TW201702645A - 經刷磨之帶狀基材的製造方法及刷磨裝置 - Google Patents

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Abstract

本發明提出一經刷磨之帶狀基材的製造方法，包括：使帶狀基材接觸刷磨輥進行刷磨的刷磨步驟，其中在該刷磨步驟中，該刷磨輥以超過0°的接觸角接觸該帶狀基材，藉此旋轉該帶狀基材的搬送方向，該帶狀基材的搬送方向與該刷磨輥的旋轉軸之間形成非正交的角度。例如，在搬入該刷磨輥的該帶狀基材與該刷磨輥開始接觸的位置處，該帶狀基材的搬入方向在該帶狀基材的整個寬度方向上相同，在搬出該刷磨輥的該帶狀基材與該刷磨輥結束接觸的位置處，該帶狀基材的搬出方向在該帶狀基材的整個寬度方向上相同。本發明還包括使用上述製造方法的裝置。

Description

經刷磨之帶狀基材的製造方法及刷磨裝置
本發明係有關於經刷磨之帶狀基材的製造方法及刷磨裝置。
在光學膜等的薄膜製造中，會有需要對帶狀的薄膜實施刷磨的步驟存在的情況。例如，在做為基材的薄膜上設置配向的液晶性物質層的情況下，為了使基材的表面具有配向控制力，會對基材的表面進行刷磨。利用刷磨來產生配向控制力能夠比起使用其他方法來產生配向控制力容易實施，具有基材的材質、形狀及製造條件的自由度高的優點。
刷磨一般會使用刷磨輥來進行。一般的刷磨輥具有圓柱形狀。以刷磨輥的軸為中心使刷磨輥旋轉，讓刷磨輥的柱面連續地接觸搬送而來的帶狀基材，藉此達成刷磨。
帶狀基材有時會被要求需要在相對於其長邊方向傾斜的方向上具有配向控制力。製造這種帶狀基材的情況下，會實施一種被稱為斜向刷磨的方法(例如專利文獻1)。進行斜向刷磨時，在刷磨輥的旋轉軸與搬送而來的帶狀基材的搬送方向形成非正交的角度的狀態下，使帶狀基材與刷磨輥接觸。
專利文獻1：日本特開平08-160431號公報
在刷磨輥的旋轉軸相於與搬送而來的帶狀基材的 長邊方向傾斜的狀態下，使帶狀基材與刷磨輥接觸的話，會產生帶狀基材的表面上刷磨的程度不均一的情況。
因此，本發明的目的是提供一種刷磨裝置、經刷磨之帶狀基材的製造方法、以及刷磨帶狀基材的刷磨裝置，能夠達成刷磨程度均一的斜向刷磨。
特別是，進行斜向刷磨時，為了增加相對於刷磨輥的接觸角且使接觸壓力均一而調整搬送路徑的話，從刷磨裝置搬出的帶狀基材的搬送方向會比搬入刷磨裝置的帶狀基材的搬送方向又更大的傾斜。這種具有斜向前進的搬出方向的刷磨裝置很難配置在通用的製造產線的小空間內。有一種被稱為EPC(註冊商標，Edge Position Controllers)的裝置，是用來修正這種斜向前進的手段。但接觸角越大斜向前進量就越大，因此修正量也跟著變大，結果EPC變得大型且複雜，即使如此仍然無法完全修正的情況下，帶狀基材會產生波紋、刮痕等。
因此，某個特徵下的本發明的目的是提供一種經刷磨之帶狀基材的製造方法、以及刷磨帶狀基材的刷磨裝置，能夠達成刷磨程度均一的斜向刷磨，且搬出方向的斜向前進的傾斜較少。
本發明人為了解決上述問題而檢討的結果，發現以下事項。[A]本發明人著眼於使刷磨輥以超過0°的接觸角斜向接觸帶狀基材的話，帶狀基材的搬送路徑的長度會在整個帶狀基材的寬度方向上形成不均一的狀態。本發明人發現因為這個搬送路徑的不均一，帶狀基材對刷磨輥的接觸壓力就會變得 不均一，甚至是刷磨程度變得不均一。然後，藉由將帶狀基材的搬送路徑及刷磨輥的配置做成特定的態樣，能夠減低上述的不均一，結果就能夠達成刷磨程度均一的斜向刷磨。
[B]本發明人著眼於搬送路徑上的帶狀基材的剩餘量。然後發現將剩餘量、搬送的薄膜以及有關搬送的條件之間的關係設定在特定範圍，能夠使帶狀基材對刷磨輥的接觸壓力的不均一在可容許的範圍內，甚至能夠使刷磨程度均一。
[C]本發明人著眼於使刷磨輥以超過0°的接觸角斜向接觸帶狀基材的話，帶狀基材的搬送路徑的長度會在帶狀基材的整個寬度方向上形成不均一的狀態。本發明人發現因為這個搬送路徑的不均一，帶狀基材對刷磨輥的接觸壓力就會變得不均一，甚至是刷磨程度變得不均一。然後，藉由將帶狀基材的搬送路徑及刷磨輥的配置做成特定的態樣，能夠減低上述的不均一，同時減低搬出方向的斜向前進的傾向，結果就能夠有效率地達成刷磨程度均一的斜向刷磨。
[D]本發明人著眼於將圓筒形的刷磨輥以超過0°的接觸角斜向接觸帶狀基材的話，帶狀基材的搬送路徑的長度會在帶狀基材的整個寬度方向上形成不均一的狀態。本發明人發現因為這個搬送路徑的不均一，帶狀基材對刷磨輥的接觸壓力就會變得不均一，甚至是刷磨程度變得不均一。然後，為了解決上述不均一而進一步檢討的結果，發現使用中高輥、中低輥等的具有非圓筒形的周面的輥，進行帶狀基材的搬送、刷磨、或兩個都進行，將搬送路徑上的帶狀基材的形狀做成特定形狀，藉此能夠減低上述的不均一，結果就能夠達成刷磨程度 均一的斜向刷磨。本發明根據上述的發現而完成。也就是，本發明如下。
[A1]一種經刷磨之帶狀基材的製造方法，包括：刷磨步驟，從搬送路徑的上流搬入的帶狀基材，使其接觸以旋轉軸為中心旋轉的刷磨輥，然後往該搬送路徑的下流搬出，其中在該刷磨步驟中，該刷磨輥以超過0°的接觸角接觸該帶狀基材，藉此旋轉該帶狀基材的搬送方向，該帶狀基材的搬送方向與該刷磨輥的旋轉軸之間形成非正交的角度，在朝該刷磨輥搬入的該帶狀基材與該刷磨輥開始接觸的位置處，該帶狀基材的搬入方向在該帶狀基材的整個寬度方向上相同，在從該刷磨輥搬出的該帶狀基材與該刷磨輥結束接觸的位置處，該帶狀基材的搬出方向在該帶狀基材的整個寬度方向上相同。[A2]在[A1]所述的製造方法，更包括：在該刷磨步驟的上流側、下流側、或者是雙方，使用將該帶狀基材的搬送方向旋轉超過0°的搬送裝置，來旋轉搬送方向。[A3]在[A2]所述的製造方法中，該搬送裝置有一個以上是搬送輥，旋轉該搬送方向的旋轉軸方向與該帶狀基材的搬送方向正交。[A4]在[A1]~[A3]中任一者所述的製造方法中，該刷磨輥設置成該刷磨輥的旋轉軸成水平，在搬入的該帶狀基材與該刷磨輥開始接觸的位置處的該帶狀基材之搬入方向，或者是在搬出的該帶狀基材與該刷磨輥結束接觸的位置處的該帶狀基材之搬出方向為水平。[A5]在[A1]~[A4]中任一者所述的製造方法中，該帶狀基材的搬送方向與該刷磨輥的旋轉軸之間形成的角度在35°以上55°以下。[A6]一種刷磨裝置，用以刷磨帶狀基材，包括：刷磨輥，以旋轉軸為中 心旋轉，接觸從搬送路徑的上流搬入的帶狀基材，並將其往該搬送路徑的下流搬出，其中該刷磨輥以超過0°的接觸角接觸該帶狀基材，藉此旋轉該帶狀基材的搬送方向，該帶狀基材的搬送方向與該刷磨輥的旋轉軸之間形成非正交的角度，在朝該刷磨輥搬入的該帶狀基材與該刷磨輥開始接觸的位置處，該帶狀基材的搬入方向在該帶狀基材的整個寬度方向上相同，在從該刷磨輥搬出的該帶狀基材與該刷磨輥結束接觸的位置處，該帶狀基材的搬出方向在該帶狀基材的整個寬度方向上相同。[A7]在[A6]所述的刷磨裝置中，更包括：搬送裝置，在該刷磨步驟的上流側、下流側、或者是雙方，將該帶狀基材的搬送方向旋轉超過0°。[A8]在[A7]所述的刷磨裝置中，該搬送裝置有一個以上是搬送輥，該搬送輥的旋轉軸方向與該帶狀基材的搬送方向正交。[A9]在[A6]~[A8]中任一者所述的刷磨裝置中，該刷磨輥設置成該刷磨輥的旋轉軸成水平，在搬入的該帶狀基材與該刷磨輥開始接觸的位置處的該帶狀基材之搬入方向，或者是在搬出的該帶狀基材與該刷磨輥結束接觸的位置處的該帶狀基材之搬出方向為水平。[A10]在[A6]~[A9]中任一者所述的刷磨裝置中，該帶狀基材的搬送方向與該刷磨輥的旋轉軸之間形成的角度在35°以上55°以下。
[B1]一種經刷磨之帶狀基材的製造方法，包括：刷磨步驟，一邊對沿著搬送路徑搬送的帶狀基材施加張力T(N)於搬送方向，一邊使其接觸以旋轉軸為中心旋轉的刷磨輥來進行刷磨，其中該刷磨輥以超過0°的接觸角接觸該帶狀基材，藉此旋轉該帶狀基材的搬送方向，該帶狀基材的搬送方向與該刷 磨輥的旋轉軸之間形成非正交的角度，該帶狀基材的搬送方向的楊氏模數是E(Pa)，厚度是d(m)，且寬度是w(m)，該搬送路徑上的剩餘量的最大值εmax(%)及剩餘量的平均值εavg(%)會滿足(1)式：(εmax-εavg)Edw<30T (1)式。
[B2]在[B1]所述的製造方法中，該帶狀基材的搬送方向的楊氏模數E與厚度d的乘積Ed在400000Pa．m以下。[B3]在[B1]或[B2]所述的製造方法中，該帶狀基材的搬送方向的楊氏模數是E在3000MPa以下。[B4]在[B1]~[B3]中的任一者所述的製造方法中，該剩餘量的最大值εmax及該剩餘量的平均值εavg會滿足(2)式：εmax-εavg<0.02% (2)式。
[B5]在[B1]~[B4]中的任一者所述的製造方法中，該帶狀基材的搬送方向與該刷磨輥的旋轉軸之間形成的角度在35°以上55°以下。[B6]一種刷磨裝置，用以刷磨帶狀基材，包括：自由輥，一邊對帶狀基材施加張力T(N)於搬送方向，一邊將其沿著搬送方向搬送；以及刷磨輥，以旋轉軸為中心旋轉，接觸該帶狀基材並刷磨該帶狀基材，其中該刷磨輥以超過0°的接觸角接觸該帶狀基材，藉此旋轉該帶狀基材的搬送方向，該刷磨輥配置成該帶狀基材的搬送方向與該刷磨輥的旋轉軸之間形成非正交的角度，該自由輥及該刷磨輥係配置成該帶狀基材的搬送方向的楊氏模數是E(Pa)，厚度是d(m)，且寬度是w(m)，及該搬送路徑上的剩餘量的最大值εmax(%)及剩餘量的平均值εavg(%)會滿足(1)式： (εmax-εavg)Edw<30T (1)式。
[B7]在[B6]所述的刷磨裝置中，該帶狀基材的搬送方向的楊氏模數E與厚度d的乘積Ed在400000Pa．m以下。[B8]在[B6]或[B7]所述的刷磨裝置中，該帶狀基材的搬送方向的楊氏模數是E在3000MPa以下。[B9]在[B6]~[B8]中任一者所述的刷磨裝置中，該剩餘量的最大值εmax及該剩餘量的平均值εavg會滿足(2)式：εmax-εavg<0.02% (2)式。
[B10]在[B6]~[B9]任一者所述的刷磨裝置中，該帶狀基材的搬送方向與該刷磨輥的旋轉軸之間形成的角度在35°以上55°以下。
[C1]一種經刷磨之帶狀基材的製造方法，包括：刷磨步驟，從搬送路徑的上流搬入的帶狀基材，使其接觸以旋轉軸為中心旋轉的刷磨輥，然後往該搬送路徑的下流搬出；以及在該刷磨步驟的上流側、下流側、或者是雙方，使用將該帶狀基材的搬送方向旋轉超過0°的搬送裝置，來旋轉該帶狀基材搬送方向的步驟，其中在該刷磨步驟中，該刷磨輥以超過0°的接觸角接觸該帶狀基材，藉此旋轉該帶狀基材的搬送方向，該帶狀基材的搬送方向與該刷磨輥的旋轉軸之間形成非正交的角度，在朝該刷磨輥搬入的該帶狀基材與該刷磨輥開始接觸的位置處，該帶狀基材的搬入方向在該帶狀基材的整個寬度方向上相同，在從該刷磨輥搬出的該帶狀基材與該刷磨輥結束接觸的位置處，該帶狀基材的搬出方向在該帶狀基材的整個寬度方向上相同，該搬送裝置促使的該帶狀基材的搬送方向旋轉的旋轉 軸方向與該刷磨輥的旋轉軸平行。[C2]在[C1]所述之製造方法中，該刷磨輥促使的該帶狀基材的搬送方向旋轉的旋轉角，與該搬送裝置促使的搬送方向旋轉的旋轉角的總和大約為0°。[C3]在[C1]或[C2]所述之製造方法中，該帶狀基材的搬送方向與該搬送裝置促使的搬送方向旋轉的旋轉軸方向之間形成非正交的角度。[C4]在[C3]所述之製造方法中，藉由該搬送裝置來旋轉搬送方向的步驟，包括：在該搬送裝置與該帶狀基材之間形成空氣層。[C5]在[C4]所述之製造方法中，該空氣層是藉由空氣壓力形成。[C6]在[C1]~[C5]所述之製造方法中，該帶狀基材的搬送方向與該刷磨輥的旋轉軸之間形成的角度在35°以上55°以下。[C7]一種刷磨裝置，用以刷磨帶狀基材，包括：刷磨輥，以旋轉軸為中心旋轉，接觸從搬送路徑的上流搬入的帶狀基材，並將其往該搬送路徑的下流搬出；以及搬送裝置，在該刷磨步驟的上流側、下流側、或者是雙方，以超過0°的角度來旋轉該帶狀基材的搬送方向，其中該刷磨輥以超過0°的接觸角接觸該帶狀基材，藉此旋轉該帶狀基材的搬送方向，該帶狀基材的搬送方向與該刷磨輥的旋轉軸之間形成非正交的角度，在朝該刷磨輥搬入的該帶狀基材與該刷磨輥開始接觸的位置處，該帶狀基材的搬入方向在該帶狀基材的整個寬度方向上相同，在從該刷磨輥搬出的該帶狀基材與該刷磨輥結束接觸的位置處，該帶狀基材的搬出方向在該帶狀基材的整個寬度方向上相同，該搬送裝置配置成該搬送裝置促使的該帶狀基材的搬送方向旋轉的旋轉軸方向與該刷磨輥的旋轉軸平行。[C8]在[C7]所述之刷磨裝置中，該刷磨輥促使的該帶狀基材的搬送方 向旋轉的旋轉角，與該搬送裝置促使的搬送方向旋轉的旋轉角的總和大約為0°。[C9]在[C7]或[C8]所述之刷磨裝置中，該帶狀基材的搬送方向與該搬送裝置促使的搬送方向旋轉的旋轉軸方向之間形成非正交的角度。[C10]在[C9]所述之刷磨裝置中，該搬送裝置是在該搬送裝置與該帶狀基材之間形成空氣層的裝置。[C11]在[C10]所述之刷磨裝置中，該搬送裝置是藉由空氣壓力形成該空氣層。[C12]在[C7]~[C11]中任一者所述之刷磨裝置中，該帶狀基材的搬送方向與該刷磨輥的旋轉軸之間形成的角度在35°以上55°以下。
[D1]一種經刷磨之帶狀基材的製造方法，包括：刷磨步驟，從搬送路徑的上流搬入的帶狀基材具有表面及背面，使該帶狀基材的該表面接觸以旋轉軸為中心旋轉的刷磨輥，然後往該搬送路徑的下流搬出，其中在該刷磨步驟中，該刷磨輥以超過0°的接觸角接觸該帶狀基材，藉此旋轉該帶狀基材的搬送方向，該帶狀基材的搬送方向與該刷磨輥的旋轉軸之間形成非正交的角度，該搬送路徑上的該帶狀基材的形狀符合下述條件(i)~(iii)中至少一者：(i)在該帶狀基材接觸該刷磨輥的位置，該帶狀基材的該背面側具有凸形狀；(ii)在該刷磨輥、與其上流側的緊握該帶狀基材的上流側緊握輥之間的至少一部分領域，該表面側具有凸形狀；(iii)在該刷磨輥、與其下流側的緊握該帶狀基材的下流側緊握輥之間的至少一部分領域，該表面側具有凸形狀。[D2]在[D1]所述之製造方法中，該搬送路徑上的該帶狀基材的形狀滿足前述條件(i)，該刷磨輥相對於該帶狀基材具有凸形狀。[D3]在[D1]或[D2]所 述之製造方法中，該搬送路徑上的該帶狀基材的形狀滿足前述條件(ii)，該上流側緊握輥相對於該帶狀基材具有凸形狀，該上流側緊握輥從該帶狀基材的該背面側接觸該帶狀基材。[D4]在[D1]或[D2]所述之製造方法中，該搬送路徑上的該帶狀基材的形狀滿足前述條件(ii)，該上流側緊握輥相對於該帶狀基材具有凹形狀，該上流側緊握輥從該帶狀基材的該表面側接觸該帶狀基材。[D5]在[D1]~[D4]中任一者所述之製造方法中，該搬送路徑上的該帶狀基材的形狀滿足前述條件(iii)，該下流側緊握輥相對於該帶狀基材具有凸形狀，該下流側緊握輥從該帶狀基材的該背面側接觸該帶狀基材。[D6]在[D1]~[D4]中任一者所述之製造方法中，該搬送路徑上的該帶狀基材的形狀滿足前述條件(iii)，該下流側緊握輥相對於該帶狀基材具有凹形狀，該下流側緊握輥從該帶狀基材的該表面側接觸該帶狀基材。[D7]在[D1]~[D6]中任一者所述之製造方法中，該帶狀基材的搬送方向與該刷磨輥的旋轉軸之間形成的角度在35°以上55°以下。[D8]一種刷磨裝置，用以刷磨帶狀基板，包括：刷磨輥，從搬送路徑的上流搬入的帶狀基材具有表面及背面，該刷磨輥以旋轉軸為中心旋轉，接觸該帶狀基材的該表面進行刷磨，然後往該搬送路徑的下流搬出，其中該刷磨輥配置成以超過0°的接觸角接觸該帶狀基材，藉此旋轉該帶狀基材的搬送方向，該帶狀基材的搬送方向與該刷磨輥的旋轉軸之間形成非正交的角度，該刷磨裝置搬送該帶狀基材時，該搬送路徑上的該帶狀基材的形狀符合下述條件(i)~(iii)中至少一者：(i)在該帶狀基材接觸該刷磨輥的位置，該帶狀基材 的該背面側具有凸形狀；(ii)在該刷磨輥、與其上流側的緊握該帶狀基材的上流側緊握輥之間的至少一部分領域，該表面側具有凸形狀；(iii)在該刷磨輥、與其下流側的緊握該帶狀基材的下流側緊握輥之間的至少一部分領域，該表面側具有凸形狀。[D9]在[D8]所述之刷磨裝置中，該搬送路徑上的該帶狀基材的形狀滿足前述條件(i)，該刷磨輥相對於該帶狀基材具有凸形狀。[D10]在[D8]或[D9]所述之刷磨裝置中，該搬送路徑上的該帶狀基材的形狀滿足前述條件(ii)，該上流側緊握輥相對於該帶狀基材具有凸形狀，該上流側緊握輥從該帶狀基材的該背面側接觸該帶狀基材。[D11]在[D8]或[D9]所述之刷磨裝置中，該搬送路徑上的該帶狀基材的形狀滿足前述條件(ii)，該上流側緊握輥相對於該帶狀基材具有凹形狀，該上流側緊握輥從該帶狀基材的該表面側接觸該帶狀基材。[D12]在[D8]~[D11]中任一者所述之刷磨裝置中，該搬送路徑上的該帶狀基材的形狀滿足前述條件(iii)，該下流側緊握輥相對於該帶狀基材具有凸形狀，該下流側緊握輥從該帶狀基材的該背面側接觸該帶狀基材。[D13]在[D8]~[D11]中任一者所述之刷磨裝置中，該搬送路徑上的該帶狀基材的形狀滿足前述條件(iii)，該下流側緊握輥相對於該帶狀基材具有凹形狀，該下流側緊握輥從該帶狀基材的該表面側接觸該帶狀基材。[D14]在[D8]~[D13]中任一者所述之刷磨裝置中，該帶狀基材的搬送方向與該刷磨輥的旋轉軸之間形成的角度在35°以上55°以下。
以下的說明中，有時會將本發明實施形態中[A1] ~[A10]稱為「實施形態A」，將[B1]~[B10]稱為「實施形態B」，將[C1]~[C12]稱為「實施形態C」，將[D1]~[D14]稱為「實施形態D」。
根據本發明的製造方法及刷磨裝置，能夠達成刷磨程度均一的斜向刷磨。
特別是，根據某個特徵下的本發明的製造方法及刷磨裝置，能夠達成刷磨程度均一且搬出方向的斜向前進的傾斜較少的斜向刷磨。
A11~A16‧‧‧帶狀基材
A100‧‧‧刷磨裝置
A110‧‧‧自由輥
A11X‧‧‧軸
A130‧‧‧刷磨輥
A131‧‧‧刷磨輥上的位置
A132‧‧‧刷磨輥上的位置
A13X‧‧‧軸
A150‧‧‧自由輥
A15X‧‧‧軸
A600‧‧‧刷磨裝置
A610‧‧‧自由輥
A61X‧‧‧軸
A650‧‧‧自由輥
A65X‧‧‧軸
A800‧‧‧刷磨裝置
A810‧‧‧自由輥
A81X‧‧‧軸
A820‧‧‧浮上搬送裝置
A821‧‧‧搬送部
A821S‧‧‧搬送面
A822‧‧‧空氣導入部
A82X‧‧‧軸
A840‧‧‧浮上搬送裝置
A84X‧‧‧軸
A850‧‧‧自由輥
A85X‧‧‧軸
A1300‧‧‧刷磨裝置
A1310‧‧‧自由輥
A131X‧‧‧軸
A1330‧‧‧刷磨輥
A1332‧‧‧刷磨輥上的位置
A133X‧‧‧軸
A1350‧‧‧自由輥
A135X‧‧‧軸
A1600‧‧‧刷磨裝置
AP130-1~AP130-5‧‧‧搬送路徑
Aθw‧‧‧接觸角
B11~B16‧‧‧帶狀基材
B100‧‧‧刷磨裝置
B110‧‧‧自由輥
B11X‧‧‧軸
B130‧‧‧刷磨輥
B13X‧‧‧軸
B150‧‧‧自由輥
A15X‧‧‧軸
B400‧‧‧刷磨裝置
B410‧‧‧自由輥
B41X‧‧‧軸
B430‧‧‧刷磨輥
B43X‧‧‧軸
B450‧‧‧自由輥
B45X‧‧‧軸
BP10-1~BP10-7‧‧‧軋制線
C11~C16‧‧‧帶狀基材
C100‧‧‧刷磨裝置
C110‧‧‧自由輥
C11X‧‧‧軸
C120‧‧‧浮上搬送裝置
C121‧‧‧浮上搬送裝置上的位置
C122‧‧‧浮上搬送裝置上的位置
C123‧‧‧搬送部
C123S‧‧‧搬送面
C124‧‧‧空氣導入部
C12X‧‧‧軸
C130‧‧‧刷磨輥
C131‧‧‧刷磨輥上的位置
C132‧‧‧刷磨輥上的位置
C13X‧‧‧軸
C140‧‧‧浮上搬送裝置
C141‧‧‧浮上搬送裝置上的位置
C142‧‧‧浮上搬送裝置上的位置
C14X‧‧‧軸
C150‧‧‧自由輥
C15X‧‧‧軸
C800‧‧‧刷磨裝置
C810‧‧‧自由輥
C81X‧‧‧軸
C840‧‧‧浮上搬送裝置
C850‧‧‧自由輥
C85X‧‧‧軸
C1100‧‧‧刷磨裝置
C1140‧‧‧浮上搬送裝置
C114X‧‧‧軸
C1300‧‧‧刷磨裝置
C1310‧‧‧自由輥
C131X‧‧‧軸
C1330‧‧‧刷磨輥
C133X‧‧‧軸
C1332‧‧‧刷磨輥上的位置
C1350‧‧‧自由輥
C135X‧‧‧軸
CP130-1~CP130-5‧‧‧搬送路徑
Cθw13‧‧‧接觸角
Cθw12‧‧‧帶狀基材的旋轉角度
Cθw14‧‧‧帶狀基材的旋轉角度
Cθw84‧‧‧帶狀基材的旋轉角度
D11~D16‧‧‧帶狀基材
D11L、D11R‧‧‧帶狀基材的端部
D100‧‧‧刷磨裝置
D110‧‧‧自由輥
D11X‧‧‧軸
D130‧‧‧刷磨輥
D13X‧‧‧軸
D150‧‧‧自由輥
D15X‧‧‧軸
D300‧‧‧刷磨裝置
D310‧‧‧自由輥
D31X‧‧‧軸
D350‧‧‧自由輥
D35X‧‧‧軸
D700‧‧‧刷磨裝置
D710‧‧‧自由輥
D71X‧‧‧軸
D730‧‧‧刷磨輥
D73X‧‧‧軸
D750‧‧‧自由輥
D75X‧‧‧軸
DP70-1~DP70-7‧‧‧軋制線
第1圖係概要顯示實施形態A的刷磨裝置及使用該刷磨裝置的實施形態A的製造方法的操作的一例的側視圖。
第2圖係概要顯示實施形態A的刷磨裝置及使用該刷磨裝置的實施形態A的製造方法的操作的一例的上視圖。
第3圖係概要顯示實施形態A的刷磨裝置及使用該刷磨裝置的實施形態A的製造方法的操作的一例的後視圖。
第4圖係概要顯示第1~3圖所示的刷磨裝置A100中的刷磨輥A130與帶狀基材的關係的側視圖。
第5圖係概要顯示第1~3圖所示的刷磨裝置A100中的刷磨輥A130與帶狀基材的關係的側視圖。
第6圖係概要顯示實施形態A的刷磨裝置及使用該刷磨裝置的實施形態A的製造方法的操作的另一例的側視圖。
第7圖係概要顯示實施形態A的刷磨裝置及使用該刷磨裝置的實施形態A的製造方法的操作的另一例的上視圖。
第8圖係概要顯示實施形態A的刷磨裝置及使用該刷磨裝置的實施形態A的製造方法的操作的另一例的側視圖。
第9圖係概要顯示實施形態A的刷磨裝置及使用該刷磨裝置的實施形態A的製造方法的操作的另一例的上視圖。
第10圖係概要顯示第8圖及第9圖所示的刷磨裝置A800中的浮上搬送裝置A820的立體圖。
第11圖係概要顯示第8圖及第9圖所示的刷磨裝置A800中的浮上搬送裝置A820的側視圖。
第12圖係概要顯示第8圖及第9圖所示的刷磨裝置A800中的浮上搬送裝置A820的底視圖。
第13圖係概要顯示習知技術的刷磨裝置及使用該刷磨裝置的習知技術的製造方法的操作的一例的側視圖。
第14圖係概要顯示習知技術的刷磨裝置及使用該刷磨裝置的習知技術的製造方法的操作的一例的上視圖。
第15圖係概要顯示第13圖及第14圖所示的刷磨裝置A1300中的刷磨輥A1330與帶狀基材的關係的側視圖。
第16圖係概要顯示習知技術的刷磨裝置及使用該刷磨裝置的習知技術的製造方法的操作的另一例的側視圖。
第17圖係概要顯示習知技術的刷磨裝置及使用該刷磨裝置的習知技術的製造方法的操作的另一例的上視圖。
第18圖係放大顯示第1~3圖所示的自由輥A110的底視圖。
第19圖係概要顯示實施形態B的刷磨裝置及使用該刷磨裝置的實施形態B的製造方法的操作的一例的側視圖。
第20圖係概要顯示實施形態B的刷磨裝置及使用該刷磨裝置的實施形態B的製造方法的操作的一例的上視圖。
第21圖係放大顯示第19圖及第20圖所示的自由輥B110的底視圖。
第22圖係概要顯示實施形態B的刷磨裝置及使用該刷磨裝置的實施形態B的製造方法的操作的另一例的側視圖。
第23圖係概要顯示實施形態B的刷磨裝置及使用該刷磨裝置的實施形態B的製造方法的操作的另一例的上視圖。
第24圖係概要顯示實施形態B的刷磨裝置及使用該刷磨裝置的實施形態B的製造方法的操作的一例的後視圖。
第25圖係概要顯示實施形態C的刷磨裝置及使用該刷磨裝置的實施形態C的製造方法的操作的一例的側視圖。
第26圖係概要顯示實施形態C的刷磨裝置及使用該刷磨裝置的實施形態C的製造方法的操作的一例的上視圖。
第27圖係概要顯示第25圖及第26圖所示的刷磨裝置C100中的浮上搬送裝置C120、刷磨輥C130、浮上搬送裝置C140及帶狀基材的關係的側視圖。
第28圖係概要顯示第25圖及第26圖所示的刷磨裝置C100中的刷磨輥C130及從該處搬出的帶狀基材C14的關係的側視圖。
第29圖係概要顯示第25圖及第26圖所示的刷磨裝置C100中的浮上搬送裝置C120的立體圖。
第30圖係概要顯示第25圖及第26圖所示的刷磨裝置C100中的浮上搬送裝置C120的側視圖。
第31圖係概要顯示第25圖及第26圖所示的刷磨裝置C100中的浮上搬送裝置C120的底視圖。
第32圖係概要顯示實施形態C的刷磨裝置及使用該刷磨裝置的實施形態C的製造方法的操作的另一例的側視圖。
第33圖係概要顯示實施形態C的刷磨裝置及使用該刷磨裝置的實施形態C的製造方法的操作的另一例的上視圖。
第34圖係概要顯示第32圖及第33圖所示的刷磨裝置C800中的刷磨輥C130、浮上搬送裝置C840及帶狀基材的關係的側視圖。
第35圖係概要顯示實施形態C的刷磨裝置及使用該刷磨裝置的實施形態C的製造方法的操作的另一例的側視圖。
第36圖係概要顯示實施形態C的刷磨裝置及使用該刷磨裝置的實施形態C的製造方法的操作的另一例的上視圖。
第37圖係放大顯示第1圖及第2圖所示的自由輥C110的底視圖。
第38圖係概要顯示實施形態D的刷磨裝置及使用該刷磨裝置的實施形態D的製造方法的操作的一例的側視圖。
第39圖係概要顯示實施形態D的刷磨裝置及使用該刷磨裝置的實施形態D的製造方法的操作的一例的上視圖。
第40圖係概要顯示實施形態D的刷磨裝置及使用該刷磨裝置的實施形態D的製造方法的操作的另一例的側視圖。
第41圖係概要顯示實施形態D的刷磨裝置及使用該刷磨裝置的實施形態D的製造方法的操作的另一例的上視圖。
第42圖係以第38圖及第39圖所示的自由輥D110為例來 說明中高輥的形狀的剖面圖。
第43圖係以第40圖及第41圖所示的自由輥D310為例來說明中低輥的形狀的剖面圖。
第44圖係概要顯示習知技術的刷磨裝置及使用該刷磨裝置的習知技術的製造方法的操作的一例的側視圖。
第45圖係概要顯示習知技術的刷磨裝置及使用該刷磨裝置的習知技術的製造方法的操作的一例的上視圖。
第46圖係放大顯示第38圖及第39圖所示的自由輥D110的立體圖。
以下，顯示實施形態及例示物來詳細說明本發明。然而，本發明並不限定於以下所示的實施形態及例示物，在不脫離本發明的申請專利範圍及其均等的範圍內能夠實施任意的變更。例如，本發明能夠包含實施形態A~D的2個以上的特徵的組合物。
以下的說明中，使「搬送方向旋轉」是指規定出隨著帶狀基材往下流搬送，搬送方向會跟著變化的彎曲搬送路徑的意思。例如，藉由刷磨輥及自由輥等等的輥的圓筒面等的周面、以及浮上搬送裝置的曲面狀的搬送面，而規定搬送路徑為彎曲的狀態時，搬送方向會旋轉。本申請案中，輥、浮上搬送裝置等的支持搬送路徑上的帶狀基材的裝置，有時會單純稱之為「支持裝置」。
又，以下的說明中，某個支持裝置位於刷磨輥的「立即的」上流是指刷磨輥的上流具有該支持裝置，該支持裝 置與刷磨輥之間沒有存在其他旋轉搬送方向的支持裝置的狀態。同樣地，某個支持裝置位於刷磨輥的「立即的」下流是指刷磨輥的下流具有該支持裝置，該支持裝置與刷磨輥之間沒有存在其他旋轉搬送方向的支持裝置的狀態。
又，以下的說明中，「帶狀」的基材是指長度相對於寬度5倍以上的基材，較佳的是具有10倍或10倍以上的長度，具體來說是指長度足以被捲成滾筒狀來保管或搬運的程度的基材。薄膜的長度相對於寬度的比例上限並沒有特別限定，能夠例如是100,000倍以下。
本申請案的圖式中，以共通的座標軸X、Y、Z來標示座標。座標軸X、Y、Z是彼此正交的座標軸。XY平面(與座標軸X及Y雙方平行的面)是水平面(也就是與重力方向正交的面)。
以下，依序說明實施形態A~D。
[A1.實施形態A(i)]
首先說明本發明的實施形態A。實施形態A的製造方法是經刷磨之帶狀基材的製造方法，包括刷磨帶狀基材的特定刷磨步驟。刷磨步驟中，使從搬送路徑的上流搬入的帶狀基材接觸以旋轉軸為中心旋轉的刷磨輥，然後往該搬送路徑的下流搬出。
第1~3圖係概要顯示實施形態A的刷磨裝置及使用該刷磨裝置的實施形態A的製造方法的操作的一例的側視圖、上視圖及後視圖。顯示於此的形態會當作實施形態A(i)來做說明。第1圖中，從座標軸Y方向觀察刷磨裝置A100， 第2圖中從座標軸Z方向來觀察刷磨裝置A100，第3圖中，從座標軸X方向觀察刷磨裝置A100。
刷磨裝置A100包括刷磨輥A130、立即上流側的自由輥A110、立即下流側的自由輥A150。刷磨裝置A100的操作中，帶狀基材(A11~A16)會沿著箭頭AR1方向搬送。
搬入刷磨裝置A100的帶狀基材A11會被誘導而沿著上流側自由輥A110的圓筒面前進。透過這個誘導，帶狀基材的搬送方向會以超過0°的角度旋轉。自由輥A110是藉由支撐著軸的支持台(未圖示)，而以軸A11X為中心自由旋轉的狀態下設置的搬送輥。因此，自由輥A110會伴隨著被搬送的帶狀基材而朝箭頭AR3方向旋轉。
在這個例子中，自由輥A110所促使的搬送方向旋轉的旋轉軸會與自由輥A110本身的旋轉軸A11X一致，方向會與開始接觸自由輥A110至結束接觸的期間的帶狀基材的搬送方向正交。這個例子中，自由輥A110的軸A11X平行於座標軸Y。自由輥A110與搬送方向的夾角在不妨礙搬送的範圍內，也可以具有正交角度的±0.5°以內的誤差。在這個容許誤差範圍內，搬送方向旋轉的旋轉軸與接觸的帶狀基材的搬送方向正交的情況下，自由輥A110能夠將帶狀基材以緊抓的狀態搬送。
包含實施形態A~D的本申請案中，用以搬送帶狀基材的搬送裝置「緊握」帶狀基材來進行搬送是指，搬送裝置具有可動的周面，帶狀基材伴隨著周面的運動而被搬送，且在搬送時，帶狀基材與搬送裝置的周面之間不帶有滑動的態樣的 搬送。因此，實施形態A(i)中的自由輥A110是以緊握帶狀基材的狀態加以搬送的裝置，另一方面，刷磨輥、浮上搬送裝置等的搬送裝置並不是緊握帶狀基材的狀態加以搬送的裝置。本申請案中，能夠像這樣以緊握帶狀基材的狀態加以搬送的輥有時稱之為「緊握輥」。
搬送至上流側自由輥A110的下流的帶狀基材A13會被誘導而繼續沿著刷磨輥A130的圓筒面前進。這個例子中，帶狀基材A13的搬入方向為水平方向，也就是平行XY平面的方向。又，刷磨輥A130的軸A13X平行於XY平面，相對於座標軸Y傾斜45°。實施形態A的製造方法及實施形態A的刷磨裝置中使用的刷磨輥的材質並沒有特別限定，能夠是圓筒面具備例如不織布等的適合刷磨的材料的輥。
與自由輥A110不同，刷磨輥A130被驅動裝置(未圖示)驅動而以軸A13X為中心朝箭頭AR2的方向旋轉，藉此刷磨輥A130的圓筒面會刷磨帶狀基材的一側的表面，以進行刷磨步驟。
實施形態A的製造方法中，刷磨輥以超過0°的接觸角與帶狀基材接觸，藉此旋轉帶狀基材的搬送方向。又，帶狀基材的搬送方向與刷磨輥的旋轉軸的夾角非正交。在此所說的帶狀基材的搬送方向是接觸著刷磨輥的帶狀基材的搬送方向。實施形態A(i)的例子中，接觸著刷磨輥A130的帶狀基材的搬送方向與刷磨輥A130的軸A13X的夾角並非正交。像這樣，以超過0°的接觸角接觸，能夠讓帶狀基材對刷磨輥施加高壓力的接觸。又，形成這種非正交的角度，能夠以刷磨輥達 成斜向刷磨。
接觸角在5°以上為佳，在10°以上更佳，另一方面，在120°以下為佳，在90°以下更佳。將接觸角設定在這個範圍內，不需施加過度負荷至薄膜就能夠給予高的配向控制力。又，帶狀基材的搬送方向與刷磨輥的旋轉軸的夾角稱為「擺動角」。擺動角在超過0°不滿89.5°的範圍內，10°以上為佳，在35°以上更佳，在40°以上特佳，另一方面，在80°以下為佳，在55°以下更佳，在50°以下特佳。斜向刷磨中，常常會要求進行刷磨使得與帶狀基材的長度方向夾角45°的方向有配向控制力，將擺動角設定在上述範圍內，就能夠容易地達成上述的在希望的方向上給予配向控制力。
實施形態A的製造方法中，刷磨輥的旋轉速度能夠適當地調整以獲得較合適的刷磨量。刷磨量能夠以搬送路徑上帶狀基材與刷磨輥從接觸開始至接觸結束為止的刷磨輥的圓筒面相對於帶狀基材的移動距離來表示。具體來說，刷磨輥的旋轉速度能夠調整，使得刷磨輥的圓筒面的圓周速度與刷磨輥接觸帶狀基材的時間的乘積在希望的範圍內。更具體來說，刷磨輥的圓筒面的圓周速度會利用刷磨輥的直徑d(mm)及旋轉速度t(rpm)，以πdt/60(mm/秒)來求出。刷磨輥接觸帶狀基材的時間會利用線速度v(mm/分)、接觸角Aθw(°)及擺動角(°)，以(πdAθw/360)÷(vsin/60)(秒)來求出。因此，兩者的乘積為(π2d2Aθwt)/(360vsin)(mm)。該乘積的較佳範圍是500mm~100000mm。因此，能夠調整刷磨輥的旋轉速度，使該乘積在上述較佳的範圍內。
刷磨後被搬送至刷磨輥A130的下流的帶狀基材A14接著被誘導而沿著下流側自由輥A150的圓筒面前進。藉由此誘導，帶狀基材的搬送方向以超過0°的角度旋轉。自由輥A150是藉由支持軸的支持台(未圖示)而設置成以軸A15X為中心自由旋轉的搬送輥。因此，自由輥A150會隨著被搬送的帶狀基材而朝箭頭AR3的方向旋轉。
在此例中，自由輥A150與自由輥A110同樣是緊握輥，自由輥A150所促使的搬送方向旋轉的旋轉軸會與自由輥A150本身的旋轉軸A15X一致，方向會與開始接觸自由輥A150至結束接觸的期間的帶狀基材的搬送方向正交。這個例子中，相較於自由輥A110的軸A11X平行於座標軸Y，自由輥A150的軸A15X相對於座標軸Y大幅傾斜。因此，自由輥A110的軸A11X及自由輥A150的軸A15X形成大幅偏離平行狀態的關係。
搬送至下流側自由輥A150的帶狀基材A16會做為被刷磨過的帶狀基材而被保存或適當地提供至使用的步驟。例如，帶狀基材A16能夠直接被搬送到進行液晶組成物塗布的步驟的產線上，或者是使用適當的卷繞裝置捲起來保存。
刷磨裝置A100的上流側、下流側或者是兩者，可設置咬送輥、卷繞裝置等的適當的裝置，藉此能夠以適當的線速度及張力來搬送帶狀基材。線速度及張力能夠因應使用的帶狀基材、及希望的刷磨條件等而設定為適合的值。例如，線速度設定為1~50m/分為佳。又，張力設定為30~500N/m為佳。
[A1.1.刷磨輥與帶狀基材的關係]
實施形態A的製造方法的刷磨步驟中，在搬入刷磨輥的帶狀基材與刷磨輥接觸開始的位置，帶狀基材的搬入方向在帶狀基材的整個寬度方向上相同，且在搬出刷磨輥的帶狀基材與刷磨輥接觸結束的位置，帶狀基材的搬出方向在帶狀基材的整個寬度方向上相同。又，實施形態A的刷磨裝置中，刷磨輥及其他的支持裝置會配置成形成上述的位置關係。
這樣的特徵將參照第4~5圖來說明。第4~5圖係概要顯示第1~3圖所示的刷磨裝置A100中的刷磨輥A130與帶狀基材的關係的側視圖。第4圖中從軸A13X方向觀察刷磨輥A130，第5圖中從Y軸座標方向觀察刷磨輥A130。第4圖中，顯示了搬入刷磨輥A130的帶狀基材A13與從刷磨輥A130搬出的帶狀基材A14，第5圖為了圖式清楚只顯示帶狀基材A14。
第4圖的例子中，搬入刷磨輥A130的帶狀基材A13以箭頭AR13所示的搬入方向前進，在位置A131開始與刷磨輥A130接觸。因此，在搬入刷磨輥的帶狀基材與刷磨輥接觸開始的位置處，帶狀基材的搬入方向是箭頭AR13所示的方向。
之後，帶狀基材以接觸角Aθw與刷磨輥A130接觸，在位置A132結束與刷磨輥A130的接觸。然後，從刷磨輥A130搬出的帶狀基材A14以箭頭AR14所示的搬出方向前進。因此，從刷磨輥搬出的帶狀基材與刷磨輥接觸結束的位置處，帶狀基材的搬出方向是箭頭AR14所示的方向。
又，箭頭AR14所示的搬出方向在帶狀基材A14 的整個寬度方向相同。也就是，如第5圖所示，在位置A132處從刷磨輥A130搬出的帶狀基材A14的搬出方向在整個寬度方向上分別是箭頭AR14-1~AR14-5所示的方向，它們都是同一方向。在這個例子中，箭頭AR13所示的搬入方向也是在帶狀基材A13的整個寬度方向上相同。
在此所說的搬入方向或搬出方向在整個寬度方向上「相同」能夠包括不損及本發明的效果的範圍內的容許誤差。例如，能夠以在帶狀基材寬度方向的中心的搬入或搬出方向(第5圖的例子中是箭頭AR14-3所示的搬出方向)為基準，與基準的方向夾角0.5°以內的方向都能夠當成是「相同方向」。
第1~5圖所示的例子中，自由輥A110的軸A11X與自由輥A150的軸A15X的關係配置成如第1~3圖所示的偏離平行狀態的關係，藉此使搬入刷磨輥的搬入方向以及搬出刷磨輥的搬出方向在帶狀基材的整個寬度方向上相同。像這樣，將刷磨輥的上流及下流側的自由輥的軸的關係配置成非平行狀態的話，在通用的製造線上很難將刷磨裝置配置在小空間中。然而，做這樣的配置，使搬入刷磨輥的搬入方向以及搬出刷磨輥的搬出方向在帶狀基材的整個寬度方向上相同，能夠達成帶狀基材的搬送路徑的長度在帶狀基材的整個寬度方向上均一的狀態的刷磨。藉此，不會扭曲帶狀基材而能夠以均一的壓力來接觸刷磨輥，且能夠達成刷磨程度均一的斜向刷磨。
第1~5圖所示的例子中，刷磨輥A130配置成旋轉軸A13X在水平方向，被搬入的帶狀基材A13與刷磨輥A130在接觸開始位置以前的帶狀基材A13的搬入方向(箭頭AR13 所示的方向)是水平。像這樣，將搬入方向設定為水平狀態，再調整下流的自由輥A150的軸方向，能夠在維持搬入方向在整個寬度方向上相同的狀態下調整搬出方向，且能夠容易地決定自由輥與刷磨輥的位置，使得搬入方向及搬出方向雙方在整個寬度方向上相同。更具體地說明的話，自由輥及刷磨輥的定位一般是設計成相對於水平台座調整角度，因此將自由輥A110及刷磨輥A130配置在水平面，再水平地調整帶狀基材的搬送方向這種定位比較容易進行。因此，進行這種定位後，然後再以進行只調整自由輥A150的軸方向的順序來定位，藉此能夠容易地進行精密的定位。
相反地，將搬出的帶狀基材與刷磨輥在接觸結束位置的帶狀基材A14的搬出方向設定成水平，調整自由輥A110的軸方向，也能夠容易地進行定位。然而，上流的自由輥的軸的複雜調整可能會對下流的搬送路徑帶來影響，因此將搬入的帶狀基材A13的搬入方向設定為水平的調整方向比較容易。
關於實施形態A的刷磨輥與帶狀基材的關係的特徵相比對習知技術來進一步說明。第13~14圖係概要顯示習知技術的刷磨裝置及使用該刷磨裝置的習知技術的製造方法的操作的一例的側視圖及上視圖。第13~14圖中，刷磨裝置A1300包括刷磨輥A1330、位於立即上流側的自由輥A1310(緊握輥)、位於立即下流側的自由輥A1350(緊握輥)。在刷磨裝置A1300的操作中，帶狀基材(A11~A16)會被搬送到箭頭AR1方向。自由輥A1310的軸A131X與自由輥A1350的軸A135X平行地配置。
第13圖及第14圖的例子中，刷磨輥A1330附近的帶狀基材的搬送路徑會產生扭曲，結果，在搬入刷磨輥的帶狀基材與刷磨輥接觸開始的位置處，帶狀基材的搬入方向在帶狀基材的整個寬度方向上並不相同，且在搬出刷磨輥的帶狀基材與刷磨輥接觸結束的位置處，帶狀基材的搬出方向在帶狀基材的整個寬度方向上並不相同。具體來說，如第15圖所示，帶狀基材與刷磨輥A1330接觸結束的位置A1332並不平行於刷磨輥A1330的軸A133X，在該處以扭曲的狀態被搬出的帶狀基材A14的搬出方向如箭頭AR14-6~AR14-10所示，在帶狀基材的整個寬度方向上並不相同。
因為上述的扭曲，第13~14圖的例子中，帶狀基材的搬送路徑的長度在帶狀基材的整個寬度方向上並不均一。具體來說，如第14圖所示，與自由輥A1310接觸結束直到與自由輥A1350接觸開始為止的帶狀基材的搬送路徑AP130-1~AP130-5的長度並不均一。更具體來說，端部的搬送路徑AP130-1及AP130-5最長，中央部的搬送路徑AP130-3最短，在這之間的搬送路徑AP1130-2及AP130-4會比端部的搬送路徑短且比中央部的搬送路徑長。如果搬送路徑的長度產生這樣的不均一，當被搬送的帶狀基材與刷磨輥A1330接觸時，中央部的張力會比端部的張力弱。或者，如果是伸縮比例較少的帶狀基材的話，中央部的帶狀基材會有多餘的狀態而在中央部產生不均勻的鬆弛。因此，帶狀基材對刷磨輥的接觸壓力變得不均一，甚至刷磨的程度變得不均一。相對於此，實施形態A的製造方法中，不對帶狀基材造成扭曲就能夠以均一的 壓力接觸刷磨輥，且能夠達成刷磨程度均一的斜向刷磨。
第13~14圖的例子中，如果充分地拉長自由輥A1310與A1350的間隔，這種搬送路徑的長度不均一會相對地減少。但這個情況下，沒有被支持的狀態下搬送帶狀基材的路徑會變長，可能會發生薄膜晃動所產生的異常，或者是用來設置製造設備的空間變大的不良狀況。實施形態A中，最靠近刷磨輥的上流側的緊握輥到最靠近刷磨輥的下流側的緊握輥之間的搬送路徑的長度在薄膜寬度的5倍以下為佳，在薄膜寬度的3倍以下更佳。而搬送路徑的長度下限並沒有特別限定，例如能夠是薄膜寬度的0.3倍以上。
[A1.2.剩餘量]
實施形態A中，搬入方向或搬出方向在整個寬度方向上於容許誤差範圍內相同的話，帶狀基材的搬送路徑的剩餘量會是最小值。
實施形態A中，剩餘量是將跨過刷磨輥搬送的帶狀基材的軋制線按以下的方式設定，然後測量或計算在帶狀基材的寬度方向上的各種位置的軋制線長度，從這個長度的測量結果或計算結果中求出剩餘量。具體的剩餘量的求法如下。
假設最靠近刷磨輥的上流側的緊握輥是起點輥。又假設最靠近刷磨輥的下流側的緊握輥是終點輥。
接著，在起點輥的周面上，設定輥周面上的線以成為軋制線的起點。這個軋制線的起點線是將搬送的帶狀基材從起點輥離開的位置設定為基準。帶狀基材從起點輥離開的時間點有可能在帶狀基材的整個寬度方向上都是同時，也有可能 因為搬送路徑的扭曲等而在帶狀基材的整個寬度方向上並不是同時。因此，包含起點輥的周面上帶狀基材最先離開起點輥的點以及起點輥的軸的平面、以及起點輥的周面，這兩個面相交的位置的線規定為軋制線的起點線。起點輥是圓筒型輥的情況下，這個軋制線的起點線是平行於輥軸的輥的周面上的直線，成為通過起點輥的周面上帶狀基材最先離開起點輥的點的線。例如第18圖所示，帶狀基材A13從做為起點輥的自由輥A110離開的位置是以相對於軸A11X傾斜的線AL11所標示的位置的情況下，以線AL11所標示的位置之中，帶狀基材A13最先從自由輥A110離開的點是以AQ10-1所標示的點。因此，包含這個點AQ10-1及軸A11X的平面、以及自由輥A110的周面，這兩個面相交的位置的線就是線AL13所示的直線，而這個直線AL13被規定為軋制線的起點線。
接著，在終點輥的周面上，設定輥周面上的線以成為軋制線的終點。這個軋制線的終點線是將搬送的帶狀基材接觸終點輥的位置設定為基準。帶狀基材接觸終點輥的時間點有可能在帶狀基材的整個寬度方向上都是同時，也有可能因為搬送路徑的扭曲等而在帶狀基材的整個寬度方向上並不是同時。因此，包含終點輥的周面上帶狀基材最晚接觸終點輥的點以及終點輥的軸的平面、以及終點輥的周面，這兩個面相交的位置的線規定為軋制線的終點線。終點輥是圓筒型輥的情況下，這個軋制線的終點線是平行於輥軸的輥的周面上的直線，成為通過終點輥的周面上帶狀基材最晚接觸終點輥的點的線。
接著，規定帶狀基材的寬度方向各個位置的軋制 線。軋制線的起點會規定在規定的軋制線的起點的直線的兩端部的2的位置以及兩端部的內側等間隔的5個位置以上。因此，軋制線的數目n在7以上。例如第18圖所示的例子中，軋制線的起點的直線AL13的兩端的點AQ10-1及AQ-17、以及其內側的點AQ10-2~AQ10-6會規定為軋制線的起點。軋制線的終點與軋制線的起點同樣地，會規定在規定的軋制線的終點的直線的兩端部的2的位置以及兩端部的內側等間隔的5個位置以上，軋制線的起點數與終點數相同。搬送路徑上，對應的軋制線的起點與終點的連線會規定為軋制線。軋制線的數目n的上限並沒有限定，能夠設定成無限大的數目，但為了操作上的方便，例如能設定在100以下。又，軋制線的數目能夠設定使薄膜的寬度方向上的軋制線間隔為10mm~500mm的數目。
接著，測量各個軋制線的長度。軋制線的測量能夠藉由在抽出帶狀基材的狀態，沿著軋制線的起點到終點拉一條線，再測量這條線的長度來達成。在這個情況下，線會沿著帶狀基材的搬送位置不鬆弛地拉緊。例如，即使是帶狀基材因為皺摺等而從刷磨輥浮起來的位置，線會接觸著刷磨輥拉緊。又，也可以取代實測，而根據輥的位置資訊來計算求出該軋制線。
獲得的n個軋制線的長度P1、P2、...Pn個別的剩餘量εk(k=1、2、...n)以及剩餘量的最大值εmax會使用Pk、最短的軋制線長度Pmin、以及最長的軋制線長度Pmax，以下述(3)及(4)式求出。
εk(%)=(Pk-Pmin)/Pmin×100(%) (3)式
εmax(%)=(Pmax-Pmin)/Pmin×100(%) (4)式
實施型態A中，此剩餘量的最大值εmax在0%~0.1%為佳，在0%~0.05%更佳。
帶狀基材的寬度在0.2m以上為佳，在0.4m以上更佳，另一方面在4m以下為佳，在3m以下更佳。實施型態A中，即使是這種寬度的帶狀基材也能夠在整個寬度方向上良好地進行刷磨。
[A2.實施形態A(ii)]
實施形態A(i)中，搬入刷磨輥A130的帶狀基材A13的搬入方向是水平方向，但本發明並不限於此，搬入刷磨輥的帶狀基材的搬入方向及從刷磨輥搬出的帶狀基材的搬出方向能夠是任意方向，兩者也可以都不是水平方向。這樣的例子將用以下的實施形態A(ii)來說說明。
第6圖及第7圖係概要顯示實施形態A的刷磨裝置及使用該刷磨裝置的實施形態A的製造方法的操作的另一例的側視圖及上視圖。在此所示的形態會作為實施形態A(ii)來說明。第6圖及第7圖所示的刷磨裝置A600是將第1~5圖所示的刷磨裝置A100以刷磨輥A130的軸A13X為中心旋轉，變更自由輥A110及A150的位置而做成自由輥A610及A650，在這點上與刷磨裝置A100不同，其他的點則相同。自由輥A610及A650的軸A61X及A65X都不平行於水平面，因此，帶狀基材A13的搬入方向及帶狀基材A14的搬出方向都不是水平。這種刷磨裝置A600的情況下，要決定自由輥及刷 磨輥的位置使搬入方向及搬出方向雙方在整個寬度方向上相同便得更為複雜，但因為能夠設定搬入刷磨裝置A600的帶狀基材A11的朝向以及搬出刷磨裝置A600的帶狀基材A16的朝向與刷磨裝置A100不同，所以在需要這種態樣的朝向的情況下就會有用。
[A3.實施形態A(iii)]
實施形態A(i)中，刷磨輥A130的立即上流側及立即下流側的支持裝置是緊握輥，但本發明並不限定於此，立即上流側、立即下流側、或者雙方都可以設置緊握輥以外的支持裝置。這樣的例子將用以下的實施形態A(iii)來說說明。
第8圖及第9圖係概要顯示實施形態A的刷磨裝置及使用該刷磨裝置的實施形態A的製造方法的操作的另一例的側視圖及上視圖。在此所示的形態會作為實施形態A(iii)來說明。第8圖及第9圖所示的刷磨裝置A800包括刷磨輥A130、其上流側的自由輥A810、下流側的自由輥A850。刷磨裝置A800更包括位於刷磨輥A130與自由輥A810之間的浮上搬送裝置A820、及位於刷磨輥A130與自由輥A850之間的浮上搬送裝置A840。
刷磨輥A800的操作中，帶狀基材(A11~A16)會往箭頭AR1方向搬送。搬入刷磨裝置A800的帶狀基材A11被誘導而沿著上流側自由輥A810的圓筒面前進。藉由這個誘導，帶狀基材的搬送方向以超過0°的角度旋轉。自由輥A810是能夠以軸A81X為中心自由旋轉的狀態下設置的緊握輥。因此，自由輥A810會伴隨著搬送而來的帶狀基材而朝箭頭AR3 方向旋轉。自由輥A810的軸A81X平行於座標軸Y。
搬送到上流側自由輥A810的下流的帶狀基材A12接著被誘導而沿著浮上搬送裝置A820的搬送面前進，其搬送方向旋轉。浮上搬送裝置A820將參照第10~12圖更具體地說明。第10~12圖係概要顯示第8圖及第9圖所示的刷磨裝置A800中的浮上搬送裝置A820的立體圖、側視圖及底面圖。如第10~12圖所示，浮上搬送裝置A820包括具有搬送面A821S的搬送部A821、及空氣導入部A822(第8圖及第9圖中未圖示)。空氣導入部A822具備將加壓至搬送部A821的空氣以可調節壓力的方式導入的裝置(未圖示)。搬送部A821是以軸A82X為軸的半圓筒形，搬送面A821S是沿著圓筒形的曲面。搬送部A821的搬送面A821S設置有多個孔，與空氣導入部A822連通，能夠噴出從空氣導入部A822導入的空氣。
浮上搬送裝置A820使用時，帶狀基材會以在箭頭AR4方向被拉緊的狀態被誘導至搬送面A821S。因為這個拉緊，帶狀基材會往箭頭AR5方向施壓。另一方面，將空氣從搬送面A821S的孔噴出，帶狀基材被朝向箭頭AR6方向施壓。藉由適當地調整空氣的噴出壓力，能夠平衡拉緊帶狀基材帶來的壓力與空氣噴出帶來的壓力。結果帶狀基材與浮上搬送裝置A820之間，由供給的空氣的空氣壓形成空氣層，能夠在帶狀基材不與搬送面A821S接觸的狀態下，沿著搬送面A821S浮上搬送帶狀基材。這個浮上搬送的結果能夠使搬送伴隨著以軸A82X為旋轉軸方向的搬送方向的旋轉。再加上，帶狀基材不接觸搬送面A821S，因此也能夠使帶狀基材在平行於軸A82X 的方向(第12圖中箭頭AR7所示的方向)搬送。能夠朝向AR4方向及AR7方向搬送的結果，帶狀基材就能夠朝向相對於軸A82X傾斜的方向，即第12圖箭頭AR1所示的斜向搬送方向搬送。使用作為緊握輥的輥來進行這種朝斜方向的搬送的情況下，輥的表面與帶狀基材表面之間會產生摩擦，但使用浮上搬送裝置的情況下，就能夠不伴隨帶狀基材的表面摩擦來達成這種朝斜方向的搬送。
搬送至浮上搬送裝置A820的下流的帶狀基材A13接著被誘導而沿著刷磨輥A130的圓筒面前進。在這個例子中，刷磨輥A130的軸A13X與XY平面平行，相對於座標軸Y以45°的角度傾斜。刷磨輥A130被驅動裝置(未圖示)驅動而以軸A13X為中心朝箭頭AR2方向旋轉，藉此，刷磨輥A130的圓筒面刷磨帶狀基材的一側的面，進行刷磨步驟。刷磨輥A130以超過0°的接觸角與帶狀基材接觸，藉此旋轉帶狀基材的搬送方向。又，帶狀基材的搬送方向與刷磨輥的旋轉軸的夾角非正交，結果與實施形態A(i)同樣地達成以刷磨輥進行斜向刷磨。在此所謂的斜方向能夠是恰好正交方向以外的任意方向，但具體例如能夠是與正交方向差距超過±5°的角度。
搬送至刷磨輥A130的下流的經刷磨過的帶狀基材A14接著被誘導而沿著浮上搬送裝置A840的搬送面前進，其搬送方向旋轉。浮上搬送裝置A840是與浮上搬送裝置A820相同的裝置。
搬送至浮上搬送裝置A840的下流的經刷磨過的帶狀基材A15接著被誘導而沿著下流側自由輥A850的圓筒面前 進。藉由這種誘導，帶狀基材的搬送方向以超過0°的角度旋轉。自由輥A850是能夠以軸A85X為中心自由旋轉的狀態設置的緊握輥。因此，自由輥A850會伴隨著搬送的帶狀基材而朝向箭頭AR3方向旋轉。自由輥A850的軸A85X平行於座標軸Y。
這個例子中，上流側的自由輥A810及下流側的自由輥A850的軸彼此都平行於水平方向配置。即使在這樣的配置，更具備浮上搬送裝置A820及A840，調節這些軸A82X及A84X的位置及朝向，藉此與實施形態A(i)同樣地，在搬入刷磨輥的帶狀基材與刷磨輥開始接觸的位置，帶狀基材的搬入方向在帶狀基材的整個寬度方向上相同，且在搬出刷磨輥的帶狀基材與刷磨輥結束接觸的位置，帶狀基材的搬出方向在帶狀基材的整個寬度方向上相同。結果，能夠達成刷磨程度均一的斜向刷磨。
[B1.實施形態B(i)]
接著說明說明本發明的實施形態B。實施形態B的製造方法是經刷磨之帶狀基材的製造方法，包括刷磨帶狀基材的特定刷磨步驟。刷磨步驟中，一邊對搬送的帶狀基材施加搬送方向的張力，一邊使帶狀基材接觸以旋轉軸為中心旋轉的刷磨輥進行刷磨。
第19~20圖係概要顯示實施形態B的刷磨裝置及使用該刷磨裝置的實施形態B的製造方法的操作的一例的側視圖、上視圖。顯示於此的形態會當作實施形態B(i)來做說明。第19圖中，從座標軸Y方向觀察刷磨裝置B100，第20 圖中從座標軸Z方向來觀察刷磨裝置B100。
刷磨裝置B100包括刷磨輥B130、立即上流側的自由輥B110、立即下流側的自由輥B150。刷磨裝置B100的操作中，帶狀基材(B11~B16)會沿著箭頭BR1方向搬送。
搬入刷磨裝置B100的帶狀基材B11會被誘導而沿著上流側自由輥B110的圓筒面前進。透過這個誘導，帶狀基材的搬送方向會以超過0°的角度旋轉。自由輥B110是藉由支撐著軸的支持台(未圖示)，而以軸B11X為中心自由旋轉的狀態下設置的搬送輥。因此，自由輥B110會伴隨著被搬送的帶狀基材而朝箭頭BR3方向旋轉。
自由輥B110所促使的搬送方向旋轉的旋轉軸會與自由輥B110本身的旋轉軸B11X一致，方向會與開始接觸自由輥B110至結束接觸的期間的帶狀基材的搬送方向正交。這個例子中，自由輥B110的軸B11X平行於座標軸Y。
自由輥B110與搬送方向的夾角在不妨礙搬送的範圍內，也可以具有正交角度的±0.5°以內的誤差。在這個容許誤差範圍內，搬送方向旋轉的旋轉軸與接觸的帶狀基材的搬送方向正交的情況下，自由輥B110能夠將帶狀基材以緊抓的狀態搬送。
搬送至上流側自由輥B110的下流的帶狀基材B13會被誘導而繼續沿著刷磨輥B130的圓筒面前進。刷磨輥B130的軸B13X平行於XY平面，相對於座標軸Y傾斜45°。實施形態B的製造方法及實施形態B的刷磨裝置中使用的刷磨輥的材質並沒有特別限定，能夠是圓筒面具備例如不織布等的適合 刷磨的材料的輥。
與自由輥B110不同，刷磨輥B130被驅動裝置(未圖示)驅動而以軸B13X為中心朝箭頭BR2的方向旋轉，藉此刷磨輥B130的圓筒面會刷磨帶狀基材的一側的表面，以進行刷磨步驟。
實施形態B的製造方法中，刷磨輥以超過0°的接觸角與帶狀基材接觸，藉此旋轉帶狀基材的搬送方向。又，帶狀基材的搬送方向與刷磨輥的旋轉軸的夾角非正交。在此所說的帶狀基材的搬送方向是接觸著刷磨輥的帶狀基材的搬送方向。實施形態B(i)的例子中，接觸著刷磨輥B130的帶狀基材的搬送方向與刷磨輥B130的軸B13X的夾角並非正交。像這樣，以超過0°的接觸角接觸，能夠讓帶狀基材對刷磨輥施加高壓力的接觸。又，形成這種非正交的角度，能夠以刷磨輥達成斜向刷磨。
接觸角是刷磨輥與帶狀基材接觸的周面部份的扇形中心角。中心角是從刷磨輥的軸方向觀察的角度。接觸角在5°以上為佳，在10°以上更佳，另一方面，在120°以下為佳，在90°以下更佳。將接觸角設定在這個範圍內，不需施加過度負荷至薄膜就能夠給予高的配向控制力。特別是實施形態B的製造方法中，將接觸定在較佳的範圍內，能夠一邊使刷磨程度均一，一邊實現給予高配線控制力。一般來說，給予高配向控制力的方法除了提高接觸角以外，也可以考慮使用支撐輥從刷磨面的背側將帶狀基材壓向刷磨輥。使用支撐輥的方法中，以支撐輥及刷磨輥將帶狀基材夾於其間，使帶狀基材以高壓力接 觸刷磨輥。此時，支撐輥與帶狀基材之間緊握而產生強摩擦力，因此帶狀基材會受到壓向支撐輥的旋轉方向的力。結果，薄膜的位置會朝向被押出的方向偏移。另一方面，以施加於帶狀基材的張力將帶狀基材壓向刷磨輥的方法中，產生將帶狀基材壓向與搬送方向不同的方向的力的只有沒有緊握的刷磨輥，因此薄膜的位置偏移的問題減小。因此，實施形態B的製造方法的較佳態樣中，帶狀基板以沒有從刷磨面的背側受到將帶狀基材壓向刷磨輥的狀態下來進行刷磨。又，帶狀基材的搬送方向與刷磨輥的旋轉軸的夾角稱為「擺動角」。擺動角在超過0°不滿89.5°的範圍內，10°以上為佳，在35°以上更佳，在40°以上特佳，另一方面，在80°以下為佳，在55°以下更佳，在50°以下特佳。斜向刷磨中，常常會要求進行刷磨使得與帶狀基材的長度方向夾角45°的方向有配向控制力，將擺動角設定在上述範圍內，就能夠容易地達成上述的在希望的方向上的配向控制力。
實施形態B的製造方法中，刷磨輥的旋轉速度能夠適當地調整以獲得較合適的刷磨量。刷磨量能夠以搬送路徑上帶狀基材與刷磨輥從接觸開始至接觸結束為止的刷磨輥的圓筒面相對於帶狀基材的移動距離來表示。具體來說，刷磨輥的旋轉速度能夠調整，使得刷磨輥的圓筒面的圓周速度與刷磨輥接觸帶狀基材的時間的乘積在希望的範圍內。更具體來說，刷磨輥的圓筒面的圓周速度會利用刷磨輥的直徑d(mm)及旋轉速度t(rpm)，以πdt/60(mm/秒)來求出。刷磨輥接觸帶狀基材的時間會利用線速度v(mm/分)、接觸角θw(°)及 擺動角(°)，以(πdθw/360)÷(vsin/60)(秒)來求出。因此，兩者的乘積為(π2d2θwt)/(360vsin)(mm)。該乘積的較佳範圍是500mm~100000mm。因此，能夠調整刷磨輥的旋轉速度，該乘積在上述較佳的範圍內。
刷磨後被搬送至刷磨輥B130的下流的帶狀基材B14接著被誘導而沿著下流側自由輥B150的圓筒面前進。藉由此誘導，帶狀基材的搬送方向以超過0°的角度旋轉。自由輥B150是藉由支持軸的支持台(未圖示)而設置成以軸B15X為中心自由旋轉的搬送輥。因此，自由輥B150會隨著被搬送的帶狀基材而朝箭頭BR3的方向旋轉。
在此例中，自由輥B150與自由輥B110同樣是緊握帶狀基材的狀態下進行搬送的搬送裝置，自由輥B150所促使的搬送方向旋轉的旋轉軸會與自由輥B150本身的旋轉軸B15X一致，方向會與開始接觸自由輥B150至結束接觸的期間的帶狀基材的搬送方向正交。這個例子中，相較於自由輥B110的軸B11X與自由輥B150的B15X平行配置。
搬送至下流側自由輥B150的帶狀基材B16會做為被刷磨過的帶狀基材而被保存或適當地提供至使用的步驟。例如，帶狀基材B16能夠直接被搬送到進行液晶組成物塗布的步驟的產線上，或者是使用適當的卷繞裝置捲起來保存。
刷磨裝置B100的上流側、下流側或者是兩者，可設置咬送輥、卷繞裝置等的適當的裝置，藉此能夠以適當的線速度及張力來搬送帶狀基材。線速度及張力能夠因應使用的帶狀基材、及希望的刷磨條件等而設定為適合的值。例如，線速 度設定為1~50m/分為佳。又，張力設定為30~500N/m為佳。
[B1.1.剩餘量]
第19圖及第20圖所示的實施形態B(i)的例子中，刷磨輥B130附近的帶狀基材的搬送路徑會產生扭曲，結果，帶狀基材的搬送路徑長度在帶狀基材的整個寬度方向上並不相同。具體來說，如第20圖所示，與刷磨輥B110接觸結束後直到與自由輥B150接觸開始為止的帶狀基材的搬送路徑軋制線BP10-1~BP10-7的長度並不均一。更具體來說，端部的軋制線BP10-1及BP10-7最長，中央部的軋制線BP130-5最短，在這之間的軋制線會比端部的軋制線短且比中央部的軋制線長。如果軋制線的長度產生這樣的不均一，當被搬送的帶狀基材與刷磨輥B130接觸時，中央部的張力會比端部的張力弱。或者是，如果伸縮的比例不足的帶狀基材的話，中央部的帶狀基材會有多餘的狀態而在中央部產生不均勻的鬆弛。因此，帶狀基材對刷磨輥的接觸壓力變得不均一，甚至刷磨的程度變得不均一。
實施形態B的製造方法中，將這種軋制線的長度在寬度方向的差異規定為剩餘量。將此剩餘量與其他條件的關係設定在特定範圍，就能夠使帶狀基材對刷磨輥的接觸壓力不均一在可容許的範圍內，且使刷磨的程度均一。
實施形態B中，剩餘量是將跨過刷磨輥搬送的帶狀基材的軋制線按以下的方式設定，然後測量或計算在帶狀基材的寬度方向上的各種位置的軋制線長度，從這個長度的測量結果或計算結果中求出剩餘量。具體的剩餘量的求法如下。
假設刷磨輥的上流側的以緊握帶狀基材的狀態搬送的輥中最靠近刷磨輥的上流側者是起點輥。又假設刷磨輥的下流側的以緊握帶狀基材的狀態搬送的輥中最靠近刷磨輥的下流側者是終點輥。
接著，在起點輥的周面上，設定輥周面上的線以成為軋制線的起點。這個軋制線的起點線是將搬送的帶狀基材從起點輥離開的位置設定為基準。帶狀基材從起點輥離開的時間點有可能在帶狀基材的整個寬度方向上都是同時，也有可能因為搬送路徑的扭曲等而在帶狀基材的整個寬度方向上並不是同時。因此，包含起點輥的周面上帶狀基材最先離開起點輥的點以及起點輥的軸的平面、以及起點輥的周面，這兩個面相交的位置的線規定為軋制線的起點線。起點輥是圓筒型輥的情況下，這個軋制線的起點線是平行於輥軸的輥的周面上的線，成為通過起點輥的周面上帶狀基材最先離開起點輥的點的線。例如第21圖所示，帶狀基材B13從做為起點輥的自由輥B110離開的位置是以相對於軸B11X傾斜的線BL11所標示的位置的情況下，以線BL11所標示的位置之中，帶狀基材B13最先從自由輥B110離開的點是以BQ10-1所標示的點。因此，包含這個點BQ10-1及軸B11X的平面、以及自由輥B110的周面，這兩個面相交的位置的線就是線BL13所示的直線，而這個直線BL13被規定為軋制線的起點線。
接著，在終點輥的周面上，設定輥周面上的線以成為軋制線的終點。這個軋制線的終點線是將搬送的帶狀基材接觸起點輥的位置設定為基準。帶狀基材接觸終點輥的時間點 有可能在帶狀基材的整個寬度方向上都是同時，也有可能因為搬送路徑的扭曲等而在帶狀基材的整個寬度方向上並不是同時。因此，包含終點輥的周面上帶狀基材最晚接觸終點輥的點以及終點輥的軸的平面、以及終點輥的周面，這兩個面相交的位置的線規定為軋制線的終點線。終點輥是圓筒型輥的情況下，這個軋制線的終點線是平行於輥軸的輥的周面上的線，成為通過終點輥的周面上帶狀基材最晚接觸終點輥的點的線。
接著，規定帶狀基材的寬度方向各個位置的軋制線。軋制線的起點會規定在規定的軋制線的起點線的兩端部的2的位置以及兩端部的內側等間隔的5個位置以上。因此，軋制線的數目n在7以上。例如第21圖所示的例子中，軋制線的起點的直線BL13的兩端的點BQ10-1及BQ-17、以及其內側的點BQ10-2~BQ10-6會規定為軋制線的起點。軋制線的終點與軋制線的終點同樣地，會規定在規定的軋制線的終點線的兩端部的2的位置以及兩端部的內側等間隔的5個位置以上，軋制線的起點數與終點數相同。搬送路徑上，對應的軋制線的起點與終點的連線會規定為軋制線。軋制線的數目n的上限並沒有限定，能夠設定成無限大的數目，但為了操作上的方便，例如能設定在100以下。又，軋制線的數目能夠設定使薄膜的寬度方向上的軋制線間隔為10mm~500mm的數目。
接著，測量各個軋制線的長度。軋制線的測量能夠藉由在抽出帶狀基材的狀態，沿著軋制線的起點到終點拉一條線，再測量這條線的長度來達成。在這個情況下，線會沿著帶狀基材的搬送位置不鬆弛地拉緊。例如，即使是帶狀基材因 為皺摺等而從刷磨輥浮起來的位置，線會接觸著刷磨輥拉緊。又，也可以取代實測，而根據輥的位置資訊來計算求出該軋制線。
獲得的n個軋制線的長度P1、P2、...Pn個別的剩餘量εk(k=1、2、...n)以及剩餘量的最大值εmax會使用Pk、最短的軋制線長度Pmin、以及最長的軋制線長度Pmax，以下述(3)及(4)式求出。
εk(%)=(Pk-Pmin)/Pmin×100(%) (3)式
εmax(%)=(Pmax-Pmin)/Pmin×100(%) (4)式
剩餘量εavg會使用近似積分的梯形公式來計算。也就是，εavg會以下述(5)式求出。
[B1.2.剩餘量與其他的參數的關係]
實施形態B的製造方法中，帶狀基材的搬送方向的楊氏模數E(Pa)，厚度d(m)，且寬度w(m)，搬送路徑的剩餘量最大值εmax(%)及剩餘量的平均值εavg(%)會滿足(1)式(εmax-εavg)Edw<30T (6)式
實施形態B的製造方法中，藉由滿足(1)式，能夠使帶狀基材對刷磨輥的接觸壓力的不均一在容許範圍內，甚至能夠使刷磨的程度均一。具體來說，帶狀基材有剩餘量多的 部分與少的部分的情況下，藉由施加張力至剩餘量少的部分，能夠使帶狀基材伸長，消除剩餘量。然後，藉由滿足(1)式，能夠使消除剩餘量所需的張力佔施加的全部張力的比例在既定以下的比例。結果，能夠將施加的全部張力中既定以上的比例用於給予帶狀基材對刷磨輥的壓力。結果，能夠使帶狀基材對刷磨輥的壓力不均一在可容許的範圍內，甚至使刷磨的程度均一。(εmax-εavg)Edw的值的下限能夠不滿25T為佳，不滿20T更佳。(εmax-εavg)Edw的值的下限並沒有特別限定，理想是0，但例如能夠是0.05T以上。
帶狀基材的搬送方向的楊氏模數E與厚度d的乘積Ed在400000Pa．m以下為佳，在250000Pa．m以下更佳。帶狀基材使用這種Ed值低的材料的情況下，能夠容易地達成滿足(1)式的刷磨。Ed值的下限並沒有特別限定，能夠在可圓滑地進行搬送及刷磨的範圍內適當地決定，例如能夠定在25000Pa．m以上。
又，採用楊氏模數低的材料的情況下，即使帶狀基材的厚度厚，也能夠容易地達成滿足(1)式的刷磨，相反地採用楊氏模數高的材料的情況下，帶狀基材的厚度薄的情況下，能夠容易地達成滿足(1)式的刷磨。從提高帶狀基材的厚度的自由度的觀點來看，低的帶狀基材的搬送方向的楊氏模數E為佳。具體來說，楊氏模數E在3000MPa以下為佳，在2500MPa以下更佳。楊氏模數E的下限並沒有特別限定，例如能夠在100MPa以上。
帶狀基材的寬度w在0.2m以上為佳，在0.4m以 上更佳，另一方面在4m以下為佳，在3m以下更佳。帶狀基材的厚度d在10×10-6m(10μm)以上為佳，在20×10-6m(20μm)以上更佳，另一方面，在500×10-6m(500μm)以下為佳，在200×10-6m(200μm)以下更佳。
[B2.實施形態B(ii)]
第19~20圖所示的實施形態B(i)中，起點輥及終點輥(自由輥B110及B150)的軸B11X及B15X平行，在這之間設置擺動角45°的刷磨輥B130。像這樣，藉由起點輥與終點輥的軸平行，能夠抑制帶狀基材的斜向前進(用緊握帶狀基材的一般的搬送輥不能修正成平行關係的搬入方向與搬出方向之間斜向的關係)，結果在通用的產線上能夠容易地將刷磨裝置配置在小空間。然而另一方面，因為組合這種平行的起點輥及終點輥、以及斜向的刷磨輥，刷磨輥附近的帶狀基材的搬送路徑會產生扭曲，結果帶狀基材的搬送路徑的長度會在整個帶狀基材的寬度方向上形成不均一。
然而，本發明並不限定於此，起點輥、刷磨輥與終點輥的位置關係也可以與此不同，藉此來減低帶狀基材的搬送路徑的長度的不均一。這種例子將用以下的實施形態B(ii)來說明。
第22~24圖係概要顯示實施形態B的刷磨裝置及使用該刷磨裝置的實施形態B的製造方法的操作的一例的側視圖、上視圖及後視圖。顯示於此的形態會當作實施形態B(ii)來做說明。第22圖中，從座標軸Y方向觀察刷磨裝置B400，第23圖中從座標軸Z方向來觀察刷磨裝置B400，第24圖中 從座標軸X方向來觀察刷磨裝置B400。
刷磨裝置4100包括刷磨輥B430、立即上流側的自由輥B410、立即下流側的自由輥B450。刷磨裝置B400的操作中，帶狀基材(B11~B16)會沿著箭頭BR1方向搬送。這些刷磨輥及自由輥的形狀及材質會與實施形態B(i)的刷磨輥及自由輥相同。又，刷磨裝置B400的操作中的線速度、張力等的條件能夠與實施形態B(i)中的刷磨裝置B100的操作中的條件相同。
搬入刷磨裝置B400的帶狀基材B11會被誘導而沿著上流側自由輥B410的圓筒面前進。透過這個誘導，帶狀基材的搬送方向會以超過0°的角度旋轉。自由輥B410是藉由支撐著軸的支持台(未圖示)，而以軸B41X為中心自由旋轉的狀態下設置的搬送輥。因此，自由輥B410會伴隨著被搬送的帶狀基材而朝箭頭BR3方向旋轉。自由輥B410與自由輥B110同樣地，能夠以緊握帶狀基材的狀態來進行搬送。
搬送至上流側自由輥B410的下流的帶狀基材B13會被誘導而繼續沿著刷磨輥B430的圓筒面前進。在這個例子中，帶狀基材B13的搬入方向是水平方向，也就是平行於XY平面的方向。又，刷磨輥B430的軸B43X平行於XY平面，相對於座標軸Y傾斜45°的角度。
刷磨輥B430被驅動裝置(未圖示)驅動而以軸B43X為中心朝箭頭BR2的方向旋轉，藉此刷磨輥B430的圓筒面會刷磨帶狀基材的一側的表面，以進行刷磨步驟。
實施形態B(ii)中，刷磨輥B430以接觸角60° 接觸帶狀基材，姐此旋轉帶狀基材的搬送方向。又，帶狀基材的搬送方向與刷磨輥的旋轉軸的夾角並非正交。
刷磨後被搬送至刷磨輥B430的下流的帶狀基材B14接著被誘導而沿著下流側自由輥B450的圓筒面前進。藉由此誘導，帶狀基材的搬送方向以超過0°的角度旋轉。自由輥B450是藉由支持軸的支持台(未圖示)而設置成以軸B45X為中心自由旋轉的搬送輥。因此，自由輥B450會隨著被搬送的帶狀基材而朝箭頭BR3的方向旋轉。
在此例中，自由輥B450與自由輥B410同樣是緊握帶狀基材的狀態下進行搬送的搬送裝置，自由輥B450所促使的搬送方向旋轉的旋轉軸會與自由輥B450本身的旋轉軸B45X一致，方向會與開始接觸自由輥B450至結束接觸的期間的帶狀基材的搬送方向正交。這個例子中，相較於自由輥B410的軸B41X平行於座標軸Y，自由輥B450的軸B45X會相對於座標軸Y大幅傾斜。因此，自由輥B410的軸B41X與自由輥B450的軸B45X之間會形成大幅偏離平行狀態的關係。
搬送至下流側自由輥B450的帶狀基材B16會做為被刷磨過的帶狀基材而被保存或適當地提供至使用的步驟。
實施形態B(ii)中，自由輥B410的軸B41X與自由輥B450的軸B45X的關係會配置成第22~24圖所示的脫離平行狀態的關係。像這樣將刷磨輥的上流及下流側的自由輥的軸的關係配置成非平行狀態的話，要在通用的產線上將刷磨裝置配置在小空間相當困難。然而，藉由這種配置，能夠使搬入刷磨輥的方向以及搬出刷磨輥的方向在帶狀基材的整個寬 度方向上接近相同，結果能夠減低刷磨輥B430附近的帶狀基材的搬送路徑的扭曲，結果能夠減低帶狀基材的搬送路徑的長度的不均一。因此，採用這種裝置的情況下，能夠減小εmax-εavg的值，例如即使帶狀基材的搬送方向的楊氏模數E、E與厚度d的乘積Ed、或Ed與厚度的乘積Edw比較大的情況下，也能夠容易地達成滿足(1)式的刷磨。具體來說，εmax-εavg的值能夠不滿0.02%為佳，不滿0.01%更佳。εmax-εavg的值的下限並沒有特別限定，理想上是0，但例如能夠是0.0005%以上。
第22~24圖所示的例子中，刷磨輥B430配置成旋轉軸B43X在水平方向，被搬入的帶狀基材B13與刷磨輥B430在接觸開始位置以前的帶狀基材B13的搬入方向是水平。像這樣，將搬入方向設定為水平狀態，再調整下流的自由輥B450的軸方向，能夠在維持搬入方向在整個寬度方向上相同的狀態下調整搬出方向，且能夠容易地決定自由輥與刷磨輥的位置，使得搬入方向及搬出方向雙方在整個寬度方向上相同。更具體地說明的話，自由輥及刷磨輥的定位一般是設計成相對於水平台座調整角度，因此將自由輥B410及刷磨輥B430配置在水平面，再水平地調整帶狀基材的搬送方向這種定位比較容易進行。因此，進行這種定位後，然後再以進行只調整自由輥B450的軸方向的順序來定位，藉此能夠容易地進行精密的定位。
相反地，將搬出的帶狀基材與刷磨輥在接觸結束位置的帶狀基材B14的搬出方向設定成水平，調整自由輥B410 的軸方向，也能夠容易地進行定位。然而，上流的自由輥的軸的複雜調整可能會對下流的搬送路徑帶來影響，因此將搬入的帶狀基材B13的搬入方向設定為水平的調整方向比較容易。
[B3.其他的實施形態]
本發明的刷磨裝置及本發明的製造發法並不限於上述形態，也可以對上述形態增加任意的變更。例如，上述的實施形態B(ii)中，為了減低刷磨輥附近的帶狀基材的搬送路徑的長度不均一，而將刷磨輥的上流及下流側的自由輥的軸的關係配置成非平行狀態，但減低搬送路徑的長度的不均一的手段並不限於此。例如，刷磨輥及其上流與下流的自由輥中的一者以上可以採用中高輥(中央部粗、端部細的形狀的輥)，這個輥以接觸刷磨面的態樣進行搬送，藉此也能夠減低搬送路徑的長度的不均一。或者是採用中低輥(中央部細、端部粗的形狀的輥)，這個輥以接觸刷磨面的相反面的態樣進行搬送，藉此也能夠減低搬送路徑的長度的不均一。或者是，使用浮上搬送裝置，設置於起點輥與終點輥之間的適當位置，藉此野能減低搬送路徑的長度的不均一。浮上搬送裝置具有搬送輥的周面或者是與其一部分相同形狀的搬送面，該搬送面上具有多個細微的空氣噴出孔，藉由從該空氣噴出孔噴出空氣，能夠在非接觸該搬送面的狀態下。誘導帶狀基材沿著該搬送面前進。
[C1.實施形態C(i)]
接著，說明本發明的實施形態C。實施形態c的製造方法是刷磨過之帶狀基材的製造方法，包括刷磨帶狀基材的特定刷磨步驟、以及在刷磨步驟的上流側、下流側、或者是雙 方，使用旋轉該帶狀基材的搬送方向超過0°的搬送裝置來旋轉帶狀基材的搬送方向的步驟(以下簡單稱為「旋轉步驟」)。刷磨步驟中，讓從搬送路徑的上流搬入的帶狀基材接觸以旋轉軸為中心旋轉的刷磨輥以進行刷磨，然後搬出至該搬送路徑的下流。
第25圖及第26圖係概要顯示實施形態C的刷磨裝置及使用該刷磨裝置的實施形態C的製造方法的操作的一例的側視圖及上視圖。顯示於此的形態會當作實施形態C(i)來做說明。第25圖中，從座標軸Y方向觀察刷磨裝置C100，第26圖中從座標軸Z方向來觀察刷磨裝置C100。
刷磨裝置C100包括說磨輥C130、其上流側的自由輥C110、下流側的自由輥C150。刷磨裝置C100更包括位於刷磨輥C130與自由輥C110之間的浮上搬送裝置C120、及位於刷磨輥C130與自由輥C150之間的浮上搬送裝置C140。刷磨裝置C100的操作中，帶狀基材(C11~C16)往箭頭CR1方向搬送。
搬入刷磨裝置C100的帶狀基材C11被誘導而沿著上流側自由輥C110的圓筒面前進。藉由這個誘導，帶狀基材的搬送方向以超過0°的角度旋轉。自由輥C110是能夠藉由支持軸的支持台(未圖示)而以軸C111X為中心自由旋轉的狀態下設置的緊握輥。因此，自由輥C110會伴隨著搬送而來的帶狀基材而朝箭頭CR3方向旋轉。
在這個例子中，自由輥C110所促使的搬送方向旋轉的旋轉軸會與自由輥C110本身的旋轉軸C11X一致，方向 會與開始接觸自由輥C110至結束接觸的期間的帶狀基材的搬送方向正交。這個例子中，自由輥C110的軸C11X平行於座標軸Y。自由輥C110與搬送方向的夾角在不妨礙搬送的範圍內，也可以具有正交角度的±0.5°以內的誤差。在這個容許誤差範圍內，搬送方向旋轉的旋轉軸與接觸的帶狀基材的搬送方向正交的情況下，自由輥C110能夠將帶狀基材以緊抓的狀態搬送。
搬送到上流側自由輥C110的下流的帶狀基材C12接著被誘導而沿著浮上搬送裝置C120的搬送面前進，其搬送方向旋轉。藉此，浮上搬送裝置C120相當於執行旋轉步驟的搬送裝置。在這個例子中，帶狀基材C12的搬入方向是水平方向，也就是平行XY平面的方向。又，浮上搬送裝置C120的軸C12X平行於XY平面，相對於座標軸Y傾斜45°角。
浮上搬送裝置C120將參照第29~31圖更具體地說明。第29~31圖係概要顯示第25圖及第26圖所示的刷磨裝置C100中的浮上搬送裝置C120的立體圖、側視圖及底面圖。如第29~31圖所示，浮上搬送裝置C120包括具有搬送面C123S的搬送部C123、及空氣導入部C124(第25圖及第26圖中未圖示)。空氣導入部C124具備將加壓至搬送部C123的空氣以可調節壓力的方式導入的裝置(未圖示)。搬送部C123是以軸C12X為軸的半圓筒形，搬送面C123S是沿著圓筒形的曲面。搬送部C123的搬送面C123S設置有多個孔，與空氣導入部C124連通，能夠噴出從空氣導入部C124導入的空氣。
浮上搬送裝置C120使用時，帶狀基材會以在箭頭CR4方向被拉緊的狀態被誘導至搬送面C123S。因為這個拉緊，帶狀基材會往箭頭CR5方向施壓。另一方面，將空氣從搬送面C123S的孔噴出，帶狀基材被朝向箭頭CR6方向施壓。藉由適當地調整空氣的噴出壓力，能夠平衡拉緊帶狀基材帶來的壓力與空氣噴出帶來的壓力。結果帶狀基材與浮上搬送裝置C120之間，由供給的空氣的空氣壓形成空氣層，能夠在帶狀基材不與搬送面C123S接觸的狀態下，沿著搬送面C123S浮上搬送帶狀基材。這個浮上搬送的結果能夠使搬送伴隨著以軸C12X為旋轉軸方向的搬送方向的旋轉。再加上，帶狀基材不接觸搬送面C123S，因此也能夠使帶狀基材在平行於軸C12X的方向(第31圖中箭頭CR7所示的方向)搬送。能夠朝向CR4方向及CR7方向搬送的結果，帶狀基材就能夠朝向相對於軸C12X非正交的方向，即第31圖箭頭CR1所示的斜向搬送方向搬送。使用作為緊握輥的輥來進行這種朝斜方向的搬送的情況下，輥的表面與帶狀基材表面之間會產生摩擦，但使用浮上搬送裝置的情況下，就能夠不伴隨帶狀基材的表面摩擦來達成這種朝斜方向的搬送。「非正交」的角度能夠是恰好正交方向以外的任意方向，具體來說，帶狀基材的搬送方向與搬送裝置促成的搬送方向的旋轉的旋轉軸的夾角超過0°，在35°以上為佳，在40°以上更佳，另一方面，不滿89.5°，在55°以下為佳，在50°以下更佳。
搬送至浮上搬送裝置C120的下流的帶狀基材C13接著被誘導而沿著刷磨輥C130的圓筒面前進。在這個例子 中，刷磨輥C130的軸C13X與XY平面平行，相對於座標軸Y以45°的角度傾斜。實施形態C的製造方法及實施形態C的刷磨裝置中使用的刷磨輥的材質並沒有特別限定，能夠是圓筒面具備例如不織布等的適合刷磨的材料的輥。與自由輥C110不同，刷磨輥C130被驅動裝置(未圖示)驅動而以軸C13X為中心朝箭頭CR2的方向旋轉，藉此刷磨輥C130的圓筒面會刷磨帶狀基材的一側的表面，以進行刷磨步驟。
實施形態C的製造方法中，刷磨輥以超過0°的接觸角與帶狀基材接觸，藉此旋轉帶狀基材的搬送方向。又，帶狀基材的搬送方向與刷磨輥的旋轉軸的夾角非正交，在此所說的帶狀基材的搬送方向是接觸著刷磨輥的帶狀基材的搬送方向。實施形態C(i)的例子中，接觸著刷磨輥C130的帶狀基材的搬送方向與刷磨輥C130的軸C13X的夾角並非正交。像這樣，以超過0°的接觸角接觸，能夠讓帶狀基材對刷磨輥施加高壓力的接觸。又，形成這種非正交的角度，能夠以刷磨輥達成斜向刷磨。
接觸角在5°以上為佳，在10°以上更佳，另一方面，在120°以下為佳，在90°以下更佳。將接觸角設定在這個範圍內，不需施加過度負荷至薄膜就能夠給予高的配向控制力。又，帶狀基材的搬送方向與刷磨輥的旋轉軸的夾角稱為「擺動角」。擺動角在超過0°不滿89.5°的範圍內，10°以上為佳，在35°以上更佳，在40°以上特佳，另一方面，在80°以下為佳，在55°以下更佳，在50°以下特佳。斜向刷磨中，常常會要求進行刷磨使得與帶狀基材的長度方向夾角45°的方向有配向控 制力，將擺動角設定在上述範圍內，就能夠容易地達成上述的在希望的方向上給予配向控制力。
實施形態C的製造方法中，刷磨輥的旋轉速度能夠適當地調整以獲得較合適的刷磨量。刷磨量能夠以搬送路徑上帶狀基材與刷磨輥從接觸開始至接觸結束為止的刷磨輥的圓筒面相對於帶狀基材的移動距離來表示。具體來說，刷磨輥的旋轉速度能夠調整，使得刷磨輥的圓筒面的圓周速度與刷磨輥接觸帶狀基材的時間的乘積在希望的範圍內。更具體來說，刷磨輥的圓筒面的圓周速度會利用刷磨輥的直徑d(mm)及旋轉速度t(rpm)，以πdt/60(mm/秒)來求出。刷磨輥接觸帶狀基材的時間會利用線速度v(mm/分)、接觸角θw(°)及擺動角(°)，以(πdθw/360)÷(vsin/60)(秒)來求出。因此，兩者的乘積為(π2d2θwt)/(360vsin)(mm)。該乘積的較佳範圍是500mm~100000mm。因此，能夠調整刷磨輥的旋轉速度，使該乘積在上述較佳的範圍內。
搬送至刷磨輥C130的下流的經刷磨過的帶狀基材C14接著被誘導而沿著浮上搬送裝置C140的搬送面前進，其搬送方向旋轉。藉此，浮上搬送裝置C140相當於執行旋轉步驟的搬送裝置。浮上搬送裝置C140是與浮上搬送裝置C120相同的裝置。浮上搬送裝置C140與浮上搬送裝置C120同樣地，軸C14X平行於XY平面，相對於座標軸Y傾斜45°角。從浮上搬送裝置C140搬送的經刷磨過的帶狀基材C15的搬送方向是平行於XY平面的方向。
搬送至浮上搬送裝置C140的下流的經刷磨過的帶 狀基材C15接著被誘導而沿著下流側自由輥C150的圓筒面前進。藉由這種誘導，帶狀基材的搬送方向以超過0°的角度旋轉。自由輥C150是透過支持軸的支持台(未圖示)而能夠以軸C15X為中心自由旋轉的狀態設置的搬送輥。因此，自由輥C150會伴隨著搬送的帶狀基材而朝向箭頭CR3方向旋轉。
這個例子中，自由輥C150與自由輥C110同樣是緊握輥，自由輥C150所促使的搬送方向旋轉的旋轉軸會與自由輥C150本身的旋轉軸C15X一致，方向會與開始接觸自由輥C150至結束接觸的期間的帶狀基材的搬送方向正交。這個例子中，自由輥C150的軸C15X平行於座標軸Y。
搬送至下流側自由輥C150的帶狀基材C16會做為被刷磨過的帶狀基材而被保存或適當地提供至使用的步驟。例如，帶狀基材C16能夠直接被搬送到進行液晶組成物塗布的步驟的產線上，或者是使用適當的卷繞裝置捲起來保存。
刷磨裝置C100的上流側、下流側或者是兩者，可設置咬送輥、卷繞裝置等的適當的裝置，藉此能夠以適當的線速度及張力來搬送帶狀基材。線速度及張力能夠因應使用的帶狀基材、及希望的刷磨條件等而設定為適合的值。例如，線速度設定為1~50m/分為佳。又，張力設定為30~500N/m為佳。
[C1.1.刷磨輥與帶狀基材的關係]
實施形態C的製造方法的刷磨步驟中，在搬入刷磨輥的帶狀基材與刷磨輥接觸開始的位置，帶狀基材的搬入方向在帶狀基材的整個寬度方向上相同，且在搬出刷磨輥的帶狀基材與刷磨輥接觸結束的位置，帶狀基材的搬出方向在帶狀基 材的整個寬度方向上相同，且搬送裝置所促使的帶狀基材的搬送方向的旋轉的旋轉軸會平行於刷磨輥的旋轉軸。又，實施形態C的刷磨裝置中，會配置刷磨輥及其他的支持裝置來形成上述的位置關係。
這樣的特徵將參照第27~28圖來說明。第27圖係概要顯示第25~26圖所示的刷磨裝置C100中的浮上搬送裝置C120、刷磨輥C130與帶狀基材的關係的側視圖。第28圖係概要顯示其中的刷磨輥C130以及從刷磨輥C130搬出的帶狀基材C14的關係的側視圖。第27圖中從軸C13X方向觀察刷磨輥C130，第28圖中從Y軸座標方向觀察刷磨輥C130。
第27~28圖的例子中，離開浮上搬送裝置C120搬入刷磨輥C130的帶狀基材C13以箭頭CR13所示的搬入方向前進，在位置C131開始與刷磨輥C130接觸。因此，在搬入刷磨輥的帶狀基材與刷磨輥接觸開始的位置處，帶狀基材的搬入方向是箭頭CR13所示的方向。
之後，帶狀基材以接觸角Cθw13與刷磨輥C130接觸，在位置C132結束與刷磨輥C130的接觸。然後，從刷磨輥C130搬出的帶狀基材C14以箭頭CR14所示的搬出方向前進。因此，從刷磨輥搬出的帶狀基材與刷磨輥接觸結束的位置處，帶狀基材的搬出方向是箭頭CR14所示的方向。
又，箭頭CR14所示的搬出方向在帶狀基材C14的整個寬度方向相同。也就是，如第28圖所示，在位置C132處從刷磨輥C130搬出的帶狀基材C14的搬出方向在整個寬度方向上分別是箭頭CR14-1~CR14-5所示的方向，它們都是同 一方向。在這個例子中，箭頭CR13所示的搬入方向也是在帶狀基材C13的整個寬度方向上相同。
在此所說的搬入方向或搬出方向在整個寬度方向上「相同」能夠包括不損及本發明的效果的範圍內的容許誤差。例如，能夠以在帶狀基材寬度方向的中心的搬入或搬出方向(第28圖的例子中是箭頭CR14-3所示的搬出方向)為基準，與基準的方向夾角0.5°以內的方向都能夠當成是「相同方向」。
第25~28圖所示的例子中，在刷磨輥C130的立即上流及立即下流，配置浮上搬送裝置C120及C140，再使搬送裝置促使的帶狀基材的搬送方向的旋轉的旋轉方向與刷磨輥的旋轉軸平行，使得搬入刷磨輥的搬入方向以及搬出刷磨輥的搬出方向在帶狀基材的整個寬度方向上相同。藉此，不會扭曲帶狀基材而能夠以均一的壓力來接觸刷磨輥，且能夠達成刷磨程度均一的斜向刷磨。再加上，從刷磨裝置C100搬出的帶狀基材C16的搬出方向相對於搬入刷磨裝置C100的帶狀基材C11的搬入方向形成非斜向前進關係。在此所說的「斜向前進」是指搬入方向與搬出方向沒辦法用刷磨輥修正成平行的關係。實施形態C的製造方法及刷磨裝置中，將相對於搬入方向的搬出方向設計成斜向前進量少的方向，能夠不額外產生波紋或刮傷，進行低成本的製造。
在此所說的搬送裝置促使的搬送方向的旋轉的旋轉軸方向與刷磨輥的旋轉軸「平行」能夠包括不損及本發明的效果的範圍內的容許誤差。例如，能夠將它們的夾角在0.5°以內的方向當成是「平行方向」。
實施形態C(i)中，自由輥C110、浮上搬送裝置C120、刷磨輥C130、浮上搬送裝置C140及自由輥C150的軸C11X、C12X、C13X、C14X及C15X任一者都是設置在水平方向。將這些要素的軸設成水平，在XY平面上調整它們的朝向就能夠構成實施形態C的裝置，因此容易地進行正確的調整。在此，軸是「水平」是能夠包括不損及本發明的效果的範圍內的容許誤差。例如，水平面與軸的夾角在0.5°以內的方向能夠當成是「水平」方向。
關於實施形態C的刷磨輥與帶狀基材的關係的特徵將會對比習知技術來進一步說明。第13~14圖係概要顯示習知技術的刷磨裝置及使用該刷磨裝置的習知技術的製造方法的操作的一例的側視圖及上視圖。第13~14圖中，刷磨裝置A1300包括刷磨輥A1330、位於立即上流側的自由輥A1310(緊握輥)、位於立即下流側的自由輥A1350(緊握輥)。在刷磨裝置A1300的操作中，帶狀基材(A11~A16)會被搬送到箭頭AR1方向。自由輥A1310的軸A131X與自由輥A1350的軸A135X平行地配置。
第13圖及第14圖的例子中，刷磨輥A1330附近的帶狀基材的搬送路徑會產生扭曲，結果，在搬入刷磨輥的帶狀基材與刷磨輥接觸開始的位置處，帶狀基材的搬入方向在帶狀基材的整個寬度方向上並不相同，且在搬出刷磨輥的帶狀基材與刷磨輥接觸結束的位置處，帶狀基材的搬出方向在帶狀基材的整個寬度方向上並不相同。具體來說，如第15圖所示，帶狀基材與刷磨輥A1330接觸結束的位置A1332並不平行於 刷磨輥A1330的軸A133X，在該處以扭曲的狀態被搬出的帶狀基材A14的搬出方向如箭頭AR14-6~AR14-10所示，在帶狀基材的整個寬度方向上並不相同。
因為上述的扭曲，第13~14圖的例子中，帶狀基材的搬送路徑的長度在帶狀基材的整個寬度方向上並不均一。具體來說，如第14圖所示，與自由輥A1310接觸結束直到與自由輥A1350接觸開始為止的帶狀基材的搬送路徑AP130-1~AP130-5的長度並不均一。更具體來說，端部的搬送路徑AP130-1及AP130-5最長，中央部的搬送路徑AP130-3最短，在這之間的搬送路徑AP130-2及AP130-4會比端部的搬送路徑短且比中央部的搬送路徑長。如果搬送路徑的長度產生這樣的不均一，當被搬送的帶狀基材與刷磨輥A1330接觸時，中央部的張力會比端部的張力弱。或者是，如果是伸縮的比例較少之帶狀基材的話，中央部的帶狀基材會有多餘的狀態而在中央部產生不均勻的鬆弛。因此，帶狀基材對刷磨輥的接觸壓力變得不均一，甚至刷磨的程度變得不均一。相對於此，實施形態C的製造方法中，不對帶狀基材造成扭曲就能夠以均一的壓力接觸刷磨輥，且能夠達成刷磨程度均一的斜向刷磨。
第13~14圖的例子中，如果充分地拉長自由輥A1310與A1350的間隔，這種搬送路徑的長度不均一會相對地減少。但這個情況下，沒有被支持的狀態下搬送帶狀基材的路徑會變長，可能會發生薄膜晃動所產生的異常，或者是用來設置製造設備的空間變大的不良狀況。實施形態C中，最靠近刷磨輥的上流側的緊握輥到最靠近刷磨輥的下流側的緊握輥之 間的搬送路徑的長度在薄膜寬度的5倍以下為佳，在薄膜寬度的3倍以下更佳。而搬送路徑的長度下限並沒有特別限定，例如能夠是薄膜寬度的2倍以上。
當變更第13~14圖所示的刷磨裝置A1300的自由輥的位置，能夠減低刷磨輥A1330附近的帶狀基材的搬送路徑的扭曲，但這個情況下，搬出方向相對於搬入方向為斜向前進的關係，該斜向前進的比例會隨著增大刷磨輥A1330的接觸角而增大。實施形態C的製造方法及實施形態C的刷磨裝置中，即使增加刷磨輥的接觸角，也能夠在搬出方向相對於搬入方向非斜向前進的狀態下來進行刷磨程度均一的斜向刷磨。
[C1.2.旋轉角的總和]
實施形態C的製造方法及實施形態C的刷磨裝置中，刷磨輥促使的帶狀基材的搬送方向旋轉的旋轉角與搬送裝置促使的搬送方向旋轉的旋轉角的總和約略為0°為佳。這個特徵將再參照第27圖來說明。搬入浮上搬送裝置C120的帶狀基材C12藉由浮上搬送裝置C120的旋轉步驟使其搬送方向從位置C121到位置C122旋轉了角度Cθw12。搬出至浮上搬送裝置C120的下流的帶狀基材C13接著藉由刷磨輥C130的刷磨步驟使其搬送方向從位置C131到位置C132旋轉了角度Cθw13。搬出至刷磨輥C130的下流的帶狀基材C14接著藉由浮上搬送裝置C140的旋轉步驟使其搬送方向從位置C141到位置C142旋轉了角度Cθw14。浮上搬送裝置C120及C140所促使的旋轉方向與刷磨輥C130所促使的旋轉方向相反，因此以一方為正，另一方為負，將它們加總後取絕對值，藉此求出這 些旋轉角的總和。例如設定Cθw12=Cθw14=30°，Cθw13=60°的話，它們的總和就是0°。
使旋轉角的總和略為0°，能夠容易地獲得搬出方向相對於搬入方向不是斜向前進的搬送路徑。因此，即使增加刷磨輥的接觸角，也能夠更容易地實現一種製造方法及刷磨裝置，在搬出方向相對於搬入方向非斜向前進的狀態下來執行刷磨程度均一的刷磨。
旋轉角的總和「略」為0°除了剛好0°的情況下，還包括不明顯損及本發明的效果的範圍內的容許誤差。具體來說，在能夠容易地用EPC(登錄商標)等的可修正斜向前進的裝置來修正斜向移動的範圍內，也可以是超過0°的值。具體來說，能夠設定在5°以下的範圍內為佳，2°以下的範圍內更佳。
[C1.3.剩餘量]
實施形態C中，搬入方向或搬出方向在整個寬度方向上於容許誤差範圍內相同的話，帶狀基材的搬送路徑的剩餘量會是最小值。
實施形態C中，剩餘量是將跨過刷磨輥搬送的帶狀基材的軋制線按以下的方式設定，然後測量或計算在帶狀基材的寬度方向上的各種位置的軋制線長度，從這個長度的測量結果或計算結果中求出剩餘量。具體的剩餘量的求法如下。
假設最靠近刷磨輥的上流側的緊握輥是起點輥。又假設最靠近刷磨輥的下流側的緊握輥是終點輥。
接著，在起點輥的周面上，設定輥周面上的線以成為軋制線的起點。這個軋制線的起點線是將搬送的帶狀基材 從起點輥離開的位置設定為基準。帶狀基材從起點輥離開的時間點有可能在帶狀基材的整個寬度方向上都是同時，也有可能因為搬送路徑的扭曲等而在帶狀基材的整個寬度方向上並不是同時。因此，包含起點輥的周面上帶狀基材最先離開起點輥的點以及起點輥的軸的平面、以及起點輥的周面，這兩個面相交的位置的線規定為軋制線的起點線。起點輥是圓筒型輥的情況下，這個軋制線的起點線是平行於輥軸的輥的周面上的直線，成為通過起點輥的周面上帶狀基材最先離開起點輥的點的線。例如第37圖所示，帶狀基材C13從做為起點輥的自由輥C110離開的位置是以相對於軸C11X傾斜的線CL11所標示的位置的情況下，以線CL11所標示的位置之中，帶狀基材C13最先從自由輥C110離開的點是以點CQ10-1所標示的點。因此，包含這個點CQ10-1及軸C11X的平面、以及自由輥C110的周面，這兩個面相交的位置的線就是線CL13所示的直線，而這個直線CL13被規定為軋制線的起點線。
接著，在終點輥的周面上，設定輥周面上的線以成為軋制線的終點。這個軋制線的終點線是將搬送的帶狀基材接觸終點輥的位置設定為基準。帶狀基材接觸終點輥的時間點有可能在帶狀基材的整個寬度方向上都是同時，也有可能因為搬送路徑的扭曲等而在帶狀基材的整個寬度方向上並不是同時。因此，包含終點輥的周面上帶狀基材最晚接觸終點輥的點以及終點輥的軸的平面、以及終點輥的周面，這兩個面相交的位置的線規定為軋制線的終點線。終點輥是圓筒型輥的情況下，這個軋制線的終點線是平行於輥軸的輥的周面上的直線， 成為通過終點輥的周面上帶狀基材最晚接觸終點輥的點的線。
接著，規定帶狀基材的寬度方向各個位置的軋制線。軋制線的起點會規定在規定的軋制線的起點線的兩端部的2個位置以及兩端部的內側等間隔的5個位置以上。因此，軋制線的數目n在7以上。例如第37圖所示的例子中，軋制線的起點的直線CL13的兩端的點CQ10-1及CQ-17、以及其內側的點CQ10-2~CQ10-6會規定為軋制線的起點。軋制線的終點與軋制線的起點同樣地，會規定在規定的軋制線的終點線的兩端部的2個位置以及兩端部的內側等間隔的5個位置以上，軋制線的起點數與終點數相同。搬送路徑上，對應的軋制線的起點與終點的連線會規定為軋制線。軋制線的數目n的上限並沒有限定，能夠設定成無限大的數目，但為了操作上的方便，例如能設定在100以下。又，軋制線的數目能夠設定使薄膜的寬度方向上的軋制線間隔為10mm~500mm的數目。
接著，測量各個軋制線的長度。軋制線的測量能夠藉由在抽出帶狀基材的狀態，沿著軋制線的起點到終點拉一條線，再測量這條線的長度來達成。在這個情況下，線會沿著帶狀基材的搬送位置不鬆弛地拉緊。例如，即使是帶狀基材因為皺摺等而從刷磨輥浮起來的位置，線會接觸著刷磨輥拉緊。又，也可以取代實測，而根據輥的位置資訊來計算求出該軋制線。
獲得的n個軋制線的長度P1、P2、...Pn個別的剩餘量εk(k=1、2、...n)以及剩餘量的最大值εmax會使用Pk、最短的軋制線長度Pmin、以及最長的軋制線長度Pmax，以下 述(3)及(4)式求出。
εk(%)=(Pk-Pmin)/Pmin×100(%) (3)式
εmax(%)=(Pmax-Pmin)/Pmin×100(%) (4)式
實施型態C中，此剩餘量的最大值εmax在0%~0.1%為佳，在0%~0.05%更佳。
帶狀基材的寬度在0.2m以上為佳，在0.4m以上更佳，另一方面在4m以下為佳，在3m以下更佳。實施型態C中，即使是這種寬度的帶狀基材也能夠在整個寬度方向上良好地進行刷磨。
[C2.實施形態C(ii)]
實施形態C(i)中，刷磨輥的上流及下流雙方都配置搬送裝置，在刷磨輥的上流及下流雙方進行旋轉步驟，但本發明並不限定於此，旋轉步驟也可以僅在刷磨輥的上流及下流中的一者進行。這樣的例子將會用下述的實施形態C(ii)來說明。
第32圖及第33圖係概要顯示實施形態C的刷磨裝置及使用該刷磨裝置的實施形態C的製造方法的操作的另一例的側視圖及上視圖。第34圖係概要顯示第32圖及第33圖所示的刷磨裝置C800中的刷磨輥C130、浮上搬送裝置C840及帶狀基材的關係的側視圖。在此所示的形態會作為實施形態C(ii)來說明。第32圖及第33圖所示的刷磨裝置C800包括刷磨輥C130、其上流側的自由輥C810、下流側的自由輥C850。刷磨裝置C800更包括位於刷磨輥C130與自由輥C850之間的浮上搬送裝置C840。然而，刷磨裝置C800不具有位於自由輥 C810與刷磨輥C130之間的搬送裝置。
刷磨裝置C800的操作中，帶狀基材(C11~C16)會往箭頭CR1方向搬送。搬入刷磨裝置C800的帶狀基材C11被誘導而沿著上流側自由輥C810的圓筒面前進。藉由這個誘導，帶狀基材的搬送方向以超過0°的角度旋轉。自由輥C810是能夠以軸C81X為中心自由旋轉的狀態下設置的緊握輥。因此，自由輥C810會伴隨著搬送而來的帶狀基材而朝箭頭CR3方向旋轉。自由輥C810的軸C81X平行於座標軸Y。
搬送至上流側自由輥C810的下流的帶狀基材C13會被誘導而繼續沿著刷磨輥C130的圓筒面前進。在這個例子中，刷磨輥C130的軸C13X平行於XY平面，相對於座標軸Y傾斜45°的角度。刷磨輥C130被驅動裝置(未圖示)驅動而以軸C13X為中心朝箭頭CR2的方向旋轉，藉此刷磨輥C130的圓筒面會刷磨帶狀基材的一側的表面，以進行刷磨步驟。刷磨輥C130以超過0°的接觸角與帶狀基材接觸，藉此旋轉帶狀基材的搬送方向。又，帶狀基材的搬送方向與刷磨輥的旋轉軸的夾角非正交，結果與實施形態C(i)同樣地達成以刷磨輥進行斜向刷磨。
搬送至刷磨輥C130的下流的經刷磨過的帶狀基材C14接著被誘導而沿著浮上搬送裝置C840的搬送面前進，其搬送方向旋轉。浮上搬送裝置C840是與實施形態C(i)中的浮上搬送裝置C120及C140相同的裝置。
搬送至浮上搬送裝置C840的下流的經刷磨過的帶狀基材C15接著被誘導而沿著下流側自由輥C850的圓筒面前 進。藉由這種誘導，帶狀基材的搬送方向以超過0°的角度旋轉。自由輥C850是能夠以軸C85X為中心自由旋轉的狀態設置的緊握輥。因此，自由輥C850會伴隨著搬送的帶狀基材而朝向箭頭CR3方向旋轉。自由輥C850的軸C85X平行於座標軸Y。
在這個例子中，僅在刷磨輥C130的下流配置浮上搬送裝置C840。即使在這個情況下，也能夠將刷磨輥促使的帶狀基材的搬送方向旋轉的旋轉角與搬送裝置促使的搬送方向旋轉的旋轉角的總和調整為0°。參照第34圖來說明，搬入刷磨輥C130的帶狀基材C13藉由刷磨輥C130的刷磨步驟使其搬送方向從位置C131到位置C132旋轉了角度Cθw13。搬出至刷磨輥C130的下流的帶狀基材C14接著藉由浮上搬送裝置C840的旋轉步驟使其搬送方向從位置C841到位置C842旋轉了角度Cθw84。浮上搬送裝置C840所促使的旋轉方向與刷磨輥C130所促使的旋轉方向相反，藉由例如設定Cθw13=Cθw84=60°的話，它們的總和就是0°。又，能夠使帶狀基材C13及C15的搬送路徑都是在水平方向，調整成沒有斜向前進的狀態。結果，在這個態樣中，即使增加刷磨輥的接觸角，也能夠在搬出方向相對於搬入方向非斜向前進的狀態下執行刷磨程度均一的刷磨。
[C3.實施形態C(iii)]
實施形態C(i)及實施形態C(ii)中，刷磨輥所促使的帶狀基材的搬送方向旋轉的旋轉角與搬送裝置所促使的帶狀基材的搬送方向旋轉的旋轉角的總和在約略為0°的範 圍內，但本發明並不限定於此，旋轉角的總和也可以是比約略0°更大的角度。這樣的例子將會用下述的實施形態C(iii)來說明。
第35圖及第36圖係概要顯示實施形態C的刷磨裝置及使用該刷磨裝置的實施形態C的製造方法的操作的另一例的側視圖及上視圖。第35圖及第36圖所示的刷磨裝置C1100在浮上搬送裝置C1140促使的以軸C114X為中心的搬送方向旋轉的旋轉角比實施形態C(ii)中的浮上搬送裝置C840促使的搬送方向旋轉的旋轉角大這一點，與實施形態C(ii)中的刷磨裝置C800不同。又，本例中省略顯示下流側的自由輥。在這個態樣中，即使增加刷磨輥的接觸角，也能夠達成刷磨程度均一的刷磨。
然而，在本例中，搬出方向相對於搬入方向是斜向前進的狀態，不過藉由搬送裝置促使的搬送方向的旋轉，比起沒有該旋轉的情況下，還是能夠減少斜向前進的比例。又，在浮上搬送裝置C1140的更下流設置其他的浮上搬送裝置等的會適當修正斜向前進的裝置，藉此能夠減低斜向前進的比例來進行刷磨。
[D1.實施形態D(i)]
接著，說明本發明的實施形態D。實施形態D的製造方法是經刷磨之帶狀基材的製造方法，包括刷磨帶狀基材的特定的刷磨步驟。刷磨步驟中，從搬送路徑的上流搬入的帶狀基材具有表面與背面，將帶狀基材的表面接觸以旋轉軸為中心旋轉的刷磨輥來進行刷磨，然後往搬送路徑的下流搬出。本 申請案所說的帶狀基材的「表面」與「背面」是為了區別在某個刷磨步驟中帶狀基材的刷磨面與其相反面而用的簡化的名稱，除此之外，並不是特別限定帶狀基材的形狀、性質等。
第38~39圖係概要顯示實施形態D的刷磨裝置及使用該刷磨裝置的實施形態D的製造方法的操作的一例的側視圖及上視圖。顯示於此的形態會當作實施形態D(i)來說明本發明。第38圖中，從座標軸Y方向觀察刷磨裝置D100，第39圖中從座標軸Z方向來觀察刷磨裝置D100。
刷磨裝置D100包括刷磨輥D130、立即上流側的自由輥D110、立即下流側的自由輥D150。刷磨裝置D100的操作中，帶狀基材(D11~D16)會沿著箭頭DR1方向搬送。本申請案中，為了說明方便，觀察者從上流側觀察搬送於大致水平方向的帶狀基材的情狀下，將觀察者的右側及左側分別稱之為搬送路徑的右側及左側。第38~39圖所示的例子中，帶狀基材的寬度方向的一側的端部D11R為右側端部，帶狀基材的寬度方向的另一側的端部D11L為左側端部。
搬入刷磨裝置D100的帶狀基材D11會被誘導而沿著上流側自由輥D110的圓筒面前進。透過這個誘導，帶狀基材的搬送方向會以超過0°的角度旋轉。自由輥D110是藉由支撐著軸的支持台(未圖示)，而以軸D11X為中心自由旋轉的狀態下設置的搬送輥，從帶狀基材的背面側接觸帶狀基材。因此，自由輥D110會伴隨著被搬送的帶狀基材而朝箭頭DR3方向旋轉。
在此例中，自由輥D110所促使的搬送方向旋轉的 旋轉軸會與自由輥D110本身的旋轉軸D11X一致，方向會與開始接觸自由輥D110至結束接觸的期間的帶狀基材的搬送方向正交。這個例子中，自由輥D110的軸D11X平行於座標軸Y。
自由輥D110與搬送方向的夾角在不妨礙搬送的範圍內，也可以具有正交角度的±0.5°以內的誤差。在這個容許誤差範圍內，搬送方向旋轉的旋轉軸與接觸的帶狀基材的搬送方向正交的情況下，自由輥D110能夠將帶狀基材以緊抓的狀態搬送。
搬送至上流側自由輥D110的下流的帶狀基材D13會被誘導而繼續沿著刷磨輥D130的圓筒面前進。刷磨輥D130的軸D13X平行於XY平面，相對於座標軸Y傾斜45°。實施形態D的製造方法及實施形態D的刷磨裝置中使用的刷磨輥的材質並沒有特別限定，能夠是圓筒面具備例如不織布等的適合刷磨的材料的輥。
與自由輥D110不同，刷磨輥D130被驅動裝置(未圖示)驅動而以軸D13X為中心朝箭頭DR2的方向旋轉，藉此刷磨輥D130的圓筒面會刷磨帶狀基材的一側的表面，以進行刷磨步驟。
實施形態D的製造方法中，刷磨輥以超過0°的接觸角與帶狀基材接觸，藉此旋轉帶狀基材的搬送方向。又，帶狀基材的搬送方向與刷磨輥的旋轉軸的夾角非正交。在此所說的帶狀基材的搬送方向是接觸著刷磨輥的帶狀基材的搬送方向。實施形態D(i)的例子中，接觸著刷磨輥D130的帶狀基 材的搬送方向與刷磨輥D130的軸D13X的夾角並非正交。像這樣，以超過0°的接觸角接觸，能夠讓帶狀基材對刷磨輥施加高壓力的接觸。又，形成這種非正交的角度，能夠以刷磨輥達成斜向刷磨。
接觸角是刷磨輥與帶狀基材接觸的周面部份的扇形中心角。中心角是從刷磨輥的軸方向觀察的角度。接觸角在5°以上為佳，在10°以上更佳，另一方面，在120°以下為佳，在90°以下更佳。將接觸角設定在這個範圍內，不需施加過度負荷至薄膜就能夠給予高的配向控制力。又，帶狀基材的搬送方向與刷磨輥的旋轉軸的夾角稱為「擺動角」。擺動角在超過0°不滿89.5°的範圍內，10°以上為佳，在35°以上更佳，在40°以上特佳，另一方面，在80°以下為佳，在55°以下更佳，在50°以下特佳。斜向刷磨中，常常會要求進行刷磨使得與帶狀基材的長度方向夾角45°的方向有配向控制力，將擺動角設定在上述範圍內，就能夠容易地達成上述的在希望的方向上的配向控制力。藉由使刷磨輥具有擺動角，刷磨輥的左右中的一側會傾向上流側，另一側會傾向下流側。第38~39圖的例子中，刷磨輥的左側會傾向上流側，刷磨輥的右側會傾向下流側。
實施形態D的製造方法中，刷磨輥的旋轉速度能夠適當地調整以獲得較合適的刷磨量。刷磨量能夠以搬送路徑上帶狀基材與刷磨輥從接觸開始至接觸結束為止的刷磨輥的圓筒面相對於帶狀基材的移動距離來表示。具體來說，刷磨輥的旋轉速度能夠調整，使得刷磨輥的圓筒面的圓周速度與刷磨輥接觸帶狀基材的時間的乘積在希望的範圍內。更具體來說， 刷磨輥的圓筒面的圓周速度會利用刷磨輥的直徑d(mm)及旋轉速度t(rpm)，以πdt/60(mm/秒)來求出。刷磨輥接觸帶狀基材的時間會利用線速度v(mm/分)、接觸角θw(°)及擺動角(°)，以(πdθw/360)÷(vsin/60)(秒)來求出。因此，兩者的乘積為(π2d2θwt)/(360vsin)(mm)。該乘積的較佳範圍是500mm~100000mm。因此，能夠調整刷磨輥的旋轉速度，使得在整個帶狀基材的寬度方向上，該乘積在上述較佳的範圍內。
刷磨後被搬送至刷磨輥D130的下流的帶狀基材D14接著被誘導而沿著下流側自由輥D150的圓筒面前進。藉由此誘導，帶狀基材的搬送方向以超過0°的角度旋轉。自由輥D150是藉由支持軸的支持台(未圖示)而設置成以軸D15X為中心自由旋轉的搬送輥，從帶狀基材的背面側接觸帶狀基材。因此，自由輥D150會隨著被搬送的帶狀基材而朝箭頭DR3的方向旋轉。
在此例中，自由輥D150與自由輥D110同樣是緊握輥，自由輥D150所促使的搬送方向旋轉的旋轉軸會與自由輥D150本身的旋轉軸D15X一致，方向會與開始接觸自由輥D150至結束接觸的期間的帶狀基材的搬送方向正交。這個例子中，相較於自由輥D110的軸D11X與自由輥D150的D15X平行配置。
搬送至下流側自由輥D150的下流的帶狀基材D16會做為被刷磨過的帶狀基材而被保存或適當地提供至使用的步驟。例如，帶狀基材D16能夠直接被搬送到進行液晶組成物 塗布的步驟的產線上，或者是使用適當的卷繞裝置捲起來保存。
刷磨裝置D100的上流側、下流側或者是兩者，可設置咬送輥、卷繞裝置等的適當的裝置，藉此能夠以適當的線速度及張力來搬送帶狀基材。線速度及張力能夠因應使用的帶狀基材、及希望的刷磨條件等而設定為適合的值。例如，線速度設定為1~50m/分為佳。又，張力設定為30~500N/m為佳。
[D1.1.中高輥]
實施形態D(i)中，自由輥D110、刷磨輥D130及自由輥D150在接觸搬送對象的帶狀基材的位置具有中央部徑粗且端部徑細的形狀。具有這種形狀的輥稱之為中高型輥或是簡單稱為中高輥。
中高輥的形狀將參照第42圖來說明。第42圖係以第38圖及第39圖所示的自由輥D110為例來說明中高輥的形狀的剖面圖。第42圖中，自由輥D110以通過軸D11X的剖面圖來顯示。自由輥D110的端部(自由輥的寬度方向位置中對應到自由輥周面上的帶狀基材的端部D11R及D11L所接觸的位置)中，具有箭頭DR11R及DR11L所示的粗的徑長，在中央部(帶狀基材的中央部所接觸的位置)中，具有箭頭DR11C所示的更粗的徑長。
通過中高輥的軸切斷的中高輥的剖面中，周面的形狀在第42圖所示的例子中是帶有圓弧的曲線形狀。然而，中高輥的剖面上的周面形狀並不限定於此，可以是2條以上的複數直線連結而呈的折線形狀，也可以是直線與曲線組合的形 狀。又，第42圖所示的例子中，呈現箭頭DR11R及DR11L所示的兩端部的徑長相同的對稱形狀，但並不限定於這種中高輥，也可以是左右的端部的徑長不同的非對稱形狀。
與中高輥相反，具有中央部徑長細且端部徑長粗的形狀的輥稱為中低型輥或簡單稱為中低輥。中低輥的形狀將參照第43圖來說明。第43圖係以第40圖及第41圖所示的自由輥D310(後述)為例來說明中低輥的形狀的剖面圖。第43圖中，自由輥D310的端部(自由輥的寬度方向位置中對應到自由輥周面上的帶狀基材的端部D11R及D11L所接觸的位置)中，具有箭頭DR31R及DR31L所示的粗的徑長，在中央部(帶狀基材的中央部所接觸的位置)中，具有箭頭DR31C所示的更細的徑長。
通過中高輥的軸切斷的中低輥的剖面中，周面的形狀在第43圖所示的例子中是帶有圓弧的曲線形狀。然而，中低輥的剖面上的周面形狀並不限定於此，可以是2條以上的複數直線連結而呈的折線形狀，也可以是直線與曲線組合的形狀。又，第43圖所示的例子中，呈現箭頭DR31R及DR31L所示的兩端部的徑長相同的對稱形狀，但並不限定於這種中低輥，也可以是左右的端部的徑長不同的非對稱形狀。
非中高輥也非中低輥的圓筒型輥在本申請案中，有時會單純稱之為「直筒輥」。
[D1.2.搬送路徑上的帶狀基材的形狀]
實施形態D的製造方法中，搬送路徑上的帶狀基材的形狀滿足下述條件(i)~(iii)中的至少一者。也就是， 實施形態D的製造方法中，進行帶狀基材的搬送時，搬送路徑上的帶狀基材的形狀會滿足下述條件(i)~(iii)中的至少一者。(i)在帶狀基材接觸刷磨輥的位置，帶狀基材的背面側具有凸形狀；(ii)在刷磨輥、以及其上流側的緊握帶狀基材的上流側緊握輥之間的至少一部分領域，表面側具有凸形狀；(iii)在刷磨輥、以及其下流側的緊握帶狀基材的下流側緊握輥之間的至少一部分領域，表面側具有凸形狀。
本申請案中，帶狀基材的「背面側具有凸形狀」在沒有其他特別要求的情況下，是指帶狀基材的寬度方向中心比寬度方向的端部更朝帶狀基材的背面側突出的形狀。相反地，帶狀基材的「表面側具有凸形狀」在沒有其他特別要求的情況下，是指帶狀基材的寬度方向中心比寬度方向的端部更朝帶狀基材的正面側突出的形狀。
然而，要件(i)中，「在帶狀基材接觸刷磨輥的位置，帶狀基材的背面側具有凸形狀」與否是根據在通過刷磨輥的軸及帶狀基材的寬度方向中心點的垂直於帶狀基材面的面，且切斷帶狀基材的剖面上，中心部比起端部是否有突出至帶狀基材的背面側的形狀來判定。例如，第39圖所示的例子中，在通過刷磨輥D130的軸D13X及帶狀基材的寬度方向的中心點的垂直於帶狀基材面的平面位置以線DL21表示，這個情況下的帶狀基材的寬度方向的中心點是DQ21。在這條線DL21所示的位置上，因為刷磨輥D130是中高輥，帶狀基材的中心部比起端部會是突出至帶狀基材的背面側的形狀。因此，實施形態D(i)滿足條件(i)。
條件(ii)中，刷磨輥的上流側具有複數的緊握輥的情況下，「上流側緊握輥」是指這些緊握輥中最接近刷磨輥的緊握輥。條件(ii)中，在刷磨輥、以及其上流側的緊握帶狀基材的上流側緊握輥之間的至少一部分領域，帶狀基材的表面側具有凸形狀的情況下，判定為滿足條件(ii)。例如第38圖所示的例子中，自由輥D110因為是中高輥，在刷磨輥D130與自由輥D110之間靠近自由輥D110的一部分領域DZ11，帶狀基材的表面側具有凸形狀。因此，第38圖所示的例子滿足條件(ii)。
條件(iii)中，刷磨輥的下流側具有複數的緊握輥的情況下，「下流側緊握輥」是指這些緊握輥中最接近刷磨輥的緊握輥。條件(iii)中，在刷磨輥、以及其下流側的緊握帶狀基材的下流側緊握輥之間的至少一部分領域，帶狀基材的表面側具有凸形狀的情況下，判定為滿足條件(iii)。例如第38圖所示的例子中，自由輥D150因為是中高輥，在刷磨輥D130與自由輥D150之間靠近自由輥D150的一部分領域DZ15，帶狀基材的表面側具有凸形狀。因此，第38圖所示的例子滿足條件(iii)。
滿足條件(i)~(iii)任一者以上的情況下，斜向刷磨中，能夠拉長寬度方向的中央部的軋制線的長度。一般來說，斜向刷磨中，寬度方向的中央部的軋制線會有相對較短的傾向，因此帶狀基材對刷磨輥的接觸壓力不均一，甚至會有刷磨程度不均一的傾向，藉由像這樣拉長寬度方向的中央部的軋制線，能夠減低上述的不均一的情況。結果，能夠使接觸帶 狀基材的刷磨輥的壓力均一話，且能夠減低刷磨輥上的帶狀基材的皺摺，並進一步達成均一的刷磨。
實施形態D的這個效果將與習知技術對比來進一步說明。第44~45圖係概要顯示習知技術的刷磨裝置及使用該刷磨裝置的習知技術的製造方法的操作的一例的側視圖及上視圖。第44~45圖中，刷磨裝置D700包括以擺動角45°配置的圓筒型的刷磨輥D730、位於立即上流側的圓筒型的自由輥D710(緊握輥)、位於立即下流側的圓筒型的自由輥D750(緊握輥)。在刷磨裝置D700的操作中，帶狀基材(D11~D16)會被搬送到箭頭DR1方向。自由輥D710的軸D71X與自由輥D750的軸D75X平行地配置。
第44圖及第45圖的例子中，刷磨輥D730附近的帶狀基材的搬送路徑會產生扭曲，結果，在搬入刷磨輥的帶狀基材與刷磨輥接觸開始的位置處，帶狀基材的搬入方向在帶狀基材的整個寬度方向上並不相同，且在搬出刷磨輥的帶狀基材與刷磨輥接觸結束的位置處，帶狀基材的搬出方向在帶狀基材的整個寬度方向上並不相同。
因為上述的扭曲，第44~45圖的例子中，帶狀基材的搬送路徑的長度在帶狀基材的整個寬度方向上並不均一。具體來說，如第45圖所示，與自由輥D710接觸結束直到與自由輥D750接觸開始為止的帶狀基材的搬送路徑DP70-1~DP70-7的長度並不均一。更具體來說，端部的搬送路徑DP70-1及DP70-7最長，中央部的搬送路徑DP70-4最短，在這之間的搬送路徑會比端部的搬送路徑短且比中央部的搬送路徑長。如 果搬送路徑的長度產生這樣的不均一，當被搬送的帶狀基材與刷磨輥D730接觸時，中央部的張力會比端部的張力弱。或者，如果是伸縮比例較少的帶狀基材的話，中央部的帶狀基材會有多餘的狀態而在中央部產生不均勻的鬆弛。因此，帶狀基材對刷磨輥的接觸壓力變得不均一，甚至刷磨的程度變得不均一。
相對於此，實施形態D的製造方法中，藉由滿足條件(i)~(iii)中任一者以上，在斜向刷磨中能夠拉長寬度方向的中央部的軋制線。結果，能夠減低上述的不均一的情況。
第44~45圖的例子中，如果充分地拉長自由輥D710與D750的間隔，這種搬送路徑的長度不均一會相對地減少。但這個情況下，沒有被支持的狀態下搬送帶狀基材的路徑會變長，可能會發生薄膜晃動所產生的異常，或者是用來設置製造設備的空間變大的不良狀況。實施形態D中，上流側的緊握輥到下流側的緊握輥之間的搬送路徑的長度在薄膜寬度的5倍以下為佳，在薄膜寬度的3倍以下更佳。而搬送路徑的長度下限並沒有特別限定，例如能夠是薄膜寬度的2倍以上。
[D1.3.剩餘量]
以上所述的軋制線的不均一的比例能夠定量，方法是將跨過刷磨輥搬送的帶狀基材的軋制線按以下的方式設定，然後測量或計算在帶狀基材的寬度方向上的各種位置的軋制線長度，從這個長度的測量結果或計算結果中求出軋制線的剩餘量。具體的剩餘量的求法如下。
首先，條件(ii)中規定的上流側緊握輥的周面上， 設定輥周面上的線以成為軋制線的起點。這個軋制線的起點線是將搬送的帶狀基材從上流側緊握輥離開的位置設定為基準。帶狀基材從上流側緊握輥離開的時間點有可能在帶狀基材的整個寬度方向上都是同時，也有可能因為搬送路徑的扭曲等而在帶狀基材的整個寬度方向上並不是同時。因此，包含上流側緊握輥的周面上帶狀基材最先離開上流側緊握輥的點以及上流側緊握輥的軸的平面、以及上流側緊握輥的周面，這兩個面相交的位置的線規定為軋制線的起點線。上流側緊握輥是直筒型輥的情況下，這個軋制線的起點線是平行於輥軸的輥的周面上的線，成為通過上流側緊握輥的周面上帶狀基材最先離開上流側緊握輥的點的線。另一方面，上流側緊握輥是中高輥或中低輥的情況下，軋制線的起點線是輥的周面上的曲線。例如第46圖所示，帶狀基材D13從做為中高型的上流側緊握輥的自由輥D110離開的位置是以斜曲線DL11所標示的位置的情況下，以線DL11所標示的位置之中，帶狀基材D13最先從自由輥D110離開的點是以DQ10-1所標示的點。藉由點DQ10-1、以及軸D11X上的點與點DQ10-1連結的線DL12，能夠規定出包含它們的平面。該平面與自由輥D110的周面相交的位置的線就是線DL13所示的直線，而這個直線DL13被規定為軋制線的起點線。
接著，條件(iii)中規定的下流側緊握輥的周面上，設定輥周面上的線以成為軋制線的終點。這個軋制線的終點線是將搬送的帶狀基材接觸下流側緊握輥的位置設定為基準。帶狀基材接觸下流側緊握輥的時間點有可能在帶狀基材的 整個寬度方向上都是同時，也有可能因為搬送路徑的扭曲等而在帶狀基材的整個寬度方向上並不是同時。因此，包含下流側緊握輥的周面上帶狀基材最晚接觸下流側緊握輥的點以及下流側緊握輥的軸的平面、以及下流側緊握輥的周面，這兩個面相交的位置的線規定為軋制線的終點線。上流側緊握輥是直筒型輥的情況下，這個軋制線的終點線是平行於輥軸的輥的周面上的線，成為通過下流側緊握輥的周面上帶狀基材最先接觸下流側緊握輥的點的線。另一方面，下流側緊握輥是中高輥或中低輥的情況下，軋制線的起點線是輥的周面上的曲線。
接著，規定帶狀基材的寬度方向各個位置的軋制線。軋制線的起點會規定在規定的軋制線的起點線的兩端部的2個位置以及兩端部的內側等間隔的5個位置以上。因此，軋制線的數目n在7以上。例如第46圖所示的例子中，軋制線的起點的直線DL13的兩端的點DQ10-1及DQ10-7、以及其內側的點DQ10-2~DQ10-6會規定為軋制線的起點。軋制線的終點與軋制線的終點同樣地，會規定在規定的軋制線的終點線的兩端部的2個位置以及兩端部的內側等間隔的5個位置以上，軋制線的起點數與終點數相同。搬送路徑上，對應的軋制線的起點與終點的連線會規定為軋制線。軋制線的數目n的上限並沒有限定，能夠設定成無限大的數目，但為了操作上的方便，例如能設定在100以下。又，軋制線的數目能夠設定使薄膜的寬度方向上的軋制線間隔為10mm~500mm的數目。
接著，測量各個軋制線的長度。軋制線的測量能夠藉由在抽出帶狀基材的狀態，沿著軋制線的起點到終點拉一 條線，再測量這條線的長度來達成。在這個情況下，線會沿著帶狀基材的搬送位置不鬆弛地拉緊。例如，即使是帶狀基材因為皺摺等而從刷磨輥浮起來的位置，線會接觸著刷磨輥拉緊。又，也可以取代實測，而根據輥的位置資訊來計算求出該軋制線。
獲得的n個軋制線的長度P1、P2、...Pn個別的剩餘量εk(k=1、2、...n)以及剩餘量的最大值εmax會使用Pk、最短的軋制線長度Pmin、以及最長的軋制線長度Pmax，以下述(3)及(4)式求出。
εk(%)=(Pk-Pmin)/Pmin×100(%) (3)式
εmax(%)=(Pmax-Pmin)/Pmin×100(%) (4)式
實施型態D中，滿足條件(i)~(iii)的任一者以上，又，藉由調整條件(i)~(iii)終帶狀基材的凸形狀的突出程度，能夠達成剩餘量小的帶狀基材的搬送。例如，帶狀基材的最大剩餘量εmax在0%~0.1%為佳，在0%~0.05%更佳。帶狀基材的寬度w在0.2m以上為佳，在0.4m以上更佳，另一方面在4m以下為佳，在3m以下更佳。
[D2.實施形態D(ii)]
實施形態D(i)中，自由輥D110、刷磨輥D130及自由輥D150任一者都是中高輥，但本發明並不限定於此，可以有一部分的輥是其他形狀，這樣的例子之一將用以下的實施形態D(ii)來說明。
第40圖及第41圖係概要顯示實施形態D的刷磨裝置及使用該刷磨裝置的實施形態D的製造方法的操作的另 一例的側視圖及上視圖。在此所示的形態會以實施形態D(ii)來說明。第40~41圖所示的刷磨裝置D300中，上流側的自由輥D310與下流側的自由輥D350是中低輥這點與實施形態D(i)的刷磨裝置D100不同。另外，刷磨裝置D300在自由輥D310及D350是從帶狀基材的表面側接觸帶狀基材，並朝向箭頭DR4方向旋轉這點也與刷磨裝置D100不同。自由輥D130的擺動角、接觸角、以及軸D13X的方向則與刷磨裝置D100相同。
刷磨裝置D300中，自由輥會採用中低輥來取代中高輥，且自由輥接觸帶狀基材的面會改成相反面，藉此，在領域DZ31及DZ35也能滿足與刷磨裝置D100一樣，滿足條件(ii)及(iii)。因此，能夠拉長寬度方向的中央部的軋制線，達成均一的刷磨。
中低輥具有將帶狀基材往寬度方向展開的功能，因此上流側緊握輥及下流側緊握輥中的一者或兩者採用這種中低輥的情況下，比起採用中高輥，能夠減低薄膜寬度中心部的皺摺產生。因此，中低輥對於像這樣需要減低薄膜寬度中心部的皺摺的情況下特別有用。另一方面，上流側緊握輥及下流側自緊握輥中的一者或兩者採用這種中低輥的情況下，比起採用中高輥，會有搬送路徑上的帶狀基材產生非期望的蛇行的傾向提高的狀況。因此，因應於需要調整的條件，適當選擇使用中低輥，能夠達成良好的刷磨。
[D3.其他的實施形態]
本發明的製造方法及本發明的刷磨裝置並不限定 於上述實施形態D(i)及實施形態(ii)，能夠是其他的態樣。
[D3.1.擴展輥]
例如，實施形態D(i)中，上流側緊握輥(自由輥D110)採用中高輥，並從帶狀基材的背面側接觸帶狀基材，藉此能夠滿足條件(ii)。然而，要滿足條件(ii)，從帶狀基材的背面側接觸帶狀基材的搬送裝置也不限於中高輥，能夠使用其他的搬送裝置。相對於帶狀基材具有凸形狀的上流側緊握輥，除了中高輥的例子以外還可以舉出擴展輥。採用擴展輥來做為上流側緊握輥，也能夠滿足條件(ii)。擴展輥是將軸彎曲成弧形，且能夠維持在該狀態下旋轉的輥。彎曲圓筒型的擴展輥的軸，以相對於帶狀基材凸起的狀態從帶狀基材的背面側接觸帶狀基材，將這種輥做為上流側緊握輥，也能夠達成滿足條件(ii)的搬送。
同樣地，要滿足條件(iii)，從帶狀基材的背面側接觸帶狀基材的搬送裝置也不限於中高輥，能夠使用其他的搬送裝置。相對於帶狀基材具有凸形狀的下流側緊握輥，除了中高輥的例子以外還可以舉出擴展輥。採用擴展輥來做為下流側緊握輥，也能夠滿足條件(iii)。彎曲圓筒型的擴展輥的軸，以相對於帶狀基材凸起的狀態從帶狀基材的背面側接觸帶狀基材，將這種輥做為下流側緊握輥，也能夠達成滿足條件(iii)的搬送。
實施形態D(ii)中，上流側緊握輥(自由輥D310)採用中低輥，並從帶狀基材的表面側接觸帶狀基材，藉此能夠滿足條件(ii)。然而，要滿足條件(ii)，從帶狀基材的表 面側接觸帶狀基材的搬送裝置也不限於中低輥，能夠使用其他的搬送裝置。相對於帶狀基材具有凹形狀的上流側緊握輥，除了中低輥的例子以外還可以舉出擴展輥。採用擴展輥來做為上流側緊握輥，也能夠滿足條件(ii)。彎曲圓筒型的擴展輥的軸，以相對於帶狀基材凹起的狀態從帶狀基材的表面側接觸帶狀基材，將這種輥做為上流側緊握輥，也能夠達成滿足條件(ii)的搬送。
同樣地，要滿足條件(iii)，從帶狀基材的表面側接觸帶狀基材的搬送裝置也不限於中低輥，能夠使用其他的搬送裝置。相對於帶狀基材具有凹形狀的下流側緊握輥，除了中高輥的例子以外還可以舉出擴展輥。採用擴展輥來做為下流側緊握輥，也能夠滿足條件(iii)。彎曲圓筒型的擴展輥的軸，以相對於帶狀基材凹起的狀態從帶狀基材的表面側接觸帶狀基材，將這種輥做為下流側緊握輥，也能夠達成滿足條件(iii)的搬送。
[D3.2.浮上搬送裝置]
要滿足條件(ii)及/或條件(iii)而限制帶狀基材的形狀的其他的搬送裝置的例子能夠舉出浮上搬送裝置。浮上搬送裝置具有搬送輥的周面、或者是與該周面的一部分相同形狀的搬送面，該搬送面上具有多個細微的空氣噴出孔，從該空氣噴出孔噴出空氣，藉此以不接觸該搬送面的狀態誘導帶狀基材沿著該搬送面前進。
例如，採用具有與中高輥相同的凸形狀的搬送面的浮上搬送裝置，將這個浮上搬送裝置設置在圓筒型的上流側 緊握輥與刷磨輥之間，使凸形狀朝向帶狀基材的背面側，藉此達成滿足條件(ii)的搬送。又例如，採用具有與中高輥相同的凸形狀的搬送面的浮上搬送裝置，將這個浮上搬送裝置設置在圓筒型的下流側緊握輥與刷磨輥之間，使凸形狀朝向帶狀基材的背面側，藉此達成滿足條件(iii)的搬送。
又例如，採用具有與中低輥相同的凹形狀的搬送面的浮上搬送裝置，將這個浮上搬送裝置設置在圓筒型的上流側緊握輥與刷磨輥之間，使凹形狀朝向帶狀基材的表面側，藉此達成滿足條件(ii)的搬送。又例如，採用具有與中低輥相同的凹形狀的搬送面的浮上搬送裝置，將這個浮上搬送裝置設置在圓筒型的下流側緊握輥與刷磨輥之間，使凹形狀朝向帶狀基材的表面側，藉此達成滿足條件(iii)的搬送。
[D3.3.輥的組合]
實施形態D(i)中，上流側緊握輥及下流側緊握輥都是中高輥，實施形態D(ii)中，上流側緊握輥及下流側緊握輥都是中低輥，但本發明並不限定於此。上流側緊握輥及下流側緊握輥也可以是不同種類的輥的組合。輥的組合能夠舉出：(A)上流側緊握輥及下流側緊握輥都是中高輥的組合；(B)上流側緊握輥及下流側緊握輥都是中低輥的組合；(C)上流側緊握輥及下流側緊握輥中的一者是中高輥另一者是中低輥的組合；(D)上流側緊握輥及下流側緊握輥中的一者是中高輥另一者是直筒輥的組合；(E)上流側緊握輥及下流側緊握輥中的一者是中低輥另一者是直筒輥的組合；(F)上述任一者中，以凸形狀朝向帶狀基材而設置的擴展輥取代中高輥 的組合；(G)上述任一者中，以凹形狀朝向帶狀基材而設置的擴展輥取代中低輥的組合；(H)上流側緊握輥及下流側緊握輥都是直筒輥的組合。上述(A)~(G)當中，例如中高輥這種以凸形狀朝向帶狀基材而設置的輥，會從帶狀基材的背面側接觸帶狀基材，藉此來進行滿足條件(ii)或(iii)的搬送。又，上述(A)~(G)當中，例如中低輥這種以凹形狀朝向帶狀基材而設置的輥，會從帶狀基材的表面側接觸帶狀基材，藉此來進行滿足條件(ii)或(iii)的搬送。
實施形態D(i)及實施形態D(ii)中，刷磨輥是中高輥，但本發明並不限定於此，刷磨輥也可以是直筒輥。在這個情況下，上流側緊握輥及下流側緊握輥的組合以上述(A)~(G)當中的任一者為佳。
實施形態D(i)及實施形態D(ii)滿足全部的條件(i)~(iii)，但本發明並不限定於此，也可以只滿足的條件(i)~(iii)中的2個或1個。例如，依據刷磨輥的擺動角、接觸角等的條件，也會有斜向刷磨產生的剩餘量少的情況，在這種情況下，即使只滿足的條件(i)~(iii)中的2個或1個，也能夠達成良好的斜向刷磨。又，如上述(D)及(E)，上流側緊握輥及下流側緊握輥中的一者是中高輥或中低輥另一者是直筒輥時，中高輥或中低輥如果是左右對稱的輥的話，也會有左右的端部的軋制線長度不同的情況。這個情況下，能夠使用左右非對稱的輥來做為中高輥或中低輥，使整個寬度方向上的軋制線的長度接近均一的狀態。
[帶狀基材的材質等]
實施形態A~D的本發明的製造方法中使用的帶狀基材的材質並沒有特別限定，能夠使用經過刷磨後能給予表面配向控制力的各種樹脂。樹脂的例子能夠舉出包含各種聚合體的樹脂。而這種聚合體能夠舉出含有脂環式構造的聚合體、纖維素酯(cellulose ester)、聚乙烯醇(Polyvinyl Alcohol)、聚醯亞胺(Polyimide)、UV透過丙烯酸、聚碳酸酯(Polycarbonate)、聚碸(Polysulfone)、聚醚碸(Polyethersulfone)、環氧聚合體、聚苯乙烯(Polystyrene)、聚對苯二甲酸乙二酯(Polyethylene terephthalate)、聚對苯二甲酸乙二酯(polyethylene naphthalate)、以及上述各種聚合體的組合。這些聚合體當中，從透明性、低吸濕性、尺寸穩定性、輕量性等的觀點來看的話，以含有脂環式構造的聚合體及纖維素酯(cellulose ester)為佳，而含有脂環式構造的聚合體更佳。
使用於本發明的製造方法的帶狀基材的經刷磨而被給予配向控制力的面，也可以因應需要而設置配向膜。利用配向膜能夠容易地給予配向控制力。配向膜例如以纖維素(cellulose)、矽烷耦合劑(Silane Coupling Agents)、聚醯亞胺(Polyimide)、聚醯胺(Polyamide)、聚乙烯醇(Polyvinyl Alcohol)、環氧丙烯酸酯(Epoxy Acrylate)、矽烷醇基低聚物(silanol oligomer)、聚丙烯腈(polyacrylonitrile)、苯酚樹脂(Phenol Resin)、Polyoxazole、環化聚異戊二烯(polyisoprene)等形成。
[產品用途]
使用本發明的製造方法所獲得的經刷磨之帶狀基材的用途並沒有特別限定，能夠利用其表面的配向控制力而用於具有配向性的樹脂薄膜的製造。具體來說，能夠在帶狀基材上塗布含有聚合性的液晶化合物的液晶組成物，使液晶化合物在配向的狀態下硬化，形成硬化液晶組成物層。這種硬化液晶組合物層能夠做為相位差板(1/4λ板、1/2λ板等)的光學構件來使用。
[實施例]
以下，以實施例來具體說明本發明。然而，本發明並不限定於以下所示的實施例。以下的說明中，表示量的「%」及「比重」若沒有特別註明的話就是重量基準。又，以下的操作若沒有特別註明的話就是在常溫常壓的大氣下進行。
[評價方法：實施例A1~A3及比較例A1~A3]
[A1.刷磨處理中的帶狀基材的皺摺]
為了判斷是否進行的是沒有扭曲的刷磨處理，會觀察刷磨處理中的帶狀基材的皺摺有無。觀察刷磨處理中搬送到刷磨輥附近的帶狀基材的狀態，觀察到皺摺的話評價為A，觀察到一點點皺摺的話評價為B，觀察到明顯的皺摺的話評價為C。
[A2.配向狀態]
為了評價經刷磨之帶狀基材的配向控制力的狀態，會在帶狀基材上塗布含有聚合性的液晶化合物的液晶組成物，使其硬化，形成硬化液晶組成物層，觀察配向狀態。液晶組成物是以下式(E1)所示的逆波長分散聚合性液晶化合物 21.25比重、界面活性劑(商品名「SURFLON S420」、AGC Chemical公司製)0.11比重、聚合開始劑(商品名「IRGACURE 379」，BASF公司製)0.64比重、以及溶媒(Cyclopentanone，日本ZEON股份有限公司製)78.00比重混合調製而成。
使用狹縫塗布機將液晶組成物塗布於經刷磨之帶狀基材的刷磨過的面，形成液晶組成物層，以110℃ 2.5分鐘的對液晶組成物層進行配向處理，在氮氣環境下照射100mJ/cm2以上的紫外線，獲得乾燥膜厚2μm的液晶樹脂膜層。關於這個層將會使用偏光顯微鏡在正交偏光下觀察配向狀態，判斷是否獲得整個面沒有配向缺陷的均一配向。
[實施例A1]
(A1-1.帶狀基材)
熔融擠壓成形出熱可塑性降冰片烯樹脂的小顆粒狀物(日本ZEON股份有限公司製，商品名「ZEONOR 1420R」)，得到寬度400mm厚度50μm的帶狀基材。
(A1-2.帶狀基材)
使用第1~5圖中概略顯示的刷磨裝置A100，將實施例A1的(A1-1)獲得的帶狀基材進行刷磨處理，製造經刷磨之帶狀基材。2個圓筒形的自由輥(緊握輥)的徑長都設定 為80mm。圓筒形的刷磨輥A130的徑常設定為120mm。自由輥A110的軸A11X及刷磨輥A130的軸A13X設置在水平方向，且調整他們的關係，使得從自由輥A110到刷磨輥A130之間的帶狀基材A13的搬送路徑在水平方向。刷磨輥A130的擺動角設定為45°，接觸角設定為60°。帶狀基材離開自由輥A110到接觸自由輥A150之間的搬送路徑設定為約1000mm，從這個狀態調整自由輥的位置及角度，使搬入刷磨輥A130的帶狀基材A13的搬入方向及從刷磨輥A130搬出的帶狀基材A14的搬出方向都在帶狀基材的寬度方向上相同(以帶狀基材寬度方向的中心的搬入或搬出方向為基準，該基準方向與其他的搬入或搬出方向的夾角在0.5°以內)，使帶狀基材的剩餘量的最大值εmax在0.05%以下。將搬送帶狀基材(A11~A16)的線速度設定為4m/分，將張力設定為150N/m。刷磨輥A130以1000rpm的轉速朝反方向旋轉(圖中箭頭AR2所示的方向旋轉)。
觀察刷磨處理中的帶狀基材的皺摺後，評價為「A」。又，觀察獲得的經刷磨之帶狀基材的配向狀態後，發現全表面達成均一的配向，因此評價為良好。
[實施例A2]
變更自由輥的配置，藉此將刷磨裝置變更為第6圖及第7圖所概略顯示的裝置A600，此外都與實施例A1用一樣的條件來進行刷磨處理並加以評價。刷磨裝置A600是將第1~5圖所示的刷磨裝置A100繞著刷磨輥A130的軸A13X旋轉，藉此變更自由輥A110及A150的位置，做成自由輥A610 及A650，除了這點與刷磨裝置A100不同以外，其他的點都完全相同。
觀察刷磨處理中的帶狀基材的皺摺後，評價為「A」。又，觀察獲得的經刷磨之帶狀基材的配向狀態後，發現全表面達成均一的配向，因此評價為良好。
[實施例A3]
使用第8~12圖中概略顯示的刷磨裝置A800，將實施例A1的(A1-1)獲得的帶狀基材進行刷磨處理，製造經刷磨之帶狀基材。使用的2個自由輥及刷磨輥A130與實施例A1相同。將自由輥A810及A850的軸A81X及A85X以及刷磨輥A130的軸A13X配置在水平方向上。使自由輥A810及A850的軸A81X及A85X互相平行。使用的浮上搬送裝置A820及A840具有沿著半徑160mm的圓筒形的搬送面A821S，浮上搬送裝置的擺動角都設定為大約50°。適當調整自由輥A810及A850的偏移量(偏離Y軸方向的位置的量)、浮上搬送裝置A820及A840的位置及軸的角度，使刷磨輥A130的擺動角為45°，接觸角為60°，使搬入刷磨輥A130的帶狀基材A13的搬入方向及從刷磨輥A130搬出的帶狀基材A14的搬出方向都在帶狀基材的寬度方向上相同，使帶狀基材的剩餘量的最大值εmax在0.05%以下。其他的條件與實施例A1相同。
觀察刷磨處理中的帶狀基材的皺摺後，評價為「A」。又，觀察獲得的經刷磨之帶狀基材的配向狀態後，發現全表面達成均一的配向，因此評價為良好。
[比較例A1]
使用第13~15圖中概略顯示的刷磨裝置A1300，將實施例A1的(A1-1)獲得的帶狀基材進行刷磨處理，製造經刷磨之帶狀基材。使用的2個自由輥及刷磨輥A1330與實施例A1相同。將自由輥A1310及A1350的軸A131X及A135X以及刷磨輥A1330的軸A133X配置在水平方向上。使自由輥A1310及A1350的軸A131X及A135X互相平行。使刷磨輥A130的擺動角為45°，調節軸A133X的Z方向的位置使接觸角為30°。結果，搬入刷磨輥A1330的帶狀基材A13的搬入方向及從刷磨輥A1330搬出的帶狀基材A14的搬出方向都在帶狀基材的寬度方向上變得不相同，帶狀基材的剩餘量的最大值εmax變成0.34%。其他的條件與實施例A1相同。
觀察刷磨處理中的帶狀基材的皺摺後，評價為「B」。又，觀察獲得的經刷磨之帶狀基材的配向狀態後，發現有一塊一塊的配向不良的部位存在。
[比較例A2]
調節刷磨輥A1330的軸A133X的Z方向的位置，藉此變更接觸角為60°，除此之外與比較例A1用一樣的條件來進行刷磨處理並加以評價。因為變更了刷磨輥的位置，帶狀基材的剩餘量的最大值εmax變成1.31%。
觀察刷磨處理中的帶狀基材的皺摺後，評價為「C」。又，觀察獲得的經刷磨之帶狀基材的配向狀態後，發現有一塊一塊的配向不良的部位存在。
[比較例A3]
調節刷磨輥A1330的軸A133X的Z方向的位置， 藉此變更接觸角為0°，做成第16~17圖所示的刷磨裝置A1600，除此之外與比較例A1用一樣的條件來進行刷磨處理並加以評價。因為變更了刷磨輥的位置，帶狀基材的剩餘量的最大值εmax變成0%。
觀察刷磨處理中的帶狀基材的皺摺後，評價為「A」。又，觀察獲得的經刷磨之帶狀基材的配向狀態後，發現有全表面的配向都不良。
實施例A1~A3及比較例A1~A3的結果整理於表1。
從表1所示的結果可知，實施滿足本發明規定的刷磨步驟的條件的裝置及製造方法的實施例A1~A3中，比起比較例A1~A3，能夠達成刷磨程度均一的斜向刷磨。
[評價方法、使用材料及實施條件：實施例B1A~B5A及B1B~B7B、以及比較例B1A~B7A及B1B~B5B]
[B1.評價方法：配向狀態]
為了評價經刷磨之帶狀基材的配向控制力的狀態，會在帶狀基材上塗布含有聚合性的液晶化合物的液晶組成物，使其硬化，形成硬化液晶組成物層，觀察配向狀態。液晶組成物會與評價方法[A2.配向狀態]中使用的相同。
使用狹縫塗布機將液晶組成物塗布於經刷磨之帶狀基材的刷磨過的面，形成液晶組成物層，以110℃ 2.5分鐘的對液晶組成物層進行配向處理，在氮氣環境下照射100mJ/cm2以上的紫外線，獲得乾燥膜厚2μm的液晶樹脂膜層。關於這個層將會使用偏光顯微鏡在正交偏光下觀察配向狀態，沒有配向缺陷的整個面為均一配向者評價為「良」，有配向缺陷者評價為「不良」。被評價為「不良」者當中，中央部存在一塊一塊的配向缺陷，且可看到一部分完全沒有被刷磨處理到的部位者分類為「不良A」，中央部存在一塊一塊的配向缺陷，但看不到完全沒有被刷磨處理到的部位者分類為「不良B」。
[B2.使用的帶狀基材]
帶狀基材會使用下述的帶狀基材(1)~(4)。帶狀基材(1)：PET(polyethylene terephthalate)膜，商品名「COSMO SHINE A4100」，東洋紡公司製，楊氏模數E=4400MPa，厚度d=100μm，寬度400mm，Ed=440000Pa．m，Edw=176000Pa．m2。帶狀基材(2)：PET膜，商品名「COSMO SHINE A4100」，東洋紡公司製，楊氏模數E=4600MPa，厚度d=50μm，寬度400mm，Ed=230000Pa．m，Edw=92000Pa．m2。帶狀基材(3)：成形出熱可塑性降冰片烯樹脂的小顆粒 (日本ZEON股份有限公司製，商品名「ZEONOR1420R」)而得的膜，楊氏模數E=2200MPa，厚度d=100μm，寬度400mm，Ed=220000Pa．m，Edw=88000Pa．m2。帶狀基材(4)：成形出熱可塑性降冰片烯樹脂的小顆粒(日本ZEON股份有限公司製，商品名「ZEONOR1420R」)而得的膜，楊氏模數E=2200MPa，厚度d=50μm，寬度400mm，Ed=110000Pa．m，Edw=44000Pa．m2。基材(3)及(4)表背面沒有區別，但另一方面，帶狀基材(1)及(2)的其中一面是易黏著面(具有易黏著層的面)，帶狀基材(1)及(2)的刷膜會在易黏著面的相反側的面進行。
[B3.使用的裝置的輥裝置]
配置(1)：將刷膜輥及其上流側的起點輥及下流側的終點輥配置成第19~20圖所概略顯示的刷膜裝置B100的態樣。做為起點輥及終點輥的2個圓筒形的自由輥(緊握輥)B110及B150的徑長都設定為80mm。圓筒形的刷膜輥B130的徑長設定為120mm。自由輥B110及B150的軸B11X及B15X、刷膜輥B130的軸B13X都設置於水平方向。使自由輥B110及B150的軸B11X及B15X互相平行。刷膜輥B130的擺動角設定為45°，藉由調節軸B13X的Z方向的位置使接觸角為30°。結果，帶狀基材的最大剩餘量εmax變為0.34%，平均剩餘量εavg變為0.22%。配置(2)：將配置(1)的自由輥B110及B1150的軸B11X及B15X的間隔改成比配置(1)寬，結果，帶狀基材的最大剩餘量εmax變為0.1%，平均剩餘量εavg變為0.07%。配置(3)：將刷膜輥及其上流側的起點輥及下 流側的終點輥配置成第22~24圖所概略顯示的刷膜裝置B400的態樣。2個自由輥及刷膜輥B430與配置(1)相同。自由輥B410的軸B41X及刷膜輥B430的軸B43x設置於水平方向，且調整它們的位置關係使得從自由輥B410到刷膜輥B430為止的帶狀基材B13的搬送路徑也在水平方向。刷膜輥B430的擺動角設定為45°，接觸角設定為60°。帶狀基材從離開自由輥B410到達接觸自由輥B450之間的搬送路徑設定為1000mm，從這個狀態調整自由輥的位置及角度，使搬入刷磨輥B430的帶狀基材B13的搬入方向及從刷磨輥B430搬出的帶狀基材B14的搬出方向都在帶狀基材的寬度方向上相同(以帶狀基材寬度方向的中心的搬入或搬出方向為基準，該基準方向與其他的搬入或搬出方向的夾角在0.5°以內)，帶狀基材的剩餘量的最大值εmax變為0.03%，平均剩餘量εavg變為0.02%。
[比較例B1A~B7A及實施例B1A~B5A]
按表2所示地選擇帶狀基材(1)~(4)及配置(1)~(3)，根據下述條件以選擇的帶狀基材及配置來實施刷磨，評價經刷磨之帶狀基材的配向狀態。結果顯示於表2。
線速度：4m/min
刷磨輥旋轉速：1000rpm
刷磨輥的旋轉方向：逆轉(圖中箭頭BR2所示方向)
張力：60N(150N/m)
[比較例B1B~B5B及實施例B1B~B7B]
按表3所示地選擇帶狀基材(1)~(4)及配置(1)~(3)，以選擇的帶狀基材及配置來實施刷磨。刷磨條 件中將張力設定為120N(300N/m)，除此之外的條件與比較例B1A~B7A及實施例B1A~B5A相同。藉此，評價經刷磨之帶狀基材的配向狀態，結果顯示於表3。
從表2~3所示的結果可知，實施滿足本發明規定的刷磨步驟的條件的裝置及製造方法的實施例B1A~B5A及實施例B1B~B7B中，比起比較例B1A~B7A及比較例B1B ~B5B，能夠達成刷磨程度均一的斜向刷磨。
例如，從比較例B5B與實施例B1B的對比，可知即使將帶狀基材減薄且帶狀基材的材質是楊氏模數高的PET的情況下，也能夠達成均一的斜向刷磨。又例如，從比較例B5B與實施例B2B的對比，可知帶狀基材的材質採用楊氏模數低的材質，即使帶狀基材的厚度有100μm厚，也能夠達成均一的斜向刷磨。又，可知採用配置(3)這種εmax-εavg的值小的配置的情況下，利用各種帶狀基材及張力都能夠達成均一的斜向刷磨。
[評價方法：實施例C1~C3及比較例C1~C3]
[C1.刷磨處理中的帶狀基材的皺摺]
為了判斷是否進行的是沒有扭曲的刷磨處理，會觀察刷磨處理中的帶狀基材的皺摺有無。觀察刷磨處理中搬送到刷磨輥附近的帶狀基材的狀態，觀察到皺摺的話評價為A，觀察到一點點皺摺的話評價為B，觀察到明顯的皺摺的話評價為C。
[C2.配向狀態]
為了評價經刷磨之帶狀基材的配向控制力的狀態，會在帶狀基材上塗布含有聚合性的液晶化合物的液晶組成物，使其硬化，形成硬化液晶組成物層，觀察配向狀態。液晶組成物會與評價方法[A2.配向狀態]中使用的相同。
使用狹縫塗布機將液晶組成物塗布於經刷磨之帶狀基材的刷磨過的面，形成液晶組成物層，以110℃ 2.5分鐘的對液晶組成物層進行配向處理，在氮氣環境下照射 100mJ/cm2以上的紫外線，獲得乾燥膜厚2μm的液晶樹脂膜層。關於這個層將會使用偏光顯微鏡在正交偏光下觀察配向狀態，評價是否獲得沒有配向缺陷的整個面均一的配向。
[實施例C1]
(C1-1.帶狀基材)
熔融擠壓成形出熱可塑性降冰片烯樹脂的小顆粒狀物(日本ZEON股份有限公司製，商品名「ZEONOR 1420R」)，得到寬度400mm厚度50μm的帶狀基材。
(C1-2.刷磨處理)
使用第25~31圖中概略顯示的刷磨裝置C100，將(C1-1)獲得的帶狀基材進行刷磨處理，製造經刷磨之帶狀基材。2個圓筒形的自由輥(緊握輥)的徑長都設定為80mm。圓筒形的刷磨輥C130的徑長設定為120mm。自由輥C110、浮上搬送裝置C120、刷磨輥C130、浮上搬送裝置C140及自由輥C150的軸C11X、C12X、C13X、C14X及C15X都設置在水平方向。又，使軸C11X及C15X平行於座標軸Y，使軸C12X、C13X及C14X的擺動角為45°。使從自由輥C110到自由輥C150之間的軸的間間隔為約1000mm，將刷磨輥C130設置在其中間位置，調整浮上搬送裝置C120及C140的位置，使得Cθw12=30°，Cθw13=60°，Cθw14=30°。搬入刷磨輥C130的帶狀基材C13的搬入方向及從刷磨輥C130搬出的帶狀基材C14的搬出方向都變成在帶狀基材的寬度方向上相同(以帶狀基材寬度方向的中心的搬入或搬出方向為基準，該基準方向與其他的搬入或搬出方向的夾角在0.5°以內)。又，帶狀基材的剩餘量 的最大值εmax變成在0.05%以下。又，藉由這樣的配置，帶狀基材的搬出方向相對於往刷磨裝置搬入的方向會成為斜向前進的方向。將搬送帶狀基材(C11~C16)的線速度設定為4m/分，將張力設定為150N/m。刷磨輥C130以1000rpm的轉速朝反方向旋轉(圖中箭頭CR2所示的方向旋轉)。
觀察刷磨處理中的帶狀基材的皺摺後，評價為「A」。又，觀察獲得的經刷磨之帶狀基材的配向狀態後，發現全表面達成均一的配向，因此評價為良好。
[實施例C2]
使用第32~34圖中概略顯示的刷磨裝置C800，將實施例C1的(C1-1)獲得的帶狀基材進行刷磨處理，製造經刷磨之帶狀基材。自由輥、浮上搬送裝置及刷磨輥與實施例C1中使用的相同。自由輥C810、刷磨輥C130、浮上搬送裝置C840及自由輥C850的軸C81X、C13X、C84X及C85X都設置在水平方向。又，使軸C81X及C85X平行於座標軸Y，並且整軸C81X及C85X的座標軸軸Z方向的位置關係，使得帶狀基材C13及C15搬送於水平方向。使軸C13X及C84X的擺動角為45°。使從自由輥C110到自由輥C150之間的軸的間間隔為約1000mm，將刷磨輥C130設置在其中間位置，調整浮上搬送裝置C140的位置，使得Cθw13=60°，Cθw84=60°。搬入刷磨輥C130的帶狀基材C13的搬入方向及從刷磨輥C130搬出的帶狀基材C14的搬出方向都變成在帶狀基材的寬度方向上相同。又，帶狀基材的剩餘量的最大值εmax變成在0.05%以下。又，藉由這樣的配置，帶狀基材的搬出方向相對於往刷 磨裝置搬入的方向會成為非斜向前進的方向。其他的條件與實施例C1相同。
觀察刷磨處理中的帶狀基材的皺摺後，評價為「A」。又，觀察獲得的經刷磨之帶狀基材的配向狀態後，發現全表面達成均一的配向，因此評價為良好。
[實施例C3]
使用第35~36圖中概略顯示的刷磨裝置C1100，將實施例C1的(C1-1)獲得的帶狀基材進行刷磨處理，製造經刷磨之帶狀基材。將浮上搬送裝置C1140所促使的搬送方向的旋轉角增加到比實施例C2的Cθw84的60°大，設定為80°。又不使用實施例C2中使用的自由輥C850，搬出的帶狀基材C16會用其他的輥或卷繞裝置搬出。藉由這樣的配置，帶狀基材的搬出方向相對於往刷磨裝置搬入的方向會成為斜向前進的方向。其他的條件與實施例C1相同。
觀察刷磨處理中的帶狀基材的皺摺後，評價為「A」。又，觀察獲得的經刷磨之帶狀基材的配向狀態後，發現全表面達成均一的配向，因此評價為良好。
[比較例C1]
使用第13~15圖中概略顯示的刷磨裝置C1300，將實施例C1的(C1-1)獲得的帶狀基材進行刷磨處理，製造經刷磨之帶狀基材。2個自由輥及刷磨輥C1330與實施例C1中使用的相同。自由輥C1310及C1350的軸C131X及135X、刷磨輥C1330的軸C133X設置在水平方向。使自由輥C1310及C1350的軸C131X及C135X互相平行。使刷磨輥C130的 擺動角為45°，調節軸C133X的Z方向的位置使接觸角為30°。結果，搬入刷磨輥C1330的帶狀基材C13的搬入方向及從刷磨輥C1330搬出的帶狀基材C14的搬出方向都在帶狀基材的寬度方向上變得不相同，帶狀基材的剩餘量的最大值εmax變成0.3453%。又，藉由這樣的配置，帶狀基材的搬出方向相對於往刷磨裝置搬入的方向會以擺動角45°配置的刷磨輥C1330的軸C133X為中心旋轉，些微的斜向前進。其他的條件與實施例C1相同。
觀察刷磨處理中的帶狀基材的皺摺後，評價為「B」。又，觀察獲得的經刷磨之帶狀基材的配向狀態後，發現有一塊一塊的配向不良的部位存在。
[比較例C2]
調節刷磨輥C1330的軸C133X的Z方向的位置，藉此變更接觸角為60°，除此之外與比較例C1用一樣的條件來進行刷磨處理並加以評價。因為變更了刷磨輥的位置，帶狀基材的剩餘量的最大值εmax變成1.3099%。藉由這樣的配置，帶狀基材的搬出方向相對於往刷磨裝置搬入的方向會以擺動角45°配置的刷磨輥C1330的軸C133X為中心旋轉，些微的斜向前進。
觀察刷磨處理中的帶狀基材的皺摺後，評價為「C」。又，觀察獲得的經刷磨之帶狀基材的配向狀態後，發現有一塊一塊的配向不良的部位存在。
[比較例C3]
調節刷磨輥C1330的軸C133X的Z方向的位置， 藉此變更接觸角為0°，做成第16~17圖所示的刷磨裝置C1600，除此之外與比較例C1用一樣的條件來進行刷磨處理並加以評價。因為變更了刷磨輥的位置，帶狀基材的剩餘量的最大值εmax變成0%。藉由這樣的配置，帶狀基材的搬出方向相對於往刷磨裝置搬入的方向會成為非斜向前進的方向。
觀察刷磨處理中的帶狀基材的皺摺後，評價為「A」。又，觀察獲得的經刷磨之帶狀基材的配向狀態後，發現有全表面的配向都不良。
實施例C1~C3及比較例C1~C3的結果整理於表4。
從表4所示的結果可知，實施滿足本發明規定的刷磨步驟的條件的裝置及製造方法的實施例C1~C3中，比起比較例C1~C3，能夠達成刷磨程度均一的斜向刷磨。又，特別是實施例C1及C2中，藉由使刷磨輥促使的帶狀基材的搬送方向旋轉的旋轉角與搬送裝置促使的搬送方向旋轉的旋轉角的總和略為0°，能夠達成沒有斜向前進的刷磨。
[評價方法：實施例D1~D8以及比較例D1~D3]
[D1.刷磨輥上的帶狀基材的皺摺]
觀察刷磨處理中的刷磨輥上的帶狀基材有無皺摺。觀察刷磨處理中的刷磨輥上的帶狀基材的狀態，將沒觀察到皺摺的評價為「無」，將觀察到少許皺摺的評價為「稍有」，將觀察到明確皺摺的評價為「有」。
[D2.配向狀態]
為了評價經刷磨之帶狀基材的配向控制力的狀態，會在帶狀基材上塗布含有聚合性的液晶化合物的液晶組成物，使其硬化，形成硬化液晶組成物層，觀察配向狀態。液晶組成物會與評價方法[A2.配向狀態]中使用的相同。
使用狹縫塗布機將液晶組成物塗布於經刷磨之帶狀基材的刷磨過的面，形成液晶組成物層，以110℃ 2.5分鐘的對液晶組成物層進行配向處理，在氮氣環境下照射100mJ/cm2以上的紫外線，獲得乾燥膜厚2μm的液晶樹脂膜層。關於這個層將會使用偏光顯微鏡在正交偏光下觀察配向狀態，沒有配向缺陷的整個面為均一配向者評價為「良」，有配向缺陷者評價為「不良」。
[D3.帶狀基材的蛇行]
觀察刷磨處理中是否產生帶狀基材的蛇行。帶狀基材大幅晃動的評價為「有」，帶狀基材小幅晃動的評價為「稍有」，帶狀基材幾乎沒有晃動的評價為「無」。
[比較例D1]
(CpD1-1.帶狀基材)
熔融擠壓成形出熱可塑性降冰片烯樹脂的小顆粒狀物(日本ZEON股份有限公司製，商品名「ZEONOR 1420R」)，得到寬度400mm厚度50μm的帶狀基材。
[CpD1-2.刷磨處理]
使用第44~45圖中概略顯示的刷磨裝置D700，將比較例D1的(CpD1-1)獲得的帶狀基材進行刷磨處理，製造經刷磨之帶狀基材。2個自由輥D710及D750都是緊握帶狀基材的直筒輥，它們的徑長都是80mm。刷磨輥D730也是直筒輥，徑長為120mm。自由輥D710及D750的軸D71X及D75X、刷磨輥D730的軸D73X都設置在水平方向。又，使自由輥D710及D750的軸D71X及D75X互相平行。將軸D71X及軸D75X之間的距離設定為1000mm。使刷磨輥D730的擺動角為45°，調節軸D73X的Z方向的位置，藉此使接觸角變為30°。最大剩餘量εmax變成在0.34%。
搬送帶狀基材(D11~D16)的線速度設定為4m/分，將張力設定為60N(150N/m)。刷磨輥D730會以1000rpm逆向旋轉(圖中箭頭DR2所示的方向的旋轉)。
評價刷磨處理中的刷磨輥上的帶狀基材的皺摺及帶狀基材的蛇行，並且評價經刷磨之帶狀基材的配向控制力的狀態。結果顯示於表5。
[比較例D2]
調節刷磨輥D730的軸D73X的Z方向的位置，藉此將接觸角變更為60°，除此之外使用與比較例D1相同的條件來進行刷磨處理並評價。結果顯示於表5。最大剩餘量εmax 變為1.31%。
[比較例D3]
調節刷磨輥D730的軸D73X的Z方向的位置，藉此將接觸角變更為0°，除此之外使用與比較例D1相同的條件來進行刷磨處理並評價。結果顯示於表5。最大剩餘量εmax變為0.00%。
[實施例D1]
除了變更以下的點以外，使用與比較例D1相同的條件來進行刷磨處理並評價。結果顯示於表5。下流側輥會使用第40~41圖所示的中低型的緊握帶狀基材的自由輥D350，取代第44~45圖所示的自由輥D750。自由輥D350的最大徑(第43圖的例中以箭頭DR31R所示的徑長)是D100mm，自由輥D350的最大徑(第43圖的例中以箭頭DR31L所示的徑長)是130mm，最小徑(第43圖的例中以箭頭DR31C所示的徑長)是80mm。刷磨輥D130下流的帶狀基材的傳遞方式設定如第40~41圖的帶狀基材D14及D16所示。上述的變更結果使最大剩餘量εmax變為0.05%以下。
[實施例D2]
除了變更以下的點以外，使用與比較例D1相同的條件來進行刷磨處理並評價。結果顯示於表5。上流側輥及下流側輥會使用第38~39圖所示的中高型的緊握帶狀基材的自由輥D110及D150，來取代第44~45圖所示的自由輥D710及D750。自由輥D110及D150的最大徑(第42圖的例中以箭頭DR11C所示的徑長)是96mm，最小徑(第42圖的例中以 箭頭DR11R及DR11L所示的徑長)是80mm。結果使最大剩餘量εmax變為0.05%以下。
[實施例D3]
除了變更以下的點以外，使用與比較例D1相同的條件來進行刷磨處理並評價。結果顯示於表5。上流側輥會使用第40~41圖所示的中低型的緊握帶狀基材的自由輥D310，來取代第44~45圖所示的自由輥D710。自由輥D310的最大徑(第43圖的例中以箭頭DR31R所示的徑長)是130mm。自由輥D310的最大徑(第43圖的例中以箭頭DR31L所示的徑長)是100mm，最小徑(第43圖的例中以箭頭DR31C所示的徑長)是80mm。刷磨輥D130上流的帶狀基材的傳遞方式設定如第40~41圖的帶狀基材D11及D13所示。結果使最大剩餘量εmax變為0.05%以下。
[實施例D4]
除了變更以下的點以外，使用與比較例D1相同的條件來進行刷磨處理並評價。結果顯示於表5。上流側輥及下流側輥會使用第40~41圖所示的緊握帶狀基材的中低型的自由輥D310及D350，來取代第44~45圖所示的自由輥D710及D750。自由輥D310及D350任一者的最大徑(第43圖的例中以箭頭DR31R及DR31L所示的徑長)是96mm，最小徑(第43圖的例中以箭頭DR31C所示的徑長)是80mm。帶狀基材的傳遞方式設定如第40~41圖的帶狀基材D11及D16所示。上述的變更結果，使得最大剩餘量εmax變為0.05%以下。
[實施例D5]
除了變更以下的點以外，使用與比較例D1相同的條件來進行刷磨處理並評價。結果顯示於表5。刷磨側輥會使用第38~41圖所示的中高型的刷磨輥D130，來取代第44~45圖所示的刷磨輥D730。刷磨輥D130的最大徑(第42圖的例中以箭頭DR11C所示的徑長)是140mm，最小徑(第42圖的例中以箭頭DR11R及DR11L所示的徑長)是120mm。結果使最大剩餘量εmax變為0.05%以下。
[實施例D6]
除了使用第38~39圖概要顯示的刷磨裝置D100來取代第44~45圖概要顯示的刷磨裝置D700以外，使用與比較例D1相同的條件來進行刷磨處理並評價。中高型的刷磨輥D130的最大徑(第42圖的例中以箭頭DR11C所示的徑長)是125mm，最小徑(第42圖的例中以箭頭DR11R及DR11L所示的徑長)是120mm。中高型的緊握帶狀基材的自由輥D110及D150的最大徑(第42圖的例中以箭頭DR11C所示的徑長)是92mm，最小徑(第42圖的例中以箭頭DR11R及DR11L所示的徑長)是80mm。結果使最大剩餘量εmax變為0.05%以下。結果顯示於表5。
[實施例D7]
除了變更以下的點以外，使用與比較例D1相同的條件來進行刷磨處理並評價。結果顯示於表5。刷磨側輥會使用第38~41圖所示的中高型的刷磨輥D130，來取代第44~45圖所示的刷磨輥D730。刷磨輥D130的最大徑(第42圖的例中以箭頭DR11C所示的徑長)是125mm，最小徑(第42圖的 例中以箭頭DR11R及DR11L所示的徑長)是120mm。上流側輥會使用第40~41圖所示的中低型的緊握帶狀基材的自由輥D310，來取代第44~45圖所示的自由輥D710。自由輥D310的最大徑(第43圖的例中以箭頭DR31R所示的徑長)是96mm。自由輥D310的最大徑(第43圖的例中以箭頭DR31L所示的徑長)是86mm，最小徑(第43圖的例中以箭頭DR31C所示的徑長)是80mm。刷磨輥D130上流的帶狀基材的傳遞方式設定如第40~41圖的帶狀基材D11及D13所示。結果使最大剩餘量εmax變為0.05%以下。
[實施例D8]
除了使用第40~41圖概要顯示的刷磨裝置D300來取代第44~45圖概要顯示的刷磨裝置D700以外，使用與比較例D1相同的條件來進行刷磨處理並評價。中高型的刷磨輥D130的最大徑(第42圖的例中以箭頭DR11C所示的徑長)是125mm，最小徑(第42圖的例中以箭頭DR11R及DR11L所示的徑長)是120mm。中低型的緊握帶狀基材的自由輥D310及D350的最大徑(第43圖的例中以箭頭DR31R及DR31L所示的徑長)是92mm，最小徑(第43圖的例中以箭頭DR31C所示的徑長)是80mm。結果使最大剩餘量εmax變為0.05%以下。結果顯示於表5。
實施例D1~D8及比較例D1~D3的結果整理於表5。
不良※1：存在一塊一塊的不良部位。不良※2：全面不良。
從表5所示的結果可知，實施滿足本發明規定的刷磨步驟的條件的裝置及製造方法的實施例D1~D8中，比起比較例D1~D3，能夠達成刷磨程度均一的斜向刷磨。
A11、A13、A14、A16‧‧‧帶狀基材
A13X‧‧‧軸
A15X‧‧‧軸
A100‧‧‧刷磨裝置
A110‧‧‧自由輥
A130‧‧‧刷磨輥
A150‧‧‧自由輥
AR1、AR2、AR3‧‧‧箭頭

Claims (46)

  1. 一種經刷磨之帶狀基材的製造方法，包括：刷磨步驟，從搬送路徑的上流搬入的帶狀基材，使其接觸以旋轉軸為中心旋轉的刷磨輥，然後往該搬送路徑的下流搬出，其中在該刷磨步驟中，該刷磨輥以超過0°的接觸角接觸該帶狀基材，藉此旋轉該帶狀基材的搬送方向，該帶狀基材的搬送方向與該刷磨輥的旋轉軸之間形成非正交的角度，在朝該刷磨輥搬入的該帶狀基材與該刷磨輥開始接觸的位置處，該帶狀基材的搬入方向在該帶狀基材的整個寬度方向上相同，在從該刷磨輥搬出的該帶狀基材與該刷磨輥結束接觸的位置處，該帶狀基材的搬出方向在該帶狀基材的整個寬度方向上相同。
  2. 如申請專利範圍第1項所述之經刷磨之帶狀基材的製造方法，更包括：在該刷磨步驟的上流側、下流側、或者是雙方，使用將該帶狀基材的搬送方向旋轉超過0°的搬送裝置，來旋轉搬送方向。
  3. 如申請專利範圍第2項所述之經刷磨之帶狀基材的製造方法，其中：該搬送裝置有一個以上是搬送輥，旋轉該搬送方向的旋轉軸方向與該帶狀基材的搬送方向正交。
  4. 如申請專利範圍第1~3項任一項所述之經刷磨之帶狀基材的製造方法，其中：該刷磨輥設置成該刷磨輥的旋轉軸成水平，在搬入的該帶狀基材與該刷磨輥開始接觸的位置處的該帶狀基材之搬入方向，或者是在搬出的該帶狀基材與該刷磨輥結束接觸的位置處的該帶狀基材之搬出方向為水平。
  5. 如申請專利範圍第1~3項任一項所述之經刷磨之帶狀基材的製造方法，其中：該帶狀基材的搬送方向與該刷磨輥的旋轉軸之間形成的角度在35°以上55°以下。
  6. 一種刷磨裝置，用以刷磨帶狀基材，包括：刷磨輥，以旋轉軸為中心旋轉，接觸從搬送路徑的上流搬入的帶狀基材，並將其往該搬送路徑的下流搬出，其中該刷磨輥以超過0°的接觸角接觸該帶狀基材，藉此旋轉該帶狀基材的搬送方向，該帶狀基材的搬送方向與該刷磨輥的旋轉軸之間形成非正交的角度，在朝該刷磨輥搬入的該帶狀基材與該刷磨輥開始接觸的位置處，該帶狀基材的搬入方向在該帶狀基材的整個寬度方向上相同，在從該刷磨輥搬出的該帶狀基材與該刷磨輥結束接觸的位置處，該帶狀基材的搬出方向在該帶狀基材的整個寬度方向上相同。
  7. 如申請專利範圍第6項所述之刷磨裝置，更包括： 搬送裝置，在該刷磨步驟的上流側、下流側、或者是雙方，將該帶狀基材的搬送方向旋轉超過0°。
  8. 如申請專利範圍第7項所述之刷磨裝置，其中：該搬送裝置有一個以上是搬送輥，該搬送輥的旋轉軸方向與該帶狀基材的搬送方向正交。
  9. 如申請專利範圍第6~8項任一項所述之刷磨裝置，其中：該刷磨輥設置成該刷磨輥的旋轉軸成水平，在搬入的該帶狀基材與該刷磨輥開始接觸的位置處的該帶狀基材之搬入方向，或者是在搬出的該帶狀基材與該刷磨輥結束接觸的位置處的該帶狀基材之搬出方向為水平。
  10. 如申請專利範圍第6~8項任一項所述之刷磨裝置，其中：該帶狀基材的搬送方向與該刷磨輥的旋轉軸之間形成的角度在35°以上55°以下。
  11. 一種經刷磨之帶狀基材的製造方法，包括：刷磨步驟，一邊對沿著搬送路徑搬送的帶狀基材施加張力T(N)於搬送方向，一邊使其接觸以旋轉軸為中心旋轉的刷磨輥來進行刷磨，其中該刷磨輥以超過0°的接觸角接觸該帶狀基材，藉此旋轉該帶狀基材的搬送方向，該帶狀基材的搬送方向與該刷磨輥的旋轉軸之間形成非正交的角度，該帶狀基材的搬送方向的楊氏模數是E(Pa)，厚度是d(m)，且寬度是w(m)，該搬送路徑上的剩餘量的最大值εmax(%)及剩餘量的平 均值εavg(%)會滿足(1)式：(εmax-εavg)Edw<30T (1)式。
  12. 如申請專利範圍第11項所述之經刷磨之帶狀基材的製造方法，其中：該帶狀基材的搬送方向的楊氏模數E與厚度d的乘積Ed在400000Pa．m以下。
  13. 如申請專利範圍第11或12項所述之經刷磨之帶狀基材的製造方法，其中：該帶狀基材的搬送方向的楊氏模數是E在3000MPa以下。
  14. 如申請專利範圍第11或12項所述之經刷磨之帶狀基材的製造方法，其中：該剩餘量的最大值εmax及該剩餘量的平均值εavg會滿足(2)式：εmax-εavg<0.02% (2)式。
  15. 如申請專利範圍第11或12項所述之經刷磨之帶狀基材的製造方法，其中：該帶狀基材的搬送方向與該刷磨輥的旋轉軸之間形成的角度在35°以上55°以下。
  16. 一種刷磨裝置，用以刷磨帶狀基材，包括：自由輥，一邊對帶狀基材施加張力T(N)於搬送方向，一邊將其沿著搬送方向搬送；以及刷磨輥，以旋轉軸為中心旋轉，接觸該帶狀基材並刷磨該帶狀基材，其中該刷磨輥以超過0°的接觸角接觸該帶狀基材，藉此旋 轉該帶狀基材的搬送方向，該刷磨輥配置成該帶狀基材的搬送方向與該刷磨輥的旋轉軸之間形成非正交的角度，該自由輥及該刷磨輥係配置成該帶狀基材的搬送方向的楊氏模數是E(Pa)，厚度是d(m)，且寬度是w(m)，及該搬送路徑上的剩餘量的最大值εmax(%)及剩餘量的平均值εavg(%)會滿足(1)式：(εmax-εavg)Edw<30T (1)式。
  17. 如申請專利範圍第16項所述之刷磨裝置，其中：該帶狀基材的搬送方向的楊氏模數E與厚度d的乘積Ed在400000Pa．m以下。
  18. 如申請專利範圍第16或17項所述之刷磨裝置，其中：該帶狀基材的搬送方向的楊氏模數是E在3000MPa以下。
  19. 如申請專利範圍第16或17項所述之刷磨裝置，其中：該剩餘量的最大值εmax及該剩餘量的平均值εavg會滿足(2)式：εmax-εavg<0.02% (2)式。
  20. 如申請專利範圍第16或17項所述之刷磨裝置，其中：該帶狀基材的搬送方向與該刷磨輥的旋轉軸之間形成的角度在35°以上55°以下。
  21. 一種經刷磨之帶狀基材的製造方法，包括：刷磨步驟，從搬送路徑的上流搬入的帶狀基材，使其接觸以旋轉軸為中心旋轉的刷磨輥，然後往該搬送路徑的下流 搬出；以及在該刷磨步驟的上流側、下流側、或者是雙方，使用將該帶狀基材的搬送方向旋轉超過0°的搬送裝置，來旋轉該帶狀基材搬送方向的步驟，其中在該刷磨步驟中，該刷磨輥以超過0°的接觸角接觸該帶狀基材，藉此旋轉該帶狀基材的搬送方向，該帶狀基材的搬送方向與該刷磨輥的旋轉軸之間形成非正交的角度，在朝該刷磨輥搬入的該帶狀基材與該刷磨輥開始接觸的位置處，該帶狀基材的搬入方向在該帶狀基材的整個寬度方向上相同，在從該刷磨輥搬出的該帶狀基材與該刷磨輥結束接觸的位置處，該帶狀基材的搬出方向在該帶狀基材的整個寬度方向上相同，該搬送裝置促使的該帶狀基材的搬送方向旋轉的旋轉軸方向與該刷磨輥的旋轉軸平行。
  22. 如申請專利範圍第21項所述之經刷磨之帶狀基材的製造方法，其中：該刷磨輥促使的該帶狀基材的搬送方向旋轉的旋轉角，與該搬送裝置促使的搬送方向旋轉的旋轉角的總和大約為0°。
  23. 如申請專利範圍第21或22項所述之經刷磨之帶狀基材的製造方法，其中：該帶狀基材的搬送方向與該搬送裝置促使的搬送方向旋轉 的旋轉軸方向之間形成非正交的角度。
  24. 如申請專利範圍第23項所述之經刷磨之帶狀基材的製造方法，其中：藉由該搬送裝置來旋轉搬送方向的步驟，包括：在該搬送裝置與該帶狀基材之間形成空氣層。
  25. 如申請專利範圍第24項所述之經刷磨之帶狀基材的製造方法，其中：該空氣層是藉由空氣壓力形成。
  26. 如申請專利範圍第21或22項所述之經刷磨之帶狀基材的製造方法，其中：該帶狀基材的搬送方向與該刷磨輥的旋轉軸之間形成的角度在35°以上55°以下。
  27. 一種刷磨裝置，用以刷磨帶狀基材，包括：刷磨輥，以旋轉軸為中心旋轉，接觸從搬送路徑的上流搬入的帶狀基材，並將其往該搬送路徑的下流搬出；以及搬送裝置，在該刷磨步驟的上流側、下流側、或者是雙方，以超過0°的角度來旋轉該帶狀基材的搬送方向，其中該刷磨輥以超過0°的接觸角接觸該帶狀基材，藉此旋轉該帶狀基材的搬送方向，該帶狀基材的搬送方向與該刷磨輥的旋轉軸之間形成非正交的角度，在朝該刷磨輥搬入的該帶狀基材與該刷磨輥開始接觸的位置處，該帶狀基材的搬入方向在該帶狀基材的整個寬度方向上相同， 在從該刷磨輥搬出的該帶狀基材與該刷磨輥結束接觸的位置處，該帶狀基材的搬出方向在該帶狀基材的整個寬度方向上相同，該搬送裝置配置成該搬送裝置促使的該帶狀基材的搬送方向旋轉的旋轉軸方向與該刷磨輥的旋轉軸平行。
  28. 如申請專利範圍第27項所述之刷磨裝置，其中：該刷磨輥促使的該帶狀基材的搬送方向旋轉的旋轉角，與該搬送裝置促使的搬送方向旋轉的旋轉角的總和大約為0°。
  29. 如申請專利範圍第27或28項所述之刷磨裝置，其中：該帶狀基材的搬送方向與該搬送裝置促使的搬送方向旋轉的旋轉軸方向之間形成非正交的角度。
  30. 如申請專利範圍第29項所述之刷磨裝置，其中：該搬送裝置是在該搬送裝置與該帶狀基材之間形成空氣層的裝置。
  31. 如申請專利範圍第30項所述之刷磨裝置，其中：該搬送裝置是藉由空氣壓力形成該空氣層。
  32. 如申請專利範圍第27或28項所述之刷磨裝置，其中：該帶狀基材的搬送方向與該刷磨輥的旋轉軸之間形成的角度在35°以上55°以下。
  33. 一種經刷磨之帶狀基材的製造方法，包括：刷磨步驟，從搬送路徑的上流搬入的帶狀基材具有表面及背面，使該帶狀基材的該表面接觸以旋轉軸為中心旋轉的刷磨輥，然後往該搬送路徑的下流搬出， 其中在該刷磨步驟中，該刷磨輥以超過0°的接觸角接觸該帶狀基材，藉此旋轉該帶狀基材的搬送方向，該帶狀基材的搬送方向與該刷磨輥的旋轉軸之間形成非正交的角度，該搬送路徑上的該帶狀基材的形狀符合下述條件(i)~(iii)中至少一者：(i)在該帶狀基材接觸該刷磨輥的位置，該帶狀基材的該背面側具有凸形狀；(ii)在該刷磨輥、與其上流側的緊握該帶狀基材的上流側緊握輥之間的至少一部分領域，該表面側具有凸形狀；(iii)在該刷磨輥、與其下流側的緊握該帶狀基材的下流側緊握輥之間的至少一部分領域，該表面側具有凸形狀。
  34. 如申請專利範圍第33項所述之經刷磨之帶狀基材的製造方法，其中：該搬送路徑上的該帶狀基材的形狀滿足前述條件(i)，該刷磨輥相對於該帶狀基材具有凸形狀。
  35. 如申請專利範圍第33或34項所述之經刷磨之帶狀基材的製造方法，其中：該搬送路徑上的該帶狀基材的形狀滿足前述條件(ii)，該上流側緊握輥相對於該帶狀基材具有凸形狀，該上流側緊握輥從該帶狀基材的該背面側接觸該帶狀基材。
  36. 如申請專利範圍第33或34項所述之經刷磨之帶狀基材的製造方法，其中： 該搬送路徑上的該帶狀基材的形狀滿足前述條件(ii)，該上流側緊握輥相對於該帶狀基材具有凹形狀，該上流側緊握輥從該帶狀基材的該表面側接觸該帶狀基材。
  37. 如申請專利範圍第33或34項所述之經刷磨之帶狀基材的製造方法，其中：該搬送路徑上的該帶狀基材的形狀滿足前述條件(iii)，該下流側緊握輥相對於該帶狀基材具有凸形狀，該下流側緊握輥從該帶狀基材的該背面側接觸該帶狀基材。
  38. 如申請專利範圍第33或34項所述之經刷磨之帶狀基材的製造方法，其中：該搬送路徑上的該帶狀基材的形狀滿足前述條件(iii)，該下流側緊握輥相對於該帶狀基材具有凹形狀，該下流側緊握輥從該帶狀基材的該表面側接觸該帶狀基材。
  39. 如申請專利範圍第33或34項所述之經刷磨之帶狀基材的製造方法，其中：該帶狀基材的搬送方向與該刷磨輥的旋轉軸之間形成的角度在35°以上55°以下。
  40. 一種刷磨裝置，用以刷磨帶狀基材，包括：刷磨輥，從搬送路徑的上流搬入的帶狀基材具有表面及背面，該刷磨輥以旋轉軸為中心旋轉，接觸該帶狀基材的該表面進行刷磨，然後往該搬送路徑的下流搬出， 其中該刷磨輥配置成以超過0°的接觸角接觸該帶狀基材，藉此旋轉該帶狀基材的搬送方向，該帶狀基材的搬送方向與該刷磨輥的旋轉軸之間形成非正交的角度，該刷磨裝置搬送該帶狀基材時，該搬送路徑上的該帶狀基材的形狀符合下述條件(i)~(iii)中至少一者：(i)在該帶狀基材接觸該刷磨輥的位置，該帶狀基材的該背面側具有凸形狀；(ii)在該刷磨輥、與其上流側的緊握該帶狀基材的上流側緊握輥之間的至少一部分領域，該表面側具有凸形狀；(iii)在該刷磨輥、與其下流側的緊握該帶狀基材的下流側緊握輥之間的至少一部分領域，該表面側具有凸形狀。
  41. 如申請專利範圍第40項所述之刷磨裝置，其中：該搬送路徑上的該帶狀基材的形狀滿足前述條件(i)，該刷磨輥相對於該帶狀基材具有凸形狀。
  42. 如申請專利範圍第40或41項所述之刷磨裝置，其中：該搬送路徑上的該帶狀基材的形狀滿足前述條件(ii)，該上流側緊握輥相對於該帶狀基材具有凸形狀，該上流側緊握輥從該帶狀基材的該背面側接觸該帶狀基材。
  43. 如申請專利範圍第40或41項所述之刷磨裝置，其中：該搬送路徑上的該帶狀基材的形狀滿足前述條件(ii)，該上流側緊握輥相對於該帶狀基材具有凹形狀，該上流側緊握輥從該帶狀基材的該表面側接觸該帶狀基 材。
  44. 如申請專利範圍第40或41項所述之刷磨裝置，其中：該搬送路徑上的該帶狀基材的形狀滿足前述條件(iii)，該下流側緊握輥相對於該帶狀基材具有凸形狀，該下流側緊握輥從該帶狀基材的該背面側接觸該帶狀基材。
  45. 如申請專利範圍第40或41項所述之刷磨裝置，其中：該搬送路徑上的該帶狀基材的形狀滿足前述條件(iii)，該下流側緊握輥相對於該帶狀基材具有凹形狀，該下流側緊握輥從該帶狀基材的該表面側接觸該帶狀基材。
  46. 如申請專利範圍第40或41項所述之刷磨裝置，其中：該帶狀基材的搬送方向與該刷磨輥的旋轉軸之間形成的角度在35°以上55°以下。
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