TW202012572A - 黏著劑組合物 - Google Patents

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Abstract

本發明提供一種可謀求在低速的剝離速度和高速的剝離速度下具有取得了平衡的黏著力等優異的黏著性能，同時可謀求兼顧抗靜電性能與抗污染性能的黏著劑組合物，以及使用了該黏著劑組合物的黏著膜、表面保護膜。該黏著劑組合物中，(F)抗靜電劑為通式K+ ‧A- 所示的熔點為25~80℃的離子化合物，其中，K+ 為選自由吡啶鎓、咪唑鎓、鏻、鋶、吡咯啶鎓、胍鎓、銨、異脲鎓、硫脲鎓、哌啶鎓、吡唑鎓、甲基鎓、嗎啉鎓組成的群組中的一種陽離子，A- 為選自由不含醯亞胺基的、三氟甲烷磺酸根、五氟乙烷磺酸根組成的群組中的一種陰離子，相對於100重量份的丙烯酸類聚合物，以0.01~10重量份的比例含有離子化合物。

Description

黏著劑組合物
本發明涉及一種含有抗靜電劑的黏著劑組合物，以及使用了該黏著劑組合物的黏著膜、表面保護膜。更具體而言，涉及提供一種黏著劑組合物以及使用了該黏著劑組合物的黏著膜、表面保護膜，所述黏著劑組合物可謀求在低速的剝離速度和高速的剝離速度下具有取得了平衡的黏著力等優異的黏著性能，同時可謀求兼顧抗靜電性能與抗污染性能。
一直以來，在作為構成液晶顯示器的構件的偏振片等光學構件的製造步驟中，為了暫時保護光學構件的表面而貼合表面保護膜。這種表面保護膜僅在製造光學構件的步驟中使用，在將光學構件安裝於液晶顯示器時，將其從光學構件上剝離而去除。由於這種用於保護光學構件表面的表面保護膜僅在光學構件的製造步驟中使用，因此通常也被稱作步驟膜。
對於此種在製造光學構件的步驟中使用的表面保護膜而言，在具有光學透明性的聚對苯二甲酸乙二酯(PET)樹脂膜的單面上形成有黏著劑層。在貼合於光學構件之前，為了保護表面保護膜的黏著劑層，在黏著劑層的表面貼合有進行了離型處理的離型膜。 而且，偏振片等光學構件以貼合有表面保護膜的狀態，接受伴隨液晶顯示板的顯示能力、色調、對比度、雜質混入等光學評價的產品檢驗。因此，作為對表面保護膜的性能要求，要求黏著劑層中不附著氣泡或雜質及黏著劑組合物的低分子量成分，即，要求具有抗污染性能。 此外，從偏振片等光學構件上剝離表面保護膜時，伴隨著剝離黏著劑層與被黏物時所產生的靜電而產生的剝離靜電，可能會對液晶顯示器的電氣控制電路的故障造成影響。因此，要求表面保護膜的黏著劑層具有優異的抗靜電性能。 進一步，近年來，作為偏振片的偏光鏡的保護層(有時也稱作保護膜)，除了以往所使用的三醋酸纖維素(TAC)以外，正在擴大對於聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)等丙烯酸類樹脂、聚對苯二甲酸乙二酯(PET)等聚酯類樹脂、環狀烯烴類聚合物、聚碳酸酯等的剝離偏振片的表面保護膜時，容易產生剝離靜電的材料的利用。因此，對偏振片的表面保護膜用的黏著劑層要求的抗靜電性能需要比以往優異。 此外，最終從偏振片等光學構件上剝離表面保護膜時，要求能夠快速地剝離。即，要求黏著力因剝離速度的變化小，以便即使在高速剝離的情況下也能夠快速地剝離。
如上所述，近年來，從使用表面保護膜時的使用難易度的角度出發，要求構成表面保護膜的黏著劑層具有如下性能：(1)在低速的剝離速度和高速的剝離速度下取得黏著力的平衡；(2)具有抗污染性能；(3)具有優異的抗靜電性能。 然而，關於對構成表面保護膜的黏著劑層的要求性能，即使能夠分別滿足上述(1)~(3)的個別要求性能，同時滿足對表面保護膜的黏著劑層所謀求的(1)~(3)的全部要求性能也是非常困難的技術問題。
為了解決這樣的技術問題，例如，關於(1)在低速的剝離速度和高速的剝離速度下取得黏著力的平衡、(2)具有抗污染性能以及(3)具有優異的抗靜電性能，已知分別有如下的方案。
關於(1)在低速的剝離速度和高速的剝離速度下取得黏著力的平衡，在以具有碳原子數為7以下的烷基的(甲基)丙烯酸烷基酯與含羧基的共聚性化合物的共聚物作為主要成分，並使用交聯劑對其進行交聯處理而成的丙烯酸類黏著劑層中，在經過長時間黏合的情況下，存在黏著劑向被黏物一側移動而附著於被黏物，或對被黏物的黏合力的經時上升性大的問題。為了避免該問題，已知一種設置有下述黏著劑層的技術方案，所述黏著劑層為使用具有碳原子數為8~10的烷基的(甲基)丙烯酸烷基酯與具有醇羥基的共聚性化合物的共聚物，並使用交聯劑對其進行交聯處理而成的黏著劑層(專利文獻1)。 此外，還提出了一種設置有下述黏著劑層的技術方案等，所述黏著劑層為在與上述相同的共聚物中，摻合少量的(甲基)丙烯酸烷基酯與含有羧基的共聚性化合物的共聚物，並使用交聯劑對其進行交聯處理而成的黏著劑層。然而，若將它們用於表面張力低且表面光滑的塑膠板等的表面保護，則還存在因加工時或保存時的加熱而產生浮起等剝離現象的問題、在手工操作領域中進行高速剝離時的再剝離性差的問題。
為了解決這些問題，提出了一種黏著劑組合物，其在a)以具有碳原子數為8~10的烷基的(甲基)丙烯酸烷基酯作為主要成分的(甲基)丙烯酸烷基酯100重量份中，加入1~15重量份的b)含羧基的共聚性化合物以及3~100重量份的c)碳原子數為1~5的脂肪族羧酸的乙烯基酯、而形成單體混合物的共聚物，並向該共聚物中摻合相對於上述b)成分的羧基為當量以上的交聯劑(專利文獻2)。 對於專利文獻2中記載的黏著劑組合物，在加工時或保存時不會產生浮起等剝離現象，並且黏合力的經時的上升小，再剝離性優異，即使長期保存、特別是在高溫氛圍下長期保存，也能夠以較小的力進行再剝離，此時在被黏物上不產生殘膠，且即使在進行高速剝離時也能夠以較小的力進行再剝離。 然而，對於專利文獻2中記載的黏著劑組合物，由於實施例1~3的黏著劑層的凝膠分率為90%，因此未聚合單體或低聚物容易從共聚物中溶出。此外，專利文獻2中沒有關於抗靜電性能及抗污染性能的記載，在將容易產生剝離靜電的材料作為被黏物的情況下，存在難以製成具備優異的抗靜電性能及抗污染性能的黏著劑層的問題。
此外，關於(2)具有抗污染性能，公開了一種黏著劑組合物，其含有：100質量份的由0質量份以上且小於0.5質量份的含羧基單體、0.6~9質量份的含羥基的(甲基)丙烯酸類單體及99.4~90.5質量份的(甲基)丙烯酸酯單體構成的、重均分子量為10萬以上且小於100萬的(甲基)丙烯酸類共聚物；及0.1~5質量份的碳二亞胺類交聯劑(專利文獻3)。 專利文獻3中記載的黏著劑組合物的特徵在於，使用碳二亞胺類交聯劑作為特定組成的(甲基)丙烯酸類共聚物的交聯劑。由此，能夠在黏著劑層中形成可追隨由壓熱處理時的壓力及溫度引起的收縮的交聯結構。因此，使用專利文獻3中記載的黏著劑組合物而形成的黏著劑層即使在高溫高壓條件下(壓熱處理時)也能夠抑制並防止起泡，抗污染性能優異，此外，透明性也優異。 然而，對於專利文獻3中記載的黏著劑組合物，雖然改良了抗污染性能，但是未能實現優異的黏著性能與抗靜電性能的兼顧，還殘留有需要進一步解決的技術問題。
此外，關於(3)具有優異的抗靜電性能，作為用於對表面保護膜賦予抗靜電性的方法，已知有向基材膜中捏合抗靜電劑的方法等。作為抗靜電劑，例如公開了(a)具有4級銨鹽、吡啶鎓、1級~3級胺胺基等陽離子基團的各種陽離子抗靜電劑；(b)具有磺酸鹽基、硫酸酯鹽基、磷酸酯鹽基、膦酸鹽基等陰離子基團的陰離子抗靜電劑；(c)胺基酸類、胺基硫酸酯類等兩性抗靜電劑；(d)胺基醇類、甘油類、聚乙二醇類等非離子抗靜電劑；(e)將如上所述的抗靜電劑高分子量化而成的高分子型抗靜電劑等(專利文獻4)。 然而，對於專利文獻4中記載的表面保護膜，雖然有涉及垃圾附著於被黏物的關於賦予抗靜電性能的記載，但是未記載兼顧優異的黏著性能與抗污染性能的方法，還殘留有需要進一步解決的技術問題。
此外，近年來，提出了一種直接使黏著劑層含有抗靜電劑，而不是使基材膜含有抗靜電劑或者在基材膜的表面上塗布抗靜電劑的方案。例如公開了一種抗靜電性黏著劑組合物，其特徵在於，具備含有氟基及磺醯基的陰離子的鹽以溶解於主鏈中含有聚醚基的聚醚酯類可塑劑的狀態進行分散(專利文獻5)。 關於專利文獻5中記載的黏著劑組合物，公開了使用由下述酯構成的可塑劑作為可塑劑：由具有飽和或不飽和的非環式烴基的一元羧酸或二元羧酸與具有碳原子數為1~20的非環式烴基的醇形成的酯；或者所述不飽和的非環式烴基中的不飽和基團被環氧化而成的酯。認為：藉由使這種具有飽和或不飽和的非環式烴基的一元羧酸或二元羧酸具有與構成用於黏著劑層的丙烯酸類共聚物的丙烯酸單體的碳原子數相近的碳原子數，在抗靜電性黏著劑組合物中的相容性變得良好，在可塑劑丙烯酸類抗靜電性黏著劑組合物中可塑劑得以適當的保持，因此滲出得以抑制。 然而，對於專利文獻5中記載的抗靜電性黏著劑組合物，雖然有公開抗靜電性能及滲出的改良技術，但是未記載可得到在低速的剝離速度和高速的剝離速度下的黏著力的平衡等黏著性能優異的黏著劑組合物，還殘留有得到具有優異的黏著性能的黏著劑組合物的技術問題。 [現有技術文獻] [專利文獻]
專利文獻1：日本特開昭63-225677號公報 專利文獻2：日本特開平11-256111號公報 專利文獻3：日本特開2011-122054號公報 專利文獻4：日本特開平11-070629號公報 專利文獻5：日本特開2014-118469號公報
[本發明要解決的技術問題]
如上所述，沒有現有技術能夠同時解決對構成表面保護膜的黏著劑層的以下要求性能：(1)在低速的剝離速度和高速的剝離速度下取得黏著力的平衡；(2)具有抗污染性能；(3)具有優異的抗靜電性能。 此外，一直以來，在使用具備抗靜電性能的黏著劑組合物而形成的黏著劑層、以及使用了該黏著劑層的表面保護膜中，抗靜電性能與對被黏物的抗污染性能處於權衡(trade-off)的關係，難以在維持抗靜電性能的同時改善抗污染性能。 進一步近年來，由於表面保護膜所貼合的被黏物的材質的種類增加，且被黏物的表面處理也多種多樣，因此對所有被黏物同時顯示抗污染性能與抗靜電性能變得更加困難。
本發明是鑒於上述情況而進行的，其技術問題在於提供一種黏著劑組合物以及使用了該黏著劑組合物的黏著膜、表面保護膜，所述黏著劑組合物可謀求在低速的剝離速度和高速的剝離速度下具有取得了平衡的黏著力等優異的黏著性能，同時可謀求兼顧抗靜電性能與抗污染性能。 [解決技術問題的技術手段]
本申請的發明人發現，含有下述離子化合物作為抗靜電劑的黏著劑組合物可對被黏物同時顯示抗靜電性能與抗污染性能，從而完成了本發明，該離子化合物是熔點為25~80℃且具有三氟甲烷磺酸根陰離子或五氟乙烷磺酸根陰離子，在室溫下為固體。 本發明的含有下述離子化合物作為抗靜電劑的黏著劑組合物以及使用了該黏著劑組合物的黏著膜、表面保護膜能夠實現優異的黏著性能，同時能夠實現抗靜電性能與抗污染性能的兼顧，解決了現有技術的技術問題，該離子化合物是熔點為25~80℃，其具有選自由吡啶鎓、咪唑鎓、鏻、鋶、吡咯啶鎓、胍鎓(guanidinium)、銨、異脲鎓(isouronium)、硫脲鎓(thiouronium)、哌啶鎓、吡唑鎓(pyrazolium)、甲基鎓(methylium)、嗎啉鎓組成的群組中的一種陽離子以及三氟甲烷磺酸根陰離子或五氟乙烷磺酸根陰離子，其在室溫下為固體。
為了解決上述技術問題，本發明提供一種黏著劑組合物，其為含有丙烯酸類聚合物、(F)抗靜電劑以及(C)交聯劑之黏著劑組合物，其特徵在於，所述(F)抗靜電劑為下述通式(1)所示的熔點為25~80℃的離子化合物， K+ ‧A- (1) 通式(1)中，K+ 為選自由吡啶鎓、咪唑鎓、鏻、鋶、吡咯啶鎓、胍鎓、銨、異脲鎓、硫脲鎓、哌啶鎓、吡唑鎓、甲基鎓離子、嗎啉鎓組成的群組中的一種陽離子，A- 為選自由不含醯亞胺基的、三氟甲烷磺酸根陰離子、五氟乙烷磺酸根陰離子組成的群組中的一種陰離子。 所述丙烯酸類聚合物為玻璃轉變溫度為0℃以下的丙烯酸類聚合物，相對於100重量份的所述丙烯酸類聚合物，以0.01~10重量份的比例含有所述離子化合物作為必需成分。
優選：所述丙烯酸類聚合物為相對於(A)烷基的碳原子數為C1~18的(甲基)丙烯酸酯單體中的至少一種以上的合計100重量份，以(B-1)含有羥基的共聚性乙烯基單體中的至少一種以上的合計為0.01~10重量份的比例，及/或以(B-2)含有羧基的共聚性乙烯基單體中的至少一種以上的合計為0.01~0.5重量份的比例進行共聚而成的共聚物的丙烯酸類聚合物，在所述(A)烷基的碳原子數為C1~18的(甲基)丙烯酸酯單體中的至少一種以上的合計100重量份中，以50重量份以上的比例含有選自由(甲基)丙烯酸異辛酯、(甲基)丙烯酸異壬酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯組成的群組中的至少一種，相對於100重量份的所述丙烯酸類聚合物，以0.1~10重量份的比例含有3官能度以上的異氰酸酯化合物作為所述(C)交聯劑，所述黏著劑組合物進一步含有(D)金屬螯合化合物的交聯促進劑與(E)酮-烯醇互變異構體化合物。
優選：使所述黏著劑組合物交聯而成的黏著劑層的表面電阻率為1.0×10+12 Ω/□以下，所述黏著劑層對於使用含有氟化物的低折射率層形成用的樹脂組合物在PMMA基材及TAC基材的表面形成的低折射率層的剝離靜電電壓、以及對在PMMA基材及TAC基材的表面未做任何處理的平面層的剝離靜電電壓均為±0.3kV以下，將所述黏著劑層貼合於被黏物後，於溫度60℃、濕度90%RH的氛圍下放置48hr，從所述氛圍下取出1天後的抗污染性能、對於所述被黏物的表面為“無污染”，所述被黏物為在偏光鏡上積層保護層，並利用含有氟化物的組合物對保護層的表面進行了低反射表面處理的偏振片，所述黏著劑層的對於施加於所述PMMA基材的表面的所述低折射率層的黏著力，在低速的剝離速度0.3m/min的黏著力為0.04~0.2N/25mm，且在高速的剝離速度30m/min的黏著力為2.0N/25mm以下。
優選：所述(B-1)含有羥基的共聚性乙烯基單體為選自由(甲基)丙烯酸8-羥基辛酯、(甲基)丙烯酸6-羥基己酯、(甲基)丙烯酸4-羥基丁酯、(甲基)丙烯酸2-羥基乙酯、N-羥基(甲基)丙烯醯胺、N-羥甲基(甲基)丙烯醯胺、N-羥乙基(甲基)丙烯醯胺組成的化合物群組中的至少一種以上； 所述(B-2)含有羧基的共聚性乙烯基單體為選自由(甲基)丙烯酸、羧乙基(甲基)丙烯酸酯、羧戊基(甲基)丙烯酸酯、2-(甲基)丙烯醯氧基乙基六氫鄰苯二甲酸、2-(甲基)丙烯醯氧基丙基六氫鄰苯二甲酸、2-(甲基)丙烯醯氧基乙基鄰苯二甲酸、2-(甲基)丙烯醯氧基乙基琥珀酸、2-(甲基)丙烯醯氧基乙基馬來酸、羧基聚己內酯單(甲基)丙烯酸酯、2-(甲基)丙烯醯氧基乙基四氫鄰苯二甲酸組成的化合物群組中的至少一種以上。
優選：相對於100重量份的所述丙烯酸類聚合物，所述黏著劑組合物以0.001~0.5重量份的比例含有所述(D)金屬螯合化合物的交聯促進劑，並以0.1~300重量份的比例含有所述(E)酮-烯醇互變異構體化合物，所述(D)金屬螯合化合物的交聯促進劑為選自由鋁螯合化合物、鈦螯合化合物、鐵螯合化合物組成的群組中的至少一種以上，所述(E)/所述(D)的重量份比為70~1000。
此外，本發明提供一種黏著膜，其特徵在於，在樹脂膜的單面上積層有使上述黏著劑組合物交聯而成的黏著劑層。
此外，本發明提供一種表面保護膜，其使用了上述黏著膜。
此外，本發明提供一種偏振片用的表面保護膜，其使用了上述黏著膜。
此外，本發明提供一種附黏著劑層的光學膜，其中，在光學膜的至少一側的面上積層有使上述黏著劑組合物交聯而成的黏著劑層。
此外，本發明提供一種黏著膜，其中，在所述樹脂膜的與形成有所述黏著劑層的一側為相反面的單面上實施有抗靜電處理及防污處理。 [發明效果]
與現有的表面保護膜用的黏著劑組合物相比，本發明的黏著劑組合物具有優異的黏著性能以及不經時劣化的優異的抗剝離靜電性能。 特別是，與現有技術的表面保護膜相比，在被黏物為積層於光學膜的表面的、含有氟化物的防污層，或者為使用含有氟化物的低折射率層形成用組合物而形成的低折射率層的情況下，本發明的表面保護膜具有優異的黏著性能以及不經時劣化的優異的抗剝離靜電性能，具有兼顧抗靜電性能與抗污染性能的顯著效果。 即，本發明的黏著劑組合物以及使用了該黏著劑組合物的表面保護膜具備優異的黏著性能以及不經時劣化的優異的抗剝離靜電性能，因此產業上的利用價值極大。
以下，基於優選的實施方式對本發明進行說明。 本實施方式的黏著劑組合物為含有丙烯酸類聚合物、(F)抗靜電劑以及(C)交聯劑的黏著劑組合物，其特徵在於，所述(F)抗靜電劑為下述通式(1)所示的熔點為25~80℃的離子化合物， K+ ‧A- (1) 通式(1)中，K+ 為選自由吡啶鎓、咪唑鎓、鏻、鋶、吡咯啶鎓、胍鎓、銨、異脲鎓、硫脲鎓、哌啶鎓、吡唑鎓、甲基鎓離子、嗎啉鎓組成的群組中的一種陽離子，A- 為選自由不含醯亞胺基的、三氟甲烷磺酸根陰離子、五氟乙烷磺酸根陰離子組成的群組中的一種陰離子； 所述丙烯酸類聚合物為玻璃轉變溫度為0℃以下的丙烯酸類聚合物，相對於100重量份的所述丙烯酸類聚合物，以0.01~10重量份的比例含有所述離子化合物作為必需成分。
用於本實施方式的黏著劑組合物的丙烯酸類聚合物，為黏著劑組合物的主要成分聚合物，其為玻璃轉變溫度為0℃以下的丙烯酸類聚合物。此外，優選丙烯酸類聚合物為以(A)烷基的碳原子數為C1~18的(甲基)丙烯酸酯單體作為主要成分的共聚物。
作為(A)烷基的碳原子數為C1~18的(甲基)丙烯酸酯單體，可列舉出(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸丙酯、(甲基)丙烯酸丁酯、(甲基)丙烯酸異丁酯、(甲基)丙烯酸戊酯、(甲基)丙烯酸己酯、(甲基)丙烯酸庚酯、(甲基)丙烯酸辛酯、(甲基)丙烯酸異辛酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯、(甲基)丙烯酸壬酯、(甲基)丙烯酸異壬酯、(甲基)丙烯酸癸酯、(甲基)丙烯酸十一烷基酯、(甲基)丙烯酸十二烷基酯、(甲基)丙烯酸十三烷基酯、(甲基)丙烯酸十四烷基酯、(甲基)丙烯酸十五烷基酯、(甲基)丙烯酸十六烷基酯、(甲基)丙烯酸十七烷基酯、(甲基)丙烯酸十八烷基酯、(甲基)丙烯酸環戊基酯、(甲基)丙烯酸環己基酯等。(甲基)丙烯酸烷基酯單體的烷基可以為直鏈、支鏈、環狀中的任意一種。
在(A)烷基的碳原子數為C1~18的(甲基)丙烯酸酯單體中的至少一種以上的合計100重量份中，用於本實施方式的黏著劑組合物的丙烯酸類聚合物優選以50重量份以上的比例、更優選以60重量份以上的比例、特別優選以75重量份以上的比例含有選自由(甲基)丙烯酸異辛酯、(甲基)丙烯酸異壬酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯組成的群組中的至少一種。
優選用於本實施方式的黏著劑組合物的丙烯酸類聚合物為使(B-1)含有羥基的共聚性乙烯基單體中的至少一種以上、及/或(B-2)含有羧基的共聚性乙烯基單體中的至少一種以上共聚而成的共聚物的丙烯酸類聚合物。所述丙烯酸類聚合物中可與(B-1)含有羥基的共聚性乙烯基單體、(B-2)含有羧基的共聚性乙烯基單體中的至少一種共聚，也可共聚有這兩種單體。 優選所述丙烯酸類聚合物為：相對於(A)烷基的碳原子數為C1~18的(甲基)丙烯酸酯單體中的至少一種以上的合計100重量份，以(B-1)含有羥基的共聚性乙烯基單體中的至少一種以上的合計為0.01~10重量份的比例，及/或以(B-2)含有羧基的共聚性乙烯基單體中的至少一種以上的合計為0.01~0.5重量份的比例進行共聚而成的共聚物的丙烯酸類聚合物。
用於本實施方式的黏著劑組合物的丙烯酸類聚合物中，可共聚有(B-1)含有羥基的可共聚單體。作為(B-1)含有羥基的可共聚單體，優選為選自由(甲基)丙烯酸8-羥基辛酯、(甲基)丙烯酸6-羥基己酯、(甲基)丙烯酸4-羥基丁酯、(甲基)丙烯酸2-羥基乙酯、N-羥基(甲基)丙烯醯胺、N-羥甲基(甲基)丙烯醯胺、N-羥乙基(甲基)丙烯醯胺等組成的化合物群組中的至少一種以上。 使(B-1)含有羥基的可共聚單體共聚時，相對於(A)烷基的碳原子數為C1~18的(甲基)丙烯酸酯單體中的至少一種以上的合計100重量份，優選以0.01~10.0重量份的比例、更優選以0.5~7.0重量份的比例、特別優選以1.0~6.0重量份的比例含有(B-1)含有羥基的可共聚單體。
用於本實施方式的黏著劑組合物的丙烯酸類聚合物中，可共聚有(B-2)含有羧基的可共聚單體。作為(B-2)含有羧基的可共聚單體，優選為選自由(甲基)丙烯酸、羧乙基(甲基)丙烯酸酯、羧戊基(甲基)丙烯酸酯、2-(甲基)丙烯醯氧基乙基六氫鄰苯二甲酸、2-(甲基)丙烯醯氧基丙基六氫鄰苯二甲酸、2-(甲基)丙烯醯氧基乙基鄰苯二甲酸、2-(甲基)丙烯醯氧基乙基琥珀酸、2-(甲基)丙烯醯氧基乙基馬來酸、羧基聚己內酯單(甲基)丙烯酸酯、2-(甲基)丙烯醯氧基乙基四氫鄰苯二甲酸等組成的化合物群組中的至少一種以上。 使(B-2)含有羧基的共聚性乙烯基單體共聚時，相對於(A)烷基的碳原子數為C1~18的(甲基)丙烯酸酯單體中的至少一種以上的合計100重量份，優選以0.01~0.5重量份的比例、更優選以0.01~0.4重量份的比例、特別優選以0.01~0.3重量份的比例含有(B-2)含有羧基的共聚性乙烯基單體。
本實施方式的黏著劑組合物中含有的丙烯酸類聚合物的製備方法沒有特別限定，可使用溶液聚合法、乳液聚合法等適宜、習知的聚合方法。丙烯酸類聚合物的共聚物的重均分子量例如可列舉出50萬~300萬。丙烯酸類聚合物的酸值優選為0.1~1.0。由此能夠改善抗污染性能。此處，“酸值”是表示酸含量的指標之一，以中和1g含有羧基的聚合物所需要的氫氧化鉀的mg數來表示。
本實施方式的黏著劑組合物含有(F)抗靜電劑。本實施方式的(F)抗靜電劑為下述通式(1)所示的熔點為25~80℃的離子化合物。
K+ ‧A- (1) 通式(1)中，K+ 為選自由吡啶鎓、咪唑鎓、鏻、鋶、吡咯啶鎓、胍鎓、銨、異脲鎓、硫脲鎓、哌啶鎓、吡唑鎓、甲基鎓離子、嗎啉鎓組成的群組中的一種陽離子，A- 為選自由不含醯亞胺基的、三氟甲烷磺酸根陰離子、五氟乙烷磺酸根陰離子組成的群組中的一種陰離子。
優選所述離子化合物在常溫下為固體。常溫例如為小於25℃的溫度，具體而言，優選在23℃為固體的離子化合物。相對於100重量份的丙烯酸類聚合物，本實施方式的黏著劑組合物以0.01~10重量份的比例含有所述離子化合物作為必需成分。
作為(F)抗靜電劑的具體例子，例如可列舉出1-辛基-2-甲基吡啶鎓 三氟甲烷磺酸鹽、1,2,3-三甲基咪唑鎓 五氟乙烷磺酸鹽、1-丁基-2,3-二甲基咪唑鎓 三氟甲烷磺酸鹽、1-己基-4-甲基吡啶鎓 五氟乙烷磺酸鹽、1-辛基-3-甲基吡啶鎓 三氟甲烷磺酸鹽、正辛基吡啶鎓 三氟甲烷磺酸鹽等。
本實施方式的黏著劑組合物進一步含有3官能度以上的異氰酸酯化合物作為(C)交聯劑。作為3官能度以上的異氰酸酯化合物，例如可列舉出六亞甲基二異氰酸酯、異佛爾酮二異氰酸酯、二苯基甲烷二異氰酸酯、甲伸苯二異氰酸酯、二甲苯撐基(xylylene)二異氰酸酯等二異氰酸酯類的縮二脲改質體或異氰脲酸酯改質體、與三羥甲基丙烷或甘油等3價以上的多元醇的加合物等。作為為(C)交聯劑的3官能度以上的異氰酸酯化合物的比例，例如，相對於100重量份的丙烯酸類聚合物，優選以0.1~10重量份的比例、更優選以0.1~6重量份的比例含有(C)交聯劑。
本實施方式的黏著劑組合物還可以含有(E)酮-烯醇互變異構體化合物。作為(E)酮-烯醇互變異構體化合物，可列舉出乙醯乙酸甲酯、乙醯乙酸乙酯、乙醯乙酸辛酯、乙醯乙酸油醇酯(oleyl acetoacetate)、乙醯乙酸月桂酯、乙醯乙酸十八烷基酯等β-酮酯，或者乙醯丙酮、2,4-己二酮、苯甲醯丙酮等β-二酮。在以聚異氰酸酯化合物作為交聯劑的黏著劑組合物中，這些酮-烯醇互變異構體化合物藉由對交聯劑所具有的異氰酸酯基進行封端(block)，能夠抑制摻合交聯劑後的黏著劑組合物的過度的黏度上升及凝膠化，能夠延長黏著劑組合物的貯存期。(E)酮-烯醇互變異構體化合物特別優選為選自由乙醯丙酮、乙醯乙酸乙酯組成的化合物群組中的至少一種以上。相對於100重量份的所述丙烯酸類聚合物，優選以0.1~300重量份的比例含有(E)酮-烯醇互變異構體化合物。
本實施方式的黏著劑組合物還可以含有(D)金屬螯合化合物的交聯促進劑。在以聚異氰酸酯化合物作為交聯劑的情況下，(D)金屬螯合化合物的交聯促進劑只要為對所述共聚物與交聯劑的反應(交聯反應)發揮催化劑的功能的物質即可。(D)金屬螯合化合物的交聯促進劑為在中心金屬原子M上鍵合有1個以上的多齒配體L的化合物。金屬螯合化合物可以具有也可以不具有鍵合於金屬原子M上的1個以上的單齒配體X。作為金屬螯合化合物的具體例子，可列舉出三(2,4-戊二酮)鐵(III)、三乙醯丙酮鐵、三乙醯丙酮鈦、三乙醯丙酮釕、雙乙醯丙酮鋅、三乙醯丙酮鋁、四乙醯丙酮鋯、三(2,4-己二酮)鐵(III)、雙(2,4-己二酮)鋅、三(2,4-己二酮)鈦、三(2,4-己二酮)鋁、四(2,4-己二酮)鋯等。
作為(D)金屬螯合化合物的交聯促進劑，優選為選自由鋁螯合化合物、鈦螯合化合物、鐵螯合化合物組成的群組中的至少一種以上的金屬螯合化合物。相對於100重量份的所述丙烯酸類聚合物，優選以0.001~0.5重量份的比例含有(D)金屬螯合化合物的交聯促進劑。
(E)酮-烯醇互變異構體化合物與(D)金屬螯合化合物的交聯促進劑相反，其具有抑制交聯的效果，因此優選適當地設定(E)酮-烯醇互變異構體化合物與(D)金屬螯合化合物的交聯促進劑的比例。為了延長黏著劑組合物的貯存期，提高儲存穩定性，(E)/(D)的重量份比優選為70~1000，更優選為70~700，特別優選為70~300。此處，(E)/(D)的重量份比為用(E)的重量份除以(D)的重量份得到的商的值。
本實施方式的黏著劑組合物還可以含有(H)聚醚改質矽氧烷化合物作為任意成分。(H)聚醚改質矽氧烷化合物為具有聚醚基的矽氧烷化合物，除了具有通常的矽氧烷單元[-SiR1 2 -O-]以外，還具有帶聚醚基的矽氧烷單元[-SiR1 (R2 O(R3 O)n R4 )-O-]。此處，R1 表示一種或兩種以上的烷基或芳基，R2 及R3 表示一種或兩種以上的伸烷基，R4 表示一種或兩種以上的烷基或醯基等(末端基團)。作為聚醚基，可列舉出聚氧伸乙基[(C2 H4 O)n ]或聚氧伸丙基[(C3 H6 O)n ]等聚氧伸烷基。具有聚醚基的矽氧烷單元中，聚醚基的末端可以為OH基(上述通式(1)中R4 =H)。
(H)聚醚改質矽氧烷化合物優選為HLB值為6~12的聚醚改質矽氧烷化合物。此外，相對於100重量份的所述丙烯酸類聚合物，優選含有0.01~0.5重量份、更優選含有0.02~0.35重量份、特別優選含有0.02~0.25重量份的(H)聚醚改質矽氧烷化合物。HLB值是指例如JIS K3211(界面活性劑術語)等中規定的親水親油平衡值(親油親水比)。 聚醚改質矽氧烷化合物例如能夠藉由以下方式得到：利用氫化矽烷化反應使具有不飽和鍵及聚氧伸烷基的有機化合物接枝於具有氫化矽基的聚有機矽氧烷的主鏈。具體而言，可列舉出二甲基矽氧烷-甲基(聚氧伸乙基)矽氧烷共聚物、二甲基矽氧烷-甲基(聚氧伸乙基)矽氧烷-甲基(聚氧伸丙基)矽氧烷共聚物、二甲基矽氧烷-甲基(聚氧伸丙基)矽氧烷聚合物等。
藉由將(H)聚醚改質矽氧烷化合物摻合於黏著劑組合物中，能夠改善黏著劑層的黏著力及再操作性能。(H)聚醚改質矽氧烷化合物的重均分子量優選為10000以下。從與丙烯酸類聚合物的相容性的角度出發，雖然HLB值低且分子量低時相容性更良好，但為分子量較低的聚醚改質矽氧烷化合物時，即使HLB值較高且與聚合物的相容性稍低，也能得到優異的抗靜電性。
本實施方式的黏著劑組合物不限於上述添加劑，還可適當地摻合有界面活性劑、固化促進劑、可塑劑、填充劑、固化延遲劑、加工助劑、抗老化劑、抗氧化劑等公知的添加劑。這些添加劑能夠單獨使用或同時使用2種以上。
本實施方式的黏著劑組合物適合作為貼合於偏振片的偏光鏡的保護層的表面保護膜用的黏著劑組合物。此處，偏振片的偏光鏡的保護層可列舉出選自由TAC類膜、PMMA類膜、PET類膜組成的群組中的一種。此處，TAC為三醋酸纖維素的縮寫，PMMA為聚甲基丙烯酸甲酯的縮寫，PET為聚對苯二甲酸乙二酯的縮寫。 此外，在偏振片的偏光鏡的保護層的表面上實施的表面處理可以為選自由未處理、AG處理、LR處理、AR處理、AG-LR處理、AG-AR處理組成的群組中的一種。此處，AG是指防眩(Anti Glare)，LR是指低反射(Low Reflection)，AR是指抗反射(Anti Reflection)。
對於使本實施方式的黏著劑組合物交聯而成的黏著劑層，優選黏著劑層的表面電阻率為1.0×10+12 Ω/□以下，更優選為5.0×10+11 Ω/□以下，特別優選為1.0×10+11 Ω/□以下。若表面電阻率大，則釋放從被黏物上剝離黏著劑層時所產生的靜電的性能差。因此，藉由使表面電阻率充分小，能夠降低伴隨從被黏物上剝離黏著劑層時所產生的靜電而產生的剝離靜電電壓，抑制對被黏物造成影響。
對於使本實施方式的黏著劑組合物交聯而成的黏著劑層，該黏著劑層對使用含有氟化物的低折射率層形成用的樹脂組合物而形成的低折射率層的剝離靜電電壓優選為±0.3kV以下，即，優選在-0.3~+0.3kV的範圍內。作為用於低折射率層形成用的組合物的氟化物，可列舉出為氟化烯烴類、氟化乙烯基醚類、氟化(甲基)丙烯酸烷基酯等中的一種或兩種以上的聚合物的含氟共聚物、含氟化烷基的矽烷化合物等縮合物。除了經氟化的單體以外，含氟共聚物中也可以共聚有烯烴類、乙烯基醚類、(甲基)丙烯酸酯等未經氟化的單體。低折射率層也可以與高折射率層等進行組合而構成防反射層。
測定對低折射率層的剝離靜電電壓時，作為用於在表面形成低折射率層的基材，可列舉出PMMA基材及TAC基材。此外，使本實施方式的黏著劑組合物交聯而成的黏著劑層對在PMMA基材及TAC基材的表面未做任何處理的平面層的剝離靜電電壓優選為±0.3kV以下，即優選在-0.3~+0.3kV的範圍內。
優選將黏著劑層貼合於被黏物後，於溫度60℃、濕度90%RH的氛圍下放置48hr，從所述氛圍下取出1天後的抗污染性能為對於所述被黏物的表面為“無污染”。作為被黏物，可列舉出在偏光鏡上積層保護層並利用含有氟化物的組合物對保護層的表面進行了低反射表面處理的偏振片。用於低反射表面處理的含有氟化物的組合物可以與上述含有氟化物的低折射率層形成用的樹脂組合物相同，也可以不同。作為保護層，可列舉出PMMA基材及TAC基材等。
關於使本實施方式的黏著劑組合物交聯而成的黏著劑層對施加於所述PMMA基材的表面的所述低折射率層的黏著力，優選在低速的剝離速度0.3m/min下的黏著力為0.04~0.2N/25mm，在高速的剝離速度30m/min下的黏著力為2.0N/25mm以下，在高速的剝離速度30m/min下的黏著力更優選為0.2~1.6N/25mm。由此，得到黏著力因剝離速度的變化小的性能，即使在高速剝離的情況下也可快速地剝離。此外，即使為了重新貼合而暫時將表面保護膜剝離時，也不需要過大的力，可容易地從被黏物上剝離。
使本實施方式的黏著劑組合物交聯而成的黏著劑層的凝膠分率優選為95~100%，更優選為97~100%。由於黏著劑層的凝膠分率如此地高，因此在低速的剝離速度下，黏著力不會變得過大，未聚合單體或低聚物從共聚物中的溶出得以降低，能夠改善再操作性及高溫高濕度下的耐久性，並抑制被黏物的污染。
本實施方式的黏著膜藉由在樹脂膜的單面或兩面上形成使本實施方式的黏著劑組合物交聯而成的黏著劑層而成。此外，本實施方式的表面保護膜為在樹脂膜的單面形成使本實施方式的黏著劑組合物交聯而成的黏著劑層而成的表面保護膜。本實施方式的黏著劑組合物具有優異的抗靜電性能，在低速的剝離速度和高速的剝離速度下，黏著力的平衡優異，進一步具有抗污染性能。因此，能夠適宜地用於偏振片的表面保護膜的用途。
作為黏著劑層的基材膜或保護黏著面的離型膜(隔離膜)，能夠使用聚酯膜等樹脂膜等。 可以在樹脂膜的與形成有所述黏著劑層的一側為相反面的單面上實施抗靜電處理及防污處理。作為抗靜電處理，可列舉出抗靜電劑的塗布或捏合等。作為防污處理，可列舉出利用聚矽氧類、氟類離型劑或塗布劑、二氧化矽微粒等的處理。也可以利用聚矽氧類、氟類、長鏈烷基類的離型劑等，對離型膜的、與黏著劑層的黏著面貼合的一側的面實施離型處理。
此外，藉由將使本實施方式的黏著劑組合物交聯而成的黏著劑層積層於光學膜的至少一側的面上，能夠得到附黏著劑層的光學膜。作為光學膜，可列舉出偏振膜、相位差膜、防反射膜、防眩(anti-glare)膜、紫外線吸收膜、紅外線吸收膜、光學補償膜、亮度提高膜等。作為光學構件所適用的設備，可列舉出液晶面板、有機EL面板、觸控面板等。 在為偏振片用的表面保護膜等的、光學用的表面保護膜及黏著膜的情況下，優選基材膜及黏著劑層具有充分的透明性。 實施例
以下，藉由實施例對本發明進行具體的說明。
＜丙烯酸類聚合物的製備＞ [實施例1] 向具備攪拌機、溫度計、回流冷凝器及氮氣導入管的反應裝置中導入氮氣，從而用氮氣置換反應裝置內的空氣。然後，向反應裝置中同時添加100重量份的丙烯酸2-乙基己酯、6.0重量份的丙烯酸8-羥基辛酯、0.1重量份的丙烯酸以及溶劑(乙酸乙酯)。然後，花費2小時滴加0.1重量份的作為聚合起始劑的偶氮二異丁腈，在65℃下反應6小時，得到用於實施例1的丙烯酸類聚合物。 [實施例2~6及比較例1~3] 除了將單體的組成分別調整為表1的(A)、(B-1)、(B-2)中的記載以外，以與上述用於實施例1的丙烯酸類聚合物溶液同樣的方法，得到用於實施例2~6及比較例1~3的丙烯酸類聚合物溶液。
＜黏著劑組合物及表面保護膜的製造＞ [實施例1] 向如上所述製備的實施例1的丙烯酸類聚合物溶液中添加2.5重量份的交聯劑(CORONATE HX)、1.5重量份的抗靜電劑(1-辛基-2-甲基吡啶鎓 三氟甲烷磺酸鹽)、0.1重量份的交聯催化劑(三乙醯丙酮鈦)以及8.5重量份的乙醯丙酮並進行攪拌混合，得到實施例1的黏著劑組合物。將該黏著劑組合物塗布於離型膜(塗有聚矽氧樹脂的PET膜)上後，藉由在90℃下進行乾燥而去除溶劑，得到厚度為20μm的黏著劑層。然後，將帶離型膜的黏著劑層轉印至基材膜(一側的面經抗靜電及防污處理的PET膜)的、與經抗靜電及防污處理的面為相反的面上，得到具有“基材膜/黏著劑層/離型膜”的積層結構的實施例1的表面保護膜。 [實施例2~6及比較例1~3] 除了將添加劑的組成分別調整為表1的(C)~(F)中的記載以外，以與上述實施例1的表面保護膜同樣的方法，得到實施例2~6及比較例1~3的表面保護膜。
[表1]
Figure 108115359-A0304-0001
在表1中，將(A)烷基的碳原子數為C1~18的(甲基)丙烯酸酯單體的合計設為100重量份來求出各成分的重量份。 另外，在表1中，將丙烯酸類聚合物設為100重量份，在(C)~(F)的各欄中，以括弧(　)內的數值表示各成分的含有比例(重量份)。 此外，將表1中使用的各成分的縮寫符號的化合物名稱示於表2。另外，CORONATE(註冊商標)HX、CORONATE HL及CORONATE L為TOSOH CORPORATION的商品名稱，TAKENATE(註冊商標)D-140N、D-127N、D-110N為Mitsui Chemicals, Inc.的商品名稱。
[表2]
Figure 108115359-A0304-0002
在(F)抗靜電劑中，F-1~F-6及F-9為熔點為25℃以上80℃以下且在常溫下為固體的離子化合物。F-7及F-8為熔點超過80℃且在常溫下為固體的離子化合物。
＜試驗方法及評價＞ 分別將實施例1~6及比較例1~3中的表面保護膜於溫度23℃、濕度50%RH的氛圍下熟化7天後，藉由以下試驗方法進行評價。
＜黏著力的試驗方法＞ 剝離離型膜，將露出黏著劑層的表面保護膜經由黏著劑層貼合於偏振片的表面，放置1天後，於50℃、5個大氣壓下，進行20分鐘的壓熱處理，進一步在室溫下放置12小時後，作為黏著力的測定樣品。使用拉伸試驗機、沿180°方向在低速度(0.3m/min)或高速度(30m/min)下剝離得到的測定樣品，將測定的剝離強度作為黏著力。 此處，所述偏振片的偏光鏡的保護層為選自由三醋酸纖維素(TAC)、聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)、聚對苯二甲酸乙二酯(PET)組成的群組中的一種。 此外，對於LR偏振片及AG-LR偏振片，使用含有氟化物的組合物在所述偏振片的偏光鏡的保護層的表面實施了低反射表面處理。
＜表面電阻率的試驗方法＞ 在熟化表面保護膜後、將其貼合於偏振片之前，剝離離型膜而露出黏著劑層，使用電阻率儀HIRESTA UP-HT450(Mitsubishi Chemical Analytech Co.,Ltd.製造)測定黏著劑層的表面電阻率。
＜剝離靜電電壓的試驗方法＞ 剝離離型膜，將露出黏著劑層的表面保護膜貼合於具有低折射率層的偏振片上，所述低折射率層藉由在被黏面上使用含有氟化物的低折射率層形成用的組合物而形成。使用高精度靜電感應器SK-035、SK-200(KEYENCE CORPORATION製造)，測定以30m/min的拉伸速度對表面保護膜進行180°剝離時，被黏物帶電而產生的電壓(靜電電壓)，將測定值的最大值作為剝離靜電電壓。
＜抗污染性能的試驗方法＞ 使用貼合機，將實施了低反射(LR)表面處理的偏振片經由黏著劑層(雙面黏著膠帶)貼合於玻璃板的單面上。然後，使用貼合機將表面保護膜貼合於所述偏振片的表面。貼合於被黏物後，於溫度60℃、濕度90%RH的氛圍下放置48hr，從所述氛圍下取出1天後，剝離表面保護膜，目視觀察偏振片的表面的污染狀態。關於抗污染性能的判斷基準，將對所述偏振片的表面無污染的情況評價為“○”、有輕微污染的情況評價為“△”、有污染的情況評價為“×”。
將關於實施例1~6及比較例1~3的表面保護膜的評價結果示於表3。“表面電阻率”藉由將“m×10+n ”記作“mE+n”的方式(其中，m為任意的實數值，n為正整數)進行表示。 “剝離靜電電壓”一欄表示試驗中使用的偏振片的偏光鏡的保護層的材質(TAC或PMMA)及表面處理(Plain或AG-LR)。“表面處理”的Plain是指未處理。“抗污染性能”一欄也同樣表示試驗中使用的偏振片的偏光鏡的保護層的材質(PMMA)及表面處理(AG-LR)。
[表3]
Figure AA1
實施例1~6的表面保護膜對為被黏物的偏振片的、在低速的剝離速度0.3m/min下的黏著力為0.04~0.2N/25mm，在高速的剝離速度30m/min下的黏著力為2.0N/25mm以下，黏著性能優異。 此外，實施例1~6的表面保護膜的黏著劑層的表面電阻率為1.0×10+12 Ω/□以下，黏著劑層對使用含有氟化物的低折射率層形成用的組合物而形成的低折射率層的剝離靜電電壓在-0.3~+0.3kV的範圍內，抗靜電性能優異。 此外，即使對沒有低折射率層的未處理的PMMA基材及TAC基材，實施例1~6的表面保護膜的黏著劑層的剝離靜電電壓也在-0.3~+0.3kV的範圍內，抗靜電性能優異。 進一步，將實施例1~6的表面保護膜貼合於被黏物後，於溫度60℃、濕度90%RH的氛圍下放置48hr，從所述氛圍下取出1天後，也對為被黏物的實施了低反射表面處理的偏振片沒有污染，抗污染性能也優異。 即，關於實施例1~6的表面保護膜的表3所示的評價結果證實了能夠解決本發明的技術問題。
比較例1的表面保護膜含有熔點超過80℃的抗靜電劑。因此，比較例1的表面保護膜的黏著劑層的黏著力大，剝離靜電電壓高，抗污染性能也差。 此外，比較例2的表面保護膜含有熔點超過80℃的抗靜電劑。因此，比較例2的表面保護膜的黏著劑層的黏著力大，剝離靜電電壓高，抗污染性能也差。 此外，即使比較例3的表面保護膜的熔點為25~80℃，但是含有陰離子具有醯亞胺基的抗靜電劑。因此，比較例3的表面保護膜對PMMA基材的剝離靜電電壓高，抗污染性能也差。 如上所述，比較例1~3的表面保護膜未能解決本發明的技術問題。
無。
無。

Claims (10)

  1. 一種黏著劑組合物，其係含有丙烯酸類聚合物、(F)抗靜電劑以及(C)交聯劑之黏著劑組合物，其特徵在於， 所述(F)抗靜電劑為下述通式(1)所示的熔點為25~80℃的離子化合物， K+ ‧A- (1) 通式(1)中，K+ 為選自由吡啶鎓、咪唑鎓、鏻、鋶、吡咯啶鎓、胍鎓、銨、異脲鎓、硫脲鎓、哌啶鎓、吡唑鎓、甲基鎓離子、嗎啉鎓組成的群組中的一種陽離子，A- 為選自由不含醯亞胺基的、三氟甲烷磺酸根陰離子、五氟乙烷磺酸根陰離子組成的群組中的一種陰離子， 所述丙烯酸類聚合物為玻璃轉變溫度為0℃以下的丙烯酸類聚合物， 相對於100重量份的所述丙烯酸類聚合物，以0.01~10重量份的比例含有所述離子化合物作為必需成分。
  2. 如申請專利範圍第1項所述的黏著劑組合物，其中， 所述丙烯酸類聚合物為：相對於(A)烷基的碳原子數為C1~18的(甲基)丙烯酸酯單體中的至少一種以上的合計100重量份，以(B-1)含有羥基的共聚性乙烯基單體中的至少一種以上的合計為0.01~10重量份的比例和/或以(B-2)含有羧基的共聚性乙烯基單體中的至少一種以上的合計為0.01~0.5重量份的比例進行共聚而成的共聚物的丙烯酸類聚合物， 在所述(A)烷基的碳原子數為C1~18的(甲基)丙烯酸酯單體中的至少一種以上的合計100重量份中，以50重量份以上的比例含有選自由(甲基)丙烯酸異辛酯、(甲基)丙烯酸異壬酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯組成的群組中的至少一種， 相對於100重量份的所述丙烯酸類聚合物，以0.1~10重量份的比例含有3官能度以上的異氰酸酯化合物作為所述(C)交聯劑， 所述黏著劑組合物進一步含有(D)金屬螯合化合物的交聯促進劑和(E)酮-烯醇互變異構體化合物。
  3. 如申請專利範圍第2項所述的黏著劑組合物，其中， 使所述黏著劑組合物交聯而成的黏著劑層的表面電阻率為1.0×10+12 Ω/□以下， 所述黏著劑層對使用含有氟化物的低折射率層形成用的樹脂組合物在PMMA基材及TAC基材的表面形成的低折射率層的剝離靜電電壓、以及對在PMMA基材及TAC基材的表面未做任何處理的平面層的剝離靜電電壓均為±0.3kV以下， 將所述黏著劑層貼合於被黏物後，於溫度60℃、濕度90%RH的氛圍下放置48hr，從所述氛圍下取出1天後的抗污染性能為對於所述被黏物的表面為“無污染”，所述被黏物為在偏光鏡上積層保護層，並利用含有氟化物的組合物對保護層的表面進行了低反射表面處理的偏振片， 關於所述黏著劑層對施加於所述PMMA基材的表面的所述低折射率層的黏著力，在低速的剝離速度0.3m/min下的黏著力為0.04~0.2N/25mm，且在高速的剝離速度30m/min下的黏著力為2.0N/25mm以下。
  4. 如申請專利範圍第2或3項所述的黏著劑組合物，其中， 所述(B-1)含有羥基的共聚性乙烯基單體為選自由(甲基)丙烯酸8-羥基辛酯、(甲基)丙烯酸6-羥基己酯、(甲基)丙烯酸4-羥基丁酯、(甲基)丙烯酸2-羥基乙酯、N-羥基(甲基)丙烯醯胺、N-羥甲基(甲基)丙烯醯胺、N-羥乙基(甲基)丙烯醯胺組成的化合物群組中的至少一種以上， 所述(B-2)含有羧基的共聚性乙烯基單體為選自由(甲基)丙烯酸、羧乙基(甲基)丙烯酸酯、羧戊基(甲基)丙烯酸酯、2-(甲基)丙烯醯氧基乙基六氫鄰苯二甲酸、2-(甲基)丙烯醯氧基丙基六氫鄰苯二甲酸、2-(甲基)丙烯醯氧基乙基鄰苯二甲酸、2-(甲基)丙烯醯氧基乙基琥珀酸、2-(甲基)丙烯醯氧基乙基馬來酸、羧基聚己內酯單(甲基)丙烯酸酯、2-(甲基)丙烯醯氧基乙基四氫鄰苯二甲酸組成的化合物群組中的至少一種以上。
  5. 如申請專利範圍第2或3項所述的黏著劑組合物，其中， 相對於100重量份的所述丙烯酸類聚合物，所述黏著劑組合物以0.001~0.5重量份的比例含有所述(D)金屬螯合化合物的交聯促進劑，並以0.1~300重量份的比例含有所述(E)酮-烯醇互變異構體化合物， 所述(D)金屬螯合化合物的交聯促進劑為選自由鋁螯合化合物、鈦螯合化合物、鐵螯合化合物組成的群組中的至少一種以上， 所述(E)/所述(D)的重量份比為70~1000。
  6. 一種黏著膜，其特徵在於，在樹脂膜的單面上積層有使申請專利範圍第1~5項中任一項所述的黏著劑組合物交聯而成的黏著劑層。
  7. 一種表面保護膜，其使用了申請專利範圍第6項所述的黏著膜。
  8. 一種偏振片用的表面保護膜，其使用了申請專利範圍第項6所述的黏著膜。
  9. 一種附黏著劑層的光學膜，其中，在光學膜的至少一側的面上積層有使申請專利範圍第1~5項中任一項所述的黏著劑組合物交聯而成的黏著劑層。
  10. 如申請專利範圍第6項所述的黏著膜，其中，在所述樹脂膜的與形成有所述黏著劑層的一側為相反面的單面上實施有抗靜電處理及防污處理。
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