KR20240051857A - 광학 적층체의 제조 방법 - Google Patents
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Abstract
본 발명은, 편광자의 흡수축과 위상차층의 지상축이 이루는 각도를 정밀하게 제어한 광학 적층체를 효율적으로 제조할 수 있는 방법을 제공하는 것이다.
본 발명의 실시형태에 따른 광학 적층체의 제조 방법은, 편광판을 포함하는 제1 적층 필름과 제1 위상차층을 포함하는 제2 적층 필름을 준비하는 준비 공정과, 해당 제2 적층 필름의 복수 개소에서 제1 위상차층의 이상(理想) 상태의 지상축과 실제의 지상축이 이루는 축 교차 각도를 검사하여, 제2 적층 필름을 양품 또는 불량품으로 판정하는 공정과, 양품으로 판정된 제2 적층 필름과 제1 적층 필름을 첩합하여, 적층 필름 중간체를 얻는 공정과, 적층 필름 중간체에서의 이물의 유무를 검사하여, 적층 필름 중간체를 양품 또는 불량품으로 판정하는 공정과, 양품으로 판정된 적층 필름 중간체를 소정 사이즈로 펀칭하여, 복수의 광학 적층체편을 얻는 공정을 포함한다.
본 발명의 실시형태에 따른 광학 적층체의 제조 방법은, 편광판을 포함하는 제1 적층 필름과 제1 위상차층을 포함하는 제2 적층 필름을 준비하는 준비 공정과, 해당 제2 적층 필름의 복수 개소에서 제1 위상차층의 이상(理想) 상태의 지상축과 실제의 지상축이 이루는 축 교차 각도를 검사하여, 제2 적층 필름을 양품 또는 불량품으로 판정하는 공정과, 양품으로 판정된 제2 적층 필름과 제1 적층 필름을 첩합하여, 적층 필름 중간체를 얻는 공정과, 적층 필름 중간체에서의 이물의 유무를 검사하여, 적층 필름 중간체를 양품 또는 불량품으로 판정하는 공정과, 양품으로 판정된 적층 필름 중간체를 소정 사이즈로 펀칭하여, 복수의 광학 적층체편을 얻는 공정을 포함한다.
Description
본 발명은, 광학 적층체의 제조 방법에 관한 것이다.
액정 표시 장치 및 일렉트로루미네선스(EL) 표시 장치(예컨대, 유기 EL 표시 장치, 무기 EL 표시 장치)로 대표되는 화상 표시 장치가 급속히 보급되고 있다. 화상 표시 장치에서는, 화상 표시를 실현하고/하거나 당해 화상 표시의 성능을 높이기 위하여, 편광판과 위상차 필름(위상차층)을 포함하는 광학 적층체가 널리 사용되고 있다. 그런데, 근래, 화상 표시 장치의 새로운 용도가 개발되고 있다. 그와 같은 용도의 일례로서는, 버추얼 리얼리티(VR) 고글을 들 수 있다. VR 고글에 광학 적층체를 적용하는 경우, 그의 사이즈가 종래의 용도에 비해 현저히 작아진다. 그 결과, 종래의 용도보다도 편광자의 흡수축과 위상차층의 지상축이 이루는 각도를 정밀하게 제어하는 것이 요구될 수 있다.
또한, 그와 같은 광학 적층체는, 화상 표시 결함 등을 억제하기 위하여 당해 광학 적층체 내부의 이물을 배제할 필요가 있으며, 대표적으로는 이물 검사에 제공된다. 예컨대, 이물 검사는 최종 제품으로서의 광학 적층체에 대하여 실시되며, 소정의 기준에 기초하여 양품과 불량품으로 선별된다. 그러나, 최종 제품에 대하여 이물 검사를 실시하면, 광학 적층체의 제조 효율의 향상을 도모하기에는 한도가 있다.
본 발명은 상기 과제를 해결하기 위하여 이루어진 것이며, 그의 주된 목적은, 편광자의 흡수축과 위상차층의 지상축이 이루는 각도를 정밀하게 제어한 광학 적층체를 효율적으로 제조할 수 있는 방법을 제공하는 것에 있다.
[1] 본 발명의 실시형태에 따른 광학 적층체의 제조 방법은, 편광판을 포함하는 제1 적층 필름과, λ/4판으로서 기능하는 제1 위상차층을 포함하는 제2 적층 필름을 준비하는 준비 공정과, 상기 제2 적층 필름의 복수 개소에서, 상기 제1 위상차층의 이상(理想) 상태의 지상축과 상기 제1 위상차층의 실제의 지상축이 이루는 축 교차 각도를 검사하여, 복수의 검사 개소 중 상기 축 교차 각도가 소정 범위 내인 검사 개소의 비율이 소정 범위 내인 경우에 양품으로 판정하고, 소정 범위 외인 경우에 불량품으로 판정하는 축 얼라인먼트 검사 공정과, 상기 축 얼라인먼트 검사 공정에서 양품으로 판정된 제2 적층 필름과, 상기 제1 적층 필름을 첩합하여, 적층 필름 중간체를 얻는 첩합 공정과, 상기 적층 필름 중간체에서의 이물의 유무를 검사하여, 상기 적층 필름 중간체를 양품 또는 불량품으로 판정하는 이물 검사 공정과, 상기 이물 검사 공정에서 양품으로 판정된 적층 필름 중간체를 소정 사이즈로 펀칭하여, 복수의 광학 적층체편을 얻는 펀칭 공정을 포함한다.
[2] 상기 [1]에 기재된 광학 적층체의 제조 방법에서의 상기 첩합 공정에서, 상기 편광판의 편광자의 흡수축과 상기 제1 위상차층의 실제 지상축이 이루는 각도가 소정 범위 내가 되도록, 상기 제1 적층 필름과 상기 제2 적층 필름을 첩합하여도 된다.
[3] 상기 [1] 또는 [2]에 기재된 광학 적층체의 제조 방법에서의 상기 이물 검사 공정에서, 상기 적층 필름 중간체를 복수의 가상 에어리어로 구획하고, 상기 복수의 가상 에어리어에서의 이물의 유무를 검사하여, 상기 복수의 가상 에어리어 중 이물이 포함되는 가상 에어리어의 비율이 소정 범위 내인 경우에 양품으로 판정하며, 소정 범위 외인 경우에 불량품으로 판정하여도 된다.
[4] 상기 [1] 내지 [3] 중 어느 하나에 기재된 광학 적층체의 제조 방법에서, 상기 제2 적층 필름은, 상기 제1 위상차층에 적층되는 제2 위상차층으로서, nz>nx=ny의 굴절률 특성을 나타내는 제2 위상차층과, 해당 제2 위상차층에 대하여 상기 제1 위상차층의 반대 측에 위치하는 제1 표면 보호 필름을 포함하고 있어도 된다. 상기 제1 표면 보호 필름은, 상기 적층 필름 중간체의 최표면에 위치하여도 된다.
[5] 상기 [4]에 기재된 광학 적층체의 제조 방법은, 상기 이물 검사 공정 후 및 상기 펀칭 공정 전에, 상기 적층 필름 중간체의 제1 표면 보호 필름에, 제2 표면 보호 필름을 첩합하는 표면 보호 공정을 포함하고 있어도 된다.
[6] 상기 [5]에 기재된 광학 적층체의 제조 방법에서, 상기 축 얼라인먼트 검사 공정, 상기 첩합 공정, 상기 이물 검사 공정 및 상기 표면 보호 공정은, 클린 부스 내에서 실시되어도 된다.
[7] 상기 [1] 내지 [6] 중 어느 하나에 기재된 광학 적층체의 제조 방법은, 상기 축 얼라인먼트 검사 공정의 전에, 상기 제1 적층 필름 및 제2 적층 필름의 각각을 세정하는 세정 공정을 포함하고 있어도 된다.
본 발명은 실시형태에 따르면, 편광자의 흡수축과 위상차층의 지상축이 이루는 각도를 정밀하게 제어한 광학 적층체를 효율적으로 제조할 수 있는 방법을 실현할 수 있다.
도 1은, 본 발명의 실시형태에 따른 광학 적층체의 제조 방법을 설명하는 공정 플로우도이다.
도 2의 (a)는, 도 1에 나타내는 준비 공정에서 준비되는 제2 적층 필름의 개략 단면도이다. 도 2의 (b)는, 도 1에 나타내는 준비 공정에서 준비되는 제1 적층 필름의 개략 단면도이다.
도 3의 (a)는, 도 1에 나타내는 첩합 공정에서의 제2 적층 필름의 개략 단면도이다. 도 3의 (b)는, 도 1에 나타내는 첩합 공정에서의 제1 적층 필름의 개략 단면도이다.
도 4는, 도 1에 나타내는 첩합 공정에 의해 얻어지는 적층 필름 중간체의 개략 단면도이다.
도 5의 (a)는, 도 1에 나타내는 첩합 공정에서의 제1 적층 필름 및 제2 적층 필름의 개략 평면도이다. 도 5의 (b)는, 도 5의 (a)에 나타내는 제1 적층 필름 및 제2 적층 필름이 첩합된 적층 필름 중간체의 개략 단면도이다.
도 6은, 도 1에 나타내는 이물 검사 공정에서의 적층 필름 중간체의 개략 평면도이다.
도 7는, 도 1에 나타내는 펀칭 공정에 의해 얻어지는 광학 적층체편(최종 제품으로서의 광학 적층체)의 개략 단면도이다.
도 2의 (a)는, 도 1에 나타내는 준비 공정에서 준비되는 제2 적층 필름의 개략 단면도이다. 도 2의 (b)는, 도 1에 나타내는 준비 공정에서 준비되는 제1 적층 필름의 개략 단면도이다.
도 3의 (a)는, 도 1에 나타내는 첩합 공정에서의 제2 적층 필름의 개략 단면도이다. 도 3의 (b)는, 도 1에 나타내는 첩합 공정에서의 제1 적층 필름의 개략 단면도이다.
도 4는, 도 1에 나타내는 첩합 공정에 의해 얻어지는 적층 필름 중간체의 개략 단면도이다.
도 5의 (a)는, 도 1에 나타내는 첩합 공정에서의 제1 적층 필름 및 제2 적층 필름의 개략 평면도이다. 도 5의 (b)는, 도 5의 (a)에 나타내는 제1 적층 필름 및 제2 적층 필름이 첩합된 적층 필름 중간체의 개략 단면도이다.
도 6은, 도 1에 나타내는 이물 검사 공정에서의 적층 필름 중간체의 개략 평면도이다.
도 7는, 도 1에 나타내는 펀칭 공정에 의해 얻어지는 광학 적층체편(최종 제품으로서의 광학 적층체)의 개략 단면도이다.
이하, 도면을 참조하며 본 발명의 실시형태에 대하여 설명하지만, 본 발명은 이들 실시형태로는 한정되지 않는다. 또한, 도면은 모두 모식적으로 나타내고 있으며, 실제의 상태를 정확하게 그린 것은 아니다.
A. 광학 적층체의 제조 방법의 개략
도 1은, 본 발명의 하나의 실시형태에 따른 광학 적층체의 제조 방법을 설명하는 공정 플로우도이다. 본 발명의 실시형태에 따른 광학 적층체의 제조 방법은, 편광판을 포함하는 제1 적층 필름과, λ/4판으로서 기능하는 제1 위상차층을 포함하는 제2 적층 필름을 준비하는 준비 공정과; 제2 적층 필름의 복수 개소에서, 제1 위상차층의 이상 상태의 지상축과 제1 위상차층의 실제의 지상축이 이루는 축 교차 각도를 검사하여, 복수의 검사 개소 중 축 교차 각도가 소정 범위 내인 검사 개소의 비율이 소정 범위 내인 경우에 양품으로 판정하고, 소정 범위 외인 경우에 불량품으로 판정하는 축 얼라인먼트 검사 공정과; 축 얼라인먼트 검사 공정에서 양품으로 판정된 제2 적층 필름과, 제1 적층 필름을 첩합하여, 적층 필름 중간체를 얻는 첩합 공정과; 적층 필름 중간체에서의 이물의 유무를 검사하여, 적층 필름 중간체를 양품 또는 불량품으로 판정하는 이물 검사 공정과; 이물 검사 공정에서 양품으로 판정된 적층 필름 중간체를 소정 사이즈로 펀칭하여, 복수의 광학 적층체편을 얻는 펀칭 공정을 포함한다.
본 발명자들은, 매우 소형(예컨대, VR 고글용: 20mm×30mm 정도의 사이즈)의 광학 적층체를 제작하는 경우, 최종 제품으로서의 광학 적층체마다 편광자의 흡수축과 제1 위상차층의 지상축이 이루는 각도가 불균일하며, 그에 기인하여, 광학 적층체의 특성의 불귤일이 허용 불가능하게 커지는 것을 새롭게 발견하였다. 또한, 본 발명자들은, 당해 과제를 해결하기 위하여 시행착오한 결과, 위상차 필름에서의 지상축의 축 어긋남이 편광자의 흡수축의 축 어긋남보다도 당해 과제에 지배적이며, 지상축의 축 어긋남이 비교적 작은 위상차 필름을 선택적으로 이용하는 제조 프로세스를 채용함으로써 당해 과제가 해결될 수 있는 것을 발견하여, 본 발명을 완성하기에 이르렀다. 즉, 본 발명의 실시형태는 지금까지 인식되지 않았던 새로운 과제를 해결하는 것으로, 그의 효과는 예기치 않은 우수한 효과이다.
상기 방법에 의하면, 제2 적층 필름의 복수 개소에서, 제1 위상차층의 이상 상태의 지상축과 실제의 지상축이 이루는 축 교차 각도를 검사하여, 제2 적층 필름을 양품 또는 불량품으로 판정한 후, 양품으로 판정한 제2 적층 필름을 제1 적층 필름에 첩합하여 적층 필름 중간체를 얻는다. 그 때문에, 제2 적층 필름을 양품 또는 불량품으로 판정하지 않고, 모든 제2 적층 필름을 제1 적층 필름에 첩합하는 경우와 비교하여, 편광자의 흡수축과 제1 위상차층의 지상축이 이루는 각도가 적층 필름 중간체마다 불균일한 것을 억제할 수 있다. 그 결과, 적층 필름 중간체로부터 펀칭되는 복수의 광학 적층체편(최종 제품으로서의 광학 적층체)에서, 편광자의 흡수축과 제1 위상차층의 지상축이 이루는 각도를 정밀하게 제어할 수 있으며, 광학 적층체편이 허용 불가능한 불량품이 되는 비율을 저감할 수 있다. 이로써, 광학 적층체의 재료(특히 제1 적층 필름)가 낭비되는 것을 억제할 수 있다.
또한, 상기 방법에서는, 펀칭 공정 전에 이물 검사 공정을 실시하여, 적층 필름 중간체를 양품 또는 불량품으로 판정한 후, 양품으로 판정된 적층 필름 중간체로부터, 복수의 광학 적층체편이 펀칭된다. 그 때문에, 이물이 혼입된 광학 적층체편이 제조되는 비율을 충분히 저감할 수 있다. 또한, 복수의 광학 적층체편의 각각에 대하여 이물 검사 공정을 실시하는 경우와 비교하여, 이물 검사 공정의 실시 빈도를 억제할 수 있어, 광학 적층체편의 제조 효율의 향상을 도모할 수 있다.
도 5의 (a) 및 도 5의 (b)는, 하나의 실시형태에 따른 첩합 공정을 설명하기 위한 개략도이다. 하나의 실시형태에서, 상기 첩합 공정에서는, 편광자의 흡수축(A)과 제1 위상차층의 실제 지상축(S)이 이루는 각도가 소정 범위 내가 되도록, 제1 적층 필름(1)과 제2 적층 필름(2)을 첩합한다. 그 때문에, 첩합 공정에서, 편광자의 흡수축과 제1 위상차층의 지상축이 이루는 각도가 소정 범위 내가 되도록 보정된다. 그 결과, 적층 필름 중간체에서, 흡수축과 지상축이 이루는 각도를 극히 정밀하게 제어할 수 있다.
도 6은, 하나의 실시형태에 따른 이물 검사 공정을 설명하기 위한 개략도이다. 하나의 실시형태에서, 상기 이물 검사 공정에서는, 적층 필름 중간체(3)를 복수의 가상 에어리어(E)로 구획하고, 복수의 가상 에어리어(E)에서의 이물의 유무를 검사하여, 복수의 가상 에어리어(E) 중 이물이 포함되는 가상 에어리어의 비율이 소정 범위 내인 경우에 양품으로 판정하며, 소정 범위 외인 경우에 불량품으로 판정한다. 그 후, 이물 검사 공정에서 양품으로 판정된 적층 필름 중간체로부터 복수의 광학 적층체편(최종 제품으로서의 광학 적층체)이 펀칭된다. 그 때문에, 광학 적층체편의 제조 효율의 향상을 도모하면서, 이물이 혼입된 광학 적층체편이 제조되는 비율을 보다 저감할 수 있다.
하나의 실시형태에서, 광학 적층체의 제조 방법은 이물 검사 공정 후 및 펀칭 공정 전에 표면 보호 공정을 더 포함한다. 상세하게는 후술하지만, 도 4에 나타내는 바와 같이, 이물 검사 공정에 제공되는 적층 필름 중간체(3)의 최표면에는, 제1 표면 보호 필름(23)이 위치하고 있으며, 표면 보호 공정에서는, 적층 필름 중간체(3)의 제1 표면 보호 필름(23)에 제2 표면 보호 필름(31)을 첩합한다. 그 때문에, 표면 보호 공정 후에 실시되는 펀칭 공정에서 얻어지는 광학 적층체편(최종 제품으로서의 광학 적층체)은, 제2 표면 보호 필름을 포함한다. 그 결과, 광학 적층체편(최종 제품으로서의 광학 적층체)의 유통 시, 반송 시 등에서, 제2 표면 보호 필름이 제1 표면 보호 필름을 보호할 수 있어, 제1 표면 보호 필름이 손상되는 것을 억제할 수 있다.
제1 표면 보호 필름이 손상되면, 광학 적층체편에 대하여 이물 검사 공정을 실시하였을 때에, 제1 표면 보호 필름의 손상이 이물로서 잘못 검출될 우려가 있다. 한편, 상기의 구성에서는, 제1 표면 보호 필름이 보호되어 있으므로, 제2 표면 보호 필름을 박리한 후에 광학 적층체편을 이물 검사 공정에 제공함으로써, 이물의 오검출을 억제할 수 있으며, 광학 적층체편의 이물 검사 결과와 적층 필름 중간체의 이물 검사 결과를 정합시킬 수 있다.
하나의 실시형태에서, 축 얼라인먼트 검사 공정, 첩합 공정, 이물 검사 공정 및 표면 보호 공정은, 클린 부스 내에서 실시된다. 준비 공정 및 펀칭 공정은 클린 부스 내에서 실시되어도 되고, 클린 부스 외에서 실행되어도 된다. 이와 같은 방법에 의하면, 적층 필름 중간체에 이물이 혼입되는 것을 억제할 수 있다.
클린 부스에서는, 에어 필터에 의해 공기 중의 부유 입자를 제거한 공기가 부스(룸) 내에 공급된다. 클린 부스의 실내 압력은 클린 부스의 외부의 압력보다도 높다(정압). 따라서, 외부로부터의 클린 부스 내로의 부유 입자의 침입을 억제할 수 있다. 이와 같은 클린 부스로서, 예컨대 일본 공개특허공보 제2015-047749호에 기재된 클린 부스를 들 수 있다.
하나의 실시형태에서,광학 적층체의 제조 방법은 축 얼라인먼트 검사 공정의 전에 제1 적층 필름 및 제2 적층 필름의 각각을 세정하는 세정 공정을 포함한다. 그 때문에, 제1 적층 필름 및 제2 적층 필름에 부착하는 이물을 제거할 수 있으며, 적층 필름 중간체에 이물이 혼입되는 것을 보다 안정적으로 억제할 수 있다. 특히, 축 얼라인먼트 검사 공정이 클린 부스 내에서 실시되는 경우, 세정 공정을 클린 부스 외에서 실시함으로써, 제1 적층 필름 및/또는 제2 적층 필름에 부착하는 이물이 클린 부스 내에 침입하는 것을 억제할 수 있다.
이하, 각 공정을 구체적으로 설명한다.
B. 준비 공정
도 2의 (a) 및 도 2의 (b)는, 준비 공정에서 준비되는 제1 적층 필름 및 제2 적층 필름의 개략 단면도이다. 준비 공정에서는, 임의의 적절한 방법에 의해 제1 적층 필름(1)과 제2 적층 필름(2)이 준비된다.
B-1. 제1 적층 필름
제1 적층 필름(1)은, 편광판(11)을 포함한다. 하나의 실시형태에서, 제1 적층 필름(1)은, 편광판(11)에 더하여, 편광판(11)의 두께 방향의 한쪽 측에 위치하고 있는 점착제층(14)과; 편광판(11)에 대하여 점착제층(14)과 반대 측에 위치하고 있는 점착제층(15)과; 점착제층(14)에서의 편광판(11)과 반대 측의 표면에 첩부되어 있는 제1 세퍼레이터(12)와; 점착제층(15)에서의 편광판(11)과 반대 측의 표면에 첩부되어 있는 제2 세퍼레이터(13)를 구비하고 있다.
제1 적층 필름(1)은, 예컨대 단변 75㎜∼310㎜ 정도의 직사각형, 또한 예컨대 장변 250㎜∼350㎜ 및 단변 150㎜∼250㎜ 정도의 직사각형일 수 있다.
편광판(11)은, 대표적으로는 편광자와 편광자의 적어도 한쪽의 측에 마련된 보호 필름을 포함한다.
편광자는, 제1 적층 필름의 장변 방향으로 흡수축을 가져도 되며, 제1 적층 필름의 장변 방향에 대하여 경사 방향(대표적으로는 45° 방향)으로 흡수축을 가져도 된다. 도 5의 (a)에 나타내는 제1 적층 필름(1)에서는, 편광자는 제1 적층 필름의 장변 방향으로 흡수축을 갖는다.
편광자로서는, 임의의 적절한 편광자가 채용될 수 있다. 편광자를 형성하는 수지 필름은, 단층의 수지 필름이어도 되며, 2층 이상의 적층체를 이용하여 제작되어도 된다. 단층의 수지 필름으로부터 구성되는 편광자의 구체예로서는, 폴리비닐알코올(PVA)계 수지 필름, 부분 포르말화 PVA계 수지 필름, 에틸렌·초산비닐 공중합체계 부분 비누화 필름 등의 친수성 고분자 필름에, 요오드나 이색성(二色性) 염료 등의 이색성 물질에 의한 염색 처리 및 연신 처리가 실시된 것, PVA의 탈수 처리물이나 폴리염화비닐의 탈염산 처리물 등 폴리엔계 배향 필름 등을 들 수 있다. 바람직하게는, 광학 특성이 우수한 점에서, PVA계 수지 필름을 요오드로 염색하고 1축 연신하여 얻어진 편광자가 이용된다. 상기 요오드에 의한 염색은, 예컨대, PVA계 수지 필름을 요오드 수용액에 침지함으로써 행하여진다. 상기 1축 연신의 연신 배율은 바람직하게는 3∼7배이다. 연신은 염색 처리 후에 행하여도 되며, 염색하면서 행하여도 된다. 또한, 연신하고 나서 염색하여도 된다. 필요에 따라서, PVA계 수지 필름에 팽윤 처리, 가교 처리, 세정 처리, 건조 처리 등이 실시된다. 예컨대, 염색 전에 PVA계 수지 필름을 물에 침지하여 수세함으로써, PVA계 수지 필름 표면의 오염이나 블로킹 방지제를 세정하는 것이 가능할 뿐만 아니라, PVA계 수지 필름을 팽윤시켜 염색 불균일 등을 방지할 수 있다.
적층체를 이용하여 얻어지는 편광자의 구체예로서는, 수지 기재와 당해 수지 기재에 적층된 PVA계 수지층(PVA계 수지 필름)과의 적층체, 혹은, 수지 기재와 당해 수지 기재에 도포 형성된 PVA계 수지층과의 적층체를 이용하여 얻어지는 편광자를 들 수 있다. 수지 기재와 당해 수지 기재에 도포 형성된 PVA계 수지층과의 적층체를 이용하여 얻어지는 편광자는, 예컨대, PVA계 수지 용액을 수지 기재에 도포하고, 건조시켜 수지 기재 위에 PVA계 수지층을 형성하여, 수지 기재와 PVA계 수지층과의 적층체를 얻는 것; 당해 적층체를 연신 및 염색하여 PVA계 수지층을 편광자로 하는 것에 의해 제작될 수 있다. 본 실시형태에서는, 연신은, 대표적으로는 적층체를 붕산 수용액 중에 침지시켜 연신하는 것을 포함한다. 또한, 연신은, 필요에 따라서, 붕산 수용액 중에서의 연신 전에 적층체를 고온(예컨대, 95℃ 이상)에서 공중 연신하는 것을 더욱 포함할 수 있다. 얻어진 수지 기재/편광자의 적층체는 그대로 이용하여도 되며(즉, 수지 기재를 편광자의 보호층으로 하여도 되며), 수지 기재/편광자의 적층체로부터 수지 기재를 박리하여, 당해 박리면에 목적에 따른 임의의 적절한 보호층을 적층하여 이용하여도 된다. 이와 같은 편광자의 제조 방법의 상세는, 예컨대 일본 공개특허공보 제2012-73580호, 일본 특허공보 제6470455호에 기재되어 있다. 이들 특허문헌의 기재는, 본 명세서에 참고로서 원용된다.
편광자의 두께는, 예컨대 15㎛ 이하, 바람직하게는 12㎛ 이하, 보다 바람직하게는 10㎛ 이하, 그 중에서도 바람직하게는 8㎛이며, 예컨대 1㎛ 이상이다.
보호 필름은, 편광자의 보호 필름으로서 사용할 수 있는 임의의 적절한 필름으로 구성된다. 당해 필름의 주성분이 되는 재료의 구체예로서는, 트리아세틸셀룰로오스(TAC) 등의 셀룰로오스계 수지나, 폴리에스테르계, 폴리비닐알코올계, 폴리카보네이트계, 폴리아미드계, 폴리이미드계, 폴리에테르설폰계, 폴리설폰계, 폴리스티렌계, 폴리노보넨계, 폴리올레핀계, 환상 올레핀계, (메트)아크릴계, 아세테이트계 등의 투명 수지 등을 들 수 있다. 또한, (메트)아크릴계, 우레탄계, (메트)아크릴우레탄계, 에폭시계, 실리콘계 등의 열경화형 수지 또는 자외선 경화형 수지 등도 들 수 있다. 이 밖에도, 예컨대, 실록산계 폴리머 등의 유리질계 폴리머도 들 수 있다. 또한, 일본 공개특허공보 제2001-343529호(WO01/37007)에 기재된 폴리머 필름도 사용할 수 있다. 이 필름의 재료로서는, 예컨대, 측쇄에 치환 또는 비치환의 이미드기를 갖는 열가소성 수지와, 측쇄에 치환 또는 비치환의 페닐기 및 니트릴기를 갖는 열가소성 수지를 함유하는 수지 조성물을 사용할 수 있고, 예컨대, 이소부텐과 N-메틸말레이미드를 포함하는 교호 공중합체와, 아크릴로니트릴·스티렌 공중합체를 갖는 수지 조성물을 들 수 있다. 당해 폴리머 필름은, 예컨대, 상기 수지 조성물의 압출 성형물일 수 있다. 바람직하게는, TAC, (메트)아크릴계 수지, 환상 올레핀계 수지가 이용될 수 있다. 또한, 본 명세서에서 '(메트)아크릴'이란, 아크릴 및/또는 메타크릴을 말한다.
점착제층(14) 및 점착제층(15) 각각은, 임의의 적절한 점착제(감압 접착제)로부터 형성된다. 점착제층을 형성하는 점착제로서, 예컨대, (메트)아크릴계 점착제, 우레탄계 점착제, 실리콘계 점착제, 고무계 점착제를 들 수 있으며, 바람직하게는 (메트)아크릴계 점착제를 들 수 있다.
제1 세퍼레이터(12)는, 광학 적층체편(최종 제품으로서의 광학 적층체)의 표면을 보호하기 위한 제품 보호 필름이다. 제1 세퍼레이터(12)는, 대표적으로는 광학 적층체가 사용될 때까지 점착제층(14)에 가착되어 있으며, 광학 적층체편의 사용 시에 점착제층(14)으로부터 박리된다. 제1 세퍼레이터(12)는, 예컨대, 시클로올레핀계 수지로 형성되는 기재와, 기재의 점착제층 측의 표면에 위치하고 있는 박리 처리층(예컨대 실리콘 처리층)을 구비하고 있다.
제2 세퍼레이터(13)는, 광학 적층체의 제조 공정에서 박리되는 공정 보호 필름이다. 제2 세퍼레이터(13)는, 대표적으로는 축 얼라인먼트 검사 공정 후 및 첩합 공정 전에 점착제층(15)으로부터 박리된다. 제2 세퍼레이터(13)의 구성은, 대표적으로는 제1 세퍼레이터(12)의 구성과 마찬가지로 설명된다.
B-2. 제2 적층 필름
제2 적층 필름(2)은, 제1 위상차층(21)을 포함한다. 하나의 실시형태에서, 제2 적층 필름(2)은, 제1 위상차층(21)에 더하여, 제1 위상차층(21)에 적층되는 제2 위상차층(22)과, 제2 위상차층(22)에 대하여 제1 위상차층(21)의 반대 측에 위치하는 제1 표면 보호 필름(23)을 구비하고 있다. 또한, 제2 적층 필름(2)은, 제1 표면 보호 필름(23)과 제2 위상차층(22) 사이에 위치하는 기재(24)와; 기재(24)와 제2 위상차층(22)의 사이에 위치하는 점착제층(25)과, 제1 위상차층(21)의 외측에 첩부되어 있는 제1 가보호 필름(26)과; 제1 표면 보호 필름(23)의 외측에 첩부되어 있는 제2 가보호 필름(27)을 구비하고 있어도 된다.
제2 적층 필름(2)은, 대표적으로는 제1 적층 필름(1)과 동일한 사이즈를 갖는다. 제2 적층 필름(2)은, 예컨대 단변 75㎜∼310㎜ 정도의 직사각형, 또한 예컨대 장변 250㎜∼350㎜ 및 단변 150㎜∼250㎜ 정도의 직사각형일 수 있다.
제1 위상차층(21)은, nx>ny의 관계를 나타낸다. 제1 위상차층(21)은, 대표적으로는 nx>ny≥nz의 굴절률 특성을 나타낸다. 또한, 여기에서 'ny=nz'는 ny와 nz가 완전하게 동일한 경우뿐만 아니라, 실질적으로 동일한 경우를 포함한다.
제1 위상차층(21)은 λ/4판으로서 기능할 수 있다. 제1 위상차층(21)의 면내 위상차 Re(550)는, 바람직하게는 100nm∼200nm이고, 보다 바람직하게는 110nm∼180nm이며, 더욱 바람직하게는 130nm∼150nm이다. 여기에서 'Re(λ)'는, 23℃에서의 파장 λ㎚의 광으로 측정한 면내 위상차이다. 따라서, 'Re(550)'는, 23℃에서의 파장 550㎚의 광으로 측정한 면내 위상차이다. Re(λ)는, 층(필름)의 두께를 d(㎚)로 하였을 때, 식: Re(λ)=(nx-ny)×d에 의해 구할 수 있다.
제2 적층 필름에서의 제1 위상차층의 지상축 방향은, 대표적으로는, 제1 적층 필름에서의 편광자의 흡수축 방향과의 관계로부터 설정된다. 제1 위상차층은, 편광자가 제1 적층 필름의 장변 방향으로 흡수축을 갖는 경우, 제2 적층 필름의 장변 방향에 대하여 경사 방향(대표적으로는 45° 방향)으로 지상축을 가지며, 편광자가 제1 적층 필름의 장변 방향에 대하여 경사 방향(대표적으로는 45° 방향)으로 흡수축을 갖는 경우, 제2 적층 필름의 장변 방향으로 지상축을 갖는다. 도 5의 (a)에 나타내는 제2 적층 필름(2)에서는, 제1 위상차층은 제2 적층 필름의 장변 방향에 대하여 45° 방향으로 지상축을 갖는다.
제1 위상차층(21)은, 목적에 따라 임의의 적절한 광학적 특성 및/또는 기계적 특성을 갖는 위상차 필름으로 구성될 수 있다. 위상차 필름은 대표적으로는 수지 필름의 연신 필름이다. 위상차 필름을 구성하는 수지의 대표예로서는, 예컨대 폴리카보네이트계 수지, 폴리에스테르카보네이트계 수지, 폴리에스테르계 수지, 폴리비닐아세탈계 수지, 폴리아릴레이트계 수지, 환상 올레핀계 수지, 셀룰로오스계 수지, 폴리비닐알코올계 수지, 폴리아미드계 수지, 폴리이미드계 수지, 폴리에테르계 수지, 폴리스티렌계 수지, (메트)아크릴계 수지를 들 수 있다.
위상차 필름은, 위상차값이 측정광의 파장에 따라 커지는 역분산 파장 특성을 나타내도 되고, 위상차값이 측정광의 파장에 따라 작아지는 양(正)의 파장 분산 특성을 나타내도 되며, 위상차값이 측정광의 파장에 의해서도 거의 변화하지 않는 플랫한 파장 분산 특성을 나타내도 된다.
위상차 필름(제1 위상차층)의 두께는, λ/4판으로서 가장 적절하게 기능할 수 있도록 설정될 수 있다. 환언하면, 두께는, 상기 소망하는 면내 위상차가 얻어지도록 설정될 수 있다. 위상차 필름(제1 위상차층)의 두께는, 예컨대 70㎛ 이하, 바람직하게는 60㎛ 이하이며, 예컨대 15㎛ 이상이다.
제2 위상차층(22)은, 대표적으로는, 임의의 적절한 접착층(접착제층, 점착제층: 도시하지 않음)을 개재하여 제1 위상차층(21)에 첩합되어 있다. 제2 위상차층(22)은, 대표적으로는 nz>nx=ny의 굴절률 특성을 나타낸다. 또한, 여기에서 'nx=ny'는 nx와 ny가 완전하게 동일한 경우뿐만 아니라, 실질적으로 동일한 경우를 포함한다. 제2 위상차층(22)의 두께 방향의 위상차 Rth(550)는, 바람직하게는 -50nm∼-300nm, 보다 바람직하게는 -100nm∼-180nm이다. 여기에서 'Rth(λ)'는, 23℃에서의 파장 λ㎚의 광으로 측정한 두께 방향의 위상차이다. 예컨대, 'Rth(550)'는, 23℃에서의 파장 550㎚의 광으로 측정한 두께 방향의 위상차이다. Rth(λ)는, 층(필름)의 두께를 d(㎚)로 하였을 때, 식: Rth=(nx-nz)×d에 의해 구할 수 있다.
제2 위상차층(22)은, 임의의 적절한 재료로 형성될 수 있다. 제2 위상차층(22)은, 바람직하게는, 호메오트로픽 배향으로 고정된 액정 재료를 포함하는 필름으로 형성된다. 호메오트로픽 배향시킬 수 있는 액정 재료(액정 화합물)는, 액정 모노머이어도, 액정 폴리머이어도 된다. 당해 액정 화합물 및 당해 위상차층의 형성 방법의 구체예로서는, 일본 공개특허공보 제2002-333642호의 [0020]∼[0028]에 기재된 액정 화합물 및 당해 위상차층의 형성 방법을 들 수 있다. 제2 위상차층의 두께는, 예컨대 0.5㎛∼10㎛이고, 바람직하게는 0.5㎛∼8㎛이며, 보다 바람직하게는 0.5㎛∼5㎛이다.
제1 표면 보호 필름(23)은, 광학 적층체편(최종 제품으로서의 광학 적층체)의 표면을 보호하기 위한 제품 보호 필름이다. 제1 표면 보호 필름(23)은, 대표적으로는 광학 적층체가 사용될 때까지 가착되어 있으며, 광학 적층체편의 사용 시에 박리된다. 도 2의 (a)에 나타내는 제2 적층 필름(2)에서는, 제1 표면 보호 필름(23)은 기재(24)에 가착되어 있다. 제1 표면 보호 필름(23)은, 대표적으로는 시클로올레핀계 수지로부터 형성되는 기재와, 기재 위에 마련되는 점착제층을 구비하고 있다. 점착제층은, 임의의 적절한 점착제(감압 접착제)로부터 형성되며, 대표적으로는 (메트)아크릴계 점착제로부터 형성되어 있다.
기재(24)는, 점착제층(25)을 개재하여 제2 위상차층(22)에 첩합되어 있다. 보호 기재(24)는, 임의의 적절한 필름으로 형성된다. 기재(24)를 구성하는 수지의 대표예로서는, 예컨대, 상기 B-1항에서 설명한 보호층의 주성분이 되는 재료와 마찬가지의 것들(상기한 투명 수지, 상기한 열경화형 수지 또는 자외선 경화형 수지, 상기한 유리질계 폴리머, 및 상기한 수지 조성물)을 들 수 있다. 기재(24)를 구성하는 수지로서, 바람직하게는 (메트)아크릴계 수지가 이용되며, 보다 바람직하게는 글루타르이미드 구조를 갖는 (메트)아크릴계 수지가 이용된다. 기재(24)의 표면에는, 하드 코트 처리, 반사 방지 처리, 스티킹 방지 처리, 안티글레어 처리 등의 표면 처리가 실시되어 있어도 된다.
점착제층(25)은, 임의의 적절한 점착제(감압 접착제)로부터 형성된다. 점착제층을 형성하는 점착제로서, 예컨대, (메트)아크릴계 점착제, 우레탄계 점착제, 실리콘계 점착제, 고무계 점착제를 들 수 있으며, 바람직하게는, (메트)아크릴계 점착제를 들 수 있다.
제1 가보호 필름(26) 및 제2 가보호 필름(27)은, 광학 적층체의 제조 공정에서 박리되는 공정 보호 필름이다. 제1 가보호 필름(26)은, 대표적으로는 세정 공정 후, 및 축 얼라인먼트 검사 공정 전에 제1 위상차층(21)으로부터 박리된다. 제2 가보호 필름(27)은, 대표적으로는 축 얼라인먼트 검사 공정 후 및 첩합 공정 전에 제1 표면 보호 필름(23)으로부터 박리된다. 제1 가보호 필름(26) 및 제2 가보호 필름(27)은, 임의의 적절한 점착제(감압 접착제)로부터 형성되어 있다.
C. 세정 공정
상기 B에 기재된 제1 적층 필름(1) 및 제2 적층 필름(2)의 각각은, 바람직하게는 세정 공정에서 세정된다. 적층 필름의 세정 방법은 특별히 제한되지 않는다. 적층 필름의 세정 방법은, 드라이 방식이어도 되며, 웨트 방식이어도 된다. 드라이 방식으로서, 예컨대, 점착 롤을 필름에 접촉시켜 세정하는 점착 롤식; 공기 중에서 초음파를 필름에 조사하여 필름으로부터 탈리한 이물을 흡인하는 드라이 초음파식을 들 수 있다. 웨트 방식으로서, 예컨대, 액체 중에서 초음파를 필름에 조사하여 필름으로부터 이물을 제거하는 웨트 초음파식을 들 수 있다. 이들 세정 방법 중에서는, 바람직하게는 드라이 방식을 들 수 있다.
D. 축 얼라인먼트 검사 공정
축 얼라인먼트 검사 공정에서는, 제2 적층 필름의 복수 개소에서, 제1 위상차층의 이상 상태의 지상축과 실제의 지상축이 이루는 축 교차 각도를 검사하여, 복수의 검사 개소 중 축 교차 각도가 소정 범위 내인 검사 개소의 비율이 소정 범위 내인 경우에 양품으로 판정하며, 소정 범위 외인 경우에 불량품으로 판정한다.
보다 상세하게는 이하와 같다. 우선, 도 2의 (a) 및 도 3의 (a)에 나타내는 바와 같이, 제2 적층 필름(2)이 제1 가보호 필름(26)을 구비하고 있는 경우, 제1 가보호 필름(26)을 제1 위상차층(21)으로부터 박리한다. 그 후, 제2 적층 필름(2)의 장변의 엣지를 검출하고, 검출한 엣지를 기준으로 하여, 엣지와 소정의 각도(예컨대 45° 또는 0°)를 이루는 이상 상태의 지상축(가상의 지상축)을 설정한다.
이어서, 제2 적층 필름의 복수 개소(대표적으로는 이상 상태의 지상축과 직교하는 방향에서의 복수 개소)에서, 제1 위상차층의 실제의 지상축을 측정한다. 측정 개소의 개수는 2 이상, 바람직하게는 3 이상이며, 예컨대 10 이하이다. 측정 개소는, 바람직하게는 제2 적층 필름의 중심을 포함하며, 보다 바람직하게는 제2 적층 필름(2)의 중심과, 당해 중심에 대하여 점대칭이 되는 복수 개소를 포함한다. 도 5의 (a)에 나타내는 제2 적층 필름(2)에서는, 측정 개소는, 제2 적층 필름(2)의 중심과, 당해 중심에 대하여 점대칭이 되는 제2 적층 필름(2)의 대각의 코너부이다. 지상축의 측정 방법으로서는, 임의의 적절한 수단이 채용될 수 있다. 예컨대, 악소메트릭스(Axometrics)사 제조의 'AxoScan'에 의해 지상축을 측정할 수 있다.
제1 위상차층에서의 지상축의 축 어긋남은, 편광자의 흡수축의 축 어긋남에 비해 크다. 그 때문에, 제2 적층 필름에서는, 제1 위상차층의 부분마다 실제의 지상축이 평행이 되지 않는 경우가 있다. 예컨대, 도 5의 (a)에 나타내는 제2 적층 필름(2)에서는, 제2 적층 필름의 중심에서의 지상축과 장변 방향이 이루는 각도와, 중심 이외의 부분에서의 지상축과 장변 방향이 이루는 각도가 상이할 수 있다. 보다 상세하게는, 제2 적층 필름(2)의 제1 코너부에서의 지상축(S1)과 장변 방향이 이루는 각도는, 제2 적층 필름(2)의 중심의 지상축(S2)과 장변 방향이 이루는 각도 보다도 소정 각도(예컨대 0.1°∼3°) 작아지는 경우가 있으며, 제2 적층 필름(2)의 제2 코너부에서의 지상축(S3)과 장변 방향이 이루는 각도는, 제2 적층 필름(2)의 중앙부의 지상축(S2)과 장변 방향이 이루는 각도보다도 소정 각도(예컨대 0.1°∼3°) 커지는 경우가 있다.
이어서, 각 측정 개소의 실제 지상축과 이상 상태의 지상축이 이루는 축 교차 각도를 산출하여, 복수의 검사 개소(측정 개소) 중 축 교차 각도가 소정 범위(허용 범위) 내인 검사 개소의 비율을 산출한다.
축 교차 각도의 허용 범위의 상한은, 예컨대 1.0° 이하이고, 바람직하게는 0.5° 이하이며, 보다 바람직하게는 0.2° 이하이다. 축 교차 각도의 허용 범위의 하한은, 대표적으로는 0° 이상이다.
이어서, 복수의 검사 개소 중, 축 교차 각도가 상기 허용 범위 내인 검사 개소의 비율(축 교차 각도가 상기 허용 범위 내인 검사 개소의 수/검사 개소의 총수×100; 이하, 허용 개소 비율이라고 한다.)이 소정 범위(허용 범위) 내인 경우에 양품으로 판정하며, 소정 범위(허용 범위) 외인 경우에 불량품으로 판정한다.
허용 개소 비율의 허용 범위의 하한은, 양품과 불량품의 판정 기준이며, 예컨대 50% 이상, 바람직하게는 60% 이상, 보다 바람직하게는 70% 이상, 그 중에서도 바람직하게는 80% 이상, 특히 바람직하게는 90% 이상, 가장 바람직하게는 95% 이상이다. 허용 개소 비율의 허용 범위의 상한은, 대표적으로는 100% 이하이다. 축 얼라인먼트 검사 공정에서의 양품과 불량품의 판정 기준이 상기 하한값이면, 제1 적층 필름과 제2 적층 필름을 첩합하여 얻어지는 적층 필름 중간체에서, 편광자의 흡수축과 위상차층의 지상축이 이루는 각도를 극히 정밀하게 안정적으로 제어할 수 있다.
또한, 축 얼라인먼트 검사 공정에서 불량품으로 판정된 제2 적층 필름은, 본 실시 형태의 광학 적층체편의 제조 방법으로부터 배제(대표적으로는 폐기)되어, 이후의 공정에 이용되지 않는다.
E. 첩합 공정
이어서, 축 얼라인먼트 검사 공정에서 양품으로 판정된 제2 적층 필름과 제1 적층 필름을 첩합한다.
보다 상세하게는 이하와 같다. 우선, 도 2의 (b) 및 도 3의 (b)에 나타내는 바와 같이, 제1 적층 필름(1)이 제2 세퍼레이터(13) 및 점착제층(15)을 구비하고 있는 경우, 제2 세퍼레이터(13)를 점착제층(15)으로부터 박리한다. 이어서, 상기한 축 얼라인먼트의 각 검사 개소(측정 개소)에서의 제1 위상차층의 실제의 지상축에 기초하여, 그들 실제의 지상축의 각각과 편광자의 흡수축이 이루는 각도가, 대표적으로는 45° ±1° 이내, 바람직하게는 45°±0.5° 이내, 보다 바람직하게는 45°±0.2° 이내가 되도록, 제1 적층 필름과 제2 적층 필름을 배치하여, 점착제층(15)과 제1 위상차층(21)을 접촉시킨다.
하나의 실시형태에서는, 도 5의 (a) 및 도 5의 (b)에 나타내는 바와 같이, 제2 적층 필름(2)의 두께 방향에서 보아, 제2 적층 필름(2)의 중심을 제1 적층 필름(1)의 중심과 일치시켜, 상기한 실제의 지상축의 각각과 흡수축이 이루는 각도가 상기 범위가 되도록, 제2 적층 필름(2)을 중심에 대하여 회전시켜, 지상축과 흡수축의 축 각도의 관계를 유지한 상태에서 제2 적층 필름(2)을 제1 적층 필름(1)에 첩합한다.
이와 같이, 첩합 공정에서, 실제의 지상축과 흡수축의 축 각도를 보정하는 '첩합 보정'을 실시함으로써, 적층 필름 중간체에서의 지상축과 흡수축이 이루는 각도가 보다 한층 정밀하게 제어할 수 있다.
또한, 편광자에서의 흡수축의 축 어긋남은, 실질적으로 존재하지 않거나, 또는 존재하였다고 하여도 위상차 필름의 지상축의 축 어긋남에 대하여 현격히 작다. 그 때문에, 제1 적층 필름에서는, 편광자의 부분마다의 흡수축이 실질적으로 평행하다. 예컨대, 도 5의 (a)에 나타내는 제1 적층 필름(1)에서는, 제1 적층 필름(1)의 중심에서의 편광자의 흡수축(A2)과, 중심 이외의 부분(도시예에서는 제1 적층 필름의 대각의 코너부)에서의 편광자의 흡수축(A1 및 A3)은 서로 실질적으로 평행하다. 보다 구체적으로는, 흡수축(A2)에 대한 흡수축(A1 및 A3)의 축 어긋남은, 대표적으로는 0°±1° 미만, 바람직하게는 0°±0.5° 미만이다. 따라서, 제1 적층 필름의 각 부분에서의 실제의 흡수축을 측정하지 않아도, 상기한 첩합 보정이 실시가능하다.
이상에 의해, 제1 적층 필름과 제2 적층 필름이 첩합되어, 적층 필름 중간체가 얻어진다. 도 4에 나타내는 적층 필름 중간체(3)에서는, 제1 표면 보호 필름(23)이 최표면에 위치하고 있다.
또한, 첩합 공정에서는, 제1 적층 필름의 외측 가장자리와 제2 적층 필름의 외측 가장자리가 일치하도록 하여 첩합할 수도 있다. 상기한 바와 같이, 축 얼라인먼트 검사 공정에서, 지상축 방향의 정밀도가 기준에 미치지 않는 제2 적층 필름이 배제되어 있으므로, 각각의 외측 가장자리가 일치하도록 하여 첩합하여도, 적층 필름 중간체에서의 편광자의 흡수축과 제1 위상차층의 지상축이 이루는 각도를 제어할 수 있다. 한편, 상기한 바와 같이 첩합 보정을 실시하는 편이, 편광자의 흡수축과 제1 위상차층의 지상축이 이루는 각도를 정밀하게 제어할 수 있으므로 보다 바람직하다.
F. 이물 검사 공정
이어서, 적층 필름 중간체에서의 이물의 유무를 검사하여, 적층 필름 중간체를 양품과 불량품으로 판정한다. 이물 검사 공정은, 임의의 적절한 이물 검사 장치에 의해 실시된다. 이물 검사 장치로서, 공지의 이물 검사 장치를 들 수 있으며, 이물 검사 장치가 기재되는 문헌으로서, 예컨대, 국제공개특허 제2011/148790호, 일본 공개특허공보 제2003-344302호, 일본 공개특허공보 제2011-226957호, 일본 공개특허공보 제2016-70856호를 들 수 있다.
하나의 실시형태에서는,도 6에 나타내는 바와 같이, 적층 필름 중간체(3)에서의 이물 검사 유효 범위를, 후술하는 광학 적층체편(최종 제품)의 사이즈에 기초한 복수의 가상 에어리어(E)로 구획하여, 복수의 가상 에어리어(E)에서의 이물의 유무를 검사한다. 검사되는 이물의 사이즈는, 대표적으로는 5㎛ 이상 300㎛ 이하이고, 또는 5㎛ 이상 200㎛ 이하이며, 또는 5㎛ 이상 100㎛ 이하이다.
이어서, 복수의 가상 에어리어(E) 중 이물이 포함되는 가상 에어리어의 비율(이물이 포함되는 가상 에어리어의 수/복수의 가상 에어리어의 총수×100; 이하, 이물 점유율이라고 한다.)이, 소정 범위 내인 경우에 양품으로 판정하며, 소정 범위 외인 경우에 불량품으로 판정한다.
이물 점유율의 상한은, 양품과 불량품의 판정 기준이며, 예컨대 10% 이하, 바람직하게는 5% 이하이다. 또한, 이물 점유율의 하한은, 예컨대 0% 이상이다.
이물 검사 공정에서의 양품과 불량품의 판정 기준이 상기한 상한값이면, 이물이 혼입된 광학 적층체편이 제조되는 비율을 보다 한층 저감할 수 있다.
또한, 이물 검사 공정에서 불량품으로 판정된 적층 필름 중간체는, 본 실시 형태의 광학 적층체편의 제조 방법으로부터 배제(대표적으로는 폐기)되어, 이후의 공정에 이용되지 않는다.
G. 표면 보호 공정
하나의 실시형태에서는, 이물 검사 공정 후 및 펀칭 공정 전에, 이물 검사 공정에서 양품으로 판정된 적층 필름 중간체의 제1 표면 보호 필름에, 제2 표면 보호 필름을 첩합한다. 제2 표면 필름의 구성은, 대표적으로는 제1 표면 필름의 구성과 마찬가지로 설명된다.
H. 펀칭 공정
이어서, 이물 검사 공정에서 양품으로 판정된 적층 필름 중간체(바람직하게는 제2 표면 보호 필름이 첩합된 적층 필름 중간체)를 소정 사이즈로 펀칭하여, 복수의 광학 적층체편(최종 제품으로서의 광학 적층체)을 얻는다. 펀칭은, 대표적으로는 이물 검사 공정에서의 복수의 가상 에어리어의 구획선을 따라 행하여진다. 그 결과, 편광자의 흡수축과 제1 위상차층의 지상축이 이루는 각도가 상기 범위 내인 광학 적층체편(최종 제품으로서의 광학 적층체)을 얻을 수 있다. 상기한 바와 같이, 적층 필름 중간체에서, 편광자의 흡수축과 제1 위상차층의 지상축이 이루는 각도는 양호하게 제어되어 있다. 따라서, 적층 필름 중간체로부터 광학 적층체편을 제작할 때에, 축 어긋남을 보정하면서 펀칭할 필요가 없다. 그 결과, 본 발명의 실시형태에서는, 예컨대 격자 형상의 펀칭 블레이드를 이용함으로써, 1개의 적층 필름 중간체로부터 복수의 광학 적층체편을 일괄하여 펀칭할 수 있다. 이와 같이, 복수의 위상차층 부착 편광판편을 일괄하여 펀칭함으로써, 우수한 제조 효율을 실현할 수 있다.
또한, 상기한 바와 같이, 펀칭 공정 전에 복수의 가상 에어리어에서의 이물 점유율이 기준값을 초과하는 적층 필름 중간체가 배제되어 있다. 따라서, 적층 필름 중간체를 복수의 가상 에어리어의 구획선을 따라 펀칭함으로써, 이물이 혼입된 광학 적층체편이 제조되는 비율을 충분히 저감할 수 있다. 즉, 흡수축 방향 및 지상축 방향이 정밀하게 제어되고, 또한, 각각의 제품마다의 그들의 불균일이 매우 작으며(실질적으로 불균일이 없으며), 또한 이물의 혼입이 억제된 광학 적층체편을 효율적으로 제조할 수 있다.
이상과 같이 하여, 광학 적층체편(최종 제품으로서의 광학 적층체)이 얻어진다. 하나의 실시형태에서의 광학 적층체편(5)을 도 7에 나타낸다. 광학 적층체편은, 예컨대 장변 10mm∼70mm 및 단변 10mm∼70mm 정도, 또한 예컨대 장변 20mm∼40mm 및 단변 10mm∼30mm 정도, 보다 상세하게는 장변 30mm 및 단변 20mm 정도의 직사각형일 수 있다. 또한, 광학 적층체편은 직사각형상으로 한정되지 않으며, 이형상이어도 된다. 이형상의 광학 적층체편은, 외주(外周) 가장자리로부터 내측을 향하여 오목한 절결(切缺)부(오목부)를 포함하고 있어도 된다. 이와 같은 광학 적층체편은, 예컨대 VR 고글용 원편광판으로서 이용될 수 있다.
본 발명의 실시형태에 따른 제조 방법은, 광학 적층체의 제조에 적합하게 이용되며, 특히 매우 소형(예컨대, VR 고글용)의 광학 적층체의 제조에 적합하게 이용될 수 있다.
1: 제1 적층 필름
2: 제2 적층 필름
3: 적층 필름 중간체
5: 광학 적층체편(최종 제품으로서의 광학 적층체)
11: 편광판
21: 제1 위상차층
22: 제2 위상차층
23: 제1 표면 보호 필름
31: 제2 표면 보호 필름
2: 제2 적층 필름
3: 적층 필름 중간체
5: 광학 적층체편(최종 제품으로서의 광학 적층체)
11: 편광판
21: 제1 위상차층
22: 제2 위상차층
23: 제1 표면 보호 필름
31: 제2 표면 보호 필름
Claims (7)
- 편광판을 포함하는 제1 적층 필름과, λ/4판으로서 기능하는 제1 위상차층을 포함하는 제2 적층 필름을 준비하는 준비 공정과,
상기 제2 적층 필름의 복수 개소에서, 상기 제1 위상차층의 이상(理想) 상태의 지상축과 상기 제1 위상차층의 실제의 지상축이 이루는 축 교차 각도를 검사하여, 복수의 검사 개소 중 상기 축 교차 각도가 소정 범위 내인 검사 개소의 비율이 소정 범위 내인 경우에 양품으로 판정하며, 소정 범위 외인 경우에 불량품으로 판정하는 축 얼라인먼트 검사 공정과,
상기 축 얼라인먼트 검사 공정에서 양품으로 판정된 제2 적층 필름과, 상기 제1 적층 필름을 첩합하여, 적층 필름 중간체를 얻는 첩합 공정과,
상기 적층 필름 중간체에서의 이물의 유무를 검사하여, 상기 적층 필름 중간체를 양품 또는 불량품으로 판정하는 이물 검사 공정과,
상기 이물 검사 공정에서 양품으로 판정된 적층 필름 중간체를 소정 사이즈로 펀칭하여, 복수의 광학 적층체편을 얻는 펀칭 공정
을 포함하는, 광학 적층체의 제조 방법. - 제1항에 있어서,
상기 첩합 공정에서, 상기 편광판의 편광자의 흡수축과 상기 제1 위상차층의 실제의 지상축이 이루는 각도가 소정 범위 내가 되도록, 상기 제1 적층 필름과 상기 제2 적층 필름 첩합하는, 광학 적층체의 제조 방법. - 제1항에 있어서,
상기 이물 검사 공정에서, 상기 적층 필름 중간체를 복수의 가상 에어리어로 구획하고, 상기 복수의 가상 에어리어에서의 이물의 유무를 검사하여, 상기 복수의 가상 에어리어 중 이물이 포함되는 가상 에어리어의 비율이 소정 범위 내인 경우에 양품으로 판정하며, 소정 범위 외인 경우에 불량품으로 판정하는, 광학 적층체의 제조 방법. - 제1항에 있어서,
상기 제2 적층 필름은,
상기 제1 위상차층에 적층되는 제2 위상차층으로서, nz>nx=ny의 굴절률 특성을 나타내는 제2 위상차층과,
상기 제2 위상차층에 대하여 상기 제1 위상차층의 반대 측에 위치하는 제1 표면 보호 필름을 구비하며,
상기 제1 표면 보호 필름은, 상기 적층 필름 중간체의 최표면에 위치하는, 광학 적층체의 제조 방법. - 제4항에 있어서,
상기 이물 검사 공정 후 및 상기 펀칭 공정 전에, 상기 적층 필름 중간체의 제1 표면 보호 필름에, 제2 표면 보호 필름을 첩합하는 표면 보호 공정을 포함하는, 광학 적층체의 제조 방법. - 제5항에 있어서,
상기 축 얼라인먼트 검사 공정, 상기 첩합 공정, 상기 이물 검사 공정 및 상기 표면 보호 공정은 클린 부스 내에서 실시되는, 광학 적층체의 제조 방법. - 제1항에 있어서,
상기 축 얼라인먼트 검사 공정 전에, 상기 제1 적층 필름 및 상기 제2 적층 필름의 각각을 세정하는 세정 공정을 포함하는, 광학 적층체의 제조 방법.
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2023
- 2023-10-12 KR KR1020230135943A patent/KR20240051857A/ko unknown
- 2023-10-12 CN CN202311324125.5A patent/CN117885359A/zh active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2013182162A (ja) | 2012-03-02 | 2013-09-12 | Sumitomo Chemical Co Ltd | 偏光板の製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2024057834A (ja) | 2024-04-25 |
| CN117885359A (zh) | 2024-04-16 |
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