TW201734074A - 偏光板保護薄膜、其製造方法及偏光板 - Google Patents

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Abstract

本發明之課題係提供貼合於偏光鏡製作偏光板的情形，即使實施熱．循環試驗也不易產生龜裂，且貼合於偏光鏡作為偏光板，進一步將該偏光板貼合於玻璃基板的情形，可成為在高溫環境下，不易由玻璃基板剝離之偏光板之含有降莰烯系樹脂的偏光板保護薄膜及其製造方法。該偏光板保護薄膜係含有降莰烯系樹脂的偏光板保護薄膜，前述降莰烯系樹脂為氫化降莰烯系樹脂，且含有具有特定之化學結構之聚合性化合物為特徵。

Description

偏光板保護薄膜、其製造方法及偏光板
本發明係有關偏光板保護薄膜、其製造方法及偏光板。更詳細而言，本發明係有關貼合於偏光鏡製作偏光板的情形，即使在如熱．循環試驗之高溫．低溫環境下重複使用條件下，也不易產生龜裂之偏光板保護薄膜等。
液晶顯示裝置以往被使用於桌上計算機或電子時鐘等。此外，最近則不論畫面尺寸被使用於行動電話等之攜帶式機器至大型電視，其用途快速擴大。
又，作為液晶顯示裝置以外之圖像顯示裝置，特別是有機電致發光(有機EL)顯示裝置，以攜帶用途為中心，需求有增加的傾向。
液晶顯示裝置，通常為在液晶胞之表裏配置有一對偏光板之液晶面板所構成。
有機EL顯示裝置大多使用在有機EL元件之辨識側，配置偏光板、特別是橢圓或圓偏光板，使具有抗反射功能的有機EL面板。又，橢圓或圓偏光板係將1/4波長相位差板(即λ/4板)，兩者之慢軸以特定的角度交叉 層合於直線偏光板者。
對於此等之圖像顯示裝置所使用的偏光板，不僅隨著其開展，需要增加，而且也被要求適合各用途的性能。
被廣泛使用於如上述圖像顯示裝置的偏光板(直線偏光板)係在聚乙烯醇系樹脂薄膜上，吸附雙色性色素進行配向之偏光鏡的兩面，經由液狀之接著劑接著有透明保護薄膜、典型而言為三乙醯基纖維素薄膜之構成所製造。將此直接或必要時，以貼合有具有光學特性之相位差薄膜等之光學層的形態，使用感壓接著劑(也稱為黏著劑)被貼合於液晶胞或有機EL元件等之圖像顯示元件，作為顯示面板、及圖像顯示裝置。
作為相位差薄膜係廣泛使用藉由將在耐熱性、光學特性、透明性、電特性等具有優異性能之由氫化(以下氫添加)降莰烯系樹脂所成的薄膜，進行拉伸配向所得者。
但是假設將使用氫化降莰烯系樹脂製造的薄膜使用於液晶面板，將該薄膜面貼合於偏光鏡，製作偏光板，實施重複在高溫環境下之放置與低溫環境下之放置的熱．循環試驗時，薄膜有發生龜裂的情形。
其次，將偏光板中之偏光板保護薄膜面貼合於玻璃基板時，有在高溫環境下，將偏光板自玻璃基板剝離的情形。
這種熱．循環試驗時改善氫化降莰烯系樹脂之 龜裂發生的方法，例如專利文獻1中揭示將氫化降莰烯系樹脂與橡膠成分溶解或分散於溶劑中，藉由流延(cast)法形成的薄膜。此乃是藉由對於氫化降莰烯系樹脂，調配橡膠成分，改善伸度者。但是所得之薄膜，其平行光線穿透率等之光學特性差，無法作為偏光板保護薄膜使用。
此外，本發明人發現將氫化降莰烯系樹脂薄膜作為偏光板保護薄膜使用的偏光板，以黏著劑貼合於液晶胞之玻璃基板的狀態，進行耐久試驗(置於高溫條件下後，於常溫下放置)時，耐久試驗後，與液晶胞相反側與空氣接觸之面的偏光板保護薄膜，有產生龜裂的問題。這種龜裂即使在薄膜之殘留應力小，也會發生。
以往，由含有氫化降莰烯系樹脂之環狀烯烴系樹脂所成之射出成形品，會產生龜裂已為人知(例如參照專利文獻2)，此乃可列舉射出成形時產生大的殘留應力為原因，如流延製膜，以製膜中之殘留應力小的製法所得之偏光板保護薄膜，會發生龜裂未為人所知。
專利文獻3中記載為了改善龜裂時，防止應力下之薄膜之強度降低是很重要，定荷重拉伸試驗之前後中之拉伸強度之變化小。又，記載著添加橡膠也有效果，但是僅添加仍不足，必須將橡膠微分散成微細且均勻等努力。
[先前技術文獻] [專利文獻]
[專利文獻1]日本特開平5-148413號公報
[專利文獻2]日本特開平11-178690號公報
[專利文獻3]日本特開2005-242171號公報
本發明有鑑於上述問題而完成者，其解決課題係提供將含有氫化降莰烯系樹脂之偏光板保護薄膜貼合於偏光鏡製作偏光板的情形，即使實施熱．循環試驗也可形成不易產生龜裂之偏光板的偏光板保護薄膜及其製造方法。又，提供具備該偏光板保護薄膜的偏光板。
本發明人等為了解決上述課題，檢討上述問題之原因等的結果，發現將含有氫化降莰烯系樹脂之偏光板保護薄膜用於偏光板時的前述龜裂、剝離等的問題，起因於伴隨環境溫度變化之偏光鏡之收縮應力變化及使該偏光板保護薄膜含有特定化合物，配合偏光鏡薄膜可解決上述課題，遂完成本發明。
亦即，本發明之上述課題係藉由以下手段來解決。
1.一種偏光板保護薄膜，其係含有降莰烯系樹脂之偏光板保護薄膜，前述降莰烯系樹脂為氫化降莰烯系樹脂，且包含具有 下述通式(1)表示之化學結構的聚合性化合物。
(式中，R1及R2各自獨立表示氫原子、甲基或鹵素原子。
環A1、環A2及環A3各自獨立表示苯環、環己烷環、環己烯環、萘環、四氫萘環、十氫萘環、蒽環或菲環。此等之環中，-CH=可被-N=取代，-CH2-可被-S-或-O-取代。
X、Y及Z各自獨立表示可具有取代基之碳原子數1~8之烷基、可具有取代基之碳原子數1~8之烷氧基、可具有取代基之碳原子數2~6之烯基、鹵素原子、氰基或具有下述通式(2)表示之化學結構之基。
L1、L2及L3表示連結鍵，各自獨立表示單鍵、-COO-、-OCO-、-(CH2)d-、-CH=CH-、-(CH2)eO-、-O(CH2)f-、-O(CH2)gO-、-OCOO(CH2)h-、-(CH2)iOCOO-、-(CH2)jO(CH2)k-、-O(CH2)l-[Si(CH3)2O]m-Si(CH3)2(CH2)o-、-(OCH2CH2)p-、-(CH2CH2O)q-、-(OCH2CH(CH3))r-、-(CH(CH3)CH2)s-、-CH=CHCH2O-、-OCH2CH=CH-、-CH=CH-COO-、-OCO-CH=CH-、-C≡C-、-(CH2)2COO-、 -OCO(CH2)2-、-CF=CF-、-OCF2-、-CF2O-、-C≡C-COO-、-OCO-C≡C-或-O-。但是一部分的碳原子也可為矽原子。
d~m及o各自獨立表示1~8之整數。p~s各自獨立表示1~3之整數。n表示0或1。
a、b及c係各環A1、環A2及環A3中之取代基之數，各自被取代之單環或縮合環所含有之6員環之數作為t時，a、b及c各自獨立表示2t+2以下之整數，n為0時，至少a及b之任一為1以上。n為1時，至少a、b及c之任一為1以上)。
(式中，R3表示氫原子、甲基或鹵素原子)。
2.如前述第1項之偏光板保護薄膜，其中前述具有通式(1)表示之化學結構的聚合性化合物，相對於前述氫化降莰烯系樹脂，含有5~25質量%之範圍內。
3.如前述第1或2項之偏光板保護薄膜，其中前述具有通式(1)表示之化學結構的聚合性化合物為具有下述通式(3)表示之化學結構的化合物，
(式中，X1及X3各自獨立表示氫原子、可具有取代基之碳原子數1~8之烷基、可具有取代基之碳原子數1~8之烷氧基、可具有取代基之碳原子數2~6之烯基、鹵素原子、氰基或上述通式(2)表示之基。X2、X4、Y1~Y4及Z1~Z4各自獨立表示氫原子、可具有取代基之碳原子數1~8之烷基、可具有取代基之碳原子數1~8之烷氧基、可具有取代基之碳原子數2~6之烯基、鹵素原子或氰基。X1~X4、Y1~Y4及Z1~Z4之中至少1個表示氫以外之取代基，環A1、A2及A3各自獨立表示苯環或環己烷環，此等之環中，-CH=可被-N=取代，-CH2-可被-S-或-O-取代。R1、R2、f及n係與前述通式(1)之R1、R2、f及n同義)。
4.如前述第1或2項之偏光板保護薄膜，其中前述具有通式(1)表示之化學結構的聚合性化合物為具有下述通式(4)表示之化學結構的化合物， (式中，R1、R2、X1、X2、X3、X4、Y1~Y4、Z1~Z4、A1、A2及A3係與前述通式(3)之R1、R2、X1、X2、X3、X4、Y1~Y4、Z1~Z4、A1、A2及A3同義。f係與前述通式(1)之f同義)。
5.如前述第1或2項之偏光板保護薄膜，其中前述具有通式(1)表示之化學結構的聚合性化合物為具有下述通式(5)表示之化學結構的化合物， (式中，R1、R2、X1、X2、X3、X4、Y1~Y4、A1及A2係與前述通式(4)之R1、R2、X1、X2、X3、X4、Y1~Y4、A1及A2同義)。
6.如前述第1~5項中任一項之偏光板保護薄膜，其中前述偏光板保護薄膜之定荷重拉伸試驗前後之拉 伸強度為0.6以上。
7.一種偏光板保護薄膜之製造方法，其係製造如前述第1~6項中任一項之偏光板保護薄膜之偏光板保護薄膜之製造方法，其係至少具有以下步驟：使前述氫化降莰烯系樹脂與前述聚合性化合物溶解於溶劑調製膠漿的步驟、使前述膠漿流延至支撐體上，形成流延膜的步驟及將前述流延膜自前述支撐體剝離的步驟。
8.一種偏光板，其係如前述第1~6項中任一項之偏光板保護薄膜被貼合於在聚乙烯醇系樹脂中吸附有雙色性色素進行配向的偏光鏡上。
藉由本發明之上述手段，可提供將含有氫化降莰烯系樹脂之偏光板保護薄膜貼合於偏光鏡製作偏光板的情形，即使實施熱．循環試驗也可形成不易產生龜裂之偏光板的偏光板保護薄膜及其製造方法。又，可提供具備該偏光板保護薄膜的偏光板。
關於本發明效果之展現機構或作用機構雖佈明確，但是推測係以下理由所致者。
本發明人等，為了解決上述課題，而檢討上述問題之原因等的結果，發現將含有氫化降莰烯系樹脂之偏光板保護薄膜用於偏光板之情形的前述龜裂、剝離等的問題，起因於伴隨環境溫度變化之偏光鏡之收縮應力變化及該偏光板保護薄膜含有特定化合物，使因溫度變化所致 之偏光板保護薄膜之膨脹．收縮配合偏光鏡薄膜，即可解決上述課題。
亦即，偏光鏡之收縮應力非常大，將偏光鏡例如在90℃下長期間放置時，該收縮應力係10mm寬為20N。偏光鏡之收縮應力大係造成偏光板之收縮應力變大，故為了防止龜裂之發生，收縮應力較小為佳。
實際模擬將相當於上述應力之拉伸應力施加於薄膜，可觀測到薄膜之強度降低的現象。
構成偏光板時，偏光板保護薄膜係與偏光鏡接著的狀態下存在著，如上述，在90℃下放置條件係經常施加較大的收縮力。以定荷重拉伸試驗再現上述的情形，偏光板保護薄膜之強度降低為人所知。
此薄膜強度降低推測會影響龜裂發生。原本，偏光板之偏光板保護薄膜之龜裂，推測係因切割時之切割刀之衝撃而發生，可分成(1)薄膜中產生幾乎無法眼見之極微細的龜裂，(2)龜裂成長至可眼見之水準的二階段來考慮。階段(1)主要是切割時之切割刀之衝撃為主要原因，階段(2)係切割後之熱耐久下之構成偏光板之各薄膜之強度、尺寸變動之差為主要原因。
含有氫化降莰烯系樹脂之薄膜的情形，階段(1)中，常溫時之強度成為問題，但是偏光鏡之強度比較低，無法耐衝撃，而容易發生龜裂。階段(2)中，隣接之偏光鏡產生熱收縮，同時薄膜強度降低，龜裂擴大。又，偏光鏡之吸收軸方向中，偏光鏡係與氫化降莰烯系樹脂薄膜相同， 產生熱膨脹，此部分之差越多，龜裂越擴大。
由此考慮為了抑制偏光板之發生龜裂時，使偏光板保護薄膜之熱膨脹接近偏光鏡，防止因偏光鏡之應力下之薄膜強度降低，比什麼都重要。
因此，本發明人等藉由使含有氫化降莰烯系樹脂之偏光板保護薄膜含有具有通式(1)表示之化學結構的化合物，可防止強度降低，推測係因以下機構所致。
亦即，通式(1)表示之化學結構中之環A1、A2、及A3因L1、L2及L3而受到旋轉限制，藉由環排列而形成剛直的平面構造。此剛直之平面構造係與氫化降莰烯系樹脂之流延方向平行，混入．排列，在降莰烯系樹脂之間緊密配向。又，鍵結於剛直之平面構造之兩端的乙烯基係在通式(1)表示之聚合性化合物間進行鍵結，完成補強上述緊密配向之維持的角色。如此，推測可防止切割時所發生之極微細龜裂發生或因偏光鏡之收縮應力所致之龜裂擴大。
10‧‧‧偏光鏡
20、30‧‧‧偏光板保護薄膜
101‧‧‧偏光板
[圖1]偏光板之概略剖面圖。
[實施發明之形態]
本發明之偏光板保護薄膜，其係含有降莰烯 系樹脂之偏光板保護薄膜，前述降莰烯系樹脂為氫化降莰烯系樹脂，且包含具有前述通式(1)表示之化學結構的聚合性化合物為特徵。此特徵係各請求項之發明共通或對應之技術特徵。
本發明之實施形態，從展現本發明效果的觀點，具有前述通式(1)表示之化學結構之聚合性化合物，相對於氫化降莰烯系樹脂，較佳為含有5~25重量%之範圍內。
本發明中，從解決本發明之課題的觀點，具有前述通式(1)表示之化學結構的聚合性化合物，較佳為具有前述通式(3)表示之化學結構的化合物、具有前述通式(4)表示之化學結構的化合物或具有前述通式(5)表示之化學結構的化合物。
本發明中，從解決本發明之課題的觀點，前述偏光板保護薄膜之定荷重拉伸試驗前後的拉伸強度，較佳為0.6以上。
本發明之偏光板保護薄膜之製造方法係至少具有以下步驟之態樣的製造方法為佳。
使前述氫化降莰烯系樹脂與前述聚合性化合物溶解於溶劑調製膠漿(dope)的步驟、使前述膠漿流延至支撐體上，形成流延膜的步驟及將前述流延膜自前述支撐體剝離的步驟。
本發明之偏光板保護薄膜係被貼合於在聚乙烯醇系樹脂上吸附有雙色性色素進行配向的偏光鏡，可適 用-於偏光板。
以下詳細說明本發明與其構成要素、及本實施發明之形態．態樣。又，本發明中所示之「~」係包含將其前後所記載的數值作為下限值及上限值來使用。
(偏光板保護薄膜之概要)
本發明之偏光板保護薄膜係含有降莰烯系樹脂的偏光板保護薄膜，其特徵為前述降莰烯系樹脂為氫化降莰烯系樹脂，且含有具有前述通式(1)表示之化學結構的聚合性化合物。
以下詳細說明構成要素。
<氫化降莰烯系樹脂>
本發明中使用之「氫化降莰烯系樹脂」係指將降莰烯衍生物(單體)以單獨或將該降莰烯衍生物及可與此共聚合之不飽和環狀化合物，使用複分解(METATHESIS)聚合觸媒，藉由開環聚合等所得之聚合物，再氫化所得之氫化降莰烯系樹脂。
氫化降莰烯系樹脂係來自具有下述通式(I)表示之化學結構之降莰烯單體之樹脂為佳。又，本發明中，來自具有通式(I)表示之化學結構之降莰烯單體的樹脂係指將具有通式(I)表示之化學結構之降莰烯單體作為成分，進行聚合衍生的樹脂。
(式中，A、B、X及Y各自獨立表示氫原子、碳數1~10之烴基及選自鹵素原子、烷氧基、羥基、酯基、氰基、醯胺基、醯亞胺基及甲矽烷基之原子或基。m表示0或1)。
可與上述通式(I)表示之降莰烯系單體共聚合之共聚合性單體，無特別限定，可列舉例如不具有降莰烯骨架之環狀烯烴系單體。
上述不具有降莰烯骨架之環狀烯烴系單體，可列舉例如環辛二烯、環辛烯、環己烯、環十二碳烯、環十二碳三烯(Cyclododecatriene)等。
上述降莰烯系單體或共聚合性單體中，單體結構中具有鹵素原子以外之極性基者，對於所得之樹脂提供一定的透濕度，故較佳。
將上述通式(I)表示之降莰烯系單體進行聚合的方法或上述通式(I)表示之降莰烯系單體與可與此單體共聚合之共聚合性單體進行共聚合的方法，可採用例如開環複分解聚合、加成聚合等之以往習知的方法。
上述降莰烯系樹脂在分子內具有不飽和鍵的情形時，藉由氫化飽和為佳，氫化率較佳為95%以上，更 佳為99%以上。氫化率未達95%時，所得之偏光板保護薄膜之耐光性、耐熱劣化性差。
上述降莰烯系樹脂藉由聚苯乙烯換算所得之數平均分子量，較佳為1萬~100萬。未達1萬時，所得之偏光板保護薄膜之力學強度有時不足，相反地，超過100萬時，有時熔融押出成形性顯著降低。更佳為1.5萬~70萬。
上述降莰烯系樹脂之中，市售者可列舉例如日本ZEON公司製「ZEONOR」系列、「ZEONEX」系列、日立化成工業公司製「OPTOREZ」系列、JSR公司製「ARTON」系列等。其中，特別是因分子骨架中具有極性基，使用水性接著劑，製作偏光板時，具有必要之適度的透濕性的「ARTON」系列為佳。
<聚合性化合物>
本發明之偏光板保護薄膜，其特徵係含有具有下述通式(1)表示之化學結構的聚合性化合物。
(式中，R1及R2各自獨立表示氫原子、甲基或鹵素原子。
環A1、環A2及環A3各自獨立表示苯環、環己烷環、環己烯環、萘環、四氫萘環、十氫萘環、蒽環或菲環。此等之環中，-CH=可被-N=取代，-CH2-可被-S-或-O-取代。
X、Y及Z各自獨立表示可具有取代基之碳原子數1~8之烷基、可具有取代基之碳原子數1~8之烷氧基、可具有取代基之碳原子數2~6之烯基、鹵素原子、氰基或具有下述通式(2)表示之化學結構之基。
L1、L2及L3表示連結鍵，各自獨立表示單鍵、-COO-、-OCO-、-(CH2)d-、-CH=CH-、-(CH2)eO-、-O(CH2)f-、-O(CH2)gO-、-OCOO(CH2)h-、-(CH2)iOCOO-、-(CH2)jO(CH2)k-、-O(CH2)l-[Si(CH3)2O]m-Si(CH3)2(CH2)o-、-(OCH2CH2)p-、-(CH2CH2O)q-、-(OCH2CH(CH3))r-、-(CH(CH3)CH2)s-、-CH=CHCH2O-、-OCH2CH=CH-、-CH=CH-COO-、-OCO-CH=CH-、-C≡C-、-(CH2)2COO-、-OCO(CH2)2-、-CF=CF-、-OCF2-、-CF2O-、-C≡C-COO-、-OCO-C≡C-或-O-。但是一部分之碳原子也可為矽原子。
d~m及o各自獨立表示1~8之整數。p~s各自獨立表示1~3之整數。n表示0或1。
a、b及c係各自環A1、環A2及環A3中之取代基之數，各自之經取代之單環或縮合環所含有之6員環 之數設為t時，a、b及c各自獨立表示2t+2以下之整數，n為0時，至少a及b之任一為1以上。n為1時，至少a、b及c之任一為1以上)。
前述通式(1)中，R1、R2、X、Y及Z表示之鹵素原子，可列舉氟原子、氯原子、溴原子、碘原子。
X、Y及Z表示之可具有取代基之碳原子數1~8之烷基，可列舉甲基、氯甲基、三氟甲基、氰基甲基、乙基、二氯乙基、丙基、異丙基、丁基、第二丁基、第三丁基、異丁基、戊基、異戊基、第三戊基、己基、2-己基、3-己基、環己基、1-甲基環己基、庚基、2-庚基、3-庚基、異庚基、第三庚基、n-辛基、異辛基、第三辛基、2-乙基己基等，可具有取代基之碳原子數1~8之烷氧基，可列舉甲氧基、氯甲氧基、三氟甲氧基、氰基甲氧基、乙氧基、二氯乙氧基、丙氧基、異丙氧基、丁氧基、第二丁氧基、第三丁氧基、異丁氧基、戊氧基、異戊氧基、第三戊氧基、己氧基、環己氧基、庚氧基、異庚氧基、第三庚氧基、n-辛氧基、異辛氧基、第三辛氧基、2-乙基己氧基等，可具有取代基之碳原子數2~6之烯基，可列舉乙烯基、1-甲基乙烯基、丙烯基、丁烯基、異丁烯基、戊烯基、己烯基等。
上述通式(2)中，R3表示之鹵素原子，可列舉上述R1等所例示者。
上述通式(1)中，環A1、環A2或環A3為縮合環時之取代基之位置，例如環A1為萘環的情形，萘環 之1位鍵結有CH2=CR1-COO基時，L1鍵結於5位，在2位鍵結有CH2=CR1-COO基時，L1則鍵結於6位，CH2=CR1-COO基與L1係在平行的位置上，與環A1鍵結。
環A1為十氫萘環或四氫萘環的情形，也依據環A1為萘環的情形，但是四氫萘環的情形時，飽和環及不飽和環之一方鍵結CH2=CR1-COO基，而另一方鍵結L1即可。環A1為蒽環的情形，蒽環之1位鍵結有CH2=CR1-COO基時，L1鍵結於6位，在2位鍵結有CH2=CR1-COO基時，L1鍵結於7位，在3位鍵結有CH2=CR1-COO基時，L1鍵結於8位。
環A1為菲環的情形，菲環之1位鍵結有CH2=CR1-COO基時，L1鍵結於6位，在2位鍵結有CH2=CR1-COO基時，L1鍵結於7位，在3位鍵結有CH2=CR1-COO基時，L1鍵結於8位，而環A1中，CH2=CR1-COO基與L1係聚合性化合物之分子結構保持直線性，與環A1鍵結。
關於環A2及環A3，其L1、L2或L3之連結鍵係聚合性化合物之分子結構保持直線性，依據環A1來鍵結。
又，具有上述通式(1)表示之化學結構之本發明的聚合性化合物，可列舉具有下述通式(3)表示之化學結構之聚合性化合物。通式(3)之聚合性化合物，其分子結構上之旋轉規定大。因此，本發明之龜裂防止的效果大，故更佳。
(式中，X1及X3各自獨立表示氫原子、可具有取代基之碳原子數1~8之烷基、可具有取代基之碳原子數1~8之烷氧基、可具有取代基之碳原子數2~6之烯基、鹵素原子、氰基或上述通式(2)表示之基。X2、X4、Y1~Y4及Z1~Z4各自獨立表示氫原子、可具有取代基之碳原子數1~8之烷基、可具有取代基之碳原子數1~8之烷氧基、可具有取代基之碳原子數2~6之烯基、鹵素原子或氰基。X1~X4、Y1~Y4及Z1~Z4之中至少1個，表示氫以外之取代基。環A1、A2及A3各自獨立表示苯環或環己烷環。此等之環中，-CH=可經-N=取代，-CH2-可經-S-或-O-取代。R1、R2、f及n係與前述通式(1)之R1、R2、f及n同義)。
又，上述通式(1)表示之本發明之聚合性化合物，可列舉下述通式(4)表示之聚合性化合物。通式(4)之聚合性化合物係分子結構上之平面剛直性大。因此，本發明之龜裂防止之效果大，故更佳。
(式中，R1、R2、X1、X2、X3、X4、Y1~Y4、Z1~Z4、A1、A2及A3係與前述通式(3)之R1、R2、X1、X2、X3、X4、Y1~Y4、Z1~Z4、A1、A2及A3同義。f係與前述通式(1)之f同義)。
又，具有上述通式(1)表示之化學結構的聚合性化合物，可列舉下述通式(5)表示之聚合性化合物。通式(5)之聚合性化合物係分子結構小，可得到密度放大的效果。因此，本發明之龜裂防止之效果大，故更佳。
(式中，R1、R2、X1、X3、X2、X4、Y1~Y4、A1及A2係與前述通式(4)之R1、R2、X1、X2、X3、X4、Y1~Y4、A1及A2同義)。
具有上述通式(1)表示之化學結構之聚合性化合物之 具體例，可列舉下述化合物No.1~29。但是本發明不限於以下之化合物者。
具有上述通式(4)表示之化學結構的聚合性化合物，例如可依據下述反應途徑製造。
本發明之偏光板保護薄膜係相對於氫化降莰烯系樹脂，在5~25質量%之範圍內含有具有前述通式(1)表示之化學結構之聚合性化合物，從本發明效果之展現性的觀點為佳。
本發明係相對於氫化降莰烯系樹脂，以10~20質量%之範圍內含有具有前述通式(1)表示之化學結構的聚合性化合物為佳。在這種範圍內時，配合偏光鏡薄膜，容易控制因偏光板保護薄膜之溫度變化所致之膨脹．收縮。
<偏光板保護薄膜之各種添加劑>
本發明之偏光板保護薄膜，為了賦予各種的機能，也可含有各種添加劑。
以下表示可適用於本發明之偏光板保護薄膜之代表性添加劑。
可適用於本發明的添加劑，無特別限制，在不損及本發明之目的效果的範圍內，可使用例如紫外線吸收劑、可塑劑、劣化抑制劑、消光劑、相位差提昇劑、波長分散改良劑等。
以下表示可適用於本發明之偏光板保護薄膜之代表性添加劑。
<紫外線吸收劑>
本發明之偏光板保護薄膜中，可含有紫外線吸收劑。
紫外線吸收劑可列舉例如氧基二苯甲酮系化合物、苯並三唑系化合物、水楊酸酯系化合物、二苯甲酮系化合物、氰基丙烯酸酯系化合物、鎳錯鹽系化合物等，但是較佳為著色較少的苯並三唑系化合物。又，日本特開 平10-182621號公報、日本特開平8-337574號公報所記載的紫外線吸收劑、日本特開平6-148430號公報所記載的高分子紫外線吸收劑也為適用。紫外線吸收劑，從偏光鏡或有機EL元件之劣化防止的觀點，波長370nm以下之紫外線之吸收能優異且有機EL元件之顯示性的觀點，較佳為具備波長400nm以上之可見光之吸收較少的特性者。
本發明可用的苯並三唑系紫外線吸收劑，可列舉例如2-(2’-羥基-5’-甲基苯基)苯並三唑、2-(2’-羥基-3’,5’-二-t-丁基苯基)苯並三唑、2-(2’-羥基-3’-t-丁基-5’-甲基苯基)苯並三唑、2-(2’-羥基-3’,5’-二-t-丁基苯基)-5-氯苯並三唑、2-[2’-羥基-3’-(3”,4”,5”,6”-四氫酞醯亞胺甲基)-5’-甲基苯基]苯並三唑、2,2-亞甲基雙〔4-(1,1,3,3-四甲基丁基)-6-(2H-苯並三唑-2-基)酚]、2-(2’-羥基-3’-t-丁基-5’-甲基苯基)-5-氯苯並三唑、2-(2H-苯並三唑-2-基)-6-(直鏈及側鏈十二烷基)-4-甲基酚、辛基-3-[3-t-丁基-4-羥基-5-(氯-2H-苯並三唑-2-基)苯基]丙酸酯2-乙基己基-3-[3-t-丁基-4-羥基-5-(5-氯-2H-苯並三唑-2-基)苯基]丙酸酯之混合物等，但是不限定於此等。
又，市售品可使用TINUVIN 109」、TINUVIN 171、TINUVIN 326」、TINUVIN 328(以上為BASF Japan公司製(註冊商標))。
紫外線吸收劑之添加量係相對於纖維素衍生物，較佳為0.1~5.0質量%之範圍內，又更佳為0.5~5.0 質量%之範圍內。
<可塑劑>
一般而言，偏光板保護薄膜缺乏柔軟性，對薄膜施加彎曲應力或剪切應力時，薄膜異產生龜裂等。又，作為偏光板保護薄膜進行加工時，切斷部容易產生裂痕，容易發生切削屑。發生的切削屑會污染偏光板保護薄膜，造成光學缺陷的原因。為了改良此等之問題點，可在偏光板保護薄膜中含有可塑劑。
可塑劑具體而言，可列舉例如苯二甲酸酯系、偏苯三甲酸酯系、脂肪族二元酸酯系、正磷酸酯系、乙酸酯系、聚酯．環氧化酯系、亞油酸酯系、聚烯烴系、聚乙二醇系化合物等。
本發明之偏光板保護薄膜可使用的可塑劑，選擇常溫、常壓為液狀，且沸點為200℃以上的化合物為佳。具體的化合物名，可列舉例如脂肪族二元酸酯系、苯二甲酸酯系、聚烯烴系化合物。
可塑劑之添加量係相對於氫化降莰烯系樹脂，較佳為0.5~40.0質量%之範圍內，更佳為1.0~30.0質量%之範圍內，特佳為3.0~20.0質量%之範圍內。可塑劑之添加量為0.5質量%以上時，可塑效果充分，提高加工適性。又，40質量%以下時，可抑制長時間經時之可塑劑之分離溶出，可更確實抑制光學不均、對其他零件之污染等。
<劣化防止劑>
本發明之偏光板保護薄膜中，可含有劣化防止劑，例如抗氧化劑、過氧化物分解劑、自由基聚合抑制劑、金屬惰性化劑、酸捕獲劑、胺類等。
劣化防止劑可列舉例如日本特開平3-199201號公報、同5-197073號公報、同5-194789號公報、同5-271471號公報、同6-107854號公報等所記載者。
劣化防止劑之添加量，從展現劣化防止劑之添加效果，抑制對薄膜表面之劣化防止劑之滲出(bleed out)的觀點，較佳為偏光板保護薄膜製作用之膠漿(氫化降莰烯系樹脂溶液)之0.01~1質量%之範圍內，又更佳為0.01~0.2質量%之範圍內。
特佳之劣化防止劑之例，可列舉丁基化羥基甲苯(簡稱：BHT)、三苄基胺(簡稱：TBA)。
<消光劑微粒子>
本發明之偏光板保護薄膜中，可含有作為消光劑之微粒子。
該消光劑微粒子可列舉例如二氧化矽、二氧化鈦、氧化鋁、氧化鋯、碳酸鈣、碳酸鈣、滑石、黏土、燒成高嶺土、燒成矽酸鈣、水合矽酸鈣、矽酸鋁、矽酸鎂及磷酸鈣等。此等之消光劑微粒子之中，含有矽者在濁度(霧度)降低的觀點較佳，特別是二氧化矽為佳。二氧化矽 之微粒子係一次平均粒子尺寸為1~20nm之範圍內，且表觀重為70g/L以上者為佳。一次平均粒子尺寸係5~16nm之範圍內者，從可降低偏光板保護薄膜之霧度的觀點更佳。又更佳為表觀比重為90~200g/L之範圍內者，特佳為100~200g/L之範圍內者。表觀比重越大，可製作更高濃度之分散液，改良霧度、凝聚物，故較佳。
此等之微粒子，通常形成平均粒子尺寸為0.05~2.0μm之範圍內的二次粒子。此等二次粒子在偏光板保護薄膜中，以一次粒子之凝聚物存在，在光學薄膜表面形成0.05~2.0μm之凹凸。二次平均粒子尺寸較佳為0.05~1.0μm之範圍內，又更佳為0.1~0.7μm之範圍內，特佳為0.1~0.4μm之範圍內。一次粒子及二次粒子尺寸係以掃描型電子顯微鏡觀察偏光板保護薄膜中的微粒子，以外接粒子之圓的直徑作為粒子尺寸。又，改變場所觀察粒子200個，以其平均值作為平均粒子尺寸。
二氧化矽之微粒子，可使用例如AEROSIL R972、R972V、R974、R812、200、200V、300、R202、OX50、TT600(以上為日本AEROSIL(股)製、商品名)等之市售品。氧化鋯之微粒子，例如有以AEROSILR976及R811(以上、日本AEROSIL(股)製、註冊商標)市售可使用。
此等之中，AEROSIL 200V及AEROSIL R812V之一次平均粒子尺寸為20nm以下，且表觀比重為70g/L以上之二氧化矽的微粒子，可保持偏光板保護薄膜 之低霧度，且摩擦係數之降低效果大，故特佳。
前述消光劑微粒子藉由以下方法調製，適用於偏光板保護薄膜為佳。亦即，預先調製攪拌混合有溶劑與消光劑微粒子之消光劑微粒子分散液，將此消光劑微粒子分散液添加於另外準備之氫化降莰烯系樹脂濃度未達5質量%之各種添加劑溶液中，經攪拌溶解後，再與主要之氫化降莰烯系樹脂膠漿混合的方法為佳。
消光劑微粒子之表面被施予疏水化處理，故添加具有疏水性之添加劑時，添加劑被消光劑微粒子表面吸附，以此為核，容易發生添加劑之凝聚物。因此，預先將相對親水性之添加劑與消光劑微粒子分散液混合後，藉由混合疏水性添加劑，可抑制在消光劑表面之添加劑之凝聚，可製作霧度低，組裝於液晶顯示裝置時之黑顯示中之漏光少的偏光板保護薄膜，故較佳。
消光劑微粒子分散劑與添加劑溶液之混合、及氫化降莰烯系樹脂膠漿之混合時，較佳為使用管線中混合器(in line mixer)。本發明不限定於此等之方法，將二氧化矽微粒子與溶劑等混合進行分散時之二氧化矽的濃度，較佳為5~30質量%之範圍內，又更佳為10~25質量%之範圍內，特佳為15~20質量%之範圍內。分散濃度高者，相對於同量之添加量的濁度會降低，可抑制霧度或凝聚物之發生，故較佳。最終之氫化降莰烯系樹脂之膠漿中之消光劑的添加量，較佳為0.001~1.0質量%之範圍內，又更佳為0.005~0.5質量%之範圍內，特佳為0.01~0.1 質量%之範圍內。其次，說明本發明之偏光板保護薄膜之製造方法。本發明之偏光板保護薄膜，較佳為以溶液流延法或熔融流延製造的偏光板保護薄膜。在此，說明以溶液流延法之製造方法。
本發明之偏光板保護薄膜之製造係藉由以下步驟來進行。
將氫化降莰烯系樹脂、及前述聚合性化合物溶解於溶劑中，調製膠漿的步驟、將膠漿流延至無限移動之無端金屬支撐體上的步驟、將流延後之膠漿作為腹板進行乾燥的步驟、自金屬支撐體剝離的步驟、進行拉伸或寬度保持的步驟、乾燥的步驟、及捲取完成後之薄膜的步驟。
說明關於調製膠漿的步驟。膠漿中之氫化降莰烯系樹脂、前述聚合性化合物之溶解濃度係較濃者，在流延於金屬支撐體後之乾燥負荷可減低，故較佳，但是濃度過濃時，過濾時之負荷增加，過濾精度變差。
同時兼具的濃度，較佳為10~35質量%，又更佳為15~25質量%。
膠漿可使用的溶劑，可單獨使用或併用2種以上，但是混合使用纖維素酯之良溶劑與弱溶劑，在生產效率的觀點為佳，良溶劑多者，在氫化降莰烯系樹脂之溶解性的觀點較佳。
良溶劑與弱溶劑之混合比率之較佳範圍係良溶劑為70~98質量%，弱溶劑為2~30質量%。良溶劑、弱溶劑係指以單獨溶解使用之氫化降莰烯系樹脂者定義為 良溶劑，以單獨產生膨潤或不溶解者定義為弱溶劑。
本發明所使用之良溶劑無特別限定，可列舉二氯甲烷等之有機鹵化合物或二氧雜環戊烷類、丙酮、乙酸甲酯、乙醯乙酸甲酯等。特佳為二氯甲烷或乙酸甲酯。
又，本發明所使用之弱溶劑無特別限定，例如可使用甲醇、乙醇、n-丁醇、環己烷、環己酮等。又，膠漿中，水含有0.01~2質量%為佳。
又，氫化降莰烯系樹脂、前述聚合性化合物及添加劑之溶解用的溶劑係在薄膜製膜步驟，藉由乾燥回收自薄膜中被除去的溶劑，將此溶劑再利用來使用。
調製上述記載之膠漿時，氫化降莰烯系樹脂之溶解方法，可使用一般的方法。組合加熱與加壓時，可加熱至常壓下之沸點以上。
在溶劑之常壓下之沸點以上且加壓下溶劑位沸騰之範圍的溫度下，邊加熱邊攪拌溶解時，可防止產生凝膠或被稱為結塊之塊狀未溶解物，故較佳。又，將氫化降莰烯系樹脂與弱溶劑混合，使濕潤或膨潤後，再添加良溶劑溶解的方法也可使用。
其次，將此氫化降莰烯系樹脂、前述聚合性化合物及添加劑溶液使用濾紙等之適當的過濾材進行過濾。
過濾材係為了除去不溶物等，絕對過濾精度小者為佳，但是絕對過濾精度過小時，有過濾材容易發生阻塞的問題。
因此，較佳為絕對過濾精度0.008mm以下之濾材，更佳為0.001~0.008mm之濾材，又更佳為0.003~0.006mm之濾材。
濾材之材質無特別限制，可使用通常的濾材，惟以聚丙烯，鐵氟龍(註冊商標)等之塑膠製之濾材、或不鏽鋼等之金屬製的濾材，無繊維之脫落等而較佳。
藉由過濾，可除去、減低原料之氫化降莰烯系樹脂所含之雜質，尤其是亮點異物而較佳。
所謂亮點異物係指將2片偏光板成直交偏光狀態配置，於其間設置偏光板保護薄膜，由一方之偏光板側照射光，由另一方之偏光板側觀察時，相反側之漏光可看見的點(異物)，其中內徑為0.01mm以上之亮點數為200個/cm2以下者為較佳。
更佳為100個/cm2以下，又更佳為50個/m以下，又更佳為0~10個/cm2以下。又，以0.01mm以下之亮點少者為較佳。
膠漿之過濾可依通常方法進行，惟溶劑在常壓下之沸點以上，且加壓下溶劑未沸騰之範圍的溫度下，邊加熱邊過濾的方法，過濾前後之濾壓之差(稱為差壓)之上昇小而較佳。
較佳的溫度係45~120℃，更佳為45~70℃，又更佳為45~55℃下。
濾壓係以小者為佳。濾壓係以1.6MPa以下為佳，1.2MPa以下為更佳，又更佳為1.0MPa以下。
其次，茲說明關於膠漿之流延。
流延步驟中之金屬支撐體係將表面進行鏡面修飾者為佳，金屬支撐體可使用不鏽鋼帶或鑄物將表面進行電鍍修飾之滾筒佳。流延之寬度可為1~4m。
流延步驟之金屬支撐體的表面溫度係以-50℃~溶劑之未達沸點的溫度，而溫度較高者可使腹板(web)之乾燥速度加快而較佳，惟如溫度過高時，腹板有會發泡，或平面性劣化的情形。較佳之支撐體溫度為0~40℃→0~50℃，又更佳為5~30℃。
或藉由冷卻使腹板產生凝膠化，在含有許多殘留溶劑的狀態下，由滾筒剝離亦為較佳的方法。
控制金屬支撐體之溫度的方法，無特別限制，有吹拂溫風或冷風的方法，或使溫水接觸金屬支撐體之內側的方法。
使用溫水者由於有効率地進行熱之傳達，故金屬支撐體在達到特定溫度為止之時間短而較佳。如使用溫風時，有使用較目的之溫度高之溫度之風的情形。
為了使捲筒狀偏光板保護薄膜顯示良好的平面性，將腹板由金屬支撐體剝離時之殘留溶劑量係以10~150質量%為佳。
本發明中，殘留溶劑量係以下述式定義。
殘留溶劑量(質量%)={(M-N)/N}×100
此外，M係將腹板或薄膜在製造中或製造後之任意時點所採取之試料的質量，N則係將M在115℃下加熱1小 時後的質量。
又，捲筒狀偏光板保護薄膜之乾燥步驟係將腹板由金屬支撐體剝離，再乾燥使殘留溶劑量成為1質量%以下者為佳，又更佳為0.1質量%以下，特佳為0~0.01質量%以下。
薄膜乾燥步驟中，一般係採用以輥乾燥方式(將上下配置之多數輥交互地通過腹板，使乾燥的方式)或以拉輻機方式，邊搬送腹板邊乾燥的方式。
為了製作本發明之偏光板保護薄膜，由金屬支撐體剝離隨後之腹板之殘留溶劑量較多的情況下，在搬送方向(=長度方向)進行拉伸，再將腹板之兩端以夾子等夾住之拉輻機方式，在寬度方向進行拉伸者為特佳。
<表面處理>
配置於上述偏光板保護薄膜之中外側的偏光板保護薄膜(外側偏光板保護薄膜)，其表面可施予任意之適當的表面處理。表面處理可列舉防眩處理、擴散處理(ANTIGLARE處理)、抗反射處理(Anti-Reflection處理)、硬膜(hard coat)處理、抗靜電處理等。防眩處理方法可使用任意適當的方法。例如藉由以壓紋加工、噴砂加工或蝕刻加工等之適當的方式，對表面賦予微細凹凸構造等，可以表面反射光產生擴散之適當方式來形成。
<偏光板保護薄膜之特性>
本發明之偏光板保護薄膜，其特徵為使用由氫化降莰烯系樹脂所成之薄膜，也可為未拉伸之薄膜，也可為進行了單軸拉伸的薄膜。藉由將以下所記載的聚合性化合物添加於樹脂中，增加樹脂之配向度。藉此，拉伸彈性率上昇，以改良龜裂發生要因之一之切割時之切割刀之衝撃之弱點。
又，因配向，使得該薄膜之線膨脹係數也降低。配向係藉由流延製膜，因其溶劑擴散過程，在製膜帶上，配合對薄膜(腹板)所產生之收縮力，且因薄膜搬送中之搬送張力而發生。
<配向度之測量>
依據下述方法測量偏光板保護薄膜之配向係數。
首先，說明配向係數。
本發明中，配向係數之測量係採用一軸配向係數(配向係數fxy)。
配向係數fxy可依據下式求得。又，關於fxy之細節，可參考P.A.Floumoy,and W.J.Schaffers,Spectrochimica Acta,22,5(1966)。
fxy=(Dxy-1)/(Dxy+2)‧(Dxy+2)/(Dxy-1)
fxz=(Dxz-1)/(Dxz+2)‧(Dxz+2)/(Dxz-1)
fxy表示面內方向之配向係數。又，fxz表示膜厚方向之配向係數。Dxy、Dxz表示紅外線雙色比，完全空間等向性之無配向試料均取1.00之值。
在此，D0=cot2δ
δ係因分子振動而形成之躍遷矩向量(transition moment vector)與分子軸所成的角度。對其嚴密計算時雖有必要調查分子振動之矩方向，但通常選擇與分子軸平行之振動模式與垂直之模式，若將此分別作為0°、90°計算時，可獲得有關充分配向性的資訊。
此配向係數，理論上無配向的情形時成為0，完全配向於觀測方向的情形時成為1.0，相反地，與觀測方向正交時成為-0.5。
針對偏光板保護薄膜係將氫化降莰烯系樹脂骨架部之乙烯鏈C-C伸縮振動(1273cm-1±10cm-1之最大波峰值)作為與分子軸平行之振動模式(δ=0°)來計算。
紅外線雙色比之測量係使用衰減全反射紅外線分光法(ATR-IR法)測量。又，關於具體的計算方法，參考J.P.Hobbs,C.S.P.Sung(J.P.Hobbs,C.S.P.Sung,K.Krishan,and,S.Hill,Macromolecules,16,193(1983))。
求得紅外線雙色比的方法係測量源自氫化降莰烯系樹脂骨架之乙烯鏈C-C伸縮振動的波峰(1273cm-1±10cm-1之間出現的最強波峰)的強度。波峰強度係連結該峰頂波數(設為xcm-1)與x~x+50cm-1之中吸光度最小之點與x~x-50cm-1之中吸光度最小之點，以此為基準線，測量來自其之波峰強度而求得。
首先，將光與長度方向平行入射，求得對於 入射面，偏光為垂直時之吸光度(ATEx)及對於入射面偏光面為平行時之吸光度(ATMx)，接著與寬度方向平行入射，同樣測量ATEy及ATMy，使用前述式，計算紅外線雙色比fxy、fxz。
本發明中之具體配向係數fxy係使用偏光ATR法，以下述測量條件測量。
測量裝置：Thermo公司製NICOLET380
稜鏡：鍺
稜鏡與試料間之壓力：30cN.m
將試料緊壓於稜鏡之治具面積：1cm2
入射角：45°
反射次數：1次
分解能：4cm-1
數據內插：0.5cm-1
試料之折射率，本發明之纖維素衍生物係當作1.477計算。又，稜鏡(鍺)為4.00。對於以入射於樣品表面之光與反射之光所構成的入射面，使用金屬線柵偏光鏡(wire grid polarizer)入射垂直偏光及水平偏光，測量FTIR-ATR光譜。上述測定係將MD方向設定於x軸，將垂直方向(寬度方向TD)設定於y軸，將厚度方向設定於z軸而進行測量。
<線膨脹係數>
偏光板保護薄膜之線膨脹係數α，較佳為4.5×10-5/℃ 以下(PVA之值)，更佳為-5.0×10-5~4.5×10-5/℃，又更佳為-4.5×10-5~4.0×10-5/℃。線膨脹係數α在上述範圍內時，可得到龜裂耐久性優異的偏光板。
較佳為上述偏光鏡之穿透軸方向之線膨脹係數與上述偏光板保護薄膜之線膨脹係數α之差為超過0，且4×10-5/℃，更佳為0.5×10-5~4.0×10-5/℃。偏光鏡之穿透軸方向之線膨脹係數與上述偏光板保護薄膜之線膨脹係數α之差在上述範圍內時，可得到龜裂耐久性優異的偏光板。
<偏光鏡>
本發明所使用之偏光鏡，可使用任意適當的偏光鏡。可列舉例如使聚乙烯醇系薄膜、部分縮甲醛化聚乙烯醇系薄膜、乙烯．乙酸乙烯酯共聚物系部分皂化薄膜等之親水性高分子薄膜，吸附碘或雙色性染料等之雙色性物質，進行單軸拉伸者、聚乙烯醇之脫水處理物或聚氯乙烯之脫鹽酸處理物等聚烯系配向薄膜等。此等之中，使聚乙烯醇系薄膜吸附碘等之雙色性物質，進行單軸拉伸的偏光鏡，其偏光雙色比高，故特佳。此等偏光鏡的厚度並未特別限制，一般而言為1~80μm左右。
使聚乙烯醇系薄膜吸附碘，經單軸拉伸的偏光鏡，例如可藉由將聚乙烯醇浸漬在碘的水溶液中進行染色，藉由拉伸至原來長度的3~7倍來製得。必要時，可包含硼酸或硫酸鋅、氯化鋅等，亦可浸漬於碘化鉀等的水 溶液中。此外，必要時，可於染色之前，將聚乙烯醇系薄膜浸漬於水中，然後水洗。
藉由水洗聚乙烯醇系薄膜，不僅可洗淨聚乙烯醇系薄膜表面的汙垢或抗黏結劑，而且亦有藉由使聚乙烯醇系薄膜膨潤，以防止染色不均等之不均勻的效果。拉伸可於以碘染色後進行，亦可邊染色邊拉伸，也可在拉伸後以碘染色。可於硼酸或碘化鉀等之水溶液中或水浴中進行拉伸。
本發明使用的偏光鏡，較佳為滿足0.030≦Rpva≦0.040。於此，Rpva係在波長1000nm下，將於偏光鏡之面內折射率成為最大之方向的折射率定為nx，將與該折射率成為最大之方向垂直之方向的折射率定為ny時，以Rpva=nx-ny表示。Rpva又更佳為0.030≦Rpva≦0.039，特佳為0.030≦Rpva≦0.035。推測因未參與偏光鏡中之配向(代表性為配向性較低)的結晶量增加，而滿足這種特性。若Rpva為這種範圍之偏光鏡時，在高溫高濕環境下，可具有優異之尺寸安定性及光學耐久性。結果該偏光鏡即使被使用於僅於偏光鏡之單側，設置有偏光板保護薄膜之偏光板的情形，也不易引起尺寸變化及光學特性的劣化，可實現實用上可容許之尺寸安定性及光學耐久性。
本發明使用之偏光鏡之雙色比DR，較佳為160以上，又更佳為160~220，特佳為170~210，最佳為175~185。若雙色比DR在這種範圍時，藉由使用本發 明之偏光板，可得到正面對比較高之液晶面板及液晶顯示裝置。這種液晶面板及液晶顯示裝置，例如適合於電視用途。又，雙色比DR可由下述式求得。
雙色比DR=log(0.919/k2)/log(0.919/k1)
於此，k1係偏光鏡之穿透軸方向的穿透率，k2係偏光鏡之吸收軸方向的穿透率，常數0.919為界面反射率。
本發明使用之偏光鏡之穿透率(單體穿透率)Ts，較佳為42%以上，又更佳為42.~44.0%的範圍，特佳為42.5~43.0%的範圍。若穿透率Ts在這種範圍時，藉由使用本發明之偏光板，可得到亮度較高之液晶面板或液晶顯示裝置。這種液晶面板及液晶顯示裝置，例如適合在電視用途。又，偏光板之穿透率可從以下式求得。
穿透率={(k1+k2)/2}×100[%]
於此，k1係偏光鏡之穿透軸方向的穿透率，k2係偏光鏡之吸收軸方向的穿透率。
本發明使用之偏光鏡係如上述，可使用含有碘或雙色性染料等之雙色性物質的聚乙烯醇(PVA)系樹脂作為主成分的偏光鏡。
本發明使用之偏光鏡的碘含量，較佳為1.8~5.0質量%，又更佳為2.0~4.0質量%。藉由將碘含量定為上述範圍時，可得到較佳範圍之穿透率的偏光板，可得到正面方向之對比為較高的液晶顯示裝置。
本發明使用之偏光鏡的硼酸含量，以硼換算較佳為0.5~3.0質量%，又更佳為1.0~2.8質量%，特佳 為1.5~2.6質量%。如上述，依據本發明時，可得到不增量硼酸量，在加濕環境下具有優異之尺寸安定性及光學耐久性的偏光鏡。
本發明使用之偏光鏡，較佳為可進一步含有鉀。上述鉀含量，較佳為0.2~1.0質量%，又更佳為0.3~0.9質量%，特佳為0.4~0.8質量%。藉由將鉀含量定為上述範圍，可得到具有較佳範圍之穿透率，且偏光度較高的偏光板。
上述偏光鏡之穿透軸方向的線膨脹係數，無特別限制，可取任意的適當值。例如使用以含有雙色性物質之聚乙烯醇(PVA)系樹脂作為主成分之偏光鏡的情形，偏光鏡之穿透軸方向的線膨脹係數可成為4.0×10-5~5.0×10-5/℃。
<偏光板>
圖1係藉由本發明之較佳實施形態之偏光板的概略剖面圖。圖1之實施形態中，偏光板101係具備偏光鏡10與配置於該偏光鏡10之兩面的偏光板保護薄膜20、30。該偏光鏡10與該偏光板保護薄膜20、30係經由任意之接著層(無圖示)而貼合。
對於與上述偏光板保護薄膜20之偏光鏡10之穿透軸平行方向的線膨脹係數α(以下僅稱為線膨脹係數α)，小於偏光鏡之穿透軸方向之線膨脹係數。一般而言，偏光鏡之製造過程之薄膜的拉伸方向與吸收軸方向一致。 因此，與偏光鏡之吸收軸垂直之方向的穿透軸方向，有非常脆且易裂的傾向。藉由使用線膨脹係數α小於偏光鏡本身之穿透軸方向之線膨脹係數的偏光板保護薄膜，可得到龜裂耐久性優異的偏光板。
圖1所例示之偏光板101之偏光板保護薄膜20，30之至少一方的線膨脹係數α，小於偏光鏡之穿透軸方向的線膨脹係數即可，偏光板保護薄膜20，30之兩方的線膨脹係數α，也可為小於偏光鏡之穿透軸方向之線膨脹係數之值。代表性而言，偏光板101外側之偏光板保護薄膜的線膨脹係數α為小於偏光鏡之穿透軸方向之線膨脹係數之值。偏光板保護薄膜20，30可為具有相同材料且相同的線膨脹係數α的偏光板保護薄膜，也可使用各自相異的偏光板保護薄膜。
偏光鏡一般而言，有溫度越高越膨脹的傾向。本發明之偏光板較佳為使用具有溫度越低越膨脹之性質的偏光板保護薄膜。
因此，本發明之偏光板被放置之環境的溫度升高時，上述偏光鏡與上述偏光板保護薄膜之偏光鏡之穿透軸方向中之尺寸變化之差變大，藉由使用這種偏光板保護薄膜，可提高龜裂耐久性。
以往的偏光板，為了壓抑偏光鏡與偏光板保護薄膜之界面之應力發生，故設計為減少偏光鏡與保護薄膜之線膨脹係數之差，隨著溫度變化之尺寸變化之差變小。
另外，本發明係如上述，藉由將偏光板保護 薄膜之線膨脹係數α設定為比偏光鏡之穿透軸方向之線膨脹係數小的值，可進一步提高龜裂耐久性。
本發明中，配向方向之尺寸變動、及其垂直方向之尺寸變動之中，至少一方的尺寸變動必須小於偏光鏡之穿透軸方向的尺寸變動。
亦即，藉由將上述記載之氫化降莰烯系樹脂中，添加有以下記載之聚合性化合物的薄膜，以相對於偏光鏡之穿透軸為平行方向之尺寸變動小於偏光鏡之穿透軸方向之尺寸變動的方式配置，作為偏光板保護薄膜，可得到本發明之偏光板。
又，本發明中，如上述，因提高龜裂耐久性，故與偏光鏡貼合作為偏光板，進一步將該偏光板貼合於玻璃基板的情形，可形成在高溫環境下不易由玻璃基板剝離的偏光板。
<其他的層>
本發明之偏光板可進一步具有其他的層。其他層可列舉例如抗反射層、防靜電層、相位差層、亮度提高的薄膜層、黏著劑層等。在一個實施形態中，本發明之偏光板係經由該黏著劑層與液晶胞貼合。該黏著劑層在23℃下之儲藏彈性率，較佳為8.0×104以上未達1.0×107，更佳為1.0×105~8.0×106。其他的層因應目的或用途、使用本發明之偏光板之液晶顯示裝置的構成等，選擇任意之適當層即可，可適當設定數量、種類、位置、配置等。
<液晶顯示裝置>
本發明之液晶顯示裝置係具備液晶胞、配置於液晶胞之至少一側之上述本發明的偏光板。藉由使用本發明之偏光板，可提供可壓抑因龜裂之發生所造成之顯示性能降低的液晶顯示裝置。
上述液晶胞之驅動模式，可列舉垂直配向(VA)模式、扭轉向列型(TN)模式、水平配向(IPS)模式、垂直配向型電場控制雙折射(ECB)模式、光學補償雙折射(OCB)模式等。
上述液晶顯示裝置可為由液晶面板之背面照射光，觀看畫面的穿透型，也可為由液晶面板之辨識側照射光，觀看畫面之反射型。或上述液晶顯示裝置也可為兼具穿透型與反射型兩方性質的半穿透型。
本發明之液晶顯示裝置可使用於任意適當的用途。該用途例如個人電腦監視器、筆記型個人電腦、影印機等之OA機器、行動電話、時鐘、數位相機，携帶式資訊終端(PDA)、携帶式遊戲機等之携帶式機器、攝影機、電視、微波爐等之家電機器、背後監視器、汽車導航系統用監視器、車用音響等之車載用機器、商業店舖用資訊用監視器等之展示機器、監視用監視器等之警報機器、看護用監視器、醫療用監視器等之看護．醫療機器等。
[實施例]
以下，舉實施例具體說明本發明，但本發明並非被限定於此等者。又，實施例中，雖使用「%」之表示，但除非另有說明係表示「質量%」。
〔合成例1〕化合物A-1之合成
依據以下步驟1~4之順序合成化合物A-1。
<步驟1>丙烯酸酯之合成
依據下述圖示(Scheme)所示之反應式，如以下合成下述丙烯酸酯。
投入3-(4-羥基苯基)丙酸18.36g(110mmol)、氫氧化鈉11.05g(280mmol)及水100g，在20℃下邊攪拌邊滴下丙烯醯氯10g(110mmol)，使反應2小時。反應後，將4mol/l鹽酸滴下形成酸性後，過濾取得析出物，進行風乾。將此析出物由甲醇/水=3/4混合溶劑進行再結晶，得到白色固體(收量11.68g、收率48%)。
將所得之白色固體的紅外線吸收光譜(IR)測量結果如下述，確認該白色固體為目的物之丙烯酸酯。
[IR](cm-1)2920、1740、1697、1508、1447、1408、1366、1296、1254、1200、1173、1150、1018
<步驟2>苄醚之合成
依據下述圖示所示之反應式，如以下合成下述苄醚。
投入步驟1所得之丙烯酸酯1.20g(5.6mmol)、4-苄氧基-2-甲基苯酚1.00g(4.7mmol)、N,N-二甲基胺基吡啶(DMAP)0.171g(1.4mmol)及氯仿12g，在20℃下邊攪拌邊滴下將二環己基碳二亞胺1.16g(5.6mmol)溶解於氯仿12g者，進行攪拌3小時。過濾析出物，自濾液中餾除溶劑，將殘渣藉由管柱層析法(column chromatography)(乙酸乙酯：n-己烷=1：3、SiO2)純化，得到白色結晶之目的物之苄醚(1.83g、收率94%)。
<步驟3>苯酚之合成
依據下述反應圖示如以下合成下述苯酚。
將無水氯化鋁1.76g(13mmol)溶解於苯甲醚9g中，進行冰水冷卻後，滴下將步驟2所得之苄醚1.83g(4.4mmol)溶解於苯甲醚9g者。30分攪拌後，將鹽酸滴下，使析出物溶解後進行水洗。餾除溶劑，將殘渣藉由管柱層析法(乙酸乙酯：n-己烷=1：5、SiO2)純化，得到白色結晶之目的物之苯酚(1.00g、收率70%)。
<步驟4>化合物A-1之合成
依據下述反應圖示如以下合成化合物A-1。
將4-(6-丙烯醯氧基-六-1-氧基)苯甲酸0.90g(3.1mmol)溶解於四氫呋喃(THF)10g中，進行冰水冷卻後，添加甲烷磺醯基氯0.42g(3.7mmol)，在10℃以下滴下三乙基胺0.74g(7.4mmol)。攪拌30分鐘後，添加DMAP38mg(0.31mmol)，將步驟3所得之苯酚1.00g(3.1mmol)溶解於THF10g者滴下，攪拌30分鐘。過濾析出物，自濾液中餾除溶劑，將殘渣藉由管柱層析法(乙酸乙酯：n-己烷=1：3、SiO2)純化後，使溶解於氯仿中，投入經冷卻的甲醇中，得到白色結晶(0.18g、收率10%)。對於所得之白色結晶進行分析，確認該白色結晶為目的物之化合物A-1。分析結果如以下所示。
又，製造所得之化合物A-1之均聚物時，該聚合物之折射率因方向而異，確認具有作為光學異方體之 功能。
(分析結果)
(1)IR(cm-1)2939、2866、1728、1605、1508、1408、1300、1246、1165、1080、1007
(2)NMR(ppm)8.2(d；2H)，7.3-6.9(m；9H)、6.6-5.7(m；6H)、4.3-3.9(m；4H)、3.2-2.8(m；4H)、2.1(s；3H)、1.7-1.4(m；8H)
〔合成例2〕化合物A-29之合成
依據以下步驟1~3之順序合成化合物A-29。
<步驟1>苄醚之合成
依據下述反應圖示如以下合成下述苄醚。
將6-丙烯醯氧基-2-萘甲酸1.90g(7.86mmol)溶解於THF10g中，冷卻至-30℃後，添加甲烷磺醯氯0.99g(8.65mmol)，滴下三乙基胺(TEA)1.91g(18.87mmol)。攪拌1小時後，添加4-二甲基胺基吡啶(DMAP)10mg(0.08mmol)，將4-苄氧基-2-丙基苯酚2.00g(8.25mmol)溶解於THF7g者滴下，攪拌1小時。過濾析出物，將濾液水洗。餾除溶劑，將殘渣藉由管柱層析法(二氯甲烷、SiO2)純化後，以丙酮溶劑再結晶，得到白色固體之目的物的苄醚(收量2.27g、收率61.9%)。
<步驟2>苯酚之合成
依據下述反應圖示如以下合成下述苯酚。
將無水氯化鋁2.01g(15.08mmol)溶解於苯甲醚9g中，進行冰水冷卻後，將步驟1所得之苄醚2.27g(4.87mmol)溶解於苯甲醚9g者滴下。攪拌1小時後，將鹽酸滴下使析出物溶解後，進行水洗。餾除溶劑，將殘渣藉由管柱層析法展開溶劑：乙酸乙酯/甲苯=1/5、SiO2)純化後，以丙酮/甲醇混合溶劑再結晶，得到白色固體之目的物的苯酚(1.20g、收率65.6%)。
<步驟3>化合物A-29之合成
依據下述反應圖示，如以下合成化合物A-29。
將6-(6-丙烯醯氧基-己氧基)-2-萘甲酸1.04g(3.04mmol)溶解於THF12g中，冷卻至-30℃後，添加甲烷磺醯氯0.38g(3.34mmol)，滴下0.74g(7.29mmol)。攪拌一小時後，添加DMAP 4mg(0.03mmol)，將步驟2所得之苯酚1.20g(3.19mmol)溶解於THF8g者滴下，攪拌1小時。過濾析出物，將濾液水洗。餾除溶劑，將殘渣藉由管柱層析法(展開溶劑：乙酸乙酯/甲苯=1/5、SiO2)純化後，以乙酸乙酯/己烷之混合溶劑再結晶，得到白色固體(0.67g、收率31.5%)。對於所得之白色固體進行分析，確認該白色固體為目的物之化合物A-29。分析結果如下述所示。
又，製造所得之化合物A-29之均聚物時，該聚合物之折射率因方向而異，確認具有作為光學異方體之功能。
(分析結果)
(1)IR(cm-1)2936，2866，1624，1474，1404，1339，1273，1246，1200，1169，1150，1065，1022
(2)1H-NMR(ppm)0.9(t；3H)，1.5-1.9(m；10H)，2.6(q；2H)，3.9-4.3(m；4H)，5.7-6.6(m；6H)，7.1-7.5(m；6H)，7.7-8.3(m；7H)，8.7(s；1H)，8.9(s；1H)
實施例1[偏光板保護薄膜(以下僅稱為「保護薄膜」)] <保護薄膜101之製作> <微粒子分散液1>
將以上以溶解器攪拌混合50分鐘後，以Manton-Gaulin進行分散。
<微粒子添加液1>
一邊充分地攪拌置入有二氯甲烷的溶解槽，一邊慢慢地添加微粒子分散液1。再以磨碎機進行分散至二次粒子之粒徑成為特定之大小。將此以日本精線(股)製的FINE MET NF過濾，調製微粒子添加液1。
調製下述組成之主膠漿。首先，在加壓溶解槽中添入二氯甲烷與乙醇。於置入有溶劑的加壓溶解槽中一邊攪拌一邊加入氫化降莰烯系樹脂I。將此加熱，並一邊攪拌，完全溶解後，將此使用安積濾紙(股)製的安積濾紙No.244過濾，調製主膠漿。
(主膠漿之組成)
將以上投入密閉容器中，一邊攪拌一邊溶解，調製膠漿。其次，使用環帶式(endless belt)流延裝置，將膠漿在溫度33℃下、1500mm寬，均勻流延至不鏽鋼帶支撐體上。不鏽鋼帶之溫度控制為30℃。
在不鏽鋼帶支撐體上，使溶劑蒸發，將進行流延(澆鑄)之薄膜中的殘留溶劑量成為100%為止，接著以剝離張力130N/m，由不鏽鋼帶支撐體上剝離。
將剝離後之保護薄膜一邊施予180℃之熱，一邊使用拉寬機往寬方向拉伸5%。延伸開始時之殘留溶劑為30%。
接著，以多數輥搬送通過乾燥區，一邊使乾燥結束。乾燥溫度為130℃，且搬送張力設為90N/m。
經上述得到乾燥膜厚20μm之保護薄膜101。以下，除了將氫化降莰烯系樹脂的種類、聚合性化合物的種類、聚合性化合物之添加量、可塑劑及可塑劑的添加量如表1所示變更外，與保護薄膜101同樣製作偏光板保護薄膜102~123。
(樹脂)
氫化降莰烯系樹脂I：JSR(股)製ARTON(註冊商標)(G7810)
氫化降莰烯系樹脂II：JSR(股)製ARTON(註冊商標)(RX4500)
(可塑劑A之調製)
將乙二醇62g、己二酸144g、苯甲酸30g、作為酯化觸媒之四異丙基鈦酸酯0.181g投入具備有溫度計、攪拌器、緩急冷卻管之2L四口燒瓶中，氮氣流中，邊攪拌邊緩緩昇溫至230℃為止。使脫水縮合反應15小時，反應結束後，於200℃下，藉由減壓餾除未反應之1,2-丙二醇，而得到作為可塑劑的聚酯。酸價為0.10mgKOH/g，數平均分子量(Mn)為1900。
(可塑劑B之調製)
將1,6-己二醇60g、癸二酸101g、苯甲酸122g、作為酯化觸媒之四異丙基鈦酸酯0.191g投入具備有溫度計、攪拌器、緩急冷卻管之2L四口燒瓶中，氮氣流中，邊攪拌邊緩緩昇溫至230℃為止。脫水縮合反應15小時，反應結束後，於200℃下，藉由減壓餾除未反應之1,2-丙二醇，而得到作為可塑劑之聚酯。酸價為0.10mgKOH/g，數平均分子量為600。
[評價] <斷裂強度(保護薄膜)>
使用藉由上述各實施例及各比較例所得之偏光板保護薄膜，在流延方向(MD)，切成寬20mm×長度250mm，使用拉伸試驗機，在此切成薄膜上，垂掛相當於9.8N之荷重之錘的狀態下，以23℃-55%RH之條件下，放置24小時，進行定荷重拉伸試驗。
接著，對於上述定荷重拉伸試驗前及定荷重拉伸試驗後(定荷重拉伸試驗後12小時以內)之偏光板保護薄膜，使用拉伸試驗機(TENSILON UTA-500、ORIENTEC公司製)，依據JIS K 7127測量薄膜之拉伸強度。
此時，試驗片之尺寸，全部為寬20mm×長度150mm，在23℃-50%RH之條件下，以夾頭間距離100mm、拉伸速度13.3mm/分鐘進行測量，斷裂點強度與降伏點強度較高者作為拉伸強度。
以斷裂強度(MPa)評價上述定荷重拉伸試驗前之拉伸強度。
又，由此等之測量值，算出拉伸強度比=定荷重拉伸試驗後之拉伸強度(B)/定荷重拉伸試驗前之拉伸強度(A)。
以斷裂強度比率(耐久前後)評價上述拉伸強度比。
又，以各自樣品各5支進行測量，採用平均值。
<線膨脹係數(保護薄膜)>
自長方體(cuboid)形狀之成形品之單端部與中央部，分別以長×寬×厚度=10mm×4mm×0.04mm切成的試驗片各3個，在25℃、55%RH，12小時狀態進行調節後，使用線膨脹係數測量機[型名「TMA/SS7100」、Seiko Instruments(股)製]依據JIS K7197測量。測量25~80℃下之尺寸變 化，算出其中30~60℃下之每1℃之平均尺寸變化率。針對各試驗片之端部3個、中央部3個進行此測量，求平均值。此外，求3個之各試驗片的平均值，將此作為成形品的線膨脹係數。
<儲存彈性模數之測量法(保護薄膜)>
保護薄膜之儲存彈性模數係將直徑8mm、厚度1mm之圓柱作為試驗片，使用TAInstruments公司製之測量器“RSA III”，以頻率1Hz之扭轉(twist)剪斷法測量23℃及80℃下之儲存彈性模數(G’)、損失彈性率(G”)、tanδ。
<龜裂發生率(保護薄膜)>
重疊5片保護薄膜(同樣的構成者)，使用10cm2之THOMSON刀，沖孔100片，將檢測出龜裂、裂痕、缺損等沖孔不良之角落數(n)除以觀察之角落之數(m)，作為沖孔不良發生率，如下述以百分比表示。
沖孔不良發生率(%)=100×(n/m)
<配向度>
依據前述記載的方法測量。
針對偏光板保護薄膜101~123，測量此等之評價項目及前述配向度。
偏光板保護薄膜之組成與上述評價結果如表1所示。
由表1的結果得知，本發明係龜裂發生率少，且配向度大。
實施例2 [偏光板1] <偏光板301之製作>
於偏光鏡1之一面(以下稱A面)透過PVA系接著劑，以成為與偏光鏡1之穿透軸平行的方向貼合保護薄膜101，於偏光鏡1之另一面(以下稱B面)貼合下述保護薄膜205，得到偏光板301。如表2所記載，除了組合保護薄膜及偏光鏡外，其他與偏光板301同樣進行，製作偏光板302~偏光板336。
保護薄膜201
(聚萘二甲酸乙二酯薄膜、TEONEX Q83(商品名)(帝人杜邦公司製)、厚度：40μm)
保護薄膜202
(聚醯亞胺薄膜之延伸薄膜、Kapton(商品名)(東麗製)厚度：50μm)
保護薄膜203
(聚對苯二甲酸乙二酯薄膜、MRF50(商品名)(三菱樹脂公司製)、厚度：50μm)
保護薄膜204
(聚對苯二甲酸乙二酯薄膜、MRF25(商品名)(三菱樹脂公司製)、厚度：25μm)
保護薄膜205
(三乙醯基纖維素薄膜、KC4UAW(商品名)(Konica Minolta公司製)、厚度：40μm)
保護薄膜206
(三乙醯基纖維素薄膜、KC2UAW(商品名)(Konica Minolta公司製)、厚度：25μm)
[偏光鏡1]
準備聚合度2400、皂化度99.7莫耳%、厚度75μm之PVA系樹脂薄膜。邊將該薄膜於30℃之碘水溶液中染色邊往薄膜搬送方向拉伸至3倍，其次，於60℃之4質量%硼酸、5質量%之碘化鉀水溶液中，以總拉伸倍率成為原來長度6倍進行拉伸。此外，藉由將經拉伸之薄膜於30℃之2質量%的碘化鉀水溶液中浸漬數秒進行洗淨。將所得之拉伸薄膜於90℃乾燥而得到偏光鏡1。所得之偏光鏡1之穿透軸方向之線膨脹係數為4.5×10-5/℃。
[偏光鏡2]
除了總延伸倍率成為原來長度之5倍進行延伸外，與偏光鏡1同樣得到偏光鏡2。所得之偏光鏡2之穿透軸方向的線膨脹係數為4.8×10-5/℃。
針對如上述所得之偏光板301~偏光板335進行下述評價。
[評價] <龜裂發生率(沖孔)>(偏光板)
將偏光板使用10cm2之THOMSON刀，沖孔100片，將檢測出龜裂、裂痕、缺損等沖孔不良之角落數(n)除以觀察之角落之數(m)，將沖孔不良發生率如下述以百分比表示，作為偏光板龜裂發生率。
偏光板龜裂發生率(%)=100×(n/m)
<龜裂發生率(耐久)>(偏光板) (3-3)高溫衝擊(heat shock)加速試驗(偏光板)
針對上述以10cm2之THOMSON刀沖孔之偏光板，使用冷熱衝撃試驗機(ESPEC製)進行評價。
將使用10cm之THOMSON刀沖孔的偏光板置入冷熱衝撃試驗機之試驗區內，由室溫以30分鐘，使試驗區內降溫至-40℃。其次，以30分鐘將試驗區內昇溫至85℃後，以30分鐘再度降溫至-40℃。由此-40℃昇溫至85℃，再度降溫至-40℃之步驟為1循環，重複20循環後，取出偏光板，將檢測出龜裂、裂痕、缺損等沖孔不良之角落數(n)除以觀察之角落之數(m)，如下述以百分比表示。
如此，測量在高溫衝擊加速試驗下之不良發生率，作為龜裂發生率(耐久)(偏光板)進行評價。
龜裂發生率(耐久)(%)=100×(n/m)
針對偏光板301~335評價此等之項目。
將偏光板之構成與上述評價結果如表2所示。
由表2結果，本發明之偏光板即使在高溫衝擊加速試驗後，也不會發生龜裂，具有良好的龜裂耐久性。
如表1及表2的結果所示得知，本發明之試料可得到龜裂發生率小的偏光板保護薄膜及偏光板。
[產業上之可利用性]
本發明係可作為貼合於偏光鏡，製作偏光板的情形，即使施予熱．循環試驗，也不易產生龜裂之偏光板之偏光板保護薄膜利用。又，可作為具備有該偏光板保護薄膜之偏光板利用。
10‧‧‧偏光鏡
20、30‧‧‧偏光板保護薄膜
101‧‧‧偏光板

Claims (8)

  1. 一種偏光板保護薄膜，其係含有降莰烯系樹脂之偏光板保護薄膜，前述降莰烯系樹脂為氫化降莰烯系樹脂，且包含具有下述通式(1)表示之化學結構的聚合性化合物， (式中，R1及R2各自獨立表示氫原子、甲基或鹵素原子，環A1、環A2及環A3各自獨立表示苯環、環己烷環、環己烯環、萘環、四氫萘環、十氫萘環、蒽環或菲環，此等之環中，-CH=可被-N=取代，-CH2-可被-S-或-O-取代，X、Y及Z各自獨立表示可具有取代基之碳原子數1~8之烷基、可具有取代基之碳原子數1~8之烷氧基、可具有取代基之碳原子數2~6之烯基、鹵素原子、氰基或具有下述通式(2)表示之化學結構之基，L1、L2及L3表示連結鍵，各自獨立表示單鍵、-COO-、-OCO-、-(CH2)d-、-CH=CH-、-(CH2)eO-、-O(CH2)f-、-O(CH2)gO-、-OCOO(CH2)h-、-(CH2)iOCOO-、-(CH2)jO(CH2)k-、-O(CH2)l-[Si(CH3)2O]m-Si(CH3)2(CH2)o-、-(OCH2CH2)p- 、-(CH2CH2O)q-、-(OCH2CH(CH3))r-、-(CH(CH3)CH2)s-、-CH=CHCH2O-、-OCH2CH=CH-、-CH=CH-COO-、-OCO-CH=CH-、-C≡C-、-(CH2)2COO-、-OCO(CH2)2-、-CF=CF-、-OCF2-、-CF2O-、-C≡C-COO-、-OCO-C≡C-或-O-，但是一部分的碳原子也可為矽原子，d~m及o各自獨立表示1~8之整數，p~s各自獨立表示1~3之整數，n表示0或1，a、b及c係各環A1、環A2及環A3中之取代基之數，各自被取代之單環或縮合環所含有之6員環之數作為t時，a、b及c各自獨立表示2t+2以下之整數，n為0時，至少a及b之任一為1以上，n為1時，至少a、b及c之任一為1以上) (式中，R3表示氫原子、甲基或鹵素原子)。
  2. 如申請專利範圍第1項之偏光板保護薄膜，其中前述具有通式(1)表示之化學結構的聚合性化合物，相對於前述氫化降莰烯系樹脂，含有5~25質量%之範圍內。
  3. 如申請專利範圍第1或2項之偏光板保護薄膜，其中前述具有通式(1)表示之化學結構的聚合性化合物為具有下述通式(3)表示之化學結構的化合物， (式中，X1及X3各自獨立表示氫原子、可具有取代基之碳原子數1~8之烷基、可具有取代基之碳原子數1~8之烷氧基、可具有取代基之碳原子數2~6之烯基、鹵素原子、氰基或上述通式(2)表示之基，X2、X4、Y1~Y4及Z1~Z4各自獨立表示氫原子、可具有取代基之碳原子數1~8之烷基、可具有取代基之碳原子數1~8之烷氧基、可具有取代基之碳原子數2~6之烯基、鹵素原子或氰基，X1~X4、Y1~Y4及Z1~Z4之中至少1個表示氫以外之取代基，環A1、A2及A3各自獨立表示苯環或環己烷環，此等之環中，-CH=可被-N=取代，-CH2-可被-S-或-O-取代，R1、R2、f及n係與前述通式(1)之R1、R2、f及n同義)。
  4. 如申請專利範圍第1或2項之偏光板保護薄膜，其中前述具有通式(1)表示之化學結構的聚合性化合物為具有下述通式(4)表示之化學結構的化合物， (式中，R1、R2、X1、X2、X3、X4、Y1~Y4、Z1~Z4、A1、A2及A3係與前述通式(3)之R1、R2、X1、X2、X3、X4、Y1~Y4、Z1~Z4、A1、A2及A3同義，f係與前述通式(1)之f同義)。
  5. 如申請專利範圍第1或2項之偏光板保護薄膜，其中前述具有通式(1)表示之化學結構的聚合性化合物為具有下述通式(5)表示之化學結構的化合物， (式中，R1、R2、X1、X2、X3、X4、Y1~Y4、A1及A2係與前述通式(4)之R1、R2、X1、X2、X3、X4、Y1~Y4、A1及A2同義)。
  6. 如申請專利範圍第1~5項中任一項之偏光板保護薄膜，其中前述偏光板保護薄膜之定荷重拉伸試驗前後之 拉伸強度為0.6以上。
  7. 一種偏光板保護薄膜之製造方法，其係製造如申請專利範圍第1~6項中任一項之偏光板保護薄膜之偏光板保護薄膜之製造方法，其係至少具有以下步驟：使前述氫化降莰烯系樹脂與前述聚合性化合物溶解於溶劑調製膠漿的步驟、使前述膠漿流延至支撐體上，形成流延膜的步驟及將前述流延膜自前述支撐體剝離的步驟。
  8. 一種偏光板，其係如申請專利範圍第1~6項中任一項之偏光板保護薄膜被貼合於使聚乙烯醇系樹脂吸附雙色性色素進行配向的偏光鏡上。
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Families Citing this family (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP7075853B2 (ja) * 2017-09-13 2022-05-26 住友化学株式会社 欠陥検査装置、欠陥検査方法、円偏光板又は楕円偏光板の製造方法及び位相差板の製造方法
JP2019091023A (ja) * 2017-11-10 2019-06-13 住友化学株式会社 円偏光板
CN118091813A (zh) * 2018-03-28 2024-05-28 日东电工株式会社 偏光件、偏光薄膜、层叠偏光薄膜、图像显示面板及图像显示装置
JP2019219527A (ja) * 2018-06-20 2019-12-26 日東電工株式会社 偏光フィルム、粘着剤層付偏光フィルム、及び画像表示装置
JP2019219525A (ja) * 2018-06-20 2019-12-26 日東電工株式会社 偏光フィルム、粘着剤層付き偏光フィルム、及び画像表示装置
JP7265882B2 (ja) * 2019-02-26 2023-04-27 日東電工株式会社 偏光フィルムの製造方法、易接着層付偏光子、偏光フィルム、光学フィルム、および画像表示装置
TW202112734A (zh) * 2019-08-09 2021-04-01 日商三菱瓦斯化學股份有限公司 化合物、（共）聚合物、組成物及圖型形成方法
JP7382264B2 (ja) * 2020-03-27 2023-11-16 日東電工株式会社 偏光フィルム及び画像表示装置
KR20210121811A (ko) * 2020-03-31 2021-10-08 동우 화인켐 주식회사 편광 적층체 및 이를 포함하는 화상 표시 장치
CN117120551A (zh) * 2021-03-24 2023-11-24 太阳控股株式会社 热固化性树脂组合物、干膜、固化物、印刷布线板以及电气电子部件
CN113943433B (zh) * 2021-11-23 2023-05-30 万华化学集团股份有限公司 一种高性能丙烯酸吸水树脂及其制备方法

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3540115B2 (ja) * 1996-07-09 2004-07-07 三菱化学株式会社 樹脂組成物及びこれを活性エネルギー線により硬化させてなる部材
JP2001272535A (ja) * 2000-03-24 2001-10-05 Sekisui Chem Co Ltd 偏光板保護フィルム及び偏光板
JP2003322721A (ja) * 2002-05-01 2003-11-14 Fuji Photo Film Co Ltd 光学フィルムおよびそれを用いた偏光板
JP2004067984A (ja) * 2002-06-11 2004-03-04 Sekisui Chem Co Ltd 樹脂組成物、光学フィルム及び偏光板
KR100726920B1 (ko) * 2003-05-14 2007-06-14 제이에스알 가부시끼가이샤 노르보르넨계 유도체, 노르보르넨계 개환 (공)중합체 및상기 개환 (공)중합체의 제조 방법
JP2005309255A (ja) * 2004-04-23 2005-11-04 Asahi Denka Kogyo Kk 配向性高分子
JP2009157160A (ja) * 2007-12-27 2009-07-16 Sekisui Chem Co Ltd 熱可塑性樹脂フィルム及びそれを用いた偏光板
JP2009227868A (ja) * 2008-03-24 2009-10-08 Fujifilm Corp 樹脂組成物およびフィルム
JP5657593B2 (ja) * 2011-03-31 2015-01-21 富士フイルム株式会社 積層フィルム、光学補償フィルム、偏光板、及び液晶表示装置
JP5937324B2 (ja) * 2011-09-29 2016-06-22 株式会社日本触媒 偏光子保護フィルム及びその利用

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