TW201932690A - 衛浴構件 - Google Patents

Abstract

本發明提供一種衛浴構件1，於頂面具備接縫紋11，該衛浴構件1包含凹凸構造30，該凹凸構造30設置於衛浴構件1的頂面，具備複數個凸部31與複數個凹部32；複數個凸部31及複數個凹部32各自沿著第1方向呈長條狀，且在與第1方向交叉的第2方向交互並排設置；第2方向中之凸部31及凹部32各自的寬度，為微米級；第1方向，與接縫紋11交叉。

Description

衛浴構件

本發明係關於一種衛浴構件。

過去，已知一種在表面設置有複數個小突起之浴室用地板片（例如參考專利文獻1）。專利文獻1所記載之浴室用地板片，藉由設置複數個小突起，而具有防滑性。
[先前技術文獻]
[專利文獻]

專利文獻1：日本特開第2012－158914號公報

[本發明所欲解決的問題]

然而，上述習知之浴室用地板片，具有附著於表面之液滴殘留，速乾性不佳等問題。

因而，本發明的目的在於提供一種具有優良速乾性之衛浴構件。
[解決問題之技術機構]

為了達成上述目的，本發明的一態樣之衛浴構件，於頂面具備接縫紋；該衛浴構件，包含凹凸構造，該凹凸構造設置於該頂面，具備複數個凸部與複數個凹部；該複數個凸部及該複數個凹部各自沿著第1方向呈長條狀，且在與該第1方向交叉的第2方向交互並排設置；該第2方向中之該凸部及該凹部各自的寬度，為微米級；該第1方向，係與該接縫紋交叉的方向。
[本發明之效果]

依本發明，則可提供具有優良速乾性之衛浴構件。

以下，利用附圖，茲就本發明的實施形態之衛浴構件詳細地予以說明。另，以下所說明的實施形態，皆展示本發明之一具體例。因此，下述實施形態所示的數值、形狀、材料、構成要素、構成要素之配置與連接形態、步驟、步驟之順序等，皆僅為一例，其要旨並非在於限定本發明。因而，關於下述實施形態的構成要素中之獨立請求項並未記載的構成要素，係作為任意構成要素而說明。

此外，各圖係示意圖，不必非得嚴格圖示。因此，例如，在各圖中比例尺等不必非得一致。此外，各圖中，對於實質上相同之構成給予相同符號，將重複的說明省略或簡化。

此外，本說明書中，平行或正交等之表示要素間的關係性之用語、及正方形或長方形等之表示要素的形狀之用語、以及數值範圍，並非僅為嚴格意義上的表現，而係亦指實質上同等之範圍，例如包含數％程度之差異的表現。

此外，本說明書及附圖中，x軸、y軸、及z軸，表示三維正交座標系之三軸。各實施形態中，使與衛浴構件的表面平行之二軸為x軸及y軸，使與該表面正交之方向為z軸方向。x軸的正方向，為衛浴構件的主要排水方向。為了提高排水性能，衛浴構件的表面，對水平面傾斜。因此，z軸方向，對鉛直方向傾斜。另，本說明書中，「俯視」，係指從與衛浴構件的表面垂直之方向觀看時的視角。

（實施形態）
［概要］
首先，利用圖1，對於本實施形態之衛浴構件1的概要予以說明。圖1為，顯示設置有本實施形態之衛浴構件1的浴室90之圖。

衛浴構件1，如圖1所示，為浴室90的地板91所利用之浴室用地板材。衛浴構件1，可使水快速地向設置於地板91之排水溝92流動。

另，衛浴構件1，亦可設置於圖1所示的配置在浴室90之浴槽93的底部94。衛浴構件1，不限於使用在浴室90，亦可使用在洗臉台或廚房等之流理台（水槽）的底部、排水溝、或有水汽之房間或通道的地板等。

以下，利用圖2及圖3，對於衛浴構件1的具體構成詳細地予以說明。

［構成］
圖2為，將本實施形態之衛浴構件1的一部分放大顯示之立體圖。圖3為，圖2的III－III線之衛浴構件1的剖面圖。

如圖2及圖3所示，衛浴構件1，具備地板構件10、膜構件20、及凹凸構造30。衛浴構件1，於頂面具備接縫紋11。

地板構件10，於表面設置有接縫紋11。如圖3所示，地板構件10，具備接縫紋11及平坦部12。

接縫紋11，為設置於地板構件10的表面之網格狀的溝。如圖2所示，接縫紋11，例如為方格接縫紋（亦稱作「格子接縫紋」），具備複數條縱溝11a與複數條橫溝11b。

複數條縱溝11a，彼此平行，且等間隔地並排。複數條橫溝11b，彼此平行，且等間隔地並排。複數條縱溝11a與複數條橫溝11b，分別彼此正交。

由相鄰的2條縱溝11a、與相鄰的2條橫溝11b包圍之部分，為平坦部12。平坦部12，為地板構件10的表面之平坦的部分。平坦部12，與xy平面平行。

縱溝11a之並排間隔與橫溝11b之並排間隔，例如相同。此一情況，平坦部12的正面形狀為正方形。縱溝11a之並排間隔與橫溝11b之並排間隔，亦可不同。此一情況，平坦部12的正面形狀為長方形。此外，縱溝11a與橫溝11b，亦可斜向地交叉。此一情況，例如，平坦部12的正面形狀為平行四邊形或菱形。

縱溝11a及橫溝11b之各自的寬度，為毫米級。例如，縱溝11a及橫溝11b之各自的寬度，為1mm以上4mm以下，但不限為此一寬度。縱溝11a及橫溝11b之各自的寬度，可較1mm更短，亦可較4mm更長。另，縱溝11a的寬度，為縱溝11a之短邊方向（亦即，y軸方向）中的長度。橫溝11b的寬度，為橫溝11b之短邊方向（亦即，x軸方向）中的長度。

如圖3所示，縱溝11a之截面形狀，可為倒梯形，但不限於此。縱溝11a之截面形狀，可為V字形，亦可為U字形。另，縱溝11a之截面形狀，亦可為不具有推拔部之長方形或正方形。橫溝11b之截面形狀，例如與縱溝11a之截面形狀相同，但亦可不同。

本實施形態中，地板構件10全體朝向排水方向往下方傾斜。具體而言，如圖2所示，縱溝11a，往以x軸的正方向表示之排水方向平行地延伸。縱溝11a，對水平面以傾斜角φ傾斜。橫溝11b，往以y軸方向表示之水平方向平行地延伸。平坦部12，對水平面以傾斜角φ傾斜。

地板構件10，係以人站立於其上為前提。因此，為了減少人站立時之地板傾斜所造成的不協調感，而使傾斜角φ，例如為1.2度以下，作為一例，為1.1度。

地板構件10，例如由熱可塑性樹脂或熱硬化性樹脂等形成。具體而言，地板構件10，由纖維強化塑膠（FRP：Fiber Reinforced Plastics）、或含有玻璃纖維的SMC（Sheet Molding Compound, 片狀模塑化合物）材料形成。抑或，地板構件10，亦可由包含丙烯酸或聚酯等作為主成分的人工大理石形成。地板構件10，例如藉由利用SMC材料之沖壓成形而形成。

膜構件20，沿著地板構件10的表面而設置。具體而言，如圖3所示，膜構件20，設置為覆蓋各接縫紋11與平坦部12。膜構件20之厚度略均等。如圖3所示，於膜構件20的頂面，形成與地板構件10的接縫紋11之形狀為略相同形狀的溝。

圖4為，顯示本實施形態之衛浴構件1的凹凸構造30之立體圖。如圖4所示，於膜構件20的頂面，設置凹凸構造30。

此外，凹凸構造30，亦設置於接縫紋11。具體而言，如圖4所示，凹凸構造30，在接縫紋11、與接縫紋11以外之部分即平坦部12連續地設置。更具體而言，凹凸構造30，涵蓋沿著y軸方向並排之複數個平坦部12，設置於平坦部12及縱溝11a全體。此外，凹凸構造30，亦設置於橫溝11b。

圖5為，圖4的V－V線之凹凸構造30及膜構件20的剖面圖。如圖5所示，膜構件20，具備基材21及樹脂層22。

基材21為支持樹脂層22之構件。基材21，設置於地板構件10上。具體而言，基材21，沿著地板構件10之接縫紋11及平坦部12而設置。

基材21，例如為樹脂膜、金屬箔或不織布等。作為樹脂膜的材料，可使用聚對苯二甲酸乙二酯（PET）、聚乙烯（PE）、聚丙烯（PP）、聚氯乙烯（PVC）、聚苯乙烯（PS）、聚醋酸乙烯（PVAc）等。基材21的大小及形狀，並無特別限定。基材21，配合使用目的及使用環境等而具有適當的大小及形狀。

樹脂層22，設置於基材21上。樹脂層22，例如使用紫外線硬化樹脂等光硬化性樹脂材料而形成。作為紫外線硬化樹脂，可使用矽氧系樹脂、丙烯酸系樹脂、聚胺酯系樹脂等。樹脂層22的厚度，例如為1μm～50μm，但並未限定為此一厚度。

樹脂層22，如圖4及圖5所示，具備凹凸構造30。凹凸構造30，設置於樹脂層22的頂面，設置於衛浴構件1的最頂面。亦即，在將衛浴構件1利用於地板材等之情況，於最表面露出凹凸構造30。

本實施形態中，構成凹凸構造30的材料，亦即，樹脂層22的材料，其對於水的接觸角為90度以下。亦即，樹脂層22，係利用親水性材料形成。

圖4及如圖5所示，凹凸構造30，具備複數個凸部31及複數個凹部32。凹凸構造30，為具有條紋形狀之微小凹凸構造。條紋形狀，係使彼此略平行地延伸之複數個凸部31以既定間隔並排的形狀。相鄰的凸部31之間為凹部32。

另，條紋形狀，亦稱作線條與間距形狀，其將線條與間距交互並排設置，且往同一方向延伸。凸部31相當於線條，凹部32相當於間距。

複數個凸部31及複數個凹部32，各自沿著第1方向呈長條狀。凸部31及凹部32所延伸之方向即第1方向，與接縫紋11交叉。具體而言，如圖4所示，第1方向，與接縫紋11正交，與y軸方向平行。

本實施形態中，第1方向，與接縫紋11的縱溝11a正交。亦即，第1方向，與衛浴構件1的排水方向正交。另，第1方向，亦可與接縫紋11的橫溝11b正交。抑或，第1方向，亦可與縱溝11a及橫溝11b之至少一方斜向地交叉。

複數個凸部31及複數個凹部32，分別交互並排設置於與第1方向交叉的第2方向。複數個凸部31及複數個凹部32的並排方向即第2方向，與第1方向正交。具體而言，圖4及如圖5所示，凸部31與凹部32，逐一交互地在x軸方向並排設置。

複數個凸部31之形狀彼此相同，複數個凹部32之形狀彼此相同，但並未限定於此等形態。凸部31及凹部32之形狀，亦可彼此分別不同。

如圖5所示，凸部31及凹部32之各自的截面形狀，例如為長方形或正方形。凸部31的寬度w1及凹部32的寬度w2，為微米級。具體而言，寬度w1及w2，為1μm以上較1mm（1000μm）更短的長度。

本實施形態中，凸部31的寬度w1，為凹部32的寬度w2以下的長度。從前方觀察衛浴構件1的頂面之情況，複數個凸部31，占有複數個凸部31與複數個凹部32所占的面積之50％以下的面積。簡單地換而言之，複數個凸部31所占的面積，成為複數個凹部32所占的面積以下。凸部31的寬度w1，例如為5μm以上50μm以下之範圍，作為一例為10μm。凹部32的寬度w2，例如為5μm以上50μm以下之範圍，作為一例為10μm。

凹部32之深度h相對於寬度w2的比，亦即，h／w2，為0.1以上0.6以下。另，凹部32的深度h，相當於凸部31的高度。深度h，例如以從凸部31之最高位置至凹部32之最低位置的高度表示。

另，亦可於凸部31之前端部分的角，設置弧形部（圓弧部分）。凸部31之前端，係高度方向（z軸方向）之前端。本實施形態中，凸部31之截面形狀（xz截面）為略矩形，故凸部31之頂面（z軸方向之正側的面）相當於凸部31之前端。

圓弧部分（弧形部），例如為既定半徑的曲面。既定半徑，例如為凸部31的高度h之1.4倍以下的長度。此外，不限為弧形部，亦可使凸部31之前端部分的角，為對凸部31的頂面傾斜之傾斜面。藉此，微塵、髒污等變得不易卡在凸部31，可提高防污性。

此外，凹凸構造30的形狀，並不限於圖5所示的例子。此處，利用圖6A及圖6B，對凹凸構造30的不同形狀予以說明。

圖6A為，顯示本實施形態之凹凸構造30的另一例即凹凸構造30a之剖面圖。如圖6A所示，凹凸構造30a，具備複數個凸部31a與複數個凹部32a。凹凸構造30a，僅短邊方向之截面形狀不同，其他構成與凹凸構造30相同相同。

如圖6A所示，凸部31a的寬度，相較於前端部分，在根部分中更長。具體而言，凸部31a的寬度，從前端部分至根部分緩緩地變長。凸部31a之截面形狀，例如為梯形。凸部31a之根部分的寬度wb，較前端部分的寬度wa更長。

凹部32a的寬度，與凸部31a相反，相較於開口側在底部側中更短。凹部32a之截面形狀，例如為倒梯形。

另，圖6A所示之凹凸構造30a中，凸部31a的寬度w1及凹部32a的寬度w2，例如係以凹部32a的深度方向中之中央地點（亦即，高度h／2之位置）的寬度定義，但並不限於此一寬度。

圖6B為，顯示本實施形態之凹凸構造30的另一例即凹凸構造30b之剖面圖。如圖6B所示，凹凸構造30b，具備複數個凸部31b與複數個凹部32b。凹凸構造30b，僅短邊方向之截面形狀不同，其他構成與凹凸構造30相同。

如圖6B所示，凸部31b的寬度，相較於前端部分，在根部分中更長。具體而言，凸部31b的寬度，從前端部分至根部分緩緩地變長。凸部31b之截面形狀，例如為半圓形。

進一步，如圖6B所示，凸部31b，於根部分具有推拔部33b。具體而言，推拔部33b，例如為既定半徑的曲面。既定半徑，為凸部31b的高度h之0.1倍以下的長度。另，推拔部33b，亦可不為曲面，而係傾斜面。

另，圖6B所示之凹凸構造30b中，凸部31b的寬度w1及凹部32b的寬度w2，例如係以凹部32b的深度方向中之中央地點（亦即，高度h／2之位置）的寬度定義，但並不限於此一寬度。

此外，凹凸構造的形狀，並不限於上述例子。例如，凹凸構造，亦可形成為鋸齒狀，或形成為波浪線狀。例如，亦可使凸部之截面形狀為三角形，凹部之截面形狀為倒三角形。亦即，凸部的頂面，亦可呈尖形而不平坦。此外，凹部的底面，亦可呈尖形而不平坦。亦即，凹部亦可為V字溝。

［製造方法］
接著，茲就本實施形態的衛浴構件1之製造方法予以說明。

圖7為，顯示本實施形態之衛浴構件1的膜構件20之製造方法的各步驟之剖面圖。膜構件20，例如，係利用使用奈米壓印裝置、或連續捲繞（Roll-to-Roll）方式之凹版印刷裝置等的轉印技術而製造。

首先，如圖7的（a）所示，準備基材21，於準備好之基材21上將樹脂膜22a成膜。例如，利用噴吐裝置等，於基材21的表面塗布紫外線硬化樹脂材料，藉以將樹脂膜22a成膜。在此一時間點，樹脂膜22a尚未硬化，可簡單地變形。

接著，如圖7的（b）所示，準備模具95。於模具95，設置用於將凹凸構造30轉印至樹脂膜22a之凹凸構造96。凹凸構造96，具有使凹凸構造30之凹凸反轉的形狀。

接著，如圖7的（c）所示，藉由使模具95抵緊樹脂膜22a，而於樹脂膜22a形成凹凸構造30。具體而言，藉由將模具95的凹凸構造96轉印至樹脂膜22a的表面，而於樹脂膜22a的表面形成凹凸構造30。

此時，在使模具95充分抵緊樹脂膜22a之狀態下，藉由從基材21側照射紫外線，而使樹脂膜22a硬化。藉此，於樹脂層22，形成凹凸構造30。

最後，如圖7的（d）所示，藉由取下模具95，而形成具有凹凸構造30的膜構件20。

如同上述地製造膜構件20。藉由將製造出之膜構件20貼附於地板構件10的表面，而製造衛浴構件1。

［效果等］
如同上述，本實施形態之衛浴構件1，於頂面具備接縫紋11；該衛浴構件1具備設置於頂面之凹凸構造30，其包含複數個凸部31與複數個凹部32。複數個凸部31及複數個凹部32，各自沿著第1方向呈長條狀，且在與第1方向交叉的第2方向交互並排設置。第2方向中之凸部31及凹部32各自的寬度，為微米級。凸部31及凹部32所延伸之第1方向，係與接縫紋11交叉的方向。

藉此，凹凸構造30之長條的凸部31與長條的凹部32構成為條紋狀，故附著於凹凸構造30之液滴，容易沿著凸部31與凹部32所延伸之第1方向流動。第1方向與接縫紋11交叉，故沿著第1方向流動之液滴，容易直接往接縫紋11引入。引入至接縫紋11之液滴彼此聚集而重量增加，藉由沿著排水方向的接縫紋11之傾斜而排水。

如此地，附著於衛浴構件1的表面之液滴變得容易往接縫紋11引入，故可使留在平坦部12之液滴（亦稱作殘留液滴）的量變得非常少。藉由使殘留液滴變少，而促進因蒸發等而產生的消失，衛浴構件1的乾燥變快。

如同上述，依本實施形態，則提供具有優良速乾性之衛浴構件1。藉由提高速乾性，而可抑制黴菌及黏滑部等的增加，衛浴構件1之防污性亦可提高。

此外，例如，凸部31及凹部32所延伸之第1方向，係與接縫紋11正交之方向。

藉此，液滴變得更容易往至接縫紋11引入，故可改善衛浴構件1之速乾性。

此外，例如，複數個凹部32各自之深度相對於其在第2方向中之長度的比，為0.1以上0.6以下。

藉此，凹部32不變得過深，故可抑制髒污留在凹部32內的情形。依本案發明人等施行之防污性的試驗，在凹部32之深度相對於寬度的比為0.6以下之情況，確保充分的防污性。

此外，例如，具備：地板構件10，於表面設置有接縫紋11；以及膜構件20，具有設置於地板構件10上之基材21、及設置於基材21上之樹脂層22。樹脂層22，在基材21之相反側的面具備凹凸構造30。

藉此，由於在樹脂層22的表面設置凹凸構造30，故例如可藉由奈米壓印等形成加工精度高的凹凸構造30。凹凸構造30之尺寸容易按照設計地形成，故可簡單地實現期待之速乾性。

此外，例如，構成凹凸構造30的材料之對於水的接觸角，為90度以下。

藉此，由於構成凹凸構造30的材料係親水性，故液滴，以填入凹部32之方式流動，並以在填入凹部32之液滴上滑動之方式流動。因此，未填入凹部32之液滴與凹凸構造30的接觸部分，僅為凸部31之前端部分。液滴與凹凸構造30的接觸面積變小，故液滴不易受到來自凸部31之摩擦力，使其順暢地流動。亦即，液滴之滑水性提高，變得容易快速地往接縫紋11引入。如此地，依本實施形態，則可進一步提高衛浴構件1之速乾性。

此外，例如，從前方觀察衛浴構件1的頂面之情況，複數個凸部31，占有複數個凸部31與複數個凹部32所占的面積之50％以下的面積。

藉此，由於可減小凸部31與液滴的接觸面積，故液滴不易受到來自凸部31之摩擦力，使其順暢地流動。如此地，依本實施形態，則可進一步提高衛浴構件1之速乾性。

此外，例如，亦可使複數個凸部31之各自的寬度，相較於前端部分，在根部分中更長。

藉此，容易將液滴往凹部32引入，液滴變得容易填入凹部32。如同上述，藉由使液滴填入凹部32而提高液滴之滑水性，故可進一步提高衛浴構件1之速乾性。

此外，例如，亦可使複數個凸部31各自的寬度，從前端部分至根部分緩緩地變長。

藉此，變得容易將液滴往凹部32引入，液滴容易填入凹部32。藉由使液滴填入凹部32而提高液滴之滑水性，故可進一步提高衛浴構件1之速乾性。

此外，例如，複數個凸部31，可各自於根部分具有推拔部。

藉此，由於髒污等變得不易貯留在凹部32的底部，故可提高防污性。

此外，例如，凹凸構造30，在接縫紋11、與接縫紋11以外之部分即平坦部12連續地設置。具體而言，複數個凸部31及複數個凹部32，從平坦部12朝向接縫紋11而連續。

藉此，由於以連續的凸部31連接平坦部12與接縫紋11，故液滴變得更容易往接縫紋11引入。

（其他）
以上，雖依據上述實施形態，對本發明之衛浴構件予以說明，但本發明並未限定於上述實施形態。

例如，凹凸構造30，亦可僅設置於平坦部12。例如，亦可將設置有凹凸構造30的膜構件20僅設置於平坦部12。亦可於構成接縫紋11的縱溝11a及橫溝11b之至少一方，不設置凹凸構造30。

此外，例如，上述實施形態中，雖說明接縫紋11的縱溝11a與排水方向平行之例子，但並不限於此例。接縫紋11，亦可設置於與排水方向斜向地交叉的方向。

此外，例如，地板構件10的表面，亦可不對水平面傾斜。亦即，接縫紋11的縱溝11a與橫溝11b、以及平坦部12，亦可各自與水平面平行。

此外，例如，上述實施形態中，雖使用親水性材料形成凹凸構造30，但亦可使用撥水性材料形成凹凸構造30。

此外，例如，亦可於具有接縫紋11之地板構件10的頂面，直接設置凹凸構造30。亦即，衛浴構件1，亦可不具備膜構件20。

此外，例如，上述實施形態中，雖例示衛浴構件1的表面之傾斜角φ為1.2度以下的例子，但傾斜角φ亦可較1.2度更大。例如，將衛浴構件1使用在並未設想人站立的情形之構造物，如浴槽93之底部等的情況，即便傾斜角φ較1.2度更大，仍以不給予人使用時之不協調感的方式解決。因此，藉由使傾斜角φ較1.2度更大，而可提高排水性。

此外，例如，構成凹凸構造的材料之對於水的接觸角，可為未滿90度，例如亦可為80度以下，或60度以下等。

其他，對各實施形態施加所屬技術領域中具有通常知識者所思及之各種變形而獲得的形態、或在不脫離本發明之意旨的範圍內將各實施形態之構成要素及功能任意組合藉以實現的形態，亦包含在本發明。

1‧‧‧衛浴構件

10‧‧‧地板構件

11‧‧‧接縫紋

11a‧‧‧縱溝

11b‧‧‧橫溝

12‧‧‧平坦部

20‧‧‧膜構件

21‧‧‧基材

22‧‧‧樹脂層

22a‧‧‧樹脂膜

30、30a、30b、96‧‧‧凹凸構造

31、31a、31b‧‧‧凸部

32、32a、32b‧‧‧凹部

33b‧‧‧推拔部

90‧‧‧浴室

91‧‧‧地板

92‧‧‧排水溝

93‧‧‧浴槽

94‧‧‧底部

95‧‧‧模具

h‧‧‧深度（凸部的高度）

w1、w2、wb、wa‧‧‧寬度

圖1係顯示設置有實施形態之衛浴構件的浴室之圖。

圖2係將實施形態之衛浴構件的一部分放大顯示之立體圖。

圖3係圖2的III－III線之衛浴構件的剖面圖。

圖4係顯示實施形態之衛浴構件的凹凸構造之立體圖。

圖5係圖4的V－V線之凹凸構造及膜構件的剖面圖。

圖6A係顯示實施形態之凹凸構造的另一例之剖面圖。

圖6B係顯示實施形態之凹凸構造的另一例之剖面圖。

圖7係顯示實施形態之衛浴構件的膜構件之製造方法的各步驟之剖面圖。

Claims (10)

1. 一種衛浴構件，於頂面具備接縫紋； 該衛浴構件包含凹凸構造，該凹凸構造設置於該頂面，具備複數個凸部與複數個凹部； 該複數個凸部及該複數個凹部各自沿著第1方向呈長條狀，且在與該第1方向交叉的第2方向交互並排設置； 該第2方向中之該凸部及該凹部各自的寬度，為微米級， 該第1方向，係與該接縫紋交叉的方向。
2. 如申請專利範圍第1項之衛浴構件，其中， 該第1方向，係與該接縫紋正交的方向。
3. 如申請專利範圍第1或2項之衛浴構件，其中， 該複數個凹部各自之深度相對於其在該第2方向中之長度的比，為0.1以上0.6以下。
4. 如申請專利範圍第1項之衛浴構件，更包含： 地板構件，於其表面設有該接縫紋；以及 膜構件，具備設置於該地板構件上之基材、及設置於該基材上之樹脂層； 該樹脂層，在該基材之相反側的面具備該凹凸構造。
5. 如申請專利範圍第1項之衛浴構件，其中， 構成該凹凸構造的材料之對於水的接觸角，為90度以下。
6. 如申請專利範圍第1項之衛浴構件，其中， 從前方觀察該衛浴構件的該頂面之情況，該複數個凸部所占有的面積，係為該複數個凸部與該複數個凹部所占的面積之50％以下。
7. 如申請專利範圍第1項之衛浴構件，其中， 該複數個凸部各自於該第2方向中之長度，在根部分較在前端部分更長。
8. 如申請專利範圍第1項之衛浴構件，其中， 該複數個凸部各自在該第2方向中之長度，從前端部分往根部分緩緩地變長。
9. 如申請專利範圍第1項之衛浴構件，其中， 該複數個凸部，各自於根部分具有推拔部。
10. 如申請專利範圍第1項之衛浴構件，其中， 該凹凸構造，係在該接縫紋與該接縫紋以外之部分連續地設置。