TW202030285A - 透明黏著膜 - Google Patents

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水野瑞穂
平岡慎哉
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日商日東電工股份有限公司
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Abstract

本發明係關於一種透明黏著膜，其係具備2個以上之積層單元者，該積層單元具備具有凹凸面之基材、及積層於基材之凹凸面之相反側之面的黏著劑層，且位於透明黏著膜之最外側之黏著劑層以外的黏著劑層之厚度為於該黏著劑層以凹凸面貼合之基材之凹凸面之表面粗糙度Ra之5倍以上，於頻率1 Hz之剪切應變下藉由動態黏彈性測定所測定之23℃之儲存彈性模數為1.0×106 Pa以下。

Description

透明黏著膜
本發明係關於一種透明黏著膜。
先前，已知有一種剝離位於最表面之膜而恢復表面之外觀或清潔性之積層膜。
例如，於專利文獻1中記載有一種多層式一次性化妝片材，其特徵在於：其係含有1個以上之包含基材膜、接著劑層及聚矽氧層之積層單元，且含有2個以上之基材膜之多層片材，且於該多層片材之背面介隔黏著劑層而設置有脫模片材。
又，已知於用於防劃傷等用途之透明黏著膜中，藉由於表面設置微細之凹凸，抑制光之過度反射，降低透明黏著膜之視認性，貼附於被黏著體時亦不損害被黏著體之設計性。
例如，於專利文獻2中記載有一種透明防滑性保護片材，其係具有具備第1主要面及其相反側之第2主要面之支持層者，且具有配置於該第1主要面之複數個半球狀突起，該半球狀突起被構成第1主要面之一部分之岸台部包圍。 [先前技術文獻] [專利文獻]
專利文獻1：日本專利特開2003-305819號公報 專利文獻2：日本專利特開2010-19028號公報
[發明所欲解決之問題]
若將如專利文獻2所記載之表面具有微細之凹凸之透明黏著膜如專利文獻1所記載之片材般介隔黏著劑層積層，則存在氣泡混入基材之凹凸面側與黏著劑層之間之情形。於此種情形時，存在容易視認透明黏著膜，貼附於被黏著體時損害被黏著體之設計性之情況。
鑒於上述，本發明之課題在於提供一種透明黏著膜，該透明黏著膜由於抑制氣泡之混入故而不易被視認，且對被黏著體之設計性造成之影響較少。 [解決問題之技術手段]
本發明人等鑒於上述問題進行銳意研究，結果發現可藉由具有下述構成之透明黏著膜解決上述問題，從而完成本發明。
即，本發明之透明黏著膜係具備2個以上之積層單元者，該積層單元具備具有凹凸面之基材、及積層於基材之凹凸面之相反側之面的黏著劑層，且位於透明黏著膜之最外側之黏著劑層以外的黏著劑層之厚度為於該黏著劑層以凹凸面貼合之基材之凹凸面之表面粗糙度Ra之5倍以上，於頻率1 Hz之剪切應變下藉由動態黏彈性測定所測定之23℃之儲存彈性模數為1.0×106 Pa以下。
又，本發明之一態樣之透明黏著膜可具備形成於基材之凹凸面側之剝離處理層。
又，本發明之一態樣之透明黏著膜中，位於透明黏著膜之最外側之黏著劑層於頻率1 Hz之剪切應變下藉由動態黏彈性測定所測定之23℃之儲存彈性模數可為1.0×106 Pa以下。
又，本發明之一態樣之透明黏著膜中，黏著劑層可包含選自由丙烯酸系黏著劑及橡膠系黏著劑所組成之群中之至少1種。 [發明之效果]
本發明之透明黏著膜由於抑制氣泡之混入故而不易被視認，且對被黏著體之設計性造成之影響較少。
以下，對實施方式進行詳細說明。再者，本發明並不限定於以下所說明之實施形態。 又，於本說明書中，凹凸面之凹凸之平均間距Sm、平均傾斜角θa及算術平均表面粗糙度Ra之定義基於JIS B 0601(1994年版)。又，該等特性值可藉由觸針式表面粗糙度測定器(例如，小阪研究所製造之高精度微細形狀測定器，商品名「Surfcorder ET4000」)進行測定。再者，平均傾斜角θa係以θa=tan-1Δa之公式所定義之值。Δa係將於JIS B 0601(1994年版)所規定之粗糙度曲線中相鄰凸部之頂點與凹部之底點之差(高度h)之合計(h1+h2+h3+……+hn)除以粗糙度曲線之基準長度L而得之值，即，以Δa=(h1+h2+h3+……+hn)/L之公式所表示。 又，於本說明書中，60°光澤度GL之定義基於JIS Z 8741(1997年版)。 再者，於本說明書中，於稱為「膜」之情形時，為包含片材之概念，於稱為「片材」之情形時，為包含膜之概念。
[透明黏著膜] 圖1係本實施形態之透明黏著膜之一態樣之概略剖視圖，圖2係本實施形態之透明黏著膜之另一態樣之概略剖視圖。 本實施形態之透明黏著膜(以下，亦僅稱為「黏著膜」)200係具備2個以上之積層單元者，該積層單元具備具有凹凸面之基材、及積層於基材之凹凸面之相反側之面的黏著劑層，且位於透明黏著膜之最外側之黏著劑層以外的黏著劑層之厚度為於該黏著劑層以凹凸面貼合之基材之凹凸面之表面粗糙度Ra之5倍以上，於頻率1 Hz之剪切應變下藉由動態黏彈性測定所測定之23℃之儲存彈性模數為1.0×106 Pa以下。
圖1所示之態樣之黏著膜200具備包含基材220a(第1基材220a)與黏著劑層210a(第1黏著劑層210a)之積層單元(第1積層單元)及包含基材220b(第2基材220b)與黏著劑層210b(第2黏著劑層210b)之積層單元(第2積層單元)，即，具備2個具備基材與黏著劑層之積層單元，第2黏著劑層210b積層於第1基材220a之凹凸面上。又，圖2所示之態樣之黏著膜200具備5個包含基材與黏著劑層之積層單元。
再者，以下，有時將位於黏著膜之最外側之黏著劑層稱為「貼合用黏著劑層」。又，有時將貼合用黏著劑層以外之黏著劑層即位於基材彼此之間之黏著劑層稱為「層間黏著劑層」。 於圖1所示之例中，第1黏著劑層210a為貼合用黏著劑層，第2黏著劑層210b為層間黏著劑層，第2黏著劑層210b之厚度為第1基材220a之凹凸面之表面粗糙度Ra之5倍以上，於頻率1 Hz之剪切應變下藉由動態黏彈性測定所測定之23℃之儲存彈性模數為1.0×106 Pa以下。 於圖2所示之例中，第1黏著劑層210a為貼合用黏著劑層，第2～5黏著劑層210b、210c、210d、210e為層間黏著劑層，第2～5黏著劑層210b、210c、210d、210e之厚度分別為第1～4基材220a、220b、220c、220d之凹凸面之表面粗糙度Ra之5倍以上，於頻率1 Hz之剪切應變下藉由動態黏彈性測定所測定之23℃之儲存彈性模數為1.0×106 Pa以下。
本實施形態之黏著膜為透明。此處，所謂透明係指波長380nm～780nm之光之透過率為40%以上。 本實施形態之黏著膜介隔貼合用黏著劑層貼附於被黏著體而使用。此處，所謂被黏著體係指供黏著膜貼附之對象物，並無特別限定，例如可列舉：地板材、傢俱、汽車、機械、機械手、皮膚等。再者，以下有時將黏著膜之貼附於被黏著體之側之面稱為「黏著面」。
本實施形態之黏著膜可僅剝離位於最表面之積層單元並廢棄，使位於內部之新基材露出至最表面。即，於損傷、污染位於最表面之基材等而容易視認黏著膜之情形時，藉由剝離包含該基材之積層單元而露出新基材，可再次降低視認性。 構成黏著膜之積層單元數越增加，則可進行上述最表面之積層單元之剝離之次數越增加，故而較佳，但就視認性之觀點而言，積層單元數較佳為較少。因此，積層單元數較佳為20層以下，更佳為15層以下，進而較佳為10層以下。
本實施形態之黏著膜貼附於被黏著體前，於黏著面之表面設置剝離膜，或將黏著膜捲繞成卷狀，因此較佳為藉由位於最外側之基材(於圖1之態樣中為基材220b，於圖2之態樣中為基材220e)之凹凸面抵接於貼合用黏著劑層210a等方法，保護黏著面。
本實施形態之黏著膜之厚度並無特別限定，就降低視認性之觀點而言，較佳為400 μm以下，更佳為300 μm以下，進而較佳為200 μm以下。另一方面，就保護被黏著體免於損傷之觀點或確保積層單元數之觀點而言，較佳為5 μm以上，更佳為10 μm以上，進而較佳為20 μm以上。
又，黏著膜之霧度亦為對視認性造成影響之因素。霧度詳細而言有外部霧度、內部霧度、整體霧度，存在(外部霧度=整體霧度-內部霧度)之關係。該等中，特別是整體霧度及外部霧度對視認性造成影響。 該等值並無特別限定，但若過大或過小，則有容易視認黏著膜之虞。特別是，於霧度過大之情形時，黏著膜發白，反之，於過小之情形時，黏著膜之表面容易產生光之反射，於任一情形時均有容易視認黏著膜之虞。 就上述觀點而言，黏著膜之整體霧度較佳為15%以上，更佳為20%以上，進而較佳為30%以上。又，較佳為95%以下，更佳為90%以下，進而較佳為85%以下。又，黏著膜之外部霧度較佳為10%以上，更佳為15%以上，進而較佳為20%以上。又，較佳為80%以下，更佳為75%以下，進而較佳為70%以下。再者，後述第二實施形態中亦相同。 整體霧度可按照JIS K 7136(2000年版)進行測定。再者，霧度之測定以基材之凹凸面側之面作為光出射面而進行。內部霧度係指於消除凹凸面之表面(霧度測定時之光出射側)對霧度之影響之狀態下測定之霧度。例如，於光出射側之面貼合三乙醯纖維素(TAC)膜，藉此壓平凹凸面之表面凹凸，製作成為平坦之層之評價試樣，可將該評價試樣之霧度作為內部霧度。即，使表面平坦之評價試樣為不具有由表面凹凸所導致之霧度，僅具有內部霧度之狀態。因此，可測定該評價試樣之霧度而求出內部霧度。
以下，對構成本實施形態之黏著膜之各要素進行說明。
＜基材＞ 本實施形態之黏著膜中之基材具有凹凸面。藉由該凹凸面，抑制基材表面之過度之光反射，而不易視認黏著膜。
本實施形態中之基材之材質為透明即可，並無特別限定，可使用各種膜，通常，基材為樹脂膜。 於本實施形態之黏著膜中，各積層單元之基材可相同，亦可不同。即，本實施形態之黏著膜可包含材質或形狀等不同之複數種基材。
又，基材可為單層構造，亦可為2層以上之多層構造。又，基材之最表面之層可為防靜電層、防污層、防滑層、抗菌層等。 本實施態樣之黏著膜中之基材較佳為具備形成於凹凸面之剝離處理層。 剝離處理層可藉由以任意方法將剝離處理劑應用於基材之凹凸面而形成。作為剝離處理劑，可採用任意之適當之剝離處理劑。例如可使用：聚矽氧系剝離劑、氟系剝離劑、長鏈烷基系剝離劑、低分子量聚乙烯系剝離劑、低分子量聚丙烯系剝離劑、橡膠系聚合物、磷酸酯系界面活性劑等。 本實施形態之黏著膜中之基材中，位於最外側之基材以外之基材、即位於黏著劑層彼此之間之基材具備此種剝離處理層，藉此容易地剝離上述最表面之積層單元。又，藉由使位於最外側之基材具備剝離處理層，將黏著膜捲繞成卷狀而保護黏著面時，黏著面與位於最外側之基材之剝離變得容易。
構成樹脂膜之樹脂並無特別限制，例如可使用：聚酯系樹脂、聚烯烴系樹脂、聚醯胺系樹脂、聚醯亞胺系樹脂、聚苯硫醚系樹脂、聚碳酸酯系樹脂、聚胺基甲酸酯系樹脂、乙烯-乙酸乙烯酯系樹脂、聚四氟乙烯等氟系樹脂、聚甲基丙烯酸甲酯等丙烯酸系樹脂等。上述樹脂膜可為使用單獨包含1種此種樹脂之樹脂材料而形成者，亦可為使用摻合有2種以上之樹脂材料而形成者。上述樹脂膜可為無延伸，亦可為經延伸(單軸延伸或雙軸延伸)者。
作為較佳之樹脂材料，可列舉低密度聚乙烯(LDPE)、高密度聚乙烯(HDPE)、聚丙烯、醚系聚胺基甲酸酯、酯系聚胺基甲酸酯、碳酸酯系聚胺基甲酸酯等，就後述壓紋加工中之加工性、耐磨性、耐候性之觀點而言，特佳為碳酸酯系聚胺基甲酸酯。
於不損及本發明之效果之範圍內，基材中視需要可含有公知之添加劑。例如可適宜地調配紫外線吸收劑等光穩定劑、抗氧化劑、抗靜電劑、填充材、塑化劑、滑澤劑、抗黏連劑等添加劑。該等添加劑可分別單獨使用1種，或組合2種以上使用。添加劑之調配量自通常之調配量之範圍內適宜地設定即可。
樹脂膜之製造方法並無特別限定。例如可適宜地採用擠壓成形、吹脹成形、T字壓鑄成形、砑光輥成形等先前公知之一般樹脂膜成形方法。
於基材形成凹凸面之方法並無特別限定，但較佳為藉由壓紋加工而形成。例如，向基材施加熱而使基材軟化，將其以壓紋模具進行加壓，藉此可於基材形成特定形狀之凹凸面。
又，除此以外，亦較佳為藉由於基材之表面塗佈包含黏合劑樹脂(或其前驅物)與粒子之組合物，其後使該組合物硬化，而於基材形成凹凸面。
本發明中於基材形成凹凸面之方法除上述以外亦可使用公知之方法，例如可藉由網版印刷或凹版印刷、利用奈米壓印所進行之轉印等於基材形成凹凸面。
本實施形態中之基材之厚度並無特別限定，但藉由加大厚度，強度提高，保護被黏著體免於損傷之能力提高。因此，基材2之厚度較佳為10 μm以上，更佳為15 μm以上，進而較佳為20 μm以上。另一方面，藉由減小基材之厚度，可使黏著膜不易視認，進而對粗糙面或曲面之追隨性提高，故而可將黏著膜貼附於各種形狀之被黏著體。因此，基材之厚度較佳為400 μm以下，更佳為300 μm以下，進而較佳為200 μm以下。
又，基材之霧度或表面之形狀亦為影響黏著膜之視認性之因素。以下，就降低本實施形態之黏著膜之視認性之觀點而言，對本實施形態中之基材之霧度或表面之形狀之特佳之態樣進行說明，但本發明並不限定於此。
於本實施形態中之基材之凹凸面中，藉由使凹凸之平均間距Sm、凹凸之平均傾斜角θa、凹凸面之算術平均表面粗糙度Ra等為適當範圍內，不易使光於基材之表面過度散射而使基材看起來較白，且不易使光於基材之表面過度反射而使基材看起來刺眼 ，因此，可使黏著膜更加不易視認。 就上述觀點而言，基材之表面之凹凸面中之凹凸之平均間距Sm較佳為50 μm以上，更佳為75 μm以上，進而較佳為100 μm以上。又，較佳為500 μm以下，更佳為300 μm以下，進而較佳為200 μm以下。 又，基材之凹凸面中之凹凸之平均傾斜角θa較佳為0.5°以上，更佳為1°以上，進而較佳為1.5°以上。又，較佳為15°以下，更佳為10°以下，進而較佳為5°以下。 又，基材之凹凸面之Ra較佳為0.1 μm以上，更佳為0.15 μm以上，進而較佳為0.3 μm以上。又，較佳為2.5 μm以下，更佳為2.0 μm以下，進而較佳為1.5 μm以下。
又，藉由抑制基材之凹凸面之光澤度，光不易於基材表面反射，黏著膜更加不易視認。因此，基材之凹凸面之60°光澤度GL較佳為60%以下，更佳為30%以下，進而較佳為15%以下。 另一方面，基材之凹凸面之60°光澤度GL之下限值並無特別限定，但於過小之情形時，存在難以滿足上述凹凸之平均間距Sm或平均傾斜角θa之較佳之範圍之情形。因此，基材之凹凸面之60°光澤度較佳為2.5%以上，更佳為5%以上，進而較佳為7.5%以上。
基材之霧度(外部霧度、內部霧度、整體霧度)亦為對視認性造成影響之因素，特別是整體霧度及外部霧度對視認性造成影響。 為了使黏著膜更加不易視認，基材之整體霧度較佳為15%以上，更佳為25%以上，進而較佳為40%以上。又，較佳為95%以下，更佳為90%以下，進而較佳為85%以下。又，基材之外部霧度較佳為3%以上，更佳為5%以上，進而較佳為10%以上。又，較佳為80%以下，更佳為75%以下，進而較佳為70%以下。
＜貼合用黏著劑層＞ 本實施形態中之貼合用黏著劑層係位於黏著膜之最外側之黏著劑層，係為了將黏著膜貼附於被黏著體而設置之具有黏著力之層。
構成本實施形態中之貼合用黏著劑層之黏著劑之成分為透明即可，並無特別限定，可使用丙烯酸系黏著劑、橡膠系黏著劑、聚酯系黏著劑、聚胺基甲酸酯系黏著劑、聚矽氧系黏著劑等黏著劑，但較佳為使用包含選自由丙烯酸系黏著劑及橡膠系黏著劑所組成之群中之至少1種之黏著劑。 此處，所謂丙烯酸系黏著劑係指含有丙烯酸系共聚物作為基礎聚合物之黏著劑，所謂橡膠系黏著劑係指含有橡膠系共聚物作為基礎聚合物之黏著劑。所謂基礎聚合物係指該黏著劑中所包含之聚合物成分中之主成分(調配比率最大之成分。以下相同)，典型地指佔有比上述聚合物成分之50重量%大之比率之成分。
作為丙烯酸系黏著劑，例如可較佳地使用以具有如下單體組成之丙烯酸系聚合物為基礎聚合物(聚合物成分中之主成分)者：以(甲基)丙烯酸丁酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯等(甲基)丙烯酸烷基酯為主成分，且視需要於其中添加可與該(甲基)丙烯酸烷基酯共聚之改質用單體。作為上述改質用單體之例，可列舉：(甲基)丙烯酸2-羥基乙酯等含有羥基之單體；(甲基)丙烯酸等含有羧基之單體；苯乙烯等苯乙烯系單體；乙酸乙烯酯等乙烯酯類等。該丙烯酸系黏著劑可藉由溶液聚合法、乳液聚合法、紫外線(UV)聚合法等慣用聚合法而獲得。
作為橡膠系黏著劑之例，可列舉天然橡膠系黏著劑、合成橡膠系黏著劑等。作為合成橡膠系黏著劑之基礎聚合物即橡膠系聚合物之具體例，可列舉：聚丁二烯、聚異戊二烯、丁基橡膠、聚異丁烯、苯乙烯-丁二烯-苯乙烯嵌段共聚物等苯乙烯系彈性體；苯乙烯-乙烯丁烯-苯乙烯嵌段共聚物、苯乙烯-乙烯丁烯無規共聚物等苯乙烯系彈性體；以及乙丙橡膠、丙丁橡膠、乙丙丁橡膠等。
又，構成本實施形態中之貼合用黏著劑層之黏著劑於不阻礙本發明之效果之範圍內視需要可進一步含有交聯劑、或松香系樹脂等黏著賦予劑、剝離調整劑、抗靜電劑、滑澤劑、抗黏連劑、調平劑、填充材、pH值調整劑、分散劑、穩定劑、防腐劑、抗老化劑等於黏著劑之領域中一般使用之各種添加劑。關於此類各種添加劑，藉由常規方法使用先前公知者即可。
又，本實施形態中之貼合用黏著劑層較佳為於頻率1 Hz之剪切應變下藉由動態黏彈性測定所測定之23℃之儲存彈性模數(以下，亦僅稱為「儲存彈性模數」)為1.0×106 Pa以下。 藉由使儲存彈性模數為1.0×106 Pa以下，可提高貼合用黏著劑層之形狀追隨性，且可提高黏著膜對粗糙面或曲面之貼附性。藉此，將黏著膜貼附於粗糙面或曲面時氣泡不易被封入至黏著膜與被黏著面之間，可防止由於氣泡而容易視認。 又，貼合用黏著劑層之儲存彈性模數更佳為設為5.0×105 Pa以下，進而較佳為設為3.0×105 Pa以下。
本實施形態中之貼合用黏著劑層之厚度並無特別限定，但藉由加大厚度，可提高貼合用黏著劑層之形狀追隨性，且可提高黏著膜對粗糙面或曲面之貼附性。因此，貼合用黏著劑層之厚度較佳為10 μm以上，更佳為30 μm以上，進而較佳為50 μm以上。另一方面，藉由減小貼合用黏著劑層之厚度，可使黏著膜不易視認。因此，貼合用黏著劑層之厚度較佳為200 μm以下，更佳為150 μm以下，進而較佳為100 μm以下。
＜層間黏著劑層＞ 本實施形態中之層間黏著劑層係位於透明黏著膜之最外側之黏著劑層以外之黏著劑層，即位於基材彼此之間之黏著劑層，係為了將基材彼此貼合而設置之層。 構成本實施形態中之層間黏著劑層之黏著劑之成分與構成貼合用黏著劑層之黏著劑之成分相同。 於本實施形態之黏著膜中，貼合用黏著劑層與層間黏著劑層可相同，亦可不同。又，於本實施形態之黏著膜具備複數層層間黏著劑層之情形時，各層間黏著劑層可相同，亦可不同。即，本實施形態之黏著膜可包含材質或形狀不同之複數種黏著劑層。
於本實施形態之黏著膜中，於層間黏著劑層之厚度相對於在該層間黏著劑層以凹凸面貼合之基材之凹凸面之表面粗糙度Ra過小之情形時，氣泡容易混入至層間黏著劑層與基材之凹凸面之間，結果，容易視認黏著膜。因此，本實施形態中之層間黏著劑層之厚度設為於該層間黏著劑層以凹凸面貼合之基材之凹凸面之表面粗糙度Ra之5倍以上。即，於圖2中，黏著劑層210b之厚度為基材220a之凹凸面之表面粗糙度Ra之5倍以上，於圖3中，黏著劑層210b、210c、210d、210e之厚度分別為基材220a、220b、220c、220d之凹凸面之表面粗糙度Ra之5倍以上。又，層間黏著劑層之厚度更佳為於該層間黏著劑層以凹凸面貼合之基材之凹凸面之表面粗糙度Ra之7.5倍以上，進而較佳為10倍以上。 另一方面，藉由減小層間黏著劑層之厚度，亦可使黏著膜不易視認。因此，層間黏著劑層之厚度較佳為200 μm以下，更佳為100 μm以下，進而較佳為50 μm以下。
又，於本實施形態之黏著膜中，即便於層間黏著劑層之儲存彈性模數較小之情形時，氣泡亦容易混入至層間黏著劑層與基材之凹凸面之間，結果，容易視認黏著膜。因此，本實施形態中之層間黏著劑層之儲存彈性模數設為1.0×106 Pa以下。又，更佳為設為5.0×105 Pa以下，進而較佳為設為3.0×105 Pa以下。 另一方面，就防止剝離最表面之積層單元後所剝離之積層單元之黏著劑層殘留於新露出之基材之凹凸面側等觀點而言，層間黏著劑層之儲存彈性模數較佳為7.5×104 Pa以上，更佳為1.0×105 Pa以上，進而較佳為2.0×105 Pa以上。
＜黏著膜之製造方法＞ 本實施形態之黏著膜之製造方法並無特別限定。例如，可藉由製造具備基材與黏著劑層之積層單元，積層複數層所獲得之積層單元，而獲得本實施形態之黏著膜。較佳為如此積層複數層積層單元後，藉由貼合機等向黏著膜之厚度方向加壓。可藉由向黏著膜之厚度方向加壓而抑制氣泡進入積層單元間。 具備基材與黏著劑層之積層單元之製造方法並無特別限定，可使用公知之方法進行製造。 黏著劑層可使用包含黏著劑與溶劑等之黏著劑組合物而形成。黏著劑組合物並無特別限定，例如為水系黏著劑組合物、溶劑型黏著劑組合物、熱熔型黏著劑組合物、活性能量線硬化型黏著劑組合物等。 黏著劑層之形成方法並無特別限定，例如可藉由以下所說明之直接法或轉印法等先前公知之方法形成。 直接法係於基材塗佈黏著劑組合物，使其乾燥而形成黏著劑層之方法。轉印法係藉由於剝離紙等塗佈黏著劑組合物並使其乾燥而形成黏著劑層，將該黏著劑層轉印至基材之方法。黏著劑之塗佈例如可使用凹版輥式塗佈機、模嘴塗佈機、棒式塗佈機等先前公知之塗佈機進行。或者可藉由浸漬或淋幕式塗佈法等塗佈黏著劑組合物。 於直接法之情形時，乾燥時之溫度需設為不損害形成於基材表面之凹凸形狀之溫度。又，作為黏著劑組合物中所含有之溶劑，需選擇不使基材溶解、膨潤者。 另一方面，轉印法中無需對基材進行加熱，又，黏著劑組合物中所含有之溶劑亦不會接觸基材，故而損害基材之凹凸形狀之虞較少。由此，較佳為藉由轉印法形成黏著劑層。 [實施例]
以下，列舉實施例及比較例進一步對本發明之效果進行具體說明，但本發明不受該等任何限定。
[基材之製造] ＜基材1、2、4、5＞ 對厚度2 mm之鏡面SUS(Steel Use Stainless，不鏽鋼)金屬板進行各種研磨，製作具有各種凹凸之SUS金屬板。於該等貼合長邊30 cm、短邊20 cm、厚度80 μm之平滑之碳酸酯系聚胺基甲酸酯基材後，藉由貼合機於150℃、0.1 MPa之條件下進行加熱加壓轉印，冷卻至室溫後，將碳酸酯系聚胺基甲酸酯基材自具有凹凸之SUS金屬板剝離，獲得基材1、2、4。又，使用並未設有凹凸之鏡面SUS金屬板於0.1 MPa之條件下進行加熱加壓轉印，除此以外，以相同之方式獲得平滑之基材5。 ＜基材3＞ 於UV硬化型丙烯酸胺基甲酸酯樹脂(固形物成分濃度為80重量%、商品名：UNIDIC17-806、大日本油墨公司製造)之固形物成分100重量份中混合光聚合起始劑(商品名：IRGACURE184、BASF公司製造)5重量份、粒徑1.4 μm之氧化矽粒子(商品名：Sylophobic 100、Fuji Silysia公司製造)6.5重量份、粒徑2.5 μm之氧化矽粒子(商品名：Sylophobic 702、Fuji Silysia公司製造)7.5重量份、氟系添加劑(商品名：MEGAFAC F-556、大日本油墨公司製造)0.5重量份，使用溶劑(甲苯)以固形物成分濃度成為47重量%之方式稀釋該混合物，製備防眩性硬塗層形成材料。 將所調整之防眩性硬塗層形成材料塗佈於長邊30 cm、短邊20 cm、厚度40 μm之三乙醯纖維素基材，於80℃下加熱1分鐘，藉此使上述塗膜乾燥。其後，利用高壓水銀燈照射累計光量300 mJ/cm2 之紫外線，對上述塗膜進行硬化處理而形成厚度6 μm之塗膜，獲得基材3。
[基材之物性之測定] ＜60°光澤度之測定＞ 依據JIS Z 8741(1997年版)測定基材1～5之60°光澤度。具體而言，使用True Gloss GM-26PRO(60°總測定、村上色彩技術研究所(股)製造)進行測定。對各基材進行5次測定，將其平均值作為基材之60°光澤度GL。將結果示於表1及2。
＜凹凸面之形狀(Ra、Sm、θa)之測定＞ 按照JIS B 0601(1994年度版)，對各基材之凹凸面中之凹凸之平均間距Sm(mm)及算術平均表面粗糙度Ra(μm)進行測定。具體而言，利用黏著劑將玻璃板(MATSUNAMI公司製造、MICRO SLIDE GLASS、型號S、厚度1.3 mm、45×50 mm)貼合於與基材1～6之凹凸面相反側之面，製作試樣。使用具有前端部(金剛石)之曲率半徑R=2 μm之測定針之觸針式表面粗糙度測定器(小阪研究所(股)製造、高精度微細形狀測定器、商品名「Surfcorder ET4000」)，於掃描速度1 mm/秒、臨界值0.8 mm、測定長度36 mm之條件下，於固定方向上測定上述基材1～10中之凹凸面之表面形狀，求出凹凸之平均間距Sm(mm)及算術平均表面粗糙度Ra。又，根據所獲得之表面粗糙度曲線求出凹凸之平均傾斜角度θa(°)。將結果示於表1及2。再者，上述高精度微細形狀測定器自動算出上述各測定值。
[例1～19之黏著膜之製造] ＜黏著膜1～12＞ 將表1所示之基材與儲存彈性模數及厚度如表1所示之包含丙烯酸系黏著劑之黏著劑層以表1所示之順序進行積層，藉由貼合機貼合，獲得如圖1所示積層單元數為2層之黏著膜1～12。 再者，第1層為被黏著體側之積層單元(包含圖1之基材220a與黏著劑層210a之積層單元)。 又，於例1～6、例8～12中，於第1層之基材之表面設置有包含長鏈烷基系剝離處理劑之剝離處理層。 ＜黏著膜13～19＞ 將表2所示之基材與儲存彈性模數及厚度如表2所示之包含丙烯酸系黏著劑之黏著劑層以表2所示之順序進行積層，藉由貼合機貼合，獲得如圖2所示積層單元數為5層之黏著膜13～19。 再者，第1層為被黏著體側之積層單元(包含圖2之基材220a與黏著劑層210a之積層單元)。 又，於例13～15、例17～19中，於第1層之基材之表面設置有包含長鏈烷基系剝離處理劑之剝離處理層，於例16中，設置有包含Si之剝離處理層。
[黏著膜1～19之評價] ＜霧度之測定＞ 按照JIS K 7136(2000年版)，求出黏著膜1～19之內部霧度、外部霧度。霧度之測定係以基材之凹凸面側之面作為光出射面而進行。內部霧度係於將三乙醯纖維素膜貼合於基材之凹凸面，藉此壓平凹凸面之表面凹凸，於成為平坦之層之狀態下進行測定。將結果示於表1及2。
＜光澤度＞ 將測定角度設為60°，依據JIS K7105-1981，使用Suga Test Instruments Co., Ltd.製造之數位彎曲光澤計UGV-5DP，測定黏著膜1～19之光澤度。將結果示於表1及2。
＜視認性評價＞ 將所獲得之黏著膜1～19貼附於地板(松下股份有限公司製造、1.5 mm之WPB Reformfloor、扁柏花紋)，藉由目視評價基材之視認性。評價以5(完全無法視認黏著膜)、4(無法視認黏著膜)、3(幾乎看不見黏著膜)、2(根據角度等不同可視認黏著膜)、1(可明顯視認黏著膜)之5階段評價進行。評價係將貼合有片材之地板設置於螢光燈下，評價自1 m之距離觀察時之視認性。評價以10人進行，將10人之評價結果之平均值作為視認性評價之評價結果，評價結果為3以上者為合格。將結果示於表1及2。
＜厚度之測定＞ 使用尾崎製作所(股)製造之數位量規R1-205測定黏著膜1～19之光澤度。將結果示於表1及2。
＜剝離性評價＞ 構成各例之黏著膜之積層單元中，將第1層貼合於丙烯酸系樹脂板後，將第2層切割為寬度50 mm且長度10 cm，藉由貼合機於0.5 MPa之加壓條件下貼合於第1層上。其後，對第2層，於長邊方向上以180度之角度及300 mm/min之拉伸速度利用島津製作所(股)製造之Autograph AGS-50NX進行剝離力之測定。根據所測定之剝離力，按照以下之基準評價剝離性。將結果示於表1及2。 (剝離性評價基準) ◎(特別良好)：剝離力未達1 N ○(良好)：剝離力為1 N以上且未達2 N Δ(稍微不良)：剝離力為2 N以上
[表1]
   例1 例2 例3 例4 例5 例6 例7 例8 例9 例10 例11 例12
構成 第2層 基材 種類 基材1 基材2 基材5
厚度(μm) 100 20 100
Sm(μm) 196 48.5 0
θa(°) 3.74 13.1 0
GL(%) 10.3 15.3 100
Ra(μm) 0.828 1.168 0
黏著劑層 厚度(μm) 10 8 6 4 2 10 10 10 10 8 6 200
儲存彈性模數(105 Pa) 1.3 17 1.3 1.0
第1層(被黏著體側) 基材 剝離處理層 長鏈烷基系 無 長鏈烷基系
種類 基材1 基材4 基材5
厚度(μm) 100 50 100
Sm(μm) 196 75 0
θa(°) 3.74 13.81 0
GL(%) 103 12.7 100
Ra(μm) 0.828 1.384 0
黏著劑層 厚度(μm) 200
儲存彈性模數(105 Pa) 1.0
評價 霧度 內部 4.5 4.1 4.6 21.8 32.3 6.7 6.7 45.4 7.1 6.8 31.2 0.6
外部 60.9 59.8 60.3 59.4 60.1 50.9 50.9 57.1 50.9 53.1 52.3 0.5
光澤度(%) 10.3 11.2 10.8 10.9 10.5 15.3 15.3 16.5 16.2 15.8 15.8 14.1
視認性 評價 4 4 3 1 1 5 5 2 4 3 1 1
備註 - - - 氣泡 - - 氣泡       氣泡 反射
厚度(μm) 410 408 406 404 402 330 330 330 280 278 276 600
剝離評價性 ◎ ◎ ◎ ◎ ◎ ○ Δ ○ ◎ ◎ ◎ ◎
[表2]
   例13 例14 例15 例16 例17 例18 例19
構成 第5層 基材 種類 基材1 基材2
厚度(μm) 100 20
Sm(μm) 196 48.5
θa(°) 3.74 13.1
GL(%) 10.3 15.3
Ra(μm) 0.828 1.168
黏著劑層 厚度(μm) 10
儲存彈性模數(105 Pa) 1.3 0.9 1.3
第2～4層 基材 剝離處理層 長鏈烷基系 Si 長鏈烷基系
種類 基材1 基材2
厚度(μm) 100 20
Sm(μm) 196 48.5
θa(°) 3.74 13.1
GL(%) 10.3 15.3
Ra(μm) 0.828 1.168
黏著劑層 厚度(μm) 10
儲存彈性模數(105 Pa) 1.3 0.9 1.3
第1層(被黏著體側) 基材 剝離處理層 長鏈烷基系 Si 長鏈烷基系
種類 基材1 基材3 基材4
厚度(μm) 100 80 50
Sm(μm) 196 80 75
θa(°) 3.74 3.50 13.81
GL(%) 10.3 20.00 12.7
Ra(μm) 0.828 0.31 1.384
黏著劑層 厚度(μm) 200
儲存彈性模數(105 Pa) 1.0
評價 霧度 內部 13.1 12.8 19.8 17.4 18.8 21.5 18.8
外部 61.3 60.5 51.8 51.8 55.7 57.4 70.9
光澤度(%) 10.6 10.9 16.1 16.3 15.7 20 12.7
視認性 評價 3 3 4 4 4 4 4
備註 - - - - - - -
厚度(μm) 740 500 420 420 420 400 370
剝離性評價 ◎ ◎ ○ ○ ○ ○ ○
滿足本發明之條件之例1～3、6、7、9、10、13～19之黏著膜不易視認。 關於例4之黏著膜，第2層之黏著劑層之厚度為第1層之基材之凹凸面之Ra之4.8倍，低於本發明中所規定之範圍。結果，氣泡混入至層間，容易視認。 關於例5之黏著膜，第2層之黏著劑層之厚度為第1層之基材之凹凸面之Ra之2.4倍，低於本發明中所規定之範圍。結果，氣泡混入至層間，容易視認。 關於例8之黏著膜，第2層之黏著劑層之儲存彈性模數為1.7×106 Pa，高於本發明中所規定之範圍。結果，氣泡混入至層間，容易視認。 關於例11之黏著膜，第2層之黏著劑層之厚度為第1層之基材之凹凸面之Ra之4.3倍，低於本發明中所規定之範圍。結果，氣泡混入至層間，容易視認。 關於例12之黏著膜，基材不具有凹凸面。結果，光於基材表面反射，容易視認。
以上，對本發明之較佳之實施形態進行了說明，但本發明並不限制於上述實施形態，於不脫離本發明之範圍之範圍內，可對上述實施形態施加各種變形及置換。 本發明之黏著膜典型地用於保護物品免於損傷之目的，但並不限定於此。例如亦可用於物品之卡止或維修等。
以上，對本發明之較佳之實施形態進行了說明，但本發明並不限制於上述實施形態，於不脫離本發明之範圍之範圍內，可對上述實施形態施加各種變形及置換。
再者，本申請係基於2018年9月27日申請之日本專利申請(日本專利特願2018-181116)者，其內容作為參照引用於本申請中。
200:黏著膜 210a:貼合用黏著劑層 210b:層間黏著劑層 210c:層間黏著劑層 210d:層間黏著劑層 210e:層間黏著劑層 220a:基材 220b:基材 220c:基材 220d:基材 220e:基材
圖1係本發明之實施形態之透明黏著膜之一態樣的概略剖視圖。 圖2係本發明之實施形態之透明黏著膜之另一態樣的概略剖視圖。
200:黏著膜
210a:貼合用黏著劑層
210b:層間黏著劑層
220a:基材
220b:基材

Claims (5)

  1. 一種透明黏著膜，其係具備2個以上之積層單元者，該積層單元具備具有凹凸面之基材、及積層於上述基材之上述凹凸面之相反側之面的黏著劑層，且 位於上述透明黏著膜之最外側之黏著劑層以外的黏著劑層之厚度為於該黏著劑層以凹凸面貼合之上述基材之凹凸面之表面粗糙度Ra之5倍以上，於頻率1 Hz之剪切應變下藉由動態黏彈性測定所測定之23℃之儲存彈性模數為1.0×106 Pa以下。
  2. 如請求項1之透明黏著膜，其具備形成於基材之凹凸面側之剝離處理層。
  3. 如請求項1之透明黏著膜，其中位於上述透明黏著膜之最外側之黏著劑層係於頻率1 Hz之剪切應變下藉由動態黏彈性測定所測定之23℃之儲存彈性模數為1.0×106 Pa以下。
  4. 如請求項2之透明黏著膜，其中位於上述透明黏著膜之最外側之黏著劑層係於頻率1 Hz之剪切應變下藉由動態黏彈性測定所測定之23℃之儲存彈性模數為1.0×106 Pa以下。
  5. 如請求項1至4中任一項之透明黏著膜，其中上述黏著劑層包含選自由丙烯酸系黏著劑及橡膠系黏著劑所組成之群中之至少1種。
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