TW201917017A - 近紅外線截止濾波器及其製造方法、固體攝像裝置以及相機模組 - Google Patents
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Abstract
本發明的課題在於提供一種近紅外線截止特性優異、入射角依存性少、可見波長區域中的透過率特性及近紅外波長區域的多重反射光的減少效果優異的近紅外線截止濾波器。本發明的近紅外線截止濾波器包含具有含有近紅外線吸收劑的透明樹脂層的基材、以及形成於所述基材的至少一面的介電體多層膜，且滿足下述必要條件（a）：（a）於波長600 nm～800 nm的區域中，自所述基材的垂直方向進行測定時的透過率成為50%的最短波長的值（Xa）、與於波長700 nm～1200 nm的區域中自基材的垂直方向進行測定時的透過率成為50%的最長波長的值（Xb）的差的絕對值｜Xa-Xb｜為120 nm以上。
Description
本發明是有關於一種近紅外線截止濾波器及使用近紅外線截止濾波器的裝置。詳細而言，本發明是有關於一種包含於特定的波長區域中具有吸收的色素化合物的近紅外線截止濾波器、以及使用該近紅外線截止濾波器的固體攝像裝置及相機模組。
於攝像機、數位靜態相機、帶有相機功能的行動電話等固體攝像裝置中，使用作為彩色圖像的固體攝像元件的電荷耦合器件（Charge Coupled Device，CCD）影像感測器或互補金屬氧化物半導體（Complementary Metal Oxide Semiconductor，CMOS）影像感測器，該些固體攝像元件於其光接收部中使用對於人眼無法察覺的近紅外線具有感度的矽光二極體（silicon photodiode）。該些固體攝像元件中，需要進行以人眼觀看而成為自然的色調的視感度修正，大多使用選擇性地透過或截止特定波長區域的光線的近紅外線截止濾波器。
作為此種近紅外線截止濾波器，先前以來一直使用藉由各種方法製造者。例如，已知有一種將透明樹脂用作基材，並使透明樹脂中含有近紅外線吸收色素的近紅外線截止濾波器（例如參照專利文獻1）。
然而，專利文獻1中所記載的近紅外線截止濾波器無法以高水準地保持可見光透過率的狀態擴展基材的吸收範圍寬度，為了使700 nm～800 nm附近的透過率充分下降，需要使介電體多層膜的截止波長位於波長較短的一側。
內置於相機模組中的近紅外線截止濾波器是以於透鏡側為介電體多層膜（近紅外線反射膜）且於影像感測器側為抗反射膜的配置使用，但於介電體多層膜與透鏡間有時反射光引起多重反射，其結果，存在如下情況：感測器感度較高的700 nm～800 nm附近的多重反射光入射至攝像元件，相機圖像劣化。
然而，專利文獻1中所記載的近紅外線截止濾波器於近紅外區域不具有充分的光吸收範圍，充分地截止近紅外光向感測器的入光時需要提高近紅外線截止濾波器的近紅外線反射率。
進而，伴隨行動機器中的相機模組的小型化，存在特別是於畫面端部中光線的入射角度變得比先前大的傾向，於先前的近紅外線截止濾波器中，存在由近紅外線截止濾波器與透鏡間的多重反射所引起的重像成為問題的情況。具體而言，如圖1所示，透過透鏡4的入射光中可見光透過近紅外線截止濾波器1而近紅外光被反射（反射光3A）。被反射的近紅外光於透鏡4的表面再次被反射（反射光3B），引起多重反射。存在所述近紅外線截止濾波器與透鏡間的多重反射光（透過光3C）入射至感測器5而導致相機圖像劣化的情況。 [現有技術文獻] [專利文獻]
[專利文獻1]日本專利特開平6-200113號公報
[發明所欲解決之課題]
近年來，行動機器等中相機圖像所要求的畫質水準亦變得非常高。根據本發明者等人的研究，為了滿足高畫質化的要求，於近紅外線截止濾波器中，除廣視角及高可見光透過率以外，於長波長區域中亦需要高光線截止特性。然而，先前的近紅外線截止濾波器中如所述般，存在由多重反射引起的重像成為問題的情況。
本發明的課題在於提供一種近紅外線截止特性優異、入射角依存性少、於可見波長區域中的透過率特性及近紅外波長區域的多重反射光的減少效果優異的近紅外線截止濾波器。 [解決課題之手段]
本申請人為了解決所述課題而進行了努力研究，結果發現，藉由將基材的吸收範圍寬度擴展至近紅外線區域，可獲得即便使入射角度變化而光學特性的變化亦少、由多重反射引起的圖像劣化少的近紅外線截止濾波器，從而完成了本發明。以下示出本發明的態樣的例子。
[1] 一種近紅外線截止濾波器，其包含具有含有近紅外線吸收劑的透明樹脂層的基材、以及形成於所述基材的至少一面的介電體多層膜，且滿足下述必要條件（a）： （a）於波長600 nm～800 nm的區域中，自所述基材的垂直方向進行測定時的透過率成為50%的最短的波長的值（Xa）、與於波長700 nm～1200 nm的區域中自基材的垂直方向進行測定時的透過率成為50%的最長的波長的值（Xb）的差的絕對值｜Xa-Xb｜為120 nm以上。
[2] 如項[1]所述的近紅外線截止濾波器，其特徵在於，於所述波長Xa～Xb的區域中，自所述基材的垂直方向進行測定時的透過率的平均值（Ta）為35%以下。
[3] 如項[1]或項[2]所述的近紅外線截止濾波器，其特徵在於，進而滿足下述必要條件（b）： （b）於波長560 nm～800 nm的範圍中，自所述近紅外線截止濾波器的垂直方向進行測定時的透過率成為50%的最短的波長的值（Ya）、與自相對於近紅外線截止濾波器的垂直方向為30°的角度進行測定時的透過率成為50%的最短的波長的值（Yb）的差的絕對值｜Ya-Yb｜未滿15 nm。
[4] 如項[1]至項[3]中任一項所述的近紅外線截止濾波器，其特徵在於，所述近紅外線吸收劑為選自由方酸內鎓鹽系化合物（squarylium compound）、酞菁系化合物（phthalocyanine compound）、萘酞菁系化合物（naphthalocyanine compound）、克酮鎓系化合物（croconium compound）及花青系化合物（cyanine compound）所組成的群組中的至少一種。
[5] 如項[1]至項[4]中任一項所述的近紅外線截止濾波器，其特徵在於，所述透明樹脂層包含兩種以上的所述近紅外線吸收劑。
[6] 如項[1]至項[5]中任一項所述的近紅外線截止濾波器，其特徵在於，所述近紅外線吸收劑包含於波長650 nm～750 nm中具有最大吸收的方酸內鎓鹽系化合物（A）以及於波長660 nm～850 nm中具有最大吸收的化合物（B）（所述化合物（A）除外）。
[7] 如項[1]至項[6]中任一項所述的近紅外線截止濾波器，其特徵在於，所述介電體多層膜形成於所述基材的兩面上。
[8] 如項[7]所述的近紅外線截止濾波器，其特徵在於，形成於所述基材的兩面上的介電體多層膜包含近紅外線反射膜與可見光抗反射膜。
[9] 如項[1]至項[8]中任一項所述的近紅外線截止濾波器，其特徵在於，於波長600 nm～900 nm的區域中，自相對於近紅外線截止濾波器的任一面的垂直方向為30°的角度進行測定時的反射率成為50%的最短的波長的值（Xr）為620 nm以上。
[10] 如項[1]至項[9]中任一項所述的近紅外線截止濾波器，其特徵在於，所述透明樹脂為選自由環狀（聚）烯烴系樹脂、芳香族聚醚系樹脂、聚醯亞胺系樹脂、茀聚碳酸酯系樹脂、茀聚酯系樹脂、聚碳酸酯系樹脂、聚醯胺系樹脂、聚芳酯系樹脂、聚碸系樹脂、聚醚碸系樹脂、聚對苯系樹脂、聚醯胺醯亞胺系樹脂、聚萘二甲酸乙二酯系樹脂、氟化芳香族聚合物系樹脂、（改質）丙烯酸系樹脂、環氧系樹脂、烯丙酯系硬化型樹脂、矽倍半氧烷系紫外線硬化型樹脂、丙烯酸系紫外線硬化型樹脂及乙烯基系紫外線硬化型樹脂所組成的群組中的至少一種樹脂。
[11] 如項[1]至項[10]中任一項所述的近紅外線截止濾波器，其特徵在於，所述基材包含選自透明樹脂製支撐體及玻璃製支撐體中的至少一種。
[12] 如項[1]至項[11]中任一項所述的近紅外線截止濾波器，其用於固體攝像裝置。
[13] 一種固體攝像裝置，其具備如項[1]至項[12]中任一項所述的近紅外線截止濾波器。
[14] 一種相機模組，其具備如項[1]至項[12]中任一項所述的近紅外線截止濾波器。
[15] 一種近紅外線截止濾波器的製造方法，其包括將介電體多層膜形成於具有含有近紅外線吸收劑的透明樹脂層的基材的至少一面的步驟，所述近紅外線截止濾波器的製造方法的特徵在於：該近紅外線截止濾波器滿足下述必要條件（a）： （a）於波長600 nm～800 nm的區域中，自所述基材的垂直方向進行測定時的透過率成為50%的最短的波長的值（Xa）、與於波長700 nm～1200 nm的區域中自基材的垂直方向進行測定時的透過率成為50%的最長的波長的值（Xb）的差的絕對值｜Xa-Xb｜為120 nm以上。 [發明的效果]
根據本發明，可提供一種近紅外線截止特性優異、入射角依存性小、於可見波長區域中的透過率特性及近紅外波長區域的多重反射光的減少效果優異的近紅外線截止濾波器。
以下，對本發明進行具體的說明。
[近紅外線截止濾波器] 本發明的近紅外線截止濾波器的特徵在於：包含具有含有近紅外線吸收劑的透明樹脂層的基材（i）、以及形成於所述基材（i）的至少一面上的介電體多層膜，且滿足下述必要條件（a）。
必要條件（a）：於波長600 nm～800 nm的區域中，自所述基材（i）的垂直方向進行測定時的透過率成為50%的最短的波長的值（Xa）、與於波長700 nm～1200 nm的區域中自所述基材（i）的垂直方向進行測定時的透過率成為50%的最長的波長的值（Xb）的差的絕對值（吸收半值寬）｜Xa-Xb｜為120 nm以上。
此種本發明的近紅外線截止濾波器中近紅外線截止特性優異、入射角依存性少、於可見波長區域中的透過率特性及近紅外波長區域的多重反射光的減少效果優異。
且為若波長Xa～Xb的區域中的透過率的值大則近紅外區域的多重反射減少效果優異的近紅外線截止濾波器。
於將本發明的近紅外線截止濾波器用於固體攝像元件用途的情況下，較佳為近紅外波長區域的透過率低。特別是已知波長700 nm～1000 nm的區域中固體攝像元件的光接收感度較高，藉由降低該波長區域的透過率，可有效地進行相機圖像與人眼的視感度修正，可達成優異的色彩再現性。
本發明的近紅外線截止濾波器於波長700 nm～1000 nm的區域中，自該濾波器的垂直方向進行測定時的平均透過率為5%以下，較佳為4%以下，進而佳為3%以下，特佳為2%以下。若波長700 nm～1000 nm的平均透過率處於該範圍，則可充分地截止近紅外線，可達成優異的色彩再現性，故較佳。
於將本發明的近紅外線截止濾波器用於固體攝像元件等的情況下，較佳為可見光透過率高。具體而言，於波長430 nm～580 nm的區域中，自近紅外線截止濾波器的垂直方向進行測定時的平均透過率較佳為75%以上，更佳為80%以上，進而佳為83%以上，特佳為85%以上。若於該波長區域中平均透過率處於該範圍，則於將本發明的近紅外線截止濾波器用作固體攝像元件用途的情況下，可達成優異的攝像感度。
本發明的近紅外線截止濾波器較佳為進而滿足下述必要條件（b）。
必要條件（b）：於波長560 nm～800 nm的範圍中，自近紅外線截止濾波器的垂直方向進行測定時的透過率成為50%的最短的波長的值（Ya）、與自相對於近紅外線截止濾波器的垂直方向為30°的角度進行測定時的透過率成為50%的最短的波長的值（Yb）的差的絕對值｜Ya-Yb｜未滿15 nm。
所述絕對值｜Ya-Yb｜更佳為未滿10 nm，特佳為未滿5 nm。於將滿足必要條件（b）的近紅外線截止濾波器用作固體攝像元件用途的情況下，依存於入射角的透過率變化變小，圖像的色差（color shading）變良好。此種近紅外線截止濾波器可藉由在所述基材（i）上形成介電體多層膜而獲得。
所述般的近紅外線截止濾波器中L*a*b*表色系中的L*的值、a*的值及b*的值成為較佳的值。此處，所謂「L*a*b*表色系」，是由國際照明委員會（CIE）策劃製定者。「L*」被稱為「亮度指數」，表示亮度，「a*」及「b*」被稱為「色彩度（chromaticness）指數」，表示相當於色相與彩度的位置。關於所述色相與彩度，若a*的值為負，則成為綠色系的顏色，若a*的值為正，則成為紅色系的顏色。另外，若b*的值為負，則成為藍色系的顏色，若b*的值為正，則成為黃色系的顏色。近紅外線截止濾波器的L*a*b*表色系的「a*的值」、「b*的值」及「L*的值」於用於相機模組時，對相機圖像的明亮度與色澤造成影響，因此理想的是處於某值的範圍內。
本發明中，L*a*b*表色系中的「L*的值」、「a*的值」、「b*的值」設為採用如下的值：使用日立高新技術（Hitachi High-technologies）股份有限公司製造的分光光度計「U-4100」，自近紅外線截止濾波器的垂直方向（入射角0°）測定380 nm～780 nm的透過率而求出的值。
L*a*b*表色系中的L*的值較佳為70以上，更佳為80以上。於將L*的值處於該範圍的近紅外線截止濾波器用作固體攝像元件用途的情況下，所獲得的圖像的色彩再現性的目視評價顯示出良好的結果。
L*a*b*表色系中的a*的值較佳為-31以上且5以下，更佳為-25以上且-2以下，進而佳為-21以上且-5以下。另外，L*a*b*表色系中的b*的值較佳為-5以上且10以下。若L*a*b*表色系中的a*的值與b*的值處於該範圍，則所獲得的圖像的色彩再現性的目視評價顯示出良好的結果。
L*a*b*表色系亦可用作圖像的色差的指標。自相對於近紅外線截止濾波器的垂直方向為30°的角度（入射角30°），與所述同樣地測定380 nm～780 nm的透過率並求出L*a*b*表色系中的值，將此時的L*的值、a*的值及b*的值分別設為「L*的值（30°）」、「a*的值（30°）」及「b*的值（30°）」，與入射角為0°時的各值的差的絕對值｜△L*｜、｜△a*｜及｜△b*｜可利用下述式來算出。
｜△L*｜=｜（L*的值（30°））-（L*的值）｜ ｜△a*｜=｜（a*的值（30°））-（a*的值）｜ ｜△b*｜=｜（b*的值（30°））-（b*的值）｜ 利用所述式算出的｜△a*｜較佳為9以下，更佳為3以下，且利用所述式算出的｜△b*｜較佳為9以下，更佳為3以下。於將｜△a*｜及｜△b*｜處於所述範圍內的近紅外線截止濾波器用作固體攝像元件用途的情況下，所獲得的圖像的色彩再現性的目視評價顯示出良好的結果。
本發明的近紅外線截止濾波器中關於基材（i）的透鏡側的面，波長700 nm～800 nm的區域中的反射率低，因此可減少近紅外線截止濾波器與透鏡間的光的反射。
於波長700 nm～800 nm的區域中，自相對於近紅外線截止濾波器的至少一面的垂直方向為30°的角度進行測定時的反射率的最低值較佳為80%以下，進而佳為50%以下，特佳為10%以下。若所述反射率為此種範圍，則特別是於用於固體攝像元件的情況下，存在可減少源自多重反射光的各種重像的傾向，故較佳。
此處，參照圖1來對藉由多重反射的重像強度進行說明。透過透鏡4的光於近紅外線截止濾波器1上一部分進行反射（反射光3A），進而於透鏡面進行反射（反射光3B），透過近紅外線截止濾波器1（透過光3C）而到達感測器5的面上。因此，關於藉由近紅外線截止濾波器與透鏡間的多重反射的重像強度，當將700 nm～850 nm中的自相對於近紅外線截止濾波器的垂直方向為30°的方向進行測定的平均反射率設為（a）%、700 nm～850 nm中的透鏡的平均反射率設為（b）%、於700 nm～850 nm中自相對於垂直方向為30°的方向進行測定的近紅外線截止濾波器的平均透過率設為（c）%時，可利用下述式進行計算。
[重像強度]=（a）×（b）×（c） 於本發明中，700 nm～850 nm中的透鏡的平均反射率（b）計算為1%。
利用所述式算出的藉由多重反射的重像強度較佳為0.300以下，更佳為0.100以下，進而佳為0.060以下。若將此種重像強度的近紅外線截止濾波器用於相機，則所獲得的圖像的色彩再現性的目視評價顯示出良好的結果。
本發明的近紅外線截止濾波器的厚度只要根據所期望的用途而適宜選擇即可，根據近年來的固體攝像裝置的薄型化及輕量化等潮流，本發明的近紅外線截止濾波器的厚度較佳為亦薄。本發明的近紅外線截止濾波器由於包含所述基材（i），故可實現薄型化。
本發明的近紅外線截止濾波器的厚度理想的是例如較佳為200 μm以下，更佳為180 μm以下，進而佳為150 μm以下，特佳為120 μm以下，下限並無特別限制，但理想的是例如20 μm。
若樹脂性基板的厚度處於所述範圍，則可使利用該基板的近紅外線截止濾波器小型化及輕量化，可較佳地用於固體攝像裝置等各種用途。特別是於將所述樹脂性基板用於相機模組等的透鏡單元（lens unit）的情況下，可實現透鏡單元的低背化，故較佳。
[基材（i）] 所述基材（i）具有含有近紅外線吸收劑的透明樹脂層。所述近紅外線吸收劑例如可列舉：在波長650 nm～750 nm中具有最大吸收的方酸內鎓鹽系化合物（A）（以下亦稱為「化合物（A）」）以及在波長660 nm～850 nm中具有最大吸收的化合物（B）（所述化合物（A）除外。以下亦稱為「化合物（B）」）等。
所述基材（i）可為單層，亦可為多層。於基材（i）為單層的情況下，例如可列舉包含含有化合物（A）與化合物（B）的透明樹脂製基板（ii）的基材，該透明樹脂製基板（ii）成為所述透明樹脂層。於所述基材（i）為多層的情況下，例如可列舉：於玻璃支撐體或成為基底的樹脂製支撐體等支撐體上積層包含含有化合物（A）與化合物（B）的硬化性樹脂等的外塗層等透明樹脂層而成的基材、於包含化合物（B）的透明樹脂製基板（iii）上積層包含含有化合物（A）的硬化性樹脂等的外塗層等樹脂層而成的基材、於包含化合物（A）的透明樹脂製基板（iv）上積層包含含有化合物（B）的硬化性樹脂等的外塗層等樹脂層而成的基材、於包含化合物（A）與化合物（B）的透明樹脂製基板（ii）上積層包含硬化性樹脂等的外塗層等樹脂層而成的基材等。就製造成本或光學特性調整的容易性，進而可達成樹脂製支撐體或透明樹脂製基板（ii）的消除損傷的效果或提昇基材（i）的耐損傷性等方面而言，特佳為於含有化合物（A）與化合物（B）的透明樹脂製基板（ii）上積層包含硬化性樹脂的外塗層等樹脂層而成的基材。
以下，亦將含有至少一種近紅外線吸收劑與透明樹脂的層稱為「透明樹脂層」，亦將其以外的樹脂層簡稱為「樹脂層」。
所述必要條件（a）中的絕對值｜Xa-Xb｜較佳為120 nm以上，進而佳為160 nm以上，特佳為180 nm以上。若基材（i）的｜Xa-Xb｜處於此種範圍，則於基材（i）上對介電體多層膜進行製膜時，可減少700 nm～800 nm附近的反射率，因此可減少所述區域的光的多重反射。特別是用於固體攝像元件用途的情況下，存在可減少源自多重反射光的各種重像的傾向。
於波長Xa～Xb的區域中，自所述基材（i）的垂直方向進行測定時的透過率的平均值（Ta）較佳為35%以下，更佳為30%以下，進而佳為25%以下，特佳為20%以下。若基材（i）的（Ta）處於此種範圍，則於基材（i）上對介電體多層膜進行製膜時，可更佳地減少700 nm～800 nm附近的反射率。特別是用於固體攝像元件用途的情況下，存在可減少源自多重反射光的各種重像的傾向。
＜近紅外線吸收劑＞ 所述近紅外線吸收劑若為於波長650 nm以上且850 nm以下具有最大吸收的化合物，則並無特別限制，就可抑制樹脂中的凝聚的觀點而言，較佳為溶劑可溶型的色素化合物。作為此種近紅外線吸收劑的例子，可列舉：方酸內鎓鹽系化合物、酞菁系化合物、萘酞菁系化合物、克酮鎓系化合物及花青系化合物等。本發明中較佳為包含所述化合物（A）及所述化合物（B）作為近紅外線吸收劑。
《化合物（A）》 化合物（A）只要為於波長650 nm～750 nm具有最大吸收的方酸內鎓鹽系化合物，則並無特別限制。方酸內鎓鹽系化合物具有優異的可見光透過性、陡峭的吸收特性及高莫耳吸光係數，但存在於吸收光線時產生成為散射光的原因的螢光的情況。於此種情況下，藉由將化合物（A）與化合物（B）組合使用，可獲得散射光少且相機畫質更良好的近紅外線截止濾波器。
化合物（A）的最大吸收波長較佳為650 nm～748 nm，進而佳為655 nm～745 nm，特佳為660 nm～740 nm。
化合物（A）的具體例較佳為包含選自由式（A-I）所表示的方酸內鎓鹽系化合物及式（A-II）所表示的方酸內鎓鹽系化合物所組成的群組中的至少一種。以下，亦分別稱為「化合物（A-I）」及「化合物（A-II）」。
[化1]式（A-I）中，Ra
、Rb
及Y滿足下述（A-i）或（A-ii）的條件。
條件（A-i） 多個Ra
分別獨立地表示氫原子、鹵素原子、磺基、羥基、氰基、硝基、羧基、磷酸基、-L1
或-NRe
Rf
基。Re
及Rf
分別獨立地表示氫原子、-La
、-Lb
、-Lc
、-Ld
或-Le
。
多個Rb
分別獨立地表示氫原子、鹵素原子、磺基、羥基、氰基、硝基、羧基、磷酸基、-L1
或-NRg
Rh
基。Rg
及Rh
分別獨立地表示氫原子、-La
、-Lb
、-Lc
、-Ld
、-Le
或-C(O)Ri
基（Ri
表示-La
、-Lb
、-Lc
、-Ld
或-Le
）。
多個Y分別獨立地表示-NRj
Rk
基。Rj
及Rk
分別獨立地表示氫原子、-La
、-Lb
、-Lc
、-Ld
或-Le
。
L1
為La
、Lb
、Lc
、Ld
、Le
、Lf
、Lg
或Lh
。 所述La
～Lh
表示 （La
）可具有取代基L的碳數1～9的脂肪族烴基、 （Lb
）可具有取代基L的碳數1～9的經鹵素取代的烷基、 （Lc
）可具有取代基L的碳數3～14的脂環式烴基、 （Ld
）可具有取代基L的碳數6～14的芳香族烴基、 （Le
）可具有取代基L的碳數3～14的雜環基、 （Lf
）可具有取代基L的碳數1～9的烷氧基、 （Lg
）可具有取代基L的碳數1～9的醯基、或 （Lh
）可具有取代基L的碳數1～9的烷氧基羰基。
取代基L為選自由碳數1～9的脂肪族烴基、碳數1～9的經鹵素取代的烷基、碳數3～14的脂環式烴基、碳數6～14的芳香族烴基及碳數3～14的雜環基所組成的群組中的至少一種。
所述La
～Lh
亦可更具有選自由鹵素原子、磺基、羥基、氰基、硝基、羧基、磷酸基及胺基所組成的群組中的至少一種原子或基。
所述La
～Lh
較佳為包括取代基的碳數的合計分別為50以下，進而佳為碳數40以下，特佳為碳數30以下。若碳數多於該範圍，則有色素的合成變困難的情況，並且有每單位重量的吸收強度變小的傾向。
條件（A-ii） 一個苯環上的兩個Ra
中的至少一個與相同苯環上的Y相互鍵結，形成包含至少一個氮原子的構成原子數為5或6的雜環，所述雜環亦可具有取代基，Rb
及未參與所述雜環的形成的Ra
分別獨立地與所述（A-i）的Rb
及Ra
為相同含義。
[化2]式（A-II）中，X表示O、S、Se、N-Rc
或C-Rd
Rd
；多個Rc
分別獨立地表示氫原子、-La
、-Lb
、-Lc
、-Ld
或-Le
；多個Rd
分別獨立地表示氫原子、鹵素原子、磺基、羥基、氰基、硝基、羧基、磷酸基、-L1
或-NRe
Rf
基，且相鄰的Rd
彼此可連結而形成可具有取代基的環；La
～Le
、L1
、Re
及Rf
與所述式（A-I）中所定義的La
～Le
、L1
、Re
及Rf
為相同含義。
化合物（A-I）及化合物（A-II）除下述式（A-I-1）及下述式（A-II-1）般的記載方法以外，亦可利用下述式（A-I-2）及下述式（A-II-2）般採用共振結構的記載方法來表示結構。即，下述式（A-I-1）與下述式（A-I-2）的不同之處、及下述式（A-II-1）與下述式（A-II-2）的不同之處僅在於結構的記載方法，化合物均表示同一者。本發明中只要無特別說明，則設為利用下述式（A-I-1）及下述式（A-II-1）般的記載方法表示方酸內鎓鹽系化合物的結構。
[化3]化合物（A-I）及化合物（A-II）只要分別滿足所述式（A-I）及所述式（A-II）的必要條件，則結構並無特別限定，例如於所述式（A-I-1）及所述式（A-II-1）般表示結構的情況下，鍵結於中央的四員環的左右的取代基可相同亦可不同，相同時於合成方面容易，故較佳。再者，例如下述式（A-I-3）所表示的化合物與下述式（A-I-4）所表示的化合物可視為同一化合物。
[化4]關於化合物（A）的含量，例如於使用包含含有化合物（A）與化合物（B）的透明樹脂製基板（ii）的基材、或於含有化合物（A）的透明樹脂製基板（iv）上積層包含含有化合物（B）的硬化性樹脂等的外塗層等樹脂層而成的基材作為所述基材（i）的情況下，相對於透明樹脂100重量份，較佳為0.01重量份～2.0重量份，更佳為0.015重量份～1.50重量份，特佳為0.02重量份～1.00重量份。另外，於使用於玻璃支撐體或成為基底的樹脂製支撐體上積層包含含有化合物（A）與化合物（B）的硬化性樹脂等的外塗層等透明樹脂層而成的基材、或於含有化合物（B）的透明樹脂製基板（iii）上積層包含含有化合物（A）的硬化性樹脂等的外塗層等透明樹脂層而成的基材作為所述基材（i）的情況下，相對於形成包含化合物（A）的透明樹脂層的樹脂100重量份，較佳為0.1重量份～5.0重量份，更佳為0.2重量份～4.5重量份，特佳為0.3重量份～4.0重量份。
《化合物（B）》 化合物（B）只要於波長660 nm～850 nm中具有最大吸收，則並無特別限制，較佳為溶劑可溶型的色素化合物，更佳為選自由方酸內鎓鹽系化合物、酞菁系化合物、花青系化合物、萘酞菁系化合物及克酮鎓系化合物所組成的群組中的至少一種，進而佳為方酸內鎓鹽系化合物及酞菁系化合物。藉由使用此種化合物（B），可同時達成最大吸收附近的高近紅外線截止特性與良好的可見光透過率。
化合物（B）的最大吸收波長較佳為680 nm～830 nm，更佳為700 nm～820 nm，特佳為720 nm～800 nm。若化合物（B）的最大吸收波長處於此種範圍，則可高效地截止成為各種重像的原因的不需要的近紅外線。
所述酞菁系化合物的結構並無特別限定，例如可列舉下述式（III）所表示的化合物。
[化5]式（III）中，M表示兩個氫原子、兩個一價的金屬原子、二價的金屬原子或者包含三價或四價的金屬原子的取代金屬原子， 多個Ra
、Rb
、Rc
及Rd
分別獨立地表示選自由氫原子、鹵素原子、羥基、羧基、硝基、胺基、醯胺基、醯亞胺基、氰基、矽烷基、-L1
、-S-L2
、-SS-L2
、-SO2
-L3
、-N=N-L4
、或者Ra
與Rb
、Rb
與Rc
及Rc
與Rd
中的至少一個的組合鍵結而成的下述式（A）～式（H）所表示的基所組成的群組中的至少一種基，鍵結於相同的芳香環的Ra
、Rb
、Rc
及Rd
中的至少一個並非為氫原子。
所述胺基、醯胺基、醯亞胺基及矽烷基可具有所述式（A-I）中所定義的取代基L， L1
與所述式（A-I）中所定義的L1
為相同含義， L2
表示氫原子或所述式（A-I）中所定義的La
～Le
的任一者， L3
表示羥基或所述La
～Le
的任一者， L4
表示所述La
～Le
的任一者。
[化6]式（A）～式（H）中，Rx
與Ry
的組合為Ra
與Rb
、Rb
與Rc
或Rc
與Rd
的組合， 多個RA
～RL
分別獨立地表示氫原子、鹵素原子、羥基、硝基、胺基、醯胺基、醯亞胺基、氰基、矽烷基、-L1
、-S-L2
、-SS-L2
、-SO2
-L3
、-N=N-L4
， 所述胺基、醯胺基、醯亞胺基及矽烷基可具有所述取代基L，L1
～L4
與所述式（III）中所定義的L1
～L4
為相同含義。
所述萘酞菁系化合物的結構並無特別限定，例如可列舉下述式（IV）所表示的化合物。
[化7]式（IV）中，M與所述式（III）中的M為相同含義，Ra
、Rb
、Rc
、Rd
、Re
及Rf
分別獨立地表示氫原子、鹵素原子、羥基、羧基、硝基、胺基、醯胺基、醯亞胺基、氰基、矽烷基、-L1
、-S-L2
、-SS-L2
、-SO2
-L3
、-N=N-L4
。
所述花青系化合物的結構並無特別限定，例如可列舉下述式（V-1）～式（V-3）所表示的化合物。
[化8]式（V-1）～式（V-3）中，Xa -
表示一價的陰離子， 多個D獨立地表示碳原子、氮原子、氧原子或硫原子， 多個Ra
、Rb
、Rc
、Rd
、Re
、Rf
、Rg
、Rh
及Ri
分別獨立地表示選自由氫原子、鹵素原子、羥基、羧基、硝基、胺基、醯胺基、醯亞胺基、氰基、矽烷基、-L1
、-S-L2
、-SS-L2
、-SO2
-L3
、-N=N-L4
、或者Rb
與Rc
、Rd
與Re
、Re
與Rf
、Rf
與Rg
、Rg
與Rh
及Rh
與Ri
中的至少一個的組合鍵結而成的下述式（A）～式（H）所表示的基所組成的群組中的至少一種基， 所述胺基、醯胺基、醯亞胺基及矽烷基亦可具有所述式（A-I）中所定義的取代基L， L1
與所述式（A-I）中所定義的L1
為相同含義， L2
表示氫原子或所述式（A-I）中所定義的La
～Le
的任一者， L3
表示氫原子或所述La
～Le
的任一者， L4
表示所述La
～Le
的任一者， Za
～Zd
及Ya
～Yd
分別獨立地表示氫原子、鹵素原子、羥基、羧基、硝基、胺基、醯胺基、醯亞胺基、氰基、矽烷基、-L1
、-S-L2
、-SS-L2
、-SO2
-L3
、-N=N-L4
（L1
～L4
與所述Ra
～Ri
中的L1
～L4
為相同含義）、或者 選自鄰接的兩個中的Z彼此或Y彼此相互鍵結而形成的可包含氮原子、氧原子或硫原子的至少一者的5員環或6員環的脂環式烴基， 選自鄰接的兩個中的Z彼此或Y彼此相互鍵結而形成的碳數6～14的芳香族烴基，或者 選自鄰接的兩個中的Z彼此或Y彼此相互鍵結而形成的包含氮原子、氧原子或硫原子的至少一者的碳數3～14的雜芳香族烴基，該些脂環式烴基、芳香族烴基及雜芳香族烴基亦可具有碳數1～9的脂肪族烴基或鹵素原子。
[化9]式（A）～式（H）中，Rx
與Ry
的組合為Rb
與Rc
、Rd
與Re
、Re
與Rf
、Rf
與Rg
、Rg
與Rh
及Rh
與Ri
的組合， 多個RA
～RL
分別獨立地表示氫原子、鹵素原子、羥基、羧基、硝基、胺基、醯胺基、醯亞胺基、氰基、矽烷基、-L1
、-S-L2
、-SS-L2
、-SO2
-L3
或-N=N-L4
（L1
～L4
與所述式（V-1）～式（V-3）中所定義的L1
～L4
為相同含義），所述胺基、醯胺基、醯亞胺基及矽烷基可具有所述取代基L。
作為所述方酸內鎓鹽系色素，例如可列舉下述式（VI）所表示的化合物。
[化10]式（VI）中，X獨立地表示氧原子、硫原子、硒原子、碲原子或-NR8
-， R1
～R8
分別獨立地表示氫原子、鹵素原子、磺基、羥基、氰基、硝基、羧基、磷酸基、-NRg
Rh
基、-SO2
Ri
基、-OSO2
Ri
基或下述La
～Lh
的任一者，Rg
及Rh
分別獨立地表示氫原子、-C(O)Ri
基或下述La
～Le
的任一者，Ri
表示下述La
～Le
的任一者。 （La
）碳數1～12的脂肪族烴基 （Lb
）碳數1～12的經鹵素取代的烷基 （Lc
）碳數3～14的脂環式烴基 （Ld
）碳數6～14的芳香族烴基 （Le
）碳數3～14的雜環基 （Lf
）碳數1～12的烷氧基 （Lg
）可具有取代基L的碳數1～12的醯基 （Lh
）可具有取代基L的碳數1～12的烷氧基羰基 取代基L為選自由碳數1～12的脂肪族烴基、碳數1～12的經鹵素取代的烷基、碳數3～14的脂環式烴基、碳數6～14的芳香族烴基及碳數3～14的雜環基所組成的群組中的至少一種。
所述R1
較佳為氫原子、氯原子、氟原子、甲基、乙基、正丙基、異丙基、正丁基、第二丁基、第三丁基、環己基、苯基、羥基、胺基、二甲基胺基、硝基，更佳為氫原子、氯原子、氟原子、甲基、乙基、正丙基、異丙基、羥基。
所述R2
～R7
較佳為分別獨立地為氫原子、氯原子、氟原子、甲基、乙基、正丙基、異丙基、正丁基、第二丁基、第三丁基、環己基、苯基、羥基、胺基、二甲基胺基、氰基、硝基、乙醯基胺基、丙醯基胺基、N-甲基乙醯基胺基、三氟甲醯基胺基、五氟乙醯基胺基、第三丁醯基胺基、環己醯基胺基、正丁基磺醯基，更佳為氫原子、氯原子、氟原子、甲基、乙基、正丙基、異丙基、第三丁基、羥基、二甲基胺基、硝基、乙醯基胺基、丙醯基胺基、三氟甲醯基胺基、五氟乙醯基胺基、第三丁醯基胺基、環己醯基胺基。
所述R8
較佳為氫原子、甲基、乙基、正丙基、異丙基、正丁基、第二丁基、第三丁基、環己基、苯基，更佳為氫原子、甲基、乙基、正丙基、異丙基、正丁基、第三丁基。
所述X較佳為氧原子、硫原子，特佳為氧原子。
化合物（VI）除下述式（VI-1）般的記載方法以外，亦可利用下述式（VI-2）般採用共振結構的記載方法來表示結構。即，下述式（VI-1）與下述式（VI-2）的不同之處僅在於結構的記載方法，該些均表示相同的化合物。本發明中只要無特別說明，則設為利用下述式（VI-1）般的記載方法表示方酸內鎓鹽系化合物的結構。
[化11]進而，例如下述式（VI-1）所表示的化合物與下述式（VI-3）所表示的化合物可視為相同的化合物。
[化12]化合物（VI）只要滿足所述式（VI-1）的必要條件，則結構並無特別限定。鍵結於中央的四員環的左右的取代基可相同亦可不同，相同時於合成方面容易，故較佳。
化合物（B）可單獨使用一種，亦可併用兩種以上。另外，關於化合物（B）的含量，例如於使用包含含有化合物（A）與化合物（B）的透明樹脂製基板（ii）的基材、或於含有化合物（B）的透明樹脂製基板（iii）上積層包含含有化合物（A）的硬化性樹脂等的外塗層等樹脂層而成的基材作為所述基材（i）的情況下，相對於透明樹脂100重量份，較佳為0.003重量份～2.0重量份，更佳為0.0005重量份～1.8重量份，特佳為0.008重量份～1.5重量份。另外，於使用於玻璃支撐體或成為基底的樹脂製支撐體上積層包含含有化合物（A）與化合物（B）的硬化性樹脂等的外塗層等透明樹脂層而成的基材、或於含有化合物（A）的透明樹脂製基板（iv）上積層包含含有化合物（B）的硬化性樹脂等的外塗層等樹脂層而成的基材作為所述基材（i）的情況下，相對於形成包含化合物（A）的透明樹脂層的樹脂100重量份，較佳為0.1重量份～5.0重量份，更佳為0.2重量份～4.0重量份，特佳為0.3重量份～3.0重量份。若化合物（B）的含量處於所述範圍內，則可獲得兼顧良好的近紅外線吸收特性與高可見光透過率的近紅外線截止濾波器。
＜其他色素（X）＞ 所述基材（i）中可進一步包含與化合物（A）及化合物（B）不相符的其他色素（X）。
作為其他色素（X），只要為最大吸收波長未滿650 nm或超過850 nm者，則並無特別限制，例如可列舉選自由方酸內鎓鹽系化合物、酞菁系化合物、花青系化合物、萘酞菁系化合物、克酮鎓系化合物、八元卟啉系化合物、二亞銨系化合物、苝系化合物、及金屬二硫醇鹽系化合物所組成的群組中的至少一種化合物。藉由使用此種其他色素（X），可吸收更廣範圍的近紅外光而使近紅外區域的透過率下降。
＜透明樹脂＞ 積層於樹脂製支撐體或玻璃支撐體等上的透明樹脂層及透明樹脂製基板（ii）～透明樹脂製基板（iv）可使用透明樹脂來形成。所述基材（i）中使用的透明樹脂可為單獨一種，亦可為兩種以上。
作為透明樹脂，只要不損害本發明的效果，則並無特別限制，例如為了確保熱穩定性及對於膜的成形性、且製成可藉由以100℃以上的蒸鍍溫度進行的高溫蒸鍍來形成介電體多層膜的膜，可列舉玻璃轉移溫度（Tg）較佳為110℃～380℃，更佳為110℃～370℃，進而佳為120℃～360℃的樹脂。另外，若所述樹脂的玻璃轉移溫度為140℃以上，則可獲得可於更高的溫度下蒸鍍形成介電體多層膜的膜，故特佳。
關於透明樹脂，於形成包含該樹脂的厚度0.1 mm的樹脂板的情況下，可使用該樹脂板的總光線透過率（日本工業標準（Japanese Industrial Standards，JIS）K7105）成為較佳為75%～95%、進而佳為78%～95%、特佳為80%～95%的樹脂。若使用總光線透過率成為此種範圍的樹脂，則所獲得的基板顯示出作為光學膜而良好的透明性。
透明樹脂的藉由凝膠滲透層析（Gel Permeation Chromatography，GPC）法所測定的聚苯乙烯換算的重量平均分子量（Mw）通常為15,000～350,000，較佳為30,000～250,000，數量平均分子量（Mn）通常為10,000～150,000，較佳為20,000～100,000。
作為透明樹脂，例如可列舉：環狀（聚）烯烴系樹脂、芳香族聚醚系樹脂、聚醯亞胺系樹脂、茀聚碳酸酯系樹脂、茀聚酯系樹脂、聚碳酸酯系樹脂、聚醯胺（芳族聚醯胺）系樹脂、聚芳酯系樹脂、聚碸系樹脂、聚醚碸系樹脂、聚對苯系樹脂、聚醯胺醯亞胺系樹脂、聚萘二甲酸乙二酯（Polyethylene Naphthalate，PEN）系樹脂、氟化芳香族聚合物系樹脂、（改質）丙烯酸系樹脂、環氧系樹脂、烯丙酯系硬化型樹脂、矽倍半氧烷系紫外線硬化型樹脂、丙烯酸系紫外線硬化型樹脂及乙烯基系紫外線硬化型樹脂。
《環狀（聚）烯烴系樹脂》 環狀（聚）烯烴系樹脂較佳為自選自由下述式（X0
）所表示的單量體及下述式（Y0
）所表示的單量體所組成的群組中的至少一種單量體所獲得的樹脂、及藉由將該樹脂加以氫化所獲得的樹脂。
[化13]式（X0
）中，Rx1
～Rx4
分別獨立地表示選自下述（i'）～（ix'）中的原子或基，kx
、mx
及px
分別獨立地表示0或正的整數。 （i'）氫原子 （ii'）鹵素原子 （iii'）三烷基矽烷基 （iv'）具有包含氧原子、硫原子、氮原子或矽原子的連結基的經取代或未經取代的碳數1～30的烴基 （v'）經取代或未經取代的碳數1～30的烴基 （vi'）極性基（其中，（iv'）除外。） （vii'）Rx1
與Rx2
、或Rx3
與Rx4
相互鍵結而形成的亞烷基（其中，不參與所述鍵結的Rx1
～Rx4
分別獨立地表示選自所述（i'）～（vi'）中的原子或基。） （viii'）Rx1
與Rx2
、或Rx3
與Rx4
相互鍵結而形成的單環或多環的烴環或雜環（其中，不參與所述鍵結的Rx1
～Rx4
分別獨立地表示選自所述（i'）～（vi'）中的原子或基。） （ix'）Rx2
與Rx3
相互鍵結而形成的單環的烴環或雜環（其中，不參與所述鍵結的Rx1
與Rx4
分別獨立地表示選自所述（i'）～（vi'）中的原子或基。）
[化14]式（Y0
）中，Ry1
及Ry2
分別獨立地表示選自所述（i'）～（vi'）中的原子或基，或者表示Ry1
與Ry2
相互鍵結而形成的單環或多環的脂環式烴、芳香族烴或雜環，ky
及py
分別獨立地表示0或正的整數。
《芳香族聚醚系樹脂》 芳香族聚醚系樹脂較佳為具有選自由下述式（1）所表示的結構單元及下述式（2）所表示的結構單元所組成的群組中的至少一種結構單元。
[化15]式（1）中，R1
～R4
分別獨立地表示碳數1～12的一價有機基，a～d分別獨立地表示0～4的整數。
[化16]式（2）中，R1
～R4
及a～d分別獨立地與所述式（1）中的R1
～R4
及a～d為相同含義，Y表示單鍵、-SO2
-或＞C=O，R7
及R8
分別獨立地表示鹵素原子、碳數1～12的一價有機基或硝基，g及h分別獨立地表示0～4的整數，m表示0或1。其中，當m為0時，R7
不為氰基。
另外，所述芳香族聚醚系樹脂較佳為進一步具有選自由下述式（3）所表示的結構單元及下述式（4）所表示的結構單元所組成的群組中的至少一種結構單元。
[化17]式（3）中，R5
及R6
分別獨立地表示碳數1～12的一價有機基，Z表示單鍵、-O-、-S-、-SO2
-、＞C=O、-CONH-、-COO-或碳數1～12的二價有機基，e及f分別獨立地表示0～4的整數，n表示0或1。
[化18]式（4）中，R7
、R8
、Y、m、g及h分別獨立地與所述式（2）中的R7
、R8
、Y、m、g及h為相同含義，R5
、R6
、Z、n、e及f分別獨立地與所述式（3）中的R5
、R6
、Z、n、e及f為相同含義。
《聚醯亞胺系樹脂》 作為聚醯亞胺系樹脂，並無特別限制，只要是於重複單元中包含醯亞胺鍵的高分子化合物即可，例如可藉由日本專利特開2006-199945號公報或日本專利特開2008-163107號公報中所記載的方法來合成。
《茀聚碳酸酯系樹脂》 作為茀聚碳酸酯系樹脂，並無特別限制，只要是包含茀部位的聚碳酸酯樹脂即可，例如可藉由日本專利特開2008-163194號公報中所記載的方法來合成。
《茀聚酯系樹脂》 作為茀聚酯系樹脂，並無特別限制，只要是包含茀部位的聚酯樹脂即可，例如可藉由日本專利特開2010-285505號公報或日本專利特開2011-197450號公報中所記載的方法來合成。
《氟化芳香族聚合物系樹脂》 作為氟化芳香族聚合物系樹脂，並無特別限制，但較佳為含有：具有至少一個氟原子的芳香族環及包含選自由醚鍵、酮鍵、碸鍵、醯胺鍵、醯亞胺鍵及酯鍵所組成的群組中的至少一個鍵的重複單元的聚合物，例如可藉由日本專利特開2008-181121號公報中所記載的方法來合成。
《丙烯酸系紫外線硬化型樹脂》 作為丙烯酸系紫外線硬化型樹脂，並無特別限制，可列舉：自含有分子內具有一個以上的丙烯酸基或甲基丙烯酸基的化合物、及藉由紫外線而分解並產生活性自由基的化合物的樹脂組成物所合成者。於使用於玻璃支撐體上或成為基底的樹脂製支撐體上積層包含化合物（B）及硬化性樹脂的透明樹脂層而成的基材、或於含有化合物（B）的透明樹脂製基板（ii）上積層包含硬化性樹脂等的外塗層等樹脂層而成的基材作為所述基材（i）的情況下，丙烯酸系紫外線硬化型樹脂可特佳地用作該硬化性樹脂。
《市售品》 作為透明樹脂的市售品，可列舉以下的市售品等。作為環狀（聚）烯烴系樹脂的市售品，可列舉：日本合成橡膠（JSR）（股）製造的阿通（Arton）、日本瑞翁（Zeon）（股）製造的瑞翁諾阿（Zeonor）、三井化學（股）製造的阿派爾（APEL）、寶理塑膠（Polyplastics）（股）製造的托帕斯（TOPAS）等。作為聚醚碸系樹脂的市售品，可列舉住友化學（股）製造的斯密卡愛克塞爾（Sumikaexcel）PES等。作為聚醯亞胺系樹脂的市售品，可列舉三菱瓦斯化學（股）製造的尼歐普利姆（Neopulim）L等。作為聚碳酸酯系樹脂的市售品，可列舉帝人（股）製造的普艾斯（PURE-ACE）等。作為茀聚碳酸酯系樹脂的市售品，可列舉三菱瓦斯化學（股）製造的優比澤塔（Iupizeta）EP-5000等。作為茀聚酯系樹脂的市售品，可列舉大阪燃氣化學（Osaka Gas Chemicals）（股）製造的OKP4HT等。作為丙烯酸系樹脂的市售品，可列舉日本觸媒（股）製造的阿庫利維阿（Acryviewa）等。作為矽倍半氧烷系紫外線硬化型樹脂的市售品，可列舉新日鐵化學（股）製造的希魯普拉斯（Silplus）等。
＜其他成分＞ 所述基材（i）在不損害本發明的效果的範圍內，可進一步含有抗氧化劑、近紫外線吸收劑、螢光消光劑及金屬錯合物系化合物等添加劑。該些其他成分可單獨使用一種，亦可併用兩種以上。
作為所述近紫外線吸收劑，例如可列舉：甲亞胺系化合物、吲哚系化合物、苯并三唑系化合物、三嗪系化合物等。
作為所述抗氧化劑，例如可列舉：2,6-二-第三丁基-4-甲基苯酚、2,2'-二氧-3,3'-二-第三丁基-5,5'-二甲基二苯基甲烷、及四[亞甲基-3-(3,5-二-第三丁基-4-羥基苯基)丙酸酯]甲烷等。
再者，該些添加劑可在製造基材（i）時與樹脂等一起混合，亦可在合成樹脂時添加。另外，添加量可根據所期望的特性而適宜選擇，但相對於樹脂100重量份，通常為0.01重量份～5.0重量份，較佳為0.05重量份～2.0重量份。
＜基材（i）的製造方法＞ 於所述基材（i）為包含所述透明樹脂製基板（ii）～透明樹脂製基板（iv）的基材的情況下，該透明樹脂製基板（ii）～透明樹脂製基板（iv）例如可藉由熔融成形或澆鑄成形來形成，進而視需要於成形後塗佈抗反射劑、硬塗劑及/或抗靜電劑等塗佈劑，藉此可製造積層有外塗層的基材。
於所述基材（i）為於玻璃支撐體或成為基底的樹脂製支撐體上積層包含含有化合物（A）與化合物（B）的硬化性樹脂等的外塗層等透明樹脂層而成的基材的情況下，例如於玻璃支撐體或成為基底的樹脂製支撐體上對包含化合物（A）與化合物（B）的樹脂溶液進行熔融成形或澆鑄成形，較佳為利用旋塗、狹縫塗佈、噴墨等方法進行塗敷後將溶媒乾燥去除，視需要進而進行光照射或加熱，藉此可製造於玻璃支撐體或成為基底的樹脂製支撐體上形成有透明樹脂層的基材。
《熔融成形》 作為所述熔融成形，具體可列舉：對將樹脂與化合物（A）及化合物（B）等熔融混練所獲得的顆粒進行熔融成形的方法；對含有樹脂與化合物（A）及化合物（B）的樹脂組成物進行熔融成形的方法；或對自包含化合物（A）、化合物（B）、樹脂及溶劑的樹脂組成物中去除溶劑所獲得的顆粒進行熔融成形的方法等。作為熔融成形方法，可列舉：射出成形、熔融擠出成形或吹塑成形等。
《澆鑄成形》 作為所述澆鑄成形，亦可藉由如下的方法等來製造：將包含化合物（A）、化合物（B）、樹脂及溶劑的樹脂組成物澆鑄至適當的支撐體上並去除溶劑的方法；或將包含化合物（A）、化合物（B）、光硬化性樹脂及/或熱硬化性樹脂的硬化性組成物澆鑄至適當的支撐體上並去除溶媒後，藉由紫外線照射或加熱等適當的方法來使其硬化的方法。
於所述基材（i）為包含含有化合物（A）與化合物（B）的透明樹脂製基板（ii）的基材的情況下，該基材（i）可藉由在澆鑄成形後，自支撐體剝離塗膜而獲得，另外，於所述基材（i）為於玻璃支撐體或成為基底的樹脂製支撐體等支撐體等上積層包含含有化合物（A）與化合物（B）的硬化性樹脂等的外塗層等透明樹脂層而成的基材的情況下，該基材（i）可藉由在澆鑄成形後，不剝離塗膜而獲得。
作為所述支撐體，例如可列舉：玻璃板、鋼帶、鋼桶及透明樹脂（例如，聚酯膜、環狀烯烴系樹脂膜）製支撐體。
進而，亦可藉由以下方法在光學零件上形成透明樹脂層：在玻璃板、石英或透明塑膠製等光學零件上塗佈所述樹脂組成物來使溶劑乾燥的方法；或者塗佈所述硬化性組成物使其硬化及乾燥的方法等。
藉由所述方法而獲得的透明樹脂層（透明樹脂製基板（ii））中的殘留溶劑量較佳為儘可能少。具體而言，相對於透明樹脂層（透明樹脂製基板（ii））的重量，所述殘留溶劑量較佳為3重量%以下，更佳為1重量%以下，進而佳為0.5重量%以下。若殘留溶劑量處於所述範圍，則可獲得變形或特性難以變化、可容易地發揮出所期望的功能的透明樹脂層（透明樹脂製基板（ii））。
[介電體多層膜] 本發明的近紅外線截止濾波器於所述基材（i）的至少一面上具有介電體多層膜。本發明的介電體多層膜是具有反射近紅外線的能力的膜。於本發明中，近紅外線反射膜可設置於所述基材（i）的單面上，亦可設置於兩面上。於設置於單面上的情況下，製造成本或製造容易性優異，於設置於兩面上的情況下，可獲得具有高強度且難以產生翹曲或扭曲的近紅外線截止濾波器。於將近紅外線截止濾波器應用於固體攝像元件用途的情況下，較佳為近紅外線截止濾波器的翹曲或扭曲小，故較佳為將介電體多層膜設置於基材（i）的兩面上。
所述介電體多層膜較佳為遍及波長700 nm～1100 nm的整個範圍具有反射特性，進而佳為遍及波長700 nm～1150 nm的整個範圍具有反射特性，特佳為遍及700 nm～1200 nm的整個範圍具有反射特性。作為於基材（i）的兩面上具有介電體多層膜的形態，可列舉：於具有玻璃支撐體的基材（i）的單面上具有自相對於近紅外線截止濾波器的垂直方向為30°的角度進行測定時主要在波長700 nm～1150 nm附近具有反射特性的第一光學層，並於另一面上含有具有可見區域的抗反射特性的第二光學層的形態（參照圖3（a）），或者於基材（i）的單面上具有自相對於近紅外線截止濾波器的垂直方向為30°的角度進行測定時主要在波長700 nm～950 nm附近具有反射特性的第三光學層，並於基材（i）的另一面上具有自相對於近紅外線截止濾波器的垂直方向為30°的角度進行測定時主要在900 nm～1150 nm附近具有反射特性的第四光學層的形態（參照圖3（b））等。
本發明的近紅外線截止濾波器較佳為所述基材（i）具有玻璃支撐體且於該基材（i）的兩面上包括介電體多層膜，更佳為該些介電體多層膜為近紅外線反射膜與可見光抗反射膜，特佳為於所述基材（i）的其中一面上具有近紅外線反射膜並於另一面上包括可見光抗反射膜。
作為介電體多層膜，可列舉將高折射率材料層與低折射率材料層交替積層而成者。作為構成高折射率材料層的材料，可使用折射率為1.7以上的材料，且選擇折射率通常為1.7～2.5的材料。作為此種材料，例如可列舉將氧化鈦、氧化鋯、五氧化鉭、五氧化鈮、氧化鑭、氧化釔、氧化鋅、硫化鋅或氧化銦等作為主成分，且含有少量（例如相對於主成分而為0重量%～10重量%）的氧化鈦、氧化錫及/或氧化鈰等者。
作為構成低折射率材料層的材料，可使用折射率為1.6以下的材料，且選擇折射率通常為1.2～1.6的材料。作為此種材料，例如可列舉：二氧化矽、氧化鋁、氟化鑭、氟化鎂及六氟化鋁鈉。
關於將高折射率材料層與低折射率材料層積層的方法，只要形成將該些材料層積層的介電體多層膜，則並無特別限制。例如可在基材（i）上藉由化學氣相沈積（Chemical Vapor Deposition，CVD）法、濺鍍法、真空蒸鍍法、離子輔助蒸鍍法或離子鍍法等，直接形成將高折射率材料層與低折射率材料層交替積層而成的介電體多層膜。
通常若將欲阻斷的近紅外線波長設為λ（nm），則高折射率材料層及低折射率材料層各層的厚度較佳為0.1λ～0.5λ的厚度。λ（nm）的值例如為700 nm～1400 nm，較佳為750 nm～1300 nm。若厚度為該範圍，則折射率（n）與膜厚（d）的積（n×d）藉由λ/4所算出的光學膜厚、與高折射率材料層及低折射率材料層的各層的厚度成為大致相同的值，根據反射、折射的光學特性的關係，存在可容易地控制特定波長的阻斷、透過的傾向。
關於介電體多層膜中的高折射率材料層與低折射率材料層的合計的積層數，以近紅外線截止濾波器整體計較佳為16層～70層，更佳為20層～60層。若各層的厚度、作為近紅外線截止濾波器整體而言的介電體多層膜的厚度或合計的積層數處於所述範圍，則可確保充分的製造餘裕，而且可減少近紅外線截止濾波器的翹曲或介電體多層膜的裂紋。
於本發明中，結合化合物（A）或化合物（B）的吸收特性來適當地選擇構成高折射率材料層及低折射率材料層的材料種類、高折射率材料層及低折射率材料層的各層的厚度、積層的順序、積層數，藉此可於可見區域中確保充分的透過率，而且於近紅外波長區域中具有充分的光線截止特性，且可降低近紅外線自傾斜方向入射時的反射率。
此處，為了使所述條件最佳化，例如只要使用光學薄膜設計軟體（例如，核心麥克勞德（Essential Macleod），薄膜中心（Thin Film Center）公司製造），以可兼顧可見區域的抗反射效果與近紅外區域的光線截止效果的方式設定參數即可。於所述軟體的情況下，例如可列舉：於第一光學層的設計時，將波長400 nm～700 nm的目標透過率設為100%，並將目標公差（Target Tolerance）的值設為1後，將波長705 nm～950 nm的目標透過率設為0%，將目標公差的值設為0.5等的參數設定方法。該些參數亦可結合基材（i）的各種特性等而更細地劃分波長範圍來改變目標公差的值。
[其他功能膜] 本發明的近紅外線截止濾波器在不損害本發明的效果的範圍內，出於提高基材（i）或介電體多層膜的表面硬度、提高耐化學品性、抗靜電及消除損傷等的目的，可在基材（i）與介電體多層膜之間、與基材（i）的設置有介電體多層膜的面為相反側的面、或與介電體多層膜的設置有基材（i）的面為相反側的面適宜設置抗反射膜、硬塗膜或抗靜電膜等功能膜。
本發明的近紅外線截止濾波器可包含一層含有所述功能膜的層，亦可包含兩層以上。於本發明的近紅外線截止濾波器包含兩層以上含有所述功能膜的層的情況下，可包含兩層以上相同的層，亦可包含兩層以上不同的層。
作為積層功能膜的方法，並無特別限制，可列舉：於基材（i）或介電體多層膜上與所述同樣地，將抗反射劑、硬塗劑及/或抗靜電劑等塗佈劑等進行熔融成形或澆鑄成形的方法等。
另外，亦可藉由以下方式製造：藉由棒塗機等將包含所述塗佈劑等的硬化性組成物塗佈於基材（i）或介電體多層膜上後，藉由紫外線照射等進行硬化。
作為所述塗佈劑，可列舉：紫外線（Ultraviolet，UV）/電子束（Electron Beam，EB）硬化型樹脂或熱硬化型樹脂等，具體可列舉：乙烯基化合物類、或胺基甲酸酯系、丙烯酸胺基甲酸酯系、丙烯酸酯系、環氧系及環氧丙烯酸酯系樹脂等。作為包含該些塗佈劑的所述硬化性組成物，可列舉：乙烯基系、胺基甲酸酯系、丙烯酸胺基甲酸酯系、丙烯酸酯系、環氧系及環氧丙烯酸酯系硬化性組成物等。
另外，所述硬化性組成物可包含聚合起始劑。作為所述聚合起始劑，可使用公知的光聚合起始劑或熱聚合起始劑，亦可將光聚合起始劑與熱聚合起始劑併用。聚合起始劑可單獨使用一種，亦可併用兩種以上。
所述硬化性組成物中，於將硬化性組成物的總量設為100重量%的情況下，聚合起始劑的調配比例較佳為0.1重量%～10重量%，更佳為0.5重量%～10重量%，進而佳為1重量%～5重量%。若聚合起始劑的調配比例處於所述範圍，則可獲得硬化性組成物的硬化特性及操作性優異、並具有所期望的硬度的抗反射膜、硬塗膜或抗靜電膜等功能膜。
進而，於所述硬化性組成物中可加入有機溶劑作為溶劑，作為有機溶劑，可使用公知者。作為有機溶劑的具體例，可列舉：甲醇、乙醇、異丙醇、丁醇、辛醇等醇類；丙酮、甲基乙基酮、甲基異丁基酮、環己酮等酮類；乙酸乙酯、乙酸丁酯、乳酸乙酯、γ-丁內酯、丙二醇單甲醚乙酸酯、丙二醇單乙醚乙酸酯等酯類；乙二醇單甲醚、二乙二醇單丁醚等醚類；苯、甲苯、二甲苯等芳香族烴類；二甲基甲醯胺、二甲基乙醯胺、N-甲基吡咯啶酮等醯胺類。該些溶劑可單獨使用一種，亦可併用兩種以上。
所述功能膜的厚度較佳為0.1 μm～20 μm，進而佳為0.5 μm～10 μm，特佳為0.7 μm～5 μm。
另外，出於提高基材（i）與功能膜及/或介電體多層膜的密接性、或功能膜與介電體多層膜的密接性的目的，可對基材（i）、功能膜或介電體多層膜的表面進行電暈處理或電漿處理等表面處理。
[近紅外線截止濾波器的製造方法] 本發明的近紅外線截止濾波器的製造方法的特徵在於：包括將介電體多層膜形成於所述基材（i）的至少一面上的步驟。形成介電體多層膜的方法如所述般。另外，視需要亦可包括於所述基材（i）上形成功能膜的步驟。
再者，於在形成介電體多層膜時在近紅外線截止濾波器產生翹曲的情況下，為了消除所述問題，可採用以下方法等：於近紅外線截止濾波器兩面上形成介電體多層膜，或者對近紅外線截止濾波器的形成介電體多層膜的面照射紫外線等電磁波。再者，於照射電磁波的情況下，可於介電體多層膜的形成過程中照射，亦可於形成後另行照射。
[近紅外線截止濾波器的用途] 本發明的近紅外線截止濾波器的視角廣，具有優異的近紅外線截止能力等。因此，有效用作相機模組的CCD影像感測器或CMOS影像感測器等固體攝像元件的視感度修正用途。特別是有效用於數位靜態相機、智慧型手機用相機、行動電話用相機、數位攝像機、可穿戴器件用相機、個人電腦（Personal Computer，PC）相機、監視相機、汽車用相機、電視機、汽車導航、可攜式資訊終端機、視訊遊戲機、可攜式遊戲機、指紋認証系統、數位音樂播放器等。進而，亦有效用作安裝於汽車或建築物等的玻璃板等上的紅外線截止濾波器等。
[固體攝像裝置] 本發明的固體攝像裝置具備本發明的近紅外線截止濾波器。此處，所謂固體攝像裝置，是包括CCD影像感測器或CMOS影像感測器等固體攝像元件的影像感測器，具體可用於數位靜態相機、智慧型手機用相機、行動電話用相機、可穿戴器件用相機、數位攝像機等用途。例如，本發明的相機模組具備本發明的近紅外線截止濾波器。 [實施例]
以下，基於實施例對本發明進行更具體的說明，但本發明不受該些實施例的任何限定。再者，只要無特別說明，則「份」是指「重量份」。另外，各物性值的測定方法及物性的評價方法如以下般。
＜分子量＞ 樹脂的分子量是考慮各樹脂於溶劑中的溶解性等，藉由下述（a）或（b）的方法進行測定。 （a）使用沃特斯（WATERS）公司製造的凝膠滲透層析（GPC）裝置（150C型，管柱：東曹（Tosoh）公司製造的H型管柱，展開溶劑：鄰二氯苯），測定標準聚苯乙烯換算的重量平均分子量（Mw）及數量平均分子量（Mn）。 （b）使用東曹公司製造的GPC裝置（HLC-8220型，管柱：TSKgel α-M，展開溶劑：四氫呋喃（Tetrahydrofuran，THF）），測定標準聚苯乙烯換算的重量平均分子量（Mw）及數量平均分子量（Mn）。
再者，關於後述的樹脂合成例3中所合成的樹脂，進行利用下述方法（c）的對數黏度的測定而非利用所述方法的分子量的測定。 （c）將聚醯亞胺樹脂溶液的一部分投入至無水甲醇中來使聚醯亞胺樹脂析出，進行過濾後自未反應單量體中分離。使於80℃下真空乾燥12小時而獲得的聚醯亞胺0.1 g溶解於N-甲基-2-吡咯啶酮20 mL中，使用堪農-芬斯基（Cannon-Fenske）黏度計，藉由下述式來求出30℃下的對數黏度（μ）。
μ={ln（ts
/t0
）}/C t0
：溶媒的流下時間 ts
：稀薄高分子溶液的流下時間 C：0.5 g/dL ＜玻璃轉移溫度（Tg）＞ 使用SII奈米科技（SII Nano Technologies）股份有限公司製造的示差掃描熱量計（DSC6200），於昇溫速度：每分鐘20℃、氮氣流下進行測定。
＜分光透過率＞ 基材的透過率、以及近紅外線截止濾波器的透過率及反射率是使用日立高新技術（Hitachi High-technologies）股份有限公司製造的分光光度計（U-4100）來測定。
此處，若為自近紅外線截止濾波器的垂直方向進行測定時的透過率，則如圖2（a）般測定相對於濾波器垂直地透過的光，若為自相對於近紅外線截止濾波器的垂直方向為30°的角度進行測定時的透過率，則如圖2（b）般測定以相對於濾波器的垂直方向為30°的角度透過的光。另外，若為自相對於近紅外線截止濾波器的垂直方向為30°的角度進行測定時的反射率，則如圖2（c）般裝置附屬的夾具上設定近紅外線截止濾光器來進行測定。再者，關於藉由近紅外線截止濾波器與透鏡間的多重反射的重像強度，作為700 nm～850 nm下的自相對於近紅外線截止濾波器的垂直方向為30°的方向進行測定的平均反射率（a）（%）、與於700 nm～850 nm下自相對於垂直方向為30°的方向進行測定的近紅外線截止濾波器的平均透過率（c）（%）的積來計算。
另外，L*a*b*表色系中的「a*的值」、「b*的值」、「L*的值」、「a*的值（30°）」、「b*的值（30°）」及「L*的值（30°）」是採用以下的值：自近紅外線截止濾波器的垂直方向（入射角0°）測定380 nm～780 nm的透過率而求出的值、及自相對於近紅外線截止濾波器的垂直方向為30°的角度（入射角30°）測定380 nm～780 nm的透過率而求出的值。
＜翹曲＞ 將以5 mm見方進行頂切（tip cut）後的近紅外線截止濾波器配置於基恩士（KEYENCE）（股）製造的「數位顯微鏡VHX-600」的觀察載台上，橫向觀察並測定尖端部的翹曲的高度，藉由下述基準進行評價。
○○○：翹曲的高度＜20 μm ○○：20 μm≦翹曲的高度＜40 μm ○：40 μm≦翹曲的高度＜60 μm △：60 μm≦翹曲的高度＜80 μm ×：80 μm≦翹曲的高度
＜相機圖像的色澤評價＞ 將光學濾波器組入至相機模組時的色澤評價是利用下述的方法進行。利用與日本專利特開2016-110067號公報相同的方法製成相機模組，使用所製成的相機模組於D65光源（愛色麗（X-Rite）公司製造的標準光源裝置「Macbeth Judge II」）下對300 mm×400 mm大小的白色板進行拍攝，藉由以下的基準來評價相機圖像中的色澤。
將完全無問題的能夠容許的水準判定為○，將可確認到若干色調的不同但作為高畫質相機模組在實用方面無問題的能夠容許的水準判定為△，將色澤有問題且作為高畫質相機模組用途而無法容許的水準判定為×，將顏色明顯不同且作為一般的相機模組用途亦無法容許的水準判定為××。
再者，如圖11所示，於進行拍攝時在相機圖像111中白色板112佔面積的90%以上的方式調節白色板112與相機模組的位置關係。
[合成例] 下述實施例中使用的化合物（A）及化合物（B）是藉由一般為人所知的方法來合成。作為一般的合成方法，例如可列舉：日本專利第3366697號公報、日本專利第2846091號公報、日本專利第2864475號公報、日本專利第3703869號公報、日本專利特開昭60-228448號公報、日本專利特開平1-146846號公報、日本專利特開平1-228960號公報、日本專利第4081149號公報、日本專利特開昭63-124054號公報、「酞菁-化學與功能-」（IPC、1997年）、日本專利特開2007-169315號公報、日本專利特開2009-108267號公報、日本專利特開2010-241873號公報、日本專利第3699464號公報、日本專利第4740631號公報等中所記載的方法。
＜樹脂合成例1＞ 將下述式（a）所表示的8-甲基-8-甲氧基羰基四環[4.4.0.12,5
.17,10
]十二-3-烯（以下亦稱為「DNM」）100份、1-己烯（分子量調節劑）18份及甲苯（開環聚合反應用溶媒）300份裝入至經氮氣置換的反應容器中，並將該溶液加熱至80℃。繼而，於反應容器內的溶液中添加作為聚合觸媒的三乙基鋁的甲苯溶液（0.6 mol/liter）0.2份、以及甲醇改質的六氯化鎢的甲苯溶液（濃度為0.025 mol/liter）0.9份，將該溶液於80℃下加熱攪拌3小時，藉此進行開環聚合反應而獲得開環聚合體溶液。該聚合反應中的聚合轉化率為97%。
[化19]將以所述方式獲得的開環聚合體溶液1,000份裝入至高壓釜中，向該開環聚合體溶液中添加0.12份的RuHCl(CO)[P(C6
H5
)3
]3
，於氫氣壓100 kg/cm2
、反應溫度165℃的條件下加熱攪拌3小時來進行氫化反應。將所獲得的反應溶液（氫化聚合體溶液）冷卻後，對氫氣進行放壓。將該反應溶液注入至大量的甲醇中後分離回收凝固物，並對其進行乾燥，從而獲得氫化聚合體（以下亦稱為「樹脂A」）。所獲得的樹脂A的數量平均分子量（Mn）為32,000，重量平均分子量（Mw）為137,000，玻璃轉移溫度（Tg）為165℃。
＜樹脂合成例2＞ 向3 L的四口燒瓶中添加2,6-二氟苄腈35.12 g（0.253 mol）、9,9-雙(4-羥基苯基)茀87.60 g（0.250 mol）、碳酸鉀41.46 g（0.300 mol）、N,N-二甲基乙醯胺（以下亦稱為「DMAc」）443 g及甲苯111 g。繼而，於四口燒瓶中安裝溫度計、攪拌機、帶有氮氣導入管的三通旋塞、迪安-斯塔克（Dean-Stark）管及冷卻管。繼而，對燒瓶內進行氮氣置換後，使所獲得的溶液於140℃下反應3小時，並隨時將所生成的水自迪安-斯塔克管去除。於看不到水的生成的時間點，使溫度緩慢地上昇至160℃為止，並於該溫度下反應6小時。冷卻至室溫（25℃）為止後，利用濾紙去除所生成的鹽，將濾液投入至甲醇中進行再沈澱，並藉由濾取來分離濾物（殘渣）。將所獲得的濾物於60℃下真空乾燥一晩，獲得白色粉末（以下亦稱為「樹脂B」）（產率為95%）。所獲得的樹脂B的數量平均分子量（Mn）為75,000，重量平均分子量（Mw）為188,000，玻璃轉移溫度（Tg）為285℃。
＜樹脂合成例3＞ 於氮氣流下，向具備溫度計、攪拌器、氮氣導入管、帶有側管的滴加漏斗、迪安-斯塔克管及冷卻管的500 mL的五口燒瓶中放入1,4-雙(4-胺基-α,α-二甲基苄基)苯27.66 g（0.08莫耳）及4,4'-雙(4-胺基苯氧基)聯苯7.38 g（0.02莫耳），並溶解於γ-丁內酯68.65 g及N,N-二甲基乙醯胺17.16 g中。使用冰水浴將所獲得的溶液冷卻至5℃，一面保持於該溫度，一面一次性添加1,2,4,5-環己烷四羧酸二酐22.62 g（0.1莫耳）及作為醯亞胺化觸媒的三乙胺0.50 g（0.005莫耳）。添加結束後，昇溫至180℃，一面隨時將餾出液蒸餾去除，一面回流6小時。反應結束後，氣冷至內溫成為100℃為止後，加入N,N-二甲基乙醯胺143.6 g進行稀釋，一面攪拌一面冷卻，獲得固體成分濃度為20重量%的聚醯亞胺樹脂溶液264.16 g。將該聚醯亞胺樹脂溶液的一部分注入至1 L的甲醇中而使聚醯亞胺沈澱。以甲醇將過濾分離的聚醯亞胺清洗後，於100℃的真空乾燥機中乾燥24小時而獲得白色粉末（以下亦稱為「樹脂C」）。對所獲得的樹脂C的紅外線（Infrared，IR）光譜進行測定，結果看到醯亞胺基中特有的1704 cm-1
、1770 cm-1
的吸收。樹脂C的玻璃轉移溫度（Tg）為310℃，測定對數黏度的結果為0.87。
[實施例1] 實施例1中，藉由以下的程序及條件來製成具有包含如下的透明玻璃基板的基材的近紅外線截止濾波器，所述透明玻璃基板於單面上具有含有化合物（A）及化合物（B）的透明樹脂層。
向容器中加入樹脂合成例1中所獲得的樹脂A 100份、作為化合物（A）的下述式（a-1）所表示的方酸內鎓鹽系化合物（a-1）（於二氯甲烷（dichloromethane）中的最大吸收波長為698 nm）0.03份、作為化合物（B）的下述式（b-1）所表示的方酸內鎓鹽系化合物（b-1）（於二氯甲烷中的最大吸收波長為776 nm）0.02份、及下述式（b-2）所表示的酞菁系化合物（b-2）（於二氯甲烷中的最大吸收波長為733 nm）0.03份、以及二氯甲烷（methylene chloride），從而製備樹脂濃度為20重量%的溶液。將所獲得的溶液澆鑄至切割成縱60 mm、橫60 mm的大小的透明玻璃基板「OA-10G（厚100 μm）」（日本電氣硝子（股）製造）上，以20℃乾燥8小時後，進而於減壓下以100℃乾燥8小時。藉此，獲得於玻璃基板的單面具有透明樹脂層的厚190 μm、縱60 mm、橫60 mm的基材。測定該基材的分光透過率，並求出波長430 nm～580 nm的區域下的透過率平均值、Xa、Xb、絕對值｜Xa-Xb｜及波長Xa～Xb的區域下的透過率平均值。將結果示於圖4及表4中。
[化20]繼而，於所獲得的基材的單面上形成作為第一光學層的介電體多層膜（I），進而於基材的另一面上形成作為第二光學層的介電體多層膜（II），從而獲得厚度約0.194 mm的近紅外線截止濾波器。
介電體多層膜（I）是於蒸鍍溫度100℃下使二氧化矽（SiO2
）層與二氧化鈦（TiO2
）層交替地積層而成（合計26層）。介電體多層膜（II）是於蒸鍍溫度100℃下使二氧化矽（SiO2
）層與二氧化鈦（TiO2
）層交替地積層而成（合計20層）。於介電體多層膜（I）及介電體多層膜（II）的任一者中，二氧化矽層及二氧化鈦層均自基材側起以二氧化鈦層、二氧化矽層、二氧化鈦層、…二氧化矽層、二氧化鈦層、二氧化矽層的順序交替地積層，並將近紅外線截止濾波器的最外層設為二氧化矽層。
介電體多層膜（I）及介電體多層膜（II）的設計是以如下方式來進行。
關於各層的厚度與層數，以可達成可見區域的抗反射效果與近紅外區域的選擇性的透過、反射性能的方式，結合基材折射率的波長依存特性、或所應用的化合物（B）及化合物（A）的吸收特性，使用光學薄膜設計軟體（核心麥克勞德（Essential Macleod），薄膜中心（Thin Film Center）公司製造）進行最佳化。於進行最佳化時，於本實施例中將針對軟體的輸入參數（目標（Target）值）設為如下述表1般。
[表1]
膜構成最佳化的結果為，於實施例1中，介電體多層膜（I）成為膜厚31 nm～157 nm的二氧化矽層與膜厚10 nm～95 nm的二氧化鈦層交替地積層而成的積層數為26的多層蒸鍍膜，介電體多層膜（II）成為膜厚36 nm～194 nm的二氧化矽層與膜厚11 nm～114 nm的二氧化鈦層交替地積層而成的積層數為20的多層蒸鍍膜。將進行了最佳化的膜構成的一例示於表2中，將自相對於蒸鍍監視器用玻璃基板的垂直方向為5°的角度所測定的分光反射率光譜示於圖5（b）、圖5（b）中，所述蒸鍍監視器用玻璃基板是使各介電體多層膜以單體於單面上成膜而成者。再者，於測定蒸鍍監視器用玻璃的反射率時，為了消除背面反射的影響，利用黑色的丙烯酸塗料塗抹未成膜有介電體多層膜的面來實施抗反射處理後，將成膜有介電體多層膜的面設為測定光的入射面。
[表2]
*λ=550 nm 測定自所獲得的近紅外線截止濾波器的垂直方向及相對於垂直方向為30°的角度所測定的分光透過率，並評價光學特性。將結果示於圖6及表4中。另外，針對所獲得的近紅外線截止濾波器，測定自相對於各面的垂直方向為30°的角度所測定的分光反射率，結果確認到於將光線的入射面設為介電體多層膜（II）側（第二光學層側）時，波長700 nm～800 nm中的最低反射率的值變小。將結果示於表4中，圖7表示將光線的入射面設為介電體多層膜（II）側時，自相對於近紅外線截止濾波器的垂直方向為30°的角度進行測定的分光反射率光譜。進而，自所獲得的近紅外線截止濾波器的垂直方向（入射角0°）及自相對於垂直方向為30°的角度（入射角30°）測定380 nm～780 nm的透過率，求出L*a*b*表色系中的「a*的值」、「b*的值」、「L*的值」、「a*的值（30°）」、「b*的值（30°）」及「L*的值（30°）」，並且算出與入射角為0°時的各值的差的絕對值｜△a*｜、｜△b*｜及｜△L*｜。將該些結果及其他各種評價結果示於表4中。
[實施例2] 於實施例1中，作為化合物（A），使用下述式（a-2）所表示的方酸內鎓鹽系化合物（a-2）（於二氯甲烷中的最大吸收波長為703 nm）0.033份代替化合物（a-1）0.03份，以及作為化合物（B），使用下述式（b-3）所表示的酞菁系化合物（b-3）（於二氯甲烷中的最大吸收波長為770 nm）0.077份代替化合物（b-1）0.02份及化合物（b-2）0.03份，除此以外，藉由與實施例1相同的程序及條件而獲得在玻璃基板的單面具有包含化合物（A）及化合物（B）的透明樹脂層的基材。測定該基材的分光透過率，並評價光學特性。將結果示於圖8及表4中。
[化21]繼而，與實施例1同樣地，於所獲得的基材的單面上形成作為第一光學層的使二氧化矽（SiO2
）層與二氧化鈦（TiO2
）層交替地積層而成（合計26層）的介電體多層膜（III），進而於基材的另一面上形成作為第二光學層的使二氧化矽（SiO2
）層與二氧化鈦（TiO2
）層交替地積層而成（合計20層）的介電體多層膜（IV），從而獲得厚度約0.194 mm的近紅外線截止濾波器。介電體多層膜的設計是考慮基材折射率的波長依存性後，使用與實施例1相同的設計參數來進行。測定所獲得的近紅外線截止濾波器的分光透過率及分光反射率，並評價光學特性。將結果示於圖9及表5中。另外，針對所獲得的近紅外線截止濾波器，測定自相對於各面的垂直方向為30°的角度所測定的分光反射率，結果確認到於將光線的入射面設為介電體多層膜（IV）側（第二光學層側）時，波長700 nm～800 nm中的平均反射率的值變小。將結果示於表4中，圖10表示將光線的入射面設為介電體多層膜（IV）側時，自相對於近紅外線截止濾波器的垂直方向為30°的角度進行測定的分光反射率光譜。進而，求出所獲得的近紅外線截止濾波器的L*a*b*表色系中的「a*的值」、「b*的值」、「L*的值」、「a*的值（30°）」、「b*的值（30°）」及「L*的值（30°）」，並且算出與入射角為0°時的各值的差的絕對值｜△a*｜、｜△b*｜及｜△L*｜。該些結果及其他各種評價結果亦示於表4中。
[實施例3] 於實施例3中，藉由以下的程序及條件來製成如下的近紅外線截止濾波器，所述近紅外線截止濾波器具有包含在兩面上具有樹脂層的透明樹脂製基板的基材。
向容器中加入樹脂合成例1中所獲得的樹脂A 100份、作為化合物（A）的化合物（a-1）0.03份及化合物（a-2）0.01份、以及作為化合物（B）的化合物（b-3）0.08份及下述式（b-4）所表示的化合物（b-4）（於二氯甲烷中的最大吸收波長為781 nm）0.02份、以及二氯甲烷，從而製備樹脂濃度為20重量%的溶液。將所獲得的溶液澆鑄至平滑的玻璃板上，以20℃乾燥8小時後，自玻璃板剝離。進而，於減壓下以100℃對所剝離的塗膜進行8小時乾燥，從而獲得厚0.1 mm、縱60 mm、橫60 mm的透明樹脂製基板。
[化22]利用棒塗機將下述組成的樹脂組成物（1）塗佈於所獲得的透明樹脂製基板的單面上，並於烘箱中以70℃加熱2分鐘，從而將溶劑揮發去除。此時，以乾燥後的厚度成為2 μm的方式調整棒塗機的塗佈條件。其次，使用輸送機式曝光機進行曝光（曝光量500 mJ/cm2
、200 mW），使樹脂組成物（1）硬化，從而於透明樹脂製基板上形成樹脂層。同樣地，於透明樹脂製基板的另一面上亦形成包含樹脂組成物（1）的樹脂層，獲得於包含化合物（A）及化合物（B）的透明樹脂製基板的兩面上具有樹脂層的基材。測定該基材的分光透過率，並評價光學特性。將結果示於表4中。
樹脂組成物（1）：三環癸烷二甲醇丙烯酸酯60重量份、二季戊四醇六丙烯酸酯40重量份、1-羥基環己基苯基酮5重量份、甲基乙基酮（溶劑、固體成分濃度（TSC）：30%） 繼而，與實施例1同樣地，於所獲得的基材的單面形成將二氧化矽（SiO2
）層與二氧化鈦（TiO2
）層交替地積層而成（合計26層）的介電體多層膜（V）作為第一光學層，進而於基材的另一面形成將二氧化矽（SiO2
）層與二氧化鈦（TiO2
）層交替地積層而成（合計20層）的介電體多層膜（VI）作為第二光學層，從而獲得厚度約0.108 mm的近紅外線截止濾波器。介電體多層膜的設計是與實施例1同樣地考慮基材折射率的波長依存性等後，使用與實施例1相同的設計參數來進行。與實施例1同樣地評價該近紅外線截止濾波器。將結果示於表4中。
[實施例4] 於實施例4中，藉由以下的程序及條件來製成如下的近紅外線截止濾波器，所述近紅外線截止濾波器具有包含樹脂製基板的基材，所述樹脂製基板在兩面上具有含有化合物（A）及化合物（B）的透明樹脂層。
向容器中加入樹脂合成例1中所獲得的樹脂A及二氯甲烷來製備樹脂濃度為20重量%的溶液，使用所獲得的溶液，除此以外，與實施例3同樣地製成樹脂製基板。
與實施例3同樣地，於所獲得的樹脂製基板的兩面上形成包含下述組成的樹脂組成物（2）的樹脂層，從而獲得在樹脂製基板的兩面上具有含有化合物（A）及化合物（B）的透明樹脂層的基材。測定該基材的分光透過率，並評價光學特性。將結果示於表4中。
樹脂組成物（2）：三環癸烷二甲醇丙烯酸酯100重量份、1-羥基環己基苯基酮4重量份、化合物（a-1）0.75重量份、化合物（b-2）0.75重量份、甲基乙基酮（溶劑、TSC：25%）。 繼而，與實施例1同樣地，於所獲得的基材的單面形成將二氧化矽（SiO2
）層與二氧化鈦（TiO2
）層交替地積層而成（合計26層）的介電體多層膜（VII）作為第一光學層，進而於基材的另一面形成將二氧化矽（SiO2
）層與二氧化鈦（TiO2
）層交替地積層而成（合計20層）的介電體多層膜（VIII）作為第二光學層，從而獲得厚度約0.108 mm的近紅外線截止濾波器。介電體多層膜的設計是與實施例1同樣地考慮基材折射率的波長依存性等後，使用與實施例1相同的設計參數來進行。與實施例1同樣地評價該近紅外線截止濾波器。將結果示於表4中。
[實施例5～實施例12] 如表4所示般變更樹脂、化合物（A）、化合物（B）、溶媒及樹脂製基板的乾燥條件，除此以外與實施例3同樣地製成基材及近紅外線截止濾波器，並進行評價。將結果示於表4中。
[實施例13～實施例15] 如表4所示般變更樹脂、化合物（A）、化合物（B）、溶媒及樹脂製基板的乾燥條件，除此以外與實施例1同樣地製成基材及近紅外線截止濾波器，並進行評價。將結果示於表4中。
[實施例16～實施例17] 如表4所示般變更樹脂、化合物（A）、化合物（B）、溶媒及樹脂製基板的乾燥條件，除此以外與實施例3同樣地製成基材及近紅外線截止濾波器，並進行評價。將結果示於表4中。
[實施例18～實施例19] 如表4所示般變更樹脂、化合物（A）、化合物（B）、溶媒及樹脂製基板的乾燥條件，除此以外與實施例4同樣地製成基材及近紅外線截止濾波器，並進行評價。將結果示於表4中。
[比較例1] 於實施例1中，不使用化合物（A）及化合物（B），除此以外與實施例1同樣地製成基材及近紅外線截止濾波器，並進行評價。將結果示於表5中。
[比較例2] 使用化合物（a-1）0.01份及化合物（a-2）0.01份作為化合物（A），除此以外與實施例3同樣地製成基材及近紅外線截止濾波器，並進行評價。將結果示於表5中。
[比較例3] 使用透明玻璃基板「OA-10G（厚100 μm）」（日本電氣硝子（股）製造）作為基材，除此以外與實施例1同樣地製成近紅外線截止濾波器，並進行評價。將結果示於表5中。
[比較例4] 於比較例4中，藉由以下的程序及條件來製成如下的近紅外線截止濾波器，所述近紅外線截止濾波器具有包含在兩面上具有樹脂層的透明樹脂製基板的基材。
向容器中加入樹脂合成例1中所獲得的樹脂A 100份及作為化合物（B）的化合物（b-3）0.135份，從而製備樹脂濃度為20重量%的溶液。將所獲得的溶液澆鑄至平滑的玻璃板上，以20℃乾燥8小時後，自玻璃板剝離。進而，於減壓下以100℃對所剝離的塗膜進行8小時乾燥，從而獲得厚0.1 mm、縱60 mm、橫60 mm的透明樹脂製基板。
與實施例3同樣地，於所獲得的樹脂製基板的兩面上形成包含下述組成的樹脂組成物（3）的樹脂層，從而獲得在樹脂製基板的兩面具有包含吸收材的透明樹脂層的基材、以及近紅外線截止濾波器。與實施例1同樣地評價所述基材、以及近紅外線截止濾波器。將結果示於表5中。
樹脂組成物（3）：三環癸烷二甲醇丙烯酸酯100重量份、1-羥基環己基苯基酮4重量份、YMF-02〔住友金屬礦山（股）製造，氧化鎢銫（Cs0.33
WO3
（平均分散粒徑800 nm以下；最大吸收波長（λmax）=1550 nm～1650 nm（膜）））的18.5質量%分散液〕30重量份、甲基乙基酮（溶劑、TSC：25%）
[比較例5] 如表5所示般變更樹脂、化合物（A）、化合物（B）、溶媒及樹脂製基板的乾燥條件，除此以外與實施例3同樣地製成基材及近紅外線截止濾波器，並進行評價。將結果示於表5中。
[比較例6] 使用熱塑性聚醯亞胺膜（亞速旺（ASONE）公司製造，厚0.5 mm）作為基材，不使用吸收材亦不使用透明樹脂層形成用組成物，除此以外與實施例3同樣地製成近紅外線截止濾波器，並進行評價。將結果示於表5中。
[比較例7] 使用透明玻璃基板「OA-10G（厚100 μm）」（日本電氣硝子（股）製造）作為基材，並積層表3般的介電體多層膜，除此以外與實施例1同樣地製成近紅外線截止濾波器，並進行評價。將結果示於表5中。
[表3]
*λ=550 nm [比較例8] 如表5所示般變更樹脂、化合物（A）、化合物（B）、溶媒及樹脂製基板的乾燥條件，並且以成為介電體多層膜（I）、介電體多層膜（II）、基材的順序的方式，於所獲得的基材的單面形成介電體多層膜（I）及介電體多層膜（II），除此以外與實施例3同樣地製成基材及近紅外線截止濾波器，並進行評價。將結果示於表5中。
[表4]
[表5]
表4～表5中的基材的構成或各種化合物等內容如下述般。
＜基材的形態＞ 形態（1）：於玻璃基板的單個的面具有包含化合物（A）及化合物（B）的透明樹脂層的形態 形態（2）：於包含化合物（A）及化合物（B）的透明樹脂製基板的兩面具有樹脂層的形態 形態（3）：於樹脂製基板的兩面具有包含化合物（A）及化合物（B）的透明樹脂層的形態 形態（4）：不包含化合物（A）及化合物（B）的透明樹脂製基板 形態（5）：於包含化合物（A）的透明樹脂製基板的兩面具有樹脂層的形態 形態（6）：玻璃基板 形態（7）：樹脂製基板
＜透明樹脂＞ 樹脂A：環狀烯烴系樹脂（樹脂合成例1） 樹脂B：芳香族聚醚系樹脂（樹脂合成例2） 樹脂C：聚醯亞胺系樹脂（樹脂合成例3） 樹脂D：環狀烯烴系樹脂「瑞翁諾阿（Zeonor）1420R」（日本瑞翁（Zeon）（股）製造）
＜玻璃基板＞ 玻璃基板（1）：切割成縱60 mm、橫60 mm的大小的透明玻璃基板「OA-10G（厚100 μm）」（日本電氣硝子（股）製造）
＜近紅外線吸收色素＞ 《化合物（A）》 化合物（a-1）：所述式（a-1）所表示的方酸內鎓鹽系化合物（a-1）（於二氯甲烷中的最大吸收波長為698 nm） 化合物（a-2）：所述式（a-2）所表示的方酸內鎓鹽系化合物（a-2）（於二氯甲烷中的最大吸收波長為703 nm） 化合物（a-3）：下述式（a-3）所表示的方酸內鎓鹽系化合物（a-3）（於二氯甲烷中的最大吸收波長為710 nm） 化合物（a-4）：下述式（a-4）所表示的方酸內鎓鹽系化合物（a-4）（於二氯甲烷中的最大吸收波長為733 nm） 化合物（a-5）：下述式（a-5）所表示的方酸內鎓鹽系化合物（a-5）（於二氯甲烷中的最大吸收波長為713 nm）
[化23]
[化24]
[化25]《化合物（B）》 化合物（b-1）：所述式（b-1）所表示的方酸內鎓鹽系化合物（b-1）（於二氯甲烷中的最大吸收波長為776 nm） 化合物（b-2）：所述式（b-2）所表示的酞菁系化合物（b-2）（於二氯甲烷中的最大吸收波長為733 nm） 化合物（b-3）：所述式（b-3）所表示的酞菁系化合物（b-3）（於二氯甲烷中的最大吸收波長為770 nm） 化合物（b-4）：所述式（b-4）所表示的方酸內鎓鹽系化合物（b-4）（於二氯甲烷中的最大吸收波長為781 nm） 化合物（b-5）：下述式（b-5）所表示的花青系化合物（b-5）（於二氯甲烷中的最大吸收波長為681 nm） 化合物（b-6）：下述式（b-6）所表示的花青系化合物（b-6）（於二氯甲烷中的最大吸收波長為791 nm） 化合物（b-7）：下述式（b-7）所表示的花青系化合物（b-7）（於二氯甲烷中的最大吸收波長為812 nm） 化合物（b-8）：下述式（b-8）所表示的花青系化合物（b-8）（於二氯甲烷中的最大吸收波長為760 nm） 化合物（b-9）：下述式（b-9）所表示的酞菁系化合物（b-9）（於二氯甲烷中的最大吸收波長為752 nm）
[化26]
[化27]
[化28]
[化29]
[化30]＜溶媒＞ 溶媒（1）：二氯甲烷 溶媒（2）：N,N-二甲基乙醯胺 溶媒（3）：環己烷/二甲苯（重量比：7/3） ＜膜乾燥條件＞ 條件（1）：20℃/8 hr→減壓下 100℃/8 hr 條件（2）：60℃/8 hr→80℃/8 hr→減壓下 140℃/8 hr 條件（3）：60℃/8 hr→80℃/8 hr→減壓下 100℃/24 hr 再者，於減壓乾燥前將塗膜自玻璃板剝離（形態（1）除外） [產業上之可利用性]
本發明的近紅外線截止濾波器可較佳地用於數位靜態相機、行動電話用相機、數位攝像機、個人電腦用相機、監視相機、汽車用相機、電視機、汽車導航系統用車載裝置、可攜式資訊終端機、視訊遊戲機、可攜式遊戲機、指紋認証系統用裝置、數位音樂播放器等。進而，亦可較佳地用作安裝於汽車或建築物等的玻璃等上的紅外線截止濾波器等。
1‧‧‧近紅外線截止濾波器
2‧‧‧分光光度計
3‧‧‧光
3A‧‧‧反射光
3B‧‧‧反射光
3C‧‧‧透過光（多重反射光）
4‧‧‧透鏡
5‧‧‧感測器（固體攝像元件）
7‧‧‧反射鏡
10‧‧‧玻璃製支撐體
11‧‧‧透明樹脂層
12‧‧‧第一光學層
13‧‧‧第二光學層
14‧‧‧基材（i）
15‧‧‧第三光學層
16‧‧‧第四光學層
111‧‧‧相機圖像
112‧‧‧白色板
113‧‧‧白色板的中央部的例子
114‧‧‧白色板的端部的例子
圖1是表示在近紅外線截止濾波器與透鏡之間進行多重反射的光線入射至固體攝像元件的概略圖。 圖2（a）是表示測定自近紅外線截止濾波器的垂直方向進行測定時的透過率的方法的概略圖。圖2（b）是表示測定自相對於近紅外線截止濾波器的垂直方向為30°的角度進行測定時的透過率的方法的概略圖。圖2（c）是表示測定自相對於近紅外線截止濾波器的垂直方向為30°的角度進行測定時的反射率的方法的概略圖。 圖3（a）、圖3（b）是表示本發明的近紅外線截止濾波器的較佳構成的例子的示意圖。 圖4是實施例1中所獲得的基材的分光透過光譜。 圖5（a）是自相對於實施例1中形成的介電體多層膜（I）的垂直方向為5°的角度進行測定時的分光反射光譜，圖5（b）是自相對於實施例1中形成的介電體多層膜（II）的垂直方向為5°的角度進行測定時的分光反射光譜。 圖6是實施例1中所獲得的近紅外線截止濾波器的分光透過光譜。 圖7是針對實施例1中所獲得的近紅外線截止濾波器，將光線的入射面設為介電體多層膜（II）（第二光學層）側時，自相對於近紅外線截止濾波器的垂直方向為30°的角度進行測定所得的分光反射光譜。 圖8是實施例2中所獲得的基材的分光透過光譜。 圖9是實施例2中所獲得的近紅外線截止濾波器的分光透過光譜。 圖10是針對實施例2中所獲得的近紅外線截止濾波器，將光線的入射面設為介電體多層膜（IV）（第二光學層）側時，自相對於近紅外線截止濾波器的垂直方向為30°的角度進行測定所得的分光反射光譜。 圖11是用以說明實施例及比較例中進行的相機圖像的色澤評價的示意圖。
Claims (15)
- 一種近紅外線截止濾波器，其包含：具有含有近紅外線吸收劑的透明樹脂層的基材、以及形成於所述基材的至少一面的介電體多層膜，且滿足下述必要條件（a）： （a）於波長600 nm～800 nm的區域中，自所述基材的垂直方向進行測定時的透過率成為50%的最短的波長的值（Xa）、與於波長700 nm～1200 nm的區域中自基材的垂直方向進行測定時的透過率成為50%的最長的波長的值（Xb）的差的絕對值｜Xa-Xb｜為120 nm以上。
- 如申請專利範圍第1項所述的近紅外線截止濾波器，其中於所述波長Xa～Xb的區域中，自所述基材的垂直方向進行測定時的透過率的平均值（Ta）為35%以下。
- 如申請專利範圍第1項或第2項所述的近紅外線截止濾波器，其進而滿足下述必要條件（b）： （b）於波長560 nm～800 nm的範圍中，自所述近紅外線截止濾波器的垂直方向進行測定時的透過率成為50%的最短的波長的值（Ya）、與自相對於近紅外線截止濾波器的垂直方向為30°的角度進行測定時的透過率成為50%的最短的波長的值（Yb）的差的絕對值｜Ya-Yb｜未滿15 nm。
- 如申請專利範圍第1項至第3項中任一項所述的近紅外線截止濾波器，其中所述近紅外線吸收劑為選自由方酸內鎓鹽系化合物、酞菁系化合物、萘酞菁系化合物、克酮鎓系化合物及花青系化合物所組成的群組中的至少一種。
- 如申請專利範圍第1項至第4項中任一項所述的近紅外線截止濾波器，其中所述透明樹脂層包含兩種以上的所述近紅外線吸收劑。
- 如申請專利範圍第1項至第5項中任一項所述的近紅外線截止濾波器，其中所述近紅外線吸收劑包含於波長650 nm～750 nm中具有最大吸收的方酸內鎓鹽系化合物（A）以及於波長660 nm～850 nm中具有最大吸收的化合物（B）（所述化合物（A）除外）。
- 如申請專利範圍第1項至第6項中任一項所述的近紅外線截止濾波器，其中所述介電體多層膜形成於所述基材的兩面上。
- 如申請專利範圍第7項所述的近紅外線截止濾波器，其中形成於所述基材的兩面上的介電體多層膜包含近紅外線反射膜與可見光抗反射膜。
- 如申請專利範圍第1項至第8項中任一項所述的近紅外線截止濾波器，其中於波長600 nm～900 nm的區域中，自相對於近紅外線截止濾波器的任一面的垂直方向為30°的角度進行測定時的反射率成為50%的最短的波長的值（Xr）為620 nm以上。
- 如申請專利範圍第1項至第9項中任一項所述的近紅外線截止濾波器，其中所述透明樹脂為選自由環狀（聚）烯烴系樹脂、芳香族聚醚系樹脂、聚醯亞胺系樹脂、茀聚碳酸酯系樹脂、茀聚酯系樹脂、聚碳酸酯系樹脂、聚醯胺系樹脂、聚芳酯系樹脂、聚碸系樹脂、聚醚碸系樹脂、聚對苯系樹脂、聚醯胺醯亞胺系樹脂、聚萘二甲酸乙二酯系樹脂、氟化芳香族聚合物系樹脂、（改質）丙烯酸系樹脂、環氧系樹脂、烯丙酯系硬化型樹脂、矽倍半氧烷系紫外線硬化型樹脂、丙烯酸系紫外線硬化型樹脂及乙烯基系紫外線硬化型樹脂所組成的群組中的至少一種樹脂。
- 如申請專利範圍第1項至第10項中任一項所述的近紅外線截止濾波器，其中所述基材包含選自透明樹脂製支撐體及玻璃製支撐體中的至少一種。
- 如申請專利範圍第1項至第11項中任一項所述的近紅外線截止濾波器，其用於固體攝像裝置。
- 一種固體攝像裝置，其包括如申請專利範圍第1項至第12項中任一項所述的近紅外線截止濾波器。
- 一種相機模組，其包括如申請專利範圍第1項至第12項中任一項所述的近紅外線截止濾波器。
- 一種近紅外線截止濾波器的製造方法，其包括將介電體多層膜形成於具有含有近紅外線吸收劑的透明樹脂層的基材的至少一面的步驟，所述近紅外線截止濾波器的製造方法的特徵在於：所述近紅外線截止濾波器滿足下述必要條件（a）： （a）於波長600 nm～800 nm的區域中，自所述基材的垂直方向進行測定時的透過率成為50%的最短的波長的值（Xa）、與於波長700 nm～1200 nm的區域中自基材的垂直方向進行測定時的透過率成為50%的最長的波長的值（Xb）的差的絕對值｜Xa-Xb｜為120 nm以上。
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