TW202117919A - 基板處理裝置 - Google Patents

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Abstract

本發明的目的在於提供一種基板處理裝置，該基板處理裝置由於能夠在一個裝置內處理大小不同的基板而不需要部件更換時間及裝置啓動準備時間，從而能夠提升工序效率。用於實現此的本發明的基板處理裝置用於處理基板，包括：平台，為了加熱或者冷卻所述基板而配備；升降銷，配備為沿上下方向貫通所述平台而支撐所述基板的底面，並且以用於安置彼此不同大小的基板的方式形成有至少兩個銷部。

Description

基板處理裝置
本發明涉及一種基板處理裝置，尤其涉及一種能夠在一個裝置內處理彼此不同的大小的基板的基板處理裝置。
通常，在半導體工序中，可以在多樣的條件下的基板處理工序，例如在與外部隔離的腔室內部進行加熱或者冷卻基板等。進行如上所述的基板處理工序的基板處理裝置中配備有支撐基板的底面的基板支撐銷。
所述基板被不同的半導體製造商製造成多樣的大小，而製造所述基板處理裝置的公司會製造用於處理半導體製造商要求的大小的基板的裝置。由於半導體製造商要求的基板的大小彼此不同，因此，在處理預定的大小的基板之後，為了處理或移送不同大小的基板，需要更換裝置的部分構成部件而進行設置。
如上所述，為了更換裝置的部分構成部件，存在需要更換準備時間、更換時間、裝置啓動準備時間等大量的時間的問題。
作為用於處理基板的基板處理裝置的現有技術，公開有韓國授權專利第一0-1491992號。
在所述現有技術中配備有為了將基板移送到另一腔室而可旋轉的轉盤，在所述轉盤配備有安置基板的安置環。所述安置環只能安置一個大小的基板，因而如果要安置不同大小的基板則需要更換較多的部件。
本發明為瞭解決上述的諸多問題而提出，其目的在於提供一種由於能夠在一個裝置內處理大小不同的基板而不需要部件更換時間及裝置啓動準備時間，從而能夠提升工序效率的基板處理裝置。
用於達成上述的目的的本發明的基板處理裝置，用於處理基板，包括：平台，為了加熱或者冷卻所述基板而配備；升降銷，配備為沿上下方向貫通所述平台而支撐所述基板的底面，並且以用於安置彼此不同大小的基板的方式形成有至少兩個銷部。
所述升降銷可以沿所述平台內側區域的邊緣而配備有多個。
所述至少兩個銷部包括：第一銷部，安置第一基板；第二銷部，安置與所述第一基板大小不同的第二基板，所述第一銷部可以以所述平台的中心為基準相比於所述第二銷部位於外側。
所述第一銷部和第二銷部可以在沿所述基板的中心方向隔開的位置以具有階梯差的方式形成。
所述第一銷部的上端位置高於所述第二銷部的上端位置，並且在所述第一銷部與所述第二銷部之間，可以以高度低於所述第一銷部的上端和所述第二銷部的上端的方式凹入地形成。
所述至少兩個銷部分別具有上下方向的長度，並且水平剖面可以形成為圓形的棒狀。
所述至少兩個銷部可以包括：第一銷部，從所述升降銷的上端中央部向上延伸；多個第二銷部，以上端位置低於所述第一銷部的上端位置的方式配備於所述第一銷部的周圍。
所述多個第二銷部沿可以所述第一銷部的周圍相隔預定間隔而配備，並且配備為，以所述第一銷部為中心，從所述第一銷部的距離彼此相同。
所述多個第二銷部的上端高度可以均相同。
所述至少兩個銷部包括：第一銷部，安置第一基板；第二銷部，安置與所述第一基板大小不同的第二基板，在將所述基板安置到所述升降銷時，所述基板的邊緣位置可以藉由所述第一銷部的側面而被引導。
所述基板處理裝置可以配備有：升降銷驅動部，提供用於使所述升降銷沿上下方向升降的驅動力；以及平台驅動部，提供用於使所述平台沿上下方向升降的驅動力。
根據本發明的基板處理裝置能夠在無額外地更換部件的情況下在一個基板處理裝置內處理彼此不同大小的基板，從而能夠縮短基板處理所需的時間，進而提升工序效率。
以下，參照附圖對本發明的優選實施例的構成及作用進行詳細說明。
參照圖1及圖2對根據本發明的一實施例的基板處理裝置進行說明。
所述基板處理裝置1包括：多個腔室100、200、300、400、500，為了處理基板而沿圓周方向以預定間隔佈置；轉盤600，配備為為了在所述多個腔室100、200、300、400、500之間移送基板而旋轉。
在本發明的基板處理裝置1中作為一例，可以執行回流工序。並且，本發明的基板處理裝置1中，在不是執行回流工序的情況下也可以執行使用熱的工序。並且，本發明除了在圖1中示出的裝置以外也可以應用於多樣的基板處理裝置中。
所述多個腔室100、200、300、400、500可以包括：第一腔室100，進行所述基板的裝載和卸載；第二腔室200、第三腔室300、第四腔室400，用於對裝載在所述第一腔室100的基板加熱而進行熱處理；第五腔室500，冷卻在所述第四腔室400中經過熱處理的基板。
在所述第一腔室100中進行基板的裝載及卸載，不僅如此，還執行依次經過所述第二腔室200、第三腔室300、第四腔室400、第五腔室500而被加熱處理的基板的冷卻，並且在所述第二腔室200、第三腔室300、第四腔室400、第五腔室500中可以執行伴隨基板的加熱處理的工序。
所述第五腔室500可以構成為在第一腔室100的冷卻之前執行冷卻工序。此時，所述第五腔室500也可以構成為配備加熱器以加熱基板，但是將基板的加熱溫度設定為低於在第四腔室400中加熱基板的溫度，從而實現基板的冷卻。
所述第一腔室100的一側連接設置有設備前端模塊2（EFFM：Equipment Front End Module）。
所述設備前端模塊2具有如下功能：將裝載於基板裝載部2a的未處理的基板利用配備於基板移送部2b的移送機器人（未示出）裝載到基板處理裝置1的第一腔室100，或者將基板處理裝置1中已完成處理的基板從第一腔室100卸載而裝載到基板裝載部2a。
所述第二腔室200、第三腔室300、第四腔室400、第五腔室500中加熱基板的溫度可以設定為100℃至450℃。並且，所述第二腔室200、第三腔室300、第四腔室400、第五腔室500分別可以配備有為了加熱基板而產生熱的加熱器。所述加熱器的形狀和大小可以變更為多種多樣，所述加熱器可以分別配備於基板的上部和下部。
所述第一腔室100、第二腔室200、第三腔室300、第四腔室400、第五腔室500可以各自配備有平台110、210、310、410、510。所述第一腔室100的平台110的上表面安置基板，可以通過冷卻單元而對基板進行冷卻。除了所述第一腔室100的平台110以外的其餘腔室200、300、400、500的平台210、310、410、510配備有加熱器，從而可以實現對基板施加熱的處理。
配備有主體外殼10，該主體外殼10圍繞所述第一腔室100、第二腔室200、第三腔室300、第四腔室400、第五腔室500及轉盤600的整個外側，並具有能夠設置所述各個部件的支撐架的功能。
所述主體外殼10中，在對應於所述平台110、210、310、410、510的位置形成有開口部101、102、103、104、105，使所述平台110、210、310、410、510能夠上下貫通所述主體外殼10而設置。
所述轉盤600包括：轉盤主體610，藉由轉盤驅動部（未示出）而旋轉；多個開口部620，貫通所述轉盤主體610並以對應於所述多個腔室100、200、300、400、500的數量沿圓周外圍而形成；環形的轉盤環630，配備為支撐並安置在各個所述開口部620的邊緣位置的狀態下能夠從所述轉盤主體610分離。
所述轉盤驅動部可以配備為能夠使轉盤600旋轉，並且能夠使轉盤600以上下方向升降。藉由如此的構成，可以執行將基板從一個腔室移送到相鄰的腔室的功能。
所述第一腔室100、第二腔室200、第三腔室300、第四腔室400、第五腔室500各自配備有多個所述基板支撐銷700。配備於各個腔室的所述多個基板支撐銷700配備為沿中央的平台110、210、310、410、510的外圍而以預定間隔隔開佈置。
所述第一腔室100、第二腔室200、第三腔室300、第四腔室400、第五腔室500配備有安置基板W或用於加熱基板的平台110、210、310、410、510，並且配備有通過上下貫通所述平台110、210、310、410、510且支撐所述基板W的底面而使基板升降的升降銷160。
提供用於使所述平台110、210、310、410、510沿上下方向升降的驅動力的平台驅動部（未示出）配備為對應於所述多個平台110、210、310、410、510。
並且，配備有提供用於使所述平台110、210、310、410、510沿上下方向升降的驅動力的升降銷驅動部（未示出）。
參照圖3至圖5對根據本發明的升降銷的構成進行說明。
所述升降銷包括：銷主體163，構成升降銷的主體；至少兩個銷部161、162，形成在所述銷主體163的上表面，以能夠安置彼此不同大小的基板。
所述銷主體163可以形成為圓柱形狀，其上端面向上突出地形成有所述至少兩個銷部161、162。
所述銷主體163的下部連接於升降銷驅動部（未示出），當所述升降銷驅動部驅動時，所述升降銷160沿上下方向升降。
所述升降銷160在各個所述平台110、210、310、410、510的內側區域以上下貫通平台的方式以預定間隔隔開設置有多個。以下，以配備於所述多個平台中的第一腔室100的平台110為基準進行說明。
所述至少兩個銷部包括：第一銷部161，安置第一基板；第二銷部162，安置與所述第一基板大小不同的第二基板。
所述第一銷部161和第二銷部162可以分別具有上下方向的長度，並且水平剖面形成為圓形的棒狀。
所述第一銷部161可以配備為從所述銷主體163的上端中央部向上延伸。在這種情況下，所述第二銷部162可以圍繞第一銷部161而配備有多個。並且，所述第二銷部162的上端位置可以配備為低於第一銷部161的上端位置。當所述第一基板的大小大於所述第二基板的大小時，第一基板安置於第一銷部161，並且第二基板安置於第二銷部162。
所述多個第二銷部162沿所述第一銷部161的周圍相隔預定間隔而配備，並且可以配備為，以所述第一銷部161為中心，從所述第一銷部161的距離彼此相同。並且，所述多個第二銷部162可以構成為其上端高度均相同。若構成為如上所述的構成，則在將所述升降銷160設置於所述平台110的情況下，與設置的方向性無關地能夠穩定地支撐第一基板和第二基板。
所述第二銷部162還可以構成為僅配備於第一銷部161的一側，而並非沿著第一銷部161的周圍而以預定間隔配備。此時，所述第一銷部161應配備為以所述平台110的中心為基準相比於所述第二銷部162位於外側。因此，在組裝所述升降銷160時，應以具有方向性的方式進行組裝。
在所述第一銷部161和第二銷部162之間可以形成有間隔部164。通過所述間隔部164而最小化所述第一基板或第二基板的底面與所述第一銷部161或第二銷部162之間的接觸面積，從而在進行熱處理的情況下，可以最小化所述升降銷160的熱通過所述第一銷部161或者第二銷部162被傳遞到所述第一基板或者第二基板。
並且，所述第一銷部161和第二銷部162可以在沿著基板的中心方向隔開的位置處以具有階梯差的方式形成。換句話說，還可以構成為，其剖面形狀從所述第一銷部161到所述第二銷部162形成階梯形狀。此時，還可以構成為，所述第一銷部161的上端位置高於所述第二銷部162的上端位置，並且在所述第一銷部161與所述第二銷部162之間，以高度低於所述第一銷部161的上端和所述第二銷部162的上端的方式凹入地形成。
在所述基板為第二基板的情形下，在所述第二基板安置於所述升降銷160時，所述第二基板的邊緣位置可以藉由所述第一銷部161的側面而被引導。因此，所述第二基板可以被穩定地安置。此時，為了引導所述第二基板的邊緣位置，優選地，所述第一銷部161形成為棒形狀。
參照圖6，第一基板W1安置於第一銷部161上。所述第一基板W1的底面僅接觸於第一銷部161的上端，並且與第二銷部162的上端和位於間隔部164的下部的銷部主體163的上表面隔開而未接觸。
參照圖7，直徑小於所述第一基板W1的第二基板W2安置於第二銷部162上。所述第二基板W2的底面僅與第二銷部162接觸。在所述第二基板W2被安置到第二銷部162上的過程中，第二基板W2的邊緣位置可以藉由第一銷部161的側面而被引導。
如此，由於將互不相同的大小的第一基板W1與第二基板W2在無額外地更換部件的情況下能夠在一個基板處理裝置中進行基板處理，因此不需要部件更換的時間，從而能夠提升工序效率。
參照圖8針對作為所述多個腔室100、200、300、400、500中的一個的本發明的配備有基板支撐銷700的第一腔室100的結構及內部構成進行說明。
所述第一腔室100由上部腔室100a和配備於所述上部腔室100a的下側的下部腔室100b組成。
所述上部腔室100a的內部形成有第一空間S1，所述下部腔室100b的內部形成有第二空間S2。
所述第一腔室100中基板W的裝載及卸載是在所述第一空間S1與第二空間S2在空間上隔離而互不連通的狀態下執行。
所述第一空間S1具有藉由移送機器人而裝載基板裝載部2a的基板W或藉由移送機器人將已完成基板處理的基板W卸載到基板裝載部2a的作為裝載鎖定部的功能。
所述第二空間S2佈置有轉盤600，並且與相鄰的另外腔室200、300、400、500連通而提供各個腔室100、200、300、400、500之間移送基板W的通路。即，所述第二空間S2具有將裝載的基板從第一腔室100移送到第二腔室200的通路的功能、將所述第五腔室500中已完成處理的基板移送到裝載鎖定部的通路的功能以及卸載之前執行基板的冷卻的作為工序腔室的功能。
所述上部腔室100a的一側面形成用於使裝載及卸載的基板的出入的開口部（未示出），所述開口部通過閘閥（未示出）進行開閉。
所述第一腔室100配備有如下部件：平台110，安置基板W；升降銷160，支撐所述基板W的底面而升降基板。
所述平台110可以配備有用於冷卻裝載在平台110的上部的基板的冷卻方式（未示出）。並且，可以配備有提供驅動力以使所述平台110能夠沿上下方向進行升降的平台驅動部（未示出）。
所述上部腔室100a與下部腔室100b的邊界部分形成有向內側突出的薄片部100c。所述平台110與轉盤環630上升，從而所述轉盤環630的上表面緊貼於所述薄片部100c。所述轉盤環630的上表面與所述薄片部100c之間夾設有第一密封部件170，從而保持氣密。並且，所述轉盤環630的底面與平台110的上表面之間夾設有第二密封部件180，從而保持氣密。在這種狀態下，第一腔室100的內部空間以平台110為基準其上側的第一空間S1與下側的第二空間S2相互隔離。
配備有貫通所述平台110的升降銷160。配備有用於使所述升降銷160沿上下方向升降的升降銷驅動部（未示出）。如果驅動所述升降銷驅動部而使所述升降銷160上升或下降，則可以在升降銷160的上端支撐基板W的底面的狀態下實現基板W的升降。
平台110與升降銷160藉由所述平台驅動部與升降銷驅動部的驅動而成為上升的狀態。在此狀態下將會藉由移送機器人將基板W從基板裝載部2a裝載到上部腔室100a的內部或者將上部腔室100a內部的基板W卸載到基板裝載部2a。
圖9表示在圖8的狀態下驅動升降銷驅動部而使升降銷160下降的狀態。若所述升降銷160下降，則基板W將安置於平台110上。
圖10表示在圖9的狀態下驅動平台驅動部而使平台110下降的狀態。此時，升降銷160藉由升降銷驅動部的驅動而向下移動。所述轉盤環630和基板支撐銷700與平台110一起下降，此時將下降到所述轉盤環630安置於轉盤主體610為止。
圖11表示在圖10的狀態下驅動轉盤驅動部而使轉盤600上升的狀態。若所述轉盤600上升，則基板W在其底面被基板支撐銷700支撐的狀態下與轉盤600一起上升。
圖12表示在圖11的狀態下驅動轉盤驅動部而使轉盤600旋轉的狀態。若所述轉盤600旋轉，則基板W將從第一腔室100移送到相鄰的第二腔室200。
如上所述，本發明並不局限於上述實施例，在不脫離權利要求書中請求的本發明的技術思想的情況下，本發明所屬的技術領域中配備基本知識的人員可實現顯而易見的變形實施，這些變形實施屬於本發明的範圍內。
1:基板處理裝置 2:設備前端模塊 2a:基板裝載部 2b:基板移送部 100:第一腔室 100a:上部腔室 100b:下部腔室 100c:薄片部 110、210、310、410、510:平台 160:升降銷 161:第一銷部 162:第二銷部 163:銷主體 164:間隔部 170:第一密封部件 180:第二密封部件 200:第二腔室 300:第三腔室 400:第四腔室 500:第五腔室 600:轉盤 610:轉盤主體 620:開口部 630:轉盤環 700:基板支撐銷 W:基板 W1:第一基板 W2:第二基板 S1:第一空間 S2:第二空間
圖1是表示本發明的基板處理裝置的平面圖。 圖2是表示本發明的基板處理裝置中各個腔室的內部結構的立體圖。 圖3是表示本發明的基板處理裝置的平台中設置有升降銷的狀態的立體圖。 圖4是表示構成根據本發明的基板處理裝置的升降銷的立體圖。 圖5是構成根據本發明的基板處理裝置的升降銷的側面圖。 圖6是表示根據本發明的基板處理裝置中第一基板被升降銷支撐的狀態的圖。 圖7是表示根據本發明的基板處理裝置中第二基板被升降銷支撐的狀態的圖。 圖8是表示本發明的基板處理裝置中在第一空間和第二空間被隔離的狀態下基板被升降銷支撐的狀態的剖面圖。 圖9是表示在圖8的狀態下升降銷下降而基板安置於平台上表面的狀態的剖面圖。 圖10是表示在圖9的狀態下平台與升降銷下降至轉盤環安置於轉盤主體的位置的狀態的剖面圖。 圖11是表示在圖10的狀態下轉盤上升而基板從平台上表面隔開的狀態的剖面圖。 圖12是表示在圖11的狀態下轉盤旋轉而第一腔室的基板被移送到第二腔室的狀態的剖面圖。
160:升降銷
161:第一銷部
162:第二銷部
163:銷主體
164:間隔部

Claims (11)

  1. 一種基板處理裝置，用於處理基板，該基板處理裝置包括： 平台，為了加熱或者冷卻該基板而配備；以及 升降銷，配備為沿上下方向貫通該平台而支撐該基板的底面，並且以用於安置彼此不同大小的該基板的方式形成有至少兩個銷部。
  2. 根據請求項1所述的基板處理裝置，其中該升降銷沿該平台內側區域的邊緣而配備有多個。
  3. 根據請求項1所述的基板處理裝置，其中該至少兩個銷部包括： 第一銷部，安置第一基板；以及 第二銷部，安置與該第一基板大小不同的第二基板，該第一銷部以該平台的中心為基準相比於該第二銷部位於外側。
  4. 根據請求項3所述的基板處理裝置，其中該第一銷部和該第二銷部在沿該基板的中心方向隔開的位置以具有階梯差的方式形成。
  5. 根據請求項3所述的基板處理裝置，其中該第一銷部的上端位置高於該第二銷部的上端位置，並且在該第一銷部與該第二銷部之間，以高度低於該第一銷部的上端和該第二銷部的上端的方式凹入地形成。
  6. 根據請求項1所述的基板處理裝置，其中該至少兩個銷部分別具有上下方向的長度，並且水平剖面形成為圓形的棒狀。
  7. 根據請求項1所述的基板處理裝置，其中該至少兩個銷部包括： 第一銷部，從該升降銷的上端中央部向上延伸；以及 複數第二銷部，以其上端位置低於該第一銷部的上端位置的方式配備於該第一銷部的周圍。
  8. 根據請求項7所述的基板處理裝置，其中該等第二銷部沿該第一銷部的周圍相隔預定間隔而配備，並且配備為以該第一銷部為中心，從該第一銷部的距離彼此相同。
  9. 根據請求項7所述的基板處理裝置，其中該等第二銷部的上端高度均相同。
  10. 根據請求項7所述的基板處理裝置，其中該至少兩個銷部包括： 第一銷部，安置第一基板；以及 第二銷部，安置與該第一基板大小不同的第二基板，在將該基板安置到該升降銷時，該基板的邊緣位置藉由該第一銷部的側面而被引導。
  11. 根據請求項1所述的基板處理裝置，其中配備有： 升降銷驅動部，提供用於使該升降銷沿上下方向升降的驅動力；以及 平台驅動部，提供用於使該平台沿上下方向升降的驅動力。
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