TW202033266A - 加氫裝置以及氫透過膜的消耗度判定方法 - Google Patents
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Abstract
本發明提供能以簡單且廉價的構成來準確地判定氫透過膜的消耗度的加氫裝置以及氫透過膜的消耗度判定方法。加氫裝置（1）具備：第一室（31），被供給溶氫水；第二室（32），被供給原水；氫透過膜（33），為了在第二室（32）中生成加氫水，使溶入於加氫水的氫從第一室（31）向第二室（32）移動；氫濃度傳感器（21），檢測從第二室（32）取出的加氫水的溶氫濃度；以及控制部，至少根據加氫水的溶氫濃度來判定氫透過膜（33）的消耗度。
Description
本發明涉及用於生成在水中加氫而得到的加氫水的裝置以及氫透過膜的消耗度判定方法。
作為在水中加氫的方法，已知如下技術：使用由氫透過膜（氣體透過膜）劃分出氫氣流通部和原料水流通部的組件，向氫氣流通部供給經加壓的氫氣，並使氫溶解於供給至原料水流通部的原料水（例如，參照專利文獻1）。
在先技術文獻
專利文獻
專利文獻1：JP特開2009-125654號公報
有鑑於此，吾等發明人乃潛心進一步研究，並著手進行研發及改良，期以一較佳設作以解決上述問題，且在經過不斷試驗及修改後而有本發明之問世。
（發明要解決的課題）
在上述專利文獻1中，公開了在電解槽中通過電解而生成的氫氣被供給至氫氣流通部。然而，在這樣的技術中，例如需要適當地控制電解槽的水位的構成，從而導致成本上升。為此，除了上述專利文獻1所公開的技術以外，還對廉價地生成加氫水的技術正進行各種各樣的研究。
另一方面，上述組件因氫透過膜的消耗而劣化，因此推薦進行定期的更換。氫透過膜的消耗度例如能根據上述組件的使用時間等來簡易地估計。
然而，由於氫透過膜價格高昂，因此為了以低廉的運行成本來生成加氫水，要求建立更準確地判定氫透過膜的消耗度的技術。
本發明鑑於以上事實而提出，主要目的在於，提供一種加氫裝置以及氫透過膜的消耗度判定方法，能以簡單且廉價的構成來準確判定氫透過膜的消耗度。
（用於解決課題的技術方案）
本發明的第一發明是一種加氫裝置，用於在水中加氫，所述加氫裝置具備：第一室，被供給溶氫水；第二室，被供給原水；氫透過膜，為了在所述第二室中生成加氫水，使溶入於所述溶氫水的氫分子從所述第一室向所述第二室移動；氫濃度檢測部，檢測從所述第二室取出的所述加氫水的溶氫濃度；以及判定部，至少根據所述溶氫濃度來判定所述氫透過膜的消耗度。
優選地，在本發明所涉及的所述加氫裝置的基礎上，所述加氫裝置還具備溶氫水生成部，所述溶氫水生成部生成向所述第一室供給的所述溶氫水。
優選地，在本發明所涉及的所述加氫裝置的基礎上，所述溶氫水生成部具有電解槽，所述電解槽具有陽極供電體和陰極供電體，通過對水進行電解來生成所述溶氫水並供給至所述第一室，所述加氫裝置還具備控制部，所述控制部控制向所述陽極供電體以及所述陰極供電體施加的電壓，所述控制部控制所述電壓以使所述溶氫水的溶氫濃度恒定。
優選地，在本發明所涉及的所述加氫裝置的基礎上，在所述溶氫水中，所述氫分子在飽和狀態下溶解。
優選地，在本發明所涉及的所述加氫裝置的基礎上，所述加氫裝置還具備循環水路，所述循環水路使所述溶氫水在所述溶氫水生成部與所述第一室之間循環。
優選地，在本發明所涉及的所述加氫裝置的基礎上，還具備流量檢測部，所述流量檢測部檢測所述原水到所述第二室的每單位時間的供給量，所述判定部還根據所述供給量來判定所述氫透過膜的消耗度。
本發明的第二發明是氫透過膜的消耗度判定方法，在氫透過組件中判定氫透過膜的消耗度，所述氫透過組件具備：第一室，被供給溶氫水；第二室，被供給原水；以及所述氫透過膜，為了在所述第二室中生成加氫水，使溶入於所述溶氫水的氫從所述第一室向所述第二室移動，所述消耗度判定方法包含：檢測從所述第二室取出的所述加氫水的溶氫濃度的步驟；以及至少根據所述溶氫濃度來判定所述氫透過膜的消耗度的步驟。
（發明效果）
在本第一發明的所述加氫裝置中，溶入於所述溶氫水的氫透過所述氫透過膜而從所述第一室向所述第二室移動，從而在所述第二室生成所述加氫水。從所述第二室取出的所述加氫水的所述溶氫濃度取決於所述氫透過膜的所述消耗度，隨著所述氫透過膜消耗而變低。為此，在本第一發明中，所述判定部至少根據所述加氫水的所述溶氫濃度來判定所述氫透過膜的所述消耗度，從而能以簡單且廉價的構成來準確地判定所述氫透過膜的所述消耗度。
本第二發明的所述氫透過膜的所述消耗度判定方法包含檢測從所述第二室取出的所述加氫水的所述溶氫濃度的步驟和至少根據所述溶氫濃度來判定所述氫透過膜的所述消耗度的步驟。因此，能以簡單且廉價的構成來準確地判定所述氫透過膜的所述消耗度。
關於吾等發明人之技術手段，茲舉數種較佳實施例配合圖式於下文進行詳細說明，俾供 鈞上深入瞭解並認同本發明。
以下，基於附圖來說明本發明的一實施方式。
圖1示出了本發明的加氫裝置的一實施方式的概略構成。加氫裝置1是用於在水中加氫的裝置，已加氫的加氫水例如作為透析液製備用水而用於透析液的製備（以下，有時還將加氫水記為透析液製備用水）。近年，在透析液的製備中採用加氫水的血液透析對於患者的氧化應激抑制是有效的，故而受到關注。
加氫裝置1例如配置於反滲透膜處理裝置200的下游側。加氫裝置1與反滲透膜處理裝置200可以整合而構成為一個裝置。在加氫裝置1的下游側，例如連接有使用透析液製備用水來對液狀的透析原劑進行稀釋的透析原劑稀釋裝置（未圖示）。
反滲透膜處理裝置200使用反滲透膜對從外部供給的水進行淨化。反滲透膜處理裝置200與加氫裝置1通過處理水供給通道10進行連接。由反滲透膜處理裝置200淨化處理後的水（以下，記為處理水）經過處理水供給通道10而被供給至加氫裝置1來作為用於生成透析液製備用的加氫水的原水（以下，記為原水）進行使用。
用於生成透析液製備用水的加氫裝置1在從反滲透膜處理裝置200供給的原水中加氫來生成透析液製備用的加氫水。加氫裝置1與上述透析原劑稀釋裝置通過加氫水供給通道20進行連接。由加氫裝置1生成的加氫水經過加氫水供給通道20而被供給至上述透析原劑稀釋裝置，用於透析液的製備。
圖2示出了加氫裝置1的主要構成。加氫裝置1包含溶氫水生成部2和氫透過膜組件3。
溶氫水生成部2生成溶氫水，並將該溶氫水供給至氫透過膜組件3。溶氫水是溶入有氫分子的水。在本實施方式中，應用了電解槽4來作為溶氫水生成部2。電解槽4通過對水進行電解來產生氫分子並生成溶氫水。
電解槽4是由隔膜43將配有第一供電體41的第一極室40a與配有第二供電體42的第二極室40b隔開而成的。
第一供電體41的極性與第二供電體42的極性不同。即，第一供電體41及第二供電體42當中的一者用作陽極供電體，另一者用作陰極供電體。在本實施方式中，第一供電體41用作陽極供電體，第二供電體42用作陰極供電體。通過向電解室40的第一極室40a以及第二極室40b的兩者供給水，並對第一供電體41及第二供電體42施加直流電壓，從而在電解室40內發生水的電解。
圖3是表示加氫裝置1的電氣構成的框圖。第一供電體41及第二供電體42的極性以及對第一供電體41及第二供電體42施加的電壓由控制部9控制。控制部9例如具有執行各種運算處理、信息處理等的CPU（Central Processing Unit）以及對負責CPU的動作的程序以及各種信息進行存儲的存儲器等。控制部9除了控制第一供電體41及第二供電體42以外，還負責裝置各部的控制。
在第一供電體41與控制部9之間的電流供給線，設置有電流檢測器44。電流檢測器44也可以設置於第二供電體42與控制部9之間的電流供給線。電流檢測器44檢測供給至第一供電體41、第二供電體42的電解電流，將相當於其值的電信號輸出至控制部9。
控制部9例如根據從電流檢測器44輸出的電信號，控制施加於第一供電體41以及第二供電體42的直流電壓。更具體而言，控制部9對施加於第一供電體41以及第二供電體42的直流電壓進行反饋控制，以使由電流檢測器44檢測的電解電流成為預先設定的期望的值。例如，在電解電流過大的情況下，控制部9使上述電壓減少，電解電流過小的情況下，控制部9使上述電壓增加。由此，對供給至第一供電體41以及第二供電體42的電解電流適當地進行控制。
在圖1、2中，通過在電解室40內中對水進行電解來產生氫氣以及氧氣。例如，在陰極側的第二極室40b中產生氫氣，生成溶入有該氫分子的溶氫水並供給至氫透過膜組件3。此外，伴隨這樣的電解而生成的溶氫水也稱為“電解氫水”。另一方面，在陽極側的第一極室40a中產生氧氣。
隔膜43例如酌情採用由具有磺酸基的氟系樹脂構成的固體高分子膜。固體高分子膜通過電解使在陽極側的第一極室40a中產生的氧鎓離子向陰極側的第二極室40b移動來作為氫分子的生成原料。因此，在電解時不產生氫氧化物離子，電解氫水的pH不變化。
氫透過膜組件3具備第一室31、第二室32以及氫透過膜33。第一室31與第二室32由氫透過膜33隔開。
第一室31與電解槽4的第二極室40b通過氫水供應通道50進行連接。由電解槽4的第二極室40b生成的溶氫水經過氫水供應通道50而被供給至第一室31。
另一方面，第二室32與處理水供給通道10連接。原水從反滲透膜處理裝置200供給至第二室32。
氫透過膜33例如由作為供氫分子透過的多孔質膜的中空纖維膜構成。由電解槽4生成的溶氫水接連被供給至第一室31，因此第一室31內的水的溶氫濃度比第二室32內的水的溶氫濃度大。中空纖維膜使溶入於液體中的氫從溶氫濃度大的第一室31向溶氫濃度小的第二室32移動。氫透過膜33只要是具有使溶入於液體中的氫分子從高濃度的流體側透過至低濃度的流體側的功能的膜即可，不限於中空纖維膜。
在本發明中，為了在第二室32中生成加氫水，氫透過膜33使溶入於第一室31內的溶氫水中的氫分子從第一室31向第二室32移動。由此，無需用於加壓氫分子的構成等，而能以簡單且廉價的構成來生成加氫水。
可是，氫透過膜33隨著使用而消耗。而且從第二室32取出的加氫水的溶氫濃度取決於氫透過膜33的消耗度。更具體而言，氫透過膜33新的時候，在第二室32中生成的加氫水的溶氫濃度高，隨著氫透過膜33消耗，上述溶氫濃度下降。為此，在本加氫裝置1中，控制部9作為判定氫透過膜33的消耗度的判定部發揮功能，並監視氫透過膜33的消耗度。此外，控制部9進行的氫透過膜33的消耗度的判定隨時或定期地執行。
在加氫水供給通道20設置有氫濃度傳感器（氫濃度檢測部）21。氫濃度傳感器21檢測從第二室32取出的加氫水的溶氫濃度並將對應的電信號輸出至控制部9。
氫透過膜33的消耗度與從第二室32取出的加氫水的溶氫濃度之間存在相關。例如，加氫水的溶氫濃度小於預先設定的閾值的情況下，能判定為氫透過膜33的消耗正在進行。上述閾值可以設定多個。為此，控制部9根據從氫濃度傳感器21輸入的電信號，即，根據加氫水的溶氫濃度，來判定氫透過膜33的消耗度。由此，能以簡單且廉價的構成來準確地判定氫透過膜組件3的消耗度。
如上所述，控制部9對施加於第一供電體41以及第二供電體42的直流電壓進行反饋控制，以使由電流檢測器44檢測的電解電流成為預先設定的期望的值。由此，在電解槽4的陰極側的第二極室40b中生成且被供給至氫透過膜組件3的第一室31的溶氫水的溶氫濃度恒定，控制部9能進一步更加準確地判定氫透過膜組件3的消耗度。
供給至氫透過膜組件3的第一室31的溶氫水中，優選地，氫在飽和狀態下溶解。溶氫水的上述飽和狀態例如通過提高施加於第一供電體41以及第二供電體42的直流電壓來實現。因此，電解槽4的控制變得容易，且控制部9能進一步更加準確地判定氫透過膜組件3的消耗度。另外，能提高在第二室32中生成的加氫水的溶氫濃度。
在本加氫裝置1中設置有輸出部91，所述輸出部91輸出由控制部9判定出的氫透過膜33的消耗度。輸出部91通過聲音或圖像等來輸出上述消耗度。這樣的輸出部91能通過揚聲器裝置、LED（發光二極管）、液晶顯示器（Liquid Crystal Display）等來實現。另外，輸出部91可以構成為向管理加氫裝置1的計算機一裝置輸出與氫透過膜33的消耗度對應的基於無線或有線的信號。通過這樣的輸出部91，加氫裝置1的管理者能容易地得知氫透過膜33的消耗度。
如圖1所示，在本實施方式中，作為要在電解槽4電解的水，應用由反滲透膜處理裝置200進行反滲透膜處理後的處理水。處理水經處理水供給通道10以及從處理水供給通道10分支出的處理水供給通道11等而被供給至電解槽4。即，溶氫水生成部2的電解槽4和氫透過膜組件3的第二室32從作為同一水源的反滲透膜處理裝置200接受處理水的供給。通過這樣的構成，來簡化加氫裝置1及其周邊的配管。
在本實施方式的加氫裝置1中，還具備循環水路5，循環水路5使溶氫水在電解槽4的第二極室40b與第一室31之間循環。對電解槽4的第二極室40b與第一室31連接的氫水供給通道50構成循環水路5的一部分。
通過在電解槽4中持續電解的同時使溶氫水在循環水路5中循環，從而第一室31內的溶氫濃度得以提高。由此，第一室31與第二室32的溶氫濃度之差得以維持，因此能容易提高加氫水的溶氫濃度。
在本實施方式的循環水路5，設置有用於使溶氫水在循環水路5內循環的泵6以及貯存溶氫水的罐7。泵6配置於罐7與電解槽4之間。泵6由上述控制部控制，對循環水路5內的溶氫水進行驅動來使其循環。由此，由電解槽4生成的溶氫水快速地被供給至第一室31，第一室31內的水壓得以提高。另一方面，通過在罐7內貯存溶氫水，從而循環水路5的容量得以增大，循環水路5內的溶氫濃度的變動得以抑制。
在向第二室32供給原水前，預先提高施加至第一供電體41及第二供電體42的電壓來使電解槽4運行，能容易地將循環水路5內的溶氫濃度提高至飽和濃度。由此，第一室31與第二室32的溶氫濃度之差變大，能容易提高加氫水的溶氫濃度。
罐7的上部打開。故而，未能溶入電解槽4的氫分子變為氣泡而在循環水路5中移動，流入罐7，其中一部分從罐7的上部逸出。
在處理水供給通道10中設置有入水閥12以及流量計（流量檢測部）13。入水閥12例如通過由控制部9控制的電磁力進行驅動，限制在處理水供給通道10內流動的處理水。流量計13對在處理水供給通道10內流動的處理水即供給至第二室32的原水的每單位時間的流量（以下，僅記為流量或供給量）進行檢測，並輸出至控制部9。控制部9根據從流量計13輸入的流量來控制入水閥12。由此，對作為原水被供給至第二室32的處理水的流量進行優化。
在處理水供給通道11中設置有供水閥14。供水閥14例如通過由控制部9控制的電磁力進行驅動，限制在處理水供給通道11內流動的處理水。更具體而言，在向罐7填充或補充用於電解的水時，供水閥14打開，其後，在向氫透過膜組件3的第二室32供給原水時，供水閥14關閉。
從第二室32取出的加氫水的溶氫濃度還取決於原水到第二室32的供給量。例如，若原水到第二室32的供給量增加，則加氫水的溶氫濃度呈下降趨勢。
為此，控制部9優選構成為：除了根據由上述氫濃度傳感器21檢測出的加氫水的溶氫濃度，還根據由流量計13檢測出的原水的供給量，來判定氫透過膜33的消耗度。由此，控制部9能進一步更加準確地判定氫透過膜33的消耗度。
在從電解室40的第一極室40a向上方延伸的排氣通道15（參照圖2）中設置有排氣閥16。通過電解而在第一極室40a生成的氧氣從排氣通道15以及排氣閥16排出。
圖4示出了在氫透過膜組件3中判定氫透過膜33的消耗度的方法的處理過程。氫透過膜33的消耗度判定方法包含：步驟S1，檢測溶氫濃度；步驟S2，檢測原水的供給量；步驟S3，判定氫透過膜33的消耗度；以及步驟S4，輸出判定結果。
在步驟S1中，從第二室32取出的加氫水的溶氫濃度由氫濃度傳感器21進行檢測。在步驟S2中，原水到第二室32的供給量由流量計13進行檢測。步驟S1至步驟S2的順序不問。即，也可以先執行步驟S2，其後再執行步驟S1。
在步驟S3中，根據步驟S1中檢測出的加氫水的溶氫濃度以及步驟S2中檢測出的原水的供給量，由控制部9判定氫透過膜33的消耗度。而且，在步驟S4中，步驟S3的判定結果由輸出部91進行輸出。
根據本消耗度判定方法，能以簡單且廉價的構成來準確地判定氫透過膜33的消耗度。
以上詳細說明了本發明的加氫裝置1等，但本發明不限於上述具體的實施方式而能變更為各種形態來予以實施。即，加氫裝置1至少具備被供給溶氫水的第一室31、被供給原水的第二室32、為了在第二室32中生成加氫水而使溶入於溶氫水的氫從第一室31向第二室32移動的氫透過膜33、檢測從第二室32取出的加氫水的溶氫濃度的氫濃度傳感器21、以及至少根據溶氫濃度來判定氫透過膜33的消耗度的控制部9即可。
另外，在圖1所示的加氫裝置1中，生成用於供給至第一室31的溶氫水的溶氫水生成部2不限於對水進行電解的電解槽4。例如，可以是使通過水與鎂的化學反應等產生的氫分子溶解於水來生成溶氫水的裝置、或者是使從氫氣儲罐供給的氫氣（氫分子）溶解於水來生成溶氫水的裝置。
加氫裝置1除了生成透析液製備用的加氫水以外，還能適用於各種用途。例如，還能廣泛適用於飲用、烹飪用或農業用的加氫水的生成等。
另外，消耗度判定方法，即氫透過膜33的消耗度判定方法至少包含檢測溶氫濃度的步驟S1以及判定氫透過膜33的消耗度的步驟S3即可。例如，可以省略檢測原水的供給量的步驟S2。在此情況下，在步驟S3中，根據步驟S1中檢測出的加氫水的溶氫濃度而由控制部9判定氫透過膜33的消耗度。
綜上所述，本發明所揭露之技術手段確能有效解決習知等問題，並達致預期之目的與功效，且申請前未見諸於刊物、未曾公開使用且具長遠進步性，誠屬專利法所稱之發明無誤，爰依法提出申請，懇祈 鈞上惠予詳審並賜准發明專利，至感德馨。
惟以上所述者，僅為本發明之數種較佳實施例，當不能以此限定本發明實施之範圍，即大凡依本發明申請專利範圍及發明說明書內容所作之等效變化與修飾，皆應仍屬本發明專利涵蓋之範圍內。
〔本發明〕
1:加氫裝置
10:處理水供給通道
11:處理水供給通道
12:入水閥
13:流量計（流量檢測部）
14:供水閥
15:排氣通道
16:排氣閥
2:溶氫水生成部
20:加氫水供給通道
200:反滲透膜處理裝置
21:氫濃度傳感器（氫濃度檢測部）
3:氫透過膜組件
31:第一室
32:第二室
33:氫透過膜
4:電解槽
40a:第一極室
40b:第二極室
41:第一供電體（陽極供電體）
42:第二供電體（陰極供電體）
43:隔膜
44:電流檢測器
5:循環水路
50:氫水供應通道
6:泵
7:罐
9:控制部（判定部）
91:輸出部
S1-S4:步驟
[圖1]係表示本發明一實施方式的加氫裝置的概略構成的圖;
[圖2]係表示加氫裝置的主要構成的圖;
[圖3]係表示加氫裝置的電氣構成的框圖;
[圖4]係表示本發明一實施方式的消耗度判定方法的處理過程的流程圖。
10:處理水供給通道
15:排氣通道
2:溶氫水生成部
20:加氫水供給通道
21:氫濃度傳感器(氫濃度檢測部)
3:氫透過膜組件
31:第一室
32:第二室
33:氫透過膜
4:電解槽
40a:第一極室
40b:第二極室
41:第一供電體(陽極供電體)
42:第二供電體(陰極供電體)
43:隔膜
50:氫水供應通道
Claims (7)
- 一種加氫裝置，用於在水中加氫， 所述加氫裝置具備： 第一室，被供給溶氫水； 第二室，被供給原水； 氫透過膜，為了在所述第二室中生成加氫水，使溶入於所述溶氫水的氫分子從所述第一室向所述第二室移動； 氫濃度檢測部，檢測從所述第二室取出的所述加氫水的溶氫濃度；以及 判定部，至少根據所述溶氫濃度來判定所述氫透過膜的消耗度。
- 如請求項1所述之加氫裝置，其中， 所述加氫裝置還具備溶氫水生成部，所述溶氫水生成部生成向所述第一室供給的所述溶氫水。
- 如請求項2所述之加氫裝置，其中， 所述溶氫水生成部具有電解槽，所述電解槽具有陽極供電體和陰極供電體，通過對水進行電解來生成所述溶氫水並供給至所述第一室， 所述加氫裝置還具備控制部，所述控制部控制施加於所述陽極供電體及所述陰極供電體的電壓， 所述控制部控制所述電壓以使所述溶氫水的溶氫濃度恒定。
- 如請求項2或3項所述之加氫裝置，其中， 在所述溶氫水中，所述氫分子在飽和狀態下溶解。
- 如請求項2或3項所述之加氫裝置，其中， 所述加氫裝置還具備循環水路，所述循環水路使所述溶氫水在所述溶氫水生成部與所述第一室之間循環。
- 如請求項1至3項中任一項所述之加氫裝置，其中， 所述加氫裝置還具備流量檢測部，所述流量檢測部檢測所述原水到所述第二室的每單位時間的供給量， 所述判定部還根據所述供給量來判定所述氫透過膜的消耗度。
- 一種氫透過膜的消耗度判定方法，在氫透過組件中判定氫透過膜的消耗度，所述氫透過組件具備：第一室，被供給溶氫水；第二室，被供給原水；以及所述氫透過膜，為了在所述第二室中生成加氫水，使溶入於所述溶氫水的氫從所述第一室向所述第二室移動， 所述氫透過膜的消耗度判定方法包含： 檢測從所述第二室取出的所述加氫水的溶氫濃度的步驟；以及 至少根據所述溶氫濃度來判定所述氫透過膜的消耗度的步驟。
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