TW201823011A - 光學薄膜之製造方法、偏光板及顯示裝置 - Google Patents

Abstract

一種光學薄膜之製造方法以及使用其之光學薄膜之偏光板及顯示裝置。前述光學薄膜之製造方法包含提供多層薄膜至剝離處理之剝離步驟，前述多層薄膜係包含由熱塑性樹脂A而成之薄膜（A）及設置於前述薄膜（A）之其中一面或雙面之薄膜（B）之多層薄膜，前述剝離處理包含於溫度Tov（℃）時自前述薄膜（A）以施加沿前述薄膜（A）之厚度方向之力的方式剝離前述薄膜（B），前述溫度Tov與前述薄膜（A）之玻璃轉移溫度TgA（℃）滿足Tov≧TgA之關係，於前述多層薄膜中，於溫度Tov之前述薄膜（A）與前述薄膜（B）之剝離力Pa為0.03 N/50mm以上且0.5 N/50mm以下。

Description

光學薄膜之製造方法、偏光板及顯示裝置

本發明係關於一種光學薄膜之製造方法、偏光板及顯示裝置。

液晶顯示裝置等顯示裝置中，由於光學補償等目的，現正廣泛進行具有相位差之樹脂製光學薄膜的設置。作為將相位差賦予樹脂製薄膜之方法，現正廣泛進行此薄膜之延伸。

作為如此之光學薄膜，有企求NZ係數Nz滿足0＜Nz＜1之薄膜的情況，且以0.4＜Nz＜1之薄膜為佳，且以Nz=0.5之薄膜為更理想的情況。然而，以通常的方法延伸薄膜時，因NZ係數之值會成為小於0之值或大於1之值，而難以獲得0＜Nz＜1之薄膜。

作為獲得0＜Nz＜1之薄膜的方法，可考慮採用組合多數薄膜之多層薄膜。然而，現正企求以較單純的單層結構實現0＜Nz＜1之薄膜。

作為以單層薄膜實現0＜Nz＜1之薄膜的方法，已知專利文獻1（日本專利公開第H08-207119號公報（對應他國公報：歐洲專利申請公開第0707938號說明書））所記載之方法。專利文獻1中，將收縮薄膜貼合於加工對象之樹脂薄膜，之後令收縮薄膜收縮，藉此令樹脂薄膜收縮，其結果達成0＜Nz＜1。

然而，專利文獻1所記載之方法中，難以控制收縮薄膜之收縮力，且令收縮薄膜收縮之步驟繁雜，而難以簡便製造0＜Nz＜1之薄膜。

因此，本發明之目的在於提供可輕易製造0＜Nz＜1之光學薄膜的光學薄膜製造方法。本發明之進一步目的在於提供可輕易製造且具備高度光學補償功能之偏光板，以及提供可輕易製造且呈現高度光學補償之顯示裝置。

本發明人為了解決前述課題而進行研究。其結果，本發明人發現作為前所未有的光學薄膜之製造方法，利用薄膜之剝離力，藉由沿厚度方向延伸薄膜而可解決此課題。再者，發現藉由使進行沿此厚度方向之延伸的溫度為特定溫度，及使提供於剝離之多層薄膜的特性為特定特性，可進行良好的厚度方向延伸之操作。本發明係基於此發現而完成者。

亦即，本發明如下所述。

［1］一種光學薄膜之製造方法，包含於剝離處理提供多層薄膜之剝離步驟；前述多層薄膜係包含由熱塑性樹脂A而成之薄膜（A）及設置於前述薄膜（A）之其中一面或雙面之薄膜（B）之多層薄膜；前述剝離處理包含於溫度Tov（℃）時自前述薄膜（A）以施加沿前述薄膜（A）之厚度方向之力之方式剝離前述薄膜（B）；前述溫度Tov與前述薄膜（A）之玻璃轉移溫度TgA（℃）滿足Tov≧TgA之關係；於前述多層薄膜中，於溫度Tov之前述薄膜（A）與前述薄膜（B）之剝離力Pa為0.03 N/50mm以上且0.5 N/50mm以下。

［2］如記載於［1］之光學薄膜之製造方法，前述熱塑性樹脂A含有含脂環結構聚合物。

［3］如記載於［1］或［2］之光學薄膜之製造方法，更包含沿前述多層薄膜之面內方向延伸前述多層薄膜之延伸步驟。

［4］一種偏光板，具備藉由如記載於［1］～［3］之任一項之製造方法所製造之光學薄膜及偏光件。

［5］一種顯示裝置，具備藉由如記載於［1］～［3］之任一項之製造方法所製造之光學薄膜。

若根據本發明，則提供可輕易製造0＜Nz＜1之光學薄膜的光學薄膜之製造方法；可輕易製造且具備高度光學補償功能之偏光板；以及可輕易製造且呈現高度光學補償之顯示裝置。

以下將針對本發明揭示實施型態及例示物以詳細說明。但是，本發明並非限定於以下所揭示之實施型態及例示物，在未脫離本發明之申請專利範圍及其均等範圍之範圍中得任意變更並實施。

於以下說明中，除非另有註明，否則薄膜之面內延遲（retardation）Re係由Re=(nx−ny)×d所表示之值，除非另有註明，否則薄膜之厚度方向之延遲Rth係由Rth={(nx+ny)/2−nz}×d所表示之值。而且，薄膜之NZ係數Nz係由Nz=(nx−nz)/(nx−ny)所表示之值，亦得由Nz=(Rth/Re)+0.5所表示。於此，nx表示薄膜之面內方向，即垂直於薄膜之厚度方向之方向上賦予最大折射率之方向的折射率。ny表示前述面內方向上正交於nx方向之方向的折射率。nz表示厚度方向的折射率。d表示薄膜之厚度。除非另有註明，否則面內延遲之量測波長為590 nm。

於以下說明中，除非另有註明，否則所謂「偏光板」不僅為剛直的組件，亦可包含例如樹脂製之薄膜般具有可撓性的組件。

於以下說明中，所謂「長條狀」之薄膜，係指相對於幅寬具有5倍以上之長度的薄膜，以具有10倍或以上之長度為佳，具體係指具有收捲成輥狀以儲存或運輸程度之長度之薄膜。長條狀之薄膜之長度上限並無特別限制，得為例如相對於幅寬之10萬倍以下。

於該技術領域中，所謂薄膜之「延伸」，通常意謂以令薄膜之形狀沿薄膜之面內方向之一個以上的方向擴張而令薄膜變形之操作。然而於本申請中，薄膜之「延伸」並非限制於此，而亦包含以令薄膜之形狀沿面內方向以外的方向（非平行於薄膜之面方向的方向，例如厚度方向等）擴張而令薄膜變形之操作。於以下說明中，於上下文顯知之情況下，通常將以令薄膜之形狀沿薄膜之面內方向之一個以上的方向擴張而令薄膜變形之操作簡稱為「延伸」。另一方面，與如此通常之「延伸」有所區別，而將以令薄膜之形狀沿面內方向以外的方向擴張而令薄膜變形之處理稱為「厚度方向延伸」，且將經過如此處理之薄膜稱為「厚度方向延伸薄膜」。

［1.光學薄膜之製造方法］

本發明之光學薄膜之製造方法，包含提供特定多層薄膜於特定剝離處理之剝離步驟。

［1.1.多層薄膜］

提供於剝離步驟之多層薄膜係包含由熱塑性樹脂A而成之薄膜（A）及設置於前述薄膜（A）之其中一面或雙面之薄膜（B）之多層薄膜。

［1.1.1.薄膜（A）］

構成薄膜（A）之熱塑性樹脂A並未特別受到限定，得賦予作為光學薄膜之期望物性，且得適當選擇採用包含各種聚合物之樹脂。

作為熱塑性樹脂A所包含之聚合物之佳例，可列舉含脂環結構聚合物。

含脂環結構聚合物係重複單元中具有脂環結構之聚合物，可使用主鏈中含有脂環結構之聚合物及於側鏈含有脂環結構之聚合物之任一者。含脂環結構聚合物得包含結晶性樹脂及非晶性聚合物。就獲得本發明之期望效果的觀點及製造成本的觀點而言，以非晶性含脂環結構聚合物為佳。

作為非晶性含脂環結構聚合物所具有之脂環結構，可列舉例如：環烷烴結構、環烯烴結構等，但就熱穩定性等觀點而言，以環烷烴結構為佳。

構成一個脂環結構之重複單元的碳數並無特別限制，但通常為4個～30個，以5個～20個為佳，以6個～15個為較佳。

含脂環結構聚合物中之具有脂環結構的重複單元之比例可視使用目的而適當選擇，但通常為50重量%以上，以70重量%以上為佳，以90重量%以上為較佳。將具有脂環結構之重複單元定為如此之多，可提升基材薄膜之耐熱性。

含脂環結構聚合物具體而言可列舉：（1）降烯（norbornene）聚合物、（2）單環的環烯烴聚合物、（3）環狀共軛二烯聚合物、（4）乙烯基脂環烴聚合物，及此些之氫化物等。其中，就透明性及成形性的觀點而言，以降烯聚合物及其氫化物為較佳。

作為降烯聚合物，可列舉例如：降烯單體之開環聚合物、與能與降烯單體開環共聚之其他單體所形成之開環共聚物及此些之氫化物；降烯單體加成聚合物、與能與降烯單體共聚之其他單體所形成之加成共聚物等。其中，就透明性之觀點而言，尤以降烯單體之開環聚合物之氫化物為佳。

作為上述之含脂環結構聚合物之例，可列舉例如日本專利公開第2002-321302號公報所揭示之聚合物。

而且，作為結晶性含脂環結構聚合物之例，可列舉日本專利公開第2016-26909號公報所揭示之聚合物。

作為熱塑性樹脂A所包含之聚合物之其他例，可列舉三乙醯纖維素（triacetyl cellulose）、聚苯乙烯系聚合物等廣泛使用之聚合物。特別是聚苯乙烯系聚合物中，尤以得採用具有對排（syndiotactic）結構之聚苯乙烯系聚合物為佳。作為具有對排結構之聚苯乙烯系聚合物之例，可列舉日本專利公開第2014-186273號公報所揭示之聚合物。

熱塑性樹脂A所包含之聚合物之重量平均分子量並未特別受到限定，但以10000以上為佳，以20000以上為較佳，另以300000以下為佳，以250000以下為較佳。重量平均分子量為於此範圍內之情況下，可輕易獲得機械強度及成形加工性優異之熱塑性樹脂A。

熱塑性樹脂A雖亦可僅由以上述等物作為主成分之聚合物而成，但只要不顯著損害本發明之效果，亦可包含任意的摻合劑。樹脂中，作為主成分之聚合物之比例以70重量%以上為佳，以80重量%以上為較佳。

於各式各樣的市售商品中，得適當選擇採用具有期望特性者作為熱塑性樹脂A。作為此市售品之例，可列舉：商品名「ZEONOR」（日本瑞翁股份有限公司製）、商品名「TOPAS」（POLYPLASTICS股份有限公司製）及商品名「ARTON」（JSR股份有限公司製）之商品群。

熱塑性樹脂A之玻璃轉移溫度TgA以100℃以上為佳，以110℃以上為較佳，另以180℃以下為佳，以170℃以下為較佳。TgA為於此範圍之情況下，可順利進行厚度方向延伸等處理，且可輕易獲得具有期望光學體特性之光學薄膜。

薄膜（A）之厚度以10 μm以上為佳，以20 μm以上為較佳，另以200 μm以下為佳，以190 μm以下為較佳。薄膜（A）之厚度為於此範圍之情況下，可順利進行厚度方向延伸等處理，而可輕易獲得具有期望光學體特性之光學薄膜。

製造薄膜（A）之方法並未特別受到限定而得採用任意製造方法。舉例而言，藉由將熱塑性樹脂A成形為期望形狀，得製造薄膜（A）。作為用以成形樹脂A之成形方法之佳例，可列舉擠製成形。藉由進行擠製成形，可有效率地製造具有期望尺寸之薄膜（A）。

［1.1.2.薄膜（B）］

作為構成薄膜（B）之材料並未特別受到限定，得適當選擇採用包含適用於本發明之實施之各種聚合物的樹脂。於以下內容中，此樹脂簡稱為「樹脂B」。

作為樹脂B，得使用熱塑性樹脂。作為樹脂B所包含之聚合物之例及其分子量之較佳範圍，得列舉與於上所列舉作為熱塑性樹脂A所包含之含脂環結構聚合物及其他聚合物之例相同之例。

作為樹脂B所包含之含脂環結構聚合物之其他例，可列舉：包含具有含環烴基化合物氫化物單元［I］之2個以上的聚合物嵌段與具有鏈烴化合物氫化物單元［II］或單元［I］及單元［II］之組合之1個以上的聚合物嵌段之氫化嵌段共聚物。作為此氫化嵌段共聚物之具體例，可列舉例如國際專利公開第WO2016/152871號所揭示之聚合物。

作為樹脂B所包含之聚合物之其他例，可列舉聚丙烯、（甲基）丙烯酸酯聚合物、聚醯亞胺等廣泛使用之聚合物。於市售商品中，得適當選擇採用具有期望特性者作為樹脂B。作為此市售品之例，可列舉：自黏性延伸聚丙烯薄膜（例如FUTAMURA化學股份有限公司製，商品名「FSA 010M #30」）。

薄膜（B）之厚度以10 μm以上為佳，以15 μm以上為較佳，另以100 μm以下為佳，以90 μm以下為較佳。薄膜（B）之厚度為於此範圍之情況下，可順利進行厚度方向延伸等處理，且可輕易獲得具有期望光學體特性之光學薄膜。

製造薄膜（B）之方法並未特別受到限定而得採用任意製造方法。舉例而言，藉由將樹脂B成形為期望形狀，得製造薄膜（B）。作為用以成形樹脂B之成形方法之佳例，可列舉擠製成形。藉由進行擠製成形，可有效率地製造具有期望尺寸之薄膜（B）。

［1.1.3.其他層體］

多層薄膜除了薄膜（A）及薄膜（B）以外，還得包含任意層體。例如得包含黏合劑層。作為構成黏合劑層之黏合劑，得使用市售之各種黏合劑。具體而言，得使用包含丙烯酸聚合物作為主成分之聚合物之黏合劑。舉例而言，自市售之具有黏合劑層之薄膜（例如藤森工業製之「MASTACK系列」）轉印黏合劑層於薄膜（A）或薄膜（B），得將此利用作為多層薄膜中之黏合劑層。

多層薄膜於薄膜（A）及（B）之間具有黏合劑層之情況中，以此黏合劑層之對於薄膜（B）之黏合力高於其對於薄膜（A）之黏合力為佳。藉由具有如此之黏合力差異，可減少對於光學薄膜之殘膠，而可輕易獲得高品質的光學薄膜。此黏合力差異得藉由適當選擇黏合劑層之材質或視需求而於薄膜（A）及（B）之表面施加適當的表面處理而獲得。

［1.1.4.剝離力］

於本發明之製造方法中，使用於溫度Tov之薄膜（A）與薄膜（B）之剝離力Pa為特定範圍內之值者作為多層薄膜。於此，溫度Tov係於本發明之製造方法之剝離步驟中的薄膜溫度。

剝離力Pa為0.03 N/50mm以上，以0.035 N/50mm以上為佳，以0.04 N/50mm以上為較佳，另為0.5 N/50mm以下，以0.4 N/50mm以下為佳，以0.3 N/50mm以下為較佳。藉由剝離力為於此範圍內，可抑制至剝離步驟之步驟中之皺褶產生，可抑制於剝離步驟前之階段之薄膜（B）的非意圖剝離，且可達成於薄膜（A）之表面的良好剝離，而可順利製造良好品質之光學薄膜。

剝離力Pa得藉由進行關於多層薄膜之180º剝離試驗而求得。180º剝離試驗中，得將多層薄膜切出縱向方向×幅寬方向=300 mm×50 mm之切片，置入附有恆溫恆濕槽之拉伸試驗機（例如INSTRON公司製之「5564型」），於溫度Tov時實施。具體而言，以量測裝置之一側之夾頭（chuck）握持薄膜（A），以另一側之夾頭握持薄膜（B），於拉伸速度300 mm/min之條件下而得實施剝離試驗。

［1.1.5.多層薄膜之製備方法］

製備提供於本發明之製造方法的多層薄膜之方法，並未特別受到限定，得採用任意方法。此調製得例如藉由貼合薄膜（A）與薄膜（B）而進行。於貼合之前，得視需求而對薄膜（A）及／或薄膜（B）進行電暈（corona）處理等表面處理。而且，於貼合之前，得視需求而於薄膜（A）及／或薄膜（B）之表面形成黏合劑層，且經由此黏合劑層而進行貼合。得藉由對齊縱向方向以輥對輥貼合長條狀薄膜（A）與長條狀薄膜（B）而進行貼合。

［1.2.剝離步驟］

本發明之製造方法中之剝離步驟中，將多層薄膜提供於剝離處理。剝離處理包含自薄膜（A）剝離薄膜（B）之動作。藉由進行此剝離處理，可沿厚度方向對薄膜（A）施加牽引力，其結果可達成薄膜（A）之厚度方向延伸。於多層薄膜具有多層之薄膜（B）的情況下，多層之薄膜（B）通常同時剝離。

圖1係概略表示本發明之製造方法中進行剝離步驟之剝離裝置及使用該裝置之剝離步驟的操作之一例的側視圖。於圖1中，沿箭號A11方向運送長條狀多層薄膜100，之後於剝離區域P中提供給剝離步驟。

多層薄膜100包含薄膜（A）131、設置於薄膜（A）131之其中一面之薄膜（B）111、設置於薄膜（A）131之另一面之薄膜（B）112。多層薄膜100更包含介於薄膜（A）及（B）之間的黏合劑層121及122。多層薄膜中之薄膜（A）131之厚度由箭號A14表示。

於剝離步驟中之剝離處理，得藉由沿與所運送之薄膜（A）之面內方向相異之方向牽引薄膜（B）而進行。於圖1之例中，於剝離區域P內沿薄膜（B）111之縱向方向牽引薄膜（B）111往箭號A12，且沿薄膜（B）112之縱向方向牽引薄膜（B）112往箭號A13。藉此，自多層薄膜之運送方向之下游朝向上游進行剝離，而可以沿薄膜（A）131之厚度方向施加力之方式剝離薄膜（B）111及112。於此所謂之薄膜厚度方向之力，為非平行於薄膜面內方向之方向的力，以接近垂直於薄膜之面之方向的方向為佳。如此剝離步驟之結果，可獲得經過厚度方向延伸之光學薄膜132。而且，藉由平衡箭號A12方向之牽引力與箭號A13方向之牽引力，可於不賦予多層薄膜100及光學薄膜132之非期望面內方向張力的情形下，進行此些牽引。

於圖1之例中，光學薄膜132之厚度由箭號A15表示。由於厚度方向延伸之結果，光學薄膜132具有比多層薄膜100中之薄膜（A）131更厚之厚度。然而本發明之製造方法並非以此為限。舉例而言，剝離步驟中亦伴隨沿面內方向延伸之情況，光學薄膜之厚度雖並非必定成為比薄膜（A）之厚度更厚，即使於如此之情況中，亦具有可能獲得0＜Nz＜1之光學薄膜之情況。

由剝離區域P中之剝離步驟之結果而獲得之光學薄膜132係進一步沿箭號A11運送。多層薄膜100及光學薄膜132以由剝離區域上游之軋輥151及152以及剝離區域下游之軋輥161及162握持之狀態運送。藉由適當調整此些軋輥之圓周速率而得調整運送速度。

而且，視需求而得將下游軋輥之周速調整為比上游軋輥之周速更快。藉由進行此調整而可對於多層薄膜100及光學薄膜132賦予期望張力。若有需求，則可藉由調整此張力而隨剝離步驟進行沿薄膜縱向方向之延伸步驟。再者，亦可視需求於剝離步驟的同時，或者於剝離區域P之上游或下游中，進行沿薄膜面內任意方向之延伸。

本發明之光學薄膜之製造方法中，進行厚度方向延伸之外還進行面內方向延伸的情況下之延伸倍率，得按照所企求賦予於光學薄膜之期望光學性能而適當調整。具體延伸倍率以1倍以上為佳，以1.01倍以上為較佳，另以2倍以下為佳，以1.8倍以下為較佳。面內方向延伸倍率為此範圍之情況下，可輕易獲得期望光學性能。

於剝離裝置中，連續進行關於長條狀多層薄膜之剝離步驟之情況下，藉由平衡多層薄膜之運送速度與剝離速度，而可將剝離區域P設定於剝離裝置中之某一位置。於此情況，多層薄膜之運送速度成為剝離速度。剝離速度得按照所企求賦予於光學薄膜之期望光學性能而適當調整。具體剝離速度以1 m/min以上為佳，以2 m/min以上為較佳，另以50 m/min以下為佳，以40 m/min以下為較佳。剝離速度為此範圍之情況下，可輕易獲得期望光學性能。

本發明之光學薄膜之製造方法中，於溫度Tov（℃）進行剝離步驟。溫度Tov與薄膜（A）之玻璃轉移溫度TgA（℃）滿足Tov≧TgA之關係。Tov以（TgA+3）℃以上為佳，以（TgA+5）℃以上為較佳。藉由將Tov調整於此範圍，可對於光學薄膜輕易賦予期望NZ係數等光學特性。Tov之上限並未特別受到限定，但得定為例如（TgA+40）℃以下。剝離步驟中之溫度Tov，係於剝離裝置中，藉由以適當加熱裝置加熱，而得調整圍繞包含剝離區域之區域的烘箱（圖未示）內之溫度。

圖2係概略表示本發明之製造方法中進行剝離步驟之剝離裝置及使用該裝置之剝離步驟的操作之另一例的側視圖。於圖2中，沿箭號A21方向運送長條狀多層薄膜200，之後於剝離區域P中提供給剝離步驟。多層薄膜200雖包含薄膜（A）231、設置於薄膜（A）231之其中一面之薄膜（B）211，但於薄膜（A）231之另一面並未設置薄膜（B）。多層薄膜200更包含介於薄膜（A）及（B）之間的黏合劑層221。多層薄膜中之薄膜（A）231之厚度由箭號A24表示。

於此例中，因多層薄膜200僅於其中一面具有薄膜（B）211，故於剝離步驟中之剝離處理，係藉由沿與所運送之薄膜（A）之面內方向相異之方向即箭號A22之方向牽引此薄膜（B）211而進行。因此，藉由剝離區域上游之軋輥151及152以及剝離區域下游之軋輥161及162，對於多層薄膜200及剝離步驟後之光學薄膜232賦予張力，而藉由此張力對抗薄膜（B）211之牽引。如此剝離步驟之結果，可令薄膜（A）231沿厚度方向延伸而獲得光學薄膜232。光學薄膜232具有比薄膜（A）231更厚且由箭號A25表示之厚度。

［2.光學薄膜］

若根據本發明之製造方法，可輕易製造其NZ係數Nz為0＜Nz＜1之光學薄膜。Nz以0.4＜Nz＜1為較佳，理想為Nz=0.5。具有此NZ係數之光學薄膜係難以藉由以通常沿面內方向之薄膜延伸而製造，但得有效用於顯示裝置之光學補償等目的。因此，本發明之製造方法由可輕易製造出製造困難且有效用之製品之觀點而言，發揮有高度效果。

光學薄膜之面內延遲Re係以100 nm以上為佳，以120 nm以上為較佳，另以350 nm以下為佳，以300 nm以下為較佳。於Re為此範圍之情況下，可構成得有效用於光學補償等用途之光學薄膜。光學薄膜之厚度方向延遲Rth係以−80 nm以上為佳，以−70 nm以上為較佳，另以80 nm以下為佳，以70 nm以下為較佳。於Rth為此範圍之情況下，可構成得具有期望NZ係數等特性且有效用於光學補償等用途之光學薄膜。

［3.光學薄膜之用途：偏光板及顯示裝置］

藉由本發明之製造方法所獲得之光學薄膜，係得使用作為顯示裝置等光學裝置之構成要件。舉例而言，組合光學薄膜與其他組件，而得構成偏光板等光學組件。

本發明之偏光板具備藉由前述本發明之製造方法所製造之光學薄膜與偏光件。本發明之偏光板得藉由貼合光學薄膜與偏光件而製造。

貼合於偏光件之前，得於光學薄膜之表面設置任意層體。作為任意層體之例，可列舉：用以提升薄膜表面硬度之硬塗層（hard coat layer）、優化薄膜滑順性之磨砂層（matte layer）及抗反射層。

本發明之偏光板亦可更具備位於自光學薄膜切出之薄膜與偏光件之間且用以接合此些之接合劑層。

偏光件並未特別受到限定，而得使用任意偏光件。作為偏光件之例，可列舉於聚乙烯醇薄膜吸附碘、二色性染料等材料之後進行延伸加工者。作為構成接合劑層之接合劑，可列舉將各種聚合物作為基礎聚合物者。作為此基礎聚合物之例，可列舉例如：丙烯酸聚合物、矽氧聚合物、聚酯、聚胺酯、聚醚及合成橡膠。

偏光板得具備保護薄膜。偏光板所具備之偏光件與保護薄膜之數量雖為任意，但本發明之偏光板通常得具備1層偏光件及設置於其雙面之2層保護薄膜。此二層保護薄膜中，可二者皆為自本發明之光學薄膜所切出之薄膜，亦可僅其中一者為自本發明之光學薄膜所切出之薄膜。

本發明之顯示裝置可具備藉由前述本發明之製造方法所製造之光學薄膜。本發明之顯示裝置以得具備前述本發明之偏光板為佳。本發明之顯示裝置得藉由將本發明之光學薄膜組合於顯示裝置之其他構成要件而適當構成。

本發明之顯示裝置以液晶顯示裝置為佳。作為液晶顯示裝置，可列舉例如具備面內切換（In-Plane Switching，IPS）模式、垂直配向（Vertical Alignment，VA）模式、多域垂直配向（Multi-domain Vertical Alignment，MVA）模式、連續風車狀配向（Continuous Pinwheel Alignment，CPA）模式、混合配向向列（Hybrid Alignment Nematic，HAN）模式、扭曲向列（Twisted Nematic，TN）模式、超扭曲向列（Super-Twisted Nematic，STN）模式、光學補償彎曲（Optical Compensated Bend，OCB）模式等驅動方式之液晶單元的液晶顯示裝置。

本發明之顯示裝置為液晶顯示裝置之情況下，偏光板得設置作為僅令入射於液晶單元之光線及自液晶單元發出之光線中期望特定偏光穿透之層體。偏光板還得設置作為用以防止外部光線反射之構成要件之一部分。

本發明之顯示裝置亦還可為有機電致發光顯示裝置。於此情形下，前述本發明之偏光板可例如設置作為用以防止外部光線反射之構成要件之一部分。

以下，將揭示實施例而針對本發明具體說明。然而，本發明並非限定於以下所揭示之實施例，於未脫離本發明之申請專利範圍及其均等範圍之範圍中得任意變更實施。

於以下之說明中，除非另有註明，否則表示份量之「%」及「份」以重量為基準。而且，除非另有註明，否則說明於以下之操作係於常溫常壓之條件中進行。

［評價方法］

（樹脂之玻璃轉移溫度之量測方法）

準備量測對象之樹脂之料粒（pellet），使用示差掃描熱析儀（SEIKO INSTRUMENTS公司製之「DSC6220」），量測其樹脂料粒之玻璃轉移溫度。條件定為樣品重量10 mg，升溫速度定為20℃／min。

（相位差與NZ係數之量測方法）

於波長590 nm使用相位差量測裝置（Axometric公司製，製品名「Axoscan」）量測Re及Rth，基於此些求得NZ係數。

（薄膜（A）與薄膜（B）之間之剝離力Pa之量測方法）

切出量測對象之長條狀多層薄膜，獲得縱向方向×幅寬方向=300 mm×50 mm之切片。將切片置入附有恆溫恆濕槽之拉伸試驗機（INSTRON公司製之「5564型」），升溫至指定烘箱溫度Tov。於維持該溫度之狀態下進行180º剝離試驗。180º剝離試驗係以量測裝置之一側之夾頭握持薄膜（A），以另一側之夾頭握持薄膜（B），且於拉伸速度300 mm/min之條件下實施。採用穩定拉伸距離50 mm中之剝離力Pa（N/50mm）之量測值之平均值作為剝離力Pa之值。

［製造例1.薄膜（A）－1之製造］

令含有含脂環結構聚合物之樹脂（玻璃轉移溫度126℃之降烯聚合物之樹脂，商品名「ZEONOR」，日本瑞翁股份有限公司製）之料粒於100℃乾燥5小時。之後，將乾燥後之樹脂料粒供給至單軸擠製機。於擠製機內令樹脂熔融之後，經過聚合物管路及聚合物過濾器，自T字模（T-die）於鑄造滾筒（casting drum）上擠出成為片狀，並予以冷卻。藉此，獲得厚度80 μm且幅寬1000 mm之長條狀薄膜（A）－1。將所製造之薄膜（A）－1收捲為輥狀以回收。

［製造例2.薄膜（A）－2之製造］

變更T字模之口部之開口尺寸，此外進行與製造例1相同之操作。藉此，獲得厚度185 μm且幅寬1000 mm之長條狀薄膜（A）－2，收捲為輥狀以回收。

［製造例3.薄膜（A）－3之製造］

變更T字模之口部之開口尺寸，此外進行與製造例1相同之操作。藉此獲得厚度133 μm且幅寬1000 mm之長條狀薄膜（A）－3，收捲為輥狀以回收。

［製造例4.薄膜（A）－4之製造］

將製造例1中所獲得薄膜（A）－1自輥捲出，並於薄膜（A）－1之雙面進行電暈處理。藉此獲得薄膜（A）－4。將所獲得之薄膜（A）－4收捲為輥狀以回收。

［製造例5.薄膜（B）之原料薄膜之製造］

令聚酯樹脂（EASTMAN公司製之「PET－G 6763」）之料粒於120℃乾燥5小時。將乾燥後之料粒供給至擠製機。於擠製機內令其熔融之後，於樹脂溫度260℃之條件下經過聚合物管路及聚合物過濾器，自T字模於鑄造滾筒上擠出成為片狀，並予以冷卻。藉此，獲得厚度60 μm且幅寬1400 mm之原料薄膜。

［製造例6.薄膜（B）－1之製造］

將製造例5中所獲得之原料薄膜連續供給至拉幅型橫向延伸裝置。使用此橫向延伸機於延伸溫度80℃且延伸倍率2倍之條件下沿幅寬方向延伸原料薄膜。修整經過延伸之薄膜之幅寬方向的兩端，且進一步於單側之面實施電暈處理。藉此獲得幅寬900 mm且厚度42 μm之長條狀薄膜（B）－1。將電暈處理面捲於內側而將此薄膜（B）－1收捲為輥狀以回收。

［製造例7.多層薄膜（C）－1之製造］

將製造例6中所獲得薄膜（B）－1自輥捲出，將黏合劑層（藤森工業製之「MASTACK系列」之黏合劑層）轉印於薄膜（B）－1之經過電暈處理之面。再來，以尋常方法將薄膜（B）－1貼合於製造例1中所獲得之薄膜（A）－1之雙面，並使黏合劑層介於薄膜（B）－1與薄膜（A）－1之間。藉此，獲得具有（薄膜（B）－1）／（黏合劑層）／（薄膜（A）－1）／（黏合劑層）／（薄膜（B）－1）之層結構之長條狀多層薄膜（C）－1。將此多層薄膜（C）－1收捲為輥狀以回收。各層之厚度為42 μm／25 μm／80 μm／25 μm／42 μm。

［製造例8.多層薄膜（C）－2之製造］

將製造例6中所獲得薄膜（B）－1自輥捲出，將黏合劑層（藤森工業製之「MASTACK系列」之黏合劑層）轉印於薄膜（B）－1之經過電暈處理之面。再來，以尋常方法將薄膜（B）－1貼合於製造例4中所獲得之薄膜（A）－4之雙面，並使黏合劑層介於薄膜（B）－1與薄膜（A）－4之間。藉此，獲得具有（薄膜（B）－1）／（黏合劑層）／（薄膜（A）－4）／（黏合劑層）／（薄膜（B）－1）之層結構之長條狀多層薄膜（C）－2。將此多層薄膜（C）－2收捲為輥狀以回收。各層之厚度為42 μm／25 μm／80 μm／25 μm／42 μm。

［製造例9.多層薄膜（C）－3之製造］

準備自黏性延伸聚丙烯薄膜（FUTAMURA化學股份有限公司製之「FSA 010M #30」）作為薄膜（B）－2。以尋常方法將薄膜（B）－2貼合於製造例1中所獲得之薄膜（A）－1之雙面。藉此，獲得具有（薄膜（B）－2）／（薄膜（A）－1）／（薄膜（B）－2）之層結構之長條狀多層薄膜（C）－3。將此多層薄膜（C）－3收捲為輥狀以回收。各層之厚度為30 μm／80 μm／30 μm。

［製造例10.多層薄膜（C）－4之製造］

使用製造例2中所獲得之薄膜（A）－2替代薄膜（A）－1，此外藉由與製造例9相同之操作，獲得具有（薄膜（B）－2）／（薄膜（A）－2）／（薄膜（B）－2）之層結構之長條狀多層薄膜（C）－4。將此多層薄膜（C）－4收捲為輥狀以回收。各層之厚度為30 μm／185 μm／30 μm。

［製造例11.多層薄膜（C）－5之製造］

使用製造例3中所獲得之薄膜（A）－3替代薄膜（A）－1，此外藉由與製造例9相同之操作，獲得具有（薄膜（B）－2）／（薄膜（A）－3）／（薄膜（B）－2）之層結構之長條狀多層薄膜（C）－5。將此多層薄膜（C）－5收捲為輥狀以回收。各層之厚度為30 μm／133 μm／30 μm。

［製造例12.多層薄膜（C）－6之製造］

將製造例6中所獲得薄膜（B）－1自輥捲出，將黏合劑層（藤森工業製之「MASTACK系列」之黏合劑層）轉印於薄膜（B）－1之經過電暈處理之面。再來，於經過轉印之黏合劑層之表面施加電暈處理。以尋常方法經由黏合劑層而將具有經過電暈處理之黏合劑層之薄膜（B）－1貼合於製造例4中所獲得之薄膜（A）－4之雙面。藉此，獲得具有（薄膜（B）－1）／（黏合劑層）／（薄膜（A）－4）／（黏合劑層）／（薄膜（B）－1）之層結構之長條狀多層薄膜（C）－6。將此多層薄膜（C）－6收捲為輥狀以回收。各層之厚度為42 μm／25 μm／80 μm／25 μm／42 μm。

［實施例1］

準備浮動式縱向延伸機。此延伸機係得將所運送之長條狀薄膜於溫度經過調節之烘箱內沿其縱向方向延伸之延伸機。將製造例8中所獲得多層薄膜（C）－2自輥捲出，沿薄膜縱向方向運送且供給至前述之縱向延伸機。將多層薄膜（C）－2運送至縱向延伸機之烘箱內。於運送時，將烘箱內溫度Tov定為135℃且以延伸倍率1.07倍進行延伸。

再來，於烘箱內之出口附近進行剝離步驟。剝離步驟係藉由牽引多層薄膜（C）－2兩側之薄膜（B）－1且自薄膜（A）－4連續剝離薄膜（B）－1而進行。牽引2片薄膜（B）－1之方向定為垂直於所運送之薄膜（A）－4之面之方向，且定為彼此相互相反之方向。藉此，進行於薄膜（A）－4之厚度方向施加力之剝離，以沿厚度方向延伸薄膜（A）－4。剝離速度為5 m/min。其結果獲得經過厚度方向延伸之薄膜（A）－4作為光學薄膜。

量測所獲得之光學薄膜之面內延遲Re、厚度及NZ係數。而且，量測於此實施例之Tov之多層薄膜中薄膜（A）與薄膜（B）之間之剝離力Pa。其結果揭示於表1。由表1之結果可知，所獲得之光學薄膜其NZ係數為0至1之間。

［實施例2］

將製造例9中所獲得多層薄膜（C）－3自輥捲出，沿薄膜縱向方向運送且供給至與使用於實施例1者相同之縱向延伸機。將多層薄膜（C）－3運送至縱向延伸機之烘箱內。於運送時，將烘箱內溫度Tov定為126℃。並且，將延伸倍率定為1.00倍，亦即進行不伴隨延伸之運送。

再來，於烘箱內之出口附近進行剝離步驟。剝離步驟係藉由牽引多層薄膜（C）－3兩側之薄膜（B）－2且自薄膜（A）－1連續剝離薄膜（B）－2而進行。牽引2片薄膜（B）－2之方向定為垂直於所運送之薄膜（A）－1之面之方向，且定為彼此相互相反之方向。藉此，進行於薄膜（A）－1之厚度方向施加力之剝離，以沿厚度方向延伸薄膜（A）－1。剝離速度為1 m/min。其結果獲得經過厚度方向延伸之薄膜（A）－1作為光學薄膜。

量測所獲得之光學薄膜之面內延遲Re、厚度及NZ係數。而且，量測於此實施例之Tov之多層薄膜中薄膜（A）與薄膜（B）之間之剝離力Pa。其結果揭示於表1。由表1之結果可知，所獲得之光學薄膜其NZ係數為0至1之間。

［實施例3］

將烘箱內溫度Tov自126℃變更為130℃，將延伸倍率自1.00倍變更為1.02倍以進行延伸，此外藉由與實施例2相同之操作獲得光學薄膜並進行評價。剝離步驟中之剝離速度為1 m/min。其結果揭示於表1。由表1之結果可知，所獲得之光學薄膜其NZ係數為0至1之間。

［實施例4］

將製造例10中所獲得多層薄膜（C）－4自輥捲出，沿薄膜縱向方向運送且供給至與使用於實施例1者相同之縱向延伸機。將多層薄膜（C）－4運送至縱向延伸機之烘箱內。於運送時，將烘箱內溫度Tov定為135℃且以延伸倍率1.07倍進行延伸。

再來，於烘箱內之出口附近進行剝離步驟。剝離步驟係藉由牽引多層薄膜（C）－4兩側之薄膜（B）－2且自薄膜（A）－2連續剝離薄膜（B）－2而進行。牽引2片薄膜（B）－2之方向定為垂直於所運送之薄膜（A）－2之面之方向，且定為彼此相互相反之方向。藉此，進行於薄膜（A）－2之厚度方向施加力之剝離，以沿厚度方向延伸薄膜（A）－2。剝離速度為1 m/min。其結果獲得經過厚度方向延伸之薄膜（A）－2作為光學薄膜。

量測所獲得之光學薄膜之面內延遲Re、厚度及NZ係數。而且，量測於此實施例之Tov之多層薄膜中薄膜（A）與薄膜（B）之間之剝離力Pa。其結果揭示於表1。由表1之結果可知，所獲得之光學薄膜其NZ係數為0至1之間。

［實施例5］

將烘箱內溫度Tov自126℃變更為135℃，將延伸倍率自1.00倍變更為1.07倍以進行延伸，此外藉由與實施例2相同之操作獲得光學薄膜並進行評價。剝離步驟中之剝離速度為5 m/min。其結果揭示於表1。由表1之結果可知，所獲得之光學薄膜其NZ係數為0至1之間。

［實施例6］

將製造例11中所獲得多層薄膜（C）－5自輥捲出，沿薄膜縱向方向運送且供給至與使用於實施例1者相同之縱向延伸機。將多層薄膜（C）－5運送至縱向延伸機之烘箱內。於運送時，將烘箱內溫度Tov定為140℃且以延伸倍率1.07倍進行延伸。

再來，於烘箱內之出口附近進行剝離步驟。剝離步驟係藉由牽引多層薄膜（C）－5兩側之薄膜（B）－2且自薄膜（A）－3連續剝離薄膜（B）－2而進行。牽引2片薄膜（B）－2之方向定為垂直於所運送之薄膜（A）－3之面之方向，且定為彼此相互相反之方向。藉此，進行於薄膜（A）－3之厚度方向施加力之剝離，以沿厚度方向延伸薄膜（A）－3。剝離速度為1 m/min。其結果獲得經過厚度方向延伸之薄膜（A）－3作為光學薄膜。

量測所獲得之光學薄膜之面內延遲Re、厚度及NZ係數。而且，量測於此實施例之Tov之多層薄膜中薄膜（A）與薄膜（B）之間之剝離力Pa。其結果揭示於表1。由表1之結果可知，所獲得之光學薄膜其NZ係數為0至1之間。

［比較例1］

將製造例7中所獲得多層薄膜（C）－1自輥捲出，沿薄膜縱向方向運送且供給至與使用於實施例1者相同之縱向延伸機。將多層薄膜（C）－1運送至縱向延伸機之烘箱內。於運送時，將烘箱內溫度Tov定為135℃且以延伸倍率1.07倍進行延伸。

再來，雖於烘箱內之出口附近試圖進行剝離步驟，但到達烘箱內之出口附近之多層薄膜（C）－1中產生薄膜（B）－1之剝離，且於薄膜（A）－1整體產生皺褶，而無法進行剝離步驟。

並且，量測於此實施例之Tov之多層薄膜中薄膜（A）與薄膜（B）之間之剝離力Pa。其結果揭示於表1。

［比較例2］

將製造例12中所獲得多層薄膜（C）－6自輥捲出，沿薄膜縱向方向運送且供給至與使用於實施例1者相同之縱向延伸機。將多層薄膜（C）－6運送至縱向延伸機之烘箱內。於運送時，將烘箱內溫度Tov定為135℃且以延伸倍率1.07倍進行延伸。

再者，雖於烘箱內之出口附近試圖進行剝離步驟，但薄膜（A）與黏合劑層之界面無法順利進行剝離，於剝離後之薄膜（A）之表面殘存黏合劑，而無法進行良好的光學薄膜之製造。

並且，量測於此實施例之Tov之多層薄膜中薄膜（A）與薄膜（B）之間之剝離力Pa。其結果揭示於表1。

［比較例3］

將烘箱內溫度Tov自126℃變更為120℃，此外藉由與實施例2相同之操作獲得光學薄膜並進行評價。剝離步驟中之剝離速度為5 m/min。其結果揭示於表1。由表1之結果可知，所獲得之光學薄膜其NZ係數為1.6，為大於1之值。

並且，量測於此實施例之Tov之多層薄膜中薄膜（A）與薄膜（B）之間之剝離力Pa。其結果揭示於表1。

實施例及比較例之結果統整揭示於表1。

【表1】

表中簡稱之意義為如下所述。

COP：含有含脂環結構聚合物之樹脂（玻璃轉移溫度126℃之降烯聚合物之樹脂，商品名「ZEONOR」，日本瑞翁股份有限公司製）。

PET：聚酯樹脂（EASTMAN公司製之「PET-G 6763」）。

OPP：自黏性延伸聚丙烯薄膜（FUTAMURA化學股份有限公司製，商品名「FSA 010M #30」）。

由表1之結果可知，於Tov與TgA之關係及Pa之值滿足本申請要件之條件下所進行延伸之本申請實施例中。可輕易製造0＜Nz＜1之光學薄膜。

100‧‧‧多層薄膜

111‧‧‧薄膜（B）

112‧‧‧薄膜（B）

121‧‧‧黏合劑層

122‧‧‧黏合劑層

131‧‧‧薄膜（A）

132‧‧‧光學薄膜

151‧‧‧剝離區域上游之軋輥

152‧‧‧剝離區域上游之軋輥

161‧‧‧剝離區域下游之軋輥

162‧‧‧剝離區域下游之軋輥

200‧‧‧多層薄膜

231‧‧‧薄膜（A）

211‧‧‧薄膜（B）

221‧‧‧黏合劑層

232‧‧‧光學薄膜

P‧‧‧剝離區域

圖1係概略表示本發明之製造方法中進行剝離步驟之剝離裝置及使用該裝置之剝離步驟的操作之一例的側視圖。 圖2係概略表示本發明之製造方法中進行剝離步驟之剝離裝置及使用該裝置之剝離步驟的操作之另一例的側視圖。

Claims (5)

1. 一種光學薄膜之製造方法，包含於剝離處理提供多層薄膜之剝離步驟；該多層薄膜係包含由熱塑性樹脂A而成之薄膜（A）及設置於該薄膜（A）之其中一面或雙面之薄膜（B）之多層薄膜；該剝離處理包含於溫度Tov（℃）時自該薄膜（A）以施加沿該薄膜（A）之厚度方向之力之方式剝離該薄膜（B）；該溫度Tov與該薄膜（A）之玻璃轉移溫度TgA（℃）滿足Tov≧TgA之關係；於該多層薄膜中，於該溫度Tov之該薄膜（A）與該薄膜（B）之剝離力Pa為0.03 N/50mm以上且0.5 N/50mm以下。
2. 如請求項1所述之光學薄膜之製造方法，其中該熱塑性樹脂A含有含脂環結構聚合物。
3. 如請求項1或2所述之光學薄膜之製造方法，更包含沿該多層薄膜之面內方向延伸該多層薄膜之延伸步驟。
4. 一種偏光板，具備藉由如請求項1至3之任一項所述之光學薄膜之製造方法所製造之光學薄膜及偏光件。
5. 一種顯示裝置，具備藉由如請求項1至3之任一項所述之光學薄膜之製造方法所製造之光學薄膜。