TW202124167A - 壩形成方法及積層體之製造方法 - Google Patents

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Abstract

本發明提供一種可抑制壩厚度產生高低差之壩形成方法及積層體之製造方法。壩形成方法用於積層體之製造方法，該積層體係於第1基材3形成包圍填充材之塗佈區域6之壩7，於塗佈區域6塗佈填充材8，且經由填充材8貼合第1基材3與第2基材而成。壩形成方法係使壩形成用之樹脂組合物1之塗佈速度自塗佈開始至塗佈結束連續地或階段性地加速，將壩形成用之樹脂組合物1塗佈於第1基材3之周緣部，且使所塗佈之壩形成用之樹脂組合物1硬化。

Description

壩形成方法及積層體之製造方法
本技術係關於一種壩形成方法及積層體之製造方法。本申請案係以2019年9月17日於日本提出申請之日本專利申請案編號特願2019-168257為基礎且主張優先權者，該申請案以參照形式引用於本申請案中。
智慧型手機、汽車導航等資訊終端中所使用之圖像顯示裝置等光學裝置為了薄型化或提高視認性，於液晶顯示面板等光學構件與保護光學構件之透明面板之間設置有透光性之硬化樹脂層。
有如下可能性：於形成光學裝置時，若將用以形成硬化樹脂層之樹脂組合物(以下，亦稱為填充材)塗佈於基材(光學構件或透明面板)，則所塗佈之填充材因其流動性而自基材露出。作為解決該問題之方法，可列舉：藉由於基材表面形成包圍填充材之塗佈區域之壩(壁部)，且於壩內側之塗佈區域塗佈填充材而防止填充材露出。
然而，當為了形成壩而如圖9所示，將壩形成用之樹脂組合物100自塗佈裝置之噴嘴101塗佈於基材102時，壩形成用之樹脂組合物100有時會隨著時間經過而潤濕擴散，從而壩厚度(高度)減少。若壩厚度如此隨著時間經過而減少，則會於1個壩產生高低差。壩之高低差與所形成之壩長度或壩厚度成比例。若壩產生高低差，則有時會如圖10所示於經由填充材103貼合基材彼此(第1基材102A、102B)時，產生未接著區域104，或者如圖11所示貼合後之填充材103之厚度變得不均勻。
作為用以抑制壩產生高低差之方法，例如可列舉：如圖12所示，藉由使用具有搖變性之樹脂組合物105作為壩形成用之樹脂組合物100，抑制隨著時間經過所致之樹脂組合物之潤濕擴散，維持壩厚度(形狀)(例如參照專利文獻1、專利文獻2)。圖12中之箭頭表示噴嘴101之移動方向。具有搖變性之樹脂組合物例如具有如下傾向：樹脂組合物自噴嘴噴出時，因剪應力而成為低黏度，噴出後(不施加剪應力之狀態)恢復至原黏度，故而噴出後之形狀難以變形。
作為用以抑制壩產生高低差之另一方法，例如可列舉：如圖13所示，使用點UV(ultraviolet，紫外線)照射機106等UV照射機，一面自噴嘴101將壩形成用之樹脂組合物100塗佈於基材102，一面使點UV照射機106以與噴嘴101相同之軌道及速度追蹤噴嘴101。圖13中之箭頭表示噴嘴101與點UV照射機106之移動方向。於該方法中，藉由以一面塗佈壩形成用之樹脂組合物100一面同時照射UV之製程應對來維持壩厚度(形狀)。
然而，於使用具有搖變性之樹脂組合物105來形成壩之方法中，必須使用具有搖變性之樹脂組合物105，故而有時無法實現壩所要求之特性(例如，硬度、彈性模數、密接性、消泡性等)。又，存在具有搖變性之樹脂組合物105之材料所花費之成本昂貴的問題。
又，於使用點UV照射機106之壩形成方法中，為了確保用以維持剛塗佈後之壩形成用之樹脂組合物100之形狀的UV照射量，必須使壩形成用之樹脂組合物100之塗佈速度變慢，因而導致產距時間變長。又，於使用點UV照射機106之壩形成方法中，裝置所花費之成本昂貴。 [先前技術文獻] [專利文獻]
專利文獻1：日本專利5587519號公報 專利文獻2：日本專利特開2013-88455號公報
[發明所欲解決之問題]
本技術係鑒於此種先前之實際情況而提出者，提供一種可抑制壩厚度產生高低差之壩形成方法及積層體之製造方法。 [解決問題之技術手段]
本技術係一種壩形成方法，其用於積層體之製造方法，上述積層體係於第1基材形成包圍填充材之塗佈區域之壩，於塗佈區域塗佈填充材，且經由填充材貼合第1基材與第2基材而成，該壩形成方法係使壩形成用之樹脂組合物之塗佈速度自塗佈開始至塗佈結束連續地或階段性地加速，將壩形成用之樹脂組合物塗佈於第1基材之周緣部，且使所塗佈之壩形成用之樹脂組合物硬化。
本技術之積層體之製造方法具有：於第1基材形成包圍填充材之塗佈區域之壩之步驟A；於塗佈區域塗佈填充材之步驟B；經由填充材貼合第1基材與第2基材之步驟C；及使填充材硬化而形成硬化樹脂層之步驟D；於步驟A中，使壩形成用之樹脂組合物之塗佈速度自塗佈開始至塗佈結束連續地或階段性地加速，將壩形成用之樹脂組合物塗佈於第1基材之周緣部，且使所塗佈之壩形成用之樹脂組合物硬化，藉此形成壩。 [發明之效果]
根據本技術，可抑制壩厚度產生高低差。
＜壩形成方法＞ 本技術之壩形成方法用於積層體之製造方法，該積層體係於第1基材形成包圍填充材之塗佈區域之壩，於塗佈區域塗佈填充材，且經由填充材貼合第1基材與第2基材。於本技術之壩形成方法中，使壩形成用之樹脂組合物之塗佈速度自塗佈開始至塗佈結束連續地或階段性地加速，將壩形成用之樹脂組合物塗佈於第1基材之周緣部，使所塗佈之壩形成用之樹脂組合物硬化。
圖1係用以說明使壩形成用之樹脂組合物1之塗佈速度自塗佈開始至塗佈結束連續地加速之方法之一例的俯視圖。圖1中之箭頭表示塗佈裝置之噴嘴2之移動方向，箭頭越粗，表示噴嘴2之移動速度(壩形成用之樹脂組合物1之塗佈速度)越快。作為壩形成方法之第1態樣，如圖1所示，使壩形成用之樹脂組合物1之塗佈速度自塗佈開始至塗佈結束連續地加速。於使壩形成用之樹脂組合物1之塗佈速度連續地加速時，較佳為平穩地連續地加速。具體而言，較佳為，使每單位時間自塗佈裝置之噴嘴2噴出之壩形成用之樹脂組合物1的流量固定，設為使塗佈結束部之壩形成用之樹脂組合物1之厚度(高度)成為目標壩厚度(高度)的速度，將塗佈開始部與塗佈結束部之壩厚度(高度)之比反映於塗佈速度。
圖2係用以說明使壩形成用之樹脂組合物1之塗佈速度自塗佈開始至塗佈結束階段性地加速之方法之一例的俯視圖。圖2中之箭頭表示塗佈裝置之噴嘴2之移動方向，箭頭越粗表示噴嘴2之移動速度越快。作為壩形成方法之第2態樣，如圖2所示，使壩形成用之樹脂組合物1之塗佈速度自塗佈開始至塗佈結束階段性地加速。所謂使塗佈速度階段性地加速，例如，係指使噴嘴2之移動速度按照每一固定距離加速，例如，於第1基材3為矩形狀，將壩形成用之樹脂組合物1以矩形狀塗佈於第1基材3表面之周緣部之情形時，亦可使塗佈速度按照第1基材3之各邊加速。
作為壩形成用之樹脂組合物之塗佈方法，可使用一般所使用之各種塗佈方法，例如，可列舉使用分注器之方法、使用塗佈機之方法等。
圖3係表示將壩形成用之樹脂組合物1直線狀地塗佈時之噴嘴2之移動位置之一例的俯視圖。圖3中之箭頭表示噴嘴2之移動方向，圓圈(〇)表示噴嘴2之位置(塗佈區域)。於本技術之壩形成方法中，例如於將壩形成用之樹脂組合物1自噴嘴2直線狀地塗佈時，較佳為使噴嘴2之位置如圖3中之箭頭所示移動，使每單位時間自噴嘴2噴出之壩形成用之樹脂組合物1之流量固定。
圖4(A)係表示壩形成用之樹脂組合物1之塗佈方向變化之情形時之噴嘴2之移動位置之一例的俯視圖，圖4(B)係將圖4(A)之虛線部分放大之俯視圖。於圖4中，箭頭表示噴嘴2之移動方向，圓圈(〇)表示噴嘴2之位置。如圖4所示，於使壩形成用之樹脂組合物1之塗佈方向成直角地變化時，較佳為不改變噴嘴2之速度。又，於使壩形成用之樹脂組合物1之塗佈方向曲線狀地變化時亦相同。若使壩形成用之樹脂組合物1之塗佈方向成直角地變化，則於角部出現所塗佈之壩形成用之樹脂組合物1隆起。該隆起會影響噴嘴2之內徑與塗佈裝置。所謂噴嘴2之內徑之影響，如圖4所示係指於壩形成用之樹脂組合物1之塗佈區域4產生重複部分5，於該重複部分5上每單位面積之壩形成用之樹脂組合物1之塗佈量增加，故而壩形成用之樹脂組合物1向塗佈區域4之外側擴散。又，所謂塗佈裝置之影響，係指根據塗佈裝置之不同，有時會於轉換塗佈方向時，塗佈裝置本身受慣性影響晃動，以向塗佈區域4之外側隆起之方式塗佈。
圖5係用以說明使壩形成用之樹脂組合物1之塗佈速度自塗佈開始至塗佈結束連續地或階段性地加速之方法之一例的俯視圖。若使壩形成用之樹脂組合物1之塗佈速度自塗佈開始至塗佈結束連續地或階段性地加速，則如圖5所示，存在塗佈開始部側之壩形成用之樹脂組合物1之寬度W1較塗佈結束部側之寬度W2寬之傾向。於本技術之壩形成方法中，即便塗佈開始部側之壩形成用之樹脂組合物1之寬度W1較塗佈結束部側之寬度W2寬，亦可藉由增加塗佈隨著時間經過而潤濕擴散之量之壩形成用之樹脂組合物1，來抑制壩厚度產生高低差。其原因在於，如上所述，若壩產生高低差，則於經由填充材貼合基材彼此時，有時如圖9所示產生未接著區域，或者如圖10所示貼合後填充材之厚度不均勻。為了避免產生此種未接著區域或貼合後樹脂厚度不均勻，於本技術之壩形成方法中，藉由使壩形成用之樹脂組合物1之塗佈速度自塗佈開始至塗佈結束連續地或階段性地加速，而即便於塗佈開始部側與塗佈結束部側壩寬度變化，亦可調整為壩厚度均勻。
於本技術之壩形成方法中，壩形成用之樹脂組合物1之塗佈速度之具體數值，取決於壩形成用之樹脂組合物1之黏度、第1基材3之大小、壩厚度等條件，故而並不特別限定。作為一例，於使用黏度為1～200 Pa・s左右之光硬化性樹脂組合物作為壩形成用之樹脂組合物1，第1基材3為5～20英吋左右之大小之矩形狀之基材，且使壩厚度(高度)為0.1～1.0 mm左右之情形時，可使壩形成用之樹脂組合物1之塗佈速度為10～150 mm/sec。壩形成用之樹脂組合物1之黏度係指藉由錐板型黏度計於25℃測定之值。藉由設為此種條件，例如，如圖4所示，於不改變噴嘴2之速度之情況下轉換壩形成用之樹脂組合物1之塗佈方向時，可抑制壩形成用之樹脂組合物1向塗佈區域4之外側隆起。
所謂供塗佈壩形成用之樹脂組合物1之第1基材3之周緣部，例如係指距第1基材3之外緣為10 mm之區域。關於所塗佈之壩形成用之樹脂組合物1之硬化方法，於壩形成用之樹脂組合物1使用熱聚合起始劑時可藉由熱而硬化，於壩形成用之樹脂組合物1使用光聚合起始劑時，可藉由自活性能量線源照射之光或電子束而硬化。作為活性能量線源，例如，可列舉高壓水銀燈、低壓水銀燈、電子束照射裝置、鹵素燈、發光二極體、半導體雷射、金屬鹵素燈等。於使用包含光聚合起始劑之光硬化性樹脂組合物作為壩形成用之樹脂組合物1時，藉由對塗佈於第1基材3之壩形成用之樹脂組合物1照射光(較佳為紫外線)，可將壩形成用之樹脂組合物1硬化而形成壩。作為壩形成用之光硬化性樹脂組合物之組成之具體例，可列舉含有基礎成分(例如丙烯酸酯系低聚物成分)、丙烯酸酯系單體成分、塑化劑成分、及光聚合起始劑者。
如以上所述，於本技術之壩形成方法中，藉由使壩形成用之樹脂組合物1之塗佈速度自塗佈開始至塗佈結束連續地或階段性地加速，例如即便於使用不具有搖變性之樹脂組合物時，亦可抑制由壩形成用之樹脂組合物1隨著時間經過潤濕擴散所引起之壩厚度減少。如此，於本技術之壩形成方法中，由於可使壩厚度之高低差更少，故而於經由填充材貼合基材彼此時，可防止產生未接著區域或貼合後樹脂厚度不均勻。此處，所謂不具有搖變性之樹脂組合物，係指黏度無時間依賴性之樹脂組合物，例如可列舉滿足下述式1者。
V1rpm /V10rpm ＝1.0±0.01  (式1) 式1中之V1rpm 表示使用旋轉黏度計，以轉數1 rpm測定出之25℃時之壩形成用之樹脂組合物1的黏度。式1中之V10rpm 表示使用旋轉黏度計，以轉數10 rpm測定出之25℃時之壩形成用之樹脂組合物1的黏度。
關於式1，更具體而言，作為旋轉黏度計，使用Thermo ELECTRON CORPORATION公司製造之「HAAKE RheoStress 600」，於25℃時，壩形成用之樹脂組合物1之黏度為10 Pa・s以下之範圍使用C35/2°之錐，壩形成用之樹脂組合物1之黏度超過10 Pa・s之範圍使用C20/2°之錐，以特定之轉數測定黏度。
又，根據本技術，除了具有搖變性之樹脂組合物以外，可使用多種樹脂組合物來形成壩。又，於本技術之壩形成方法中，由於不需要用以進行UV同時照射製程之點UV照射機等，故而與採用UV同時照射製程之情形相比，可減少產距時間。進而，於本技術之壩形成方法中，由於不需要使用具有搖變性之樹脂組合物或點UV照射機等，故而可削減製造成本。
本技術之壩形成方法可用於積層體之製造方法，該積層體係於第1基材形成包圍填充材之塗佈區域之壩，於填充材之塗佈區域塗佈填充材，且經由填充材貼合第1基材與第2基材而成。作為具體例，可用於第1基材為透明面板、第2基材為光學構件之光學裝置之製造方法。
透明面板使用如能夠視認形成於光學構件之圖像之具有透光性者。作為透明面板，例如，可列舉玻璃、丙烯酸樹脂、聚對苯二甲酸乙二酯、聚萘二甲酸乙二酯、聚碳酸酯等樹脂材料。透明面板之形狀例如可列舉板狀、片狀。亦可對透明面板之至少一個面實施硬塗處理、抗反射處理等。透明面板之形狀、厚度、彈性模數等物性可根據使用目的來適當決定。透明面板亦可於與光學構件之顯示區域周緣對應之區域形成遮光部。遮光部係為了提高圖像之對比度而設置。遮光部例如可利用網版印刷等塗佈著色為黑色等之塗料，並使之乾燥、硬化而形成。遮光部之厚度可根據目的適當改變，例如可設為5～100 μm。
作為光學構件，例如，可列舉液晶顯示面板、有機EL(Electroluminescence，電致發光)顯示面板、電漿顯示面板、觸控面板等。此處，所謂觸控面板，係指將如液晶顯示面板般之顯示元件與如觸控板般之位置輸入裝置組合而成之圖像顯示、輸入面板。
＜積層體之製造方法＞ 以下，一面參照圖6，一面對應用有本技術之壩形成方法之將作為第1構件之透明面板與作為第2構件之光學構件經由包括填充材之硬化樹脂層積層而成的積層體(光學裝置)之製造方法進行說明。積層體之製造方法具有：如圖6(A)所示於透明面板3A形成包圍填充材之塗佈區域6之壩7之步驟A；如圖6(B)所示於填充材之塗佈區域6塗佈填充材8之步驟B；如圖6(C)所示經由填充材8貼合透明面板3A與光學構件9之步驟C；及如圖6(E)所示對填充材8照射光而形成如圖6(F)所示之硬化樹脂層10之步驟D。
＜步驟A＞ 步驟A由於與上述壩形成方法意思相同，故而省略詳細之說明。
＜步驟B＞ 於步驟B中，於填充材之塗佈區域6塗佈填充材8。作為填充材8之塗佈方法，例如，可列舉如下方法等：於填充材之塗佈區域6之整個面，以填充材8均勻地擴散之方式使用狹縫噴嘴或窄間距(例如1～2 mm)之多噴嘴來塗佈填充材8的方法；將於短時間潤濕擴散之低黏度之填充材8以粗糙圖案使用分注器塗佈的方法。作為填充材8，例如可使用與上述壩形成用之樹脂組合物1相同成分之樹脂組合物。
＜步驟C＞ 於步驟C中，經由填充材8貼合透明面板3A與光學構件9。於步驟C中，例如，於較大氣壓低之減壓氣氛下，經由填充材8貼合透明面板3A與光學構件9。藉由步驟C，獲得透明面板3A、填充材8之層及光學構件9依次積層而成之積層體。
＜步驟D＞ 於步驟D中，藉由對填充材8進行光照射而形成硬化樹脂層10，獲得透明面板3A與光學構件9經由硬化樹脂層10積層而成之光學裝置11(參照圖6(F))。
於步驟D中，藉由對步驟C中所獲得之積層體之填充材8進行光照射而使填充材8硬化。於步驟D中，例如，藉由使用紫外線照射裝置，自透明面板3A側對夾持於光學構件9與透明面板3A之間之填充材8照射紫外線(UV)，而形成硬化樹脂層10。步驟D中之光照射以硬化樹脂層10之硬化率(凝膠分率)較佳為90%以上、更佳為95%以上之方式進行。硬化樹脂層10之折射率較佳為與透明面板3A或光學構件9之折射率大致同等，例如可設為1.45以上1.55以下。藉此，提高影像光之亮度或對比度，可使視認性良好。又，硬化樹脂層10之光透過率較佳為超過90%。藉此，可使圖像之視認性更良好。硬化樹脂層10之厚度可根據目的來適當改變，例如可設為50～200 μm。
積層體之製造方法並不限定於上述例，亦可進而具有其他步驟。例如，積層體之製造方法亦可如圖6(D)所示，於步驟C與步驟D之間，進而具有藉由將步驟C中所獲得之積層體利用高壓釜13加壓而將填充材8中產生之氣泡去除的步驟。 實施例
以下，對本技術之實施例進行說明。再者，本技術並不限定於以下之實施例。於本實施例中，對於使用不具有搖變性之光硬化性樹脂組合物(滿足式1之壩形成用之樹脂組合物)，比較使壩形成用之樹脂組合物之塗佈速度自塗佈開始至塗佈結束連續地或階段性地加速時、與使壩形成用之樹脂組合物之塗佈速度固定時的壩厚度與壩寬度。
於本實施例中，作為壩形成用之樹脂組合物，使用含有丙烯酸酯系低聚物成分、丙烯酸酯系單體成分、塑化劑成分及光聚合起始劑且黏度為100 Pa・s且滿足上述式1之紫外線硬化型樹脂組合物。
＜實驗例1＞ 於實驗例1中，於矩形狀之基材12(尺寸：23 cm×18 cm)之表面之周緣部，將壩形成用之樹脂組合物塗佈為厚度(高度)約400 μm、寬度1200～1500 μm、長度800 mm之框狀。於實驗例1中，如圖7所示，使壩形成用之樹脂組合物之塗佈速度自塗佈開始至塗佈結束連續地自45 mm/sec加速至50 mm/sec。圖7中之箭頭表示壩形成用之樹脂組合物之塗佈方向。圖7中之記號「▲」表示測定壩厚度與寬度之位置(點)。將壩厚度與寬度之測定結果示於表1。
[表1]
   P7 P8
點編號 厚度[μm] 寬度[μm] 厚度[μm] 寬度[μm]
1 394 1490 399 1504
2 392 1400 397 1414
3 393 1341 398 1377
4 395 1316 397 1329
5 401 1293 402 1286
6 399 1235 403 1214
於表1中，「P7」表示圖7中之P7－1～P7－6之任一個位置，「P8」表示圖8中之P8－1～P8－6之任一個位置。又，於表1中，「點編號」表示圖7中之P7－1～P7－6之末尾之編號(1～6)、圖8中之P8－1～P8－6之末尾之編號(1～6)。於表1中，「厚度」表示塗佈於基材12之表面之周緣部的壩之厚度(高度)，「寬度」表示塗佈於基材12之表面之周緣部的壩之寬度。例如，於表1中，「P7」與「點編號1」交叉之欄之數值「394」與「1449」，表示圖7中之P7－1之位置中之壩之厚度為394 μm，壩之寬度為1490 μm。
於實驗例1中，對塗佈開始部13側(圖7中之P7－1之位置)與塗佈結束部14側(圖7中之P7－6之位置)的壩厚度(高度)進行了比較，結果幾乎無變化。
＜實驗例2＞ 於實驗例2中，如圖8所示，使壩形成用之樹脂組合物之塗佈速度自塗佈開始至塗佈結束階段性地加速至45 mm/sec、46 mm/sec、47 mm/sec、48 mm/sec、49 mm/sec、50 mm/sec，除此以外與實驗例1相同地進行。圖8中之箭頭表示壩形成用之樹脂組合物之塗佈方向。將壩之厚度與寬度之測定結果示於表1。於實驗例2中，對塗佈開始部13側(圖8中之P8－1之位置)與塗佈結束部14側(圖8中之P8－6之位置)的壩厚度進行了比較，結果幾乎無變化。
＜實驗例3＞ 於實驗例3中，使壩形成用之樹脂組合物之塗佈速度自塗佈開始至塗佈結束以50 mm/sec固定，除此以外與實驗例1相同地進行。於實驗例3中，將對塗佈開始部及塗佈結束部中之壩厚度與壩寬度進行比較所得的結果示於表2。
[表2]
   結束部 開始部 增減率
350 μm左右 厚度[μm] 368 340 -8%
寬度[μm] 1222 1236 1%
450 μm左右 厚度[μm] 447 386 -14%
寬度[μm] 1287 1304 1%
650 μm左右 厚度[μm] 651 552 -15%
寬度[μm] 1677 1733 3%
700 μm左右 厚度[μm] 709 597 -16%
寬度[μm] 1799 1856 3%
表2中，自左起第1行之例如「350 μm左右」，表示將壩厚度設定為350 μm左右。表2中，自左起第2行之「厚度」，表示塗佈於基材12之表面之周緣部的壩之厚度(高度)，「寬度」表示塗佈於基材12之表面之周緣部的壩之寬度。表2中，自左起第3行之「結束部」，表示塗佈結束部14(剛塗佈後)之壩厚度(μm)與壩寬度(μm)之測定值。表2中，自左起第4行之「開始部」表示塗佈開始部13之壩厚度(μm)與壩寬度(μm)之測定值。表2中，自右起第1行之「增減率」表示塗佈結束部14與塗佈開始部13之壩厚度(μm)之比率(塗佈開始部/塗佈結束部)、及塗佈結束部14與塗佈開始部13之壩寬度(μm)之比率(塗佈開始部/塗佈結束部)。
於實驗例3中，如表2所示，於形成厚度350～700 μm之壩時，塗佈結束部14之壩厚度與塗佈開始部13之壩厚度比較，減少了約8～16%左右。又，於實驗例3中，於形成厚度350～700 μm之壩時，塗佈結束部14之壩寬度與塗佈開始部13之壩寬度比較，增加了約1～3%。又，根據實驗例3之結果可知，壩厚度越大，則塗佈開始部13與塗佈結束部14中之壩厚度之高低差越大。
根據以上之實驗例1～3之結果可知，於將壩形成用之樹脂組合物塗佈於基材表面之周緣部時，藉由使壩形成用之樹脂組合物之塗佈速度自塗佈開始至塗佈結束連續地或階段性地加速，可抑制壩厚度產生高低差。
1:壩形成用之樹脂組合物 2:噴嘴 3:第1基材 3A:透明面板 3B:遮光部 4:壩形成用之樹脂組合物之塗佈區域 5:塗佈區域之重複部分 6:填充材之塗佈區域 7:壩 8:填充材 9:光學構件 10:硬化樹脂層 11:積層體 12:基材 13:高壓釜 13:塗佈開始部 14:塗佈結束部 100:壩形成用之樹脂組合物 101:噴嘴 102:基材 102A,102B:第1基材 103:填充材 104:未接著區域 105:具有搖變性之樹脂組合物 106:點UV照射機 W1:寬度 W2:寬度
圖1係用以說明使壩形成用之樹脂組合物之塗佈速度自塗佈開始至塗佈結束連續地加速之方法之一例的俯視圖。 圖2係用以說明使壩形成用之樹脂組合物之塗佈速度自塗佈開始至塗佈結束階段性地加速之方法之一例的俯視圖。 圖3係表示將壩形成用之樹脂組合物直線狀地塗佈時之噴嘴之移動位置之一例的俯視圖。 圖4(A)係表示壩形成用之樹脂組合物之塗佈方向變化之情形時之噴嘴之移動位置之一例的俯視圖，圖4(B)係將圖4(A)之虛線部分放大之俯視圖。 圖5係用以說明使壩形成用之樹脂組合物之塗佈速度自塗佈開始至塗佈結束連續地或階段性地加速之方法之一例的俯視圖。 圖6(A)係用以說明光學裝置之製造方法之剖視圖，圖6(A)係於透明面板形成包圍填充材之塗佈區域之壩的步驟，圖6(B)係於填充材之塗佈區域塗佈填充材之步驟，圖6(C)係將透明面板與光學構件經由填充材以真空貼合法貼合而獲得積層體之步驟，圖6(D)係使用高壓釜對積層體進行加壓消泡處理之步驟，圖6(E)係對夾持於光學構件與透明面板之間之填充材層照射紫外線形成硬化樹脂層之步驟，圖6(F)係表示所獲得之光學裝置之剖視圖。 圖7係用以說明實驗例1中之壩形成方法之俯視圖。 圖8係用以說明實驗例2中之壩形成方法之俯視圖。 圖9係用以說明先前之壩形成方法之一例之剖視圖。 圖10係表示壩厚度產生高低差之結果，於經由填充材貼合基材彼此時產生未接著區域之狀態之一例的剖視圖。 圖11係表示壩厚度產生高低差之結果，經由填充材貼合基材彼此後之樹脂厚度不均勻之狀態之一例的剖視圖。 圖12係用以說明使用具有搖變性之樹脂組合物之壩形成方法之一例的剖視圖。 圖13係用以說明使用點UV照射機之壩形成方法之一例之剖視圖。
1:壩形成用之樹脂組合物
2:噴嘴
3:第1基材

Claims (8)

  1. 一種壩形成方法，其用於積層體之製造方法，上述積層體係於第1基材形成包圍填充材之塗佈區域之壩，於上述塗佈區域塗佈填充材，且經由上述填充材貼合上述第1基材與第2基材而成，該壩形成方法係 使上述壩形成用之樹脂組合物之塗佈速度自塗佈開始至塗佈結束連續地或階段性地加速，將上述壩形成用之樹脂組合物塗佈於上述第1基材之周緣部，且使所塗佈之上述壩形成用之樹脂組合物硬化。
  2. 如請求項1之壩形成方法，其中上述壩形成用之樹脂組合物滿足下述式1， V1rpm /V10rpm ＝1.0±0.01        (式1) (式1中之V1rpm 表示使用旋轉黏度計以轉數1 rpm測定之25℃時之上述壩形成用之樹脂組合物之黏度，式1中之V10rpm 表示使用旋轉黏度計以轉數10 rpm測定之25℃時之上述壩形成用之樹脂組合物之黏度)。
  3. 如請求項1或2之壩形成方法，其中上述壩形成用之樹脂組合物之黏度為1～200 Pa・s。
  4. 如請求項1至3中任一項之壩形成方法，其中上述壩之高度為0.1～1.0 mm。
  5. 如請求項1至4中任一項之壩形成方法，其中上述壩形成用之樹脂組合物之塗佈速度為10～150 mm/sec。
  6. 如請求項1至5中任一項之壩形成方法，其中上述壩形成用之樹脂組合物為光硬化性樹脂組合物， 利用光照射使塗佈於上述第1基材之上述壩形成用之樹脂組合物硬化。
  7. 如請求項1至6中任一項之壩形成方法，其中上述第1基材為透明面板， 上述第2基材為光學構件， 上述積層體為光學裝置。
  8. 一種積層體之製造方法，其具有： 於第1基材形成包圍填充材之塗佈區域之壩之步驟A； 於上述塗佈區域塗佈填充材之步驟B； 經由上述填充材貼合上述第1基材與第2基材之步驟C；及 使上述填充材硬化而形成硬化樹脂層之步驟D； 於上述步驟A中，使壩形成用之樹脂組合物之塗佈速度自塗佈開始至塗佈結束連續地或階段性地加速，將上述壩形成用之樹脂組合物塗佈於上述第1基材之周緣部，且使所塗佈之上述壩形成用之樹脂組合物硬化，藉此形成上述壩。
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