TW202146634A - 供乙炔流體儲存用之改良溶劑 - Google Patents
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Abstract
描述一種包含至少部分溶於改良溶劑中之乙炔流體的組成物。該改良溶劑不具有毒性且進一步特徵在於低蒸氣壓以在該乙炔流體之輸送期間使溶劑帶出(carryover)最小化,同時維持合適的乙炔溶解能力。
Description
本發明係關於經乙炔流體溶解之改良溶劑的新穎組成物。尤其,該改良溶劑對於乙炔流體儲存、分配及處置並無毒性,且進一步特徵在於低蒸氣壓以在該乙炔流體之輸送期間使溶劑帶出(carryover)最小化,同時維持合適的乙炔溶解能力。
乙炔被廣泛地用於多種應用之工業中,包括例如在熔接和化學合成中。特別重要地,乙炔在電子工業中已經愈來愈多地用來作為用於沉積碳和含碳薄膜的來源材料。應用包括非晶形碳之硬罩薄膜的沉積。
然而,由於其熱不穩定性,乙炔之儲存遭遇數項難題。乙炔能在高壓及高溫的儲存條件下,甚至在無空氣或氧氣之下,爆炸地分解成碳和氫。
為解決該熱不穩定性,獨特地建構乙炔圓筒。每一圓筒含有帶有溶劑之多孔性填料(例如,矽石),而一般已包括丙酮、二甲基甲醯胺(DMF)或N-甲基吡咯啶酮(NMP)的該溶劑遍佈該多孔性填料介質。這些溶劑傳統上由於其溶解乙炔之能力而被選擇。該多孔性填料介質是通常具有約90體積%之孔隙度的多孔性物質。該多孔性填料介質之功能是要將乙炔分離至該等孔隙之小單元中以幫助抑制乙炔之分解。該溶劑之功能是要在相對低壓下吸收大量乙炔以令在低壓圓筒中能有高的圓筒裝填。該溶劑被分散在該多孔性填料介質之空隙中及在該多孔性填料介質的周圍。
在此等圓筒系統中雖有改良的熱穩定性,本申請人已發現:對現有之乙炔圓筒流體供應包的特定改良導致改良的儲存、處置和輸送能力,如現在將說明的。
在一態樣中,一種組成物,其包含改良溶劑與溶於該改良溶劑內之乙炔之結合的溶液,該改良溶劑的特徵在於所有以下屬性:(i)在20℃下約6托或更低之蒸氣壓;(ii)高於約5MPa0.5
之韓森溶解因數(Hansen solubility factor,dH
);(iii)與二甲基甲醯胺(DMF)和N-甲基吡咯啶酮(NMP)相比,較無毒性;及(iv)包含O、N或F原子之至少一者的化學結構,其中該O、N或F原子之至少一者不與氫原子鍵結,且進一步其中該化學結構的特徵在於沒有磷、硼、鈣和鎳。
在第二態樣中,一種乙炔流體供應包,其包含壓力槽;在該壓力槽中之多孔性填料;在該多孔性填料內之改良溶劑,該溶劑溶解在該改良溶劑內所吸收之乙炔,該改良溶劑包含所有以下屬性:(i)在20℃下約6托或更低之蒸氣壓;(ii)高於約5MPa0.5
之韓森溶解因數(dH
);(iii)與二甲基甲醯胺(DMF)和N-甲基吡咯啶酮(NMP)相比,較無毒性;及(iv)包含O、N或F原子之化學結構,其中該O、N或F原子之至少一者不與氫原子鍵結,且另外其中該化學結構的特徵在於沒有磷、硼、鈣和鎳。
在第三態樣中,一種系統,其包含至少一個乙炔流體供應包及與該至少一個乙炔流體供應包流體連通之利用乙炔之處理工具,該至少一個乙炔流體供應包係包含壓力槽;在該壓力槽中之多孔性填料;在該多孔性填料內之改良溶劑,該溶劑溶解在該改良溶劑內所吸收之乙炔;該改良溶劑包含所有以下屬性:(i)在20℃下約6托或更低之蒸氣壓;(ii)高於約5MPa0.5
之韓森溶解因數(dH
);(iii)與二甲基甲醯胺(DMF)和N-甲基吡咯啶酮(NMP)相比,較無毒性;及(iv)包含O、N或F原子之化學結構,其中該O、N或F原子之至少一者不與氫原子鍵結,且另外其中該化學結構的特徵在於沒有磷、硼、鈣和鎳;其中該至少一個乙炔流體供應包係經配置以令該乙炔流體得以在分配條件下排放;且進一步其中該利用乙炔之處理工具係經配置以從該至少一個乙炔流體供應包接收乙炔流體。
在此所揭示之組成物、流體供應包和系統可包含在此所闡述說明的特定成分和結構之任一者,可由或基本上由在此所闡述說明的特定成分和結構之任一者組成。該揭示內容進一步考慮經限制性界定的組成物、流體供應包、及系統,例如其中,在界定本揭示內容之操作具體例時,特別描述之部分、成分、及結構中一或多者可特別地被省略。
在此以及全文中使用的,「流體」一詞意欲包括氣體、蒸氣、液體、及前述者之混合物。在此及全文所述之「乙炔流體」意欲是指基本上所有的該乙炔在容器中儲存期間在壓力下呈氣相儲存,但當該乙炔流體從該容器引流出時,可合併小量的溶劑帶出(carryover)。「溶劑」或「溶劑流體」二詞意欲基本上是指在與具有相對低蒸氣壓之對應蒸氣相成實質平衡之該液相中的該溶劑。
「容器」或「圓筒」、或「包」或「輸送包」或「流體供應包」在此及全文中任一者可交換地被使用,是指任何儲存、填充、輸送或可運輸之槽。
在此及全文中與蒸氣壓相關所用之「約」是指+/-3托。
本發明承認現有之乙炔流體供應包的缺點。例如,本申請人已觀察到:當被利用以作為溶劑時,丙酮具有無法接受之高蒸氣壓且因此該丙酮蒸氣能從該儲存容器中引流出且不合宜地與所分配之乙炔一同被運輸。該丙酮溶劑在用於數項應用(諸如碳和含碳膜之沉積,包括在該電子工業中之非晶形碳之硬罩膜)之乙炔中變為污染物。因此,該丙酮最終能降低該膜沉積速率且影響處理均一性和一致性。
為了使在那些在由乙炔所衍生之含碳膜中不能耐受溶劑雜質的應用中降低污染,已經利用具有比丙酮低之蒸氣壓的替代溶劑來儲存及輸送乙炔。例如,已經利用DMF和N-甲基吡咯啶酮(NMP)作為溶劑,作為乙炔流體供應包之部分。然而,DMF和NMP皆有毒性。尤其,DMF和NMP引起生殖毒性(亦即致畸性)的風險。因為此種健康風險,DMF和NMP之商業使用已在數個國家中受到限制。引起生殖毒性之風險的材料按照全球一致之化學品的分類和標示系統(Globally Harmonized System of Classification and Labelling of Chemicals,GHS)被分類為具有H360危險聲明碼者。應了解:在此所用之毒性是指那些被分類為具有H360危險聲明碼的材料。
因此,若有此種與使用傳統溶劑於乙炔儲存及輸送系統相關之缺點,申請人已確認改良的溶劑,其為用於儲存和輸送乙炔之傳統溶劑的更安全替代品。對於本發明,某些屬性的結合是需要的。該改良溶劑之該等屬性的特徵在於具有(i)在20℃下約6托或更低之蒸氣壓;(ii)與二甲基甲醯胺(DMF)和N-甲基吡咯啶酮(NMP)相比,較無毒性;(iii)包含O、N或F原子之至少一者的化學結構,其中該O、N或F原子之至少一者不與氫原子鍵結,且進一步其中該化學結構的特徵在於沒有磷、硼、鈣和鎳;以及(iv)高於約5MPa0.5
之韓森溶解因數(dH
)。由於擁有前述屬性,該改良溶劑能被使用以作為乙炔儲存和輸送系統之一部分,相對傳統溶劑,該改良溶劑在乙炔溶解效能上沒有下降。
相反地,傳統溶劑(諸如DMF和NMP)按照全球一致之化學品的分類和標示系統通常被分類為H360(參見表1)。換言之,彼等引起生殖毒性和致畸性的風險。本發明之溶劑不引起生殖毒性的風險且因此其特徵在於沒有藉由該GHS所分類之H360危險聲明碼。本發明之溶劑由於沒有H360分類所以通常更為良性。
除了較無毒性,本發明之溶劑保留足夠的溶解度且與乙炔交互作用。本申請人已確認在乙炔流體內提供溶劑之有效溶解度所需之屬性組合。該溶劑分子及乙炔分子互相吸引,使得該乙炔分子之至少一部分在熱動力穩定狀態下能存在於該溶劑內。相反地,若該溶劑分子和乙炔分子互相排斥,則預期在該溶劑中乙炔的溶解度是不足的(亦即在乙炔內之溶解度低於傳統使用之溶劑DMF、丙酮和NMP者)。乙炔具有C2H2之化學結構,其中有三鍵在該等碳原子之間。該等碳原子分別與一個氫原子共價鍵結,這代表與該溶劑分子交互作用的可用中心。該氫原子較佳能與該溶劑分子中之負位址(negative site)氫鍵結,以能有足夠溶解度。此種負極性位址能藉由選擇極性溶劑(其具有透過N、O或F原子所提供之負電位址)而變為可得。在該溶劑中該乙炔溶解度隨著該溶劑與該乙炔分子氫鍵結的位能而增加。本申請人已發現:氫鍵結之位能能藉由韓森溶解度之交互作用參數(稱為δh,其在此技術中被定義為分子之間的氫鍵能量)可靠地評估。該參數表示該溶劑能形成分子內或分子間之氫鍵的強烈程度。該δh值愈高,則溶劑與此形成氫鍵的位能愈高。關於本發明,對於特別溶劑較高之δh是在該溶劑分子內乙炔流體之更大溶解度的指標。在較佳具體例中,δh大於約5MPa0.5
。
在本發明中所需之另一屬性是在該溶劑分子內避免、降低或最小化O-H、F-H或N-H鍵,使得該溶劑之分子結構含有至少一個不與該溶劑分子內之H原子鍵結的O、N或F原子。申請人已發現:在該溶劑分子內,過多的O-H、F-H或N-H鍵使該溶劑分子本身發生自身氫鍵傾向,從而潛在地限制用於與乙炔分子發生氫鍵結且從而產生分子間氫鍵的負電位址的利用性。舉例而言,且無意要限制地,若一個溶劑分子含有二個氧原子,則該二個氧原子中至少一者不能與該分子內之氫原子鍵結以降低該溶劑分子內之自身氫鍵結傾向。
(i)充分高之δh與(ii)含有至少一個不與其內之H原子鍵結之O、N或F原子的溶劑的分子結構的結合增進該溶劑分子與該乙炔分子更有效地交互作用且溶解的能力。換言之,高於約5MPa0.5
之δh與避免或最小化該溶劑分子內之分子內H鍵結的溶劑結構的結合能促進該溶劑與乙炔分子之間的H鍵結。
雖然將該溶劑之無毒性和有效溶解度配置給乙炔流體是重要的,本發明進一步要求:該溶劑分子在分配乙炔期間,展現相對低之蒸氣壓以降低其帶出。在這點上,本發明之溶劑在20℃下具有約6托或更低之蒸氣壓。利用具有較低蒸氣壓之溶劑分子使經分配至下游應用之乙炔的污染最小化。本發明之溶劑之相對較低的蒸氣壓在分配乙炔期間能使該溶劑的帶出最少化,從而能輸送高純度的乙炔。相反地,一般溶劑(諸如丙酮)具有230托之蒸氣壓,這引起大量污染物的風險(表1),因為大量丙酮傾向於隨該乙炔從該容器引流出。
在已描述本發明之溶劑的所有必需屬性之後,表1描述根據本發明之原則的溶劑的代表性非限制性實例。將該溶劑與先前技術之溶劑相比較。可以見到的,亞異丙基丙酮(mesityl oxide)、二氫左旋葡糖酮
(dihydrolevoglucosenone);四乙二醇二甲醚;乙酸酐;環己酮;和4-甲氧基-4-甲基戊-2-酮(pentoxone)是預期在處置上更安全且對容器內之乙炔流體展現充分的溶解度。所有本發明之溶劑的特徵在於沒有H360分類;展現約6托或更低之相對低蒸氣壓;具有高於約5MPa0.5
之韓森溶解度交互作用參數(稱為δh);及消除、降低或最小化該溶劑分子內之O-H、F-H或N-H鍵的分子結構,使得該溶劑之分子結構含有至少一個不與該溶劑分子內之H原子鍵結之O、N或F原子;且另外因此在該溶劑化學結構中不含P、B、Ca和Ni原子。這些屬性之結合代表比用於儲存和輸送乙炔之傳統溶劑明顯的改良和變更。表1將DMF、丙酮、和NMP陳列於標題先前技術下方,以作為用於儲存乙炔之傳統溶劑的代表。可見到的,該傳統溶劑具有一或更多個缺點諸如H360毒性及/或無法接受之高蒸氣壓。該韓森溶解度因數(dH
)值係使用市售為HSPiP軟體且官方網址https://www.hansen-solubility.com/contact.php之軟體所產生。
應了解:本發明預期其他未在表1中的溶劑,其包括但不限於乙醯基吡咯啶酮。
圖1、2和3顯示代表性之乙炔儲存和輸送系統的實例,其內含有本發明之溶劑。圖1顯示儲存容器1,其內部容積係經預先裝載在該容器1內之多孔性介質2(例如矽石)所佔有。本發明之該溶劑2a中一或多者被分散或裝載至該多孔性介質2中以及在該多孔性介質2周圍。C2H2係藉由將C2H2(2b)溶解在該溶劑中至所需壓力而被儲存。一般的填充壓力在周圍條件下是在200至300psig之範圍內。壓力調節裝置(4)被安裝在該圓筒出口,以在連接至流量控制裝置之前,將該出口壓力降至所需壓力(約15至30psig)以利操作。沿著該容器1之頂部顯示關斷閥3。該乙炔流體2b至少部分溶解在該改良溶劑2a內。
圖2顯示與溶劑捕集器5結合之圖1的容器1,其具有在本發明之溶劑2a(其分散在該多孔性介質2之內及周圍)之一或多者之內所溶解之至少一部分的乙炔流體2b。經多孔性填料(2)填充之圓筒或儲存容器(1)裝載所需之溶劑(2a)。該溶劑分散在該多孔性填料之內的孔隙中及在該多孔性填料周圍。C2H2係藉由將C2H2(2b)溶在該溶劑中至所需壓力而被儲存。在周圍溫度下,一般填充壓力是在200至300psig之範圍內。該溶劑捕集器5是含有經裝設在該圓筒出口上及在壓力調節裝置4之上游的吸附劑材料(5)的罐。應了解:該罐能裝載任何合適之所需的吸附劑介質,諸如活性碳、沸石或金屬有機架構,該吸附劑介質能捕集由於從該容器1之內部容積引流出而通過彼之本發明的溶劑。以此方式,能達成任何帶出之溶劑的移除,從而改良對於關鍵應用(例如用於電子裝置製造之碳膜沉積)所需之經輸送乙炔的純度。
圖3顯示另一具體例,其附帶含有經裝設在壓力調節裝置下游之吸附劑材料(5)的罐。
應了解:圖1、2和3代表具有該改良溶劑2a、多孔性介質2及乙炔2b的儲存及輸送包的非限制性實例。在不偏離本發明之範圍下,預期該儲存和輸送包之其他組態。例如,本揭示內容之乙炔流體供應包可以有任何適合在儲存和運輸條件下容納該乙炔流體2b並適合在分配條件下從該流體供應包1排放該乙炔流體2b的組態。應了解:可以利用單一溶劑2a或可以利用二或更多種溶劑2a之混合物,其中所得混合物的特徵在於本發明所需之每一屬性,如已經在前文中所討論的。該分配條件可藉由啟動該流體分配組合件以實施分配而適應,例如藉由打開在該包之流體分配組合件的閥頭中的閥。
本發明預期對於在此所述之組成物的多種使用領域。例如,一些方法包括但不限於化學蒸氣沉積、經電漿強化之化學蒸氣沉積、束線(beam line)離子植入及電漿浸沒離子植入。本發明之乙炔輸送包的使用實例顯示在圖4中。圖4顯示使用與某些處理裝置操作連接之該乙炔輸送包於一方法中以沉積用於電子裝置製造應用之碳膜。將一或多個乙炔輸送包配置在氣體櫃中。該乙炔從圖1、圖2或圖3之任一乙炔輸送包引流出,然後該乙炔透過流量控制裝置分配至該處理室中,其中該流量控制裝置能被配置以建立範圍可在0.1slpm至10slpm內的該乙炔流速。該處理室較佳被維持在0.1至10托之範圍內之壓力下。將標的基底加熱至在100℃至800℃範圍內之高溫,以幫助高純度碳膜之沉積。該處理室可經配備電漿來源以幫助碳沉積處理。應了解:該乙炔輸送包能在其他流速、溫度及壓力下被操作。
應進一步了解:在圖1中顯示之多重乙炔輸送包能被裝載至該氣體櫥中。每一該乙炔輸送包之出口與專用的流量控制裝置連接,每一流量控制裝置規劃進入處理室之入口。該乙炔能在至高約300psig之壓力下被儲存在每一該輸送包中。在啟動該關斷閥至打開位置之後,經控制之乙炔流立即從其專用的容器分配。
進一步應了解:多重乙炔輸送包可被簇集在一起以形成一綑包裝,然後所組合之流動管線被分成不同流動管線,其分別與專用的流量控制裝置連接。
所沉積之碳膜能用於多種應用,包括但不限於在後續蝕刻處理步驟期間在下方膜上的保護層、或用於輸送電子之傳導碳膜。該等應用中很多者對雜質或非所要之污染物是敏感的,且因此,污染物可能不利地影響膜性質,包括其光學性質、電性或在其他後續處理中之堅固性。在此種方案中,在含有反應性元素之溶劑中經穩定化之乙炔的供應能在沉積條件下非所欲地形成非揮發性反應產物。即使相對低蒸氣壓之溶劑可以可變微量地輸送至該處理室且不利地影響膜性質。因這理由,用於乙炔之含有金屬或無機雜質(例如硼、鈣、鎳及磷)的溶劑對此應用是非所欲的。在此方面,本發明的屬性之一是:該化學結構的特徵在於不存在硼、鈣、鎳和磷。
本發明之製造高純度膜的能力相較於一般溶劑(諸如丙酮,其充作上述需要高純度乙炔之數種應用的污染物)是有利的。丙酮充作污染物,能不利地影響在製造電子裝置期間所利用之碳膜的性質。
如已經描述的,本發明提供一種新穎溶劑,其較無毒性(此特徵在無H360危險聲明碼),同時仍維持乙炔溶解能力,使得高純度乙炔產物能從儲存及輸送容器引流出。
該改良溶劑2a之每一者對於乙炔2b有不同的溶解能力,此能力轉而解釋在圓筒1內該溶劑2a之比體積膨脹。該溶劑2a之每一者載入圓筒1中必須針對個別溶劑逐一測定且考慮由於特別溶劑2a中所溶之該氣態乙炔2b所致的特別溶劑2a的體積膨脹,使得在該圓筒1中保留該圓筒的空置容積中至少約10%的充分空置空間,以確保該圓筒不會變為全液壓(hydraulic full)。另外,對於該改良溶劑2a之每一者的裝載量必須使充足的乙炔能在不過度加壓該圓筒1下被溶於其中。因此,該改良溶劑2a之每一者至本發明之圓筒1中的裝載參數的關鍵性是一獨特值,其已藉由本申請人所實驗測定。例如,能載入圓筒1中之亞異丙基丙酮的量是每升圓筒容積不大於約0.54kg之亞異丙基丙酮,較佳是每升圓筒容積不大於約0.51kg之亞異丙基丙酮,更佳是每升圓筒容積不大於約0.49kg之亞異丙基丙酮。在另一實例中,能載入圓筒1中之4-甲氧基-4-甲基戊-2-酮的量是每升圓筒容積不大於約0.55kg之4-甲氧基-4-甲基戊-2-酮,較佳是每升圓筒容積不大於約0.53kg之4-甲氧基-4-甲基戊-2-酮,且更佳是每升圓筒容積不大於約0.50kg之4-甲氧基-4-甲基戊-2-酮。
1:儲存容器
2:多孔性介質
2a:溶劑
2b:C2H2(乙炔流體)
3:關斷閥
4:壓力調節裝置
5:溶劑捕集器
[圖1]是具有改良溶劑與至少部分溶於該改良溶劑內之乙炔流體之結合的乙炔流體供應包的代表性概圖;
[圖2]是具有溶劑捕獲裝置之圖1的代表性概圖;
[圖3]是圖2之變化型,其中該溶劑捕獲裝置係定位在不同位置上;以及
[圖4]代表一種流程圖,其顯示使用具有下游處理工具之該乙炔流體供應包的代表性方法。
Claims (22)
- 一種組成物,其包含改良溶劑與溶於該改良溶劑內之乙炔之結合的溶液,該改良溶劑特徵在於所有以下屬性: (i)在20℃下約6托或更低之蒸氣壓; (ii)高於約5MPa0.5 之韓森溶解因數(Hansen solubility factor,dH ); (iii)與二甲基甲醯胺(DMF)和N-甲基吡咯啶酮(NMP)相比,較無毒性;及 (iv)包含O、N或F原子之至少一者的化學結構,其中該O、N或F原子之至少一者不與氫原子鍵結,且進一步其中該化學結構的特徵在於沒有磷、硼、鈣和鎳。
- 如請求項1之組成物,其中該改良溶劑與另外的溶劑混合。
- 如請求項1之組成物,其進一步包含多孔性填料。
- 如請求項1之組成物,其中該改良溶劑係選自由亞異丙基丙酮(mesityl oxide)、二氫左旋葡糖酮(dihydrolevoglusenone)、四乙二醇二甲醚、乙酸酐、乙醯基吡咯啶酮、環己酮和4-甲氧基-4-甲基戊-2-酮(pentoxone)所組成之群組。
- 如請求項3之組成物,其中該較無毒性特徵在於沒有H360危險聲明碼。
- 一種乙炔流體供應包,其包含 壓力槽; 在該壓力槽中之多孔性填料; 在該多孔性填料內之改良溶劑,該溶劑溶解在該改良溶劑內所吸收之乙炔, 該改良溶劑包含所有以下屬性: (i)在20℃下約6托或更低之蒸氣壓; (ii)高於約5MPa0.5 之韓森溶解因數(dH ); (iii)與二甲基甲醯胺(DMF)和N-甲基吡咯啶酮(NMP)相比,較無毒性;及 (iv)包含O、N或F原子之化學結構,其中該O、N或F原子之至少一者不與氫原子鍵結,且另外其中該化學結構的特徵在於沒有磷、硼、鈣和鎳。
- 如請求項6之乙炔流體供應包,其中該改良溶劑係選自由亞異丙基丙酮、二氫左旋葡糖酮、四乙二醇二甲醚、乙酸酐、環己酮、乙醯基吡咯啶酮和4-甲氧基-4-甲基戊-2-酮所組成之群組。
- 如請求項6之乙炔流體供應包,其進一步包含在至高300psig之壓力及周圍條件下呈穩定化狀態之該乙炔。
- 如請求項6之乙炔流體供應包,其中該改良溶劑的特徵在於沒有H360危險聲明碼。
- 如請求項6之乙炔流體供應包,其中該改良溶劑是亞異丙基丙酮,該亞異丙基丙酮載入該壓力槽之量不大於每升壓力槽容積約0.54kg之亞異丙基丙酮。
- 如請求項6之乙炔流體供應包,其中該改良溶劑是亞異丙基丙酮,該亞異丙基丙酮載入該壓力槽之量不大於每升壓力槽容積約0.51kg之亞異丙基丙酮。
- 如請求項6之乙炔流體供應包,其中該改良溶劑是亞異丙基丙酮,其載入該壓力槽之量不大於每升壓力槽容積約0.49kg之亞異丙基丙酮。
- 如請求項6之乙炔流體供應包,其中該改良溶劑是4-甲氧基-4-甲基戊-2-酮,該4-甲氧基-4-甲基戊-2-酮載入該壓力槽之量不大於每升壓力槽容積約0.55kg之4-甲氧基-4-甲基戊-2-酮。
- 如請求項6之乙炔流體供應包,其中該改良溶劑是4-甲氧基-4-甲基戊-2-酮,該4-甲氧基-4-甲基戊-2-酮載入該壓力槽之量不大於每升壓力槽容積約0.53kg之4-甲氧基-4-甲基戊-2-酮。
- 如請求項6之乙炔流體供應包,其中該改良溶劑是4-甲氧基-4-甲基戊-2-酮,該4-甲氧基-4-甲基戊-2-酮載入該壓力槽之量不大於每升壓力槽容積約0.50kg之4-甲氧基-4-甲基戊-2-酮。
- 一種系統,其包含至少一個乙炔流體供應包及與該至少一個乙炔流體供應包流體連通之利用乙炔之處理工具,該至少一個乙炔流體供應包包含 壓力槽; 在該壓力槽中之多孔性填料; 在該多孔性填料內之改良溶劑,該溶劑溶解在該改良溶劑內所吸收之乙炔; 該改良溶劑包含所有以下屬性: (i)在20℃下約6托或更低之蒸氣壓; (ii)高於約5MPa0.5 之韓森溶解因數(dH ); (iii)與二甲基甲醯胺(DMF)和N-甲基吡咯啶酮(NMP)相比,較無毒性;及 (iv)包含O、N或F原子之化學結構,其中該O、N或F原子之至少一者不與氫原子鍵結,且另外其中該化學結構的特徵在於沒有磷、硼、鈣和鎳; 其中該至少一個乙炔流體供應包係經配置以令該乙炔流體得以在分配條件下排放;且 進一步其中該利用乙炔之處理工具係經配置以從該至少一個乙炔流體供應包接收乙炔流體。
- 如請求項16之系統,其中該處理工具包含化學蒸氣沉積工具。
- 如請求項16之系統,其中該至少一個乙炔流體供應包被容納在氣體盒中。
- 如請求項16之系統,其中該較無毒性的特徵在於沒有H360危險聲明碼。
- 如請求項16之系統,其中該蒸氣壓是9托或更低。
- 如請求項16之乙炔流體供應包,其中該改良溶劑是亞異丙基丙酮,該亞異丙基丙酮載入該壓力槽之量不大於每升壓力槽容積約0.54kg之亞異丙基丙酮。
- 如請求項16之乙炔流體供應包,其中該改良溶劑是4-甲氧基-4-甲基戊-2-酮,該4-甲氧基-4-甲基戊-2-酮載入該壓力槽之量不大於每升壓力槽容積約0.55kg之4-甲氧基-4-甲基戊-2-酮。
Applications Claiming Priority (6)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US202062978989P | 2020-02-20 | 2020-02-20 | |
US62/978,989 | 2020-02-20 | ||
US202063129805P | 2020-12-23 | 2020-12-23 | |
US63/129,805 | 2020-12-23 | ||
US17/177,636 | 2021-02-17 | ||
US17/177,636 US11939451B2 (en) | 2020-02-20 | 2021-02-17 | Solvents for acetylene fluid storage |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
TW202146634A true TW202146634A (zh) | 2021-12-16 |
Family
ID=77365859
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
TW110105908A TW202146634A (zh) | 2020-02-20 | 2021-02-20 | 供乙炔流體儲存用之改良溶劑 |
Country Status (15)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US11939451B2 (zh) |
EP (1) | EP4107236B1 (zh) |
JP (1) | JP7498783B2 (zh) |
KR (1) | KR20220139392A (zh) |
CN (1) | CN115003780A (zh) |
AU (1) | AU2021221995A1 (zh) |
BR (1) | BR112022014961A2 (zh) |
CA (1) | CA3168086A1 (zh) |
ES (1) | ES2966764T3 (zh) |
HU (1) | HUE064259T2 (zh) |
IL (1) | IL294789A (zh) |
MX (1) | MX2022008957A (zh) |
TW (1) | TW202146634A (zh) |
WO (1) | WO2021168085A1 (zh) |
ZA (1) | ZA202210205B (zh) |
Family Cites Families (30)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US2405693A (en) * | 1940-10-15 | 1946-08-13 | Du Pont | Acetylene solutions |
FR1001539A (fr) * | 1941-05-27 | 1952-02-25 | I G Farbenindustrie Ag Werke B | Procédé pour l'obtention d'acétylène à partir de mélanges de gaz en contenant |
FR895556A (fr) | 1941-07-21 | 1945-01-29 | Ig Farbenindustrie Ag | Procédé pour comprimer l'acétylène |
GB620423A (en) | 1944-07-18 | 1949-03-24 | Centrallaboratorium Ab | Method of preparing solutions of gases |
DE876397C (de) | 1944-07-18 | 1953-05-11 | Centrallaboratorium Keskuslabo | Verfahren zum Herstellen von Loesungen von Azetylen und Schwefel-dioxyd fuer Aufbewahrungs-, Lagerungs- und Transportzwecke |
US2431676A (en) | 1944-11-23 | 1947-12-02 | Nat Cylinder Gas Co | Dispensing container for acetylene and method for storing acetylene |
GB597972A (en) | 1944-11-23 | 1948-02-06 | Nat Cylinder Gas Co | Improvements in or relating to method and apparatus for storing acetylene |
US2580622A (en) | 1945-10-18 | 1952-01-01 | Du Pont | Storage and concentration of acetylene |
US2587689A (en) * | 1947-03-31 | 1952-03-04 | Phillips Petroleum Co | Separation of acetylene from gaseous hydrocarbon mixtures |
US2664997A (en) * | 1949-11-10 | 1954-01-05 | Allied Chem & Dye Corp | Package containing n-alkyl pyrrolidone-2, composition thereof, and process for absorbing acetylene thereby |
US2925384A (en) * | 1951-02-14 | 1960-02-16 | Knapsack Ag | Process of storing and handling acetylene solutions |
US2925385A (en) * | 1951-02-14 | 1960-02-16 | Knapsack Ag | Process of storing and handling acetylene solutions |
US2670810A (en) | 1952-01-21 | 1954-03-02 | Union Oil Co | Acetylene recovery |
US2731507A (en) * | 1953-01-14 | 1956-01-17 | Eastman Kodak Co | Recovery of acetylene from gas mixtures by absorption in selective solvents |
US2849396A (en) * | 1953-06-29 | 1958-08-26 | Phillips Petroleum Co | Selective solvent |
DE965657C (de) | 1953-08-28 | 1957-06-13 | Basf Ag | Loesungsmittel fuer Acetylen |
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JP3630444B2 (ja) | 1994-06-06 | 2005-03-16 | 川研ファインケミカル株式会社 | 溶接溶断用燃料ガスの加圧容器用溶解剤および充填貯蔵方法 |
JPH11106769A (ja) | 1997-10-02 | 1999-04-20 | Toagosei Co Ltd | 鋼材ガス圧接用エチレン混合組成物 |
JP2006117825A (ja) | 2004-10-22 | 2006-05-11 | Nippon Zeon Co Ltd | 燃料用ガス付臭剤 |
US7820556B2 (en) | 2008-06-04 | 2010-10-26 | Novellus Systems, Inc. | Method for purifying acetylene gas for use in semiconductor processes |
US8129577B2 (en) | 2008-09-16 | 2012-03-06 | Air Products And Chemicals, Inc. | Process and system for providing acetylene |
US7955990B2 (en) | 2008-12-12 | 2011-06-07 | Novellus Systems, Inc. | Method for improved thickness repeatability of PECVD deposited carbon films |
CN102701896B (zh) * | 2012-06-06 | 2014-06-25 | 西南石油大学 | 一种用于乙炔净化的复合溶剂及其净化方法 |
CN104030267B (zh) * | 2014-05-15 | 2015-10-28 | 太原理工大学 | 一种石墨化荧光碳点的快速制备方法 |
US20190233350A1 (en) | 2016-09-16 | 2019-08-01 | Sabic Global Technologies B.V. | Process for conversion of hydrocarbon feed to c2 unsaturated hydrocarbons and syngas composition used for multiple applications |
CN106518597B (zh) * | 2016-09-22 | 2019-12-20 | 北京石油化工学院 | 一种乙炔的精制方法 |
-
2021
- 2021-02-17 US US17/177,636 patent/US11939451B2/en active Active
- 2021-02-18 JP JP2022544186A patent/JP7498783B2/ja active Active
- 2021-02-18 CN CN202180010323.7A patent/CN115003780A/zh active Pending
- 2021-02-18 AU AU2021221995A patent/AU2021221995A1/en active Pending
- 2021-02-18 WO PCT/US2021/018537 patent/WO2021168085A1/en unknown
- 2021-02-18 EP EP21712281.1A patent/EP4107236B1/en active Active
- 2021-02-18 BR BR112022014961A patent/BR112022014961A2/pt unknown
- 2021-02-18 HU HUE21712281A patent/HUE064259T2/hu unknown
- 2021-02-18 IL IL294789A patent/IL294789A/en unknown
- 2021-02-18 ES ES21712281T patent/ES2966764T3/es active Active
- 2021-02-18 KR KR1020227031833A patent/KR20220139392A/ko unknown
- 2021-02-18 CA CA3168086A patent/CA3168086A1/en active Pending
- 2021-02-18 MX MX2022008957A patent/MX2022008957A/es unknown
- 2021-02-20 TW TW110105908A patent/TW202146634A/zh unknown
-
2022
- 2022-09-14 ZA ZA2022/10205A patent/ZA202210205B/en unknown
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN115003780A (zh) | 2022-09-02 |
EP4107236C0 (en) | 2023-11-15 |
AU2021221995A1 (en) | 2022-09-15 |
JP2023512959A (ja) | 2023-03-30 |
ES2966764T3 (es) | 2024-04-24 |
WO2021168085A1 (en) | 2021-08-26 |
CA3168086A1 (en) | 2021-08-26 |
JP7498783B2 (ja) | 2024-06-12 |
ZA202210205B (en) | 2023-12-20 |
BR112022014961A2 (pt) | 2022-09-20 |
HUE064259T2 (hu) | 2024-02-28 |
MX2022008957A (es) | 2022-08-15 |
US11939451B2 (en) | 2024-03-26 |
KR20220139392A (ko) | 2022-10-14 |
EP4107236B1 (en) | 2023-11-15 |
IL294789A (en) | 2022-09-01 |
US20210261751A1 (en) | 2021-08-26 |
EP4107236A1 (en) | 2022-12-28 |
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