TW201623472A - 防污性物品 - Google Patents

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Abstract

本發明提供一種新穎的防污性物品，其包含具有更高之酸及鹼耐性的表面處理層。 該防污性物係包含：基材、類鑽碳層、及在該類鑽碳層上以含有含全氟聚醚基之化合物的表面處理劑形成之防污性塗布層。

Description

防污性物品
本發明係有關於防污性物品，更詳細言之，係含有：基材、類鑽碳層、及含有含氟化合物的表面處理劑形成之防污性塗布層的防污性物品。
目前已知一些種類的含氟化合物，在使用於基材之表面處理時，可提供優良的撥水性、撥油性、防污性等。以含有含氟化合物的表面處理劑所得之層(以下亦稱為「表面處理層」)，即所謂之機能性薄膜，可應用在例如玻璃、塑膠、纖維、建材等多種多樣的基材上。
作為該類含氟化合物已知有分子主鏈上含全氟聚醚基，在分子末端或末端部分含有鍵結在Si原子的可水解之基的含全氟聚醚基之矽烷化合物(參考專利文獻1至2)。在以含有該含全氟聚醚基之矽烷化合物的表面處理劑使用在基材時，藉由鍵結在Si原子之可水解之基在基材的Si-OH基之間及化合物之間反應，形成-Si-O-Si-鍵，即可形成表面處理層。
[先前技術文獻] [專利文獻]
[專利文獻1]日本特表2008-534696號公報
[專利文獻2]國際公開第97/07155號
然而，本發明人等發現，如上述的表面處理層，由於係以-Si-O-Si-鍵鍵結於基材，在酸或鹼環境下，特別是在鹼環境下，會有該鍵因水解而切斷，可能降低耐久性之問題。該問題在易暴露在酸及鹼環境下之物品，例如在使用於會附著人類汗水的物品(例如：觸控面板等)時會使問題更為顯著。
因此，本發明之目的在於提供一種具有更高之酸及鹼耐性的表面處理層之新穎的防污性物品。
本發明人等經過刻意檢討之結果，發現在基材上形成類鑽碳層，再於上面經由含特定基之含氟化合物形成表面處理層時，可形成具有高酸及鹼耐性的表面處理層，而完成本發明。
本發明之主要構想即在於提供一種防污性物品，係包含：基材、類鑽碳層、及在該類鑽碳層上以含有含全氟聚醚基或含全氟烷基的化合物而成之表面處理劑形成之防污性塗布層。
較佳者係提供一種防污性物品，係含有：基材、類鑽碳層、及在該類鑽碳層上以含有下述式(A1)、 (A2)、(B1)及(B2)之任一者所示之1種或1種以上的含氟化合物而成之表面處理劑形成的防污性塗布層； (Rf-PFPE)α’-X3-(Y-A)α．．．(A1)
(A-Y)α-X3-PFPE-X3-(Y-A)α．．．(A2)
(R91-RF’)β’-X6-(Y-A)β．．．(B1)
(A-Y)β-X6-Rf’-X6-(Y-A)β．．．(B2)[式中：A在各式中各自獨立表示：-OH、-SH、-COOH、-COSH、-CONH2、-P(O)(OH)2、-OP(O)(OH)2、-NR1 2、 R1各自獨立表示：氫原子或低級烷基；X1表示：O或S；M1及M2各自獨立表示：氫原子或鹼金屬；Y在各式中各自獨立表示：單鍵或2價之有機基；Rf各自獨立表示：可經1個或1個以上之氟原子取代的碳數1至16之烷基；PFPE各自獨立表示：-(OC4F8)a-(OC3F6)b-(OC2F4)c-(OCF2)d-，其中，a、b、c及d 各自獨立為0以上200以下的整數，且a、b、c及d之和至少為1，附有下標a、b、c或d之括號內的各重複單元之存在順序在式中為任意；X3各自獨立表示：單鍵或2至10價之有機基；α各自獨立為1至9的整數；α'各自獨立為1至9的整數；X6各自獨立表示：單鍵或2至10價之有機基；β各自獨立為1至9的整數；β'各自獨立為1至9的整數；R91表示：氟原子、-CHF2或-CF3；Rf'表示：碳數1至20之全氟伸烷基。]。
依據本發明，可提供一種防污性物品，其在基材上具有酸及鹼耐性高之防污性塗布層。
[發明之實施形態]
以下，對本發明之防污性物品加以說明。
本發明之防污性物品係包含：基材、類鑽碳層、及防污性塗布層而成。
可使用於本發明之基材並無特別之限定，可以例如：無機材料(例如：玻璃、藍寶石玻璃)、樹脂(天然或合成樹脂，例如：一般之塑膠材料，具體係如聚丙烯 酸樹脂、聚碳酸酯樹脂等)、金屬(鋁、銅、鐵等之金屬單體或合金等之’複合物)、陶瓷、半導體(矽、鍺等)、纖維(紡織物、不織布等)、毛皮、皮革、木材、陶瓷器、石材等、建築構成材料等，任意之適當材料構成。
基材，以：玻璃或藍寶石玻璃較佳。玻璃以：鈉鈣玻璃、鹼性鋁矽酸鹽玻璃、硼矽酸玻璃、無鹼玻璃、水晶玻璃、石英玻璃為佳，特別以化學強化鈉鈣玻璃、化學強化鹼性鋁矽酸鹽玻璃、及化學鍵結型硼矽酸玻璃更佳。
基材之形狀並無特別之限定。同時，應形成防污性塗布層的基材表面之範圍，只要至少為基材表面之部分即可，可對應應製造的物品之用途及具體之規格等而適當決定。
基材之表面(最外層)上，可再形成其它層(或者膜)，例如可形成硬化膜層及抗反射層等。抗反射層係可使用任意之單層抗反射層及多層抗反射層。可作為抗反射層使用的無機物之例，可列舉如：SiO2、SiO、ZrO2、TiO2、TiO、Ti2O3、Ti2O5、Al2O3、Ta2O5、CeO2、MgO、Y2O3、SnO2、MgF2、WO3等。此類無機物，可單獨，或者以其2種以上組合(例如作為混合物)使用。在為多層抗反射層時，其最外層以使用SiO2及/或SiO較佳。在應製造之物品，為觸控面板用之光學構件時，可在基材(例如：玻璃或藍寶石玻璃)之部分表面上具有透明電極，例如使用氧化銦錫(ITO)或氧化銦鋅等的薄膜。而且，基材可視其具體之規 格等，含有：絕緣層、黏著層、保護層、裝飾框架層(I-CON)、霧化膜層、硬化膜層、偏光膜、相位差膜、及液晶顯示模組等。
上述類鑽碳層係配置在基材上。類鑽碳層可直接形成在基材上，或者，亦可隔著上述之其它層，例如硬化膜層或抗反射層等而形成。
本發明中之類鑽碳係指具有混有鑽石鍵結(以碳之間的sp3混成軌域鍵結)及藍寶石鍵結(以碳之間的sp2混成軌域鍵結)雙方鍵結之非晶形構造之碳。而且，類鑽碳亦可含碳以外之原子，例如：氫、氧、矽、氮、鋁、硼、磷等。
類鑽碳層的厚度並無特別之限定，可為如1nm至100μm，而以1nm至1000nm為佳，1nm至100nm更佳。
形成類鑽碳層可依例如：化學蒸鍍(CVD)法，例如：熱CVD法、電漿CVD法等，或者物理蒸鍍(PVD)法，例如：真空蒸鍍法、濺鍍法等形成。
類鑽碳層具有與下述表面處理劑中所含之含氟化合物鍵結的能力，而且，亦可增加物品之硬度、耐磨損性等。
上述防污性塗布層係使用含氟化合物，例如含有含全氟聚醚基或全氟烷基之化合物的表面處理劑而形成在類鑽碳層上。
上述含氟化合物係下述式(A1)、(A2)、(B1) 及(B2)之任一者：(Rf-PFPE)α’-X3-(Y-A)α．．．(A1)
(A-Y)α-X3-PFPE-X3-(Y-A)α．．．(A2)
(R91-Rf’)β’-X6-(Y-A)β．．．(B1)
(A-Y)β-X6-Rf’-X6-(Y-A)β．．．(B2)所示之1種或1種以上的化合物。以下，再對上述式(A1)、(A2)、(B1)及(B2)加以說明。
再者，於本說明書中使用時，「2至10價之有機基」，意指含碳之2至10價之基。其中之2至10價之有機基並無特別之限定，可列舉如使由烴基再脫去1至9個氫原子的2至10價之基。例如，2價之有機基，並無特別之限定，可列舉如由烴基再脫去1個氫原子的2價之基。
再者，於本說明書中使用時，「烴基」，意指含碳及氫之基。該烴基並無特別之限定，可經1個或1個以上之取代基取代的碳數1至20的烴基，可列舉如：脂肪族烴基、芳香族烴基等。上述「脂肪族烴基」，可為直鏈狀、支鏈狀或環狀之任一者，亦可為飽和或不飽和之任一者。而且，烴基可含1個或1個以上的環構造。其中，該烴基可在其末端或分子鏈中含有1個或1個以上的：N、O、S、Si、醯胺基、磺醯基、矽氧烷、羰基、羰氧基等。
於本說明書中使用時，「烴基」的取代基並無特別之限定，可列舉如：鹵素原子；選自可經1個或1 個以上之鹵素原子取代的C1-6烷基、C2-6烯基、C2-6炔基、C3-10環烷基、C3-10不飽和環烷基、5至10員之雜環基、5至10員之不飽和雜環基、C6-10芳基、5至10員之雜芳基之基。
式(A1)及(A2)：(Rf-PFPE)α’-X3-(Y-A)α．．．(A1)
(A-Y)α-X3-PFPE-X3-(Y-A)α．．．(A2)
上述式中，A在各式中各自獨立表示：-OH、-SH、-COOH、-COSH、-CONH2、-P(O)(OH)2、-OP(O)(OH)2、-NR1 2、、、 ，而以-SH、-P(O)(OH)2、-OP(O)(OH)2、-NR1 2、或 為佳。
上述R1各自獨立表示：氫原子或低級烷 基。低級烷基，以碳數1至20的烷基為佳，碳數1至6的烷基更佳，碳數1至3的烷基又更佳。
上述X1各自獨立表示：O或S。
M1及M2各自獨立表示：氫原子或鹼金屬。鹼金屬係以例如：Li、Na或K等為佳。
Y在各式中各自獨立表示：單鍵或2價之有機基。Y，以單鍵、或烴基(以可經取代之C1-6烷基為佳)較佳。
上述式中，Rf表示：可經1個或1個以上之氟原子取代的碳數1至16之烷基。
上述可經1個或1個以上之氟原子取代的碳數1至16之烷基中的「碳數1至16之烷基」，可為直鏈，亦可為支鏈，而以直鏈或支鏈之碳數1至6、特別是碳數1至3的烷基為佳，以直鏈之碳數1至3的烷基更佳。
上述之Rf以可經1個或1個以上之氟原子取代的碳數1至16之烷基為佳，以CF2H-C1-15氟伸烷基更佳，碳數1至16之全氟烷基又更佳。
該碳數1至16之全氟烷基可為直鏈，亦可為支鏈，而以直鏈或支鏈之碳數1至6、特別是碳數1至3的全氟烷基為佳，以直鏈之碳數1至3的全氟烷基更佳，具體上可為-CF3、-CF2CF3、或-CF2CF2CF3。
上述式中，PFPE表示-(OC4F8)a-(OC3F6)b-(OC2F4)c-(OCF2)d-，對應於全氟(聚)醚基。其中a、b、c及d，只要各自獨立為0或1以上的整數，且 a、b、c及d之和至少為1即可，並無特別之限定。a、b、c及d，以各自獨立為0以上200以下的整數為佳，例如1以上200以下的整數，而以各自獨立為0以上100以下的整數更佳，例如1以上100以下的整數。而且a、b、c及d之和為10以上，以20以上、200以下為佳，以100以下更佳。同時，附有下標a、b、c或d之括號內的各重複單元之存在順序在式中為任意。此類重複單元中，-(OC4F8)-可為-(OCF2CF2CF2CF2)-、-(OCF(CF3)CF2CF2)-、-(OCF2CF(CF3)CF2)-、-(OCF2CF2CF(CF3))-、-(OC(CF3)2CF2)-、-(OCF2C(CF3)2)-、-(OCF(CF3)CF(CF3))-、-(OCF(C2F5)CF2)-及-(OCF2CF(C2F5))-之任一者，而以-(OCF2CF2CF2CF2)-較佳。-(OC3F6)-，可為-(OCF2CF2CF2)-、-(OCF(CF3)CF2)-及-(OCF2CF(CF3))-之任一者，而以-(OCF2CF2CF2)-較佳。同時，-(OC2F4)-可為-(OCF2CF2)-及-(OCF(CF3))-之任一者，而以-(OCF2CF2)-較佳。
本發明之一態樣中，PFPE係-(OC3F6)b-(式中，b為1以上200以下之整數，而以10以上100以下之整數為佳)，以-(OCF2CF2CF2)b-(式中，b與上述同義)較佳。
本發明之另一態樣中，PFPE係-(OC4F8)a-(OC3F6)b-(OC2F4)c-(OCF2)d-(式中，a及b各自獨立為0以上或1以上30以下之整數，以0以上10以下的整數為佳；c及d各自獨立為1以上200以下之整數，以10以上100以下的整數為佳。且a、b、c及d之和為10以上，以20以上為佳，為200以下，而以100以下為佳。附有下 標a、b、c或d之括號內的各重複單元之存在順序在式中為任意)，而以-(OCF2CF2CF2CF2)a-(OCF2CF2CF2)b-(OCF2CF2)c-(OCF2)d-(式中，a、b、c及d與上述同義)為佳。例如，PFPE，可為-(OCF2CF2)c-(OCF2)d-(式中，c及d與上述同義)。
本發明之另外之態樣中，PFPE係-(OC2F4-R3)i-(式中，R3在各式中各自獨立為選自：OC2F4、OC3F6及OC4F8之基，或者，為獨立地選自此類基的2或3個基之組合；i為2至100的整數，以2至50的整數為佳。)。
上述R3中，獨立地選自：OC2F4、OC3F6及OC4F8的2或3個基之組合，並無特別之限定，可例舉如：-OC2F4OC3F6-、-OC2F4OC4F8-、-OC3F6OC2F4-、-OC3F6OC3F6-、-OC3F6OC4F8-、-OC4F8OC4F8-、-OC4F8OC3F6-、-OC4F8OC2F4-、-OC2F4OC2F4OC3F6-、-OC2F4OC2F4OC4F8-、-OC2F4OC3F6OC2F4-、-OC2F4OC3F6OC3F6-、-OC2F4OC4F8OC2F4-、-OC3F6OC2F4OC2F4-、-OC3F6OC2F4OC3F6-、-OC3F6OC3F6OC2F4-、及-OC4F8OC2F4OC2F4-等。上述式中，OC2F4、OC3F6及OC4F8，可為直鏈或支鏈之任一者，而以直鏈為佳。在該態樣中，PFPE以-(OC2F4-OC3F6)i-或-(OC2F4-OC4F8)i-為佳。
上述之PFPE基的平均分子量並無特別之限定，為500至30,000，而以1,500至30,000為佳，2,000至10,000更佳。再者，本發明中「平均分子量」係指數量平均分子量，「平均分子量」係以19F-NMR所測定之值。
上述式(A1)及(A2)中，X3各自獨立表示：單鍵或2至10價之有機基。該X3，在式(A1)及(A2)所示之化 合物中，已知係連結主要提供撥水性及表面平滑性等的全氟聚醚部分(Rf-PFPE部分或-PFPE-部分)與具有與類鑽碳層鍵結的能力之基(具體上為A基或含A基之基)的連結部分。因此，該X3只要為可使式(A1)及(A2)所示之化合物安定地存在者，可為任意之有機基。
上述式中之α為1至9的整數，α'為1至9的整數。該等α及α'，係依照X3之價數而決定，式(A1)中，α與α'的和係X3的價數之值。例如，在X3為10價的有機基時，α與α'的和為10，例如α為9且α'為1，α為5且α'為5，或α為1且α'為9。而且，在X3為2價之有機基時，α及α'為1。式(A2)中，α為X3之價數的值再減1之值。
上述X3以2至7價之有機基為佳，2至4價更佳，2價又更佳。
上述X3之例並無特別之限定，可列舉如下述式所示之2價基：-(R31)p'(Xa)q'-R32-[式中：R31表示：單鍵、-(CH2)s'-或鄰-、間-或對-伸苯基，而以-(CH2)s'-為佳；R32表示：單鍵、-(CH2)t'-或鄰-、間-或對-伸苯基，而以-(CH2)t'-為佳；s'為1至20的整數，而以1至6的整數為佳，1至3的整數更佳，1或2又更佳； t'為1至20的整數，而以1至6的整數為佳，1至3的整數更佳；Xa表示：-(Xb)r'；Xb在各式中各自獨立，表示選自：-O-、-S-、鄰-、間-或對-伸苯基、-NR34-及-(CH2)n'-所成群組之基；R34在各式中各自獨立表示：氫原子、苯基或C1-6烷基(以甲基較佳)；n'在各式中各自獨立表示：1至20的整數，而以1至6的整數為佳，1至3的整數更佳；r'表示：1至10的整數，而以1至5的整數為佳，1至3的整數更佳；p'為0或1；q'為0或1。]。
上述X3以C1-20伸烷基、或-R31-Xc-R32-[式中，R31及R32與上述同義。]較佳。
上述X3以C1-20伸烷基、-(CH2)s'-Xc-、或-(CH2)s'-Xc-(CH2)t'-[式中，s'及t'與上述同義。]更佳。
上述式中，Xc表示：-O-。
上述X3又以C1-20伸烷基、或-(CH2)s'-Xc-(CH2)t'- [式中，各記號與上述同義。]又更佳。
上述X3再又以C1-20伸烷基、或-(CH2)s'-O-(CH2)t'-[式中，各記號，與上述同義。]再更佳。
上述X3基可經選自：氟原子、C1-3烷基及C1-3氟烷基(以C1-3全氟烷基較佳)的1個或1個以上之取代基取代。
上述X3之具體例，可列舉如：-CH2OCH2-、-CH2O(CH2)2-、-CH2O(CH2)3-、-CH2O(CH2)6-、-CH2OCF2CHFOCF2-、-CH2OCF2CHFOCF2CF2-、-CH2OCF2CHFOCF2CF2CF2-、-CH2OCH2CF2CF2OCF2-、-CH2OCH2CF2CF2OCF2CF2-、-CH2OCH2CF2CF2OCF2CF2CF2-、-CH2OCH2CF2CF2OCF(CF3)CF2OCF2-、-CH2OCH2CF2CF2OCF(CF3)CF2OCF2CF2-、-CH2OCH2CF2CF2OCF(CF3)CF2OCF2CF2CF2-、-CH2OCH2CHFCF2OCF2-、 -CH2OCH2CHFCF2OCF2CF2-、-CH2OCH2CHFCF2OCF2CF2CF2-、-CH2OCH2CHFCF2OCF(CF3)CF2OCF2-、-CH2OCH2CHFCF2OCF(CF3)CF2OCF2CF2-、-CH2OCH2CHFCF2OCF(CF3)CF2OCF2CF2CF2-、-CH2-、-(CH2)2-、-(CH2)3-、-(CH2)4-、及-(CH2)6-等。
上述式(A1)及(A2)所示之化合物的數量平均分子量，並無特別之限定，例如可為1,000至40,000，而以2,000至32,000為佳，2,000至20,000更佳，2,500至12,000又更佳。
上述式(A1)及式(A2)所示之化合物，例如可將對應Rf-PFPE-部分之全氟聚醚衍生物作為原料，在末端導入羥基後，對對應-Y-A部分之基，施以例如與末端含鹵烷基之化合物的Williamson反應等而獲得。
再者，Y-A部分可先合成前驅物基之化合物，再將該前驅物基以該範圍一般已知之方法轉換為Y-A基，進行製造。
式(B1)及(B2)： (R91-Rf’)β’-X6-(Y-A)β．．．(B1)
(A-Y)β-X6-Rf’-X6-(Y-A)β．．．(B2)
上述式(B1)及(B2)中，Y及A與上述式(A1)及(A2)相關之記載同義。
上述式中，X6各自獨立表示：單鍵或2至10價之有機基。該X6，在式(B1)及(B2)所示之化合物中，已知係連結主要提供撥水性的氟烷基部分(R91-Rf'-或-Rf'-部分)與具有與基材鍵結能力之基(具體上為A基或含A基之基)的鍵結部分。因此，該X6，只要為可使式(B1)及(B2)所示之化合物安定地存在者，可為任意之有機基。
上述式中之β為1至9的整數，而β'為1至9的整數。該β及β'，係依照X6之價數而決定，式(B1)中，β與β'的和，係X6的價數之值。例如，在X3為10價的有機基時，β與β'的和為10，例如β可為9且β'為1，β為5且β'為5，或β為1且β'為9。而且，在X6為2價之有機基時，β及β'為1。式(B2)中，β為X6之價數的值再減1之值。
上述之X6以2至7價之有機基為佳，2至4價更佳，2價又更佳。
上述X6之例並無特別之限定，可列舉如與X3之相關記載相同者。
上述式中，R91表示：氟原子、-CHF2或-CF3、而以氟原子或-CF3較佳。
Rf'表示：碳數1至20之全氟伸烷基。Rf'以碳數1至12為佳，1至6更佳，3至6又更佳。具體的Rf'之例可列舉如：-CF2-、-CF2CF2-、-CF2CF2CF2-、-CF(CF3)-、-CF2CF2CF2CF2-、-CF2CF(CF3)-、-C(CF3)2-、-(CF2)4CF2-、-(CF2)2CF(CF3)-、-CF2C(CF3)2-、-CF(CF3)CF2CF2CF2-、-(CF2)5CF2-、-(CF2)3CF(CF3)-、-(CF2)4CF(CF3)-、-C8F16-，其中，以直鏈之碳數3至6的全氟伸烷基為佳，例如-CF2CF2CF2CF2-、-CF2CF2CF2-等較佳。
上述式(B1)及(B2)所示之化合物，例如可將對應R91-Rf'-部分之氟烷基衍生物作為原料，在末端導入羥基後，對對應-Y-A部分之基，施以例如與末端含鹵烷基之化合物的Williamson反應等而獲得。
再者，Y-A部分可先合成前驅物基之化合物，再將該前驅物基以該範圍一般已知之方法轉換為Y-A基進行製造。
本發明之較佳態樣中，含氟化合物係式(A1)及式(A2)之任一者所示的1種或1種以上之化合物。含氟化合物以式(A1)所示之1種或1種以上之化合物為佳。
本發明之另一較佳態樣中，含氟化合物係式(B1)及式(B2)之任一者所示的1種或1種以上之化合物。含氟化合物又以式(B1)所示之1種或1種以上之化合物更佳。
形成防污性塗布層所使用之表面處理劑亦可以溶劑加以稀釋。該類溶劑並無特別之限定，可選自如： 全氟己烷、CF3CF2CHCl2、CF3CH2CF2CH3、CF3CHFCHFC2F5、1,1,1,2,2,3,3,4,4,5,5,6,6-十三氟辛烷、1,1,1,2,2,3,3,4-七氟環戊烷(ZEORORA H(商品名)等)、C4F9OCH3、C4F9OC2H5、CF3CH2OCF2CHF2、C6F13CH=CH2、六氟二甲苯、全氟苯、甲基-十五氟庚基酮、三氟乙醇、五氟丙醇、六氟異丙醇、HCF2CF2CH2OH、三氟甲烷磺酸甲酯、三氟乙酸及CF3O(CF2CF2O)m(CF2O)nCF2CF3[式中，m及n各自獨立為0以上1000以下之整數，附有下標m或n之括號內的各重複單元之存在順序在式中為任意，惟m及n之和為1以上。]、1,1-二氯-2,3,3,3-四氟-1-丙烯、1,2-二氯-1,3,3,3-四氟-1-丙烯、1,2-二氯-3,3,3-三氟-1-丙烯、1,1-二氯-3,3,3-三氟-1-丙烯、1,1,2-三氯-3,3,3-三氟-1-丙烯、1,1,1,4,4,4-六氟-2-丁烯所成群組中的溶劑。此類溶劑，可單獨，或者以其2種以上之混合物使用。
形成防污性塗布層所使用的表面處理劑，除了含氟化合物之外，可再含其它之成分。該其它成分並無特別之限定，可例舉如：已知應為作為含氟油(非反應性的)之氟化聚醚化合物，而以全氟(聚)醚化合物(以下，稱為「含氟油」)、已知應為聚矽氧油(非反應性的)聚矽氧化合物(以下，稱為「聚矽氧油」)、催化劑等。
上述含氟油並無特別之限定，可例舉如下述之通式(3)所示之化合物(全氟(聚)醚化合物)。
Rf1-(OC4F8)a'-(OC3F6)b'-(OC2F4)c'-(OCF2)d'-Rf2．．．(3)
式中，Rf1表示：可經1個或1個以上之氟原子取代的 C1-16之烷基(以C1-16之全氟烷基較佳)；Rf2表示：可經1個或1個以上之氟原子取代的C1-16之烷基(以C1-16之全氟烷基較佳)、氟原子或氫原子；Rf1及Rf2，以各自獨立之C1-3之全氟烷基更佳。
a'、b'、c'及d'，各表示構成聚合物之主骨架的全氟(聚)醚之4種重複單元的數目，為互為獨立之0以上300以下的整數，a'、b'、c'及d'的和至少為1，而以1至300為佳，20至300更佳。附有下標a'、b'、c'或d'之括號內的各重複單元之存在順序在式中為任意。此類重複單元中，-(OC4F8)-，可為-(OCF2CF2CF2CF2)-、-(OCF(CF3)CF2CF2)-、-(OCF2CF(CF3)CF2)-、-(OCF2CF2CF(CF3))-、-(OC(CF3)2CF2)-、-(OCF2C(CF3)2)-、-(OCF(CF3)CF(CF3))-、-(OCF(C2F5)CF2)-及-(OCF2CF(C2F5))-之任一者，而以-(OCF2CF2CF2CF2)-較佳。-(OC3F6)-，可為-(OCF2CF2CF2)-、-(OCF(CF3)CF2)-及-(OCF2CF(CF3))-之任一者，而以-(OCF2CF2CF2)-較佳。同時，-(OC2F4)-，可為-(OCF2CF2)-及-(OCF(CF3))-之任一者，而以-(OCF2CF2)-較佳。
上述通式(3)所示之全氟(聚)醚化合物之例，可列舉如下述通式(3a)及(3b)之任一者所示之化合物(可為1種或2種以上之混合物)。
Rf1-(OCF2CF2CF2)b"-Rf2．．．(3a)
Rf1-(OCF2CF2CF2CF2)a"-(OCF2CF2CF2)b"-(OCF2CF2)c"-(OCF2)d"-Rf2．．．(3b)
該式中，Rf1及Rf2係如上述；式(3a)中，b"為1以上 100以下的整數；式(3b)中，a"及b"各自獨立為1以上30以下的整數，c"及d"各自獨立為1以上300以下的整數。附有下標a"、b"、c"、d"之括號內的各重複單元之存在順序在式中為任意。
上述含氟油之平均分子量可為1,000至30,000。如此，可有更高之表面平滑性。
上述表面處理劑中，含氟油，相對於上述含氟化合物之合計100質量份(各為，在2種以上時為其合計，以下亦同)，例如為0至500質量份，而以0至400質量份為佳，5至300質量份更佳。
通式(3a)所示之化合物及通式(3b)所示之化合物，可各單獨使用，亦可組合而使用。相較於通式(3a)所示之化合物，使用通式(3b)所示之化合物，可獲得更高之表面平滑性而佳。在以其組合使用時，通式(3a)所示之化合物與通式(3b)所示之化合物的質量比，以1：1至1：30為佳，1：1至1：10更佳。以該質量比，可獲得表面平滑性及摩擦耐久性平衡良好之防污性塗布層。
本發明之一態樣中，含氟油，包含通式(3b)所示之1種或1種以上之化合物。在該態樣中，表面處理劑中含氟化合物之合計與式(3b)所示之化合物的質量比，以4：1至1：4為佳。
本發明之較佳態樣中，在以真空蒸鍍法形成防污性塗布層時，含氟化合物的平均分子量亦可較含氟油的平均分子量為大。在該平均分子量時，可獲得更佳之 摩擦耐久性及表面平滑性。
同時，由其它之觀點言之，含氟油亦可為通式Rf3-F(式中，Rf3為C5-16全氟烷基。)所示之化合物。而且，亦可為三氟氯乙烯寡聚物。Rf3-F所示之化合物及三氟氯乙烯寡聚物，在可與末端為C1-16全氟烷基之上述含氟化合物所示的化合物得到高親和性之點方面較佳。
含氟油有助於提高防污性塗布層的表面平滑性。
上述聚矽氧油可使用如矽氧烷鍵為2,000以下之直鏈狀或環狀之聚矽氧油。直鏈聚矽氧油可為一般所稱之直餾聚矽氧油及改質聚矽氧油。直餾聚矽氧油方面之例，可列舉如：二甲基聚矽氧油、甲基苯基聚矽氧油、甲基氫化聚矽氧油。改質聚矽氧油方面之例，可列舉如直餾聚矽氧油，經由：烷基、芳烷基、聚醚、高級脂肪酸酯、氟化烷基、胺基、環氧基、羧基、醇等改質者。環狀之聚矽氧油之例，可列舉如：二甲基聚矽氧油等。
上述表面處理劑中，該聚矽氧油，相對於含氟化合物之合計100質量份(在2種以上時為其合計，以下亦同)，係包含例如0至300質量份，而以0至200質量份為佳。
聚矽氧油有助於提高防污性塗布層的表面平滑性。
上述之催化劑方面之例，可列舉如：過渡金屬(例如：Ti、Ni、Sn等)等。
催化劑係促進含氟化合物與類鑽碳層的反應，因而促進防污性塗布層形的成。
上述表面處理劑可用以浸潤多孔物質，例如多孔質之陶瓷材料、金屬纖維，例如鋼絲硬化成棉狀者，形成粒狀。該顆粒，可使用於例如真空蒸鍍。
將上述表面處理劑使用在基材上的類鑽碳層之表面，再視其須要加以後處理，即可形成防污性塗布層。表面處理劑的使用方法並無特別之限定。可使用如：濕潤被覆法及乾燥被覆法。
濕潤被覆法方面之例，可列舉如：浸漬塗布、旋轉塗布、淋塗、噴塗、輥塗、凹版塗布及類似之方法。
乾燥被覆法方面之例，可列舉如：蒸鍍(一般為真空蒸鍍)、濺塗、CVD及類似之方法。蒸鍍法(一般為真空蒸鍍法)之具體例可列舉如：電阻加熱、電子束、使用微波等之高頻加熱、離子束及類似之方法。CVD法之具體例可列舉如：電漿CVD、光學CVD、熱CVD及類似之方法。
此外，亦可以常壓電漿法被覆。
在使用濕潤被覆法時，表面處理劑可在以溶劑稀釋後再使用於基材表面。由表面處理劑的安定性及溶劑之揮發性的觀點而言，又以使用以下的溶劑較佳：C5-12之全氟脂肪族烴(例如：全氟己烷、全氟甲基環己烷及全氟-1,3-二甲基環己烷)；聚氟芳香族烴(例如：二(三氟甲基) 苯)；聚氟脂肪族烴(例如：C6F13CH2CH3(例如：旭玻璃(股)製造之ASAHIKLIN(註冊商標)AC-6000)、1,1,2,2,3,3,4-七氟環戊烷(例如：日本Zeon(股)製造之ZEORORA(註冊商標)H)；氫氟碳化物(HFC)(例如：1,1,1,3,3-五氟丁烷(HFC-365mfc))；氫氯氟碳化物(例如：HCFC-225(ASAHIKLIN(註冊商標)AK225))；氫氟醚(HFE)(例如：全氟丙基甲基醚(C3F7OCH3)(例如：住友3M(股)製造之Novec(商標名)7000)、全氟丁基甲基醚(C4F9OCH3)(例如：住友3M(股)製造之Novec(商標名)7100)、全氟丁基乙基醚(C4F9OC2H5)(例如：住友3M(股)製造之Novec(商標名)7200)、全氟己基甲基醚(C2F5CF(OCH3)C3H7)(例如：住友3M(股)製造之Novec(商標名)7300)等之烷基全氟烷基醚(全氟烷基及烷基可為直鏈或分支狀)、或CF3CH2OCF2CHF2(例如：旭玻璃(股)製造之ASAHIKLIN(註冊商標)AE-3000))、1,2-二氯-1,3,3,3-四氟-1-丙烷(例如：Du Pont-三井氟化學公司製造之Vertrel(註冊商標)Sion)等。此類溶劑，可單獨，或者，以其2種以上組合為混合物使用。此外，為了調整例如含有全氟(聚)醚基之矽烷化合物(i)及含有全氟(聚)醚基之醯胺矽烷化合物(ii)(有時，並存在胺化合物(iii))的溶解性等，亦可再與其它溶劑混合。
在使用乾燥被覆法時，表面處理劑可直接施行乾燥被覆法，或者，在以上述溶劑稀釋之後再施行乾燥被覆法。例如，可將表面處理劑直接進行蒸鍍(一般為真空蒸鍍)處理，亦可在鐵或銅等之金屬多孔體或陶瓷多孔 體，使用含浸表面處理劑的粒狀物質進行蒸鍍(一般為真空蒸鍍)處理。
上述後處理可列舉如：加熱處理。加熱處理的溫度並無特別之限定，可為如60至250℃，而以100℃至180℃為佳。加熱處理的時間並無特別之限定，可為例如30分鐘至5小時，而以1至3小時為佳。
防污性塗布層的厚度並無特別之限定。在為光學構件之情形時，防污性塗布層的厚度可為1至50nm之範圍，而以在1至30nm之範圍為佳，1至15nm之範圍更佳，在光學性能、表面平滑性、摩擦耐久性及抗污性之點上較佳。
如上述操作，即在類鑽碳層的表面上使用表面處理劑而形成防污性塗布層(表面處理層)，製造本發明之防污性物品。
本發明之防污性物品中，類鑽碳層與形成防污性塗布層的含氟化合物之鍵結，係由類鑽碳層具有sp2混成軌域之部分與含氟化合物之A基反應所形成。因此，可不以易受水解之-Si-O-Si-鍵，而以其它之鍵，例如：-C-O-鍵、-C-N-鍵、-C-S-鍵等使類鑽碳層與含氟化合物鍵結，因此可獲得耐酸性及耐鹼性佳之防污性塗布層。而且，該防污性塗布層除了高的耐酸性及耐鹼性之外，視所使用之表面處理劑的組成，可獲得撥水性、撥油性、防污性(例如防止指紋等之污垢附著)、表面平滑性(或者潤滑性，例如指紋等污垢之拭除性、及對手指良好之觸感)等，因而適於利 用為機能性薄膜。
本發明之較佳態樣中，本發明之防污性物品可作為光學構件。光學構件之例可列舉如下者：眼鏡等之鏡片；陰極射線管(CRT，例如：TV、個人電腦顯示器)、液晶顯示器、電漿顯示器、有機EL顯示器、無機薄膜EL點矩陣顯示器、背面投影型顯示器、螢光顯示管(VFD)、磁場發射顯示器(FED：Field Emission Display)等顯示器之前保護板、抗反射板、偏光板、防眩板；行動電話、行動通訊裝置等機器之觸控面板；藍光(Blu-ray(註冊商標))顯示器、DVD顯示器、CD-R、MO等光碟之碟面；光纖等。
再者，本發明之防污性物品亦可作為醫療機器或醫療材料。
以上，係對可使用本發明之表面處理劑的物品詳細加以敘述。再者，本發明之表面處理劑的用途、使用方法以及物品之製造方法等，並不限定於上述所例舉者。
[實施例] 實施例1
先在化學強化玻璃(Corning公司製造，「Gorilla」玻璃，厚度0.7mm)上，使用電漿CVD裝置，以原料氣體之甲醇，形成類鑽碳層。接著，再以真空蒸鍍裝置，在類鑽碳層上，以具有下述平均組成之含胺基的全氟聚醚化合物(A)，使每1片化學強化玻璃(55mm×100mm)為0.4mg，以電阻加熱進 行真空蒸鍍。之後，再以乙醇拭除處理表面多餘的防污藥劑，製作成防污性塗布層。
‧含胺基全氟聚醚化合物(A)
CF3CF2CF2O(CF2CF2CF2O)21CF2CF2CH2NH2
實施例2
除了使用具有下述平均組成之含磷酸基之全氟聚醚化合物(B)以取代化合物(A)以外，以與實施例1同樣操作，形成防污性塗布層。
‧含磷酸基之全氟聚醚化合物(B)
CF3CF2CF2O(CF2CF2CF2O)21CF2CF2CH2OP(O)(OH)2
比較例1
在化學強化玻璃(Corning公司製造，「Gorilla」玻璃，厚度0.7mm)上，首先，以電子束蒸鍍方式形成二氧化矽膜，再以具有下述平均組成之含矽烷基之全氟聚醚化合物(C)，使每1片化學強化玻璃(55mm×100mm)為0.4mg，以電阻加熱進行真空蒸鍍。之後，再以乙醇拭除處理表面多餘的防污藥劑，製作成防污性塗布層。
‧含矽烷基之全氟聚醚化合物(C)
CF3CF2CF2O(CF2CF2CF2O)20CF2CF2CH2OCH2CH2CH2Si(OCH3)3
比較例2
在化學強化玻璃(Corning公司製造，「Gorilla」玻璃， 厚度0.7mm)上，首先，以電子束蒸鍍方式形成二氧化矽膜，再以下述胺基丙基三乙氧基矽烷(D)，使每1片化學強化玻璃(55mm×100mm)為0.2mg，以電阻加熱進行真空蒸鍍後，再於其上，以含矽烷基之全氟聚醚化合物(C)，使每1片化學強化玻璃(55mm×100mm)為0.4mg進行蒸鍍。之後，再以乙醇拭除處理表面多餘的防污藥劑，製作成防污性塗布層。
‧胺基丙基三乙氧基矽烷(D)
NH2CH2CH2CH2Si(OC2H5)3
‧人工汗液耐久性評量
在上述實施例1及2以及比較例1及2中，對類鑽碳層上形成之防污性塗布層，評量人工汗液耐久性。具體上係將形成類鑽碳層之基材浸漬於下述所示組成之人工汗液中，再於60℃之加溫條件下，各於48小時、168小時、504小時、840小時時取出，並以蒸餾水、乙醇清洗表面，然後，測定水之靜態接觸角(角度)。在接觸角測定值未達100度之時間點中止評量。結果如表3所示(表中，記號「-」係未測定)。
‧人工汗液之組成
脫水磷酸氫二鈉：2g
氯化鈉：20g
85%乳酸：2g
組胺酸鹽酸鹽：5g
蒸餾水：1kg
由表1之結果可知，可確定實施例1及2的防污性塗布層顯示優良之耐汗性。此應該是由於基材表面之類鑽碳層與含氟化合物之間之鍵結，不易受鹼環境之影響而可維持機能。另一方面，比較例1及2，應該是由於類鑽碳層與含氟化合物(C)之鍵結，係Si-O-Si-鍵結，而在人工汗水之鹼環境下，易受水解所致。
[產業上之可利用性]
因此本發明，可適當地利用在多種多樣之基材，特別是在光學構件的表面形成防污性塗布層。

Claims (18)

  1. 一種防污性物品，其包含：基材、類鑽碳層、及在該類鑽碳層上以含有含全氟聚醚基或全氟烷基之化合物的表面處理劑形成之防污性塗布層。
  2. 如申請專利範圍第1項所述之防污性物品，其中包含：基材、類鑽碳層、及在該類鑽碳層上以含有下述式(A1)、(A2)、(B1)及(B2)之任一者所示之1種或1種以上的含氟化合物之表面處理劑形成之防污性塗布層，(Rf-PFPE)α’-X3-(Y-A)α．．．(A1) (A-Y)α-X3-PFPE-X3-(Y-A)α．．．(A2) (R91-Rf’)β’-X6-(Y-A)β．．．(B1) (A-Y)β-X6-Rf’-X6-(Y-A)β．．．(B2)[式中：A在各式中各自獨立，表示：-OH、-SH、-COOH、-COSH、-CONH2、-P(O)(OH)2、-OP(O)(OH)2、-NR1 2、 R1各自獨立，表示：氫原子或低級烷基；X1表示：O或S； M1及M2各自獨立，表示：氫原子或鹼金屬；Y，在各式中各自獨立，表示：單鍵或2價之有機基；Rf各自獨立，表示：可經1個或1個以上之氟原子取代的碳數1至16之烷基；PFPE各自獨立，表示：-(OC4F8)a-(OC3F6)b-(OC2F4)c-(OCF2)d-，其中，a、b、c及d各自獨立為0以上200以下的整數，且a、b、c及d之和至少為1，附有下標a、b、c或d之括號內的各重複單元之存在順序在式中為任意；X3各自獨立，表示：單鍵或2至10價之有機基；α各自獨立為1至9的整數；α'各自獨立為1至9的整數；X6各自獨立，表示：單鍵或2至10價之有機基；β各自獨立為1至9的整數；β'各自獨立為1至9的整數；R91表示：氟原子、-CHF2或-CF3；Rf'表示：碳數1至20之全氟伸烷基]。
  3. 如申請專利範圍第2項所述之防污性物品，其中A為：-SH、-P(O)(OH)2、-OP(O)(OH)2、-NR1 2或
  4. 如申請專利範圍第2或3項所述之防污性物品，其中Rf為碳數1至16之全氟烷基。
  5. 如申請專利範圍第2至4項中任一項所述之防污性物品，其中PFPE為下述式(a)或(b)：(a)-(OC3F6)b-(式(a)中，b為1以上200以下之整數)；(b)-(OC4F8)a-(OC3F6)b-(OC2F4)c-(OCF2)d-(式(b)中，a及b各自獨立，表示0以上30以下之整數；c及d各自獨立為1以上200以下之整數；且a、b、c或d之和為10以上200以下之整數；附有下標a、b、c及d之括號內的各重複單元之存在順序在式中為任意)。
  6. 如申請專利範圍第2至5項中任一項所述之防污性物品，其中在PFPE中：-(OC4F8)a-為-(OCF2CF2CF2CF2)a-；-(OC3F6)b-為-(OCF2CF2CF2)b-；-(OC2F4)c-為-(OCF2CF2)c-。
  7. 如申請專利範圍第2至6項中任一項所述之防污性物品，其中X3及X6為2價之有機基；α及β為1；α'及β'為1。
  8. 如申請專利範圍第2至7項中任一項所述之防污性物品，其中X3及X6各自獨立，表示：-(R31)p'-(Xa)q'-R32-所示之基，[式中： R31表示：單鍵、-(CH2)s'-(式中，s'為1至20的整數)或鄰-、間-或對-伸苯基；R32表示：單鍵、-(CH2)t'-(式中，t'為1至20的整數)或鄰-、間-或對-伸苯基；Xa表示：-(Xb)r'-(式中，r'為1至10的整數)；Xb在各式中各自獨立，表示選自-O-、-S-、鄰-、間-或對-伸苯基、-NR34-及-(CH2)n'-(式中，n'為1至20的整數)所成群組中之基；R34，在各式中各自獨立，表示：氫原子、苯基或C1-6烷基；p'為0或1；q'為0或1；附有下標p'或q'之括號內的各重複單元之存在順序在式中為任意；R31、R32及Xa可經選自氟原子、C1-3烷基及C1-3氟烷基中的1個或1個以上之取代基取代]。
  9. 如申請專利範圍第2至8項中任一項所述之防污性物品，其中X3及X6各自獨立地選自-CH2OCH2-、-CH2O(CH2)2-、-CH2O(CH2)3-、-CH2O(CH2)6-、-CH2-、-(CH2)2-、-(CH2)3-、-(CH2)4-、及-(CH2)6-所成群組。
  10. 如申請專利範圍第2至9項中任一項所述之防污性物品，其中R91為氟原子或CF3。
  11. 如申請專利範圍第2至10項中任一項所述之防污性物品，其中含氟化合物為式(A1)及(A2)之任一者所示的至 少1種化合物。
  12. 如申請專利範圍第2至10項中任一項所述之防污性物品，其中含氟化合物為式(B1)及(B2)之任一者所示的至少1種化合物。
  13. 如申請專利範圍第1至12項中任一項所述之防污性物品，其中表面處理劑進一步含有選自含氟油、矽氧油、及催化劑中的1種或1種以上之其它成分。
  14. 如申請專利範圍第13項所述之防污性物品，其中含氟油為式(3)所示之1種或1種以上的化合物：Rf1-(OC4F8)a'-(OC3F6)b'-(OC2F4)c'-(OCF2)d'-Rf2．．．(3)[式中：Rf1表示可經1個或1個以上之氟原子取代的碳數1至16之烷基；Rf2表示：可經1個或1個以上之氟原子取代的碳數1至16之烷基、氟原子或氫原子；a'、b'、c'及d'分別表示構成聚合物之主骨架的全氟(聚)醚的4種重複單元數，係互為獨立之0以上300以下的整數，a'、b'、c'及d'的和至少為1，且附有下標a'、b'、c'或d'之括號內的各重複單元之存在順序在式中為任意]。
  15. 如申請專利範圍第13或14項所述之防污性物品，其中含氟油為式(3a)或(3b)所示之1種或1種以上的化合物：Rf1-(OCF2CF2CF2)b"-Rf2．．．(3a)Rf1-(OCF2CF2CF2CF2)a"-(OCF2CF2CF2)b"-(OCF2CF2)c"-( OCF2)d"-Rf2．．．(3b)[式中：Rf1表示可經1個或1個以上之氟原子取代的碳數1至16之烷基；Rf2表示：可經1個或1個以上之氟原子取代的碳數1至16之烷基、氟原子或氫原子；式(3a)中，b"為1以上100以下之整數；式(3b）中，a"及b"各自獨立為0以上30以下之整數，c"及d"各自獨立為1以上300以下之整數；附有下標a"、b"、c"或d"之括號內的各重複單元之存在順序在式中為任意]。
  16. 如申請專利範圍第1至15項中任一項所述之防污性物品，其中基材為玻璃或藍寶石玻璃。
  17. 如申請專利範圍第16項所述之防污性物品，其中玻璃為選自鈉鈣玻璃、含鹼鋁矽酸鹽玻璃、硼矽酸玻璃、無鹼玻璃、水晶玻璃及石英玻璃所成群組中的玻璃。
  18. 如申請專利範圍第1至17項中任一項所述之防污性物品，其係光學構件。
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