TW201719285A - 感光性組合物及其應用 - Google Patents

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Abstract

本發明提供一種感光性組合物及其應用。本發明涉及一種感光性組合物其含有鹼可溶性聚合物(A)、環氧化合物(B)、具有聚合性雙鍵的化合物(C)、光聚合引發劑(D)、分子量調整劑(E)、及溶劑(F)。如果使用本發明的感光性組合物,則可形成耐熱性、平坦化特性、及特別是解析性優異的硬化膜。

Description

感光性組合物及其應用
本發明涉及一種在電子零件中的絕緣材料、半導體裝置中的鈍化膜、緩衝塗膜、層間絕緣膜、或平坦化膜,或顯示元件中的層間絕緣膜或彩色濾光片用保護膜等的形成中所使用的感光性組合物、利用該感光性組合物的透明膜、及包含該膜的電子零件。
在顯示元件等元件的製造工序中,有時進行有機溶劑、酸、鹼溶液等各種化學品處理,或者在通過濺射(sputtering)而成膜配線電極時,將表面局部地加熱為高溫。因此,有時為了防止各種元件的表面的劣化、損傷、變質而設置表面保護膜。對於這些保護膜,要求可以耐受如上所述的製造工序中的各種處理的各特性。具體而言,要求耐熱性、耐溶劑性/耐酸性/耐鹼性等耐化學品性、耐水性、對玻璃等基底基板的密接性、透明性、耐劃傷性、平坦性、耐光性等。而且,在推進顯示元件的高視角化、高速響應化、高精細化等高性能化的現狀下,在作為彩色濾光片保護膜而使用的情況下,期望可靠性及平坦化特性得到提高的材料。另外,由於顯示元件等的多樣化,除了從前所期望的這些特性以外,需要圖案形狀的保護膜的需求也在增加。
在這些具有圖案形狀的保護膜的形成中,使用的是感光性組合物。使感光性組合物在基板上形成塗膜,介隔具有規定的圖案的光掩模進行曝光,利用鹼性顯影液進行顯影而將不需要的部分溶解去除,然後通過進行後烘烤而形成具有圖案形狀的硬化膜。
近年來,對於保護膜中所形成的圖案,進一步微細化的要求增強,而期望滿足這一要求的感光性組合物。
作為在彩色濾光片的保護膜中使用感光性組合物的例子,存在有專利文獻1及專利文獻2。本發明者等人欲使用這些中所記載的感光性組合物而形成保護膜,結果雖滿足平坦化特性,但對於微細圖案的形成而言期望加以改良。而且,就專利文獻3的感光性組合物而言,雖能夠形成微細圖案,但對於保護膜所要求的耐熱性、平坦化特性而言期望加以改良,從而謀求充分滿足各種特性的感光性組合物。
而且,對於感光性組合物,要求對形成硬化膜的基底基板的塗布性優異。 [現有技術文獻] [專利文獻]
[專利文獻1]日本專利特開2014-074787號公報 [專利文獻2]日本專利特開2009-286904號公報 [專利文獻3]日本專利特開2015-143813號公報
[發明所欲解決的問題]本發明的課題在於提供一種可形成耐熱性、平坦化特性、及特別是解析性優異的硬化膜的感光性組合物。另外提供由該感光性組合物而形成的硬化膜、及包含該硬化膜的電子零件。
[解決問題的技術手段] 本發明者等人為了解決所述問題點而進行了各種研究,結果發現通過如下的感光性組合物,能夠形成微細圖案形狀,從而完成本發明:所述感光性組合物含有鹼可溶性聚合物(A)、環氧化合物(B)、具有聚合性雙鍵的化合物(C)、光聚合引發劑(D)、分子量調整劑(E)、以及溶劑(F),所述鹼可溶性聚合物(A)是使含有具有羧基的自由基聚合性單體(a1)及其他自由基聚合性單體(a2)(這些單體均不具有環氧基及氧雜環丁基)的自由基聚合性單體的混合物聚合而獲得。
本發明包含以下的構成。 [1] 一種感光性組合物,其含有鹼可溶性聚合物(A)、環氧化合物(B)、具有聚合性雙鍵的化合物(C)、光聚合引發劑(D)、分子量調整劑(E)、及溶劑(F),其中, 光聚合引發劑(D)的重量多於分子量調整劑(E)的重量的5.0倍且為20倍以下。
[2] 根據[1]所述的感光性組合物,其中,分子量調整劑(E)是選自硫醇(mercaptan)類、黃原酸(xanthogen)類、醌(quinone)類、2,4-二苯基-4-甲基-1-戊烯中的一種以上。
[3] 根據[1]所述的感光性組合物,其中,分子量調整劑(E)是萘醌(naphthoquinone)類。
[4] 根據[1]所述的感光性組合物,其中,分子量調整劑(E)是2-羥基-1,4-萘醌。
[5] 根據[1]~[4]中任一項所述的感光性組合物,其中,鹼可溶性聚合物(A)是使含有具有羧基的自由基聚合性單體(a1)及其他自由基聚合性單體(a2)的自由基聚合性單體的混合物聚合而獲得,具有羧基的自由基聚合性單體(a1)及其他自由基聚合性單體(a2)均不具有環氧基或氧雜環丁基(oxetanyl); 環氧化合物(B)是選自縮水甘油醚型環氧化合物(Ba)、脂環式脂肪族環氧化合物(Bb)、及含有環氧基的聚合物(Bc)中的至少一種, 含有環氧基的聚合物(Bc)是使含有具有環氧基的自由基聚合性單體(b1)及其他自由基聚合性單體(b2)的自由基聚合性單體的混合物聚合而獲得,而且 具有環氧基的自由基聚合性單體(b1)及其他自由基聚合性單體(b2)均不具有羧基; 具有聚合性雙鍵的化合物(C)是選自二季戊四醇五丙烯酸酯、二季戊四醇六丙烯酸酯、季戊四醇三丙烯酸酯、季戊四醇四丙烯酸酯、異氰脲酸環氧乙烷改性三丙烯酸酯、鄰苯二甲酸單羥基乙基丙烯酸酯、琥珀酸改性季戊四醇三丙烯酸酯、鄰苯二甲酸改性季戊四醇三丙烯酸酯、琥珀酸改性二季戊四醇五丙烯酸酯、鄰苯二甲酸改性二季戊四醇五丙烯酸酯、及多元酸改性丙烯酸寡聚物中的至少一種;而且, 光聚合引發劑(D)是選自α-氨基苯烷基酮(α- aminoalkylphenone)系光聚合引發劑、醯基氧化膦(acylphosphine oxide)系光聚合引發劑、及肟酯(oxime ester)系光聚合引發劑中的一種以上。
[6] 根據[5]所述的感光性組合物,其中,鹼可溶性聚合物(A)是使相對於具有羧基的自由基聚合性單體(a1)及其他自由基聚合性單體(a2)的總重量而含有10重量%~60重量%的具有羧基的自由基聚合性單體(a1)、及40重量%~90重量%的其他自由基聚合性單體(a2)的自由基聚合性單體的混合物聚合而獲得的共聚物; 縮水甘油醚型環氧化合物(Ba)是選自1,3-雙[4-[1-[4-(2,3-環氧丙氧基)苯基]-1-[4-[1-[4-(2,3-環氧丙氧基)苯基]-1-甲基乙基]苯基]乙基]苯氧基]-2-丙醇、及2-[4-(2,3-環氧丙氧基)苯基]-2-[4-[1,1-雙[4-([2,3-環氧丙氧基]苯基)]乙基]苯基]丙烷中的至少一種, 脂環式脂肪族環氧化合物(Bb)是2,2-雙(羥基甲基)-1-丁醇的1,2-環氧基-4-(2-氧雜環丙基)環己烷(1,2-epoxy-4- (2-oxiranyl) cyclohexane)加成物; 具有聚合性雙鍵的化合物(C)是選自二季戊四醇五丙烯酸酯、二季戊四醇六丙烯酸酯、季戊四醇三丙烯酸酯、季戊四醇四丙烯酸酯、及多元酸改性丙烯酸寡聚物中的至少一種;而且, 光聚合引發劑(D)是O-醯基肟系化合物。
[7] 根據[6]所述的感光性組合物,其中,具有羧基的自由基聚合性單體(a1)是選自丙烯酸、及甲基丙烯酸中的至少一種; 光聚合引發劑(D)是選自1,2-辛二酮-1-[4-(苯硫基)苯基]-2-(O-苯甲醯基肟)、乙酮,1-[9-乙基-6-(2-甲基苯甲醯基)-9H-咔唑-3-基]-,1-(O-乙醯基肟)、及1,2-丙二酮-1-[4-[4-(2-羥基乙氧基)苯硫基]苯基]-2-(O-乙醯基肟)中的至少一種。
[8] 根據[7]所述的感光性組合物,其中,其他自由基聚合性單體(a2)包含選自具有芳香環的(甲基)丙烯酸酯、具有二環戊基的(甲基)丙烯酸酯、具有二環戊烯基的(甲基)丙烯酸酯、及N-取代馬來醯亞胺中的至少一種。
[9] 根據[8]所述的感光性組合物,其中,其他自由基聚合性單體(a2)是選自(甲基)丙烯酸苄基酯、(甲基)丙烯酸二環戊基酯、(甲基)丙烯酸二環戊烯氧基乙酯、N-苯基馬來醯亞胺、及N-環己基馬來醯亞胺中的至少一種。
[10] 根據[9]所述的感光性組合物,其中,其他自由基聚合性單體(a2)是相對于其他自由基聚合性單體(a2)的總重量而含有50重量%以上的選自(甲基)丙烯酸苄基酯、(甲基)丙烯酸二環戊基酯、(甲基)丙烯酸二環戊烯氧基乙酯、N-苯基馬來醯亞胺、及N-環己基馬來醯亞胺中的至少一種。
[11] 一種硬化膜,其是由根據[1]~[10]中任一項所述的感光性組合物而獲得。
[12] 一種彩色濾光片,其使用根據[11]所述的硬化膜作為保護膜。
[13] 一種顯示元件,其使用根據[12]所述的彩色濾光片。
[14] 一種固體攝像元件,其使用根據[12]所述的彩色濾光片。
[15] 一種顯示元件,其使用根據[11]所述的硬化膜作為形成在薄膜晶體管(Thin Film Transistor,TFT)與透明電極之間的透明絕緣膜。
[16] 一種顯示元件,其使用根據[11]所述的硬化膜作為形成在透明電極與取向膜之間的透明絕緣膜。
[17] 一種觸摸屏,其使用根據[11]所述的硬化膜作為形成在電極間的透明絕緣膜。
[18] 一種發光二極管(Light Emitting Diode,LED)發光體,其使用根據[11]所述的硬化膜作為保護膜。
[發明的效果] 通過本發明可提供能夠形成微細圖案狀透明體的感光性組合物。
在本說明書中,所謂“平坦性”是作為表示如下性能的語句來使用,即,作為由感光性組合物而形成的硬化膜自身的性狀,膜厚均勻且成為平坦的表面形狀。而且,所謂“平坦化特性”是作為表示如下性能的語句來使用,即,在硬化膜以保護膜的形式形成在彩色濾光片這樣的具有凹凸的基板上的情況下,填埋基底的凹凸而形成平坦的表面。
在本說明書中,所謂“微細圖案”是表示10 μm~50 μm的線與間隙圖案及10 μm~50 μm的孔圖案。而且,所謂“圖案狀透明體”是表示為具有凹凸的膜狀、開孔的膜狀、突起狀、線狀等形狀,並且膜厚為10 μm以下、且波長400 nm的光的透過率為80%以上的硬化物(硬化膜)。其中,使用本發明的感光性組合物而形成的硬化膜並不以所述“圖案狀”為必要條件,還可以作為並不形成圖案的所謂“整體膜”而獲得滿足所述特性的硬化膜。根據以上的記述,本發明的硬化膜並不妨礙作為“整體膜狀”硬化物的使用。
在本說明書中,有時為了表示丙烯酸及甲基丙烯酸的一者或兩者,如“(甲基)丙烯酸”這樣地進行表述。而且,同樣地有時為了表示丙烯酸酯及甲基丙烯酸酯的一者或兩者,如“(甲基)丙烯酸酯”這樣地進行表述。
在本說明書中,所謂“烯基”是具有雙鍵的直鏈或分支鏈的烯基,具體而言可列舉乙烯基、1-丙烯基、2-丙烯基、1-甲基乙烯基、1-丁烯基、2-丁烯基、3-丁烯基、2-甲基-2-丙烯基、1-戊烯基、2-戊烯基、4-戊烯基、3-甲基-2-丁烯基、1-己烯基、2-己烯基、1-庚烯基、2-庚烯基、1-辛烯基、2-辛烯基、1,3-辛二烯基、2-壬烯基、1,3-壬二烯基、及2-癸烯基。所謂“炔基”是具有三鍵的直鏈或分支鏈的炔基,具體而言可列舉乙炔基、1-丙炔基、2-丙炔基、1-丁炔基、2-丁炔基、3-丁炔基、1-戊炔基、2-戊炔基、4-戊炔基、1-辛炔基、6-甲基-1-庚炔基、及2-癸炔基。
<1.本發明的感光性組合物> 本發明的第一實施方式涉及一種感光性組合物,其含有鹼可溶性聚合物(A)、環氧化合物(B)、具有聚合性雙鍵的化合物(C)、光聚合引發劑(D)、分子量調整劑(E)、及溶劑(F)。
在本發明的含有鹼可溶性聚合物(A)、環氧化合物(B)、具有聚合性雙鍵的化合物(C)、光聚合引發劑(D)、分子量調整劑(E)、及溶劑(F)的感光性組合物中,鹼可溶性聚合物(A)、環氧化合物(B)、具有聚合性雙鍵的化合物(C)、光聚合引發劑(D)、及分子量調整劑(E)的重量比優選相對於鹼可溶性聚合物(A)100重量份而言,環氧化合物(B)為10重量份~150重量份、具有聚合性雙鍵的化合物(C)為40重量份~400重量份、光聚合引發劑(D)為2重量份~60重量份、及分子量調整劑(E)為0.1重量份~12重量份。而且,優選以固體成分濃度成為10重量%~50重量%的方式而在本發明的感光性組合物中調配溶劑(F)。
本發明的感光性組合物並不由以下的說明而受到限定,可通過使用特定的鹼可溶性聚合物而實現解析性的提高。
<1-1.鹼可溶性聚合物(A)> 如上所述,本發明中所使用的鹼可溶性聚合物(A)是使含有具有羧基的自由基聚合性單體(a1)(以下有時稱為“成分(a1)”)、及可與自由基聚合性單體(a1)共聚的自由基聚合性單體(a1)以外的其他自由基聚合性單體(a2)(以下有時稱為“成分(a2)”)的自由基聚合性單體的混合物聚合而獲得的共聚物。此處,具有羧基的自由基聚合性單體(a1)及其以外的其他自由基聚合性單體(a2)均不具有環氧基及氧雜環丁基。鹼可溶性聚合物(A)可以是一種也可以是兩種以上。
在本發明的感光性組合物中所含有的鹼可溶性聚合物(A)聚合時,優選使用相對於具有羧基的自由基聚合性單體(a1)及其他自由基聚合性單體(a2)的總重量而言為10重量%~60重量%的具有羧基的自由基聚合性單體(a1)。如果是該範圍,則本發明的感光性組合物的解析性提高,容易形成微細圖案。如果該單體的所述範圍為15重量%~40重量%,則在使用本發明的感光性組合物而製造圖案狀透明體時靈敏度高(以低照射量而獲得所期望的圖案狀透明體),因此進一步優選。
將鹼可溶性聚合物(A)加入至本發明的感光性組合物中的方法可以是直接使用聚合反應後的溶液,也可以是對該溶液進行濃縮而取出固體成分,並僅加入固體成分。
<1-1-1.具有羧基的自由基聚合性單體(a1)> 作為鹼可溶性聚合物(A)的原料之一的具有羧基的自由基聚合性單體(a1)如果滿足並不具有環氧基及氧雜環丁基的條件,則並無特別限定。具有羧基的自由基聚合性單體(a1)的具體例是(甲基)丙烯酸、巴豆酸、α-氯丙烯酸、肉桂酸、馬來酸、富馬酸、衣康酸、檸康酸、中康酸、ω-羧基聚己內酯單(甲基)丙烯酸酯、琥珀酸單[2-(甲基)丙烯醯氧基乙基]酯、馬來酸單[2-(甲基)丙烯醯氧基乙基]酯、環己烯-3,4-二羧酸單[2-(甲基)丙烯醯氧基乙基]酯。
這些單體中優選(甲基)丙烯酸、琥珀酸單[2-(甲基)丙烯醯氧基乙基]酯,特別是如果使用(甲基)丙烯酸,則感光性組合物的解析性提高,且獲得透明性高的硬化物,因此進一步優選。
這些具有羧基的自由基聚合性單體(a1)可單獨使用所述化合物,也可以混合使用兩種以上。
<1-1-2.其他自由基聚合性單體(a2)> 鹼可溶性聚合物(A)的原料的另一種的其他自由基聚合性單體(a2)如果是並不具有羧基、環氧基及氧雜環丁基,且可與具有羧基的自由基聚合性單體(a1)共聚的自由基聚合性單體,則並無特別限定。此種自由基聚合性單體的例子是(甲基)丙烯酸酯、N-取代馬來醯亞胺、大分子單體、苯乙烯、甲基苯乙烯、對乙醯氧基苯乙烯、乙烯基甲苯、氯甲基苯乙烯、茚、(甲基)丙烯醯胺、4-羥基苯基甲基丙烯醯胺及N-丙烯醯基嗎啉。(甲基)丙烯酸酯的具體例是(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸丁酯、(甲基)丙烯酸環己酯、(甲基)丙烯酸異冰片酯、(甲基)丙烯酸二環戊基酯、(甲基)丙烯酸二環戊烯基酯、(甲基)丙烯酸二環戊烯基氧基乙酯、(甲基)丙烯酸苯酯、(甲基)丙烯酸苄基酯、甲氧基聚乙二醇(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸-2-羥基乙酯、(甲基)丙烯酸-2-羥基丙酯、甘油單(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸間苯氧基苄基酯、(甲基)丙烯酸四氫糠基酯、及甲基丙烯酸4-羥基苯酯。N-取代馬來醯亞胺的具體例是N-苯基馬來醯亞胺及N-環己基馬來醯亞胺。大分子單體的具體例是聚苯乙烯大分子單體及聚甲基丙烯酸甲酯大分子單體。
這些單體中,使用含有鹼可溶性聚合物(A)的感光性組合物而製造的圖案狀透明體的耐熱性高,因此優選,所述鹼可溶性聚合物(A)是將選自(甲基)丙烯酸二環戊基酯、(甲基)丙烯酸二環戊烯基氧基乙酯、(甲基)丙烯酸苄基酯、N-苯基馬來醯亞胺、及N-環己基馬來醯亞胺中的至少一種共聚而成。選自所述(甲基)丙烯酸二環戊基酯、(甲基)丙烯酸二環戊烯基氧基乙酯、(甲基)丙烯酸苄基酯、N-苯基馬來醯亞胺、及N-環己基馬來醯亞胺中的至少一種更優選相對于其他自由基聚合性單體(a2)的總重量而言,其(這些單體)的總重量含有50重量%以上。
這些其他自由基聚合性單體(a2)可單獨使用所述化合物,也可以混合使用兩種以上。
<1-2.環氧化合物(B)> 本發明的環氧化合物(B)是在分子中具有環氧基的化合物,只要具有此種結構的特徵,則並無特別限定。環氧化合物可單獨使用,也可以混合使用兩種以上。
如果本發明的感光性組合物中所含有的環氧化合物(B)的含量是相對於100重量份鹼可溶性聚合物(A)而言為10重量份~150重量份,則本發明的感光性組合物的平坦化特性良好而優選,如果是20重量份~100重量份,則使用本發明的感光性組合物而製造的圖案狀透明體的透明性良好而更優選。
環氧化合物(B)的例子是雙酚A型環氧化合物、雙酚F型環氧化合物、縮水甘油醚型環氧化合物(Ba)、苯酚酚醛清漆型環氧化合物、甲酚酚醛清漆型環氧化合物、雙酚A酚醛清漆型環氧化合物、萘型環氧化合物、脂肪族聚縮水甘油醚、脂環式脂肪族環氧化合物(Bb)、及含有環氧基的聚合物(Bc)。此處,所謂“含有環氧基的聚合物(Bc)”是使含有具有環氧基的自由基聚合性單體(b1)及其他自由基聚合性單體(b2)的自由基聚合性單體的混合物聚合而獲得的共聚物。
這些化合物中,優選縮水甘油醚型環氧化合物(Ba)、雙酚A酚醛清漆型環氧化合物、脂環式脂肪族環氧化合物(Bb)、及含有環氧基的聚合物(Bc),更優選縮水甘油醚型環氧化合物(Ba)、脂環式脂肪族環氧化合物(Bb)、及含有環氧基的聚合物(Bc)。使用感光性組合物而製造的圖案狀透明體的透明性高,所述感光性組合物使用了這些環氧化合物。
<1-2-1.縮水甘油醚型環氧化合物(Ba)> 縮水甘油醚型環氧化合物(Ba)的優選的具體例是1,3-雙[4-[1-[4-(2,3-環氧丙氧基)苯基]-1-[4-[1-[4-(2,3-環氧丙氧基)苯基]-1-甲基乙基]苯基]乙基]苯氧基]-2-丙醇、及2-[4-(2,3-環氧丙氧基)苯基]-2-[4-[1,1-雙[4-([2,3-環氧丙氧基]苯基)]乙基]苯基]丙烷。
<1-2-2.脂環式脂肪族環氧化合物(Bb)> 脂環式脂肪族環氧化合物(Bb)的優選的具體例是2,2-雙(羥基甲基)-1-丁醇的1,2-環氧基-4-(2-氧雜環丙基)環己烷加成物。
這些環氧化合物(B)可使用如下所述的市售品。雙酚A型環氧化合物的具體例是jER 828、jER 1004、及jER 1009(均為商品名;三菱化學股份有限公司)。雙酚F型環氧化合物的具體例是jER 806及jER 4005P(均為商品名;三菱化學股份有限公司)。縮水甘油醚型環氧化合物(Ba)的具體例是泰庫摩亞(Tecmoa)VG3101L(商品名;普林特克(Printec)股份有限公司)、EPPN-501H、EPPN-502H(均為商品名;日本化藥股份有限公司)及jER 1032H60(商品名;三菱化學股份有限公司)。苯酚酚醛清漆型環氧化合物的具體例是EPPN-201(商品名;日本化藥股份有限公司)、jER 152及jER 154(均為商品名;三菱化學股份有限公司)。作為甲酚酚醛清漆型環氧化合物的具體例是EOCN-102S、EOCN-103S、EOCN-104S、及EOCN-1020(均為商品名;日本化藥股份有限公司)。雙酚A酚醛清漆型環氧化合物的具體例是jER 157S65及jER 157S70(均為商品名;三菱化學股份有限公司)。萘型環氧化合物的例子是HP4700及HP4710(均為商品名;迪愛生(DIC)股份有限公司)。脂環式脂肪族環氧化合物(Bb)的具體例是賽羅西德(Celloxide)2021P及賽羅西德(Celloxide)EHPE-3150(均為商品名;大賽璐(Daicel)股份有限公司)。再者,作為縮水甘油醚型環氧化合物(Ba)的泰庫摩亞(Tecmoa)VG3101L是2-[4-(2,3-環氧丙氧基)苯基]-2-[4-[1,1-雙[4-([2,3-環氧丙氧基]苯基)]乙基]苯基]丙烷及1,3-雙[4-[1-[4-(2,3-環氧丙氧基)苯基]-1-[4-[1-[4-(2,3-環氧丙氧基)苯基]-1-甲基乙基]苯基]乙基]苯氧基]-2-丙醇的混合物。作為脂環式脂肪族環氧化合物(Bb)的EHPE-3150是2,2-雙(羥基甲基)-1-丁醇的1,2-環氧基-4-(2-氧雜環丙基)環己烷加成物。
<1-2-3.含有環氧基的聚合物(Bc)> 如上所述,本發明中所使用的含有環氧基的聚合物(Bc)是使含有具有環氧基的自由基聚合性單體(b1)及可與具有環氧基的自由基聚合性單體(b1)共聚的其他自由基聚合性單體(b2)的自由基聚合性單體的混合物聚合而獲得的共聚物。
在含有環氧基的聚合物(Bc)的聚合時,優選使用相對於具有環氧基的自由基聚合性單體(b1)及其他自由基聚合性單體(b2)的總重量而言為20重量%~95重量%的具有環氧基的自由基聚合性單體(b1)。如果是此種範圍,則使用本發明的感光性組合物而製造的圖案狀透明體的圖案尺寸變得接近掩模尺寸,且耐化學品性變高。如果該單體的所述範圍為50重量%~80重量%,則使用本發明的感光性組合物而製造的圖案狀透明體的耐熱性變得良好,因此更優選。
將含有環氧基的聚合物(Bc)加入至本發明的感光性組合物中的方法可以是直接使用聚合反應後的溶液,也可以是對該溶液進行濃縮而取出固體成分,並僅加入固體成分。
<1-2-3-1.具有環氧基的自由基聚合性單體(b1)> 作為含有環氧基的聚合物(Bc)的原料的具有環氧基的自由基聚合性單體(b1)只要具有至少一個環氧基,則並無特別限定。具有環氧基的自由基聚合性單體(b1)的例子是(甲基)丙烯酸縮水甘油酯及(甲基)丙烯酸甲基縮水甘油酯。使用含有環氧基的聚合物(Bc)的感光性組合物可形成小的圖案,且使用該感光性組合物而製造的圖案狀透明體的耐化學品性高,因此優選,所述含有環氧基的聚合物(Bc)是使選自這些自由基聚合性單體中的至少一種聚合而獲得。
特別是如果使用將選自丙烯酸縮水甘油酯及甲基丙烯酸縮水甘油酯中的至少一種共聚而成的含有環氧基的聚合物(Bc)作為具有環氧基的自由基聚合性單體(b1),則耐熱性變高,因此更優選。
具有環氧基的自由基聚合性單體(b1)可單獨使用,也可以混合使用兩種以上。
<1-2-3-2.其他自由基聚合性單體(b2)> 與具有環氧基的自由基聚合性單體(b1)共聚的其他自由基聚合性單體(b2)只要是不具有羧基、環氧基及氧雜環丁基,且可與具有環氧基的自由基聚合性單體(b1)共聚的自由基聚合性單體,則並無特別限定。此種自由基聚合性單體的例子可列舉在所述的與具有羧基的自由基聚合性單體(a1)共聚的其他自由基聚合性單體(a2)的說明中所例示的自由基聚合性單體。
這些單體中,使用感光性組合物而製造的圖案狀透明體的透明性高,且耐熱性高,因此優選,所述感光性組合物使用將選自(甲基)丙烯酸苄基酯、(甲基)丙烯酸二環戊基酯、(甲基)丙烯酸二環戊烯基氧基乙酯、N-苯基馬來醯亞胺、及N-環己基馬來醯亞胺中的至少一種共聚而獲得的含有環氧基的聚合物(Bc)。
其他自由基聚合性單體(b2)可單獨使用所述化合物,也可以混合使用兩種以上。
<1-3.具有聚合性雙鍵的化合物(C)> 本發明的感光性組合物中所含有的具有聚合性雙鍵的化合物(C)只要具有聚合性雙鍵,則並無特別限定。
本發明的感光性組合物中所含有的具有聚合性雙鍵的化合物(C)的例子是乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、二乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、三乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、四乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、聚乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、表氯醇改性乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、表氯醇改性二乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、表氯醇改性三乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、表氯醇改性四乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、表氯醇改性聚乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、二丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、三丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、四丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、聚丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、表氯醇改性丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、表氯醇改性二丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、表氯醇改性三丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、表氯醇改性四丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、表氯醇改性聚丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、環氧乙烷改性三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、環氧丙烷改性三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、表氯醇改性三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、二-三羥甲基丙烷四(甲基)丙烯酸酯、甘油丙烯酸酯甲基丙烯酸酯、甘油二(甲基)丙烯酸酯、甘油三(甲基)丙烯酸酯、表氯醇改性甘油三(甲基)丙烯酸酯、1,6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯、表氯醇改性1,6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯、甲氧基化環己基二(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、羥基特戊酸新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、己內酯改性羥基特戊酸新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、二甘油四(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、硬脂酸改性季戊四醇二(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、烷基改性二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、烷基改性二季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、烷基改性二季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、己內酯改性二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、烯丙基化環己基二(甲基)丙烯酸酯、雙[(甲基)丙烯醯氧基新戊二醇]己二酸酯、雙酚A二(甲基)丙烯酸酯、環氧乙烷改性雙酚A二(甲基)丙烯酸酯、雙酚F二(甲基)丙烯酸酯、環氧乙烷改性雙酚F二(甲基)丙烯酸酯、雙酚S二(甲基)丙烯酸酯、環氧乙烷改性雙酚S二(甲基)丙烯酸酯、1,4-丁二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,3-丁二醇(甲基)丙烯酸酯、二環戊基二丙烯酸酯、環氧乙烷改性磷酸二(甲基)丙烯酸酯、環氧乙烷改性磷酸三(甲基)丙烯酸酯、環氧乙烷改性磷酸二(甲基)丙烯酸酯、表氯醇改性鄰苯二甲酸二(甲基)丙烯酸酯、四溴雙酚A二(甲基)丙烯酸酯、三甘油二(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇改性三羥甲基丙烷二(甲基)丙烯酸酯、異氰脲酸環氧乙烷改性二丙烯酸酯、異氰脲酸環氧乙烷改性三丙烯酸酯、己內酯改性三[(甲基)丙烯醯氧基乙基]異氰脲酸酯、(甲基)丙烯酸基化異氰脲酸酯、ω-羧基聚己內酯單(甲基)丙烯酸酯、鄰苯二甲酸單羥基乙基丙烯酸酯、琥珀酸改性季戊四醇三丙烯酸酯、鄰苯二甲酸改性季戊四醇三丙烯酸酯、琥珀酸改性二季戊四醇五丙烯酸酯、鄰苯二甲酸改性二季戊四醇五丙烯酸酯、多元酸改性丙烯酸寡聚物、對苯二酚(甲基)丙烯酸酯、苯基縮水甘油醚丙烯酸酯/六伸甲基二異氰酸酯/氨基甲酸酯預聚物、苯基縮水甘油醚丙烯酸酯/甲苯二異氰酸酯/氨基甲酸酯預聚物、季戊四醇三丙烯酸酯/六伸甲基二異氰酸酯/氨基甲酸酯預聚物、季戊四醇三丙烯酸酯/甲苯二異氰酸酯/氨基甲酸酯預聚物、季戊四醇三丙烯酸酯/異佛爾酮二異氰酸酯/氨基甲酸酯預聚物、二季戊四醇五丙烯酸酯/六伸甲基二異氰酸酯/氨基甲酸酯預聚物、無黃變型寡聚氨基甲酸酯丙烯酸酯、含羧酸的氨基甲酸酯丙烯酸酯寡聚物、苯酚酚醛清漆型環氧樹脂的丙烯酸改性物、及甲酚酚醛清漆型環氧樹脂的丙烯酸改性物。
具有聚合性雙鍵的化合物(C)可單獨使用所述化合物,也可以混合使用兩種以上。
三羥甲基丙烷三丙烯酸酯、季戊四醇三丙烯酸酯、季戊四醇四丙烯酸酯、二季戊四醇五丙烯酸酯、二季戊四醇六丙烯酸酯、異氰脲酸環氧乙烷改性二丙烯酸酯、異氰脲酸環氧乙烷改性三丙烯酸酯、或這些化合物的混合物、ω-羧基聚己內酯單(甲基)丙烯酸酯、鄰苯二甲酸單羥基乙基丙烯酸酯、多元酸改性丙烯酸寡聚物、苯酚酚醛清漆型環氧樹脂的丙烯酸改性物、及甲酚酚醛清漆型環氧樹脂的丙烯酸改性物可使用如下所述的市售品。三羥甲基丙烷三丙烯酸酯的具體例是亞羅尼斯(Aronix)M-309(商品名;東亞合成股份有限公司)、A-TMPT(商品名;新中村化學股份有限公司)。季戊四醇三丙烯酸酯及季戊四醇四丙烯酸酯的混合物的具體例是亞羅尼斯(Aronix)M-306(65重量%~70重量%)、亞羅尼斯(Aronix)M-305(55重量%~63重量%)、亞羅尼斯(Aronix)M-303(30重量%~60重量%)、亞羅尼斯(Aronix)M-452(25重量%~40重量%)、及亞羅尼斯(Aronix)M-450(不足10重量%)(均為商品名;東亞合成股份有限公司,括號內的含有率是混合物中的季戊四醇三丙烯酸酯的含有率的目錄記載值)、A-TMM-3L(55重量%)、A-TMM-3LA(57重量%)、A-TMMT(均為商品名;新中村化學股份有限公司,括號內的含有率是混合物中的季戊四醇三丙烯酸酯的含有率的目錄記載值)。二季戊四醇五丙烯酸酯及二季戊四醇六丙烯酸酯的混合物的具體例是亞羅尼斯(Aronix)M-403(50重量%~60重量%)、亞羅尼斯(Aronix)M-400(40重量%~50重量%)、亞羅尼斯(Aronix)M-402(30重量%~40重量%)、亞羅尼斯(Aronix)M-404(30重量%~40重量%)、亞羅尼斯(Aronix)M-406(25重量%~35重量%)、及亞羅尼斯(Aronix)M-405(10重量%~20重量%)(均為商品名;東亞合成股份有限公司,括號內的含有率是混合物中的二季戊四醇五丙烯酸酯的含有率的目錄記載值);二季戊四醇六丙烯酸酯的具體例是A-DPH(商品名;新中村股份有限公司)。異氰脲酸環氧乙烷改性二丙烯酸酯的具體例是亞羅尼斯(Aronix)M-215(商品名;東亞合成股份有限公司)。異氰脲酸環氧乙烷改性三丙烯酸酯的具體例是A-9300(商品名;新中村化學股份有限公司)。異氰脲酸環氧乙烷改性二丙烯酸酯及異氰脲酸環氧乙烷改性三丙烯酸酯的混合物的具體例是亞羅尼斯(Aronix)M-313(30重量%~40重量%)及亞羅尼斯(Aronix)M-315(3重量%~13重量%)(均為商品名;東亞合成股份有限公司,括號內的含有率是混合物中的異氰脲酸環氧乙烷改性二丙烯酸酯的含有率的目錄記載值)。ω-羧基聚己內酯單丙烯酸酯的具體例是亞羅尼斯(Aronix)M-5300(商品名;東亞合成股份有限公司)。鄰苯二甲酸單羥基乙基丙烯酸酯的具體例是亞羅尼斯(Aronix)M-5400(商品名;東亞合成股份有限公司)。多元酸改性丙烯酸寡聚物的具體例是M-510(商品名;東亞合成股份有限公司)、及M-520(商品名;東亞合成股份有限公司)。苯酚酚醛清漆型環氧樹脂的丙烯酸改性物的具體例是TEA-100(商品名;KSM股份有限公司)。甲酚酚醛清漆型環氧樹脂的丙烯酸改性物的具體例是CNEA-100(商品名;KSM股份有限公司)。
<1-4.光聚合引發劑(D)> 本發明的感光性組合物中所含有的光聚合引發劑(D)如果可引發含有鹼可溶性聚合物(A)、環氧化合物(B)、具有聚合性雙鍵的化合物(C)及分子量調整劑(E)的組合物的聚合,則並無特別限定。
作為本發明的感光性組合物中所含有的光聚合引發劑,可列舉:二苯甲酮、米氏酮、4,4'-雙(二乙基氨基)二苯甲酮、氧雜蒽酮、噻噸酮、異丙基氧雜蒽酮、2,4-二乙基噻噸酮、2-乙基蒽醌、苯乙酮、2-羥基-2-甲基苯丙酮、2-羥基-2-甲基-4'-異丙基苯丙酮、1-羥基環己基苯基酮、異丙基安息香醚、異丁基安息香醚、2,2-二乙氧基苯乙酮、2,2-二甲氧基-2-苯基苯乙酮、樟腦醌、苯並蒽酮、2-甲基-1-[4-(甲硫基)苯基]-2-嗎啉代丙烷-1-酮(例如豔佳固(IRGACURE)907;商品名;日本巴斯夫(BASF Japan)股份有限公司)、2-苄基-2-二甲基氨基-1-(4-嗎啉代苯基)-丁酮-1(例如豔佳固(IRGACURE)369;商品名;日本巴斯夫(BASF Japan)股份有限公司)、4-二甲基氨基苯甲酸乙酯、4-二甲基氨基苯甲酸異戊酯、4,4'-二(叔丁基過氧基羰基)二苯甲酮、3,4,4'-三(叔丁基過氧基羰基)二苯甲酮、1,2-辛二酮-1-[4-(苯硫基)苯基]-2-(O-苯甲醯基肟)(例如豔佳固(IRGACURE)OXE-01;商品名;日本巴斯夫(BASF Japan)股份有限公司)、乙酮,1-[9-乙基-6-(2-甲基苯甲醯基)-9H-咔唑-3-基]-,1-(O-乙醯基肟)(例如豔佳固(IRGACURE)OXE-02;商品名;日本巴斯夫(BASF Japan)股份有限公司)、OXE-03(商品名;日本巴斯夫(BASF Japan)股份有限公司)、1-(O-乙醯基肟)、1,2-丙二酮-1-[4-[4-(2-羥基乙氧基)苯硫基]苯基]-2-(O-乙醯基肟)、2,4,6-三甲基苯甲醯基二苯基氧化膦、2-(4'-甲氧基苯乙烯基)-4,6-雙(三氯甲基)-均三嗪、2-(3',4'-二甲氧基苯乙烯基)-4,6-雙(三氯甲基)-均三嗪、2-(2',4'-二甲氧基苯乙烯基)-4,6-雙(三氯甲基)-均三嗪、2-(2'-甲氧基苯乙烯基)-4,6-雙(三氯甲基)-均三嗪、2-(4'-戊氧基苯乙烯基)-4,6-雙(三氯甲基)-均三嗪、4-[對-N,N-二(乙氧基羰基甲基)]-2,6-二(三氯甲基)-均三嗪、1,3-雙(三氯甲基)-5-(2'-氯苯基)-均三嗪、1,3-雙(三氯甲基)-5-(4'-甲氧基苯基)-均三嗪、2-(對二甲基氨基苯乙烯基)苯並噁唑、2-(對二甲基氨基苯乙烯基)苯並噻唑、2-巰基苯並噻唑、3,3'-羰基雙(7-二乙基氨基香豆素)、2-(鄰氯苯基)-4,4',5,5'-四苯基-1,2'-聯咪唑、2,2'-雙(2-氯苯基)-4,4',5,5'-四(4-乙氧基羰基苯基)-1,2'-聯咪唑、2,2'-雙(2,4-二氯苯基)-4,4',5,5'-四苯基-1,2'-聯咪唑、2,2'-雙(2,4-二溴苯基)-4,4',5,5'-四苯基-1,2'-聯咪唑、2,2'-雙(2,4,6-三氯苯基)-4,4',5,5'-四苯基-1,2'-聯咪唑、3-(2-甲基-2-二甲基氨基丙醯基)咔唑(carbazole)、3,6-雙(2-甲基-2-嗎啉代丙醯基)-9-正十二烷基咔唑、1-羥基環己基苯基酮、雙(η5 -2,4-環戊二烯-1-基)-雙(2,6-二氟-3-(1H-吡咯-1-基)-苯基)鈦、N-1919、NCI-831、及NCI-930(均為商品名;艾迪科(ADEKA)股份有限公司)等。
光聚合引發劑可單獨使用,也可以混合使用兩種以上。光聚合引發劑中,如果是α-氨基苯烷基酮系、醯基氧化膦系、肟酯系光聚合引發劑,則自塗膜的感度、圖案狀透明體的透明性的觀點考慮而優選。
光聚合引發劑中,如果肟酯系光聚合引發劑相對于光聚合引發劑的總重量為20重量%以上,則自塗膜的感度、圖案狀透明體的透明性的觀點考慮而更優選。而且,如果為50重量%以上,則進一步優選。光聚合引發劑也可僅包含肟酯系光聚合引發劑。
<1-5.分子量調整劑(E)> 為了抑制因聚合而分子量變高、且顯現優異的解析性,本發明的感光性組合物中使用分子量調整劑。作為分子量調整劑,可列舉:硫醇類、黃原酸類、醌類及2,4-二苯基-4-甲基-1-戊烯等。作為醌類的分子量調整劑,可列舉萘醌類。
作為分子量調整劑的具體例,可列舉:2-羥基-1,4-萘醌、苯醌、1,4-萘醌、1,4-二羥基萘醌、2,5-二-叔丁基氫醌、氫醌、甲基氫醌、叔丁基氫醌、甲醌(methoquinone)、對苯醌、甲基-對苯醌、叔丁基-對苯醌、蒽醌、正己基硫醇、正辛基硫醇、正十二基硫醇、叔十二基硫醇、硫代乙醇酸、二甲基黃原酸硫醚、二異丙基黃原酸硫醚、2,4-二苯基-4-甲基-1-戊烯等。
分子量調整劑可單獨使用,也可以組合使用兩種以上。分子量調整劑中,如果為萘醌類的分子量調整劑,則自顯現優異的解析性的方面考慮而優選。
萘醌類的分子量調整劑中,如果是具有酚性羥基的2-羥基-1,4-萘醌,則自解析性的觀點考慮而更優選。而且,自解析性的觀點考慮,優選的是以光聚合引發劑的重量多於分子量調整劑的重量的5.0倍且為20倍以下的方式含有分子量調整劑,更優選的是以光聚合引發劑的重量多於分子量調整劑的重量的5.0倍且為15倍以下的方式含有分子量調整劑。進一步更優選的是以光聚合引發劑的重量多於分子量調整劑的重量的5.0倍且為10倍以下的方式含有分子量調整劑。
<1-6.溶劑(F)> 本發明中所使用的溶劑(F)優選沸點為100℃~200℃的化合物的至少一種、或含有20重量%以上該化合物的混合溶劑。沸點為100℃~200℃的化合物的例子是水、乙酸丁酯、丙酸丁酯、乳酸乙酯、氧基乙酸甲酯、氧基乙酸乙酯、氧基乙酸丁酯、甲氧基乙酸甲酯、甲氧基乙酸乙酯、甲氧基乙酸丁酯、乙氧基乙酸甲酯、乙氧基乙酸乙酯、乙酸3-甲氧基丁酯、3-氧基丙酸甲酯、3-氧基丙酸乙酯、3-甲氧基丙酸甲酯(以下有時簡稱為“MMP”)、3-甲氧基丙酸乙酯、3-乙氧基丙酸甲酯、3-乙氧基丙酸乙酯、2-氧基丙酸甲酯、2-氧基丙酸乙酯、2-氧基丙酸丙酯、2-甲氧基丙酸甲酯、2-甲氧基丙酸乙酯、2-甲氧基丙酸丙酯、2-乙氧基丙酸甲酯、2-乙氧基丙酸乙酯、2-氧基-2-甲基丙酸甲酯、2-氧基-2-甲基丙酸乙酯、2-甲氧基-2-甲基丙酸甲酯、2-乙氧基-2-甲基丙酸乙酯、丙酮酸甲酯、丙酮酸乙酯、丙酮酸丙酯、乙醯乙酸甲酯、乙醯乙酸乙酯、2-氧代丁酸甲酯、2-氧代丁酸乙酯、二噁烷、乙二醇、二乙二醇、三乙二醇、丙二醇、二丙二醇、三丙二醇、1,4-丁二醇、乙二醇單異丙醚、乙二醇單丁醚、丙二醇單甲醚、丙二醇單甲醚乙酸酯(以下有時簡稱為“PGMEA”)、丙二醇單乙醚乙酸酯、丙二醇單丙醚乙酸酯、乙二醇單丁醚乙酸酯、環己酮、環戊酮、二乙二醇單甲醚、二乙二醇單甲醚乙酸酯、二乙二醇單乙醚、二乙二醇單乙醚乙酸酯、二乙二醇單丁醚、二乙二醇單丁醚乙酸酯、二乙二醇二甲醚、二乙二醇二乙醚、二乙二醇甲基乙基醚(以下有時簡稱為“EDM”)、甲苯、二甲苯、γ-丁內酯、及N,N-二甲基乙醯胺。
這些溶劑中,如果使用選自丙二醇單甲醚、PGMEA、丙二醇單乙醚乙酸酯、3-甲氧基丙酸甲酯、3-乙氧基丙酸乙酯、二乙二醇單乙醚乙酸酯、二乙二醇單丁醚乙酸酯、二乙二醇二甲醚、二乙二醇甲基乙基醚、及乳酸乙酯中的至少一種,則塗布均一性變高,因此更優選。如果使用選自PGMEA、3-甲氧基丙酸甲酯、3-乙氧基丙酸乙酯、二乙二醇甲基乙基醚、及乳酸乙酯中的至少一種,則感光性組合物的塗布均一性變高,對人體的安全性變高,因此進一步更優選。
溶劑(F)可將鹼可溶性聚合物(A)或含有環氧基的聚合物(Bc)的聚合反應中所使用的溶劑製成溶液而直接用於感光性組合物中,還可以除了該溶液中所含的溶劑以外而加入稀釋用溶劑(固體成分濃度調整用溶劑)。而且,關於所述聚合物,在僅將濃縮聚合反應後的溶液而所取出的固體成分用於感光性組合物中的情況下,溶劑(F)在感光性組合物的製備時與成分(A)~(E)一同加入其全部量。
<1-7.添加劑> 自使解析度、塗布均一性、顯影性、粘接性等本發明的感光性組合物的特性提高的觀點考慮,本發明的感光性組合物還可以含有添加劑。添加劑的例子是丙烯酸系、苯乙烯系、聚乙烯亞胺系及氨基甲酸酯系等高分子分散劑;陰離子系、陽離子系、非離子系及氟系等表面活性劑;矽聚合物系塗布性提升劑;矽烷系偶聯劑及鋁系偶聯劑等密接性提升劑;1,2-醌二疊氮化合物等光酸產生劑;烷氧基二苯甲酮類等紫外線吸收劑;聚丙烯酸鈉等防凝聚劑;環氧化合物(B)以外的環狀醚化合物、三聚氰胺化合物及雙疊氮化合物等熱交聯劑;鹼可溶性聚合物(A)以外的羧基化合物、羧酸酐、含酚性羥基的化合物、胺系化合物、咪唑系化合物、催化劑型化合物等環氧硬化劑;以及受阻系酚等抗氧化劑。
如果全部添加劑的合計量是相對於鹼可溶性聚合物(A)、環氧化合物(B)、具有聚合性雙鍵的化合物(C)、光聚合引發劑(D)、及分子量調整劑(E)的合計100重量份而言為10重量份以下,則可並不損及本發明的目的地使感光性組合物的特性提高,因此優選。
自提高對基底基板的潤濕性、流平性、或塗布性的觀點考慮,本發明的感光性組合還可以含有高分子分散劑、表面活性劑、塗布性提升劑。
高分子分散劑、表面活性劑、塗布性提升劑的具體例可列舉波利弗洛(Polyflow)No.45、波利弗洛(Polyflow)KL-245、波利弗洛(Polyflow)No.75、波利弗洛(Polyflow)No.90、波利弗洛(Polyflow)No.95(以上均為商品名;共榮社化學工業股份有限公司)、迪斯帕畢克(Disperbyk)161、迪斯帕畢克(Disperbyk)162、迪斯帕畢克(Disperbyk)163、迪斯帕畢克(Disperbyk)164、迪斯帕畢克(Disperbyk)166、迪斯帕畢克(Disperbyk)170、迪斯帕畢克(Disperbyk)180、迪斯帕畢克(Disperbyk)181、迪斯帕畢克(Disperbyk)182、BYK-300、BYK-306、BYK-310、BYK-320、BYK-330、BYK-342、BYK-346(以上均為商品名;日本畢克化學(BYK Chemie Japan)股份有限公司)、KP-341、KP-358、KP-368、KF-96-50CS、KF-50-100CS(以上均為商品名;信越化學工業股份有限公司)、沙福隆(Surflon)SC-101、沙福隆(Surflon)KH-40、沙福隆(Surflon)S-611(以上均為商品名;AGC清美化學(AGC Seimi Chemical)股份有限公司)、福吉特(Ftergent)222F、福吉特(Ftergent)208G、福吉特(Ftergent)251、福吉特(Ftergent)710FL、福吉特(Ftergent)710FM、福吉特(Ftergent)710FS、福吉特(Ftergent)601AD、福吉特(Ftergent)602A、福吉特(Ftergent)650A、DFX-18、FTX-218(以上均為商品名;尼奧斯(Neos)股份有限公司)、艾福拓(EFTOP)EF-351、艾福拓(EFTOP)EF-352、艾福拓(EFTOP)EF-601、艾福拓(EFTOP)EF-801、艾福拓(EFTOP)EF-802(以上均為商品名;三菱材料(Mitsubishi Material)股份有限公司)、美佳法(Megafac)F-171、美佳法(Megafac)F-177、美佳法(Megafac)F-410、美佳法(Megafac)F-430、美佳法(Megafac)F-444、美佳法(Megafac)F-472SF、美佳法(Megafac)F-475、美佳法(Megafac)F-477、美佳法(Megafac)F-552、美佳法(Megafac)F-553、美佳法(Megafac)F-554、美佳法(Megafac)F-555、美佳法(Megafac)F-556、美佳法(Megafac)F-558、美佳法(Megafac)F-559、美佳法(Megafac)R-08、美佳法(Megafac)R-30、美佳法(Megafac)R-94、美佳法(Megafac)RS-75、美佳法(Megafac)RS-72-K、美佳法(Megafac)RS-76-NS、美佳法(Megafac)DS-21(以上均為商品名;迪愛生(DIC)股份有限公司)、台高屯(TEGO Twin)4000、台高屯(TEGO Twin)4100、台高弗洛(TEGO Flow)370、台高革宜德(TEGO Glide)420、台高革宜德(TEGO Glide)440、台高革宜德(TEGO Glide)450、台高拉德(TEGO Rad)2200N、台高拉德(TEGO Rad)2250N(以上均為商品名;日本贏創德固賽(Evonik-Degussa Japan)股份有限公司)、氟烷基苯磺酸鹽、氟烷基羧酸鹽、氟烷基聚氧乙烯醚、氟烷基碘化銨、氟烷基甜菜鹼、氟烷基磺酸鹽、二甘油四(氟烷基聚氧乙烯醚)、氟烷基三甲基銨鹽、氟烷基氨基磺酸鹽、聚氧乙烯壬基苯基醚、聚氧乙烯辛基苯基醚、聚氧乙烯烷基醚、聚氧乙烯月桂基醚、聚氧乙烯油烯基醚、聚氧乙烯十三烷基醚、聚氧乙烯鯨蠟基醚、聚氧乙烯硬脂基醚、聚氧乙烯月桂酸酯、聚氧乙烯油酸酯、聚氧乙烯硬脂酸酯、聚氧乙烯月桂基胺、山梨糖醇酐月桂酸酯、山梨糖醇酐棕櫚酸酯、山梨糖醇酐硬脂酸酯、山梨糖醇酐油酸酯、山梨糖醇酐脂肪酸酯、聚氧乙烯山梨糖醇酐月桂酸酯、聚氧乙烯山梨糖醇酐棕櫚酸酯、聚氧乙烯山梨糖醇酐硬脂酸酯、聚氧乙烯山梨糖醇酐油酸酯、聚氧乙烯萘基醚、烷基苯磺酸鹽、或烷基二苯基醚二磺酸鹽。
自使圖案狀透明體與基板的密接性提高的觀點考慮,本發明的感光性組合還可以含有密接性提升劑。
密接性提升劑可使用矽烷系偶聯劑、鋁系偶聯劑、鈦酸酯系偶聯劑等偶聯劑。矽烷系偶聯劑的具體例是3-縮水甘油氧基丙基二甲基乙氧基矽烷、3-縮水甘油氧基丙基甲基二乙氧基矽烷、3-縮水甘油氧基丙基三甲氧基矽烷、及3-縮水甘油氧基丙基三甲氧基矽烷(3-glycidoxy propyl trimethoxy silane)的共聚物(例如商品名:可特歐希爾(CoatOSil)MP200、邁圖高新材料(Momentive Performance Materials)股份有限公司)。鋁系偶聯劑的具體例是乙醯烷氧基二異丙醇鋁。鈦酸酯系偶聯劑的具體例是四異丙基雙(二辛基亞磷酸酯)鈦酸酯。
自提高解析性的觀點考慮,本發明的感光性組合還可以含有光酸產生劑。光酸產生劑可使用1,2-醌二疊氮化合物。
1,2-醌二疊氮化合物的具體例是2,3,4-三羥基二苯甲酮-1,2-萘醌二疊氮-4-磺酸酯、2,3,4-三羥基二苯甲酮-1,2-萘醌二疊氮-5-磺酸酯、2,4,6-三羥基二苯甲酮-1,2-萘醌二疊氮-4-磺酸酯、2,4,6-三羥基二苯甲酮-1,2-萘醌二疊氮-5-磺酸酯;2,2',4,4'-四羥基二苯甲酮-1,2-萘醌二疊氮-4-磺酸酯、2,2',4,4'-四羥基二苯甲酮-1,2-萘醌二疊氮-5-磺酸酯、2,3,3',4-四羥基二苯甲酮-1,2-萘醌二疊氮-4-磺酸酯、2,3,3',4-四羥基二苯甲酮-1,2-萘醌二疊氮-5-磺酸酯、2,3,4,4'-四羥基二苯甲酮-1,2-萘醌二疊氮-4-磺酸酯、2,3,4,4'-四羥基二苯甲酮-1,2-萘醌二疊氮-5-磺酸酯;雙(2,4-二羥基苯基)甲烷-1,2-萘醌二疊氮-4-磺酸酯、雙(2,4-二羥基苯基)甲烷-1,2-萘醌二疊氮-5-磺酸酯、雙(對羥基苯基)甲烷-1,2-萘醌二疊氮-4-磺酸酯、雙(對羥基苯基)甲烷-1,2-萘醌二疊氮-5-磺酸酯;三(對羥基苯基)甲烷-1,2-萘醌二疊氮-4-磺酸酯、三(對羥基苯基)甲烷-1,2-萘醌二疊氮-5-磺酸酯、1,1,1-三(對羥基苯基)乙烷-1,2-萘醌二疊氮-4-磺酸酯、1,1,1-三(對羥基苯基)乙烷-1,2-萘醌二疊氮-5-磺酸酯;雙(2,3,4-三羥基苯基)甲烷-1,2-萘醌二疊氮-4-磺酸酯、雙(2,3,4-三羥基苯基)甲烷-1,2-萘醌二疊氮-5-磺酸酯、2,2-雙(2,3,4-三羥基苯基)丙烷-1,2-萘醌二疊氮-4-磺酸酯、2,2-雙(2,3,4-三羥基苯基)丙烷-1,2-萘醌二疊氮-5-磺酸酯;1,1,3-三(2,5-二甲基-4-羥基苯基)-3-苯基丙烷-1,2-萘醌二疊氮-4-磺酸酯、1,1,3-三(2,5-二甲基-4-羥基苯基)-3-苯基丙烷-1,2-萘醌二疊氮-5-磺酸酯、4,4'-[1-[4-[1-[4-羥基苯基]-1-甲基乙基]苯基]亞乙基]雙酚-1,2-萘醌二疊氮-4-磺酸酯、4,4'-[1-[4-[1-[4-羥基苯基]-1-甲基乙基]苯基]伸乙基]雙酚-1,2-萘醌二疊氮-5-磺酸酯;雙(2,5-二甲基-4-羥基苯基)-2-羥基苯基甲烷-1,2-萘醌二疊氮-4-磺酸酯、雙(2,5-二甲基-4-羥基苯基)-2-羥基苯基甲烷-1,2-萘醌二疊氮-5-磺酸酯、3,3,3',3'-四甲基-1,1'-螺二茚-5,6,7,5',6',7'-己醇-1,2-萘醌二疊氮-4-磺酸酯、3,3,3',3'-四甲基-1,1'-螺二茚-5,6,7,5',6',7'-己醇-1,2-萘醌二疊氮-5-磺酸酯;2,2,4-三甲基-7,2',4'-三羥基黃烷-1,2-萘醌二疊氮-4-磺酸酯、及2,2,4-三甲基-7,2',4'-三羥基黃烷-1,2-萘醌二疊氮-5-磺酸酯。
自進一步提高所形成的圖案狀透明膜的劣化抑制能力的觀點考慮,本發明的感光性組合物還可以含有紫外線吸收劑。
紫外線吸收劑的具體例是帝奴彬(TINUVIN)P、帝奴彬(TINUVIN)120、帝奴彬(TINUVIN)144、帝奴彬(TINUVIN)213、帝奴彬(TINUVIN)234、帝奴彬(TINUVIN)326、帝奴彬(TINUVIN)571、帝奴彬(TINUVIN)765(均為商品名,日本巴斯夫(BASF Japan)股份有限公司)。
自不使固體成分與溶劑融合、防止凝聚的觀點考慮,本發明的感光性組合物還可以含有防凝聚劑。
防凝聚劑的具體例是迪斯帕畢克(DISPERBYK)-145、迪斯帕畢克(DISPERBYK)-161、迪斯帕畢克(DISPERBYK)-162、迪斯帕畢克(DISPERBYK)-163、迪斯帕畢克(DISPERBYK)-164、迪斯帕畢克(DISPERBYK)-182、迪斯帕畢克(DISPERBYK)-184、迪斯帕畢克(DISPERBYK)-185、迪斯帕畢克(DISPERBYK)-2163、迪斯帕畢克(DISPERBYK)-2164、BYK-220S、迪斯帕畢克(DISPERBYK)-191、迪斯帕畢克(DISPERBYK)-199、迪斯帕畢克(DISPERBYK)-2015(均為商品名、日本畢克化學(BYK Chemie Japan)股份有限公司),FTX-218、福吉特(Ftergent)710FM、福吉特(Ftergent)710FS(均為商品名、尼奧斯(Neos)股份有限公司)、弗洛倫(Flowlen)G-600、弗洛倫(Flowlen)G-700(均為商品名、共榮社化學工業股份有限公司)。
自進一步提高耐熱性、耐化學品性、膜面內均勻性、撓性、柔軟性、彈性的觀點考慮,本發明的感光性組合物還可以含有熱交聯劑。
熱交聯劑的具體例是尼卡拉克(Nikalac)MW-30HM、尼卡拉克(Nikalac)MW-100LM、尼卡拉克(Nikalac)MW-270、尼卡拉克(Nikalac)MW-280、尼卡拉克(Nikalac)MW-290、尼卡拉克(Nikalac)MW-390、尼卡拉克(Nikalac)MW-750LM(均為商品名、三和化學股份有限公司)。
自進一步提高平坦化特性、耐化學品性的觀點考慮,本發明的感光性組合物還可以含有環氧硬化劑。
環氧硬化劑的具體例是馬來酸酐、四氫鄰苯二甲酸酐、六氫鄰苯二甲酸酐、甲基六氫鄰苯二甲酸酐、六氫偏苯三甲酸酐、鄰苯二甲酸酐、偏苯三甲酸酐等,2-十一烷基咪唑、2-十七烷基咪唑、2-苯基咪唑、2-苯基-4-甲基咪唑、2,3-二氫-1H-吡咯並[1,2-a]苯並咪唑、1-氰乙基-2-十一烷基咪唑鎓偏苯三酸酯。
自提高透明性、防止硬化膜暴露在高溫的情況下的黃變的觀點考慮,本發明的感光性組合物還可以含有抗氧化劑。
作為受阻系酚等抗氧化劑,使用如在苯酚的OH的鄰位具有叔丁基,還可以進一步具有烷基等取代基的化合物,及經由對位的二價有機基而在對位進行鍵結的所述化合物的二聚體~四聚體這樣的公知的化合物。市售品的例子是艾迪科斯塔波(Adekastab)AO-60(商品名;艾迪科(ADEKA)股份有限公司)。
<1-8.鹼可溶性聚合物(A)或含有環氧基的聚合物(Bc)的製造方法> 鹼可溶性聚合物(A)或含有環氧基的聚合物(Bc)的聚合方法並無特別限定,優選在使用溶劑的溶液中的自由基聚合。聚合溫度如果是由所使用的聚合引發劑充分引發自由基的溫度,則並無特別限定,通常是50℃~150℃的範圍。聚合時間也無特別限定,通常是1小時~24小時的範圍。而且,該聚合可以在加壓、減壓或大氣壓的任意壓力下進行。
<1-8-1.鹼可溶性聚合物(A)或含有環氧基的聚合物(Bc)的聚合反應中所使用的溶劑> 鹼可溶性聚合物(A)的聚合反應中所使用的溶劑優選為溶解所使用的具有羧基的自由基聚合性單體(a1)、其他自由基聚合性單體(a2)、及所生成的鹼可溶性聚合物(A)的溶劑。含有環氧基的聚合物(Bc)的聚合反應中所使用的溶劑優選為溶解所使用的具有環氧基的自由基聚合性單體(b1)、其他自由基聚合性單體(b2)、及所生成的含有環氧基的聚合物(Bc)的溶劑。以下,有時將聚合反應中使用的溶劑稱為“聚合溶劑”。
鹼可溶性聚合物(A)或含有環氧基的聚合物(Bc)的聚合反應中所使用的溶劑的具體例是甲醇、乙醇、1-丙醇、2-丙醇、丙酮、2-丁酮、乙酸乙酯、乙酸丙酯、3-甲氧基乙酸丁酯、四氫呋喃、乙腈、二噁烷、甲苯、二甲苯、乙二醇單乙醚、丙二醇單甲醚、PGMEA、二乙二醇二甲醚、二乙二醇甲基乙基醚、3-甲氧基丙酸甲酯、3-乙氧基丙酸乙酯、環戊酮、環己酮、N-甲基-2-吡咯烷酮、及N,N-二甲基甲醯胺。聚合溶劑可單獨使用,也可以混合使用兩種以上。
這些溶劑中,優選丙二醇單甲醚、PGMEA、3-甲氧基丙酸甲酯、及二乙二醇甲基乙基醚。
<1-8-2.鹼可溶性聚合物(A)或含有環氧基的聚合物(Bc)的聚合反應中所使用的聚合引發劑> 在鹼可溶性聚合物(A)或含有環氧基的聚合物(Bc)的聚合中可使用公知的聚合引發劑。關於本發明中所使用的鹼可溶性聚合物(A)的聚合中所使用的聚合引發劑、及含有環氧基的聚合物(Bc)的聚合所使用的聚合引發劑,使用自因熱而產生自由基的化合物、偶氮二異丁腈等偶氮系引發劑、及過氧化苯甲醯等過氧化物系引發劑中適宜選擇的至少一種化合物。在所述自由基聚合反應中,為了調節所生成的鹼可溶性聚合物(A)、及含有環氧基的聚合物(Bc)的分子量,還可以添加適量的硫代乙醇酸等鏈轉移劑。
<1-8-3.鹼可溶性聚合物(A)或含有環氧基的聚合物(Bc)的重量平均分子量> 所得的鹼可溶性聚合物(A)或含有環氧基的聚合物(Bc)的重量平均分子量優選為1,000~100,000,更優選為2,000~30,000。如果處於這些範圍,則塗布後的膜厚均一性進一步變得良好。
本說明書中的重量平均分子量是通過凝膠滲透色譜(Gel Permeation Chromatography,GPC)法(管柱溫度:35℃,流速:1 mL/min)所求出的以聚苯乙烯計換算的值。標準的聚苯乙烯是使用分子量為645~132,900的聚苯乙烯(例如安捷倫(Agilent)S-M2-10聚苯乙烯校準套裝(calibration kit)PL2010-0102(商品名;安捷倫科技(Agilent Technologies)股份有限公司)),管柱是使用PLgel MIXED-D(商品名;安捷倫科技(Agilent Technologies)股份有限公司),可以使用四氫呋喃(Tetrahydrofuran,THF)作為流動相來進行測定。再者,本說明書中的市售品的重量平均分子量為目錄記載值。
<2.使用本發明的感光性組合物而製造的圖案狀透明體> 本發明的第2實施方式涉及一種使用本發明的感光性組合物而製造的圖案狀透明體。將本發明的感光性組合物塗布在玻璃等基板上,通過例如加熱等而將溶劑去除,則可形成塗膜。基板的例子是白板玻璃、青板玻璃、及二氧化矽塗層青板玻璃等透明玻璃基板,聚碳酸酯、聚酯、丙烯酸樹脂、氯乙烯樹脂、芳香族聚醯胺樹脂、聚醯胺醯亞胺、及聚醯亞胺等合成樹脂製片材、膜或基板,鋁板、銅板、鎳板、及不銹鋼板等金屬基板,其他陶瓷板,以及具有光電轉換元件的半導體基板。可以視需要對這些基板進行矽烷偶聯劑等化學品處理、等離子體處理、離子鍍、濺射、氣相反應法、及真空蒸鍍等預處理。可利用旋塗法、輥塗法、及浸漬法等現有公知的方法而將感光性樹脂組合物塗布於基板上。其次,利用加熱板(hot plate)或烘箱(oven)等對該塗膜進行加熱(預烘烤)。加熱條件視因各成分的種類及調配比例而異,通常在70℃~150℃下,如果使用烘箱則為5分鐘~15分鐘,如果使用加熱板則為1分鐘~5分鐘。
然後,介隔具有所期望的圖案的掩模對塗膜照射紫外線。紫外線照射量以i射線計適宜為5 mJ/cm2 ~1000 mJ/cm2 。經紫外線照射的感光性組合物通過具有聚合性雙鍵的化合物(C)的聚合而成為三維化交聯體,相對於鹼性顯影液而變得不溶。
其次,利用噴淋顯影、噴霧顯影、覆液顯影、浸漬顯影等,將塗膜浸於鹼性顯影液中,將不需要的部分溶解除去。鹼性顯影液的具體例是碳酸鈉、碳酸氫鈉、氫氧化鈉、氫氧化鉀等的無機鹼類的水溶液,以及氫氧化四甲基銨、氫氧化四乙基銨等有機鹼類的水溶液。而且,還可以在所述鹼性顯影液中添加適當量的甲醇、乙醇、及表面活性劑等而使用。最後,為了使塗膜完全硬化而在150℃~250℃下進行10分鐘~120分鐘的煆燒,則可獲得所期望圖案的圖案狀透明體。
[實施例] 其次,通過合成例、實施例、及比較例對本發明加以具體的說明,但本發明並不受這些實施例任何限定。
[合成例1]鹼可溶性聚合物溶液(A-1)的合成 在帶有攪拌機的四口燒瓶中,以下述組成裝入3-甲氧基丙酸甲酯(以下簡稱為“MMP”)、作為成分(a1)的甲基丙烯酸、作為成分(a2)的甲基丙烯酸苄基酯及N-環己基馬來醯亞胺、作為聚合引發劑的2,2-偶氮雙(異丁酸)二甲酯(以下簡稱為“V-601”。V-601是商品名;和光純藥工業股份有限公司),在110℃下進行3小時加熱。 甲基丙烯酸               (a1)                           55.0 g 甲基丙烯酸苄基酯         (a2)                      87.5 g N-環己基馬來醯亞胺      (a2)                     107.5 g V-601                                                   37.5 g MMP                                                 750.0 g 將反應結束後的溶液冷卻至室溫,獲得鹼可溶性聚合物(A-1)的25.0重量%溶液。利用GPC分析而求出的重量平均分子量是3,100。
再者,此處所謂“鹼可溶性聚合物(A-1)的25.0重量%溶液”是表示將如上所述而裝入的化合物視為完全反應而求出的由固體成分的重量與溶劑的重量而換算的濃度為25.0重量%。
[合成例2]鹼可溶性聚合物溶液(A-2)的合成 在帶有攪拌機的四口燒瓶中,以下述組成裝入3-甲氧基丙酸甲酯(以下簡稱為“MMP”)、作為成分(a1)的甲基丙烯酸、作為成分(a2)的甲基丙烯酸二環戊烯酯及N-環己基馬來醯亞胺、作為聚合引發劑的2,2-偶氮雙(異丁酸)二甲酯(以下簡稱為“V-601”。V-601是商品名;和光純藥工業股份有限公司),在110℃下進行3小時加熱。 甲基丙烯酸               (a1)                         55.0 g 甲基丙烯酸二環戊烯酯        (a2)                        87.5 g N-環己基馬來醯亞胺      (a2)                     107.5 g V-601                                                       37.5 g MMP                                                   750.0 g 將反應結束後的溶液冷卻至室溫,獲得鹼可溶性聚合物(A-2)的25.0重量%溶液。利用GPC分析而求出的重量平均分子量為3,300。
[實施例1] 對帶有攪拌翼的500 ml的可分離式燒瓶進行氮氣置換,在該燒瓶中混合157.3 g合成例1中所得的鹼可溶性聚合物溶液(A-1)、47.2 g作為具有聚合性雙鍵的化合物(C)的M-520、4.72 g作為光聚合引發劑(D)的OXE-01、27.5 g作為環氧化合物(B)的VG3101L、0.79 g作為分子量調整劑(E)的2-羥基-1,4-萘醌、分別為55.8 g、105.2 g的作為稀釋溶劑的進行了脫水純化的二乙二醇甲基乙基醚(以下簡稱為“EDM”)及MMP,而在室溫下進行3 hr攪拌,使其均一地溶解。其次,投入0.10 g美佳法(Megafac)F-556(商品名;迪愛生(DIC)股份有限公司),在室溫下進行1小時攪拌,用膜濾器(0.2 μm)進行過濾而製備塗布液。再者,鹼可溶性聚合物溶液(A-1)含有反應溶劑。本實施例的溶劑(F)成為該反應溶劑與所述稀釋溶劑的總計。該規定也適用於以下的實施例及比較例中。
[解析性評價用基板的製作] 以800 rpm將該感光性組合物以10秒旋塗於玻璃基板上,在80℃的加熱板上進行2分鐘預烘烤。其次,在空氣中,隔著具有20 μm的孔圖案的掩模,使用近接式曝光機TME-150PRC(商品名;拓普康(Topcon)股份有限公司),以100 μm的曝光間隙進行曝光。曝光量是利用累計光量計UIT-102(商品名;牛尾(USHIO)股份有限公司)、光接收器UVD-365PD(商品名;牛尾(USHIO)股份有限公司)進行測定而設為30 mJ/cm2 。將曝光後的塗膜在0.04重量%的氫氧化鉀水溶液中進行60秒的覆液顯影後,用純水對塗膜清洗20秒後,利用100℃的加熱板進行2分鐘乾燥。進一步在烘箱中以230℃進行30分鐘後烘烤,獲得膜厚為1.5 μm的硬化膜。
關於如上所述而獲得的硬化膜,針對解析性而評價特性。
[解析性的評價方法] 用1,000倍的光學顯微鏡對所得的帶有圖案狀透明體的玻璃基板進行觀察,確認20 μm的孔圖案的解析性。將解析的情況作為“○”,將存在殘渣而無法解析的情況作為“×”。
[殘膜率的評價方法] 測定預烘烤後的膜厚與顯影後的膜厚,用下述計算式而算出殘膜率。將顯影後的殘膜率的值為80%以上的情況評價為 “○”,將不足80%的情況評價為“×”。   殘膜率=(顯影後的膜厚/預烘烤後的膜厚)×100
[耐熱率的評價方法] 將所得的帶有硬化膜的玻璃基板在230℃下進行90分鐘的再加熱後,測定加熱前的膜厚及加熱後的膜厚,用下述計算式而算出殘膜率。將加熱後的殘膜率為95%以上的情況評價為“○”,將加熱後的殘膜率不足95%的情況評價為“×”。   殘膜率=(加熱後的膜厚/加熱前的膜厚)×100
[平坦化特性評價用基板的製作] 其次,以800 rpm歷時10秒將感光性組合物旋塗於使用最大階差約0.8 μm的樹脂黑色矩陣的顏料分散彩色濾光片基板上,在80℃的加熱板上進行2分鐘預烘烤。其次,使用接近式曝光機TME-150PRC(商品名;拓普康(Topcon)股份有限公司)進行曝光。曝光量是利用累計光量計UIT-102(商品名;牛尾(USHIO)股份有限公司)、光接收器UVD-365PD(商品名;牛尾(USHIO)股份有限公司)進行測定而設為30 mJ/cm2 。利用0.04重量%氫氧化鉀水溶液,以25℃對曝光後的塗膜進行1分鐘的覆液顯影後,用純水對塗膜清洗20秒後,利用100℃的加熱板進行2分鐘乾燥。進一步在烘箱中以230℃下進行30分鐘後烘烤,獲得帶有膜厚為1.5 μm的硬化膜的彩色濾光片基板。
關於如上所述而獲得的硬化膜,針對平坦化特性而進行評價。
[平坦化特性的評價方法] 使用階差·表面粗糙度·微細形狀測定裝置(商品名;P-16、科磊(KLA TENCOR)股份有限公司)測定所得的帶有硬化膜的彩色濾光片基板的硬化膜表面的階差。將包含黑色矩陣的R、G、B像素間的階差的最大值(以下略記為“最大階差”)不足0.16 μm的情況評價為“○”,將0.16 μm以上的情況評價為“×”。
[實施例2~實施例7] 依據實施例1的方法,以表1中所記載的比例(單位:g)將各成分混合溶解而獲得感光性組合物。 [表1] 表1 單位為克(g)
實施實施例2~實施例7的評價。將評價結果表示於表2中。 [表2] 表2
[比較例1~比較例4] 依據實施例1的方法,以表3中所記載的比例(單位:g)將各成分混合溶解而獲得感光性組合物。 [表3] 表3 單位為克(g)
實施比較例1~比較例4的評價。將評價結果表示於表4中。 [表4] 表4
根據表中所示的結果可知:實施例1~實施例7在解析性、顯影後殘膜率、耐熱性、平坦化特性的所有方面取得平衡且優異。比較例1中所形成的塗膜在顯影時完全溶解,因此無法進行解析性、顯影後殘膜率、耐熱性、平坦化特性的評價。對此認為,由於2-羥基-1,4-萘醌的添加量超過適當的重量,所以曝光時的聚合反應的進行不充分,未生成可形成膜的聚合物。可知比較例2~比較例4的硬化膜的解析性或顯影後殘膜率、平坦化特性差。
[產業上的可利用性] 由本發明的感光性組合物而獲得的硬化膜的解析性、透明性、耐熱性、及平坦化特性等作為光學材料的特性均優異,自此方面考慮,可作為彩色濾光片、LED發光元件及光接收元件等的各種光學材料等的保護膜、以及形成在TFT與透明電極之間及透明電極與取向膜之間的透明絕緣膜、形成在電極間的透明絕緣膜而利用。
無。
無。

Claims (18)

  1. 一種感光性組合物,其含有鹼可溶性聚合物(A)、環氧化合物(B)、具有聚合性雙鍵的化合物(C)、光聚合引發劑(D)、分子量調整劑(E)、及溶劑(F),其特徵在於: 光聚合引發劑(D)的重量多於分子量調整劑(E)的重量的5.0倍且為20倍以下。
  2. 如申請專利範圍第1項所述的感光性組合物,其特徵在於:分子量調整劑(E)是選自硫醇類、黃原酸類、醌類、2,4-二苯基-4-甲基-1-戊烯中的一種以上。
  3. 如申請專利範圍第1項所述的感光性組合物,其特徵在於:分子量調整劑(E)是萘醌類。
  4. 如申請專利範圍第1項所述的感光性組合物,其特徵在於:分子量調整劑(E)是2-羥基-1,4-萘醌。
  5. 如申請專利範圍第1項所述的至4中任一項所述的感光性組合物,其特徵在於:鹼可溶性聚合物(A)是使含有具有羧基的自由基聚合性單體(a1)及其他自由基聚合性單體(a2)的自由基聚合性單體的混合物聚合而獲得,具有羧基的自由基聚合性單體(a1)及其他自由基聚合性單體(a2)均不具有環氧基或氧雜環丁基; 環氧化合物(B)是選自縮水甘油醚型環氧化合物(Ba)、脂環式脂肪族環氧化合物(Bb)、及含有環氧基的聚合物(Bc)中的至少一種, 含有環氧基的聚合物(Bc)是使含有具有環氧基的自由基聚合性單體(b1)及其他自由基聚合性單體(b2)的自由基聚合性單體的混合物聚合而獲得, 具有環氧基的自由基聚合性單體(b1)及其他自由基聚合性單體(b2)均不具有羧基; 具有聚合性雙鍵的化合物(C)是選自二季戊四醇五丙烯酸酯、二季戊四醇六丙烯酸酯、季戊四醇三丙烯酸酯、季戊四醇四丙烯酸酯、異氰脲酸環氧乙烷改性三丙烯酸酯、鄰苯二甲酸單羥基乙基丙烯酸酯、琥珀酸改性季戊四醇三丙烯酸酯、鄰苯二甲酸改性季戊四醇三丙烯酸酯、琥珀酸改性二季戊四醇五丙烯酸酯、鄰苯二甲酸改性二季戊四醇五丙烯酸酯、及多元酸改性丙烯酸寡聚物中的至少一種;而且, 光聚合引發劑(D)是選自α-氨基苯烷基酮系光聚合引發劑、醯基氧化膦系光聚合引發劑、及肟酯系光聚合引發劑中的一種以上。
  6. 如申請專利範圍第5項所述的感光性組合物,其特徵在於:鹼可溶性聚合物(A)是使相對於具有羧基的自由基聚合性單體(a1)及其他自由基聚合性單體(a2)的總重量而含有10重量%~60重量%的具有羧基的自由基聚合性單體(a1)、及40重量%~90重量%的其他自由基聚合性單體(a2)的自由基聚合性單體的混合物聚合而獲得的共聚物; 縮水甘油醚型環氧化合物(Ba)是選自1,3-雙[4-[1-[4-(2,3-環氧丙氧基)苯基]-1-[4-[1-[4-(2,3-環氧丙氧基)苯基]-1-甲基乙基]苯基]乙基]苯氧基]-2-丙醇、及2-[4-(2,3-環氧丙氧基)苯基]-2-[4-[1,1-雙[4-([2,3-環氧丙氧基]苯基)]乙基]苯基]丙烷中的至少一種, 脂環式脂肪族環氧化合物(Bb)是2,2-雙(羥基甲基)-1-丁醇的1,2-環氧基-4-(2-氧雜環丙基)環己烷加成物; 具有聚合性雙鍵的化合物(C)是選自二季戊四醇五丙烯酸酯、二季戊四醇六丙烯酸酯、季戊四醇三丙烯酸酯、季戊四醇四丙烯酸酯、及多元酸改性丙烯酸寡聚物中的至少一種;而且, 光聚合引發劑(D)是O-醯基肟系化合物。
  7. 如申請專利範圍第6項所述的感光性組合物,其特徵在於:具有羧基的自由基聚合性單體(a1)是選自丙烯酸及甲基丙烯酸中的至少一種; 光聚合引發劑(D)是選自1,2-辛二酮-1-[4-(苯硫基)苯基]-2-(O-苯甲醯基肟)、乙酮,1-[9-乙基-6-(2-甲基苯甲醯基)-9H-咔唑-3-基]-,1-(O-乙醯基肟)、及1,2-丙二酮-1-[4-[4-(2-羥基乙氧基)苯硫基]苯基]-2-(O-乙醯基肟)中的至少一種。
  8. 如申請專利範圍第7項所述的感光性組合物,其特徵在於:其他自由基聚合性單體(a2)包含選自具有芳香環的(甲基)丙烯酸酯、具有二環戊基的(甲基)丙烯酸酯、具有二環戊烯基的(甲基)丙烯酸酯、及N-取代馬來醯亞胺中的至少一種。
  9. 如申請專利範圍第8項所述的感光性組合物,其特徵在於:其他自由基聚合性單體(a2)是選自(甲基)丙烯酸苄基酯、(甲基)丙烯酸二環戊基酯、(甲基)丙烯酸二環戊烯氧基乙酯、N-苯基馬來醯亞胺、及N-環己基馬來醯亞胺中的至少一種。
  10. 如申請專利範圍第9項所述的感光性組合物,其特徵在於:其他自由基聚合性單體(a2)是相對于其他自由基聚合性單體(a2)的總重量而含有50重量%以上的選自(甲基)丙烯酸苄基酯、(甲基)丙烯酸二環戊基酯、(甲基)丙烯酸二環戊烯氧基乙酯、N-苯基馬來醯亞胺、及N-環己基馬來醯亞胺中的至少一種。
  11. 一種硬化膜,其特徵在於:其是由如申請專利範圍第1項至第10項中任一項所述的感光性組合物而獲得。
  12. 一種彩色濾光片,其特徵在於:使用如申請專利範圍第11項所述的硬化膜作為保護膜。
  13. 一種顯示元件,其特徵在於:使用如申請專利範圍第12項所述的彩色濾光片。
  14. 一種固體攝像元件,其特徵在於:使用如申請專利範圍第12項所述的彩色濾光片。
  15. 一種顯示元件,其特徵在於:使用如申請專利範圍第11項所述的硬化膜作為形成在薄膜晶體管與透明電極之間的透明絕緣膜。
  16. 一種顯示元件,其特徵在於:使用如申請專利範圍第11項所述的硬化膜作為形成在透明電極與取向膜之間的透明絕緣膜。
  17. 一種觸摸屏,其特徵在於:使用如申請專利範圍第11項所述的硬化膜作為形成在電極間的透明絕緣膜。
  18. 一種發光二極管發光體,其特徵在於:使用如申請專利範圍第11項所述的硬化膜作為保護膜。
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Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP7215171B2 (ja) * 2017-09-26 2023-01-31 東レ株式会社 感光性樹脂組成物、硬化膜、硬化膜を具備する素子、硬化膜を具備する有機el表示装置、硬化膜の製造方法、および有機el表示装置の製造方法
US11118082B2 (en) * 2017-12-29 2021-09-14 Industrial Technology Research Institute Composition, insulating material, and method for preparing an insulating material
JP7047559B2 (ja) * 2018-04-12 2022-04-05 Jnc株式会社 熱硬化性組成物
JP2020164759A (ja) * 2019-03-29 2020-10-08 太陽インキ製造株式会社 硬化性樹脂組成物、ドライフィルム、硬化物、および、電子部品

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011185962A (ja) * 2010-03-04 2011-09-22 Asahi Kasei E-Materials Corp 光重合性樹脂組成物積層体
JP5403175B2 (ja) * 2012-04-23 2014-01-29 大日本印刷株式会社 カラーフィルタ用色材分散液、カラーフィルタ用着色樹脂組成物、カラーフィルタ、並びに、液晶表示装置及び有機発光表示装置
JP2015072336A (ja) * 2013-10-02 2015-04-16 Jnc株式会社 感光性組成物及びそれを用いた表示素子
KR101851822B1 (ko) * 2014-03-10 2018-04-26 동우 화인켐 주식회사 컬러필터용 착색감광성 수지 조성물, 컬러필터 및 이를 구비한 액정표시장치

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