TW201835164A - 感光性組成物、硬化膜、彩色濾光片及電子裝置 - Google Patents

感光性組成物、硬化膜、彩色濾光片及電子裝置 Download PDF

Info

Publication number
TW201835164A
TW201835164A TW107108792A TW107108792A TW201835164A TW 201835164 A TW201835164 A TW 201835164A TW 107108792 A TW107108792 A TW 107108792A TW 107108792 A TW107108792 A TW 107108792A TW 201835164 A TW201835164 A TW 201835164A
Authority
TW
Taiwan
Prior art keywords
compound
phenyl
photosensitive composition
meth
bis
Prior art date
Application number
TW107108792A
Other languages
English (en)
Inventor
渡辺尚樹
岡本優紀
Original Assignee
日商捷恩智股份有限公司
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 日商捷恩智股份有限公司 filed Critical 日商捷恩智股份有限公司
Publication of TW201835164A publication Critical patent/TW201835164A/zh

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G69/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a carboxylic amide link in the main chain of the macromolecule
    • C08G69/44—Polyester-amides
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/20—Filters
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/0005—Production of optical devices or components in so far as characterised by the lithographic processes or materials used therefor
    • G03F7/0007—Filters, e.g. additive colour filters; Components for display devices
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/028—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
    • G03F7/031—Organic compounds not covered by group G03F7/029
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/038—Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable
    • G03F7/0385—Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable using epoxidised novolak resin
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/038—Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable
    • G03F7/0387—Polyamides or polyimides

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Materials For Photolithography (AREA)
  • Epoxy Resins (AREA)
  • Optical Filters (AREA)
  • Polymerisation Methods In General (AREA)
  • Macromolecular Compounds Obtained By Forming Nitrogen-Containing Linkages In General (AREA)

Abstract

本發明涉及一種感光性組成物，其包含聚酯醯胺酸、具有聚合性雙鍵的化合物、光聚合起始劑、環氧化合物、環氧硬化劑、及無機微粒子，所述感光性組成物中，所述聚酯醯胺酸是通過使四羧酸二酐、二胺、及多元羥基化合物作為必需的原料成分進行反應而獲得。利用本發明的感光性組成物，可形成耐熱性、透明性、平坦性、殘膜率、解析性、及折射率優異的硬化膜。

Description

感光性組成物、硬化膜、彩色濾光片及電子裝置
本發明涉及一種用於各種元件的感光性組成物、由所述感光性組成物所形成的硬化膜、及使用硬化膜的彩色濾光片、絕緣膜、保護膜或光波導。
在顯示元件等元件的製造步驟中，有時進行有機溶劑、酸、鹼溶液等各種化學品處理，或者在通過濺射（sputtering）而成膜配線電極時，將表面局部地加熱為高溫。因此，有時為了防止各種元件的表面的劣化、損傷、變質而設置表面保護膜。對於這些保護膜，要求可耐受如上所述的製造步驟中的各種處理的各特性。具體而言，要求耐熱性、耐溶劑性･耐酸性･耐鹼性等耐化學品性、耐水性、對玻璃等基底基板的密接性、透明性、耐劃傷性、平坦性、耐光性等。另外，在推進顯示元件的高視角化、高速響應化、高精細化、廣色域化等高性能化的現狀下，例如在用作彩色濾光片保護膜的情況下，期望透明性、耐熱性及耐溶劑性得到提高的材料。
另外，所述保護膜當然要滿足所述各自的作用，例如在用作頂部發射（top emission）型有機電致發光（electroluminescence，EL）元件的光學系統構件的情況下，為了提高光匯出效率，也要求高折射率、高透明性。
用以形成這些保護膜的硬化性組成物的種類可大致分為感光性組成物、熱硬化性組成物。在形成膜時通過高溫加熱使熱硬化性組成物完全硬化，因此，即使在其後的步驟中加熱至高溫的情況下，產生的揮發成分也少，耐熱性優異。作為具有所述優異特性的熱硬化性的保護膜材料，例如存在有專利文獻1所示的聚酯醯胺酸組成物。然而，熱硬化性組成物無法形成微細圖案，當形成微細圖案時，需要抗蝕劑材料或大量的追加步驟。
另一方面，在感光性組成物的情況下，容易形成微細圖案，成形性優異。感光性組成物包含具有光聚合性基的聚合物或寡聚物或者單體與光聚合起始劑，且因以紫外線為代表的光的能量而引起化學反應，並進行硬化。經由感光性組成物在基板上的塗布、曝光、顯影、煆燒等步驟而形成微細圖案。
近年來，因圖案形成的容易性，感光性組成物的作為保護膜的需求增加，要求可以更高的顯影後殘膜率（以下表述為殘膜率）形成微細圖案的感光性組成物。另外，就用於光學系統構件中的目的而言，除了可以高殘膜率形成微細圖案以外，還要求硬化膜具有高折射率或高透明性、高耐熱性。
作為提供高折射率的硬化膜的感光性組成物的例子，如專利文獻2所示，報告有包含無機微粒子的感光性組成物的例子。但是，專利文獻2中公開了由包含丙烯酸系樹脂的感光性組成物所形成的硬化膜的透射率或折射率，但無法充分滿足耐熱性，要求進一步的改良。
另外，當在感光性組成物中添加無機微粒子時，在無機微粒子相對於感光性組成物中所含的樹脂的分散性差的情況下，會發生無機微粒子的凝聚，有時出現導致所獲得的硬化膜的透射率降低或殘膜率降低等問題。 [現有技術文獻] [專利文獻]
[專利文獻1]日本專利特開2008-156546 [專利文獻2]日本專利特開2014-160228
[發明所欲解決之課題] 本發明的課題在於提供一種硬化膜，所述硬化膜的耐熱性、透明性、平坦性、進而尤其是殘膜率、解析性、折射率優異，以適用於彩色濾光片、絕緣膜、保護膜、或光波導等各種用途。另外，本發明的課題在於提供一種可形成此種硬化膜的感光性組成物。 [解決課題之手段]
本發明者等人為了解決所述課題而進行了努力研究，結果發現，利用如下的組成物、及使所述組成物硬化而獲得的硬化膜可達成所述目的，從而完成了本發明：所述組成物包含聚酯醯胺酸、具有聚合性雙鍵的化合物、光聚合起始劑、環氧化合物、環氧硬化劑、無機微粒子。 本發明包含以下的構成。
[1] 一種感光性組成物，其包含聚酯醯胺酸（A）、具有聚合性雙鍵的化合物（B）、光聚合起始劑（C）、環氧化合物（D）、環氧硬化劑（E）、及無機微粒子（F）； 所述聚酯醯胺酸（A）是通過使X莫耳的四羧酸二酐、Y莫耳的二胺及Z莫耳的多元羥基化合物以下述式（1）及式（2）的關係成立的比率進行反應而獲得，且包含下述式（3）所表示的構成單元與下述式（4）所表示的構成單元； 所述具有聚合性雙鍵的化合物（B）包含在每一分子中具有兩個以上的聚合性雙鍵的化合物； 所述環氧化合物（D）在每一分子中包含2個～10個環氧基； 相對於所述聚酯醯胺酸（A）100重量份，所述具有聚合性雙鍵的化合物（B）的總量為20重量份～300重量份，所述環氧化合物（D）的總量為20重量份～200重量份； 0.2≦Z/Y≦8.0········（1） 0.2≦（Y+Z）/X≦5.0 ···（2）式（3）及式（4）中，R1 為自四羧酸二酐除去兩個-CO-O-CO-而成的殘基，R2 為自二胺除去兩個-NH2 而成的殘基，R3 為自多元羥基化合物除去兩個-OH而成的殘基。
[2] 根據[1]所述的感光性組成物，其中所述聚酯醯胺酸（A）的原料成分還包含單羥基化合物。
[3] 根據[2]所述的感光性組成物，其中所述單羥基化合物為選自異丙醇、烯丙醇、苄醇、甲基丙烯酸羥基乙酯、丙二醇單乙醚、3-乙基-3-羥基甲基氧雜環丁烷、及4-甲氧基苯酚中的至少一種。
[4] 根據[1]～[3]中任一項所述的感光性組成物，其中所述聚酯醯胺酸（A）的重量平均分子量為1,000～200,000； 所述四羧酸二酐為選自3,3',4,4'-二苯基碸四羧酸二酐、3,3',4,4'-二苯基醚四羧酸二酐、2,2-[雙(3,4-二羧基苯基)]六氟丙烷二酐、1,2,3,4-丁烷四羧酸二酐、及乙二醇雙(脫水偏苯三酸酯)中的至少一種； 所述二胺為選自3,3'-二胺基二苯基碸及雙[4-(3-胺基苯氧基)苯基]碸中的至少一種； 所述多元羥基化合物為選自乙二醇、丙二醇、1,4-丁二醇、1,5-戊二醇、1,6-己二醇、1,7-庚二醇、1,8-辛二醇、2,2-雙(4-羥基環己基)丙烷、4,4'-二羥基二環己基、及異氰脲酸三(2-羥基乙基)酯中的至少一種； 相對於所述具有聚合性雙鍵的化合物的總重量，所述具有聚合性雙鍵的化合物（B）含有50重量%以上的選自二季戊四醇五丙烯酸酯、二季戊四醇六丙烯酸酯、季戊四醇四丙烯酸酯、季戊四醇三丙烯酸酯、及異氰脲酸環氧乙烷改性三丙烯酸酯中的至少一種； 所述環氧化合物（D）為選自3,4-環氧環己烷羧酸-3',4'-環氧環己基甲酯、1-甲基-4-(2-甲基氧雜環丙基)-7-氧雜雙環[4.1.0]庚烷、2-[4-(2,3-環氧丙氧基)苯基]-2-[4-[1,1-雙[4-(2,3-環氧丙氧基)苯基]乙基]苯基]丙烷與1,3-雙[4-[1-[4-(2,3-環氧丙氧基)苯基]-1-[4-[1-[4-(2,3-環氧丙氧基)苯基]-1-甲基乙基]苯基]乙基]苯氧基]-2-丙醇的混合物、2-[4-(2,3-環氧丙氧基)苯基]-2-[4-[1,1-雙[4-(2,3-環氧丙氧基)苯基]乙基]苯基]丙烷、1,1,1-三(4-羥基苯基)乙烷三縮水甘油醚、1,3-雙(氧雜環丙基甲基)-5-(2-丙烯基)-1,3,5-三嗪-2,4,6(1H,3H,5H)-三酮、及2,2-雙(羥基甲基)-1-丁醇的1,2-環氧基-4-(2-氧雜環丙基)環己烷加成物中的至少一種。
[5] 根據[1]～[4]中任一項所述的感光性組成物，其中所述光聚合起始劑（C）為選自α-胺基苯烷基酮系光聚合起始劑、醯基氧化膦系光聚合起始劑及肟酯系光聚合起始劑中的至少一種。
[6] 根據[1]～[5]中任一項所述的感光性組成物，其中所述環氧硬化劑（E）為選自偏苯三酸酐、六氫偏苯三酸酐及2-十一烷基咪唑中的至少一種。
[7] 根據[1]～[6]中任一項所述的感光性組成物，其中所述四羧酸二酐為選自3,3',4,4'-二苯基醚四羧酸二酐及1,2,3,4-丁烷四羧酸二酐中的至少一種； 所述二胺為3,3'-二胺基二苯基碸； 所述多元羥基化合物為1,4-丁二醇； 所述具有聚合性雙鍵的化合物（B）為選自二季戊四醇五丙烯酸酯及二季戊四醇六丙烯酸酯中的至少一種； 所述光聚合起始劑（C）含有相對於光聚合起始劑的總重量而為50重量%以上的下述式（5）所表示的化合物； 所述環氧化合物（D）為選自2-[4-(2,3-環氧丙氧基)苯基]-2-[4-[1,1-雙[4-(2,3-環氧丙氧基)苯基]乙基]苯基]丙烷與1,3-雙[4-[1-[4-(2,3-環氧丙氧基)苯基]-1-[4-[1-[4-(2,3-環氧丙氧基)苯基]-1-甲基乙基]苯基]乙基]苯氧基]-2-丙醇的混合物及2-[4-(2,3-環氧丙氧基)苯基]-2-[4-[1,1-雙[4-(2,3-環氧丙氧基)苯基]乙基]苯基]丙烷中的至少一種； 所述環氧硬化劑（E）包含選自偏苯三酸酐及2-十一烷基咪唑中的至少一種； 還含有選自由3-甲氧基丙酸甲酯及丙二醇單甲醚乙酸酯所組成的群組中的至少一種作為溶劑；式中，R4 、R5 、R7 分別獨立地為碳數1～5的烷基、碳數2～5的烯基、或碳數2～5的炔基，R6 為碳數1～15的烷基、碳數2～15的烯基、或碳數2～15的炔基，n分別獨立地為0～5的整數。
[8] 根據[1]～[7]中任一項所述的感光性組成物，其中所述聚酯醯胺酸（A）的原料包含苯乙烯-馬來酸酐共聚物。
[9] 根據[1]～[8]中任一項所述的感光性組成物，其中相對於聚酯醯胺酸（A）100重量份，含有30重量份～300重量份的所述無機微粒子（F）。
[10] 根據[1]～[9]中任一項所述的感光性組成物，其中所述無機微粒子（F）為一次粒徑為1 nm～100 nm的氧化鈦或氧化鋯。
[11] 一種硬化膜，其是由根據[1]～[10]中任一項所述的感光性組成物而獲得。
[12] 一種彩色濾光片，其具有根據[11]所述的硬化膜作為透明保護膜。
[13] 一種電子裝置，其具有根據[11]所述的硬化膜。 [發明的效果]
利用以上構成，本發明的感光性組成物可形成耐熱性、透明性、平坦性、進而尤其是殘膜率、解析性、及折射率優異的硬化膜。所述硬化膜可應用於彩色濾光片、保護膜、絕緣膜、光波導等各種用途。
1. 感光性組成物 本發明的感光性組成物為包含聚酯醯胺酸（A）、具有聚合性雙鍵的化合物（B）、光聚合起始劑（C）、在每一分子中包含2個～10個環氧基的環氧化合物（D）、環氧硬化劑（E）、及無機微粒子（F）的組成物，所述聚酯醯胺酸（A）是通過使四羧酸二酐、二胺、多元羥基化合物作為必需的原料成分進行反應而獲得。進而，相對於聚酯醯胺酸（A）100重量份，具有聚合性雙鍵的化合物（B）的總量為20重量份～300重量份，環氧化合物（D）的總量為20重量份～200重量份，無機微粒子（F）的總量為30重量份～300重量份。
再者，本發明的感光性組成物還可在獲得本發明的效果的範圍內進一步含有所述以外的其他成分。
1-1.聚酯醯胺酸（A） 聚酯醯胺酸（A）是通過使四羧酸二酐、二胺、多元羥基化合物作為必需的原料成分進行反應而獲得。進而，聚酯醯胺酸（A）是通過使X莫耳的四羧酸二酐、Y莫耳的二胺及Z莫耳的多元羥基化合物以所述式（1）及式（2）的關係成立的比率進行反應而獲得。
另外，聚酯醯胺酸（A）具有式（3）所表示的構成單元、式（4）所表示的構成單元。式（3）、式（4）中，R1 為自四羧酸二酐除去兩個-CO-O-CO-而成的殘基，R2 為自二胺除去兩個-NH2 而成的殘基。R3 可具有聚合性雙鍵。
聚酯醯胺酸（A）的合成至少需要溶劑，可使所述溶劑直接殘留而製成考慮到操作性等的液狀或凝膠狀的感光性組成物，也可將所述溶劑除去而製成考慮到搬運性等的固體狀的組成物。另外，聚酯醯胺酸（A）的合成也可視需要包含選自單羥基化合物及苯乙烯-馬來酸酐共聚物中的一種以上的化合物作為原料，其中，優選為包含單羥基化合物。另外，聚酯醯胺酸（A）的合成也可在不損及本發明的目的的範圍內，視需要包含所述以外的其他化合物作為原料。作為此種其他原料的例子，可列舉含矽單胺。
1-1-1.四羧酸二酐 在本發明中，作為用以獲得聚酯醯胺酸（A）的材料，使用四羧酸二酐。關於優選的四羧酸二酐的具體例，可列舉：3,3',4,4'-二苯甲酮四羧酸二酐、2,2',3,3'-二苯甲酮四羧酸二酐、2,3,3',4'-二苯甲酮四羧酸二酐、3,3',4,4'-二苯基碸四羧酸二酐、2,2',3,3'-二苯基碸四羧酸二酐、2,3,3',4'-二苯基碸四羧酸二酐、3,3',4,4'-二苯基醚四羧酸二酐、2,2',3,3'-二苯基醚四羧酸二酐、2,3,3',4'-二苯基醚四羧酸二酐、2,2-[雙(3,4-二羧基苯基)]六氟丙烷二酐、1,2,3,4-丁烷四羧酸二酐、乙二醇雙(脫水偏苯三酸酯)（商品名：TMEG-100，新日本理化股份有限公司）、環丁烷四羧酸二酐、甲基環丁烷四羧酸二酐、環戊烷四羧酸二酐、環己烷四羧酸二酐、及乙烷四羧酸二酐。可使用這些四羧酸二酐中的一種以上。
這些四羧酸二酐中，更優選對硬化膜賦予良好透明性的3,3',4,4'-二苯基碸四羧酸二酐、3,3',4,4'-二苯基醚四羧酸二酐、2,2-[雙(3,4-二羧基苯基)]六氟丙烷二酐、1,2,3,4-丁烷四羧酸二酐、及TMEG-100，特別優選3,3',4,4'-二苯基醚四羧酸二酐、3,3',4,4'-二苯基碸四羧酸二酐及1,2,3,4-丁烷四羧酸二酐。
1-1-2.二胺 在本發明中，作為用以獲得聚酯醯胺酸（A）的材料，使用二胺。關於優選的二胺的具體例，可列舉：4,4'-二胺基二苯基碸、3,3'-二胺基二苯基碸、3,4'-二胺基二苯基碸、雙[4-(4-胺基苯氧基)苯基]碸、雙[4-(3-胺基苯氧基)苯基]碸、雙[3-(4-胺基苯氧基)苯基]碸、[4-(4-胺基苯氧基)苯基][3-(4-胺基苯氧基)苯基]碸、[4-(3-胺基苯氧基)苯基][3-(4-胺基苯氧基)苯基]碸、及2,2-雙[4-(4-胺基苯氧基)苯基]六氟丙烷。可使用這些二胺中的一種以上。
這些二胺中，更優選對硬化膜賦予良好透明性的3,3'-二胺基二苯基碸及雙[4-(3-胺基苯氧基)苯基]碸，特別優選3,3'-二胺基二苯基碸。
1-1-3.多元羥基化合物 本發明使用不具有聚合性雙鍵的多元羥基化合物、或/及具有聚合性雙鍵的多元羥基化合物來作為用以獲得聚酯醯胺酸（A）的材料。
作為不具有聚合性雙鍵的多元羥基化合物，可列舉：乙二醇、二乙二醇、三乙二醇、四乙二醇、重量平均分子量為1,000以下的聚乙二醇、丙二醇、二丙二醇、三丙二醇、四丙二醇、重量平均分子量為1,000以下的聚丙二醇、1,2-丁二醇、1,3-丁二醇、1,2-戊二醇、1,5-戊二醇、2,4-戊二醇、1,2,5-戊三醇、1,2-己二醇、1,6-己二醇、2,5-己二醇、1,2,6-己三醇、1,2-庚二醇、1,7-庚二醇、1,2,7-庚三醇、1,2-辛二醇、1,8-辛二醇、3,6-辛二醇、1,2,8-辛三醇、1,2-壬二醇、1,9-壬二醇、1,2,9-壬三醇、1,2-癸二醇、1,10-癸二醇、1,2,10-癸三醇、1,2-十二烷二醇、1,12-十二烷二醇、甘油、三羥甲基丙烷、季戊四醇、二季戊四醇、異氰脲酸三(2-羥基乙基)酯、雙酚A（2,2-雙(4-羥基苯基)丙烷）、雙酚S（雙(4-羥基苯基)碸）、雙酚F（雙(4-羥基苯基)甲烷）、2,2-雙(4-羥基環己基)丙烷、4,4'-二羥基二環己基、2-羥基苄醇、4-羥基苄醇、2-(4-羥基苯基)乙醇、二乙醇胺、及三乙醇胺
作為具有聚合性雙鍵的多元羥基化合物的具體例，可列舉：甘油單烯丙基醚、三羥甲基丙烷單烯丙基醚、季戊四醇單烯丙基醚、季戊四醇二烯丙基醚、二季戊四醇單烯丙基醚、二季戊四醇二烯丙基醚、二季戊四醇三烯丙基醚、二季戊四醇四烯丙基醚、山梨糖醇單烯丙基醚、山梨糖醇二烯丙基醚、山梨糖醇三烯丙基醚、山梨糖醇四烯丙基醚、甘油單(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基丙烷單(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇單(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇二(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇單(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇二(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、山梨糖醇單(甲基)丙烯酸酯、山梨糖醇二(甲基)丙烯酸酯、山梨糖醇三(甲基)丙烯酸酯、山梨糖醇四(甲基)丙烯酸酯、乙二醇二縮水甘油醚的(甲基)丙烯酸改性物、丙二醇二縮水甘油醚的(甲基)丙烯酸改性物、三丙二醇二縮水甘油醚的(甲基)丙烯酸改性物、甘油二縮水甘油醚的(甲基)丙烯酸改性物、雙酚A二縮水甘油醚的(甲基)丙烯酸改性物、環氧丙烷改性雙酚A二縮水甘油醚的(甲基)丙烯酸改性物、雙酚S二縮水甘油醚的(甲基)丙烯酸改性物、環氧丙烷改性雙酚S二縮水甘油醚的(甲基)丙烯酸改性物、雙酚F二縮水甘油醚的(甲基)丙烯酸改性物、環氧丙烷改性雙酚F二縮水甘油醚的(甲基)丙烯酸改性物、聯二甲苯酚二縮水甘油醚的(甲基)丙烯酸改性物、聯苯酚二縮水甘油醚的(甲基)丙烯酸改性物、芴二酚二縮水甘油醚的(甲基)丙烯酸改性物、環己烷-1,4-二甲醇二縮水甘油醚的(甲基)丙烯酸改性物、氫化雙酚A二縮水甘油醚的(甲基)丙烯酸改性物、三環癸烷二甲醇二縮水甘油醚的(甲基)丙烯酸改性物、及在每一分子中包含兩個以上的環氧基的其他化合物的(甲基)丙烯酸改性物，可使用這些具體例中的至少一種。
這些多羥基化合物中，更優選對反應溶劑的溶解性良好的化合物，即：乙二醇、丙二醇、1,4-丁二醇、1,5-戊二醇、1,6-己二醇、1,7-庚二醇、1,8-辛二醇、異氰脲酸三(2-羥基乙基)酯、2,2-雙(4-羥基環己基)丙烷、4,4'-二羥基二環己基、2-羥基苄醇、4-羥基苄醇、2-(4-羥基苯基)乙醇、乙二醇二縮水甘油醚的(甲基)丙烯酸改性物、丙二醇二縮水甘油醚的(甲基)丙烯酸改性物、甘油二縮水甘油醚的(甲基)丙烯酸改性物、雙酚A二縮水甘油醚的(甲基)丙烯酸改性物、環氧丙烷改性雙酚A二縮水甘油醚的(甲基)丙烯酸改性物、雙酚S二縮水甘油醚的(甲基)丙烯酸改性物、環氧丙烷改性雙酚S二縮水甘油醚的(甲基)丙烯酸改性物、雙酚F二縮水甘油醚的(甲基)丙烯酸改性物、及環氧丙烷改性雙酚F二縮水甘油醚的(甲基)丙烯酸改性物。另外，特別優選1,4-丁二醇、1,5-戊二醇、1,6-己二醇、2-羥基苄醇、4-羥基苄醇、2-(4-羥基苯基)乙醇、乙二醇二縮水甘油醚的(甲基)丙烯酸改性物、丙二醇二縮水甘油醚的(甲基)丙烯酸改性物、三丙二醇二縮水甘油醚的(甲基)丙烯酸改性物、甘油二縮水甘油醚的(甲基)丙烯酸改性物、雙酚A二縮水甘油醚的(甲基)丙烯酸改性物、及環氧丙烷改性雙酚A二縮水甘油醚的(甲基)丙烯酸改性物。
作為乙二醇二縮水甘油醚的甲基丙烯酸改性物、丙二醇二縮水甘油醚的丙烯酸改性物、三丙二醇二縮水甘油醚的丙烯酸改性物、甘油二縮水甘油醚的丙烯酸改性物、雙酚A二縮水甘油醚的甲基丙烯酸改性物、雙酚A二縮水甘油醚的丙烯酸改性物、環氧丙烷改性雙酚A二縮水甘油醚的甲基丙烯酸改性物、及環氧丙烷改性雙酚A二縮水甘油醚的丙烯酸改性物，可使用下述市售品。
乙二醇二縮水甘油醚的甲基丙烯酸改性物的具體例為環氧酯（Epoxy Ester）40EM（商品名；共榮社化學股份有限公司）。丙二醇二縮水甘油醚的丙烯酸改性物的具體例為環氧酯（Epoxy Ester）70PA（商品名；共榮社化學股份有限公司）。三丙二醇二縮水甘油醚的丙烯酸改性物的具體例為環氧酯（Epoxy Ester）200PA（商品名；共榮社化學股份有限公司）。甘油二縮水甘油醚的丙烯酸改性物的具體例為環氧酯（Epoxy Ester）80MFA（商品名；共榮社化學股份有限公司）。雙酚A二縮水甘油醚的甲基丙烯酸改性物的具體例為環氧酯（Epoxy Ester）3000MK（商品名；共榮社化學股份有限公司）。雙酚A二縮水甘油醚的丙烯酸改性物的具體例為環氧酯（Epoxy Ester）3000A（商品名；共榮社化學股份有限公司）。環氧丙烷改性雙酚A二縮水甘油醚的甲基丙烯酸改性物的具體例為環氧酯（Epoxy Ester）3002M（N）（商品名；共榮社化學股份有限公司）。環氧丙烷改性雙酚A二縮水甘油醚的丙烯酸改性物的具體例為環氧酯（Epoxy Ester）3002A（N）（商品名；共榮社化學股份有限公司）。
1-1-4.單羥基化合物 在本發明中，作為用以獲得聚酯醯胺酸（A）的材料，可使用不具有聚合性雙鍵的單羥基化合物、及/或具有聚合性雙鍵的單羥基化合物。若使用單羥基化合物，則感光性組成物的保存穩定性提高。
關於不具有聚合性雙鍵的單羥基化合物的具體例，可優選地列舉：異丙醇、苄醇、丙二醇單乙醚、丙二醇單甲醚、二丙二醇單乙醚、二丙二醇單甲醚、乙二醇單乙醚、乙二醇單甲醚、二乙二醇單乙醚、二乙二醇單甲醚、松油醇（terpineol）、3-乙基-3-羥基甲基氧雜環丁烷、二甲基苄基甲醇（dimethyl benzyl carbinol）、及4-甲氧基苯酚（對苯二酚單甲醚；MEHQ)。
關於具有聚合性雙鍵的單羥基化合物的具體例，可優選地列舉：糠醇、烯丙醇、(甲基)丙烯酸羥基乙酯、(甲基)丙烯酸羥基丙酯、(甲基)丙烯酸羥基丁酯、(甲基)丙烯酸-2-羥基-3-苯氧基丙酯、(甲基)丙烯酸-4-羥基苯酯、對羥基(甲基)丙烯酸苯胺、1,4-環己烷二甲醇單(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸-3-(2-羥基苯基)酯、甘油二(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基丙烷二(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、苯基縮水甘油醚的(甲基)丙烯酸改性物、第三丁基苯基縮水甘油醚的(甲基)丙烯酸改性物、及在每一分子中包含一個環氧基的其他化合物的(甲基)丙烯酸改性物，可使用這些具體例中的至少一種。
這些單羥基化合物中，更優選為苄醇、丙二醇單乙醚、3-乙基-3-羥基甲基氧雜環丁烷、4-甲氧基苯酚、(甲基)丙烯酸羥基乙酯、(甲基)丙烯酸羥基丙酯、(甲基)丙烯酸羥基丁酯、(甲基)丙烯酸-2-羥基-3-苯氧基丙酯、(甲基)丙烯酸-4-羥基苯酯、對羥基(甲基)丙烯酸苯胺、1,4-環己烷二甲醇單(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸-3-(2-羥基苯基)酯。若考慮到將使用這些單羥基化合物而形成的聚酯醯胺酸（A）與含環氧基的聚合物、環氧化合物（D）、環氧硬化劑（E）、無機微粒子（F）混合的情況下的相容性，或感光性組成物在彩色濾光片上的塗布性，則單羥基化合物特別優選使用苄醇、4-甲氧基苯酚、(甲基)丙烯酸羥基乙酯、(甲基)丙烯酸羥基丙酯、(甲基)丙烯酸羥基丁酯、(甲基)丙烯酸-4-羥基苯酯、對羥基(甲基)丙烯酸苯胺、及1,4-環己烷二甲醇單(甲基)丙烯酸酯。
作為甲基丙烯酸-4-羥基苯酯、對羥基甲基丙烯酸苯胺、及1,4-環己烷二甲醇單丙烯酸酯，可使用下述市售品。甲基丙烯酸-4-羥基苯酯的具體例為HQMA（商品名；大阪有機化學工業股份有限公司）。對羥基甲基丙烯酸苯胺的具體例為HMAd（商品名；大阪有機化學工業股份有限公司）。1,4-環己烷二甲醇單丙烯酸酯的具體例為1,4-環己烷二甲醇單丙烯酸酯（CHDMMA）（商品名；日本化成股份有限公司）。
相對於四羧酸二酐、二胺、及多元羥基化合物的總量100重量份，優選為含有0重量份～300重量份的單羥基化合物而進行反應。更優選為5重量份～200重量份。
1-1-5.苯乙烯-馬來酸酐共聚物 另外，關於本發明中所使用的聚酯醯胺酸（A），還可在所述原料中添加具有三個以上酸酐基的化合物而合成。若如此，則硬化膜的殘膜率提高，因此優選。作為具有三個以上酸酐基的化合物的例子，可列舉苯乙烯-馬來酸酐共聚物。關於構成苯乙烯-馬來酸酐共聚物的各成分的比率，苯乙烯/馬來酸酐的莫耳比為0.5～4，優選為1～3。進一步而言，更優選為1或2，特別優選為1。
作為苯乙烯-馬來酸酐共聚物的具體例，可列舉：SMA3000P、SMA2000P、SMA1000P（均為商品名；川原油化股份有限公司）。這些具體例中，特別優選為使硬化膜的耐熱性及耐鹼性變良好的SMA1000P。
優選為相對於四羧酸二酐、二胺、及多元羥基化合物的合計量100重量份而含有0重量份～500重量份的苯乙烯-馬來酸酐共聚物。更優選為10重量份～300重量份。
1-1-6.含矽單胺 聚酯醯胺酸（A）的合成也可在不損及本發明的目的的範圍內，視需要包含所述以外的其他原料作為原料，作為其他原料的例子，可列舉含矽單胺。
關於本發明中所使用的含矽單胺的具體例，可優選地列舉：3-胺基丙基三甲氧基矽烷、3-胺基丙基三乙氧基矽烷、3-胺基丙基甲基二甲氧基矽烷、3-胺基丙基甲基二乙氧基矽烷、4-胺基丁基三甲氧基矽烷、4-胺基丁基三乙氧基矽烷、4-胺基丁基甲基二乙氧基矽烷、對胺基苯基三甲氧基矽烷、對胺基苯基三乙氧基矽烷、對胺基苯基甲基二甲氧基矽烷、對胺基苯基甲基二乙氧基矽烷、間胺基苯基三甲氧基矽烷、及間胺基苯基甲基二乙氧基矽烷。可使用這些具體例中的至少一種。
這些含矽單胺中，更優選為硬化膜的耐酸性良好的3-胺基丙基三乙氧基矽烷及對胺基苯基三甲氧基矽烷，就耐酸性、相容性的觀點而言，特別優選為3-胺基丙基三乙氧基矽烷。
優選為相對於四羧酸二酐、二胺、及多元羥基化合物的總量100重量份而含有0重量份～300重量份的含矽單胺，更優選為5重量份～200重量份。
1-1-7.聚酯醯胺酸（A）的合成反應中所使用的溶劑 作為用以獲得聚酯醯胺酸（A）的合成反應中所使用的溶劑的具體例，可列舉：二乙二醇二甲醚、二乙二醇甲基乙基醚、二乙二醇二乙醚、二乙二醇單乙醚乙酸酯、乙二醇單乙醚乙酸酯、丙二醇單甲醚乙酸酯、3-甲氧基丙酸甲酯、3-乙氧基丙酸乙酯、乳酸乙酯、環己酮。這些具體例中，優選為丙二醇單甲醚乙酸酯、3-甲氧基丙酸甲酯、或二乙二醇甲基乙基醚。
1-1-8.聚酯醯胺酸（A）的合成方法 本發明中所使用的聚酯醯胺酸（A）的合成方法是在所述溶劑中使四羧酸二酐X莫耳、二胺Y莫耳、及多元羥基化合物Z莫耳反應。此時，X、Y及Z優選設定為在這些X、Y及Z之間下述式（1）及式（2）的關係成立的比例。若為所述範圍，則聚酯醯胺酸在溶劑中的溶解性高，因此組成物的塗布性提高，結果可獲得平坦性優異的硬化膜。 0.2≦Z/Y≦8.0········（1） 0.2≦（Y+Z）/X≦5.0 ···（2） 式（1）中，優選為0.7≦Z/Y≦7.0，更優選為1.0≦Z/Y≦5.0。另外，式（2）中，優選為0.5≦（Y+Z）/X≦4.0，更優選為0.6≦（Y+Z）/X≦2.0。
可認為本發明中所使用的聚酯醯胺酸（A）是在所述反應條件下，相對於Y+Z而過剩使用X的條件下，比在末端具有胺基或羥基的分子更過剩地生成在末端具有酸酐基（-CO-O-CO-）的分子。在以此種單體的構成進行反應的情況下，為了與分子末端的酸酐基反應而對末端進行酯化，可視需要添加所述單羥基化合物。通過添加單羥基化合物進行反應而所獲得的聚酯醯胺酸（A）可改善與環氧化合物（D）及環氧硬化劑（E）的相容性，且可改善包含這些化合物的本發明的感光性組成物的塗布性。
另外，在以所述單體的構成進行反應的情況下，為了與分子末端的酸酐基反應而在末端導入矽烷基，可添加含矽單胺。若使用含有如下聚酯醯胺酸（A）的感光性組成物，則硬化膜的耐酸性改善：所述聚酯醯胺酸（A）是通過添加含矽單胺並進行反應而獲得。
若相對於四羧酸二酐、二胺、及多元羥基化合物的總量100重量份而使用100重量份以上的反應溶劑，則反應順利地進行，因此優選。反應以在40℃～200℃下反應0.2小時～20小時為宜。
反應原料在反應系統中的添加順序並無特別限定。即，可使用以下的任意方法：將四羧酸二酐、二胺及多元羥基化合物同時加入至反應溶劑中的方法；使二胺及多元羥基化合物溶解於反應溶劑中之後，添加四羧酸二酐的方法；使四羧酸二酐及多元羥基化合物預先反應後，在其反應產物中添加二胺的方法；或者使四羧酸二酐與二胺預先反應後，在其反應產物中添加多元羥基化合物的方法等。
在使所述含矽單胺反應的情況下，在四羧酸二酐與二胺及多元羥基化合物的反應後，將反應液冷卻至40℃以下後，添加含矽單胺，在10℃～40℃下反應0.1小時～6小時為宜。另外，可在反應的任意時間點添加單羥基化合物。
如上所述而合成的聚酯醯胺酸（A）包含式（3）所表示的構成單元、式（4）所表示的構成單元，且其末端由源自作為原料的四羧酸二酐、二胺、多元羥基化合物、或單羥基化合物的酸酐基、胺基、羥基、或一價的有機基，或者這些化合物以外的添加物構成。通過包含此種構成，硬化性變良好。
所獲得的聚酯醯胺酸（A）的重量平均分子量優選為1,000～200,000，更優選為3,000～50,000。若處於所述範圍，則平坦性及耐熱性良好。
本說明書中的重量平均分子量是通過膠體滲透層析（Gel Permeation Chromatography，GPC）法（管柱溫度：35℃，流速：1 ml/min）所求出的聚苯乙烯換算的值。標準的聚苯乙烯可使用分子量為645～132,900的聚苯乙烯（例如安捷倫科技（Agilent Technologies）股份有限公司的聚苯乙烯校準套組（calibration kit）PL2010-0102），管柱可使用PLgel MIXED-D（安捷倫科技股份有限公司），作為流動相可使用四氫呋喃（Tetrahydrofuran，THF）進行測定。本說明書中的市售品的重量平均分子量為目錄登載值。
1-2.具有聚合性雙鍵的化合物（B） 1-2-1.在每一分子中具有兩個以上的聚合性雙鍵的化合物 本發明中所使用的具有聚合性雙鍵的化合物（B）並無特別限定，優選為在每一分子中具有兩個以上的聚合性雙鍵的化合物。
相對於聚酯醯胺酸（A）100重量份而使用了20重量份～300重量份的具有聚合性雙鍵的化合物（B），但若為50重量份～300重量份，則殘膜率變良好而優選。
作為本發明的感光性組成物中所含有的、在每一分子中具有兩個以上的聚合性雙鍵的化合物，可列舉：乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、二乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、三乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、四乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、聚乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、表氯醇改性乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、表氯醇改性二乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、表氯醇改性三乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、表氯醇改性四乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、表氯醇改性聚乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、二丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、三丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、四丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、聚丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、表氯醇改性丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、表氯醇改性二丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、表氯醇改性三丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、表氯醇改性四丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、表氯醇改性聚丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、環氧乙烷改性三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、環氧丙烷改性三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、表氯醇改性三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、二-三羥甲基丙烷四(甲基)丙烯酸酯、甘油(甲基)丙烯酸酯、甘油二(甲基)丙烯酸酯、甘油三(甲基)丙烯酸酯、表氯醇改性甘油三(甲基)丙烯酸酯、1,6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯、表氯醇改性1,6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯、甲氧基化環己基二(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、羥基特戊酸新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、己內酯改性羥基特戊酸新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、二甘油四(甲基)丙烯酸酯、二甘油環氧乙烷改性丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、硬脂酸改性季戊四醇二(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、烷基改性二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、烷基改性二季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、烷基改性二季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、己內酯改性二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、多元酸改性(甲基)丙烯酸寡聚物、烯丙基化環己基二(甲基)丙烯酸酯、雙[(甲基)丙烯醯氧基新戊二醇]己二酸酯、雙酚A二(甲基)丙烯酸酯、環氧乙烷改性雙酚A二(甲基)丙烯酸酯、雙酚F二(甲基)丙烯酸酯、環氧乙烷改性雙酚F二(甲基)丙烯酸酯、雙酚S二(甲基)丙烯酸酯、環氧乙烷改性雙酚S二(甲基)丙烯酸酯、1,4-丁二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,3-丁二醇(甲基)丙烯酸酯、二環戊基二丙烯酸酯、聚酯二丙烯酸酯、聚酯三丙烯酸酯、聚酯四丙烯酸酯、聚酯五丙烯酸酯、聚酯六丙烯酸酯、環氧乙烷改性磷酸二(甲基)丙烯酸酯、環氧乙烷改性磷酸三(甲基)丙烯酸酯、環氧乙烷改性磷酸二(甲基)丙烯酸酯、環氧乙烷改性磷酸三(甲基)丙烯酸酯、表氯醇改性鄰苯二甲酸二(甲基)丙烯酸酯、四溴雙酚A二(甲基)丙烯酸酯、三甘油二(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇改性三羥甲基丙烷二(甲基)丙烯酸酯、異氰脲酸環氧乙烷改性二丙烯酸酯、異氰脲酸環氧乙烷改性三丙烯酸酯、己內酯改性三[(甲基)丙烯醯氧基乙基]異氰脲酸酯、(甲基)丙烯酸基化異氰脲酸酯、苯基縮水甘油醚丙烯酸酯/六亞甲基二異氰酸酯/胺基甲酸酯預聚物、苯基縮水甘油醚丙烯酸酯/甲苯二異氰酸酯/胺基甲酸酯預聚物、季戊四醇三丙烯酸酯/六亞甲基二異氰酸酯/胺基甲酸酯預聚物、季戊四醇三丙烯酸酯/甲苯二異氰酸酯/胺基甲酸酯預聚物、季戊四醇三丙烯酸酯/異佛爾酮二異氰酸酯/胺基甲酸酯預聚物、二季戊四醇五丙烯酸酯/六亞甲基二異氰酸酯/胺基甲酸酯預聚物、無黃變型寡聚胺基甲酸酯丙烯酸酯、苯酚酚醛清漆型環氧樹脂的(甲基)丙烯酸改性物、甲酚酚醛清漆型環氧樹脂的(甲基)丙烯酸改性物、及含羧酸的胺基甲酸酯丙烯酸酯寡聚物等。
在每一分子中具有兩個以上的聚合性雙鍵的化合物可單獨使用所述化合物，也可混合使用兩種以上。
就硬化膜的耐熱性、耐化學品性的觀點而言，在每一分子中具有兩個以上的聚合性雙鍵的化合物中，優選為使用三羥甲基丙烷三丙烯酸酯、季戊四醇三丙烯酸酯、季戊四醇四丙烯酸酯、二季戊四醇五丙烯酸酯、二季戊四醇六丙烯酸酯、多元酸改性(甲基)丙烯酸寡聚物、異氰脲酸環氧乙烷改性二丙烯酸酯、異氰脲酸環氧乙烷改性三丙烯酸酯、或這些的混合物。
作為三羥甲基丙烷三丙烯酸酯、季戊四醇三丙烯酸酯、季戊四醇四丙烯酸酯、二季戊四醇五丙烯酸酯、二季戊四醇六丙烯酸酯、多元酸改性(甲基)丙烯酸寡聚物、異氰脲酸環氧乙烷改性二丙烯酸酯、異氰脲酸環氧乙烷改性三丙烯酸酯、或這些的混合物，可使用下述市售品。
三羥甲基丙烷三丙烯酸酯的具體例為亞羅尼斯（Aronix）M-309（商品名；東亞合成股份有限公司）。季戊四醇三丙烯酸酯及季戊四醇四丙烯酸酯的混合物的具體例為亞羅尼斯（Aronix）M-306（65重量%～70重量%）、M-305（55重量%～63重量%）、及M-450（不足10重量%）（均為商品名；東亞合成股份有限公司，括弧內的含有率為混合物中的季戊四醇三丙烯酸酯的含有率的目錄登載值）。二季戊四醇五丙烯酸酯及二季戊四醇六丙烯酸酯的混合物的具體例為亞羅尼斯（Aronix）M-403（50重量%～60重量%）、M-400（40重量%～50重量%）、M-402（30重量%～40重量%）、M-404（30重量%～40重量%）、M-406（25重量%～35重量%）、及M-405（10重量%～20重量%）（均為商品名；東亞合成股份有限公司，括弧內的含有率為混合物中的二季戊四醇五丙烯酸酯的含有率的目錄登載值）。多元酸改性(甲基)丙烯酸寡聚物的具體例為亞羅尼斯（Aronix）M-510及亞羅尼斯（Aronix）M-520（均為商品名；東亞合成股份有限公司）。異氰脲酸環氧乙烷改性二丙烯酸酯的具體例為亞羅尼斯（Aronix）M-215（商品名；東亞合成股份有限公司）。異氰脲酸環氧乙烷改性二丙烯酸酯及異氰脲酸環氧乙烷改性三丙烯酸酯的混合物的具體例為亞羅尼斯（Aronix）M-315（3重量%～13重量%）（商品名；東亞合成股份有限公司，括弧內的含有率為混合物中的異氰脲酸環氧乙烷改性二丙烯酸酯的含有率的目錄登載值）。苯酚酚醛清漆型環氧樹脂的丙烯酸改性物的具體例為TEA-100（商品名；KSM股份有限公司）。甲酚酚醛清漆型環氧樹脂的丙烯酸改性物的具體例為CNEA-100（商品名；KSM股份有限公司）。
1-2-2.其他具有聚合性雙鍵的化合物 具有聚合性雙鍵的化合物（B）可包含不屬於所述在每一分子中具有兩個以上的聚合性雙鍵的化合物的、其他具有聚合性雙鍵的化合物。作為其他具有聚合性雙鍵的化合物，就解析性的觀點而言，本發明的感光性組成物也可進一步含有在每一分子中具有一個聚合性雙鍵且在每一分子中具有至少一個選自-OH及-COOH中的官能基的化合物。若在每一分子中具有一個聚合性雙鍵且在每一分子中具有至少一個選自-OH及-COOH中的官能基的化合物相對於聚酯醯胺酸100重量份而為1重量份～50重量份，則解析性變良好。
作為此種在每一分子中具有一個聚合性雙鍵且在每一分子中具有至少一個選自-OH及-COOH中的官能基的化合物，例如可列舉：(甲基)丙烯酸、(甲基)丙烯酸羥基乙酯、(甲基)丙烯酸羥基丙酯、(甲基)丙烯酸羥基丁酯、(甲基)丙烯酸-2-羥基-3-苯氧基丙酯、琥珀酸-2-(甲基)丙烯醯基氧基乙酯、六氫鄰苯二甲酸-2-(甲基)丙烯醯基氧基乙酯、鄰苯二甲酸-2-(甲基)丙烯醯基氧基乙酯、鄰苯二甲酸-2-(甲基)丙烯醯基氧基乙基-2-羥基乙酯、(甲基)丙烯酸-4-羥基苯酯、對羥基(甲基)丙烯酸苯胺、(甲基)丙烯酸-4-羥基丁酯、1,4-環己烷二甲醇單(甲基)丙烯酸酯、甘油單(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸-3-(2-羥基苯基)酯、及(甲基)丙烯酸-β-羧基乙酯。
這些化合物中，(甲基)丙烯酸-4-羥基苯酯及對羥基(甲基)丙烯酸苯胺使解析性變良好而優選。
1-3.光聚合起始劑（C） 本發明的感光性組成物中所含有的光聚合起始劑（C）只要可使含有聚酯醯胺酸（A）、具有聚合性雙鍵的化合物（B）、光聚合起始劑（C）、環氧化合物（D）、及環氧硬化劑（E）、無機微粒子（F）的組成物的聚合開始，則並無特別限定。
作為本發明的感光性組成物中所含有的光聚合起始劑（C），可列舉：二苯甲酮、米氏酮、4,4'-雙(二乙基胺基)二苯甲酮、氧雜蒽酮、硫雜蒽酮、異丙基氧雜蒽酮、2,4-二乙基硫雜蒽酮、2-乙基蒽醌、苯乙酮、2-羥基-2-甲基苯丙酮、2-羥基-2-甲基-4'-異丙基苯丙酮、1-羥基環己基苯基酮、異丙基安息香醚、異丁基安息香醚、2,2-二乙氧基苯乙酮、2,2-二甲氧基-2-苯基苯乙酮、樟腦醌、苯並蒽酮、2-甲基-1-[4-(甲硫基)苯基]-2-(4-嗎啉基)-1-丙酮（例如，商品名：豔佳固（IRGACURE）907，日本巴斯夫（BASF Japan）股份有限公司）、2-(二甲基胺基)-1-[4-(4-嗎啉代)苯基]-2-(苯基甲基)-1-丁酮（例如，商品名：豔佳固（IRGACURE）369，日本巴斯夫（BASF Japan）股份有限公司）、4-二甲基胺基苯甲酸乙酯、4-二甲基胺基苯甲酸異戊酯、4,4'-二(第三丁基過氧基羰基)二苯甲酮、3,4,4'-三(第三丁基過氧基羰基)二苯甲酮、1,2-辛二酮,1-[4-(苯硫基)苯基]-,2-(O-苯甲醯基肟)（例如，商品名：豔佳固（IRGACURE）OXE01，日本巴斯夫（BASF Japan）股份有限公司）、乙酮,1-[9-乙基-6-(2-甲基苯甲醯基)-9H-哢唑-3-基]-,1-(O-乙醯基肟)（例如，商品名：豔佳固（IRGACURE）OXE02，日本巴斯夫（BASF Japan）股份有限公司）、豔佳固（IRGACURE）OXE03（商品名；日本巴斯夫（BASF Japan）股份有限公司）、1,2-丙二酮,1-[4-[4-(2-羥基乙氧基)苯基硫]苯基]-2-(O-乙醯基肟)（例如，商品名：艾迪科弧魯茲（Adeka arc Luz）NCI-930，艾迪科（ADEKA）股份有限公司）、艾迪科弧魯茲（Adeka arc Luz）NCI-831（商品名；艾迪科（ADEKA）股份有限公司）、艾迪科奧普托瑪（Adeka Optomer）N-1919（商品名；艾迪科（ADEKA）股份有限公司）、2,4,6-三甲基苯甲醯基二苯基氧化膦、2-(4'-甲氧基苯乙烯基)-4,6-雙(三氯甲基)-均三嗪、2-(3',4'-二甲氧基苯乙烯基)-4,6-雙(三氯甲基)-均三嗪、2-(2',4'-二甲氧基苯乙烯基)-4,6-雙(三氯甲基)-均三嗪、2-(2'-甲氧基苯乙烯基)-4,6-雙(三氯甲基)-均三嗪、2-(4'-戊氧基苯乙烯基)-4,6-雙(三氯甲基)-均三嗪、4-[對-N,N-二(乙氧基羰基甲基)]-2,6-二(三氯甲基)-均三嗪、1,3-雙(三氯甲基)-5-(2'-氯苯基)-均三嗪、1,3-雙(三氯甲基)-5-(4'-甲氧基苯基)-均三嗪、2-(對二甲基胺基苯乙烯基)苯並噁唑、2-(對二甲基胺基苯乙烯基)苯並噻唑、2-巰基苯並噻唑、3,3'-羰基雙(7-二乙基胺基香豆素)、2-(鄰氯苯基)-4,4',5,5'-四苯基-1,2'-聯咪唑、2,2'-雙(2-氯苯基)-4,4',5,5'-四(4-乙氧基羰基苯基)-1,2'-聯咪唑、2,2'-雙(2,4-二氯苯基)-4,4',5,5'-四苯基-1,2'-聯咪唑、2,2'-雙(2,4-二溴苯基)-4,4',5,5'-四苯基-1,2'-聯咪唑、2,2'-雙(2,4,6-三氯苯基)-4,4',5,5'-四苯基-1,2'-聯咪唑、3-(2-甲基-2-二甲基胺基丙醯基)哢唑、3,6-雙(2-甲基-2-嗎啉代丙醯基)-9-正十二烷基哢唑、1-羥基環己基苯基酮及雙(η5 -2,4-環戊二烯-1-基)-雙(2,6-二氟-3-(1H-吡咯-1-基)-苯基)鈦等。
光聚合起始劑（C）可單獨使用，也可混合使用兩種以上。光聚合起始劑（C）中，就曝光時塗膜的感度及硬化膜的透明性的觀點而言，優選為α-胺基苯烷基酮系、醯基氧化膦系、肟酯系光聚合起始劑。再者，在本說明書中，將對利用旋塗、印刷及其他方法而形成於基板上的感光性組成物的薄膜進行預乾燥（預烘烤）而獲得的薄膜稱為「塗膜」。所述塗膜在經過其後的曝光-顯影-清洗-乾燥等步驟後，通過正式煆燒（後烘烤）而形成硬化膜。在本說明書中，將自所述預乾燥至乾燥的步驟中的薄膜均稱為「塗膜」，並通過例如「曝光時的塗膜」、「顯影後的塗膜」等表述來表示是成膜步驟的哪一階段的塗膜。
就塗膜的感度及硬化膜的透明性的觀點而言，在光聚合起始劑（C）中，更優選為1,2-辛二酮,1-[4-(苯硫基)苯基]-,2-(O-苯甲醯基肟)或1,2-丙二酮,1-[4-[4-(2-羥基乙氧基)苯基硫]苯基]-2-(O-乙醯基肟)相對於光聚合起始劑的總重量而為20重量%以上。另外，若為50重量%以上，則進一步優選。光聚合起始劑也可僅包含1,2-辛二酮,1-[4-(苯硫基)苯基]-,2-(O-苯甲醯基肟)或1,2-丙二酮,1-[4-[4-(2-羥基乙氧基)苯基硫]苯基]-2-(O-乙醯基肟)。
1-4.環氧化合物（D） 本發明中所使用的環氧化合物（D）在每一分子中包含2個～10個環氧基。通過在本發明的感光性組成物中添加環氧化合物（D），可提高硬化膜的耐熱性。若環氧化合物（D）相對於聚酯醯胺酸（A）100重量份而為20重量份～200重量份，則平坦性變良好。
作為環氧化合物（D）的優選例，可列舉：3,4-環氧環己烷羧酸-3',4'-環氧環己基甲酯（例如，商品名：賽羅西德（Celloxide）2021P，大賽璐（Daicel）股份有限公司）、1-甲基-4-(2-甲基氧雜環丙基)-7-氧雜雙環[4.1.0]庚烷（例如，商品名：賽羅西德（Celloxide）3000，大賽璐（Daicel）股份有限公司）、2-[4-(2,3-環氧丙氧基)苯基]-2-[4-[1,1-雙[4-(2,3-環氧丙氧基)苯基]乙基]苯基]丙烷與1,3-雙[4-[1-[4-(2,3-環氧丙氧基)苯基]-1-[4-[1-[4-(2,3-環氧丙氧基)苯基]-1-甲基乙基]苯基]乙基]苯氧基]-2-丙醇的混合物（例如，商品名：泰克莫（TECHMORE）VG3101L，普林泰克（Printec）股份有限公司）、2-[4-(2,3-環氧丙氧基)苯基]-2-[4-[1,1-雙[4-(2,3-環氧丙氧基)苯基]乙基]苯基]丙烷、1,1,1-三(4-羥基苯基)乙烷三縮水甘油醚（例如，商品名：jER 1032H60，三菱化學股份有限公司）、1,3-雙(氧雜環丙基甲基)-5-(2-丙烯基)-1,3,5-三嗪-2,4,6(1H,3H,5H)-三酮、2,2-雙(羥基甲基)-1-丁醇的1,2-環氧基-4-(2-氧雜環丙基)環己烷加成物（例如，商品名：EHPE3150，大賽璐（Daicel）股份有限公司）等。
1-5.環氧硬化劑（E） 本發明的感光性組成物中可使用環氧硬化劑（E）以使平坦性、耐化學品性提高。作為環氧硬化劑（E），存在有酸酐系硬化劑、胺系硬化劑、酚系硬化劑、咪唑系硬化劑、催化劑型硬化劑、及鋶鹽、苯並噻唑鎓鹽、銨鹽、鏻鹽等感熱性酸產生劑等，就避免硬化膜的著色及硬化膜的耐熱性的觀點而言，優選酸酐系硬化劑或咪唑系硬化劑。
作為酸酐系硬化劑的具體例，可列舉：脂肪族二羧酸酐，例如馬來酸酐、四氫鄰苯二甲酸酐、六氫鄰苯二甲酸酐、甲基六氫鄰苯二甲酸酐、六氫偏苯三酸酐等，芳香族多元羧酸酐，例如鄰苯二甲酸酐、偏苯三酸酐等。這些酸酐系硬化劑中，特別優選為可使硬化膜的耐熱性提高且不會有損感光性組成物相對於溶劑的溶解性的偏苯三酸酐及六氫偏苯三酸酐。
作為咪唑系硬化劑的具體例，可列舉：2-十一烷基咪唑、2-十七烷基咪唑、2-苯基咪唑、2-苯基-4-甲基咪唑、2,3-二氫-1H-吡咯並[1,2-a]苯並咪唑、1-氰基乙基-2-十一烷基咪唑鎓偏苯三酸鹽。這些咪唑系硬化劑中，特別優選為可使硬化膜的硬化性提高且不會有損感光性組成物相對於溶劑的溶解性的2-十一烷基咪唑。
1-6.無機微粒子（F） 無機微粒子（F）並無特別限定，可列舉：Si、Al、Mg、Ca、Sc、Ti、V、Cr、Mn、Fe、Co、Ni、Cu、Zn、Ga、Ge、As、Se、Rb、Sr、Y、Zr、Nb、Mo、Tc、Ru、Ag、In、Sn、Sb、Te、Cs、Ba、Hf、Ta、W、Re、La、Ce、Pr、Nd、Pm、Sm、Eu、Gd、Tb、Dy、Ho、Er、Tm、Yb、Lu等的氧化物、硫酸鹽、碳酸鹽、氟化物等簡單鹽，或者複鹽（MgAl2 O4 等）。
作為無機微粒子（F），優選為這些中的週期表第4族元素的氧化物粒子，另外，通過添加折射率高的微粒子，可進一步提高所獲得的硬化膜的折射率。作為其具體例，可列舉氧化鈦、氧化鋯、氧化鉿及這些金屬氧化物與氧化矽或氧化錫的複合粒子，就提高所獲得的硬化膜的折射率的效果的方面而言，優選為氧化鈦及氧化鋯。
氧化鈦具有光催化劑活性，因此，為了用於光學用途，優選為由氧化矽被覆粒子表面。另外，氧化鈦根據結晶型的不同而存在有銳鈦礦型與金紅石型，就折射率高、耐光性優異而言，優選為金紅石型。
當光入射至在感光性組成物中分散有無機微粒子（F）的組成物時，會發生由分散粒子引起的瑞利散射（Rayleigh scattering），若減小所述瑞利散射，則所照射的光可不發生散射地透射過組成物中。例如，在使組成物硬化而製作電子裝置的密封劑等的情況下，可提高如上所述的光匯出效率。另外，在使組成物硬化而製作光波導的情況下，在光波導中傳輸的光信號的散射少，因此，光波導的光傳輸損失減少。瑞利散射與分散粒子的粒徑的三倍成比例，因此，為了抑制所述散射，優選為組成物中的無機微粒子（F）的一次粒徑較小。
感光性組成物中的無機微粒子（F）的一次粒徑為1 nm以上，以防止無機微粒子（F）的二次凝聚所引起的硬化膜的白化，且為100 nm以下，以使薄膜形成時的表面均勻性優異。一次粒徑優選為1 nm～50 nm，更優選為5 nm～15 nm。組成物中的無機微粒子（F）存在處於凝聚完全散開的一次粒子的狀態者、以及處於多個一次粒子凝聚在一起的狀態者。此處，所謂無機微粒子（F）的一次粒徑，是指未凝聚的粒子的粒徑，一次粒子凝聚而成的凝聚體的粒徑為凝聚粒徑。作為對組成物中的無機微粒子（F）的一次粒徑進行測定的方法，可列舉利用掃描式電子顯微鏡（Scanning Electron Microscope，SEM）或透射式電子顯微鏡（Transmission Electron Microscope，TEM）直接對粒子進行觀察的方法，或利用光散射法進行測定的方法。
無機微粒子（F）的折射率（並非作為奈米粒子而是作為整體材料的折射率nD）為1.6～3.5，優選為1.8～3.0，更優選為2.0～2.8。
無機微粒子（F）可為粉體狀，也可為溶媒分散體。作為分散介質，例如可列舉：甲醇、甲基乙基酮、甲基異丁基酮、環己酮、N-甲基-2-吡咯烷酮、丙二醇單甲醚等。
作為可用作無機微粒子（F）的市售品的例子，例如可列舉：氧化鈦納米填料分散液（帝化（Tayca）公司製造的ND-139，禦國色素公司製造的C007M等）、氧化鋯納米填料分散液（禦國色素公司製造的MHI B642M、禦國色素公司製造的B943M、索拉（Solar）（股）製造的ZR-011等）、氧化矽被覆銳鈦礦型氧化鈦-甲醇分散溶膠（催化劑化成工業公司製造，奧普托雷克（Optolake）系列）、氧化矽被覆-含氧化錫的金紅石型氧化鈦-甲醇分散溶膠（帝化（Tayca）公司製造，TS系列）、氧化鋯-甲基乙基酮分散溶膠（大阪水泥（Osaka Cement）公司製造，HXU-120JC）等。
無機微粒子（F）的含量相對於聚酯醯胺酸（A）100重量份而為30重量份～300重量份。為了使所獲得的硬化物的折射率為下述所期望的範圍，無機微粒子（F）的含量為30重量份以上。另外，在利用光顯影法（photolithography method）進行圖案加工的情況下，為了使所獲得的硬化物的殘膜率適當，無機微粒子（F）的含量為400重量份以下。
將感光性組成物製成硬化膜的情況下的折射率（nD）為1.6～3.0。優選為1.6～2.0，更優選為1.6～1.8。折射率（nD）為相對於鈉的D射線、波長589.3 nm的光的折射率，測定方法如實施例所示。
1-7.其他成分 本發明的感光性組成物中，可添加各種添加劑以提高塗布均勻性、黏接性、透明性、解析性、平坦性、及耐化學品性。添加劑主要可列舉：陰離子系、陽離子系、非離子系、氟系或矽系的表面活性劑，偶合劑，受阻酚系、受阻胺系、磷系、硫系化合物等抗氧化劑，分子量調整劑、紫外線吸收劑、防凝聚劑、熱交聯劑、光酸產生劑、溶劑。
1-7-1.表面活性劑 本發明的感光性組成物中可添加表面活性劑以提高塗布均勻性。關於表面活性劑的具體例，可列舉：波利弗洛（Polyflow）No.75、波利弗洛（Polyflow）No.90、波利弗洛（Polyflow）No.95（均為商品名；共榮社化學股份有限公司）、迪斯帕畢克（Disperbyk）161、迪斯帕畢克（Disperbyk）162、迪斯帕畢克（Disperbyk）163、迪斯帕畢克（Disperbyk）164、迪斯帕畢克（Disperbyk）166、迪斯帕畢克（Disperbyk）170、迪斯帕畢克（Disperbyk）180、迪斯帕畢克（Disperbyk）181、迪斯帕畢克（Disperbyk）182、畢克（BYK）-300、畢克（BYK）-306、畢克（BYK）-310、畢克（BYK）-320、畢克（BYK）-330、畢克（BYK）-342、畢克（BYK）-346、畢克（BYK）-361N、畢克（BYK）-UV3500、畢克（BYK）-UV3570（均為商品名；日本畢克化學（BYK Chemie Japan）股份有限公司）、KP-341、KP-368、KF-96-50CS、KF-50-100CS（均為商品名；信越化學工業股份有限公司）、沙福隆（Surflon）-S611（商品名；AGC清美化學（AGC Seimi Chemical）股份有限公司）、福吉特（Ftergent）222F、福吉特（Ftergent）208G、福吉特（Ftergent）251、福吉特（Ftergent）710FL、福吉特（Ftergent）710FM、福吉特（Ftergent）710FS、福吉特（Ftergent）601AD、福吉特（Ftergent）650A、、FTX-218（均為商品名；尼奧斯（Neos）股份有限公司）、美佳法（Megafac）F-410、美佳法（Megafac）F-430、美佳法（Megafac）F-444、美佳法（Megafac）F-472SF、美佳法（Megafac）F-475、美佳法（Megafac）F-477、美佳法（Megafac）F-552、美佳法（Megafac）F-553、美佳法（Megafac）F-554、美佳法（Megafac）F-555、美佳法（Megafac）F-556、美佳法（Megafac）F-558、美佳法（Megafac）F-559、美佳法（Megafac）R-94、美佳法（Megafac）RS-75、美佳法（Megafac）RS-72-K、美佳法（Megafac）RS-76-NS、美佳法（Megafac）DS-21（均為商品名；迪愛生（DIC）股份有限公司）、迪高屯（TEGO Twin）4000、迪高屯（TEGO Twin）4100、迪高弗洛（TEGO Flow）370、迪高格萊德（TEGO Glide）440、迪高格萊德（TEGO Glide）450、迪高拉德（TEGO Rad）2200N（均為商品名；日本贏創（Evonik Japan）股份有限公司）、氟烷基苯磺酸鹽、氟烷基羧酸鹽、氟烷基聚氧乙烯醚、氟烷基碘化銨、氟烷基甜菜鹼、氟烷基磺酸鹽、二甘油四(氟烷基聚氧乙烯醚)、氟烷基三甲基銨鹽、氟烷基胺基磺酸鹽、聚氧乙烯壬基苯基醚、聚氧乙烯辛基苯基醚、聚氧乙烯烷基醚、聚氧乙烯月桂基醚、聚氧乙烯油烯基醚、聚氧乙烯十三烷基醚、聚氧乙烯鯨蠟基醚、聚氧乙烯硬脂基醚、聚氧乙烯月桂酸酯、聚氧乙烯油酸酯、聚氧乙烯硬脂酸酯、聚氧乙烯月桂基胺、山梨醇酐月桂酸酯、山梨醇酐棕櫚酸酯、山梨醇酐硬脂酸酯、山梨醇酐油酸酯、山梨醇酐脂肪酸酯、聚氧乙烯山梨醇酐月桂酸酯、聚氧乙烯山梨醇酐棕櫚酸酯、聚氧乙烯山梨醇酐硬脂酸酯、聚氧乙烯山梨醇酐油酸酯、聚氧乙烯萘基醚、烷基苯磺酸鹽、及烷基二苯基醚二磺酸鹽。優選為使用選自這些表面活性劑中的至少一種。
這些表面活性劑中，若為選自畢克（BYK）-306、畢克（BYK）-342、畢克（BYK）-346、KP-341、KP-368、沙福隆（Surflon）-S611、福吉特（Ftergent）710FL、福吉特（Ftergent）710FM、福吉特（Ftergent）710FS、福吉特（Ftergent）601AD、福吉特（Ftergent）650A、美佳法（Megafac）F-477、美佳法（Megafac）F-556、美佳法（Megafac）F-559、美佳法（Megafac）RS-72-K、美佳法（Megafac）DS-21、迪高屯（TEGO Twin）4000、氟烷基苯磺酸鹽、氟烷基羧酸鹽、氟烷基聚氧乙烯醚、氟烷基磺酸鹽、氟烷基三甲基銨鹽、及氟烷基胺基磺酸鹽中的至少一種，則感光性組成物的塗布均勻性變高，因此優選。
本發明的感光性組成物中的表面活性劑的含量相對於感光性組成物全量而優選為0.01重量%～10重量%。
1-7-2.偶合劑 就使所形成的硬化膜與基板的密接性進一步提高的觀點而言，本發明的感光性組成物還可進一步含有偶合劑。
作為此種偶合劑，例如可使用矽烷系、鋁系或鈦酸酯系的偶合劑。具體而言，可列舉：3-縮水甘油氧基丙基二甲基乙氧基矽烷、3-縮水甘油氧基丙基甲基二乙氧基矽烷、3-縮水甘油氧基丙基三甲氧基矽烷（例如，商品名：薩拉艾斯（Sila-Ace）S510，捷恩智（JNC）股份有限公司）、2-(3,4-環氧環己基)乙基三甲氧基矽烷（例如，商品名：薩拉艾斯（Sila-Ace）S530，捷恩智（JNC）股份有限公司）、3-巰基丙基三甲氧基矽烷（例如，商品名：薩拉艾斯（Sila-Ace）S810，捷恩智（JNC）股份有限公司）、3-縮水甘油氧基丙基三甲氧基矽烷的聚合物（例如，商品名：考特奧斯陸（COATOSIL）MP 200，邁圖高新材料（Momentive Performance Materials）有限責任公司）等矽烷系偶合劑，乙醯烷氧基二異丙醇鋁等鋁系偶合劑、及四異丙基雙(二辛基亞磷酸酯)鈦酸酯等鈦酸酯系偶合劑。
這些偶合劑中，3-縮水甘油氧基丙基三甲氧基矽烷使密接性提高的效果大，因此優選。
偶合劑的含量相對於感光性組成物全量而為0.01重量%以上且10重量%以下的情況會提高所形成的硬化膜與基板的密接性，因此優選。
1-7-3.抗氧化劑 就提高透明性、防止硬化膜暴露在高溫的情況下的黃變的觀點而言，本發明的感光性組成物還可進一步含有抗氧化劑。
本發明的感光性組成物中可添加受阻酚系、受阻胺系、磷系、硫系化合物等抗氧化劑。其中，就耐候性的觀點而言，優選為受阻酚系。作為具體例，可列舉：易璐佳諾斯（Irganox）1010、易璐佳諾斯（Irganox）1010FF、易璐佳諾斯（Irganox）1035、易璐佳諾斯（Irganox）1035FF、易璐佳諾斯（Irganox）1076、易璐佳諾斯（Irganox）1076FD、易璐佳諾斯（Irganox）1098、易璐佳諾斯（Irganox）1135、易璐佳諾斯（Irganox）1330、易璐佳諾斯（Irganox）1726、易璐佳諾斯（Irganox）1425 WL、易璐佳諾斯（Irganox）1520L、易璐佳諾斯（Irganox）245、易璐佳諾斯（Irganox）245FF、易璐佳諾斯（Irganox）259、易璐佳諾斯（Irganox）3114、易璐佳諾斯（Irganox）565（均為商品名；日本巴斯夫（BASF Japan）股份有限公司）、艾迪科斯塔波（ADK STAB）AO-20、艾迪科斯塔波（ADK STAB）AO-30、艾迪科斯塔波（ADK STAB）AO-50、艾迪科斯塔波（ADK STAB）AO-60、艾迪科斯塔波（ADK STAB）AO-80（均為商品名；艾迪科（ADEKA）股份有限公司）。其中，更優選為易璐佳諾斯（Irganox）1010、艾迪科斯塔波（ADK STAB）AO-60。
相對於感光性組成物全量，添加0.1重量份～10重量份的抗氧化劑而使用。
1-7-4.分子量調整劑 本發明的感光性組成物還可進一步含有分子量調整劑，以抑制因聚合而分子量變高，且表現出優異的解析性。作為分子量調整劑，可列舉：硫醇類、黃原酸類、醌類、氫醌類、酚類、兒茶酚類、甲酚類、2,4-二苯基-4-甲基-1-戊烯、吩噻嗪等。
作為分子量調整劑的具體例，可列舉：1,4-萘醌、1,2-苯醌、1,4-苯醌、甲基-對苯醌、蒽醌、氫醌、甲基氫醌、第三丁基氫醌、2,5-二-第三丁基氫醌、2,5-二-第三戊基氫醌、1,4-二羥基萘、3,6-二羥基苯並降冰片烷、4-甲氧基苯酚、2,2',6,6'-四-第三丁基-4,4'-二羥基聯苯、3-(3,5-二-第三丁基-4-羥基苯基)丙酸硬脂酸酯、2,2'-亞甲基雙(6-第三丁基-4-乙基苯酚)、2,4,6-三(3',5'-二-第三丁基-4'-羥基苄基)均三甲苯、季戊四醇四[3-(3,5-二-第三丁基4-羥基苯基)丙酸酯]、4-第三丁基鄰苯二酚、正己基硫醇、正辛基硫醇、正十二基硫醇、第三十二基硫醇、硫代乙醇酸、硫化二甲基黃原酸酯、二硫化二異丙基黃原酸酯、2,6-二-第三丁基對甲酚、4,4'-亞丁基雙(6-第三丁基間甲酚)、4,4'-硫代雙(6-第三丁基間甲酚)、2,4-二苯基-4-甲基-1-戊烯、吩噻嗪、2-羥基-1,4-萘醌等。
1-7-5.紫外線吸收劑 就進一步提高所形成的圖案狀透明膜的劣化抑制能力的觀點而言，本發明的感光性組成物還可包含紫外線吸收劑。
紫外線吸收劑的具體例為帝奴彬（TINUVIN）P、帝奴彬（TINUVIN）120、帝奴彬（TINUVIN）144、帝奴彬（TINUVIN）213、帝奴彬（TINUVIN）234、帝奴彬（TINUVIN）326、帝奴彬（TINUVIN）571、帝奴彬（TINUVIN）765（均為商品名；日本巴斯夫（BASF Japan）股份有限公司）。
相對於感光性組成物全量，添加0.01重量份～10重量份的紫外線吸收劑而使用。
1-7-6.防凝聚劑 就不使固體成分與溶劑融合、防止凝聚的觀點而言，本發明的感光性組成物還可包含防凝聚劑。
防凝聚劑的具體例為迪斯帕畢克（Disperbyk）-145、迪斯帕畢克（Disperbyk）-161、迪斯帕畢克（Disperbyk）-162、迪斯帕畢克（Disperbyk）-163、迪斯帕畢克（Disperbyk）-164、迪斯帕畢克（Disperbyk）-182、迪斯帕畢克（Disperbyk）-184、迪斯帕畢克（Disperbyk）-185、迪斯帕畢克（Disperbyk）-2163、迪斯帕畢克（Disperbyk）-2164、畢克（BYK）-220S、迪斯帕畢克（Disperbyk）-191、迪斯帕畢克（Disperbyk）-199、迪斯帕畢克（Disperbyk）-2015（均為商品名；日本畢克化學（BYK Chemie Japan）股份有限公司），FTX-218、福吉特（Ftergent）710FM、福吉特（Ftergent）710FS（均為商品名；尼奧斯（Neos）股份有限公司）、弗洛倫（Flowlen）G-600、弗洛倫（Flowlen）G-700（均為商品名；共榮社化學股份有限公司）。
相對於感光性組成物全量，添加0.01重量份～10重量份的防凝聚劑而使用。
1-7-7.熱交聯劑 就進一步提高耐熱性、耐化學品性、膜面內均勻性、可撓性、柔軟性、彈性的觀點而言，本發明的感光性組成物還可包含熱交聯劑。
熱交聯劑的具體例為尼卡拉克（Nikalac）MW-30HM、尼卡拉克（Nikalac）MW-100LM、尼卡拉克（Nikalac）MX-270、尼卡拉克（Nikalac）MX-280、尼卡拉克（Nikalac）MX-290、尼卡拉克（Nikalac）MW-390、尼卡拉克（Nikalac）MW-750LM（均為商品名；三和化學股份有限公司）。
相對於感光性組成物全量，添加0.1重量份～10重量份的熱交聯劑而使用。
1-7-8.光酸產生劑 就提高解析度的觀點而言，本發明的感光性組成物還可包含光酸產生劑。作為光酸產生劑，可使用1,2-醌二疊氮化合物。
1,2-醌二疊氮化合物的具體例為：2,3,4-三羥基二苯甲酮-1,2-萘醌二疊氮-4-磺酸酯、2,3,4-三羥基二苯甲酮-1,2-萘醌二疊氮-5-磺酸酯、2,4,6-三羥基二苯甲酮-1,2-萘醌二疊氮-4-磺酸酯、2,4,6-三羥基二苯甲酮-1,2-萘醌二疊氮-5-磺酸酯； 2,2',4,4'-四羥基二苯甲酮-1,2-萘醌二疊氮-4-磺酸酯、2,2',4,4'-四羥基二苯甲酮-1,2-萘醌二疊氮-5-磺酸酯、2,3,3',4-四羥基二苯甲酮-1,2-萘醌二疊氮-4-磺酸酯、2,3,3',4-四羥基二苯甲酮-1,2-萘醌二疊氮-5-磺酸酯、2,3,4,4'-四羥基二苯甲酮-1,2-萘醌二疊氮-4-磺酸酯、2,3,4,4'-四羥基二苯甲酮-1,2-萘醌二疊氮-5-磺酸酯； 雙(2,4-二羥基苯基)甲烷-1,2-萘醌二疊氮-4-磺酸酯、雙(2,4-二羥基苯基)甲烷-1,2-萘醌二疊氮-5-磺酸酯； 雙(對羥基苯基)甲烷-1,2-萘醌二疊氮-4-磺酸酯、雙(對羥基苯基)甲烷-1,2-萘醌二疊氮-5-磺酸酯； 三(對羥基苯基)甲烷-1,2-萘醌二疊氮-4-磺酸酯、三(對羥基苯基)甲烷-1,2-萘醌二疊氮-5-磺酸酯、1,1,1-三(對羥基苯基)乙烷-1,2-萘醌二疊氮-4-磺酸酯、1,1,1-三(對羥基苯基)乙烷-1,2-萘醌二疊氮-5-磺酸酯； 雙(2,3,4-三羥基苯基)甲烷-1,2-萘醌二疊氮-4-磺酸酯、雙(2,3,4-三羥基苯基)甲烷-1,2-萘醌二疊氮-5-磺酸酯、2,2-雙(2,3,4-三羥基苯基)丙烷-1,2-萘醌二疊氮-4-磺酸酯、2,2-雙(2,3,4-三羥基苯基)丙烷-1,2-萘醌二疊氮-5-磺酸酯； 1,1,3-三(2,5-二甲基-4-羥基苯基)-3-苯基丙烷-1,2-萘醌二疊氮-4-磺酸酯、1,1,3-三(2,5-二甲基-4-羥基苯基)-3-苯基丙烷-1,2-萘醌二疊氮-5-磺酸酯； 4,4'-[1-[4-[1-[4-羥基苯基]-1-甲基乙基]苯基]亞乙基]雙酚-1,2-萘醌二疊氮-4-磺酸酯、4,4'-[1-[4-[1-[4-羥基苯基]-1-甲基乙基]苯基]亞乙基]雙酚-1,2-萘醌二疊氮-5-磺酸酯； 雙(2,5-二甲基-4-羥基苯基)-2-羥基苯基甲烷-1,2-萘醌二疊氮-4-磺酸酯、雙(2,5-二甲基-4-羥基苯基)-2-羥基苯基甲烷-1,2-萘醌二疊氮-5-磺酸酯； 3,3,3',3'-四甲基-1,1'-螺二茚-5,6,7,5',6',7'-己醇-1,2-萘醌二疊氮-4-磺酸酯、3,3,3',3'-四甲基-1,1'-螺二茚-5,6,7,5',6',7'-己醇-1,2-萘醌二疊氮-5-磺酸酯； 2,2,4-三甲基-7,2',4'-三羥基黃烷（flavane）-1,2-萘醌二疊氮-4-磺酸酯、及2,2,4-三甲基-7,2',4'-三羥基黃烷-1,2-萘醌二疊氮-5-磺酸酯。
相對於感光性組成物全量，添加0.01重量份～10重量份的光酸產生劑而使用。
1-8.溶劑 本發明的感光性組成物中也可添加溶劑。本發明的感光性組成物中所任意添加的溶劑優選為可溶解聚酯醯胺酸（A）、具有聚合性雙鍵的化合物（B）、光聚合起始劑（C）、環氧化合物（D）等的溶劑。所述溶劑的具體例為乙酸乙酯、乙酸丁酯、乙酸丙酯、丙酸丁酯、乳酸乙酯、甲氧基乙酸甲酯、甲氧基乙酸乙酯、甲氧基乙酸丁酯、乙氧基乙酸甲酯、乙氧基乙酸乙酯、乙酸-3-甲氧基丁酯、3-氧基丙酸甲酯、3-羥基丙酸乙酯、3-甲氧基丙酸甲酯、3-甲氧基丙酸乙酯、3-乙氧基丙酸甲酯、3-乙氧基丙酸乙酯、2-羥基丙酸甲酯、2-羥基丙酸丙酯、2-甲氧基丙酸甲酯、2-甲氧基丙酸乙酯、2-甲氧基丙酸丙酯、2-乙氧基丙酸甲酯、2-乙氧基丙酸乙酯、2-羥基-2-甲基丙酸甲酯、2-羥基-2-甲基丙酸乙酯、2-甲氧基-2-甲基丙酸甲酯、2-乙氧基-2-甲基丙酸乙酯、丙酮酸甲酯、丙酮酸乙酯、丙酮酸丙酯、乙醯乙酸甲酯、乙醯乙酸乙酯、2-氧代丁酸甲酯、2-氧代丁酸乙酯、4-羥基-4-甲基-2-戊酮、1,4-丁二醇、丙二醇單甲醚、丙二醇單甲醚乙酸酯、丙二醇單乙醚乙酸酯、丙二醇單丙醚乙酸酯、乙二醇單丁醚乙酸酯、環己酮、環戊酮、二乙二醇單甲醚、二乙二醇單乙醚、二乙二醇單丁醚、二乙二醇單甲醚乙酸酯、二乙二醇單乙醚乙酸酯、二乙二醇單丁醚乙酸酯、二乙二醇二甲醚、二乙二醇二乙醚、及二乙二醇甲基乙基醚。溶劑可為這些具體例的一種，也可為這些具體例的兩種以上的混合物。
2.感光性組成物的保存 本發明的感光性組成物若在-30℃～25℃的範圍內保存，則使組成物的經時穩定性變良好而優選。若保存溫度為-20℃～10℃，則也不會具有析出物而更優選。
3.由感光性組成物所獲得的硬化膜 本發明的感光性組成物可通過如下方式而獲得：將聚酯醯胺酸（A）、具有聚合性雙鍵的化合物（B）、光聚合起始劑（C）、環氧化合物（D）、環氧硬化劑（E）及無機微粒子（F）加以混合，根據目標特性，進一步視需要而選擇性添加溶劑、偶合劑、表面活性劑、及其他添加劑，將這些化合物均勻地混合溶解。
若將如上所述而製備的感光性組成物（並無溶劑的固體狀態的情況下，溶解在溶劑中之後）塗布在基體表面上，通過例如加熱等而將溶劑除去，則可形成塗膜。在基體表面塗布感光性組成物可使用旋塗法、輥塗法、浸漬法、柔版印刷法、噴霧法、及狹縫塗布法等現有公知的方法。接著，利用加熱板（hot plate）或烘箱（oven）等對所述塗膜進行加熱（預烘烤）。加熱條件因各成分的種類及調配比例而異，通常為70℃～150℃，若是烘箱則為5分鐘～15分鐘，若是加熱板則為1分鐘～5分鐘。
其後，隔著所期望的圖案形狀的罩幕對塗膜照射紫外線。紫外線照射量以i射線計適宜為5 mJ/cm2 ～1000 mJ/cm2 。經紫外線照射的感光性組成物通過具有聚合性雙鍵的化合物（B）的聚合而成為三維交聯體，在鹼性顯影液中不溶化。
接著，通過噴淋顯影、噴霧顯影、覆液顯影、浸漬顯影等而將塗膜浸漬於鹼性顯影液中，將不需要的部分溶解除去。鹼性顯影液的具體例為碳酸鈉、氫氧化鈉、氫氧化鉀等無機鹼類的水溶液，以及氫氧化四甲基銨、氫氧化四乙基銨等有機鹼類的水溶液。另外，也可在所述鹼性顯影液中添加適當量的甲醇、乙醇、及表面活性劑等而使用。
最後，為了使塗膜完全硬化，可通過加熱處理而獲得硬化膜，所述加熱處理是在180℃～250℃、優選為200℃～250℃下，若為烘箱則進行30分鐘～90分鐘，若為加熱板則進行5分鐘～30分鐘。
如上所述而獲得的硬化膜在加熱時，進而1）聚酯醯胺酸（A）的聚醯胺酸部分脫水環化而形成醯亞胺鍵，及2）聚酯醯胺酸（A）的羧酸與含環氧基的聚合物反應而高分子量化，因此非常強韌，且透明性、耐熱性、耐化學品性、平坦性、密接性、耐光性、及耐濺射性優異。另外，所述硬化膜在顯影後具有良好的殘膜率。因此，本發明的硬化膜若用作彩色濾光片用的保護膜則有效，可使用所述彩色濾光片來製造液晶顯示元件或固體攝像元件。另外，除了彩色濾光片用的保護膜以外，本發明的硬化膜若用作形成在TFT與透明電極之間的透明絕緣膜或形成在透明電極與配向膜之間的透明絕緣膜、發光二極體（Light Emitting Diode，LED）發光體的保護膜則也有效。進而，本發明的硬化膜具有高折射率，從而用作有機EL元件用的光波導也有效。
本發明的電子裝置為具有帶有所述硬化膜的基板的電子裝置。通過利用帶有本發明的硬化膜的基板，可獲得可撓性的電子裝置。
由本發明的感光性組成物所獲得的硬化物為高折射率，因此可優選地用於光波導。光波導形成在電子設備等的電路基板上，具有對基板上所安裝的積體電路（Integrated Circuit，IC）間的光信號進行傳送的功能。光波導包括傳輸光信號的芯部、以及包圍芯部且折射率較芯部低的包覆層（cladding）部。光波導中存在有通道型光波導、板（slab）型光波導等，所述通道型光波導具有包覆層部包圍線狀的芯部的周圍的結構，所述板型光波導具有層狀的包覆層部覆蓋層狀的芯部的上下的結構，由本發明的感光性組成物所獲得的硬化物可用於任一類型中，另外，可用於芯部與包覆層部兩者中，也可用於僅任一者中。
光波導的包覆層部及芯部的折射率或厚度可根據所設計的光波導任意地選擇。在多模（multi mode）光波導的情況下，適宜的是增大芯部與包覆層部的折射率差，加厚芯部。在單模（single mode）光波導的情況下，減小芯部與包覆層部的折射率差，減薄芯部，以實現單模傳輸。 [實施例]
繼而，通過合成例、參考例、實施例、及比較例對本發明加以具體的說明，但本發明並不受這些實施例任何限定。
關於表1～表2中的各成分的簡稱， ODPA為3,3',4,4'-二苯基醚四羧酸二酐、 BT-100為1,2,3,4-丁烷四羧酸二酐、 SMA1000P為苯乙烯-馬來酸酐共聚物（商品名；川原油化股份有限公司）、 MEHQ為4-甲氧基苯酚（對苯二酚單甲醚）、 環氧酯（Epoxy Ester）70PA為丙二醇二縮水甘油醚的丙烯酸改性物（商品名；共榮社化學股份有限公司）、 DDS為3,3'-二胺基二苯基碸、 M-520為具有聚合性雙鍵的化合物 亞羅尼斯（Aronix）M-520（商品名；東亞合成股份有限公司）、 NCI-930為光聚合起始劑 艾迪科弧魯茲（Adeka arc Luz）NCI-930（商品名；艾迪科（ADEKA）股份有限公司）、 VG3101L為環氧化合物 泰克莫（Techmore）VG3101L（商品名；普林泰克（Printec）股份有限公司）、 TMA為環氧硬化劑 偏苯三酸酐、 ND-139為無機微粒子（商品名；帝化（Tayca）股份有限公司）、 S510為偶合劑 薩拉艾斯（Sila-Ace）S510（商品名；捷恩智（JNC）股份有限公司）、 AO-60為抗氧化劑 艾迪科斯塔波（ADK STAB）AO-60（商品名；艾迪科（ADEKA）股份有限公司）、 畢克（BYK）-342為表面活性劑 畢克（BYK）-342（商品名；日本畢克化學（BYK-Chemie Japan）股份有限公司）、 PGMEA為溶劑 丙二醇單甲醚乙酸酯、 PGME為溶劑 丙二醇單甲醚、 EDM為溶劑 二乙二醇乙基甲基醚。
[合成例1]聚酯醯胺酸（A1）溶液的合成 在帶有攪拌機的四口燒瓶中，以下述重量依序裝入經脫水純化的PGMEA、BT-100、SMA1000P、苄醇、1,4-丁二醇，在乾燥氮氣流下、125℃下進行3小時攪拌。 PGMEA 42.81 g BT-100 3.04 g SMA1000P 14.45 g 苄醇 4.64 g 1,4-丁二醇 0.92 g
其後，將反應液冷卻至25℃，以下述重量投入DDS、PGMEA，在20℃～30℃下進行2小時攪拌後，在125℃下進行2小時攪拌。 DDS 0.95 g PGMEA 7.04 g [Z/Y=2.7、（Y+Z）/X=0.9]
其後，將反應液冷卻至25℃，以下述重量投入偏苯三酸酐（TMA）、PGMEA，在20℃～30℃下進行2小時攪拌。 TMA 0.24 g PGMEA 6.15 g
將溶液冷卻至室溫，獲得淡黃色透明的聚酯醯胺酸（A1）的30重量%溶液。對溶液的一部分進行取樣，利用GPC分析（聚苯乙烯標準）測定重量平均分子量。所獲得的聚酯醯胺酸（A1）的重量平均分子量為15,000。
[合成例2～合成例4]聚酯醯胺酸（A2～A4）溶液的合成 依據合成例1的方法，以表1中記載的溫度、時間、及比例（單位：g）使各成分反應，獲得聚酯醯胺酸溶液。
[表1] 表1
[實施例1] 以表2中記載的比例（單位：g）將合成例1中所獲得的聚酯醯胺酸（A1）的30重量%溶液、M-520、NCI-930、VG3101L、TMA、ND-139、2-羥基-1,4-萘醌、S510、AO-60、畢克（BYK）-342、PGMEA、PGME、EDM混合溶解，利用膜濾器（0.2 μm）進行過濾，獲得感光性組成物。
[實施例2～實施例8及比較例1～比較例2] 依據實施例1的方法，以表2中記載的比例（單位：g）將各成分混合溶解而獲得感光性組成物。
[表2] 表2 單位[g]
[評價用成膜方法] 以400 rpm歷時10秒將感光性組成物旋塗於玻璃基板上，在100℃的加熱板上進行120秒預烘烤。然後，在空氣中，隔著50 μm寬的具有孔及線圖案的罩幕，使用接近式曝光機TME-150PRC以曝光間隙100 μm進行曝光。曝光量是利用累計光量計UIT-102、光接收器UVD-365PD進行測定而設為30 mJ/cm2 。使用碳酸鈉･碳酸氫鈉的緩衝液在27℃下對曝光後的塗膜進行60秒的覆液顯影後，將未曝光部除去。利用純水對顯影後的塗膜進行20秒清洗後，利用100℃的加熱板進行2分鐘乾燥。進而在烘箱中以230℃進行30分鐘後烘烤，獲得膜厚為1.5 μm的帶有圖案狀硬化膜的玻璃基板。
關於如上所述而獲得的硬化膜，針對殘膜率、解析性、折射率、透明性、平坦性而評價特性。
[殘膜率的評價方法] 使用階差･表面粗糙度･微細形狀測定裝置（商品名：P-17，科磊（KLA TENCOR）股份有限公司），測定顯影前膜厚及顯影後膜厚，並算出殘膜率（顯影後的膜厚×100/顯影前的膜厚）。將殘膜率為80%以上的情況設為○，將顯影後的殘膜率不足80%的情況設為×。
[解析性的評價方法] 利用50倍的光學顯微鏡對所獲得的帶有圖案狀硬化膜的玻璃基板進行觀察，並評價與罩幕尺寸50 μm寬相對應的孔及線圖案的解析性。將孔及線圖案經解析的情況設為「○」，將未解析的情況設為「×」。
[折射率的評價方法] 使用反射分光膜厚計FE-3000（大塚電子（股）製造）測定所述硬化膜的折射率。將折射率為1.60以上的情況設為○，將不足1.60的情況設為×。
[透明性的評價方法] 使用霧度計HAZA-GARD PLUS（畢克（股）製造），對所述硬化膜的總光線透射率、及霧度進行測定。將透射率為90%以上的情況設為○，將不足90%的情況設為×。將霧度為1%以下的情況設為○，將超過1%以上的情況設為×。
[平坦性的評價方法] 以400 rpm歷時10秒將感光性組成物旋塗於具有包含R、G、B的畫素且無硬化膜的彩色濾光片基板上，在100℃的加熱板上進行120秒預烘烤。繼而，在烘箱中以230℃進行30分鐘後烘烤，獲得保護膜的平均膜厚為1.5 μm的帶有硬化膜的彩色濾光片基板。其後，使用階差･表面粗糙度･微細形狀測定裝置對所獲得的帶有硬化膜的彩色濾光片基板測定表面階差，將結果示於表3中。將最大階差為0.25 μm以下的情況評價為平坦性○，將最大階差為0.26 μm以上的情況評價為平坦性×。再者，無硬化膜的彩色濾光片基板是使用最大階差為1 μm者。
以下，將實施例1～實施例8及比較例1～比較例2的硬化膜的評價結果示於表3中。
[表3] 表3 殘膜率：若為80%以上，則為○ 解析性：若可形成50 μm的孔圖案，則為○ 折射率：若為1.60以上，則為○ 透明性：若總光線透射率為90%以上且霧度為1%以下，則為○ 平坦性：最大階差為0.25 μm以下的情況下為○，為0.26 μm以上的情況下為×
根據表3中所示的結果可知：實施例1～實施例8的硬化膜在殘膜率、解析性、折射率、透明性、平坦性的所有方面取得了平衡。另一方面，比較例1～比較例2的硬化膜的各評價項目均未成為「○」。比較例1的硬化膜的殘膜率差，比較例2的硬化膜在顯影後膜全部溶解。如上所述，在使用合成例中記載的聚酯醯胺酸，且無機微粒子添加量的比例為本發明的範圍內的情況下，可滿足所有特性。 [產業上的可利用性]
本發明的感光性組成物將具有高耐熱性的聚酯醯胺酸作為主材，從而由所述組成物所形成的硬化膜的耐熱性、透明性、平坦性優異，在解析性、殘膜率、折射率方面淩駕於現存的膜的性能之上。本發明的硬化膜的作為光學材料的特性優異，可用作彩色濾光片、LED發光元件及光接收元件等的各種光學材料等的保護膜、以及形成在TFT與透明電極之間及透明電極與配向膜之間的透明絕緣膜。
無
無

Claims (13)

  1. 一種感光性組成物，其包含聚酯醯胺酸（A）、具有聚合性雙鍵的化合物（B）、光聚合起始劑（C）、環氧化合物（D）、環氧硬化劑（E）、及無機微粒子（F），所述感光性組成物的特徵在於： 所述聚酯醯胺酸（A）是通過使X莫耳的四羧酸二酐、Y莫耳的二胺及Z莫耳的多元羥基化合物以下述式（1）及式（2）的關係成立的比率進行反應而獲得，且包含下述式（3）所表示的構成單元與下述式（4）所表示的構成單元； 所述具有聚合性雙鍵的化合物（B）包含在每一分子中具有兩個以上的聚合性雙鍵的化合物； 所述環氧化合物（D）在每一分子中包含2個～10個環氧基； 相對於所述聚酯醯胺酸（A）100重量份，所述具有聚合性雙鍵的化合物（B）的總量為20重量份～300重量份，所述環氧化合物（D）的總量為20重量份～200重量份， 0.2≦Z/Y≦8.0········（1） 0.2≦（Y+Z）/X≦5.0 ···（2）式（3）及式（4）中，R1 為自四羧酸二酐除去兩個-CO-O-CO-而成的殘基，R2 為自二胺除去兩個-NH2 而成的殘基，R3 為自多元羥基化合物除去兩個-OH而成的殘基。
  2. 如申請專利範圍第1項所述的感光性組成物，其中所述聚酯醯胺酸（A）的原料成分還包含單羥基化合物。
  3. 如申請專利範圍第2項所述的感光性組成物，其中所述單羥基化合物為選自異丙醇、烯丙醇、苄醇、甲基丙烯酸羥基乙酯、丙二醇單乙醚、3-乙基-3-羥基甲基氧雜環丁烷、及4-甲氧基苯酚中的至少一種。
  4. 如申請專利範圍第1項至第3項中任一項所述的感光性組成物，其中所述聚酯醯胺酸（A）的重量平均分子量為1,000～200,000； 所述四羧酸二酐為選自3,3',4,4'-二苯基碸四羧酸二酐、3,3',4,4'-二苯基醚四羧酸二酐、2,2-[雙(3,4-二羧基苯基)]六氟丙烷二酐、1,2,3,4-丁烷四羧酸二酐、及乙二醇雙(脫水偏苯三酸酯)中的至少一種； 所述二胺為選自3,3'-二胺基二苯基碸及雙[4-(3-胺基苯氧基)苯基]碸中的至少一種； 所述多元羥基化合物為選自乙二醇、丙二醇、1,4-丁二醇、1,5-戊二醇、1,6-己二醇、1,7-庚二醇、1,8-辛二醇、2,2-雙(4-羥基環己基)丙烷、4,4'-二羥基二環己基、及異氰脲酸三(2-羥基乙基)酯中的至少一種； 相對於所述具有聚合性雙鍵的化合物的總重量，所述具有聚合性雙鍵的化合物（B）含有50重量%以上的選自二季戊四醇五丙烯酸酯、二季戊四醇六丙烯酸酯、季戊四醇四丙烯酸酯、季戊四醇三丙烯酸酯、及異氰脲酸環氧乙烷改性三丙烯酸酯中的至少一種； 所述環氧化合物（D）為選自3,4-環氧環己烷羧酸-3',4'-環氧環己基甲酯、1-甲基-4-(2-甲基氧雜環丙基)-7-氧雜雙環[4.1.0]庚烷、2-[4-(2,3-環氧丙氧基)苯基]-2-[4-[1,1-雙[4-(2,3-環氧丙氧基)苯基]乙基]苯基]丙烷與1,3-雙[4-[1-[4-(2,3-環氧丙氧基)苯基]-1-[4-[1-[4-(2,3-環氧丙氧基)苯基]-1-甲基乙基]苯基]乙基]苯氧基]-2-丙醇的混合物、2-[4-(2,3-環氧丙氧基)苯基]-2-[4-[1,1-雙[4-(2,3-環氧丙氧基)苯基]乙基]苯基]丙烷、1,1,1-三(4-羥基苯基)乙烷三縮水甘油醚、1,3-雙(氧雜環丙基甲基)-5-(2-丙烯基)-1,3,5-三嗪-2,4,6(1H,3H,5H)-三酮、及2,2-雙(羥基甲基)-1-丁醇的1,2-環氧基-4-(2-氧雜環丙基)環己烷加成物中的至少一種。
  5. 如申請專利範圍第1項至第4項中任一項所述的感光性組成物，其中所述光聚合起始劑（C）為選自α-胺基苯烷基酮系光聚合起始劑、醯基氧化膦系光聚合起始劑及肟酯系光聚合起始劑中的至少一種。
  6. 如申請專利範圍第1項至第5項中任一項所述的感光性組成物，其中所述環氧硬化劑（E）為選自偏苯三酸酐、六氫偏苯三酸酐及2-十一烷基咪唑中的至少一種。
  7. 如申請專利範圍第1項至第6項中任一項所述的感光性組成物，其中所述四羧酸二酐為選自3,3',4,4'-二苯基醚四羧酸二酐及1,2,3,4-丁烷四羧酸二酐中的至少一種； 所述二胺為3,3'-二胺基二苯基碸； 所述多元羥基化合物為1,4-丁二醇； 所述具有聚合性雙鍵的化合物（B）為選自二季戊四醇五丙烯酸酯及二季戊四醇六丙烯酸酯中的至少一種； 所述光聚合起始劑（C）含有相對於光聚合起始劑的總重量而為50重量%以上的下述式（5）所表示的化合物； 所述環氧化合物（D）為選自2-[4-(2,3-環氧丙氧基)苯基]-2-[4-[1,1-雙[4-(2,3-環氧丙氧基)苯基]乙基]苯基]丙烷與1,3-雙[4-[1-[4-(2,3-環氧丙氧基)苯基]-1-[4-[1-[4-(2,3-環氧丙氧基)苯基]-1-甲基乙基]苯基]乙基]苯氧基]-2-丙醇的混合物及2-[4-(2,3-環氧丙氧基)苯基]-2-[4-[1,1-雙[4-(2,3-環氧丙氧基)苯基]乙基]苯基]丙烷中的至少一種； 所述環氧硬化劑（E）包含選自偏苯三酸酐及2-十一烷基咪唑中的至少一種； 還含有選自由3-甲氧基丙酸甲酯及丙二醇單甲醚乙酸酯所組成的群組中的至少一種作為溶劑，式中，R4 、R5 、R7 分別獨立地為碳數1～5的烷基、碳數2～5的烯基、或碳數2～5的炔基，R6 為碳數1～15的烷基、碳數2～15的烯基、或碳數2～15的炔基，n分別獨立地為0～5的整數。
  8. 如申請專利範圍第1項至第7項中任一項所述的感光性組成物，其中所述聚酯醯胺酸（A）的原料包含苯乙烯-馬來酸酐共聚物。
  9. 如申請專利範圍第1項至第8項中任一項所述的感光性組成物，其中相對於所述聚酯醯胺酸（A）100重量份，含有30重量份～300重量份的所述無機微粒子（F）。
  10. 如申請專利範圍第1項至第9項中任一項所述的感光性組成物，其中所述無機微粒子（F）為一次粒徑為1 nm～100 nm的氧化鈦或氧化鋯。
  11. 一種硬化膜，其是由如申請專利範圍第1項至第10項中任一項所述的感光性組成物而獲得。
  12. 一種彩色濾光片，其具有如申請專利範圍第11項所述的硬化膜作為透明保護膜。
  13. 一種電子裝置，其具有如申請專利範圍第11項所述的硬化膜。
TW107108792A 2017-03-24 2018-03-15 感光性組成物、硬化膜、彩色濾光片及電子裝置 TW201835164A (zh)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2017-058819 2017-03-24
JP2017058819 2017-03-24

Publications (1)

Publication Number Publication Date
TW201835164A true TW201835164A (zh) 2018-10-01

Family

ID=63706135

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW107108792A TW201835164A (zh) 2017-03-24 2018-03-15 感光性組成物、硬化膜、彩色濾光片及電子裝置

Country Status (4)

Country Link
JP (1) JP2018163340A (zh)
KR (1) KR20180108439A (zh)
CN (1) CN108628094A (zh)
TW (1) TW201835164A (zh)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN114667219B (zh) * 2019-11-15 2024-03-15 三井化学株式会社 层叠体、层叠体的制造方法、防雾膜形成用组合物、防雾膜及防雾膜形成用组合物套组
JP7335975B2 (ja) * 2019-11-28 2023-08-30 東京応化工業株式会社 感光性インク組成物、硬化物、ディスプレイパネル、及び硬化物の製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
KR20180108439A (ko) 2018-10-04
JP2018163340A (ja) 2018-10-18
CN108628094A (zh) 2018-10-09

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6668691B2 (ja) 感光性組成物
KR101769149B1 (ko) 복합 수지 조성물
JP2017122912A (ja) 感光性組成物
KR20170046585A (ko) 감광성 조성물
JP4655840B2 (ja) マイクロレンズ形成用感放射線性樹脂組成物、マイクロレンズとその形成方法および液晶表示素子
TW201835164A (zh) 感光性組成物、硬化膜、彩色濾光片及電子裝置
TW201719285A (zh) 感光性組合物及其應用
TW201829552A (zh) 聚酯醯胺酸及含有其的感光性組成物
JP2009003366A (ja) マイクロレンズ形成に用いられる感放射線性樹脂組成物
TW201809872A (zh) 感光性組成物及硬化膜
TWI814847B (zh) 硬化性組成物、硬化膜及彩色濾光片基板
TW201835227A (zh) 感光性組成物、硬化膜、彩色濾光片、顯示元件、固體攝像元件及發光二極體發光體
JP2008176278A (ja) ドライフィルム、マイクロレンズおよびそれらの製造方法
TW201833188A (zh) 感光性組成物、硬化膜、彩色濾光片、層間絕緣膜及塗布型偏光板
JP2018005088A (ja) 感光性組成物
TWI774872B (zh) 熱硬化性組合物、硬化膜以及彩色濾光片
JP7119677B2 (ja) 熱硬化性組成物
JP6947102B2 (ja) 熱硬化性組成物
JP2008020662A (ja) 感放射線性ドライフィルム、それから形成される表示素子用レンズとその形成方法
TW201837603A (zh) 感光性組成物及其應用
TW201827925A (zh) 感光性組成物及其用途
TW202349036A (zh) 感光性樹脂組成物、硬化膜、顯示器構成要素及顯示裝置
JP2010026352A (ja) 感放射線性樹脂組成物、マイクロレンズおよびその形成方法ならびに液晶表示素子
JP2009229993A (ja) 感放射線性ドライフィルムおよびマイクロレンズとその製法