TW201805448A - 紫外線反射材用鋁箔及其製造方法 - Google Patents

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Abstract

本發明提供一種紫外線反射材用鋁箔，其與先前之鋁箔相比，針對波長區域250 nm～400 nm之紫外線具有85%以上之較高之反射率，針對波長區域254 nm～265 nm之深紫外線具有80%以上之較高之反射率。壓入或附著於預先所規定之表面積之區域之鋁粒子之總表面積相對於該區域之表面積為0.05%以下。存在於上述區域內之結晶物之總表面積相對於上述區域之表面積為2%以下。每一個結晶物之平均表面積為2 μm2 以下。上述區域之表面粗糙度Ra未達20 nm。

Description

紫外線反射材用鋁箔及其製造方法
本發明係關於一種紫外線反射材用鋁箔及其製造方法。再者，於本說明書中，「鋁箔」之用語係以不僅包含純鋁箔亦包含鋁合金箔之意義使用。
利用紫外線之裝置存在各種裝置，其中，作為用於殺滅細菌等之裝置，已知有具備利用紫外線殺菌效果之深紫外線燈之紫外線殺菌裝置。由於自深紫外線燈照射出之紫外線呈放射狀擴散，故而為了提高對特定殺菌對象物之紫外線殺菌效果，較佳為使自深紫外線燈照射出之紫外線聚光於殺菌對象物周圍。 作為針對波長區域250 nm～400 nm之紫外線之反射率較高之材料，可唯一列舉鋁(Al)。進而，作為紫外線反射材，較佳為輕量且具有較高之加工性之鋁箔。 於國際公開第2015/019960號(專利文獻1)中，揭示有於亦包括靠近紫外線區域之可見光區域(例如380～600 nm之波長)之可見光全域具有較高之反射率之鋁箔。 [先前技術文獻] [專利文獻] [專利文獻1]國際公開第2015/019960號
[發明所欲解決之問題] 然而，本發明者等人對上述專利文獻1之鋁箔，測定針對波長區域250 nm～400 nm之紫外線之反射率作為利用積分球所獲得之全反射率，結果未達85%，不能稱聚光效果充分。尤其是，針對紫外線殺菌效果較高之波長區域254 nm～265 nm之深紫外線之反射率最大亦僅僅未達80%，無法獲得充分之聚光效果。 因此，本發明之目的在於提供一種紫外線反射材用鋁箔及其製造方法，該紫外線反射材用鋁箔與先前之鋁箔相比，針對波長區域250 nm～400 nm之紫外線具有85%以上之較高之反射率，針對波長區域254 nm～265 nm之深紫外線具有80%以上之較高之反射率。 [解決問題之技術手段] 本發明者等人為解決上述課題而反覆進行了銳意研究，結果發現，若不僅對表面粗糙度加以控制，而且對存在於鋁箔表面之結晶物及因壓入或附著而存在之鋁粒子加以控制，則針對紫外線之反射率提高。即，本發明之紫外線反射材用鋁箔及其製造方法具有以下特徵。 根據本發明之紫外線反射材用鋁箔中，壓入或附著於預先所規定之表面積之區域之鋁粒子之總表面積相對於該區域之表面積為0.05%以下。存在於上述區域內之結晶物之總表面積相對於上述區域之表面積為2%以下。每一個結晶物之平均表面積為2 μm2 以下。上述區域之表面粗糙度Ra未達20 nm。 於上述紫外線反射材用鋁箔中，較佳為與壓延方向垂直之方向之表面粗糙度RzJIS 為100 nm以下。 於上述紫外線反射材用鋁箔中，該鋁箔厚度較佳為4 μm以上且300 μm以下。 上述紫外線反射材用鋁箔亦可具備形成於上述區域上之保護層。保護層之表面針對波長區域254 nm以上且265 nm以下之深紫外線之全反射率為80%以上。 於上述紫外線反射材用鋁箔中，構成保護層之材料較佳為包含聚矽氧組合物及氟樹脂之至少任一種。 於上述紫外線反射材用鋁箔中，上述保護層之表面之表面粗糙度Ra較佳為10 nm以下。 製造具有上述特徵之紫外線反射材用鋁箔之方法具備如下步驟：使用表面粗糙度Ra為40 nm以下之壓延輥，以壓下率為25%以上之條件對鋁箔進行最終精冷間壓延。 製造具有上述特徵之紫外線反射材用鋁箔之方法較佳為進而具備如下步驟：於最終精冷間壓延後，對鋁箔表面之至少一部分使用酸溶液或鹼溶液進行洗淨或進行電解研磨。 製造具有上述特徵之紫外線反射材用鋁箔之方法亦可進而具備如下步驟：於上述最終精冷間壓延之步驟後，於上述表面之至少一部分上形成包含聚矽氧組合物及氟樹脂之至少任一種之保護層。 [發明之效果] 根據本發明，能夠提供一種與先前之鋁箔相比具有較高之反射率之紫外線反射材用鋁箔。
以下，參照圖式對本發明之實施形態進行說明。再者，於以下之圖式中對相同或相當之部分附上相同之參照編號，並且不重複其說明。 ＜鋁箔之構成＞ 於本實施形態之鋁箔1(參照圖1)中，存在於預先所規定之表面積之區域內且壓入或附著於該區域之鋁粒子之總表面積相對於該區域之表面積為0.05%以下。存在於上述區域內之結晶物之總表面積相對於該區域之表面積為2%以下。上述結晶物中之每一個之平均表面積為2 μm2 以下。上述區域之表面粗糙度Ra未達20 nm。 所謂預先所規定之表面積之區域，可為鋁箔之表面整體，又，亦可為一部分。此處，所謂鋁箔之表面係指鋁箔之外觀中可藉由目視、顯微鏡等確認之表面。因此，所謂預先所規定之表面積之區域係指藉由例如顯微鏡等觀察時之觀察視野中之區域。即，與鋁粒子、結晶物相關之上述參數、及表面粗糙度Ra、RzJIS 係於藉由顯微鏡等觀察鋁箔表面時，分別於預先所規定之表面積之觀察視野內測定。鋁粒子之總表面積係於例如掃描式電子顯微鏡之預先所規定之觀察視野內觀察、測定。結晶物之總表面積及平均表面積係於例如光學顯微鏡之預先所規定之觀察視野內觀察、測定。表面粗糙度Ra、RzJIS 係於例如原子力顯微鏡之預先所規定之觀察視野內測定。預先所規定之表面積之區域係包含測定鋁粒子之總表面積時之觀察視野、測定結晶物之總表面積及平均表面積時之觀察視野、及測定表面粗糙度Ra、RzJIS 時之觀察視野之各個觀察視野的區域。 如圖1所示，鋁箔1具有表面中表面積最大之第1主面1A及第2主面1B。圖2係於下述鋁箔之製造方法中表面洗淨前之冷軋材11(參照圖5)之表面11A(於表面洗淨後應成為鋁箔1之第1主面1A之表面)之俯視圖。如圖2所示，預先所規定之區域E例如為第1主面1A之局部區域。區域E之平面形狀可為任意形狀，例如為矩形狀。區域E包含用於測定鋁粒子之總表面積之掃描式電子顯微鏡之任意倍率下之觀察視野內之觀察區域F、測定結晶物之總表面積及平均表面積時之觀察視野內之觀察區域G、及測定表面粗糙度Ra、RzJIS 時之觀察視野內之觀察區域H。各觀察區域F、G、H可任意選擇面積及於區域E中之位置。各觀察區域F、G、H可為至少一部分相互重合，亦可不重合。 鋁粒子主要包括鋁(Al)。鋁粒子之外徑例如為數百nm～數μm。如圖3所示，鋁粒子C壓入至鋁箔1之表面、或附著於表面。鋁粒子C係藉由下述之鋁箔1之製造方法中之冷間壓延步驟而產生。如圖3所示，所謂鋁粒子C之總表面積係指自相對於具有觀察區域F之面(例如第1主面1A)所成之角度為90°±2°之方向(大略垂直之方向)對觀察區域F進行觀察時所觀察到的鋁粒子C於垂直於該方向之平面之投影面積S1之總和。 所謂結晶物係指例如Al-鐵(Fe)系、Al-Fe-錳(Mn)系、Al-Mg-矽(Si)系、Al-Mn系等各種金屬間化合物。如圖3所示，所謂結晶物D之總表面積係指自相對於具有觀察區域G之面(例如第1主面1A)所成之角度為90°±2°之方向(大略垂直之方向)對觀察區域G進行觀察時所確認到的結晶物D於垂直於該方向之平面之投影面積S2之總和。上述結晶物中之每一個之平均表面積係指將結晶物D之上述總表面積除以存在於觀察區域G內之結晶物D之個數所得者。 鋁箔1之表面粗糙度Ra係將JIS(Japanese Industrial Standard，日本工業標準)B0601(2001年版)及ISO(International Standard Organization，國際標準組織)4287(1997年版)中定義之算術平均粗糙度Ra以可應用於面之方式三維地擴展而計算出之值。 鋁箔於其製造方法中進行冷間壓延。因此，於鋁箔之表面(第1主面1A及第2主面1B)形成有沿著壓延方向X(參照圖1)延伸之壓延輥之轉印條紋(未圖示)。於鋁箔之表面形成有因轉印條紋所致之凹凸。由一定以上之大小之轉印條紋構成之鋁箔表面之凹凸使紫外線之反射角度具有各向異性，而引起反射光之漫反射。因此，鋁箔中形成有一定以上之大小之轉印條紋之部分針對紫外線之反射率較低。此種因壓延輥之轉印條紋所致之凹凸能以相對於壓延方向X垂直之方向Y、即TD方向之表面粗糙度RzJIS 之值進行評價。 鋁箔1較佳為於上述區域E中，與壓延方向X垂直之方向Y(參照圖1)之表面粗糙度RzJIS 為100 nm以下。更佳為區域E之RzJIS 為80 nm以下。再者，垂直之方向Y之表面粗糙度RzJIS 係利用基於JIS B0601(2001年版)及ISO4287(1997年版)之評價方法測定沿著垂直之方向Y之剖面中之二維之RzJIS 值所得的值。再者，作為獲得上述之表面粗糙度Ra及RzJIS 之方法，有物理研磨、電解研磨、化學研磨等研磨加工、或使用表面為鏡面狀態之壓延輥之冷間壓延等。關於使用表面為鏡面狀態之壓延輥之冷間壓延，將於下文進行敍述。 鋁箔1之厚度T(參照圖1)較佳為4 μm以上且300 μm以下。若鋁箔之厚度未達4 μm，則作為鋁箔，無法維持機械強度，因製造時之操作等而於鋁箔表面產生皺褶。若鋁箔之厚度超過300 μm，則鋁箔之重量增大，而且成形等加工受到限制，故而不佳。進而較佳為鋁箔1之厚度為6 μm以上且250 μm以下。為了使鋁箔厚度為上述範圍，按照一般之鋁箔之製造方法進行鑄造及壓延即可。 本實施形態之鋁箔1之組成並無特別限定，Fe之含量較佳為0.001%質量以上且0.5質量%以下。Fe由於相對於鋁之固溶度較小，故而於鋁之鑄造時容易結晶出FeAl3 等金屬間化合物。該等結晶物與鋁生坯相比紫外線之反射率較低，成為使作為鋁箔之紫外線反射率降低之原因。若Fe之含量成為0.5質量%以上，則於添加之Fe全部結晶之情形時，作為Al-Fe系金屬間化合物之FeAl3 之結晶量超過1.2質量%而存在，有250 nm～400 nm之紫外線全反射率低於85%之傾向。因此，較理想為將Fe之含量設為0.5質量%以下。又，若Fe之含量未達0.001質量%，則有鋁箔之強度降低之傾向。 又，於本實施形態之鋁箔中，Mn之含量較佳為0.5質量%以下。與Fe同樣地，Mn相對於鋁之固溶度亦較小，因此，於鋁之鑄造時容易結晶出Al-Fe-Mn系化合物等。Al-Fe-Mn系結晶物與Al-Fe系結晶物相比較微細，該等結晶物與鋁生坯相比紫外線之反射率較低，成為使作為鋁箔之紫外線反射率降低之原因。若錳之含量成為0.5質量%以上，則於添加之Mn全部結晶之情形時，Al-Fe-Mn系金屬間化合物超過1.5質量%而存在，有250 nm～400 nm之紫外線全反射率低於85%之傾向。因此，較理想為將Mn之含量設為0.5質量%以下。 進而，於本實施形態之鋁箔中，Si之含量較佳為0.001%質量%以上且0.3質量%以下。Si由於相對於鋁之固溶度較大而不易形成結晶物，故而，只要為於鋁箔中不產生結晶物之程度之含量，則不會使紫外線之反射率降低。又，若包含Si則可藉由固溶強化使鋁箔之機械強度提高，因此，可容易地進行厚度較薄之箔之壓延。若Si之含量未達0.001質量%，則有無法充分獲得上述效果之傾向。若Si之含量超過0.3質量%，則容易產生粗大之結晶物，不僅反射特性降低，而且亦損及晶粒之微細化效果，因此，有強度及加工性亦降低之傾向。 於本實施形態之鋁箔中，Mg之含量較佳為3質量%以下。Mg由於相對於鋁之固溶度最大為18質量%而較大，極少產生結晶物，因此，不會對鋁箔之反射特性造成較大影響，而可改善鋁箔之機械強度。但是，若Mg之含量超過3質量%，則鋁箔之機械強度變得過高，因此，有鋁箔之壓延性降低之傾向。為了兼備鋁箔之較佳之反射特性及機械強度，進而較佳為將Mg之含量設為2質量%以下。 再者，本實施形態之鋁箔亦可以不對上述特性及效果造成影響之程度之含量包含銅(Cu)、鋅(Zn)、鈦(Ti)、釩(V)、鎳(Ni)、鉻(Cr)、鋯(Zr)、硼(B)、鎵(Ga)、鉍(Bi)等元素。 ＜鋁箔之製造方法＞ 其次，對本實施形態之鋁箔之製造方法之一例進行說明。如圖4所示，本實施形態之鋁箔之製造方法具備：步驟(S10)，其準備鑄塊；步驟(S20)，其對鑄塊進行均質化處理；步驟(S30)，其對鑄塊進行熱間壓延；步驟(S40)，其對藉由熱間壓延所獲得之熱軋材進行冷間壓延；及步驟(S50)，其對藉由冷間壓延所獲得之冷軋材作為最終精加工進行冷間壓延(以下，稱為最終精冷間壓延)而形成鋁箔。進而，本實施形態之鋁箔之製造方法較佳為具備對藉由最終精冷間壓延所獲得之冷軋材進行表面洗淨之步驟(S60)。 首先，準備鑄塊(步驟(S10))。具體而言，藉由製備特定組成之鋁之熔液並使鋁之熔液凝固而鑄造(例如半連續鑄造)鑄塊。熔液中之Fe、Mn、Si等金屬元素之含量係以如下方式進行控制，即，存在於鋁箔中預先所規定之表面積之區域內之結晶物之總表面積相對於該區域之表面積成為2%以下，且每一個結晶物之平均表面積成為2 μm2 以下。 繼而，對所獲得之鑄塊進行均質化熱處理(步驟(S20))。均質化熱處理係於例如將加熱溫度設為400℃以上且630℃以下、將加熱時間設為1小時以上且20小時以下的條件下進行。 繼而，對鑄塊進行熱間壓延(步驟(S30))。藉由本步驟，可獲得具有特定之厚度W1之熱軋材。熱間壓延亦可進行1次或複數次。再者，於藉由連續鑄造製造薄板之鋁鑄塊之情形時，該薄板狀之鑄塊亦可不經由本步驟而進行冷間壓延。 繼而，對藉由熱間壓延所獲得之熱軋材進行冷間壓延(步驟(S40))。藉由本步驟，可獲得具有特定之厚度W2之冷軋材(最終精冷間壓延步驟(S50)中之被壓延材)。於本步驟中，冷間壓延例如插入中間退火步驟而進行複數次。例如，首先對熱軋材實施第1冷間壓延步驟(S40A)而形成較熱軋材之厚度W1薄且較冷軋材之厚度W2厚之壓延材。繼而，對所獲得之壓延材實施中間退火步驟(S40B)。中間退火係於例如將退火溫度設為50℃以上且500℃以下、將退火時間設為1秒以上且20小時以下的條件下進行。繼而，對退火後之壓延材實施第2冷間壓延步驟(S40C)而形成厚度W2之冷軋材。 繼而，如圖5所示，對冷軋材(被壓延材10)進行最終精冷間壓延(步驟(S50))。於本步驟中，使用壓延輥101、102以壓下率為25%以上之條件對被壓延材10進行最終精冷間壓延。壓延輥101、102具有與被壓延材接觸而進行壓延之輥面。隔著被壓延材10而配置之一對壓延輥101、102中至少一個壓延輥101之輥面之表面粗糙度Ra為40 nm以下。 最終精冷間壓延時使用之壓延油之種類並無特別限定，壓延油之黏度較佳為較低。壓延油之黏度於油溫度為37.8℃(100℉)時較佳為1.7 cSt以上且3.5 cSt以下，更佳為2.0 cSt以上且3.0 cSt以下。 繼而，亦可對藉由最終精冷間壓延所獲得之冷軋材11(參照圖5)進行表面洗淨(步驟(S60))。於本步驟中，使用酸性溶液或鹼性溶液將冷軋材11表面之至少一部分洗淨。冷軋材11中進行表面洗淨之表面包含在最終精冷間壓延步驟(S50)中藉由表面粗糙度Ra為40 nm以下之壓延輥101(參照圖5)而延伸的表面11A(參照圖5)。酸性溶液可自例如氫氟酸、磷酸、鹽酸、及硫酸等強酸性溶液中選擇。鹼性溶液可自例如氫氧化鈉等強鹼性溶液中選擇。與表面洗淨相關之其他條件可適當選擇。 以此方式，可獲得圖1所示之本實施形態之鋁箔1。鋁箔1之上述區域E係藉由在最終精冷間壓延步驟(S50)中利用表面粗糙度Ra為40 nm以下之壓延輥進行壓延而形成的面(例如第1主面1A)上之區域、進而壓延後藉由在表面洗淨步驟(S60)中進行表面洗淨而形成的面(例如第1主面1A)上之區域。即，上述區域E並非限於僅形成於鋁箔1之第1主面1A上之情形，亦可僅形成於第2主面1B上，還可形成於第1主面1A及第2主面1B之兩面上。 ＜作用效果＞ 本發明者等人確認到如下內容，即，此種鋁箔1與先前之鋁箔相比，針對波長區域250 nm～400 nm之紫外線具有較高之反射率(詳情參照下述實施例)。 壓入或附著於鋁箔之表面之鋁粒子係於鋁箔之製造方法中之冷間壓延步驟(包含下述之冷間壓延步驟(S40)及最終精冷間壓延步驟(S50))中產生。具體而言，如圖5所示，被壓延材10(熱軋材或冷軋材)藉由冷間壓延進行塑性變形而較薄地延伸時，該被壓延材10同時剪切變形。藉此，於冷間壓延過程中被壓延材10之表面之一部分被切開，而產生數百nm～數μm之外徑之鋁粒子(未圖示)。該鋁粒子藉由夾於壓延輥101、102與鋁材之間而壓入至冷軋材11或於壓延後再附著於冷軋材11之表面11A、11B。此時，認為，若由氧化膜覆蓋之鋁粒子壓入或者再附著於冷軋材11，則入射至鋁箔表面之紫外線因鋁粒子或該氧化膜而引起漫反射或干擾。因此，本發明者等人認為，若鋁粒子以鋁粒子之總表面積相對於鋁箔中預先所規定之表面積之比率超過0.05%的程度存在於鋁箔之表面，則鋁箔針對紫外線之反射率降低。 相對於此，根據鋁箔1，存在於預先所規定之表面積之區域內且壓入或附著於該區域之鋁粒子之總表面積相對於該區域之表面積為0.05%以下。因此，鋁箔1可抑制因鋁粒子引起之漫反射或干擾，故而認為針對紫外線具有較高之反射率。 入射至結晶物表面之紫外線之反射率較入射至鋁本身之表面之紫外線之反射率低。因此，若結晶物以存在於鋁箔中預先所規定之表面積之區域之結晶物之總表面積相對於該區域之表面積超過2%的程度存在於鋁箔之表面，則鋁箔針對紫外線之反射率降低。若每一個結晶物之平均表面積大至超過2 μm2 之程度，則鋁箔之表面內之針對紫外線之反射率之不均變大。 進而，存在於鋁箔表面之結晶物使鋁箔表面產生凹凸。尤其是，於進行最終精冷間壓延之被壓延材(冷軋材)之表面存在結晶物之情形時，由於結晶物較鋁之生坯硬，故而鋁優先產生塑性變形。結晶物於塑性變形之鋁箔之表面上滾動，一部分結晶物自鋁箔表面脫落而使鋁箔表面產生凹凸。因此，若結晶物以結晶物之總表面積相對於上述表面積超過2%的程度存在於鋁箔之表面，則使鋁箔表面產生凹凸之程度變大。進而，若每一個結晶物之平均表面積大至超過2 μm2 之程度，則結晶物自鋁箔表面脫落時所形成之凹部變大。該等之結果為，入射至鋁箔表面之紫外線於形成於鋁箔表面之凹凸部產生漫反射，故而反射率降低。 相對於此，根據鋁箔1，存在於預先所規定之表面積之區域內之結晶物之總表面積相對於該區域之表面積為2%以下。因此，鋁箔1針對紫外線具有較高之反射率。進而，鋁箔1中，存在於上述區域內之每一個結晶物之平均表面積為2 μm2 以下。因此，鋁箔1可抑制針對紫外線之反射率之不均。 若表面粗糙度Ra為20 nm以上，則因表面之凹凸而導致鋁箔針對紫外線之反射率降低。若基於自然法則，則當入射之紫外線於某表面進行反射時，若於其表面存在凹凸，則反射之角度根據入射之部位而變化。根據情形，產生如下可能性，即，於某凹凸部反射後之光例如進一步照射(入射)至存在於其凹凸部之相鄰處之凹凸部，而引起複數次反射。已知於1次反射中反射光衰減，若複數次反射，則其光之反射率以相應程度降低。 相對於此，藉由預先所規定之表面積之區域之表面粗糙度Ra未達20 nm，而鋁箔表面之凹凸減少，故而可抑制於鋁箔表面之凹凸部反射後之紫外線再次照射至其他凹凸部而反射光衰減。進而，鋁箔1較佳為方向Y(參照圖1)之表面粗糙度RzJIS 為100 nm以下。藉此，鋁箔表面之凹凸進一步減少，故而可進一步抑制於鋁箔表面之凹凸部反射後之紫外線再次照射至其他凹凸部而反射光衰減。 本實施形態之鋁箔之製造方法亦可具備表面洗淨步驟。藉由本步驟，於最終精冷間壓延步驟中壓入或附著於冷軋材(鋁箔)之表面之鋁粒子能夠溶解於酸性溶液或鹼性溶液中而去除或縮小。因此，根據本實施形態之鋁箔之製造方法，可更容易地製造存在於預先所規定之表面積之區域內且壓入或附著於該區域之鋁粒子之總表面積相對於該區域之表面積為0.05%以下的鋁箔。 於本實施形態之鋁箔之製造方法之最終精冷間壓延步驟中，使用表面粗糙度Ra為40 nm以下之壓延輥的理由如下。最終精冷間壓延步驟中所使用之壓延輥之表面粗糙度對最終精冷間壓延步驟後所獲得之鋁箔之表面粗糙度有較大影響。若使用表面粗糙度Ra大於40 nm之壓延輥對鋁箔進行壓延，則所獲得之鋁箔係相對於壓延方向X垂直之方向Y之表面粗糙度RzJIS 大於100 nm，表面粗糙度Ra亦成為20 nm以上。最終精冷間壓延步驟中所使用之壓延輥之表面粗糙度Ra較佳為儘可能地小，更佳為30 nm以下。 最終精冷間壓延步驟中之壓下率為25%以上之理由如下。一般地，若壓下率變低，則有咬入至壓延輥與被壓延材之間之壓延油膜量增加之傾向。因此，於以較低之壓下率進行最終精冷間壓延之情形時，因對被壓延材之表面擠入壓延油而於該表面形成深度數十～數百nm之複數個油坑。其結果，於所獲得之冷軋材之表面形成有多個因油坑引起之凹凸。尤其是，若以小於25%之壓下率進行壓延，則所獲得之鋁箔之表面粗糙度Ra受因油坑引起之凹凸較大影響，而成為20 nm以上。又，因形成於被壓延材之表面之油坑引起之凹凸會成為產生鋁粒子之主要原因。因此，若將最終精冷間壓延步驟中之壓下率設為25%以上，則可抑制鋁箔之表面粗糙度Ra，而可抑制因鋁箔表面之凹凸引起之反射光之衰減。進而，若將最終精冷間壓延步驟中之壓下率設為25%以上，則可抑制鋁粒子之產生，而可抑制因鋁粒子引起之反射率之降低。壓下率之上限值並無特別限定，較佳為60%。若為60%以上之壓下率則壓延性較差，而且壓延中之剪切力變高，而鋁粒子之產生變多。 最終精冷間壓延時使用之壓延油之黏度較佳為較低之理由如下。壓延油黏度越低，則咬入至壓延輥與鋁箔之間之壓延油之潤滑越高，最終精冷間壓延步驟中不易產生對鋁箔表面擠入壓延油而形成之油坑。因此，可將藉由本步驟所獲得之冷軋材之表面粗糙度Ra抑制為較低，且可抑制鋁粒子之產生。尤其是，藉由在最終精冷間壓延時使用油溫度為37.8℃(100℉)時黏度為1.7 cSt以上且3.5 cSt以下之壓延油，可將所獲得之冷軋材之表面粗糙度Ra抑制為更低，且可進一步抑制鋁粒子之產生。進而，藉由在最終精冷間壓延時使用油溫度為37.8℃(100℉)時黏度為2.0 cSt以上且3.0 cSt以下之壓延油，可將所獲得之冷軋材之表面粗糙度Ra抑制為更低，且可進一步抑制鋁粒子之產生。 ＜變化例＞ 如圖6所示，鋁箔之製造方法亦可具備對藉由最終精冷間壓延所獲得之冷軋材11(參照圖5)之表面進行電解研磨之步驟(S70)，代替圖4所示之表面洗淨步驟(S60)。冷軋材11中進行電解研磨之表面包含在最終精冷間壓延步驟(S50)中藉由表面粗糙度Ra為40 nm以下之壓延輥101(參照圖5)而延伸之表面11A(參照圖5)。以此方式，於最終精冷間壓延步驟中壓入或附著於冷軋材之表面之鋁粒子亦能夠藉由電解研磨進行研磨而去除或縮小。因此，藉由圖6所示之鋁箔之製造方法，亦能夠製造存在於預先所規定之表面積之區域內且壓入或附著於該區域之鋁粒子之總表面積相對於該區域之表面積為0.05%以下的鋁箔。進而，可藉由電解研磨而提高鋁箔表面之平滑性。 又，圖4所示之鋁箔之製造方法亦可於表面洗淨步驟(S60)之後進而具備對經表面洗淨之鋁箔之表面進行電解研磨之步驟。 又，鋁箔之製造方法亦可於表面洗淨步驟(S60)或電解研磨步驟(S70)之後進而具備加熱鋁箔之步驟。例如，亦可對鋁箔實施加熱溫度為250℃以上且450℃以下左右、加熱時間為1～30小時左右之熱處理。如此一來，可製造針對紫外線具有較高之反射率且軟質之鋁箔。 鋁箔亦可為，僅具有上述預先所規定之表面積之區域之表面之一部分用作紫外線反射材，而鋁箔之表面之其餘部分固定於其他零件。 鋁箔亦可於具有上述預先所規定之表面積之區域之表面上形成用於保護該表面之保護層(表面保護層)。 如圖7所示，鋁箔1亦可於具有上述預先所規定之表面積之區域之至少一個面(例如上述第1主面1A)上具備表面保護層12。作為表面保護層12之表面之第3主面12A針對波長區域254 nm～265 nm之深紫外線之全反射率為80%以上。 構成表面保護層12之材料包含例如聚矽氧組合物及氟樹脂之至少任一種。此處，所謂聚矽氧組合物係指包含矽(Si)及氧(O)之材料。聚矽氧組合物可為結晶質，亦可為非晶質。聚矽氧組合物亦可為例如結晶質之矽氧化物。較佳為構成表面保護層12之材料中包含之樹脂等有機物抑制為總量之半數以下。較佳為構成表面保護層12之材料中不包含樹脂等有機物。樹脂等有機物受到紫外線照射時分解。因此，若表面保護層12中包含之有機物超過總量之半數，則表面保護層12連續受到紫外線照射時明顯地繼時劣化。相對於此，若表面保護層12中包含之有機物為總量之半數以下，則表面保護層12連續受到紫外線照射時不會明顯地繼時劣化。 較佳為表面保護層12為透明。若表面保護層12為透明，則上述鋁箔1表面之針對紫外線之反射特性不會因表面保護層12而較大地受損。如此一來，波長區域254 nm～265 nm之深紫外線照射至表面保護層12之第3主面12A時之深紫外線之反射率可設為80%以上。 較佳為表面保護層12之第3主面12A之表面粗糙度Ra為10 nm以下。如上所述，若基於自然法則，則入射之紫外線於某表面進行反射時，若於其表面存在凹凸，則反射之角度根據入射之部位而變化。根據情形，產生如下可能性，即，於某凹凸部反射後之光例如進一步照射(入射)至存在於其凹凸部之相鄰處之凹凸部，而引起複數次反射。已知於1次反射中反射光衰減，若複數次反射，則其光之反射率以相應程度降低。因此，表面保護層12之第3主面12A之表面粗糙度Ra超過10 nm之情形與表面保護層12之第3主面12A之表面粗糙度Ra為10 nm以下之情形相比，有波長區域254 nm～265 nm之深紫外線照射至表面保護層12之第3主面12A時之全反射率明顯降低之虞。 如圖8所示，形成表面保護層12之步驟(S80)可於最終精冷間壓延步驟(S50)之後實施。較佳為，如圖9所示，形成表面保護層12之步驟(S80)可於表面洗淨步驟(S60)之後實施。或者，形成表面保護層12之步驟(S80)可於電解研磨步驟(S70)之後實施。表面保護層12可藉由任意方法形成。表面保護層12例如亦可藉由在鋁箔之該表面上貼合包含任意樹脂等之膜而形成。又，表面保護層12例如亦可藉由在鋁箔之該表面上塗佈具有流動性之任意樹脂並使其硬化而形成。又，表面保護層12例如亦可於鋁箔之該表面上藉由離子電漿處理、離子鍍覆處理、濺鍍處理、蒸鍍處理等而形成包含氧化矽(SiO2 )等之無機層。又，表面保護層例如亦可於鋁箔之該表面上藉由鍍覆處理而形成包含鎳等之金屬層。又，表面保護層例如亦可為藉由對鋁箔之該表面進行之陽極氧化處理而形成之氧化皮膜層。 再者，如上所述之表面保護層亦可藉由例如卷對卷製程而形成。於該情形時，如圖10所示，鋁箔1亦可呈捲筒狀捲繞於捲芯2而構成卷對卷用鋁箔3。 鋁箔亦可成型為任意形狀。鋁箔之成型可藉由例如拉伸成型或深拉拔成型等實施，亦可藉由時而彎折時而彎曲而成型為對應目標之形狀。 鋁箔亦可於具有上述預先所規定之表面積之區域之表面之一部分形成佈線圖案。此種佈線圖案例如能以如下方式形成。首先，於鋁箔表面之該一部分以外之其餘部分上形成作為蝕刻遮罩之表面保護層。繼而，於鋁箔表面之上述一部分上亦形成遮罩圖案作為蝕刻遮罩。遮罩圖案例如藉由抗蝕劑等感光性材料進行照相製版等而形成。繼而，對鋁箔表面之上述一部分，以鋁與遮罩圖案之蝕刻選擇比可設定為較大之條件實施蝕刻。 如上述所說明般，本實施形態之鋁箔如文字所述為「箔」，與一般地厚度成為500 μm左右以上之「鋁板」不同且具有如下各種優點。即，鋁箔於輕量化方面特別優異，並且易於成形加工，又，有表現鋁板中困難之向彎曲物之貼附等形狀追隨性或可撓性之優點。又，導致廢棄物之減量等，於對環境之負荷方面亦有相對於鋁板之優點。 因此，本實施形態之鋁箔活用上述優點，可特別有利地應用於水或海水之殺菌、有機物之分解、紫外線治療、光觸媒、樹脂硬化時使用之紫外線燈之反射板用途。 [實施例] 如以下所說明般製作本發明之實施例及比較例之鋁箔之試樣。 使用表1所示之組成A～E之鋁，根據表2所示之製造步驟，製作表3所示之實施例1～10及比較例1～15之鋁箔之試樣。再者，於表1中所謂「其他元素合計」係表示由JIS規定之元素以外之不可避免之雜質元素(B、Bi、Pb、Na等)之合計含量。 [表1] [表2] 如表2所示，製造步驟係對藉由DC(Direct Casting，直接澆鑄)鑄造所獲得之鋁之鑄塊於加熱爐內以特定溫度及時間進行均質化熱處理。其後，進行熱間壓延直至厚度成為約6.5 mm為止。使用所獲得之熱間壓延材進行複數次冷間壓延，並於冷間壓延之途中以特定溫度及時間實施中間退火，進行冷間壓延(包含最終精冷間壓延)直至厚度成為特定值為止，而製作表3所示之厚度之鋁箔之試樣。此時，對於實施例1～10及比較例3～13、15，於最終精冷間壓延中使用表面粗糙度Ra為40 nm之壓延輥，以25%之壓下率進行壓延。對於比較例1，於最終精冷間壓延中使用表面粗糙度Ra為50 nm之壓延輥，以35%之壓下率進行壓延。對於比較例2及14，於最終精冷間壓延中使用表面粗糙度Ra為150 nm之壓延輥，以35%之壓下率進行壓延。 對於比較例5～8、11～14，於最終精冷間壓延後進行下述之各評價。對於實施例1～5及7～10以及比較例1、2、9、10、15，於最終精冷間壓延後，於液溫35℃、1質量%之氫氧化鈉水溶液中浸漬20秒鐘，進行表面洗淨。對於實施例6，於最終精冷間壓延後，於液溫35℃、1質量%之氫氧化鈉水溶液中浸漬10分鐘，進行表面洗淨。對於比較例3，於最終精冷間壓延後，於液溫35℃、1質量%之氫氧化鈉水溶液中浸漬2秒鐘，進行表面洗淨。對於比較例4，於最終精冷間壓延後，於液溫35℃、1質量%之氫氧化鈉水溶液中浸漬1秒鐘，進行表面洗淨。 再者，均質化熱處理時間為一般之處理時間內即可，並不限定於表2所示之時間。中間退火條件並不限定於表2所示之溫度及時間，為一般之操作條件之範圍內即可。 針對所獲得之鋁箔之各試樣，利用掃描式電子顯微鏡觀察表面狀態，測定鋁粒子之表面積。利用光學顯微鏡觀察表面狀態，測定結晶物之表面積及每一個之平均表面積。又，對鋁箔之各試樣基於利用原子力顯微鏡所進行之觀察測定表面粗糙度Ra及相對於壓延方向垂直之寬度(TD)方向之表面粗糙度RzJIS 之值，以評價表面凹凸。 進而，對於實施例8～10及比較例15，於上述表面洗淨後，於表面積最大之表面之一個表面上形成保護層。 對於實施例8，將構成保護層之材料設為矽氧化物(JSR股份有限公司製造GLASCA T2202A及T2202B，具體而言，相對於30份T2202A調配10份T2202B所得者)。對於實施例9，將構成保護層之材料設為非晶質聚矽氧組合物(CERAMIC COAT股份有限公司製造SP CLEAR HT)。對於實施例10，將構成保護層之材料設為氟樹脂(日本塗料股份有限公司製造FPG-TA001)。對於各實施例8～10，保護層之形成藉由使用旋轉塗佈機(MIKASA股份有限公司製造Spin Corater MS-A150)塗佈上述各材料而進行。具體而言，首先，對上述各材料以固形物成分濃度成為10%以下之方式利用溶劑進行稀釋，準備3種塗佈劑。繼而，使用上述旋轉塗佈機，對實施例8～10之各者塗佈各塗佈劑。塗佈條件設為最終之保護層之膜厚成為70 nm之條件，具體而言，旋轉速度設為500 rpm以上且7000 rpm以下，旋轉時間設為10秒鐘。繼而，對實施例8～10之各者以180℃焙燒1分鐘。藉此，準備實施例8～10。 對於比較例15，將構成保護層之材料設為鋁氧化物。具體而言，對上述表面洗淨後之比較例15於硫酸浴中實施陽極氧化處理。繼而，對經實施陽極氧化處理之比較例15實施封孔處理。 對所獲得之實施例8～10及比較例15之各試樣，基於利用原子力顯微鏡所進行之觀察測定表面粗糙度Ra，以評價保護層之表面凹凸。 進而，對實施例1～10及比較例1～15之各鋁箔測定紫外線之全反射率，以評價反射特性。以下，對該等之測定方法進行說明。 掃描式電子顯微鏡觀察使用日本電子股份有限公司製造JSM-5510，以2000倍之倍率以二次電子像觀察鋁箔表面。根據所獲得之64 μm×48 μm之矩形視野中之表面觀察圖像，將壓入或附著於鋁箔表面之鋁粒子與鋁生坯二值化，測定視野內所存在之所有鋁粒子之表面積。根據各鋁粒子之表面積之測定值與視野之表面積，計算出所有鋁粒子之總表面積相對於視野之表面積之比率。表面觀察圖像係於試樣之寬度方向於中央部附近採取5點，關於針對各視野內之每一視野計算出之鋁粒子(Al粒子)之總表面積之比率，將5點之平均值示於表3。 光學顯微鏡觀察使用Nikon股份有限公司製造之ECLIPSE L200，以500倍之倍率觀察鋁箔表面。根據所獲得之174 μm×134 μm之矩形視野中之表面觀察圖像，將結晶物與鋁生坯二值化，測定視野內所存在之所有結晶物之表面積。根據各結晶物之表面積之測定值與視野之表面積，計算出所有結晶物之總表面積相對於視野之表面積之比率。進而，根據各結晶物之表面積之測定值與視野內觀察到之結晶物之個數，計算出每一個結晶物之平均表面積。表面觀察圖像係於試樣之寬度方向於中央部附近採取5點，關於針對各視野內之每一視野計算出之結晶物之總表面積之比率與每一個結晶物之平均表面積，將5點之平均值示於表3。再者，嚴格而言，亦無法否定於視野中存在析出物之可能性，但於本說明書中，視野中觀察到之金屬間化合物全部視為結晶物。 利用原子力顯微鏡所進行之表面凹凸之觀察係使用Hitachi High-Tech Science股份有限公司製造之掃描式探針顯微鏡AFM5000II，針對利用動態力模式方式(非接觸)所得之表面形狀於80 μm×80 μm之矩形視野內進行。針對所獲得之觀察結果，藉由利用最小平方近似法求得曲面並進行擬合之三次曲面自動傾斜修正對試樣之傾斜進行修正，測定表面粗糙度Ra及相對於壓延方向垂直之寬度(TD)方向之表面粗糙度RzJIS 。表面粗糙度Ra係將JIS B0601(2001年版)及ISO4287(1997年版)中定義之算術平均粗糙度Ra以可應用於所觀察之表面整體之方式三維地擴展而計算出的值。寬度(TD)方向之表面粗糙度RzJIS 係利用基於JIS B0601(2001年版)及ISO4287(1997年版)之評價方法測定該視野內之任意之寬度(TD)方向之剖面中之二維之RzJIS 值。將鋁箔(Al箔)之表面粗糙度Ra及RzJIS 之值示於表3。 保護層之膜厚測定係使用VITEC股份有限公司製造Filmetric F20。自對保護層之表面照射可見光所獲得之反射光獲得波長範圍400 nm～1100 nm之反射率頻譜。將該反射率頻譜與理論上之反射率頻譜之一致度為95%以上之膜厚設為保護層之膜厚。 保護層之表面粗糙度Ra係與上述鋁箔之表面粗糙度Ra同樣地，使用原子力顯微鏡而測量。利用原子力顯微鏡所進行之表面凹凸之觀察係使用Hitachi High-Tech Science股份有限公司製造之掃描式探針顯微鏡AFM5000II，針對利用動態力模式方式(非接觸)所得之表面形狀於80 μm×80 μm之矩形視野內進行。針對所獲得之觀察結果，藉由利用最小平方近似法求得曲面並進行擬合之三次曲面自動傾斜修正對試樣之傾斜進行修正，測定表面粗糙度Ra。表面粗糙度Ra係將JIS B0601(2001年版)及ISO4287(1997年版)中定義之算術平均粗糙度Ra以可應用於所觀察之表面整體之方式三維地擴展而計算出的值。將保護層之表面粗糙度Ra之值示於表3。 全反射率之測定係使用日本分光股份有限公司製造之紫外可見分光光度計V570，將Labsphere公司製造之積分球用標準白板作為參考而於波長區域250 nm～2000 nm之範圍測定積分球上之全反射率。根據所獲得之全反射率測定值，求得波長區域250 nm～400 nm之紫外線之平均值及波長區域254 nm～265 nm之紫外線之平均值。全反射率之測定係於壓延方向(MD)及相對於壓延方向垂直之方向(TD)之兩個方向進行測定，設為該等之平均值而對全反射率進行評價。將該等之全反射率之平均值示於表3。 [表3] 根據表3所示之結果，實施例1～10之鋁箔中，壓入或附著於鋁箔表面之64 μm×48 μm之區域之鋁粒子之總表面積相對於該區域之面積為0.05%以下，存在於174 μm×134 μm之區域之結晶物之總表面積相對於該區域之面積為2%以下，並且每一個結晶物之平均表面積為2 μm2 以下，且80 μm×80 μm之視野中之表面粗糙度Ra未達20 nm。又，實施例1～10之鋁箔之TD方向之表面粗糙度RzJIS 為100 nm以下。 關於實施例1～10之鋁箔，確認到如下情況，即，波長區域254 nm～265 nm之深紫外線之全反射率為80%以上，針對深紫外線具有較高之反射率。又，關於實施例1～7之鋁箔，確認到如下情況，即，波長區域250 nm～400 nm之紫外線之全反射率亦為85%以上而較高，不限於深紫外線而於紫外線之較廣之波長區域具有較高之反射特性。又，關於實施例8～10之鋁箔，確認到如下情況，即，雖然形成有保護層，但波長區域250 nm～400 nm之紫外線之全反射率亦為80%以上而較高，不限於深紫外線而於紫外線之較廣之波長區域具有較高之反射特性。 與此相對，於比較例1～15之鋁箔中，相對於64 μm×48 μm之區域之表面積的壓入或附著於該區域之鋁粒子之總表面積之比率、相對於174 μm×134 μm之區域之面積的存在於該區域之結晶物之總表面積之比率、及表面粗糙度Ra之至少一個偏離上述範圍。而且，關於比較例1～14之鋁箔，確認到如下情況，即，波長區域254 nm～265 nm之深紫外線之全反射率未達80%而較低。確認到如下情況，即，不限於深紫外線而波長區域250 nm～400 nm之紫外線之全反射率亦未達85%而較低。 根據以上結果可知，藉由本發明，能夠獲得針對紫外線具有先前未實現之較高之反射率之鋁箔。 此次所揭示之實施形態及實施例應考慮為於所有方面均為例示而並非限制性者。本發明之範圍並非由以上之實施形態及實施例而是由申請專利範圍所示，意圖包含與申請專利範圍均等之意義及範圍內之所有修正及變化。 [產業上之可利用性] 本發明之紫外線反射材用鋁箔可特別有利地應用於水或海水之殺菌、有機物之分解、紫外線治療、光觸媒、樹脂硬化時使用之紫外線反射材。
1‧‧‧鋁箔
1A‧‧‧第1主面
1B‧‧‧第2主面
2‧‧‧捲芯
3‧‧‧卷對卷用鋁箔
10‧‧‧被壓延材
11‧‧‧冷軋材
11A‧‧‧表面
11B‧‧‧表面
12‧‧‧保護層
12A‧‧‧第3主面
101‧‧‧壓延輥
102‧‧‧壓延輥
C‧‧‧鋁粒子
D‧‧‧結晶物
E‧‧‧區域
F‧‧‧觀察區域
G‧‧‧觀察區域
H‧‧‧觀察區域
S1‧‧‧投影面積
S2‧‧‧投影面積
T‧‧‧厚度
X‧‧‧壓延方向
Y‧‧‧方向
圖1係用於說明本實施形態之鋁箔之立體圖。 圖2係用於說明鋁粒子、結晶物、及該等之表面積之俯視圖。 圖3係用於說明鋁粒子、結晶物、及該等之表面積之剖視圖。 圖4係本實施形態之鋁箔之製造方法之流程圖。 圖5係用於說明本實施形態之鋁箔之製造方法中之冷間壓延的剖視圖。 圖6係本實施形態之鋁箔之製造方法之變化例之流程圖。 圖7係表示本實施形態之鋁箔之變化例之剖視圖。 圖8係本實施形態之鋁箔之變化例之製造方法之流程圖。 圖9係本實施形態之鋁箔之變化例之製造方法之流程圖。 圖10係用於說明本實施形態之卷對卷用鋁箔之立體圖。
1‧‧‧鋁箔
1A‧‧‧第1主面
1B‧‧‧第2主面
X‧‧‧壓延方向
Y‧‧‧方向
T‧‧‧厚度

Claims (9)

  1. 一種紫外線反射材用鋁箔，其壓入或附著於預先所規定之表面積之區域之鋁粒子之總表面積相對於上述區域之表面積為0.05%以下， 存在於上述區域內之結晶物之總表面積相對於上述區域之表面積為2%以下， 上述結晶物中之每一個之平均表面積為2 μm2 以下，且 上述區域之表面粗糙度Ra未達20 nm。
  2. 如請求項1之紫外線反射材用鋁箔，其中與壓延方向垂直之方向之表面粗糙度RzJIS 為100 nm以下。
  3. 如請求項1或2之紫外線反射材用鋁箔，其中該鋁箔厚度為4 μm以上且300 μm以下。
  4. 如請求項1之紫外線反射材用鋁箔，其具備形成於上述區域上之保護層，且 上述保護層之表面針對波長區域254 nm以上且265 nm以下之深紫外線之全反射率為80%以上。
  5. 如請求項4之紫外線反射材用鋁箔，其中構成上述保護層之材料包含聚矽氧組合物及氟樹脂之至少任一種。
  6. 如請求項4之紫外線反射材用鋁箔，其中上述保護層之上述表面之表面粗糙度Ra為10 nm以下。
  7. 一種紫外線反射材用鋁箔之製造方法，其係製造如請求項1之紫外線反射材用鋁箔之方法，且 具備如下步驟：使用表面粗糙度Ra為40 nm以下之壓延輥，以壓下率為25%以上之條件對鋁箔進行最終精冷間壓延。
  8. 如請求項7之紫外線反射材用鋁箔之製造方法，其進而具備如下步驟：於上述最終精冷間壓延之步驟後，對上述鋁箔表面之至少一部分使用酸溶液或鹼溶液進行洗淨或進行電解研磨。
  9. 如請求項7或8之紫外線反射材用鋁箔之製造方法，其進而具備如下步驟：於上述最終精冷間壓延之步驟後，於上述表面之至少一部分上形成包含聚矽氧組合物及氟樹脂之至少任一種之保護層。
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Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2023515242A (ja) * 2020-03-26 2023-04-12 スペイラ ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング 平坦なトポグラフィーを有するリソストリップおよびそれから製作される印刷版
US11167057B1 (en) 2020-06-27 2021-11-09 Olympia Lighting, Inc. Air purifier having ultraviolet disinfection means
EP4220249A1 (en) 2020-09-23 2023-08-02 Furukawa Electric Co., Ltd. Reflective film made of resin
US11255555B1 (en) 2021-05-10 2022-02-22 Olympia Lighting, Inc. Ultraviolet disinfection device and uses thereof
WO2023153192A1 (ja) * 2022-02-08 2023-08-17 東洋アルミニウム株式会社 アルミニウム箔およびその製造方法
WO2024079948A1 (ja) * 2022-10-13 2024-04-18 東洋アルミニウム株式会社 アルミニウム箔及びその製造方法

Family Cites Families (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0816875A1 (de) * 1996-06-28 1998-01-07 Alusuisse Technology & Management AG Reflektor mit reflexionserhöhendem Schichtverbund
JPH1036985A (ja) * 1996-07-22 1998-02-10 Nippon Light Metal Co Ltd 光輝性に優れたアルミニウム材料及びその製造方法
ATE217366T1 (de) * 1996-08-15 2002-05-15 Alcan Tech & Man Ag Reflektor mit resistenter oberfläche
EP0918236A1 (de) * 1997-11-19 1999-05-26 Alusuisse Technology & Management AG Reflektor mit resistenter Oberfläche
EP1154289A1 (de) * 2000-05-09 2001-11-14 Alcan Technology & Management AG Reflektor
JP3867569B2 (ja) * 2001-12-20 2007-01-10 日本軽金属株式会社 容器用アルミニウム箔およびその製造方法
DE102007054731A1 (de) * 2007-11-14 2009-05-20 Carl Zeiss Smt Ag Optisches Element zur Reflexion von UV-Strahlung, Herstellungsverfahren dafür und Projektionsbelichtungsanlage damit
DE102011002953A1 (de) * 2011-01-21 2012-07-26 Carl Zeiss Smt Gmbh Substrat für Spiegel für die EUV-Lithographie
EP2738849B1 (en) * 2011-07-29 2015-07-22 UACJ Corporation Aluminum alloy foil for electrode collector and production method therefor
TW201337342A (zh) * 2012-02-14 2013-09-16 Fujifilm Corp 鏡面膜、其製造方法、以及太陽熱發電裝置用或太陽光發電裝置用鏡面膜
JP6370298B2 (ja) * 2013-08-05 2018-08-08 東洋アルミニウム株式会社 可視光反射材用アルミニウム箔とその製造方法
WO2018013757A2 (en) * 2016-07-14 2018-01-18 Corning Incorporated Methods of reducing surface roughness of reflectance coatings for duv mirrors

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