TW202128415A - 抗反射膜及圖像顯示裝置 - Google Patents

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Abstract

本發明之抗反射膜(101)具備依序設置於硬塗膜(1)之硬塗層(11)上之抗反射層(5)及防污層(7)，上述硬塗膜(1)係於透明膜基材(10)之一主面上具備硬塗層(11)者。硬塗層包含黏合劑及1～8 μm粒徑之微粒子。抗反射層包含折射率不同之複數層薄膜之積層體。抗反射膜之霧度為1～18%，防污層表面之算術平均粗糙度Ra為0.05～0.25 μm，凹凸之平均間隔RSm為60～200 μm。

Description

抗反射膜及圖像顯示裝置
本發明係關於一種於透明膜基材上具備抗反射層及防污層之抗反射膜。進而，本發明係關於一種具備該抗反射膜之圖像顯示裝置。
為了防止外界光之反射引起之畫質降低、提昇對比度等，而於液晶顯示器或有機EL(Electroluminescence，電致發光)顯示器等圖像顯示裝置之視認側表面使用有抗反射膜。抗反射膜於透明膜上具備抗反射層，該抗反射層包含折射率不同之複數層薄膜之積層體。抗反射膜配置於圖像顯示裝置之最表面，以可自外部接觸之狀態使用，故易受到指紋、手垢、灰塵等污染之影響。因此，為了防止來自外部環境之污染或容易去除附著之污染物質，而於抗反射層之表面設置有防污層(例如專利文獻1)。
有實施防眩(Anti-glare)處理以防止外界光映入引起對比度降低之方法。例如，專利文獻2中提出有一種於防眩性硬塗膜上設置有抗反射層之防眩性抗反射膜，上述防眩性硬塗膜係於透明膜上形成有包含微粒子之硬塗層者。 [先前技術文獻] [專利文獻]
[專利文獻1]日本專利特開2015-69008號公報 [專利文獻2]日本專利特開2008-90263號公報
[發明所欲解決之問題]
防眩性塗層藉由利用表面凹凸使外界光散射反射而減少了外界光之映入。另一方面，防眩性塗層之表面凹凸具有使來自顯示面板之光(影像光)折射之透鏡作用，故有時會強調顯示裝置之局部性亮度不均，而使畫面出現眩光。尤其是，若為了提高圖像清晰度(通透感)而降低防眩性塗層之霧度，則有容易出現眩光之傾向。又，近年來，圖像顯示裝置不斷高清化，像素尺寸逐漸變小。進而，經由透明黏著片而於圖像顯示面板上配置有觸控面板或覆蓋窗之構成中，配置於圖像顯示裝置之表面之防眩性塗層與圖像顯示面板之間之間隙較大，有時超過1 mm。
隨著圖像顯示裝置之構成之改變，諸如高清化、寬間隙化等，有更容易出現由防眩性塗層之凹凸引起之眩光之傾向，先前之防眩性塗層不易獲得充分之視認性。又，表面具備防污層之抗反射膜存在如下問題：隨著使用，防污層磨耗，防污性降低。
鑒於上述情況，本發明之目的在於提供一種抗反射膜，其發揮出高防眩性，並且於寬間隙構成之圖像顯示裝置中亦不易產生眩光不良，防污層之耐磨耗性優異。 [解決問題之技術手段]
本發明之抗反射膜具備依序設置於硬塗膜之硬塗層上之抗反射層及防污層，上述硬塗膜係於透明膜基材之一主面上具備硬塗層者。硬塗層包含黏合劑及1～8 μm粒徑之微粒子。抗反射層包含折射率不同之複數層薄膜之積層體。構成抗反射層之薄膜較佳為無機氧化物。抗反射層可為藉由濺鍍形成之濺鍍膜。硬塗層與抗反射層之間亦可設置有包含氧化矽等無機氧化物之底塗層。
抗反射膜之霧度較佳為1～18%，亦可為4～18%。抗反射膜之表面(防污層之表面)之算術平均粗糙度Ra較佳為0.05～0.25 μm，凹凸之平均間隔RSm較佳為60～200 μm。
硬塗層除1～8 μm粒徑之微粒子以外，亦可包含平均一次粒徑為100 nm以下之奈米粒子。相對於黏合劑100重量份，硬塗層中之1～8 μm粒徑之微粒子(微粒子)之量較佳為3～10重量份。黏合劑之折射率與微粒子之折射率的差較佳為0.01～0.06。 [發明之效果]
於圖像顯示介質之視認側表面配置有本發明之抗反射膜的圖像顯示裝置表現出優異之防眩性，並且不易產生顯示圖像之眩光不良，視認性優異。又，本發明之抗反射膜於防污層之耐磨耗性方面優異，長期使用後仍表現出較高之防污性及去污性。
圖1係表示本發明之一實施方式之抗反射膜之積層構成例的剖視圖。抗反射膜101於硬塗膜1之硬塗層11上具備抗反射層5，且於抗反射層5上具備防污層7。硬塗膜1於透明膜基材10之一主面上具備硬塗層11。抗反射層5為折射率不同之2層以上無機薄膜之積層體。硬塗層11與抗反射層5之間亦可設置有底塗層3。
[硬塗膜] 硬塗膜1於透明膜基材10之一主面上具備硬塗層11。藉由於抗反射層5形成面側設置硬塗層11，可提昇抗反射膜之表面硬度或耐擦傷性等機械特性。
＜透明膜基材＞ 透明膜基材10之可見光透過率較佳為80%以上，更佳為90%以上。作為構成透明膜基材10之樹脂材料，例如較佳為透明性、機械強度及熱穩定性優異之樹脂材料。作為樹脂材料之具體例，可列舉：三乙醯纖維素等纖維素系樹脂、聚酯系樹脂、聚醚碸系樹脂、聚碸系樹脂、聚碳酸酯系樹脂、聚醯胺系樹脂、聚醯亞胺系樹脂、聚烯烴系樹脂、(甲基)丙烯酸系樹脂、環狀聚烯烴系樹脂(降𦯉烯系樹脂)、聚芳酯系樹脂、聚苯乙烯系樹脂、聚乙烯醇系樹脂及該等之混合物。
透明膜基材之厚度並無特別限制，就強度或操作性等作業性、薄層性等之觀點而言，較佳為5～300 μm左右，更佳為10～250 μm，進而較佳為20～200 μm。
＜硬塗層＞ 藉由於透明膜基材10之主面上設置硬塗層11而形成硬塗膜1。硬塗層11係包含黏合劑及微粒子之防眩性硬塗層，藉由利用微粒子形成之表面凹凸來發揮防眩性。
(黏合劑) 作為硬塗層11之黏合劑，較佳為使用熱固性樹脂、光硬化性樹脂、電子束硬化性樹脂等硬化性樹脂。作為硬化性樹脂之種類，可列舉：聚酯系、丙烯酸系、胺基甲酸酯系、聚胺基甲酸酯丙烯酸酯系、醯胺系、矽酮系、矽酸鹽系、環氧系、三聚氰胺系、氧雜環丁烷系、聚胺基甲酸酯丙烯酸酯系等。其中，就硬度高、可光硬化之方面而言，較佳為丙烯酸系樹脂、聚胺基甲酸酯丙烯酸酯系樹脂及環氧系樹脂，其中較佳為丙烯酸系樹脂及聚胺基甲酸酯丙烯酸酯系樹脂。如下文所述，黏合劑除樹脂成分(有機成分)以外，亦可包含無機奈米粒子等無機成分。
黏合劑之折射率一般為1.4～1.6左右。如下文所詳述，就降低硬塗層之霧度之觀點而言，較佳為黏合劑與微粒子之折射率差較小。
光硬化性之黏合劑樹脂成分包含具有2個以上光聚合性(較佳為紫外線聚合性)官能基之多官能化合物。多官能化合物可為單體，亦可為低聚物。作為光聚合性之多官能化合物，較佳為使用1分子中包含2個以上(甲基)丙烯醯基之化合物。
作為1分子中具有2個以上(甲基)丙烯醯基之多官能化合物之具體例，可列舉：三環癸烷二甲醇二丙烯酸酯、季戊四醇二(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三丙烯酸酯、季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二羥甲基丙烷四丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、1,6-己二醇(甲基)丙烯酸酯、1,9-壬二醇二丙烯酸酯、1,10-癸二醇(甲基)丙烯酸酯、聚乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、聚丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、二丙二醇二丙烯酸酯、異三聚氰酸三(甲基)丙烯酸酯、乙氧化甘油三丙烯酸酯、乙氧化季戊四醇四丙烯酸酯及該等之低聚物或預聚物等。再者，於本說明書中，「(甲基)丙烯酸」意為丙烯酸及/或甲基丙烯酸。
1分子中具有2個以上(甲基)丙烯醯基之多官能化合物亦可具有羥基。藉由使用含羥基之多官能化合物作為黏合劑樹脂成分，而有透明基材與硬塗層之密接性提昇之傾向。作為1分子中具有羥基及2個以上(甲基)丙烯醯基之化合物，可列舉季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯等。
聚胺基甲酸酯丙烯酸酯樹脂包含聚胺基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯之單體或低聚物作為多官能化合物。聚胺基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯所具有之(甲基)丙烯醯基之數量較佳為3以上，更佳為4～15，進而較佳為6～12。聚胺基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯低聚物之分子量例如為3000以下，較佳為500～2500，更佳為800～2000。聚胺基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯例如藉由使由(甲基)丙烯酸或(甲基)丙烯酸酯及多元醇所得之(甲基)丙烯酸羥基酯與二異氰酸酯發生反應而獲得。
相對於黏合劑樹脂成分(藉由硬化而形成黏合劑樹脂之單體、低聚物及預聚物)之總計100重量份，硬塗組合物中之多官能化合物之含量較佳為50重量份以上，更佳為60重量份以上，進而較佳為70重量份以上。若多官能單體之含量為上述範圍，則有提高硬塗層之硬度之傾向。
黏合劑樹脂成分亦可進而包含單官能單體。相對於黏合劑樹脂成分100重量份，單官能單體之含量較佳為50重量份以下，更佳為40重量份以下，進而較佳為30重量份以下。
(微粒子) 藉由在硬塗層中包含1 μm以上粒徑之微粒子(以下稱為「微粒子」)，而於硬塗層之表面形成凹凸，賦予硬塗層防眩性。又，微粒子亦有助於控制硬塗層之霧度。
作為微粒子，並無特別限制，可使用：氧化矽、氧化鋁、氧化鈦、氧化鋯、氧化鈣、氧化錫、氧化銦、氧化鎘、氧化銻等各種金屬氧化物微粒子；玻璃微粒子；包含聚甲基丙烯酸甲酯、聚苯乙烯、聚胺基甲酸酯、丙烯酸酯-苯乙烯共聚物、苯并胍胺、三聚氰胺、聚碳酸酯等各種透明聚合物的交聯或未交聯之有機系微粒子；矽酮系微粒子等具有透明性者。該等微粒子可適當選擇使用1種或2種以上。
較佳為微粒子與硬塗層之黏合劑樹脂之折射率差較小。藉由減小黏合劑與微粒子之折射率差，黏合劑與微粒子之界面處之光散射減少，霧度變小，因此可實現高通透感之顯示。另一方面，於硬塗層之霧度過小之情形時，防眩性有可能不充分。就使硬塗層具有適度之霧度並且減少眩光之觀點而言，黏合劑與微粒子之折射率差較佳為0.01～0.06左右，更佳為0.02～0.05。
微粒子之粒徑較佳為10 μm以下。硬塗層中所含之微粒子(1 μm以上粒徑之粒子)之平均粒徑較佳為1～8 μm，更佳為2～5 μm。於微粒子之粒徑較小之情形時，有防眩性不足之傾向。於微粒子之粒徑較大之情形時，有圖像清晰度降低之傾向，尤其於像素尺寸較小之高清顯示器中，該傾向較為顯著。於硬塗層中包含2種以上微粒子之情形時，較佳為微粒子整體之平均粒徑處於上述範圍內。平均粒徑係藉由庫爾特計數法測得之重量平均粒徑。
微粒子之形狀並無特別限制，就減少眩光之觀點而言，較佳為縱橫比為1.5以下之球狀粒子。球狀粒子之縱橫比較佳為1.3以下，更佳為1.1以下。
硬塗層中之微粒子之含量並無特別限制。就於硬塗層之表面均勻地形成凹凸之觀點而言，相對於黏合劑100重量份，微粒子之含量較佳為0.5重量份以上，更佳為0.8重量份以上，進而較佳為1.0重量份以上，亦可為1.5重量份以上、2.0重量份以上或2.5重量份以上。相對於黏合劑100重量份，微粒子之含量較佳為12重量份以下，亦可為11重量份以下。於微粒子之含量較少之情形時，硬塗層表面之凹凸之平均間隔(粗糙度曲線要素之平均長度)RSm較大，易產生眩光不良。另一方面，於微粒子之含量較多之情形時，有霧度上升、圖像清晰度下降之傾向。硬塗層中之微粒子之含量亦可為3～10重量份或3.5～8重量份。
(奈米粒子) 硬塗層除1 μm以上粒徑之微粒子以外，亦可包含粒徑未達1 μm之微粒子(以下有時稱為「奈米粒子」)。例如，藉由使硬塗層包含平均一次粒徑為10 nm～100 nm左右之奈米粒子，有於硬塗層6之表面上形成尺寸小於由微粒子形成之凹凸的微細凹凸，提昇硬塗層11與形成於其上之抗反射層5之密接性的傾向。又，藉由包含粒徑尺寸遠小於可見光之波長(例如100 nm以下)之奈米粒子，可於不使硬塗層之透明性降低之情況下調整黏合劑之折射率。
就提高於黏合劑中之分散性之觀點而言，奈米粒子之平均一次粒徑較佳為15 nm以上，更佳為20 nm以上。就形成有助於提昇密接性之微細凹凸形狀之觀點而言，奈米粒子之平均一次粒徑較佳為90 nm以下，更佳為70 nm以下，進而較佳為50 nm以下。
作為奈米粒子之材料，較佳為無機氧化物。作為無機氧化物，可列舉：氧化矽、氧化鈦、氧化鋁、氧化鋯、氧化鈦、氧化鈮、氧化鋅、氧化錫、氧化鈰、氧化鎂等金屬或半金屬之氧化物。無機氧化物亦可為複數種(半)金屬之複合氧化物。例示之無機氧化物之中，就提昇密接性之效果較高之方面而言，較佳為氧化矽。為了提高與樹脂之密接性或親和性，亦可向無機氧化物粒子之表面導入丙烯醯基、環氧基等官能基。
於為了提昇密接性而使用奈米粒子之情形時，相對於黏合劑成分之總量(黏合劑樹脂與奈米粒子之總計)100重量份，硬塗層中之奈米粒子之量較佳為5重量份以上，亦可為10重量份以上、20重量份以上或30重量份以上。有奈米粒子之量越多，則越能提昇硬塗層與形成於其上之薄膜之密接性的傾向。
(硬塗層之形成) 藉由於透明膜基材10上塗佈硬塗組合物，並視需要進行溶劑之去除及樹脂之硬化，而形成硬塗層11。硬塗組合物包含上述黏合劑成分及微粒子，視需要包含可使黏合劑成分溶解或分散之溶劑。於黏合劑樹脂成分為硬化性樹脂之情形時，較佳為於組合物中包含適當之聚合起始劑。例如，於黏合劑樹脂成分為光硬化型樹脂之情形時，較佳為於組合物中包含光聚合起始劑。
硬塗組合物除上述成分以外，亦可包含調平劑、黏度調整劑(觸變劑、增黏劑等)、抗靜電劑、抗黏連劑、分散劑、分散穩定劑、抗氧化劑、紫外線吸收劑、消泡劑、界面活性劑、潤滑劑等添加劑。
藉由使硬塗組合物包含觸變劑，而有容易抑制微粒子之沈降，於硬塗層之表面均勻地形成由微粒子形成之凹凸，形成適於減少眩光之表面形狀的傾向。作為觸變劑，可列舉：有機黏土、氧化聚烯烴、改性脲等。其中較佳為膨潤石等有機黏土。相對於黏合劑100重量份，較佳為調配0.3～5重量份左右之觸變劑。
藉由使硬塗組合物包含調平劑，而有使硬塗層之表面形狀均勻之傾向。作為調平劑，例如可列舉氟系或矽酮系之調平劑，相對於黏合劑100重量份，調平劑之調配量較佳為0.01～3重量份左右。
作為硬塗組合物之塗佈方法，可採用棒式塗佈法、輥式塗佈法、凹版塗佈法、桿式塗佈法、孔縫式塗佈法、淋幕式塗佈法、噴注式塗佈法、逗號刀塗佈法等任意適當之方法。塗佈後之加熱溫度可根據硬塗組合物之組成等而設定為適當溫度，例如為50℃～150℃左右。於黏合劑樹脂成分為光硬化性樹脂之情形時，藉由照射紫外線等活性能量線來進行光硬化。照射光之累計光量較佳為100～500 mJ/cm2 左右。
＜硬塗膜及硬塗層之特性＞ 硬塗層11之厚度並無特別限制，為了實現高硬度，較佳為2 μm以上，更佳為4 μm以上，進而較佳為5 μm以上。另一方面，若硬塗層11之厚度過大，則有可能無法適當地形成硬塗層之表面凹凸或因凝聚破壞而使膜強度降低。因此，硬塗層11之厚度較佳為20 μm以下，更佳為15 μm以下，進而較佳為12 μm以下。又，硬塗層11之厚度較佳為微粒子平均粒徑之1.2～4倍之範圍，更佳為1.5～3倍之範圍內。藉由使微粒子之粒徑與硬塗層之厚度的比為上述範圍，易使硬塗層表面上形成之凹凸形狀成為防眩性優異且適於眩光較少之顯示的形狀。
硬塗膜之霧度為1%以上，較佳為1.5%以上，更佳為2%以上，進而較佳為3%以上。硬塗膜之霧度較佳為20%以下。硬塗膜之霧度較佳為4～20%，更佳為6～17%，進而較佳為7～15%。若硬塗膜之霧度為上述範圍，則可兼具防眩性及圖像清晰度。於霧度過小之情形時，防眩性有可能較差，於霧度過大之情形時，有圖像清晰度降低之傾向。如上所述，藉由調整硬塗層中所含之黏合劑與微粒子之折射率差及微粒子之含量，可將硬塗層(及硬塗膜)之霧度控制於適當範圍內。
硬塗層表面之算術平均粗糙度Ra較佳為0.05～0.25 μm，更佳為0.06～0.2 μm，進而較佳為0.07～0.18 μm。硬塗層表面之凹凸之平均間隔RSm較佳為60～200 μm，更佳為80～180 μm，進而較佳為100～160 μm。硬塗層之表面形狀參數及抗反射膜(防污層)之表面形狀參數可根據如下獲得之粗糙度曲線，依據JIS B0601：2001而算出，上述粗糙度曲線係使利用觸針式表面粗糙度測定器測得之長度4 mm之剖面曲線通過截止值0.8 mm之廣域濾波器所得。
藉由調整微粒子之粒徑及含量，可調整算術平均粗糙度Ra及凹凸之平均間隔RSm。有微粒子之含量越多，則由微粒子形成之凸部之數量越多，因此RSm變小之傾向。又，有微粒子之平均粒徑越大，微粒子之含量越多，則Ra越大之傾向。
硬塗層表面之均方根粗糙度Rq較佳為0.06～0.3 μm，更佳為0.08～0.25 μm，進而較佳為0.09～0.2 μm。硬塗層表面之最大剖面高度Rt較佳為0.3～2.5 μm，更佳為0.5～2 μm，進而較佳為0.7～1.7 μm。硬塗層表面之最大高度Rz較佳為0.1～1.5 μm，更佳為0.3～1 μm，進而較佳為0.4～0.9 μm。硬塗層表面之十點平均高度RzJIS 較佳為0.05～1 μm，更佳為0.1～0.8 μm，進而較佳為0.2～0.6 μm。
硬塗層表面之平均傾斜角θa較佳為0.1°～1.1°，更佳為0.15～1.0°，進而較佳為0.2°～0.8°，尤佳為0.3°～0.6°。平均傾斜角θa係以如下方式算出，即，將基準長度L(＝4 mm)之粗糙度曲線中相鄰之山頂點與山谷最下點的差(高度h)之總計(h1 ＋h2 ＋h3 ……＋hn )除以基準長度L，而獲得值Δa，使用該值Δa，根據下述式算出平均傾斜角θa。 θa＝tan-1 Δa
＜硬塗層之表面處理＞ 於硬塗層11上形成抗反射層5之前，亦可對硬塗層11進行表面處理，以進一步提昇硬塗層11與抗反射層5之密接性等。作為表面處理，可列舉：電暈處理、電漿處理、火焰處理、臭氧處理、底塗處理、輝光處理、鹼處理、酸處理、利用偶合劑進行之處理等表面改質處理。作為表面處理，亦可進行真空電漿處理。亦可藉由真空電漿處理來調整硬塗層之表面粗糙度。真空電漿處理(例如氬電漿處理)之放電電力為0.5～10 kW左右，較佳為1～5 kW左右。
[抗反射膜] 於硬塗膜1之硬塗層11上，視需要經由底塗層3形成抗反射層5，並於抗反射層5上形成防污層7，藉此獲得抗反射膜。
＜底塗層＞ 較佳為於硬塗膜1之硬塗層11與抗反射層5之間設置底塗層3。作為底塗層3之材料，可列舉：矽、鎳、鉻、錫、金、銀、鉑、鋅、鈦、銦、鎢、鋁、鋯、鈀等金屬；該等金屬之合金；該等金屬之氧化物、氟化物、硫化物或氮化物等。其中，底塗層之材料較佳為無機氧化物，尤佳為氧化矽或氧化銦。構成底塗層3之無機氧化物亦可為氧化銦錫(ITO)等複合氧化物。
於底塗層3為氧化矽之情形時，就透光率高且對有機層(硬塗層)及無機層(抗反射層)兩者之接著力高之方面而言，尤佳為氧量少於化學計量組成者。非化學計量組成之底塗層3之氧量較佳為化學計量組成之60～99%左右。例如，於形成氧化矽(SiOx )層作為底塗層3之情形時，x較佳為1.20～1.98。
底塗層3之厚度例如為1～20 nm左右，較佳為3～15 nm。若底塗層之厚度為上述範圍，則可兼具與硬塗層11之密接性及高透光性。
＜抗反射層＞ 抗反射層5包含折射率不同之2層以上薄膜。一般而言，抗反射層係以入射光與反射光之反轉相位互相抵消之方式調整薄膜之光學膜厚(折射率與厚度之積)。藉由使抗反射層為折射率不同之2層以上薄膜之多層積層體，可於可見光之寬頻帶波長範圍內減小反射率。
作為構成抗反射層5之薄膜之材料，可列舉金屬之氧化物、氮化物、氟化物等。抗反射層5較佳為高折射率層與低折射率層之交替積層體。為了減少與防污層之界面處之反射，設置為抗反射層5之最外層之薄膜54較佳為低折射率層。
高折射率層51、53例如折射率為1.9以上，較佳為2.0以上。作為高折射率材料，可列舉：氧化鈦、氧化鈮、氧化鋯、氧化鉭、氧化鋅、氧化銦、氧化銦錫(ITO)、摻銻氧化錫(ATO)等。其中，較佳為氧化鈦或氧化鈮。低折射率層52、54例如折射率為1.6以下，較佳為1.5以下。作為低折射率材料，可列舉：氧化矽、氮化鈦、氟化鎂、氟化鋇、氟化鈣、氟化鉿、氟化鑭等。其中較佳為氧化矽。尤佳為使作為高折射率層之氧化鈮(Nb2 O5 )薄膜51、33與作為低折射率層之氧化矽(SiO2 )薄膜52、54交替積層。除低折射率層及高折射率層以外，亦可設置折射率為1.6～1.9左右之中等折射率層。
高折射率層及低折射率層之膜厚分別為5～200 nm左右，較佳為15～150 nm左右。可根據折射率或積層構成等，以可見光之反射率變小之方式設計各層之膜厚。例如，作為高折射率層與低折射率層之積層構成，可列舉自硬塗膜側起為光學膜厚25 nm～55 nm左右之高折射率層51、光學膜厚35 nm～55 nm左右之低折射率層52、光學膜厚80 nm～240 nm左右之高折射率層53及光學膜厚120 nm～150 nm左右之低折射率層54的4層構成。
構成抗反射層5之薄膜之成膜方法並無特別限制，可為濕式塗佈法、乾式塗佈法之任一者。就可形成膜厚均勻的薄膜之方面而言，較佳為真空蒸鍍、CVD(Chemical vapor deposition，化學氣相沈積)、濺鍍、電子束蒸鍍等乾式塗佈法。其中，就易形成膜厚之均勻性優異、緻密且高強度之膜之方面而言，較佳為濺鍍法。藉由利用濺鍍法形成抗反射層，有設置於抗反射層5上之防污層7之耐磨耗性提昇之傾向。
於濺鍍法中，可藉由卷對卷式方式一面於一方向(長度方向)上搬送長條之硬塗膜，一面使薄膜連續成膜。於濺鍍法中，一面將氬等惰性氣體及視需要而存在之氧等反應性氣體導入至腔室內一面進行成膜。利用濺鍍法進行之氧化物層之成膜可藉由使用氧化物靶之方法及使用金屬靶之反應性濺鍍之任一者來實施。為了以高速率使金屬氧化物成膜，較佳為使用金屬靶之反應性濺鍍。
＜防污層＞ 抗反射膜於抗反射層5上具備防污層7作為最表面層(面塗層)。藉由於最表面上設置防污層，可減少來自外部環境之污染(指紋、手垢、灰塵等)之影響，並且容易去除附著於表面之污染物質。
為了維持抗反射層5之抗反射特性，較佳為防污層7與抗反射層5之最表面之低折射率層54的折射率差較小。防污層7之折射率較佳為1.6以下，更佳為1.55以下。
作為防污層7之材料，較佳為含氟之化合物。含氟之化合物可賦予防污性，並且可有助於低折射率化。其中，就撥水性優異，可發揮高防污性之方面而言，較佳為含有全氟聚醚骨架之氟系聚合物。就提高防污性之觀點而言，尤佳為具有可剛性並列之主鏈結構之全氟聚醚。作為全氟聚醚之主鏈骨架之結構單元，較佳為碳數1～4之可具有支鏈之全氟環氧烷，例如可列舉：全氟環氧甲烷、(-CF2 O-)、全氟環氧乙烷(-CF2 CF2 O-)、全氟環氧丙烷(-CF2 CF2 CF2 O-)、全氟環氧異丙烷(-CF(CF3 )CF2 O-)等。
防污層可藉由反向塗佈法、模嘴塗佈法、凹版塗佈法等濕式法或CVD法等乾式法等而形成。防污層之厚度通常為2～50 nm左右。有防污層7之厚度越大，則防污性越高之傾向。又，有防污層7之厚度越大，則越能抑制因磨耗引起之防污特定之降低的傾向。防污層之厚度較佳為5 nm以上，更佳為7 nm以上，進而較佳為8 nm以上。另一方面，就於防污層表面形成反映硬塗層表面之凹凸形狀之表面形狀，提高防眩性之觀點而言，防污層之厚度較佳為30 nm以下，更佳為20 nm以下。
為了提高防污染性及污染物質去除性，防污層7之水接觸角較佳為100°以上，更佳為102°以上，進而較佳為105°以上。有水接觸角越大，則撥水性越高，防止污染物質附著之效果或污染物質去除性越高之傾向。水接觸角一般而言為125°以下。
＜抗反射膜之特性＞ 抗反射膜之霧度為1%以上，較佳為1.5%以上，更佳為2%以上，進而較佳為3%以上。抗反射膜之霧度較佳為20%以下。抗反射膜之霧度較佳為4～20%，更佳為6～17%，進而較佳為7～15%。於抗反射膜之霧度過小之情形時，防眩性有可能較差，於霧度過大之情形時，有圖像清晰度降低之傾向。抗反射層5及防污層7之厚度較小，幾乎不產生霧度，因此抗反射膜之霧度與硬塗膜之霧度大致相等。
抗反射膜之表面、即防污層7之表面之算術平均粗糙度Ra較佳為0.05～0.25 μm，更佳為0.06～0.2 μm，進而較佳為0.07～0.18 μm。防污層表面之凹凸之平均間隔RSm較佳為60～200 μm，更佳為80～180 μm，進而較佳為100～160 μm。
由於硬塗層11上形成之抗反射層5及防污層7之厚度較小，故易於防污層7之表面形成反映硬塗層11之表面形狀之凹凸形狀。因此，可藉由調整硬塗層11之微粒子之粒徑或調配量等，來調整硬塗層之表面形狀，而獲得具有上述Ra及RSm之抗反射膜。又，亦可藉由對硬塗層11實施真空電漿處理等表面處理來調整表面形狀。
藉由於抗反射膜之表面形成凹凸，可減少外界光或影像之映入。藉由使抗反射膜之算術平均粗糙度Ra為0.05 μm以上，而有提高防眩性之傾向。另一方面，於Ra過大之情形時，有可能產生眩光不良。又，藉由使利用微米級粒子形成之凸部均勻地分散於面內，而有凹凸之平均間隔RSm變小，於圖像顯示面板與抗反射膜之間之間隙較大之情形時，亦可抑制眩光不良的傾向。
表面之算術平均粗糙度Ra及凹凸之平均間隔RSm為上述範圍的抗反射膜由於能夠使外界光均勻地散射，故具有優異之防眩性，且有抑制眩光之傾向。又，Ra及RSm處於上述範圍內之抗反射膜藉由表面之凹凸而具有優異之滑動性，耐擦傷性優異，並且防污層之耐磨耗性亦優異。關於抗反射膜，較佳為於使用鋼絲絨施加2 kg/cm2 之負載之狀態下實施往返10次之滑動試驗時，表面未確認到擦傷。
抗反射膜表面之平均傾斜角θa較佳為0.1°～1.1°，更佳為0.15～1.0°，進而較佳為0.2°～0.8°，尤佳為0.3°～0.6°。於θa過小之情形時，有防眩性變得不充分之傾向，於θa過大之情形時，有眩光變強之傾向。
抗反射膜表面之均方根粗糙度Rq較佳為0.06～0.3 μm，更佳為0.08～0.25 μm，進而較佳為0.09～0.2 μm。抗反射膜表面之最大剖面高度Rt較佳為0.3～2.5 μm，更佳為0.5～2 μm，進而較佳為0.7～1.7 μm。抗反射膜表面之最大高度Rz較佳為0.1～1.5 μm，更佳為0.3～1 μm，進而較佳為0.4～0.9 μm。抗反射膜表面之十點平均高度RzJIS 較佳為0.05～1 μm，更佳為0.1～0.8 μm，進而較佳為0.2～0.6 μm。於除Ra及RSm處於上述範圍內以外，Rq、Rt、Rz、RzJIS 亦處於上述範圍內之情形時，有抗反射膜之防眩性優異，並且於圖像顯示面板與抗反射膜之間之間隙較大之情形時，亦可抑制眩光的傾向。
[抗反射膜之使用形態] 抗反射膜例如可配置於液晶顯示器或有機EL顯示器等圖像顯示裝置之表面而使用。例如，藉由於包含液晶單元或有機EL單元等圖像顯示介質之面板之視認側表面配置抗反射膜，可減少外界光之反射，可提昇圖像顯示裝置之視認性。
抗反射膜可直接貼合於圖像顯示裝置之表面而使用，亦可與其他膜積層。例如，藉由於透明膜基材10之不形成硬塗層之面上貼合偏光元件，可形成附帶抗反射層之偏光板。
抗反射膜亦可經由其他光學構件而配置於圖像顯示單元之視認側表面。例如，於圖2所示之圖像顯示裝置201中，於圖像顯示單元20之視認側表面上，經由透明黏著劑層9而配置有覆蓋窗8，於覆蓋窗8之視認側表面上配置有抗反射膜101。覆蓋窗8與抗反射膜101之間亦可設置有適當之接著劑層或黏著劑層(未圖示)。圖像顯示單元20與覆蓋窗8之間亦可配置有偏光板等光學膜或觸控感測器等。
於圖像顯示單元20上配置有覆蓋窗等光學構件之情形時，圖像顯示單元20與抗反射膜101之間存在特定之間隙D。有該間隙D越大，則越易因硬塗層表面之凹凸而產生眩光之傾向，尤其是若間隙超過1 mm，則該傾向越顯著。
如上所述，藉由使用具有特定之表面形狀之抗反射膜，即使於間隙D較大之情形時，亦可實現眩光受到抑制之良好顯示。圖像顯示單元20與抗反射膜101之間隙D可為1.2 mm以上、1.5 mm以上或1.8 mm以上。間隙D可為5 mm以下或4 mm以下或3 mm以下。 [實施例]
以下，列舉實施例更詳細地說明本發明，但本發明並不限定於以下實施例。
[實施例1] ＜防眩性硬塗膜之製作＞ (硬塗組合物之製備) 將作為黏合劑樹脂成分之季戊四醇聚丙烯酸酯(大阪有機化學公司製造之「Viscoat#300」)50重量份、聚胺基甲酸酯丙烯酸酯預聚物(日本合成化學公司製造之「紫光UV-1700TL」)50重量份、苯乙烯與甲基丙烯酸甲酯(MMA)之共聚交聯粒子(積水化成品工業公司製造之「Techpolymer SSX-540TNR」，平均粒徑3.6 μm，折射率1.56)4重量份、作為觸變劑之有機化膨潤石(國峰工業公司製造之「Sumecton SAN」)1.5重量份、光聚合起始劑(IGM Resins公司製造之「Omnirad 907」)3重量份以及矽酮系調平劑(共榮社化學公司製造之「Polyflow LE303」)0.15重量份加以混合，並利用甲苯/環戊酮混合溶劑(重量比70/30)進行稀釋，而製備固形物成分濃度50重量%之硬塗組合物。再者，上述調配量為固形物成分(不揮發分)之量，有機化膨潤石係以固形物成分成為6重量%之方式用甲苯進行稀釋後再使用(以下組合物亦相同)。黏合劑(不含微粒子，僅使黏合劑樹脂成分硬化而成)之折射率為1.51。
(硬塗層之形成) 使用缺角輪塗佈機(註冊商標)將上述硬塗組合物塗佈於厚度40 μm之三乙醯纖維素膜(Konica Minolta Opto公司製造之「KC4UA」)上，並於80℃下加熱1分鐘。然後，利用高壓水銀燈照射累計光量300 mJ/cm2 之紫外線，使塗佈層硬化，而形成厚度8.0 μm之防眩性硬塗層。
＜底塗層及抗反射層之形成＞ 將形成有硬塗層之三乙醯纖維素膜導入至卷對卷式方式之濺鍍成膜裝置中，一面使膜移行，一面對防眩性硬塗層形成面進行轟擊處理(利用氬氣進行之電漿處理)，然後使3.5 nm之SiOx 層(x＜2)成膜作為底塗層，並於其上依序使10.1 nm之Nb2 O5 層、27.5 nm之SiO2 層、105.0 nm之Nb2 O5 層及83.5 nm之SiO2 層成膜。底塗層及SiO2 層成膜時使用Si靶，Nb2 O5 層成膜時使用Nb靶。於SiO2 層成膜及Nb2 O5 層成膜時，藉由電漿發光監測(PEM)控制，使成膜模式以維持過渡區域之方式調整導入之氧量。
＜防污層之形成＞ 以乾燥後厚度成為10 nm之方式，將含有主鏈骨架上包含-(O-CF(CF3 )-CF2 )-之全氟醚的氟系樹脂溶液塗佈於抗反射層之表面SiO2 層上，而形成作為面塗層之防污層。
[實施例2～5] 於製備硬塗組合物時，將粒子之調配量變更為如表1所示，除此以外，以與實施例1相同之方式進行防眩性硬塗膜之製作、底塗層及抗反射層之形成以及防污層之形成。
[實施例6] 將奈米氧化矽粒子與硬化性丙烯酸樹脂之複合物之溶液(奈米氧化矽粒子之平均一次粒徑：40 nm；固形物成分中之奈米氧化矽粒子之比率：60重量%；固形物成分：50重量%)67重量份、及多官能丙烯酸酯33重量份加以混合。向該溶液之固形物成分100重量份中混合2.0重量份之交聯聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)粒子(積水化成品工業公司製造之「Tech Polymer SSX-103」，平均粒徑3.0 μm，折射率1.50)、1.5重量份之作為觸變劑之有機化膨潤石(國峰工業公司製造之「Sumecton SAN」)、3重量份之光聚合起始劑(IGM Resins公司製造之「OMNIRAD 907」)以及0.15重量份之矽酮系調平劑(共榮社化學公司製造之「Polyflow LE303」)，並利用甲苯/環戊酮混合溶劑(重量比70/30)進行稀釋，而製備固形物成分濃度45重量%之硬塗組合物。黏合劑(不包含PMMA粒子，使丙烯酸樹脂與奈米氧化矽粒子之混合材料硬化而成)之折射率為1.48。
除了使用上述硬塗組合物以外，以與實施例1相同之方式進行防眩性硬塗膜之製作、底塗層及抗反射層之形成以及防污層之形成。
[實施例7] 於製備硬塗組合物時，將PMMA粒子之調配量變更為1.0重量份，除此以外，以與實施例6相同之方式進行防眩性硬塗膜之製作、底塗層及抗反射層之形成以及防污層之形成。
[實施例8] 於製備硬塗組合物時，將PMMA粒子之調配量變更為8.0重量份，且除PMMA粒子以外，還調配1.4重量份之矽酮粒子(邁圖高新材料日本有限公司製造之「Tospearl 130」，平均粒徑3 μm，折射率1.43)。除此以外，以與實施例6相同之方式進行防眩性硬塗膜之製作、底塗層及抗反射層之形成以及防污層之形成。
[比較例1] 將50重量份之作為黏合劑樹脂之季戊四醇三丙烯酸酯(大阪有機化學公司製造之「Viscoat#300」)、50重量份之聚胺基甲酸酯丙烯酸酯預聚物(新中村化學工業公司製造之「UA-53H-80BK」)、3.5重量份之矽酮粒子(邁圖高新材料日本有限公司製造之「Tospearl 130」，平均粒徑3 μm，折射率1.43)、2重量份之有機化膨潤石(國峰工業公司製造之「Sumecton SAN」)、3重量份之光聚合起始劑(IGM Resins公司製造之「OMNIRAD 907」)以及0.2重量份之矽酮系調平劑(DIC公司製造之「Grandic PC4100」)加以混合，並利用甲苯/環戊酮混合溶劑(重量比70/30)進行稀釋，而製備固形物成分濃度33重量%之硬塗組合物。黏合劑之折射率為1.52。
除了使用上述硬塗組合物，並將硬塗層之厚度變更為6.3 μm以外，以與實施例1相同之方式製作防眩性硬塗膜，並於硬塗層上形成抗反射層及防眩層。
[比較例2] 將100重量份之作為黏合劑樹脂之以聚胺基甲酸酯丙烯酸酯為主成分之紫外線硬化型樹脂組合物(DIC公司製造之「UNIDIC 17-806」)、14重量份之交聯苯乙烯粒子(綜研化學公司製造之「SX-350H」，平均粒徑3.5 μm，折射率1.59)、2.5重量份之作為觸變劑之有機化膨潤石(國峰工業公司製造之「Sumecton SAN」)、5重量份之光聚合起始劑(IGM Resins公司製造之「OMNIRAD 907」)及1重量份之氟系調平劑(DIC公司製造之「MEGAFAC F40N」)加以混合，並利用甲苯/環戊酮混合溶劑(重量比70/30)進行稀釋，而製備固形物成分濃度40重量%之硬塗組合物。黏合劑之折射率為1.51。
除了使用上述硬塗組合物，於120℃下進行5分鐘加熱處理，並將硬塗層之厚度變更為7.0 μm以外，以與實施例1相同之方式製作防眩性硬塗膜，並於硬塗層上形成抗反射層及防眩層。
[比較例3] 將100重量份之作為黏合劑樹脂之以聚胺基甲酸酯丙烯酸酯為主成分之紫外線硬化型樹脂組合物(DIC公司製造之「UNIDIC 17-806」)、5重量份之光聚合起始劑(IGM Resins公司製造之「OMNIRAD 907」)及0.01重量份之矽酮系調平劑(DIC公司製造之「GRANDIC PC4100」)加以混合，並利用丙二醇單甲醚/環戊酮混合溶劑(重量比55/45)進行稀釋，而製備固形物成分濃度36重量%之硬塗組合物。
除了使用上述硬塗組合物，於90℃下進行1分鐘加熱處理，並將硬塗層之厚度變更為7.8 μm以外，以與實施例1相同之方式製作硬塗膜，並於硬塗層上形成抗反射層及防眩層。
[評價] ＜霧度＞ 藉由霧度計(村上色彩技術研究所公司製造之「HM-150」)，自防污層形成面側照射光，依據JIS K7136測定反射膜之霧度。
＜防眩層之表面形狀＞ 於抗反射膜之三乙醯纖維素膜側之面(不形成抗反射層之面)上，介以厚度20 μm之丙烯酸系黏著劑而貼合厚度1.3 mm之載玻片(MATSUNAMI公司製造之「MICRO SLIDE GLASS」，45×50 mm)，而製作測定用試樣。使用具有測定針(頭端部(金剛石)之曲率半徑R＝2 μm)之觸針式表面粗糙度測定器(小阪研究所公司製造之高精度微細形狀測定器「Surfcorder ET4000」)，於掃描速度0.1 mm/秒、測定長度4 mm之條件下，於固定方向上測定上述試樣之防眩層之表面形狀，並藉由測定裝置附帶之程式，依據JIS B0601：2001，根據通過截止值0.8 mm之廣域濾波器而獲得之粗糙度曲線，求出算術平均粗糙度Ra、粗糙度曲線要素之平均長度RSm、最大剖面高度Rt、十點平均高度RzJIS 、均方根粗糙度Rq、最大高度Rz及平均傾斜角θa。
＜眩光之評價＞ 於抗反射膜之三乙醯纖維素膜側之面上，介以厚度20 μm之丙烯酸系黏著劑而貼合厚度1.5 mm之無鹼玻璃，並以抗反射層形成面成為上側之方式載置於Apple公司製造之iPhone7(於畫面尺寸4.7英吋、326 ppi之液晶面板上，介以厚度約200 μm之透明黏著片而貼合有厚度約1 mm之覆蓋玻璃)上。畫面(液晶面板)與抗反射膜之間之間隙為2.7 mm。將亮度設為最大，使其顯示綠色畫面，自距離試樣30 cm之正上方視認畫面。將視認到畫面眩光者設為×，將未見到眩光者設為〇。
＜水接觸角＞ 向防污層表面滴加約5.0 μL之水。自滴加起2秒鐘後，使用接觸角測定裝置(協和界面化學公司製造之「DMo-701」)，測定防污層表面與液滴端部之切線之角度(水接觸角之初始值)。拭去水滴之後，使用加工毛氈(Kaifelt工業公司製造、Φ10×L10、密度0.52 g/cm3 )，以負載200 g、5 m/分鐘之速度滑動3000次之後，測定水接觸角(滑動後之水接觸角)。
＜耐擦傷性＞ 於擦傷試驗機之直徑11 mm之圓柱之平面上安裝鋼絲絨(NIHON STEEL WOOL製造之「Bonstar＃0000)，於負載1.0 kg、2.0 kg及3.0 kg之條件下，於上述樣品表面上以100 mm/秒之速度往返10次之後，目視觀察樣品表面上之擦傷，並藉由以下指標進行判定。 〇：於負載3 kg之試驗中未見到擦傷 △：於負載3 kg之試驗中見到擦傷，但於負載2 kg之試驗中未見到擦傷 ×：於負載2 kg之試驗中見到擦傷
將上述實施例及比較例中之抗反射膜之構成(硬塗層之黏合劑及微粒子之組成)及抗反射膜之評價結果示於表1。
[表1]
   硬塗層 抗反射膜
黏合劑 微粒子 厚度 (μm) 霧度 (%) 表面形狀 眩光 水接觸角 耐擦傷性
折射率 材料 粒徑 (μm) 折射率 調配量 (重量份) Ra (μm) RSm (mm) Rq (μm) Rt (μm) Rz (μm) RzJIS (μm) θa (°) 初始 滑動後
實施例1 1.51 苯乙烯-MMA 3.6 1.56 4.0 8.0 8 0.08 0.14 0.11 1.47 0.55 0.39 0.42 〇 110.0 111.4 〇
實施例2 1.51 苯乙烯-MMA 3.6 1.56 5.5 8.0 10 0.10 0.14 0.12 0.81 0.56 0.39 0.47 〇 110.4 111.6 〇
實施例3 1.51 苯乙烯-MMA 3.6 1.56 7.2 8.0 12 0.12 0.15 0.15 0.89 0.71 0.49 0.56 〇 110.0 108.0 〇
實施例4 1.51 苯乙烯-MMA 3.6 1.56 2.0 8.0 4.0 0.07 0.17 0.09 1.17 0.51 0.31 0.38 〇 111.0 110.9 〇
實施例5 1.51 苯乙烯-MMA 3.6 1.56 1.0 8.0 2.0 0.06 0.16 0.08 0.71 0.43 0.28 0.37 〇 111.4 111.2 〇
實施例6 1.48 MMA 3.0 1.50 2.0 8.0 4.0 0.11 0.08 0.15 1.58 0.97 0.60 1.01 〇 111.2 110.9 〇
實施例7 1.48 MMA 3.0 1.50 1.0 8.0 1.5 0.06 0.09 0.09 1.24 0.57 0.31 0.38 〇 110.3 110.2 〇
實施例8 1.48 MMA 3.0 1.50 8.0 8.0 12 0.12 0.08 0.16 1.59 0.94 0.68 1.08 〇 110.8 110.6 〇
矽酮 3.0 1.43 1.4
比較例1 1.52 矽酮 3.0 1.43 3.5 6.3 30 0.21 0.22 0.26 2.05 1.23 0.80 0.66 × 112.1 104.4 〇
比較例2 1.51 苯乙烯 3.5 1.59 7.0 7.0 42 0.22 0.13 0.28 2.58 1.58 1.04 1.22 〇 111.6 112.0 〇
比較例3 1.51 - 7.8 0 0.01 0.00 0.01 0.16 0.03 0.03 0.03 〇 113.5 71.0 △
於不含微粒子之硬塗層上設置有底塗層、抗反射層及防污層之比較例3中，抗反射膜之耐擦傷性差。又，滑動試驗後水接觸角大幅降低。認為其原因在於：防污層之耐磨耗性低，滑動試驗後防污層有磨耗。
形成有含苯乙烯微粒子之硬塗層之比較例2中，黏合劑與微粒子之折射率差大，故霧度高，圖像通透感差。比較例1與比較例2相比霧度降低，但視認到圖像眩光，視認性差。再者，以畫面與抗反射膜之間之間隙成為0.5 mm之方式配置比較例1之抗反射膜，對眩光進行評價後，未見到眩光，視認性良好。
認為：凹凸之間隔RSm較大之比較例1之抗反射膜於接近圖像顯示單元而配置之情形時，不易產生眩光，但於與圖像顯示單元之間隙較大之情形時，易強調形成有由粒子產生之凹凸之區域與未形成凹凸之區域的亮度差，而產生眩光。又，比較例1中，初始水接觸角為112°，於滑動試驗後降低至104°，耐磨耗性不充分。
實施例1～8之抗反射膜均無眩光，表現出良好的視認性，且於滑動試驗後亦表現出高水接觸角度。根據以上結果可知，藉由調整硬塗層中所含之微粒子之種類及含量，將霧度及表面形狀參數設為特定範圍，可獲得低霧度、且於以較大間隙配置於圖像顯示單元之情形時亦不易產生眩光不良、防污層之耐磨耗性優異的抗反射膜。
1:硬塗膜 3:底塗層 5:抗反射層 7:防污層 8:覆蓋窗 9:黏著片 10:透明膜基材 11:硬塗層 20:圖像顯示單元 51,53:高折射率層 52,54:低折射率層 101:抗反射膜 201:圖像顯示裝置
圖1係表示抗反射膜之積層構成例之剖視圖。 圖2係表示具備抗反射膜之圖像顯示裝置之構成例的剖視圖。
1:硬塗膜
3:底塗層
5:抗反射層
7:防污層
10:透明膜基材
11:硬塗層
51,53:高折射率層
52,54:低折射率層
101:抗反射膜

Claims (8)

  1. 一種抗反射膜，其具備： 於透明膜基材之一主面上具備硬塗層之硬塗膜；及 依序設置於上述硬塗層上之抗反射層及防污層，且 上述抗反射層包含折射率不同之複數層薄膜之積層體， 上述硬塗層包含黏合劑及1～8 μm粒徑之微粒子， 霧度為1～18%， 上述防污層表面之算術平均粗糙度Ra為0.05～0.25 μm，凹凸之平均間隔RSm為60～200 μm。
  2. 如請求項1之抗反射膜，其中相對於上述黏合劑100重量份，上述硬塗層中之上述微粒子之量為0.5～10重量份。
  3. 如請求項1或2之抗反射膜，其中上述黏合劑之折射率與上述微粒子之折射率的差為0.01～0.06。
  4. 如請求項1至3中任一項之抗反射膜，其中上述硬塗層進而包含平均一次粒徑為100 nm以下之奈米粒子。
  5. 如請求項1至4中任一項之抗反射膜，其中上述抗反射層為濺鍍膜。
  6. 如請求項1至5中任一項之抗反射膜，其中上述硬塗層與上述抗反射層之間具備包含無機氧化物之底塗層。
  7. 一種圖像顯示裝置，其中於圖像顯示介質之視認側表面，配置有如請求項1至6中任一項之抗反射膜。
  8. 如請求項7之圖像顯示裝置，其中於圖像顯示介質之視認側表面，隔以1 mm以上之間隔配置有上述抗反射膜。
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