TW201620691A - 光學薄膜、整形薄膜、光學薄膜的製造方法及拉伸薄膜的製造方法 - Google Patents

光學薄膜、整形薄膜、光學薄膜的製造方法及拉伸薄膜的製造方法 Download PDF

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Abstract

一種含有添加劑的光學薄膜,具有:上述含有添加劑的高濃度部分,及上述添加劑的濃度較上述高濃度部分低的低濃度部分,在上述光學薄膜的厚度方向的上述高濃度部分的兩側具有上述低濃度部分,在上述光學薄膜的寬度方向的上述高濃度部分的兩側具有上述低濃度部分的光學薄膜。

Description

光學薄膜、整形薄膜、光學薄膜的製造方法及拉伸薄膜的製造方法
本發明係關於光學薄膜、整形薄膜、光學薄膜的製造方法及拉伸薄膜的製造方法。
液晶顯示裝置等的影像顯示裝置,一般設有各種光學薄膜。大多如此的光學薄膜,係以樹脂形成。形成光學薄膜的樹脂,為對光學薄膜賦予依照用途的適宜特性,有調配添加劑之情形(參照專利文獻1及2)。
[先行技術文獻]
[專利文獻]
[專利文獻1]日本特開2004-50405號公報
[專利文獻2]日本特開昭61-283521號公報
樹脂製的光學薄膜,例如,可以熔融擠壓法製造。熔融擠壓法,係將熔融狀態的樹脂,由適當的模具對澆鑄輥輪等的支持體上,薄膜狀擠出。然後,將擠出樹脂以冷卻輥輪等的冷卻裝置冷卻使之硬化,得到光學薄膜。
然而,以熔融擠壓法製造光學薄膜時,由於熔融狀態的樹脂變得高溫,故樹脂中的添加劑有揮發之情形。
揮發的添加劑,有附著於模具的可能性。揮發的添加劑附著於模具的模脣,附著的添加劑在模脣上固化,形成團塊,可能成為形成模具線的原因。此所謂模具線,係指沿著已製造的光學薄膜的長條方向延伸,不規則地產生的線狀凹部及線狀凸部。
又,揮發的添加劑,有附著於支持體、冷卻裝置等的製造設備,而有污染生產線之情形。如此地生產線被污染,則附著於製造設備的添加劑移至光學薄膜的表面,而有汙染光學薄膜表面的可能性。又,附著於製造設備的添加物固化形成團塊,則該團塊的形狀被轉印至光學薄膜,有在光學薄膜形成壓痕的可能性。
本發明係有鑑於上述課題而創案者,其目的在於提供:含有添加劑,且以熔融擠壓法製造時,可抑制上述添加劑的揮發之光學薄膜;可由上述光學薄膜製造的整形薄膜;含有添加劑,且以熔融擠壓法製造時,可抑制上述添加劑的揮發之光學薄膜的製造方法;及,由上述製造方法所製造的光學薄膜製造拉伸薄膜的製造方法。
本發明者為解決上述課題專心研究的結果,發現含有添加劑的光學薄膜,藉由在含有添加劑的高濃度部分的厚度方向及寬度方向的兩側,配置添加劑濃度較高濃度部分低的低濃度部分,可抑制含於高濃度部分的添加劑的揮發而完成本 發明。
即,本發明係如下所述。
[1]一種光學薄膜,其係含有添加劑的光學薄膜,其具有:含有上述添加劑的高濃度部分;及上述添加劑的濃度較上述高濃度部分低的低濃度部分,在上述光學薄膜的厚度方向的上述高濃度部分的兩側,具有上述低濃度部分,在上述光學薄膜的寬度方向的上述高濃度部分的兩側,具有上述低濃度部分。
[2]如[1]所述之光學薄膜,其中上述光學薄膜係以熔融擠壓法製造。
[3]如[1]或[2]所述之光學薄膜,其中上述低濃度部分,在上述光學薄膜的厚度方向的表面及寬度方向的表面露出。
[4]如[1]至[3]之任何一項所述之光學薄膜,其中上述高濃度部分,包含含有上述添加劑的熱塑性樹脂A,上述低濃度部分,含有添加劑的濃度較上述熱塑性樹脂A低的熱塑性樹脂B。
[5]如[1]至[4]之任何一項所述之光學薄膜,其中在上述光學薄膜的厚度方向的上述高濃度部分的表面,被上述低濃度部分覆蓋,在上述光學薄膜的寬度方向的上述高濃度部分的表面,被上述低濃度部分覆蓋。
[6]如[1]至[5]之任何一項所述之光學薄膜,其中上述光 學薄膜係長條的薄膜。
[7]如[1]至[6]之任何一項所述之光學薄膜,其中上述光學薄膜,在上述光學薄膜的寬度方向連續500mm以上的區間具有,上述高濃度部分具有「上述高濃度部分的平均厚度±5μm」的厚度的區域。
[8]如[1]至[7]之任何一項所述之光學薄膜,其中上述添加劑係紫外線吸收劑。
[9]如[1]至[8]之任何一項所述之光學薄膜,其中上述光學薄膜係張布(tenter)拉伸用原料捲薄膜。
[10]一種整形薄膜,其係由[1]至[9]之任何一項所述之光學薄膜,切除上述光學薄膜的寬度方向的端部而得。
[11]一種光學薄膜的製造方法,其包含:由填充含有添加劑的熔融狀態的熱塑性樹脂A之層,及配置於上述熱塑性樹脂A之層的厚度方向的兩側及寬度方向的兩側、且上述添加劑的濃度較上述熱塑性樹脂A低的熔融狀態的熱塑性樹脂B之層的模具,將上述熱塑性樹脂A及上述熱塑性樹脂B薄膜狀擠壓的步驟。
[12]一種拉伸薄膜的製造方法,其具有:將以[11]所述之製造方法所製造的光學薄膜,供於具備夾具的張布(tenter)拉伸機的步驟;藉由上述張布(tenter)拉伸機的上述夾具,夾住上述光學薄膜的寬度方向的兩端部、拉伸,得到拉伸薄膜的步驟;及從所得上述拉伸薄膜切除上述兩端部的步驟。
[13]一種拉伸薄膜的製造方法,其具有: 將以[11]所述之製造方法所製造的光學薄膜的寬度方向的兩端部切除得到整形薄膜的步驟;及將所得整形薄膜供給張布(tenter)拉伸機,拉伸得到拉伸薄膜的步驟。
[14]如[12]或[13]所述之拉伸薄膜的製造方法,其中在於上述拉伸薄膜之上述添加劑的含量,在寬度方向大致一定。
[15]如[12]至[14]之任何一項所述之拉伸薄膜的製造方法,其中在於上述熱塑性樹脂A之上述添加劑的濃度為3重量%以上、10重量%以下。
根據本發明,可提供含有添加劑,且以熔融擠壓法製造時,可抑制上述添加劑的揮發之光學薄膜;可由上述光學薄膜製造的整形薄膜;含有添加劑,且以熔融擠壓法製造時,可抑制上述添加劑的揮發的光學薄膜之製造方法;及,由上述製造方法所製造的光學薄膜製造拉伸薄膜的製造方法
1‧‧‧製造裝置
2‧‧‧第1熔融樹脂供給系
2a‧‧‧料斗
2b‧‧‧擠壓機
2c‧‧‧齒輪幫浦
2d‧‧‧過濾裝置
2e‧‧‧管線
3‧‧‧第2熔融樹脂供給系
3a‧‧‧料斗
3b‧‧‧擠壓機
3c‧‧‧齒輪幫浦
3d‧‧‧過濾裝置
3e‧‧‧管線
4‧‧‧供給區塊
5‧‧‧模具
6a‧‧‧澆鑄輥輪
6b‧‧‧第一冷卻輥輪
6c‧‧‧第二冷卻輥輪
7‧‧‧輸送輥輪
8‧‧‧捲取輥輪
11‧‧‧第1樹脂流路
11a‧‧‧管路
11b‧‧‧寬幅部
11c‧‧‧寬幅部的下游側的出口
12‧‧‧第2樹脂流路
12a‧‧‧管路
12b‧‧‧分岐管路
12c‧‧‧寬幅部
12d‧‧‧寬幅部的下游側的出口
13b‧‧‧分岐管路
13c‧‧‧寬幅部
13d‧‧‧寬幅部的下游側的出口
14‧‧‧檔板
14a‧‧‧檔板的軸部
14b‧‧‧檔板的V字部
14c‧‧‧檔板的第1側面
14d‧‧‧檔板的第2側面
14e‧‧‧檔板的稜線部
14f‧‧‧六角部
15‧‧‧檔板
15a‧‧‧檔板的軸部
15b‧‧‧檔板的V字部
15c‧‧‧檔板的第1側面
15d‧‧‧檔板的第2側面
15e‧‧‧檔板的稜線部
15f‧‧‧六角部
16‧‧‧送出流路
21‧‧‧輔助管路
21a‧‧‧矩形部
22‧‧‧輔助管路
22a‧‧‧矩形部
23‧‧‧定邊器機構
23a‧‧‧定邊器
23b‧‧‧螺栓部
23c‧‧‧螺帽部
23d‧‧‧螺母部
23e‧‧‧空洞部
24‧‧‧定邊器機構
24a‧‧‧定邊器
24b‧‧‧螺栓部
24c‧‧‧螺帽部
24d‧‧‧螺母部
24e‧‧‧空洞部
100‧‧‧光學薄膜
110‧‧‧高濃度部分
110U、110D、110R及110L‧‧‧高濃度部分的表面
111‧‧‧在光學薄膜的厚度方向的高濃度部分的正面側的區域
112‧‧‧在光學薄膜的厚度方向的高濃度部分的背面側的區域
113‧‧‧在光學薄膜的寬度方向的高濃度部分的左側的區域
114‧‧‧在光學薄膜的寬度方向的高濃度部分的右側的區域
115~118‧‧‧光學薄膜在非厚度方向的兩側亦非寬度方向的兩側的區域
120‧‧‧低濃度部分
130‧‧‧光學薄膜之高濃度部分具有高濃度部分的平均厚度±5gm的厚度的區域
200‧‧‧整形薄膜
201及202‧‧‧整形薄膜的寬度方向的端面
第1圖係示意顯示本發明之一實施形態之光學薄膜以平行於其厚度方向及寬度方向的平面裁切之剖面之剖面圖。
第2圖係示意顯示本發明之一實施形態之光學薄膜平行於其厚度方向及寬度方向的平面裁切之剖面之剖面圖。
第3圖係示意顯示本發明之一實施形態之光學薄膜以平行於其厚度方向及寬度方向的平面裁切之剖面之剖面圖。
第4圖係示意顯示本發明之一實施形態之光學薄膜的製造 裝置之概要圖。
第5圖係示意顯示本發明之一實施形態之分配區塊,由側面所視之縱剖面圖。
第6圖係示意顯示本發明之一實施形態之分配區塊,由正面所視之縱剖面圖。
第7圖係示意顯示本發明之一實施形態之分配區塊之平面圖。
第8圖係示意顯示本發明之一實施形態之分配區塊,由底面所視之橫剖面圖。
第9圖係示意顯示應由光學薄膜切除的端部之本發明之光學薄膜之一例之剖面圖。
第10圖係示意顯示本發明之整形薄膜之一例之剖面圖。
以下,顯示實施形態及例示物詳細說明本發明,惟本發明並非限定於以下所示實施形態及例示物,在不脫離本發明的申請範圍及其均等的範圍,可任意變更實施。
在以下的說明,薄膜面內延遲,若無特別提及,係以(nx+ny)×d表示之值。又,薄膜的厚度方向的延遲,若無特別提及,係以{(nx+ny)/2+nz}×d表示之值。在此,nx係表示在與薄膜的厚度方向垂直的方向(面內方向)顯示最大折射率的方向的折射率。ny係表示在薄膜的上述面內方向,與nx的方向垂直的方向的折射率。nz係表示薄膜的厚度方向的折射率。d係表示薄膜的厚度。上述延遲,可使用市售的相位差測定裝置(例如,王子計測機器公司製,「KOBRA-21ADH」, Photonic-latticE公司製,「WPA-micro」)或賽納蒙法測定。又,延遲的測定波長,若無特別提及係550nm。
[1.光學薄膜的構成]
第1圖係關於本發明之一實施形態之光學薄膜100以與其厚度方向及寬度方向平行的平面裁切之剖面示意表示之剖面圖。
如第1圖所示,關於本發明之一實施形態之光學薄膜100係含有添加劑之薄膜,具有高濃度部分110及低濃度部分120。在此,所謂高濃度部分110,係指光學薄膜100的含有添加劑的部分。又,所謂低濃度部分120,係指光學薄膜100的添加劑濃度較高濃度部分110低的部分。
低濃度部分120,可含有濃度較高濃度部分110低的添加劑,亦可不含添加劑。因此,在高濃度部分110,添加劑的濃度相對較高,在低濃度部分120,添加劑的濃度相對較低。
關於本實施形態之光學薄膜100,在光學薄膜100的厚度方向的高濃度部分110的兩側,具有低濃度部分120。在第1圖所示之例,具體而言,光學薄膜100,在光學薄膜100的厚度方向的高濃度部分110的正面側的區域111及背面側的區域112的雙方,具有低濃度部分120。
又,關於本實施形態之光學薄膜100,在光學薄膜100的寬度方向的高濃度部分110的兩側,具有低濃度部分120。第1圖所示之例,具體而言,光學薄膜100,在光學薄膜100的寬度方向的高濃度部分110的左側的區域113及右側的區域114的雙方,具有低濃度部分120。
藉由如此的構成,將添加劑的濃度相對較高的高濃度部分110的全周以添加劑的濃度相對較低的低濃度部分120包覆。因此,含於高濃度部分110的添加劑即使在高溫環境氣化欲滲出至光學薄膜100外部,添加劑會被低濃度部分120妨礙移動。因此,根據關於本實施形態之光學薄膜100,可抑制添加劑揮發而送出至光學薄膜100的外部。因此,可抑制起因於揮發的添加劑,在光學薄膜形成模具線,或弄髒光學薄膜的表面、在光學薄膜形成壓痕。
先前,已知有具備添加劑的濃度相對較高的核層,及於該核層的厚度方向的兩側設置添加劑濃度較核層低的表皮層之複層薄膜。如此的複層薄膜,由於表皮層會阻斷添加劑的移動,故可抑制添加劑通過該主面而揮發。但是,如此的複層薄膜,核層露出於其寬度方向的端部。因此,例如如熔融擠壓時樹脂,在可熔解的程度的高溫環境,核層內的添加劑由複層薄膜的寬度方向的端面揮發,而有送出複層薄膜的外部之情形。但是,關於本實施形態之光學薄膜100,高濃度部分110並沒有露出在光學薄膜100的厚度方向及寬度方向的雙方的表面。因此,可有效地抑制添加劑由高濃度部分110送出,故可抑制添加劑的揮發。
關於本實施形態之光學薄膜100,在並非光學薄膜100的厚度方向兩側,亦非寬度方向的兩側的區域115、116、117及118,只要不顯著的損及本發明的效果,可具有任意部分。通常,光學薄膜100,係於上述區域115、116、117及118,具有低濃度部分120。
第2圖係將關於本發明之一實施形態之光學薄膜100,以與其厚度方向及寬度方向平行的平面裁切之剖面示意表示之剖面圖。
光學薄膜100,亦可於高濃度部分110與低濃度部分120之間,具備任意部分(無圖示)。但是,如第2圖所示,高濃度部分110與低濃度部分120之間不設任意部分,而高濃度部分110與低濃度部分120直接接觸為佳。此時,可將在光學薄膜100的厚度方向的高濃度部分110的表面110D及110U以低濃度部分120覆蓋,又,可將在於光學薄膜100的寬度方向的高濃度部分110的表面110L及110R以低濃度部分120覆蓋。藉此,可抑制添加劑的揮發,可抑制因揮發物質附著而污染光學薄膜100,因揮發物質附著於模具模脣而發生模具線,及因揮發物質附著在澆鑄輥輪而在光學薄膜100形成轉印痕。
光學薄膜100,亦可在低濃度部分120的更外側,具備任意部分(無圖示)。但是,在較光學薄膜100的低濃度部分120的更外側不設任意部分為佳。此時,可使低濃度部分120,露出於光學薄膜100的厚度方向的表面100D及100U以及寬度方向的表面100L及100R。以如此的光學薄膜100,係低濃度部分120與設於生產線的設備接觸,故光學薄膜100與設備接觸時,可有效抑制添加劑對設備的污染。
在高濃度部分110中的添加劑濃度,以高濃度部分110所含的材料全體為100重量%,較佳為3重量%以上,更佳為4重量%以上,特佳為5重量%以上,以10重量%以下為佳,以9重量%以下更佳,以8重量%以下特別佳。藉由使 高濃度部分110的添加劑濃度為上述範圍的下限值以上,可有效地使添加劑發揮所期望的作用。又,在上限值以下,即使低濃度部分120的厚度較薄,亦可穩定的抑制添加劑的揮發,故可使光學薄膜100的厚度變薄。
在高濃度部分110中的添加劑濃度,通常係均一。但是,在高濃度部分110中的添加劑濃度,也可以不必是均一,例如高濃度部分110亦可具有濃度梯度。在高濃度部分110中的添加劑濃度非均一時,在高濃度部分110的添加劑的平均濃度,以落於上述高濃度部分110之添加劑濃度的較佳範圍為佳。
在低濃度部分120中的添加劑濃度,以低濃度部分120所含的材料全體為100重量%,較佳為1重量%以下,更佳為0.5重量%以下,再更佳為0.1重量%以下,以0%特別佳。藉由使在低濃度部分120的添加劑濃度如此的低,可特別有效地抑制添加劑的揮發。
在低濃度部分120中的添加劑濃度,通常係均一。但是,在低濃度部分120的添加劑濃度,也可以不必是均一,例如低濃度部分120亦可具有濃度梯度。在低濃度部分120的添加劑濃度非均一時,在低濃度部分120的添加劑的平均濃度,以落於上述低濃度部分120之添加劑濃度的較佳範圍為佳。
高濃度部分110與低濃度部分120之間的添加劑的濃度差,以3重量%以上為佳,以4重量%以上更佳,以5重量%以上特別佳。藉由使濃度差如此的大,可特別有效地抑制添加劑的揮發。上述濃度差的上限值並無特別限定,以10重量%以下為佳,以8重量%以下更佳。
然而,有因在高濃度部分110與低濃度部分120之間形成濃度梯度,而無法明確地決定高濃度部分110與低濃度部分120之間的境界之情形。即使是如此之情形,將光學薄膜100內的某部分視作高濃度部分110,在光學薄膜100的厚度方向及寬度方向的雙方的兩側可看出低濃度部分120,則該光學薄膜100係包含於本發明之技術範圍。
第3圖係關於本發明之一實施形態之光學薄膜100以與其厚度方向及寬度方向平行的平面裁切之剖面示意表示之剖面圖。
如第3圖所示,高濃度部分110的寬度WC,以500mm以上為佳,以800mm以上更佳,以1000mm以上特別佳。藉由使高濃度部分110的寬度WC為上述範圍的下限值以上,可提高製造效率。高濃度部分110的寬度WC的上限並無特別限制,在工業生產上舉現實的範圍,則以2000mm以下為佳,以1700mm以下更佳,以1500mm以下特別佳。
高濃度部分110的厚度TC,以3μm以上為佳,以5μm以上更佳,以8μm以上特別佳,以100μm以下為佳,以70μm以下更佳,以50μm以下特別佳。藉由使高濃度部分110的厚度TC為上述範圍的下限值以上,可有效地發揮添加劑的作用。又,藉由使之在上限值以下,可使光學薄膜100的厚度變薄。
光學薄膜100,較佳在光學薄膜100的寬度方向連續的區間,具有:高濃度部分110具有「高濃度部分110的平均厚度±5μm」的厚度的區域130。以下,有將該區域130,適 宜稱為「厚度均一區域」之情形。在此,上述連續的區間的寬度,以500mm以上為佳,以1000mm以上更佳,以1300mm以上特別佳。藉由在如此連續的寬的厚度均一區域130,使高濃度部分110的厚度均一,由於在光學薄膜100可使用於作為製品的面積會變大,故可提高製造效率。如此的厚度均一的高濃度部分110,可例如,以後述之使用分配區塊的製造方法實現。
在光學薄膜100的寬度方向,在高濃度部分110的兩側的低濃度部分120的寬度WL及WR,分別以1μm以上為佳,以2μm以上更佳,以3μm以上特別佳,以100mm以下為佳,以80mm以下更佳,以50mm以下特別佳。藉由使低濃度部分120的寬度WL及WR為上述範圍的下限值以上,可特別有效地抑制添加劑的揮發。又,藉由使之在上限值以下,可得高濃度部分110的厚度的誤差少的光學薄膜100。又,由於在光學薄膜100可使用於作為製品的面積會變大,故可提高製造效率。此時,設於光學薄膜100的寬度方向的高濃度部分110的單側的低濃度部分120的寬度WL,及設於其相反側的低濃度部分120的寬度WR,可為相同,亦可不同。
在光學薄膜100的厚度方向,在高濃度部分110的兩側的低濃度部分120的寬度TU及TD,分別以1μm以上為佳,以2μm以上更佳,以3μm以上特別佳,以30μm以下為佳,以20μm以下更佳,以10μm以下特別佳。藉由使低濃度部分120的厚度TU及TD為上述範圍的下限值以上,可特別有效地抑制添加劑的揮發。又,藉由使之在上限值以下,可使光學薄 膜100的厚度變薄。此時,設於光學薄膜100的厚度方向的高濃度部分110的單側的低濃度部分厚度TU,及設於其相反側的低濃度部分120的寬度TD,可為相同,亦可不同。
光學薄膜100的寬度W,以600mm以上為佳,以1100mm以上更佳,以1400mm以上特別佳,以2000mm以下為佳,以1900mm以下更佳,以1800mm以下特別佳。
光學薄膜100的厚度T,以5μm以上為佳,以8μm以上更佳,以10μm以上特別佳,以100μm以下為佳,以80μm以下更佳,以50μm以下特別佳。
光學薄膜100,以長條的薄膜為佳。在此所謂長條,係指對薄膜寬度方向具有5倍以上的長度者,以具有10倍或其以上的長度為佳,具體而言,可以捲繞成捲繞體的形狀,保管或搬運的程度的長度者。藉此,可提高光學薄膜100的製造效率。
上述光學薄膜100,通常,係熱塑性樹脂之薄膜。因此,在於光學薄膜100,高濃度部分110,通常係含有添加劑之熱塑性樹脂A的部分,又,低濃度部分120,通常係含有添加劑的濃度較熱塑性樹脂A低的熱塑性樹脂B的部分。
熱塑性樹脂A,通常含有聚合物及添加劑,可視需要使用含有任意成分的樹脂。
可含於熱塑性樹脂A的聚合物,可舉例如,聚乙烯、聚丙烯等的聚烯烴;聚對苯二甲酸乙二醇酯、聚對苯二甲酸丁二醇酯等的聚酯;聚苯硫醚等的聚芳硫醚;聚乙烯醇;聚碳酸酯;聚芳酯;纖維素酯聚合物;聚醚碸;聚碸;聚芳碸;聚氯乙烯; 環狀烯烴聚合物;棒狀液晶高分子;苯乙烯或苯乙烯衍生物的均聚物、苯乙烯或苯乙烯衍生物、及包含可與這些共聚合的共聚物之聚合物之聚苯乙烯系聚合物;聚丙烯腈、聚甲基丙烯酸甲酯;或者,這些的多元共聚合高分子等。這些,可以1種單獨使用,亦可以任意比例組合2種以上使用。
其中,由機械特性、耐熱性、透明性、低吸濕性、尺寸安定性及輕量性優良,以環狀烯烴聚合物為佳。環狀烯烴聚合物,係該聚合物的結構單元具有脂環結構的聚合物。
環狀烯烴聚合物,可為主鏈具有脂環結構的聚合物,側鏈具有脂環結構的聚合物,主鏈及側鏈具有脂環結構的聚合物,以及,以任意比例將這些混合2種以上者。其中,由機械強度及耐熱性的觀點,以主鏈具有脂環結構的聚合物為佳。
脂環結構之例,可舉飽和脂環烴(環烷)結構、及不飽和脂環烴(環烯、環炔)結構。其中,由機械強度及耐熱性的觀點,以環烷結構及環烯結構為佳,其中以環烷結構特別佳。
構成脂環結構的碳原子數,以一個脂環結構當量,以4個以上為佳,以5個以上特別佳,以30個以下為佳,以20個以下更佳,以15個以下特別佳。藉由使構成脂環結構的碳原子數在該範圍,可使熱塑性樹脂A的機械強度、耐熱性及成形性高度的平衡。
在環狀烯烴聚合物,脂環結構的結構單元的比例,可按照光學薄膜100的使用目的選擇。在環狀烯烴聚合物之脂環結構的結構單元的比例,以55重量%以上為佳,進一步 以70重量%以上更佳,以90重量%以上特別佳。在環狀烯烴聚合物中具有脂環結構的結構單元的比例在此範圍,則熱塑性樹脂A的透明性及耐熱性變佳。
環狀烯烴聚合物之中,以環烯烴聚合物為佳。所謂環烯烴聚合物,係聚合環烯烴單體而得之結構的聚合物。又,環烯烴單體,係具有碳原子形成之環結構,且在該環構道中具有聚合性的碳-碳雙鍵鍵結的化合物。聚合性碳-碳雙鍵鍵結之例,可舉可開環聚合等的可聚合的碳-碳雙鍵鍵結。又,環烯烴單體的環結構的例,可舉單環、多環、縮合多環、架橋環及將這些組合的多環等。其中,在使所得聚合物的介電特性及耐熱性等的特性高度平衡的觀點,以多環環烯烴單體為佳。
上述環烯烴聚合物之中,較佳的可舉,降冰片烯系聚合物、單環的環狀烯烴系聚合物、環狀共軛二烯系聚合物、及這些的氫化物等。這些之中,由於降冰片烯系聚合物,成形性良好而特別合適。
降冰片烯系聚合物之例,可舉具有降冰片烯結構的單體的開環聚合物及其氫化物;具有降冰片烯結構的單體的加成聚合物及其氫化物。又,具有降冰片烯結構的單體的開環聚合物之例,可舉具有1種降冰片烯結構的單體的開環均聚物、具有2種類以上降冰片烯結構的單體的開環聚合物、以及具有降冰片烯結構的單體及可與此共聚合之其他單體的開環共聚合物。再者,降冰片烯結構的單體的加成聚合物之例,可舉具有1種降冰片烯結構的單體的加成均聚物、具有2種類以上降冰片烯結構的單體的加成共聚合物、以及具有降冰片烯結構的單 體及可與此共聚合之其他單體的加成共聚合物。這些之中,具有降冰片烯結構的單體的開環聚合物的氫化物,由成形性、耐熱性、低吸濕性、尺寸安定性、輕量性等的觀點,特別合適。
具有降冰片烯結構的單體之例,可舉雙環[2.2.1]庚-2-烯(慣用名:降冰片烯)、三環[4.3.0.12,5]癸-3,7-二烯(慣用名:二環戊二烯)、7,8-苯並三環[4.3.0.12,5]癸-3-烯(慣用名:甲撐四氫芴)、四環[4.4.0.12,5.17,10]十二碳-3-烯(慣用名:四環十二烯)、及這些化合物的衍生物(例如,環具有取代基者)。在此,取代基之例,可舉烷基、伸烷基、及極性基。又,這些取代基,可以相同或相異的複數個環鍵結。具有降冰片烯結構的單體,可以1種單獨使用,亦可以任意比例組合2種以上使用。
極性基之例,可舉具有雜原子、及具有雜原子之原子團。雜原子之例,可舉氧原子、氮原子、硫原子、矽原子、及鹵素原子。極性基的具體例,可舉羧基、羰氧羰基、環氧基、羥基、氧基、酯基、矽醇基、矽烷基、胺基、醯胺基、醯亞胺基、硝基、及磺酸基。
可與具有降冰片烯結構之單體開環共聚合之單體之例,可舉環己烯、環庚烯、環辛烯等的單環烯烴類及其衍生物;環己二烯、環庚二烯等的環狀共軛二烯及其衍生物。可與具有降冰片烯結構的單體開環共聚合的單體,可單獨使用1種,亦可以任意比例組合2種以上使用。
具有降冰片烯結構之單體之開環聚合物可藉由例如使單體在開環聚合觸媒的存在下聚合或共聚合而製造。
可與具有降冰片烯結構之單體加成共聚合之單體 之例,可舉乙烯、丙烯、1-丁烯等的碳原子2~20之α-烯烴及該等的衍生物;環丁烯、環戊烯、環己烯等的環烯烴及該等的衍生物;以及1,4-己二烯、4-甲基-1,4-己二烯、5-甲基-1,4-己二烯等的非共軛二烯烴。該等之中,以α-烯烴為佳,以乙烯更佳。又,可與具有降冰片烯結構之單體加成共聚合之單體,可單獨使用1種,亦可以任意比例組合2種以上使用。
具有降冰片烯結構之單體之加成聚合物,可藉由例如使單體在加成聚合觸媒的存在下聚合或共聚合而製造。
上述開環聚合物及加成聚合物之氫化物可藉由例如將該等開環聚合物及加成聚合物之溶液,於含有鎳、鈀等的過渡金屬的氫化觸媒的存在下,將碳-碳不飽和鍵結較佳以90%以上氫化而製造。
於降冰片烯系聚合物之中,以具有X:雙環[3.3.0]辛-2,4-二基-乙烯結構、及Y:三環[4.3.0.12,5]癸-7,9-二基-乙烯結構作為結構單元,該等結構單元的量,相對於降冰片烯系聚合物之構造單性全體為90重量%以上,且X的比例與Y的比例之比,以X:Y的重量比為100:0~40:60為佳。藉由使用如此之聚合物,可使含有該降冰片烯系聚合物的烯烴樹脂層成為長期沒有尺寸變化、光學特性的穩定性優良者。
單環的環狀烯烴系聚合物之例,可舉具有環己烯、環庚烯、環辛烯等的單環的環狀烯烴系單體之加成聚合物。
環狀共軛二烯烴系聚合物之例,可舉將1,3-丁二烯,異戊二烯、氯丁二烯等的共軛二烯系單體的加成聚合物進行環化反應而得之聚合物;環戊二烯、環己二烯等的環狀共軛 二烯系單體的1,2-或1,4-加成聚合物;及該等的氫化物。
環狀烯烴聚合物的重量平均分子量(Mw),可按照光學薄膜100的使用目的適宜選定,以10,000以上為佳,以15,000以上更佳,以20,000以上特別佳,以100,000以下為佳,以80,000以下更佳,以50,000以下特別佳。重量平均分子量在如此的範圍時,可使光學薄膜100的機械性強度及成型加工性高度地平衡。在此,上述重量平均分子量,係使用環己烷作為溶劑,以凝膠滲透層析測定之聚異戊二烯或聚苯乙烯換算之重量平均分子量。在上述凝膠滲透層析試料不溶於己烷時亦可使用甲苯。
環狀烯烴聚合物的分子量分佈(重量平均分子量(Mw)/數目平均分子量(Mn)),以1.2以上為佳,以1.5以上更佳,以1.8以上特別佳,以3.5以下為佳,以3.0以下更佳,以2.7以下特別佳。藉由使分子量分佈在上述下限值以上,可提高聚合物的生產性,抑制製造成本。又,在上限值以下,可使低分子成分的量減少,而可抑制高溫暴露時的緩和,提高光學薄膜100的穩定性。
聚合物在於熱塑性樹脂A的比例,以90重量%以上為佳,以91重量%以上更佳,以92重量%以上特別佳,以97重量%以下為佳,以96重量%以下更佳,以95重量%以下特別佳。藉由使聚合物的比例在上述範圍的下限值以上,可使光學薄膜100發揮充分的耐熱性及透明性。又,藉由使之在上限值以下,可發揮添加劑的效果。
添加劑,以可藉由熔融擠壓法製造光學薄膜100 時的溫度揮發的程度的高揮發性者為佳。又,添加劑,在以通常的溫度條件,以不顯示很高揮發性者為佳。在此,所謂揮發性,係指添加劑變成氣體發散的性質,無關於變成氣體之前的添加劑係固體或液體。又,所謂高的揮發性,係指由製造光學薄膜100而使之熔融的熱塑性樹脂揮發而由熱塑性樹脂失去的添加劑量,對添加劑的全調合量100重量%,通常為1重量%以上,以5重量%以上為佳。
添加劑的具體例,紫外線吸收劑、抗氧化劑、可塑劑、老化防止劑等。又,添加劑,可以1種單獨使用,亦可以任意比例組合2種以上使用。其中,添加劑,使用紫外線吸收劑為佳。
紫外線吸收劑,可舉例如,氧砷基二苯甲酮系化合物、苯並三唑系化合物、柳酸酯系化合物、二苯甲酮系紫外線吸收劑、苯並三唑系紫外線吸收劑、丙烯腈系紫外線吸收劑、三嗪系化合物等的有機系紫外線吸收劑。舉合適的紫外線吸收劑的具體例,則可舉2,2’-亞甲基二(4-(1,1,3,3-四甲基丁基)-6-(2H-苯並三唑-2-基)酚)、2-(2’-羥基-3’-第三丁基-5’-甲基苯基)-5-氯苯並三唑、2,4-二第三丁基-6-(5-氯苯並三唑-2-基)酚、2,2’-二羥基-4,4’-二甲氧基二苯甲酮、2,2’,4,4’-四羥基二苯甲酮等,特別合適者,可舉2,2’-亞甲基二(4-(1,1,3,3-四甲基丁基)-6-(2H-苯並三唑-2-基)酚)。
在熱塑性樹脂A的添加劑濃度,以在高濃度部分110的添加劑濃度,可設定在與上述範圍同樣範圍的濃度。因此,在熱塑性樹脂A的添加劑濃度,可為3重量%以上、10 重量%以下。
在熱塑性樹脂A中的任意成分,係聚合物以外的成分,以在藉由熔融擠壓法製造光學薄膜100時的溫度不會揮發的程度的揮發性低者為佳。又,任意成分,可以1種單獨使用,亦可以任意比例組合2種以上使用。
熱塑性樹脂A的玻璃轉移溫度,以100℃以上為佳,以110℃以上更佳,以120℃以上特別佳,以190℃以下為佳,以180℃以下更佳,以170℃以下特別佳。藉由使玻璃轉移溫度在上述範圍內,可容易地得到耐久性優良的光學薄膜100。再者,由光學薄膜100製造拉伸薄膜時,藉由使玻璃轉移溫度為上述範圍的下限值以上,可有效地抑制拉伸薄膜在高溫環境下的配向緩和。又,藉由使之在上限值以下,可容易地進行拉伸處理。
熱塑性樹脂A的光彈性係數的絕對值,以10×10-12Pa-1以下為佳,以7×10-12Pa-1以下更佳,以4×10-12Pa-1以下特別佳。藉由使光彈性係數的絕對值在上述範圍內,可容易地製造高性能的光學薄膜100。又,由光學薄膜100製造伸薄膜時,可使其面內延遲的誤差變小。在此,所謂光彈性係數C,係雙折射為△n、應力為σ時,以C=△n/σ所示之值。
熱塑性樹脂B,通常,使用含有聚合物,可按照必要含有添加劑及任意成分的樹脂。可含於熱塑性樹脂B之聚合物,例如可任意使用選自由可含於熱塑性樹脂A之聚合物之上述範圍之聚合物。其中,熱塑性樹脂B所含有的聚合物,使用與熱塑性樹脂A所含有的聚合物相同的聚合物為佳。藉此,可 使光學薄膜100的高濃度部分110的收縮性與低濃度部分120的收縮性在同程度,故可抑制光學薄膜100在溫度變化時的皺摺、捲曲及翹曲等的變形。
在熱塑性樹脂B的聚合物的比例,以99.50重量%以上為佳,以99.70重量%以上更佳,以99.90重量%以上特別佳,以100重量%以下為佳,以99.98重量%以下更佳,以99.95重量%以下特別佳。藉由使聚合物的比例為上述範圍,可維持聚合物的透明性、吸水性等的特性。
熱塑性樹脂B可含有的添加劑,例如,可任意使用選自由熱塑性樹脂A可含有的添加劑之上述範圍的添加劑。惟,通常,熱塑性樹脂B所含有的添加劑,使用與熱塑性樹脂A所含有的添加劑相同的添加劑。
在熱塑性樹脂B之添加劑的濃度,可設定在與低濃度部分120之添加劑濃度之上述範圍的同樣的範圍的濃度。因此,在熱塑性樹脂B的添加劑濃度,越少越佳,以0重量%更佳。
在熱塑性樹脂B中的任意成分,係聚合物以外的成分,以在藉由熔融擠壓法製造光學薄膜100時的溫度不會揮發的程度的揮發性低者為佳。又,任意的成分,可以1種單獨使用,亦可以任意比例組合2種以上使用。
在本實施形態,顯示形成低濃度部分120之熱塑性樹脂B在光學薄膜100內的任一區域均顯示均一的組成之例說明,惟在於低濃度部分120,樹脂的組成也可不一定要均一。例如,在光學薄膜100的厚度方向的高濃度部分110的兩側的 區域111及112的低濃度部分120,與光學薄膜100的寬度方向的高濃度部分110的兩側的區域113及114的低濃度部分120,熱塑性樹脂B所含的成分的一部分或全部也可相異。
熱塑性樹脂B的玻璃轉移溫度,可落於與熱塑性樹脂A的玻璃轉移溫度的說明所記載的範圍同樣的範圍。藉此,可得與熱塑性樹脂A的玻璃轉移溫度的說明所記載的同樣優點。
熱塑性樹脂B的光彈性係數的絕對值,可落於與熱塑性樹脂A的光彈性係數的絕對值的說明所記載的範圍同樣的範圍。藉此,可得與熱塑性樹脂A的光彈性係數的說明所記載的同樣的優點。
光學薄膜100的飽和吸水率,以0.05%以下為佳,以0.03%以下更佳,以0.01%以下特別佳,理想上為0%。藉由使光學薄膜100的飽和吸水率如此低,可抑制光學薄膜100的光學特性的經時變化。
薄膜的飽和吸水率,係遵照JIS K7209,以下述步驟測定。
將薄膜以50℃乾燥24小時,在乾燥器中放冷。接著,測定乾燥的光學膜的質量(M1)。
將該薄膜,在溫度23℃、相對濕度50%的室內,浸漬於水24小時,以水使光學膜飽和。之後,從水中取出光學膜,測定浸漬24小時後的光學膜的質量(M2)。
根據下式,由該等質量的測定值,求得薄膜的飽和吸水率。
飽和吸水率(%)=[(M2-M1)/M1]×100(%)
使光學薄膜100的飽和吸水率落於上述範圍的方法,可舉例如,調整光學薄膜100中的聚合物種類的方法。
光學薄膜100,由穩定地發揮作用為光學構件的功能的觀點,全光線穿透率,以85%以上為佳,以90%以上更佳。光線穿透率,係遵照JIS K0115,使用分光光度計(日本分光公司製,紫外可見近紅外光分光光度計「V-570」)測定。
光學薄膜100的霧度,以1%以下為佳,以0.8%以下更佳,以0.5%以下特別佳。藉由使霧度為低值,可提高將由光學膜100所製造之整形薄膜或拉伸薄膜組入顯示裝置的顯示影像的鮮明度。在此,霧度,係遵照JIS K7361-1997,使用日本電色工業公司製「濁度計NDH-300A」,測定5處求得平均值。
[2.光學薄膜的製造方法]
本發明之光學薄膜,可藉由熔融擠壓法製造。例如,使用上述熱塑性樹脂A及熱塑性樹脂B時,可藉由包含由模具將含有熔融狀態的熱塑性樹脂A及熔融狀態的熱塑性樹脂B薄膜狀擠出之步驟的製造方法,製造光學薄膜。以下,顯示圖示,說明該製造方法的實施形態。
第4圖係示意顯示關於本發明之一實施形態之光學薄膜的製造裝置之概要圖。
如第4圖所示,該光學薄膜的製造裝置1,具有第1熔融樹脂供給系2及第2熔融樹脂供給系3。這些熔融樹脂供給系2及3,分別具備:供給由熱塑性樹脂A及熱塑性樹脂B所組成之樹脂材料(膠粒)的料斗2a及3a;將供給於料斗2a及3a 的樹脂材料加熱熔融混煉之擠壓機2b及3b;分別將以擠壓機2b及3b熔融之熱塑性樹脂A及熱塑性樹脂B定量供給之齒輪幫浦2c及3c;去除不熔融的異物等的過濾裝置2d及3d。過濾裝置2d,連接有可由過濾裝置2d將熔融狀態的熱塑性樹脂A供給於合流裝置的供料區塊4的管線2e。又,過濾裝置3d,連接有可由過濾裝置3d將熔融狀態的熱塑性樹脂B供給供料區塊4之管線3e。供料區塊4之細節,將詳述於後。
於供料區塊4的下游側,設有模具5。該模具5係單層用的T模具。模具5,係以碳化鎢等的硬質的材料構成模脣部,施以鍍鉻等平滑修飾,抑制在薄膜發生模具線為佳。模具5的形狀,並無特別限制,可採用例如,直歧管形、魚尾形、衣架形。這些之中,衣架形模具,可製造厚度誤差少的光學薄膜而佳。
模具5,係將熔融狀態的熱塑性樹脂A及熱塑性樹脂B薄膜狀擠出在作為支持體的澆鑄輥輪6a上,藉由依序以第一冷卻輥輪6b及第二冷卻輥輪6c冷卻,可得光學薄膜100。又,模具5的開口部附近,設有未示於圖之靜電固定裝置,可對光學薄膜100的兩端施加靜電。藉由該靜電固定裝置,光學薄膜100的兩端,靜電吸附於澆鑄輥輪6a。
為了得到均一的膜厚,根據光學薄膜100的熱收縮的程度適切設定澆鑄輥輪6a、第一冷卻輥輪6b及第二冷卻輥輪6c的引取速度。
又,在以澆鑄輥輪6a、第一冷卻輥輪6b及第二冷卻輥輪6c冷卻的光學薄膜100,經由輸送輥輪7送至捲取輥輪8,以 捲取輥輪8捲曲回收。如上,製造長條的光學薄膜100。
其次,詳述關於分配區塊4。第5圖~第8圖係示意表示關於本發明之一實施形態之供料區塊4之圖,第5圖係側面所視之縱剖面圖、第6圖係正面所視之縱剖面圖、第7圖係平面圖、第8圖係底面所視之橫剖面圖。
如第5圖~第8圖所示,供料區塊4,係具備在第1樹脂流路11及第2樹脂流路12的區塊內部。第1樹脂流路11,具有管路(第1管路)11a及寬幅部11b。管路11a,其一端由區塊上面向外部開口。在該開口,可經由該開口由第1熔融樹脂供給系2供給熔融狀態的熱塑性樹脂A(第1的熔融樹脂),經由未示於圖示的法蘭(flange),連接第1熔融樹脂供給系2的管線2e。管路11a的另一端,係連接成在X方向(第1方向)具有長邊方向的略矩形狀的寬幅部11b的略中央部分開口。寬幅部11b的下游側的出口(第1出口)11c,同樣地成為在X方向具有長邊方向的略矩形狀。
第2樹脂流路12,具有管路(第2管路)12a、分岐管路(第2管路)12b及寬幅部12c、以及分岐管路(第3管路)13b及寬幅部13c。管路12a,係其一端由區塊側面向外部開口。該開口,可經由該開口由第2熔融樹脂供給系3供給熔融狀態的熱塑性樹脂B(第2熔融樹脂),經由未示於圖示的法蘭(flange),連接第2熔融樹脂供給系3的管線3e。管路12a,連接分岐管路12b及分岐管路13b的一端。分岐管路12b的另一端,係連接成在X方向具有長邊方向的略矩形狀的寬幅部12c的略中央部分開口。寬幅部12c的下游側的出口(第2出口)12d,同樣地 成為在X方向具有長邊方向的略矩形狀。分岐管路13b的另一端,係連接成在X方向具有長邊方向的略矩形狀的寬幅部13c的略中央部分開口。寬幅部13c的下游側的出口(第2出口)13d,同樣地成為在X方向具有長邊方向的略矩形狀。
寬幅部12c的出口(第2出口)12d,係鄰接配置於出口(第1的出口)11c的短邊方向(Y方向)的一側。又,寬幅部13c的出口(第3的出口)13d,係鄰接配置於第1的出口11c的短邊方向(Y方向)的另一側(參照第5圖)。
如第6圖所示,於分岐管路12b,連接有輔助管路(第4管路)21的一端。輔助管路21的另一端,係經由其剖面由略圓形狀逐漸變化成略矩形狀(略正方形狀)的變化部,成為其剖面成略矩形狀(在本實施形態,係略正方形狀)的矩形部21a。然後,該矩形部21a,連接成在寬幅部11b的一方的端部附近開口。該輔助管路21,係為在光學薄膜100的寬度方向的高濃度部分110的一側的區域113供給形成低濃度部分120之熱塑性樹脂B(第2熔融樹脂)的管路。
在分岐管路13b,連接輔助管路(第5管路)22的一端。輔助管路22的另一端,係經由其剖面由略圓形狀逐漸變化成略矩形狀(略正方形狀)的變化部,成為其剖面成略矩形狀(在本實施形態,係略正方形狀)的矩形部22a。然後,該矩形部22a,連接成在寬幅部11b的另一方的端部附近開口。該輔助管路22,係為在光學薄膜100的寬度方向的高濃度部分110的另一側的區域114供給形成低濃度部分120的熱塑性樹脂B(第2熔融樹脂)的管路。
於輔助管路21的矩形部21a附近,設有定邊器機構(第1流量調整裝置)23作為可調整對寬幅部11b的一方的端部附近供給熱塑性樹脂B的流量的流量調整裝置。定邊器機構23,具備:可於矩形部21a內進退地插入的定邊器(第1定邊器)23a、螺栓部23b及螺母部23d。定邊器23a,係形成為略圓柱狀的構件,在略同軸上一體形成螺栓部23b。定邊器23a的直徑,係設定成較矩形部21a的一邊的長度稍小的直徑。定邊器23a的軸方向(X方向)的尺寸,係設定成較矩形部21a的一邊的長度大的值。在螺栓部23b的前端部,一體形成螺帽部23c。
在供料區塊4,其一端達至矩形部21a,另一端則不會達至區塊側面,形成有空洞部23e。空洞部23e係直徑較定邊器23a的直徑稍大的筒狀,定邊器23a可摺動地插入。在空洞部23e,形成有開口在區塊側面的貫通孔,該貫通孔與空洞部23e形成在略同軸上。螺母部23d,係與該貫通孔配置在同軸上,固定在區塊側面。定邊器23a,係以螺栓部23b鎖入螺母部23d的狀態,收納在空洞部23e內。
定邊器23a,係藉由將螺帽部23c向鎖入的方向旋轉,使定邊器23a向插入矩形部21a內的方向滑移。又,定邊器23a,可藉由將螺帽部23c向與鎖入的相反的方向旋轉,可使定邊器23a向抽出矩形部21a的方向滑移。再者,定邊器23a,可在全關與全開之間的任意位置固定地設置。藉由如此的構成,可任意調整由輔助管路21向寬幅部11b的一端部附近的熱塑性樹脂B的供給量。
於輔助管路22的矩形部22a的附近,設有定邊器 機構(第2流量調整裝置)24作為供給寬幅部11b的另一方的端部附近的熱塑性樹脂B的流量的流量調整裝置。定邊器機構24,具備:可於矩形部22a內進退地插入的定邊器(第2定邊器)24a、螺栓部24b及螺母部24d。定邊器24a,係形成為略圓柱狀的構件,在略同軸上一體形成螺栓部24b。定邊器24a的直徑,係設定成較矩形部22a的一邊的長度稍小的直徑。定邊器24a的軸方向(X方向)的尺寸,係設定成較矩形部22a的一邊的長度大的值。在螺栓部24b的前端部,一體形成螺帽部24c。
在供給區塊4,其一端達至矩形部22a,另一端則不會達至區塊側面,形成有空洞部24e。空洞部24e係直徑較定邊器24a直徑稍大的筒狀,定邊器24a可摺動地插入。在空洞部24e,形成有開口在區塊側面的貫通孔,該貫通孔與空洞部24e在略同軸上。螺母部24d,係與該貫通孔配置在同軸上,固定在區塊側面。定邊器24a,係以螺栓部24b鎖入螺母部24d的狀態,收納在空洞部24e內。
定邊器24a,係藉由將螺帽部24c向鎖入的方向旋轉,使定邊器24a向插入矩形部22a內的方向滑移。又,定邊器24a,可藉由將螺帽部24c向與鎖入的相反方向旋轉,可使定邊器24a向抽出矩形部22a的方向滑移。再者,定邊器24a,可在全關與全開之間的任意位置固定地設置。藉由如此的構成,可任意調整由輔助管路22向寬幅部11b的另一端部附近的熱塑性樹脂B的供給量。
如第5圖所示,在寬幅部11b及寬幅部12c之間的部分(第1樹脂流路11及第2樹脂流路12的合流部的上游 側附近的部分),配置有檔板(檔板構件)14。檔板14,具有:可以與X方向略平行的軸(中心軸)B為中心旋轉地軸支之軸部14a、及凸出在該軸部14a地一體形成之V字部14b。在軸部14a的一端,為調整該檔板14的姿勢,以中心軸B為中心使檔板14轉動的六角部14f一體形成在略同軸上。V字部14b,具有相互以略V字狀配置的第1側面14c及第2側面14d。
第1側面14c,係配置為構成寬幅部11b的側壁的一部分(第1出口11c附近的一部分),第2側面14d,係配置為構成寬幅部12c的側壁的一部分(第2出口12d附近的一部分)。第1側面14c與第2側面14d交差的稜線部14e,係沿著與X方向呈略平行線的直線形狀。稜線部14e的形狀,亦可係對X方向略平行的線呈凹或凸的曲線形狀(圓弧形狀等)、或折線形狀(V字形狀等)。
在寬幅部11b及寬幅部13c之間的部分(第1樹脂流路11及第2樹脂流路12的合渡部的上流側附近的部分),配置有檔板(檔板構件)15。檔板15,與檔板14呈略對稱的形狀,具有:可以與X方向略平行的軸(中心軸)B為中心旋轉地軸支之軸部15a、及凸出在該軸部15a地一體形成之V字部15b。在軸部15a的一端,為調整該該檔板15的姿勢,以中心軸B為中心使檔板15轉動的六角部15f一體形成在略同軸上。V字部15b,具有相互以略V字狀配置的第1側面15c及第2側面15d。
第1側面15c,係配置為構成寬幅部11b的側壁的一部(第1出口11c附近的一部分),第2側面15d,係配置為 構成寬幅部13c的側壁的一部分(第3出口13d附近的一部分)。第1側面15c與第2側面15d交差的稜線部15e,係沿著與X方向呈略平行線的直線形狀。稜線部15e的形狀,亦可係對X方向略平行的線呈凹或凸的曲線形狀(圓弧形狀等)、或折線形狀(V字形狀等)。
檔板14及15,係如第5圖所示,分別以中心軸B為中心,如圖中的圓弧狀的箭頭D1及D2所示,可在既定的角度範圍內轉動地支持。又,檔板14及15,係設置成可在上述既定的角度範圍內的任意位置定位固定。因此,藉由使檔板14及15分別對稱或非對稱轉動,藉由稜線部14e及15e的位置變化,可改變出口(第1出口)11c、出口(第2出口)12d、出口(第3出口)13d的形狀。
在本實施形態,使用其V字部的形狀(稜線部14e及15e)相互成為對稱形狀者作為檔板14與檔板15。藉此,可製造於高濃度部分110的厚度方向的兩側的區域111及112,具有以相互相同的材料及厚度的低濃度部分120的光學薄膜100。惟,根據製造之光學薄膜100的輪廓(profile),也可使用檔板14及檔板的V字部相互無相關的形狀者。
配置第1樹脂流路11(寬幅部11b)的出口(第1出口)11c、第2樹脂流路12(寬幅部12c)的出口(第2出口)12d、第2樹脂流路12(寬幅部13c)的出口(第3出口)13d的合流部,以全體成略矩形狀。
於該合流部的下游側,連接具有略矩形狀的剖面形狀的送出管路16的一端。送出管路16的另一端,係於區塊底面開口, 該開口,聯接於模具5的未示於圖的樹脂接入口。在本實施形態,係以模具5的樹脂接入口的形狀為略圓形狀之例表示。送出管路16,係在略矩形狀的合流部的下游側,形成由矩形狀逐漸變化成圓形狀,因此送出流路16的開口,呈略圓形狀。再者,送出管路16的形狀,使用對應模具5的樹脂接入口的形狀者,例如模具5的樹脂接入口為矩形時,可使用剖面全體為矩形狀者。
使用關於本實施形態之製造裝置1製造光學薄膜100時,如第4圖所示,藉由第1熔融樹脂供給系2,將含有添加劑的熔融狀態的熱塑性樹脂A供給分配區塊4的第1樹脂流路11,藉由第2熔融樹脂供給系3,將添加劑的濃度較熱塑性樹脂A低的熔融狀態的熱塑性樹脂B供給分配區塊4的第2樹脂流路12。
如第5圖~第8圖所示,熱塑性樹脂A,係經由管路11a供給寬幅部11b的中央部分。又,熱塑性樹脂B,係經由管路12a、12b及21供給寬幅部11b的一端部附近,再者,經由管路12a、13b及22供給寬幅部11b的另一端部附近。因此,以在中間部分的熱塑性樹脂A的兩側分別配置熱塑性樹脂B的狀態,熱塑性樹脂A及熱塑性樹脂B到達寬幅部11b的出口11c。此時,按照定邊器機構23的定邊器23a的位置,規定熱塑性樹脂B對寬幅部11b的一端部附近的供給量。又,按照定邊器機構24的定邊器24a的位置,規定熱塑性樹脂B對寬幅部11b的另一端部附近的供給量。因此,按照定邊器23a及24a的位置(即,定邊器23a及24a對矩形部21a及22a內的凸 出量),可調整在光學薄膜100的寬度方向的高濃度部分110的兩側的區域113及114形成低濃度部分120的熱塑性樹脂B的供給量。
再者,熱塑性樹脂B,係經由管路12a及12b以及寬幅部12c到達出口12d,經由管路12a及13b以及寬幅部13c到達出口13d。此時,按照檔板14的角度,規定寬幅部12c的出口12d對寬幅部11b的出口11c的寬度的相對寬度。又,按照檔板15的角度,規定寬幅部13c的出口13d對寬幅部11b的出口11c的寬度的相對寬度。因此,按照檔板14及15的角度(即,檔板14及15的旋轉量),可調整在光學薄膜100的厚度方向的高濃度部分110的兩側的區域113及114形成低濃度部分120的熱塑性樹脂B的供給量。
熱塑性樹脂A及熱塑性樹脂B,在以這些出口11c、12d及13d所構成的合流部層積合流,經由送出管路16供給配置於供料區塊4的下游的模具5。此時,由於供料區塊4內的流路係如上所述形成,故流通送出管路16的熱塑性樹脂A,形成流通送出管路16中央的熱塑性樹脂A之層。又,流通送出管路16的熱塑性樹脂B,係形成如包圍熱塑性樹脂A之層周圍地流通的熱塑性樹脂B之層。
因此,在模具5,充填熔融狀態的熱塑性樹脂A之層,與配置於熱塑性樹脂A之層的厚度方向的兩側及寬度方向的兩側的熔融狀態的熱塑性樹脂B之層。然後,由該模具5,將熱塑性樹脂A及熱塑性樹脂B薄膜狀擠出。
由模具5薄膜狀擠出的熱塑性樹脂A及熱塑性樹 脂B,依序以澆鑄輥輪6a、第一冷卻輥輪6b及第二冷卻輥輪6c冷卻而硬化,成為光學薄膜100。如此所得之光學薄膜100,係經由輸送輥輪7以捲取輥輪8捲取、回收。
根據上述實施形態的製造方法,可按照定邊器機構23及24的定邊器23a及24a的位置,分別獨立地調整供給寬幅部11b的一端部附近的熱塑性樹脂B的供給量及供給寬幅部11b的另一端部附近的熱塑性樹脂B的供給量。因此,可自由調整在光學薄膜100的寬度方向的高濃度部分110的一側的區域113的低濃度部分120的寬度與另一側的區域114的低濃度部分120的寬度。又,即使在對寬幅部11b的一端部附近的樹脂供給系與對寬幅部11b的另一端部附近的樹脂供給系之間產生壓力差時,可藉由依其壓力差調整定邊器機構23及24,可使在於光學薄膜100的寬度方向的高濃度部分110的兩側的區域113及114的低濃度部分120的寬度大致相同。再者,由於變得可容許對寬幅部11b的一端部附近的樹脂供給系與對寬幅部11b的另一端部附近的樹脂供給系之間的壓力差,故可減少樹脂供給系的管路引繞等的設計上的限制。
又,根據上述實施形態的製造方法,可按照檔板14及15的角度,調整寬幅部12c的出口12d對寬幅部11b的出口11c的寬度的相對寬度,及寬幅部13c的出口13d對寬幅部11b的出口11c的寬度的相對寬度。因此,可自由調整在光學薄膜100的厚度方向的高濃度部分110的一側的區域111的低濃度部分120的厚度與另一側的區域112的低濃度部分120的厚度。
再者,根據上述實施形態的製造方法,藉由複合調整定邊器機構23及24的定邊器23a及24a的位置,以及檔板14及15的角度,可任意調整光學薄膜100的高濃度部分110的厚度的輪廓。因此,可使高濃度部分110的厚度均勻。
[3.整形薄膜]
上述光學薄膜,通常,係由光學薄膜切除該當光學薄膜的寬度方向的端部再使用。如此由光學薄膜切除該當光學薄膜的寬度方向的端部而得之薄膜為整形薄膜。該整形薄膜,通常,不具有切除之端部以外,具有與光學薄膜相同的結構及物性。
第9圖,係為表示應由光學薄膜切除的端部,示意表示本發明之光學薄膜之一例之剖面圖。在第9圖,裁切位置以點線虛線表示。又,第10圖係示意表示本發明之整形薄膜之一例之剖面圖。
如第9圖及第10圖所示,由光學薄膜100製造整形薄膜200時,將光學薄膜100的寬度方向的雙方的端部140及150切除。此時的裁切位置,可按照欲製造的整形薄膜200的形狀任意設定。
通常,係將裁切位置設定成切除包含在光學薄膜100的寬度方向的高濃度部分110的兩側的區域113及114的低濃度部分120的端部140及150。此時,在所得整形薄膜200,高濃度部分110在整形薄膜200的寬度方向的端面201及202露出。但是,只要不是熔融擠壓時的程度的高溫,則含於高濃度部分110的添加劑並不容易揮發。因此,根據由光學薄膜100所得之整形薄膜200,可抑制製造設備的污染。
又,使用上述供料區塊所製造的光學薄膜100,將切除位置設定在切除在光學薄膜100的寬度方向的高濃度部分110的兩側的區域113及114的低濃度部分120與高濃度部分110的邊界部分203及204為佳。於上述的邊界部分203及204,有起因於熱塑性樹脂B因定邊器23a及24a而滯留在供料區塊4內,而有混入異物的可能性。因此,藉由切除上述的邊界部分203及204,排除異物,可得高品質的整形薄膜200。
特別是,光學薄膜100,係高濃度部分110具有「高濃度部分110的平均厚度±5μm」的厚度的厚度均一區域130時,將整形薄膜200的裁切位置設定成僅留下該厚度均一區域130為佳。藉此,可得在於薄膜全體,高濃度部分110的厚度的誤差小的整形薄膜200。又,如此的整形薄膜200,由於高濃度部分110的厚度的誤差小,故可使添加劑的含量在寬度方向大致一定。在此,所謂「添加劑的含量在寬度方向大致一定」,係指添加劑的濃度的誤差在寬度方向的全體落在添加劑的平均濃度的10%以下的範圍。添加劑的濃度的誤差,可以氣相層析儀測定。
[4.拉伸薄膜]
本發明之光學薄膜,可使用於作為張布(tenter)拉伸用的原料捲薄膜。在此,所謂原料捲薄膜,係成為施以張布(tenter)拉伸處理的對象的薄膜。藉由對本發明的光學薄膜施以張布(tenter)拉伸處理得到拉伸薄膜,可製造具有延遲等的所期望的光學特性的拉伸薄膜。又,本發明的光學薄膜,通常,高濃度部分的厚度的誤差小,添加劑的含量在寬度方向大致一定的, 而藉由使用本發明的光學薄膜作為原料捲薄膜,在所得拉伸薄膜可使厚度的誤差及延遲的誤差變小。
拉伸薄膜,通常,在該當拉伸薄膜的厚度方向,依序具備低濃度部分、高濃度部分及低濃度部分的薄膜。因此,由包含熱塑性樹脂A及熱塑性樹脂B的光學薄膜製造拉伸薄膜時,製造的拉伸薄膜,通常,在其厚度方向依序包含熱塑性樹脂B的層、熱塑性樹脂A的層及熱塑性樹脂B的層。
如此的拉伸薄膜的製造方法,可舉例如,具有:將光學薄膜,供給於具備夾具的張布(tenter)拉伸機的步驟;藉由張布(tenter)拉伸機的夾具夾住光學薄膜的寬度方向的兩端部、拉伸,得到拉伸薄膜的步驟;及由所得拉伸薄膜切除兩端部的步驟的第一製造方法。
拉伸條件,可按照欲使拉伸薄膜顯現的光學特性任意設定。顯示具體的範圍,拉伸溫度,以(Tg-30℃)以上為佳,以(Tg-10℃)以上特別佳,以(Tg+60℃)以下為佳,以(Tg+50℃)以下特別佳。在此Tg,係表示形成高濃度部分的熱塑性樹脂A的玻璃轉移溫度。又,拉伸倍率,以1.05倍以上為佳,以1.1倍以上更佳,以5.0倍以下為佳,以2.0倍以下更佳。
在所得拉伸薄膜,在其寬度方向的兩端部可能沒有顯現所期望的光學特性。此係,由於拉伸薄膜的寬度方向的兩端部以夾具夾住,故即使拉伸,在薄膜中的分子可能無法適切地配向。因此,從拉伸薄膜,將該拉伸薄膜的寬度方向的兩端部切除為佳。在切除的端部,通常,包含拉伸薄膜的寬度方向高濃度部分的兩側的區域的低濃度部分。藉此,可得在於薄 膜全面具有所期望的光學特性的拉伸薄膜。
特別是,由高濃度部分具有「該當高濃度部分的平均厚度±5μm」的厚度的厚度均一區域的光學薄膜所製造的拉伸薄膜,將裁切位置設定成僅留下相當於該厚度均一區域的拉伸薄膜的區域為佳。藉此,可得在薄膜全體高濃度部分110的厚度誤差小的拉伸薄膜。又,如此的拉伸薄膜,由於高濃度部分的厚度的誤差小,故可使添加劑的含量在寬度方向大致一定。
又,拉伸薄膜的製造方法,可舉例如,以具有:將光學薄膜的寬度方向的兩端部切除得到整形薄膜的步驟;及將所得整形薄膜供給張布(tenter)拉伸機、拉伸得到拉伸薄膜的步驟的第二製造方法。在第二製造方法的拉伸條件,可採用與第一製造方法相同的條件。
在如此的第二製造方法,亦與第一製造方法同樣的,可得具有所期望的光學特性的拉伸薄膜。又,藉由第二的製造方法,亦可得到與第一製造方法同樣的優點。
通常,上述拉伸薄膜,顯現延遲(retardation)。拉伸薄膜的延遲的大小,可按照拉伸薄膜的用途任意設定。例如,拉伸薄膜的面內延遲Re,可為50nm以上為佳,以200nm以下為佳。又,拉伸薄膜的厚度方向的延遲Rth,可為50nm以上為佳,以300nm以下為佳。
如此所得之拉伸薄膜的用途並無限制,例如可使用於作為相位差薄膜、偏光板保護薄膜等。
[實施例]
以下,表示實施例具體說明關於本發明。惟,本 發明並非限定於以下的實施例,在不脫離本發明的專利申請範圍及其均等的範圍,可任意變更實施。
以下的說明中,表示量的「%」及「份」,若無特別提及,係重量基準。此外,以下所說明的操作,若無特別提及,係於常溫及常壓的條件進行。
(高濃度部分的寬度及低濃度部分的寬度的測定方法)
將所得光學薄膜的穿透率,在寬度方向以10mm間隔,以分光光度計測定。藉由比較各測定地點的測定結果,分別測定光學薄膜的高濃度部分的寬度、及形成在光學薄膜的寬度方向的高濃度部分的兩側的區域(即,第1圖所示左側區域113及右側區域114)的各低濃度部分的寬度(側部寬度;在第3圖的寬度WR及WL)。
(高濃度部分的厚度的測定方法)
以光學薄膜的寬度方向的中央部為中心,在光學薄膜的寬度方向連續的500mm的區間,設定測定區域(相當於第9圖所示厚度均一區域130)。使用在該測定區域測定的波長380nm的穿透率,及構成薄膜的聚合物及添加劑的吸光係數,根據朗伯比爾定律,測定高濃度部分的厚度(在第3圖的厚度TC)。由測定的高濃度部分的厚度,求在測定區域的光學薄膜的高濃度部分的平均厚度、最大厚度、最小厚度、及厚度的誤差。
(低濃度部分的厚度的測定方法)
以光學薄膜的寬度方向的中央部為中心,在光學薄膜的寬度方向連續的500mm的區間,設定測定區域(相當於第9圖所 示厚度均一區域130)。在該測定區域於寬度方向以100mm間隔設定複數測定點,在各測定點,使用市售的接觸式厚度計,測定光學薄膜的總厚度。之後,以可在寬度方向及厚度方向得到平行的剖面地裁切光學薄膜,將其剖面以光學顯微鏡觀察,分別在上述測定點,測定高濃度部分的厚度與各低濃度部分的厚度的比例。之後,分別在上述測定點,由高濃度部分的厚度與各低濃度部分的厚度的比例及光學薄膜的總厚度之值,計算分別在該當測定點的各低濃度部分的厚度。計算在如此求得的各測定點的各低濃度部分的厚度的平均值,以該當平均值作為光學薄膜的各低濃度部分的平均厚度(在第3圖之厚度TU及TD))。
(管線污染的評估方法)
觀察設於製造裝置的澆鑄輥輪。沒有紫外線吸收劑附著於澆鑄輥輪的表面,則判定為「良」,有紫外線吸收劑附著於澆鑄輥輪的表面,則判定為「不良」。
(模具線的評估方法)
對製造的光學薄膜照光,將穿透光投影到影幕。於光學薄膜形成有模具線時,一般模具線會在投影像以明或暗的條紋出現。因此,將對應於出現在影幕上的光的明或暗的條紋的光學薄膜的部分(該部分係凹部的深度及凸部的高度較大的部分。),以30mm四方切出。將切出的薄膜片表面使用三維表面結構解析顯微鏡(視野區域5mm×7mm)觀察,將此轉換成3維影像。由該3維影像,求以垂直於光學薄膜的長條方向的平面剖切該當光學薄膜的剖面輪廓。剖面輪廓,係以視野區域1mm的間隔求得。在該剖面輪廓,拉平均線。由該平均線至凹 部的底部的長度成為凹部深度,由該平均線至凸部的頂部的長度成為凸部高度,平均線與輪廓的交點間的距離成為凹部或凸部的寬度。由這些凹部深度與凸部高度的測定值,分別求最大值,分別求得其顯示最大值的凹部或凸部的寬度。由以上求得的凹部深度的最大值及凸部高度的最大值,以及其顯示最大值的凹部的寬度及凸部的寬度,作為該薄膜的線狀凹部的深度、線狀凸部的高度及其寬度。
在光學薄膜,沒有形成凹部的深度或凸部的高度為30nm以上且寬度為700nm以下的模具線,則判定為「良」,在光學薄膜有形成上述模具線,則判定為「不良」。
(壓痕的評估方法)
將製造之光學薄膜以目視觀察,計數壓痕之數目。在此,所謂壓痕,係指形成於光學薄膜表面的點狀的凹部或凸部。這些壓痕,係揮發的添加劑附著於薄膜輸送輥輪,而附著的添加劑固化成團塊,該團塊的形狀被轉印到光學薄膜而形成者。凹部的深度或凸部的高度為500nm以上的壓痕的數目,在光學薄膜的長度300mm,0個~10個時,判定為「良」,11個以上時判定為「不良」。
[實施例1]
(熱塑性樹脂的準備)
準備含有環狀烯烴聚合物的環烯烴樹脂(日本ZEON公司製「ZEONOR」,玻璃轉移溫度123℃)作為熱塑性樹脂。
準備紫外線吸收劑(ADEKA公司製「LA-31RG」)作為添加劑。
將上述的環烯烴樹脂93重量份及紫外線吸收劑7份以雙軸擠壓機熔融混煉,將擠出的膠條以製粒機整形,得到膠粒狀的熱塑性樹脂A。
又,上述環烯烴樹脂直接作為熱塑性樹脂B準備。
(光學薄膜的製造)
如上述實施形態所說明,使用具備第4圖~第8圖所示供料區塊4的製造裝置1,進行光學薄膜的製造。具體而言,係以下述步驟製造光學薄膜。
如第4圖所示,將熱塑性樹脂A以第1熔融樹脂供給系2供給供料區塊4的第1樹脂流路11,又,將熱塑性樹脂B以第2熔融樹脂供給系3供給供料區塊4的第2樹脂流路12。然後,由供料區塊4對模具5,供給熱塑性樹脂A及熱塑性樹脂B。此時,在供料區塊4,固定檔板14及15的角度。又,將定邊器23a及24a的位置,設定在使定邊器的開度較小的值。在此,所謂定邊器開度,係指如第6圖所示,在插入定邊器23a或24a的矩形部21a或22a,可使熔融樹脂流通的流路的寬度的大小。通常,定邊器開度越大,熔融樹脂的流通量越大。如此地由供料區塊4對模具5供給熱塑性樹脂A及熱塑性樹脂B,在模具5充填熔融狀態的熱塑性樹脂A的層、及配置在熱塑性樹脂A的層的厚度方向的兩側及寬度方向的兩側的熔融狀態的熱塑性樹脂B的層。
之後,如第4圖所示,由上述模具5將熱塑性樹脂A及熱塑性樹脂B薄膜狀擠出,以澆鑄輥輪6a、第一冷卻輥輪6b及第二冷卻輥輪6c冷卻,得到光學薄膜100。擠出條 件,係模具模脣間隙0.5mm、模具寬度1700mm、熔融樹脂溫度260℃、澆鑄輥輪溫度100℃、冷卻輥輪溫度90℃。
所得光學薄膜100,如第1圖所示,於寬度方向及厚度方向的中央具有由熱塑性樹脂A組成的高濃度部分110,具有由熱塑性樹脂B組成的低濃度部分120覆蓋該當高濃度部分110。因此,以實施例1製造的光學薄膜100,在光學薄膜100的厚度方向的高濃度部分110的正面側的區域111及背面側的區域112的雙方,具有低濃度部分120。又,光學薄膜100,在光學薄膜100的寬度方向的高濃度部分110的左側區域113及右側區域114的雙方,具有低濃度部分120。
關於該光學薄膜100,以上述方法進行評估。
[實施例2]
調整供料區塊的定邊器的位置使定邊器的開度較實施例1大以外,以與實施例1同樣地製造光學薄膜。所得光學薄膜,如第1圖所示,在寬度方向及厚度方向的中央具有由熱塑性樹脂A組成高濃度部分110,具有由熱塑性樹脂B組成的低濃度部分120覆蓋該當高濃度部分110。因此,以實施例2製造的光學薄膜100,在光學薄膜100的厚度方向的高濃度部分110的正面側的區域111及背面側的區域112的雙方,具有低濃度部分120,再者,在光學薄膜100的寬度方向的高濃度部分110的左側的區域113及右側的區域114的雙方,具有低濃度部分120。
關於該光學薄膜100,以上述方法進行評估。
[實施例3]
調整供料區塊的定邊器的位置使定邊器的開度較實施例2 大以外,以與實施例1同樣地製造光學薄膜。如第1圖所示,在寬度方向及厚度方向的中央具有由熱塑性樹脂A組成高濃度部分110,具有由熱塑性樹脂B組成的低濃度部分120覆蓋該當高濃度部分110。因此,以實施例2製造的光學薄膜100,在光學薄膜100的厚度方向的高濃度部分110的正面側的區域111及背面側的區域112的雙方,具有低濃度部分120,再者,在光學薄膜100的寬度方向的高濃度部分110的左側的區域113及右側的區域114的雙方,具有低濃度部分120。
關於該光學薄膜100,以上述方法進行評估。
[比較例1]
將定邊器的開度設定為零,如第6圖所示,不由供料區塊4的輔助管路21及22供給熱塑性樹脂B以外,以與實施例1同樣地製造光學薄膜。所得光學薄膜,係於厚度方向依序具有低濃度部分、高濃度部分及低濃度部分得複層薄膜,而高濃度部分在光學薄膜的寬度方向的兩端露出。
關於該光學薄膜,以上述方法進行評估。
[實施例1~3及比較例1的結果]
將上述實施例1~3及比較例1的結果,顯示於下述表1。在表1,簡稱的意義係如下所述。
樹脂A:熱塑性樹脂A
樹脂B:熱塑性樹脂B
COP:環烯烴樹脂
正面側區域:在光學薄膜的厚度方向的高濃度部分的正面側的區域(第1圖的區域111)
背面側區域:在光學薄膜的厚度方向的高濃度部分的背面側的區域(第1圖的區域112)
左側區域:在光學薄膜的厚度方向的高濃度部分的左側的區域(第1圖的區域113)
右側區域:在光學薄膜的厚度方向的高濃度部分的右側的區域(第1圖的區域114)
[實施例1~3及比較例1的討論]
在比較例1,高濃度部分在薄膜的寬度方向的端面露出,故紫外線吸收劑揮發,而管線污染、模具線、壓痕均有發生。相對於此,實施例1~3的光學薄膜,雖以熔融擠壓法製造,並沒有管線污染、模具線及壓痕的發生。由此確認,在實施例1~3,沒有發生添加劑的紫外線吸收劑的揮發,可以熔融擠壓法製造光學薄膜。
[實施例4]
將實施例1所得光學薄膜作為原料捲薄膜,供給預先調整軌道模式的張布(tenter)拉伸機,施以拉伸處理,將薄膜兩端切除,得到寬1250mm的長條拉伸薄膜。該拉伸條件,係拉伸倍率1.5倍、拉伸溫度140℃,拉取張力(出口張力)T=300N/m。又,該拉伸的拉伸方向,係使拉伸薄膜對該拉伸薄膜的寬度方向呈配向角θ=45°的角度的方向顯現遲相軸,設定原料捲薄膜的傾斜方向。在此,所謂傾斜方向,係薄膜的表面方向,係指與薄膜的寬度方向不平行亦不垂直的方向。將如此所得的拉伸薄膜,以上述方法進行評估。將結果,顯示於下述表2。所得拉伸薄膜,模具線及壓痕的評估良好,在拉伸前後的樹脂A的添加劑濃度無變化。
100‧‧‧光學薄膜
110‧‧‧高濃度部分
111‧‧‧在光學薄膜的厚度方向的高濃度部分的正面側的區域
112‧‧‧在光學薄膜的厚度方向的高濃度部分的背面側的區域
113‧‧‧在光學薄膜的寬度方向的高濃度部分的左側的區域
114‧‧‧在光學薄膜的寬度方向的高濃度部分的右側的區域
115~118‧‧‧光學薄膜在非厚度方向的兩側亦非寬度方向的兩側的區域

Claims (15)

  1. 一種光學薄膜,其係含有添加劑的光學薄膜,該光學薄膜具有:含有上述添加劑的高濃度部分,及上述添加劑的濃度較上述高濃度部分低的低濃度部分,在上述光學薄膜的厚度方向的上述高濃度部分的兩側,具有上述低濃度部分,在上述光學薄膜的寬度方向的上述高濃度部分的兩側,具有上述低濃度部分。
  2. 如申請專利範圍第1項所述之光學薄膜,其中上述光學薄膜係以熔融擠壓法製造。
  3. 如申請專利範圍第1項所述之光學薄膜,其中上述低濃度部分在上述光學薄膜的厚度方向的表面及寬度方向的表面露出。
  4. 如申請專利範圍第1項所述之光學薄膜,其中上述高濃度部分包含含有上述添加劑的熱可塑性樹脂A,上述低濃度部分含有添加劑的濃度較上述熱可塑性樹脂A低的熱可塑性樹脂B。
  5. 如申請專利範圍第1項所述之光學薄膜,其中在上述光學薄膜的厚度方向的上述高濃度部分的表面,被上述低濃度部分覆蓋,在上述光學薄膜的寬度方向的上述高濃度部分的表面,被上述低濃度部分覆蓋。
  6. 如申請專利範圍第1項所述之光學薄膜,其中上述光學薄 膜係長條狀的薄膜。
  7. 如申請專利範圍第1項所述之光學薄膜,其中上述光學薄膜,在上述光學薄膜的寬度方向連續500mm以上的區間,具有上述高濃度部分具有「上述高濃度部分的平均厚度±5μm」的厚度的區域。
  8. 如申請專利範圍第1項所述之光學薄膜,其中上述添加劑係紫外線吸收劑。
  9. 如申請專利範圍第1項所述之光學薄膜,其中上述光學薄膜係張布(tenter)拉伸用的原料捲薄膜。
  10. 一種整形薄膜,其係從申請專利範圍第1至9項任一項所述之光學薄膜,切除上述光學薄膜的寬度方向的端部而得。
  11. 一種光學薄膜的製造方法,其包含:由填充含有添加劑的熔融狀態的熱可塑性樹脂A之層,及配置於上述熱可塑性樹脂A之層的厚度方向的兩側及寬度方向的兩側、且上述添加劑的濃度較上述熱可塑性樹脂A低的熔融狀態的熱可塑性樹脂B之層的模具,將上述熱可塑性樹脂A及上述熱可塑性樹脂B薄膜狀擠出之步驟。
  12. 一種拉伸薄膜的製造方法,其具有:將申請專利範圍第11項所述之製造方法所製造的光學薄膜,供於具備夾具的張布(tenter)拉伸機的步驟;藉由上述張布(tenter)拉伸機的上述夾具,夾住上述光學薄膜的寬度方向的兩端部、拉伸,得到拉伸薄膜的步驟;及從所得上述拉伸薄膜切除上述兩端部的步驟。
  13. 一種拉伸薄膜的製造方法,其具有: 將以如申請專利範圍第11項所述之製造方法所製造的光學薄膜的寬度方向的兩端部切除,得到整形薄膜的步驟;及將所得的整形薄膜供給張布(tenter)拉伸機,拉伸得到拉伸薄膜的步驟。
  14. 如申請專利範圍第12或13項所述之拉伸薄膜的製造方法,其中在上述拉伸薄膜中的上述添加劑的含量,在寬度方向大致一定。
  15. 如申請專利範圍第12或13項所述之拉伸薄膜的製造方法,其中在上述熱可塑性樹脂A中的上述添加劑的濃度為3重量%以上、10重量%以下。
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