TW202043818A - 光學積層體 - Google Patents
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Abstract
本發明係提供一種光學積層體,其係即使在高溫環境下亦可抑制面內之反射光的色相之均勻性變差。
本發明之光學積層體係依序具有偏光層、黏著劑層、及第1相位差層。光學積層體係在其面方向之端部具有缺糊部,缺糊部係在通過偏光層及黏著劑層於積層方向重疊之部分的剖面中,以使黏著劑層之端部的最內端之位置位於比偏光層之端部的最外端之位置還要內側3μm以上之方式形成。
Description
本發明係關於一種光學積層體。
偏光層或相位差層等係被廣泛使用來作為構成使用了有機發光二極體(OLED)之有機EL顯示裝置或液晶顯示裝置的光學構件。例如,在專利文獻1中,已記載將複合偏光板使用於液晶顯示裝置,該複合偏光板係使偏光片與塗佈有液晶化合物之相位差膜積層而成者。
在專利文獻1中,已記載藉由消除存在於以晶粒切割等裁切複合偏光板時之外周端面(切割面)的凹凸,而即使在濕熱條件下亦可抑制相位差膜之剝離或浮起等之不佳情形。
[先前技術文獻]
[專利文獻]
[專利文獻1] 日本特開2008-9237號公報
已發現若將積層有偏光層與相位差膜之複合偏光板曝露於高溫環境下,則在複合偏光板之端部的反射光之色相會變化,且面內之反射光的色相之均勻性變差。
本發明之目的在於提供一種光學積層體,該光學積層體係即使在高溫環境下亦可抑制面內之反射光的色相之均勻性變差。
本發明係提供下列之光學積層體。
〔1〕一種光學積層體,係依序具有偏光層、黏著劑層、及第1相位差層,其中,
前述光學積層體係在其面方向之端部具有缺糊部,
前述缺糊部係在通過前述偏光層及前述黏著劑層在積層方向重疊之部分的剖面中,以使前述黏著劑層之端部的最內端之位置位於比前述偏光層之端部的最外端之位置還要內側3μm以上之方式形成。
〔2〕如〔1〕項所述之光學積層體,其中,前述偏光層係在聚乙烯醇系樹脂膜吸附定向有二色性色素者。
〔3〕如〔1〕或〔2〕項所述之光學積層體,其中,前述光學積層體係具有方形狀、或至少一邊具有缺口部之方形狀,
前述缺糊部係形成於前述方形狀之至少一邊。
〔4〕如〔3〕項所述之光學積層體,其中,前述方形狀係具有一對長邊及一對短邊,
前述偏光層之吸收軸方向係相對於前述長邊而構成45°±10°之角度,
前述缺糊部係形成於前述一對長邊中之至少一者、及前述一對短邊中之至少一者。
〔5〕如〔3〕項所述之光學積層體,其中,前述方形狀係具有一對長邊及一對短邊,
前述偏光層之吸收軸方向係相對於前述長邊而構成0°±10°之角度,
前述缺糊部係形成於前述一對短邊中之至少一者。
〔6〕如〔3〕項所述之光學積層體,其中,前述方形狀係具有一對長邊及一對短邊,
前述偏光層之吸收軸方向係相對於前述短邊而構成0°±10°之角度,
前述缺糊部係形成於前述一對長邊中之至少一者。
〔7〕如〔1〕至〔6〕項中任一項所述之光學積層體,其係在前述偏光層之單面或雙面具有保護層。
〔8〕如〔1〕至〔7〕項中任一項所述之光學積層體,其係在前述第1相位差層之與前述黏著劑層為相反側更具有第2相位差層。
〔9〕如〔8〕項所述之光學積層體,其中,前述第2相位差層係隔著接著層而設於前述第1相位差層上。
〔10〕如〔1〕至〔9〕項中任一項所述之光學積層體,其為圓偏光板。
若依據本發明,可提供一種光學積層體,該光學積層體係即使在高溫環境下亦抑制了面內之反射光的色相之均勻性變差。
5:缺糊部
11:光學積層體
12:光學積層體
21:第1相位差層
22:第2相位差層
31:黏著劑層
35:接著層
40:偏光板
41:偏光層
42:第1保護層
43:第2保護層
60:附剝離膜之黏著劑層
61:黏著劑層
62:剝離膜
65:裁切刀
65a:尖端部分(刀尖部分)
圖1 係示意性表示本發明之光學積層體的一例之剖面圖。
圖2 係示意性表示本發明之光學積層體的其他例之剖面圖。
圖3(a)及(b) 係用以說明實施例中之黏著劑層的製作方法之示意圖。
以下,參照圖式,說明有關本發明之光學積層體的較佳之實施型態。又,本發明之範圍係不受此處說明之實施型態所限定,在無損及本發明之旨意的範圍可進行各種變更。
圖1係示意性表示本實施型態之光學積層體的一例之剖面圖。圖中,W表示面方向。本實施型態之光學積層體11係如圖1所示,依序具有偏光板40、黏著劑層31、及第1相位差層21。圖1所示之光學積層體11的偏光板40係依序具有第1保護層42(保護層)、偏光層41、及第2保護層43(保護層),在光學積層體11中係在第1保護層42側設有黏著劑層31。
偏光層41可為在聚乙烯醇系樹脂膜(以下,有時稱為「PVA系樹脂膜」)吸附定向有碘等二色性色素者,PVA系樹脂膜通常為經延伸之延伸聚乙烯醇系樹脂膜。偏光層41亦可為在液晶化合物經硬化而成之層中定向有二色性色素者。第1保護層42及第2保護層43係用以保護偏光層41之層。第1相位差層21可為相位差膜,亦可為包含液晶化合物之液晶層。液晶層例如可為使聚合性液晶化合物聚合而形成之硬化層。第1相位
差層21為液晶層時,光學積層體11可在第1相位差層21之與黏著劑層31為相反側具有用以使構成第1相位差層21之液晶化合物定向之定向層。
光學積層體11係在其面方向W之端部具有缺糊部5。缺糊部5係如圖1所示,通過偏光層41及黏著劑層31在與面方向W正交之積層方向重疊的部分之剖面中,以使黏著劑層31之端部的最內端之位置位於比偏光層41之端部的最外端的位置還要內側距離L1之長度程度之方式形成。在本說明書中,所謂黏著劑層31之端部的最內端之位置,意指黏著劑層31的端部之中在面方向W中處於最內側的位置,所謂偏光層41之端部的最外端之位置,意指偏光層41之端部之中在面方向W中處於最外側的位置。
缺糊部5之距離L1為3μm以上,以5μm以上為較佳,可為6μm以上,亦可為7μm以上,亦可為8μm以上。又,距離L1通常為120μm以下,可為100μm以下,亦可為75μm以下,亦可為50μm以下,亦可為25μm以下。
在光學積層體11中所含之偏光板40係具有偏光層41。偏光層41有時在高溫環境下會收縮。因此,咸認若光學積層體11曝露於高溫環境下,則因偏光層41(偏光板40)之收縮,而偏光層41之收縮應力會集中在隔著黏著劑層31而積層於偏光板40之第1相位差層21的端部。推測若上述之收縮應力集中在第1相位差層21之端部,則因第1相位差層21之光彈性的影響,而光學積層體11之端部的反射光之色相與該端部以外之其他部分的反射光之色相之差變大,在光學積層體11之面內的反射光之色相的均勻性變差。在本實施型態中,如上所述,將光學積層體11之缺
糊部5的距離L1設為3μm以上。藉此,容易使光學積層體11被曝露於高溫環境下之時的偏光層41之收縮應力分散,故可降低施加於第1相位差層21之端部的收縮應力。其結果,可使因第1相位差層21之光彈性的影響所造成的光學積層體11之端部的反射光之色相與該端部以外之其他部分的反射光之色相的差減小,故咸認可抑制在光學積層體11之面內的反射光之色相的均勻性變差。
又,若光學積層體11之缺糊部5的距離L1過大,則因偏光板40與第1相位差層21之接著面積變小,故高溫耐久試驗時,容易產生端部剝離、或氣泡等缺陷。
關於偏光層41在高溫環境下之收縮所造成的影響,相較於在偏光層41為在液晶化合物經硬化而成之層中定向有二色性色素者之情形,在偏光層41為在PVA系樹脂膜吸附定向有二色性色素之偏光層的情形,尤其在偏光層41為在PVA系樹脂膜藉由染色使二色性色素吸附,然後進行延伸所形成之偏光層的情形容易變得更顯著。因此,在使用在PVA系樹脂膜吸附定向有二色性色素者作為偏光層41之情形,藉由將缺糊部5之距離L1設為3μm以上,可更適宜抑制在光學積層體11之面內的反射光之色相的均勻性變差。
關於缺糊部5之距離L1,可針對光學積層體11之剖面,使用雷射顯微鏡而測定剖面之輪廓,並跟據依該輪廓而決定之黏著劑層31的端部之最內端的位置、及偏光層41之端部的最外端之位置而算出。光學積層體11之外形為具有直線狀之邊者,且在該邊形成有缺糊部5時,光學積層體11之剖面係設為在該邊之形成有缺糊部5的位置中,沿著相對於該邊
而呈垂直之方向進行裁切時之剖面。又,光學積層體11之外形為具有曲線部分者,且在該曲線部分形成有缺糊部5時,光學積層體11之剖面係設為通過形成有缺糊部5之位置P中的光學積層體11之面方向的切線之位置P,且沿著相對於該切線呈垂直之方向進行裁切時之剖面。
在光學積層體11中之缺糊部5的形狀並無特別限定,而黏著劑層31之端部係如圖1所示,可具有漸窄(taper)形狀,亦可平行於與面方向W正交之積層方向,亦可形成為鋸齒狀、凹凸狀、曲線狀等。在缺糊部5之黏著劑層31,如圖1所示,偏光板40側之表面的端部之位置係成為在面方向比黏著劑層31之第1相位差層21側的表面之端部之位置更內側,其形狀可為漸窄形狀,與此相反地,偏光板40側之表面的端部之位置係成為在面方向比黏著劑層31之第1相位差層21側的表面之端部之位置更外側,其形狀可為漸窄形狀。後者之漸窄形狀的情形,在高溫環境下之偏光層41的收縮應力容易分散,故咸認容易抑制在光學積層體11之面內的反射光之色相的均勻性變差。
光學積層體11之外形可設為在面方向(俯視)呈方形狀、或在至少一邊具有缺口部之方形狀。本說明書中所謂方形狀係意指長方形狀或正方形狀,且包含方形狀之4個角之中的至少1個為圓角者。
又,隔著圓角部分而連續之2個邊的界限係設為將圓角部分之輪廓長度進行二等分之位置。圓角部分之輪廓長度係設為隔著圓角部分而連續之2個邊各自具有之直線部分的位於該圓角部分側之端部之間的長度。缺口部可列舉朝向相對向之邊而凹陷的凹形狀,凹形狀可為U字狀或V字狀。
缺口部可形成於方形狀之一邊,亦可形成於2個以上之邊。缺口部係例如在智慧型手機等中,可設於設置有聽筒、喇叭、相機鏡頭、LED燈、近接感測器、照度感測器、指紋辨認感測器、操作按鍵等之中的至少1個之區域。
光學積層體11具有方形狀時,缺糊部5較佳係形成於方形狀之至少一邊,亦可形成於二邊以上,亦可形成於四邊全部。又,缺糊部5係可涵蓋邊之全長而連續性或不連續地形成,亦可形成於邊之一部份。又,缺糊部5係可形成於缺口部之至少一部分,亦可形成於缺口部之整體。
光學積層體11可具有於積層方向貫通光學積層體11整體之孔部。孔部可為圓形狀,亦可為橢圓形狀、四角形狀或六角形狀等多角形狀,多角形狀之角中的至少1個可為圓角。在孔部之周部分可形成缺糊部5。形成於孔部之缺糊部可形成於孔部之周部分的至少一部分,亦可形成於孔部之周部分的整體。孔部係例如在智慧型手機等中,可設於設置有相機鏡頭等之區域。
光學積層體11具有方形狀,且該方形狀為具有一對長邊及一對短邊之長方形狀,偏光層41之吸收軸方向相對於長邊而構成45°±10°之角度時,缺糊部5較佳係形成於一對長邊中之至少一者、及一對短邊中之至少一者。在本說明書中,上述角度係指在吸收軸方向與長邊所構成的角度之中之銳角的角度。缺糊部5可形成於一對長邊中之兩者,亦可形成於一對短邊中之兩者。光學積層體11之偏光層41若曝露於高溫環境下,則在其吸收軸方向容易收縮,故偏光層41之收縮應力容易集中在位於吸收軸方向之兩端的邊。因此,咸認在吸收軸方向與長邊有45°±10°之關係的
光學積層體11中,偏光層41之收縮應力容易集中在長邊及短邊之兩者,第1相位差層21之反射光的色相容易變化。如上所述,一對長邊中之至少一者、及一對短邊中之至少一者設有缺糊部5,藉此,光學積層體11在曝露於高溫環境下之時,在偏光層41之收縮應力容易集中之部分中,可使該收縮應力分散。咸認藉此,即使光學積層體11在曝露於高溫環境下之時,亦可有效地抑制在面內之反射光的色相之均勻性變差。偏光層41之吸收軸方向相對於長邊而構成的角度可為45°±5°,亦可為45°±2°,亦可為45°。
光學積層體11具有方形狀,且該方形狀為具有一對長邊及一對短邊之長方形狀,偏光層41之吸收軸方向相對於長邊而構成0°±10°之角度時,缺糊部5較佳係形成於一對短邊中之至少一者。在本說明書中,上述角度係指吸收軸方向與長邊所構成之角度之中之銳角的角度。缺糊部5可形成於一對短邊中之兩者。吸收軸方向與長邊有0°±10°之關係的光學積層體11中,咸認因上述之理由,偏光層41之收縮應力容易集中在短邊,第1相位差層21之反射光的色相容易變化。因此,咸認藉由將缺糊部5設於一對短邊中之至少一者,即使光學積層體11曝露於高溫環境下之時,亦可有效地抑制在面內之反射光的色相之均勻性變差。偏光層41之吸收軸方向相對於長邊而構成的角度可為0°±5°,亦可為0°±2°,亦可為0°。
光學積層體11具有方形狀,且該方形狀為具有一對長邊及一對短邊之長方形狀,偏光層41之吸收軸方向相對於短邊而構成0°±10°之角度時,缺糊部5較佳係形成於一對長邊中之至少一者。在本說明書中,上述角度係指吸收軸方向與短邊所構成之角度之中之銳角的角度。缺糊部5可形成於一對長邊中之兩者。吸收軸方向與短邊有0°±10°之關係的光學
積層體11中,咸認因上述之理由,偏光層41之收縮應力容易集中在長邊,第1相位差層21之反射光的色相容易變化。因此,咸認藉由將缺糊部5設於一對長邊中之至少一者,即使光學積層體11曝露於高溫環境下之時,亦可有效地抑制在面內之反射光的色相之均勻性變差。偏光層41之吸收軸方向相對於短邊而構成的角度可為0°±5°,亦可為0°±2°,亦可為0°。
圖1所示之光學積層體11中,第1相位差層21可為A板,亦可為C板。又,圖1所示之光學積層體11係藉由將第1相位差層21設為1/4波長板,而可作為圓偏光板。
圖1所示之光學積層體11可藉由例如準備偏光板40與第1相位差層21,並在偏光板40之第1保護層42側、及第1相位差層21上之中的至少一者塗佈或轉印黏著劑,將偏光板40與第1相位差層21隔著黏著劑之層而貼合來製造。第1相位差層21為液晶層時,將在第1基材層上可剝離地形成有第1相位差層21之附基材層的第1相位差層之第1相位差層21、及偏光板40隔著黏著劑而積層之後,可剝離第1基材層。
形成光學積層體11中之缺糊部5的方法並無特別限定,但例如可藉由調整用以形成黏著劑層31之黏著劑層的塗佈範圍或轉印位置而形成。藉由轉印而形成黏著劑層31時,可在為了轉印用而準備之形成於剝離膜等之上的黏著劑層預先形成會成為缺糊部5之部分,並將形成有會成為缺糊部5之部分的黏著劑層轉印至偏光板40上或第1相位差層21上。
為了在形成於剝離膜等之上的黏著劑層形成會成為缺糊部5之部分,例如,如圖3(a)至(b)所示,可藉由準備在剝離膜62上形成有黏著劑層61之附剝離膜之黏著劑層60,並從黏著劑層61側藉由單刀鋒之裁切刀65裁
切附剝離膜之黏著劑層60而形成。如此方式而裁切附剝離膜之黏著劑層60之過程中,係藉由單刀鋒之裁切刀65的雙面之中形成有刀鋒之側的面而將黏著劑層61壓成漸窄形狀,可形成端部成為漸窄形狀之黏著劑層。
(變形例)
本實施型態之光學膜係可如下列所示之變形例般地變更,亦可組合實施型態及其變形例之各構造及各步驟而實施。
(變形例1)
在上述之實施型態中說明有關一種光學積層體11,該光學積層體11具有在偏光層41之雙面具有第1保護層42及第2保護層43之偏光板40,但不限定於此。偏光板可包含偏光層41、與第1保護層42及第2保護層43中之任一者。又,在光學積層體11中,亦可不包含第1保護層42及第2保護層43。
(變形例2)
圖1所示之光學積層體11為圓偏光板時,該圓偏光板可使用於例如有機電致發光(有機EL)顯示裝置之抗反射用。此時,光學積層體11可貼合於有機EL顯示裝置之光學顯示元件的辨識側而使用。因此,光學積層體11可在第1相位差層21之與黏著劑層31為相反側具有用以貼合於光學顯示元件之光學顯示元件用黏著劑層。
(變形例3)
在上述之實施型態中說明有關包含第1相位差層21之光學積層體11,但不限定於此,例如亦可為圖2所示之光學積層體。圖2係示意性表示本實施型態之光學積層體的其他例的剖面圖。以下,對於與上述所說明者為
相同的構件係賦予相同的符號,並省略其說明。圖2所示之光學積層體12係依序具有偏光板40、黏著劑層31、第1相位差層21、接著層35、第2相位差層22。接著層35可為使用黏著劑所形成之黏著劑層,亦可為使用接著劑所形成之接著劑層。第2相位差層22可為相位差膜,亦可為包含聚合性液晶化合物等液晶化合物的液晶層。第2相位差層22為液晶層時,光學積層體12可在第2相位差層22之與接著層35為相反側具有用以使構成第2相位差層22之液晶化合物定向的定向層。
在光學積層體12中,可藉由將第1相位差層21設為1/2波長板,並將第2相位差層22設為1/4波長板;將第1相位差層21設為逆波長分散性之1/4波長板,並將第2相位差層22設為正C板;將第1相位差層21設為正C板,並將第2相位差層22設為逆波長分散性之1/4波長板等而形成為圓偏光板。第1相位差層21與第2相位差層22之組合為1/2波長板及1/4波長板時,相對於偏光層41之吸收軸方向,1/2波長板之慢軸方向可設為70°至80°,1/4波長板之慢軸方向可設為10°至20°。又,第1相位差層21與第2相位差層22之組合為逆波長分散性之1/4波長板及正C板時,相對於偏光層41之吸收軸方向,1/4波長板之慢軸方向可設為40°至50°。將屬於圓偏光板之光學積層體12使用於有機EL顯示裝置之抗反射用時等,圖2所示之光學積層體12可在第2相位差層22之與接著層35為相反側具有光學顯示元件用黏著劑層。
圖2所示之光學積層體12,例如可藉由準備第1相位差層21及第2相位差層22隔著接著層35積層而成之相位差層積層體、與偏光板40,並在偏光板40之第1保護層42側、及相位差層積層體之第1相位
差層21側之中的至少一者塗佈或轉印黏著劑,將偏光板40與相位差層積層體隔著黏著劑貼合而形成。第1相位差層21及第2相位差層22皆為液晶層時,例如可如下列方式獲得光學積層體12。首先,將在第1基材層上可剝離地形成有第1相位差層21之附基材層的第1相位差層之第1相位差層21、與在第2基材層上可剝離地形成有第2相位差層22之附基材層的第2相位差層之第2相位差層22,隔著接著層而積層,而獲得相位差層積層體。然後,從該相位差層積層體剝離第1基材層,將第1相位差層21側與偏光板40之第1保護層42側隔著黏著劑而積層之後,剝離第2基材層,藉此可獲得圖2所示之光學積層體12。
以下,詳細說明有關上述之實施型態及其變形例中共通的各事項。
(偏光層)
偏光層41可為在PVA系樹脂膜吸附定向有碘等二色性色素者,亦可為在液晶化合物經硬化而成之層中定向有二色性色素者。
PVA系樹脂膜係使用聚乙烯醇系樹脂所形成之膜。所謂聚乙烯醇系樹脂係指包含50質量%以上之源自乙烯醇之構成單元的樹脂。聚乙烯醇系樹脂可使用使聚乙酸乙烯酯系樹脂經皂化者。聚乙酸乙烯酯系樹脂之皂化度係可依據JIS K 6727(1994)而求出,例如可設為80.0至100.0莫耳%之範圍。
聚乙酸乙烯酯系樹脂可列舉屬於乙酸乙烯酯之均聚物的聚乙酸乙烯酯、乙酸乙烯酯和可與乙酸乙烯酯共聚合之其他單體的共聚物等。可與乙酸乙烯酯共聚合之其他單體可列舉例如不飽和羧酸類、烯烴類、乙
烯基醚類、不飽和磺酸類、具有銨基之(甲基)丙烯醯胺類等。在本說明書中,所謂「(甲基)丙烯酸」係表示選自由丙烯酸及甲基丙烯酸所成之群中的至少1種。其他之標註有「(甲基)」之用語中亦同樣。
PVA系樹脂膜之一例可為將聚乙烯醇系樹脂進行製膜而成之未延伸膜,亦可為將該未延伸膜延伸而成之延伸膜。PVA系樹脂膜為延伸膜時,以經縱單軸延伸之延伸膜為較佳,以經乾式延伸之延伸膜為較佳。PVA系樹脂膜為延伸膜時之延伸倍率通常為1.1至8倍。
吸附定向於PVA系樹脂膜之二色性色素可列舉碘或有機染料等。有機染料可列舉例如紅色BR、紅色LR、紅色R、粉紅LB、寶石紅(Rubine)BL、波爾多(bordeaux)GS、天空藍色LG、檸檬黃色、藍色BR、藍色2R、海軍藍RY、綠色LG、紫色LB、紫色B、黑色H、黑色B、黑色GSP、黃色3G、黃色R、橘色LR、橘色3R、猩紅色GL、猩紅色KGL、剛果紅色、亮紫色BK、Supranol Blue G、Supranol Blue GL、Supranol Orange GL、直接天空藍色、直接堅牢橘色S、堅牢黑色等。二色性色素可僅單獨使用1種,亦可併用2種以上。
在液晶化合物經硬化而成之層中定向有二色性色素的偏光層,可列舉例如在聚合性液晶化合物中使二色性色素定向,並使該聚合性液晶化合物聚合而成之硬化層。關於如此之偏光層,可在基材膜上塗佈包含液晶化合物及二色性色素之偏光層形成用組成物,直接保持液晶狀態,使液晶化合物聚合並硬化而形成。如此方式所得到之偏光層係呈現積層於基材膜之狀態,可直接使用基材膜作為偏光層之保護層。或者,亦可使已
將基材膜設為對偏光層而言可剝離之附基材膜的偏光層隔著黏著劑層31而積層在第1相位差層之後,剝離基材膜。
液晶化合物若具有顯示液晶狀態之性質即可,尤其,具有與層列相等之高次定向狀態,因可發揮高的偏光性能,故較佳。
又,液晶化合物係以具有聚合性官能基亦為較佳。二色性色素係與液晶化合物一起定向而顯示二色性的色素,且二色性色素本身可具有液晶性,亦可具有聚合性官能基。包含液晶化合物之偏光層形成用組成物之中的任一者之化合物係具有聚合性官能基。
可使用於使用了液晶化合物之偏光層的二色性色素,可列舉例如吖啶色素、噁嗪(oxazine)色素、花青(cyanine)色素、萘色素、偶氮色素、蒽醌色素等,但其中,以偶氮色素為較佳。偶氮色素可列舉單偶氮色素、雙偶氮色素、三偶氮色素、四偶氮色素、二苯乙烯偶氮色素等,以雙偶氮色素、三偶氮色素為更佳。二色性色素可僅單獨使用1種,亦可併用2種以上。
偏光層形成用組成物可包含溶劑、光聚合起始劑等聚合起始劑、光增感劑、聚合抑制劑、分散劑、調平劑、安定劑、界面活性劑、交聯劑、矽烷偶合劑等。在偏光層形成用組成物中所含之聚合性液晶化合物、二色性色素、溶劑、聚合起始劑、光增感劑、聚合抑制劑等可使用公知者。又,聚合性液晶化合物可使用與後述之作為為了獲得第1相位差層及第2相位差層所使用的聚合性液晶化合物而例示之化合物為同樣者。
偏光層41之厚度通常為2至40μm,從偏光層之薄膜化的觀點而言,以30μm以下為較佳,以20μm以下為更佳。在液晶化合物經
硬化而成之層中定向有二色性色素之偏光層,相較於在PVA系樹脂膜吸附定向有碘等二色性色素的偏光層,可形成較小厚度。使用了液晶化合物之偏光層的厚度例如可為0.5至5μm,較佳可為1至4μm。
又,關於偏光層41之視感度修正單體穿透率Ty,考量到與視感度修正偏光度Py之均衡,以40至47%為較佳,以41至45%為更佳。視感度修正偏光度Py係以99.9%以上為較佳,以99.95%以上為更佳。Ty及Py可藉由使用附積分球的吸光光度計,針對所得到之穿透率、偏光度藉由JIS Z 8701之2度視野(C光源)進行視感度修正而求得。
(偏光板)
偏光板係在偏光層之單面或雙面隔著公知之黏著劑層或接著劑層而積層有保護層(第1保護層、第2保護層)者。偏光板之厚度例如可設為2μm以上300μm以下,可為10μm以上,又,可為150μm以下,亦可為120μm以下,亦可為80μm以下。
保護層係例如使用由透明性、機械強度、熱安定性、水分阻隔性、等向性、延伸性等優異之熱塑性樹脂所形成的膜。如此之熱塑性樹脂的具體例可列舉:三乙醯基纖維素等纖維素樹脂;聚對苯二甲酸乙二酯、聚萘二甲酸乙二酯等聚酯樹脂;聚醚碸樹脂;聚碸樹脂;聚碳酸酯樹脂;尼龍或芳香族聚醯胺等聚醯胺樹脂;聚醯亞胺樹脂;聚乙烯、聚丙烯、乙烯/丙烯共聚物等聚烯烴樹脂;具有環系及降莰烯結構之環狀聚烯烴樹脂(亦稱為降莰烯系樹脂);(甲基)丙烯酸樹脂;聚芳酯(polyarylate)樹脂;聚苯乙烯樹脂;聚乙烯醇樹脂;以及此等之混合物。在偏光層之雙面積層保護層時,二個保護層之樹脂組成可為相同,亦可為相異。關於由熱塑性樹
脂所形成之膜,為了提升與偏光層之密接性,可施予表面處理(例如,電暈處理等),亦可形成底漆層(亦稱為底塗層)等薄層。
保護層例如可為將上述之熱塑性樹脂延伸者,亦可為未被延伸者(以下,有時稱為「未延伸樹脂」)。延伸處理可列舉單軸延伸或二軸延伸等。
保護層之厚度係以3μm以上為較佳,以5μm以上為更佳。又,保護層之厚度係以50μm以下為較佳,以35μm以下為更佳。又,上述之上限值及下限值可任意地組合。偏光板之厚度愈薄,剛性愈小,且變得容易受到偏光層之收縮應力的影響。因此,在偏光板具有厚度小之保護層的光學積層體中,在其端部容易受到偏光層之收縮應力的影響,在高溫環境下有面內之反射光的色相之均勻性容易變差之傾向。因此,咸認在如此之光學積層體中,如上所述,藉由將缺糊部之距離L1設為3μm以上,即使在高溫環境下亦可有效地控制面內之反射光的色相之均勻性變差。
保護層之與偏光層為相反側之表面可具有表面處理層,例如可具有硬塗層、抗反射層、抗沾黏層、抗眩層、擴散層等。表面處理層可為積層於保護層上之另外的層,亦可為對保護層表面施予表面處理所形成者。
(第1相位差層及第2相位差層)
第1相位差層及第2相位差層(以下,有時彙整兩者稱為「相位差層」)可為相位差膜,亦可為液晶層。相位差膜若為顯示光學異向性者即可,可列舉例如:藉由將由聚乙烯醇、聚碳酸酯、聚酯、聚芳酯、聚醯亞胺、聚烯烴、聚環烯烴、聚苯乙烯、聚碸、聚醚碸、聚偏二氟乙烯/聚甲基丙烯酸
甲酯、乙醯基纖維素、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物皂化物、聚氯乙烯等所形成之膜延伸成1.01至6倍左右所得到之延伸膜等。
相位差層為液晶層時,構成液晶層之液晶化合物的種類並無特別限定,可使用棒狀液晶化合物、圓盤狀液晶化合物、及此等之混合物。關於液晶層,可藉由將包含液晶化合物、溶劑、依需要之各種添加劑的液晶層形成用組成物塗佈於定向層上而形成塗膜,並使該塗膜固化(硬化),而形成屬於液晶化合物之硬化層的液晶層。或者,亦可藉由在基材層上塗佈液晶層形成用組成物而形成塗膜,並將該塗膜與基材層一起進行延伸而形成液晶層。液晶層形成用組成物在上述之液晶化合物及溶劑之外,還可含有聚合起始劑、反應性添加劑、調平劑、聚合抑制劑等。液晶化合物、溶劑、聚合起始劑、反應性添加劑、調平劑、聚合抑制劑等可適宜使用公知者。
欲形成液晶層之基材層(第1基材層、第2基材層)係以由樹脂材料所形成之膜為較佳。樹脂材料例如,使用透明性、機械強度、熱安定性、延伸性等優異之樹脂材料。具體而言,可列舉:聚乙烯、聚丙烯等聚烯烴系樹脂;降莰烯系聚合物等環狀聚烯烴系樹脂;聚對苯二甲酸乙二酯、聚萘二甲酸乙二酯等聚酯系樹脂;(甲基)丙烯酸、聚(甲基)丙烯酸甲酯等(甲基)丙烯酸系樹脂;三乙醯基纖維素、二乙醯基纖維素及纖維素乙酸酯丙酸酯等纖維素酯系樹脂;聚乙烯醇及聚乙酸乙烯酯等乙烯醇系樹脂;聚碳酸酯系樹脂;聚苯乙烯系樹脂;聚芳酯系樹脂;聚碸系樹脂;聚醚碸系樹脂;聚醯胺系樹脂;聚醯亞胺系樹脂;聚醚酮系樹脂;聚伸苯硫醚系樹脂;聚伸苯醚系樹脂;及此等之混合物、共聚物等。此等樹脂之中,較佳
係使用環狀聚烯烴系樹脂、聚酯系樹脂、纖維素酯系樹脂及(甲基)丙烯酸系樹脂之任一者或此等之混合物。
基材層可為單層,亦可具有2層以上之多層構造。具有多層構造時,構成各層之樹脂的種類可互相相同,亦可相異。基材層之厚度並無特別限定,但一般係從強度或操作性等作業性之點而言,以1至300μm為較佳,以10至200μm為更佳,以30至120μm為再更較佳。
上述之定向層係具有定向限制力,該定向限制力係使形成於定向層上之液晶層所含的聚合性液晶化合物等液晶化合物在所希望的方向液晶定向。定向層可列舉:以定向性聚合物所形成之定向性聚合物層、以光定向聚合物所形成之光定向性聚合物層、在層表面具有凹凸圖案或複數個溝槽(groove)之溝槽定向層。定向層之厚度通常為10至500nm,以10至200nm為較佳。
(黏著劑層)
黏著劑層係使用黏著劑所形成之層。在本說明書中,所謂黏著劑係指藉由將其本身張貼於光學膜或液晶層等被黏體而顯現接著性者,且為被稱為所謂之感壓型接著劑者。黏著劑可無特別限制地使用以往公知之光學透明性優異的黏著劑,例如,可使用具有丙烯酸系、胺基甲酸酯系、聚矽氧系、聚乙烯基醚系等基礎聚合物的黏著劑。黏著劑層之厚度可為3μm以上,亦可為5μm以上,又,可為35μm以下,亦可為30μm以下。
黏著劑層可含有紫外線吸收劑、使用了離子性化合物等之抗靜電劑、溶劑、交聯觸媒、增黏樹脂(Tackifier)、塑化劑、軟化劑、染料、顏料、無機填充劑等添加劑。尤其,藉由使黏著劑層含有紫外線吸收劑,
當第1相位差層為液晶層時,可抑制液晶層所含之液晶化合物受到外光等之影響而劣化。
(接著層)
接著層可藉由黏著劑層、使用接著劑所形成之接著劑層、及此等之組合而形成,通常為1層,但可為2層以上。接著層為由2層以上之層所構成時,各層可由互相相同的材料形成,亦可由相異的材料形成。黏著劑層可使用上述之黏著劑而形成。
可使用於接著劑層之接著劑係無特別制限而可使用例如水系接著劑、活性能量線硬化型接著劑等以往公知之接著劑。水系接著劑可列舉例如聚乙烯醇系樹脂水溶液、水系二液型胺基甲酸酯系乳化液接著劑等。活性能量線硬化型接著劑係藉由照射紫外線等活性能量線而硬化之接著劑,可列舉例如包含聚合性化合物及光聚合性起始劑者、包含光反應性樹脂者、包含黏結劑樹脂及光反應性交聯劑者等。上述聚合性化合物可列舉:光硬化性環氧系單體、光硬化性丙烯酸系單體、光硬化性胺基甲酸酯系單體等光聚合性單體、或源自此等單體之寡聚物等。上述光聚合起始劑可列舉:包含照射紫外線等活性能量線而產生如中性自由基、陰離子自由基、陽離子自由基等活性種的物質者。
[實施例]
以下,顯示實施例及比較例而更具體說明本發明,但本發明係不受此等例限定。實施例、比較例中之「%」及「份」係只要無特別記載,則為質量%及質量份。
[偏光板之製作]
準備厚度20μm之三乙醯基纖維素膜作為第1保護層。準備在一表面形成有硬塗層之厚度29μm的降莰烯系樹脂膜作為第2保護層。準備在PVA系樹脂膜吸附定向有屬於二色性色素之碘者作為偏光層。偏光層之厚度為8μm。
又,相對於水100重量份,使羧基改性聚乙烯醇〔取自KURARAY股份有限公司之商品名「KL-318」〕3重量份溶解,在其水溶液中添加作為水溶性環氧樹脂之聚醯胺環氧系添加劑〔取自田岡化學工業股份有限公司之商品名「SUMIREZ RESIN(註冊商標)650(30)」,固體成分濃度30重量%之水溶液〕1.5重量份,調製水系接著劑。
對第1保護層施予皂化處理,並對第2保護層之降莰烯系樹脂膜側的表面、及偏光層之雙面施予電暈處理。在偏光層之一面隔著上述所得到之水系接著劑而貼合第1保護層,在偏光層之另一面隔著與上述相同的水系接著劑,而貼合第2保護層之與硬塗層為相反側(降莰烯系樹脂膜側),進行乾燥處理而製作偏光板。以偏光層之吸收軸相對於長邊方向成為45°之方式將所得到之偏光板裁切成矩形形狀。
[第1相位差層之製作]
(水平定向層形成用組成物之調製)
藉由混合下述之成分,並將所得到之混合物在溫度80℃攪拌1小時,而獲得水平定向層形成用組成物。
‧光定向性材料(5份)(重量平均分子量:30000):
‧溶劑(95份):環戊酮
(水平定向液晶層形成用組成物之調製)
藉由混合下述之成分,以固體成分濃度成為13%之方式,更添加N-甲基-2-吡咯啶酮(NMP),在80℃攪拌1小時,而獲得水平定向液晶層形成用組成物。下述之聚合性液晶化合物A係以日本特開2010-31223號公報記載之方法進行合成,下述之聚合性液晶化合物B係依據日本特開2009-173893號公報記載之方法而合成。
‧聚合性液晶化合物A(90份):
‧聚合性液晶化合物B(10份):
‧聚合起始劑(6份):
2-二甲基胺基-2-苯甲基-1-(4-嗎啉基苯基)丁烷-1-酮(IRGACURE 369,BASF JAPAN股份有限公司製)
(第1相位差層之製作)
對環狀烯烴系樹脂(COP)膜(ZF-14-50,日本ZEON股份有限公司製)實施電暈處理。於該COP膜之電暈處理面以棒塗佈機塗佈上述所得到之水平定向層形成用組成物,在80℃乾燥1分鐘。對於該塗佈膜,使用偏光UV照射裝置(「SPOT CURE SP-9」,USHIO電機股份有限公司製),以在波長313nm之累積光量成為100mJ/cm2之方式,以軸角度45°使偏光UV進行曝光而獲得水平定向層。
繼而,在該水平定向層,使用棒塗佈機塗佈上述所得到之水平定向液晶層形成用組成物,在120℃乾燥1分鐘。對於塗佈膜,使用高壓水銀燈(「UNICURE VB-15201BY-A」,USHIO電機股份有限公司製),照射紫外線(氮環境下,在波長365nm之累積光量:500mJ/cm2),藉此形成屬於水平定向液晶層之第1相位差層。第1相位差層係顯示逆波長分散性之1/4波長板。
[第2相位差層之製作]
(垂直定向層形成用組成物之準備)
準備SUNEVER SE610(日產化學工業股份有限公司製)作為垂直定向層形成用組成物。
(垂直定向液晶層形成用組成物之調製)
混合下述之成分,以固體成分濃度成為13%之方式,更添加環戊酮,獲得垂直定向液晶層形成用組成物。
‧聚合性液晶化合物C(100份):
Paliocolor(註冊商標) LC242(BASF公司製)
‧調平劑(0.1份):
F-556(DIC公司製)
‧聚合起始劑(3份):
IRGACURE 369(CIBA SPECIALTY CHEMICALS公司製)
(第2相位差層之製作)
對環狀烯烴系樹脂(COP)膜(ZF-14-50,日本ZEON股份有限公司製)實施電暈處理。在該COP膜之電暈處理面使用棒塗佈機塗佈上述所得到之垂直定向層形成用組成物,在80℃乾燥1分鐘而獲得垂直定向層。繼而,在垂直定向層,使用棒塗佈機塗佈上述所得到之垂直定向液晶層形成用組成物,在90℃乾燥120秒。對於該塗佈膜,使用高壓水銀燈(「UNICURE VB-15201BY-A」,USHIO電機股份有限公司製),照射紫外線(氮環境下,在波長365nm之累積光量:500mJ/cm2),藉此形成屬於垂直定向液晶層之第2相位差層。第2相位差層係滿足nx≒ny<nz之關係的正C板。
[相位差層積層體之製作]
對上述所製作之第1相位差層之與COP膜為相反側之表面、及上述所製作之第2相位差層之與COP膜為相反側之表面施予電暈處理。隔著紫外線硬化型接著劑而將該電暈處理面(第1相位差層表面、及第2相位層表面)彼此貼合之後,照射紫外線而使紫外線硬化型接著劑進行硬化,獲得第1相位差層與第2相位差層隔著接著劑層所積層而成之相位差層積層體。以第1相位差層(1/4波長板)之慢軸與長邊方向成為平行之方式,將所得到之相位差層積層體裁切成矩形形狀。
[缺糊部之距離L1的測定]
在各實施例及各比較例所得到之光學積層體的第2相位差層側,積層已設於剝離膜上之厚度20μm的丙烯酸系黏著劑層而獲得附黏著劑層之光學積層體。對於該附黏著劑層之光學積層體,確認形成有缺糊部之邊,在形成有缺糊部之位置中,針對沿著相對於該邊呈垂直的方向而裁切附黏著劑層之光學積層體時的剖面,使用雷射顯微鏡而測定輪廓。依據所測定之輪廓,測定黏著劑層61之端部的最內端之位置、與偏光層之端部的最外端之位置之間的距離L1。
[高溫試驗]
在各實施例及各比較例所得到之光學積層體的第2相位差層側,積層厚度20μm之丙烯酸系黏著劑層,將該丙烯酸系黏著劑層貼合於玻璃板而作為評估用試料。
將所得到之評估用試料進行放置於溫度80℃之烘箱200小時的高溫試驗。以玻璃板成為下側之方式,將高溫試驗後之評估用試料放置於反射板(Alanod公司製,MIRO5 5011GP)上,使用分光測色計(CM2600d,KONICA MINOLTA股份有限公司),測定反射光之色相。測定係裝設當光從評估用試料進入積分球時之開口部的直徑為1.5mm之遮罩而進行,算出在評估用試料之4個端邊的中央部分之反射光的色相(a*b*)、與評估用試料之中心部分(矩形之對角線的交差部分)之反射光的色相(a*b*)之差的平均值作為△a*b*。
△a*b*=(△a*2+△b*2)1/2
又,將高溫試驗後之評估用試料放置於反射板(Alanod公司製,MIRO5 5011GP)上之後,從光學積層體側以目視進行反射光之觀察,
進行確認光學積層體之色不均的狀態之辨識性評估。色不均之狀態,被微弱地辨識之情形評估為A,被強烈地辨識之情形評估為B。
〔實施例1〕
圖3(a)及(b)係用以說明實施例中之黏著劑層的製作方法之示意圖。如圖3(a)所示,準備在剝離膜62上具有厚度20μm之使用丙烯酸系黏著劑所形成的黏著劑層61之附剝離膜之黏著劑層60。黏著劑層61係包含紫外線吸收劑者。如圖3(a)所示,從黏著劑層61側,沿著平行於附剝離膜之黏著劑層60的積層方向之方向(圖中,箭頭方向),使尖端部分65a之角度θ的裁切刀65切入,將附剝離膜之黏著劑層60裁切成矩形形狀。又,裁切刀65係使用單刀鋒者。裁切後之矩形形狀的附剝離膜之黏著劑層60的切割面係與單刀鋒之裁切刀65的雙面之中的形成有刀鋒之面接觸的面。
將所得到之矩形形狀的附剝離膜之黏著劑層60的黏著劑層61貼合於上述所製作之偏光板的第1保護層側(三乙醯基纖維素膜側)之後,剝離剝離膜62。將剝離上述所製作之相位差層積層體的第1相位差層側之COP膜而露出的面、與剝離剝離膜62而露出之黏著劑層61的表面貼合之後,剝離第2相位差層側之COP膜,獲得具有第2保護層/偏光層/第1保護層/黏著劑層61/第1相位差層/接著劑層/第2相位差層之層構造的光學積層體(圓偏光板)。又,在光學積層體之製作中,貼合各層時,對貼合面實施電暈處理,貼合之時,使各層之長邊及短邊一致,偏光層之吸收軸方向係相對於第1相位差層之慢軸方向設為45°。
所得到之光學積層體係在其全周形成有缺糊部。對於光學積層體之各邊的任意位置之缺糊部,以上述之順序測定距離L1,算出其平均
值。又,進行所得到之光學積層體的高溫試驗,測定反射光之色相的變化,進行確認色不均的狀態之辨識性的評估。將此等之結果表示於表1中。又,從在各邊之距離L1的測定結果,確認到在本實施例之光學積層體的全周中,缺糊部之距離L1係與表1所示之值為相同程度。
〔實施例2及比較例1〕
除了作為為了裁切附剝離膜之黏著劑層60(圖3(a))而使用之裁切刀,使用尖端部分65a之角度θ小於在實施例1所使用者之裁切刀(單刀鋒),而獲得矩形形狀之附剝離膜之黏著劑層60以外,其餘係以與實施例1同樣之方式而獲得光學積層體。所得到之光學積層體係在其全周形成有缺糊部。對於光學積層體之各邊的任意位置之缺糊部,以上述之順序測定距離L1,算出其平均值。又,進行所得到之光學積層體的高溫試驗,測定反射光之色相的變化,進行確認色不均的狀態之辨識性的評估。將此等之結果表示於表1中。又,從在各邊之距離L1的測定結果,確認到在本實施例之光學積層體的全周中,缺糊部之距離L1係與表1所示之值為相同程度。
5:缺糊部
11:光學積層體
21:第1相位差層
31:黏著劑層
40:偏光板
41:偏光層
42:第1保護層
43:第2保護層
Claims (10)
- 一種光學積層體,係依序具有偏光層、黏著劑層、及第1相位差層,其中,前述光學積層體係在其面方向之端部具有缺糊部,前述缺糊部係在通過前述偏光層及前述黏著劑層在積層方向重疊之部分的剖面中,以使前述黏著劑層之端部的最內端之位置位於比前述偏光層之端部的最外端之位置還要內側3μm以上之方式形成。
- 如請求項1所述之光學積層體,其中,前述偏光層係在聚乙烯醇系樹脂膜吸附定向有二色性色素者。
- 如請求項1或2所述之光學積層體,其中,前述光學積層體係具有方形狀、或至少一邊具有缺口部之方形狀,前述缺糊部係形成於前述方形狀之至少一邊。
- 如請求項3所述之光學積層體,其中,前述方形狀係具有一對長邊及一對短邊,前述偏光層之吸收軸方向係相對於前述長邊而構成45°±10°之角度,前述缺糊部係形成於前述一對長邊中之至少一者、及前述一對短邊中之至少一者。
- 如請求項3所述之光學積層體,其中,前述方形狀係具有一對長邊及一對短邊,前述偏光層之吸收軸方向係相對於前述長邊而構成0°±10°之角度,前述缺糊部係形成於前述一對短邊中之至少一者。
- 如請求項3所述之光學積層體,其中,前述方形狀係具有一對長邊及一對短邊,前述偏光層之吸收軸方向係相對於前述短邊而構成0°±10°之角度,前述缺糊部係形成於前述一對長邊中之至少一者。
- 如請求項1至6中任一項所述之光學積層體,其係在前述偏光層之單面或雙面具有保護層。
- 如請求項1至7中任一項所述之光學積層體,其係在前述第1相位差層之與前述黏著劑層為相反側更具有第2相位差層。
- 如請求項8所述之光學積層體,其中,前述第2相位差層係隔著接著層而設於前述第1相位差層上。
- 如請求項1至9中任一項所述之光學積層體,其為圓偏光板。
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