TW201934265A

TW201934265A - 衝擊處理裝置及衝擊處理方法

Info

Publication number: TW201934265A
Application number: TW107140772A
Authority: TW
Inventors: 松本征人
Original assignee: 日商新東工業股份有限公司
Priority date: 2017-11-30
Filing date: 2018-11-16
Publication date: 2019-09-01
Also published as: CN111405964A; US20200269387A1; DE112018006115T5; WO2019106968A1; CN111405964B; JPWO2019106968A1; US11344995B2; JP7092149B2

Abstract

本發明之一態樣之衝擊處理裝置具備：導引部，其沿被處理體之搬送方向設置；旋轉機構，其包含：第1環狀帶，其提供供載置被處理體之載置面；及第1驅動部，其以載置面朝與搬送方向為相反方向移動之方式驅動第1環狀帶；搬送機構，其藉由朝向搬送方向按壓被處理體，而在載置面上使被處理體沿導引部朝搬送方向滾動移動；及至少一個投射機，其對在載置面上滾動移動之被處理體投射投射材。

Description

衝擊處理裝置及衝擊處理方法

本發明係關於一種衝擊處理裝置及衝擊處理方法。

在下述專利文獻1中曾揭示關於圓板形狀之製品之拋丸清理裝置之技術。在專利文獻1所記載之裝置中，圓板形狀之製品以立起之狀態被搬入拋丸清理室內。被搬入拋丸清理室內之製品朝搬送方向一面滾動一面被搬送。在立起之狀態不變下被搬送之製品在拋丸清理室內之固定位置停止，在以所期望之旋轉速度旋轉之狀態下藉由被投射投射材而被拋丸清理。如此，在專利文獻1所記載之裝置中，藉由一面使製品旋轉一面加工而抑制拋丸清理不均。
[先前技術文獻]
[專利文獻]

專利文獻1：日本實開昭51-52392號公報

[發明所欲解決之問題]

然而，在上述先前技術中，在一面使製品即被處理體旋轉一面投射時，必須將該製品設為非搬送狀態。

因而，謀求能夠在不停止被處理體之搬送下，一面使被處理體旋轉一面投射投射材的衝擊處理裝置及衝擊處理方法。
[解決問題之技術手段]

一態樣之衝擊處理裝置具備：導引部，其沿被處理體之搬送方向設置；旋轉機構，其包含：第1環狀帶，其提供供載置被處理體之載置面；及第1驅動部，其以載置面朝與搬送方向為相反方向移動之方式驅動第1環狀帶；搬送機構，其藉由朝向搬送方向按壓被處理體，而在載置面上使被處理體沿導引部朝搬送方向滾動移動；及至少一個投射機，其對在載置面上滾動移動之被處理體投射投射材。

在上述實施形態之衝擊處理裝置中，由於一面使載置面朝與搬送方向為相反方向移動一面使被處理體朝搬送方向移動，故被處理體在載置面上沿搬送方向滾動移動。而且，由於對在載置面上滾動移動之被處理體投射投射材，故能夠在不停止被處理體之搬送下，一面使被處理體旋轉一面投射投射材。

在一實施形態中，導引部可構成為以將被處理體朝垂直於搬送方向及鉛直方向之方向傾斜之狀態支持被處理體。

在上述實施形態中，由於以將被處理體朝垂直於搬送方向及鉛直方向之方向傾斜之狀態支持被處理體，故能夠抑制在搬送時被處理體在垂直於搬送方向及鉛直方向之方向晃動。在另一實施形態中，至少一個投射機可包含設置於被處理體之搬送路徑之上方之上部投射機。

在一實施形態中，第1環狀帶可由鋼製之複數個板狀構件構成。

根據上述實施形態，與例如第1環狀帶由橡膠形成之情形相比，可抑制起因於被投射投射材的皮帶之消耗。

在一實施形態中，複數個板狀構件各者可在垂直於搬送方向及鉛直方向之方向上具有相對於水平面傾斜之表面。

在上述實施形態中，由於複數個板狀構件具有相對於水平面傾斜之表面，故對於被處理體因其自重而作用有欲在鋼製之板狀構件之傾斜之面滑動之力。藉此，由於被處理體以傾斜之狀態由導引部支持，故被處理體不易傾倒，而能夠穩定地支持被處理體。

在一實施形態中，可行的是，更具備用於搬出被處理體之搬出室，在搬出室中設置有：抵接部，其可在垂直於搬送方向及鉛直方向之方向移動，且可對配置於搬出室之被處理體之上部自側方抵接；及移動機構，其使抵接部在垂直於搬送方向及鉛直方向之方向移動。

在上述實施形態中，在搬出室中設置有抵接部，該抵接部可在垂直於搬送方向及鉛直方向之方向移動，且可相對於配置於搬出室之被處理體之上部自側方抵接。藉由使該抵接部以相對於被處理體之上部自側方抵接之方式移動，而可將被處理體朝側方傾倒。藉由在搬出室中將被處理體傾倒，而能夠去除附著於被處理體之投射材。

在一實施形態中，可行的是，搬送機構具有：第2環狀帶，其設置於載置面之上方；第2驅動部，其驅動第2環狀帶；及複數個按壓部，其等沿第2環狀帶之外周面排列；且複數個按壓部各者以抵接於被處理體之方式自第2環狀帶朝下方延伸，藉由相應於第2環狀帶之驅動朝搬送方向按壓被處理體，而將被處理體朝向搬送方向搬送。此外，在一實施形態中，可行的是，更具備：搬入機構，其設置於較載置面更靠搬送方向之上游側，以特定之週期將被處理體搬入載置面上；及控制裝置，其以配合被處理體被搬入載置面上之時序，複數個按壓部中之一個按壓部配置於可朝搬送方向按壓被搬入載置面上之被處理體之位置之方式調整第2環狀帶之驅動速度。

在上述實施形態中，由於以配合被處理體被搬入載置面上之時序，複數個按壓部中一個按壓部配置於可朝搬送方向按壓被搬入載置面上之被處理體之位置之方式調整第2環狀帶之驅動速度，故能夠高效率地搬送被處理體。

在一態樣中提供一種使用衝擊處理裝置朝被處理體投射投射材之衝擊處理方法。該衝擊處理裝置具備：導引部，其沿被處理體之搬送方向設置；旋轉機構，其包含：環狀帶，其提供供載置被處理體之載置面；及驅動部，其驅動環狀帶；搬送機構，其朝向搬送方向搬送被處理體；及至少一個投射機，其對被處理體投射投射材。一態樣之衝擊處理方法包含如下步驟：以載置面朝與搬送方向為相反方向移動之方式驅動環狀帶；藉由利用搬送機構朝向搬送方向按壓被處理體，而在載置面上使被處理體沿導引部且朝向搬送方向滾動移動；及對在載置面上滾動移動之被處理體自至少一個投射機投射投射材。

在上述一態樣之衝擊處理方法中，由於一面使載置面朝與搬送方向為相反方向移動一面使被處理體朝搬送方向移動，故被處理體在載置面上沿搬送方向滾動移動。而且，由於對在載置面上滾動移動之被處理體投射投射材，故能夠在不停止被處理體之搬送下，一面使被處理體旋轉一面投射投射材。
[發明之效果]

根據本發明之一態樣及各種實施形態，能夠在不停止被處理體之搬送下，一面使被處理體旋轉一面投射投射材。

針對一實施形態之衝擊處理裝置利用圖1～圖10進行說明。以下，如圖1～圖9所示，將自衝擊處理裝置之前方朝向後方之方向設為x方向，將衝擊處理裝置之上方向(鉛直方向)設為z方向，將垂直於x方向及z方向之方向設為y方向而進行說明。

(實施形態之構成)
圖1係作為一實施形態之衝擊處理裝置之珠粒噴擊裝置10之側視圖，圖2係將圖1之珠粒噴擊裝置10之下部側之一部分放大而顯示之側視圖。又，在圖3中係珠粒噴擊裝置10之前視圖，圖4係珠粒噴擊裝置10之平面圖。在本實施形態之珠粒噴擊裝置10中經珠粒噴擊處理之被處理體W(參照圖2)係圓板狀之盤式轉子。如圖10所示，在被處理體W之外周部形成有貫通孔Wc，珠粒噴擊裝置10對貫通孔Wc也實施珠粒噴擊處理。

珠粒噴擊裝置10係一面沿搬送方向(以圖6之箭頭X表示之方向)搬送被處理體W一面朝被處理體W投射投射材的裝置。被處理體W之搬送方向與自珠粒噴擊裝置10之前方朝向後方之方向、亦即x方向一致。如圖2所示，珠粒噴擊裝置10具備櫃體12。此外，在圖1～圖6中，為了方便說明，以適宜地透視櫃體12之壁之狀態顯示櫃體12之內部之構成要素之一部分。如圖2所示，櫃體12將被處理體W之搬送方向(箭頭X方向)設為長度方向。在櫃體12中，在被處理體W之搬送方向之上游側(圖中右側)形成有用於搬入被處理體W之搬入口14，且在被處理體W之搬送方向之下游側(圖中左側)形成有設為被處理體W之搬出用之搬出口16(參照圖4)。搬入口14連通裝置近前側(在圖2中為右側)之空間與櫃體12之內部空間，搬出口16(參照圖4)連通櫃體12之內部空間與裝置右側之空間。

在較搬入口14更靠裝置近前側(-x方向側)設置有搬入用之載置台13。在搬入口14設置有第一升降門20A。第一升降門20A當由感測器檢測到在載置台13上存在被處理體W時打開，當被處理體W通過第一升降門20A之關閉位置時關閉。此外，還能夠藉由對操作面板之觸控面板進行操作而使第一升降門20A開閉。又，在較櫃體12之內部之第一升降門20A更靠下游側(+x方向側)設置有第二升降門20B。又，在較櫃體12之內部之第二升降門20B更靠下游側(+x方向側)設置有第三升降門20C。再者，在搬出口16設置有第四升降門20D。較第三升降門20C更靠被處理體W之搬送方向之下游側被設為用於搬出被處理體W之搬出室70。

此外，以下，當不區別第一升降門20A、第二升降門20B、第三升降門20C及第四升降門20D而概括地說明其等時，稱為升降門20A～20D。升降門20A～20D為利用缸體機構22A、22B、22C、22D(以下簡略記述為「缸體機構22A～22D」)在裝置上下方向升降之構造，在使被處理體W通過時上升而打開。在缸體機構22A～22D連接有控制裝置72(在圖中方塊化顯示)，缸體機構22A～22D之作動係由控制裝置72控制。

在櫃體12之內部之第二升降門20B與第三升降門20C之間設置有分隔壁24A、24B。分隔壁24A與分隔壁24B之間成為投射室26。投射室26係用於利用投射材朝被處理體W之投射進行被處理體W之噴射處理(衝擊投射拋丸清理處理、廣義上而言為表面加工)之空間。

在櫃體12內之第二升降門20B與第三升降門20C之間形成有被處理體W之搬送路徑即搬送路徑38。在搬送路徑38之上方側及側方側安裝有複數台(在本實施形態中總計六台(參照圖4))投射機28。投射機28係例如離心式投射機，可藉由葉輪之旋轉對投射材賦予離心力。投射機28以離心力將投射材加速，在搬送路徑38中對搬送中之被處理體W(更具體而言在投射室26中搬送之被處理體W)投射投射材。

在圖8中以前視放大剖視圖顯示利用珠粒噴擊裝置10對被處理體W予以珠粒噴擊處理之狀態。此外，在圖8中，為了方便說明，省略表示剖面之陰影。如圖8所示，在本實施形態中，作為投射機28係包含：上部投射機28A、第一橫投射機28B、及第二橫投射機28C。上部投射機28A設置於被處理體W之搬送路徑即搬送路徑38之上方，朝向被處理體W之外周側自上方投射投射材。第一橫投射機28B設置於搬送路徑38之側方，朝向搬送時之立起姿勢之被處理體W之一個側面自斜上方側投射投射材。第二橫投射機28C設置於搬送路徑38之側方，朝向搬送時之立起姿勢之被處理體W之另一側面自側方側投射投射材。此外，在以下之說明中，當不區別上部投射機28A、第一橫投射機28B及第二橫投射機28C而概括地說明其等時，稱為投射機28。

另一方面，在圖2所示之投射機28之上方側配置有導入管29。如圖1所示，導入管29之上端經由流量調整裝置30連接於投射材貯存用之珠粒槽32。又，投射機28經由導入管29、流量調整裝置30、及珠粒槽32連結於循環裝置34。循環裝置34係用於搬送由投射機28投射出之投射材且使其朝投射機28循環的裝置。

循環裝置34具備：在櫃體12之下部朝裝置前後方向(圖1之x方向)延伸之第一螺旋輸送機34A、及在第一螺旋輸送機34A之搬送方向下游側之側方側豎立設置於裝置上方側之斗式升降機34B(參照圖3)。又，循環裝置34更具備：自斗式升降機34B之上部之側方側朝裝置前後方向(圖1之x方向)延伸之第二螺旋輸送機34C、及設置於第二螺旋輸送機34C與珠粒槽32之間之分離器34D。

圖5中係將圖1之珠粒噴擊裝置10之搬入側之一部分放大而顯示之側視圖。如圖5所示，在櫃體12之搬入側設置有第一搬入裝置36A及第二搬入裝置36B。第一搬入裝置36A設置於較第一升降門20A更靠上游側(-x方向側)。第二搬入裝置36B設置於第一升降門20A與第二升降門20B之間。在第一搬入裝置36A及第二搬入裝置36B連接有控制裝置72(參照圖2)，根據來自控制裝置72之控制信號而控制第一搬入裝置36A及第二搬入裝置36B之作動。第一搬入裝置36A包含缸體機構，且構成為以第一升降門20A被打開之時序朝搬送方向壓出載置台13上之被處理體W。第二搬入裝置36B構成為包含缸體機構，且構成為以第二升降門20B被打開之時序朝搬送方向壓出配置於第一升降門20A與第二升降門20B之間之被處理體W。

又，在櫃體12之內部之搬入側即第二升降門20B之下游側設置有第三搬入裝置36C。在第三搬入裝置36C連接有控制裝置72(參照圖2)。第三搬入裝置36C之作動係由控制裝置72(參照圖2)控制。第三搬入裝置36C具備用於朝搬送方向投出被處理體W之L字狀之臂36C1。臂36C1可繞搬送寬度方向之軸36C2轉動，且相應於未圖示之缸體機構之作動在安裝被處理體W時之第一位置(36X)與朝該搬送方向下游側投出被處理體W時之第二位置(36Y)之間轉動。而且，構成為第三搬入裝置36C以預設之特定之週期作動，臂36C1在自第一位置(36X)轉動至第二位置(36Y)後轉動至(返回)第一位置(36X)。

在圖10中以立體圖顯示由珠粒噴擊裝置10旋轉搬送被處理體W之狀態。圖10(A)係自斜下方觀察之立體圖，圖10(B)係自斜上方觀察之立體圖。如圖10(A)及圖10(B)所示，珠粒噴擊裝置10更具備沿被處理體W之搬送方向設置之導引部40。在一實施形態中，導引部40可包含一對上側導軌40A及一對下側導軌40B。一對上側導軌40A沿被處理體W之搬送方向、亦即x方向延伸，且介隔著搬送路徑38在y方向相互分開。一對上側導軌40A設置於與被處理體W之上部對應之高度位置，以朝搬送方向搬送被處理體W之方式導引該被處理體W。一對下側導軌40B也沿被處理體W之搬送方向、亦即x方向延伸，且介隔著搬送路徑38在y方向相互分開。一對下側導軌40B設置於與被處理體W之下部對應之高度位置，以朝搬送方向搬送被處理體W之方式導引該被處理體W。在一實施形態中，如圖8之部分放大圖所示般，導引部40可將被處理體W以朝垂直於搬送方向及鉛直方向之y方向(在本實施形態中作為一例係裝置左側)傾斜之狀態予以支持。

圖6係將珠粒噴擊裝置10之主要部分放大而顯示之側視圖。如圖6所示，珠粒噴擊裝置10更具備旋轉機構42。旋轉機構42設置於搬送路徑38之下方，且具有：鏈輪44A、鏈輪44B、鏈條46A、第1環狀帶46及馬達M1(第1驅動部)。鏈輪44A及44B構成為可以在y方向延伸之軸線為中心旋轉。第1環狀帶46以自y方向觀察為環狀之方式經由鏈條46A架設於鏈輪44A及44B。該第1環狀帶46提供供被處理體W載置於其上表面之載置面46C。亦即，載置面46C提供供搬送被處理體W之搬送路徑38。

在配置於上游側之鏈輪44A經由驅動力傳遞機構48連接有馬達M1。在馬達M1連接有控制裝置72，馬達M1之作動係由控制裝置72控制。當馬達M1根據來自控制裝置72之控制信號作動時，鏈輪44A旋轉，且第1環狀帶46以第1環狀帶46之載置面46C朝與被處理體W之搬送方向(箭頭X方向)為相反方向(箭頭Y方向)移動之方式旋轉。

在一實施形態中，第1環狀帶46可由鋼製之複數個板狀構件47構成。複數個板狀構件47以沿鏈條46A之外周排列之方式安裝於鏈條46A。如圖8之部分放大圖所示般，構成第1環狀帶46之外周面的板狀構件47之表面47S在y方向可相對於水平面傾斜。亦即，板狀構件47之表面47S在位於環狀之第1環狀帶46之上側部分且可供被處理體W載置之狀態下，自將被處理體W傾斜之側即搬送寬度方向一側(在本實施形態中為裝置左側)朝向搬送寬度方向另一側(在本實施形態中為裝置右側)朝下方側傾斜。

如圖6所示，珠粒噴擊裝置10更具備搬送機構50。搬送機構50設置於旋轉機構42之上方，藉由朝向搬送方向按壓被處理體W，而在載置面46C上使被處理體W沿導引部40在搬送方向滾動移動。圖7(A)係搬送機構50之平面圖，圖7(B)係將搬送機構50放大而顯示之前視之剖視圖。此外，在圖7(B)中省略表示剖面之陰影。

如圖7(A)所示，搬送機構50具有：鏈輪54A、鏈輪54B、鏈條56A、第2環狀帶56及馬達M2(第2驅動部)。鏈輪54A及54B構成為可以在z方向延伸之軸線為中心旋轉。第2環狀帶56設置於載置面46C之上方，以自z方向觀察為環狀之方式經由鏈條56A架設於鏈輪54A及54B。第2環狀帶56配置於沿搬送路徑38(參照圖6)朝y方向偏離之位置(裝置右側)，且具有位於搬送路徑38之上方之搬送面56C。

在配置於搬送下游側之鏈輪54B經由驅動力傳遞機構58連接有馬達M2。在馬達M2連接有控制裝置72，馬達M2之作動係由控制裝置72控制。當馬達M2根據來自控制裝置72之控制信號作動時，鏈輪54B旋轉，且第2環狀帶56旋轉。此時，第2環狀帶56以其搬送面56C沿平行於被處理體W之搬送方向(箭頭X方向)之方向移動之方式被旋轉驅動。此外，在圖6中以透視第2環狀帶56之狀態圖示鏈輪54B。

在一實施形態中，如圖7(A)所示，第2環狀帶56可由鋼製之複數個板狀構件57構成。如圖6及10所示，複數個板狀構件57以沿鏈條56A之外周排列之方式安裝於鏈條56A。此外，在圖6中，為了將圖簡略化而省略複數個板狀構件57之邊界部之圖示。又，如圖7(A)及10(B)所示，搬送機構50更具備沿第2環狀帶56之外周面排列之複數個按壓部52。複數個按壓部52之一端連接於第2環狀帶56之複數個板狀構件57。此外，可相對於數個複數個板狀構件57連接1個按壓部52。亦即，如圖7(A)所示，在第2環狀帶56沿其周向按壓部52空開間隔地設置有複數個。在一實施形態中，如圖7(B)所示，按壓部52形成具有沿y方向延伸之第1部分52A及沿-z方向(下方)延伸之第2部分52B的倒L字狀。第2部分52B構成為伴隨著搬送面56C之移動沿一對上側導軌40A之間移動。因而，按壓部52自第2環狀帶56朝下方延伸，其下部構成為抵接於配置於搬送路徑38之被處理體W。

如上述般，由於藉由搬送機構50之搬送面56C沿平行於搬送方向之方向移動，而按壓部52朝搬送方向按壓被處理體W，故被處理體W朝向搬送方向(箭頭X方向)被搬送。此時，由於旋轉機構42之載置面46C朝向與搬送方向為相反方向(箭頭Y方向)移動，故配置於載置面46C之被處理體W在立起之狀態下在載置面46C上朝搬送方向滾動移動。以下，將供設置旋轉機構42及搬送機構50之區域稱為旋轉搬送區域A1。此外，設置於較旋轉搬送區域A1更靠搬送方向上游側的圖5所示之第三搬入裝置36C係將被處理體W搬入旋轉搬送區域A1之最上游側、亦即載置面46C上的搬入機構。

以配合第三搬入裝置36C將被處理體W搬入旋轉搬送區域A1之最上游側、亦即載置面46C上之時序，複數個按壓部52之一者配置於可朝搬送方向按壓被搬入載置面46C上之被處理體W之位置之方式由控制裝置72控制使第2環狀帶56旋轉驅動之速度。控制裝置72以一定之速度旋轉驅動第2環狀帶56。

在圖8所示之配置於搬送上游側的從動側之鏈輪54A之旋轉軸上端部固定有朝鏈輪54A之軸之半徑方向突出的金屬製之桿60。又，在桿60之附近配置有接近開關62。

接近開關62採用在桿60接近至特定範圍內時將包含接近開關62之電氣電路(控制電路部)設為導通狀態的構成。亦即，接近開關62檢測桿60之接近。而且，在本實施形態中，設定為在複數個按壓部52之任一者到達圖5所示之旋轉搬送區域A1之最上游側之固定位置時，圖8所示之接近開關62檢測到桿60之接近。接近開關62連接於控制裝置72(參照圖2)，朝控制裝置72(參照圖2)輸出檢測信號。又，當接近開關62檢測到桿60之接近時，控制裝置72(參照圖2)以使圖5所示之缸體機構22B作動而打開第二升降門20B且第二搬入裝置36B將被處理體W朝第三搬入裝置36C之臂36C1之上側壓出之方式控制。

在圖9(A)中以後視圖顯示珠粒噴擊裝置10之搬出側之機構之一部分，在圖9(B)中以側視圖顯示珠粒噴擊裝置10之搬出側之機構之一部分。如圖9(B)所示，在連接於旋轉搬送區域A1之搬出側之搬出側區域A2設置有斜坡64，被處理體W以立起姿勢滾動。

在第三升降門20C之附近設置有檢測到達第三升降門20C之近前(圖9(B)之右側)之被處理體W的感測器S1。感測器S1連接於控制裝置72(參照圖2)，朝控制裝置72(參照圖2)輸出檢測信號。在感測器S1檢測到被處理體W到達第三升降門20C之近前時，控制裝置72以第三升降門20C打開之方式控制缸體機構22C之作動。

如圖9(A)所示，在搬送路徑38之搬出側即搬出室70內設置有壓出板65及抵接構件66。壓出板65設置於與y方向正交之平面上，相對於配置於搬出室70內之被處理體W配置於側方(裝置左側)。抵接構件66經由安裝構件安裝於壓出板65之上部，自壓出板65朝配置於搬出室70內之被處理體W側(裝置右側)伸出。該抵接構件66係呈大致U字狀(コ字狀)彎曲之彎曲棒狀之構件，配置為在裝置後視下裝置下方側被開放。抵接構件66相對於導引部40(參照圖9(B))設置於被處理體W之搬送方向之下游側，且具備可相對於配置於搬出室70之處於立起姿勢的被處理體W之上部自側方側(裝置右側)抵接的抵接部66A。

又，在壓出板65之裝置左側之面安裝有剖面L字狀之托架67A，在托架67A之下邊部安裝有用於使朝搬送寬度方向之移動滑順之車輪67B。又，在托架67A之裝置左側之面連結有作為移動機構之缸體機構68之桿部68A的前端部。藉此，抵接部66A可以在搬送寬度方向上橫切搬送路徑38之方式、亦即沿y方向移動。又，抵接部66A設定為以被處理體W被配置於搬出室70之時序相對於被處理體W配置於裝置右側。

缸體機構68為周知之缸體機構。在缸體機構68連接有控制裝置72，缸體機構68之作動係由控制裝置72控制。缸體機構68之桿部68A在搬送路徑38之側方側(裝置左側)以搬送寬度方向為軸線方向配置。藉此，缸體機構68藉由作動而使壓出板65及抵接構件66朝y方向移動。此外，在圖中，以兩點鏈線表示朝裝置左側移動之狀態之壓出板65、抵接構件66、托架67A及車輪67B。

如圖9(B)所示，在搬出室70之上側設置有檢測配置於搬出室70之固定位置之被處理體W之感測器S2。該感測器S2連接於控制裝置72(參照圖2)，朝控制裝置72(參照圖2)輸出檢測信號。控制裝置72(參照圖2)基於來自感測器S2之檢測信號以被處理體W被配置於搬出室70之前述固定位置之時序，以圖9(A)所示之抵接部66A相對於處於搬送姿勢之被處理體W自裝置右側抵接且朝裝置左側移動之方式控制缸體機構68之作動。藉此，處於搬送姿勢之被處理體W朝裝置左側傾倒。又，以將被處理體W傾倒之時序，控制裝置72(參照圖2)以打開第四升降門20D之方式控制缸體機構22D(參照圖2)之作動，且以將壓出板65朝裝置右側移動之方式控制缸體機構68之作動。藉此，傾倒之被處理體W自搬出口16被搬出。

(實施形態之作用、效果)
其次，針對上述實施形態之作用及效果進行說明。

如圖10所示，在珠粒噴擊裝置10中，於被處理體W之搬送路徑即搬送路徑38之y方向之兩側設置有導引部40。導引部40以立起姿勢之被處理體W朝該搬送方向(箭頭X方向)被搬送之方式導引該被處理體W。又，在搬送路徑38之下方設置有旋轉機構42。旋轉機構42具有自y方向觀察形成環狀之第1環狀帶46，以在該載置面46C上載置有前述立起姿勢之被處理體W，且載置面46C朝與搬送方向(箭頭X方向)為相反方向(箭頭Y方向)移動之方式旋轉驅動第1環狀帶46。在第1環狀帶46被旋轉驅動之狀態下，第1環狀帶46上之被處理體W由搬送機構50之按壓部52朝搬送方向(箭頭X方向)搬送。藉此，被處理體W一面以所期望之旋轉速度(朝箭頭R方向)旋轉一面朝搬送方向滾動移動。對在載置面46C上滾動移動之被處理體W自投射機28投射投射材。因而，能夠在不停止被處理體W之搬送下，一面使被處理體W旋轉一面對被處理體W投射投射材。

在上述實施形態之珠粒噴擊裝置10中，由於能夠將被處理體W一面以所期望之旋轉速度旋轉一面搬送，故能夠抑制被處理體W之搬送方向上之投射室26之長度，且亦可抑制投射機28對投射材之無效投射。

又，在珠粒噴擊裝置10中，如圖7(A)所示，將配置於搬送路徑38之側方且自z方向觀察呈環狀之搬送機構50之第2環狀帶56旋轉驅動。在第2環狀帶56沿其周向空開間隔地設置有複數個按壓部52。另一方面，圖5所示之第三搬入裝置36C以特定之週期作動而將被處理體W搬入旋轉機構之旋轉搬送區域A1之最上游側。此處，以配合第三搬入裝置36C將被處理體W搬入旋轉搬送區域A1之最上游側之時序，複數個按壓部52之任一者配置於在旋轉搬送區域A1之最上游側可按壓被處理體W之位置之方式設定旋轉驅動第2環狀帶56之速度。因而，能夠高效率地依次以圖6所示之按壓部52按壓並搬送由第三搬入裝置36C搬入旋轉搬送區域A1之最上游側之被處理體W。

在珠粒噴擊裝置10中，如圖8所示，投射機28A朝向被處理體W之外周側上部自上方側投射投射材。又，如圖8之部分放大圖所示，導引部40將被處理體W以朝y方向(在本實施形態中為裝置左側)傾斜之狀態予以支持。因而，在投射機28A對被處理體W自上部投射投射材之情形時，由於被處理體W不易朝左右晃動，故能夠對被處理體W之外周部側之貫通孔Wc良好地進行噴射處理。此外，針對例如雖然在被處理體W之外周部側未形成貫通孔Wc但形成凹部之情形也同樣地能夠對該凹部良好地予以噴射處理。

又，在本實施形態中，如圖6所示，第1環狀帶46構成為包含沿其周向並排設置且構成該第1環狀帶46之外周面之複數個鋼製之板狀構件47。因而，與例如第1環狀帶46由橡膠形成之情形相比，可抑制起因於被投射投射材的第1環狀帶46之消耗。

又，在本實施形態中，如圖8之部分放大圖所示，板狀構件47之表面47S在y方向相對於水平面傾斜。因而，對於被處理體W因其自重而作用有欲在鋼製之板狀構件47之傾斜之表面47S滑動之力。藉此，被處理體W由於欲依靠於導引部40之上側導軌40A故不易朝與將被處理體W傾斜之側為相反側(在本實施形態中為裝置右側)傾倒，而能夠穩定地保持被處理體W之姿勢。

又，在本實施形態中，在搬送路徑38之搬出側設置有圖9(A)所示之抵接構件66及缸體機構68。抵接構件66之抵接部66A相對於導引部40(參照圖9(B))設置於被處理體W之搬送方向之下游側且配置為可在搬送路徑38朝y方向移動，並且可相對於在搬送路徑38之搬出側處於立起姿勢之被處理體W之上部自側方側抵接。又，缸體機構68使抵接部66A朝搬送寬度方向移動。藉此，藉由以缸體機構68移動相對於在搬送路徑38之搬出側處於立起姿勢之被處理體W之上部配置於側方側的抵接部66A，而抵接部66A可將被處理體W傾倒。其結果為，能夠使附著於被處理體W之投射材自被處理體W落下。

以下，針對一面搬送圓板狀之被處理體W一面對被處理體W投射投射材之衝擊處理方法進行說明。

圖11係顯示一實施形態之衝擊處理方法MT之流程圖。在該方法MT中，使用圖1所示之珠粒噴擊裝置10對被處理體投射投射材。在方法MT中，首先進行步驟ST1。在步驟ST1中，以載置面46C朝與被處理體W之搬送方向(箭頭X方向)為相反方向(箭頭Y方向)移動之方式驅動第1環狀帶46。在接續之步驟ST2中，以搬送機構50之搬送面56C朝被處理體W之搬送方向(箭頭X方向)移動之方式驅動第2環狀帶56。藉此，設置於第2環狀帶56之複數個按壓部52沿搬送方向移動。在接續之步驟ST3中，被處理體W被搬入珠粒噴擊裝置10之搬送路徑38。具體而言，由第一搬入裝置36A、第二搬入裝置36B及第三搬入裝置36C將被處理體W之外周側載置於第1環狀帶46之載置面46C上。被載置於載置面46C上之被處理體W係由複數個按壓部52中一個按壓部52朝向搬送方向按壓，其結果為，在朝與搬送方向為相反方向移動之載置面46C上，被處理體W沿導引部40朝搬送方向滾動移動。在接續之步驟ST4中，對在載置面46C上滾動移動之被處理體W自投射機28投射投射材。藉此，對被處理體W之表面進行加工。在接續之步驟ST5中，完成表面加工之被處理體W朝搬出室70搬送，而自珠粒噴擊裝置10搬出。此外，在一實施形態中，在搬出被處理體W時，可藉由使抵接部66A以相對於被處理體W之上部自側方抵接之方式移動，而將被處理體W朝側方傾倒。

如以上所說明般，根據本實施形態，具有能夠一面使被處理體W以立起之狀態且以所期望之旋轉速度旋轉一面搬送其且朝向該被處理體W投射投射材的優異之效果。

(實施形態之補充說明)
此外，在上述實施形態之珠粒噴擊裝置10及衝擊處理方法中，被處理體W採用圓板狀之盤式轉子，但被處理體既可採用圓板狀之其他製品，也可採用有底短圓筒狀之製品(例如鼓式制動器)。

又，在上述實施形態中，圖8等所示之導引部40將被處理體W以朝向上方朝搬送寬度方向一側傾斜之狀態予以支持，但導引部40也可將被處理體W以在鉛直方向立起之狀態予以支持。

又，在上述實施形態中，圖6等所示之第1環狀帶46構成為包含沿其周向並排設置且構成該第1環狀帶46之外周面的複數個鋼製之板狀構件47，但第1環狀帶46可為例如橡膠製之環狀帶。

又，在上述實施形態中，在圖8所示之板狀構件47中構成第1環狀帶46之外周面之表面47S在位於環狀之第1環狀帶46之上側部分且可供被處理體W載置之狀態下，自將被處理體W傾斜之側即搬送寬度方向一側(在本實施形態中為裝置左側)朝向搬送寬度方向另一側(在本實施形態為裝置右側)朝下方側傾斜，但表面47S可在位於環狀之第1環狀帶46之上側部分且可供被處理體W載置之狀態下沿例如搬送寬度方向(換言之水平方向)配置。

又，在上述實施形態中，在圖9所示之搬送路徑38之搬出側設置有抵接部66A及缸體機構68(移動機構)，但可不一定設置抵接部66A及缸體機構68。

又，在上述實施形態中，以配合圖5所示之第三搬入裝置36C將被處理體W搬入旋轉搬送區域A1之最上游側之時序，複數個按壓部52之任一者配置於在旋轉搬送區域A1之最上游側可按壓被處理體W之位置之方式，控制旋轉驅動第2環狀帶56之速度，但可不一定進行此控制。

又，在上述實施形態中，衝擊處理裝置採用珠粒噴擊裝置10，但衝擊處理裝置例如可應用於珠擊裝置及珠粒噴擊裝置兼珠擊裝置等任意之衝擊處理裝置。

此外，上述實施形態及上述之複數個變化例可在不矛盾之範圍內適宜地組合。

以上，針對各種實施形態之衝擊處理裝置及衝擊處理方法進行了說明，但不限定於上述之實施形態，在不變更發明之要旨之範圍內可構成各種變化態樣。

10‧‧‧珠粒噴擊裝置

12‧‧‧櫃體

13‧‧‧載置台

14‧‧‧搬入口

16‧‧‧搬出口

20A‧‧‧第一升降門/升降門

20B‧‧‧第二升降門/升降門

20C‧‧‧第三升降門/升降門

20D‧‧‧第四升降門/升降門

22A‧‧‧缸體機構

22B‧‧‧缸體機構

22C‧‧‧缸體機構

22D‧‧‧缸體機構

24A‧‧‧分隔壁

24B‧‧‧分隔壁

26‧‧‧投射室

28‧‧‧投射機

28A‧‧‧上部投射機

28B‧‧‧第一橫投射機

28C‧‧‧第二橫投射機

29‧‧‧導入管

30‧‧‧流量調整裝置

32‧‧‧珠粒槽

34‧‧‧循環裝置

34A‧‧‧第一螺旋輸送機

34B‧‧‧斗式升降機

34C‧‧‧第二螺旋輸送機

34D‧‧‧分離器

36A‧‧‧第一搬入裝置

36B‧‧‧第二搬入裝置

36C‧‧‧第三搬入裝置

36C1‧‧‧臂

36C2‧‧‧軸

36X‧‧‧第一位置

36Y‧‧‧第二位置

38‧‧‧搬送路徑

40‧‧‧導引部

40A‧‧‧上側導軌

40B‧‧‧下側導軌

42‧‧‧旋轉機構

44A‧‧‧鏈輪

44B‧‧‧鏈輪

46‧‧‧第1環狀帶

46A‧‧‧鏈條

46C‧‧‧載置面

47‧‧‧板狀構件

47S‧‧‧表面

48‧‧‧驅動力傳遞機構

50‧‧‧搬送機構

52‧‧‧按壓部

52A‧‧‧第1部分

52B‧‧‧第2部分

54A‧‧‧鏈輪

54B‧‧‧鏈輪

56‧‧‧第2環狀帶

56A‧‧‧鏈條

56C‧‧‧搬送面

57‧‧‧板狀構件

58‧‧‧驅動力傳遞機構

60‧‧‧桿

62‧‧‧接近開關

64‧‧‧斜坡

65‧‧‧壓出板

66‧‧‧抵接構件

66A‧‧‧抵接部

67A‧‧‧托架

67B‧‧‧車輪

68‧‧‧缸體機構

68A‧‧‧桿部

70‧‧‧搬出室

72‧‧‧控制裝置

A1‧‧‧旋轉搬送區域

A2‧‧‧搬出側區域

M1‧‧‧馬達/第1驅動部

M2‧‧‧馬達

MT‧‧‧衝擊處理方法

R‧‧‧箭頭

S1‧‧‧感測器

S2‧‧‧感測器

W‧‧‧被處理體

Wc‧‧‧貫通孔

X‧‧‧箭頭

x‧‧‧方向

Y‧‧‧箭頭

y‧‧‧方向

Z‧‧‧方向

圖1係顯示一實施形態之珠粒噴擊裝置之側視圖。

圖2係將圖1之珠粒噴擊裝置之下部側之一部分放大而顯示之側視圖。

圖3係顯示一實施形態之珠粒噴擊裝置之前視圖。

圖4係顯示一實施形態之珠粒噴擊裝置之平面圖。

圖5係將圖1之珠粒噴擊裝置之搬入側之機構之一部分放大而顯示之側視圖。

圖6係將圖1之珠粒噴擊裝置之主要部分簡略化且放大而顯示之側視圖。

圖7係將圖1之珠粒噴擊裝置之搬送機構放大而顯示之圖。圖7(A)係平面圖；圖7(B)係前視之剖視圖。

圖8係在前視下將利用圖1之珠粒噴擊裝置對被處理體予以珠粒噴擊處理之狀態放大而顯示之剖視圖。

圖9係顯示圖1之珠粒噴擊裝置之搬出側之機構之一部分的圖。圖9(A)係後視圖。圖9(B)係側視圖。

圖10係顯示由圖1之珠粒噴擊裝置旋轉搬送被處理體之狀態之立體圖。圖10(A)係自斜下方觀察之立體圖；圖10(B)係自斜上方觀察之立體圖。

圖11係顯示一實施形態之衝擊處理方法之流程圖。

Claims

一種衝擊處理裝置，其具備：導引部，其沿被處理體之搬送方向設置；旋轉機構，其包含：第1環狀帶，其提供供載置前述被處理體之載置面；及第1驅動部，其以前述載置面朝與前述搬送方向為相反方向移動之方式驅動前述第1環狀帶；搬送機構，其藉由朝向前述搬送方向按壓前述被處理體，而在前述載置面上使前述被處理體沿前述導引部朝前述搬送方向滾動移動；及至少一個投射機，其對在前述載置面上滾動移動之前述被處理體投射投射材。
如請求項1之衝擊處理裝置，其中前述導引部構成為以將前述被處理體朝垂直於前述搬送方向及鉛直方向之方向傾斜之狀態支持前述被處理體。
如請求項1或2之衝擊處理裝置，其中前述至少一個投射機包含設置於前述被處理體之搬送路徑之上方之上部投射機。
如請求項1至3中任一項之衝擊處理裝置，其中前述第1環狀帶係由鋼製之複數個板狀構件構成。
如請求項4之衝擊處理裝置，其中前述複數個板狀構件各者在垂直於前述搬送方向及鉛直方向之方向上具有相對於水平面傾斜之表面。
如請求項1至5中任一項之衝擊處理裝置，其更具備用於搬出前述被處理體之搬出室；且在前述搬出室中設置有：抵接部，其可朝垂直於前述搬送方向及鉛直方向之方向移動，且可對配置於前述搬出室之前述被處理體之上部自側方抵接；及移動機構，其使前述抵接部朝垂直於前述搬送方向及鉛直方向之方向移動。
如請求項1至6中任一項之衝擊處理裝置，其中前述搬送機構具有：第2環狀帶，其設置於前述載置面之上方；第2驅動部，其驅動前述第2環狀帶；及複數個按壓部，其等沿前述第2環狀帶之外周面排列；且前述複數個按壓部各者以抵接於前述被處理體之方式自前述第2環狀帶朝下方延伸，藉由相應於前述第2環狀帶之驅動朝前述搬送方向按壓前述被處理體，而將前述被處理體朝向前述搬送方向搬送。
如請求項7之衝擊處理裝置，其更具備：搬入機構，其設置於較前述載置面更靠前述搬送方向之上游側，且以特定之週期將前述被處理體搬入前述載置面上；及控制裝置，其以配合前述被處理體被搬入前述載置面上之時序，將前述複數個按壓部中之一個按壓部配置於可朝前述搬送方向按壓被搬入前述載置面上之前述被處理體之位置之方式調整前述第2環狀帶之驅動速度。
一種衝擊處理方法，其係使用衝擊處理裝置對被處理體投射投射材者，且前述衝擊處理裝置具備：導引部，其沿被處理體之搬送方向設置；旋轉機構，其包含：環狀帶，其提供供載置前述被處理體之載置面；及驅動部，其驅動前述環狀帶；搬送機構，其朝向前述搬送方向搬送前述被處理體；及至少一個投射機，其對前述被處理體投射投射材；且前述衝擊處理方法包含如下步驟：以前述載置面朝與前述搬送方向為相反方向移動之方式驅動前述環狀帶；藉由前述搬送機構朝向前述搬送方向按壓前述被處理體，而在前述載置面上使前述被處理體沿前述導引部朝前述搬送方向滾動移動；及對在前述載置面上滾動移動之前述被處理體自前述至少一個投射機投射前述投射材。