TW202129249A - 檢查方法、檢查裝置及檢查系統 - Google Patents

Abstract

本發明提供一種抑制基材膜所具有之面內相位差之影響，同時可檢查由聚合性液晶化合物之硬化物所構成之相位差膜有無缺陷的檢查方法。該檢查方法係將光射入至被檢查物(10)以判斷相位差膜有無缺陷，該被檢查物係具備在波長550nm時之面內相位差值為50nm以上的基材膜(8A)、及形成於該基材膜(8A)之單面之由聚合性液晶化合物之硬化物所構成的相位差膜(7A)。配置第一直線偏光板(3)、被檢查物(10)、相位差過濾器(4)、與第二直線偏光板(5)。基材膜的慢軸、與第一直線偏光板或第二直線偏光板的偏光軸係彼此大致正交或大致平行，相位差膜的慢軸與相位差過濾器的慢軸為彼此大致平行，相位差膜與相位差過濾器之面內相位差值的合計係520nm至600nm，從第一直線偏光板側或第二直線偏光板側射入光，且從第一直線偏光板側或第二直線偏光板側的另一側觀察。

Description

檢查方法、檢查裝置及檢查系統

本發明係關於一種檢查方法、檢查裝置及檢查系統。

相位差膜係可將直線偏光轉換為圓偏光或橢圓偏光，或者反之將圓偏光或橢圓偏光轉換為直線偏光，故該相位差膜與直線偏光板組合而成的(橢)圓偏光板係應用於有機EL(Electroluminescence，電致發光)顯示裝置或反射型液晶顯示裝置。相位差膜之中又以藉由使聚合性液晶化合物配向及硬化所獲得的相位差膜為極度薄之膜，故在製造薄型的顯示裝置上受到矚目(例如參照專利文獻1)。

以製造此種相位差膜的方法而言，通常，係將包含聚合性液晶化合物的液狀組成物塗覆於長條狀的基材膜上以形成薄膜，且在使該薄膜中的聚合性液晶化合物朝所希望的方向配向之後，照射活性能量線。藉此，使配向後的聚合性液晶化合物硬化而成為相位差膜。另外，在使聚合性液晶化合物配向時，亦有在將液狀組成物塗覆於基材膜之前，於基材膜上形成配向膜的情形。

[先前技術文獻]

[專利文獻]

專利文獻1：日本特開2006-58546號公報

在此製造方法中，當在基材膜上或配向膜上有塵埃等時，聚合性液晶化合物的配向會有在該塵埃的部分混亂而產生缺陷的情形。再者，當基材膜為具有面內相位差者時，將易於使藉由光學手段檢查形成於該基材膜上之相位差膜有無缺陷乙事變得困難。由於從市場上可廉價取得的基材膜一般以延展方式製造，故有廉價的基材膜難以使用在以上述方法所製造之相位差膜的檢查上之實際情形。

因此，本發明之目的為提供一種抑制基材膜所具有之面內相位差的影響，同時可檢查由聚合性液晶化合物之硬化物所構成之相位差膜有無缺陷的檢查方法、檢查裝置及檢查系統。

本發明係提供一種檢查方法，該檢查方法係將光射入至膜狀的被檢查物以判斷相位差膜有無缺陷，該膜狀的被檢查物係具備在波長550nm時之面內相位差值為50nm以上的基材膜、及形成於基材膜之單面之由聚合性液晶化合物之硬化物所構成的相位差膜；其中，將第一直線偏光板、被檢查物、相位差過濾器(filter)、第二直線偏光板依序排列地配置，被檢查物之基材膜側的面係朝向第一直線偏光板側，基材膜的慢軸、與第 一直線偏光板或第二直線偏光板的偏光軸係彼此大致正交或大致平行，相位差膜的慢軸、與相位差過濾器的慢軸係彼此大致平行，相位差膜之在波長550nm時之面內相位差值為300nm以下，相位差膜之在波長550nm時之面內相位差值、與相位差過濾器之在波長550nm時之面內相位差值的合計係520nm至600nm，第一直線偏光板與第二直線偏光板係構成正交偏光鏡(crossed nicol)，從第一直線偏光板側或第二直線偏光板側的任一側，以光軸通過被檢查物上之預定之檢查區域之方式射入光，且從第一直線偏光板側或第二直線偏光板側的另一側觀察第二直線偏光板或第一直線偏光板。

在此檢查方法中，係相對於具有相位差之基材膜的慢軸將第一直線偏光板或第二直線偏光板之偏光軸配置成彼此大致正交或大致平行，因此通過直線偏光板後之光的偏光狀態不會因為基材膜而被攪亂。

亦即，組成的光學系統如預期地發揮作用，且當相位差膜產生缺陷時在觀察視野上可適當地辨識該缺陷。此外，在此檢查方法中，相位差膜之在波長550nm時之面內相位差值、與相位差過濾器之在波長550nm時之面內相位差值的合計係520nm至600nm，故通過相位差膜及相位差過濾器後的直線偏光係在其前後產生約λ的相位差。藉此，在觀察視野上，相位差膜的正常部分與缺陷部分的亮度差會變大。因此，依據此檢查方法，可抑制基材膜所具有之面內相位差的影響，同時易於判斷相位差膜有無缺陷。

此外，在此檢查方法中，第一直線偏光板與第二直線偏光板係構成正交偏光鏡。此時，可將觀察視野整體設為最暗，故作為亮點被觀 察到之相位差膜的缺陷部分在觀察視野之中最為顯著。因此，可更為容易地判斷相位差膜有無缺陷。

在此檢查方法中，亦可具有：以形成相位差膜之前之基材膜為對象，使用配向角測量器而預先求出基材膜之慢軸之方向的步驟。當基材膜之慢軸的方向不明確時，藉由預先求出基材膜之慢軸的方向，從而可將第一直線偏光板或第二直線偏光板之偏光軸配置成與基材膜之慢軸為彼此大致正交或大致平行。

再者，此時，亦可具有：在藉由配向角測量器求出基材膜的慢軸之後，在基材膜的單面，塗覆包含聚合性液晶化合物的液狀組成物而將包含聚合性液晶化合物的塗覆膜形成於基材膜的表面上，使塗覆膜中所含之聚合性液晶化合物配向及硬化而形成相位差膜的步驟。藉此，使相位差膜的製造效率化。

此外，在本發明的檢查方法中，亦可使被檢查物在第一直線偏光板與相位差過濾器之間朝被檢查物的長邊方向搬運，同時朝長邊方向連續地進行檢查。藉此，即可使被檢查物的檢查效率化。

此外，在本發明的檢查方法中，亦可在被檢查物的寬度方向上設置複數處檢查區域。由於基材膜一般係藉由至少朝一方向延展被製造，故慢軸的方向大多在寬度方向上會有所不同。因此，藉由在被檢查物的整個寬度方向上區分檢查區域且在各個檢查區域進行該檢查，從而可在寬度方向的各部，進行抑制基材膜所具有之面內相位差之影響的檢查。

一種檢查裝置，該檢查裝置係將光射入至膜狀的被檢查物以判斷相位差膜有無缺陷，該膜狀的被檢查物係具備在波長550nm時之面內 相位差值為50nm以上的基材膜、及形成於基材膜之單面之由聚合性液晶化合物之硬化物所構成的相位差膜；該檢查裝置係具備：第一直線偏光板及相位差過濾器，係隔著供被檢查物配置之場所而配置；第二直線偏光板，係就相位差過濾器而言配置在與供被檢查物配置之場所為相反側的區域；及光源，係就第一直線偏光板或第二直線偏光板而言配置在與供被檢查物配置之場所為相反側的區域；第一直線偏光板或第二直線偏光板係配置成其偏光軸與基材膜的慢軸為彼此大致正交或大致平行，相位差過濾器係配置成其慢軸與相位差膜的慢軸為彼此大致平行，相位差過濾器之在波長550nm時之面內相位差值係為與相位差膜之在波長550nm時之面內相位差值的合計成為520nm至600nm的值，第一直線偏光板與第二直線偏光板係構成正交偏光鏡，且光源係配置在於其光軸上排列有第一直線偏光板、被檢查物上之預定的檢查區域、相位差過濾器、及第二直線偏光板的位置上。

在此檢查裝置中，係相對於具有相位差之基材膜的慢軸將第一直線偏光板或第二直線偏光板之偏光軸配置成彼此大致正交或大致平行，因此通過直線偏光板後之光的偏光狀態不會因為基材膜而被攪亂。亦即，組成的光學系統如預期地發揮作用，且當相位差膜產生缺陷時在觀察視野上可適當地辨識該缺陷。此外，在此檢查裝置中，相位差膜之在波長550nm時之面內相位差值、與相位差過濾器之在波長550nm時之面內相位差值的合計係520nm至600nm，故通過相位差膜及相位差過濾器後的直線偏光係在其前後產生約λ的相位差。藉此，在觀察視野上，相位差膜的正 常部分與缺陷部分的亮度差會變大。因此，依據此檢查裝置，可抑制基材膜所具有之面內相位差的影響，同時易於判斷相位差膜有無缺陷。

此外，在此檢查裝置中，第一直線偏光板與第二直線偏光板係構成正交偏光鏡。此時，可將觀察視野整體設為最暗，故被作為亮點觀察到之相位差膜的缺陷部分會在觀察視野之中最為顯著。因此，可更容易地判斷相位差膜有無缺陷。

此外，本發明係提供一種檢查系統，該檢查系統係具備：上述之檢查裝置；配向角測量器，係求出形成相位差膜之前之基材膜的慢軸；及角度調整機構，係調整第一直線偏光板的角度，以使藉由配向角測量器所求出之基材膜的慢軸與第一直線偏光板的偏光軸成為彼此大致正交或大致平行。當基材膜之慢軸的方向不明確時，藉由預先求出基材膜之慢軸的方向，從而可將第一直線偏光板或第二直線偏光板之偏光軸配置成與基材膜之慢軸為彼此大致正交或大致平行。此外，藉由具備角度調整機構，即可使檢查系統的角度調整自動化。

依據本發明，即可提供一種檢查方法、檢查裝置及檢查系統，係可抑制基材膜所具有之面內相位差之影響，同時可檢查由聚合性液晶化合物之硬化物所構成之相位差膜有無缺陷。

1A,1B:檢查裝置

2:光源

3:第一直線偏光板

4:相位差過濾器

5:第二直線偏光板

6:攝像機(檢測手段)

7A,7B:相位差膜

7a:塗覆膜

8A,8B:基材膜

9:光軸

10:被檢查物

12:配向角測量器

14:角度調整機構

16:塗覆機

18:乾燥器

100:檢查系統

A:檢查區域

圖1係顯示第一實施型態之檢查裝置的圖。

圖2係顯示第一實施型態之檢查系統的圖。

圖3係顯示第一實施型態之檢查系統中之複數個檢查裝置之配置的部分立體圖。

圖4係顯示基材膜之慢軸之情形的俯視圖。

圖5係顯示第二實施型態之檢查裝置的圖。

以下參照圖式詳細地說明本發明之較佳實施型態。另外，對於各圖中相同部分或相等部分係附上相同符號，重複的說明則予以省略。

(用語及記號的定義)

本說明書中的用語及記號的定義係如下所述。

(1)折射率(nx、ny、nz)

「nx」係面內之折射率成為最大之方向(亦即慢軸方向)的折射率，「ny」係在面內與慢軸正交的方向，「nz」係厚度方向的折射率。

(2)面內相位差值

面內相位差值(Re(λ))係指23℃、波長λ(nm)下之膜之面內的相位差值。Re(λ)係膜的厚度設為d(nm)時，藉由Re(λ)=(nx-ny)×d而求出。

(3)厚度方向的相位差值

厚度方向的相位差值(Rth(λ))係指23℃、波長λ(nm)下之膜之厚度方向的相位差值。Rth(λ)係膜的厚度設為d(nm)時，藉由Rth(λ)=((nx+ny)/2-nz)×d而求出。

<第一實施型態>

(檢查裝置與被檢查物)

本實施型態之檢查裝置係檢查相位差膜有無光學缺陷者。如圖1所示，檢查裝置1A係依序配置光源2、第一直線偏光板3、相位差過濾器4、第二直線偏光板5、及攝像機(檢測手段)6所構成者。檢查裝置1A係在第一直線偏光板3與相位差過濾器4之間備有供配置屬於檢查對象之被檢查物10的場所，在圖1中，係描繪出在該場所配置有被檢查物10的情形。

首先說明屬於檢查對象之膜狀的被檢查物10。被檢查物10係具備有：屬於檢查對象之本體的相位差膜7A、及於單面積層有相位差膜7A的基材膜8A。作為相位差膜7A之一例而言，係與直線偏光板組合而作為圓偏光板被使用於顯示裝置，例如液晶顯示裝置或有機EL顯示裝置者。另外，在本說明書中「圓偏光板」係包含圓偏光板及橢圓偏光板。此外，「圓偏光」係包含圓偏光與橢圓偏光。

相位差膜7A之相位差膜在波長550nm時之面內相位差值為300nm以下，例如，相位差膜7A係λ/4板。在本實施型態中，相位差膜7A係由聚合性液晶化合物的硬化物所構成。由聚合性液晶化合物之硬化物所構成的相位差膜7A，通常厚度薄至0.2μm至10μm左右，當含有異物等時，相位差值易於在該部分降低。

可供形成相位差膜7A的聚合性液晶化合物，係例如可列舉日本特開2009-173893號公報、日本特開2010-31223號公報、WO2012/147904號公報、WO2014/10325號公報及WO2017-43438號公報所揭示者。此些公報所記載的聚合性液晶化合物係可形成具有所謂逆波長分散性的相位差膜，其係可供在廣波長域進行均勻的偏光轉換。

作為相位差膜7A的形成方法而言，係將包含該聚合性液晶化合物的溶液(聚合性液晶化合物溶液：液狀組成物)塗布(塗覆)於基材膜8A上作成塗覆膜，且使之光聚合，從而如上所述可形成極薄者。在此基材膜8A上，為了使聚合性液晶化合物配向亦可設有配向膜。配向膜係可為藉由偏光照射使之光配向者、或藉由研磨處理使之機械性地配向者中的任一者。另外，作為此配向膜的具體例而言，係可使用上述公報所記載者。以此方式所形成的相位差膜7A係連同基材膜8A整個地貼合於其他膜，之後，將基材膜8A剝除，從而可將相位差膜7A轉印至該其他的膜上。

在形成相位差膜7A時，當要塗布聚合性液晶化合物溶液的基材膜8A上存在有異物等，或基材膜8A本身產生了損傷等的情形下，會有塗布聚合性液晶化合物溶液所獲得的塗布膜本身產生缺陷的情形。此外，在將配向膜進行研磨處理的情形下，亦有研磨布的屑殘留於配向膜上，而此屑會使聚合性液晶化合物溶液(液晶硬化膜形成用組成物)的塗布膜產生缺陷的情形。如此，當從聚合性液晶化合物形成相位差膜時，雖可形成厚度極薄的相位差膜，但有以上所述的屑或損傷等成為使該相位差膜產生光學缺陷之要因的情形。

要塗布聚合性液晶化合物溶液的基材膜8A，在進行相位差膜7A的缺陷檢查時處於與相位差膜7A為積層狀態者，故希望相位差值較小。然而，在本實施型態中，基材膜8A在波長550nm時之面內相位差值為50nm以上。該面內相位差值係可為100nm以上，亦可為500nm以上，亦可為1000nm以上，亦可為2000nm以上，亦可為5000nm以上，亦可為8000nm以上。即使基材膜8A具有此種相位差的情形下，依據本實施型 態的檢查裝置，亦可不受到基材膜8A所具有之相位差的影響，而容易地進行相位差膜7A有無缺陷之判斷。

以構成基材膜8A的材料而言，係可列舉上述之公報所記載者，其中尤以聚對酞酸乙二酯(Polyethylene Terephthalate，PET)為佳。基材膜8A的厚度係可為10至500μm，亦可為30至300μm，亦可為50至200μm，亦可為80至150μm。

在檢查裝置1A中，第一直線偏光板3係將從光源2射入的光轉換為直線偏光的膜，且於偏光膜的至少一面貼合有保護膜而成者。以偏光膜而言，係例如可列舉聚乙烯醇(polyvinyl alcohol)膜中吸附配向有碘或二色性色素者、或在配向聚合有聚合性液晶化合物者中吸附配向有二色性色素者。使用於直線偏光板中之保護膜的相位差係以較小為佳，例如，Re(550)而言係以10nm以下為佳，且以5nm以下尤佳。

在此，保護膜係用以保護偏光膜者。以保護膜而言，係以獲得具有適當機械性強度的偏光板為目的，而使用在偏光板的技術領域中所通用者。典型而言，係三醋酸纖維素(triacetyl cellulose)(TAC)膜等纖維素酯(cellulose ester)系膜、環狀烯烴(olefine)系膜、聚對酞酸乙二酯(PET)膜等聚酯(polyester)系膜、聚甲基丙烯酸甲酯(polymetylmethacry late)(PMMA)膜等甲基丙烯酸(methacrylic)系膜等。此外，在偏光板之技術領域所通用的添加劑係可包含在保護膜中。

光源2雖可使用各種市售品，但以例如雷射光等直線光(亦包含近似於直線光者)為有利。光源2所發出的光為無偏光，通過第一直線 偏光板3而成為預定方向的偏光，又通過相位差膜7A而成為圓偏光。亦即，無偏光的光通過第一直線偏光板3及相位差膜7A從而成為圓偏光。

相位差過濾器4係具備相位差膜7B者。相位差過濾器4係使用在波長550nm時之面內相位差值與屬於檢查對象之相位差膜7A之在波長550nm時之面內相位差值的合計成為520nm至600nm者。該合計較佳為530nm至590nm，更佳為540nm至580nm，尤佳為λ本身。在此，「λ」係指測量波長(在此為550nm)。亦可積層複數片具備面內相位差值為100nm至200nm左右的相位差膜者構成相位差過濾器4。當從亮度(明度)資訊△L＊判定光學缺陷時，相位差過濾器4較佳為使用具有與被檢查物10相同之構成的膜。此外，當從色差資訊△E＊判定光學缺陷時，相位差過濾器4較佳為使用具有與被檢查物10為相反之波長分散性的膜。此外，以配置相位差過濾器4的方向而言，係設為相位差膜7A的慢軸與相位差過濾器4的慢軸為彼此平行。亦即，相位差過濾器4在檢查被檢查物10的情形中，總是調整其方向，以與被檢查物10中的相位差膜7A配合而使直線偏光的偏光軸旋轉到相同方向。較佳為，以相位差膜7A與相位差過濾器4兩者作為λ板而發揮作用。例如，相位差膜7A的相位差為λ/4時，將相位差過濾器4的相位差設為3λ/4。此時，相位差過濾器4可由一片3λ/4板構成，亦可藉由積層三片λ/4板構成。

此外，相位差過濾器4亦可更具備正C板(plate)。正C板係可設置在與相位差膜7A相向之側的面，亦可設置在其相反側的面。藉由使用正C板從而可擴大檢查區域。正C板之厚度方向的相位差值(Rth(550))係依據要檢查之相位差膜7A之厚度方向的相位差值適當選擇 即可，例如當相位差膜7A為λ/4板時，藉由使用厚度方向之相位差值(Rth(550))為-50nm至-300nm者，從而易於獲得效果。

相位差過濾器4亦可為具備相位差膜7B、及積層有相位差膜7B的基材膜8B者。基材膜8B係使用面內相位差值(Re(550))實質為零者，以不損害相位差膜7B的光學特性。在此，面內相位差值實質為零，係指面內相位差值(Re(550))為3nm以下。

在此，顯示求出在波長550nm時之面內相位差值(Re(550))及厚度方向之相位差值(Rth(550))的方式。如上所述，從測量對象的膜分割例如40mm×40mm左右大小的片(從長條狀膜使用適當的切斷具進行分割等)。測量三次該片的Re(550)，且求出Re(550)的平均值。片的Re(550)係使用相位差測量裝置KOBRA-WPR(王子測量機器股份有限公司製)，且在測量溫度室溫(23℃)下進行測量。

第二直線偏光板5係供通過相位差過濾器4後之光射入的膜，其構成或材料係與第一直線偏光板3相同。在檢查裝置1A中，第二直線偏光板5係配置成與第一直線偏光板3構成正交偏光鏡。

再者，為了擴大檢查區域，亦可在第一直線偏光板3與基材膜8A之間配置正C板。正C板之厚度方向的相位差值(Rth(550))係依據基材膜8A之厚度方向的相位差值適當地選擇即可，例如藉由設為基材膜8A之厚度方向之相位差值(Rth(550))之1/3至2/3左右之厚度方向的相位差值，從而易於獲得效果。

在本實施型態之檢查裝置1A中，為了觀察通過第一直線偏光板3、被檢查物10、相位差過濾器4、及第二直線偏光板5的光，在光 軸9上，而且與相位差過濾器4之兩側中之具有光源2之側為相反側的位置上配置有攝像機(檢測手段)6。攝像機6係例如為CCD(Charge Coupled Device，電荷耦合元件)攝像機，此時，可藉由CCD攝像機與圖像處理裝置組合而成的圖像處理解析自動地檢測，且藉此進行被檢查物10的檢查。或者，以檢測手段而言，亦可由人取代攝像機6以目視方式觀察第二直線偏光板5。

(檢查方法)

使用檢查裝置1A的檢查方法係如下所述。首先，在檢查裝置1A之內部中之第一直線偏光板3與相位差過濾器4之間配置被檢查物10。此時，被檢查物10係配置成使其基材膜8A之側朝向第一直線偏光板3側，而且，使基材膜8A的慢軸與第一直線偏光板3的偏光軸(穿透軸)為彼此大致正交或大致平行。再者，配置成相位差膜7A的慢軸與相位差過濾器4的慢軸為彼此平行，再者，使第一直線偏光板3與第二直線偏光板5構成正交偏光鏡。

從光源2朝向第一直線偏光板3照射光。光源2所發出的光係射入第一直線偏光板3，在此，無偏光的光被轉換為直線偏光。再者，該直線偏光係從基材膜8A側射入至被檢查物10。通過基材膜8A後的直線偏光，係通過相位差膜7A而成為圓偏光。該圓偏光係從相位差膜7B之側射入至相位差過濾器4。在此，相位差膜7A的慢軸、與相位差過濾器4的慢軸係彼此大致平行，而且，相位差膜7A在波長550nm時之面內相位差值與相位差過濾器4在波長550nm時的合計係520nm至600nm，故通過相位差過濾器4後的光，係成為直線偏光，且與射入至被檢查物之瞬間前 的直線偏光相比，該直線偏光會產生約λ的相位差。因此，通過相位差過濾器4而恢復為直線偏光的光係以其偏光軸與原來的直線偏光原來的直線偏光的偏光軸大致一致的狀態接著射入至第二直線偏光板5。第二直線偏光板5係被作成與第一直線偏光板3為正交偏光鏡的配置，亦即第一直線偏光板3的穿透軸與第二直線偏光板5的吸收軸成為平行，故通過相位差過濾器4而恢復為直線偏光的光係被第二直線偏光板5阻斷。在此檢查中，當被檢查物10中的相位差膜7A不存在缺陷時，在藉由攝像機6的觀察中，第二直線偏光板5整面看起來為均勻的黑色。相對於此，當被檢查物10中的相位差膜7A存在缺陷時，通過此缺陷部分的光會以不完全變為所設想之圓偏光(橢圓偏光)的狀態射入相位差過濾器4。再者，該圓偏光(橢圓偏光)在通過相位差過濾器4時無法恢復為正常的直線偏光，而成為橢圓偏光。因此，第二直線偏光板5無法進行正規的阻斷而使光洩漏，在藉由攝像機6的觀察上，該缺陷部分即會作為亮點被觀察到。

在此，基材膜8A係具有「在波長550nm時之面內相位差值為50nm以上」的相位差，故通過第一直線偏光板3後之光的偏光狀態可能會因為基材膜8A被攪亂。然而，在本實施型態的檢查方法中，係將第一直線偏光板3的偏光軸配置成相對於具有相位差之基材膜8A的慢軸為彼此大致正交或大致平行，故通過第一直線偏光板3後之光的偏光狀態不會因為基材膜8A而被攪亂。亦即，組成的光學系統如預期地發揮作用，且當相位差膜7A產生缺陷時在觀察視野上可適當地辨識該缺陷。以往當基材膜8A的面內相位差值為50nm以上時，通過第一直線偏光板3後的光會因為基材膜8A所具有的相位差而成為圓偏光(橢圓偏光)，結果，從第二直 線偏光板5洩漏的光變多，而成為檢查的障礙。因此，依據本實施型態的檢查方法，可抑制基材膜8A所具有之面內相位差的影響，同時易於判斷相位差膜有無缺陷。

(連續檢查方法)

如圖2所示，本實施型態之檢查方法，係可併同在基材膜8A上連續形成相位差膜7A的步驟，而在與該步驟相同的製造生產線上連續地進行。圖2所示之檢查系統100除上述的檢查裝置1A外，還具備有下列元件而於生產線上進行被檢查物10的檢查：配向角測量器12，係求出形成相位差膜7A之前之基材膜8A之慢軸(配向角)的方向；及角度調整機構14，係將第一直線偏光板3的角度調整成為使經由配向角測量器12所求出之基材膜8A的慢軸與第一直線偏光板3之偏光軸成為彼此大致正交或大致平行。在此，被檢查物10係一面被搬運一面通過檢查裝置1A之光軸9內，接受有無缺陷的檢查。再者，結束檢查後的被檢查物10被捲起。另外，在此，基材膜8A的寬度係可例如為0.5至2.0m，亦可為1.0至1.5m。

如圖3所示，檢查系統100係在被檢查物10的整個寬度方向(垂直於搬運方向的方向)上配置有複數個檢查裝置1A。檢查裝置1A較佳為在被檢查物10的整個寬度方向上配置5至20處。在圖3中係配置有五個檢查裝置1A。

在圖2所示之製造生產線中，係搬運長條狀的基材膜8A，同時以配向角測量器12來測量基材膜8A之慢軸的方向。此時，當基材膜8A為藉由延展所製造者時，如圖4所示，慢軸的方向在其寬度方向上產生了變化。在圖4中，箭頭係表示在該部分中之慢軸的方向。因此，藉由配 向角測量器12所作的測量，係在基材膜8A之整個寬度方向上的複數個位置進行。配向角測量器12係將所測量之慢軸的資訊提供給角度調整機構14。之後，一面搬運基材膜8A一面藉由塗覆機16將聚合性液晶化合物溶液塗布於基材膜8A上而作成塗覆膜7a，且藉由配置在塗覆機16之下游側的乾燥器18使塗覆膜7a乾燥。在此，所塗覆的聚合性液晶化合物係在基材膜8A上配向，且藉由乾燥、聚合進行硬化而成為相位差膜7A。乾燥後的膜即為被檢查物10，提供給配置於搬運之下游側之檢查裝置1A進行檢查。

角度調整機構14係根據從配向角測量器12所提供之基材膜8A之慢軸方向的資訊，使第一直線偏光板3旋轉，且使第一直線偏光板3的偏光軸成為與基材膜8A的慢軸大致正交或大致平行。同時，關於相位差過濾器4及第二直線偏光板5，亦使之旋轉以成為上述預定的關係。配置在被檢查物10之寬度方向上的複數個檢查裝置1A，係分別被分配有檢查區域A(參照圖3)，被檢查物10係涵蓋寬度方向所有的區域而被檢查。在檢查中，係由角度調整機構14因應基材膜8A的慢軸在整個寬度方向上產生變化乙事，依每一檢查區域A使第一直線偏光板3的偏光軸所朝向的方向不同。另外，圖4所示之檢查區域A，係顯示基材膜8A上之圖3所示之檢查區域A所對應的部分。

藉由使用檢查系統100，可遍及基材膜8A的整個搬運方向連續地且效率良好地實施相位差膜7A的形成與檢查，因此可使被檢查物10的製造與檢查效率化。此外，在檢查系統100中係在被檢查物10的寬度方向上配置有複數個檢查裝置1A，故即使基材膜8A之慢軸之方向在寬 度方向上有所不同時，亦可將各個檢查裝置1A中之第一直線偏光板3的偏光軸與基材膜8A在該檢查區域A中之慢軸的關係調整為預定的關係。亦即，在基材膜8A之寬度方向之所有的位置，可進行抑制基材膜8A所具有之面內相位差之影響的檢查。

<第二實施型態>

茲說明本發明的第二實施型態。作為第二實施型態，圖5所示的檢查裝置1B與第一實施型態之檢查裝置1A不同之點，係在於光源2與檢測手段的位置為相反之處。亦即，檢查裝置1B係依序配置攝像機(檢測手段)6、第一直線偏光板3、相位差過濾器4、第二直線偏光板5、及光源2而成者。在圖5中，係描繪出在第一直線偏光板3與相位差過濾器4之間配置有屬於檢查對象之被檢查物10的情形。在此，關於被檢查物10與第二直線偏光板5的配置，係配置成使基材膜8A的慢軸與第二直線偏光板5的偏光軸為彼此大致正交或大致平行。

在使用了此檢查裝置1B之被檢查物10的檢查中，亦可藉由與第一實施型態相同的原理而易於檢查相位差膜7A有無缺陷。

綜上雖已說明了本發明之較佳實施型態，但本發明不限定於上述實施型態。

[產業上之可利用性]

本發明係可利用於判斷相位差膜有無缺陷的檢查上。

1A:檢查裝置

2:光源

3:第一直線偏光板

4:相位差過濾器

5:第二直線偏光板

6:攝像機(檢測手段)

7A,7B:相位差膜

8A,8B:基材膜

9:光軸

10:被檢查物

Claims (7)

1. 一種檢查方法，係將光射入至膜狀的被檢查物以判斷相位差膜有無缺陷，該膜狀的被檢查物係具備在波長550nm時之面內相位差值為50nm以上的基材膜、及形成於前述基材膜之單面之由聚合性液晶化合物之硬化物所構成的前述相位差膜；於前述檢查方法中，

   係將第一直線偏光板、前述被檢查物、相位差過濾器、第二直線偏光板依序排列地配置，

   前述被檢查物之前述基材膜側的面係朝向前述第一直線偏光板側，

   前述基材膜的慢軸、與前述第一直線偏光板或前述第二直線偏光板的偏光軸係彼此大致正交或大致平行，

   前述相位差膜的慢軸、與前述相位差過濾器的慢軸係彼此大致平行，

   前述相位差膜之在波長550nm時之面內相位差值為300nm以下，

   前述相位差膜之在波長550nm時之面內相位差值、與前述相位差過濾器之在波長550nm時之面內相位差值的合計係520nm至600nm，

   前述第一直線偏光板與前述第二直線偏光板係構成正交偏光鏡，且

   從前述第一直線偏光板側或前述第二直線偏光板側的任一側，以光軸通過前述被檢查物上之預定之檢查區域之方式射入光，且從前述第一直線偏光板側或前述第二直線偏光板側的另一側觀察前述第二直線偏光板或前述第一直線偏光板。
2. 如請求項1所述之檢查方法，係具有：以形成前述相位差膜之前之前述基材膜為對象，使用配向角測量器而預先求出前述基材膜之慢軸之方向的步驟。
3. 如請求項2所述之檢查方法，係具有：在藉由前述配向角測量器求出前述基材膜的慢軸之後，在前述基材膜的單面，塗覆包含聚合性液晶化合物的液狀組成物而將包含前述聚合性液晶化合物的塗覆膜形成於前述基材膜的表面上，使前述塗覆膜中所含之前述聚合性液晶化合物配向及硬化而形成前述相位差膜的步驟。
4. 如請求項1至3中任一項所述之檢查方法，係使前述被檢查物在前述第一直線偏光板與前述相位差過濾器之間朝前述被檢查物的長邊方向搬運，同時朝前述長邊方向連續地進行檢查。
5. 如請求項1至4中任一項所述之檢查方法，係在前述被檢查物的寬度方向上設置複數處前述檢查區域。
6. 一種檢查裝置，係將光射入至膜狀的被檢查物以判斷相位差膜有無缺陷，該膜狀的被檢查物係具備在波長550nm時之面內相位差值為50nm以上的基材膜、及形成於前述基材膜之單面之由聚合性液晶化合物之硬化物所構成的前述相位差膜，該檢查裝置係具備：

   第一直線偏光板及相位差過濾器，係隔著供前述被檢查物配置之場所而配置；

   第二直線偏光板，係就前述相位差過濾器而言配置在與供前述被檢查物配置之場所為相反側的區域；及

   光源，係就前述第一直線偏光板或前述第二直線偏光板而言配置在與供前述被檢查物配置之場所為相反側的區域；

   前述第一直線偏光板或前述第二直線偏光板係配置成其偏光軸與前述基材膜的慢軸為彼此大致正交或大致平行，

   前述相位差過濾器係配置成其慢軸與前述相位差膜的慢軸為彼此大致平行，

   前述相位差膜之在波長550nm時之面內相位差值係為與前述相位差過濾器之在波長550nm時之面內相位差值的合計成為520nm至600nm的值，

   前述第一直線偏光板與前述第二直線偏光板係構成正交偏光鏡，

   前述光源係配置在於其光軸上排列有前述第一直線偏光板、前述被檢查物上之預定的檢查區域、前述相位差過濾器、及前述第二直線偏光板的位置。
7. 一種檢查系統，係具備：

   請求項6所述之檢查裝置；

   配向角測量器，係求出形成前述相位差膜之前之前述基材膜的慢軸；及

   角度調整機構，係調整前述第一直線偏光板的角度，以使藉由前述配向角測量器所求出之前述基材膜的慢軸與前述第一直線偏光板的偏光軸成為彼此大致正交或大致平行。

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