TW201626492A - 用於在用於產生太陽能電池之基板上進行列印的裝置及用於傳輸用於產生太陽能電池之基板的方法 - Google Patents

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Abstract

本揭示案提供一種用於在用於產生一太陽能電池之一基板(10)上進行列印的裝置(100)。該裝置(100)包括二或更多個處理站(110)；至少一個基板支架(120)，係經配置以支持該基板(10)；及至少一個傳輸裝置(130)，係經配置以一水平方向(300)且以一垂直方向(310)傳輸該至少一個基板支架(120)，以供在該二或更多個處理站(110)之間傳輸該至少一個基板支架(120)。

Description

用於在用於產生太陽能電池之基板上進行列印的裝置及用 於傳輸用於產生太陽能電池之基板的方法
本揭示案的實施例關於用於在用於產生太陽能電池之基板上進行列印的裝置，且關於用於傳輸用於產生太陽能電池之基板的方法。本揭示案的實施例特別關於用於在用於產生太陽能電池之基板上進行螢幕列印的裝置。
太陽能電池係將陽光直接轉換成電力的光電(PV)裝置。在此領域內，已經知道藉由列印技術(例如螢幕列印)來在基板(例如晶態矽基底)上產生太陽能電池，該等列印技術在太陽能電池的前面實現選擇性發射器的結構。
用於製造太陽能電池的裝置可具有有傳輸路徑的線路配置，其中可沿該傳輸路徑提供複數個處理站。該等處理站可包括一或更多個列印站。這樣的裝置消耗可觀的空間以供安裝。為了增加產量，可安裝額外的裝置，需要甚至更多的安裝空間。進一步地，該等裝置例如對於操作及維護產生成本。
綜上所述，本揭示案針對提供用於在基板上進行列印的裝置，該裝置是緊密的及/或能夠產生增量的太陽能電池。
綜上所述，係提供用於在用於產生太陽能電池之基板上進行列印的裝置及用於傳輸用於產生太陽能電池之基板的方法。本揭示案的進一步態樣、優點及特徵係從附屬的請求項、本說明及隨附的繪圖了解。
依據本揭示案的一態樣，係提供用於在用於產生太陽能電池之基板上進行列印的裝置。該裝置包括二或更多個處理站；至少一個基板支架，係經配置以支持該基板；及至少一個傳輸裝置，係經配置以一水平方向且以一垂直方向傳輸該至少一個基板支架，以供在該二或更多個處理站之間傳輸該至少一個基板支架。
依據本揭示案的另一態樣，係提供用於在用於產生太陽能電池之基板上進行列印的裝置。該裝置包括二或更多個處理站；至少一個基板支架，係經配置以支持該基板；及至少一個傳輸裝置，係經配置以一水平方向及以一垂直方向傳輸該至少一個基板支架，以供在該二或更多個處理站之間傳輸該至少一個基板支架，其中該水平方向及該垂直方向定義一實質垂直定向的二度平面，且其中該至少一個傳輸裝置包括至少一個一校準裝置，該校準裝置係經配置以供在一水平平面中校準該至少一個基板支架之一位置及一角定向中的至少一者。
依據本揭示案的又另一態樣，係提供用於傳輸用於產生太陽能電池之基板的方法。該方法包括以下步驟：以一水平方向及以一垂直方向移動至少一個基板支架，以供在二或更多個處理站之間傳輸該至少一個基板支架。
實施例亦針對用於實現所揭露之方法的裝置，且包括用於執行所述方法步驟的裝置部件。這些方法步驟可藉由硬體元件、由適當軟體所編程的電腦、藉由該兩者的任何組合或以任何其他方式來執行。並且，依據本揭示案的實施例亦針對用於操作所述裝置的方法。其包括用於實現該裝置之每個功能的方法步驟。
10‧‧‧基板
100‧‧‧裝置
102‧‧‧第一處理站
104‧‧‧第二處理站
106‧‧‧第一傳輸路徑
107‧‧‧第二傳輸路徑
110‧‧‧處理站
120‧‧‧第一基板支架
130‧‧‧第一傳輸裝置
131‧‧‧第一可移動部分
134‧‧‧第一連接裝置
135‧‧‧第一連接構件
136‧‧‧第二連接構件
140‧‧‧第一傳送器
142‧‧‧第二傳送器
150‧‧‧第二馬達
151‧‧‧磁鐵
220‧‧‧第二基板支架
230‧‧‧第二傳輸裝置
231‧‧‧第二可移動部分
234‧‧‧第二連接裝置
235‧‧‧第一連接構件
236‧‧‧第二連接構件
300‧‧‧水平方向
305‧‧‧二度平面
310‧‧‧垂直方向
400‧‧‧基板支架
402‧‧‧材料
404‧‧‧表面
406‧‧‧輸送裝置
407‧‧‧饋送輥
408‧‧‧接收輥
500‧‧‧基板支架
502‧‧‧材料
504‧‧‧表面
506‧‧‧輸送裝置
507‧‧‧第二輥
508‧‧‧第一輥
600‧‧‧系統
610‧‧‧第一裝置
612‧‧‧第二裝置
620‧‧‧輸入端
622‧‧‧出口端
630‧‧‧第一檢驗系統
640‧‧‧第二檢驗系統
700‧‧‧方法
710‧‧‧方塊
720‧‧‧方塊
810‧‧‧校準站
812‧‧‧列印站
814‧‧‧檢驗站
820‧‧‧第一基板
830‧‧‧第二基板
可藉由參照實施例來擁有本揭露的更特定描述，使得可使用詳細的方式來了解(以上所簡要概述的)以上所載之本揭露特徵。隨附的繪圖關於本揭示案的實施例且說明如下：圖1A及1B圖示依據本文中所揭露之實施例之用於在用於產生太陽能電池之基板上進行列印的裝置透視圖；圖2圖示依據本文中所揭露之進一步實施例之用於在用於產生太陽能電池之基板上進行列印的裝置透視圖；圖3圖示依據本文中所揭露之實施例之圖2之裝置的橫截前視圖；圖4圖示依據本文中所揭露之實施例之圖2之裝置的平面圖； 圖5圖示依據本文中所揭露之實施例之圖2之裝置的側視圖；圖6A及6B圖示依據本文中所揭露之實施例的基板支架透視圖；圖7圖示依據本文中所揭露之進一步實施例之用於在用於產生太陽能電池之基板上進行列印的裝置透視圖；圖8圖示依據本文中所揭露之實施例之用於傳輸用於產生太陽能電池之基板的方法流程圖；及圖9(a)至(l)圖示用於使用依據本文中所揭露之實施例的裝置來產生太陽能電池的序列方案。
現將詳細參照本揭示案的各種實施例，其中的一或更多個示例係繪示於圖式中。在以下繪圖說明內，相同的參考標號指的是相同的元件。一般而言，僅描述針對個別實施例的差異。係藉由解釋本揭示案來提供各示例，且各示例係不意味著作為本揭示案的限制。進一步地，繪示或描述為一個實施例之部分的特徵可用在其他實施例上或與其他實施例結合使用以又產生進一步的實施例。意欲的是，本說明包括這樣的修改及變化。
依據本揭示案的一態樣，係提供用於在用於產生太陽能電池之基板上進行列印的裝置。該裝置包括二或更多個處理站；至少一個基板支架，係經配置以支持該基板；及至少一個傳輸裝置，係經配置以一水平方 向且以一垂直方向傳輸該至少一個基板支架，以供在該二或更多個處理站之間傳輸該至少一個基板支架。
在某些實施方式中，用於在該二或更多個處理站之間傳輸該至少一個基板支架之該至少一個基板支架的一移動具有一垂直分量及/或一水平分量。作為一示例，該移動係一非垂直向上或向下移動。依據某些實施例，該至少一個傳輸裝置係經配置，以一水平方向且以一垂直方向同時傳輸該至少一個基板支架，例如用以提供該非垂直向上或向下移動。
藉由提供皆可被水平及垂直移動的基板支架，該等基板支架可被垂直佈置或堆疊。有鍳於此，該裝置可為緊密的，需要較少的安裝空間。進一步地，垂直佈置的基板支架可同時從一個處理站移動至另一處理站，而不彼此干擾，且可增加該裝置的生產量。
用語「垂直方向」或「垂向定向」係理解為區隔於「水平方向」或「水平定向」。垂直方向可實質平行於重力。
圖1A及1B圖示依據本文中所揭露之實施例之用於在用於產生太陽能電池之基板10上進行列印的裝置透視圖。
如所示例性繪示的裝置可包括二或更多個處理站110；至少一個基板支架(例如第一基板支架120及第二基板支架220)，係經配置以支持基板10；及至少一個傳輸裝置(未圖示)，係經配置以水平方向300且以 垂直方向310傳輸該至少一個基板支架，以供在該二或更多個處理站110之間傳輸該至少一個基板支架。
依據某些實施例(其可與本文所述的其他實施例結合)，水平方向300及垂直方向310定義了實質垂直定向的二度平面305。換言之，水平方向300的向量及垂直方向310的向量展成(例如笛卡爾座標中之)實質垂直定向的二度平面305。
用語「實質垂直定向的二度平面」係理解為區隔於「實質垂直定向的二度平面」。也就是說，「實質垂直定向的二度平面」關於二度平面305的實質垂直定向，其中從精確的垂直定向徧差幾度(例如高達10°或甚至高達15°)仍被視為「實質垂直定向」。
在某些實施方式中，該至少一個傳輸裝置係經配置，以沿位在實質垂直定向的二度平面305中的傳輸路徑傳輸該至少一個基板支架。
在圖1A中，該至少一個基板支架(例如第一基板支架120)係沿第一傳輸路徑106而傳輸。在圖1B中，該至少一個基板支架(例如第一基板支架120)係沿第二傳輸路徑107而傳輸。
該傳輸路徑可包括一或更多個處理站(例如第一處理站102及第二處理站104)。作為一示例，第一處理站102相對應於該二或更多個處理站110之第一處理站的位置。第二處理站104可相對應於該二或更多個處理站110之第二處理站的位置。該至少一個傳輸裝置可 經配置，以向該等處理站中的至少一者傳輸該至少一個基板支架以供處理。
參照圖1A，依據某些實施例，該至少一個傳輸裝置係經配置，以依序以水平方向300及以垂直方向310傳輸該至少一個基板支架。用語「依序」可指依序跟隨之該至少一個基板支架的垂直及水平移動，也就是說，垂直及水平移動係陸續執行而非同時執行。作為一示例，該傳輸路徑可具有一或更多個水平區段及一或更多個垂直區段。特定而言，該傳輸路徑可為不連續的傳輸路徑，例如圖1A中所示的第一傳輸路徑106。係以數學的意義理解用語「不連續」。
參照圖1B，依據某些其他實施例，該至少一個傳輸裝置係經配置，以同時以水平方向300及以垂直方向310傳輸該至少一個基板支架。用語「同時」可指同時執行之該至少一個基板支架的垂直及水平移動。作為一示例，該至少一個基板支架的移動方向或移動向量可具有垂直分量及水平分量。特定而言，該傳輸路徑可為連續的傳輸路徑，例如圖1B中所示的第二傳輸路徑107。係以數學的意義理解用語「連續」。作為示例，該傳輸路徑可為連續傾斜(inclining)、徧斜(declining)的傳輸路徑或傾斜及徧斜傳輸路徑的組合。
依據某些實施例(其可與本文中所述的其他實施例結合)，該傳輸路徑包括一或更多個緩衝位置。在某 些實施方式中，該緩衝位置係經配置以供儲存至少一個基板。作為一示例，該緩衝位置可相對應於經配置以供儲存該至少一個基板之緩衝裝置或緩衝站的位置。在某些實施例中，該至少一個傳輸裝置可經配置以供向該一或更多個緩衝位置中的一者傳輸該至少一個基板支架，以供例如在目標處理位置被另一基板支架所佔據時等待或儲存該至少一個基板。
依據某些實施例(其可與本文中所述的其他實施例結合)，該裝置係經配置，以供進行螢幕列印、噴墨列印及雷射處理中的至少一者。在某些實施方式中，雷射處理可包括在基板中產生孔洞以產生圖樣，在該圖樣處，可沈積印花漿以供形成列印結構。依據某些實施例，「雷射處理」亦可稱為「雷射列印」。
圖2圖示依據本文中所揭露之實施例之用於在用於產生太陽能電池之基板10上進行列印的裝置100的透視圖。圖3圖示圖2之裝置100的橫截前視圖。圖4圖示圖2之裝置100的平面圖。圖5圖示圖2之裝置100的側視圖。
如所示例性繪示的裝置100包括二或更多個處理站110；至少一個基板支架(例如第一基板支架120及第二基板支架220)，係經配置以支持基板10；及至少一個傳輸裝置(例如第一傳輸裝置130及第二傳輸裝置230)，係經配置以水平方向300且以垂直方向310傳輸 該至少一個基板支架，以供在該二或更多個處理站110之間傳輸該至少一個基板支架。
在某些實施方式中，裝置100可包括一或更多個輸送器，例如第一傳送器140及第二傳送器142。該一或更多個輸送器可經配置，以供將未處理的基板傳送至第一基板支架120上及/或第二基板支架220上。附加性地或可選地，該一或更多個輸送器可經配置，以供從第一基板支架120及/或從第二基板支架220傳送經處理的基板。作為一示例，第一輸送器140可為一傳入輸送器，係經配置以供從輸入裝置(未圖示)接收未處理的基板，且可經配置以向第一基板支架120及/或第二基板支架220傳送未處理基板。第二輸送器142可為傳出輸送器，係經配置以從第一基板支架120及/或第二基板支架220接收經處理基板，且可經配置以向基板移除裝置(未圖示)傳送經處理基板。
依據某些實施例(其可與本文中所述的其他實施例結合)，該至少一個傳輸裝置(例如第一傳輸裝置130及第二傳輸裝置230)係經配置，以水平方向300及以垂直方向310傳輸該至少一個基板支架(例如第一基板支架120及第二基板支架220)。依據某些實施例(其可與本文所述的其他實施例結合)，水平方向300及垂直方向310定義了實質垂直定向的二度平面，如以上參照圖1所解釋的。
依據某些實施例(其可與本文中所述的其他實施例結合)，該至少一個傳輸裝置包括用於以垂直方向310傳輸該至少一個基板支架的第一馬達。作為一示例，該第一馬達係一線性馬達。依據某些實施例(其可與本文中所述的其他實施例結合)，第一馬達係步進馬達、伺服馬達或氣動馬達。特別使用線性馬達允許良好地調整該至少一個基板支架的垂直位置。
在某些實施方式中，裝置100包括一連接裝置，該連接裝置係經配置以供與該至少一個基板支架連接該至少一個傳輸裝置(且具體是該第一馬達)。該連接裝置可被包括在該至少一個傳輸裝置中。作為一示例，裝置100可包括第一連接裝置134，該第一連接裝置134係經配置以供與第一基板支架120連接第一傳輸裝置130(且具體是第一傳輸裝置130的該第一馬達)。進一步地，裝置100可包括第二連接裝置234，該第二連接裝置234係經配置以供與第二基板支架220連接第二傳輸裝置230(且具體是第二傳輸裝置230的該第二馬達)。
依據某些實施例，連接裝置(例如第一連接裝置134及第二連接裝置234)係實質L形的。實質L形的連接裝置可包括實質以垂直方向310延伸的第一連接構件，且可包括實質以水平方向300延伸的第二連接構件。作為一示例，第一連接裝置134可包括第一連接構件135及第二連接構件136。第二連接裝置234可包括 另一第一連接構件235及另一第二連接構件236。在某些實施方式中，第一連接構件可經配置以供與該至少一個傳輸裝置連接，且第二連接構件可經配置以供與該至少一個基板支架連接。
用語「實質以垂直方向延伸」係理解為區隔於「實質以水平方向延伸」。也就是說，「實質以垂直方向延伸」關於例如第一連接構件的實質垂直延伸，其中從精確垂直延伸徧差幾度(例如高達10°或甚至高達30°)仍被視為實質垂直延伸。類似地，「實質以水平方向延伸」關於例如第二連接構件的實質水平延伸，其中從精確水平延伸徧差幾度(例如高達10°或甚至高達30°)仍被視為實質水平延伸。
依據某些實施例(其可與本文中所述的其他實施例結合)，該至少一個傳輸裝置包括用於以水平方向300傳輸該至少一個基板支架的第二馬達150。作為一示例，第二馬達150係一線性馬達。依據某些實施例(其可與本文中所述的其他實施例結合)，第二馬達係步進馬達、伺服馬達或氣動馬達。特別使用線性馬達允許良好地調整該至少一個基板支架的垂直位置。
在某些實施方式中，該至少一個傳輸裝置包括一靜態或非移動部分及一可移動部分(例如第一傳輸裝置130的第一可移動部分131及第二傳輸裝置230的第二可移動部分231)。作為一示例，第二馬達150可包括固定到位的磁鐵151，且第二馬達150可包括線圈，該 等線圈與傳輸裝置的可移動部分一起至少水平地移動。作為一進一步示例，可移動部分可包括傳輸裝置的第一馬達，以便第一馬達可與該至少一個基板支架一起沿水平方向300移動。
依據某些實施例(其可與本文中所述的其他實施例結合)，該裝置包括一檢驗系統，該檢驗系統係經配置以供偵測位於該至少一個基板支架上之基板的位置及/或定向。該檢驗系統可被包括在該二或更多個處理站(例如檢驗站或校準站)中的至少一者中。
依據某些實施例(其可與本文中所述的其他實施例結合)，裝置100更包括一校準裝置，該校準裝置係經配置以供在水平平面中校準該至少一個基板支架的位置及角定向中的至少一者。該校準裝置允許例如對於列印裝置調整基板的位置及/或定向，以供與經後續列印的圖樣校準經列印的圖樣。特定而言，校準裝置允許校準基板，以便在基板上所列印的圖樣可對於基板及/或對於彼此校準。
依據某些實施例(其可與本文中所述的其他實施例結合)，該校準裝置可使用由檢驗系統所獲得的資料來在水平平面中對準該至少一個基板支架之位置及角定向中的至少一者。作為一示例，該至少一個基板支架上之基板的位置及/或定向係例如由檢驗系統所偵測，且基板的經偵測位置及/或定向係用以例如相對於列印裝置(例如列印頭)定位基板支架且因此定位基板。
在某些實施方式中，該校準裝置係經配置，以X方向及Y方向定位該至少一個基板支架，及/或經配置以將該至少一個基板支架的角定向調整至目標定向。X方向及Y方向可為笛卡爾座標系統的X方向及Y方向，且可特別定義水平平面。角定向可指相對於目標(例如列印裝置)之該至少一個基板支架的角定向。作為一示例，角定向可定義為基板支架處的第一參考線及目標(例如列印裝置)處的第二參考線之間的角度(例如θ)。
依據某些實施例，校準裝置可包括一或更多個致動器，該等致動器用於在水平平面中校準該至少一個基板支架的位置及/或角定向。該一或更多個致動器可包括步進馬達、氣動馬達及/或伺服馬達。作為一示例，校準裝置可包括三個致動器，例如用於以X方向移動或定位基板支架的第一致動器、用於以Y方向移動或定位基板支架的第二致動器及用於成角度地移動或定位基板支架的第三致動器。在某些實施方式中，第一致動器及第二致動器可為線性馬達，及/或第三致動器可為旋轉馬達。
依據某些實施例(其可與本文中所述的其他實施例結合)，校準裝置係包括在傳輸裝置中及/或基板支架中。
在某些實施方式中，包括在該一或更多個處理站及該至少一個基板支架中的列印裝置(例如列印頭)係可相對於彼此而移動以供列印。特定而言，列印裝置 及該至少一個基板支架係可以水平方向300(例如X方向)相對於彼此而移動。作為一示例，列印裝置係可沿該至少一個基板支架以至少一個方向(例如X方向)移動以供列印。在這樣的情況下，該至少一個基板支架可保持其位置，也就是該至少一個基板支架在列印期間是不移動的。在另一示例中，列印裝置係固定到位，同時該至少一個基板支架係經配置以(例如相對於列印裝置以X方向)移動以供列印。在這樣的情況下，列印裝置可保持其位置，也就是列印裝置在列印期間不移動，但該至少一個基板支架在列印期間移動。列印裝置可經配置以供進行螢幕列印、噴墨列印或雷射處理或雷射列印。
依據某些實施例(其可與本文中所述的其他實施例結合)，該二或更多個處理站係選自包括以下物的群組：基板加載站、基板卸載站、列印站、校準站、緩衝站、檢驗站、加熱站及其組合。依據某些實施例(其可與本文中所述的其他實施例結合)，該裝置係經配置以供進行螢幕列印。作為一示例，列印站可包括一或更多個列印頭及一或更多個螢幕裝置，用於在用於產生太陽能電池的基板上螢幕列印圖樣(例如指狀物及匯流條)。在某些實施例中，螢幕裝置定義相對應於要列印在基板上之結構的圖樣或特徵，其中該等圖樣或特徵可包括孔洞、槽、切口或其他開口中的至少一者。
在某些實施方式中，該裝置包括刮板，其中該螢幕裝置係提供於基板支架及該刮板之間。該刮板可 包括在列印頭中。該刮板可經配置以供列印(且特別是螢幕列印)。在某些實施例中，刮板及螢幕裝置可相對於彼此而移動以供列印。作為一示例，該刮板可沿螢幕裝置以至少一個方向移動以供列印。在這樣的情況下，該至少一個基板支架可保持其位置，也就是該至少一個基板支架在列印期間是不移動的。在另一示例中，刮板係固定到位，同時該至少一個基板支架係經配置以(例如相對於刮板以X方向)移動以供列印。在這樣的情況下，刮板可保持其位置，也就是刮板在列印期間不移動，但該至少一個基板支架在列印期間移動。
依據本揭示案的另一態樣，係提供用於在用於產生太陽能電池之基板上進行列印的裝置。該裝置包括二或更多個處理站；至少一個基板支架，係經配置以支持該基板；及至少一個傳輸裝置，係經配置以一水平方向及以一垂直方向傳輸該至少一個基板支架，以供在該二或更多個處理站之間傳輸該至少一個基板支架，該水平方向及該垂直方向定義一實質垂直定向的二度平面，其中該傳輸裝置包括一校準裝置，該校準裝置係經配置以供在一水平平面中校準該基板支架之一位置及一角定向中的至少一者。
圖6A圖示依據本文中所揭露之實施例的基板支架400的透視圖。依據某些實施例，該基板支架亦可稱為「處理巢」。
在某些實施方式中，基板支架400包括輸送裝置406，該輸送裝置406具有饋送輥407及接收輥408。饋送輥407及接收輥408係經配置以饋送及保留位於基板支架400之表面404上的材料402。依據某些實施例，材料402可被週期性地移除及替換。
依據某些實施例(其可與本文中所述的其他實施例結合)，基板支架400包括至少一個吸取裝置，該至少一個吸取裝置係經配置以供將基板10保持在基板支架400上。作為一示例，材料402可為多孔材料，該多孔材料允許安置在材料402之一側上的基板10藉由施加於材料402之相反側的真空(例如藉由形成在表面404中的真空接口來進行)而被保持至表面404。在某些實施方式中，真空係藉由使用耦合至表面404中之接口的真空源(未圖示)所產生的。
圖6B圖示依據本文中所揭露之實施例的基板支架500的透視圖。依據某些實施例，該基板支架亦可稱為「處理巢」。基板支架500的輸送裝置506係配置為連續輸送系統，該連續輸送系統具有一或更多個第一輥508及一或更多個第二輥507，以供饋送跨表面504而定位的材料502。表面504可在處理期間(例如在例如為列印站的處理站處)支持基板10及材料502。
依據某些實施例(其可與本文中所述的其他實施例結合)，基板支架500包括至少一個吸取裝置，該至少一個吸取裝置係經配置以供將基板10保持在基板支架 500上。作為一示例，材料502可為多孔材料，該多孔材料允許安置在材料502之一側上的基板10藉由施加於材料502之相反側的真空(例如藉由形成在表面504中的真空接口來進行)而被保持至表面504。在某些實施方式中，真空係藉由使用耦合至表面504中之接口的真空源(未圖示)所產生的。依據某些實施例，如材料502被饋送般地清除，材料502藉由該一或更多個饋送輥508而被清除
圖7圖示依據本文中所揭露之實施例之用於在用於產生太陽能電池之基板上進行列印的系統600的透視圖。
該系統600具有雙線路配置，且包括用於在用於產生太陽能電池之基板上進行列印的第一裝置610及用於在用於產生太陽能電池之基板上進行列印的第二裝置612。
在某些實施方式中，第一裝置610及第二裝置612係平行佈置，且提供兩個生產線路以供產生太陽能電池。第一裝置610及第二裝置612可彼此獨立操作，以便第一裝置610及第二裝置612中的各者能夠執行太陽能電池生產處理中的至少一部分(且特別是完整的太陽能電池生產處理)。
在其他示例中，第一裝置610及第二裝置612可協同操作，以便第一裝置610及第二裝置612一起執行太陽能電池生產處理。作為一示例，第一裝置 610及第二裝置612可包括不同的處理站，其中該至少一個基板支架可從第一裝置610傳送至第二裝置612，且從第二裝置612傳送至第一裝置610。
系統600具有輸入端620，以供將未處理的基板輸入進系統600。輸入端620可為雙線路輸入端，用於分別在第一裝置610及第二裝置612中輸入基板。系統600具有出口端622，用於將經處理的基板移除出系統。出口端622可為雙線路出口端，用於分別從第一裝置610及第二裝置612移除基板。
依據某些實施例，該系統包括在輸入端620處或附近的第一檢驗系統630。第一檢驗系統630可用於如以上參照圖1到5所述的校準。依據某些實施例，該系統包括在出口端622處或附近的第二檢驗系統640。第二檢驗系統640可用於(例如經列印圖樣的)反饋及/或品質檢驗。關於反饋，第二檢驗系統640可經配置以供偵測列印在基板上之圖樣的位置及/或定向，且可向校準裝置提供經偵測的位置及/或定向，該校準裝置可使用所獲得的資訊以供校準後續的基板。
圖8圖示依據本文中所揭露之實施例之用於傳輸用於產生太陽能電池之基板的方法700的流程圖。
依據本揭示案的一態樣，方法700包括以水平方向及以垂直方向移動至少一個基板支架，以供在二或更多個處理站之間傳輸該至少一個基板支架(方塊710)。在某些實施方式中，該方法更可包括以下步驟： 以水平方向及以垂直方向同時或依序移動該至少一個基板支架(方塊720)。
依據某些實施例，該方法使用依據本文中所述之實施例之用於在用於產生太陽能電池之基板上進行列印的裝置。
依據本文中所述的實施例，用於傳輸用於產生太陽能電池之基板的方法可藉由電腦程式、軟體、電腦軟體產品及相關的控制器來進行，該等控制器可具有與該裝置之相對應元件通訊的CPU、記憶體、使用者介面及輸入及輸出手段，以供處理大區域基板。
圖9(a)至(l)圖示用於使用依據本文中所揭露之實施例的裝置及方法來產生太陽能電池的序列方案。
該裝置包括校準站810、列印站812及檢驗站814。在圖9中，截面(a)至(l)圖示用於同時處理兩個基板(也就是第一基板820及第二基板830)的序列。
在截面(a)中，第一基板820係定位於列印站812處(例如以供在第一基板820上列印第一圖樣)，且第二基板830係輸入於裝置中。在截面(b)中，第一基板820仍定位於列印站812處以供在第一基板820上列印第一圖樣，且第二基板830在已被垂直移動後係定位於校準站810處，例如以供與列印站中的列印頭初始校準第二基板830。在截面(c)中，第一基板820及第二基板係至少水平地移動，直到以下步驟為止：在截面(d) 中，第二基板830係定位於列印站812處(例如以供在第二基板830上列印第一圖樣)，且第一基板820係定位於檢驗站處(例如以供檢驗列印在第一基板820上的第一圖樣)。
在截面(e)至(h)中，第二基板830係定位於列印站812處，例如以供在第二基板830上列印第一圖樣。第一基板820係從檢驗站814垂直及水平移動回到校準站810，以供例如與列印站中的列印頭校準第一基板820或列印在第一基板820上的第一圖樣，以便要列印在第一基板820上的第二圖樣係與第一基板820上的第一圖樣校準。
在截面(i)中，第二基板830係定位於檢驗站814處(例如以供檢驗列印在第二基板830上的第一圖樣)，且第一基板820係定位於列印站812處(例如以供在第一基板820上列印第二圖樣)。作為一示例，第一圖樣及第二圖樣分別可為指狀物及匯流條。
在截面(k)及(l)中，第二基板830係從檢驗站814垂直及水平移動回到校準站810，以供例如與列印站中的列印頭校準第二基板830或列印在第二基板830上的第一圖樣，以便要列印在第二基板830上的第二圖樣係與第二基板830上的第一圖樣校準。
注意的是，以上的處理步驟序列係非完整，且可提供包括前往進一步處理站的移動及於進一步處理 站處進行處理的各種額外序列步驟，以製造太陽能電池。
雖以上所述係針對本揭露的實施例，本揭露之其他的及進一步的實施例可自行設計而不脫離本揭露的基本範圍，且本揭露的範圍是由隨後的請求項所決定的。
10‧‧‧基板
102‧‧‧第一處理站
104‧‧‧第二處理站
106‧‧‧第一傳輸路徑
110‧‧‧處理站
120‧‧‧第一基板支架
220‧‧‧第二基板支架
300‧‧‧水平方向
305‧‧‧二度平面
310‧‧‧垂直方向

Claims (20)

  1. 一種用於在用於產生一太陽能電池之一基板上進行列印的裝置，包括：二或更多個處理站；至少一個基板支架，係經配置以支持該基板；及至少一個傳輸裝置，係經配置以一水平方向及以一垂直方向傳輸該至少一個基板支架，以供在該二或更多個處理站之間傳輸該至少一個基板支架。
  2. 如請求項1所述之裝置，其中該至少一個傳輸裝置係經配置，以同時或依序以該水平方向及以該垂直方向傳輸該至少一個基板支架。
  3. 如請求項1所述之裝置，其中該至少一個傳輸裝置包括用於以該垂直方向傳輸該至少一個基板支架的一第一馬達。
  4. 如請求項3所述之裝置，其中該馬達係一步進馬達、一伺服馬達或一氣動馬達。
  5. 如請求項1所述之裝置，其中該至少一個傳輸裝置包括用於以該水平方向傳輸該至少一個基板支架的一第二馬達。
  6. 如請求項3所述之裝置，其中該至少一個傳輸裝置包括用於以該水平方向傳輸該至少一個基板支架的一第二馬達。
  7. 如請求項1所述之裝置，更包括至少一個校準裝置，係經配置以供在一水平平面中校準該至少一個基板支架之一位置及一角定向中的至少一者。
  8. 如請求項7所述之裝置，其中該至少一個校準裝置係包括在該至少一個傳輸裝置中或該至少一個基板支架中。
  9. 如請求項7所述之裝置，其中該至少一個校準裝置係包括在該至少一個傳輸裝置中及該至少一個基板支架中。
  10. 如請求項1所述之裝置，其中該至少一個基板支架包括至少一個吸取裝置，該至少一個吸取裝置係經配置以供將該基板保持在該至少一個基板支架上。
  11. 如請求項1所述之裝置，其中該至少一個基板支架包括一輸送裝置，該輸送裝置係經配置以供進行以下步驟中的至少一者：將該基板輸送至該至少一個基板支架上，及從該至少一個基板支架輸送該基板。
  12. 如請求項1所述之裝置，其中該裝置係經配置以供進行以下步驟中的至少一者：螢幕列印、噴墨列印及雷射處理。
  13. 如請求項1所述之裝置，其中該二或更多個處理站係選自包括以下物的該群組： 一基板加載站、一基板卸載站、一列印站、一校準站、一緩衝站、一檢驗站、一加熱站及其組合。
  14. 如請求項1至13中之任一者的裝置，其中該水平方向及該垂直方向定義一二度平面，其中該至少一個傳輸裝置係經配置，以供沿該二度平面中的一傳輸路徑傳輸該至少一個基板支架。
  15. 如請求項14所述之裝置，其中該二度平面係一垂直定向的二度平面。
  16. 一種用於在用於產生一太陽能電池之一基板上進行列印的裝置，包括：二或更多個處理站；至少一個基板支架，係經配置以支持該基板；及至少一個傳輸裝置，係經配置以一水平方向及以一垂直方向傳輸該至少一個基板支架，以供在該二或更多個處理站之間傳輸該至少一個基板支架，其中該水平方向及該垂直方向定義一垂直定向的二度平面，及其中該至少一個傳輸裝置包括至少一個校準裝置，該至少一個校準裝置係經配置，以供在一水平平面中校準該至少一個基板支架之一位置及一角定向中的至少一者。
  17. 如請求項16所述之裝置，其中該至少一個傳輸裝置係經配置，以供沿該垂直定向之二度平面中的一傳輸路徑傳輸該至少一個基板支架。
  18. 一種用於傳輸用於產生一太陽能電池之一基板的方法，包括以下步驟：以一水平方向及以一垂直方向移動至少一個基板支架，以供在二或更多個處理站之間傳輸該至少一個基板支架。
  19. 如請求項18所述之方法，其中移動該至少一個基板支架的該步驟包括以下步驟：沿由該水平方向及該垂直方向所定義之一二度平面中的一傳輸路徑移動的一步驟。
  20. 如請求項18所述之方法，更包括下列步驟：以該水平方向及以該垂直方向同時或依序移動該至少一個基板支架。
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