TW201943068A - 像素界定結構及其製備方法、顯示基板、噴墨列印方法 - Google Patents
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Abstract
像素界定結構及其製備方法、顯示基板、噴墨列印方法。該像素界定結構包括：基板，以及位於所述基板上的多個像素界定單元，包括沿彼此相交的第一方向和第二方向排列的至少一個第一像素界定單元和至少一個第二像素界定單元，其中，每個像素界定單元具有相對的第一表面和第二表面以及連通所述第一表面和第二表面的一個開口，所述至少一個第二像素界定單元的至少一個側邊的向內傾斜角度小於所述至少一個所述第一像素界定單元的至少一個側邊的向內傾斜角度。
Description
本發明的實施例涉及一種像素界定結構及其製備方法、顯示基板、噴墨列印方法。
有機發光顯示裝置具有自發光、反應快、視角廣、亮度高、色彩豔、輕薄等優點，因此成為一種重要的顯示技術。
有機發光顯示裝置的有機功能層例如可以採用噴墨列印的方式形成，而利用噴墨列印法形成有機功能層需要預先在襯底基板上製作像素界定結構，以限定有機功能材料精確的噴入指定的像素區域內。
本發明的實施例提供一種像素界定結構，包括：基板，以及位於所述基板上的多個像素界定單元，包括沿彼此相交的第一方向和第二方向排列的至少一個第一像素界定單元和至少一個第二像素界定單元，其中，每個像素界定單元具有相對的第一表面和第二表面以及連通所述第一表面和第二表面的一個開口，其中，在所述像素界定結構的至少一個沿所述第一方向的橫剖面中，每個所述像素界定單元的位於所述開口一側的側邊的向內傾斜角度為所述側邊的兩個端點的直線連線與所述開口暴露的所述基板的表面部分之間的夾角，所述側邊的所述兩個端點分別為所述側邊與所述第一表面的交點和所述側邊與所述第二表面的交點，所述至少一個第二像素界定單元的至少一個側邊的向內傾斜角度小於所述至少一個所述第一像素界定單元的至少一個側邊的向內傾斜角度。
在一個示例中，所述至少一個第二像素界定單元包括沿第二方向順次相鄰的多個所述第二像素界定單元。
在一個示例中，沿所述第二方向順次相鄰的多個所述第二像素界定單元的所述側邊的向內傾斜角度實質相等。
在一個示例中，所述至少一個第二像素界定單元包括沿所述第一方向順次相鄰的多個所述第二像素界定單元。
在一個示例中，沿所述第一方向順次相鄰的多個所述第二像素界定單元的所述側邊向內傾斜角度順次減小。
在一個示例中，所述至少一個第二像素界定單元的所述至少一個側邊的所述向內傾斜角度為銳角。
在一個示例中，所述至少一個第一像素界定單元的所述至少一個側邊的所述向內傾斜角度為鈍角。
在一個示例中，所述多個像素限定單元還包括：至少一個第三像素界定單元，位於所述至少一個第一像素界定單元與所述基板之間；和至少一個第四像素限定單元，位於所述至少一個第二像素界定單元與所述基板之間，其中，所述至少一個第三像素限定單元與所述至少一個第一像素限定單元對應重疊，所述至少一個第四像素限定單元與所述至少一個第二像素界定單元對應重疊，其中，在所述像素界定結構的所述沿所述第一方向的至少一個橫剖面中，所述至少一個第三像素界定單元的至少一個側邊的所述向內傾斜角度為鈍角，且所述至少一個第四像素限定單元的至少一個側邊的所述向內傾斜角度為鈍角。
在一個示例中，所述至少一個第一像素界定單元和所述至少一個第二像素界定單元的材料為疏液材料；所述至少一個第三像素界定單元和所述至少一個第四像素界定單元的材料為親液材料。
在一個示例中，在垂直於所述基板的方向上，所述多個第一像素界定單元和所述至少一個第二像素界定單元的厚度大於所述多個第三像素界定單元和所述至少一個第四像素界定單元的厚度。
在一個示例中，沿所述第一方向順次相鄰的所述多個第二像素界定單元的數量為2-5個。
本發明的另一實施例提供一種利用上述任一項所述的像素界定結構進行噴射列印的方法，包括：採用多個噴嘴同時對所述多個像素界定單元的至少一部分一一對應同時噴射材料，其中，所述多個噴嘴中位於邊緣的至少一個噴嘴向所述至少一個第二像素界定單元噴射所述材料。
在一個示例中，所述噴射列印方法還包括：採用所述多個噴嘴，沿與所述第一方向相交的第二方向逐行噴射所述材料。
本發明的又一實施例提供一種顯示基板，包括上述任一項所述的像素界定結構以及有機功能層；其中，所述有機功能層位於至少一部分的所述多個像素界定單元的限定的開口中。
在一個示例中，所述有機功能層包括選自發光層、電子注入層、電洞注入層、電子傳輸層和電洞傳輸層構成的組中的至少之一。
在一個示例中，所述多個像素限定單元還包括：至少一個第三像素界定單元，位於所述至少一個第一像素界定單元與所述基板之間；和至少一個第四像素限定單元，位於所述至少一個第二像素界定單元與所述基板之間，其中，所述至少一個第三像素限定單元與所述至少一個第一像素限定單元對應重疊，所述至少一個第四像素限定單元與所述至少一個第二像素界定單元對應重疊，其中，在所述像素界定結構的沿所述第一方向的所述至少一個橫剖面中，每個所述第三像素界定單元的至少一個側邊的所述向內傾斜角度為鈍角，且所述至少一個第四像素限定單元的至少一個側邊的所述向內傾斜角度為鈍角，其中，所述有機功能層的遠離所述基板的表面與所述至少一個第三像素界定單元和所述至少一個第四像素限定單元的遠離所述基板的表面基本齊平。
在一個示例中，所述多個第一像素界定單元和所述至少一個第二像素界定單元的材料為疏液材料；所述多個第三像素界定單元和所述至少一個第四像素界定單元的材料為親液材料。
在一個示例中，在垂直於所述基板的方向上，所述至少一個第一像素界定單元和所述至少一個第二像素界定單元的厚度大於所述至少一個第三像素界定單元和所述至少一個第四像素限定單元的厚度。
本發明的又一實施例提供一種像素界定結構的製備方法，包括：在基板上形成多個像素界定單元，其中，所述多個像素界定單元包括沿彼此相交的第一方向和第二方向排列的至少一個第一像素界定單元和至少一個第二像素界定單元，其中，每個像素界定單元具有相對的第一表面和第二表面以及連通所述第一表面和第二表面的一個開口，其中，在所述像素界定結構的至少一個沿所述第一方向的橫剖面中，每個所述像素界定單元的位於所述開口一側的側邊的向內傾斜角度為所述側邊的兩個端點的直線連線與所述開口暴露的所述基板的表面部分之間的夾角，所述側邊的所述兩個端點分別為所述側邊與所述第一表面的交點和所述側邊與所述第二表面的交點，所述至少一個第二像素界定單元的至少一個側邊的向內傾斜角度小於所述至少一個所述第一像素界定單元的至少一個側邊的向內傾斜角度。
在一個示例中，所述像素界定結構的製備方法還包括：在所述至少一個第一像素界定單元與所述基板之間形成至少一個第三像素界定單元；以及在所述至少一個第二像素界定單元與所述基板之間形成至少一個第四像素界定單元，其中，所述至少一個第三像素限定單元與所述至少一個第一像素限定單元對應重疊，所述至少一個第四像素限定單元與所述至少一個第二像素界定單元對應重疊，其中，在所述像素界定結構的沿所述第一方向的所述至少一個橫剖面中，所述至少一個第三像素界定單元的至少一個側邊的所述向內傾斜角度為鈍角，且所述至少一個第四像素限定單元的至少一個側邊的所述向內傾斜角度為鈍角。
為使本發明實施例的目的、技術方案和優點更加清楚，下面將結合本發明實施例的附圖，對本發明實施例的技術方案進行清楚、完整地描述。顯然，所描述的實施例是本發明的一部分實施例，而不是全部的實施例。基於所描述的本發明的實施例，本領域普通技術人員在無需創造性勞動的前提下所獲得的所有其他實施例，都屬於本發明保護的範圍。
除非另外定義，本發明使用的技術術語或者科學術語應當為本發明所屬領域內具有一般技能的人士所理解的通常意義。本發明中使用的“第一”、“第二”以及類似的詞語並不表示任何順序、數量或者重要性，而只是用來區分不同的組成部分。“包括”或者“包含”等類似的詞語意指出現該詞前面的元件或者物件涵蓋出現在該詞後面列舉的元件或者物件及其等同，而不排除其他元件或者物件。“連接”或者“相連”等類似的詞語並非限定於物理的或者機械的連接，而是可以包括電性的連接，不管是直接的還是間接的。“上”、“下”、“左”、“右”等僅用於表示相對位置關係，當被描述物件的絕對位置改變後，則該相對位置關係也可能相應地改變。
通常，顯示基板的像素界定結構具有多個開口，利用噴墨列印法在這些開口中進行噴墨列印時，若一次將所有的開口均噴墨列印完成則需要數量較多的噴嘴。由於不同的噴嘴之間存在體積差異，在噴墨列印前需要對各噴嘴進行體積校準，從而使各個噴嘴噴墨列印出的墨水體積基本一致。但是，在噴嘴數量較多的情況下，對每個噴嘴進行校對耗費時間較長，並且浪費材料。例如，可以採用少量噴嘴進行多次噴墨列印的方式完成對較大面積的像素界定結構的噴墨列印。此時，利用少量噴嘴對數量較多的像素界定結構的開口進行噴墨列印的過程中，進行一次噴墨列印可以列印的開口數量與噴嘴的數量相同，先噴墨列印在開口中的墨水首先進行乾燥，並且在一次噴墨列印中，由於空氣環境的不同，噴墨列印在不同位置的開口中的墨水乾燥速度不一致。通常，噴墨列印在邊緣開口中的墨水的乾燥速度較快，而噴墨列印在內部開口中的墨水的乾燥速度較慢，這使得噴墨列印在不同位置開口中的墨水乾燥後產生的形態不均勻（俗稱swath mura）。例如，在利用噴墨列印法在像素界定結構中列印有機材料以形成有機功能層時，不同位置的開口中形成的有機功能層形態（例如厚度）不均勻，這由此會導致顯示基板在工作時的顯示亮度不均勻，嚴重影響顯示基板的顯示效果。
本發明至少一實施例提供一種像素界定結構，包括：設置在襯底基板上的像素界定層，其中，像素界定層包括至少沿第一方向週期排列的多個像素界定組；每個像素界定組包括第二像素界定單元，第二像素界定單元位於像素界定組在第一方向上的一側或兩側邊緣位置；第二像素界定單元在第一方向上的橫剖面中，朝向第二像素界定單元的開口的至少一個側邊為內傾側邊。
本發明至少一實施例提供一種利用上述像素界定結構進行噴墨列印的方法，該方法包括：以像素界定組為單位在像素界定結構內逐組進行噴墨列印。
本發明至少一實施例提供的一種顯示基板，該顯示基板包括上述像素界定結構以及有機功能層；有機功能層設置在像素界定結構的第二像素界定單元形成的開口內。
本發明至少一實施例提供一種像素界定結構的製造方法，包括：在襯底基板上形成至少沿第一方向週期排列的多個像素界定組；其中，每個像素界定組包括第二像素界定單元，第二像素界定單元形成於像素界定組在第一方向上的一側或兩側邊緣位置；第二像素界定單元在第一方向上的橫剖面中，朝向第二像素界定單元的開口的至少一個側邊形成為內傾側邊。
下面通過幾個具體的實施例對本發明的像素界定結構及其製備方法、噴墨列印方法、顯示基板進行說明。
本發明實施例提供一種像素界定結構，該像素界定結構可以用於形成例如有機發光二極體（OLED）顯示面板的陣列基板。第1A圖為本實施例提供的一種像素界定結構的平面示意圖，第2A圖為第1A圖中的像素界定結構沿A-A線的一種剖面示意圖。如第1A圖所示，該像素界定結構包括設置在襯底基板100上的像素界定層。該像素界定層包括至少沿第一方向（例如圖中的水準方向）週期排列的多個像素界定組10。每個像素界定組10包括多個第一像素界定單元1012和第二像素界定單元1022。每個第一像素界定單元1012限定一個第一開口101；每個第二像素界定單元1022限定一個第一開口102。第二像素界定單元1022位於像素界定組10在第一方向上的一側或兩側邊緣位置。每個像素界定單元圍繞限定一個開口（例如圖中的實線框部分）。這裡，開口可以是在垂直於基板的方向上具有一定深度的凹陷部或者通孔。通過所述像素界定層限定出多個陣列排布的開口，每相鄰的兩個像素界定單元的開口通過像素界定層中的條狀部分間隔開，該條狀部分則例如由所述相鄰的兩個像素界定單元共同構成，或者說該條狀部分的中線將該條狀部分劃分為分屬所述相鄰的兩個像素界定單元的兩部分。使用該像素界定結構進行噴墨列印時，墨水可以噴墨列印在每個像素界定單元的開口中。
例如，第二像素界定單元1022在第一方向上的橫剖面中，朝向第二像素界定單元1022的開口的至少一個側邊，例如圖中的側邊102a為內傾側邊，即側邊102a朝向第二像素界定單元1022的開口傾斜。例如，內傾側邊102a與對應於（暴露於）第二像素界定單元1022的開口處的襯底基板100的表面部分之間的夾角為銳角，例如第2A圖中顯示的角度ρ；與此對應地，如果一個側邊與對應的像素界定單元的開口處的襯底基板100的暴露的襯底基板100的表面部分之間的夾角ρ為鈍角，則該側邊為外傾側邊。
例如，在一個示例中，在平面圖中，第二像素界定單元1022的開口形成為矩形。第二像素界定單元1022在第一方向上的橫剖面中，朝向第二像素界定單元1022開口的兩個側邊都為內傾側邊。本實施例中，每個像素界定組10例如還包括第一像素界定單元1012，第一像素界定單元1012至少位於每個像素界定組10的中部位置。例如，第一像素界定單元1012和第二像素界定單元1022可以具有相同的佈局，例如可以具有相同的平面輪廓和相同的開口形狀。
例如，在本實施例的一個示例中，如第2A圖所示，第一像素界定單元1012在第一方向上的橫剖面包括正梯形部分，第二像素界定單元1022在第一方向上的橫剖面包括倒梯形部分。例如，內傾側邊為倒梯形的一條斜邊。在另一個示例中，第二像素界定單元1022在第一方向上的橫剖面例如包括平行四邊形部分（指平行四邊形的一部分，相鄰兩個平行四邊形部分例如可以組成一個完整的平行四邊形）以取代上述倒梯形部分，該平行四邊形部分同樣可包括朝向第二像素界定單元的開口傾斜的內傾側邊。
例如，該內傾側邊可以為直線或弧形。例如，在本實施例的其他示例中，如第2B圖所示，內傾側邊例如也可以具有一定的弧度或彎折，例如只要其朝向第二像素界定單元1022的開口傾斜即可，本實施例對其具體形式不做限定。類似的，該外傾側邊也可以具有一定的弧度或彎折。
例如，第1A圖中顯示了將位於一行的第一像素界定單元1012和第二像素界定單元1022劃分為一個像素界定組10的情況，並且第二像素界定單元1022位於像素界定組10在第一方向上的一側（圖中顯示的為右側），每個像素界定組10包括一個第二像素界定單元1022。在另一實施例中，每個像素界定組例如可以包括1-5個第二像素界定單元，例如2個、3個或4個第二像素界定單元等。例如，當每個像素界定組中的第二像素界定單元為多個時，第二像素界定單元可以位於每個像素界定組的一側，也可以位於每個像素界定組的兩側。
在再一實施例中，如第1B圖所示，例如也可以將位於多行（圖中顯示了兩行）的第一像素界定單元1012和第二像素界定單元1022劃分為一個像素界定組，此時每個像素界定組10例如包括位於像素界定組10在第一方向上的一側的一列或多列第二像素界定單元1022（圖中顯示了一列）。
例如，第3A圖和第3B圖顯示了第2A圖中第一像素界定單元1012的正梯形部分和第二像素界定單元1022的倒梯形部分的示意圖。如第3A圖所示，正梯形部分包括一個較短的上邊和一個較長的底邊，該正梯形部分的一個斜邊與底邊形成直角，另一個斜邊與底邊形成銳角，即第3A圖中顯示的角θ1，例如，θ1的大小為30°-60°，例如35°、45°或50°等，本實施例對此不做具體限定。如第3B圖所示，倒梯形部分包括一個較長的上邊和一個較短的底邊，該倒梯形部分的一個斜邊與底邊形成直角，另一個斜邊與底邊形成鈍角，即第3B圖中顯示的角θ2，例如，θ2的大小為120°-150°，例如130°、140°或145°等，本實施例對此不做具體限定。
例如，第2A圖中，相鄰兩個第一像素界定單元1012的正梯形部分可以組成一個完整的正梯形結構，例如等腰正梯形結構；相鄰的第一像素界定單元1012和第二像素界定單元1022的正梯形部分和倒梯形部分可以組成一個完整的四邊形結構，例如平行四邊形結構。
例如，在本實施例的另一個示例中，如第4A圖所示，與第二像素界定單元1022相鄰的第一像素界定單元1012在鄰接第二像素界定單元1022的一側也可以包括倒梯形部分，從而相鄰的第一像素界定單元1012和第二像素界定單元1022的倒梯形部分可以組成一個完整的倒梯形結構，例如等腰倒梯形結構。
例如，第一像素界定單元和第二像素界定單元的材料可以為光刻膠材料，例如可以採用具有疏液性質的材料，例如採用聚醯亞胺(PI)、聚甲基丙烯酸甲酯（PMMA）或有機矽等具有疏液性質的負性光刻膠材料，從而第一像素界定單元和第二像素界定單元可以通過曝光程序和顯影程序形成，由此可以簡化製備程序。相應於該實施例，例如每個像素界定單元的開口暴露的襯底基板部分具有親液性，例如對其進行親液性處理。
儘管上述實施例中，在第一方向上的橫剖面中，第一像素界定單元1012的至少一個側邊為外傾側邊，第二像素界定單元1022的至少一個側邊為內傾側邊，但是本發明並不限於此。在本發明的實施例中，在所述像素界定結構的至少一個橫剖面中，所述至少一個第二像素界定單元的至少一個側邊的向內傾斜角度小於所述至少一個第一像素界定單元的至少一個側邊的向內傾斜角度。這樣，可以減小噴入像素界定組邊緣處的第二像素界定單元的開口中的有機材料的乾燥速度與噴入該像素界定組中間位置的第一像素界定單元的開口中的有機材料的乾燥速度之間的差異。
這裡，參見第2A圖和2B，每個像素界定單元具有相對的第一表面S1和第二表面S2以及連通所述第一表面S1和第二表面S2的一個開口。在所述像素界定結構的至少一個沿所述第一方向的橫剖面中，每個所述像素界定單元的位於其所限定的開口一側的側邊102a的向內傾斜角度為所述側邊102a的兩個端點E1和E2的直線連線與所述開口暴露的所述基板的表面部分之間的夾角，所述側邊的所述兩個端點E1和E2分別為所述側邊102a與所述第一表面S1的交點和所述側邊102a與所述第二表面S2的交點。這裡，直線連線可以為虛擬的而並非必須實際存在的。
參見第2A圖，像素界定單元的側邊102a為直線邊，其向內傾斜角度即為該側邊102的兩個端點E1和E2的直線連線與所述開口暴露的所述基板的表面部分之間的夾角ρ。在像素界定單元的側邊具有一定的弧度或彎折的情況下，例如參見第2B圖，像素界定單元的側邊102a的向內傾斜角度即為該側邊102a的兩個端點E1和E2的連線（參見第2B圖中的虛線）與該開口暴露的基板的表面部分的夾角ρ’。
在另一示例中，沿所述第一方向順次相鄰的三個所述第二像素界定單元1022的側邊的向內傾斜角度順次減小。參見第4B圖，三個第二像素界定單元的面對其本身限定的開口的側邊相對於該開口的暴露的基板表面部分的夾角ρ1~ρ3滿足：ρ1＞ρ2＞ρ3。這樣，可以進一步減小噴入像素界定組中個像素界定單元的開口中的有機材料的乾燥速度之間的差異。
例如，在本實施例的再一個示例中，如第5圖所示，像素限定結構還包括多個第三像素界定單元1011和至少一個第四像素限定單元1021，位於所述多個第一像素界定單元1012和所述至少一個第二像素界定單元1022與所述基板100之間。所述多個第三像素限定單元1011與所述多個第一像素限定單元1012一一對應重疊，所述至少一個第四像素限定單元1021與所述至少一個第二像素界定單元1022一一對應重疊。在第5圖所示的像素界定結構的橫剖面中，每個所述第三像素界定單元1011的至少一個側邊為外傾側邊，且所述至少一個第四像素限定單元1021的至少一個側邊為外傾側邊。
繼續參見第5圖，第一像素界定單元1012界定的開口101與其正下方的第三像素界定單元1011界定的開口103彼此連通，也就是，第一像素界定單元1012與其正下方的第三像素界定單元1011共同限定一開口；第二像素界定單元1022界定的開口102與其正下方的第四像素界定單元1021界定的開口104彼此連通，也就是，第二像素界定單元1022與其正下方的第四像素界定單元1021。
例如，該示例中，第一像素界定單元1012和第二像素界定單元1022位於同一層，第一像素界定單元1012和第二像素界定單元1022的材料為疏液材料。該疏液材料例如可以為具有疏液性質的負性光刻膠材料，例如為聚醯亞胺(PI)、聚甲基丙烯酸甲酯（PMMA）或有機矽等負性光刻膠材料。例如，第三像素界定單元1011和第四像素界定單元1021位於同一層，第三像素界定單元1011和第四像素界定單元1021的材料為親液材料（該材料表面易於被噴墨列印的墨水濕潤）。該親液材料例如可以為二氧化矽、氮化矽或氮氧化矽等親液材料。
該示例中，採用具有親液性質的材料形成較靠近襯底基板一側的第一層像素界定單元時，該第一層像素界定單元可以使噴墨列印的墨水易於在像素界定單元的開口底部鋪展開，使墨水在開口內的分佈更加均勻。而採用具有疏液性質的材料形成較遠離襯底基板一側的第二層像素界定單元時，該第二層像素界定單元難以被墨水潤濕，因此可以增大噴墨列印在開口中的墨水的擴散阻力，從而減緩墨水在開口的側壁上的攀爬速度，並防止墨水流入相鄰的開口中。
例如，該示例中，第二像素界定單元1022的厚度大於第四像素界定單元1021的厚度。例如，第二像素界定單元1022的厚度為第四像素界定單元1021的厚度的至少兩倍大。例如，第一像素界定單元1012的厚度大於第三像素界定單元1011的厚度。例如，第一像素界定單元1012的厚度為第三像素界定單元1011的厚度的至少兩倍大。例如，第三像素界定單元1011和第四像素界定單元1021的厚度為50nm-300nm，例如100nm、150nm、200nm或250nm等。例如，第一像素界定單元1012和第二像素界定單元1022的厚度為0.2μm-2μm，例如0.5μm、1μm、1.5μm或1.8μm等。在該厚度設置下，噴墨列印在各個像素界定單元的開口內的墨水鋪展更加均勻，並且第二層像素界定單元可以提供有效阻擋，防止墨水流入相鄰的開口內。
例如，該示例中，第三像素界定單元和第四像素界定單元的結構可以相同，例如均為正梯形結構，從而使得噴墨列印在各個像素界定單元的開口內的墨水鋪展形態基本相同，進而使墨水乾燥後的形態基本相同。
本實施例中，第一像素界定單元和第二像素界定單元在垂直於第一方向的剖面形狀可以相同也可以不同。例如，第6圖為第1A圖中的像素界定結構沿B-B線的一種剖面示意圖，第7圖為第1A圖中的像素界定結構沿C-C線的一種剖面示意圖。例如，如第6圖所示，第一像素界定單元101在垂直於第一方向的第二方向上的剖面例如包括外傾側邊（即背向第一像素界定單元101的開口傾斜的側邊），例如包括正梯形。如第7圖所示，第二像素界定單元1022在垂直於第一方向的第二方向上的剖面例如包括內傾側邊，例如包括倒梯形。例如，第二像素界定單元1022在垂直於第一方向上的橫剖面中，朝向第二像素界定單元1022開口的側邊都為內傾側邊。此時，第二像素界定單元1022的四條側邊均為內傾側邊。
例如，第二像素界定單元1022在第二方向上的剖面也可以包括外傾側邊，例如第6圖所示的正梯形，此時，第一像素界定單元101和第二像素界定單元1022在第二方向上的剖面形狀基本相同。本實施例對第一像素界定單元和第二像素界定單元在第二方向的剖面形狀不做具體限定。
本實施例提供的像素界定結構具多個像素界定組，並且位於每個像素界定組邊緣位置的第二像素界定單元在第一方向的剖面上具有內傾側邊，例如具有倒梯形，該內傾側邊（例如倒梯形）可以減緩噴墨列印於每個像素界定組邊緣位置的墨水的乾燥速度，進而使得每個像素界定組的各個像素界定單元中的墨水的乾燥速度的差異減小進而趨於基本一致，使得墨水在乾燥後的形態更加均勻，例如墨水的成膜厚度等更加均勻。
本實施例提供一種利用上述實施例提供的像素界定結構進行噴墨列印的方法，該方法可以用於形成例如OLED顯示面板的陣列基板，該方法包括：以像素界定組為單位在像素界定結構內逐組進行噴墨列印。
例如，可以沿與第一方向垂直的方向進行逐組噴墨列印。例如，如第8圖所示，沿與第一方向垂直的第二方向進行逐組噴墨列印。例如，首先噴墨列印第一像素界定組10，然後依次噴墨列印第二像素界定組20、第三像素界定組30、第四像素界定組40，將第一列像素界定組噴墨列印完成後，噴墨列印第二列像素界定組，例如依次噴墨列印第五像素界定組50、第六像素界定組60、第七像素界定組70和第八像素界定組80等。
該噴墨列印方法採用對所述像素界定結構進行逐組噴墨列印的方式，由於位於各像素界定組邊緣的第二像素界定單元在第一方向上的剖面包括內傾側邊，例如包括倒梯形結構，該內傾側邊可以降低噴墨列印於邊緣開口中墨水的乾燥速度，從而使噴墨列印於像素界定組中各像素界定單元的墨水的乾燥速度基本一致，進而使墨水在乾燥後的形態更加均勻。
本發明至少一實施例提供一種顯示基板，如第9圖所示，該顯示基板包括上述任一像素界定結構，還包括有機功能層103。有機功能層103設置在像素界定結構的第一像素界定單元1012和第二像素界定單元1022形成的開口內。
例如，有機功能層103可以包括發光層、電子注入層、電洞注入層、電子傳輸層和電洞傳輸層中的一種或幾種。
例如，有機功能層103的遠離基板100的表面與第三像素限定單元1011和第四像素限定單元1021的遠離基板100的表面基本齊平。
本實施例中，顯示基板的有機功能層例如可以通過在像素界定結構的第一像素界定單元1012和第三像素界定單元1012共同限定的開口以及第二像素界定單元1022和第四像素界定單元1021共同限定的開口內噴墨列印有機材料而形成。該像素界定結構可以使得噴墨列印形成的有機功能層的形態更加均勻，例如使得有機功能層的厚度及表面形貌等更加均勻，從而可以提高顯示基板的顯示均勻性，使得該顯示基板具有更好的顯示效果。
本實施例中，顯示基板當然還可以包括像素驅動電路、陽極層、陰極層、絕緣層等其他功能結構，本實施例不再贅述。
本實施例提供一種像素界定結構的製備方法，包括：在基板上形成多個像素界定單元，其中，所述多個像素界定單元包括沿彼此相交的第一方向和第二方向排列的至少一個第一像素界定單元和至少一個第二像素界定單元，每個像素界定單元限定一個開口，其中，在所述像素界定結構的至少一個橫剖面中，所述至少一個第二像素界定單元的至少一個側邊的向內傾斜角度小於所述至少一個第一像素界定單元的至少一個側邊的向內傾斜角度。
例如，該方法包括：在襯底基板上形成至少沿第一方向週期排列的多個像素界定組；每個像素界定組包括第二像素界定單元，第二像素界定單元形成於像素界定組在第一方向上的一側或兩側邊緣位置；例如，所形成的第二像素界定單元在第一方向上的橫剖面中，朝向第二像素界定單元的開口的至少一個側邊形成為內傾側邊，即該側邊朝向第二像素界定單元的開口傾斜。
本實施例中，每個像素界定組10中例如還形成第一像素界定單元1012，第一像素界定單元1012至少形成於每個像素界定組10的中部位置。例如，第一像素界定單元1012和第二像素界定單元1022可以具有相同的佈局，例如可以具有相同的平面輪廓和相同的開口形狀。
例如，在本實施例的一個示例中，第一像素界定單元在第一方向上的橫剖面包括正梯形部分，第二像素界定單元在第一方向上的橫剖面包括倒梯形部分，例如，內傾側邊為倒梯形部分的一條斜邊。
例如，該像素界定結構的製備方法包括步驟S101-步驟S102。
步驟S101：在襯底基板上塗覆像素界定結構材料。
本實施例中，如第10A圖所示，首先在襯底基板100上塗覆像素界定結構材料層1020。像素界定結構材料例如可以為具有疏液性質的材料。該材料例如可以為具有疏液性質的負性光刻膠材料，例如為聚醯亞胺(PI)、聚甲基丙烯酸甲酯（PMMA）或有機矽等負性光刻膠材料。
本實施例中，形成像素界定結構所採用的具有疏液性質的材料難以被墨水潤濕，因此用於形成像素界定結構時可以增大噴墨列印在之後將要形成的像素開口中的墨水的擴散阻力，從而減緩墨水在像素開口的側壁上的攀爬速度，並防止墨水流入相鄰的像素開口中。
步驟S102：進行構圖程序以形成第一像素界定單元和第二像素界定單元。
例如，該構圖程序包括：對像素界定結構材料層進行曝光與顯影程序。例如，如第10A圖所示，採用雙色調掩膜110對像素界定結構材料層1020，例如負性光刻膠材料層進行曝光程序，並且進行該曝光程序時，形成第二像素界定單元所採用的曝光量小於形成第一像素界定單元所採用的曝光量。例如，雙色調掩膜110包括完全透光部分111、半透光部分112和完全不透光部分113。例如，該完全透光部分111對應於將要形成的第一像素界定單元的正梯形，半透光部分112對應於將要形成的第二像素界定單元的倒梯形，完全不透光部分113為雙色調掩膜110的剩餘部分，例如對應於將要形成的各像素界定單元的開口部分。
例如，曝光程序完成後進行顯影程序，由於本實施例的像素界定結構材料採用的是負性光刻膠材料，因此被曝光的區域中的材料在之後的顯影程序中不被溶解，從而形成如第10B圖所示的像素界定結構。
例如，本實施例的另一個示例中，該方法還包括在襯底基板上依次形成第一層像素界定單元和第二層像素界定單元，並且第二層像素界定單元形成為倒梯形。
進一步地，例如，該示例中，第一層像素界定單元形成為包括在所述多個第一像素界定單元和所述至少一個第二像素界定單元與所述基板之間的多個第三像素界定單元和至少一個第四像素界定單元，其中，所述多個第三像素限定單元與所述多個第一像素限定單元一一對應重疊，所述至少一個第四像素限定單元與所述至少一個第二像素界定單元一一對應重疊，其中，在所述像素界定結構的所述至少一個橫剖面中，每個所述第三像素界定單元的至少一個側邊為外傾側邊，且所述至少一個第四像素限定單元的至少一個側邊為外傾側邊。
例如，該示例中，第一像素界定單元和第二像素界定單元採用一次構圖程序形成；第三像素界定單元和第四像素界定單元採用另一次構圖程序形成。例如，採用具有疏液性質的負性光刻膠材料形成第二層的第一像素界定單元和第二像素界定單元。例如，採用二氧化矽、氮化矽或氮氧化矽等親液材料形成第一層的第三像素界定單元和第四像素界定單元。
例如，該示例中，如第11A圖所示，可以先在襯底基板上形成第三和第四像素界定單元1011和1021。例如，第三像素界定單元和第四像素界定單元的結構相同。例如，首先形成一層像素界定單元材料，然後對其進行一次構圖程序，例如塗覆一層光刻膠材料，然後進行曝光、顯影、刻蝕等程序以形成第三和第四像素界定單元；然後在第三和第四像素界定單元上形成另一層像素界定單元材料，例如，利用雙色調掩模進行曝光程序與顯影程序以形成第一和第二像素界定單元。例如，進行曝光程序時，形成第二像素界定單元1022所採用的曝光量小於形成第一像素界定單元1012所採用的曝光量。其具體形成方式可以參見上一示例，此處不再贅述。該示例最終形成如第11B圖所示的像素界定結構。
利用本實施例提供的製備方法形成的像素界定結構具多個像素界定組，並且位於每個像素界定組邊緣位置的第二像素界定單元在第一方向的剖面上具有內傾側邊，例如具有倒梯形部分，該內傾側邊（例如倒梯形）可以減緩噴墨列印於每個像素界定組邊緣位置的墨水的乾燥速度，進而使得每個像素界定組的各個像素界定單元中的墨水的乾燥速度的差異減小進而趨於基本一致，使得墨水在乾燥後的形態更加均勻，例如墨水的成膜厚度等更加均勻。
本實施例提供一種顯示基板的製備方法，如第12圖所示，該顯示基板的製備方法包括形成上述任一像素界定結構，並採用上述任一噴墨列印方法在像素界定結構內噴墨列印有機材料以形成有機功能層。
本實施例中，如第12圖所示，首先形成像素界定結構，然後在該像素界定結構的第一像素界定單元1012和第三像素界定單元1012共同限定的開口以及第二像素界定單元1022和第四像素界定單元1021共同限定的開口內噴墨列印有機材料以形成有機功能層103。有機功能層103例如可以為有機發光層、電子注入層、電洞注入層、電子傳輸層和電洞傳輸層中的一種或幾種，本實施例對此不做限定。
本實施例提供的顯示基板的製備方法可以在各像素界定單元中形成更加均勻的有機功能層，例如形成厚度及表面形貌等更加均勻的有機功能層。因此，利用本實施例提供的方法製備得到的有機發光顯示基板具有更好的顯示均勻性，進而由此得到的顯示裝置具有更好的顯示效果。
在本發明之中，還有以下幾點需要說明：
（1）本發明實施例附圖只涉及到與本發明實施例涉及到的結構，其他結構可參考通常設計。
（2）為了清晰起見，在用於描述本發明的實施例的附圖中，層或區域的厚度被放大或縮小，即這些附圖並非按照實際的比例繪製。可以理解，當諸如層、膜、區域或基板之類的元件被稱作位於另一元件“上”或“下”時，該元件可以“直接”位於另一元件“上”或“下”或者可以存在中間元件。
（3）在不衝突的情況下，本發明的實施例及實施例中的特徵可以相互組合以得到新的實施例。
以上所述僅是本發明的示範性實施方式，而非用於限制本發明的保護範圍，本發明的保護範圍由所附的申請專利範圍確定。
10‧‧‧像素界定組
100‧‧‧襯底基板
101‧‧‧第一開口
1011‧‧‧第三像素界定單元
1012‧‧‧第一像素界定單元
102‧‧‧第二像素界定單元
1020‧‧‧像素界定結構材料層
1021‧‧‧第四像素界定單元
1022‧‧‧第二像素界定單元
102a‧‧‧側邊
110‧‧‧雙色調掩膜
111‧‧‧完全透光部分
112‧‧‧半透光部分
113‧‧‧完全不透光部分
20‧‧‧第二像素界定組
30‧‧‧第三像素界定組
40‧‧‧第四像素界定組
50‧‧‧第五像素界定組
60‧‧‧第六像素界定組
70‧‧‧第七像素界定組
80‧‧‧第八像素界定組
第1A圖和第1B圖為本發明一實施例提供的像素界定結構的平面示意圖； 第2A圖和第2B圖為第1A圖中像素界定結構的沿A-A線的兩種剖面示意圖； 第3A圖和第3B圖為本發明一實施例提供的像素界定結構中正梯形和倒梯形的示意圖； 第4A圖為第1A圖中像素界定結構的沿A-A線的再一種剖面示意圖； 第4B圖為像素界定結構另一示例的剖面示意圖； 第5圖為第1A圖中像素界定結構的沿A-A線的另一種剖面示意圖； 第6圖為第1A圖中像素界定結構的沿B-B線的一種剖面示意圖； 第7圖為第1A圖中像素界定結構的沿C-C線的一種剖面示意圖； 第8圖為本發明一實施例提供的噴墨列印方法的示意圖； 第9圖為本發明一實施例提供的顯示基板的示意圖； 第10A圖和第10B圖為本發明一實施例提供的像素界定結構在製備過程中的剖面示意圖； 第11A圖和第11B圖為本發明一實施例提供的像素界定結構在製備過程中的另一剖面示意圖； 第12圖為本發明一實施例提供的顯示基板在製備過程中的剖面示意圖。
Claims (20)
- 一種像素界定結構，包括： 基板，以及 位於所述基板上的多個像素界定單元，包括沿彼此相交的第一方向和第二方向排列的至少一個第一像素界定單元和至少一個第二像素界定單元，其中，每個像素界定單元具有相對的第一表面和第二表面以及連通所述第一表面和第二表面的一個開口， 其中，在所述像素界定結構的至少一個沿所述第一方向的橫剖面中，每個所述像素界定單元的位於所述開口一側的側邊的向內傾斜角度為所述側邊的兩個端點的直線連線與所述開口暴露的所述基板的表面部分之間的夾角，所述側邊的所述兩個端點分別為所述側邊與所述第一表面的交點和所述側邊與所述第二表面的交點，所述至少一個第二像素界定單元的至少一個側邊的向內傾斜角度小於所述至少一個所述第一像素界定單元的至少一個側邊的向內傾斜角度。
- 如申請專利範圍第1項所述的像素界定結構，其中，所述至少一個第二像素界定單元包括沿第二方向順次相鄰的多個所述第二像素界定單元。
- 如申請專利範圍第2項所述的像素界定結構，其中，沿所述第二方向順次相鄰的多個所述第二像素界定單元的所述側邊的向內傾斜角度實質相等。
- 如申請專利範圍第1項所述的像素界定結構，其中，所述至少一個第二像素界定單元包括沿所述第一方向順次相鄰的多個所述第二像素界定單元。
- 如申請專利範圍第4項所述的像素界定結構，其中，沿所述第一方向順次相鄰的多個所述第二像素界定單元的所述側邊向內傾斜角度順次減小。
- 如申請專利範圍第1項所述的像素界定結構，其中，所述至少一個第二像素界定單元的所述至少一個側邊的所述向內傾斜角度為銳角。
- 如申請專利範圍第1項所述的像素界定結構，其中，所述至少一個第一像素界定單元的所述至少一個側邊的所述向內傾斜角度為鈍角。
- 如申請專利範圍第1項所述的像素界定結構，其中，所述多個像素限定單元還包括： 至少一個第三像素界定單元，位於所述至少一個第一像素界定單元與所述基板之間；和 至少一個第四像素限定單元，位於所述至少一個第二像素界定單元與所述基板之間， 其中，所述至少一個第三像素限定單元與所述至少一個第一像素限定單元對應重疊，所述至少一個第四像素限定單元與所述至少一個第二像素界定單元對應重疊， 其中，在所述像素界定結構的所述沿所述第一方向的至少一個橫剖面中，所述至少一個第三像素界定單元的至少一個側邊的所述向內傾斜角度為鈍角，且所述至少一個第四像素限定單元的至少一個側邊的所述向內傾斜角度為鈍角。
- 如申請專利範圍第8項所述的像素界定結構，其中，所述至少一個第一像素界定單元和所述至少一個第二像素界定單元的材料為疏液材料； 所述至少一個第三像素界定單元和所述至少一個第四像素界定單元的材料為親液材料。
- 如申請專利範圍第8項所述的像素界定結構，其中，在垂直於所述基板的方向上，所述多個第一像素界定單元和所述至少一個第二像素界定單元的厚度大於所述多個第三像素界定單元和所述至少一個第四像素界定單元的厚度。
- 如申請專利範圍第4項所述的像素界定結構，其中，沿所述第一方向順次相鄰的所述多個第二像素界定單元的數量為2-5個。
- 一種利用申請專利範圍第1至11項中任一項所述的像素界定結構進行噴射列印的方法，包括： 採用多個噴嘴同時對所述多個像素界定單元的至少一部分一一對應同時噴射材料，其中，所述多個噴嘴中位於邊緣的至少一個噴嘴向所述至少一個第二像素界定單元噴射所述材料。
- 如申請專利範圍第12所述的噴射列印的方法，還包括：採用所述多個噴嘴，沿與所述第一方向相交的第二方向逐行噴射所述材料。
- 一種顯示基板，包括申請專利範圍第1至7項中任一項所述的像素界定結構以及有機功能層； 其中，所述有機功能層位於至少一部分的所述多個像素界定單元的限定的開口中。
- 如申請專利範圍第14項所述的顯示基板，其中，所述有機功能層包括選自發光層、電子注入層、電洞注入層、電子傳輸層和電洞傳輸層構成的組中的至少之一。
- 如申請專利範圍第14項所述的顯示基板，其中，所述多個像素限定單元還包括： 至少一個第三像素界定單元，位於所述至少一個第一像素界定單元與所述基板之間；和 至少一個第四像素限定單元，位於所述至少一個第二像素界定單元與所述基板之間， 其中，所述至少一個第三像素限定單元與所述至少一個第一像素限定單元對應重疊，所述至少一個第四像素限定單元與所述至少一個第二像素界定單元對應重疊， 其中，在所述像素界定結構的沿所述第一方向的所述至少一個橫剖面中，每個所述第三像素界定單元的至少一個側邊的所述向內傾斜角度為鈍角，且所述至少一個第四像素限定單元的至少一個側邊的所述向內傾斜角度為鈍角， 其中，所述有機功能層的遠離所述基板的表面與所述至少一個第三像素界定單元和所述至少一個第四像素限定單元的遠離所述基板的表面基本齊平。
- 如申請專利範圍第16項所述的顯示基板，其中，所述多個第一像素界定單元和所述至少一個第二像素界定單元的材料為疏液材料； 所述多個第三像素界定單元和所述至少一個第四像素界定單元的材料為親液材料。
- 如申請專利範圍第16項所述的顯示基板，其中，在垂直於所述基板的方向上，所述至少一個第一像素界定單元和所述至少一個第二像素界定單元的厚度大於所述至少一個第三像素界定單元和所述至少一個第四像素限定單元的厚度。
- 一種像素界定結構的製備方法，包括： 在基板上形成多個像素界定單元，其中，所述多個像素界定單元包括沿彼此相交的第一方向和第二方向排列的至少一個第一像素界定單元和至少一個第二像素界定單元，其中，每個像素界定單元具有相對的第一表面和第二表面以及連通所述第一表面和第二表面的一個開口， 其中，在所述像素界定結構的至少一個沿所述第一方向的橫剖面中，每個所述像素界定單元的位於所述開口一側的側邊的向內傾斜角度為所述側邊的兩個端點的直線連線與所述開口暴露的所述基板的表面部分之間的夾角，所述側邊的所述兩個端點分別為所述側邊與所述第一表面的交點和所述側邊與所述第二表面的交點，所述至少一個第二像素界定單元的至少一個側邊的向內傾斜角度小於所述至少一個所述第一像素界定單元的至少一個側邊的向內傾斜角度。
- 如申請專利範圍第19項所述的像素界定結構的製備方法，還包括： 在所述至少一個第一像素界定單元與所述基板之間形成至少一個第三像素界定單元；以及 在所述至少一個第二像素界定單元與所述基板之間形成至少一個第四像素界定單元， 其中，所述至少一個第三像素限定單元與所述至少一個第一像素限定單元對應重疊，所述至少一個第四像素限定單元與所述至少一個第二像素界定單元對應重疊， 其中，在所述像素界定結構的沿所述第一方向的所述至少一個橫剖面中，所述至少一個第三像素界定單元的至少一個側邊的所述向內傾斜角度為鈍角，且所述至少一個第四像素限定單元的至少一個側邊的所述向內傾斜角度為鈍角。
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