TW201623543A - 液晶滴下法用密封劑、上下導通材料、及液晶顯示元件 - Google Patents

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Abstract

本發明之目的在於提供一種塗佈性、接著性、及硬化物之防透濕性優異且即便於高溫高濕環境下液晶污染性亦較低之液晶滴下法用密封劑。又，本發明之目的在於提供一種使用該液晶滴下法用密封劑製造之上下導通材料及液晶顯示元件。 本發明係一種含有硬化性樹脂、自由基聚合起始劑及/或熱硬化劑、以及雲母之液晶滴下法用密封劑。

Description

液晶滴下法用密封劑、上下導通材料、及液晶顯示元件
本發明係關於一種塗佈性、接著性、及硬化物之防透濕性優異且即便於高溫高濕環境下液晶污染性亦較低之液晶滴下法用密封劑。又，本發明係關於一種使用該液晶滴下法用密封劑製造之上下導通材料及液晶顯示元件。
近年來，就產距時間縮短、使用液晶量之最佳化等觀點而`，`晶顯示單元等液晶顯示元件之製造方法例如使用如專利文獻1、專利文`2`所揭示之被稱為滴下法之液晶滴下方式，該液晶滴下方式使用含有光硬化性樹脂、光聚合起始劑、熱硬化性樹脂、及熱硬化劑之光、熱併用硬化型之密封劑。
於滴下法中，首先，於2片附電極之透明基板之一者，藉由滴塗(dispense)而形成長方形狀之密封圖案。繼而，於密封劑未硬化之狀態下，將液晶之微滴滴至透明基板之框內整個面，並立即與另一透明基板重合，對密封部照射紫外線等光而進行臨時硬化。其後，於液晶退火時加熱而進行正式硬化，從而製作液晶顯示元件。若於減壓下進行基板之貼合，則能以極高之效率製造液晶顯示元件，目前該滴下法成為液晶顯示元件之 製造方法之主流。
且說，於行動電話、可攜式遊戲機等各種附液晶面板之行動機器正普及之目前，最被需要之課題在於裝置之小型化。作為小型化之方法，列舉液晶顯示部之窄邊緣化，例如，將密封部之位置配置於黑矩陣下(以下，亦稱為窄邊緣設計)。
伴隨著此種窄邊緣設計，於液晶顯示元件中，自像素區域至密封劑之距離變近，從而容易因由密封劑導致液晶被污染而產生顯示不均。
又，伴隨著平板終端或行動終端之普及，對液晶顯示元件逐漸要求高溫高濕環境下之驅動等時之耐濕可靠性，對密封劑進一步尋求防止水自外部滲入之性能。為了使液晶顯示元件之耐濕可靠性提高，必須為了防止來自密封劑與基板等之界面的水滲入而使密封劑與基板等之接著性提高，並且為了防止自密封劑塊進入之水，必須使密封劑之防透濕性提高。例如，於如專利文獻3中所揭示般，使用將如滑石之無機填充劑摻合於密封劑之方法之情形時，可使密封劑之防透濕性提高。然而，於此種摻合有無機填充劑之情形時，存在所獲得之密封劑之接著性降低，或者由於為了使防透濕性提高而大量地摻合而導致黏度上升、塗佈性降低等問題。
專利文獻1：日本特開2001-133794號公報
專利文獻2：國際公開第02/092718號
專利文獻3：日本特開2008-40015號公報
本發明之目的在於提供一種塗佈性、接著性、及硬化物之防透濕性優異且即便於高溫高濕環境下液晶污染性亦較低之液晶滴下法用密封劑。又，本發明之目的在於提供一種使用該液晶滴下法用密封劑製造之上下導通材料及液晶顯示元件。
本發明為液晶滴下法用密封劑，其含有硬化性樹脂、自由基聚合起始劑及/或熱硬化劑、以及雲母。
以下，對本發明進行詳述。
本發明人認為，於摻合有滑石等作為使密封劑之防透濕性提高之無機填充劑之情形時，密封劑之接著性或塗佈性降低之原因在於：因存在於滑石等之表面之羥基之氫鍵而導致滑石等變得容易凝集。
因此，本發明人發現，藉由摻合雲母作為無機填充劑，可獲得塗佈性、接著性、及硬化物之防透濕性優異且即便於高溫高濕環境下液晶污染性亦較低之液晶滴下法用密封劑，從而完成本發明。
本發明之液晶滴下法用密封劑含有雲母。藉由含有上述雲母，本發明之液晶滴下法用密封劑維持優異之塗佈性及接著性，且硬化物之防透濕性優異。
上述雲母係屬於頁矽酸鹽礦物雲母族之礦物，特徵為較薄地剝落。多數為六角板狀之結晶，例如可列舉金雲母、白雲母、絹雲母等天然雲母、或氟金雲母、鉀四矽雲母、鈉四矽雲母、鈉帶雲母、鋰帶雲母等合成雲母。其中，就抑制接著性或塗佈性降低之觀點而言，較佳為合成雲母。
作為製造上述合成雲母之方法，例如可列舉：使滑石與矽氟 化鉀等鹼金屬矽氟化物進行固相反應之方法(固相反應法)、對二氧化矽、氧化鎂、氧化鋁等及矽氟化鉀等鹼金屬矽氟化物進行加熱使其等熔化並冷卻而結晶化之方法(熔融合成法)等。
於藉由上述固相反應法製造合成雲母之情形時，成為原料之滑石較佳為經精製處理或分級處理等而去除雜質者。
就防透濕性或接著性之觀點而言，上述雲母較佳為縱橫比為2以上者之比率為85重量%以上。於上述雲母中，若縱橫比為2以上者之比率未達85重量%，則存在無法充分發揮使液晶滴下法用密封劑之塗佈性、接著性、及硬化物之防透濕性提高之效果的情況。上述雲母中之縱橫比為2以上者之比率之更佳下限為90重量%，進而較佳之下限為95重量%，尤佳為僅由縱橫比為2以上者構成。
再者，於本說明書中，上述縱橫比係由使用掃描型電子顯微鏡以5000倍之倍率觀察所得之粒子之長徑與短徑之比率(長徑/短徑)而規定，上述雲母中之縱橫比為2以上者之比率可藉由測定40個粒子之縱橫比而求出。又，作為上述掃描型電子顯微鏡，可使用S-4300(日立高新技術公司製造)等。
作為使上述雲母中縱橫比為2以上者之比率成為85重量%以上之方法，例如可列舉對縱橫比為2以上者之比率未達85重量%之雲母進行分級之方法等。具體而言，例如可列舉：使用利用離心力與流體阻力之差對強制漩渦中之粒子進行分級之超微粉風力分級機、回旋氣流分級機、或精密空氣分級機等分級機的方法，或者使用擺動式搖篩機(伊藤製作所公司製造、「SS-S-230」)及網眼為5~10μm之JIS標準之篩去除微 粒子之方法，或者使用電磁振動式篩分器(例如伊藤製作所公司製造、「MS-200」)去除微粒子之方法，或者使用音波式篩分器(例如伊藤製作所公司製造、「MSS-75」)去除微粒子之方法等。
上述雲母之平均粒徑之較佳下限為0.05μm，較佳上限為10μm。若上述雲母之平均粒徑未達0.05μm，則存在所獲得之液晶滴下法用密封劑成為塗佈性不佳者之情況。若上述雲母之平均粒徑超過10μm，則存在因間隙不良導致於液晶顯示元件產生顯示不均之情況。上述雲母之平均粒徑之更佳下限為0.1μm，更佳上限為5.0μm，進而較佳之下限為0.3μm，進而較佳之上限為3.0μm。
再者，於本說明書中，上述「雲母之平均粒徑」意指使用掃描型電子顯微鏡以5000倍之倍率觀察之10個粒子之粒徑(長徑)的平均值。
作為上述雲母中市售者，例如可列舉MK-100、MK-200、MK-300(均為CO-OP.CHEMICAL CO.,LTD.製造)等。
上述雲母亦可為經表面處理劑進行過表面處理者。上述進行過表面處理之雲母於密封劑中之分散性優異，所獲得之密封劑於接著性或防透濕性方面更優異。
作為上述表面處理劑，例如可列舉矽烷偶合劑、脂肪酸、鈦酸酯偶合劑等。其中，就使所獲得之密封劑之接著性提高之效果優異而言，較佳為矽烷偶合劑，更佳為具有環氧基之矽烷偶合劑。
作為用作上述雲母之表面處理劑之矽烷偶合劑，例如可列舉：乙烯基三甲氧基矽烷、乙烯基三乙氧基矽烷、2-(3,4-環氧環己基)乙基三甲氧基矽烷、3-縮水甘油氧基丙基甲基二甲氧基矽烷 (3-glycidoxypropyldimethoxysilane)、3-縮水甘油氧基丙基三甲氧基矽烷、3-縮水甘油氧基丙基甲基二乙氧基矽烷、3-縮水甘油氧基丙基三乙氧基矽烷、對苯乙烯基三甲氧基矽烷、3-甲基丙烯醯氧基丙基甲基二甲氧基矽烷、3-甲基丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷、3-甲基丙烯醯氧基丙基甲基二乙氧基矽烷、3-甲基丙烯醯氧基丙基三乙氧基矽烷、3-丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷、N-2-(胺基乙基)-3-胺基丙基甲基二甲氧基矽烷、N-2-(胺基乙基)-3-胺基丙基三甲氧基矽烷、3-胺基丙基三甲氧基矽烷、3-胺基丙基三乙氧基矽烷、3-三乙氧基矽基-N-(1,3-二甲基亞丁基)丙基胺、N-苯基-3-胺基丙基三甲氧基矽烷、N-(乙烯基苄基)-2-胺基乙基-3-胺基丙基三甲氧基矽烷、3-脲丙基三乙氧基矽烷(ureidopropyltriethoxy silane)、3-巰丙基甲基二甲氧基矽烷、3-巰丙基三甲氧基矽烷、3-異氰酸酯基丙基三乙氧基矽烷、甲基三甲氧基矽烷、二甲基二甲氧基矽烷、苯基三甲氧基矽烷、甲基三乙氧基矽烷、二甲基二乙氧基矽烷、苯基三乙氧基矽烷、己基三甲氧基矽烷、己基三乙氧基矽烷、癸基三甲氧基矽烷、三氟丙基三甲氧基矽烷等。
作為上述矽烷偶合劑中市售者，例如可列舉KBM-303、KBM-403、KBM-502、KBM-602、KBM-603(均為信越化學工業公司製造)等。
作為用作上述雲母之表面處理劑之脂肪酸，例如可列舉硬脂酸、棕櫚酸、月桂酸、油酸、亞麻油酸等。
作為用作上述雲母之表面處理劑之鈦酸酯偶合劑，例如可列舉：硬脂酸三丁氧基鈦、三異硬脂酸異丙氧基鈦、三異硬脂酸單異丙氧基 鈦等醯化鈦(titanium acylate)，或鈦四乙氧化物、鈦四丙氧化物、鈦四丁氧化物、鈦酸四環己酯、鈦酸四苄酯等鈦烷氧化物，或二正丁氧基-雙(三乙醇胺根合)鈦(di-n-butoxy bis(triethanolaminato)titanium)、二異丙氧基雙(乙醯丙酮酸)鈦、四乙醯丙酮酸鈦、二-2-乙基己氧基雙(2-乙基-3-羥基己氧化)鈦(titanium di-2-ethylhexoxide bis(2-ethyl-3-hydroxy-hexoxide))、二異丙氧基雙(乙基乙醯乙酸)鈦等鈦螯合物等。
作為上述鈦酸酯偶合劑中市售者，例如可列舉TAA、TOG、A-1、TOT、B-1(均為日本曹達公司製造)等。
作為上述表面處理，例如可列舉：使成為原料之未處理之雲母流動之狀態下，使水與表面處理劑之混合液進行噴霧之方法，或於有機溶劑中添加未處理之雲母進而添加水與表面處理劑並進行混合後利用蒸發器使水與有機溶劑蒸發乾燥之方法等。
上述雲母之含量相對於硬化性樹脂100重量份，較佳之下限為0.5重量份，較佳之上限為30重量份。若上述雲母之含量未達0.5重量份，則存在無法充分發揮使所獲得之液晶滴下法用密封劑之硬化物其防透濕性提高之效果的情況。若上述雲母之含量超過30重量份，則存在所獲得之液晶滴下法用密封劑成為塗佈性或接著性不佳者之情況。上述雲母之含量之更佳之下限為1重量份，更佳之上限為20重量份，進而較佳之下限為2重量份。
本發明之液晶滴下法用密封劑亦可於不阻礙本發明之目的之範圍中，含有除上述雲母以外之其他填充劑。
作為上述其他填充劑，例如可列舉：滑石、石綿、二氧化矽、矽藻土、 膨潤石、膨土、碳酸鈣、碳酸鎂、氧化鋁、蒙脫石、氧化鋅、氧化鐵、氧化鎂、氧化錫、氧化鈦、氫氧化鎂、氫氧化鋁、玻璃珠、氮化矽、硫酸鋇、石膏、矽酸鈣、氮化鋁等其他無機填充劑、或聚酯微粒子、聚胺酯(polyurethane)微粒子、乙烯系聚合物微粒子、丙烯酸聚合物微粒子等有機填充劑。
又，就防止液晶污染及液晶插入至密封劑之觀點而言，亦可含有大於液晶顯示元件之單元間隙的聚矽氧粒子作為其他填充劑。
本發明之液晶滴下法用密封劑含有硬化性樹脂。
上述硬化性樹脂較佳為主骨架由碳原子構成。
又，上述硬化性樹脂較佳為含有(甲基)丙烯酸樹脂。
本發明之液晶滴下法用密封劑為了可迅速硬化，較佳為含有(甲基)丙烯酸樹脂作為硬化性樹脂，且含有自由基聚合起始劑作為聚合起始劑。
上述硬化性樹脂更佳為含有環氧(甲基)丙烯酸酯作為上述(甲基)丙烯酸樹脂。
再者，於本說明書中，上述「(甲基)丙烯酸」意指丙烯酸或甲基丙烯酸，上述「(甲基)丙烯酸系樹脂」意指具有(甲基)丙烯醯基之樹脂。又，上述「(甲基)丙烯酸酯」意指丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯，上述「環氧(甲基)丙烯酸酯」意指使環氧樹脂中之所有環氧基與(甲基)丙烯酸反應所得之化合物。
作為成為用以合成上述環氧(甲基)丙烯酸酯之原料之環氧樹脂，例如可列舉：雙酚A型環氧樹脂、雙酚F型環氧樹脂、雙酚S型環氧樹脂、2,2'-二烯丙基雙酚A型環氧樹脂、氫化雙酚型環氧樹脂、環氧丙烷加成雙酚A型環氧樹脂、間苯二酚型環氧樹脂、聯苯型環氧樹脂、硫醚 型環氧樹脂、二苯醚型環氧樹脂、二環戊二烯型環氧樹脂、萘型環氧樹脂、苯酚酚醛清漆型環氧樹脂、鄰甲酚酚醛清漆型環氧樹脂、二環戊二烯酚醛清漆型環氧樹脂、聯苯酚醛清漆型環氧樹脂、萘酚酚醛清漆型環氧樹脂、縮水甘油胺型環氧樹脂、烷基多元醇型環氧樹脂、橡膠改質型環氧樹脂、縮水甘油酯化合物、雙酚A型環硫樹脂等。
作為上述雙酚A型環氧樹脂中市售者，例如可列舉jER 828EL、jER 1001、jER 1004(均為三菱化學公司製造)、EPICLON 850-S(DIC公司製造)等。
作為上述雙酚F型環氧樹脂中市售者，例如可列舉jER 806、jER 4004、jER YL983U(均為三菱化學公司製造)等。
作為上述雙酚S型環氧樹脂中市售者，例如可列舉EPICLON EXA1514(DIC公司製造)等。
作為上述2,2'-二烯丙基雙酚A型環氧樹脂中市售者，例如可列舉RE-810NM(日本化藥公司製造)等。
作為上述氫化雙酚型環氧樹脂中市售者，例如可列舉EPICLON EXA7015(DIC公司製造)等。
作為上述環氧丙烷加成雙酚A型環氧樹脂中市售者，例如可列舉EP-4000S(ADEKA公司製造)等。
作為上述間苯二酚型環氧樹脂中市售者，例如可列舉EX-201(長瀨化成公司製造)等。
作為上述聯苯型環氧樹脂中市售者，例如可列舉jER YX-4000H(三菱化學公司製造)等。
作為上述硫醚型環氧樹脂中市售者，例如可列舉YSLV-50TE(新日鐵住金化學公司製造)等。
作為上述二苯醚型環氧樹脂中市售者，例如可列舉YSLV-80DE(新日鐵住金化學公司製造)等。
作為上述二環戊二烯型環氧樹脂中市售者，例如可列舉EP-4088S(ADEKA公司製造)等。
作為上述萘型環氧樹脂中市售者，例如可列舉EPICLON HP4032、EPICLON EXA-4700(均為DIC公司製造)等。
作為上述苯酚酚醛清漆型環氧樹脂中市售者，例如可列舉EPICLON N-770(DIC公司製造)等。
作為上述鄰甲酚酚醛清漆型環氧樹脂中市售者，例如可列舉EPICLON N-670-EXP-S(DIC公司製造)等。
作為上述二環戊二烯酚醛清漆型環氧樹脂中市售者，例如可列舉EPICLON HP7200(DIC公司製造)等。
作為上述聯苯酚醛清漆型環氧樹脂中市售者，例如可列舉NC-3000P(日本化藥公司製造)等。
作為上述萘酚酚醛清漆型環氧樹脂中市售者，例如可列舉ESN-165S(新日鐵住金化學公司製造)等。
作為上述縮水甘油胺型環氧樹脂中市售者，例如可列舉jER 630(三菱化學公司製造)、EPICLON 430(DIC公司製造)、TETRAD-X(三菱瓦斯化學公司製造)等。
作為上述烷基多元醇型環氧樹脂中市售者，例如可列舉ZX-1542(新 日鐵住金化學公司製造)、EPICLON 726(DIC公司製造)、EPOLIGHT 80MFA(共榮社化學公司製造)、DENACOL EX-611(長瀨化成公司製造)等。
作為上述橡膠改質型環氧樹脂中市售者，例如可列舉YR-450、YR-207(均為新日鐵住金化學公司製造)、EPOLEAD PB(Daicel公司製造)等。
作為上述縮水甘油酯化合物中市售者，例如可列舉DENACOL EX-147(長瀨化成公司製造)等。
作為上述雙酚A型環硫樹脂中市售者，例如可列舉jER YL-7000(三菱化學公司製造)等。
作為上述環氧樹脂中其他市售者，例如可列舉YDC-1312、YSLV-80XY、YSLV-90CR(均為新日鐵住金化學公司製造)、XAC 4151(旭化成公司製造)、jER 1031、jER 1032(均為三菱化學公司製造)、EXA-7120(DIC公司製造)、TEPIC(日產化學公司製造)等。
作為上述環氧(甲基)丙烯酸酯中市售者，例如可列舉EBECRYL 860、EBECRYL 3200、EBECRYL 3201、EBECRYL 3412、EBECRYL 3600、EBECRYL 3700、EBECRYL 3701、EBECRYL 3702、EBECRYL 3703、EBECRYL 3800、EBECRYL 6040、EBECRYL RDX63182(均為DAICEL-ALLNEX公司製造)、EA-1010、EA-1020、EA-5323、EA-5520、EA-CHD、EMA-1020(均為新中村化學工業公司製造)、EPOXYESTER M-600A、EPOXYESTER 40EM、EPOXYESTER 70PA、EPOXYESTER 200PA、EPOXYESTER 80MFA、EPOXYESTER 3002M、EPOXYESTER 3002A、EPOXYESTER 1600A、EPOXYESTER 3000M、EPOXYESTER 3000A、EPOXYESTER 200EA、EPOXYESTER 400EA(均為共榮社化學公司製造)、 DENACOL ACRYLATE DA-141、DENACOL ACRYLATE DA-314、DENACOL ACRYLATE DA-911(均為長瀨化成公司製造)等。
作為上述環氧(甲基)丙烯酸酯以外之其他(甲基)丙烯酸樹脂，例如可列舉：藉由使具有羥基之化合物與(甲基)丙烯酸反應而獲得之(甲基)丙烯酸酯化合物、藉由使具有羥基之(甲基)丙烯酸衍生物與異氰酸酯化合物反應而獲得之(甲基)丙烯酸胺酯等。
作為上述藉由使具有羥基之化合物與(甲基)丙烯酸反應而獲得之(甲基)丙烯酸酯化合物中單官能者，例如可列舉：(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸丙酯、(甲基)丙烯酸正丁酯、(甲基)丙烯酸異丁酯、(甲基)丙烯酸第三丁酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯、(甲基)丙烯酸正辛酯、(甲基)丙烯酸異辛酯、(甲基)丙烯酸異壬酯、(甲基)丙烯酸異癸酯、(甲基)丙烯酸月桂酯、(甲基)丙烯酸異肉豆蔻酯、(甲基)丙烯酸硬脂酯、(甲基)丙烯酸2-羥基乙酯、(甲基)丙烯酸2-羥基丙酯、(甲基)丙烯酸2-羥基丁酯、(甲基)丙烯酸4-羥基丁酯、(甲基)丙烯酸環己酯、(甲基)丙烯酸異莰酯、(甲基)丙烯酸雙環戊烯酯、(甲基)丙烯酸苄酯、(甲基)丙烯酸2-甲氧基乙酯、(甲基)丙烯酸2-乙氧基乙酯、(甲基)丙烯酸2-丁氧基乙酯、(甲基)丙烯酸2-苯氧基乙酯、甲氧基乙二醇(甲基)丙烯酸酯、甲氧基聚乙二醇(甲基)丙烯酸酯、苯氧基二乙二醇(甲基)丙烯酸酯、苯氧基聚乙二醇(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸四氫糠酯、乙基卡必醇(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸2,2,2-三氟乙酯、(甲基)丙烯酸2,2,3,3-四氟丙酯、(甲基)丙烯酸1H,1H,5H-八氟戊酯、醯亞胺(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸二甲胺基乙酯、(甲基)丙烯酸二乙胺基乙酯、琥珀酸2-(甲基)丙烯醯氧基乙酯、六氫鄰苯二甲酸 2-(甲基)丙烯醯氧基乙酯、鄰苯二甲酸2-(甲基)丙烯醯氧基乙基2-羥基丙酯、磷酸2-(甲基)丙烯醯氧基乙酯、(甲基)丙烯酸縮水甘油酯等。
作為上述(甲基)丙烯酸酯化合物中2官能者，例如可列舉：1,3-丁二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,4-丁二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,9-壬二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,10-癸二醇二(甲基)丙烯酸酯、乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、二乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、四乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、聚乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、2-正丁基-2-乙基-1,3-丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、二丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、三丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、聚丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、環氧乙烷加成雙酚A二(甲基)丙烯酸酯、環氧丙烷加成雙酚A二(甲基)丙烯酸酯、環氧乙烷加成雙酚F二(甲基)丙烯酸酯、二羥甲基二環戊二烯二(甲基)丙烯酸酯、環氧乙烷改質異三聚氰酸二(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸2-羥基-3-(甲基)丙烯醯氧基丙酯、碳酸酯二醇二(甲基)丙烯酸酯、聚醚二醇二(甲基)丙烯酸酯、聚酯二醇二(甲基)丙烯酸酯、聚己內酯二醇二(甲基)丙烯酸酯、聚丁二烯二醇二(甲基)丙烯酸酯等。
作為上述(甲基)丙烯酸酯化合物中3官能以上者，例如可列舉：三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、環氧乙烷加成三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、環氧丙烷加成三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、己內酯改質三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、環氧乙烷加成異三聚氰酸三(甲基)丙烯酸酯、甘油三(甲基)丙烯酸酯、環氧丙烷加成甘油三(甲基)丙烯酸酯、新戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、磷酸三(甲基)丙烯醯氧基乙酯、二-三羥甲基丙烷四(甲基)丙烯酸酯、新戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二新戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、二 新戊四醇六(甲基)丙烯酸酯等。
上述(甲基)丙烯酸胺酯例如可藉由於觸媒量之錫系化合物存在下，使具有羥基之(甲基)丙烯酸衍生物2當量與具有2個異氰酸酯基之異氰酸酯化合物1當量反應而獲得。
作為成為上述(甲基)丙烯酸胺酯之原料的異氰酸酯化合物，例如可列舉：異佛酮二異氰酸酯、2,4-甲苯二異氰酸酯、2,6-甲苯二異氰酸酯、六亞甲基二異氰酸酯、三甲基六亞甲基二異氰酸酯、二苯基甲烷-4,4'-二異氰酸酯(MDI)、氫化MDI、聚合MDI、1,5-萘二異氰酸酯、降莰烷二異氰酸酯、聯甲苯胺二異氰酸酯、苯二甲基二異氰酸酯(XDI)、氫化XDI、離胺酸二異氰酸酯(lysine diisocyanate)、三苯甲烷三異氰酸酯、硫代磷酸三(異氰酸酯基苯酯)、四甲基苯二甲基二異氰酸酯、1,6,11-十一烷三異氰酸酯等。
又，作為上述異氰酸酯化合物，例如亦可使用藉由乙二醇、丙二醇、甘油、山梨醇、三羥甲基丙烷、碳酸酯二醇、聚醚二醇、聚酯二醇、聚己內酯二醇等多元醇與過剩之異氰酸酯化合物之反應而獲得的經鏈延長之異氰酸酯化合物。
作為成為上述(甲基)丙烯酸胺酯之原料的具有羥基之(甲基)丙烯酸衍生物，例如可列舉：(甲基)丙烯酸2-羥基乙酯、(甲基)丙烯酸2-羥基丙酯、(甲基)丙烯酸4-羥基丁酯、(甲基)丙烯酸2-羥基丁酯等(甲基)丙烯酸羥烷基酯，乙二醇、丙二醇、1,3-丙二醇、1,3-丁二醇、1,4-丁二醇、聚乙二醇等二元醇之單(甲基)丙烯酸酯，或者三羥甲基乙烷、三羥甲基丙烷、甘油等三元醇之單(甲基)丙烯酸酯或二(甲基)丙烯酸酯、雙酚A型 環氧丙烯酸酯等環氧(甲基)丙烯酸酯等。
作為上述(甲基)丙烯酸胺酯中市售者，例如可列舉：M-1100、M-1200、M-1210、M-1600(均為東亞合成公司製造)、EBECRYL 230、EBECRYL 270、EBECRYL 4858、EBECRYL 8402、EBECRYL 8804、EBECRYL 8803、EBECRYL 8807、EBECRYL 9260、EBECRYL 1290、EBECRYL 5129、EBECRYL 4842、EBECRYL 210、EBECRYL 4827、EBECRYL 6700、EBECRYL 220、EBECRYL 2220(均為DAICEL-ALLNEX公司製造)、Artresin UN-9000H、Artresin UN-9000A、Artresin UN-7100、Artresin UN-1255、Artresin UN-330、Artresin UN-3320HB、Artresin UN-1200TPK、Artresin SH-500B(均為根上工業公司製造)、U-122P、U-108A、U-340P、U-4HA、U-6HA、U-324A、U-15HA、UA-5201P、UA-W2A、U-1084A、U-6LPA、U-2HA、U-2PHA、UA-4100、UA-7100、UA-4200、UA-4400、UA-340P、U-3HA、UA-7200、U-2061BA、U-10H、U-122A、U-340A、U-108、U-6H、UA-4000(均為新中村化學工業公司製造)、AH-600、AT-600、UA-306H、AI-600、UA-101T、UA-101I、UA-306T、UA-306I(均為共榮社化學公司製造)等。
就抑制對液晶之不良影響方面而言，上述(甲基)丙烯酸樹脂較佳為具有-OH基、-NH-基、-NH2基等氫鍵結性之單元。又，就反應性高低而言，上述(甲基)丙烯酸系樹脂較佳為於分子中具有2~3個(甲基)丙烯醯基。
上述硬化性樹脂亦可為了使所獲得之液晶滴下法用密封劑之接著性提高而含有環氧樹脂。
作為上述環氧樹脂，例如可列舉成為用以合成上述環氧(甲基)丙烯酸酯之原料之環氧樹脂、或部分(甲基)丙烯酸改質環氧樹脂等。
再者，於本說明書中，上述部分(甲基)丙烯酸改質環氧樹脂意指於1分子中具有環氧基及(甲基)丙烯醯基各1個以上之樹脂，例如可藉由使具有2個以上環氧基之樹脂之一部分環氧基與(甲基)丙烯酸反應而獲得。
上述部分(甲基)丙烯酸改質環氧樹脂中，作為市售者，例如可列舉KRM 8287(DAICEL-ALLNEX公司製造)等。
於含有上述環氧樹脂作為上述硬化性樹脂之情形時，上述硬化性樹脂整體中環氧基相對於(甲基)丙烯醯基與環氧基之合計量之比率的較佳上限為50莫耳%。若上述環氧基之比率超過50莫耳%，則存在所獲得之液晶滴下法用密封劑對於液晶之溶解性變高引起液晶污染，而所獲得之液晶顯示元件成為顯示性能不佳者。上述環氧基之比率之更佳上限為20莫耳%。
本發明之液晶滴下法用密封劑含有自由基聚合起始劑及/或熱硬化劑。
再者，於本說明書中，上述「含有自由基聚合起始劑及/或熱硬化劑」意指含有自由基聚合起始劑或熱硬化劑、或者含有自由基聚合起始劑及熱硬化劑。
作為上述自由基聚合起始劑，可列舉光自由基聚合起始劑、熱自由基聚合起始劑等。
作為上述光自由基聚合起始劑，例如可較佳地使用二苯甲酮系化合物、苯乙酮系化合物、醯基氧化膦系化合物、二茂鈦系化合物、肟酯系化合物、 安息香醚系化合物、9-氧硫(thioxanthone)等。
又，作為上述光自由基聚合起始劑中市售者，例如可列舉Irgacure 184、Irgacure 369、Irgacure 379、Irgacure 651、Irgacure 819、Irgacure 907、Irgacure 2959、Irgacure OXE01、Lucirin TPO(均為BASF公司製造)、安息香甲醚、安息香乙醚、安息香異丙醚(均為東京化成工業公司製造)等。其中，就吸收波長區域較廣而言，較佳為Irgacure 651、Irgacure 907、安息香異丙醚、及Lucirin TPO。該等光自由基聚合起始劑可單獨使用，亦可併用2種以上。
作為上述熱自由基聚合起始劑，例如可列舉由偶氮化合物、有機過氧化物等構成者。其中，較佳為由高分子偶氮化合物構成之高分子偶氮起始劑。
再者，於本說明書中，高分子偶氮起始劑意指具有偶氮基且產生可藉由熱而使(甲基)丙烯醯氧基硬化之自由基的數量平均分子量為300以上之化合物。
又，上述高分子偶氮起始劑通常藉由光照射亦會分解而產生自由基，故而亦可作為上述光自由基聚合起始劑發揮功能。
上述高分子偶氮起始劑之數量平均分子量之較佳下限為1000，較佳上限為30萬。若上述高分子偶氮起始劑之數量平均分子量未達1000，則存在高分子偶氮起始劑對液晶產生不良影響之情況。若上述高分子偶氮起始劑之數量平均分子量超過30萬，則存在與硬化性樹脂之混合變得困難之情況。上述高分子偶氮起始劑之數量平均分子量之更佳下限為5000，更佳上限為10萬，進而較佳之下限為1萬，進而較佳之上限為9萬。
作為上述高分子偶氮起始劑，例如可列舉具有多個聚環氧烷 或聚二甲基矽氧烷等單元經由偶氮基而鍵結之構造者。
作為具有多個聚環氧烷等單元經由上述偶氮基而鍵結之構造的高分子偶氮起始劑，較佳為具有聚環氧乙烷構造者。作為此種高分子偶氮起始劑，例如可列舉4,4'-偶氮雙(4-氰基戊酸)與聚伸烷基二醇之縮聚物、或4,4'-偶氮雙(4-氰基戊酸)與具有末端胺基之聚二甲基矽氧烷之縮聚物等，具體而言，例如可列舉VPE-0201、VPE-0401、VPE-0601、VPS-0501、VPS-1001(均為和光純藥工業公司製造)等。
又，作為高分子偶氮起始劑以外之偶氮起始劑之例，例如可列舉V-65、V-501、V-601(均為和光純藥工業公司製造)等。
作為上述有機過氧化物，例如可列舉過氧化酮、過氧縮酮、過氧化氫、過氧化二烷基、過氧酯、過氧化二醯基、過氧化二碳酸酯等。
上述自由基聚合起始劑之含量相對於上述硬化性樹脂100重量份，較佳之下限為0.1重量份，較佳之上限為30重量份。若上述自由基聚合起始劑之含量未達0.1重量份，則存在所獲得之液晶滴下法用密封劑之聚合不充分進行之情況。若上述自由基聚合起始劑之含量超過30重量份，則存在未反應之自由基聚合起始劑殘留較多而所獲得之液晶滴下法用密封劑之耐候性變差之情況。上述自由基聚合起始劑之含量之更佳下限為1重量份，更佳上限為10重量份，進而較佳之上限為5重量份。
作為上述熱硬化劑，例如可列舉有機醯肼、咪唑衍生物、胺化合物、多酚系化合物、酸酐等。其中，較佳使用固形之有機醯肼。
作為上述固形之有機醯肼，例如可列舉1,3-雙(肼基羰乙基)-5-異丙基乙內醯脲(1,3-bis(hydrazinocarboethyl)-5-isopropylhydantoin)、癸 二酸二醯肼、間苯二甲酸二醯肼、己二酸二醯肼、丙二酸二醯肼等，作為市售者，例如可列舉Amicure VDH、Amicure UDH(均為Ajinomoto Fine-Techno.Co.Inc.製造)、SDH、IDH、ADH(均為大塚化學公司製造)、MDH(日本FINECHEM公司製造)等。
本發明之液晶滴下法用密封劑較佳為含有矽烷偶合劑。上述矽烷偶合劑主要具有作為用以將密封劑與基板等良好地接著之接著助劑之作用。
作為上述矽烷偶合劑，就使與基板等之接著性提高之效果優異且可藉由與硬化性樹脂化學鍵結而抑制硬化性樹脂流出至液晶中之情況而言，例如較佳使用3-胺基丙基三甲氧基矽烷、3-巰丙基三甲氧基矽烷、3-縮水甘油氧基丙基三甲氧基矽烷、3-異氰酸酯基丙基三甲氧基矽烷等。該等矽烷偶合劑可單獨使用，亦可併用2種以上。
本發明之液晶滴下法用密封劑亦可含有遮光劑。藉由含有上述遮光劑，本發明之液晶滴下法用密封劑可較佳地用作遮光密封劑。
作為上述遮光劑，例如可列舉氧化鐵、鈦黑、苯胺黑、花青黑(cyanine black)、富勒烯、碳黑、樹脂被覆型碳黑等。其中，較佳為鈦黑。
上述鈦黑係對紫外線區域附近、尤其是波長370~450nm光之透光率高於對波長300~800nm光之平均透光率的物質。即，上述鈦黑係藉由充分遮蔽可見光區域之波長之光而對本發明之液晶滴下法用密封劑賦予遮光性，另一方面具有使紫外線區域附近之波長之光透過之性質的遮光劑。因此，藉由使用「可利用上述鈦黑之透光率變高之波長(370~450nm)」之光而開始反應者作為上述光自由基聚合起始劑，可使本發明之液晶滴下 法用密封劑之光硬化性更加增大。又，另一方面，作為本發明之液晶滴下法用密封劑所含有之遮光劑，較佳為絕緣性較高之物質，作為絕緣性較高之遮光劑，亦較佳為鈦黑。
上述遮光劑之每1μm之光學濃度(OD值)較佳為3以上，更佳為4以上。上述遮光劑之遮光性越高越佳，上述遮光劑之OD值並不特別具有較佳之上限，通常為5以下。
上述鈦黑即便為未經表面處理者亦發揮充分之效果，但亦可使用表面經偶合劑等有機成分處理者、或由氧化矽、氧化鈦、氧化鍺、氧化鋁、氧化鋯、氧化鎂等無機成分被覆者等經表面處理之鈦黑。其中，經有機成分處理者於更加提高絕緣性方面較佳。
又，使用含有上述鈦黑作為遮光劑之本發明之液晶滴下法用密封劑而製造的液晶顯示元件具有充分之遮光性，故而可實現無光之漏出且具有較高之對比度並且具有優異之圖像顯示品質的液晶顯示元件。
作為上述鈦黑中市售者，例如可列舉12S、13M、13M-C、13R-N(均為Mitsubishi Materials公司製造)、Tilack D(赤穗化成公司製造)等。
上述鈦黑之比表面積之較佳下限為13m2/g，較佳上限為30m2/g，更佳之下限為15m2/g，更佳之上限為25m2/g。
又，上述鈦黑之體積電阻之較佳下限為0.5Ω‧cm，較佳上限為3Ω‧cm，更佳之下限為1Ω‧cm，更佳之上限為2.5Ω‧cm。
上述遮光劑之一次粒徑只要為液晶顯示元件之基板間之距離以下則無特別限定，但較佳之下限為1nm，較佳之上限為5μm。若上述 遮光劑之一次粒徑未達1nm，則存在所獲得之液晶滴下法用密封劑之黏度或觸變性(thixotropy)大幅增大而作業性變差之情況。若上述遮光劑之一次粒徑超過5μm，則存在所獲得之液晶滴下法用密封劑對基板之塗佈性變差之情況。上述遮光劑之一次粒徑之更佳下限為5nm，更佳上限為200nm，進而較佳之下限為10nm，進而較佳之上限為100nm。
上述遮光劑之含量相對於本發明之液晶滴下法用密封劑整體，較佳之下限為5重量%，較佳之上限為80重量%。若上述遮光劑之含量未達5重量%，則存在無法獲得充分之遮光性之情況。若上述遮光劑之含量超過80重量%，則存在所獲得之液晶滴下法用密封劑對於基板之接著性或硬化後之強度降低，或者描繪性降低之情況。上述遮光劑之含量之更佳之下限為10重量%，更佳之上限為70重量%，進而較佳之下限為30重量%，進而較佳之上限為60重量%。
本發明之液晶滴下法用密封劑進而視需要亦可含有用以調整黏度之反應性稀釋劑、用以調整面板間隙之聚合物顆粒等間隔劑、3-對氯苯基-1,1-二甲基脲、異三聚氰酸羧酸等硬化促進劑、消泡劑、調平劑、聚合抑制劑、彈性體粒子、丙烯酸粒子、核殼粒子等有機微粒子、其他偶合劑等添加劑。
作為製造本發明之液晶滴下法用密封劑之方法，例如可列舉使用勻相分散機、均質攪拌機、萬能攪拌機、行星式攪拌機、捏合機、三輥研磨機等混合機，將硬化性樹脂、自由基聚合起始劑及/或熱硬化劑、雲母、及視需要添加之矽烷偶合劑等添加劑混合之方法等。
藉由於本發明之液晶滴下法用密封劑中摻合導電性微粒 子，可製造上下導通材料。又，此種含有本發明之液晶滴下法用密封劑與導電性微粒子之上下導通材料亦為本發明之一。
作為上述導電性微粒子，例如可使用金屬球、於樹脂微粒子之表面形成有導電金屬層者等。其中，於樹脂微粒子之表面形成有導電金屬層者藉由樹脂微粒子之優異彈性可不損及透明基板等而進行導電連接，故而較佳。
又，含有本發明之液晶滴下法用密封劑或本發明之上下導通材料之液晶顯示元件亦為本發明之一。
作為製造本發明之液晶顯示元件之方法，例如可列舉具有如下步驟之方法：於ITO薄膜等附電極之玻璃基板或聚對苯二甲酸乙二酯基板等2片透明基板之一者，將本發明之液晶滴下法用密封劑等利用網版印刷、滴塗器塗佈等而形成長方形狀之密封圖案；於本發明之液晶滴下法用密封劑等為未硬化之狀態下，將液晶之微滴滴下塗佈於透明基板之框內整個面，並立即與另一基板重合；對密封圖案部分照射紫外線等光而使密封劑臨時硬化；及對經臨時硬化之密封劑加熱而使之正式硬化。
根據本發明，可提供一種塗佈性、接著性、及硬化物之防透濕性優異且即便於高溫高濕環境下液晶污染性亦較低之液晶滴下法用密封劑。又，根據本發明，可提供一種使用該液晶滴下法用密封劑製造之上下導通材料及液晶顯示元件。
以下，舉出實施例對本發明進行進一步詳細說明，但本發明並不僅限於該等實施例。
(合成雲母A之製造)
將平均粒徑1.5μm之薄片狀滑石80重量份與矽氟化鉀20重量份混合並放入至磁性坩堝，利用電爐以900℃加熱1小時，而獲得合成雲母A。利用掃描型電子顯微鏡(日立高新技術公司製造、「S-4300」)觀察所獲得之合成雲母A，測定平均粒徑及縱橫比，結果發現合成雲母A之平均粒徑為1.5μm，合成雲母A中之縱橫比為2以上者之比率為97重量%。
(合成雲母A之表面處理)
將由上述「(合成雲母A之製造)」獲得之合成雲母A與乙醇放入至具有攪拌機之2L反應容器中，並將該反應容器設置於恆溫槽，一面攪拌混合液一面加溫至25℃。繼而，於攪拌該混合液之狀態下，花費45分鐘連續添加3-縮水甘油氧基丙基三乙氧基矽烷(信越化學工業公司製造、「KBM-403」)作為表面處理劑後，升溫至50℃，並攪拌一晚。然後，進行過濾，並於130℃乾燥一晚，藉此獲得環氧表面處理合成雲母A。
對所獲得之環氧表面處理合成雲母A，以與未處理之合成雲母A同樣之方式，測得之平均粒徑為1.5μm，環氧表面處理合成雲母A中之縱橫比為2以上者之比率為97重量%。
(合成雲母B之製造)
將平均粒徑0.7μm之薄片狀滑石80重量份與矽氟化鉀20重量份混合並放入至磁性坩堝，利用電爐以900℃加熱1小時，而獲得合成雲母B。對所獲得之合成雲母B，以與未處理之合成雲母A同樣之方式，測得之平均粒徑為0.7μm，合成雲母B中之縱橫比為2以上者之比率為97重量%。
(合成雲母B之表面處理)
將由上述「(合成雲母B之製造)」獲得之合成雲母B與乙醇放入至具有攪拌機之2L反應容器中，並將該反應容器設置於恆溫槽，一面攪拌混合液一面加溫至25℃。繼而，於攪拌該混合液之狀態下，花費45分鐘連續添加3-甲基丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷(信越化學工業公司製造、「KBM-503」)作為表面處理劑後，升溫至50℃，並攪拌一晚。其後，進行過濾，並於130℃乾燥一晚，而獲得甲基丙烯酸表面處理合成雲母B。
對所獲得之甲基丙烯酸系表面處理合成雲母B，以與未處理之合成雲母A同樣之方式，測得之甲基丙烯酸表面處理合成雲母B之平均粒徑為0.7μm，甲基丙烯酸表面處理合成雲母B中之縱橫比為2以上者之比率為97重量%。
(合成雲母C之製造)
將平均粒徑1.0μm之薄片狀滑石80重量份與矽氟化鉀20重量份混合並放入至磁性坩堝，利用電爐以900℃加熱1小時，而獲得合成雲母C。對所獲得之合成雲母C，以與未處理之合成雲母A同樣，測得之平均粒徑為1.0μm，合成雲母C中之縱橫比為2以上者之比率為87.5重量%。
(實施例1~17、比較例1~3)
根據記載於表1~3之摻合比，將各材料使用行星式攪拌機(Thinky公 司製造「去泡攪拌太郎」)混合後，進而使用三輥研磨機進行混合，藉此製備實施例1~17、比較例1~3之液晶滴下法用密封劑。
<評價>
對實施例及比較例中獲得之密封劑進行以下之評價。將結果示於表1~3。
(塗佈性)
對使用滴塗器(Musashi Engineering公司製造、「SHOTMASTER300」)將於實施例及比較例中獲得之各密封劑塗佈於玻璃基板上時之塗佈性進行評價。於將滴塗噴嘴固定為400μm、將噴嘴間隙固定為30μm、將塗出壓固定為300kPa而塗佈時，將無模糊而可塗佈之情形評價為「○」，將產生模糊之情形評價為「△」，將完全無法塗佈之情形評價為「×」。
(接著性)
於實施例及比較例中獲得之各密封劑中，摻合1重量%之二氧化矽間隔劑(積水化學工業公司製造、「SI-H055」)，將微滴滴至2片附ITO膜之鹼玻璃試驗片(30×40mm)中之一者，將另一玻璃試驗片呈十字狀地貼合於此，並使密封劑硬化(對於實施例1~8、13~17、及比較例1~3中獲得之各密封劑，藉由於利用金屬鹵素燈照射3000mJ/cm2之紫外線後以120℃加熱60分鐘而進行硬化，對於實施例9中獲得之密封劑，藉由利用金屬鹵素燈照射3000mJ/cm2之紫外線而進行硬化，對於實施例10~12中獲得之各密封劑，藉由以120℃加熱60分鐘而進行硬化)，藉此獲得接著試驗片。藉由上下配置之夾盤對其進行拉伸試驗(5mm/sec)。將所獲得之測定值(kgf)除以密封塗佈截面面積(cm2)所得之值為60kgf/cm2以上之情形評價為 「○」，將30kgf/cm2以上且未達60kgf/cm2之情形評價為「△」，將未達30kgf/cm2之情形評價為「×」。
(防透濕性)
於利用塗佈機將於實施例及比較例中獲得之各密封劑塗佈為平滑之脫模膜狀且厚度200~300μm後，使密封劑硬化(對於實施例1~8、13~17、及比較例1~3中獲得之各密封劑，藉由於利用金屬鹵素燈照射3000mJ/cm2之紫外線後以120℃加熱60分鐘而進行硬化，對於實施例9中獲得之密封劑，藉由利用金屬鹵素燈照射3000mJ/cm2之紫外線而進行硬化，對於實施例10~12中獲得之各密封劑，藉由以120℃加熱60分鐘而進行硬化)，藉此獲得透濕度測定用硬化膜。藉由依據JIS Z 0208之防濕包裝材料之透濕度試驗方法(杯式法)之方法製作透濕度試驗用杯，安裝所獲得之透濕度測定用硬化膜，並投入至溫度80℃濕度90%RH之恆溫恆濕烘箱而測定透濕度。將所獲得之透濕度之值未達50g/m2‧24hr之情形記作「○」，將50g/m2‧24hr以上且未達70g/m2‧24hr之情形記作「△」，將70g/m2‧24hr以上之情形記作「×」，而評價防透濕性。
(於高溫高濕下保管後驅動之液晶顯示元件之色不均評價)
將於實施例及比較例中獲得之各密封劑填充於滴塗用之注射器(Musashi Engineering公司製造、「PSY-10E」)，並進行脫泡處理。繼而，使用滴塗器(Musashi Engineering公司製造、「SHOTMASTER 300」)，以於附ITO薄膜之透明電極基板描繪長方形之框之方式塗佈密封劑。繼而，利用液晶滴下裝置而滴下塗佈TN液晶(Chisso公司製造、「JC-5001LA」)之微滴，利用真空貼合裝置於5Pa之減壓下貼合另一透明基板。使貼合後之單元中 之密封劑硬化(對於實施例1~8、13~17、及比較例1~3中獲得之各密封劑，藉由於利用金屬鹵素燈照射3000mJ/cm2之紫外線後以120℃加熱60分鐘而進行硬化，對於實施例9中獲得之密封劑，藉由利用金屬鹵素燈照射3000mJ/cm2之紫外線而進行硬化，對於實施例10~12中獲得之各密封劑，藉由以120℃加熱60分鐘而進行硬化)，而按各密封劑製作各5片液晶顯示元件。於將所獲得之液晶顯示元件於溫度80℃、濕度90%RH之環境下保管36小時後，進行AC3.5V之電壓驅動，並藉由目視觀察中間狀態之密封劑周邊。將於密封劑部周邊完全未觀察到色不均之情形評價為「○」，將能觀察到少許淡色之色不均之情形評價為「△」，將存在明顯較濃之色不均之情形評價為「×」。
[產業上之可利用性]
根據本發明，可提供一種塗佈性、接著性、及硬化物之防透濕性優異且即便於高溫高濕環境下液晶污染性亦較低之液晶滴下法用密封劑。又，根據本發明，可提供一種使用該液晶滴下法用密封劑製造之上下導通材料及液晶顯示元件。

Claims (8)

  1. 一種液晶滴下法用密封劑，其含有硬化性樹脂、自由基聚合起始劑及/或熱硬化劑、以及雲母。
  2. 如申請專利範圍第1項之液晶滴下法用密封劑，其中，雲母為合成雲母。
  3. 如申請專利範圍第1或2項之液晶滴下法用密封劑，其中，雲母為經表面處理劑進行過表面處理者。
  4. 如申請專利範圍第3項之液晶滴下法用密封劑，其中，表面處理劑為矽烷偶合劑。
  5. 如申請專利範圍第1、2、3或4項之液晶滴下法用密封劑，其中，雲母含有85重量%以上之縱橫比為2以上者。
  6. 如申請專利範圍第1、2、3、4或5項之液晶滴下法用密封劑，其含有遮光劑。
  7. 一種上下導通材料，其特徵在於：其含有申請專利範圍第1、2、3、4、5或6項之液晶滴下法用密封劑及導電性微粒子。
  8. 一種液晶顯示元件，其含有申請專利範圍第1、2、3、4、5或6項之液晶滴下法用密封劑或者申請專利範圍第7項之上下導通材料。
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