TW201822383A - 發光裝置 - Google Patents

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鄭景太
任益華
謝明勳
劉俊宏
廖世安
許明祺
廖宇宸
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晶元光電股份有限公司
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Abstract

一種發光裝置包含：一發光體，具有一內部電極；以及一導電層，具有一第一部分形成於內部電極上且與發光體於一第一方向重疊，及一第二部分與發光體於一第二方向重疊，其中，第一方向與第二方向垂直。

Description

發光裝置
本發明係關於一種發光裝置與相關之製造方法，尤關於一種可以用於側光式背光螢幕的發光裝置以及相關之製作方法。
發光二極體（Light-Emitting Diode；LED）具有耗能低、壽命長、體積小、反應速度快以及光學輸出穩定等特性。近年來，發光二極體漸漸地應用於液晶顯示器中之背光模組中。
液晶顯示器中的LED背光模組大致可以分為兩種：直下式背光模組（direct lit）與側光式（edge lit）背光模組。直下式背光模組將數個LED發光裝置以矩陣方式設置於液晶螢幕的背面，使LED發光裝置所產生的光直接照射到液晶螢幕。直下式背光模組一般用於大尺寸的液晶顯示器，像是55吋之液晶電視等。側光式背光模組是將LED發光裝置裝設於液晶螢幕的邊緣，利用導光板，將LED裝置所放射出來的光，引導或反射到液晶螢幕的每個區域。相對而言，側光式背光模組體積小，適用於小型的液晶顯示器中，譬如手機。
要使LED發光裝置所產生的光線入射到液晶螢幕後面的導光板之側面，可以採用側視式LED封裝體，其在焊接固定於印刷電路板上後，可以朝向側向發光。換言之，側視式LED封裝體的發光方向，是跟印刷電路板相平行。
為讓本發明之上述和其他目的、特徵和優點能更明顯易懂，下文特舉實施例，並配合所附圖式，說明如下。
一種發光裝置包含：一發光體，具有一內部電極；以及一導電層，具有一第一部分形成於內部電極上且與發光體於一第一方向重疊，及一第二部分與發光體於一第二方向重疊，其中，第一方向與第二方向垂直。
以下實施例將伴隨著圖式說明本發明之概念，在圖式或說明中，相似或相同之部分係使用相同之標號，並且在圖式中，元件之形狀、厚度或高度可擴大或縮小。本發明所列舉之各實施例僅用以說明本發明，並非用以限制本發明之範圍。對本發明所作之任何顯而易知之修飾或變更皆不脫離本發明之精神與範圍。
在所有圖式中，每一層皆以實線繪製，而不論其材料為非透明、透明或半透明。
以下本發明之實施例包含有數個晶片級封裝chip scale package，CSP）之LED發光裝置。當依據本發明所實施的LED發光裝置焊接於一印刷電路板（printed circuit board，PCB）上時，其主要發光方向可以跟PCB之表面相平行，換言之，LED發光裝置具有一出光面與PCB相垂直。因此，依據本發明所實施的LED發光裝置可適用於側光式背光模組。在本發明之實施例中，自LED發光裝置所發出的光中，有50%以上的光由會由一面向外射出時，該面則定義為出光面。
依據本發明所實施的LED發光裝置可以採用晶片級封裝技術，不需要次級基板（sub-mount）或是導線架即可直接焊接於印刷電路板上。
第1圖顯示本發明所實施的一LED發光裝置100之製作方法10之流程圖，第2A-2L圖為依據第1圖之製作方法10，於各個不同階段之立體圖。第3A-3L圖分別相對應之第2A-2L圖中，沿著III-III線段之剖面圖。第4圖為第2L圖中，沿著IV-IV線段之剖面圖。第5A圖為第2L圖中，單一LED發光裝置100之主要發光方向朝上時的立體圖。第5B圖為第5A圖之LED發光裝置100焊接於一印刷電路板199上之示意圖。第5C圖顯示LED發光裝置100在一側光式背光模組中作為一光源之剖面圖。
如第2L圖所示，在載板102上，同時形成有9個發光裝置100，排成3x3的矩陣。參照第2L、3L、4與5A圖。每個發光裝置100有兩個相對的側表面103l與103r、以及兩個相對的側表面103q與103w，以及一下表面105。每個發光裝置100包含有一第一反射層104、兩個導電層106、一圖案化晶種層（seed layer）108、金屬疊層（圖未示）、一第二反射層110、一波長轉換層112、以及一LED晶片（chip）114。一LED晶片114可作為一發光體，包含有兩個內部電極116，分別跟圖案化晶種層108相連接。透過圖案化晶種層108以及金屬疊層，導電層106電連接至內部電極116。圖案化晶種層108、金屬疊層、導電層106、第二反射層110、與第一反射層104分別具有一表面彼此共平面且共同組成側表面103r，103l。第一反射層104之另一表面組成側表面103q與103w。
如第5B圖所示，外部電極107r、107l可以透過銲錫120電連接到印刷電路板199。銲錫120不但提供發光裝置100之電性連接，同時可以使發光裝置100直接固定於印刷電路板199上。發光裝置100之主要發光方向平行於印刷電路板199之表面，換言之，LED發光裝置具有一出光面122與印刷電路板199相垂直。如第5C圖所示，在一側光式背光模組中，發光裝置100所發出的光（如箭頭所示）實質上平行於印刷電路板199，側向的進入導光板190。導光板190改變光的方向以使光進入擴散板192並照射一液晶面板（未顯示）。因此，發光裝置100可以作為側視式LED封裝體。發光裝置100具有一高度（W）不大於0.3 mm（≦0.3 mm），藉此有助於增加發光裝置100的應用領域（例如：手機、液晶顯示器、穿戴設備（手錶、手環、項鍊等））。
在第2L、3L與4圖中，LED晶片114以及波長轉換層112可以視為一發光結構。LED晶片114被波長轉換層112所包覆。LED晶片114四周圍的第一反射層104以及第二反射層110形成一個反射框，可以限制發光裝置100的出光方向為特定方向。每一導電層106具有一第一部份1061係位於內部電極116（或LED晶片114）之上方並與內部電極116電連接，及一第二部分1062係位於LED晶片114之側邊。第一部份1061與第二部分1062彼此互相垂直。第二部分1062係作為外部電極107r（107l）以和銲錫120電連接。換言之，第一部分1061係與LED晶片114於一第一方向（y方向）重疊，第二部分1062係與LED晶片114於一第二方向（x方向）重疊，第一方向垂直第二方向。每一導電層106於一第三方向（z方向）並無與LED晶片114重疊。第一反射層104包覆導電層106且於第三方向上暴露出部分之導電層106。此外，導電層106於第一方向與第二方向上被第一反射層104所覆蓋使得第一部分1061及第二部分1062未暴露於外界環境中。因此，每一導電層106係可視為嵌埋於發光裝置100內且貫穿發光裝置100，並僅裸露出（曝露於外界環境）兩面以作為外部電極107r（107l）。
在實施例中，每一LED晶片114作為一發光體，由半導體製程所製作。例如，在一藍寶石基板上沉積有N型半導體層、活性層與P型半導體層，並加以圖案化，而後形成一些絕緣層以及圖案化之金屬層，最後切割整個藍寶石基板，而形成複數個彼此獨立LED晶片114。圖案化之金屬層提供了N型半導體層與P型半導體層之電連接，也可以做為 LED晶片114之內部電極116。當適當的電壓施加到內部電極116時，N型半導體層中的電子與P型半導體層中的電洞可以在活性層中結合，透過放射出光子（photon）而釋放能量。依據活性層之材料，LED晶片114可發出一波峰值（peak wavelength）或主波長 （dominant wavelength）介於610 nm及650 nm之間的紅光、波峰值或主波長介於530 nm及570 nm之間的綠光、波峰值或主波長介於450 nm及490 nm之間的藍光、波峰值或主波長介於400 nm~440 nm的紫光、或波峰值介於200 nm~400nm的紫外光。
波長轉換層112用來轉換部分LED晶片114所放射的光為另一種顏色之光。舉例來說，波長轉換層112可以是但不限於透明基體混合波長轉換顆粒，將藍光或是紫外光轉換為黃綠光，如此，發光裝置100可以視為發出白光。或者，依據波長轉換層112的材料，發光裝置100可發出紫光、琥珀光、綠光、黃光或其他非白光的色光。波長轉換層112的主要材料可以是透明樹酯或是透明矽膠，並在其中混雜波長轉換顆粒材料。波長轉換顆粒於基體中的重量百分濃度（w/w）介於50~70%。
波長轉換顆粒131可包含一種或兩種以上種類之無機的螢光粉（phosphor）、有機分子螢光色素（organic fluorescent colorant)、半導體材料（semiconductor）、或者上述材料的組合。無機的螢光粉材包含但不限於黃綠色螢光粉或紅色螢光粉。黃綠色螢光粉之成分係例如鋁氧化物（YAG或是TAG）、矽酸鹽、釩酸鹽、鹼土金屬硒化物、或金屬氮化物。紅色螢光粉之成分係例如氟化物（K2 TiF6 :Mn4+ 、K2 SiF6 :Mn4+ ）、矽酸鹽、釩酸鹽、鹼土金屬硫化物、金屬氮氧化物、或鎢鉬酸鹽族混合物。半導體材料包含奈米尺寸結晶體（nano crystal）的半導體材料，例如量子點（quantum-dot）發光材料。量子點發光材料可選自於由硫化鋅（ZnS）、硒化鋅（ZnSe）、碲化鋅（ZnTe）、氧化鋅（ZnO）、硫化鎘（CdS）、硒化鎘（CdSe）、碲化鎘（CdTe）、氮化鎵（GaN）、磷化鎵（GaP）、硒化鎵（GaSe）、銻化鎵（GaSb）、砷化鎵（GaAs）、氮化鋁（AlN）、磷化鋁（AlP）、砷化鋁（AlAs）、磷化銦（InP）、砷化銦（InAs）、碲（Te）、硫化鉛（PbS）、銻化銦（InSb）、碲化鉛（PbTe）、硒化鉛（PbSe）、碲化銻（SbTe） 、硫化鋅鎘硒（ZnCdSeS）、硫化銅銦（CuInS）、銫氯化鉛（CsPbCl3 ）、銫溴化鉛（CsPbBr3 ）、及銫碘化鉛（CsPbI3 ）所組成之群組。
第一反射層104及第二反射層110係反射LED晶片114與波長轉換層112所發出的光，使其朝向出光面122而向外射出。進一步，第一反射層104以及第二反射層110可以為一混和物，其包含一基質，以及複數個反射粒子摻雜於基質中，因此LED晶片114與波長轉換層112所發出的光會於第一反射層104或第二反射層110中發生反射且其反射型態為漫反射（diffuse reflection）。基質為一絕緣材料，且可以包含有環氧樹脂（Epoxy）、矽膠（Silicone）、聚亞醯胺（PI）、苯并環丁烯（BCB）、過氟環丁烷（PFCB）、Su8、丙烯酸樹脂（Acrylic Resin）、聚甲基丙烯酸甲酯（PMMA）、聚對苯二甲酸乙二酯（PET）、聚碳酸酯（PC）、或聚醚醯亞胺（Polyetherimide）。反射粒子可包含二氧化鈦、二氧化矽、硫酸鋇、或氧化鋁。外觀上，第一反射層104以及第二反射層110可以是白色。當第一反射層104以及第二反射層110之基質使用相同或相近材料時，第一反射層104及第二反射層110彼此相接觸的接面會不明顯或是不存在，且無法從外觀上分辨出來，因此第一反射層104與第二反射層110於外觀上可視為一整體結構。
導電層106、圖案化晶種層108與金屬疊層可以是金屬，例如金（Au）、銀（Ag）、銅（Cu）、鉻（Cr）、鋁（Al）、鉑（Pt）、鎳（Ni）、鈦（Ti）、錫（Sn）或其合金。此外，導電層106、圖案化晶種層108與金屬疊層可以是疊層或單層。
參照第1圖以及第2A與3A圖，步驟12：將半導體製程所產生的LED晶片114排放在一載板124上。LED晶片114係以內部電極116面對載板124。載板124做為一暫時基板，其材料可以但不限於是發泡膠（foam）。
參照第1圖以及第2B與3B圖，步驟14：在LED晶片114上形成波長轉換層112。波長轉換層112可以透過將一整片帶有波長轉換顆粒的透明矽膠片，貼合至LED晶片114上而形成。貼合係透過上模具（未顯示）及下模具（未顯示）的密合，同時對透明矽膠片加熱以及加壓，以軟化透明矽膠片使其可緊密地與LED晶片114接合。此外，當上模具及下模具非常靠近，但透明矽膠片尚未接觸LED晶片114時抽氣，可減少透明矽膠片與LED晶片114之間的氣泡，提高透明矽膠片與LED晶片114之間的接合力。而其他材料之間的貼合，也可同理類推。在其他實施例中，也可以將具有波長轉換顆粒之透明基體，利用點膠（spray）、塗布（coating）、噴塗（dispensing）、印刷（screen printing）、或鑄模（molding）等方式形成至LED晶片114與載板124上且並進行加熱固化步驟以形成波長轉換層112。
參照第1圖以及第2C與3C圖，步驟16：切割波長轉換層112，以形成溝槽126與127。溝槽126與127的形成，可以採用但不限於刀具128。具體而言，刀具128向下切割至載板124，且沿著x與z方向移動，物理性地移除部分之波長轉換層112，進而形成溝槽126與127。溝槽126與127的深度實質上為波長轉換層112的高度（y方向）。
參照第1圖以及第2D與3D圖，步驟18：於波長轉換層112與載板124上，形成第二反射層110。第二反射層110填滿溝槽126與127且完全地覆蓋波長轉換層112。舉例來說，第二反射層110可以採用但不限於一整片帶反射粒子摻雜的白色矽膠片，貼合至載板124上而形成。貼合的描述可參考前述之段落。在其他實施例中，第二反射層110可利用點膠（spray）、塗布（coating）、噴塗（dispensing）、印刷（screen printing）、或鑄模（molding）等方式形成。
參照第1圖以及第2E與3E圖，步驟20：磨除部分的第二反射層110，直到波長轉換層112裸露出來。第二反射層110的表面實質上會與波長轉換層112之表面切齊。磨除是一種物理性移除動作，可以利用機械切割器進行。機械切割器的材料可包含高碳鋼、鑽石、陶瓷或氧化硼。在磨除的過程中，可以僅加入水（不需要加入研磨液（slurry）或化學溶液）以降低切割器與被磨除物之間因為摩擦而升高的溫度。
參照第1圖以及第2F與3F圖，步驟22：將第2E與3E圖之結構翻轉，並貼附於載板102上，然後移除載板124。移除載板124可以採用加熱載板124。載板102可為光解膠膜片（UV Release Tape），其在照UV光前具有高黏著力，而照UV光後黏著力顯著降低。在載板102上的結構可以視為一發光模組130，其具有一下表面132以及數個LED晶片114。內部電極116、波長轉換層112與第二反射層110分別具有一表面彼此共平面且共同組成下表面132。
參照第1圖以及第2G與3G圖，步驟24：移除部分的第二反射層110，形成V型溝槽136。具體而言，以有一預定刀角之刀具134，向下切割且切割深度未達至載板102，並沿著z方向移動，以移除部分的第二反射層110，而在第二反射層110形成數個V型溝槽136。V型溝槽136的深度小於第二反射層110的高度。V型溝槽136係位於兩個鄰近之LED晶片114之間。每個溝槽136具有不相平行的兩斜邊138l與138r。第2G圖與第3G圖中僅僅作為一個例子，在其他實施例中，溝槽可有不同的形狀或是數量，其相關結構與製程將於後續描述。
參照第1圖以及第2H與3H圖，步驟25：形成圖案化晶種層108。圖案化晶種層108係沿著V型溝槽13的輪廓覆蓋內部電極116、波長轉換層112、以及第二反射層110但未填滿V型溝槽136。此外，圖案化晶種層108完全地覆蓋二內部電極116且具有一大於內部電極116的面積。LED晶片114之二內部電極116間並未形成圖案化晶種層108。實際結構上，圖案化晶種層108的厚度約為100~500Å。然，為了清楚表示，圖案化晶種層108係放大尺寸而繪製。
參照第1圖，步驟29：對圖案化晶種層108進行電鍍以形成一金屬疊層（圖未示）。金屬疊層與圖案化晶種層108實質上具有相同的形狀。在另一實施例中，步驟29可以省略。儘管第2H與3H圖中，圖案化晶種層108形成許多不相連的許多個區塊，但本發明不限於此。在其他實施例中，為了便於電鍍，圖案化晶種層108可以在一些後續可能被切割移除的區域上，留有細小導電區，而使得整個圖案化晶種層108成為電性上相短路的狀態。
參照第1圖以及第2I與3I圖，步驟30：進行錫膏印刷（solder paste printing）以在金屬疊層上形成導電層106。例如，採用一刮刀（Squeegee）以及具有預設鏤空圖案之一鋼板（stencil）或網版，將錫膏擠壓至金屬疊層上；接著進行回焊（reflow）步驟。藉由錫膏本身之內聚力，錫膏會自動的僅形成於金屬疊層上且具有一實質上與金屬疊層大致相同的圖案。錫膏即為第2I與3I圖中之導電層106且填滿V型溝槽136。
參照第1圖以及第2J與3J圖，步驟32：形成溝槽140。溝槽140的形成，可以採用但不限於刀具142。具體而言，刀具142向下切割至載板102且沿著z方向移動，物理性地移除部分之導電層116、金屬疊層、圖案化晶種層108以及第二反射層110，進而形成溝槽140。在第2J圖中，x方向最邊緣的位置，也有經過刀具142修齊，所以裸露出第二反射層110。
參照第1圖以及第2K與3K圖，步驟34：形成第一反射層104。第一反射層104的形成方式可與第二反射層110相同，其相關描述請參考相對應之段落。第一反射層104填滿溝槽140並覆蓋導電層106。接著，進行步驟36：磨除部分的第一反射層104以減少導電層106上之第一反射層104的厚度，並使第一反射層104具有一實質上平整的表面。第2K與3K圖中係顯示完成步驟36之結構。
參照第1圖以及第2L、3L與4圖，步驟38：對第2K圖中的結構進行切割以形成複數個獨立之發光裝置100。具體而言，刀具144向下切割至載板124，且沿著x方向移動，以形成溝槽148；刀具146向下切割至載板124，且沿著z方向移動以形成溝槽150。溝槽148使得每一導電層106之兩面裸露出來，每一導電層106之裸露部分係做為每個發光裝置100的外部電極107r（107l）。從第3L與4圖可知，每一LED晶片114被波長轉換層112所圍繞。而且，每一LED晶片114四周被第一反射層104與第二反射層110所構成的反射框所圍繞。
接著，貼附一藍膜於第一反射層104後，對載板102照UV光，使其失去黏著力，藉以分離發光裝置100與載板102。透過圖案化晶種層108的連接，導電層106不但提供LED晶片114的導電路徑，也可以作為LED晶片114的散熱途徑。
選擇性地，如第2I與3I圖所示，完成步驟30後，不進行步驟32、34、及36步驟，而直接進行步驟38即可得如第6圖所示之發光裝置100’。具體而言，對第2I圖中的結構進行切割以形成複數個彼此獨立之發光裝置100’。參照第2I及6圖中，每一導電層106具有四面有暴露於外界環境中，換言之，於發光裝置100’中，除了出光面122，在外觀上，每一面皆可視得導電層106。於第6圖中，可視得導電層106之第二部分1062。
第22A圖為依據第1圖之製作方法10，於一階段之立體圖。第23A圖為第22A圖中，沿著III-III線段之剖面圖。第22A圖顯示了3x3個發光裝置100a。發光裝置100a與發光裝置100之間相同或是相似部分，可參考先前的教導而得知，不再累述。與發光裝置100不同的，發光裝置100a的外部電極107r、107l，在外觀上，一個大約是三角型，另一個是長方形，藉此可便於辨識發光裝置100a的電極之電性（p-電極或n-電極）。詳言之，於步驟24中，當使用具有直線剖面形狀的刀具時，溝槽136具有方型剖面，接著，進行後續步驟25-38，即可形成發光裝置100a。因此，藉由改變刀具之剖面形狀，即可改變溝槽136之形狀，進而使外部電極107r、107l（導電層116）具有不同之輪廓（例如圓形或多邊形）。
第22B、22C圖分別為依據本發明所實施的一LED發光裝置之製作方法，於一階段之立體圖。第23B圖為第22B圖中，沿著III-III線段之剖面圖。第23C圖為第22C圖中，沿著III-III線段之剖面圖。第22B圖為依據本發明之製作方法10，省略了步驟32，於步驟34完成時之立體圖，其他相關的步驟可參考前述段落，於此將不在撰述。於第22B圖中，並無形成第2J與3J圖中的溝槽140，且在導電層106上形成第一反射層104。如第22C圖所示，進行步驟38以得到複數個獨立的發光裝置100b。發光裝置100b與發光裝置100、100a之間相同或是相似部分，可參考先前的教導而得知，不再累述。
在第3L與23A圖中，側表面103q， 103w僅由第一反射層104之一表面所組成，且每一導電層116有兩面暴露於外界環境（例如：空氣）中。然，發光裝置100b之側表面103q， 103w係由第一反射層104、導電層106、金屬疊層、圖案化晶種層108及波長轉換層112之一表面共同所組成，且每一導電層116有三面暴露於外界環境中。因此，於外觀上，發光裝置100b之側表面103l，103r，130q（130w）可視得導電層106。
第22D圖為依據本發明所實施的一LED發光裝置之一製作方法，於一階段之立體圖。第23D圖為第22D圖中，沿著III-III線段之剖面圖。第22D圖顯示了3x3個發光裝置100c。每個發光裝置100a的外部電極107r、107l具有不同的外觀；而且，每一導電層106有三面曝露於外界環境中。參考發光裝置100、100a與100b之相關說明所教導的，發光裝置100c也可以依據製作方法10來製造。然不同的是，於步驟24中，使用一相對應的刀具134來產生適當的溝槽136。接著，進行步驟25-30、34-38而不進行步驟32，即可製得發光裝置100c，其詳細描述可參考相關段落。
第23E圖為第22D圖之LED發光裝置100c焊接於一印刷電路板上之示意圖。由於每一導電層106（外部電極107r、107l）有三面曝露於外界環境中 ，銲錫120可透過發光裝置100c之側表面103q、103w電連接並固定於印刷電路板199上。相較於第5B圖，側表面103q、103w具有較大導電面積，因此，可增加發光裝置100c與印刷電路板間的黏結力進而增加背光模組的可靠度。
第24A-24E圖為依據本發明所實施的一LED發光裝置之製作方法，一部分階段之立體圖。第25A-25E圖分別相對應之第24A-24E圖中，沿著III-III線段之剖面圖。
首先進行第1圖之步驟12-22，其相關描述可參考相關段落。接著，如第24A圖所示，進行步驟24：移除部分的第二反射層110，形成溝槽136a、136b。具體而言，以適當的刀具134，在兩兩LED晶片114之間，向下切割且切割深度未達至載板102，並沿著z方向以形成兩個剖面不同的溝槽136a、136b。
如第24B與25B圖所示，進行步驟25：形成圖案化晶種層108。步驟29可以選擇性的執行或不執行。
如第24C與25C圖所示，進行步驟30：錫膏印刷以形成導電層106。
如第24D與24D圖所示，進行步驟34：形成第一反射層104且進行步驟36：磨除降低第一反射層104的厚度。
如第24E與25E圖所示，最後進行步驟38：切割以形成複數個彼此獨立之發光裝置100d。發光裝置100d之外部電極107r、107l具有不同的外觀且每一導電層106僅有兩面曝露於外界環境中。
第7圖顯示本發明所實施的一LED發光裝置200之製作方法40流程圖，第8A-8H圖為依據第7圖之製作方法40，於各個不同階段的立體圖。第9A-9H圖分別相對應之第8A-8H圖中，沿著IX-IX線段之剖面圖。第10圖為第8H圖中，單一LED發光裝置200之主要發光方向朝上時的立體圖。第11圖為第10圖之LED發光裝置200焊接於一印刷電路板199上之示意圖。參照第8H、9H、10與11圖。在載板102上，同時形成有9個發光裝置200，排成3x3的矩陣。每個發光裝置200有側表面203l、203r、203q、203w，以及一下表面205。每個發光裝置200包含有一第三反射層206、兩個導電層204、一圖案化晶種層208、一波長轉換層112、以及一LED晶片114。LED晶片114作為一發光體，包含有兩個內部電極116，分別跟圖案化晶種層208相連接。導電層204及第三反射層206分別具有一表面彼此共平面且共同組成側表面203l（203r）。導電層204之另一表面構成側表面203q、203w且又一表面構成下表面205。再者，導電層204可作為外部電極207r、207l。
如第11圖所示，外部電極207r、207l可以透過銲錫120電連接到印刷電路板199。銲錫120不但是提供發光裝置200之電性連接，同時可以使發光裝置200固定於印刷電路板199。發光裝置200之主要發光方向平行於印刷電路板199之表面，因此，發光裝置200可以作為側視式LED封裝體。
如第11圖所示，銲錫120係透過發光裝置200之側表面203q、203w電連接並固定於印刷電路板199上。然，銲錫120亦可透過發光裝置200之側表面203r、203l電連接並固定於印刷電路板199上。相較於側表面203r、203l，側表面203q、203w具有較大導電面積，因此，可增加發光裝置200與印刷電路板間的黏結力進而增加背光模組的可靠度。
在第8H、9H與10圖中，LED晶片114以及波長轉換層112可以視為一發光結構。LED晶片114被波長轉換層112所包覆。LED晶片114四周圍的第三反射層206形成一個反射框，可以限制發光裝置100的出光方向。類似地，每一導電層204具有一第一部分2041係位於內部電極116（或LED晶片114）之上方並與內部電極116電連接，及一第二部分2042係位於LED晶片114之側邊。第一部分2041與第二部分2042彼此互相垂直。第二部分2042係作為外部電極207r（207l）以和銲錫120電連接。換言之，第一部分係與LED晶片114於一第一方向（y方向）重疊，第二部分係與LED晶片114於一第二方向（x方向）重疊，第一方向垂直第二方向。每一導電層204於一第三方向（z方向）並無與LED晶片114重疊。每一導電層204具有一突出部2043係遠離LED晶片114沿著第二方向（x方向）向外延伸。
參照第7圖，步驟12：將半導體製程所產生的LED晶片114排放在一載板124上，LED晶片114係以內部電極116面對載板124。步驟14：在LED晶片114上形成波長轉換層112。步驟12與14之說明可參考發光裝置100之製作方法10的解說以及第2B、3B、2C與3C圖。
步驟42：物理性地磨除部分的波長轉換層112以減少波長轉換層112的厚度，並使波長轉換層112具有一實質上平整的表面。
請參照第7圖以及第8A與9A圖。步驟44：將步驟42之結構翻轉，並貼附於載板102上，然後移除載板124。在載板102上的結構可以視為一發光模組212，其具有一下表面210以及數個LED晶片114。內部電極116與波長轉換層112分別具有一表面彼此共平面且共同組成下表面210。
參照第7圖以及第8B與9B圖，步驟46：形成溝槽216。溝槽216的形成，可以採用但不限於刀具214。具體而言，刀具214向下切割至載板124，且沿著x方向與z方向移動，去除部分之波長轉換層112以形成溝槽216。溝槽216的深度實質上為波長轉換層112的高度。
參照第7圖以及第8C與9C圖，步驟48：在波長轉換層112上形成第三反射層206。第三反射層206的形成方式可與第一反射層104與第二反射層110相同，其相關描述請參考相對應之段落。第三反射層206可以填滿第8B與9B圖中之溝槽216。
參照第7圖以及第8D與9D圖。步驟50：磨除部分的第三反射層206以裸露LED晶片114的內部電極116，且波長轉換層112的表面與第三反射層206的表面實質上切齊。
參照第7圖以及第8E與9E圖，步驟52：移除部分的第三反射層206以形成沿著z方向延伸的溝槽218。具體而言，刀具220向下切割並沿著z方向移動，以去除部分的第三反射層206，以形成數個溝槽218並露出第三反射層206之側壁206r。
參照第7圖以及第8F與9F圖，步驟53：形成圖案化晶種層208。圖案化晶種層208可以有不同之圖案，來覆蓋不同之內部電極116，用以判斷LED晶片114之電極之電性（p-電極或n-電極）。圖案化晶種層208可以完整覆蓋第三反射層206之兩側壁206r，但未填滿溝槽218。LED晶片114二內部電極116之間並未形成圖案化晶種層208。圖案化晶種層208完全地覆蓋內部電極116且具有一大於內部電極116的面積。
在第9F圖中，位於溝槽218之圖案化晶種層208並無連續地形成於載板102上。在一實施例中，位於溝槽218之圖案化晶種層208可連續地形成於載板102上（參考第14I圖之導電層304）。在其他實施例中，圖案化晶種層108可以在一些後續可能被切割移除的區域上，留有細小導電區，而使得整個圖案化晶種層108成為電性上相短路的狀態，方便後續的電鍍製程。
參照第7圖以及第8G與9G圖，步驟58：對圖案化晶種層208進行電鍍，形成導電層204，疊加在圖案化晶種層208上，。導電層304之材料可參考導電層106之材料。參照第7圖以及第8H與9H圖，步驟60：對第8G圖中的結構進行切割，以形成複數個獨立之發光裝置200。具體而言，刀具（圖未示）向下切割且沿著x方向移動以形成溝槽224。另一刀具也可選擇性地沿著z方向移動以形成平行於z方向的溝槽。
接著，貼附一藍膜（blue tape）於導電層204上後，對載板102照UV光，使其失去黏著力，藉以分離發光裝置200與載板102。透過圖案化晶種層208的連接，導電層204不但提供LED晶片114的導電路徑，也可以作為LED晶片114的散熱途徑。
第8E與9E圖中，每個溝槽218的深度實質上等於波長轉換層112之高度，但本發明不限於此。第26A圖顯示依據第7圖之製作方法40，於步驟52完成後的一立體圖。第27A圖為第26A圖中沿著IX-IX線段之剖面圖。具體而言，刀具220向下切割且切割深度未達至載板102，並沿著z方向移動，以去除部分的第三反射層206，進而在第三反射層206形成數個溝槽218a。溝槽218a的深度小於第二反射層110的高度。
接著，如第26B圖的立體圖以及第27B圖的剖面圖所示，進行第7圖之步驟53與步驟58第26，以形成圖案化晶種層（圖未示）以及導電層204。
最後，如第26C圖的立體圖以及第27C圖的剖面圖所示，進行第7圖之步驟60以形成複數個彼此獨立之發光裝置200a。
第28圖顯示單一發光發光裝置200a，從另一個角度觀看的立體圖。與第10圖不同的是，導電層204及第三反射層206分別具有一表面彼此平面且共同組成側表面203q、203w。
第12圖顯示本發明所實施的一LED發光裝置300之製作方法70，第13A-13J圖為依據第7圖之製作方法70，於各個不同階段之立體圖。第14A-14J圖分別相對應之第13A-13J圖中，沿著XIV-XIV線段之結構剖面圖。第15圖為第13J圖中，單一LED發光裝置300之主要發光方向朝上時的立體圖。第16圖為第15圖之LED發光裝置300焊接於一印刷電路板199上之示意圖。
參照第13J、14J、15與16圖。如第13J圖所示，在載板102上，同時形成有9個發光裝置300，排成3x3的矩陣。每個發光裝置300有兩個相對的側表面303l與303r，以及一下表面305。每個發光裝置300包含有一第四反射層306、一圖案化晶種層（圖未示）、兩個導電層304、一第一透光層302、一波長轉換層309、一第二透光層308、以及一LED晶片114。LED晶片114作為一發光體，包含有兩個內部電極116，分別跟兩個導電層304相連接。導電層304、圖案化晶種層與第四反射層306分別具有一表面彼此共平面且共同組成側表面303r、303l。兩導電層304係作為兩個外部電極307r、307l。
如第16圖所示，外部電極307r、307l可以透過銲錫120電連接到印刷電路板199。銲錫120不但提供發光裝置300之電性連接，同時可以使發光裝置300固定於印刷電路板199上，使其主要發光方向平行於印刷電路板199之表面。所以，發光裝置300可以作為側視式LED封裝體。
在第13J與14J圖中，LED晶片114、一第一透光層302、一波長轉換層309以及一第二透光層308一起可以視為一發光結構。LED晶片114被波長轉換層309所包覆。LED晶片114四周圍的第四反射層306形成一個反射框，可以限制發光裝置300的出光方向。
參照第12圖，步驟12：將半導體製程所產生的LED晶片114排放在一載板124上。LED晶片114係以內部電極116面對載板124。步驟12之說明可參考發光裝置100之製作方法10的解說以及第2A與3A圖。
參照第12圖以及第13A與14A圖，步驟72：於載板124上形成第一透光層302，包覆LED晶片114。步驟72可以採用點膠（spray）的方式，將膠體溶液滴點在每個LED晶片114上，然後加熱固化後形成一半球形的透光體，作為第一透光層302。第一透光層302的材料，可以包含環氧樹脂（Epoxy）、矽膠（Silicone）、聚亞醯胺（PI）、苯并環丁烯（BCB）、過氟環丁烷（PFCB）、Su8、丙烯酸樹脂（Acrylic Resin）、聚甲基丙烯酸甲酯（PMMA）、聚對苯二甲酸乙二酯（PET）、聚碳酸酯（PC）、或聚醚醯亞胺（Polyetherimide）。在實際產品上，第一透光層302可以是透明的。
參照第12圖以及第13B與14B圖，步驟74：於第一透光層302上形成波長轉換層309。波長轉換層309的描述可參考波長轉換層112描述。
參照第12圖以及第13C與14C圖，步驟76：於波長轉換層309上，形成第二透光層308。第二透光層308的材料可以跟第一透光層302一樣或是不同。此外，可以利用鑄模的方式，將第二透光層308形成於波長轉換層309上。在另一實施例中，可以將一透明板，貼合至波長轉換層309上，然後磨除透明板之部分，減少其厚度，剩下的透明板便成為第二透光層308。
在第12圖中，接續步驟76的有步驟44、46、48、50、52、53、58與60，其相關描述可參考第7圖以及相對應之段落。
參照第12圖以及第13D與14D圖。步驟44：將步驟76之結構翻轉，並貼附於載板102上，然後移除載板124。在載板102上的結構可以視為一發光模組312，其具有一下表面314以及數個LED晶片114。下表面314由LED晶片114的內部電極116、第一透光層302以及波長轉換層309所組成。
參照第12圖以及第13E與14E圖。步驟46：形成溝槽316。刀具沿著x方向與z方向移動，去除部分之第二透光層308以及波長轉換層309以形成溝槽316。
參照第12圖以及第13F與14F圖。步驟48：在波長轉換層309上形成第四反射層306。第四反射層306可以採用但不限於一整片帶反射粒子摻雜的白色矽膠片，貼合至載板102上而形成。第四反射層306可以填滿第13E與14E圖中之溝槽316。
參照第12圖以及第13G與14G圖。步驟50：磨除部分的第四反射層306，使LED晶片114的內部電極116裸露出來。
參照第12圖以及第13H與14H圖。步驟52：去除部分的第四反射層306，形成沿著z方向延伸的溝槽318。舉例來說，以刀具沿著z方向移動，以去除部分的第四反射層306，以形成數個溝槽318並露出第四反射層306之側壁306r。
參照第12圖以及第13I與14I圖。步驟53：形成圖案化晶種層（圖未示）。步驟58：對圖案化晶種層進行電鍍，形成導電層304，疊加在晶種層上。導電層304可以有不同之圖案，來覆蓋不同之內部電極116，用以判斷LED晶片114之電極之電性（p-電極或n-電極）。導電層304可以完整覆蓋第四反射層306之側壁306r，但未填滿溝槽318，導電層304之材料可參考導電層106之材料。
參照第12圖以及第13J與14J圖。步驟60：對第13I圖中的結構進行切割，以形成複數個獨立之發光裝置300。
接著，貼附一藍膜（blue tape）於導電層304上後，對載板102照UV光，使其失去黏著力，藉以分離發光裝置300與載板102。導電層304不但提供LED晶片114的導電路徑，也可以作為LED晶片114的散熱途徑。
第17圖顯示本發明所實施的一LED發光裝置之製作方法80之流程圖，第18A-18J圖為依據第17圖之製作方法80，於各個不同階段之立體圖。第19A-19J圖分別相對應之第18A-18J圖中，沿著XIX-XIX線段之剖面圖。第20圖為第18J圖中，單一LED發光裝置400之主要發光方向朝上時的立體圖。第21圖為第20圖之LED發光裝置400焊接於一印刷電路板199上之示意圖。
如第18J圖所示，在載板102上，同時形成有9個發光裝置400，排成3x3的矩陣。參照第18J、19J、20與21圖，每個發光裝置400有兩個相對的側表面403l與403r，以及一下表面405。每個發光裝置400包含有一第五反射層406、一圖案化晶種層（圖未示）、兩個導電層404、一第三透光層402、一波長轉換層409、以及一LED晶片114。LED晶片114作為一發光體，包含有兩個內部電極116。導電層404、圖案化晶種層、第五反射層406與波長轉換層409分別具有一表面彼此共平面且共同組成側表面403r（403l）。導電層304係作為兩個外部電極307r、307l。
如同第21圖所示，外部電極407r、407l可以透過銲錫120電連接到印刷電路板199。銲錫120不但是提供發光裝置400之電性連接，同時可以使發光裝置400固定於印刷電路板199上，使其主要發光方向平行於印刷電路板199之表面。所以，發光裝置400可以作為側視式LED封裝體。
在第18J與19J圖中，LED晶片114、第三透光層402與波長轉換層409一起可以視為一發光結構。LED晶片114被波長轉換層409以及第五反射層406所圍繞。LED晶片114如同設置於第五反射層406所形成一個反射槽之底部。反射槽可以導引或限制LED晶片114的出光方向為特定方向。下表面405為導電層404之一表面。兩個外部電極407r、407l、波長轉換層409、第五反射層406分別具有一表面彼此共平面且共同組成側表面403r及403l。
參照第17、18A與19A圖，步驟82：將半導體製程所產生的LED晶片114排放在一載板123上。每個LED晶片114上係以藍寶石基板貼附在載板123上，亦即兩內部電極116未面對載板123且朝向上方（正y方向）。
參照第17、18B與19B圖，步驟84：於載板124上形成第三透光層402，包圍LED晶片114之四周。步驟84可以採用局部噴塗方式，在LED晶片114上與附近，噴上膠體溶液。因為表面張力的差異，膠體溶液大部分會附著於LED晶片114以及載板123所形成的轉角中。經過烤乾後，膠體溶液硬化轉變形成第三透光層402。第三透光層402的材料可以跟先前的透光層一樣或是類似。
參照第17、18C與19C圖，步驟86：在LED晶片114與第三透光層402上形成第五反射層406。第五反射層406可以採用鑄模（molding）方式形成。第五反射層406的材料，可以相同或是類似先前所教導的反射層。
參照第17、18D與19D圖。步驟88：將步驟86之結構翻轉，貼附於載板124上，然後移除載板123。
參照第17、18E與19E圖。步驟90：將波長轉換層409形成於第五反射層406、第三透光層402與LED晶片114之上。波長轉換層409並未覆蓋第五反射層406之側壁。波長轉換層309的描述可參考前述波長轉換層112之相關段落。
參照第17、18F與19F圖。步驟92：將步驟90之結構翻轉，並貼附於載板102上，然後移除載板124。
在第17圖中，接續步驟92的有步驟50、52、53、54、56、58與60，其相關描述可參考第12圖以及相對應之段落。
簡言之，參照第17、18G與19G圖，步驟50：磨除部分的第五反射層406以裸露LED晶片114的內部電極116。
參照第17、18H與19H圖。步驟52：去除部分的第五反射層406，形成沿著z方向延伸的溝槽418。舉例來說，以刀具沿著z方向移動，以去除部分的第五反射層406以形成數個溝槽418並露出第五反射層406之側壁406r。
參照第17、18I與19I圖。步驟53：形成圖案化晶種層。步驟58對圖案化晶種層進行電鍍，形成導電層404，疊加在晶種層上。導電層404可以有不同之圖案，來覆蓋不同之內部電極116，用以判斷LED晶片114之電極之電性（p-電極或n-電極）。導電層404可以完整覆蓋第五反射層406之側壁406r，但未填滿溝槽418，導電層404之材料可參考導電層106之材料。
參照第17、18J與19J圖。步驟60：對第18I圖中的結構進行切割以形成複數個獨立之發光裝置400。具體而言，刀具（圖未示）沿著x與z方向移動，同時去除導電層404與波長轉換層409以形成溝槽。
接著，貼附一藍膜於導電層404上後，對載板102照UV光，使其失去黏著力，藉以分離發光裝置400與載板102。導電層404不但提供LED晶片114的導電路徑，也可以作為LED晶片114的散熱途徑。
需了解的是，本發明中上述之實施例在適當的情況下，是可互相組合或替換，而非僅限於所描述之特定實施例。本發明所列舉之各實施例僅用以說明本發明，並非用以限制本發明之範圍。任何人對本發明所作之任何顯而易見之修飾或變更接不脫離本發明之精神與範圍。
10、40、70、80‧‧‧製作方法
100 、100’、100a、100b、100c、100d、200、200a、300、400‧‧‧LED發光裝置
102、123、124‧‧‧載板
103l、103r、103q、103w‧‧‧側表面
104‧‧‧第一反射層
105、132、205、210、305、314、405、414‧‧‧下表面
106、204、304、404‧‧‧導電層
1061、2041‧‧‧第一部分
1062、2042‧‧‧第二部分
107r、107l、207r、207l、307r、307l 、407r、407l‧‧‧外部電極
108‧‧‧晶種層
110‧‧‧第二反射層
112、309、409‧‧‧波長轉換層
114‧‧‧LED晶片
116‧‧‧內部電極
120‧‧‧銲錫
122‧‧‧出光面
126、127、136a、136b、140、148、150、216、218、218a、224、316、318、418‧‧‧溝槽
128、134、142、144、146、214 、220‧‧‧刀具
130‧‧‧發光模組
136‧‧‧V型溝槽
138l、138r‧‧‧斜邊
180l、180r‧‧‧導電帶
190‧‧‧導光板
192‧‧‧擴散板
199‧‧‧印刷電路板
203l、203r、203q、203w‧‧‧側表面
2043‧‧‧突出部
206‧‧‧第三反射層
206r、306r、406r‧‧‧側壁
208‧‧‧晶種層
212‧‧‧發光模組
302‧‧‧第一透光層
303l、303r‧‧‧側表面
306‧‧‧第四反射層
308‧‧‧第二透光層
312‧‧‧發光模組
402‧‧‧第三透光層
403l、403r‧‧‧側表面
406‧‧‧第五反射層
第1圖顯示本發明所實施的一LED發光裝置之製作方法流程圖。
第2A-2L圖為依據第1圖之製作方法，於各個不同階段之立體圖。
第3A-3L圖分別相對應之第2A-2L圖中，沿著III-III線段之剖面圖。
第4圖為第2L圖中，沿著IV-IV線段之剖面圖。
第5A圖為第2L圖中，單一LED發光裝置之主要發光方向朝上時的立體圖。
第5B圖為第5A圖之一LED發光裝置焊接於一印刷電路板上之示意圖。
第5C圖顯示一LED發光裝置在一側光式背光模組中作為一光源之剖面圖。
第6圖為本發明所實施的一LED發光裝置之主要發光方向朝上時的立體圖。
第7圖顯示本發明所實施的一LED發光裝置之製作方法流程圖。
第8A-8H圖為依據第7圖之製作方法，於各個不同階段之立體圖。
第9A-9H圖分別相對應之第8A-8H圖中，沿著IX-IX線段之剖面圖。
第10圖為第8H圖中，單一LED發光裝置之主要發光方向朝上時的立體圖。
第11圖為第10圖之LED發光裝置焊接於一印刷電路板上之示意圖。
第12圖顯示本發明所實施的一LED發光裝置之製作方法流程圖。
第13A-13J圖為依據第7圖之製作方法，於各個不同階段的立體圖。
第14A-14J圖分別相對應之第13A-13J圖中，沿著XIV-XIV線段之剖面圖。
第15圖為第13J圖中，單一LED發光裝置之主要發光方向朝上時的立體圖。
第16圖為第15圖之LED發光裝置焊接於一印刷電路板上之示意圖。
第17圖顯示本發明所實施的一LED發光裝置之製作方法流程圖。
第18A-18J圖為依據第17圖之製作方法，於各個不同階段的立體圖。
第19A-19J圖分別相對應之第18A-18J圖中，沿著XIX-XIX線段之剖面圖。
第20圖為第18J圖中，單一LED發光裝置之主要發光方向朝上時的立體圖。
第21圖為第20圖之LED發光裝置焊接於一印刷電路板上之示意圖。
第22A圖為依據本發明所實施的一LED發光裝置之一製作方法，於一階段之立體圖。
第23A圖為第22A圖中，沿著III-III線段之剖面圖。
第22B、22C圖分別為依據本發明所實施的一LED發光裝置之製作方法，於一階段之立體圖。
第23B圖為第22B圖中，沿著III-III線段之剖面圖。
第23C圖為第22C圖中，沿著III-III線段之剖面圖。
第22D圖為依據本發明所實施的一LED發光裝置之製作方法，於一階段之立體圖。
第23D圖為第22D圖中，沿著III-III線段之剖面圖。
第23E圖為第22D圖之LED發光裝置焊接於一印刷電路板上之示意圖。
第24A-24E圖為依據本發明所實施的一LED發光裝置之製作方法，部分階段之立體圖。
第25A-25E圖分別相對應之第24A-24E圖中，沿著III-III線段之剖面圖。
第26A-26C圖為依據本發明所實施的一LED發光裝置之製作方法，部分階段之立體圖。
第27A-27C圖分別相對應之第26A-26C圖中，沿著IX-IX線段之剖面圖。
第28圖為第26C圖中，單一LED發光裝置之主要發光方向朝上時的立體圖。

Claims (9)

  1. 一種發光裝置，包含： 一發光體，具有一內部電極；以及 一導電層，具有一第一部分形成於該內部電極上且與該發光體於一第一方向重疊，及一第二部分與該發光體於一第二方向重疊，其中，該第一方向與該第二方向垂直。
  2. 如申請專利範圍第1項所述之發光裝置，更包含一反射層與該發光體於該第二方向重疊。
  3. 如申請專利範圍第2項所述之發光裝置，其中，該反射層與該第二部分別具有一表面彼此共平面。
  4. 如申請專利範圍第1項所述之發光裝置，其中，該發光裝置具有複數個側表面，該些側表面之一部分係由該導電層所組成。
  5. 如申請專利範圍第1項所述之發光裝置，其中，該導電層具有一突出部係遠離該發光體沿著第二方向延伸。
  6. 如申請專利範圍第1項所述之發光裝置，其中，該導電層於一第三方向未與該發光體重疊。
  7. 如申請專利範圍第6項所述之發光裝置，更包含一反射層包覆該導電層且於該第三方向上暴露出部分之導電層。
  8. 如申請專利範圍第7項所述之發光裝置，其中，該導電層並未於該第一方向與該第二方向從該反射層而暴露出於外界環境中。
  9. 如申請專利範圍第1項所述之發光裝置，其中，該導電層具有兩面暴露於外界環境中。
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