TW202024561A - 共焦感測器 - Google Patents

共焦感測器 Download PDF

Info

Publication number
TW202024561A
TW202024561A TW108144223A TW108144223A TW202024561A TW 202024561 A TW202024561 A TW 202024561A TW 108144223 A TW108144223 A TW 108144223A TW 108144223 A TW108144223 A TW 108144223A TW 202024561 A TW202024561 A TW 202024561A
Authority
TW
Taiwan
Prior art keywords
distance
diffractive lens
wavelength
light
pinhole
Prior art date
Application number
TW108144223A
Other languages
English (en)
Other versions
TWI724668B (zh
Inventor
森野久康
高嶋潤
Original Assignee
日商歐姆龍股份有限公司
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 日商歐姆龍股份有限公司 filed Critical 日商歐姆龍股份有限公司
Publication of TW202024561A publication Critical patent/TW202024561A/zh
Application granted granted Critical
Publication of TWI724668B publication Critical patent/TWI724668B/zh

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01BMEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
    • G01B11/00Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques
    • G01B11/02Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring length, width or thickness
    • G01B11/06Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring length, width or thickness for measuring thickness ; e.g. of sheet material
    • G01B11/0608Height gauges
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01BMEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
    • G01B11/00Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques
    • G01B11/002Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring two or more coordinates
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01BMEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
    • G01B11/00Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques
    • G01B11/02Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring length, width or thickness
    • G01B11/026Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring length, width or thickness by measuring distance between sensor and object
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01BMEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
    • G01B11/00Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques
    • G01B11/02Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring length, width or thickness
    • G01B11/028Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring length, width or thickness by measuring lateral position of a boundary of the object
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01JMEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
    • G01J1/00Photometry, e.g. photographic exposure meter
    • G01J1/02Details
    • G01J1/04Optical or mechanical part supplementary adjustable parts
    • G01J1/0407Optical elements not provided otherwise, e.g. manifolds, windows, holograms, gratings
    • G01J1/0411Optical elements not provided otherwise, e.g. manifolds, windows, holograms, gratings using focussing or collimating elements, i.e. lenses or mirrors; Aberration correction
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B21/00Microscopes
    • G02B21/0004Microscopes specially adapted for specific applications
    • G02B21/0016Technical microscopes, e.g. for inspection or measuring in industrial production processes
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B21/00Microscopes
    • G02B21/0004Microscopes specially adapted for specific applications
    • G02B21/002Scanning microscopes
    • G02B21/0024Confocal scanning microscopes (CSOMs) or confocal "macroscopes"; Accessories which are not restricted to use with CSOMs, e.g. sample holders
    • G02B21/0032Optical details of illumination, e.g. light-sources, pinholes, beam splitters, slits, fibers
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01BMEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
    • G01B2210/00Aspects not specifically covered by any group under G01B, e.g. of wheel alignment, caliper-like sensors
    • G01B2210/50Using chromatic effects to achieve wavelength-dependent depth resolution

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
  • Measurement Of Optical Distance (AREA)

Abstract

本發明提供一種測定範圍更大的共焦感測器。共焦感測器1包括:光源10,射出多個波長的光;繞射透鏡130,相對於光沿光軸方向產生色像差,不經由其他透鏡使光聚集於對象物200;針孔120,使光之中、在對象物200上聚焦而反射且經繞射透鏡130聚集的反射光通過;測定部40,基於反射光的波長,測定自繞射透鏡130至對象物200為止的距離;並且,自針孔120至繞射透鏡130為止的距離L2為可變。

Description

共焦感測器
本揭示是有關於一種共焦感測器。
先前,使用一種共焦感測器,其相對於自光源射出的光藉由共焦光學系統而沿光軸產生色像差,利用被聚集的光的波長根據至對象物為止的距離而發生變化的原理,測定至對象物為止的距離。
在下述專利文獻1中,記載有一種裝置,其包括:生成多色光束的單元;以及至少一個透鏡,使各個波長的光線集中於各個焦點。
又,在下述專利文獻2中,記載有一種共焦高度測定裝置,其包括共焦顯微鏡,所述共焦顯微鏡使來自光源的照明光,自具有規定的圖案部的圓盤經由物鏡而成像於試樣,且使來自試樣的光再次自物鏡經由圓盤入射至攝像單元而獲得試樣的觀察圖像,所述共焦高度測定裝置使用光軸方向上的位置修正資料來修正由共焦顯微鏡所獲得的高度資訊,所述光軸方向上的位置修正資料是由圓盤相對於物鏡的光軸的傾斜度、載置試樣的平台的傾斜度、及物鏡的像面彎曲中的至少一者產生。 [現有技術文獻] [專利文獻]
專利文獻1:美國專利第4585349號說明書 專利文獻2:日本專利特開2004-286608號公報
[發明所欲解決之課題]
藉由使用現有的共焦感測器,可以數奈米(nm)的解析度測定至對象物為止的距離。但是,現有的共焦感測器的測定範圍存在限定於如下的範圍的情況,所述範圍是以自感測頭(sensor head)的前表面算起數十毫米(mm)的點為中心的前後數毫米的範圍。
因此,本發明提供一種測定範圍更大的共焦感測器。 [解決課題之手段]
本揭示的一態樣的共焦感測器包括:光源,射出多個波長的光;繞射透鏡,相對於光沿光軸方向產生色像差,不經由其他透鏡而使光聚集於對象物;針孔(pin hole),使光之中、在對象物上聚焦而反射且經繞射透鏡聚集的反射光通過;測定部,基於反射光的波長,測定自繞射透鏡至對象物為止的距離;且自針孔至繞射透鏡為止的距離為可變。
根據所述態樣,藉由自針孔至繞射透鏡為止的距離為可變,可改變能夠測定的範圍,從而可在更大範圍內測定至對象物為止的距離。
在所述態樣中,亦可進而包括使自針孔至繞射透鏡為止的距離連續地變化的機構。
根據所述態樣,藉由連續地改變自針孔至繞射透鏡為止的距離,可連續地改變測定範圍。
在所述態樣中,亦可能夠替換將繞射透鏡收容於各不相同的位置的多種固持器。
根據所述態樣,藉由替換多種固持器,可分段地改變測定範圍。
在所述態樣中,測定部亦可按照反射光的波長、與自繞射透鏡至對象物為止的距離的非線性關係,測定自繞射透鏡至對象物為止的距離。
根據所述態樣,藉由利用反射光的波長、與自繞射透鏡至對象物為止的距離的非線性關係,可使測定範圍大於利用線性關係的情況。
在所述態樣中,亦可為當將反射光的波長表示為λ,將自繞射透鏡至對象物為止的距離表示為L1,將自針孔至繞射透鏡為止的距離表示為L2,將關於基準波長λ0 的繞射透鏡的焦距表示為f0 時,非線性的關係亦可表示為: [數式1]
Figure 02_image001
根據所述態樣,藉由改變自針孔至繞射透鏡為止的距離,可改變反射光的波長、與自繞射透鏡至對象物為止的距離的非線性關係,從而可進一步擴大測定範圍。
在所述態樣中,測定部亦可按照非線性的關係,測定自繞射透鏡至對象物為止的距離,所述非線性的關係是基於反射光的波長、及自繞射透鏡至對象物為止的距離的實測值而推斷。
根據所述態樣,可基於實測值,修正反射光的波長、與自繞射透鏡至對象物為止的距離的非線性關係,從而可更準確地測定自繞射透鏡至對象物為止的距離。
在所述態樣中,測定部亦可基於波長,判定對象物是否位於規定的範圍內。
根據所述態樣,可判定對象物的位置是否適當。
在所述態樣中,亦可進而包括:輸入部,接收所要求的波長解析度的輸入;以及輸出部,輸出滿足波長解析度的自繞射透鏡至對象物為止的距離、及自針孔至繞射透鏡為止的距離的範圍。
根據所述態樣,可一方面實現所要求的波長解析度,一方面掌握可在何種範圍內移動繞射透鏡,或改變對象物與感測頭的位置關係。 [發明的效果]
根據本發明,可提供一種測定範圍更大的共焦感測器。
以下,基於圖式,說明本發明一方面的實施形態(以下記作「本實施形態」)。再者,在各圖中,標註相同符號的元件具有相同或相似的構成。
[構成例] 圖1是表示本發明實施形態的共焦感測器1的概要的圖。本實施形態的共焦感測器1是測量對象物200的位置的裝置,包括光源10、第一光纖11、第二光纖12、第三光纖13、光耦合器(optical coupler)20、分光器30、測定部40及感測頭100。
光源10射出多個波長的光。光源10可為射出白色光的構件,將光輸出至第一光纖11。光源10亦可基於測定部40的指令,調整白色光的光量。第一光纖11可為任意的光纖,例如可為芯徑為50 μm的折射率分佈型纖維。第一光纖11可在與光耦合器20連接的近前與芯徑更細的纖維連結。
光耦合器20將第一光纖11、第二光纖12及第三光纖13加以連接,自第一光纖11向第二光纖12傳送光,且自第二光纖12向第三光纖13傳送光。
感測頭100收容繞射透鏡130,所述繞射透鏡130與第二光纖12連接,相對於光沿光軸方向產生色像差,不經由其他透鏡而使光聚集於對象物200。在本例中,圖示了焦距比較長的第一波長的光210、及焦距比較短的第二波長的光220。在本例的情況下,第一波長的光210是在對象物200上聚焦,但第二波長的光220是在對象物200的近前聚焦。
在對象物200的表面上反射的光經繞射透鏡130聚集,而返送至第二光纖12的芯即針孔120。針孔120使光之中、在對象物200上聚焦而反射且經繞射透鏡130聚集的反射光通過。反射光之中第一波長的光210藉由設置於第二光纖12的端面的針孔120而聚焦,因此其大部分入射至第二光纖12,但其他波長的光不在針孔120聚焦,其大部分不入射至第二光纖12。入射至第二光纖12的反射光經由光耦合器20而傳送至第三光纖13,並輸入至分光器30。再者,入射至第二光纖12的反射光亦經由光耦合器20而傳送至第一光纖11,但在光源10終結。
分光器30與第三光纖13連接,經由第二光纖12、光耦合器20及第三光纖13,獲取經對象物200反射且藉由感測頭100而聚集的反射光,測量反射光的光譜(spectrum)。分光器30包括:第一透鏡31,使自第三光纖13射出的反射光聚集;繞射光柵(diffraction grating)32,對反射光進行分光;第二透鏡33,使經分光的反射光聚集;受光元件34,接收經分光的反射光;以及讀出電路35,讀取受光元件34所產生的受光訊號。讀出電路35基於受光元件34所產生的受光訊號,讀取接收到的光的波長及光量。
測定部40基於反射光的波長,測定自繞射透鏡130至對象物200為止的距離L1。在本例的情況下,藉由讀出電路35,而讀取第一波長的光210作為峰值(peak),測定部40計算與第一波長相對應的位置。
在本實施形態的共焦感測器1中,自針孔120至繞射透鏡130為止的距離L2為可變。先前,自針孔120至繞射透鏡130為止的距離L2為固定,藉由其他透鏡來線性修正色像差,因此未假設改變距離L2,從而無法任意擴大或縮小共焦感測器1的測定範圍。根據本實施形態的共焦感測器1,自針孔120至繞射透鏡130為止的距離L2為可變,藉此可改變能夠測定的範圍,從而可在更大範圍內測定至對象物200為止的距離。
感測頭100包括連續地改變自針孔120至繞射透鏡130為止的距離L2的機構。具體而言,感測頭100包括使繞射透鏡130在沿光軸的方向上連續地移動的可變機構150。可變機構150亦可包括讀取繞射透鏡130的位置的單元,亦可將自針孔120至繞射透鏡130為止的距離L2、或自繞射透鏡130至感測頭100的整個面為止的距離L3傳送至測定部40。藉由利用可變機構150,連續地改變自針孔120至繞射透鏡130為止的距離L2,可連續地改變測定範圍。
圖2是表示本實施形態的共焦感測器1的自繞射透鏡130至對象物200為止的距離L1與反射光的波長的關係的圖。在所述圖2中,將自繞射透鏡130至對象物200為止的距離L1以mm為單位表示於縱軸,將反射光的波長以nm為單位表示於橫軸。又,在所述圖2中,利用實線表示自針孔120至繞射透鏡130為止的距離L2為36 mm的情況,利用虛線表示L2=37 mm的情況,利用一點鏈線表示L2=38 mm的情況,利用兩點鏈線表示L2=39 mm的情況,以點線表示L2=40 mm的情況,以長虛線表示L2=41 mm的情況。
根據所述圖2,可讀取出反射光的波長越長,相對應的距離L1越短。又,可讀取出反射光的波長越短,反射光的波長改變了一個單位時的距離L1的變化越大。進而,可讀取出自針孔120至繞射透鏡130為止的距離L2越短,反射光的波長改變了一個單位時的距離L1的變化越大。
本實施形態的共焦感測器1的測定部40可按照反射光的波長與自繞射透鏡130至對象物200為止的距離L1的非線性關係,測定自繞射透鏡130至對象物200為止的距離。先前,在共焦感測器中,存在如下的情況:利用其他透鏡,修正反射光的波長與自繞射透鏡130至對象物200為止的距離L1的非線性關係,而設為線性關係。藉由如上所述的修正,可使距離L1的解析度幾乎不依存於波長。但是,當反射光的波長與距離L1的對應關係為線性時,測定範圍會限定在小範圍。本實施形態的共焦感測器1藉由利用反射光的波長與距離L1的非線性關係,可與利用線性關係的情況相比,尤其擴大短波長區域內的測定範圍,使共焦感測器1的測定範圍更大。
更具體而言,當將反射光的波長表示為λ,將自繞射透鏡130至對象物200為止的距離表示為L1,將自針孔120至繞射透鏡130為止的距離表示為L2,將關於基準波長λ0 的繞射透鏡130的焦距表示為f0 時,與自繞射透鏡130至對象物200為止的距離L1的非線性關係可用以下的數式(2)表示。
[數式2]
Figure 02_image001
如上所述,藉由改變自針孔120至繞射透鏡130為止的距離,可改變反射光的波長λ與自繞射透鏡130至對象物200為止的距離L1的非線性關係,從而可進一步擴大測定範圍。
圖3是表示本實施形態的共焦感測器1的初始設定處理的流程圖。所述圖3所示的處理是在藉由共焦感測器1而測定距離之前進行。
首先,調整對象物200或繞射透鏡130的位置,以藉由共焦感測器1而輸出與基準波長(或在調整時點的設定的基準波長)相對應的距離(S10)。此處,基準波長及與所述基準波長相對應的焦距設為在設計階段規定。
其後,保持固定著繞射透鏡130的狀態,使對象物200移動僅已知量(S11)。共焦感測器1記憶此時檢測出的反射光的波長與距離的關係(S12)。此處,至對象物200為止的距離是藉由在與基準波長相對應的距離上加上(或減去)使對象物200移動的距離而算出。
然後,針對規定的波長範圍,判定是否已測定完成由共焦感測器1所檢測出的反射光的波長與距離的關係(S13)。例如,可藉由使對象物200移動僅預定的多個已知量,來判定是否測定完成。
當針對規定的波長範圍未測定完成時(S13:否(NO)),反覆進行如下處理:使對象物200移動僅已知量(S11),記憶所檢測出的反射光的波長與距離的關係(S12)。另一方面,當針對規定的波長範圍已測定完成時(S13:是(YES)),確定規定波長與距離的非線性關係的參數(S14)。即,確定用數式(2)表示的對反射光的波長λ與自繞射透鏡130至對象物200為止的距離L1的非線性關係進行特定的參數(L2、λ0 、f0 )。
亦可改變自針孔120至繞射透鏡130為止的距離L2而反覆進行如上所述的處理。藉由以上所述,用於初始設定的處理結束。
進行以上的處理,測定部40亦可按照非線性關係,測定自繞射透鏡130至對象物200為止的距離,所述非線性關係是基於反射光的波長、與自繞射透鏡130至對象物200為止的距離的實測值而推斷。藉此,可基於實測值,修正反射光的波長與自繞射透鏡130至對象物200為止的距離的非線性關係,從而可更準確地測定自繞射透鏡130至對象物200為止的距離。
圖4是表示藉由本實施形態的共焦感測器1而判定對象物200是否位於規定的範圍內的概要的圖。在所述圖4中,表示如下的情況:藉由感測頭100,來判定藉由輸送機(conveyor)300而移送的工件是否位於規定的範圍。在所述圖4中,圖示有藉由輸送機300而移送的七個工件。對於工件,自輸送機300的下游起,依次標註0至6的數字。本例的「規定的範圍」在所述圖4中是表示為「合格(OK)」的範圍,是輸送機300的中央帶。另一方面,在所述圖4中表示為「不合格(no good,NG)」的相當於輸送機300的側帶的範圍是「規定的範圍」之外。
判定工件是否位於規定的範圍內時,調整共焦感測器1的自針孔120至繞射透鏡130為止的距離L2,至少使表示為「合格」的範圍包含於測定範圍。然後,進行後述初始設定,藉由共焦感測器1的測定部40,基於反射光的波長,判定對象物是否位於規定的範圍內。
圖5是表示藉由本實施形態的共焦感測器1而獲得的判定結果及自繞射透鏡130至對象物200為止的距離L1與反射光的波長的關係的圖。在所述圖5中,將自繞射透鏡130至對象物200為止的距離L1以mm為單位表示於縱軸,將反射光的波長以nm為單位表示於橫軸。
在所述圖5中,自輸送機300的下游起依次對應於標註有0至6的數字的工件,圖示有測定點p0至測定點p6。又,在所述圖5中,圖示有與表示為「合格」的範圍相對應的波長範圍、及與表示為「不合格」的範圍相對應的波長範圍。
根據所述圖5,與測定點p0、測定點p3、測定點p4及測定點p6相對應的工件位於規定的範圍內。另一方面,與測定點p1、測定點p2及測定點p5相對應的工件不位於規定的範圍內。
測定部40可對所測定的波長、及與規定的範圍相對應的波長範圍的上限及下限進行比較,判定對象物是否位於規定的範圍內。以如上所述的方式,可判定對象物的位置是否適當。
圖6是表示本實施形態的共焦感測器1的初始設定處理的流程圖。所述圖6所示的處理是在判定對象物是否位於規定的範圍內之前進行。
首先,以合格(OK)範圍成為測定範圍的方式,調整自針孔120至繞射透鏡130為止的距離L2,並對繞射透鏡130進行固定(S20)。然後,開動輸送機300,使樣品工件流動。樣品工件在圖4中放置於表示為「合格」的範圍(合格範圍),或放置於表示為「不合格」的範圍(不合格範圍)。將放置於合格範圍的樣品稱為合格樣品,將放置於不合格範圍的樣品稱為不合格樣品。
共焦感測器1記憶測定到合格樣品時的波長(S21),且記憶測定到不合格樣品時的波長(S22)。
然後,針對規定的波長範圍,判定由共焦感測器1所檢測出的反射光的波長與合格或不合格的對應關係是否完成(S23)。例如,可根據針對預定的多個樣品是否已結束測定,來判定是否測定完成。
當針對規定的波長範圍未測定完成時(S23:否),反覆進行如下的處理:處理(S21),記憶測定到合格樣品時的波長;以及處理(S22),記憶測定到不合格樣品時的波長。另一方面,當針對規定的波長範圍已測定完成時(S23:是),基於波長,確定用以判定對象物是否位於合格範圍內的參數。藉由以上所述,用於初始設定的處理結束。
圖7是表示在本實施形態的變形例的感測頭100a安裝有第一固持器160a的情況的概要的圖。又,圖8是表示在本實施形態的變形例的感測頭100a安裝有第二固持器160b的情況的概要的圖。變形例的感測頭100a可替換將繞射透鏡130收容於各不相同的位置的多種固持器(第一固持器160a及第二固持器160b)。
當將第一固持器160a安裝於感測頭100a時,自繞射透鏡130至對象物200為止的距離為L1a,自針孔120至繞射透鏡130為止的距離為L2a。此處,自針孔120至繞射透鏡130為止的距離L2a是作為第一固持器160a的設計值而已知。測定部40按照自針孔120至繞射透鏡130為止的距離為L2a時的數式(2),計算自繞射透鏡130至對象物200為止的距離L1a。再者,在計算自感測頭100a的前表面至對象物200為止的距離時,只要從自繞射透鏡130至對象物200為止的距離L1a,減去自繞射透鏡130至感測頭100a的前表面為止的距離L3a即可。此處,自繞射透鏡130至感測頭100a的前表面為止的距離L3a是自感測頭100a的全長L,減去自針孔120至繞射透鏡130為止的距離L2a所得的值。
當將第二固持器160b安裝於感測頭100a時,自繞射透鏡130至對象物200為止的距離為L1b,自針孔120至繞射透鏡130為止的距離為L2b。此處,自針孔120至繞射透鏡130為止的距離L2b是作為第一固持器160a的設計值而已知。測定部40按照自針孔120至繞射透鏡130為止的距離為L2b時的數式(2),計算自繞射透鏡130至對象物200為止的距離L1b。再者,當計算自感測頭100a的前表面至對象物200為止的距離時,只要從自繞射透鏡130至對象物200為止的距離L1b,減去自繞射透鏡130至感測頭100a的前表面為止的距離L3b即可。
如上所述,藉由替換多種固持器,可分段地改變測定範圍。在本例的情況下,L2a<L2b,因此在安裝有第一固持器160a的情況下,測定範圍大於安裝有第二固持器160b的情況。另一方面,在安裝有第二固持器160b的情況下,在低波長區域內,測定精度高於安裝有第一固持器160a的情況。
圖9是表示本實施形態的共焦感測器1的波長解析度、與自繞射透鏡130至對象物200為止的距離L1的關係的圖。在所述圖9中,將波長解析度以mm/nm為單位示於縱軸,將自繞射透鏡130至對象物200為止的距離L1以mm為單位示於橫軸。又,在所述圖9中,利用實線表示自針孔120至繞射透鏡130為止的距離L2為36 mm的情況,利用虛線表示L2=37 mm的情況,利用一點鏈線表示L2=38 mm的情況,利用兩點鏈線表示L2=39 mm的情況,利用點線表示L2=40 mm的情況,利用長虛線表示L2=41 mm的情況。波長解析度意味著解析度越好,越能夠以更高精度測定至對象物200為止的距離。
根據所述圖9,可讀取出自繞射透鏡130至對象物200為止的距離L1越長,波長解析度的值越大(解析度越低)。又,可讀取出當使自繞射透鏡130至對象物200為止的距離L1固定時,自針孔120至繞射透鏡130為止的距離L2越長,波長解析度的值越小(解析度越高)。
共焦感測器1亦可進而包括:輸入部,接收使用者所要求的波長解析度的輸入;以及輸出部,輸出滿足所要求的波長解析度的自繞射透鏡130至對象物200為止的距離L1、及自針孔120至繞射透鏡130為止的距離L2的範圍。輸入部例如可包括按鈕,輸出部例如可包括七段顯示部或液晶顯示裝置。共焦感測器1可將圖9所示的關係性記憶於記憶部,計算滿足所要求的波長解析度的自繞射透鏡130至對象物200為止的距離L1及自針孔120至繞射透鏡130為止的距離L2的範圍。藉此,可一方面實現所要求的波長解析度,一方面掌握可在何種範圍內移動繞射透鏡130,或改變對象物200與感測頭100的位置關係。
又,共焦感測器1可接收使用者所要求的波長解析度的輸入及使用者所要求的線性度(linearity)的輸入,輸出滿足所要求的波長解析度及所要求的線性度的自繞射透鏡130至對象物200為止的距離L1、及自針孔120至繞射透鏡130為止的距離L2的範圍。共焦感測器1可將圖9所示的關係性記憶於記憶部,計算滿足所要求的波長解析度及所要求的線性度的自繞射透鏡130至對象物200為止的距離L1、及自針孔120至繞射透鏡130為止的距離L2的範圍。藉此,可一方面實現所要求的波長解析度及所要求的線性度,一方面掌握可在何種範圍內移動繞射透鏡130,或改變對象物200與感測頭100的位置關係。
使用者參考所輸出的L1及L2的值,調整自繞射透鏡130至對象物200為止的距離L1及自針孔120至繞射透鏡130為止的距離L2,進行至對象物200為止的距離的測定。藉此,例如,在以使感測頭100逐漸靠近對象物200的方式進行控制時,可進行自粗略調整至高精度的調整。
圖10是表示本實施形態的共焦感測器1的距離計算處理的流程圖。首先,共焦感測器1接收使用者所要求的波長解析度的輸入(S30)。又,共焦感測器1接收使用者所要求的線性度的輸入(S31)。
其後,共焦感測器1計算滿足所要求的波長解析度及所要求的線性度的自繞射透鏡130至對象物200為止的距離L1、及自針孔120至繞射透鏡130為止的距離L2的範圍(S32)。最後,共焦感測器1輸出所算出的自繞射透鏡130至對象物200為止的距離L1、及自針孔120至繞射透鏡130為止的距離L2的範圍(S33)。藉由以上所述,距離計算處理結束。
以上說明的實施形態是用以使本發明易於理解,而並非用以限定地解釋本發明。實施形態所含的各部件及其配置、材料、條件、形狀及尺寸等並不限定於例示者,而可適當變更。又,可對不同的實施形態中所揭示的構成彼此進行部分替換或組合。
[附記1] 一種共焦感測器(1),其包括: 光源(10),射出多個波長的光; 繞射透鏡(130),相對於所述光沿光軸方向產生色像差,不經由其他透鏡而使所述光聚集於對象物(200); 針孔(120),使所述光之中、在所述對象物(200)上聚焦而反射且經所述繞射透鏡(130)聚集的反射光通過;以及 測定部(40),基於所述反射光的波長,測定自所述繞射透鏡(130)至所述對象物(200)為止的距離;且 自所述針孔(120)至所述繞射透鏡(130)為止的距離為可變。
1:共焦感測器 10:光源 11:第一光纖 12:第二光纖 13:第三光纖 20:光耦合器 30:分光器 31:第一透鏡 32:繞射光柵 33:第二透鏡 34:受光元件 35:讀出電路 40:測定部 100、100a:感測頭 120:針孔 130:繞射透鏡 150:可變機構 160a:第一固持器 160b:第二固持器 200:對象物 210:第一波長的光 220:第二波長的光 300:輸送機 L1、L1a、L1b:自繞射透鏡130至對象物200為止的距離 L2、L2a、L2b:自針孔120至繞射透鏡130為止的距離 L3:自繞射透鏡130至感測頭100的整個面為止的距離 L3a、L3b:自繞射透鏡130至感測頭100a的前表面為止的距離 p0~p6:測定點 S10~S14、S20~S24、S30~S33:步驟
圖1是表示本發明實施形態的共焦感測器的概要的圖。 圖2是表示本實施形態的共焦感測器的自繞射透鏡至對象物為止的距離與反射光的波長的關係的圖。 圖3是表示本實施形態的共焦感測器的初始設定處理的流程圖。 圖4是表示藉由本實施形態的共焦感測器來判定對象物是否位於規定的範圍內的概要的圖。 圖5是表示藉由本實施形態的共焦感測器而獲得的判定結果及自繞射透鏡至對象物為止的距離與反射光的波長的關係的圖。 圖6是表示本實施形態的共焦感測器的初始設定處理的流程圖。 圖7是表示在本實施形態的變形例的感測頭安裝有第一固持器時的概要的圖。 圖8是表示在本實施形態的變形例的感測頭安裝有第二固持器時的概要的圖。 圖9是表示本實施形態的共焦感測器的波長解析度、與自繞射透鏡至對象物為止的距離的關係的圖。 圖10是表示本實施形態的共焦感測器的距離計算處理的流程圖。
1:共焦感測器
10:光源
11:第一光纖
12:第二光纖
13:第三光纖
20:光耦合器
30:分光器
31:第一透鏡
32:繞射光柵
33:第二透鏡
34:受光元件
35:讀出電路
40:測定部
100:感測頭
120:針孔
130:繞射透鏡
150:可變機構
200:對象物
210:第一波長的光
220:第二波長的光
L1:自繞射透鏡130至對象物200為止的距離
L2:自針孔120至繞射透鏡130為止的距離
L3:自繞射透鏡130至感測頭100的整個面為止的距離

Claims (8)

  1. 一種共焦感測器,包括: 光源,射出多個波長的光; 繞射透鏡,相對於所述光沿光軸方向產生色像差,不經由其他透鏡使所述光聚集於對象物; 針孔,使所述光之中,在所述對象物上聚焦而反射且經所述繞射透鏡聚集的反射光通過;以及 測定部,基於所述反射光的波長,測定自所述繞射透鏡至所述對象物為止的距離;且 自所述針孔至所述繞射透鏡為止的距離為可變。
  2. 如申請專利範圍第1項所述的共焦感測器,其中進而包括: 使自所述針孔至所述繞射透鏡為止的距離連續地變化的機構。
  3. 如申請專利範圍第1項所述的共焦感測器,其中 能夠替換將所述繞射透鏡收容於各不相同的位置的多種固持器。
  4. 如申請專利範圍第1項所述的共焦感測器,其中 所述測定部按照所述反射光的波長、與自所述繞射透鏡至所述對象物為止的距離的非線性關係,測定自所述繞射透鏡至所述對象物為止的距離。
  5. 如申請專利範圍第4項所述的共焦感測器,其中 當將所述反射光的波長表示為λ,將自所述繞射透鏡至所述對象物為止的距離表示為L1,將自所述針孔至所述繞射透鏡為止的距離表示為L2,將關於基準波長λ0 的所述繞射透鏡的焦距表示為f0 時,所述非線性關係可表示為: [數式1]
    Figure 03_image001
  6. 如申請專利範圍第4項所述的共焦感測器,其中 所述測定部按照所述非線性的關係,測定自所述繞射透鏡至所述對象物為止的距離,所述非線性的關係是基於所述反射光的波長、及自所述繞射透鏡至所述對象物為止的距離的實測值而推斷。
  7. 如申請專利範圍第1項所述的共焦感測器,其中 所述測定部基於所述波長,判定所述對象物是否位於規定的範圍內。
  8. 如申請專利範圍第1項所述的共焦感測器,其中進而包括: 輸入部,接收所要求的波長解析度的輸入;以及 輸出部,輸出滿足所述波長解析度的自所述繞射透鏡至所述對象物為止的距離、及自所述針孔至所述繞射透鏡為止的距離的範圍。
TW108144223A 2018-12-20 2019-12-04 共焦感測器 TWI724668B (zh)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2018238524A JP6986235B2 (ja) 2018-12-20 2018-12-20 共焦点センサ
JP2018-238524 2018-12-20

Publications (2)

Publication Number Publication Date
TW202024561A true TW202024561A (zh) 2020-07-01
TWI724668B TWI724668B (zh) 2021-04-11

Family

ID=71100424

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW108144223A TWI724668B (zh) 2018-12-20 2019-12-04 共焦感測器

Country Status (7)

Country Link
US (1) US11965729B2 (zh)
EP (1) EP3901568B1 (zh)
JP (1) JP6986235B2 (zh)
KR (1) KR102556921B1 (zh)
CN (1) CN112654832A (zh)
TW (1) TWI724668B (zh)
WO (1) WO2020129533A1 (zh)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN112147622B (zh) * 2020-09-02 2024-02-06 Oppo广东移动通信有限公司 测距装置、测距方法、摄像头及电子设备

Family Cites Families (35)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CH663466A5 (fr) 1983-09-12 1987-12-15 Battelle Memorial Institute Procede et dispositif pour determiner la position d'un objet par rapport a une reference.
JPH09113240A (ja) * 1995-10-16 1997-05-02 Agency Of Ind Science & Technol 光透過物質の三次元情報の検出方法及び装置
US6313915B1 (en) 1998-08-27 2001-11-06 Murata Manufacturing Co., Ltd. Displacement measuring method and apparatus
US6628385B1 (en) * 1999-02-05 2003-09-30 Axon Instruments, Inc. High efficiency, large field scanning microscope
US6548796B1 (en) * 1999-06-23 2003-04-15 Regents Of The University Of Minnesota Confocal macroscope
US6657216B1 (en) * 2002-06-17 2003-12-02 Nanometrics Incorporated Dual spot confocal displacement sensor
JP2004286608A (ja) * 2003-03-24 2004-10-14 Olympus Corp 共焦点高さ測定装置
JP4027866B2 (ja) * 2003-09-04 2007-12-26 アオイ電子株式会社 位置姿勢計測方法および位置姿勢計測装置
JP2005214905A (ja) * 2004-01-30 2005-08-11 Sunx Ltd 変位センサ及び変位測定方法
DE102004007213A1 (de) * 2004-02-13 2005-09-08 Siemens Ag Konfokaler Abstandssensor
JP2007121122A (ja) 2005-10-28 2007-05-17 Omron Corp 変位センサ
US7791712B2 (en) * 2007-03-27 2010-09-07 Mitutoyo Corporation Chromatic confocal sensor fiber interface
JP4962134B2 (ja) * 2007-05-17 2012-06-27 オムロン株式会社 計測装置
JP2010151745A (ja) * 2008-12-26 2010-07-08 Omron Corp 変位センサ
JP2010216880A (ja) * 2009-03-13 2010-09-30 Omron Corp 変位センサ
US8194251B2 (en) * 2010-08-26 2012-06-05 Mitutoyo Corporation Method for operating a dual beam chromatic point sensor system for simultaneously measuring two surface regions
KR101819006B1 (ko) * 2010-10-27 2018-01-17 삼성전자주식회사 광학 측정 장치
JP5790178B2 (ja) 2011-03-14 2015-10-07 オムロン株式会社 共焦点計測装置
CN103837093B (zh) 2012-11-20 2017-09-12 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司 光谱共焦传感器校准系统及方法
JP2014153092A (ja) * 2013-02-05 2014-08-25 Canon Inc 測定装置および物品の製造方法
WO2015163261A1 (ja) * 2014-04-24 2015-10-29 オリンパス株式会社 顕微鏡および顕微鏡観察方法
US9774765B2 (en) * 2015-09-15 2017-09-26 Mitutoyo Corporation Chromatic aberration correction in imaging system including variable focal length lens
US9958257B2 (en) 2015-09-21 2018-05-01 Kla-Tencor Corporation Increasing dynamic range of a height sensor for inspection and metrology
JP6520669B2 (ja) * 2015-12-03 2019-05-29 オムロン株式会社 光学計測装置
CN108369193A (zh) 2015-12-08 2018-08-03 伊雷克托科学工业股份有限公司 移动传感器坐标检测系统
CN108474645B (zh) * 2015-12-25 2021-02-23 株式会社基恩士 共焦位移计
EP3222964B1 (en) * 2016-03-25 2020-01-15 Fogale Nanotech Chromatic confocal device and method for 2d/3d inspection of an object such as a wafer
CN109310328B (zh) * 2016-03-25 2022-05-17 统雷有限公司 用于3d测量应用的mems可调vcsel驱动的扫频光源oct
JP6788476B2 (ja) * 2016-10-21 2020-11-25 株式会社ミツトヨ クロマティック共焦点センサ及び測定方法
JP2018119907A (ja) * 2017-01-27 2018-08-02 レーザーテック株式会社 測定面調整方法、膜厚測定方法及び膜厚測定装置
KR101899711B1 (ko) 2017-02-07 2018-09-17 한국광기술원 색수차 렌즈를 이용한 공초점 영상 구현 장치
JP6819370B2 (ja) * 2017-03-09 2021-01-27 オムロン株式会社 共焦点計測装置
JP2019066259A (ja) * 2017-09-29 2019-04-25 オムロン株式会社 光学センサおよび光学センサにおける異常検出方法
JP6939360B2 (ja) * 2017-10-02 2021-09-22 オムロン株式会社 共焦点計測装置
JP6969453B2 (ja) * 2018-03-12 2021-11-24 オムロン株式会社 光学計測装置

Also Published As

Publication number Publication date
KR102556921B1 (ko) 2023-07-18
TWI724668B (zh) 2021-04-11
CN112654832A (zh) 2021-04-13
EP3901568A4 (en) 2022-08-24
US20220011092A1 (en) 2022-01-13
US11965729B2 (en) 2024-04-23
WO2020129533A1 (ja) 2020-06-25
KR20210063414A (ko) 2021-06-01
EP3901568A1 (en) 2021-10-27
JP2020101402A (ja) 2020-07-02
EP3901568B1 (en) 2023-02-15
JP6986235B2 (ja) 2021-12-22

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6044315B2 (ja) 変位計測方法および変位計測装置
JP4929161B2 (ja) 加工物表面の形状および/または粗さを測定するための測定装置
TWI699523B (zh) 光學特性檢測裝置及光學系統
KR101534912B1 (ko) 공초점 계측 장치
JP6362498B2 (ja) 微視的標本を検査するための光学顕微鏡および顕微鏡方法
JP7044272B2 (ja) レンズ屈折率測定装置およびその測定方法
US20130162972A1 (en) Chromatic point sensor configuration including real time spectrum compensation
JP6512673B2 (ja) 偏心測定装置及び偏心測定方法
JP2018119907A (ja) 測定面調整方法、膜厚測定方法及び膜厚測定装置
US5309214A (en) Method for measuring distributed dispersion of gradient-index optical elements and optical system to be used for carrying out the method
TWI724668B (zh) 共焦感測器
US10684221B2 (en) Light microscope and method for determining a wavelength-dependent refractive index of a sample medium
JP2014202642A (ja) 光学素子の面間隔測定装置および面間隔測定方法
KR102026742B1 (ko) 광학 측정 시스템 및 임계치수를 측정하는 방법
JP2008215833A (ja) 光学特性測定装置および光学特性測定方法
JP6029349B2 (ja) 変位検出装置
JP5233643B2 (ja) 形状測定装置
JP4634884B2 (ja) 表面性状測定装置
JP4639808B2 (ja) 測定装置及びその調整方法
WO2019134203A1 (zh) Vr显示装置镜屏距的测量装置及测量方法
JP2015087198A (ja) 計測装置及び計測方法
JP2008014657A (ja) カメラ用交換レンズの焦点位置測定装置および焦点位置測定方法