TW201800464A - 組成物、膜、硬化膜、光學感測器及膜的製造方法 - Google Patents

Abstract

本發明提供一種組成物、膜、硬化膜、光學感測器及膜的製造方法。前述組成物能夠製造形成厚度3.0μm的膜時之CIE1976的L*a*b*色彩坐標系統中之L*為35～85，且經過一個月後的濃度不均得到抑制之膜。組成物包含粒子及樹脂，粒子至少包含對波長589nm的光之折射率為2.1以上之粒子，樹脂至少包含對波長589nm的光之折射率為1.5以下之樹脂。

Description

組成物、膜、硬化膜、光學感測器及膜的製造方法

本發明係有關一種組成物、膜、硬化膜、光學感測器及膜的製造方法。

已知使用包含樹脂及粒子之組成物來製造膜（參閱專利文獻1及專利文獻2）。尤其，在專利文獻1中記載有使用包含氧化鈦等的作為白色顏料之粒子之組成物來製造膜。 [先前技術文獻] [專利文獻]

[專利文獻1]：WO2014/126013A [專利文獻2]：日本特開2012-212114號公報

使用了含有樹脂及粒子之組成物之膜能夠作為白色膜而用於使用了半導體之光學感測器用途。使用了半導體之光學感測器用途的膜中，要求膜為薄膜，並且具有能夠隱蔽光學感測器之遮蔽度，同時使足以用於驅動光學感測器來檢測受光量的變化之光通過之遮蔽膜。接近純白色的CIE1976的L*a*b*色彩坐標系統中之L*超過85之區域的膜，光的透射率較低，難以使足以用於驅動光學感測器來檢測受光量的變化之量的光透射。在製成薄膜之情況下，從隱蔽光學感測器之觀點考慮，膜亦需要作為白色度之CIE1976的L*a*b*色彩坐標系統中之L*為35以上。因此，為了兼顧遮蔽度和透射率，要求係L*為35～85區域之膜。

另一方面，本發明者等對將折射率為1.6左右的樹脂用作膜黏結劑或粒子的分散劑並由包含粒子及樹脂之組成物獲得之白色膜進行了研究之結果，可知經時後確認到濃度不均。具體而言，發現了若使用在常溫下經過一個月後的組成物形成白色膜，則觀察到白色濃度明顯比通常濃的部分和淺的部分這樣的新課題。以下，將使用在常溫下經過一個月後的組成物形成白色膜之情況下的、膜的白色的濃度不均稱為經過一個月後的濃度不均。 此處，專利文獻1中記載有白色的屏蔽圖案。然而，專利文獻1中並未暗示有關經過一個月後的濃度不均的抑制。 另一方面，專利文獻2中並未記載白色的膜。當然亦未暗示有關不產生膜的白色的濃度不均而抑制經過一個月後的濃度不均。 並且，專利文獻1及專利文獻2中並未暗示有關對波長589nm的光之折射率為1.5以下的樹脂與折射率較高的粒子的組合。

本發明所要解決之課題為提供一種能夠製造形成厚度3.0μm的膜時之CIE1976的L*a*b*色彩坐標系統中之L*為35～85且經過一個月後的濃度不均得到抑制之膜之組成物。

在該種狀況下，本發明者等進行深入研究之結果，發現藉由設為以下構成能夠解決上述課題，並完成了本發明。本發明及本發明的較佳構成為如下。

[1]一種組成物，其包含粒子及樹脂， 粒子至少包含對波長589nm的光之折射率為2.1以上之粒子， 樹脂至少包含對波長589nm的光之折射率為1.5以下之樹脂。 [2]一種組成物，其包含粒子及樹脂， 上述粒子中組成物所包含之折射率最高的粒子的對波長589nm的光之折射率與上述樹脂中組成物所包含之折射率最低的樹脂的對波長589nm的光之折射率之差為1.22以上。 [3]如[1]或[2]所述之組成物，其中組成物係硬化性組成物。 [4]如[1]至[3]中任一個所述之組成物，其中使用組成物形成厚度3.0μm的膜時之CIE1976的L*a*b*色彩座標系統中之L*為35～85。 [5]如[1]至[4]中任一個所述之組成物，其中粒子包含無機粒子。 [6]如[5]所述之組成物，其中無機粒子包含白色顏料。 [7]如[5]或[6]所述之組成物，其中無機粒子包含氧化鈦。 [8]如[1]至[7]中任一個所述之組成物，其中對波長589nm的光之折射率為2.1以上的粒子的含量相對於粒子的總質量為80質量%以上。 [9]如[1]至[8]中任一個所述之組成物，其中對波長589nm的光之折射率為1.5以下的樹脂的含量相對於樹脂的總質量為5質量%以上。 [10]如[1]至[9]中任一個所述之組成物，其中樹脂為鹼可溶性樹脂。 [11]如[1]至[10]中任一個所述之組成物，其中樹脂為聚矽氧烷系樹脂。 [12]如[11]所述之組成物，聚矽氧烷系樹脂的側鏈中50莫耳%以上為碳數1～4的烷基及碳數1～4的烷氧基中的至少其中一方。 [13]如[1]至[12]中任一個所述之組成物，其中組成物還具有自由基聚合性化合物及光聚合起始劑。 [14]如[13]所述之組成物，其中在自由基聚合性化合物的總質量中，對波長589nm的光之折射率為1.5以下的自由基聚合性化合物的含量為80質量%以上。 [15]如[1]至[14]中任一個所述之組成物，其中組成物還具有著色防止劑。 [16]一種膜，其係由[1]至[15]中任一個所述之組成物所形成。 [17]一種硬化膜，其係將[16]所述之膜進行硬化而成。 [18]一種光學感測器，其具有[17]所述之硬化膜。 [19]一種膜的製造方法，其包括如下製程： 將[1]至[15]中任一個所述之組成物經由具有圖案之遮罩進行曝光之製程；及 對經曝光之組成物進行顯影而形成圖案之製程。

依本發明，能夠提供一種能夠製造形成厚度3.0μm的膜時之CIE1976的L*a*b*色彩坐標系統中之L*為35～85且經過一個月後的濃度不均得到抑制之膜之組成物。 並且，依本發明，能夠提供一種膜、硬化膜、光學感測器及膜的製造方法。

以下，對本發明的內容進行詳細說明。 以下所記載之構成要件的說明有時係基於本發明的代表性實施態樣而進行，但本發明並不限定於該種實施態樣。 本說明書中，用“～”表示之數值範圍係指將“～”前後所記載之數值作為下限值及上限值而包含之範圍。 本說明書中之基團（原子團）的標記中，未標有經取代及未經取代之標記包含不具有取代基之基團（原子團），並且還包含具有取代基之基團（原子團）。例如，“烷基”不僅包含不具有取代基之烷基（未經取代之烷基），還包含具有取代基之烷基（經取代之烷基）。 本說明書中，“（甲基）丙烯酸酯”表示丙烯酸酯及甲基丙烯酸酯，“（甲基）丙烯酸基”表示丙烯酸基及甲基丙烯酸基，“（甲基）丙烯醯基”表示丙烯醯基甲基丙烯醯基。 本說明書中，只要沒有特別指定，則“曝光”不僅包含使用了光之曝光，使用了電子束、離子束等粒子束之描畫亦包含於曝光中。並且，作為曝光中所使用之光，一般可列舉水銀燈的明線光譜、以準分子雷射為代表之遠紫外線、極紫外線（EUV光）、X射線、電子束等活性光線或放射線。 本說明書中，重量平均分子量及數量平均分子量被定義為藉由凝膠滲透層析術（GPC）測定之聚苯乙烯換算值。本說明書中，重量平均分子量（Mw）及數量平均分子量（Mn）例如能夠藉由使用HLC-8220（TOSOH CORPORATION製），並使用TSKgel Super AWM-H（TOSOH CORPORATION製，6.0mm（內徑）×15.0cm）作為管柱，使用10mmol/L 溴化鋰NMP（N-吡咯啶酮）溶液作為洗提液而求出。

[組成物] 本發明的組成物的第1態樣包含粒子及樹脂， 粒子至少包含對波長589nm的光之折射率為2.1以上之粒子， 樹脂至少包含對波長589nm的光之折射率為1.5以下之樹脂。 本發明的組成物的第2態樣為一種組成物，其包含粒子及樹脂， 組成物所包含之折射率最高的粒子（以下，亦稱為最高折射率的粒子）的對波長589nm的光之折射率與組成物所包含之折射率最低的樹脂（以下，亦稱為最低折射率的樹脂）的對波長589nm的光之折射率之差為1.22以上。 藉由該種構成，能夠提供能夠製造形成厚度3.0μm的膜時之CIE1976的L*a*b*色彩座標系統中的L*為35～85，且經過一個月後的濃度不均得到抑制之膜之組成物。 本發明者等製造了將折射率為1.6左右的樹脂用作膜的黏結劑或粒子的分散劑且包含粒子及樹脂之組成物。然而，若使用在常溫下經過一個月後的組成物形成白色膜，則觀察到白色的濃度明顯比通常濃的部分或淺的部分。 只要粒子凝聚，則認為白色的濃度濃的部分以外的部分，白色的濃度平均地變淺。白色的濃度比周邊淺的部分的存在被認為是表示局部存在有粒子以外的固體成分。 另一方面，低折射率的化合物例如有引起如同羧酸基或π共軛系的分子間相互作用之取代基較少之傾向等電子密度較低之傾向。本發明的組成物的第1態樣中，藉由至少使用對波長589nm的光之折射率為1.5以下之樹脂（低折射率的樹脂），低折射率的樹脂彼此的相互作用下降，至少對波長589nm的光之折射率為2.1以上的粒子（高折射率的粒子）與樹脂的相互作用變得有利，組成物中的樹脂及粒子的局部存在被消除。其結果，推斷為能夠抑制經過一個月後的濃度不均。並且，本發明的組成物的第2態樣中，藉由增加粒子的折射率與樹脂的折射率之差，樹脂彼此的相互作用下降，樹脂和粒子的相互作用變得有利，組成物中的樹脂及粒子的局部存在被消除。其結果，推斷為能夠抑制經過一個月後的濃度不均。 另外，無論是本發明的組成物的第1態樣還是本發明的組成物的第2態樣，推斷為藉由增加粒子的折射率與樹脂的折射率之差，從而提高由組成物形成之膜的反射率，且形成厚度3.0μm的膜時之CIE1976的L*a*b*色彩座標系統中的L*能夠達到35～85。 以下，對本發明的組成物的較佳態樣進行說明。以下，在沒有特別限定地稱為組成物之情況下，包括本發明的組成物的第1態樣和本發明的組成物的第2態樣這兩者。

＜特性＞ 本發明的組成物係硬化性組成物為較佳。所謂“硬化性組成物”係指包含後述硬化性化合物之組成物。硬化性組成物可以係光硬化性組成物，亦可以係熱硬化性組成物。 對本發明的組成物的特性的詳細內容進行說明。

＜＜L*＞＞ 關於本發明的組成物，使用組成物形成厚度3.0μm的膜時，CIE1976的L*a*b*色彩坐標系統中之L*係35～85為較佳。使用組成物形成厚度3.0μm的膜時，CIE1976的L*a*b*色彩坐標系統中之L*的上限小於80為更佳，75以下為進一步較佳，70以下為特佳。使用組成物形成厚度3.0μm的膜時，CIE1976的L*a*b*色彩坐標系統中之L*的下限係40以上為更佳，50以上為特佳。另外，CIE1976的L*a*b*色彩坐標系統中之L*的值為利用後述之實施例中所記載之方法進行測定之值。

＜＜a*及b*＞＞ 關於本發明的組成物，使用組成物形成厚度3.0μm的膜時，CIE1976的L*a*b*色彩坐標系統中之a*及b*係-30～30為較佳，-20～20為更佳，-10～10為特佳。

＜＜固體成分沉降率＞＞ 本發明的組成物在室溫（25℃）下以3500rpm（每分鐘轉速（rotations per minute））的條件離心分離47分鐘時的組成物的固體成分沉降率係10質量%以下為較佳，5質量%以下為更佳。作為降低組成物的固體成分沉降率之方法，可列舉提高組成物的黏度之方法、降低組成物的固體成分濃度之方法、提高組成物中之固體成分（較佳為粒子）的分散性之方法、降低粒子的密度之方法、減小粒子的粒徑之方法等。只要沒有特別指定，則本說明書中之“固體成分”係指以下之“離心處理前的固體成分”。將組成物使用烘箱在160℃、1小時的條件下乾燥揮發成分，並測定乾燥前後的乾燥減量來求出揮發量，計算組成物的乾燥前的質量與揮發量之差來算出“離心處理前的固體成分”。 關於將組成物在室溫、3500rpm的條件下進行47分鐘的離心處理之後的上清液，利用與上述相同的方法計算“離心處理後的固體成分”。將“離心處理後的固體成分”與“離心處理前的固體成分”之差除以“離心處理前的固體成分”，以百分率計算固體成分沉降率。

＜＜固體成分濃度＞＞ 組成物的固體成分濃度係20～75質量%為較佳。上限係60質量%以下為更佳。下限係30質量%以上為更佳。藉由將組成物的固體成分濃度設在上述範圍，能夠提高組成物的黏度來有效地抑制粒子的沉降等，並能夠進一步有效地改善經過一個月後的濃度不均。

＜組成物的組成＞ 以下，對組成物的組成進行詳細說明。

＜＜粒子＞＞ 本發明的組成物包含粒子。 本發明的組成物中，組成物所包含之折射率最高的粒子的對波長589nm的光之折射率與組成物所包含之折射率最低的樹脂的對波長589nm的光之折射率之差係1.22以上為較佳，1.27以上為更佳。若為該範圍，則容易提高形成厚度3.0μm的膜時之CIE1976的L*a*b*色彩座標系統中的L*，為較佳。

（對波長589nm的光之折射率為2.1以上的粒子） 本發明的組成物中，粒子至少包含對波長589nm的光之折射率為2.1以上之粒子為較佳。 組成物包含2種以上的粒子時，組成物至少包含1種對波長589nm的光之折射率為2.1以上之粒子為較佳，僅包含對波長589nm的光之折射率為2.1以上之粒子為更佳。 本發明的組成物中，對波長589nm的光之折射率為2.1以上的粒子的含量（折射率為2.1以上的粒子的含量）相對於粒子的總質量係80質量%以上為較佳，90質量%以上為更佳，95質量%以上為特佳。

對波長589nm的光之折射率為2.1以上之粒子的對波長589nm的光之折射率係2.1～2.75為較佳，2.5～2.75為更佳。若粒子的對波長589nm的光之折射率為2.1以上，則能夠增大形成厚度3.0μm的膜時之CIE1976的L*a*b*色彩座標系統中的L*，為較佳。 利用以下方法測定粒子的折射率。 首先，使用折射率為已知之分散劑和PGMEA進行分散。之後，將所製成之分散液和折射率為已知的樹脂以粒子的固體成分中的濃度分別成為10質量%、20質量%、30質量%、40質量%的方式混合，從而製作4種塗佈液。將該等塗佈液在Si晶圓上以300nm製膜之後，使用橢圓偏光計（Lambda Ace RE-3300（商品名），Dainippon Screen Mfg. Co.,Ltd.）測定所得到之膜的折射率。然後，繪製粒子濃度和折射率並進行外插而導出粒子的折射率。 並且，亦能夠在利用以下方法從組成物、膜或硬化膜中取出粒子之後，同樣利用上述實施例中記載之方法測定粒子的折射率。 當對從膜或硬化膜中取出之粒子測定折射率時，作為從膜中取出粒子之方法，例如對於膜或硬化膜（若為組成物，則進行塗佈而作為膜），將2～6mol/L的鹼性溶液加入膜或硬化膜的質量的10～30質量%，加熱回流12小時之後，進行過濾及清洗，藉此得到粒子成分。

關於對波長589nm的光之折射率為2.1以上之粒子，平均一次粒徑係50～300nm為較佳，從經過一個月後的濃度不均的觀點考慮係60～200nm為更佳，從L*的觀點考慮係70～200nm為特佳。平均一次粒徑為50～300nm的粒子在拍攝粒子而得之透射型電子顯微鏡的照片中係圓狀粒子為較佳。平均一次粒徑為50～300nm的粒子不是嚴格的圓狀粒子，可以是具有後述長軸和短軸之粒子。 關於對波長589nm的光之折射率為2.1以上之粒子，粒徑為50～300nm的粒子的比例越高越較佳。具體而言，對波長589nm的光之折射率為2.1以上之粒子係以30質量%以上的比例含有粒徑為50～300nm的粒子為較佳，以50質量%以上的比例含有粒徑為50～300nm的粒子為更佳。若粒徑為50～300nm的粒子係30質量%以上，則容易將形成厚度3.0μm的膜時之CIE1976的L*a*b*色彩座標系統中的L*控制在35～85且易提供液體經時穩定性優異之組成物。 本發明中，粒子的一次粒徑能夠藉由利用透射型電子顯微鏡（TEM）觀察粉體粒子並觀測粒子未凝聚之部分而求出。本發明中，粒子的粒度分佈係藉由對於作為一次粒子之粉體粒子，使用透射型電子顯微鏡拍攝透射型電子顯微鏡照片之後，使用該照片並利用圖像處理裝置測定粒度分佈而求出。本發明中，粒子的平均一次粒徑係基於由粒度分佈計算出之個數基準的算術平均直徑而設為平均一次粒徑。本說明書中，作為透射型電子顯微鏡，使用Hitachi, Ltd.製電子顯微鏡（H-7000），作為圖像處理裝置，使用NIRECO CORPORATION製Luzex AP。 對波長589nm的光之折射率為2.1以上之粒子可以是平均長軸長度為50～150nm的粒子。平均長軸長度為50～150nm的粒子係平均長軸長度為60～140nm為較佳，80～130nm為更佳。 平均長軸長度為50～150nm的粒子係具有長軸和短軸之粒子為較佳。本說明書中，“粒子的長軸”係指在拍攝粒子之透射型電子顯微鏡照片中粒子的最長的直徑。本說明書中，“粒子的短軸”係指拍攝粒子之透射型電子顯微鏡照片中粒子的最短的直徑。具有長軸和短軸之粒子亦有時被稱作棒狀粒子或橢圓狀粒子。 關於本發明中之平均長軸長度為50～150nm的粒子，平均短軸長度係5～50nm為較佳，10～30nm為更佳，10～20nm為特佳。關於平均長軸長度為50～150nm的粒子，平均長軸長度係平均短軸長度的2～10倍為較佳，3～6倍為更佳，4～5倍為特佳。 本發明的組成物中，平均長軸長度為50～150nm的粒子以30～60質量%的比例含有長軸長度為50～150nm的粒子為較佳，以35～50質量%的比例含有長軸長度為50～150nm的粒子為更佳。若長軸長度為50～150nm的粒子為30質量%以上，則容易將形成厚度3.0μm的膜時之CIE1976的L*a*b*色彩坐標系統中之L*控制為35～85，且容易提供溶液經時穩定性優異之組成物。平均長軸長度為50～150nm的粒子係以30～60質量%的比例含有長軸長度為60～140nm的粒子為較佳，以30～50質量%的比例含有長軸長度為80～130nm的粒子為更佳。 本發明中，粒子的長軸長度及短軸長度能夠藉由利用透射型電子顯微鏡（TEM）觀察粉體粒子並觀測粒子未凝聚之部分而求出。本發明中，粒子的粒度分佈藉由對於作為一次粒子之粉體粒子，使用透射型電子顯微鏡拍攝透射型電子顯微鏡照片之後，使用該照片並利用圖像處理裝置測定粒子的長軸長度及短軸長度的粒度分佈而求出。本發明中，粒子的平均長軸長度及平均短軸長度係基於由粒度分佈計算出之個數基準的算術平均直徑而設為平均長軸長度及平均短軸長度。本說明書中，作為透射型電子顯微鏡，使用Hitachi, Ltd.製電子顯微鏡（H-7000），作為圖像處理裝置，使用NIRECO CORPORATION製Luzex AP。

對波長589nm的光之折射率為2.1以上之粒子的密度係1.0～6.0g/cm³ 為較佳。下限係2.5g/cm³ 以上為更佳，3.0g/cm³ 以上為進一步較佳。上限係4.5g/cm³ 以下為更佳。對波長589nm的光之折射率為2.1以上之粒子的密度越小於較佳範圍的上限值，組成物中不易產生粒子的沉降，且能夠更有效地改善經過一個月後的濃度不均、圖案形狀。並且，密度為2.5g/cm³ 以上（較佳為3.0g/cm³ 以上）的粒子在粒子總量中之比例係5質量%以上為較佳，10質量%以上為更佳。上限既能夠設為100質量%，亦能夠設為99質量%以下。

作為對波長589nm的光之折射率為2.1以上之粒子的種類並沒有特別限制。 作為對波長589nm的光之折射率為2.1以上之粒子，能夠列舉先前公知的各種無機粒子及有機粒子。對波長589nm的光之折射率為2.1以上之粒子至少包含無機粒子為較佳。無機粒子多為與有機粒子相比密度較大者，密度越大之粒子，在組成物中越容易產生沉降。依本發明的組成物的第1態樣，由於將對波長589nm的光之折射率為2.1以上之粒子與對波長589nm的光之折射率為1.5以下之樹脂併用，因此即使在使用無機粒子作為粒子之情況下，亦能夠製造抑制無機粒子的沉降並抑制經過一個月後的濃度不均之膜。依本發明的組成物的第2態樣，組成物所包含之折射率最高的粒子的對波長589nm的光之折射率與組成物所包含之折射率最低的樹脂的對波長589nm的光之折射率之差為1.22以上，因此即使是使用無機粒子作為粒子之情況下，亦能夠製造抑制無機粒子的沉降並抑制經過一個月後的濃度不均之膜。 無機粒子係包含金屬之粒子為較佳。包含金屬之粒子包含金屬單體或金屬氧化物為更佳。

作為對波長589nm的光之折射率為2.1以上之粒子，能夠列舉顏料、陶瓷材料、磁性體材料及其他粒子等，顏料為較佳。

本發明的組成物中，無機粒子係白色顏料為較佳。藉由使用白色顏料作為無機粒子，使用組成物形成厚度3.0μm的膜時，容易將CIE1976的L*a*b*色彩坐標系統中之L*控制在較佳範圍。本發明中，白色顏料不僅包含純白色，還包含接近白色之亮灰色（例如灰白色、淡灰色等）顏料等。 白色顏料具有密度較大的傾向，在組成物中容易產生沉降。依本發明的組成物的第1態樣，將對波長589nm的光之折射率為2.1以上之粒子與對波長589nm的光之折射率為1.5以下之樹脂併用，因此即使在使用白色顏料作為粒子之情況下，亦能够製造抑制無機粒子的沉降來抑制經過一個月後的濃度不均之膜。依本發明的組成物的第2態樣，組成物所包含之折射率最高的粒子的對波長589nm的光之折射率與組成物所包含之折射率最低的樹脂的對波長589nm的光之折射率之差為1.22以上，因此即使在使用白色顏料作為粒子之情況下，亦能夠製造抑制無機粒子的沉降來抑制經過一個月後的濃度不均之膜。 白色顏料例如可列舉氧化鈦、鈦酸锶、鈦酸鋇、氧化鋅、氧化鎂、氧化鋯、氧化鋁、硫酸鋇、二氧化矽、滑石、雲母、氫氧化鋁、矽酸鈣、矽酸鋁、中空樹脂粒子、硫化鋅等。白色顏料係具有鈦原子之粒子為較佳，氧化鈦為更佳。亦即，本發明的組成物中，無機粒子含有氧化鈦為較佳。

關於氧化鈦，二氧化鈦（TiO₂ ）的純度係70%以上為較佳，80%以上為更佳，85%以上為進一步較佳。關於氧化鈦，Ti_n O_2n-1 （n表示2～4的數。）所表示之低次氧化鈦、氮氧化鈦等的含量係30質量%以下為較佳，20質量%以下為更佳，15質量%以下為進一步較佳。

氧化鈦既可以是金紅石型氧化鈦，亦可以是銳鈦礦型氧化鈦，但從著色性、溶液經時穩定性的觀點考慮，金紅石型氧化鈦為較佳。尤其將使用了金紅石型氧化鈦之組成物硬化而得到之硬化膜，即使加熱硬化膜，色差變化亦較少，具有良好的著色性。並且，氧化鈦的金紅石化率係95%以上為較佳，99%以上為更佳。 作為金紅石型氧化鈦，可以使用公知者。金紅石型氧化鈦的製造方法有硫酸法和氯化法這2種，本發明中，藉由任何一種製造方法製造者均可以較佳地進行使用。其中，硫酸法係指如下製造方法：將鈦鐵礦礦石或鈦渣作為原料，將其溶解於濃硫酸中，將鐵成分作為硫酸鐵而分離，並對溶液進行水解，藉此得到氫氧化物的沉澱物，將其在高溫下燒成而取出金紅石型氧化鈦。另一方面，氯化法係指如下製造方法：將合成金紅石或天然金紅石作為原料，將其在約1000℃的高溫下與氯氣和碳進行反應而合成四氯化鈦，並將其氧化而取出金紅石型氧化鈦。金紅石型氧化鈦係利用氯化法得到之金紅石型氧化鈦為較佳。

對波長589nm的光之折射率為2.1以上之氧化鈦粒子藉由散射光而能夠顯示出白色，並容易將使用組成物形成厚度3.0μm的膜時之CIE1976的L*a*b*色彩座標系統中的L*控制在35～85。氧化鈦粒子的平均一次粒徑的較佳範圍與對波長589nm的光之折射率為2.1以上之粒子的平均一次粒徑的較佳範圍相同。

關於氧化鈦的比表面積，藉由BET（Brunauer, Emmett, Teller）法測定之值係10～400m² /g為較佳，10～200m² /g為更佳，10～150m² /g為進一步較佳，10～40m² /g為特佳，10～20m² /g為最佳。 氧化鈦的pH（酸鹼度（power of hydrogen））係6～8為較佳。 氧化鈦的吸油量（g/100g）係10～60（g/100g）為較佳，10～40（g/100g）為更佳。 氧化鈦中，Fe₂ O₃ 、Al₂ O₃ 、SiO₂ 、Nb₂ O₅ 、Na₂ O的合計量係0.1質量%以下為較佳，0.05質量%以下為更佳，0.02質量%以下為進一步較佳，實質上不含為特佳。 對氧化鈦的形狀並沒有特別限制。例如可列舉各向同性形狀（例如球狀、多面體狀等）、各向異性形狀（例如針狀、棒狀、板狀等）、不規則形狀等形狀。 氧化鈦的硬度（莫氏硬度）係5～8為較佳，7～7.5為更佳。 氧化鈦的真比重（密度）係1.0～6.0g/cm³ 為較佳，3.9～4.5g/cm³ 為更佳。 氧化鈦的體比重（bulk specific gravity）係0.1g/cm³ ～1.0g/cm³ 為較佳，0.2g/cm³ ～0.4g/cm³ 為更佳。

氧化鈦等無機粒子可以係藉由有機化合物等表面處理劑進行表面處理而得到者。表面處理中所使用之表面處理劑的例子可列舉多元醇、氧化鋁、氫氧化鋁、二氧化矽（氧化矽）、含水二氧化矽、烷醇胺、硬脂酸、有機矽氧烷、氧化鋯、氫化聚二甲基矽氧烷（hydrogen dimethicone）、矽烷偶合劑、鈦酸酯偶合劑等。其中，矽烷偶合劑為較佳。並且，氧化鈦等無機粒子係利用Al（鋁）、Si（矽）及有機物的表面處理劑進行處理而得到者為較佳。表面處理既可以利用單獨1種表面處理劑來實施，亦可以將2種以上的表面處理劑組合來實施。並且，氧化鈦等無機粒子的表面由氧化鋁、二氧化矽、氧化鋯等氧化物包覆亦較佳。藉此，耐光性及分散性得到進一步提高。

氧化鈦等無機粒子由鹼性金屬氧化物或鹼性金屬氫氧化物包覆亦較佳。作為鹼性金屬氧化物或鹼性金屬氫氧化物，可列舉含有鎂、鋯、鈰、锶、銻、鋇或鈣等之金屬化合物。

由鹼性金屬氧化物或鹼性金屬氫氧化物包覆之無機粒子例如能夠以如下方式得到。 在水或以水為主成分之溶液中分散無機粒子而得到漿液。根據需要，藉由砂磨機或球磨機等粉碎無機粒子。接著，將漿液的pH設為中性或鹼性、根據情況設為酸性。然後，將成為包覆材料的原料的水溶性鹽添加到漿液中來包覆無機粒子的表面。然後，中和漿液，並回收無機粒子。所回收之無機粒子可以乾燥或乾式粉碎。

氧化鈦等無機粒子具有酸性部位，且利用能夠與酸性部位反應之化合物進行表面處理為較佳。作為能夠與無機顏料的酸性部位反應之化合物，可列舉三羥甲基丙烷、三羥甲基乙烷、雙-三羥甲基丙烷、乙氧基化三羥甲基丙烷或季戊四醇等多元醇、單乙醇胺、單丙醇胺、二乙醇胺、二丙醇胺、三乙醇胺或三丙醇胺等烷醇胺、氯矽烷或烷氧基矽烷等。 作為使無機粒子和能夠與無機粒子的酸性部位反應的化合物進行反應之方法，可列舉（1）向流體能量粉碎機或衝擊粉碎機等乾式粉碎機中投入上述化合物和無機粒子並粉碎無機顏料之方法、（2）使用亨舍爾混合機或高速混合機等高速攪拌機攪拌上述化合物和經乾式粉碎之無機粒子並進行混合之方法、（3）向無機粒子的水性漿液中添加上述化合物並進行撹拌之方法等。

無機粒子可以較佳地使用市售者。作為氧化鈦的市售品，例如可列舉ISHIHARA SANGYO KAISHA,LTD.製的商品名Tipaque R-550、R-580、R-630、R-670、R-680、R-780、R-780-2、R-820、R-830、R-850、R-855、R-930、R-980、CR-50、CR-50-2、CR-57、CR-58、CR-58-2、CR-60、CR-60-2、CR-63、CR-67、CR-Super 70、CR-80、CR-85、CR-90、CR-90-2、CR-93、CR-95、CR-953、CR-97、PF-736、PF-737、PF-742、PF-690、PF-691、PF-711、PF-739、PF-740、PC-3、S-305、CR-EL、PT-301、PT-401M、PT-401L、PT-501A、PT-501R、UT771、TTO-51C、TTO-80A、TTO-S-2、A-220、MPT-136、MPT-140、MPT-141； SAKAI CHEMICAL INDUSTRY CO.,LTD.製的商品名R-3L、R-5N、R-7E、R-11P、R-21、R-25、R-32、R-42、R-44、R-45M、R-62N、R-310、R-650、SR-1、D-918、GTR-100、FTR-700、TCR-52、A-110、A-190、SA-1、SA-1L、STR-100A-LP、STR-100C-LP、TCA-123E； TAYCA CORPORATION製的商品名JR、JRNC、JR-301、JR-403、JR-405、JR-600A、JR-600E、JR-603、JR-605、JR-701、JR-800、JR-805、JR-806、JR-1000、MT-01、MT-05、MT-10EX、MT-100S、MT-100TV、MT-100Z、MT-100AQ、MT-100WP、MT-100SA、MT-100HD、MT-150EX、MT-150W、MT-300HD、MT-500B、MT-500SA、MT-500HD、MT-600B、MT-600SA、MT-700B、MT-700BS、MT-700HD、MT-700Z； Titan Kogyo， Ltd.製的商品名KR-310、KR-380、KR-380N、ST-485SA15；FUJI TITANIUM INDUSTRY CO.,LTD.製的商品名TR-600、TR-700、TR-750、TR-840、TR-900； SHIRAISHI CALCIUM KAISHA, LTD.製的商品名Brilliant1500等。並且，亦可以使用日本特開2015-67794號公報的0025～0027段中所記載之氧化鈦。 作為鈦酸锶的市售品，可列舉SW-100（Titan Kogyo, Ltd.製）等。作為硫酸鋇的市售品，可列舉BF-1L（SAKAI CHEMICAL INDUSTRY CO.,LTD.製）等。作為氧化鋅的市售品，可列舉Zincox Super F-1（Hakusuitech Co.,Ltd.製）等。作為氧化鋯的市售品，可列舉Z-NX（TAIYO KOKO CO.,LTD.製）等。 亦可以將氧化鈦的市售品進行分級處理之後用於本發明的組成物中。例如，可以較佳地使用CR-90-2的分級處理品或MPT-141的分級處理品。

以下示出無機粒子的市售品的物理性質和雜質。

[表1]

[表2]

本發明中，無機粒子不僅可以使用包括單一無機物者，亦可以使用與其他材料複合而得到之粒子。例如，使用內部具有空孔或其他材料之粒子、芯粒子上附著有多數無機粒子之粒子、由包括聚合物粒子之芯粒子和包括無機納米微粒之殼層之芯-殼複合粒子為較佳。作為由包括上述聚合物粒子之芯粒子和包括無機納米微粒之殼層構成之芯-殼複合粒子，例如可以參閱日本特開2015-47520號公報的0012～0042段的記載，其內容被併入本說明書中。

對波長589nm的光之折射率為2.1以上之粒子的含量相對於組成物的總固體成分係1質量%以上為較佳，3質量%以上為更佳，5質量%以上為特佳。作為上限並沒有特別限制，但相對於組成物的總固體成分係70質量%以下為更佳，60質量%以下為進一步較佳，50質量%以下為最佳。 並且，無機粒子在對波長589nm的光之折射率為2.1以上之粒子中之比例係50質量%以上為較佳，80質量%以上為更佳。上限既能夠設為100質量%，亦能夠設為99質量%以下。從白色度、透射率、微影特性的觀點考慮，99質量%以下為較佳，95質量%以下為進一步較佳。 並且，白色顏料在對波長589nm的光之折射率為2.1以上之粒子中之比例係50質量%以上為較佳，80質量%以上為更佳。上限既能夠設為100質量%，亦能夠設為99質量%以下。從白色度、透射率、微影特性的觀點考慮，99質量%以下為較佳，95質量%以下為進一步較佳。 並且，氧化鈦在對波長589nm的光之折射率為2.1以上之粒子中之比例係50質量%以上為較佳，80質量%以上為更佳。上限既能夠設為100質量%，亦能夠設為99質量%以下。從白色度、透射率、微影特性的觀點考慮，99質量%以下為較佳，95質量%以下為進一步較佳。 並且，密度為1.0～6.0g/cm³ 的粒子在對波長589nm的光之折射率為2.1以上之粒子中之比例係50質量%以上為較佳，80質量%以上為更佳。上限既能夠設為100質量%，亦能夠設為99質量%以下。從白色度、透射率、微影特性的觀點考慮，99質量%以下為較佳，95質量%以下為進一步較佳。

＜＜其他著色劑＞＞ 組成物中還可以含有除了對波長589nm的光之折射率為2.1以上之粒子以外的其他著色劑。藉由含有其他著色劑，使用組成物形成厚度3.0μm的膜時，容易將CIE1976的L*a*b*色彩坐標系統中之a*及b*控制為較佳範圍。作為其他著色劑，可列舉彩色著色劑或黑色著色劑等。

（彩色著色劑） 本發明的組成物能夠含彩色著色劑。本發明中，“彩色著色劑”係指白色著色劑（包括白色顏料）及黑色著色劑以外的著色劑。彩色著色劑係在波長400nm以上且小於650nm的範圍具有極大吸收之著色劑為較佳。

彩色著色劑既可以是彩色顏料，亦可以是染料。

彩色顏料係有機顏料為較佳。作為有機顏料並沒有特別限定，可以使用公知的彩色顏料。作為有機顏料，例如可列舉以下者。但本發明並不限定於該等。 比色指數（C.I.）顏料黃（Pigment Yellow）1、2、3、4、5、6、10、11、12、13、14、15、16、17、18、20、24、31、32、34、35、35：1、36、36：1、37、37：1、40、42、43、53、55、60、61、62、63、65、73、74、77、81、83、86、93、94、95、97、98、100、101、104、106、108、109、110、113、114、115、116、117、118、119、120、123、125、126、127、128、129、137、138、139、147、148、150、151、152、153、154、155、156、161、162、164、166、167、168、169、170、171、172、173、174、175、176、177、179、180、181、182、185、187、188、193、194、199、213、214等（以上為黄色顏料）； C.I.顏料橙（Pigment Orange）2、5、13、16、17：1、31、34、36、38、43、46、48、49、51、52、55、59、60、61、62、64、71、73等（以上為橙色顏料）； C.I.顏料紅（Pigment Red）1、2、3、4、5、6、7、9、10、14、17、22、23、31、38、41、48：1、48：2、48：3、48：4、49、49：1、49：2、52：1、52：2、53：1、57：1、60：1、63：1、66、67、81：1、81：2、81：3、83、88、90、105、112、119、122、123、144、146、149、150、155、166、168、169、170、171、172、175、176、177、178、179、184、185、187、188、190、200、202、206、207、208、209、210、216、220、224、226、242、246、254、255、264、270、272、279等（以上為紅色顏料）； C.I.顏料綠（Pigment Green）7、10、36、37、58、59等（以上為綠色顏料）； C.I.顏料紫（Pigment Violet）1、19、23、27、32、37、42等（以上為紫色顏料）； C.I.顏料藍（Pigment Blue）1、2、15、15：1、15：2、15：3、15：4、15：6、16、22、60、64、66、79、80等（以上為藍色顏料）， 有機顏料可以單獨使用或者將2種以上組合使用。

作為染料並沒有特別限制，可以使用公知的染料。作為化學結構，能夠使用吡唑偶氮系、苯胺基偶氮系、三苯基甲烷系、蒽醌系、蒽吡啶酮系、苯亞甲基系、氧雜菁（oxonol）系、吡唑并三唑偶氮系、吡啶酮偶氮系、花青系、噻吩嗪系、吡咯并吡唑次甲基偶氮（pyrrolo pyrazol azomethine）系、呫噸（xanthene）系、酞菁系、苯并吡喃系、靛藍系、吡咯甲川（pyrromethene）系等染料。並且，亦可以使用該等染料的多聚體。並且，亦可以使用日本特開2015-028144號公報、日本特開2015-34966號公報中所記載之染料。 並且，染料可以較佳地使用酸性染料及其衍生物。此外，亦可以有效地使用直接染料、鹼性染料、媒染染料、酸性媒染染料、冰染染料、分散染料、油溶染料、食品染料及該等的衍生物等。以下舉出酸性染料的具體例，但並不限定於該等。例如，可列舉以下染料及該等染料的衍生物。

酸性茜素紫（Acid Alizarin violet）N； 酸性藍（Acid Blue）1、7、9、15、18、23、25、27、29、40～45、62、70、74、80、83、86、87、90、92、103、112、113、120、129、138、147、158、171、182、192、243、324：1； 酸性鉻紫（Acid Chrome violet）K； 酸性品紅（Acid Fuchsin）；酸性綠（acid green）1、3、5、9、16、25、27、50； 酸性橙（Acid Orange）6、7、8、10、12、50、51、52、56、63、74、95； 酸性紅（Acid Red）1、4、8、14、17、18、26、27、29、31、34、35、37、42、44、50、51、52、57、66、73、80、87、88、91、92、94、97、103、111、114、129、133、134、138、143、145、150、151、158、176、183、198、211、215、216、217、249、252、257、260、266、274； 酸性紫（Acid Violet）6B、7、9、17、19； 酸性黃（Acid Yellow）1、3、7、9、11、17、23、25、29、34、36、42、54、72、73、76、79、98、99、111、112、114、116、184、243；Food Yellow 3。

並且，上述以外的偶氮系、呫噸系、酞菁系酸性染料亦較佳，還可以較佳地使用C.I.溶劑藍（Solvent Blue）44、38；C.I.溶劑橙（Solvent orange）45；玫瑰紅（Rhodamine）B、玫瑰紅110等酸性染料及該等染料的衍生物。

當本發明的組成物含有彩色著色劑時，彩色著色劑的含量在本發明的組成物的總固體成分中設為0.1～70質量%為較佳。下限係0.5質量%以上為更佳，1.0質量%以上為特佳。上限係60質量%以下為更佳，50質量%以下為特佳。當本發明的組成物含有2種以上彩色著色劑時，其合計量在上述範圍內為較佳。

（黑色著色劑） 本發明的組成物可以含有黑色著色劑。作為黑色著色劑，既可以是無機系黑色著色劑，亦可以是有機系黑色著色劑。

作為有機系黑色著色劑，例如可列舉二苯并呋喃酮化合物、次甲基偶氮化合物、苝化合物、偶氮系化合物等，二苯并呋喃酮化合物、苝化合物為較佳。作為二苯并呋喃酮化合物，可列舉日本特表2010-534726號公報、日本特表2012-515233號公報、日本特表2012-515234號公報等中所記載者，例如可以作為BASF公司製的“Irgaphor Black”而獲得。作為苝化合物，可列舉C.I.顏料黑（Pigment Black）31、32等。作為次甲基偶氮化合物，可列舉日本特開平1-170601號公報、日本特開平2-34664號公報等中所記載者，例如可以作為Dainichiseika公司製的“Chromofine Black A1103”而獲得。

作為無機系黑色著色劑並沒有特別限定，可以使用公知者。例如可列舉碳黑、鈦黑、石墨等，碳黑、鈦黑為較佳，鈦黑為更佳。鈦黑係指含有鈦原子之黑色粒子，低次氧化鈦和氮氧化鈦為較佳。以提高分散性、抑制凝聚性等目的，鈦黑可以根據需要修飾表面。例如可以利用氧化矽、氧化鈦、氧化鍺、氧化鋁、氧化鎂或氧化鋯包覆鈦黑的表面。並且，亦可以進行基於日本特開2007-302836號公報所示之拒水性物質之處理。作為黑色顏料，具體而言，可列舉C.I.顏料黑1、7、鈦黑顏料等。

鈦黑的每個粒子的一次粒徑及平均一次粒徑均較小者為較佳。具體而言，以平均一次粒徑計10nm～45nm範圍者為較佳。

鈦黑的比表面積並沒有特別限制，藉由BET（Brunauer, Emmett, Teller）法測定之值係5m² /g以上且150m² /g以下為較佳，20m² /g以上且120m² /g以下為更佳。作為鈦黑的市售品的例子，可列舉鈦黑10S、12S、13R、13M、13M-C、13R、13R-N、13M-T（商品名稱：Mitsubishi Materials Corporation製）、Tilack D（商品名稱：AKO KASEI CO.,LTD.製）等。

鈦黑亦能夠用作分散物。例如，可列舉含有鈦黑粒子和二氧化矽粒子，且分散物中的Si原子與Ti原子的含有比控制在0.20～0.50範圍之分散物等。關於上述分散物，可以參閱日本特開2012-169556號公報的0020～0105段的記載，其內容被併入本說明書中。

＜＜樹脂＞＞ 本發明的組成物含有樹脂。樹脂例如以使顏料等粒子分散於組成物中之用途、黏結劑的用途配合。另外，將主要用於使粒子分散於組成物中之樹脂亦稱為分散劑。但是，如樹脂之類的用途為一例，亦可以以該種用途以外的目的使用。

（對波長589nm的光之折射率為1.5以下之樹脂） 本發明的組成物包含對波長589nm的光之折射率為1.5以下之樹脂為較佳。 組成物包含兩種以上的樹脂時，組成物至少包含一種對波長589nm的光之折射率為1.5以下之樹脂為較佳，僅包含對波長589nm的光之折射率為1.5以下之樹脂為更佳。 本發明的組成物中，對波長589nm的光之折射率為1.5以下的樹脂的含量相對於樹脂的總質量係5質量%以上為較佳，30質量%以上為更佳，50質量%以上為進一步較佳，90質量%以上為特佳。

組成物包含兩種以上的樹脂時，組成物中所包含之所有樹脂的對波長589nm的光之質量平均的折射率（樹脂的質量平均的折射率）係1.5以下為較佳，1.49以下為更佳，1.47以下為特佳，1.45以下為更特佳。所謂“組成物中所包含之所有樹脂的對波長589nm的光之質量平均的折射率”係指，將第i個樹脂的對波長589nm的光之折射率ni與對第i個樹脂的組成物中所包含之所有樹脂（其中，僅將在所有樹脂中包含1質量%以上之樹脂放入計算中）之質量比率Xi之積與組成物中所包含之所有樹脂相加者。具體而言，係指將n設為2以上的整數且將i設為1以上的整數時，利用以下的計算式計算出的值。 [數式1]

組成物中所包含之所有樹脂的對波長589nm的光之質量平均的折射率的較佳範圍與樹脂的對波長589nm的光之折射率的較佳範圍相同。

樹脂的折射率能夠利用以下方法以未硬化的狀態進行測定。 具體的測定方法如下：在Si晶圓上以300nm製膜成為測定對象之僅包括樹脂之膜之後，使用橢圓偏光計（Lambda Ace RE-3300（商品名），Dainippon Screen Mfg. Co.,Ltd.）測定所得到之膜的折射率。

樹脂的重量平均分子量（Mw）係1000～200000為較佳，更佳為2000～100000。若在該等範圍，則從與樹脂和組成物中的所有成分的相溶性和L*的觀點考慮為較佳。

對波長589nm的光之折射率為1.5以下之樹脂的含量相對於組成物的總固體成分係5～90質量%為較佳，更佳為10～60質量%，特佳為10～50質量%。若為該等範圍，則從圖案形狀、耐熱性、L*的觀點考慮為較佳。可以僅包含一種對波長589nm的光之折射率為1.5以下之樹脂，亦可以包含兩種以上。包含兩種以上時，其合計量為上述範圍為較佳。

作為對波長589nm的光之折射率為1.5以下之樹脂，能夠列舉氟系樹脂或聚矽氧烷系樹脂等。本發明中，樹脂係聚矽氧烷系樹脂（聚矽氧烷係主骨架為較佳）為較佳，係對波長589nm的光之折射率為1.5以下之聚矽氧烷系樹脂為更佳，係對波長589nm的光之折射率為1.5以下之還作為鹼可溶性樹脂之聚矽氧烷系樹脂為特佳。 關於還作為鹼可溶性樹脂之聚矽氧烷系樹脂的、作為鹼可溶性樹脂的較佳性質，與用作其他黏結劑之鹼可溶性樹脂的較佳性質相同。 對波長589nm的光之折射率為1.5以下之樹脂由於賦予鹼可溶性，因此具有包含促進後述鹼可溶性樹脂所具有之鹼可溶性之基團之重複單元為較佳。促進較佳的鹼可溶性之基團與後述者相同。

-氟系樹脂- 作為氟系樹脂，只要在樹脂中含有氟原子，則並沒有特別限定。例如，將（a）具有源自通式（F1）所表示之單體之重複單元之高分子化合物用作氟系樹脂亦較佳。

[化學式1]

通式（F1）中，Rf為含有氟烷基或全氟烷基之取代基，n表示1或2，R¹ 表示氫原子或甲基。 Rf係氟原子的數為9以上的含有氟烷基或全氟烷基之取代基為較佳。作為氟原子的數為9以上的含有氟烷基或全氟烷基之取代基，具體而言，可列舉如下（甲基）丙烯酸氟烷基酯。 CH₂ =CRCO₂ （CH₂ ）_m C_n F_2n+1 m表示1或2，n表示4～12的整數。並且，R表示碳數1～4的烷基。 CH₂ =CRCO₂ （CH₂ ）_m （CF₂ ）_n H m表示1或2，n表示4～12的整數。並且，R表示碳數1～4的烷基 尤其，含有氟烷基或全氟烷基之取代基每一個的氟原子的數為9～30者為較佳，更佳為13～25。

並且，將具有源自含有氟原子之不飽和單體之重複單元之高分子化合物用作氟系樹脂亦較佳。作為含有氟原子之不飽和單體，可列舉具有聚氟烷基或聚氟醚基之自由基聚合性單體，作為全氟烷基，全氟甲基、全氟乙基、全氟丙基、全氟丁基、全氟己基、全氟辛基、全氟癸基、全氟十二烷基、全氟十四烷基為較佳。

作為該種含有氟原子之不飽和單體，CH₂ =C（CH₃ ）COOCH₂ （CF₂ ）₄ CF₃ 、CH₂ =C（CH₃ ）COOCH₂ CH₂ （CF₂ ）₆ CF₃ 、CH₂ =CHCOO（CF₂ ）₆ CF₃ 、CH₂ =CHCOOCH₂ CH₂ （CF₂ ）₇ CF₃ 、CH₂ =CHCOOCH₂ CH₂ （CF₂ ）₅ CF（CF₃ ）₂ 、CH₂ =C（CH₃ ）COOCH（OCOCH₃ ）CH₂ （CF₂ ）₆ CF（CF₃ ）₂ 、CH₂ =CHCOOCH₂ CH（OH）CH₂ （CF₂ ）₆ CF（CF₃ ）₂ 、CH₂ =CHCOOCH₂ CH₂ （CF₂ ）₈ CF₃ 、CH₂ =C（CH₃ ）COOCH₂ CH₂ NHCO（CF₂ ）₈ CF₃ 、CH₂ =CHOCONHCO（CF₂ ）₇ CF（CF₂ Cl）CF₃ 、CH₂ =CHCOOCH₂ CH₂ N（C₃ H₇ ）SO₂ （CF₂ ）₇ CF₃ 、CH₂ =CHCOOCH₂ CH₂ CH₂ CH₂ （CF₂ ）₇ CF₃ 、CH₂ =C（CH₃ ）COOCH₂ CH₂ N（C₂ H₅ ）SO₂ （CF₂ ）₇ CF₃ 、CH₂ =CHCOOCH₂ CH₂ NHCO（CF₂ ）₇ CF₃ 、CH₂ =CHCOO（CH₂ ）₃ （CF₂ ）₆ CF（CF₃ ）₂ 、CH₂ =CHCOOCH₂ （CF₂ ）₁₀ H、CH₂ =C（CH₃ ）COOCH₂ （CF₂ ）₁₀ CF₂ Cl、CH₂ =CHCONHCH₂ CH₂ OCOCF（CF₃ ）OC₃ F₇ 、CH₂ =CHCONHCH₂ CH₂ OCOCF（CF₃ ）（OC₃ F₆ ）₂ OC₃ F₇ 為較佳。 含有氟原子之不飽和單體亦可以單獨使用1種或者併用2種以上。作為含有氟原子之不飽和單體，亦可以使用市售品。例如，有Kyoeisha chemical Co.,Ltd.製、商品名LIGHT ESTER FM-108、LIGHT ESTER M-3F、LIGHT ESTER M-4F； NIPPON MEKTRON， LTD.製、商品名CHEMINOX FAAC、CHEMINOX FAMAC、CHEMINOX FAAC-M、CHEMINOX FAMAC-M、CHEMINOX PFAE、CHEMINOX PFOE等。

並且，具有（a）源自通式（F1）所表示之單體之重複單元及源自含有氟原子之不飽和單體之重複單元中的至少一方、以及具有促進鹼可溶性之基團之重複單元之高分子化合物亦可以用作氟系樹脂。促進鹼可溶性之基團的較佳範圍與後述之鹼可溶性樹脂所具有之促進鹼可溶性之基團的較佳範圍相同。

作為氟系樹脂的例子，還可以參閱日本特開平2-804號公報的第6頁右下欄至第9頁右上欄中所記載之氟系界面活性劑，其內容被併入本說明書中。

以下記載氟系樹脂的較佳具體例。

[化學式2]

[化學式3]

-聚矽氧烷系樹脂- 作為聚矽氧烷系樹脂並沒有特別限制。例如，作為聚矽氧烷系樹脂，可以使用將下述通式（1）所表示之化合物單獨水解縮合而得到之聚矽氧烷系樹脂、或與下述通式（1）所表示之化合物和其他矽烷化合物進行共水解縮合而得到之聚矽氧烷系樹脂。作為聚矽氧烷系樹脂，可以參閱日本特開2014-66988號公報的＜0014＞～＜0035＞的記載，其內容被併入本說明書中。 聚矽氧烷系樹脂中，從提高耐溶劑性之觀點考慮，將除了含有下述通式（1）所表示之化合物以外還含有下述通式（2）所表示之化合物之烷氧基矽烷化合物進行共水解縮合而得到之聚矽氧烷系樹脂為較佳。 聚矽氧烷系樹脂中，從提高聚矽氧烷系樹脂的酸值並改善圖案形狀之觀點考慮，使用將除了含有下述通式（1）所表示之化合物以外還含有下述通式（3）所表示之化合物之烷氧基矽烷化合物進行共水解縮合而得到之聚矽氧烷系樹脂為較佳。並且，將含有下述通式（3）所表示之化合物之烷氧基矽烷化合物進行共水解縮合而得到之聚矽氧烷系樹脂亦可以用作鹼可溶性樹脂。

通式（1） R¹ ₂ Si（OR² ）₂

通式（1）中之R¹ 分別獨立地表示烷基或苯基，R² 分別獨立地表示氫原子或烷基。 通式（1）中之R¹ 及R² 係碳數1～6的烷基為較佳，碳數1～4的烷基為更佳，碳數1～3的烷基為特佳，碳數1或2的烷基為更特佳，甲基為最佳。具體而言，可列舉甲基、乙基、正丙基、異丙基、正丁基、第二丁基、第三丁基、戊基、己基、環己基等，其中，甲基或乙基為特佳。另外，當在同一分子內存在複數個R¹ 時，該等可以相同亦可以不同。在通式（1）中之R^{2 中} 亦相同。通式（1）中之R¹ 及R² 中之烷基可以是直鏈狀、分支狀及環狀中之任一種，直鏈狀為較佳。

[化學式4]

通式（2）中之R³ 表示甲基或氫原子，R⁴ 表示碳數1～4的伸烷基，R⁵ 分別獨立地表示氫原子或碳數1～4的烷基，R⁶ 分別獨立地表示碳數1～6的烷基，n表示1～3的整數。 通式（2）中之R⁴ 係碳數1～3的伸烷基為較佳，碳數3的伸烷基為更佳。 通式（2）中之R⁶ 及R⁵ 的較佳範圍分別與通式（1）中之R¹ 及R² 的較佳範圍相同。 通式（2）中之n係2或3為較佳，3為更佳。

[化學式5]

通式（3）中之l表示0～2的整數，m表示0～3的整數，R⁷ 表示碳數1～4的伸烷基，R⁸ 分別獨立地表示氫原子或碳數1～4的烷基，R⁹ 分別獨立地表示碳數1～6的烷基。 通式（3）中之l係1為更佳。 通式（3）中之m係2或3為較佳，3為更佳。 通式（3）中之R⁷ 係碳數1～3的伸烷基為較佳，碳數3的伸烷基為更佳。 通式（3）中之R⁹ 及R⁸ 的較佳範圍分別與通式（1）中之R¹ 及R² 的較佳範圍相同。

作為通式（1）所表示之化合物，例如可列舉二甲氧基二甲基矽烷、二乙氧基二甲基矽烷、二甲氧基二苯基矽烷、二乙氧基二苯基矽烷、二羥基二苯基矽烷、二甲氧基（甲基）（苯基）矽烷、二乙氧基（甲基）（苯基）矽烷、二甲氧基（甲基）（苯乙基）矽烷、二環戊基二甲氧基矽烷或環己基二甲氧基（甲基）矽烷、甲基三甲氧基矽烷、乙基三甲氧基矽烷、苯基三甲氧基矽烷、甲基三乙氧基矽烷、乙基三乙氧基矽烷、苯基三乙氧基矽烷。 通式（1）所表示之化合物係二甲氧基二甲基矽烷、二甲氧基二苯基矽烷、苯基三甲氧基矽烷為較佳，二甲氧基二甲基矽烷為更佳。

通式（1）所表示之化合物在供於共水解縮合之烷氧基矽烷化合物中所佔之比例係25～75莫耳%為較佳，35～75莫耳%為更佳，50～70莫耳%為特佳。並且，二甲氧基二苯基矽烷、二乙氧基二苯基矽烷及二羥基二苯基矽烷在供於共水解縮合之烷氧基矽烷化合物中所佔之比例係0～50莫耳%為較佳，0～45莫耳%為更佳，0～30莫耳%為進一步較佳，0～10莫耳%為特佳。

作為通式（2）所表示之化合物，例如可列舉3-甲基丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷、3-甲基丙烯醯氧基丙基三乙氧基矽烷、3-丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷、3-甲基丙烯醯氧基丙基甲基二甲氧基矽烷、3-甲基丙烯醯氧基丙基甲基二乙氧基矽烷、3-丙烯醯氧基丙基甲基二甲氧基矽烷、3-丙烯醯氧基丙基三乙氧基矽烷或3-丙烯醯氧基丙基甲基二乙氧基矽烷。 通式（2）所表示之化合物係3-甲基丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷為較佳。 通式（2）所表示之化合物在供於共水解縮合之烷氧基矽烷化合物中所佔之比例係10～45莫耳%為較佳，10～30莫耳%為更佳，15～20莫耳%為特佳。藉由使用通式（2）所表示之化合物作為供於共水解縮合之烷氧基矽烷化合物，能夠提高耐溶劑性。

作為通式（3）所表示之化合物，例如可列舉3-三甲氧基矽基丙基琥珀酸酐、3-三乙氧基矽基丙基琥珀酸酐、3-三甲氧基矽基乙基琥珀酸酐或3-三甲氧基矽基丁基琥珀酸酐、3-二乙氧基甲基矽基丙基琥珀酸酐、3-二甲氧基甲基矽基乙基琥珀酸酐或3-二甲氧基甲基矽基丁基琥珀酸酐。 通式（3）所表示之化合物係3-三甲氧基矽基丙基琥珀酸酐為較佳。 從提高聚矽氧烷系樹脂的酸值並改善圖案形狀之觀點考慮，通式（3）所表示之化合物在供於共水解縮合之烷氧基矽烷化合物中所佔之比例係1～30莫耳%為較佳，1～25莫耳%為更佳，從進一步還抑制經過一個月後的濃度不均勻之觀點考慮，1～20莫耳%為特佳。

供於共水解縮合之烷氧基矽烷化合物還包含通式（5）所表示之化合物為較佳。

通式（5） R¹² Si（OR¹³ ）₃

通式（5）中之R¹² 表示具有環氧基之1價的有機基，R¹³ 分別獨立地表示烷基。 通式（5）中之R¹² 所表示之具有環氧基之1價的有機基具有1～5個環氧基為較佳，具有1或2個為更佳，具有1個為特佳。通式（5）中之R¹² 所表示之具有環氧基之1價的有機基係經由連接基而在末端鍵結有環氧基之基團為較佳，經由伸烷基（較佳為碳數1～10，更佳為碳數1～6，特佳為碳數1～3）及氧原子中的至少一方而在末端鍵結有環氧基之基團為更佳。 通式（5）中之R¹³ 的較佳範圍與通式（1）中之R² 的較佳範圍相同。

作為通式（5）所表示之化合物，例如可列舉3-縮水甘油氧基丙基三甲氧基矽烷、3-縮水甘油氧基丙基三乙氧基矽烷、3-（3,4-環氧基環己基）丙基三甲氧基矽烷、3-（3,4-環氧基環己基）丙基三乙氧基矽烷。 通式（5）所表示之化合物係3-縮水甘油氧基丙基三甲氧基矽烷、3-（3,4-環氧基環己基）丙基三甲氧基矽烷為較佳。 通式（5）所表示之化合物在供於共水解縮合之烷氧基矽烷化合物中所佔之比例係10莫耳%以下為較佳，8莫耳%以下為更佳，5莫耳%以下為特佳。

供於共水解縮合之烷氧基矽烷化合物可以含有通式（1）～（3）及（5）所表示之化合物以外的其他烷氧基矽烷化合物。作為通式（1）～（3）及（5）所表示之化合物以外的其他烷氧基矽烷化合物，例如可列舉苯乙基三甲氧基矽烷、萘基三甲氧基矽烷、苯乙基三乙氧基矽烷、萘基三乙氧基矽烷、四甲氧基矽烷或四乙氧基矽烷。 從抑制經過一個月後的濃度不均勻並改善耐溶劑性之觀點考慮，其他烷氧基矽烷化合物在供於共水解縮合之烷氧基矽烷化合物中所佔之比例係3莫耳%以下為較佳，2莫耳%以下為更佳，1莫耳%以下為特佳。

本發明中，從容易將對波長589nm的光之折射率控制為1.5以下之觀點考慮，聚矽氧烷系樹脂的側鏈中20莫耳%以上（較佳為40莫耳%以上，更佳為50莫耳%以上，特佳為60莫耳%以上）係碳數1～4的烷基及碳數1～4的烷氧基中的至少一方為較佳，係碳數1～3的烷基及碳數1～3的烷氧基中的至少一方為更佳，係碳數1或2的烷基及碳數1或2的烷氧基中的至少一方為進一步較佳，係碳數1或2的烷基為特佳。 從降低聚矽氧烷系樹脂的折射率之觀點考慮，在聚矽氧烷系樹脂的側鏈中含有苯基之側鏈係20莫耳%以下為較佳，10莫耳%以下為更佳，5莫耳%以下為特佳。

聚矽氧烷系樹脂藉由使烷氧基矽烷化合物進行共水解縮合亦即水解及部分縮合而得到。共水解縮合中可以使用一般的方法。例如，可以使用向混合物中添加有機溶劑、水及根據需要添加催化劑，並在50～150℃下加熱攪拌0.5～100小時左右之方法。另外，加熱撹拌中，根據需要可以藉由蒸餾來餾去水解副產物（甲醇等醇）和縮合副產物（水）。

作為聚矽氧烷系樹脂的較佳例，能夠舉出藉由使下述表中所記載之作為烷氧基矽烷化合物之單體進行共水解縮合而得到之聚矽氧烷系樹脂。

[表3]

[表4]

（其他黏結劑） 本發明的組成物除了對波長589nm的光之折射率為1.5以下之樹脂之外，還可以包含其他黏結劑。藉由含有其他黏結劑，膜特性得到提高。其他黏結劑可以任意使用公知者。較佳地，為了能夠進行水顯影或弱鹼水顯影而選擇對水或弱鹼水為可溶性或膨潤性的樹脂。例如，若使用鹼可溶性樹脂，則能夠進行鹼顯影。作為該種樹脂，可列舉側鏈具有羧基之自由基聚合物，例如日本特開昭59-44615號公報、日本特公昭54-34327號公報、日本特公昭58-12577號公報、日本特公昭54-25957號公報、日本特開昭54-92723號公報、日本特開昭59-53836號公報、日本特開昭59-71048號公報中所記載之聚合物、亦即使具有羧基之單體均聚或共聚而得到之樹脂、使具有酸酐之單體均聚或共聚而將酸酐單元水解或半酯化或半醯胺化而得到之樹脂、將環氧樹脂利用不飽和單羧酸及酸酐改質而得到之環氧丙烯酸酯等。作為具有羧基之單體，可列舉丙烯酸、甲基丙烯酸、衣康酸、巴豆酸、順丁烯二酸、反丁烯二酸、4-羧基苯乙烯等，作為具有酸酐之單體，可列舉順丁烯二酸酐等。並且，有側鏈具有羧基之酸性纖維素衍生物。並且，還可列舉具有羥基之聚合物中加成環狀酸酐而得到之聚合物。其他黏結劑係可溶於鹼顯影液之樹脂（亦稱為鹼可溶性樹脂）亦較佳。並且，，作為其他黏結劑，亦能夠使用環氧樹脂或三聚氰胺樹脂等作為熱硬化性化合物之樹脂。

鹼可溶性樹脂能夠從具有促進鹼可溶性之基團之聚合物中適當地選擇。

鹼可溶性樹脂的數量平均分子量（Mn）係1000～20,000為較佳。 鹼可溶性樹脂的酸值係30～500mgKOH/g為較佳。下限係50mgKOH/g以上為更佳，70mgKOH/g以上為進一步較佳。上限係400mgKOH/g以下為更佳，200mgKOH/g以下為進一步較佳，150mgKOH/g以下為特佳，120mgKOH/g以下為最佳。

從耐熱性的觀點考慮，鹼可溶性樹脂係聚羥基苯乙烯系樹脂、聚矽氧烷系樹脂、丙烯酸系樹脂、丙烯醯胺系樹脂、丙烯酸/丙烯醯胺共聚物樹脂為較佳，從控制顯影性之觀點考慮，係丙烯酸系樹脂、丙烯醯胺系樹脂、丙烯酸/丙烯醯胺共聚物樹脂為更佳。作為促進鹼可溶性之基團（以下，亦稱為酸基），例如可列舉羧基、磷酸基、磺基、酚性羥基等，羧基為較佳。酸基可以僅為1種，亦可以為2種以上。

鹼可溶性樹脂例如能夠利用公知的自由基聚合法來合成。利用自由基聚合法製造鹼可溶性樹脂時之溫度、壓力、自由基起始劑的種類及其量、溶劑的種類等聚合條件可以由本領域技術人員容易進行設定，亦能夠實験性地規定條件。

鹼可溶性樹脂係在側鏈上具有羧基之聚合物為較佳，可列舉甲基丙烯酸共聚物、丙烯酸共聚物、衣康酸共聚物、巴豆酸共聚物、順丁烯二酸共聚物、部分酯化順丁烯二酸共聚物、酚醛清漆型樹脂等鹼可溶性酚醛樹脂等、以及在側鏈上具有羧基之酸性纖維素衍生物、在具有羥基之聚合物中加成酸酐而得到者。尤其，（甲基）丙烯酸與能夠與其共聚之其他單體的共聚物適合作為鹼可溶性樹脂。作為能夠與（甲基）丙烯酸共聚之其他單體，可列舉日本特開2015-34961號公報的0017～0019段中所記載之單體。例如，可列舉（甲基）丙烯酸烷基酯、（甲基）丙烯酸芳基酯、乙烯基化合物、N位取代之順丁烯二醯亞胺單體等。 作為（甲基）丙烯酸烷基酯及（甲基）丙烯酸芳基酯，能夠列舉（甲基）丙烯酸甲酯、（甲基）丙烯酸乙酯、（甲基）丙烯酸丙酯、（甲基）丙烯酸丁酯、（甲基）丙烯酸異丁酯、（甲基）丙烯酸戊酯、（甲基）丙烯酸己酯、（甲基）丙烯酸辛酯、（甲基）丙烯酸苯酯、（甲基）丙烯酸苄酯、三（甲基）丙烯酸酯、（甲基）丙烯酸萘酯、（甲基）丙烯酸環己酯、甲基丙烯酸縮水甘油酯、甲基丙烯酸四氫糠酯等，作為乙烯基化合物，能夠列舉苯乙烯、α-甲基苯乙烯、乙烯基甲苯、丙烯腈、乙酸乙烯酯、N-乙烯基吡咯啶酮、聚苯乙烯大分子單體、聚甲基丙烯酸甲酯大分子單體等，作為日本特開平10-300922號公報中所記載之N位取代之順丁烯二醯亞胺單體，能夠列舉N-苯基順丁烯二醯亞胺、N-環己基順丁烯二醯亞胺等。另外，能夠與該等（甲基）丙烯酸共聚之其他單體可以僅為1種，亦可以為2種以上。

鹼可溶性樹脂可以較佳地使用包括（甲基）丙烯酸苄酯/（甲基）丙烯酸共聚物、（甲基）丙烯酸苄酯/（甲基）丙烯酸/（甲基）丙烯酸2-羥基乙酯共聚物、（甲基）丙烯酸苄酯/（甲基）丙烯酸/其他單體之多元共聚物。並且，亦可以較佳地使用將（甲基）丙烯酸2-羥基乙酯共聚而得到者、日本特開平7-140654號公報中所記載之（甲基）丙烯酸2-羥基丙酯/聚苯乙烯大分子單體/甲基丙烯酸苄酯/甲基丙烯酸共聚物、丙烯酸2-羥基-3-苯氧基丙酯/聚甲基丙烯酸甲酯大分子單體/甲基丙烯酸苄酯/甲基丙烯酸共聚物、甲基丙烯酸2-羥基乙酯/聚苯乙烯大分子單體/甲基丙烯酸甲酯/甲基丙烯酸共聚物、甲基丙烯酸2-羥基乙酯/聚苯乙烯大分子單體/甲基丙烯酸苄酯/甲基丙烯酸共聚物等。並且，作為市售品，例如亦可以使用FF-426（FUJIKURA KASEI CO，LTD.製）等。

並且，鹼可溶性樹脂可以使用具有聚合性基之鹼可溶性樹脂。依該態樣，具有所得到之膜的耐溶劑性提高之傾向。作為聚合性基，可列舉（甲基）烯丙基、（甲基）丙烯醯基等。具有聚合性基之鹼可溶性樹脂中有用的是在側鏈具有聚合性基之鹼可溶性樹脂等。作為具有聚合性基之鹼可溶性樹脂，可列舉Dianal NR系列（Mitsubishi Rayon Co.,Ltd.製）、Photomer6173（含有COOH基之聚胺基甲酸酯丙烯酸寡聚物（polyurethane acrylic oligomer），Diamond Shamrock Co.,Ltd.製）、Viscote R-264、KS RESIST 106（均為OSAKA ORGANIC CHEMICAL INDUSTRY LTD.製）、CYCLOMER P系列（例如，ACA230AA）、PLACCEL CF200系列（均為Daicel Chemical Industries, Ltd.製）、Ebecryl3800（Dicel-UCB Company LTD.製）、ACRYCURE-RD-F8（NIPPON SHOKUBAI CO.,LTD.製）等。

鹼可溶性樹脂包含將含有下述式（ED1）所表示之化合物及下述式（ED2）所表示之化合物（以下，將該等化合物亦稱作“醚二聚體”。）中的至少一方之單體成分聚合而成之聚合物亦較佳。關於將含有醚二聚體之單體成分聚合而成之聚合物的詳細內容，可以參閱日本特開2015-34961號公報的0022～0031段，其內容被併入本說明書中。

[化學式6]

式（ED1）中，R¹ 及R² 分別獨立地表示氫原子或可以具有取代基之碳數1～25的烴基。 [化學式7]

式（ED2）中，R表示氫原子或碳數1～30的有機基。作為式（ED2）的具體例，能夠參閱日本特開2010-168539號公報的記載。

作為醚二聚體的具體例，例如能夠參閱日本特開2013-29760號公報的0317段，其內容被併入本說明書中。醚二聚體可以僅為1種，亦可以為2種以上。

鹼可溶性樹脂可以含有源自下述式（X）所表示之化合物之結構單元。 [化學式8]

式（X）中，R₁ 表示氫原子或甲基，R₂ 表示碳數2～10的伸烷基，R₃ 表示氫原子或可以含有苯環之碳數1～20的烷基。n表示1～15的整數。

上述式（X）中，R₂ 的伸烷基的碳數係2～3為較佳。並且，R₃ 的烷基的碳數為1～20，但更佳為1～10，R₃ 的烷基可以含有苯環。作為R₃ 所表示之含有苯環之烷基，能夠列舉苄基、2-苯基（異）丙基等。

作為鹼可溶性樹脂的具體例，例如可列舉下述樹脂。並且，亦可列舉日本特開2015-34961號公報的0037段中所記載之樹脂。在該等樹脂之中，從耐溶劑性的觀點考慮，具有下述聚合性基之鹼可溶性樹脂為較佳。 [化學式9]

鹼可溶性樹脂可以參閱日本特開2012-208494號公報的0558～0571段（對應之美國專利申請公開第2012/0235099號說明書的＜0685＞～＜0700＞）的記載，該等內容被併入本說明書中。另外，亦可以使用日本特開2012-32767號公報中所記載之段落號0029～0063中所記載之共聚物（B）及實施例中使用之鹼可溶性樹脂、日本特開2012-208474號公報的段落號0088～0098中所記載之黏結劑樹脂及實施例中使用之黏結劑樹脂、日本特開2012-137531號公報的段落號0022～0032中所記載之黏結劑樹脂及實施例中使用之黏結劑樹脂、日本特開2013-024934號公報的段落號0132～0143中所記載之黏結劑樹脂及實施例中使用之黏結劑樹脂、日本特開2011-242752號公報的段落號0092～0098及實施例中使用之黏結劑樹脂、日本特開2012-032770號公報的段落號0030～0072中所記載之黏結劑樹脂。該等內容被併入本說明書中。

其他黏結劑的含量相對於組成物的總固體成分係0～60質量%為較佳。上限係60質量%以下為較佳，50質量%以下為更佳。組成物可以只包含一種其他黏結劑，亦可包含兩種。包含兩種以上時，其合計量為上述範圍為較佳。

（分散劑） 本發明的組成物可以含有分散劑作為樹脂。分散劑含有選自酸性樹脂、鹼性樹脂及兩性樹脂中之1種以上為較佳，選自酸性樹脂及兩性樹脂中之至少1種為更佳。依該態樣，粒子的分散性良好。

本發明中，“酸性樹脂”係指具有酸基之樹脂，係指酸值為5mgKOH/g以上、胺值小於5mgKOH/g的樹脂。酸性樹脂不具有鹼性基為較佳。作為酸性樹脂所具有之酸基，例如可列舉羧基、磷酸基、磺酸基、酚性羥基等，羧基為較佳。酸性樹脂的酸值係5～200mgKOH/g為較佳。下限係10mgKOH/g以上為更佳，20mgKOH/g以上為進一步較佳。上限係100mgKOH/g以下為更佳，60mgKOH/g以下為進一步較佳。並且，酸性樹脂的胺值係2mgKOH/g以下為較佳，1mgKOH/g以下為更佳。

本發明中，“鹼性樹脂”係指具有鹼性基之樹脂，係指胺值為5mgKOH/g以上、酸值小於5mgKOH/g的樹脂。鹼性樹脂不具有酸基為較佳。作為鹼性樹脂所具有之鹼性基，胺基為較佳。鹼性樹脂的胺值係5～200mgKOH/g為較佳，5～150mgKOH/g為更佳，5～100mgKOH/g為進一步較佳。

本發明中，“兩性樹脂”係指具有酸基和鹼性基之樹脂，係指酸值為5mgKOH/g以上、胺值為5mgKOH/g以上的樹脂。作為酸基，可列舉前述者，羧基為較佳。作為鹼性基，胺基為較佳。 兩性樹脂係酸值為5mgKOH/g以上、胺值為5mgKOH/g以上為較佳。酸值係5～200mgKOH/g為較佳。下限係10mgKOH/g以上為更佳，20mgKOH/g以上為進一步較佳。上限係150mgKOH/g以下為更佳，100mgKOH/g以下為進一步較佳。胺值係5～200mgKOH/g為較佳。下限係10mgKOH/g以上為更佳，20mgKOH/g以上為進一步較佳。上限係150mgKOH/g以下為更佳，100mgKOH/g以下為進一步較佳。兩性樹脂的酸值與胺值的比率係酸值：胺值=1:4～4:1為較佳，1:3～3:1為更佳。

作為分散劑，高分子分散劑〔例如，具有胺基（amine group）之樹脂（聚醯胺胺（polyamide amine）及其鹽等）、寡亞胺系樹脂、聚羧酸及其鹽、高分子量不飽和酸酯、改質聚胺基甲酸酯、改質聚酯、改質聚（甲基）丙烯酸酯、（甲基）丙烯酸系共聚物、萘磺酸福馬林缩聚物〕等。高分子分散劑根据其結構可以進一步分類為直鏈狀高分子、末端改質型高分子、接枝型高分子、嵌段型高分子。

分散劑具備具有對顏料之吸附能之部位為較佳（以下，統稱為“吸附部位”）。作為吸附部位，可列舉具有至少1種選自包括酸基、脲基、胺基甲酸酯基、具有配位性氧原子之基團、具有鹼性氮原子之基團、雜環基、烷氧基羰基、烷基胺基羰基、羧基、磺醯胺基、烷氧基矽基、環氧基、异氰酸酯基及羥基之組群中之基團之1價的取代基等。吸附部位係酸系吸附部位為較佳。作為酸系吸附部位，可列舉酸基等。其中，酸系吸附部位係含有磷原子之基團及羧基中的至少一方為較佳。作為含有磷原子之基團，可列舉磷酸酯基、聚磷酸酯基、磷酸基等。關於吸附部位的詳細內容，可以參閱日本特開2015-34961號公報的0073～0080段，其內容被併入本說明書中。

本發明中，樹脂（分散劑）係下述式（111）所表示之樹脂為較佳。

[化學式10]

上述式（111）中，R¹ 表示（m+n）價的連接基，R² 表示單鍵或2價的連接基。A¹ 表示具有至少1種選自包括酸基、脲基、胺基甲酸酯基、具有配位性氧原子之基團、具有鹼性氮原子之基團、雜環基、烷氧基羰基、烷基胺基羰基、羧基、磺醯胺基、烷氧基矽基、環氧基、异氰酸酯基及羥基之組群中之基團之1價的取代基。n個A¹ 及R² 可以分別相同，亦可以不同。m表示8以下的正數，n表示1～9，m+n滿足3～10。P¹ 表示1價的聚合物鏈。m個P¹ 可以相同，亦可以不同。

式（111）所表示之樹脂所具有之取代基A¹ 能夠與顏料（例如，氧化鈦等無機粒子）相互作用，因此式（111）所表示之樹脂藉由具有n個（1～9個）取代基A¹ 而與顏料（例如，氧化鈦等無機粒子）牢固地相互作用，從而提高顏料在組成物中之分散性。並且，式（111）所表示之樹脂所具有之m個聚合物鏈P¹ 能夠作為立體排斥基發揮功能，藉由具有m個，能夠發揮良好的立體排斥力而均勻地分散顏料（例如，氧化鈦等無機粒子）。

式（111）中，R¹ 表示（m+n）價的連接基。作為（m+n）價的連接基，包括由1至100個碳原子、0個至10個氮原子、0個至50個氧原子、1個至200個氫原子及0個至20個硫原子構成之基團。作為（m+n）價的連接基的具體例，可列舉下述結構單元或2個以上的以下結構單元組合而構成之基團（亦可以形成環結構）。關於（m+n）價的連接基的詳細內容，可以參閱日本特開2007-277514號公報的0076～0084段，其內容被併入本說明書中。

[化學式11]

式（111）中，P¹ 表示1價的聚合物鏈。1價的聚合物鏈係具有源自乙烯基化合物之重複單元之1價的聚合物鏈為較佳。關於聚合物鏈的詳細內容，可以參閱日本特開2007-277514號公報的0087～0098段，其內容被併入本說明書中。

式（111）中，R² 表示單鍵或2價的連接基。作為2價的連接基，包含由1至100個碳原子、0個至10個氮原子、0個至50個氧原子、1個至200個氫原子及0個至20個硫原子構成之基團，可以未經取代，亦可以進一步具有取代基。2價的連接基，作為其具體例，可列舉下述結構單元或2個以上的以下結構單元組合而構成之基團。關於2價的連接基的詳細內容，可以參閱日本特開2007-277514號公報的0071～0075段，其內容被併入本說明書中。

[化學式12]

式（111）中，關於A¹ 所表示之1價的取代基的詳細內容，可以參閱日本特開2007-277514號公報的0041～0070段，其內容被併入本說明書中。

作為上述式（111）所表示之高分子化合物，可以參閱日本特開2007-277514號公報的0039段（對應之美國專利申請公開第2010/0233595號說明書的＜0053＞）以後的記載及日本特開2015-34961號公報的0081～0117段的記載，該等內容被併入本說明書中。

本發明中，樹脂（分散劑）亦可以使用含有下述式（11）～式（14）中的任一個所表示之重複單元之接枝共聚物。

[化學式13]

式（11）～式（14）中，W¹ 、W² 、W³ 及W⁴ 分別獨立地表示氧原子或NH，X¹ 、X² 、X³ 、X⁴ 及X⁵ 分別獨立地表示氫原子或1價的基團，Y¹ 、Y² 、Y³ 及Y⁴ 分別獨立地表示2價的連接基，Z¹ 、Z² 、Z³ 及Z⁴ 分別獨立地表示1價的基團，R³ 表示伸烷基，R⁴ 表示氫原子或1價的基團，n、m、p及q分別獨立地表示1～500的整數，j及k分別獨立地表示2～8的整數，式（13）中，當p為2～500時，存在複數個之R³ 可以相互相同亦可以不同，式（14）中，當q為2～500時，存在複數個之X⁵ 及R⁴ 可以相互相同亦可以不同。

W¹ 、W² 、W³ 及W⁴ 係氧原子為較佳。X¹ 、X² 、X³ 、X⁴ 及X⁵ 係氫原子或碳數1～12的烷基為較佳，分別獨立地係氫原子或甲基為更佳，甲基為特佳。Y¹ 、Y² 、Y³ 及Y⁴ 分別獨立地表示2價的連接基，連接基在結構上並沒有特別限制。Z¹ 、Z² 、Z³ 及Z⁴ 所表示之1價的基團並沒有特別限定，具體而言，可列舉烷基、羥基、烷氧基、芳氧基、雜芳氧基、烷基硫醚基、芳基硫醚基、雜芳基硫醚基及胺基等。在該等之中，作為Z¹ 、Z² 、Z³ 及Z⁴ 所表示之有機基，尤其從提高分散性之觀點考慮，具有立體排斥效果者為較佳，各自獨立地係碳數5～24的烷基或烷氧基為較佳，其中，各自獨立地係碳數5～24的分支狀烷基、碳數5～24的環狀烷基或碳數5～24的烷氧基為特佳。另外，烷氧基中所含之烷基可以是直鏈狀、支鏈狀、環狀中的任一種。

式（11）～式（14）中，n、m、p及q分別獨立地為1～500的整數。並且，式（11）及式（12）中，j及k分別獨立地表示2～8的整數。從分散穩定性、顯影性的觀點考慮，式（11）及式（12）中之j及k係4～6的整數為較佳，5為最佳。

式（13）中，R³ 表示伸烷基，碳數1～10的伸烷基為較佳，碳數2或3的伸烷基為更佳。當p為2～500時，存在複數個之R³ 可以相互相同亦可以不同。

式（14）中，R⁴ 表示氫原子或1價的基團。作為1價的基團，在結構上並沒有特別限定。作為R⁴ ，可以較佳地舉出氫原子、烷基、芳基及雜芳基，進一步較佳為氫原子或烷基。當R⁴ 為烷基時，係碳數1～20的直鏈狀烷基、碳數3～20的分支狀烷基或碳數5～20的環狀烷基為較佳，碳數1～20的直鏈狀烷基為更佳，碳數1～6的直鏈狀烷基為特佳。式（14）中，當q為2～500時，接枝共聚物中存在複數個之X⁵ 及R⁴ 可以相互相同亦可以不同。

關於上述接枝共聚物，可以參閱日本特開2012-255128號公報的段落號0025～0094的記載，上述內容被併入本說明書中。作為上述接枝共聚物的具體例，例如可列舉以下樹脂。並且，可列舉日本特開2012-255128號公報的段落號0072～0094中所記載之樹脂，其內容被併入本說明書中。 [化學式14]

本發明中，樹脂（分散劑）係在主鏈及側鏈中的至少一方含有鹼性氮原子之寡亞胺系分散劑亦較佳。作為寡亞胺系分散劑，如下樹脂為較佳：該樹脂具備具有部分結構X之重複單元和含有原子數40～10，000的寡聚物鏈或聚合物鏈Y之側鏈，且在主鏈及側鏈中的至少一方具有鹼性氮原子，該部分結構X具有pKa（power of Ka；Ka為酸解離常數）14以下的官能基。該樹脂在氮原子和結構X所具有之pKa14以下的官能基雙方中與顏料（例如，氧化鈦等無機粒子）相互作用，並且樹脂具有原子數40～10，000的寡聚物鏈或聚合物鏈Y，因此例如藉由寡聚物鏈或聚合物鏈Y作為立體排斥基發揮功能，能夠發揮良好的分散性來均勻地分散氧化鈦等無機粒子。並且，藉由寡聚物鏈或聚合物鏈Y和溶劑相互作用，能夠長期抑制氧化鈦等無機粒子的沉降。進而，藉由寡聚物鏈或聚合物鏈Y作為立體排斥基發揮功能，可防止顏料（例如，氧化鈦等無機粒子）的凝聚，因此即使提高顏料（較佳為氧化鈦等無機粒子）的含量，亦可得到優異之分散性。

在此，所謂“鹼性氮原子”，只要係呈鹼性之氮原子，則並沒有特別限制，但樹脂含有具有pKb（power of Kb；Kb為鹼解離常數）14以下的氮原子之結構為較佳，含有具有pKb10以下的氮原子之結構為更佳。本發明中，“pKb（鹼強度）”係指水溫25℃下之pKb，係用於定量表示鹼的強度之指標之一，含義與鹼性度常數的含義相同。鹼強度pKb與酸強度pKa具有pKb=14-pKa的關係。

部分結構X所具有之pKa14以下的官能基並沒有特別限定，只要係物理性質滿足該條件者，則其結構等沒有特別限定。pKa為12以下的官能基為特佳，pKa為11以下的官能基為最佳。具體而言，例如可列舉羧基（pKa 3～5左右）、磺基（pKa -3～-2左右）、-COCH₂ CO-基（pKa 8～10左右）、-COCH₂ CN基（pKa 8～11左右）、-CONHCO-基、酚性羥基、-R_F CH₂ OH基或-（R_F ）₂ CHOH基（R_F 表示全氟烷基。pKa 9～11左右）、磺醯胺基（pKa 9～11左右）等。具有pKa14以下的官能基之部分結構X與具有氮原子之重複單元中之鹼性氮原子直接鍵結為較佳，含有鹼性氮原子之重複單元的鹼性氮原子和部分結構X不僅能夠以進行共價鍵結而形成鹽的形態來連結，亦能夠以進行離子鍵結而形成鹽的形態來連結。

寡亞胺系分散劑係具有含有鹼性氮原子之重複單元且在側鏈具有原子數40～10，000的寡聚物鏈或聚合物鏈Y之樹脂為較佳，該鹼性氮原子與具有pKa14以下的官能基之部分結構X鍵結。 並且，寡亞胺系分散劑係具有（i）作為選自聚（低級伸烷基亞胺）系重複單元、聚烯丙胺系重複單元、聚二烯丙胺系重複單元、間二甲苯二胺-表氯醇缩聚物系重複單元及聚乙烯胺系重複單元中之至少1種之含有鹼性氮原子之重複單元且在側鏈具有（ii）原子數40～10，000的寡聚物鏈或聚合物鏈Y之樹脂為較佳，該重複單元與鹼性氮原子鍵結，且具備具有pKa14以下的官能基之部分結構X。另外，本發明中，聚（低級伸烷基亞胺）中之“低級”表示碳數為1～5，“低級伸烷基亞胺”表示碳數1～5的伸烷基亞胺。

作為原子數40～10，000的寡聚物鏈或聚合物鏈Y，可列舉能夠與樹脂的主鏈部連接之聚酯、聚醯胺、聚醯亞胺、聚（甲基）丙烯酸酯等公知的聚合物鏈。寡聚物鏈或聚合物鏈Y與樹脂的鍵結部位係寡聚物鏈或聚合物鏈Y的末端為較佳。

寡聚物鏈或聚合物鏈Y與作為選自聚（低級伸烷基亞胺）系重複單元、聚烯丙胺系重複單元、聚二烯丙胺系重複單元、間二甲苯二胺-表氯醇缩聚物系重複單元及聚乙烯胺系重複單元中之至少1種之含有氮原子之重複單元的氮原子鍵結為較佳。作為選自聚（低級伸烷基亞胺）系重複單元、聚烯丙胺系重複單元、聚二烯丙胺系重複單元、間二甲苯二胺-表氯醇缩聚物系重複單元及聚乙烯胺系重複單元中之至少1種之含有氮原子之重複單元等的主鏈部與Y的鍵結方式為共價鍵、離子鍵或共價鍵及離子鍵的混合。Y與主鏈部的鍵結方式的比率為共價鍵：離子鍵=100:0～0:100，95:5～5:95為較佳。Y與含有氮原子之重複單元的氮原子進行醯胺鍵結、或作為羧酸鹽進行離子鍵結為較佳。

作為寡聚物鏈或聚合物鏈Y的原子數，從分散性、分散穩定性及顯影性的觀點考慮，50～5,000為較佳，60～3,000為更佳。並且，Y的數量平均分子量能夠藉由基於GPC法之聚苯乙烯換算值進行測定。Y的數量平均分子量係1,000～50,000為較佳，1,000～30,000為更佳。

寡亞胺系分散劑例如可列舉含有式（I-1）所表示之重複單元和式（I-2）所表示之重複單元及式（I-2a）所表示之重複單元中的至少一方之樹脂等。

[化學式15]

R¹ 及R² 各自獨立地表示氫原子、鹵素原子或烷基（碳數1～6為較佳）。 a各自獨立地表示1～5的整數。*表示重複單元間的連接部。 R⁸ 及R⁹ 為與R¹ 含義相同的基團。 L為單鍵、伸烷基（碳數1～6為較佳）、伸烯基（碳數2～6為較佳）、伸芳基（碳數6～24為較佳）、雜伸芳基（碳數1～6為較佳）、亞胺基（碳數0～6為較佳）、醚基、硫醚基、羰基、或該等的組合所涉及之連接基。其中，單鍵或-CR⁵ R⁶ -NR⁷ -（亞胺基成為X或Y側）為較佳。在此，R⁵ R⁶ 各自獨立地表示氫原子、鹵素原子、烷基（碳數1～6為較佳）。R⁷ 為氫原子或碳數1～6的烷基。 L^a 為與CR⁸ CR⁹ 和N一同形成環結構之結構部位，係與CR⁸ CR⁹ 的碳原子一同形成碳數3～7的非芳香族雜環之結構部位為較佳。更佳為與CR⁸ CR⁹ 的碳原子及N（氮原子）一同形成5員～7員的非芳香族雜環之結構部位，進一步較佳為形成5員的非芳香族雜環之結構部位，形成吡咯啶之結構部位為特佳。該結構部位可以進一步具有烷基等取代基。X表示具有pKa14以下的官能基之基團。Y表示原子數40～10，000的寡聚物鏈或聚合物鏈。

上述分散劑（寡亞胺系分散劑）還可以含有選自式（I-3）、式（I-4）及式（I-5）所表示之重複單元中之1種以上作為共聚成分。藉由上述分散劑含有該種重複單元，能夠進一步提高粒子的分散性。 [化學式16]

R¹ 、R² 、R⁸ 、R⁹ 、L、L^a 、a及*的含義與式（I-1）、（I-2）、（I-2a）中之規定相同。Ya表示具有陰離子基之原子數40～10，000的寡聚物鏈或聚合物鏈。

關於寡亞胺系分散劑，可以參閱日本特開2015-34961號公報的段落號0118～0190的記載，上述內容被併入本說明書中。作為寡亞胺系分散劑的具體例，例如可以使用下述樹脂、或日本特開2015-34961號公報的段落號0169～0190中所記載之樹脂。 [化學式17]

在本發明中，從將組成物所包含之所有樹脂的對波長589nm的光之質量平均的折射率設為1.5以下之觀點考慮，使用聚矽氧烷系樹脂亦即分散劑為較佳。作為聚矽氧烷系樹脂亦即分散劑所具有之吸附部位沒有特別限制，例如具有酸基作為吸附部位為較佳。 聚矽氧烷系樹脂亦即分散劑至少包含具有酸基之重複單元及具有矽氧烷鍵之重複單元為較佳。作為具有酸基之重複單元，能夠列舉源自（甲基）丙烯酸之重複單元等。 作為聚矽氧烷系樹脂亦即分散劑，可使用對波長589nm的光之折射率為1.5以下之樹脂。聚矽氧烷系樹脂亦即分散劑的較佳態樣與對波長589nm的光之折射率為1.5以下之樹脂的較佳態樣相同。

分散劑亦可以作為市售品而獲得，作為該等的具體例，可列舉BYK Chemie公司製“Disperbyk-101（聚醯胺胺磷酸鹽）、107（羧酸酯）、110、180（含有酸基之共聚物）、130（聚醯胺）、161、162、163、164、165、166、170（高分子共聚物）”、BYK Chemie公司製“BYK-P104、P105（高分子量不飽和聚羧酸）”、EFKA公司製“EFKA4047、4050、4010、4165（聚胺基甲酸酯系）、EFKA4330、4340（嵌段共聚物）、4400、4402（改質聚丙烯酸酯）、5010（聚酯醯胺）、5765（高分子量聚羧酸鹽）、6220（脂肪酸聚酯）、6745（酞菁衍生物）、6750（偶氮顏料衍生物）”、Ajinomoto Fine- Techno Co.,Inc.製“Ajisuper PB821、PB822”、KYOEISHA CHEMICAL Co.,Ltd.製“FLOWLEN TG-710（胺基甲酸酯寡聚物）”、KYOEISHA CHEMICAL Co.,Ltd.製“Polyflow No.50E、No.300（丙烯酸系共聚物）”、Kusumoto Chemicals, Ltd.製“Disparlon KS-860、873SN、874、#2150（脂肪族多價羧酸）、#7004（聚醚酯）、DA-703-50、DA-705、DA-725”、Kao Corporation製“Demor RN、N（萘磺酸福馬林缩聚物）、MS、C、SN-B（芳香族磺酸福馬林缩聚物）”、Kao Corporation製“Homogenol L-18（高分子聚羧酸）”、Kao Corporation製“Emulgen 920、930、935、985（聚氧乙烯壬基苯基醚）”、“Acetamin 86（硬脂基胺乙酸酯）”、Japan Lubrizol Corporation製“Solsperse 5000（Solsperse 5000）（酞菁衍生物）、22000（偶氮顏料衍生物）、13240（聚酯胺）、3000、17000、27000（末端部具有功能部之高分子）、24000、26000、28000、32000、36000、38500（接枝型高分子）、41000、46000”、NIKKO CHEMICAL CO.,LTD.製“Nikkol T106（聚氧乙烯脫水山梨糖醇單油酸酯）、MYS-IEX（聚氧乙烯單硬脂酸酯）”等。 並且，具有含有磷原子之基團（例如，磷酸基等）作為酸系吸附部位之分散劑的市售品可列舉Japan Lubrizol Corporation製“Solsperse 26000（Solsperse 26000）、36000、41000”。可以較佳地使用該等。 作為聚矽氧烷系樹脂亦即分散劑，例如可列舉包含丙烯酸聚合物和二甲基聚矽氧烷之接枝共聚物亦即KP-578、聚矽氧烷樹脂系分散劑亦即X-22-3701E（均為Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.製）等。 分散劑可以單獨使用1種或者將2種以上組合使用。 分散劑還可以使用在上述之其他黏結劑中說明之樹脂。並且，分散劑亦可以使用對波長589nm的光之折射率為1.5以下之樹脂。

本發明的組成物可以含有具有酸基和交聯性基之分散助劑作為分散助劑。作為較佳的酸基，可列舉磺酸基、磷酸基、膦酸基及羧酸基，磷酸基為更佳。作為交聯性基，可列舉具有乙烯性不飽和鍵之基團、環氧基及巰基等，具有乙烯性不飽和鍵之基團為更佳。作為具有乙烯性不飽和鍵之基團，還包括在聚合性化合物的說明中舉出之可加成聚合之伸乙基。 作為分散助劑的市售品，可列舉LIGHT ESTER P-1M、LIGHT ESTER P-2M、LIGHT ESTER HO-MS、LIGHT ESTER HO-HH（以上為KYOEISHA CHEMICAL Co.,Ltd.製）Phosmer M、Phosmer PE、Phosmer MH、Phosmer CL、Phosmer PP（以上為Uni-Chemical Corporation製）、TBAS-Q、TBAS-R（以上為MRC Unitec Co.,Ltd.製）等。

從L*、圖案形狀及黏附性的觀點考慮，分散劑的含量相對於組成物的總固體成分係1～80質量%為較佳。上限係70質量%以下為較佳，60質量%以下為更佳，25質量%以下為特佳，22質量%以下為最佳。下限係1.5質量%以上為較佳，2質量%以上為更佳，18質量%以上為特佳。 並且，分散劑的含量相對於顏料100質量份係1～100質量份為較佳。上限係80質量份以下為較佳，60質量份以下為進一步較佳。下限係2.5質量份以上為較佳，5質量份以上為進一步較佳。 並且，分散劑的含量相對於無機顏料100質量份係1～100質量份為較佳。上限係80質量份以下為較佳，60質量份以下為進一步較佳。下限係2.5質量份以上為較佳，5質量份以上為進一步較佳。 並且，分散劑的含量相對於氧化鈦100質量份係1～100質量份為較佳。上限係80質量份以下為較佳，60質量份以下為進一步較佳。下限係2.5質量份以上為較佳，5質量份以上為進一步較佳。

＜＜溶劑＞＞ 本發明的組成物含有溶劑為較佳。溶劑能夠使用各種有機溶劑而構成。作為有機溶劑，可列舉丙酮、甲乙酮、環己酮、乙酸乙酯、二氯乙烷、四氫呋喃、甲苯、乙二醇單甲醚、乙二醇單乙醚、乙二醇二甲醚、丙二醇單甲醚、丙二醇單乙醚、乙醯丙酮、環己酮、二丙酮醇、乙二醇單甲醚乙酸酯、乙二醇乙醚乙酸酯、乙二醇單異丙醚、乙二醇單丁醚乙酸酯、3-甲氧基丙醇、甲氧基甲氧基乙醇、二乙二醇單甲醚、二乙二醇單乙醚、二乙二醇二甲醚、二乙二醇二乙醚、丙二醇單甲醚乙酸酯、丙二醇單乙醚乙酸酯、3-甲氧基丙基乙酸酯、N,N-二甲基甲醯胺、二甲基亞碸、γ-丁內酯、乳酸甲酯、乳酸乙酯等。該等有機溶劑可以單獨使用或者混合使用。

本發明中，溶劑使用金屬含量較少的溶劑為較佳。溶劑的金屬含量例如係10質量ppb以下為較佳。根據需要亦可以使用質量ppt水準者，該種高純度溶劑例如由Toyo Gosei Co.,Ltd.提供（化學工業日報、2015年11月13日）。 作為從溶劑中去除金屬等雜質之方法，例如可列舉蒸餾（分子蒸餾或薄膜蒸餾等）或使用了過濾器之過濾。作為過濾中所使用之過濾器的過濾器孔徑，細孔尺寸10nm以下為較佳，5nm以下為更佳，3nm以下為進一步較佳。作為過濾器，聚四氟乙烯製、聚乙烯製或尼龍製的過濾器為較佳。 溶劑中可以含有異構體（原子數相同且結構不同的化合物）。並且，異構體可以僅含有1種，亦可以含有複數種。

溶劑的含量係組成物的固體成分濃度成為25～70質量%之量為較佳，組成物的固體成分濃度成為30～60質量%之量為更佳。

＜＜硬化性化合物＞＞ 本發明的組成物含有硬化性化合物為較佳。 硬化性化合物係能夠藉由自由基、酸、熱進行交聯（包含聚合及縮合）之化合物。本發明中所使用之硬化性化合物例如可列舉含有具有乙烯性不飽和鍵之基團之化合物、具有環氧基之化合物、具有羥甲基之化合物等，含有具有乙烯性不飽和鍵之基團之化合物為較佳。作為具有乙烯性不飽和鍵之基團，可列舉乙烯基、（甲基）烯丙基、（甲基）丙烯醯基等。 本發明中，硬化性化合物係自由基聚合性化合物為較佳。作為自由基聚合性化合物，可列舉含有具有乙烯性不飽和鍵之基團之化合物等。本發明的組成物可以含有後述之具有環氧基之化合物作為硬化性化合物。以下，沒有特別指定而稱為聚合性化合物時，係指自由基聚合性化合物。

硬化性化合物的含量相對於組成物的總固體成分係1～70質量%為較佳。下限係3質量%以上為較佳，5質量%以上為更佳，9質量%以上為特佳。上限係60質量%以下為較佳，50質量%以下為更佳，12質量%以下為特佳。若在該等範圍，則從圖案形狀、耐熱性、L*的觀點考慮為較佳。組成物中所使用之硬化性化合物可以僅為1種，亦可以為2種以上。當為2種以上時，合計量在上述範圍內為較佳。

當使用聚合性化合物作為硬化性化合物時，聚合性化合物的含量相對於組成物的總固體成分係1～70質量%為較佳。下限係3質量%以上為較佳，5質量%以上為更佳。上限係60質量%以下為較佳，50質量%以下為更佳。組成物中所使用之聚合性化合物可以僅為1種，亦可以為2種以上。當為2種以上時，合計量在上述範圍內為較佳。 並且，聚合性化合物的含量相對於硬化性化合物的總質量係10～100質量%為較佳，30～100質量%為更佳。

（聚合性化合物） 本發明的組成物中，自由基聚合性化合物的總質量中的、對波長589nm的光之折射率為1.55以下（較佳為1.52以下，更佳為1.5以下）的自由基聚合性化合物的含量係80質量%以上為較佳，85質量%以上為更佳，90質量%以上為特佳。

作為聚合性化合物，含有至少1個具有乙烯性不飽和鍵之基團之化合物為較佳，含有至少1個（較佳為2個以上）具有末端乙烯性不飽和鍵之基團之化合物為更佳。並且，聚合性化合物係含有1～8個具有乙烯性不飽和鍵之基團之化合物為較佳，含有2～6個具有乙烯性不飽和鍵之基團之化合物為更佳，含有3～4個具有乙烯性不飽和鍵之基團之化合物為進一步較佳。聚合性化合物係在上述範圍內含有具有乙烯性不飽和鍵之基團且在分子內具有Si原子之聚合性化合物為特佳。 具有乙烯性不飽和鍵之基團係（甲基）丙烯醯基、（甲基）丙烯醯氧基為較佳。並且，聚合性化合物係自由基聚合性化合物為較佳。

聚合性化合物可以係單體、聚合物中的任一形態，單體為較佳。單體類型的聚合性化合物中，分子量係100～3000為較佳。上限係2000以下為較佳，1500以下為進一步較佳。下限係150以上為較佳，250以上為進一步較佳。

聚合性化合物係1～8官能的（甲基）丙烯酸酯化合物為較佳，2～6官能的（甲基）丙烯酸酯化合物為更佳，3～4官能的（甲基）丙烯酸酯化合物為進一步較佳。依該態樣，能夠提高所得到之膜的耐溶劑性和與基材之黏附性。並且，聚合性化合物係6官能以上的（甲基）丙烯酸酯化合物亦較佳。

聚合性化合物係具有至少1個可加成聚合之伸乙基且在常壓下具有100℃以上的沸點之、含有具有乙烯性不飽和鍵之基團之化合物亦較佳。作為其例子，可列舉聚乙二醇單（甲基）丙烯酸酯、聚丙二醇單（甲基）丙烯酸酯、（甲基）丙烯酸苯氧基乙酯等單官能的丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯；聚乙二醇二（甲基）丙烯酸酯、三羥甲基乙烷三（甲基）丙烯酸酯、新戊二醇二（甲基）丙烯酸酯、季戊四醇三（甲基）丙烯酸酯、季戊四醇四（甲基）丙烯酸酯、二季戊四醇五（甲基）丙烯酸酯、二季戊四醇六（甲基）丙烯酸酯、己二醇（甲基）丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三（丙烯醯氧基丙基）醚、三（丙烯醯氧基乙基）异氰脲酸酯及該等的混合物，季戊四醇四（甲基）丙烯酸酯為較佳。

聚合性化合物亦可以較佳地使用下述式（MO-1）～（MO-5）所表示之聚合性化合物。另外，式中，當T為氧化烯基時，碳原子側的末端與R鍵結。

[化學式18]

上述式中，n為0～14的整數，m為1～8的整數。在同一分子內存在複數個之R、T各自可以相同，亦可以不同。 上述式（MO-1）～（MO-5）所表示之聚合性化合物各自中，複數個R中的至少1個表示-OC（=O）CH=CH₂ 或-OC（=O）C（CH₃ ）=CH₂ 所表示之基團。 作為上述式（MO-1）～（MO-5）所表示之聚合性化合物的具體例，可列舉日本特開2007-269779號公報的0248～0251段中所記載之化合物。 並且，日本特開平10-62986號公報中所記載之在多官能醇中加成環氧乙烷或環氧丙烷之後進行（甲基）丙烯酸酯化而得到之化合物亦可以用作聚合性化合物。

聚合性化合物係季戊四醇四丙烯酸酯（作為市售品為NK Ester A-TMMT；Shin-Nakamura Chemical Co.,Ltd.製）、二季戊四醇三丙烯酸酯（作為市售品為KAYARAD D-330；Nippon Kayaku Co.,Ltd.製）、二季戊四醇四丙烯酸酯（作為市售品為KAYARAD D-320；Nippon Kayaku Co.,Ltd.製）二季戊四醇五（甲基）丙烯酸酯（作為市售品為KAYARAD D-310；Nippon Kayaku Co.,Ltd.製）、二季戊四醇六（甲基）丙烯酸酯（作為市售品為KAYARAD DPHA；Nippon Kayaku Co.,Ltd.製）為較佳，從圖案形狀的觀點考慮，季戊四醇四丙烯酸酯為更佳。

聚合性化合物可以具有羧基、磺基、磷酸基等酸基。具有酸基之聚合性化合物係利用將多官能醇的一部分羥基進行（甲基）丙烯酸酯化並使酸酐與剩餘之羥基進行加成反應而製成羧基等的方法而得到。作為具有酸基之聚合性化合物，可列舉脂肪族聚羥基化合物與不飽和羧酸的酯等。具有酸基之聚合性化合物係使非芳香族羧酸酐與脂肪族聚羥基化合物的未反應的羥基進行反應而具有酸基之化合物為較佳，在該酯中，特佳為脂肪族聚羥基化合物為季戊四醇及二季戊四醇中的至少一方者。作為市售品，例如TOAGOSEI CO.,LTD.製的多元酸改質丙烯酸寡聚物可列舉ARONIX系列的M-305、M-510、M-520等。具有酸基之聚合性化合物的酸值係0.1～40mgKOH/g為較佳。下限係5mgKOH/g以上為較佳。上限係30mgKOH/g以下為較佳。

並且，關於聚合性化合物，具有己內酯結構之聚合性化合物亦係較佳態樣。作為具有己內酯結構之聚合性化合物，只要在分子內具有己內酯結構，則並沒有特別限定，例如可列舉藉由將三羥甲基乙烷、雙-三羥甲基乙烷、三羥甲基丙烷、雙-三羥甲基丙烷、季戊四醇、二季戊四醇、三季戊四醇、甘油、二甘油、三羥甲基三聚氰胺等多元醇與（甲基）丙烯酸及ε-己內酯進行酯化而得到之ε-己內酯改質多官能（甲基）丙烯酸酯。具有己內酯結構之聚合性化合物係下述式（Z-1）所表示之化合物為較佳。

[化學式19]

式（Z-1）中，6個R全部係式（Z-2）所表示之基團、或者6個R中1～5個係式（Z-2）所表示之基團，且剩餘係式（Z-3）所表示之基團。

[化學式20]

式（Z-2）中，R¹ 表示氫原子或甲基，m表示1或2的數，“*”表示鍵結鍵。

[化學式21]

式（Z-3）中，R¹ 表示氫原子或甲基，“*”表示鍵結鍵。

具有己內酯結構之聚合性化合物例如由Nippon Kayaku Co.,Ltd.作為KAYARAD DPCA系列而市售，可列舉DPCA-20（上述式（Z-1）～（Z-3）中，m=1，式（Z-2）所表示之基團的數量=2，R¹ 全部係氫原子之化合物）、DPCA-30（上述式（Z-1）～（Z-3）中，m=1，式（Z-2）所表示之基團的數量=3，R¹ 全部係氫原子之化合物）、DPCA-60（上述式（Z-1）～（Z-3）中，m=1，式（Z-2）所表示之基團的數量=6，R¹ 全部係氫原子之化合物）、DPCA-120（上述式（Z-1）～（Z-3）中，m=2，式（Z-2）所表示之基團的數量=6，R¹ 全部係氫原子之化合物）等。

聚合性化合物亦可以使用式（Z-4）或（Z-5）所表示之化合物。

[化學式22]

式（Z-4）及（Z-5）中，E各自獨立地表示-（（CH₂ ）_y CH₂ O）-或-（（CH₂ ）_y CH（CH₃ ）O）-，y各自獨立地表示0～10的整數，X各自獨立地表示（甲基）丙烯醯基、氫原子或羧基。 式（Z-4）中，（甲基）丙烯醯基的合計為3個或4個，m各自獨立地表示0～10的整數，各m的合計為0～40的整數。 式（Z-5）中，（甲基）丙烯醯基的合計為5個或6個，n各自獨立地表示0～10的整數，各n的合計為0～60的整數。

式（Z-4）中，m係0～6的整數為較佳，0～4的整數為更佳。 並且，各m的合計係2～40的整數為較佳，2～16的整數為更佳，4～8的整數為特佳。 式（Z-5）中，n係0～6的整數為較佳，0～4的整數為更佳。 並且，各n的合計係3～60的整數為較佳，3～24的整數為更佳，6～12的整數為特佳。 並且，式（Z-4）或式（Z-5）中的-（（CH₂ ）_y CH₂ O）-或-（（CH₂ ）_y CH（CH₃ ）O）-係氧原子側的末端與X鍵結之形態為較佳。

式（Z-4）或式（Z-5）所表示之化合物可以單獨使用1種，亦可以併用2種以上。尤其係式（Z-5）中6個X全部為丙烯醯基之形態為較佳。

並且，作為式（Z-4）或式（Z-5）所表示之化合物在聚合性化合物中之總含量係20質量%以上為較佳，50質量%以上為更佳。

式（Z-4）或式（Z-5）所表示之化合物能夠由作為先前公知的製程之如下製程來合成：將季戊四醇或二季戊四醇藉由環氧乙烷或環氧丙烷的開環加成反應而鍵結開環骨架之製程；及使例如（甲基）丙烯醯氯與開環骨架的末端羥基進行反應而導入（甲基）丙烯醯基之製程。各製程為周知之製程，本領域技術人員能夠容易合成式（Z-4）或式（Z-5）所表示之化合物。

在式（Z-4）或式（Z-5）所表示之化合物中，季戊四醇衍生物及二季戊四醇衍生物中的至少一方為更佳。 具體而言，可列舉下述式（a）～（f）所表示之化合物（以下，亦稱為“例示化合物（a）～（f）”。），其中，例示化合物（a）、（b）、（e）、（f）為較佳。

[化學式23]

[化學式24]

作為式（Z-4）、（Z-5）所表示之聚合性化合物的市售品，例如可列舉Sartomer公司製的具有4個伸乙氧基之4官能丙烯酸酯之SR-494、Nippon Kayaku Co.,Ltd.製的具有6個伸戊氧基之6官能丙烯酸酯之DPCA-60、具有3個異伸丁氧基之3官能丙烯酸酯之TPA-330等。

關於聚合性化合物，如日本特公昭48-41708號公報、日本特開昭51-37193號公報、日本特公平2-32293號公報、日本特公平2-16765號公報中所記載之胺基甲酸酯丙烯酸酯類、或日本特公昭58-49860號公報、日本特公昭56-17654號公報、日本特公昭62-39417號公報、日本特公昭62-39418號公報中所記載之具有環氧乙烷系骨架之胺基甲酸酯化合物類亦較佳。並且，日本特開昭63-277653號公報、日本特開昭63-260909號公報、日本特開平1-105238號公報中所記載之在分子內具有胺基結構或硫化物（sulfide）結構之加成聚合性化合物類亦較佳。 作為聚合性化合物的市售品，可列舉胺基甲酸酯寡聚物UAS-10、UAB-140（Sanyo Kokusaku Pulp Co.,Ltd.製）、U-4HA、U-6LPA、UA-32P、U-10HA、U-10PA、UA-122P、UA-1100H、UA-7200（Shin-Nakamura Chemical Co.,Ltd.製）、DPHA-40H（Nippon Kayaku Co.,Ltd.製）、UA-306H、UA-306T、UA-306I、AH-600、T-600、AI-600（KYOEISHA CHEMICAL Co.,Ltd.製）、UA-9050、UA-9048（BASF公司製）等。

並且，關於聚合性化合物，在分子內具有Si原子之聚合性化合物亦為較佳的態樣。尤其在本發明中，作為對波長589nm的光之折射率為1.5以下的自由基聚合性化合物，使用在分子內具有Si原子之聚合性化合物為較佳。使用包含對波長589nm的光之折射率為1.5以下的自由基聚合性化合物之組成物形成膜，並進行硬化而作為硬化膜，從而容易將後述硬化膜的粒子以外的成分的對波長589nm的光之折射率設為1.5以下。 作為在分子內具有Si原子之聚合性化合物的市售品，可列舉含有矽氧烷鍵之多官能丙烯酸酯之EBECRYL1360（DAICEL-ALLNEX LTD.製）、含有Si原子之多官能乙烯基化合物之VINYL TRIISOPROPENOXY SILANE（AZMAX Corp.製）等。

對於該等聚合性化合物，其結構、單獨使用或併用、添加量等使用方法的詳細內容可以根據組成物的最終性能設計任意地進行設定。例如，從靈敏度的觀點考慮，每1分子的具有乙烯性不飽和鍵之基團的含量較多的結構為較佳，在多數情況下，2官能以上為較佳。並且，從提高硬化膜的強度之觀點考慮，3官能以上的化合物為較佳，進而，藉由將官能數及聚合性基（例如丙烯酸酯、甲基丙烯酸酯、苯乙烯系化合物、乙烯醚系化合物）中的至少一方不同之化合物併用來調節靈敏度和強度雙方之方法亦有效。另外，將作為3官能以上的化合物之環氧乙烷鏈長不同之聚合性化合物併用亦較佳。依該態樣，能夠調節組成物的顯影性，可得到優異之圖案形成。並且，對於與組成物中所含之其他成分（例如，光聚合起始劑、樹脂等）之相溶性及分散性中的至少一方，聚合性化合物的選擇及使用方法中的至少一方亦係較佳的因素，例如藉由使用低純度化合物或併用2種以上，能夠提高相溶性等。

（具有環氧基之化合物） 本發明的組成物中亦可以使用具有環氧基之化合物作為硬化性化合物。依該態樣，能夠提高所得到之膜的耐溶劑性。作為具有環氧基之化合物，可列舉單官能或多官能縮水甘油醚化合物、或多官能脂肪族縮水甘油醚化合物等。並且，亦可以使用（甲基）丙烯酸縮水甘油酯或烯丙基縮水甘油醚等將環氧基作為縮水甘油基的一部分而具有之化合物、或具有脂環式環氧基之化合物。

具有環氧基之化合物可列舉在1個分子中具有1個以上環氧基之化合物。在1個分子中具有1～100個環氧基為較佳。上限例如既可以設為10個以下，亦可以設為5個以下。下限係2個以上為較佳。

具有環氧基之化合物中，環氧基當量（=具有環氧基之化合物的分子量/環氧基的數）係500g/當量以下為較佳，100～400g/當量為更佳，100～300g/當量為進一步較佳。

具有環氧基之化合物可以係低分子化合物（例如，分子量小於1000）、高分子化合物（macromolecule）（例如，分子量為1000以上，聚合物時重量平均分子量為1000以上）中的任一種。具有環氧基之化合物的重量平均分子量係200～100000為較佳，500～50000為更佳。重量平均分子量的上限係10000以下為較佳，5000以下為更佳，3000以下為進一步較佳。 從耐溶劑性的觀點考慮，具有環氧基之化合物係脂肪族環氧樹脂為較佳。

具有環氧基之化合物亦可以使用日本特開2013-011869號公報的段落號0034～0036、日本特開2014-043556號公報的段落號0147～0156、日本特開2014-089408號公報的段落號0085～0092中所記載之化合物。該等內容被併入本說明書中。關於市售品，例如作為雙酚A型環氧樹脂，為jER825、jER827、jER828、jER834、jER1001、jER1002、jER1003、jER1055、jER1007、jER1009、jER1010（以上為Mitsubishi Chemical Corporation製）、EPICLON860、EPICLON1050、EPICLON1051、EPICLON1055（以上為DIC Corporation製）等，作為雙酚F型環氧樹脂，為jER806、jER807、jER4004、jER4005、jER4007、jER4010（以上為Mitsubishi Chemical Corporation製）、EPICLON830、EPICLON835（以上為DIC Corporation製）、LCE-21、RE-602S（以上為Nippon Kayaku Co.,Ltd.製）等，作為苯酚酚醛清漆型環氧樹脂，為jER152、jER154、jER157S70、jER157S65（以上為Mitsubishi Chemical Corporation製）、EPICLON N-740、EPICLON N-770、EPICLON N-775（以上為DIC Corporation製）等，作為甲酚酚醛清漆型環氧樹脂，為EPICLON N-660、EPICLON N-665、EPICLON N-670、EPICLON N-673、EPICLON N-680、EPICLON N-690、EPICLON N-695（以上為DIC Corporation製）、EOCN-1020（以上為Nippon Kayaku Co.,Ltd.製）等，作為脂肪族環氧樹脂，為ADEKA RESIN EP-4080S、ADEKA RESIN EP-4085S、ADEKA RESIN EP-4088S（以上為ADEKA CORPORATION製）、CELLOXIDE 2021P、CELLOXIDE 2081、CELLOXIDE 2083、CELLOXIDE 2085、EHPE3150、EPOLEAD PB 3600、EPOLEAD PB 4700（以上為Daicel Chemical Industries， Ltd.製）、Denacol EX-212L、EX-214L、EX-216L、EX-321L、EX-850L（以上為Nagase Chemtex Corporation等。此外，可列舉ADEKA RESIN EP-4000S、ADEKA RESIN EP-4003S、ADEKA RESIN EP-4010S、ADEKA RESIN EP-4011S（以上為ADEKA CORPORATION製）、NC-2000、NC-3000、NC-7300、XD-1000、EPPN-501、EPPN-502（以上為ADEKA CORPORATION製）、jER1031S（Mitsubishi Chemical Corporation製）等。

具有環氧基之化合物亦能夠使用日本特開2009-265518號公報的0045段等中所記載之化合物，該內容被併入本說明書中。

＜＜聚合起始劑＞＞ 本發明的組成物含有聚合起始劑為較佳。 從耐溶劑性、著色性的觀點考慮，聚合起始劑的含量相對於組成物的總固體成分係0.1～50質量%為較佳，更佳為0.5～30質量%，進一步較佳為1～10質量%。組成物可以僅含有1種聚合起始劑，亦可以含有2種以上。當含有2種以上時，其合計量在上述範圍內為較佳。 作為聚合起始劑，光聚合起始劑或熱聚合起始劑為較佳，光聚合起始劑為較佳。作為熱聚合起始劑並沒有特別限制，可以使用公知的化合物。

（光聚合起始劑） 本發明的組成物可以含有光聚合起始劑。尤其，當組成物含有聚合性化合物時，含有光聚合起始劑為較佳。作為光聚合起始劑並沒有特別限制，可以從公知的光聚合起始劑中適當地選擇。例如，對從紫外線區域至可見區域的光線具有感光性者為較佳。光聚合起始劑係光自由基聚合起始劑為較佳。並且，光聚合起始劑含有至少1種在約300nm～800nm（330nm～500nm為更佳。）範圍內具有至少約50莫耳的吸光係數之化合物為較佳。

作為光聚合起始劑，例如可列舉鹵化烴衍生物（例如，具有三嗪骨架者、具有噁二唑骨架者等）、醯基氧化膦等醯基膦化合物、六芳基雙咪唑、肟衍生物等肟化合物、有機過氧化物、硫化合物、酮化合物、芳香族鎓鹽、酮肟醚、胺基苯乙酮化合物、羥基苯乙酮等。作為具有三嗪骨架之鹵化烴化合物，例如可列舉若林等著、Bull.Chem.Soc.Japan，42，2924（1969）中所記載之化合物、英國專利1388492號說明書中所記載之化合物、日本特開昭53-133428號公報中所記載之化合物、德國專利3337024號說明書中所記載之化合物、F.C.Schaefer等著、J.Org.Chem.；29，1527（1964）中所記載之化合物、日本特開昭62-58241號公報中所記載之化合物、日本特開平5-281728號公報中所記載之化合物、日本特開平5-34920號公報中所記載之化合物、美國專利第4212976號說明書中所記載之化合物等。

並且，從曝光靈敏度的觀點考慮，係選自包括三鹵甲基三嗪化合物、苄基二甲基縮酮化合物、α-羥基酮化合物、α-胺基酮化合物、醯基膦化合物、氧化膦化合物、茂金屬化合物、肟化合物、三烯丙基咪唑二聚體、鎓化合物、苯并噻唑化合物、二苯甲酮化合物、苯乙酮化合物及其衍生物、環戊二烯-苯-鐵錯合物及其鹽、鹵甲基噁二唑化合物、3-芳基取代之香豆素化合物之組群中之化合物為較佳。作為三鹵甲基三嗪化合物亦即光聚合起始劑，能夠使用三氯甲基三嗪化合物亦即三嗪PP（BASF公司製）。

作為光聚合起始劑，亦可以較佳地使用羥基苯乙酮化合物、胺基苯乙酮化合物及醯基膦化合物。更具體而言，例如亦可以使用日本特開平10-291969號公報中所記載之胺基苯乙酮系起始劑、日本專利第4225898號公報中所記載之醯基膦系起始劑。作為羥基苯乙酮系起始劑，可以使用IRGACURE 184、DAROCUR 1173、IRGACURE 500、IRGACURE 2959、IRGACURE 127（商品名稱：均為BASF公司製）。作為胺基苯乙酮系起始劑，可以使用市售品之IRGACURE 907、IRGACURE 369及IRGACURE 379、IRGACURE 379EG（商品名稱：均為BASF公司製）。胺基苯乙酮系起始劑亦可以使用吸收波長與365nm或405nm等長波光源匹配之日本特開2009-191179號公報中所記載之化合物。 作為醯基膦系起始劑，可以使用市售品之IRGACURE 819或IRGACURE TPO（商品名稱：均為BASF公司製）。 從著色性的觀點考慮，胺基苯乙酮系起始劑或醯基膦系起始劑為較佳，從著色性及黏附性的觀點考慮，醯基膦系起始劑為更佳。

光聚合起始劑亦可以較佳地使用肟化合物。作為肟化合物，肟酯化合物為更佳。作為肟化合物的具體例，可以使用日本特開2001-233842號公報中所記載之化合物、日本特開2000-80068號公報中所記載之化合物、日本特開2006-342166號公報中所記載之化合物、日本特開2016-21012號公報中所記載之化合物。

本發明中，作為可較佳地使用之肟化合物，例如可列舉3-苯甲醯氧基亞胺基丁烷-2-酮、3-乙醯氧基亞胺基丁烷-2-酮、3-丙醯氧基亞胺基丁烷-2-酮、2-乙醯氧基亞胺基戊烷-3-酮、2-乙醯氧基亞胺基-1-苯基丙烷-1-酮、2-苯甲醯氧基亞胺基-1-苯基丙烷-1-酮、3-（4-甲苯磺醯氧基）亞胺基丁烷-2-酮及2-乙氧基羰氧基亞胺基-1-苯基丙烷-1-酮等。並且，亦可列舉J.C.S.Perkin II（1979年）pp.1653-1660、J.C.S.Perkin II（1979年）pp.156-162、光聚合物科學與技術雜誌（Journal of Photopolymer Science and Technology）（1995年）pp.202-232、日本特開2000-66385號公報中所記載之化合物、日本特開2000-80068號公報、日本特表2004-534797號公報、日本特開2006-342166號公報的各公報中所記載之化合物等。市售品中，亦可以較佳地使用IRGACURE OXE01（BASF公司製）、IRGACURE OXE02（BASF公司製）。並且，還可以使用TR-PBG-304（CHANGZHOU TRONLY NEW ELECTRONIC MATERIALS CO.,LTD.製）、ADEKA ARKLS NCI-930、ADEKA POTOMER N-1919（以上、ADEKA CORPORATION製）。

並且，作為上述以外的肟化合物，可以使用在咔唑N位上連接有肟之日本特表2009-519904號公報中所記載之化合物、在二苯甲酮部位導入有雜取代基之美國專利第7626957號公報中所記載之化合物、在色素部位導入有硝基之日本特開2010-15025號公報及美國專利公開2009/292039號中所記載之化合物、國際公開專利2009-131189號公報中所記載之酮肟化合物、在同一分子內含有三嗪骨架和肟骨架之美國專利第7556910號公報中所記載之化合物、在405nm具有極大吸收且對g射線光源具有良好的靈敏度之日本特開2009-221114號公報中所記載之化合物、日本特開2014-137466號公報的段落號0076～0079中所記載之化合物等。 較佳地，例如可以參閱日本特開2013-29760號公報的0274～0275段，其內容被併入本說明書中。 具體而言，作為肟化合物，下述式（OX-1）所表示之化合物為較佳。肟化合物可以是肟的N-O鍵為（E）體的肟化合物，亦可以是肟的N-O鍵為（Z）體的肟化合物，亦可以是（E）體與（Z）體的混合物。

[化學式25]

式（OX-1）中，R及B各自獨立地表示一價的取代基，A表示二價的有機基，Ar表示芳基。 式（OX-1）中，作為R所表示之一價的取代基，一價的非金屬原子團為較佳。 作為一價的非金屬原子團，可列舉烷基、芳基、醯基、烷氧基羰基、芳氧基羰基、雜環基、烷硫基羰基、芳硫基羰基等。並且，該等基團可以具有1個以上的取代基。並且，前述取代基可以進一步經其他取代基取代。 作為取代基，可列舉鹵素原子、芳氧基、烷氧基羰基或芳氧基羰基、醯氧基、醯基、烷基、芳基等。 式（OX-1）中，作為B所表示之一價的取代基，芳基、雜環基、芳基羰基或雜環羰基為較佳。該等基團可以具有1個以上的取代基。作為取代基，可以例示出前述取代基。 式（OX-1）中，作為A所表示之二價的有機基，碳數1～12的伸烷基、伸環烷基、伸炔基為較佳。該等基團可以具有1個以上的取代基。作為取代基，可以例示出前述取代基。

本發明中，作為光聚合起始劑，亦可以使用具有茀環之肟化合物。作為具有茀環之肟化合物的具體例，可列舉日本特開2014-137466號公報中所記載之化合物。其內容被併入本說明書中。

本發明中，作為光聚合起始劑，亦可以使用具有氟原子之肟化合物。作為具有氟原子之肟化合物的具體例，可列舉日本特開2010-262028號公報中所記載之化合物、日本特表2014-500852號公報中所記載之化合物24、36～40、日本特開2013-164471號公報中所記載之化合物（C-3）等。其內容被併入本說明書中。

本發明中，作為光聚合起始劑，可以使用具有硝基之肟化合物。具有硝基之肟化合物設為二聚體亦較佳。作為具有硝基之肟化合物的具體例，可列舉日本特開2013-114249號公報的0031～0047段、日本特開2014-137466號公報的0008～0012、0070～0079段中所記載之化合物、日本專利第4223071號公報的0007～0025段中所記載之化合物、ADEKA ARKLS NCI-831（ADEKA CORPORATION製）。

以下示出本發明中較佳地使用之肟化合物的具體例，但本發明並不限定於該等。

[化學式26]

[化學式27]

肟化合物係在350nm～500nm的波長區域具有極大吸收波長之化合物為較佳，在360nm～480nm的波長區域具有吸收波長之化合物為更佳，365nm及405nm的吸光度較高的化合物為特佳。

從靈敏度的觀點考慮，肟化合物在365nm或405nm下之莫耳吸光係數係1,000～300,000為較佳，2,000～300,000為更佳，5,000～200,000為特佳。化合物的莫耳吸光係數的測定中可以使用公知的方法，具體而言，藉由紫外可見分光光度計（Varian公司製，Cary-5分光光度計（spectrophotometer）），使用乙酸乙酯以0.01g/L的濃度進行測定為較佳。

本發明中，2種以上光聚合起始劑亦較佳。例如，將在甲醇中之365nm的吸光係數為1.0×10³ mL/gcm以上的光聚合起始劑和在甲醇中之365nm的吸光係數為1.0×10² mL/gcm以下且254nm的吸光係數為1.0×10³ mL/gcm以上的光聚合起始劑併用亦較佳。作為具體例，可列舉胺基苯乙酮化合物和肟化合物的併用。依該態樣，即使在低溫條件下，亦能够製造硬化性優異之膜。例如，在圖案形成製程中，在顯影製程前及顯影製程後這2個階段對組成物進行曝光，藉此能夠藉由最初的曝光使組成物適度硬化，並藉由接下來的曝光使組成物整體幾乎硬化。因此，即使在低溫條件下，亦能夠提高組成物的硬化性。

＜＜著色防止劑＞＞ 本發明的組成物含有著色防止劑為較佳。 本說明書中所記載之著色防止劑亦可以用作抗氧化劑，抗氧化劑亦可以用作著色防止劑。 作為著色防止劑，可列舉酚化合物、亞磷酸酯化合物、硫醚化合物等，分子量500以上的酚化合物、分子量500以上的亞磷酸酯化合物或分子量500以上的硫醚化合物為更佳。並且，著色防止劑係酚化合物為較佳，分子量500以上的酚化合物為更佳。

作為酚化合物，可以使用作為酚系著色防止劑而已知之任意的酚化合物。作為較佳的酚化合物，可列舉受阻酚化合物。在與酚性羥基相鄰之部位（邻位）具有取代基之化合物為特佳。作為前述取代基，碳數1～22的經取代或未經取代之烷基為較佳，甲基、乙基、丙基、異丙基、丁基、異丁基、第三丁基、戊基、異戊基、第三戊基、己基、辛基、異辛基、2-乙基己基為更佳。並且，在同一分子內具有酚基和亞磷酸酯基之化合物亦較佳。

作為含有酚系羥基之化合物類，尤其可以較佳地使用多取代之酚系化合物。 多取代酚系化合物中，從對因穩定的苯氧基自由基的生成而引起之所捕獲的過氧化自由基之反應性考慮，有其取代位置及結構不同之3種：下述式（A）受阻類型、式（B）半受阻（semi-hindered）類型及式（C）低受阻（less-hindered）類型。 [化學式28]

顯現著色防止功能之結構部分亦即上述式（A）～（C）中，R為取代基，可列舉氫原子、鹵素原子、可以具有取代基之胺基、可以具有取代基之烷基、可以具有取代基之芳基、可以具有取代基之烷氧基、可以具有取代基之芳氧基、可以具有取代基之烷基胺基、可以具有取代基之芳基胺基、可以具有取代基之烷基磺醯基、可以具有取代基之芳基磺醯基等，其中可以具有取代基之胺基、可以具有取代基之烷基、可以具有取代基之芳基、可以具有取代基之烷氧基、可以具有取代基之芳氧基、可以具有取代基之烷基胺基、可以具有取代基之芳基胺基為較佳。

進一步較佳的形態係上述式（A）～（C）所表示之顯現著色防止功能之結構在同一分子內存在複數個之複合系著色防止劑，具體而言，係上述式（A）～（C）所表示之顯現著色防止功能之結構在同一分子內存在2～4個之化合物為較佳。在該等之中，從著色性的觀點考慮，式（B）半受阻類型為更佳。 作為含有酚系羥基之化合物，例如可列舉選自包括對甲氧基苯酚、二-第三丁基-對甲酚、五倍子酚、第三丁基鄰苯二酚、4,4-硫代雙（3-甲基-6-第三丁基苯酚）、2,2’-亞甲基雙（4-甲基-6-第三丁基苯酚）、酚醛樹脂類及甲酚醛樹脂類之組群中之化合物等。 可作為市售品而獲得之代表例，作為（A）有Sumilizer BHT（Sumitomo Chemical Co.,Ltd.製）、Irganox 1010、1222（BASF公司製）、Adekastab AO-20、AO-50、AO-60（ADEKA製）等，作為（B）有Sumilizer BBM-S（Sumitomo Chemical Co.,Ltd.製）、Irganox 245（BASF公司製）、Adekastab AO-80（ADEKA製）等，作為（C）有Adekastab AO-30、AO-40（ADEKA製）等。

作為亞磷酸酯化合物，可列舉選自包括三[2-[[2,4,8,10-四（1,1-二甲基乙基）二苯并[d,f][1,3,2]二氧雜膦雜環庚二烯（dioxaphosphepin）-6-基]氧基]乙基]胺、三[2-[（4,6,9,11-四-第三丁基二苯并[d,f][1,3,2]二氧雜膦雜環庚二烯-2-基）氧基]乙基]胺及亞磷酸乙基雙（2,4-二-第三丁基-6-甲基苯基）之組群中之至少1種化合物。

作為硫醚化合物，例如係硫代二丙酸二月桂基酯、硫代二丙酸二二肉豆蔻基酯、硫代二丙酸二硬脂基酯等硫代二丙酸二烷基酯類及季戊四醇四（β-烷基硫代丙酸）酯類；季戊四醇四（3-月桂基硫代丙酸酯）、3,3’-硫代二丙烯酸二月桂基酯、3,3’-硫代二丙酸二肉豆蔻基酯、3,3’-硫代二丙酸二硬脂基酯等；四[亞甲基-3-（月桂基硫代）丙酸酯]甲烷、雙（甲基-4-[3-正烷基（C12/C14）硫代丙醯氧基]5-第三丁基苯基）硫醚、3,3’-硫代二丙酸雙（十三烷基）酯、3,3’-硫代二丙酸二月桂基酯、3,3’-硫代二丙酸二肉豆蔻基酯、3,3’-硫代二丙酸二硬脂基酯、硫代二丙酸月桂基酯/硬脂基酯、4,4’-硫代雙（6-第三丁基-間甲酚）、2,2’-硫代雙（6-第三丁基-對甲酚）、二硬脂基二硫醚為較佳。 作為硫醚化合物，可作為市售品而獲得之代表例可列舉Adekastab AO-412S（CAS：29598-76-3、ADEKA CORPORATION製）、Adekastab AO-503（CAS：10595-72-9、ADEKA CORPORATION製）、KEMINOX PLS（CAS：29598-76-3、CHEMIPRO KASEI CO.,LTD.製）。 著色防止劑可作為市售品而容易獲得，除了可作為市售品而獲得之代表例的上述者以外，還可列舉Adekastab AO-50F、Adekastab AO-60G、Adekastab AO-330、Adekastab PEP-36A（ADEKA CORPORATION製）等。

從著色性及耐溶劑性的觀點考慮，著色防止劑的含量相對於組成物的總固體成分係0.01～20質量%為較佳，0.1～15質量%為更佳，0.3～5質量%為特佳。著色防止劑可以僅為1種，亦可以為2種以上。當為2種以上時，合計量在上述範圍內為較佳。

＜＜紫外線吸收劑＞＞ 本發明的組成物可以含有紫外線吸收劑。紫外線吸收劑係共軛二烯系化合物為較佳，下述式（I）所表示之化合物為更佳。 [化學式29]

式（I）中，R¹ 及R² 各自獨立地表示氫原子、碳原子數1～20的烷基或碳原子數6～20的芳基，R¹ 與R² 可以分別相同亦可以不同，但不同時表示氫原子。 R¹ 及R² 可以與R¹ 及R² 所鍵結之氮原子一同形成環狀胺基。作為環狀胺基，例如可列舉哌啶基、嗎啉基、吡咯啶基、六氫氮雜卓（hexahydro azepino）基、哌嗪基等。 R¹ 及R² 各自獨立地係碳原子數1～20的烷基為較佳，碳原子數1～10的烷基為更佳，碳原子數1～5的烷基為進一步較佳。 R³ 及R⁴ 表示拉電子基團。在此，拉電子基團係哈米特（Hammett）取代基常數σ_p 值（以下，簡稱為“σ_p 值”。）為0.20以上且1.0以下的拉電子基團。較佳係σ_p 值為0.30以上且0.8以下的拉電子基團。R³ 及R⁴ 可以相互鍵結而形成環。R³ 及R⁴ 係醯基、胺甲醯基、烷氧基羰基、芳氧基羰基、氰基、硝基、烷基磺醯基、芳基磺醯基、磺醯氧基、胺磺醯基為較佳，醯基、胺甲醯基、烷氧基羰基、芳氧基羰基、氰基、烷基磺醯基、芳基磺醯基、磺醯氧基、胺磺醯基為更佳。 上述R¹ 、R² 、R³ 及R⁴ 中的至少1個可以係從經由連接基而與乙烯基鍵結之單體衍生之聚合物的形態。亦可以係與其他單體之共聚物。

式（I）所表示之紫外線吸收劑的取代基的說明可以參閱WO2009/123109A的0024～0033段（對應之美國專利申請公開第2011/0039195號說明書的＜0040＞～＜0059＞）的記載，該等內容被併入本說明書中。式（I）所表示之化合物的較佳的具體例可以參閱WO2009/123109A的0034～0037段（對應之美國專利申請公開第2011/0039195號說明書的＜0060＞）的例示化合物（1）～（14）的記載，該等內容被併入本說明書中。 作為式（I）所表示之紫外線吸收劑的具體例，可列舉下述化合物（後述之實施例中使用之紫外線吸收劑I-1）。 [化學式30]

從圖案形狀及耐溶劑性的觀點考慮，紫外線吸收劑的含量相對於組成物的總固體成分係0.1～10質量%為較佳，0.1～7質量%為更佳，0.1～5質量%為進一步較佳，0.1～3質量%為特佳。並且，本發明中，紫外線吸收劑可以僅為1種，亦可以為2種以上。當為2種以上時，合計量在上述範圍內為較佳。

＜＜黏附劑＞＞ 本發明的組成物還含有黏附劑為較佳。作為黏附劑並沒有特別限制，可以使用公知的黏附劑。作為黏附劑，例如可列舉矽烷偶合劑。依該態樣，能夠使膜與基材的黏附性變得良好。 本發明中，“矽烷偶合劑”係指具有水解性基和其以外的官能基之矽烷化合物。並且，“水解性基”係指與矽原子直接連接且能夠藉由水解反應及縮合反應中的至少一方產生矽氧烷鍵之取代基。作為水解性基，例如可列舉鹵素原子、烷氧基、醯氧基等，烷氧基為較佳。亦即，矽烷偶合劑係具有烷氧基矽基之化合物為較佳。並且，水解性基以外的官能基在與樹脂之間相互作用或鍵結形成而具有顯示親和性之基團為較佳。例如可列舉（甲基）丙烯醯基、苯基、巰基、環氧基、氧雜環丁基，（甲基）丙烯醯基及環氧基為較佳。亦即，矽烷偶合劑係具有烷氧基矽基和（甲基）丙烯醯基及環氧基中的至少一方之化合物為較佳。 烷氧基矽基中之烷氧基的碳數係1～5為較佳，1～3為更佳，1或2為特佳。在同一分子內具有2個以上烷氧基矽基為較佳，具有2～3個為進一步較佳。

作為矽烷偶合劑的具體例，例如可列舉3-甲基丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷、3-甲基丙烯醯氧基丙基三乙氧基矽烷、3-丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷、3-丙烯醯氧基丙基三乙氧基矽烷、3-巰基丙基三甲氧基矽烷、3-胺基丙基三乙氧基矽烷、苯基三甲氧基矽烷、甲基三甲氧基矽烷、二甲基二甲氧基矽烷、甲基三乙氧基矽烷、二甲基二乙氧基矽烷、苯基三乙氧基矽烷、正丙基三甲氧基矽烷、正丙基三乙氧基矽烷、己基三甲氧基矽烷、己基三乙氧基矽烷、辛基三乙氧基矽烷、癸基三甲氧基矽烷、1,6-雙（三甲氧基矽基）己烷、三氟丙基三甲氧基矽烷、六甲基二矽氮烷、乙烯基三甲氧基矽烷、乙烯基三乙氧基矽烷、2-（3,4-環氧基環己基）乙基三甲氧基矽烷、3-縮水甘油氧基丙基甲基二甲氧基矽烷、3-縮水甘油氧基丙基三甲氧基矽烷、3-縮水甘油氧基丙基甲基二乙氧基矽烷、3-縮水甘油氧基丙基三乙氧基矽烷、對苯乙烯基三甲氧基矽烷、3-甲基丙烯醯氧基丙基甲基二甲氧基矽烷、3-甲基丙烯醯氧基丙基甲基二乙氧基矽烷、N-2-（胺基甲基乙基）-3-胺基丙基甲基二甲氧基矽烷、N-2-（胺基乙基）-3-胺基丙基甲基二甲氧基矽烷、N-2-（胺基乙基）-3-胺基丙基三甲氧基矽烷、3-胺基丙基三甲氧基矽烷、3-三乙氧基矽基-N-（1,3-二甲基-亞丁基）丙胺、N-苯基-3-胺基丙基三甲氧基矽烷、N-（乙烯基苄基）-2-胺基乙基-3-胺基丙基三甲氧基矽烷的鹽酸鹽、三-（三甲氧基矽基丙基）异氰脲酸酯、3-脲丙基三乙氧基矽烷、3-巰基丙基甲基二甲氧基矽烷、雙（三乙氧基矽基丙基）四硫化物、3-异氰酸酯丙基三乙氧基矽烷等。並且，可以使用上述以外的烷氧基寡聚物。並且，亦可以使用下述化合物。 [化學式31]

作為市售品，可列舉Shin-Etsu Silicone Co.,Ltd.製的KBM-13、KBM-22、KBM-103、KBE-13、KBE-22、KBE-103、KBM-3033、KBE-3033、KBM-3063、KBM-3066、KBM-3086、KBE-3063、KBE-3083、KBM-3103、KBM-3066、KBM-7103、SZ-31、KPN-3504、KBM-1003、KBE-1003、KBM-303、KBM-402、KBM-403、KBE-402、KBE-403、KBM-1403、KBM-502、KBM-503、KBE-502、KBE-503、KBM-5103、KBM-602、KBM-603、KBM-903、KBE-903、KBE-9103、KBM-573、KBM-575、KBM-9659、KBE-585、KBM-802、KBM-803、KBE-846、KBE-9007、X-40-1053、X-41-1059A、X-41-1056、X-41-1805、X-41-1818、X-41-1810、X-40-2651、X-40-2655A、KR-513、KC-89S、KR-500、KR-516、KR-517、X-40-9296、X-40-9225、X-40-9246、X-40-9250、KR-401N、X-40-9227、X-40-9247、KR-510、KR-9218、KR-213、X-40-2308、X-40-9238等。並且，矽烷偶合劑可列舉日本特開2009-288703號公報的段落號0018～0036中所記載之化合物、日本特開2009-242604號公報的0056～0066段中所記載之化合物，其內容被併入本說明書中。 並且，具有烷氧基矽基之化合物亦可以使用在側鏈具有烷氧基矽基之聚合物。 作為矽烷偶合劑，還可以參閱日本特開2009-288703號公報的＜0011＞～＜0037＞中所記載之特定矽烷化合物而進行使用，其內容被併入本說明書中。

矽烷偶合劑中，在分子內包含矽原子、氮原子及聚合性基之矽烷化合物為較佳。 黏附劑的含量相對於組成物的總固體成分係0.01～10質量%為較佳，0.1～7質量%為更佳，1～5質量%為特佳。若在該等範圍，則從黏附性和經過一個月後的濃度不均的觀點考慮為較佳。並且，本發明中，組成物所含有之黏附劑可以僅為1種，亦可以為2種以上。當為2種以上時，合計量在上述範圍內為較佳。

＜＜鏈轉移劑＞＞ 本發明的組成物含有鏈轉移劑為較佳。依該態樣，在圖案形成時的曝光中，能夠藉由曝光來促進膜表面（圖案表面）的硬化。因此，能夠抑制曝光時的膜厚度的減少等，容易形成矩形性及黏附性更優異之圖案。

作為鏈轉移劑，可列舉N,N-二烷基胺基苯甲酸烷基酯、或硫醇化合物等，硫醇化合物為較佳。硫醇化合物係在分子內具有2個以上（較佳為2～8個，更佳為3～6個）巰基之化合物為較佳。作為硫醇化合物的具體例，可列舉2-巰基苯并噻唑、2-巰基苯并噁唑、2-巰基苯并咪唑、N-苯基巰基苯并咪唑、1,3,5-三（3-巰基丁氧基乙基）-1,3,5-三嗪-2,4,6（1H,3H,5H）-三酮等具有雜環之硫醇化合物、季戊四醇四（3-巰基丁酸酯）、1,4-雙（3-巰基丁醯氧基）丁烷等脂肪族系硫醇化合物等。 並且，作為鏈轉移劑的市售品，可列舉PEMP（SC Organic Chemical Co.,Ltd.製，硫醇化合物）、Sanceler M（SANSHIN CHEMICAL INDUSTRY CO.,LTD.製，硫醇化合物）、Karenz MT BD1（SHOWA DENKO K.K.製，硫醇化合物）等。 並且，使用下述化合物亦較佳。 [化學式32]

鏈轉移劑的含量相對於組成物的總固體成分係0.2～5.0質量%為較佳，0.4～3.0質量%為更佳。 鏈轉移劑的含量相對於聚合性化合物100質量份係1～40質量份為較佳，2～20質量份為更佳。 鏈轉移劑可以僅為1種，亦可以為2種以上。當為2種以上時，合計量在上述範圍內為較佳。

＜＜增感劑＞＞ 本發明的組成物可以以提高光聚合起始劑的自由基產生效率和感光波長的長波長化為目的而含有增感劑。作為增感劑，係藉由電子移動機構或能量移動機構使光聚合起始劑增感者為較佳。增感劑可列舉在300nm～450nm的波長區域具有吸收波長者。具體而言，可以參閱日本特開2010-106268號公報的段落0231～0253（對應之美國專利申請公開第2011/0124824號說明書的＜0256＞～＜0273＞）的說明，該等內容被併入本說明書中。

增感劑的含量相對於組成物的總固體成分係0.1～20質量%為較佳，0.5～15質量%為更佳。增感劑可以僅為1種，亦可以為2種以上。當為2種以上時，合計量在上述範圍內為較佳。

＜＜共增感劑＞＞ 本發明的組成物還含有共增感劑亦較佳。共增感劑具有進一步提高光聚合起始劑或增感劑對活性放射線之靈敏度或者抑制氧的聚合性化合物的聚合阻礙等作用。作為共增感劑，具體而言，可以參閱日本特開2010-106268號公報的段落0254～0257（對應之美國專利申請公開第2011/0124824號說明書的＜0277＞～＜0279＞）的說明，該等內容被併入本說明書中。

從提高聚合成長速度和硬化速度之觀點考慮，共增感劑的含量相對於組成物的總固體成分係0.1～30質量%為較佳，1～25質量%為更佳，1.5～20質量%為進一步較佳。共增感劑可以僅為1種，亦可以為2種以上。當為2種以上時，合計量在上述範圍內為較佳。

＜＜聚合抑制劑＞＞ 為了在製造或保存組成物時阻止聚合性化合物等的不必要的聚合，本發明的組成物中添加聚合抑制劑為較佳。 作為聚合抑制劑，可列舉： 酚系含羥基化合物（較佳為選自包括氫醌、對甲氧基苯酚、二-第三丁基-對甲酚、五倍子酚、第三丁基鄰苯二酚、苯醌、4,4-硫代雙（3-甲基-6-第三丁基苯酚）、2,2’-亞甲基雙（4-甲基-6-第三丁基苯酚）、2,6-二-第三丁基-4-甲基苯酚（BHT）、酚醛樹脂類及甲酚樹脂類之組群中之化合物）； N-氧化物類（較佳為選自包括5,5-二甲基-1-二氫吡咯N-氧化物、4-甲基嗎啉N-氧化物、吡啶N-氧化物、4-硝基吡啶N-氧化物、3-羥基吡啶N-氧化物、吡啶甲酸N-氧化物、菸鹼酸N-氧化物及異菸鹼酸N-氧化物之組群中之化合物）； 哌啶1-氧基自由基（free radical）化合物類（較佳為選自包括哌啶1-氧基自由基、2,2,6,6-四甲基哌啶1-氧基自由基、4-氧代-2,2,6,6-四甲基哌啶1-氧基自由基、4-羥基-2,2,6,6-四甲基哌啶1-氧基自由基、4-乙醯胺-2,2,6,6-四甲基哌啶1-氧基自由基、4-順丁烯二醯亞胺-2,2,6,6-四甲基哌啶1-氧基自由基及4-膦醯氧基-2,2,6,6-四甲基哌啶1-氧基自由基之組群中之化合物）； 吡咯啶1-氧基自由基化合物類（較佳為3-carboxy proxyl free radical（3-羧基-2,2,5,5-四甲基吡咯啶1-氧基自由基））； N-亞硝基苯基羥基胺類（較佳為選自包括N-亞硝基苯基羥基胺第一鈰鹽及N-亞硝基苯基羥基胺鋁鹽之化合物組群中之化合物）； 重氮化合物類（較佳為選自包括4-重氮苯基二甲胺的硫酸氫鹽、4-重氮二苯胺的四氟硼酸鹽及3-甲氧基-4-重氮二苯胺的六氟磷酸鹽之組群中之化合物）； 陽離子染料類； 含硫醚基化合物類； 含硝基化合物類； FeCl₃ 、CuCl₂ 等過渡金屬化合物類。並且，在該等化合物類中，亦可以為在同一分子內存在複數個苯酚骨架或含磷骨架等顯現聚合抑制功能之結構之複合系化合物。例如，還較佳地使用日本特開平10-46035號公報中所記載之化合物等。

作為聚合抑制劑的具體例，可列舉日本特開2015-34961號公報的0211～0223段中所記載之化合物，其內容被併入本說明書中。

聚合抑制劑的含量相對於光聚合起始劑100質量份係0.01質量份～10質量份為較佳，0.01～8質量份為更佳，0.01～5質量份為最佳。藉由設為上述範圍，可充分抑制非圖像部中之硬化反應及促進圖像部中之硬化反應，圖案形狀及靈敏度變得良好。聚合抑制劑可以僅為1種，亦可以為2種以上。當為2種以上時，合計量在上述範圍內為較佳。

＜＜界面活性劑＞＞ 從進一步提高塗佈適性之觀點考慮，本發明的組成物可以含有各種界面活性劑。作為界面活性劑，可以使用氟系界面活性劑、非離子系界面活性劑、陽離子系界面活性劑、陰離子系界面活性劑、矽酮系界面活性劑等各種界面活性劑。

藉由在上述組成物中含有氟系界面活性劑，製備成塗佈液時的液體特性（尤其流動性）進一步得到提高，能夠進一步改善塗佈厚度的均勻性和省液性。亦即，當使用適用了含有氟系界面活性劑的組成物之塗佈液形成膜時，被塗佈面與塗佈液的界面張力下降而改善對被塗佈面之潤濕性，對被塗佈面之塗佈適性得到提高。因此，能夠更適當地形成厚度不均勻較小的均勻厚度的膜。

氟系界面活性劑中的氟含有率係3～40質量%為較佳，更佳為5～30質量%，特佳為7～25質量%。氟含有率在該範圍內之氟系界面活性劑在塗佈膜的厚度的均勻性和省液性的觀點上有效，組成物中之溶解性亦良好。

作為氟系界面活性劑，具體而言，可列舉日本特開2014-41318號公報的0060～0064段（對應之國際公開2014/17669號小冊子的0060～0064段）等中所記載之界面活性劑、日本特開2011-132503號公報的0117～0132段中所記載之界面活性劑，該等內容被併入本說明書中。作為氟系界面活性劑的市售品，例如可列舉Megafac F171、Megafac F172、Megafac F173、Megafac F176、Megafac F177、Megafac F141、Megafac F142、Megafac F143、Megafac F144、Megafac R30、Megafac F437、Megafac F475、Megafac F479、Megafac F482、Megafac F554、Megafac F780（以上為DIC Corporation製）、Fluorad FC430、Fluorad FC431、Fluorad FC171（以上為Sumitomo 3M Limited製）、Surflon S-382、Surflon SC-101、Surflon SC-103、Surflon SC-104、Surflon SC-105、Surflon SC-1068、Surflon SC-381、Surflon SC-383、Surflon S-393、Surflon KH-40（以上為ASAHI GLASS CO.,LTD.製）、PolyFox PF636、PF656、PF6320、PF6520、PF7002（OMNOVA Solutions Inc.製）等。

氟系界面活性劑還可以使用嵌段聚合物。例如可列舉日本特開2011-89090號公報中所記載之化合物。氟系界面活性劑還可以較佳地使用含氟高分子化合物，該含氟高分子化合物含有：源自具有氟原子之（甲基）丙烯酸酯化合物之重複單元；及源自具有2個以上（較佳為5個以上）伸烷氧基（較佳為伸乙氧基、伸丙氧基）之（甲基）丙烯酸酯化合物之重複單元。作為本發明中所使用之氟系界面活性劑，還例示出下述化合物。 [化學式33]

上述化合物的重量平均分子量較佳為3，000～50，000，例如為14，000。

並且，氟系界面活性劑還可以使用側鏈上具備具有乙烯性不飽和鍵之基團之含氟聚合物。作為具體例，可列舉日本特開2010-164965號公報0050～0090段及0289～0295段中所記載之化合物，例如DIC Corporation製的Megafac RS-101、RS-102、RS-718K、RS-72-K等。氟系界面活性劑還可以使用日本特開2015-117327號公報的0015～0158段中所記載之化合物。

作為非離子系界面活性劑，可列舉甘油、三羥甲基丙烷、三羥甲基乙烷及該等的乙氧基化物及丙氧基化物（例如，甘油丙氧基化物、甘油乙氧基化物等）、聚氧乙烯月桂基醚、聚氧乙烯硬脂基醚、聚氧乙烯油基醚、聚氧乙烯辛基苯基醚、聚氧乙烯壬基苯基醚、聚乙二醇二月桂酸酯、聚乙二醇二硬脂酸酯、脫水山梨糖醇脂肪酸酯、Pluronic L10、L31、L61、L62、10R5、17R2、25R2（BASF公司製）、Tetronic 304、701、704、901、904、150R1（BASF公司製）、Solsperse 20000（Japan Lubrizol Corporation製）、NCW-101、NCW-1001、NCW-1002（Wako Pure Chemical Industries， Ltd.製）、PIONIN D-6112、D-6112-W、D-6315（Takemoto Oil & Fat Co.,Ltd.製）、OLFINE E1010、Surfynol 104、400、440（Nissin Chemical Co.,Ltd.製）等。

作為陽離子系界面活性劑，可列舉有機矽氧烷聚合物KP341（Shin-Etsu Chemical Co.,Ltd.製）、（甲基）丙烯酸系（共）聚合物Polyflow No.75、No.90、No.95（KYOEISHA CHEMICAL Co.,Ltd.製）、W001（Yusho Co.,Ltd.製）等。

作為陰離子系界面活性劑，可列舉W004、W005、W017（Yusho Co.,Ltd.製）、Sundet BL（Sanyo Chemical Industries, Ltd.製）等。

作為矽酮系界面活性劑，例如可列舉Toray Silicone DC3PA、Toray Silicone SH7PA、Toray Silicone DC11PA、Toray Silicone SH21PA、Toray Silicone SH28PA、Toray Silicone SH29PA、Toray Silicone SH30PA、Toray Silicone SH8400（以上為Dow Corning Toray Co.,Ltd.製）、TSF-4440、TSF-4300、TSF-4445、TSF-4460、TSF-4452（以上為Momentive Performance Materials Inc.製）、KP341、KF6001、KF6002（以上為Shin-Etsu Silicone Co.,Ltd.製）、BYK307、BYK323、BYK330（以上為BYK-Chemie Corporation製）等。

界面活性劑可以僅使用1種，亦可以將2種以上組合使用。 界面活性劑的含量相對於組成物的總固體成分係0.001～2.0質量%為較佳，0.005～1.0質量%為更佳。

＜＜其他添加劑＞＞ 為了改善膜或硬化膜的物理性質，可以對組成物加入可塑劑或感脂化劑等公知的添加劑。作為可塑劑，例如可列舉鄰苯二甲酸二辛酯、鄰苯二甲酸雙十二烷基酯、三乙二醇二辛酸酯、二甲基二醇鄰苯二甲酸酯、磷酸三甲苯酯、己二酸二辛酯、癸二酸二丁酯、甘油三乙醯酯等。可塑劑的含量相對於聚合性化合物和樹脂的合計質量係10質量%以下為較佳。

＜組成物的製備方法＞ 上述組成物能夠混合前述成分而進行製備。 在製備組成物時，可以將各成分統括配合，亦可以在溶劑中進行各成分的溶解及分散中的至少一方之後逐次配合。並且，配合時的投入順序和作業條件不受特別限制。 並且，作為使顏料分散之程序，可列舉使用壓縮、壓榨、衝擊、剪斷、氣蝕等作為用於顏料的分散中之機械力之程序。作為該等程序的具體例，可列舉珠磨機（beads mill）、混砂機（sand mill）、輥軋機（roll mill）、高速葉輪、磨砂機（sand grinder）、流動噴射混合機（flow jet mixer）、高壓濕式微粒化、超音波分散等。並且，可以較佳地使用“分散技術大全，JOHOKIKO CO.,LTD.發行，2005年7月15日”或“以懸浮（固/液分散系）為中心之分散技術與工業應用的實際 綜合資料集，Keiei Kaihatsu Center Publishing Department發行，1978年10月10日”中所記載之程序及分散機。

當製備組成物時，以去除異物和減少缺陷等為目的，利用過濾器過濾為較佳。作為過濾器，只要是一直以來用於過濾用途等者，就可以無特別限定地進行使用。例如，可列舉使用了聚四氟乙烯（PTFE）等氟系樹脂、尼龍（例如尼龍-6、尼龍-6,6）等聚醯胺系樹脂、聚乙烯、聚丙烯（PP）等聚烯烴樹脂（包括高密度、超高分子量）等之過濾器。在該等材料之中，聚丙烯（包括高密度聚丙烯）及尼龍為較佳。 過濾器的孔徑適當地係0.01～7.0μm左右，較佳為0.01～3.0μm左右，進一步較佳為0.05～0.5μm左右。藉由設為該範圍，能夠可靠地去除在後道製程中阻礙均勻及平滑的組成物的製備之微細異物。並且，使用纖維狀過濾器亦較佳，作為過濾器，例如可列舉聚丙烯纖維、尼龍纖維、玻璃纖維等，具體而言，可以使用ROKI TECHNO CO.,LTD製的SBP類型系列（SBP008等）、TPR類型系列（TPR002、TPR005等）、SHPX類型系列（SHPX003等）的過濾器滤筒。

在使用過濾器時，亦可以組合不同之過濾器。此時，利用第1過濾器之過濾可以僅進行1次，亦可以進行2次以上。 並且，亦可以組合在上述範圍內不同孔徑的第1過濾器。此處的孔徑可以參閱過濾器製造商的標稱值。作為市售的過濾器，例如可以從由日本PALL Corporation（DFA4201NXEY等）、Advantec Toyo Kaisha， Ltd.、Nihon Entegris K.K.（原Nihon Mykrolis K.K.）或KITZ MICROFILTER CORPORATION等提供直各種過濾器中進行選擇。 第2過濾器可以使用由與上述第1過濾器相同的材料等形成者。 例如，可以僅在分散液中進行利用第1過濾器之過濾，在混合其他成分之後進行利用第2過濾器之過濾。

[膜] 本發明的膜係使用本發明的組成物而形成之膜。

＜L*＞ 本發明的膜的CIE1976的L*a*b*色彩坐標系統中之L*係35～85為較佳。膜的CIE1976的L*a*b*色彩坐標系統中之L*的上限係小於80為更佳，75以下為特佳，70以下為更特佳。膜的CIE1976的L*a*b*色彩坐標系統中之L*的下限係40以上為更佳，50以上為特佳。

＜a*及b*＞ 本發明的膜的CIE1976的L*a*b*色彩坐標系統中之a*及b*係-30～30為較佳，-20～20為更佳，-10～10為特佳。

＜厚度＞ 本發明的膜的厚度係10μm以下為較佳，3μm以下為更佳，1μm以下為特佳。厚度的下限值係0.5μm以上為較佳。

＜平均透射率＞ 本發明的膜的厚度3μm在波長400～700nm範圍內之平均透射率係1%以上為較佳，10%以上為更佳，30%以上為特佳。波長400～700nm範圍內之平均透射率的上限值係50%以下為較佳。

＜用途＞ 本發明的膜可以組裝於固體攝像元件等各種感測器和圖像顯示裝置（例如，液晶顯示裝置和有機電致發光（有機EL）顯示裝置等）中進行使用。並且，亦可以用作光學構件的外觀調整用途的材料。 本發明的膜例如亦可以組裝於各種感測器和圖像顯示裝置等中，用作將光適當遮擋或透射之構件和散射光之構件。並且，還可以用於發光二極體（LED）反射用途、有機EL光散射層用途、導電材料、絕緣材料、太陽能電池用材料等。

[硬化膜] 本發明的硬化膜係將本發明的膜進行硬化而得到之硬化膜。硬化膜係從本發明的膜中去除溶劑為較佳。並且，硬化膜係將本發明的膜的聚合性化合物聚合後硬化而得到為較佳。 本發明的硬化膜在硬化膜的狀態下於CIE1976的L*a*b*色彩坐標系統中之L*為35～85為較佳。本發明的硬化膜在硬化膜的狀態下於CIE1976的L*a*b*色彩坐標系統中之L*的上限係小於80為更佳，75以下為特佳，70以下為更特佳。本發明的硬化膜在硬化膜的狀態下於CIE1976的L*a*b*色彩坐標系統中之L*的下限係40以上為更佳，50以上為特佳。 本發明的硬化膜包含粒子和樹脂，粒子至少包含對波長589nm的光之折射率為2.1以上之粒子，樹脂至少包含對波長589nm的光之折射率為1.5以下之樹脂為較佳。本發明的硬化膜中的對波長589nm的光之折射率的粒子的較佳的折射率的範圍與本發明的組成物中的對波長589nm的光之折射率的粒子的較佳的折射率的範圍相同。並且，本發明的硬化膜中的對波長589nm的光之折射率的樹脂的較佳的折射率的範圍與本發明的組成物中的對波長589nm的光之折射率的樹脂的較佳的折射率的範圍相同。 本發明的硬化膜包含粒子和樹脂，粒子的對波長589nm的光之折射率與樹脂的對波長589nm的光之折射率之差係1.22以上為較佳，1.27以上為更佳。若在該範圍，則容易提高硬化膜的CIE1976的L*a*b*色彩座標系統中的L*。 將本發明的硬化膜的組成分類為粒子和粒子以外的成分時，硬化膜的粒子以外的成分係對波長589nm的光之折射率（與粒子以外的成分的折射率的平均值含義相同）係1.5以下為較佳，1.00～1.45為更佳，1.10～1.40為進一步較佳。

[光學感測器] 本發明的光學感測器係具有本發明的硬化膜之光學感測器。作為光學感測器，可列舉固體攝像元件等。

[膜的製造方法] 本發明的膜的製造方法包括如下製程：將本發明的組成物經由具有圖案之遮罩進行曝光之製程；及對經曝光之組成物進行顯影而形成圖案之製程。

在將本發明的組成物經由具有圖案之遮罩進行曝光之製程之前，經將本發明的組成物適用於基材等而形成膜之製程、對膜進行乾燥之製程為較佳。關於膜厚、層疊結構等，可以根據目的適當地選擇。

作為形成膜之製程中的組成物適用方法，可以使用公知的方法。例如可列舉滴加法（滴鑄（drop cast））；狹縫塗佈法；噴霧法；輥塗法；旋轉塗佈法（旋塗）；流延塗佈法；狹縫及旋塗法；預濕法（prewet method）（例如，日本特開2009-145395號公報中所記載之方法）；噴墨（例如按需（on demand）方式、壓電方式、熱（thermal）方式）、噴嘴噴射等噴出系印刷、柔版印刷、網版印刷、凹版印刷、逆轉偏移印刷、金屬遮罩印刷法等各種印刷法；使用金屬模具等之轉印法；納米壓印法等。作為使用了噴墨之適用方法，只要能夠噴出組成物，則並沒有特別限定，例如可列舉“能夠擴展使用之噴墨-從專利角度來看之無限可能性-，2005年2月發行，S. B. RESEARCH CO.,LTD.”所示之專利公報中所記載之方法（尤其是第115頁～第133頁）和日本特開2003-262716號公報、日本特開2003-185831號公報、日本特開2003-261827號公報、日本特開2012-126830號公報、日本特開2006-169325號公報等中將噴出之組成物替換成本發明的組成物之方法。從塗佈適性的觀點考慮，利用旋塗法之塗佈以300～6000rpm的範圍旋塗為較佳，以400～3000rpm的範圍旋塗為進一步較佳。並且，旋塗時之基材溫度係10～100℃為較佳，20～70℃為更佳。若在上述範圍，則容易製造塗佈均勻性優異之膜。

在滴加法（滴鑄）的情況下，為了以既定的膜厚得到均勻的膜，在基材上形成以光阻劑作為隔壁之組成物的滴加區域為較佳。藉由控制組成物的滴加量及固體成分濃度、滴加區域的面積，可以得到所希望之膜厚。作為乾燥後的膜的厚度並沒有特別限制，可以根據目的適當地選擇。

作為基材，並沒有特別限定，可以根據用途適當地選擇。例如，可列舉液晶顯示裝置等中所使用之無鹼玻璃、鈉鈣玻璃、Pyrex（登錄商標）玻璃、石英玻璃、及在該等之上附著有透明導電膜之基材、固體攝像元件等中所使用之光電轉換元件基材、矽基材等、互補性金屬氧化膜半導體（CMOS）等。並且，為了改善與上部層之黏附、防止物質的擴散或將表面平坦化，在該等基材上可以根據需要設置底塗層。

在乾燥膜之製程中，作為乾燥條件，依各成分、溶劑的種類、使用比例等而不同。例如，在60～150℃的溫度下30秒鐘～15分鐘為較佳。

作為將本發明的組成物經由具有圖案之遮罩進行曝光之製程和對經曝光之組成物進行顯影而形成圖案之製程，例如可列舉包括如下製程之方法等：將本發明的組成物適用於基材上而形成膜狀的組成物層之製程；將組成物層曝光成圖案形狀之製程；顯影去除未曝光部而形成圖案之製程。作為形成圖案之製程，既可以利用光微影法形成圖案，亦可以利用乾式蝕刻法形成圖案。

在曝光製程中，將形成於基材上之膜曝光成圖案形狀為較佳。例如，使用步進機等曝光裝置，對基材上的膜經由具有既定的遮罩圖案之遮罩進行曝光，由此能夠進行圖案曝光。藉此，能夠將曝光部分進行硬化。 作為能夠在曝光時使用之放射線（光），較佳地使用g射線、i射線等紫外線（特佳為i射線）。照射量（曝光量）例如係0.03～2.5J/cm² 為較佳，0.05～1.0J/cm² 為更佳。 關於曝光時之氧濃度，可以適當地選擇，除了在大氣下進行以外，例如可以在氧濃度為19體積%以下的低氧氣氛下（例如，15體積%以下，進一步為5體積%以下，尤其為實質上無氧）下進行曝光，亦可以在氧濃度超過21體積%之高氧氣氛下（例如，22體積%以上，進一步為30體積%以上，尤其為50體積%以上）下進行曝光。並且，曝光照度可以適當地設定，通常可以從1000W/m² ～100000W/m² （例如，5000W/m² 以上，進一步為15000W/m² 以上，尤其為35000W/m² 以上）的範圍選擇。亦可以將氧濃度和曝光照度條件適當地進行組合，例如可以設為氧濃度10體積%且照度10000W/m² 、氧濃度35體積%且照度為20000W/m² 等。

接著，顯影去除未曝光部而形成圖案為較佳。未曝光部的顯影去除能夠使用顯影液來進行。藉此，曝光製程中之未曝光部的組成物層溶出於顯影液中，只有光硬化之部分殘留。作為顯影液，不會對基底的電路等產生損傷之鹼顯影液為較佳。作為顯影液，可以使用本說明書中所記載之溶劑進行顯影。顯影液的溫度例如係20～30℃為較佳。顯影時間係20～180秒鐘為較佳，20～90秒鐘為更佳。

作為鹼顯影液中所使用之鹼劑，例如可列舉氨水、乙胺、二乙胺、二甲基乙醇胺、四甲基氫氧化銨、四乙基氫氧化銨、四丙基氫氧化銨、四丁基氫氧化銨、苄基三甲基氫氧化銨、膽鹼、吡咯、哌啶、1,8-二氮雜雙環[5,4,0]-7-十一碳烯、二甲基雙（2-羥基乙基）氫氧化銨等有機鹼性化合物。將該等鹼劑以濃度成為0.001～10質量%、較佳為0.01～1質量%之方式用純水稀釋而成之鹼性水溶液較佳地用作顯影液。 並且，顯影液中亦可以使用無機鹼。作為無機鹼，例如係氫氧化鈉、氫氧化鉀、碳酸鈉、碳酸氫鈉、矽酸鈉、偏矽酸鈉等為較佳。 並且，顯影液中亦可以使用界面活性劑。作為界面活性劑的例子，可列舉在上述組成物中說明之界面活性劑，非離子系界面活性劑為較佳。 另外，當使用該種包括鹼性水溶液之顯影液時，一般在顯影後用純水清洗（沖洗）為較佳。

亦可以包含其他製程。作為其他製程並沒有特別限制，可以根據目的適當地選擇。例如，可列舉基材的表面處理製程、預加熱製程（預烘烤製程）、後加熱製程（後烘烤製程）等。顯影後還可以進行加熱及曝光中的至少一方。依該態樣，能夠進一步進行膜的硬化而製造更牢固硬化之膜。

預加熱製程及後加熱製程中之加熱溫度係80～200℃為較佳。上限係150℃以下為更佳。下限係90℃以上為更佳。並且，預加熱製程及後加熱製程中之加熱時間係30～240秒鐘為較佳。上限係180秒鐘以下為更佳。下限係60秒鐘以上為更佳。

作為加熱處理的方法，可列舉加熱所形成之上述膜的整個面之方法。藉由加熱處理，圖案的膜強度得到提高。加熱溫度係100～260℃為較佳。下限係120℃以上為更佳，160℃以上為特佳。上限係240℃以下為更佳，220℃以下為特佳。若加熱溫度在上述範圍，則容易得到強度優異之膜。加熱時間係1～180分鐘為較佳。下限係3分鐘以上為更佳。上限係120分鐘以下為更佳。作為加熱裝置並沒有特別限制，可以從公知的裝置中根據目的適當地選擇，例如可列舉乾燥烘箱、加熱板、紅外線加熱器等。 [實施例]

以下，利用實施例對本發明進行具體說明，但本發明並不限定於該等實施例。另外，只要沒有特別指定，“份”及“%”為質量基準。 黏度係使用1°34’×R24作為E型黏度計（TOKI SANGYO CO.,LTD.製RE85L）亦即錐型旋轉計（corn roter）在轉速5rpm的條件下進行測定。另外，在前述條件下無法測定時，適當地變更轉速後進行測定。

＜重量平均分子量的測定＞ 樹脂的重量平均分子量利用以下方法進行測定。 管柱的種類：將TOSOH TSKgel Super HZM-H、TOSOH TSKgel Super HZ4000及TOSOH TSKgel Super HZ2000連接而成之管柱 展開溶劑：四氫呋喃 管柱溫度：40℃ 流量（樣品注入量）：1.0μL（樣品濃度：0.1質量%） 裝置名稱：TOSOH CORPORATION製 HLC-8220GPC 檢測器：RI（折射率）檢測器 校準曲線基础樹脂（base resin）：聚苯乙烯

＜酸值的測定方法＞ 酸值係表示中和每1g固體成分的酸性成分所需之氫氧化鉀的質量者。將測定樣品溶解於四氫呋喃/水=9/1（質量比）混合溶劑中，並使用電位差滴定裝置（商品名稱：AT-510，KYOTO ELECTRONICS MANUFACTURING CO.,LTD.製），在25℃下將所得到之溶液在0.1mol/L氫氧化鈉水溶液中中和滴定。將滴定pH曲線的拐點設為滴定終點，利用下式計算出酸值。 A=56.11×Vs×0.5×f/w A：酸值（mgKOH/g） Vs：滴定所需之0.1mol/L氫氧化鈉水溶液的使用量（mL） f：0.1mol/L氫氧化鈉水溶液的滴定量（titer） w：測定樣品質量（g）（固體成分換算）

＜胺值的測定＞ 胺值係以與每1g固體成分的鹼性成分當量的氫氧化鉀（KOH）的質量表示者。將測定樣品溶解於乙酸中，並使用電位差滴定裝置（商品名稱：AT-510，KYOTO ELECTRONICS MANUFACTURING CO.,LTD.製），在25℃下將所得到之溶液在0.1mol/L過氯酸/乙酸溶液中中和滴定。將滴定pH曲線的拐點設為滴定終點，利用下式計算出胺值。 B=56.11×Vs×0.1×f/w B：胺值（mgKOH/g） Vs：滴定所需之0.1mol/L過氯酸/乙酸溶液的使用量（mL） f：0.1mol/L過氯酸/乙酸溶液的滴定量 w：測定樣品的質量（g）（固體成分換算）

＜粒子的平均一次粒徑的測定＞ 粉體粒子的一次粒徑係藉由利用透射型電子顯微鏡（TEM）進行觀察並觀測粒子未凝聚之部分而求出。並且，關於粒子的粒度分佈，使用透射型電子顯微鏡，對作為一次粒子之粉體粒子拍攝透射型電子顯微鏡照片之後，使用該照片並利用圖像處理裝置測定出粒度分佈。關於粒子的平均一次粒徑，依由粒度分佈計算出之個數基準的算術平均直徑而設為平均一次粒徑。作為透射型電子顯微鏡，使用了Hitachi， Ltd.製電子顯微鏡（H-7000），作為圖像處理裝置，使用了NIRECO CORPORATION製Luzex AP。

[實施例1～44、比較例1～3] ＜分散液的製造＞ 對於下述組成的混合液，使用KOTOBUKI KOGYOU.CO.,LTD.製ULTRA APEX MILL作為循環型分散裝置（珠磨機），以如下方式進行分散處理而製造出分散液。 ＜＜混合液的組成＞＞ 下述表中所記載之粒子：30質量份 下述表中所記載之分散劑：下述表中所記載之量 溶劑：丙二醇-1-單甲醚-2-乙酸酯（PGMEA）：下述表中所記載之量

並且，在以下條件下運行循環式分散裝置。 ・珠徑：直徑0.2mm ・·珠子填充率：65體積% ・圓周速度：6m/秒 ・泵供給量：10.8kg/小時 ・冷却水：自來水 ・珠磨機環狀通路內容積：0.15L ・分散處理之混合液量：0.65kg

在分散開始後，以30分鐘間隔進行了粒子的平均粒徑的測定。粒子的平均粒徑隨著分散時間而減小，但其變化量逐漸減少。在粒度分佈中之d50（積算值50%）的變化量消失之時點，結束分散。 將所得到之分散液2～19的組成示於下述表。

[表5]

（粒子） 作為 B-2～B-13，使用了以下表所示之粒子。 [表6]

粒子的折射率利用以下方法進行測定。 首先，使用已知折射率之分散劑和PGMEA進行分散。然後，將所製作之分散液和已知折射率之樹脂以粒子在固體成分中的濃度分別成為10質量%、20質量%、30質量%、40質量%之方式混合而製作出4種塗佈液。將該等塗佈液以300nm於Si晶圓上進行製膜之後，使用橢圓偏光計（Lambda Ace RE-3300（商品名），Dainippon Screen Mfg. Co.,Ltd.）測定所得到之膜的折射率。然後，標繪粒子濃度和折射率並進行外插，導出粒子的折射率。

（分散劑） F-1：Solsperse 36000，Japan Lubrizol Corporation製，折射率1.52。 F-2：Solsperse 46000，Japan Lubrizol Corporation製，折射率1.52。 F-3：下述結構的樹脂（Mw=20000，折射率1.51）。各重複單元中併記之數值表示各重複單元的含量〔質量比〕。側鏈的重複部位中併記之數值表示重複部位的重複數量。 F-4：下述結構的樹脂（Mw=22900，折射率1.51）。各重複單元中併記之數值表示各重複單元的含量〔質量比〕。側鏈的重複部位中併記之數值表示重複部位的重複數量。 F-5：聚矽氧烷樹脂系分散劑亦即X-22-3701E（具有酸性吸附基之聚烷基矽氧烷），Shin-Etsu Silicone製，折射率1.43。 [化學式34]

＜組成物的製備＞ 混合下述表中所記載之原料，製備出組成物。 [表7]

[表8]

[表9]

[表10]

＜＜原料＞＞ 上述表中所記載之原料為如下。 （分散液） 分散液2～19：於上述製造之分散液2～19。

（樹脂） A-1：作為前述氟系樹脂1之氟系樹脂（酸值114.1mgKOH/g，MW=10000，下述結構）。 [化學式35]

A-2：作為前述具體例53之聚矽氧烷系樹脂（Mw=10000）。參閱WO2014/126013A的＜0117＞的合成例11及＜0107＞的合成例1，按照以下步驟進行了合成。該公報的內容被併入本說明書中。 在500mL的茄形燒瓶中裝入下述材料，一邊在室溫下撹拌一邊歷經30分鐘滴加了將2g的磷酸溶解於54g的水中而成之水溶液。然後，在40℃下攪拌30分鐘之後，在70℃下攪拌30分鐘。最後在110℃下加熱3小時，結束反應。溶劑利用蒸發器來去除。 -材料- 二甲氧基二甲基矽烷 75質量份（62.6莫耳%） 3-丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷 42質量份（17.9莫耳%） 3-三甲氧基矽基丙基琥珀酸酐 39質量份（15莫耳%） 3-縮水甘油氧基丙基三甲氧基矽烷 12質量份（4.5莫耳%） PGMEA 109質量份

A-3：作為前述具體例54之聚矽氧烷系樹脂（Mw=10000）。將材料變更為如下，除此之外，以與A-2相同的方法進行合成。 -材料- 二甲氧基二甲基矽烷 84質量份（70莫耳%） 3-丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷 47質量份（20莫耳%） 3-三甲氧基矽基丙基琥珀酸酐 13質量份（5莫耳%） 3-縮水甘油氧基丙基三甲氧基矽烷 14質量份（5莫耳%） PGMEA 102質量份

A-4：作為前述具體例55之聚矽氧烷系樹脂（Mw=10000）。將材料變更為如下，除此之外，以與A-2相同的方法進行合成。 -材料- 二甲氧基二甲基矽烷 80質量份（66.3莫耳%） 3-丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷 44質量份（19莫耳%） 3-三甲氧基矽基丙基琥珀酸酐 26質量份（10莫耳%） 3-縮水甘油氧基丙基三甲氧基矽烷 13質量份（4.7莫耳%） PGMEA 106質量份

A-5：作為前述具體例56之聚矽氧烷系樹脂（Mw=10000）。將材料變更為如下，除此之外，以與A-2相同的方法進行合成。 -材料- 二甲氧基二甲基矽烷 71質量份（59莫耳%） 3-丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷 39質量份（16.8莫耳%） 3-三甲氧基矽基丙基琥珀酸酐 52質量份（20莫耳%） 3-縮水甘油氧基丙基三甲氧基矽烷 12質量份（4.2莫耳%） PGMEA 113質量份

A-6：作為前述具體例57之聚矽氧烷系樹脂（Mw=10000）。將材料變更為如下，除此之外，以與A-2相同的方法進行合成。 -材料- 二甲氧基二甲基矽烷 66質量份（55.3莫耳%） 3-丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷 37質量份（15.8莫耳%） 3-三甲氧基矽基丙基琥珀酸酐 66質量份（25莫耳%） 3-縮水甘油氧基丙基三甲氧基矽烷 11質量份（3.9莫耳%） PGMEA 117質量份

A-7：作為前述具體例58之聚矽氧烷系樹脂（Mw=10000）。將材料變更為如下，除此之外，以與A-2相同的方法進行合成。 -材料- 二甲氧基二甲基矽烷 41質量份（80.0莫耳%） 3-三甲氧基矽基丙基琥珀酸酐 36質量份（15.0莫耳%） 3-縮水甘油氧基丙基三甲氧基矽烷 16質量份（5.0莫耳%） PGMEA 129.93質量份

A-8：作為前述具體例59之聚矽氧烷系樹脂（Mw=10000）。將材料變更為如下，除此之外，以與A-2相同的方式進行合成。 -材料- 二甲氧基二甲基矽烷 34質量份（55.0莫耳%） 3-丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷 44質量份（20.0莫耳%） 3-三甲氧基矽基丙基琥珀酸酐 29質量份（15.0莫耳%） 3-縮水甘油氧基丙基三甲氧基矽烷 10質量份（5.0莫耳%） 四乙氧基矽烷 10質量份（5.0莫耳%） PGMEA 136.72質量份

A-10：下述結構的甲基丙烯酸系樹脂（酸值79.3mgKOH/g，Mw=17000，FUJIKURA KASEI CO.,LTD.製）。各重複單元中併記之數值表示各重複單元的含量〔質量比〕。 [化學式36]

利用本說明書中所記載之方法，在未硬化的狀態下測定各樹脂的折射率。

（具有乙烯性不飽和鍵之聚合性化合物） D-1：多官能丙烯酸酯、NK ESTER A-TMMT（Shin-Nakamura Chemical Co.,Ltd.製，折射率1.51） D-2：含有Si原子的多官能乙烯基化合物，VINYLTRIISOPROPENOXYSILANE（AZMAX CORPORATION製，折射率1.44）

（聚合起始劑） E-1：作為三鹵甲基三嗪化合物（三氯甲基三嗪化合物）之光聚合起始劑，三嗪PP（BASF公司製） E-2：肟酯系光聚合起始劑，IRGACURE OXE01（BASF公司製）

（溶劑） PGMEA：丙二醇-1-單甲醚-2-乙酸酯

（著色防止劑） G-1：硫醚系著色防止劑，Adekastab AO-412S（ADEKA CORPORATION製），下述結構。 G-2：酚系著色防止劑，Adekastab AO-80（ADEKA CORPORATION製），下述結構。 [化學式37]

（具有環氧基之化合物） H-1：EHPE3150（Daicel Chemical Industries, Ltd.製）

（紫外線吸收劑） I-1：日本特開2009-217221號公報的化合物III，下述結構。 [化學式38]

（黏附劑） J-1：日本特開2009-288703號公報的化合物C，下述結構。 [化學式39]

[評價] ＜L*＞ 使用旋塗機，將上述中所得到之各組成物以乾燥後的膜厚成為3.0μm之方式塗佈於帶有底塗層（FUJIFILM Electronic Materials Co.,Ltd.製CT-4000L；膜厚0.1μm）之8英寸（1英寸為2.54cm）玻璃晶圓上，並使用110℃的加熱板進行了120秒鐘加熱處理（預烘烤）。 接著，使用i射線步進機曝光裝置FPA-3000i5+（Canon Co.,Ltd.製），將365nm的波長光以1000mJ/cm² 經由具有2cm×2cm的圖案之遮罩曝光。 然後，將形成有經曝光之塗佈膜之玻璃晶圓載置於旋轉噴淋顯影機（spin shower developing device）（DW-30型，Chemitronics Co.,Ltd.製）的水平旋轉台上，並使用四甲基氫氧化銨（TMAH）的0.3質量%水溶液，在23℃下進行60秒鐘浸沒顯影，在玻璃晶圓上形成了白色圖案。 將形成有白色圖案之玻璃晶圓以真空卡盤方式固定於水平旋轉台，藉由旋轉裝置將玻璃晶圓一邊以轉速50rpm旋轉，一邊從其旋轉中心的上方由噴出噴嘴以噴淋狀供給純水而進行沖洗處理，然後噴霧乾燥。本說明書中，L*係在膜中所含之溶劑為1質量%以下之狀態下進行測定。 使用分光測光器 X-rite528（商品名，X-rite Inc.製），將測定條件設為D65光源，將觀測視野設為2°，白色基準使用X-rite528（商品名，X-rite Inc.製）所附帶之校正基準板的白色片痕（white patch），測定出所得到之白色圖案。以以下基準評價CIE1976的L*a*b*色彩坐標系統中之L*值。若為A、B或C的評價，則判斷為實用上沒有問題。A或B的評價為較佳，A的評價為更佳。將所獲得之結果記載於下述表。 A：形成厚度3.0μm的膜時之CIE1976的L*a*b*色彩座標系統中的L*為50以上且75以下。 B：形成厚度3.0μm的膜時之CIE1976的L*a*b*色彩座標系統中的L*為40以上且小於50或大於75且80以下。 C：形成厚度3.0μm的膜時之CIE1976的L*a*b*色彩座標系統中的L*為35以上且小於40或大於80且85以下。 D：形成厚度3.0μm的膜時之CIE1976的L*a*b*色彩座標系統中的L*為20以上且小於35或大於85且90以下。 E：形成厚度3.0μm的膜時之CIE1976的L*a*b*色彩座標系統中的L*為小於20或大於90。 另外，使用各組成物形成厚度3.0μm的膜時之CIE1976的L*a*b*色彩座標系統中的a*及b*在使用下述以外的實施例的組成物時係-10以上且10以下，使用實施例22、29、30的組成物時係-20以上且小於-10或大於10且20以下，使用實施例21～24的組成物時係-30以上且小於-20或大於20且30以下。

＜經過一個月後的濃度不均＞ 使用上述中獲得之各組成物在常溫（23℃）條件下經過一個月。使用經過一個月後的各組成物，以與L*的測定方法同樣地製作白色圖案。之後，測定白色圖案的面內的L*的最大值與最小值之差並以以下基準進行評價。若為A、B或C的評價，則判斷為實用上沒有問題。A或B的評價為較佳，A的評價為更佳。將所獲得之結果記載於下述表。 A：L*的最大值與最小值之差小於1.0。 B：L*的最大值與最小值之差為1.0以上且小於1.5。 C：L*的最大值與最小值之差為1.5以上且小於2.0。 D：L*的最大值與最小值之差為2.0以上且小於5.0。 E：L*的最大值與最小值之差為5.0以上。

＜塗佈適性＞ 將上述中獲得之各組成物在恆溫烘箱中在50℃下靜置12小時。利用Mikasa Co.,Ltd製狹縫旋轉塗佈機MS-B100，以300rpm且5秒鐘、以主轉速且20秒鐘的條件，將升溫至50℃之組成物塗佈於４英寸晶圓上，製造膜厚3.0μm的膜。關於此時的主轉速，如下進行分類，作為塗佈適性的評價。A、B、C或D的評價為較佳，A、B或C的評價為更佳，A或B的評價為進一步較佳，A的評價為特佳。將所獲得之結果記載於下述表。 A：在主轉速1000以上且2000rpm以下的範圍內能夠進行膜厚3.0μm的塗佈。 B：在A的條件下，無法進行膜厚3.0μm的塗佈，但在主轉速750以上且小於1000rpm、大於2000且2500rpm以下的範圍內能夠進行膜厚3.0μm的塗佈。 C：在A及B的條件下，無法進行膜厚3.0μm的塗佈，但在主轉速500以上且小於750rpm、大於2500且3000rpm以下的範圍內能夠進行膜厚3.0μm的塗佈。 D：在A、B及C的條件下，無法進行膜厚3.0μm的塗佈，但在主轉速大於3000且4000rpm以下的範圍內能夠進行膜厚3.0μm的塗佈。 E：在上述主轉速的範圍內無法獲得膜厚3.0μm。

＜耐溶劑性＞ 使用旋塗機，將上述中所得到之各組成物以乾燥後的膜厚成為3.0μm之方式塗佈於帶有底塗層之8英寸玻璃晶圓上，並使用110℃的加熱板進行了120秒鐘加熱處理（預烘烤）。 接著，使用i射線步進機曝光裝置FPA-3000i5+（Canon Co.,Ltd.製），將365nm的波長光以1000mJ/cm² 經由具有2cm×2cm的圖案之遮罩進行曝光。 然後，將形成有經曝光之塗佈膜之玻璃晶圓載置於旋轉噴淋顯影機（DW-30型，Chemitronics Co.,Ltd.製）的水平旋轉台上，並使用四甲基氫氧化銨（TMAH）0.3質量%水溶液，在23℃下進行60秒鐘浸沒顯影，在玻璃晶圓上形成了白色圖案。 將形成有白色圖案之玻璃晶圓以真空卡盤方式固定於水平旋轉台，並藉由旋轉裝置將玻璃晶圓一邊以轉速50rpm旋轉，一邊從旋轉中心的上方由噴出噴嘴以噴淋狀供給純水而進行沖洗處理，然後噴霧乾燥。然後，使用230℃的加熱板進行了5分鐘加熱處理（後烘烤）。 使用MCPD-3000（Otsuka Electronics Co.,Ltd.製），測定出所得到之白色圖案和將白色圖案在N-甲基-2-吡咯啶酮中浸漬5分鐘後的白色圖案在波長400～700nm下之透射率。關於其分光變動（ΔT%），將分光變動最大的波長下之變動設為ΔTmax，作為耐溶劑性的評價。變動越小，耐溶劑性越良好，為更佳。A、B、C或D的評價為較佳，A、B或C的評價為更佳，A或B的評價為進一步較佳，A的評價為特佳。將所得到之結果記載於下述表。 A：ΔTmax＜0.5%。 B：0.5%≤ΔTmax＜1.0%。 C：1.0%≤ΔTmax＜3.0%。 D：3.0%≤ΔTmax＜5.0%。 E：ΔTmax≥5.0%。

＜圖案形狀＞ 利用旋塗法，將上述中所得到之各組成物以塗佈後的膜厚成為3.0μm之方式塗佈於帶有底塗層之8英寸矽晶圓上，然後，在加熱板上於100℃下加熱2分鐘而得到了組成物層。 接著，對於所得到之組成物層，使用i射線步進機曝光裝置FPA-3000i5+（Canon Co.,Ltd.製），將20μm見方的島狀圖案經由遮罩進行曝光（曝光量50～1700mJ/cm² ）。 接著，使用顯影裝置（Tokyo Electron Limited.製Act8），對曝光後的組成物層進行了顯影。顯影液使用四甲基氫氧化銨（TMAH）0.3質量%水溶液，在23℃下進行了60秒鐘噴淋顯影。然後，藉由使用了純水之旋轉噴淋進行沖洗，得到了圖案。使用掃描型電子顯微鏡（SEM）（S-4800H，Hitachi High-Technologies Corporation製），觀察（倍率：5000倍）所得到之圖案的形狀並進行了評價。圖案形狀的評價基準如下。A、B、C或D的評價為較佳，A、B或C的評價為更佳，A或B的評價為進一步較佳佳，A的評價為特佳。將所得到之結果記載於下述表。 A：如圖1（a）圖案的一邊為直線狀。 B：如圖1（b）圖案的角部稍呈圓狀。 C：如圖1（c）圖案的一邊稍呈圓狀。 D：如圖1（d）圖案呈圓狀。 E：如圖1（e）圖案較圓。

＜黏附性＞ 在圖案形狀的評價中製作出之圖案中，將20μm的圖案尺寸的圖案組群利用光學顯微鏡（Olympus Corporation製）進行觀察。黏附性的評價基準如下。A、B、C或D的評價為較佳，A、B或C的評價為更佳，A或B的評價為特佳，A的評價為更特佳。將所得到之結果記載於下述表。 A：圖案無剝落或缺損。 B：被觀測之圖案的剝落或缺損大於0%且小於5%。 C：被觀測之圖案的剝落或缺損為5%以上且小於10%。 D：被觀測之圖案的剝落或缺損為10%以上且小於30%。 E：被觀測之圖案的剝落或缺損為30%以上。

＜著色性＞ 使用分光測光器，將測定條件設為D65光源，將觀測視野設為2°，白色基準使用X-rite528（商品名，X-rite Inc.製）所附帶之校正基準板的白色片痕，測定出利用與耐溶劑性的評價相同的方法製作出之圖案的分光L*，a*，b*。作為分光測光器，使用了X-rite528（商品名，X-rite Inc.製）。另外，測定時，將形成有圖案之玻璃晶圓置於由黑色抗蝕劑包覆之台（黑色台）進行了測定。黑色台的黑色抗蝕劑層的OD（光密度（Optical Density））在400nm下為3.5（透射率0.03%），在550nm下為3.2（透射率0.06），在700nm下為2.5（透射率0.32%），在400nm～700nm範圍內之平均反射率為7%。黑色台的OD利用Otsuka Electronics Co.,Ltd.製“MCPD-3700”進行了測定，反射率利用Hitachi High-Tech Science Co., Ltd.製“U-4100”進行了測定。

使用加熱板，將製作出之圖案在265℃下加熱15分鐘，測定加熱後的圖案的分光，並計算出CIE1976的L*a*b*色彩坐標系統中之加熱前後的圖案的色差ΔE*ab。另外，色差ΔE*ab的計算公式如下。 ΔE*ab=〔（ΔL*）² +（Δa*）² +（Δb*）² 〕^1/2 A：色差ΔE*ab為0以上且小於0.5。 B：色差ΔE*ab為0.5以上且小於1.0。 C：色差ΔE*ab為1.0以上且小於2.0。 D：色差ΔE*ab為2.0以上且小於3.0。 E：色差ΔE*ab為3.0以上。 A、B、C或D的評價為較佳，A、B或C的評價為更佳，A或B的評價為進一步較佳，A的評價為特佳。將所得到之結果記載於下述表。

[表9]

由上述表可知，各實施例的組成物能夠製造形成厚度3.0μm的膜時之CIE1976的L*a*b*色彩座標系統中的L*為35～85，且經過一個月後的濃度不均得到抑制之膜。 相對與此，關於使用樹脂的對波長589nm的光之折射率小於2.1之粒子，並且粒子的對波長589nm的光之折射率與樹脂的對波長589nm的光之折射率之差小於1.22之比較例1及比較例2的組成物，可知形成厚度3.0μm的膜時之CIE1976的L*a*b*色彩座標系統中的L*小於35或超過85。關於使用對波長589nm的光之折射率超過1.5之樹脂，且粒子的對波長589nm的光之折射率與樹脂的對波長589nm的光之折射率之差小於1.22之比較例3的組成物，可知經過一個月後的濃度不均較大。

＜平均透射率＞ 對於使用各實施例的組成物在耐溶劑性的評價中形成之圖案亦即厚度3.0μm的膜，使用Otsuka Electronics Co.,Ltd.製MCPD-3000以5nm間隔測定波長400～700nm範圍內之透射率，將其平均值作為平均透射率。 其結果，可知各實施例的膜的厚度3.0μm換算時在波長400～700nm範圍內之平均透射率為1～45%。

＜顯影液的影響＞ 對於各實施例的組成物，即使代替＜圖案形狀＞的評價中使用之顯影液而利用本說明書中所記載之溶劑進行顯影，亦得到了同樣的圖案。 [產業上的可利用性]

由本發明的組成物形成之膜係形成厚度3.0μm的膜時之CIE1976的L*a*b*色彩坐標系統中之L*為35～85且經過一個月後的濃度不均得到抑制之膜。該種膜在進行硬化而作為硬化膜利用於固體攝像元件等各種光學感測器時，能夠兼顧良好的光學感測器功能和外觀設計性，產業上的可利用性較高。

無

圖1係表示圖案形狀的評價基準之圖。

Claims (19)

1. 一種組成物，其包含粒子及樹脂， 前述粒子至少包含對波長589nm的光之折射率為2.1以上之粒子， 前述樹脂至少包含對波長589nm的光之折射率為1.5以下之樹脂。
2. 一種組成物，其包含粒子及樹脂， 前述粒子中前述組成物所包含之折射率最高的粒子的對波長589nm的光之折射率與前述樹脂中前述組成物所包含之折射率最低的樹脂的對波長589nm的光之折射率之差為1.22以上。
3. 如申請專利範圍第1項或第2項所述之組成物，其中前述組成物係硬化性組成物。
4. 如申請專利範圍第1項或第2項所述之組成物，其中使用前述組成物形成厚度3.0μm的膜時之CIE1976的L*a*b*色彩座標系統中之L*為35～85。
5. 如申請專利範圍第1項或第2項所述之組成物，其中前述粒子包含無機粒子。
6. 如申請專利範圍第5項所述之組成物，其中前述無機粒子包含白色顏料。
7. 如申請專利範圍第5項所述之組成物，其中前述無機粒子包含氧化鈦。
8. 如申請專利範圍第1項或第2項所述之組成物，其中對波長589nm的光之折射率為2.1以上的粒子的含量相對於前述粒子的總質量為80質量%以上。
9. 如申請專利範圍第1項或第2項所述之組成物，其中對波長589nm的光之折射率為1.5以下的樹脂的含量相對於前述樹脂的總質量為5質量%以上。
10. 如申請專利範圍第1項或第2項所述之組成物，其中前述樹脂為鹼可溶性樹脂。
11. 如申請專利範圍第1項或第2項所述之組成物，其中前述樹脂為聚矽氧烷系樹脂。
12. 如申請專利範圍第11項所述之組成物，其中前述聚矽氧烷系樹脂的側鏈中50莫耳%以上為碳數1～4的烷基及碳數1～4的烷氧基中的至少其中一方。
13. 如申請專利範圍第1項或第2項所述之組成物，其中前述組成物還具有自由基聚合性化合物及光聚合起始劑。
14. 如申請專利範圍第13項所述之組成物，其中在前述自由基聚合性化合物的總質量中，對波長589nm的光之折射率為1.5以下的自由基聚合性化合物的含量為80質量%以上。
15. 如申請專利範圍第1項或第2項所述之組成物，其中前述組成物還具有著色防止劑。
16. 一種膜，其係由申請專利範圍第1項至第15項中任一項所述之組成物所形成。
17. 一種硬化膜，其係將申請專利範圍第16項所述之膜進行硬化而成。
18. 一種光學感測器，其具有申請專利範圍第17項所述之硬化膜。
19. 一種膜的製造方法，其包括： 將申請專利範圍第1項至第15項中任一項所述之組成物經由具有圖案之遮罩進行曝光之製程；及 對經曝光之前述組成物進行顯影而形成圖案之製程。