給管6が2個回動可能に設けられ
ている。この中央部供給管6は上記のように中央部排気
管7を挟んで180゜のピッチで上記供給管5のない側
壁に対向する位置に設けられている。そして、例えば、
所定のサイクル又は手動により前記中心線に向かう線か
ら90°ずれた直径線を挟んで左右それぞれ90°〜1
5°ずつ全体で180・〜30°の範囲で往復回動す
る。この各供給管6には、上記供給管5と同様に、例え
ば、直径0.3〜0.5mmの複数の細孔6aが、匣間
の空間に位置するようなピッチで設けられている。ま
た、各中央部供給管6は、炉室4外に遮断弁16が設け
られ、図示していない雰囲気ガスの供給源にこの遮断弁
16を介して連通し、各遮断弁16は図示していないコ
ントローラに接続され、その制御信号により開閉が制御
され、雰囲気ガスの供給をON,OFFする。
するように、中央部供給管6が2個回動可能に設けられ
ている。この中央部供給管6は上記のように中央部排気
管7を挟んで180゜のピッチで上記供給管5のない側
壁に対向する位置に設けられている。そして、例えば、
所定のサイクル又は手動により前記中心線に向かう線か
ら90°ずれた直径線を挟んで左右それぞれ90°〜1
5°ずつ全体で180・〜30°の範囲で往復回動す
る。この各供給管6には、上記供給管5と同様に、例え
ば、直径0.3〜0.5mmの複数の細孔6aが、匣間
の空間に位置するようなピッチで設けられている。ま
た、各中央部供給管6は、炉室4外に遮断弁16が設け
られ、図示していない雰囲気ガスの供給源にこの遮断弁
16を介して連通し、各遮断弁16は図示していないコ
ントローラに接続され、その制御信号により開閉が制御
され、雰囲気ガスの供給をON,OFFする。
【0012】上記の中央供給管6の間に位置して中央部
排気管7が設けられている。この排気管7も上記供給管
5,6と同様に図示していない駆動装置により回動する
ものであってもよい。この中央部排気管7にも丸孔にス
リット等の細孔7aが設けられている。また、この中央
部排気管7の遮断弁17は図3(a),(b)に示すよ
うにボール17aをバランス17bの上下動により管の
開口7bを塞いだり開いたりして開閉するものでもよ
い。また、図4(a),(b)に示すようなバタフライ
27aによって開口端7bの近辺に設けられてもよく。
このバタフライ27aはバランス27bを有し、ハンド
ルにより手動又は自動的に操作する。
排気管7が設けられている。この排気管7も上記供給管
5,6と同様に図示していない駆動装置により回動する
ものであってもよい。この中央部排気管7にも丸孔にス
リット等の細孔7aが設けられている。また、この中央
部排気管7の遮断弁17は図3(a),(b)に示すよ
うにボール17aをバランス17bの上下動により管の
開口7bを塞いだり開いたりして開閉するものでもよ
い。また、図4(a),(b)に示すようなバタフライ
27aによって開口端7bの近辺に設けられてもよく。
このバタフライ27aはバランス27bを有し、ハンド
ルにより手動又は自動的に操作する。
【0013】また、炉室4内にはガスを排気する排気管
8が、2個上記中央部供給管6に対向する側壁2aの近
辺に設けられている。各排気管8は、それぞれ図示して
いない駆動装置により回動されるようにされている。こ
の回動は炉室4の中心線に向かう線を挟んで左右90゜
〜15゜ずつ全体で180゜〜30゜の範囲で往復回動
する。この各排気管8には、丸孔スリット等の細孔8
a、例えば、直径0.3〜0.5mmの複数の細孔が、
匣間の空間に位置するようなピッチで設けられている。
また、各排気管8は、炉室4外に遮断弁18を介して連
通し、各遮断弁18は上記中央部排気管7の遮断弁17
と同様の構成としてもよい。
8が、2個上記中央部供給管6に対向する側壁2aの近
辺に設けられている。各排気管8は、それぞれ図示して
いない駆動装置により回動されるようにされている。こ
の回動は炉室4の中心線に向かう線を挟んで左右90゜
〜15゜ずつ全体で180゜〜30゜の範囲で往復回動
する。この各排気管8には、丸孔スリット等の細孔8
a、例えば、直径0.3〜0.5mmの複数の細孔が、
匣間の空間に位置するようなピッチで設けられている。
また、各排気管8は、炉室4外に遮断弁18を介して連
通し、各遮断弁18は上記中央部排気管7の遮断弁17
と同様の構成としてもよい。
【0014】以下、図5により遮断弁の切り換えによる
炉室4内のガスの流れについて説明する。先ず、各供給
管5の遮断弁15を開、中央部排気管7の遮断弁17を
開とし、図5(a)に示すように、供給管5をそれぞれ
反対方向(逆方向回転)の一方をX方向、他方をY方向
(管の細孔5aの向きがA方向)に回動させるととも
に、中央部排気管7を対向する一方の供給管5の回動方
向と同一のX方向(管の細孔7aの向きがB方向)(対
向点がそれぞれ逆方向回転)に回転させる。次いで、逆
転してそれぞれ反対方向(管の細孔5aの向きがB方
向、細孔7aの向きがA方向)に回転させる。このよう
にして供給管5と中央部排気管7とを回動して、炉室4
内にa線とb線間の流線のガス流を生じさせる。
炉室4内のガスの流れについて説明する。先ず、各供給
管5の遮断弁15を開、中央部排気管7の遮断弁17を
開とし、図5(a)に示すように、供給管5をそれぞれ
反対方向(逆方向回転)の一方をX方向、他方をY方向
(管の細孔5aの向きがA方向)に回動させるととも
に、中央部排気管7を対向する一方の供給管5の回動方
向と同一のX方向(管の細孔7aの向きがB方向)(対
向点がそれぞれ逆方向回転)に回転させる。次いで、逆
転してそれぞれ反対方向(管の細孔5aの向きがB方
向、細孔7aの向きがA方向)に回転させる。このよう
にして供給管5と中央部排気管7とを回動して、炉室4
内にa線とb線間の流線のガス流を生じさせる。
【0015】次に、中央部供給管6の遮断弁16、各排
気管8の遮断弁18を開とし、図5(b)に示すよう
に、各中央部供給管6の細孔6aの向きをそれぞれC方
向に回転させる。次いで、逆転してそれぞれD方向に回
転させる。このようにして、中央部供給管6と排気管8
を回動させて炉室4内にc線,d線間の流線のガス流を
生じさせる。
気管8の遮断弁18を開とし、図5(b)に示すよう
に、各中央部供給管6の細孔6aの向きをそれぞれC方
向に回転させる。次いで、逆転してそれぞれD方向に回
転させる。このようにして、中央部供給管6と排気管8
を回動させて炉室4内にc線,d線間の流線のガス流を
生じさせる。
【0016】上記のように、中央部と側壁近辺とに雰囲
気ガス供給管を設け、雰囲気ガスの流出位置を中央部と
側壁と交互に移動させると、炉室内のガス流によどみや
偏流が発生するのを防ぐことができるため、被焼成物と
雰囲気とは均一に接触するので精密な雰囲気焼成がで
き、製品の品質のバラツキを減少させ、均一な品質の製
品とすることができる。また、細孔のピッチを匣間の空
間に位置するように設け、雰囲ガスをこの空間に向ける
ことにより被焼成品とガスの接触が良好になる。
気ガス供給管を設け、雰囲気ガスの流出位置を中央部と
側壁と交互に移動させると、炉室内のガス流によどみや
偏流が発生するのを防ぐことができるため、被焼成物と
雰囲気とは均一に接触するので精密な雰囲気焼成がで
き、製品の品質のバラツキを減少させ、均一な品質の製
品とすることができる。また、細孔のピッチを匣間の空
間に位置するように設け、雰囲ガスをこの空間に向ける
ことにより被焼成品とガスの接触が良好になる。
【0017】図6は本発明の雰囲気焼成炉の他の実施例
を示す横断面図である。図において雰囲気焼成炉11は
上記実施例とは側壁12aに遮蔽板21を設けている点
が異なるのみで、他の構成は同様であるので、対応する
部分には同一符号を付してその説明を省略する。
を示す横断面図である。図において雰囲気焼成炉11は
上記実施例とは側壁12aに遮蔽板21を設けている点
が異なるのみで、他の構成は同様であるので、対応する
部分には同一符号を付してその説明を省略する。
【0018】本実施例によれば、遮蔽板により炉室14
内ガス流に余分な対流を起こさないので、全部中央部又
は側壁部の排気管方向にガスが流れるので、雰囲気ガス
と被焼成物の接触がより良好になり、製品の品質のバラ
ツキが減少し、精密な雰囲気焼成ができる。
内ガス流に余分な対流を起こさないので、全部中央部又
は側壁部の排気管方向にガスが流れるので、雰囲気ガス
と被焼成物の接触がより良好になり、製品の品質のバラ
ツキが減少し、精密な雰囲気焼成ができる。
【0019】なお、上記供給管と排気管の回動は上記
A,B方向間の回動のみ、C,D方向間の回動のみを行
わせるものであってもよいし、同時に行わせるものであ
ってもよい。また、排気管又は供給管のいずれか一方を
停止し、他方のみを回動させるようにしてもよく、回動
の方法、サイクルは特に限られない。
A,B方向間の回動のみ、C,D方向間の回動のみを行
わせるものであってもよいし、同時に行わせるものであ
ってもよい。また、排気管又は供給管のいずれか一方を
停止し、他方のみを回動させるようにしてもよく、回動
の方法、サイクルは特に限られない。
【0020】
【発明の効果】本発明によれば、中央部と側壁近辺とに
雰囲気ガス供給管を設け、また、細孔を匣間の空間に位
置するように設け、雰囲気ガスをこの空間に向けるとと
もに雰囲気ガスの流出位置を中央部と側壁と交互にする
と、炉室内のガス流によどみや偏流が発生するのを防ぐ
ことができ、被焼成物と雰囲気とは均一に接触して精密
な雰囲気焼成ができ、製品の品質のバラツキを減少さ
せ、均一な品質の製品とすることができる。
雰囲気ガス供給管を設け、また、細孔を匣間の空間に位
置するように設け、雰囲気ガスをこの空間に向けるとと
もに雰囲気ガスの流出位置を中央部と側壁と交互にする
と、炉室内のガス流によどみや偏流が発生するのを防ぐ
ことができ、被焼成物と雰囲気とは均一に接触して精密
な雰囲気焼成ができ、製品の品質のバラツキを減少さ
せ、均一な品質の製品とすることができる。
【0021】
【図1】本発明によるバッチ式炉床回転式の雰囲気焼成
炉の一実施例を説明する横断面図である。
炉の一実施例を説明する横断面図である。
【図2】図1のA−A線に沿う縦断面図である。
【図3】上記実施例に用いる排気管の遮断弁の一例の動
作を説明する図で、(a)は開の状態を示す斜視図、
(b)は閉の状態を示す斜視図である。
作を説明する図で、(a)は開の状態を示す斜視図、
(b)は閉の状態を示す斜視図である。
【図4】上記実施例に用いる排気管の遮断弁の他の例の
動作を説明する図で、(a)は開の状態を示す斜視図、
(b)は閉の状態を示す斜視図である。
動作を説明する図で、(a)は開の状態を示す斜視図、
(b)は閉の状態を示す斜視図である。
【図5】炉室のガスの流れを説明する図で、(a)はそ
の1段目の流れを説明する炉内配置の平面図で、(b)
は2段目の他の流れを説明する炉内配置の平面図であ
る。
の1段目の流れを説明する炉内配置の平面図で、(b)
は2段目の他の流れを説明する炉内配置の平面図であ
る。
【図6】本発明による雰囲気焼成炉の他の実施例で、炉
内に遮蔽板を設けた例を説明する横断面図である。
内に遮蔽板を設けた例を説明する横断面図である。
【図7】従来のバッチ式炉床回転式の雰囲気焼成炉の横
断面図である。
断面図である。
【図8】図7のA−A線に沿う縦断面図である。
1 雰囲気焼成炉 2 炉本体 3 炉床 5 供給管 6 中央部供給管 7 中央部排気管 8 排気管
Claims (1)
- 【請求項1】下方が開口した側壁と天井からなる概略円
筒状の炉本体と、該炉本体に覆われて炉室を形成する回
転可能な炉床と、上記炉室に雰囲気ガスを供給する側壁
の近辺に設けられた回動可能な複数の供給管と、上記炉
室の中央部に設けられた回動可能な複数の中央部供給管
と、炉室から上記雰囲気ガスを排出する炉室中央部の上
記中央部供給管の周辺に設けられた回動可能な中央部排
気管と、側壁の近辺の円周上で上記供給管の間に配置さ
れた回動可能な複数の排気管とを備えるとともに、該排
気管は上記中央部供給管の対向する位置の側壁近辺に配
置されていることを特徴とするバッチ式炉床回転式の雰
囲気焼成炉。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3050388A JP3052403B2 (ja) | 1991-02-22 | 1991-02-22 | バッチ式炉床回転式の雰囲気焼成炉 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3050388A JP3052403B2 (ja) | 1991-02-22 | 1991-02-22 | バッチ式炉床回転式の雰囲気焼成炉 |
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Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH06213571A true JPH06213571A (ja) | 1994-08-02 |
JP3052403B2 JP3052403B2 (ja) | 2000-06-12 |
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ID=12857492
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP3050388A Expired - Fee Related JP3052403B2 (ja) | 1991-02-22 | 1991-02-22 | バッチ式炉床回転式の雰囲気焼成炉 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3052403B2 (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20120037610A1 (en) * | 2010-08-10 | 2012-02-16 | Samsung Electro-Mechanics Co., Ltd. | Ceramic firing furnace |
CN112512728A (zh) * | 2020-04-29 | 2021-03-16 | 宁波恒普真空技术有限公司 | 一种双向气氛控制工艺及双向气氛烧结炉 |
JP2021188893A (ja) * | 2020-06-03 | 2021-12-13 | 日本碍子株式会社 | バッチ式熱処理炉 |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN103712445B (zh) * | 2012-09-29 | 2016-03-23 | 丹阳市江南工业炉有限公司 | 一种室式炉 |
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1991
- 1991-02-22 JP JP3050388A patent/JP3052403B2/ja not_active Expired - Fee Related
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US20120037610A1 (en) * | 2010-08-10 | 2012-02-16 | Samsung Electro-Mechanics Co., Ltd. | Ceramic firing furnace |
JP2012037218A (ja) * | 2010-08-10 | 2012-02-23 | Samsung Electro-Mechanics Co Ltd | セラミックス焼成炉 |
KR101250626B1 (ko) * | 2010-08-10 | 2013-04-03 | 삼성전기주식회사 | 세라믹 소성로 |
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---|---|
JP3052403B2 (ja) | 2000-06-12 |
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