TW201739696A - 由硫酸鹽法獲得並具有窄顆粒尺寸分佈的二氧化鈦顏料的生產 - Google Patents
由硫酸鹽法獲得並具有窄顆粒尺寸分佈的二氧化鈦顏料的生產 Download PDFInfo
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Abstract
本發明涉及用於生產可由硫酸鹽法獲得並具有窄顆粒尺寸分佈的二氧化鈦顏料的工藝、所述顏料以及所述顏料在塗層和印刷油墨中的應用。
Description
本發明涉及生產可由硫酸鹽法獲得並具有窄顆粒尺寸分佈的二氧化鈦顏料的工藝,所述顏料以及所述顏料在塗層和印刷油墨中的應用。
金紅石晶型的二氧化鈦顏料通常採用氯化物法(chloride process)或硫酸鹽法(sulfate process)生產。可由硫酸鹽法獲得的金紅石型二氧化鈦顏料顆粒,相比由氯化物法獲得的金紅石型二氧化鈦顏料顆粒,一般具有較低的硬度。因此,後者更適合用於印刷油墨。
在氯化物法生產中,含有鐵和鈦的原料與氯進行反應,形成的四氯化鈦隨後被氧化成二氧化鈦,即所謂的二氧化鈦基顏料。在硫酸鹽法生產中,含有鐵和鈦原料在濃硫酸中分解形成硫酸氧鈦。將硫酸氧鈦水解並在回轉窯內進行煆燒形成二氧化鈦,即二氧化鈦基顏料。二氧化鈦基顏料主要由初級顆粒的聚集物組成,因此必須在進一步處理之前將其儘量多地解聚。由硫酸鹽法獲得的二氧化鈦基顏料通常比氯化物法獲得的二氧化鈦基顏料具有更寬的顆粒尺寸分佈。解聚過程中,二氧化鈦基顏料顆粒隨後被漿料化從而形成懸浮液,並進行濕磨,例如在攪拌球磨機中進行。之後,根據應用領域,對顆粒進行無機和/或有機後處理。
對於在印刷油墨和塗層中的一般應用來說,特別是光學性能,如不透明度和光澤性,是至關重要的。所述性能基本上是由顆粒尺寸分佈的寬度決定的。顆粒尺寸分佈中過於細粒級對透明度不利,而粗顆粒降低光澤性。因此,顆粒尺寸分佈要盡可能窄,並期望有最佳的顆粒尺寸。濕磨類型能夠影響平均顆粒尺寸和顆粒尺寸分佈的寬度。通常,濕磨是通過使顆粒懸浮液在一節段中輸送經過攪拌球磨機而進行的,從而產生相對較寬的顆粒尺寸分佈。此外,據所知,以迴圈的形式經過攪拌球磨機進行多次輸送,即所謂的閉路研磨(circuit grinding),或以多批次的形式進行,即所謂的多節段研磨(multi-passage grinding),產生較窄的顆粒尺寸分佈。
本發明的問題在於提供一種工藝,通過該工藝由硫酸鹽法獲得的二氧化鈦顆粒能夠具有窄顆粒尺寸分佈並且特別適用於塗層並尤其適用於印刷油墨。
該問題是通過一種生產二氧化鈦顏料的工藝解決的,其中由硫酸鹽法獲得的二氧化鈦顆粒在進行後處理之前在水懸浮液中進行研磨,其特徵在於,採用至少3台攪拌球磨機的級聯處理過程,濕法研磨作為其中的一節段研磨,並且第一攪拌球磨機的研磨介質相比第二攪拌球磨機或隨後的攪拌球磨機的研磨介質具有更大的直徑和/或更高的密度
因此,在第一方面,本發明涉及一種生產二氧化鈦顏料的工藝,其中由硫酸鹽法獲得的二氧化鈦顆粒在進行後處理之前在水懸浮液中進行研磨,其特徵在於,採用至少3台攪拌球磨機的級聯處理過程,濕法研磨作為其中的一節段研磨,並且第一攪拌球磨機的研磨介質相比第二攪拌球磨機或之後的攪拌球磨機的研磨介質具有更大的直徑和/或更高的密度。
在另一方面,本發明涉及可由在此公開的所述工藝獲得的二氧化鈦顏料。
最後,在進一步的方面,本發明涉及在此描述的二氧化鈦顏料在塗層和印刷油墨中的應用。
本發明進一步的有利實施例包含在從屬權利要求中。
具體實施例
參考以下詳細描述和權利要求,本發明的這些和進一步的方面、特徵及優點將變得明顯。本發明一個方面的各個特徵也可用於本發明的任何其它方面。以「x-y」形式表示的數值範圍,包括所提及的值和在為本領域技術人員已知的各個測量精度範圍內的值。如果幾個優選的數值範圍以這種形式被述及,當然,由不同端點組合而成的所有範圍也包括在內。
根據經驗,在攪拌球磨機(以下也稱為砂磨機)中進行的二氧化鈦顆粒懸浮液的濕法研磨過程中,顆粒聚集物被大量地解聚,並且初級顆粒被進一步粉碎至一定程度。由硫酸鹽法獲得的二氧化鈦顆粒區別於由氯化物法獲得的二氧化鈦顆粒,前者顆粒更容易被粉碎。以下,在攪拌球磨機中進行的處理過程稱為「研磨」或「濕法研磨」。
根據本發明所得經驗,多節段研磨使顆粒具有較窄的停留時間分佈,從而與攪拌球磨機中的閉路研磨相比具有更窄的顆粒尺寸分佈相比。本發明進一步基於如下理論認知:在研磨過程中作用於顆粒上的研磨介質的動能為研磨介質尺寸和研磨介質密度的函數。同時,粉碎進度受到研磨介質與顆粒接觸次數的影響,並隨著研磨介質尺寸的減小而增加。
根據本發明,在第一節段中,在攪拌球磨機中使用具有較大直徑和/或較高密度的研磨介質(對比於第二節段或隨後的其它節段中使用的研磨介質)對由硫酸鹽法獲得的未研磨過的二氧化鈦顆粒的懸浮液進行濕法研磨。以此方式,第二節段以及隨後的節段的攪拌研磨機中的研磨介質與粉碎進度和產生的下降的顆粒懸浮液降粘度相適應,因此實現了能量輸入量的最優化。同時,使顆粒的過度研磨和不期望的細粒級(<0.2µm)的生產最小化。
多節段研磨允許採用臥式或立式安裝的研磨機。與立式安裝的開放型研磨機相比,臥式安裝的封閉型攪拌球磨機還可以在懸浮液粘度增加情況下運行並具有相對較高的輸送量體積,例如,15-18 m³/h。與此相反,立式開放型研磨機通常只能在最大至約8 m³/h的輸送量下運行。
根據本發明,採用由硫酸鹽法獲得且尚未進行後處理的二氧化鈦基顏料顆粒的懸浮液。在未研磨狀態下,顆粒懸浮液具有較高比例分數的聚集物和較高的粘度。
在本發明的一個特定實施例中,在進行根據本發明的濕法研磨前,使用的二氧化鈦基顏料的SC值為<4.5。根據本發明,「SC值」表示根據DIN 53165測得的負b*值,作為由二氧化鈦和黑色漿組成的塗料組合物的藍色色偏(blue cast)(即所謂的MAB測試)。通常,由硫酸鹽法獲得的二氧化鈦基顏料的SC值為>4.5,優選為5-7。<4.5的較低SC值與增加的顆粒硬度和增加的顆粒尺寸有關。在硫酸鹽法中,例如,採用較長的煆燒時間或較高的煆燒溫度,可以實現< 4.5的SC值。
第一節段中使用的研磨介質比第二階段以及隨後節段中使用的研磨介質更大和/或具有更高的密度。優選地,使用的研磨介質比隨後階段中使用的研磨介質更大且具有更高的密度。例如,第一節段中在攪拌球磨機中採用陶瓷研磨介質,比如氧化鋁研磨介質、矽酸鋯研磨介質或氧化鋯研磨介質等。優選地,研磨介質的直徑在0.6-1.2mm的範圍內。第一節段的研磨也稱為預磨。
在本發明的一個優選實施例中,第一節段的研磨在封閉的並且可選地為臥式安裝的攪拌球磨機(以下也稱砂磨機)中進行。優選地,在懸浮液中另外加入常用分散劑,尤其是六偏磷酸鹽。常用分散劑是本領域已知的。
在進一步的步驟(進一步的節段)中,優選地在第一步驟(第一節段)之後,採用較小尺寸和/或較低密度的研磨介質。例如,相比陶瓷研磨介質,砂具有較低的密度。渥太華砂(Ottawa sand)尤其適合,例如直徑為0.6-0.8mm或0.4-0.6mm的渥太華砂。
第二節段和進一步的節段的研磨可以在臥式或立式砂磨機中進行。當使用渥太華砂時,優選立式安裝的砂磨機,因為在臥式安裝的磨沙機中的砂破壞增加,並且砂磨機的排料系統會堵塞。
第二節段的立式安裝的砂磨機可以具有開放型結構。根據本發明,第三節段研磨也可以在立式砂磨機中進行。
在本發明的一個優選實施例中,研磨在以下條件下進行:第一攪拌球磨機填充有尺寸為0.6-0.8mm的矽酸鋯或氧化鋯珠,第二攪拌球磨機填充有尺寸為0.6-0.8mm的渥太華砂,第三攪拌球磨機填充有尺寸為0.4-0.6mm的渥太華砂。
根據本發明的步驟能夠使在優選的三個研磨節段中的每一節段都具有大輸送量體積,從而縮短了在研磨機內的停留時間,進而防止了顆粒的過量研磨。優選地,根據本發明的方法在以下條件下進行:在第一節段中每小時的輸送量為大於15倍的研磨機體積,特別是大於20倍的研磨機體積,並且優選地為約30-35倍的研磨機體積。
此外,可以在研磨節段之間進一步加入分散劑。此外,可以使用NaOH來調節最佳pH值以及進而調節最佳粘度為50-500 mPas,優選為100-200 mPas。
在濕法研磨之後,對二氧化鈦顏料顆粒進行良好確立的無機和/或有機後處理過程。無機後處理通常包括塗覆無機氧化物或含水氧化物,比如SiO2
、Al2
O3
、ZrO2
等。這些可能是緊實或比較鬆散的塗層。在特定實施例中,顏料顆粒進行氧化鋁處理,優選以多級過程進行。本領域技術人員對二氧化鈦工藝技術中使用的後處理過程是熟悉的。
最後,通常將後處理後的TiO2
顏料顆粒在蒸汽噴射研磨機(steam jet mill)中進行微粉化。同時,可選地加入親水性有機化合物,如1,1,1-三羥甲基丙烷(TMP),用作蒸汽噴射研磨的研磨助劑。而且,還可以使用已知的適合的有機添加劑。添加的研磨助劑的量,基於TiO2
,以碳計算,應優選在0.05-0.50wt%範圍內的碳,更優選為0.18-0.35wt%的碳。
在本發明的另一實施例中,在進行濕法研磨之前,優選在懸輥式研磨機或高壓縮輥磨機中對二氧化鈦顆粒進行乾法研磨。乾法研磨能夠使不能被攪拌球磨機中進行的濕法研磨解聚的硬質顆粒聚集物粉碎。在乾法研磨過程中,可以加入研磨助劑,如1,1,1-三羥甲基丙烷(TMP)或三羥甲基乙烷(TME)或相關物質。基於TiO2
,以碳計算,優選量為約0.03-0.3wt%,特別為0.04-0.1wt%。
根據本發明的工藝能夠生產特別適用於塗層並尤其適用於印刷油墨的二氧化鈦顏料。
無
無
無
無
Claims (15)
- 一種生產二氧化鈦顏料的工藝,其中由硫酸鹽法獲得的二氧化鈦顆粒在進行後處理之前在水懸浮液中進行研磨,其特徵在於,採用至少3台攪拌球磨機的級聯處理過程,濕法研磨作為其中的一節段研磨,並且第一攪拌球磨機的研磨介質相比第二攪拌球磨機或隨後的攪拌球磨機的研磨介質具有更大的直徑和/或更高的密度。
- 如請求項1所述的工藝,其特徵在於,至少所述第一攪拌球磨機運行時每小時的輸送量為大於15倍的所述球磨機體積,尤其大於20倍的所述球磨機體積,並且更優選地為約30-35倍的所述球磨機體積。
- 如請求項1或2所述的工藝,其特徵在於,至少所述第一攪拌球磨機為臥式安裝的,並且至少一台後續的攪拌球磨機為立式安裝的。
- 如請求項1至3中一項或多項所述的工藝,其特徵在於,所述第一攪拌球磨機為臥式安裝的,並且所述第二攪拌球磨機和第三攪拌球磨機為立式安裝的。
- 如請求項1至4中一項或多項所述的工藝,其特徵在於,所述第一攪拌球磨機填充有尺寸在0.6-1.2mm範圍內的陶瓷研磨介質。
- 如請求項1至5中一項或多項所述的工藝,其特徵在於,所述第一攪拌球磨機填充有尺寸為0.6-0.8mm的矽酸鋯珠,所述第二攪拌球磨機填充有尺寸在0.6-0.8mm的渥太華砂,並且所述第三攪拌球磨機填充有尺寸為0.4-0.6mm的渥太華砂。
- 如請求項1至6中一項或多項所述的工藝,其特徵在於,所述分散劑含有分散劑,特別是六偏磷酸鹽。
- 如請求項1至7中一項或多項所述的工藝,其特徵在於,在所述濕法研磨之前,所述二氧化鈦顆粒具有<4.5的SC值(MAB測試)。
- 如請求項1至8中一項或多項所述的工藝,其特徵在於,在所述濕法研磨之前,在懸輥式研磨機或高壓縮輥磨機中對所述二氧化鈦顆粒進行乾法研磨。
- 如請求項9所述的工藝,其特徵在於,在所述乾法研磨中,添加研磨助劑,尤其是1,1,1-三羥甲基丙烷(TMP)。
- 如請求項10所述的工藝,其特徵在於,基於TiO2 ,以碳計算,加入0.03-0.3wt%的TMP,尤其是加入0.04-0.1wt%的TMP。
- 如請求項1至11中一項或多項所述的工藝,其特徵在於,在所述濕法研磨之後,對所述二氧化鈦顆粒用氧化鋁進行後處理,優選採用多級過程。
- 如請求項12所述的工藝,其特徵在於,隨後,在蒸汽噴射研磨機中將所述二氧化鈦顆粒進行微粉化,並同時加入親水有機化合物,尤其是1,1,1-三羥甲基丙烷(TMP)。
- 一種如請求項1至13中一項或多項所述的工藝獲得的二氧化鈦顏料。
- 一種如請求項14所述的二氧化鈦顏料在塗層和印刷油墨中的應用。
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