TW201610051A - 接著劑組成物、接著膜、光學構件及接著片 - Google Patents

Abstract

本文揭露一種接著膜，包含：（A）(甲基)丙烯酸類共聚物、（B）光聚合起始劑以及（C）碳化二亞胺固化劑，且具有如藉由等式1所計算，10%或低於10%之凝膠分率差異之絕對值： [等式1] 凝膠分率差異 = GF7-GF1 （GF7及GF1與實施方式中定義相同）。

Description

接著劑組成物、接著膜、光學構件及接著片

本發明是關於接著劑組成物、接著膜、光學構件及接著片。

近來，平板顯示器（FPD），諸如液晶顯示器（LCD）、電漿顯示面板（PDP）以及有機電致發光（EL）顯示器之使用漸增。因此，需要改善用於FPD之接著劑的加工性能及生產力。

專利文獻1揭露一種用於偏光板之接著劑組成物，其藉由用活性能量射線對包括丙烯酸類共聚物及活性能量可固化化合物之接著材料進行照射來製備。在此特徵下，用於光學膜之接著劑組成物在高溫及高濕度條件下顯示優良耐久性及抗漏光性。

專利文獻2揭露一種接著劑組成物，其包括(甲基)丙烯酸酯（A），所述(甲基)丙烯酸酯（A）具有600,000 g/mol至2,000,000 g/mol之重量平均分子量且含有具有氮原子之單體作為單體單元；及活性能量可固化組分（B）。不同於專利文獻1，專利文獻2中所揭露之接著劑組成物不採用異氰酸酯類交聯劑且在用活性能量射線照射之後需要約12小時之老化時間來獲得實際接著效能。在此特徵下，用於光學膜之接著劑組成物在高溫及高濕度之條件下顯示優良耐久性。

然而，由專利文獻1中所揭露之接著劑組成物形成的接著層在用活性能量射線照射之後需要長達10天之老化時間來獲得實際接著效能，且具有低生產力之問題。另外，因為專利文獻1中所揭露之接著劑組成物採用異氰酸酯類交聯劑（異氰酸酯類固化劑），所以異氰酸酯類交聯劑中之未反應單體可能危害工人之呼吸器官。此外，接著劑組成物具有短適用期，由此提供低生產力。

另外，雖然專利文獻2中所揭露之接著劑組成物不採用異氰酸酯類交聯劑，但接著劑組成物採用具有包括呈異氰酸酯三聚體之異氰尿酸酯之結構（異氰尿酸酯結構）的活性能量可固化化合物。具有異氰尿酸酯結構之活性能量可固化化合物顯示與(甲基)丙烯酸類共聚物之低反應性，且因此仍然需要約12小時之老化時間來獲得實際接著效能。相關技術之實例揭露於日本專利特許公開案第2006-235568號（專利文獻1）及日本專利特許公開案第2013-203899號（專利文獻2）中。

作為此項技術中解決以上問題之密集研究的結果，本發明人發現所述問題可藉由包含(甲基)丙烯酸類共聚物（(meth)acrylic copolymer）、光聚合起始劑、矽烷偶合劑以及不含異氰酸酯基（isocyanate group）之碳化二亞胺（carbodiimide）固化劑的接著膜及接著劑組成物來解決。已基於此發現實現本發明。

本發明之一個態樣是關於一種接著膜。在一個實施例中，接著膜包含：（A）(甲基)丙烯酸類共聚物、（B）光聚合起始劑以及（C）碳化二亞胺固化劑，且具有如藉由等式1所計算的10%或低於10%之凝膠分率差異之絕對值： [等式1] 凝膠分率差異= GF7-GF1 其中GF7為如藉由等式2所計算，在用活性能量射線照射，接著在23℃及45% RH (相對濕度)下老化7天之後的凝膠分率，且GF1為如藉由等式2所計算，在用活性能量射線照射，接著在23℃及45% RH下老化1小時之後的凝膠分率： [等式2] 凝膠分率（%）= {(W₃ - W₂ )/W₁ } × 100 其中W₁ 為藉由接著膜經受活性能量射線照射，接著在23℃及45% RH下老化1小時或7天所獲得之樣本的重量；W₂ 為線網（200網目）之重量；且W₃ 為線網與接著膜之樣本的總重量，將其置於樣品瓶中，在添加30公克乙酸乙酯至樣品瓶之後在25℃下靜置1天，且在90℃下乾燥1小時。

在一個實施例中，接著膜在用活性能量射線照射，接著在23℃及45% RH下老化7天之後可具有65%至92%之凝膠分率。

在一個實施例中，接著膜可包含(甲基)丙烯酸類共聚物（A）；光聚合起始劑（B）；以及碳化二亞胺固化劑（C）。

在一個實施例中，接著膜可包含100重量份之(甲基)丙烯酸類共聚物（A）；0.05重量份至4重量份之光聚合起始劑（B）；以及0.05重量份至5重量份之碳化二亞胺固化劑（C）。

在一個實施例中，碳化二亞胺固化劑（C）可為不含異氰酸酯基之碳化二亞胺固化劑。

在一個實施例中，接著膜可更包含（D）矽烷偶合劑。

在一個實施例中，接著膜可包含以100重量份(甲基)丙烯酸類共聚物（A）計的0.05重量份至0.5重量份之矽烷偶合劑（D）。

在一個實施例中，接著膜可更包含以100重量份(甲基)丙烯酸類共聚物（A）計的9重量份或低於9重量份之（E）活性能量可固化化合物。

在一個實施例中，接著膜可更包含以100重量份(甲基)丙烯酸類共聚物（A）計的1重量份至8重量份之（E）活性能量可固化化合物。

在一個實施例中，光聚合起始劑（B）及活性能量可固化化合物（E）可以1:1至1:50之重量比存在。

在一個實施例中，光聚合起始劑（B）及碳化二亞胺固化劑（C）可以1:0.1至1:15之重量比存在。

在一個實施例中，接著膜可更包含以100重量份(甲基)丙烯酸類共聚物（A）計的0.2重量份至5重量份之（F）抗靜電劑。

在一個實施例中，(甲基)丙烯酸類共聚物（A）可包含以100重量份(甲基)丙烯酸類共聚物（A）計的90重量份至99.9重量份之（a-1）(甲基)丙烯酸酯單體及0.1重量份至10重量份的（a-2）含羧基之單體與（a-3）含羥基之(甲基)丙烯酸單體中的至少一者。

在另一個實施例中，(甲基)丙烯酸類共聚物（A）可包含以100重量份(甲基)丙烯酸類共聚物（A）計的90重量份至99.5重量份之（a-1）(甲基)丙烯酸酯單體、0.5重量份至10重量份之（a-2）含羧基之單體以及其餘部分之（a-3）含羥基之(甲基)丙烯酸單體，且(甲基)丙烯酸酯單體（a-1）、含羧基之單體（a-2）以及含羥基之(甲基)丙烯酸單體（a-3）的總和可為100重量份。

在一個實施例中，接著膜可具有1牛頓/25毫米至6牛頓/25毫米之接著強度。

本發明之另一態樣是關於一種接著劑組成物。在一個實施例中，接著劑組成物可包含100重量份之（A）(甲基)丙烯酸類共聚物；0.05重量份至4重量份之（B）光聚合起始劑；以及0.05重量份至5重量份之（C）不含異氰酸酯基之碳化二亞胺固化劑。

在一個實施例中，接著劑組成物可更包含以100重量份(甲基)丙烯酸類共聚物（A）計的0.05重量份至0.5重量份之（D）矽烷偶合劑。

在一個實施例中，接著劑組成物可更包含以100重量份(甲基)丙烯酸類共聚物（A）計的9重量份或低於9重量份之（E）活性能量可固化化合物。

在一個實施例中，接著劑組成物可更包含以100重量份(甲基)丙烯酸類共聚物（A）計的1重量份至8重量份之活性能量可固化化合物（E）。

在一個實施例中，光聚合起始劑（B）及活性能量可固化化合物（E）可以1:1至1:50之重量比存在。

在一個實施例中，光聚合起始劑（B）及碳化二亞胺固化劑（C）可以1:0.1至1:15之重量比存在。

在一個實施例中，活性能量可固化化合物（E）可具有直鏈結構或分支鏈結構。

在一個實施例中，接著劑組成物可更包含以100重量份(甲基)丙烯酸類共聚物（A）計的0.2重量份至5重量份之（F）抗靜電劑。

在一個實施例中，(甲基)丙烯酸類共聚物（A）可包含以100重量份(甲基)丙烯酸類共聚物（A）計的90重量份至99.9重量份之（a-1）(甲基)丙烯酸酯單體及0.1重量份至10重量份的（a-2）含羧基之單體與（a-3）含羥基之(甲基)丙烯酸單體中的至少一者。

在另一個實施例中，(甲基)丙烯酸類共聚物（A）可包含以100重量份(甲基)丙烯酸類共聚物（A）計的90重量份至99.5重量份之（a-1）(甲基)丙烯酸酯單體、0.5重量份至10重量份之（a-2）含羧基之單體以及其餘部分之（a-3）含羥基之(甲基)丙烯酸單體。

在一個實施例中，(甲基)丙烯酸類共聚物（A）可具有500,000 g/mol至2,000,000 g/mol之重量平均分子量。

在一個實施例中，接著劑組成物可具有在25℃下300毫帕·秒至7000毫帕·秒之黏度。

在一個實施例中，如經由在接著劑處理之後儲存1小時所量測，接著劑組成物可具有70%或超過70%之凝膠分率。

在一個實施例中，進行接著劑處理且接著靜置於23℃及45% RH下7天之接著劑組成物的凝膠分率可為如在接著劑處理之後儲存1小時所量測之其凝膠分率的95%至105%。

本發明之另一態樣是關於一種包括如上闡述之接著膜的光學構件，或一種由如上闡述之接著劑組成物形成的接著層。

在一個實施例中，接著層可具有1牛頓/25毫米至6牛頓/25毫米之接著強度。

在一個實施例中，光學構件可藉由在偏光板上形成接著膜或接著層來形成。

本發明之另一態樣是關於一種包括如上闡述之接著膜的接著片或一種由如上闡述之接著劑組成物形成的接著層。

根據本發明，可提供一種接著膜及一種接著劑組成物，其具有長適用期以提供優良加工性能，可在短老化時間之後顯示實際接著效能以提供優良生產力，且亦可顯示優良耐久性及抗漏光性。

在下文中，將參考隨附圖式詳細描述本發明之實施例。應瞭解本發明不限於以下實施例。如本文所用，「(甲基)丙烯酸酯（(meth)acrylate）」及「(甲基)丙烯酸（(meth)acrylic acid）」通常指「丙烯酸酯」及「甲基丙烯酸酯」。同樣，含(甲基)之化合物，諸如「(甲基)丙烯酸」亦指其中具有或不具有「甲基」之化合物。

另外，如本文所用，指示一定範圍之表述，亦即「X至Y」意謂「大於X或等於X至小於Y或等於Y」。此外，除非本文中另有說明，否則操作及特性量測在室溫（20℃至25℃）/40%至50%相對濕度之條件下進行。

接著膜

本發明之一個態樣是關於一種接著膜。接著膜包括（A）(甲基)丙烯酸類共聚物、（B）光聚合起始劑以及（C）碳化二亞胺固化劑。舉例而言，接著膜可由包含下文描述之（A）(甲基)丙烯酸類共聚物、（B）光聚合起始劑以及（C）碳化二亞胺固化劑之接著劑組成物形成。

接著膜具有如藉由等式1所計算，10%或低於10%之凝膠分率差異之絕對值： [等式1] 凝膠分率差異= GF7-GF1 其中GF7為如藉由等式2所計算，在用活性能量射線照射，接著在23℃及45% RH (相對濕度)下老化7天之後的凝膠分率，且GF1為如藉由等式2所計算，在用活性能量射線照射，接著在23℃及45% RH下老化1小時之後的凝膠分率： [等式2] 凝膠分率（%）= {(W₃ - W₂ )/W₁ } × 100 其中W₁ 為藉由接著膜經受活性能量射線照射，接著在23℃及45% RH下老化1小時或7天所獲得之樣本的重量；W₂ 為線網（200網目）之重量；且W₃ 為線網與接著膜之樣本的總重量，將其置於樣品瓶中，在添加30公克乙酸乙酯至樣品瓶之後在25℃下靜置1天，且在90℃下乾燥1小時。

在凝膠分率差異之以上絕對值下，接著膜可顯示在實際接著效能及穩定性方面之優良特性。在一個實施例中，接著膜可具有0%至10%之凝膠分率差異之絕對值。在另一個實施例中，接著膜可具有0%至5%之凝膠分率差異之絕對值。在另一個實施例中，接著膜可具有0%至3%之凝膠分率差異之絕對值。舉例而言，接著膜可具有0%、1%、2%、3%、4%、5%、6%、7%、8%、9%或10%之凝膠分率差異之絕對值。

在一個實施例中，接著膜在用活性能量射線照射，接著在23℃及45% RH下老化7天之後可具有65%至92%之凝膠分率。在凝膠分率之此範圍內，接著膜可長時間穩定顯示實際接著效能且可具有優良穩定性。在另一個實施例中，接著膜在此等條件下可具有69%至88%之凝膠分率。舉例而言，接著膜在用活性能量射線照射，接著在23℃及45% RH下老化7天之後可具有65%、66%、67%、68%、69%、70%、71%、72%、73%、74%、75%、76%、77%、78%、79%、80%、81%、82%、83%、84%、85%、86%、87%、88%、89%、90%、91%或92%之凝膠分率。

在一個實施例中，接著膜可具有1微米至10毫米之厚度（乾燥後之厚度）。在另一個實施例中，接著膜可具有5微米至1.5毫米之厚度。

活性能量射線可為紫外光或電子束。當UV光用作活性能量射線時，高壓汞蒸汽燈、無電極燈、氙氣燈或金屬鹵化物燈可用作光源，且當電子束用作活性能量射線時，電子束加速器可用作光源。

活性能量射線可在50 mJ/cm² 至1,000 mJ/cm² 之通量下輻射。在此範圍內，可使接著膜之組分中包含之烯系雙鍵產生足夠反應，從而提供所需接著特徵及在暴露於環境改變時之耐久性，且允許在對接著層或基板無破壞下交聯。在一個實施例中，活性能量射線可在100 mJ/cm² 至700 mJ/cm² 之通量下輻射。在另一個實施例中，活性能量射線可在120 mJ/cm² 至500 mJ/cm² 之通量下輻射。

在一個實施例中，接著劑組成物可使用金屬鹵化物燈用UV光在500 mW/cm² 至2,000 mW/cm² 之照射度下照射下。照射可進行一定時段，例如1秒至10秒。照射可在任何氛圍中，例如在空氣中進行，或可在諸如氮氣或氬氣氛圍之惰性氣體氛圍中進行，使得光固化在不受空氣中之氧影響下進行。此外，照射可在室溫下進行或可在加熱至40℃至80℃之溫度的階段進行。

在一個實施例中，接著膜可包含(甲基)丙烯酸類共聚物（A）；光聚合起始劑（B）；以及碳化二亞胺固化劑（C）。

在一個實施例中，接著膜可包含100重量份之(甲基)丙烯酸類共聚物（A）；0.05重量份至4重量份之光聚合起始劑（B）；以及0.05重量份至5重量份之碳化二亞胺固化劑（C）。

在一個實施例中，碳化二亞胺固化劑（C）可為不含異氰酸酯基之碳化二亞胺固化劑。

接著劑組成物

本發明之另一態樣是關於一種接著劑組成物，其包含：100重量份之(甲基)丙烯酸類共聚物、0.05重量份至4重量份之光聚合起始劑、0.05重量份至0.5重量份之矽烷偶合劑以及0.05重量份至5重量份之碳化二亞胺固化劑。在此等組分下，接著劑組成物在不使用包含異氰酸酯類交聯劑或異氰尿酸酯（isocyanurate）結構之活性能量可固化化合物下具有長適用期及優良加工性能。另外，習知接著劑組成物需要老化約12小時以實現實際接著效能，而根據本發明之接著劑組成物即使老化一小時或少於一小時亦可獲得實際接著效能，由此確保優良生產力。此外，由根據本發明之接著劑組成物形成的接著層顯示優良耐久性及抗漏光性。

因此，根據本發明之接著劑組成物有效黏結各種對象，且因此由根據本發明之接著劑組成物形成的接著層可適合用作尤其光學構件或接著片之接著層。

（A）(甲基)丙烯酸類共聚物

根據本發明之接著膜及接著劑組成物包含(甲基)丙烯酸類共聚物（稱為「(甲基)丙烯酸類共聚物（A）」或簡稱為「組分（A）」）。

根據本發明，具有諸如羧基、羥基及胺基之交聯點的任何化合物可用於(甲基)丙烯酸類共聚物中。此類(甲基)丙烯酸類共聚物可採用相關技術中通常用於接著劑組成物之任何化合物。詳言之，(甲基)丙烯酸類共聚物可由(甲基)丙烯酸酯單體（a-1）以及含羧基之單體（a-2）與含羥基之(甲基)丙烯酸單體（a-3）中的至少一者構成。

在一個實施例中，(甲基)丙烯酸類共聚物（A）可包含以100重量份(甲基)丙烯酸類共聚物（A）計的90重量份至99.9重量份之(甲基)丙烯酸酯單體（a-1）及0.1重量份至10重量份的含羧基之單體（a-2）與含羥基之(甲基)丙烯酸單體（a-3）中的至少一者。

在一個實施例中，(甲基)丙烯酸類共聚物（A）可包含90重量份至99.5重量份之(甲基)丙烯酸酯單體（a-1）、0.5重量份至10重量份之含羧基之單體（a-2）以及其餘部分之含羥基之(甲基)丙烯酸單體（a-3）（其條件為(甲基)丙烯酸酯單體、含羧基之單體以及含羥基之(甲基)丙烯酸單體的總和為100重量份）。舉例而言，以100重量份(甲基)丙烯酸酯單體、含羧基之單體及含羥基之(甲基)丙烯酸單體計，(甲基)丙烯酸酯單體（a-1）可以90重量份、90.5重量份、91重量份、91.5重量份、92重量份、92.5重量份、93重量份、93.5重量份、94重量份、94.5重量份、95重量份、95.5重量份、96重量份、96,5重量份、97重量份、97.5重量份、98重量份、98.5重量份、99重量份或99.5重量份之量存在。此外，以100重量份(甲基)丙烯酸酯單體、含羧基之單體及含羥基之(甲基)丙烯酸單體計，含羧基之單體（a-2）可以0.5重量份、1重量份、1.5重量份、2重量份、2.5重量份、3重量份、3.5重量份、4重量份、4.5重量份、5重量份、5.5重量份、6重量份、6.5重量份、7重量份、7.5重量份、8重量份、8.5重量份、9重量份、9.5重量份或10重量份之量存在。

在此類組分下，(甲基)丙烯酸類共聚物（A）具有與下文描述之碳化二亞胺固化劑（C）之適合交聯點。因此，(甲基)丙烯酸類共聚物（A）可有效防止漏光或接著層因交聯程度過高而起泡，同時防止接著層因交聯程度過低而使得耐久性退化。

舉例而言，(甲基)丙烯酸類共聚物（A）可包含97重量份至99.5重量份之(甲基)丙烯酸酯單體（a-1）、0.5重量份至3重量份之含羧基之單體（a-2）以及其餘部分之含羥基之(甲基)丙烯酸單體（a-3）（其條件為(甲基)丙烯酸酯單體、含羧基之單體以及含羥基之(甲基)丙烯酸單體的總和為100重量份）。舉例而言，以100重量份(甲基)丙烯酸酯單體、含羧基之單體及含羥基之(甲基)丙烯酸單體計，(甲基)丙烯酸酯單體（a-1）可以97重量份、97.1重量份、97.2重量份、97.3重量份、97.4重量份、97.5重量份、97.6重量份、97.7重量份、97.8重量份、97.9重量份、98重量份、98.1重量份、98.2重量份、98.3重量份、98.4重量份、98.5重量份、98.6重量份、98.7重量份、98.8重量份、98.9重量份、99重量份、99.1重量份、99.2重量份、99.3重量份、99.4重量份或99.5重量份之量存在。舉例而言，以100重量份(甲基)丙烯酸酯單體、含羧基之單體及含羥基之(甲基)丙烯酸單體計，含羧基之單體（a-2）可以0.5重量份、0.6重量份、0.7重量份、0.8重量份、0.9重量份、1重量份、1.1重量份、1.2重量份、1.3重量份、1.4重量份、1.5重量份、1.6重量份、1.7重量份、1.8重量份、1.9重量份、2重量份、2.1重量份、2.2重量份、2.3重量份、2.4重量份、2.5重量份、2.6重量份、2.7重量份、2.8重量份、2.9重量份或3重量份之量存在。

（a-1）(甲基)丙烯酸酯單體

(甲基)丙烯酸酯單體（稱為「(甲基)丙烯酸酯單體（a-1）」或簡稱為「組分（a-1）」）為其中不含羥基之(甲基)丙烯酸之酯。(甲基)丙烯酸酯單體之實例可包含(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸丙酯、(甲基)丙烯酸異丙酯、(甲基)丙烯酸正丁酯、(甲基)丙烯酸異丁酯、(甲基)丙烯酸第三丁酯、(甲基)丙烯酸異戊酯、(甲基)丙烯酸正己酯、(甲基)丙烯酸正庚酯、(甲基)丙烯酸正辛酯、(甲基)丙烯酸第三辛酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯、(甲基)丙烯酸癸酯、(甲基)丙烯酸異癸酯、(甲基)丙烯酸十三酯、(甲基)丙烯酸硬脂酯、(甲基)丙烯酸異硬脂酯、(甲基)丙烯酸苯酯、(甲基)丙烯酸苯甲酯、(甲基)丙烯酸十二烷酯、(甲基)丙烯酸四氫呋喃酯、(甲基)丙烯酸環己酯、(甲基)丙烯酸4-正丁基環己酯、2-乙基己基二甘醇(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸丁氧基乙酯、(甲基)丙烯酸丁氧基甲酯、(甲基)丙烯酸甲基-3-甲氧基酯、(甲基)丙烯酸2-甲氧基乙酯、(甲基)丙烯酸2-乙氧基乙酯、(甲基)丙烯酸3-甲氧基丁酯、(甲基)丙烯酸2-(2-甲氧基乙氧基)乙酯、(甲基)丙烯酸2-(2-丁氧基乙氧基)乙酯、(甲基)丙烯酸4-丁基苯酯、(甲基)丙烯酸苯酯、(甲基)丙烯酸2,4,5-四甲基苯酯、(甲基)丙烯酸苯氧基甲酯、(甲基)丙烯酸苯氧基乙酯、聚氧化乙烯單烷基醚(甲基)丙烯酸酯、聚氧化乙烯單烷基醚(甲基)丙烯酸酯、聚氧化丙烯單烷基醚(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸三氟乙酯、(甲基)丙烯酸十五氟氧基乙酯、(甲基)丙烯酸2-氯乙酯、(甲基)丙烯酸2,3-二溴丙酯以及(甲基)丙烯酸三溴苯酯，但不限於此。這些可單獨或以其組合使用。

在一個實施例中，可使用(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸正丁酯以及(甲基)丙烯酸2-乙基己酯中之至少一者。在另一個實施例中，可使用(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸正丁酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯、(甲基)丙烯酸2-甲氧基乙酯以及(甲基)丙烯酸2-乙氧基乙酯中之至少一者。

（a-2）含羧基之單體

含羧基之單體（稱為「含羧基之單體（a-2）」或簡稱為「組分（a-2）」）為其中具有至少一個羧基之不飽和單體。含羧基之單體之實例可包含(甲基)丙烯酸、順丁烯二酸、順丁烯二酸酐、反丁烯二酸、反丁烯二酸酐、丁烯酸、伊康酸、伊康酸酐、肉豆蔻油酸、棕櫚油酸以及油酸，但不限於此。這些可單獨或以其組合使用。

在一個實施例中，可使用(甲基)丙烯酸、順丁烯二酸、順丁烯二酸酐、反丁烯二酸、反丁烯二酸酐、丁烯酸、伊康酸以及伊康酸酐中之至少一者。在另一個實施例中，可使用(甲基)丙烯酸。

（a-3）含羥基之(甲基)丙烯酸單體

含羥基之(甲基)丙烯酸單體（稱為「含羥基之(甲基)丙烯酸單體（a-3）」或簡稱為「組分（a-3）」）為其中具有羥基之丙烯酸單體。含羥基之(甲基)丙烯酸單體之實例可包含(甲基)丙烯酸2-羥基乙酯、(甲基)丙烯酸4-羥基丁酯、1,6-己二醇單(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇單(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基丙烷二(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基乙烷二(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸2-羥基丙酯、(甲基)丙烯酸2-羥基丁酯、(甲基)丙烯酸2-羥基-3-苯基氧基丙酯、(甲基)丙烯酸4-羥基環己酯、N-2-羥基乙基(甲基)丙烯醯胺以及環己烷二甲醇單丙烯酸酯，但不限於此。此外，含羥基之(甲基)丙烯酸單體可包含含縮水甘油基之化合物，諸如烷基縮水甘油醚、烯丙基縮水甘油醚及(甲基)丙烯酸縮水甘油酯，以及藉由(甲基)丙烯酸加成獲得之化合物。這些可單獨或以其組合使用。

在一個實施例中，可使用(甲基)丙烯酸2-羥基乙酯、(甲基)丙烯酸4-羥基丁酯、2-羥基乙基(甲基)丙烯醯胺以及環己烷二甲醇單丙烯酸酯中之至少一者。在另一個實施例中，可使用(甲基)丙烯酸2-羥基乙酯、(甲基)丙烯酸4-羥基丁酯以及N-2-羥基乙基(甲基)丙烯醯胺中之至少一者。

其他單體

根據本發明，(甲基)丙烯酸類共聚物（A）可更包含除單體（a-1）至單體（a-3）外的單體，亦即可與組分（a-1）至組分（a-3）共聚之其他單體。其他單體之實例可包含含環氧基之丙烯酸單體，諸如(甲基)丙烯酸縮水甘油酯以及(甲基)丙烯酸甲基縮水甘油酯；含胺基之丙烯酸單體，諸如(甲基)丙烯酸二甲胺基乙酯、(甲基)丙烯酸二乙胺基乙酯、(甲基)丙烯酸N-第三丁基胺基乙酯以及氯化甲基丙烯醯氧乙基三甲基銨(甲基)丙烯酸酯；含醯胺之丙烯酸單體，諸如(甲基)丙烯醯胺、N-羥甲基(甲基)丙烯醯胺、N-甲氧基甲基(甲基)丙烯醯胺以及N,N-亞甲基雙(甲基)丙烯醯胺；含磷酸酯基之丙烯酸單體，諸如2-甲基丙烯醯氧基乙基二苯基磷酸酯基(甲基)丙烯酸酯、三甲基丙烯醯氧基乙基磷酸酯基(甲基)丙烯酸酯以及三丙烯醯氧基乙基磷酸酯基(甲基)丙烯酸酯；含磺酸基之丙烯酸單體，諸如(甲基)丙烯酸磺丙酯鈉、(甲基)丙烯酸2-磺乙酯鈉以及2-丙烯醯胺-2-甲基丙烷磺酸鈉；含胺基甲酸酯基之丙烯酸單體，諸如胺基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯；含苯基之丙烯酸類乙烯基單體，諸如(甲基)丙烯酸對第三丁基苯酯及(甲基)丙烯酸鄰聯苯酯；含矽烷基之乙烯系單體，諸如(甲基)丙烯酸2-乙醯乙醯氧基乙酯、乙烯基三甲氧基矽烷、乙烯基三乙氧基矽烷、乙烯基三(β-甲氧基乙基)矽烷、乙烯基三乙醯基矽烷以及甲基丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷；苯乙烯；氯苯乙烯；α-甲基苯乙烯；乙烯基甲苯；氯乙烯；乙酸乙烯酯；丙酸乙烯酯；丙烯腈；乙烯基吡啶及類似物。這些單體可單獨或以其組合使用。

在一些實施例中，其他單體可以(甲基)丙烯酸類共聚物（A）之總量計10重量%或低於10重量%之量存在。在其他單體之此含量範圍內，接著劑組成物可顯示優良接著力。在一個實施例中，其他單體可以5重量%或低於5重量%之量存在。在另一個實施例中，其他單體可以0重量%至5重量%之範圍存在。舉例而言，其他單體可以0、1重量%、2重量%、3重量%、4重量%、5重量%、6重量%、7重量%、8重量%、9重量%或10重量%之量存在。

在一個實施例中，(甲基)丙烯酸類共聚物（A）可包含90重量份至99.5重量份之(甲基)丙烯酸酯單體（a-1）、0.5重量份至10重量份之含羧基之單體（a-2）以及其餘部分之含羥基之(甲基)丙烯酸單體（a-3）（其條件為(甲基)丙烯酸酯單體、含羧基之單體以及含羥基之(甲基)丙烯酸單體的總和為100重量份）。在此類組分下，(甲基)丙烯酸類共聚物（A）具有與下文描述之碳化二亞胺固化劑（C）之適合交聯點。因此，(甲基)丙烯酸類共聚物（A）可有效防止漏光或接著層因交聯程度過高而起泡，同時防止接著層因交聯程度過低而使得耐久性退化。

舉例而言，(甲基)丙烯酸類共聚物（A）可包含97重量份至99.5重量份之(甲基)丙烯酸酯單體（a-1）、0.5重量份至3重量份之含羧基之單體（a-2）以及其餘部分之含羥基之(甲基)丙烯酸單體（a-3）（其條件為(甲基)丙烯酸酯單體、含羧基之單體以及含羥基之(甲基)丙烯酸單體的總和為100重量份）。

組分（A）可藉由此項技術中已知之使用聚合起始劑之任何典型方法，諸如溶液聚合、乳液聚合、懸浮聚合、反相懸浮聚合、薄膜聚合以及噴霧聚合製備。聚合控制可藉由熱絕緣聚合、溫度控制聚合以及等溫聚合進行。除使用聚合起始劑起始之方法之外，照射、電磁輻射以及UV輻射亦可用於起始聚合。在這些方法中，可使用利用聚合起始劑之溶液聚合，因為此方法容易調整分子量，同時減少雜質。在一些實施例中，乙酸乙酯、甲苯、甲基乙基酮及類似物可用作溶劑。

舉例而言，(甲基)丙烯酸類共聚物（A）可藉由添加0.01重量份至0.5重量份聚合起始劑至100重量份總量之單體，接著在氮氣氛圍下在60℃至90℃下反應3小時至10小時來產生。聚合起始劑可包含例如偶氮化合物，諸如偶氮二異丁腈（AIBN）、2-2′-偶氮二(2-甲基丁腈)以及偶氮雙氰戊酸；有機過氧化物，諸如第三丁基過氧基特戊酸酯、第三丁基過氧基苯甲酸酯、第三丁基過氧基-2-乙基己酸酯、過氧化二-第三丁基、氫過氧化物異丙苯、過氧化苯甲醯以及氫過氧化第三丁基；以及無機過氧化物，諸如過氧化氫、過硫酸銨、過硫酸鉀以及過硫酸鈉。這些起始劑可單獨或以其組合使用。

組分（A）可具有500,000公克/莫耳至2,000,000公克/莫耳之重量平均分子量（Mw）。在一個實施例中，組分（A）可具有1,000,000公克/莫耳至1,800,000公克/莫耳之重量平均分子量（Mw）。在另一個實施例中，組分（A）可具有1,200,000公克/莫耳至1,600,000公克/莫耳之重量平均分子量（Mw）。當組分（A）具有500,000公克/莫耳或超過500,000公克/莫耳之重量平均分子量（Mw）時，接著劑組成物具有高度耐久性。當組分（A）具有2,000,000公克/莫耳或低於2,000,000公克/莫耳之重量平均分子量（Mw）時，接著劑組成物可顯示提高之接著力。另外，根據本發明，重量平均分子量是基於藉由如以下實例中陳述之凝膠滲透層析法量測的聚苯乙烯標準。

組分（A）可以單獨或至少兩種化合物組合使用。

（B）光聚合起始劑

根據本發明之接著膜及接著劑組成物包含光聚合起始劑（稱為「光聚合起始劑」或簡稱為「組分（B）」）。在接著劑組成物中，光聚合起始劑在如下所述照射接著劑組成物之過程中產生自由基，且增強(甲基)丙烯酸類共聚物或下文描述之活性能量可固化化合物與烯系雙鍵之反應性。因為接著劑組成物包含光聚合起始劑，所以接著劑組成物可經由短的老化時間實現實際接著效能。雖然此不限制本發明之範疇，但應瞭解可因包含光聚合起始劑之接著劑組成物的偏光速率比使用異氰酸酯類固化劑之熱可固化接著劑組成物高而獲得此結果。

光聚合起始劑之實例可包含苯乙酮化合物，諸如4-苯氧基二氯苯乙酮、4-第三丁基二氯苯乙酮、4-第三丁基三氯苯乙酮、二乙氧基苯乙酮、2-羥基-2-甲基-1-苯基-丙-1-酮、1-(4-異丙基苯基)-2-羥基-2-甲基-丙-1-酮、1-(4-十二烷基苯基)-2-羥基-2-甲基丙-1-酮、4-(2-羥基乙氧基)-苯基-(2-羥基-2-丙基)酮、1-羥基-環己基苯基酮以及2-甲基-1-[4-(甲硫基)苯基]-2-嗎啉基-丙烷-1；安息香化合物，諸如安息香、安息香甲醚、安息香乙醚、安息香異丙醚、安息香異丁醚以及苯甲基二甲基縮酮；二苯甲酮化合物，諸如二苯甲酮、苯甲醯基苯甲酸酯、苯甲酸苯甲醯基甲酯、4-苯基二苯甲酮、羥基二苯甲酮、4-苯甲醯基-4′-甲基二苯基硫、3,3′-二甲基-4-甲氧基二苯甲酮以及3,3',4,4'-四(第三丁基過氧基羰基)二苯甲酮；咪唑化合物，諸如2,2-雙-2-氯苯基-4,5,4,5-四苯基-2,1,2-聯咪唑以及2,2-雙(2,4,6-三氰基苯基)-4,4,5,5-四苯基-1,2-聯咪唑；以及其他起始劑化合物，諸如雙(2,4,6-三甲基苯甲醯基)-苯基膦氧化物、乙醛酸甲基苯酯、苯甲基、9,10-菲醌、樟腦醌、二苯并軟木酮、2-乙基蒽醌、2-異丙基噻噸酮以及三嗪化合物。這些化合物可單獨或以其組合使用。

光聚合起始劑可合成或可由任何市售產品中選出。光聚合起始劑之市售產品之實例可包含Irgacure®系列，諸如Irgacure® 369、Irgacure® 784、Irgacure® 651、Irgacure® 184、Irgacure® 500、Irgacure® 1000、Irgacure® 149、Irgacure® 819、Irgacure® 261及類似物；Darocure®系列，諸如Darocure® 1173（均可購自日本巴斯夫公司（BASF Japan Co. Ltd.）及其類似物。

組分（B）以100重量份組分（A）計0.05重量份至4重量份（就固體含量而言）之量存在。若組分（B）以少於0.05重量份之量存在，則即使在用活性能量射線照射，例如UV照射之後仍存在交聯不足之問題。若組分（B）以超過4重量份之量存在，則接著劑組成物可能交聯過度而降低接著層應力，可能在高溫條件下儲存時不跟隨偏光器收縮，且可能引起漏光或耐久性退化。在一個實施例中，組分（B）可以0.1重量份至3.5重量份（就固體含量而言）之量存在。在另一個實施例中，組分（B）可以0.5重量份至3重量份（就固體含量而言）之量存在。舉例而言，組分（B）可以0.05重量份、0.1重量份、0.5重量份、1重量份、1.5重量份、2重量份、2.5重量份、3重量份、3.5重量份或4重量份之量存在。

（C）碳化二亞胺固化劑

根據本發明之接著膜及接著劑組成物包含不含異氰酸酯基之碳化二亞胺固化劑（稱為「碳化二亞胺固化劑（C）」或簡稱為「組分（C）」）。異氰酸酯基可由-N=C=O表示。在相關技術中，接著劑組成物包含異氰酸酯類固化劑且因此需要長老化時間，因為異氰酸酯類固化劑引起之固化反應藉由熱來活化。此外，異氰酸酯類交聯劑中之未反應單體可能危害人員。根據本發明，接著劑組成物使用碳化二亞胺固化劑，由此提供減少老化時間及優良穩定性之優點。另外，當接著劑組成物用於偏光板中時，接著劑組成物中使用碳化二亞胺固化劑可提高接著層與偏光板之間的接著性。

或者，考慮到減少接著劑組成物之適用期及人員安全，根據本發明之接著劑組成物可不包含異氰酸酯類固化劑。

在碳化二亞胺固化劑中，一些碳化二亞胺固化劑包含由式1表示之異氰酸酯基（例如CARBODILITE^® V-01（日清化學公司（Nisshinbo Chemical Inc.）））： [式1]

採用含有異氰酸酯基之碳化二亞胺固化劑的接著劑組成物具有減少之適用期。相信此類問題是由於異氰酸酯類固化劑即使在室溫下之逐漸交聯反應引起。根據本發明，接著劑組成物採用不含異氰酸酯基之碳化二亞胺固化劑，由此提供長適用期及優良加工性能。雖然此不限制本發明之範疇，應瞭解此結果可因為交聯反應直至諸如UV照射之活性能量射線照射才進行而獲得。

作為根據本發明之碳化二亞胺固化劑（C），例如可使用具有至少兩個碳化二亞胺基團（-N=C=N-）之化合物（聚碳化二亞胺），但不限於此。在另一個實施例中，可使用此項技術中已知之任何適合之聚碳化二亞胺。

本文中，「不含異氰酸酯基之碳化二亞胺固化劑」意謂碳化二亞胺固化劑中存在之異氰酸酯基之NCO含量（%）實質上為0重量%。特定言之，使用根據JIS K1603-1(2007)量測，具有少於0.5%之NCO含量的碳化二亞胺固化劑。

組分（C）可合成或由任何市售產品中選出。不含異氰酸酯基之碳化二亞胺固化劑之市售產品之實例可包含CARBODILITE^® V-03（NCO含量：0%）、CARBODILITE® V-09（NCO含量：0%）（均可購自日清化學公司）及其類似物。

組分（C）可以100重量份組分（A）計0.05重量份至5重量份（就固體含量而言）之量存在。若組分（C）之量少於0.05重量份，則接著劑組成物顯示與接著層基板之低黏著性，且可能引起接著物嚴重污染或可再加工性退化。在此情況下，當在黏結於液晶單元（liquid crystal cell），亦即接著物之後因黏結誤差而需要剝落時，可能存在產生光學構件之產率退化及其類似問題之問題。若組分（C）之量超出5重量份，則接著劑組成物可進行嚴重交聯，由此引起漏光或耐久性退化。在一個實施例中，組分（C）可以0.07重量份至4重量份（就固體含量而言）之量存在。在另一個實施例中，組分（C）可以0.1重量份至2.8重量份（就固體含量而言）之量存在。舉例而言，組分（C）可以0.05重量份、0.06重量份、0.07重量份、0.08重量份、0.09重量份、0.1重量份、0.15重量份、0.2重量份、0.25重量份、0.3重量份、0.35重量份、0.4重量份、0.45重量份、0.5重量份、0.6重量份、0.7重量份、0.8重量份、0.9重量份、1重量份、1.5重量份、2重量份、2.5重量份、3重量份、3.5重量份、4重量份、4.5重量份或5重量份之量存在。組分（C）可單獨或至少兩種化合物組合使用。

（D）矽烷偶合劑

根據本發明之接著膜及接著劑組成物可更包含矽烷偶合劑（稱為「矽烷偶合劑（D）」或簡稱為「組分（D）」）。矽烷偶合劑可增強接著層之機械強度，從而接著層可具有優良耐久性。

矽烷偶合劑之實例可包含甲基三甲氧基矽烷、二甲基二甲氧基矽烷、三甲基甲氧基矽烷、正丙基三甲氧基矽烷、乙基三甲氧基矽烷、二乙基二乙氧基矽烷、正丁基三甲氧基矽烷、正己基三乙氧基矽烷、正辛基三甲氧基矽烷、苯基三甲氧基矽烷、二苯基二甲氧基矽烷、環己基甲基二甲氧基矽烷、乙烯基三氯矽烷、乙烯基三甲氧基矽烷、乙烯基三乙氧基矽烷、乙烯基三(β-甲氧基乙氧基)矽烷、3-縮水甘油氧基丙基甲基二乙氧基矽烷、β-(3,4-環氧基環己基)乙基三甲氧基矽烷、γ-縮水甘油氧基丙基三甲氧基矽烷、γ-縮水甘油氧基丙基三乙氧基矽烷、γ-甲基丙烯醯氧基丙基甲基二甲氧基矽烷、γ-甲基丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷、γ-甲基丙烯醯氧基丙基甲基二乙氧基矽烷、γ-甲基丙烯醯氧基丙基三乙氧基矽烷、γ-丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷、N-β-(胺基乙基)-γ-胺基丙基甲基二甲氧基矽烷、N-β-(胺基乙基)-γ-胺基丙基三甲氧基矽烷、N-β-(胺基乙基)-γ-胺丙基三乙氧基矽烷、γ-胺基丙基三甲氧基矽烷、γ-胺基丙基三乙氧基矽烷、N-苯基-γ-胺基丙基三甲氧基矽烷、γ-氯丙基三甲氧基矽烷、γ-巰基丙基三甲氧基矽烷、γ-巰基丙基甲基二甲氧基矽烷以及雙-(3-(三乙氧基矽烷基)丙基)四硫化物。

此外，可使用經由具有諸如環氧基（縮水甘油氧基）、胺基、巰基（mercapto group）以及(甲基)丙烯醯基之官能基的矽烷偶合劑、具有能夠與以上官能基反應之官能基的矽烷偶合劑以及其他偶合試劑以關於各官能基之一定比率反應而獲得的具有水解矽烷基之化合物。

根據本發明，烷氧基寡聚物矽烷偶合劑(寡聚矽烷偶合劑)可用作矽烷偶合劑。寡聚矽烷偶合劑藉由兩種或兩種以上各具有至少一個烷氧基之矽烷化合物之縮合以形成-Si-O-Si-結構來製備，其中至少一個烷氧基黏結於矽原子之一。寡聚矽烷偶合劑為含有機官能基之化合物。寡聚矽烷偶合劑中烷氧基之存在允許接著劑組成物顯示與用於液晶面板之玻璃及其類似物的優良接著性。此外，寡聚矽烷偶合劑中有機官能基之存在允許接著劑組成物與(甲基)丙烯酸類共聚物高度相容及接著且顯示在(甲基)丙烯酸類共聚物上所謂「錨定（anchor）」作用。應瞭解本發明不受此類考慮因素限制。

可包含在寡聚矽烷偶合劑中之有機官能團的實例可包含乙烯基、環氧基、苯乙烯基、(甲基)丙烯醯基、甲基丙烯醯基、丙烯醯氧基、胺基、脲基、氯丙基、巰基以及多硫化物基（polysulfide group）。其中，環氧基、巰基以及(甲基)丙烯醯基可用於實現提高之耐久性且同時實現接著層之低黏性。在另一個實施例中，可使用環氧基及巰基。

寡聚矽烷偶合劑可為每分子具有兩個矽原子（亦即二聚體）至約100個矽原子之寡聚物，亦即平均聚合度為2至約100。因為寡聚矽烷偶合劑隨著平均聚合度增加而黏性變得更大，所以平均聚合度高於100之寡聚矽烷偶合劑可呈糊狀物或固體形式提供，由此使得其因黏度高而難以處置。在一個實施例中，寡聚矽烷偶合劑之平均聚合度可為例如2至80。在另一個實施例中，寡聚矽烷偶合劑之平均聚合度可為3至50。

寡聚矽烷偶合劑中所包含之有機官能基通常經由適當連接基團鍵結於矽原子。此類連接基團之實例包含伸烷基，諸如亞甲基、伸乙基、三亞甲基、六亞甲基以及十亞甲基；間雜有至少一個芳環之二價烴基，諸如甲基苯基乙基；以及間雜有至少一個氧原子之二價脂族基，諸如甲氧基甲基、甲氧基乙基以及甲氧基丙基。當有機官能基為環氧基時，官能基可在鍵結在一起的兩個相鄰碳原子之間形成以形成環。

舉例而言，寡聚矽烷偶合劑可包含以上提及之矽烷化合物的單體或共聚物，但不限於此。

矽烷偶合劑可合成或可由任何市售產品中選出。矽烷偶合劑之市售產品之實例可包含信越（Shin-Etsu）Silicon^® KBM-303、KBM-403、KBE-402、KBE-403、KBE-502、KBE-503、KBM-5103、KBM-573、KBM-802、KBM-803、KBE-846、X-41-1805（具有巰基、甲氧基以及乙氧基之寡聚矽烷偶合試劑）、X-41-1810（具有巰基、甲基以及甲氧基之寡聚矽烷偶合劑）、X-41-1053（具有環氧基、甲氧基以及乙氧基之寡聚矽烷偶合劑）、X-41-1058（具有環氧基、甲基以及甲氧基之寡聚矽烷偶合劑）（均可購自信越化學工業株式會社（Shin-Etsu Chemical Co. Ltd.））。

在一個實施例中，KBM-303、KBM-403、KBE-402、KBE-403、KBM-5103、KBM-573、KBM-802、KBM-803、KBE-846、X-41-1805或X-41-1810可用作矽烷偶合劑。在另一個實施例中，KBM-403或X-41-1810可用作矽烷偶合劑。這些矽烷偶合劑可單獨或以其組合使用。

組分（D）可以按100重量份組分（A）計0.05重量份至0.5重量份（就固體含量而言）之量存在。在此範圍內，根據本發明之接著層可顯示優良耐久性以及抗漏光性。在一個實施例中，組分（D）可以0.07重量份至0.45重量份（就固體含量而言）之量存在。在另一個實施例中，組分（D）可以0.1重量份至0.3重量份（就固體含量而言）之量存在。舉例而言，組分（D）可以0.05重量份、0.06重量份、0.07重量份、0.08重量份、0.09重量份、0.1重量份、0.15重量份、0.2重量份、0.25重量份、0.3重量份、0.35重量份、0.4重量份、0.45重量份或0.5重量份之量存在。

（E）活性能量可固化化合物

根據本發明之接著膜及接著劑組成物可更包含活性能量可固化化合物（稱為「活性能量可固化化合物（E）」或簡稱為「組分（E）」）。當不包含活性能量可固化化合物時，根據本發明之接著劑組成物具有由(甲基)丙烯酸類共聚物（A）提供之未反應的烯系雙鍵且因此在用活性能量射線照射之後可顯示接著力。然而，當接著劑組成物包含活性能量可固化化合物時，藉由光聚合起始劑（B）活化之烯系雙鍵可穩定存在於接著劑組成物中，其有利於接著劑組成物之品質管理。此外，當接著劑組成物包含活性能量可固化化合物時，接著劑組成物在用活性能量射線照射之後具有高凝膠分率。

活性能量可固化化合物可包含多官能(甲基)丙烯酸酯單體。多官能(甲基)丙烯酸酯單體之實例可包含乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、二乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、三乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、聚乙二醇二(甲基)丙烯酸酯（n=4至20）、乙氧基化雙酚A二(甲基)丙烯酸酯、三環癸烷二甲醇二(甲基)丙烯酸酯、1,6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,9-壬二醇二(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、丙三醇二(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、二(三羥甲基丙烷)四(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二羥甲基-三環癸烷二丙烯酸酯、二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、3-甲基-1,5-戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、2-羥基-3-丙烯醯基氧基丙基甲基丙烯酸酯以及三(2-(甲基)丙烯醯氧基乙基)異氰尿酸酯。

組分（E）可合成或可由任何市售產品中選出。組分（E）之市售產品之實例可包含NKESTER系列，諸如NKESTER A-HD-N、NKESTER A-TMPT、NKESTER AD-TMPT、NKESTER APG-100、NKESTER A-DPH、NKESTER A-TMMT及NKESTER TMPT（信中村化學有限公司（Shin-Nakamura Chemical Industry Co., Ltd））；LIGHT ACRYLATE系列，諸如LIGHT ACRYLATE 3EG-A、LIGHT ACRYLATE 4EG-A、LIGHT ACRYLATE 9EG-A、LIGHT ACRYLATE 14EG-A、LIGHT ACRYLATE NP-A及LIGHT ACRYLATE MPD-A（共榮社化學有限公司（Kyoeisha Chemical Co., Ltd.））；ARONICS系列（東亞合成有限公司（Toagosei Co., Ltd），諸如M-220、M-225、M-240、M-309、M-313及M-315及類似物。

用於根據本發明之接著劑組成物中的活性能量可固化化合物可不具有異氰尿酸酯結構。所述異氰尿酸酯結構指藉由異氰酸酯三聚產生且由式2表示之結構： [式2]。

在活性能量可固化化合物不具有異氰尿酸酯結構下，接著劑組成物可具有長適用期。舉例而言，異氰尿酸酯結構之存在可藉由在1,690 cm^-1 至1,700 cm^-1 下藉由FT-IR量測異氰尿酸酯結構之羰基來測定。在本發明中，可使用具有直鏈或分支鏈結構之活性能量可固化化合物。

組分（E）可視情況以100重量份組分（A）（就固體含量而言）計9重量份或低於9重量份之量存在。在此範圍內，接著劑組成物在用活性能量射線照射之後可顯示提高之凝膠分率，且可防止因交聯過度而引起漏光或耐久性退化。在一個實施例中，組分（E）可以1重量份至8重量份（就固體含量而言）之量存在。在另一個實施例中，組分（E）可以1.5重量份至7重量份（就固體含量而言）之量存在。舉例而言，組分（E）可以0.001重量份、0.005重量份、0.01重量份、0.05重量份、0.1重量份、0.15重量份、0.2重量份、0.25重量份、0.3重量份、0.35重量份、0.4重量份、0.45重量份、0.5重量份、0.6重量份、0.7重量份、0.8重量份、0.9重量份、1重量份、1.5重量份、2重量份、2.5重量份、3重量份、3.5重量份、4重量份、4.5重量份、5重量份、5.5重量份、6重量份、6.5重量份、7重量份、7.5重量份、8重量份、8.5重量份或9重量份之量存在。

組分（E）可以單獨或至少兩種化合物組合使用。

在一個實施例中，光聚合起始劑（B）與碳化二亞胺固化劑（C）可以1:0.1至1:15之重量比存在於接著劑組成物中。在重量比之此範圍內，由接著劑組成物形成之接著層具有低表面電阻且可顯示優良黏著性及可再加工性。特定言之，光聚合起始劑（B）與碳化二亞胺固化劑（C）可以1:0.1至1:0.5之重量比存在。

在另一個實施例中，光聚合起始劑（B）與活性能量可固化化合物（E）可以1:1至1:50之重量比存在。在重量比之此範圍內，由接著劑組成物形成之接著層可顯示優良耐久性及抗漏光性。舉例而言，光聚合起始劑（B）與活性能量可固化化合物（E）可以1:1至1:10之重量比存在。

（F）抗靜電劑

根據本發明之接著膜及接著劑組成物可更包含抗靜電劑（稱為「抗靜電劑（F）」或簡稱為「組分（F）」）。當接著劑組成物包含抗靜電劑時，由接著劑組成物形成之接著層具有減少之表面電阻。在此情況下，當在黏結於液晶單元，亦即接著物之後因黏結誤差而需要剝落時，接著層可有效地抑制靜電之產生。因此，接著層可穩定防止外來物容易附著在偏光板表面上、干擾液晶單元之配向以及外圍電路元件之靜電故障。

根據本發明，抗靜電劑可適當由諸如離子液體之離子導電試劑、表面活性劑及類似物中選出。

特定言之，離子液體可包含陽離子液體，諸如鏻、吡錠、吡咯啶鎓、咪唑鎓、鈲、銨、異脲陽離子、硫脲陽離子、哌啶鎓、吡唑鎓、鋶、四級銨以及四級鏻類離子液體；以及陰離子液體，諸如鹵素、硝酸、硫酸、磷酸、過氯酸、硫氰酸、硫代硫酸、亞硫酸、四氟硼酸鹽、六氟磷酸鹽、甲酸、草酸、乙酸、三氟乙酸以及烷基磺酸類離子液體。更具體而言，離子液體可包含氯化1-烯丙基-3-甲基咪唑鎓、氯化1,3-二甲基咪唑鎓、二甲基磷酸1,3-二甲基咪唑鎓、氯化1-乙基-3-甲基咪唑鎓、溴化1-乙基-3-甲基咪唑鎓、碘化1-乙基-3-甲基咪唑鎓、1-乙基-3-甲烷磺酸鹽、四氟硼酸1-乙基-3-甲基咪唑鎓、六氟磷酸1-乙基-3-甲基咪唑鎓、對甲苯磺酸1-乙基-3-甲基咪唑鎓、氯化1-丁基-3-甲基咪唑鎓、氯化1-己基-3-甲基咪唑鎓、1-甲基-1-丙基-吡咯啶鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、溴化1-甲基-1-甲基吡咯啶鎓、溴化1-丁基-1-甲基哌啶鎓、氯化1-乙基吡錠、溴化1-乙基吡錠、氯化1-丁基吡錠、溴化1-丁基吡錠、氯化1-丁基-3-甲基吡錠、乙基硫酸1-乙基-3-甲基吡錠、氯化1-丁基-4-甲基吡錠、六氟磷酸1-丁基-4-甲基吡錠、三甲基丙基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、三丁基甲基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、氯化四丁銨、溴化四丁銨、環己基三甲基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺以及溴化四丁鏻。

舉例而言，離子導電試劑可為由式3表示之雙(氟磺醯基)醯亞胺鹽： [式3]其中A為氟原子或C₁ 至C₆ 氟烷基；且X為至少一種由以下各者組成之群中選出之陽離子：氫、鹼金屬、鹼土金屬、銨、鏻、烷基銨以及烷基鏻。舉例而言，A為氟原子且X為H⁺ 、Li⁺ 、Na⁺ 或K⁺ 。

界面活性劑可為非離子界面活性劑或離子界面活性劑。非離子界面活性劑之實例可包含氟類界面活性劑，諸如氟脂族聚合物酯（例如FC-4430、FC-4432，均可購自3M公司（3M Company））、聚乙二醇烷基醚、聚氧伸烷基烷基醚及類似物。離子界面活性劑之實例可包含陽離子界面活性劑，諸如C₈ 至C₂₂ 烷基三甲基銨鹵化物；以及陰離子表面活性劑，諸如烷基硫酸鹽。

在一個實施例中，組分（F）可以100重量份組分（A）（就固體含量而言）計0.2重量份至5重量份之量存在。在另一個實施例中，組分（F）可以0.8重量份至2.5重量份（就固體含量而言）之量存在。舉例而言，組分（F）可以0.2重量份、0.25重量份、0.3重量份、0.35重量份、0.4重量份、0.45重量份、0.5重量份、0.6重量份、0.7重量份、0.8重量份、0.9重量份、1重量份、1.5重量份、2重量份、2.5重量份、3重量份、3.5重量份、4重量份、4.5重量份或5重量份之量存在。組分（F）可以單獨或至少兩種化合物組合使用。

其他組分

接著膜及接著劑組成物可更包含添加劑，諸如固化促進劑、鋰鹽、無機填充劑、軟化劑、抗氧化劑、抗老化劑、穩定劑、增黏樹脂、重整樹脂（諸如多元醇樹脂、酚系樹脂、丙烯酸類樹脂、聚酯樹脂、聚烯烴樹脂、環氧樹脂以及環氧化聚丁二烯樹脂）、調平劑、消泡劑、塑化劑、染料、顏料（著色以及展延顏料）、處理劑、UV阻斷劑、螢光白化劑、分散劑、熱穩定劑、光穩定劑、UV吸收劑、潤滑劑以及溶劑。

固化促進劑之實例可包含例如二月桂酸二丁基錫、JCS-50（城北化學工業有限公司（Johoku Chemical Kogyo Co., Ltd.））及Formate® TK -1（三井化學公司（Mitsui Chemicals Inc.））。

抗氧化劑之實例可包含二丁基羥基甲苯（BHT）、Irganox^® 1010、Irganox^® 1035FF以及Irganox^® 565 （巴斯夫日本有限公司）。

增黏劑樹脂之實例可包含松香，諸如松香酸、聚合松香酸以及松香酸酯；萜類樹脂、萜類酚系樹脂、芳烴樹脂、脂族飽和烴樹脂以及石油樹脂。

當使用這些添加劑時，添加劑之量可以例如以100重量份組分（A）計0.1重量份至20重量份之量存在，但不限於此。

製備方法

接著劑組成物可藉由將以上組分一次或按次序混合，或首先混合一些組分且接著添加剩餘組分，接著攪拌組分以形成均一混合物來製備。更具體而言，接著劑組成物可藉由在室溫下混合組分，或藉由根據需要加熱至30℃至40℃，接著使用攪拌器攪拌混合物10分鐘至5小時直至混合物均一來製備。舉例而言，製備可藉由攪拌5分鐘至5小時進行。

根據本發明之接著劑組成物可具有任何黏度。然而，為促進由接著劑組成物形成之接著層的塗覆及厚度控制，接著劑組成物可具有如使用B型黏度計在製備之後立即（組分混合預定時段之後10分鐘內）量測，在25℃下300毫帕·秒至7,000毫帕·秒之黏度。在一個實施例中，當用作光學構件之接著劑時，接著劑組成物可具有如在製備之後立即（組分混合預定時段之後10分鐘內）量測，在25℃下1,000毫帕·秒至6,000毫帕·秒之黏度。或者，接著劑組成物可具有在25℃下2,500毫帕·秒至5,000毫帕·秒之黏度。

適用期可藉由比較製備之後立即之接著劑組成物黏度與製備之後12小時之接著劑組成物黏度來評估。作為製備之後12小時的接著劑組成物，可使用未膠凝之接著劑組成物。假設製備之後立即之接著劑組成物（在溶液之情況下組成物溶液）具有100%之黏度，則製備之後12小時之接著劑組成物（在溶液之情況下組成物溶液）可具有130%或低於130%之黏度。在黏度此範圍內，接著劑組成物可提供優良加工性能。舉例而言，接著劑組成物可具有110%或低於110%之黏度。根據本發明之接著劑組成物可抑制黏度過度增加或在製備之後膠凝，由此確保優良適用期。

如本文所用，術語「之後立即」意謂10分鐘內之時間。亦即，在製備之後立即之接著劑組成物的黏度意謂在製備接著劑組成物完成之後（在組分混合預先確定時間之後）10分鐘內量測的接著劑組成物黏度。

接著層

由根據本發明之接著劑組成物形成的接著層藉由塗佈如上闡述之接著劑組成物形成且在用活性能量射線照射之後顯示接著。

根據本發明之接著劑組成物包含光聚合起始劑且因此在用活性能量射線照射時產生自由基，且藉由(甲基)丙烯酸類共聚物或活性能量可固化化合物之烯系雙鍵生長而進行光聚合。因此，由根據本發明之接著劑組成物形成的接著層可在接著劑處理（用活性能量射線照射之後）之後1小時之短老化時間段內顯示實際接著效能。

由根據本發明之接著劑組成物形成的接著層藉由將接著劑組成物塗佈至離型膜或基板上形成且在交聯前後包含接著層。對於交聯前包含由接著劑組成物形成之接著層的光學構件或接著片，可藉由用活性能量射線照射賦予接著層（接著劑組成物）以接著。

雖然根據本發明之接著劑組成物之固化一般在接著劑組成物塗覆至基板之後進行，但在交聯之後由接著劑組成物形成之接著層可轉移至基板。在另一個實施例中，接著劑組成物可塗覆至離型膜，接著乾燥接著劑組成物之塗層，且接著根據需要堆疊基板在所述塗層上。

或者，接著劑組成物可塗覆至離型膜，接著乾燥接著劑組成物之塗層，且根據需要堆疊具有不同剝落強度之另一離型膜（第二離型膜）在所述塗層上。藉由此類態樣，接著劑組成物之製備及此類接著劑組成物之使用可在不同位置進行，由此實現單獨接著劑組成物之輸送，同時允許光固化，而不受空氣中之氧影響。此外，因為兩個離型膜具有不同剝落強度，所以可防止接著劑在分離具有較低剝落強度之離型膜時被具有較低剝落強度之離型膜部分跟隨。

舉例而言，離型膜可藉由將諸如矽酮樹脂之離模劑塗佈至諸如聚對苯二甲酸伸乙酯（PET）膜及聚萘二甲酸伸乙酯膜之聚酯膜、諸如聚丙烯膜及聚乙烯膜之聚烯烴膜上形成以在其上形成離模層。在一個實施例中，離型膜之厚度可為20奈米至150奈米。

在一些實施例中，基板可為用於液晶顯示器之光學膜，諸如偏光板、保護膜、視角放大膜、防眩光膜、延遲膜及類似物，但不限於此。詳言之，當塗覆至用作基板之偏光板時根據本發明之接著劑組成物可顯示優良抗漏光性。在一個實施例中，提供具有形成於偏光板上之接著層的光學構件。因為根據本發明之接著劑組成物可塗覆至偏光器同時確保優良耐久性，所以藉由拉伸用作偏光板原材料之含碘聚乙烯醇樹脂構造的偏光器亦可用作基板。根據本發明之接著劑組成物亦可塗覆至各有一個表面用諸如三乙醯纖維素膜、聚對苯二甲酸伸乙酯膜及類似物之保護膜塗佈之偏光器。

在一些實施例中，基板可由聚乙烯醇、聚對苯二甲酸伸乙酯、三乙醯纖維素、聚碳酸酯、液晶聚合物、環烯、聚醯亞胺、聚醯胺、聚醯胺醯亞胺、聚苯醚、聚醚酮、聚醚醚酮、聚碸、聚醚碸、聚苯硫醚、聚丙烯酸酯、丙烯酸類樹脂、含脂族結構之聚合物以及芳族聚合物形成。

這些基板可進行表面處理。此類表面處理可包含例如底漆處理（primer treatment）、電暈處理（corona treatment）、火焰處理及類似處理。舉例而言，可進行電暈處理。進行表面處理之基板可進一步提高接著層與其之接著性。

接著劑組成物可藉由此項技術中已知之任何方法塗覆。舉例而言，接著劑組成物可藉由棒塗、刮刀塗佈、滾塗、刮塗、模塗或凹版塗佈來塗覆。根據需要，將含有溶劑之接著劑組成物塗覆至基板以形成塗層，接著乾燥。乾燥可在50℃至150℃下進行10秒至10分鐘。溶劑之實例可包含甲苯、二甲苯、乙酸乙酯、乙酸丁酯、甲基乙基酮、乙基異丁基酮、甲醇、乙醇以及異丙醇。當添加溶劑時，接著劑組成物可以5重量%至30重量%之量存在。

當塗覆至光學構件時，接著劑組成物之塗佈厚度（在乾燥後之厚度）可視基板以及其目的而定。在一個實施例中，接著劑組成物可塗佈至1微米至100微米之厚度。在另一個實施例中，接著劑組成物可塗佈至5微米至50微米之厚度。

接著層藉由用活性能量射線照射接著劑組成物塗層來形成。舉例而言，活性能量射線可為UV光或電子束。當UV光用作活性能量射線時，高壓汞蒸汽燈、無電極燈、氙氣燈或金屬鹵化物燈可用作光源，且當電子束用作活性能量射線時，電子束加速器可用作光源。

當接著劑組成物之塗層形成於離型膜上時，活性能量射線照射可在離型膜一側進行。因此，可在不破壞諸如偏光板之基板下照射接著劑組成物。

活性能量射線可在50 mJ/cm² 至1000 mJ/cm² 之通量下輻射。在此範圍內，可使組分（A）或組分（E）中包含之烯系雙鍵產生足夠反應，以提供所需接著特徵及在暴露於環境改變時之耐久性，且在不破壞接著層或基板下允許交聯。在一個實施例中，活性能量射線可在100 mJ/cm² 至700 mJ/cm² 之通量下輻射。在另一個實施例中，活性能量射線可在120 mJ/cm² 至500 mJ/cm² 之通量下輻射。

在一些實施例中，接著劑組成物可使用金屬鹵化物燈用UV光在500 mW/cm² 至2,000 mW/cm² 之照射度下照射。照射可進行一定時段，例如1秒至10秒。照射可在任何氛圍中，例如在空氣中進行，或可在諸如氮氣或氬氣氛圍之惰性氣體氛圍中進行，使得光固化在不受空氣中之氧影響下進行。此外，照射可在室溫下進行或可在加熱至40℃至80℃之溫度的階段進行。

光學構件及接著片

本發明提供一種光學構件及一種接著片，各包含根據本發明之接著膜或由根據本發明之接著劑組成物形成的接著層。

光學構件

光學構件之實例可包含偏光板、延遲板、用於平板顯示器之光學膜、用於觸控面板之導電膜及類似物。詳言之，根據本發明之接著劑組成物顯示與偏光板及玻璃之優良接著。然而，本發明不限於此，且接著劑組成物亦可用於黏結其他材料。在一個實施例中，提供包含形成於偏光板上之接著層的光學構件。

根據本發明之接著劑組成物可直接塗覆至光學構件之一個或兩個表面以形成接著層。或者，藉由接著劑組成物沈積在離型膜上而預先製備之接著層可轉移至光學構件之一個或兩個表面。

根據本發明之接著劑組成物顯示優良可撓性。因此，當塗覆至偏光板時，根據本發明之接著劑組成物可跟隨偏光板隨時間推移之收縮，由此提供優良抗漏光性。此外，根據本發明之接著劑組成物顯示優良耐久性，由此防止由接著劑組成物形成之接著層在加熱或在高濕度條件下處理時脫離或分離。

當根據本發明之接著劑組成物塗覆至光學構件時，接著層在自接著劑處理（活性能量射線照射）1小時之後可具有65%至92%之凝膠分率。在此範圍內，具有接著層之光學構件可便於衝壓或切割。在一個實施例中，接著層可具有70%至90%之凝膠分率。舉例而言，接著層可具有65%、66%、67%、68%、69%、70%、71%、72%、73%、74%、75%、76%、77%、78%、79%、80%、81%、82%、83%、84%、85%、86%、87%、88%、89%、90%、91%或92%之凝膠分率。

此外，假設接著層經由在接著劑處理之後儲存1小時具有100%之凝膠分率，接著層經由在接著劑處理之後23℃及45% RH條件下儲存7天可具有95%至105%之凝膠分率。此類接著層可顯示實際接著效能及優良長期穩定性。為將凝膠分率設定在以上範圍內，可例如藉由調整相應組分之量在如上所述之範圍內，適當選擇條件。在一個實施例中，接著層經由在接著劑處理之後23℃及45% RH條件下儲存7天可具有97%至103%之凝膠分率。舉例而言，接著層經由在接著劑處理之後23℃及45% RH條件下儲存7天可具有95%、96%、97%、98%、99%、100%、101%、102%、103%、104%或105%之凝膠分率。

在根據本發明之光學構件中，在光學構件上形成之接著層具有1牛頓/25毫米至6牛頓/25毫米之接著強度。在接著強度之此範圍內，可獲得良好可再加工性。舉例而言，接著層可具有2牛頓/25毫米至5牛頓/25毫米之接著強度。本文中，接著強度可根據如JIS Z0237（2000）中揭露之膠帶及薄片之測試方法，特定言之，藉由以下實例中所述之方法量測。舉例而言，接著層可具有1牛頓/25毫米、2牛頓/25毫米、3牛頓/25毫米、4牛頓/25毫米、5牛頓/25毫米或6牛頓/25毫米之接著強度。

用於光學構件之接著劑組成物具有長適用期以提供優良加工性能，且在接著劑處理之後1小時之短老化時間內顯示實際接著效能，由此大大改善生產力。此外，根據本發明之接著膜或自用於光學構件之接著劑組成物獲得之接著層可顯示優良抗漏光性，同時確保適合接著強度或適合的與基板之接著、耐久性、接著物抗污染性以及可再加工性。

接著片

根據本發明之接著劑組成物可經由塗覆至基板或隔膜且乾燥（交聯）而形成為接著層，由此製備呈片或帶狀之接著片。亦即，本發明提供一種接著片，其包含根據本發明之接著膜或由根據本發明之接著劑組成物形成的接著層。

除以上提及之用於基板之材料外，用於接著片之基板之實例可包含此項技術中已知之各種薄材料，諸如橡膠泡沫、紙以及鋁箔。這些基板可進行表面處理，諸如電暈處理、電漿處理以及形成易黏結層，或在其表面上具有抗靜電層，視材料而定。此外，隔膜之實例可包含用於基板之使用矽酮、氟以及長鏈烷基剝離處理劑進行表面處理的塑膠膜，或不進行表面處理之聚丙烯膜。

當接著膜或接著層在基板上形成時，接著層可在一個基板表面上形成以製備單側接著片或可在兩個表面上形成以製備雙側接著片。在雙側接著片中，接著劑組成物可僅僅在一個基板表面上形成，由此製備在其兩個表面上具有不同接著劑之帶。當接著層在隔膜上形成時，接著層可用作雙側接著片。

當根據本發明之接著劑組成物用於接著片時，接著層經由在用活性能量射線照射之後儲存7天可具有65%至92%之凝膠分率。在此範圍內，具有接著層之接著片可便於衝壓或切割。在一個實施例中，接著層經由在用活性能量射線照射之後儲存7天可具有70%至90%之凝膠分率。舉例而言，接著層經由在用活性能量射線照射之後儲存7天可具有65%、66%、67%、68%、69%、70%、71%、72%、73%、74%、75%、76%、77%、78%、79%、80%、81%、82%、83%、84%、85%、86%、87%、88%、89%、90%、91%或92%之凝膠分率。假設接著層經由在接著劑處理之後儲存1小時具有100%之凝膠分率，接著層經由在接著劑處理之後23℃及45% RH條件下儲存7天可具有95%至105%之凝膠分率。此類接著層可顯示實際接著效能及優良長期穩定性。為將凝膠分率設定在以上範圍內，可例如藉由調整相應組分之量在如上所述之範圍內，適當選擇條件。在一個實施例中，接著層經由在接著劑處理之後23℃及45% RH條件下儲存7天可具有97%至103%之凝膠分率。舉例而言，接著層經由在接著劑處理之後23℃及45% RH條件下儲存7天可具有95%、96%、97%、98%、99%、100%、101%、102%、103%、104%或105%之凝膠分率。

在接著片中，形成於接著片中之接著膜或接著層可具有約0.05牛頓/25毫米至約20牛頓/25毫米之接著強度。在此範圍內，接著片可塗覆成需要接著強度之各種接著片，呈片或帶形式。在一個實施例中，形成於接著片中之接著膜或接著層可具有約0.1牛頓/25毫米至約10牛頓/25毫米之接著強度。舉例而言，形成於接著片中之接著膜或接著層可具有0.05牛頓/25毫米、0.1牛頓/25毫米、0.15牛頓/25毫米、0.2牛頓/25毫米、0.25牛頓/25毫米、0.3牛頓/25毫米、0.35牛頓/25毫米、0.4牛頓/25毫米、0.45牛頓/25毫米、0.5牛頓/25毫米、0.6牛頓/25毫米、0.7牛頓/25毫米、0.8牛頓/25毫米、0.9牛頓/25毫米、1牛頓/25毫米、1.5牛頓/25毫米、2牛頓/25毫米、2.5牛頓/25毫米、3牛頓/25毫米、3.5牛頓/25毫米、4牛頓/25毫米、4.5牛頓/25毫米、5牛頓/25毫米、6牛頓/25毫米、7牛頓/25毫米、8牛頓/25毫米、9牛頓/25毫米、10牛頓/25毫米、11牛頓/25毫米、12牛頓/25毫米、13牛頓/25毫米、14牛頓/25毫米、15牛頓/25毫米、16牛頓/25毫米、17牛頓/25毫米、18牛頓/25毫米、19牛頓/25毫米或20牛頓/25毫米之接著強度。

將參考以下實例及比較實例描述本發明。然而，應瞭解本發明不限於以下實例且可以不同方式實施。在以下實例中，(甲基)丙烯酸類共聚物溶液之固體含量及黏度、接著劑組成物溶液之黏度以及組分（A）之重量平均分子量藉由以下方法量測。

實例

＜固體含量＞

將1公克(甲基)丙烯酸類共聚物溶液準確量測在準確稱量之玻璃板上。將溶液在105℃下乾燥1小時且冷卻至室溫，且接著準確量測玻璃板與剩餘固體內含物之總重量。將玻璃板之重量定義為X，乾燥前玻璃板與(甲基)丙烯酸類共聚物溶液之總重量為Y，且玻璃板與剩餘固體內含物之總重量為Z，固體含量藉由等式3計算： [等式3] 固體含量（%）= {(Z-X)/(Y-X)} × 100

＜黏度＞

將玻璃瓶中(甲基)丙烯酸類共聚物之溫度調整至約25℃且接著使用B型黏度計量測黏度。在製備接著劑組成物溶液之後立即以及在製備其之後12小時量測接著劑組成物溶液之黏度兩次。

＜重量平均分子量＞

藉由以下方法在表1中繪示之以下條件下量測重量平均分子量。 表1

製備實例1

將99重量份丙烯酸正丁酯（日本觸媒有限公司（Nihon Shokubai, Co., Ltd.））、1重量份丙烯酸2-羥基乙酯（日本觸媒有限公司）以及120重量份乙酸乙酯置放在裝備有回流冷凝器及攪拌器之燒瓶中，且接著在氮氣氛圍下加熱至65℃。接著添加0.04重量份偶氮二異丁腈（AIBN），接著聚合6小時，同時維持混合物在65℃下。在聚合之後，將混合物用280重量份乙酸乙酯稀釋，由此獲得(甲基)丙烯酸類共聚物溶液（樣品名稱：A-1）。(甲基)丙烯酸類共聚物溶液（A-1）具有20重量%之固體含量及4,500毫帕·秒之黏度。此外，所得(甲基)丙烯酸類共聚物溶液（A-1）具有1,600,000公克/莫耳之重量平均分子量。

製備實例2至製備實例11

除了單體如表2中所列加以改變之外，以與製備實例1中相同之方式製備(甲基)丙烯酸類共聚物溶液（A-2）至(甲基)丙烯酸類共聚物溶液（A-11）。接著量測(甲基)丙烯酸類共聚物溶液（A-2）至(甲基)丙烯酸類共聚物溶液（A-11）之固體含量及黏度以及(甲基)丙烯酸類共聚物（A-2）至(甲基)丙烯酸類共聚物溶液（A-11）之重量平均分子量，且結果展示於表2中。表2中，「BA」、「MA」、「HEA」、「4HBA」、「HEAA」以及「AA」分別指丙烯酸丁酯、丙烯酸甲酯、丙烯酸2-羥基乙酯、丙烯酸4-羥基丁酯、N-2-羥基乙基丙烯醯胺以及丙烯酸。 表2 BA：丙烯酸丁酯（可購自日本觸媒有限公司） MA：丙烯酸甲酯（可購自日本觸媒有限公司） MEA：丙烯酸甲氧基乙酯（可購自日本觸媒有限公司） HEA：丙烯酸2-羥基乙酯（可購自日本觸媒有限公司） 4HBA：丙烯酸4-羥基丁酯（日本化成有限公司（Nippon Kasei Co., Ltd.）） HEAA：羥基乙基丙烯醯胺（興人膜與化學品株式會社（Kojin Film & Chemicals Co., Ltd.）） AA：丙烯酸（可購自日本觸媒有限公司）

實例1

準備500重量份製備實例1中製備之(甲基)丙烯酸類共聚物溶液（就固體含量而言100重量份(甲基)丙烯酸類共聚物（A）），2重量份之Irgacure® 500（1-羥基-環己基苯基酮：二苯甲酮=1:1（w:w），巴斯夫日本株式會社，樣品名稱：B-1）作為光聚合起始劑（B），0.1重量份信越Silicon® KBM-403（3-縮水甘油氧基丙基甲基二乙氧基矽烷，信越化學株式會社，樣品名稱：D-1）作為矽烷偶合劑（D），2重量份CARBODILITE® V-09（日清化學公司，樣品名稱：C-1）作為不含異氰酸酯基之碳化二亞胺固化劑（C），4重量份NKESTER A-TMPT（三羥甲基丙烷三丙烯酸酯，信中村化學工業有限公司（Shin-Nakamura Chemical Kogyo Co., Ltd.，樣品名稱：E-1）作為活性能量可固化化合物（E），且添加乙酸乙酯，使得可獲得17重量%接著劑組成物（組分（A）至組分（E）之總和），接著在室溫（25℃）下混合10分鐘，由此獲得接著劑組成物溶液。

將所得溶液塗覆至PET離型膜（MRF38，厚度：38微米，三菱聚酯膜公司（Mitsubishi Polyester Film Inc.），達25微米之乾燥厚度，且在90℃下乾燥3分鐘，由此形成接著層。接著，接著層附接至偏光板或具有不同剝落強度之分開離型膜，由此產生接著層附接之偏光板或接著片。

在偏光板上或離型膜之間形成之接著層在以下條件下用活性能量射線照射。此外，活性能量射線照射在堆疊之後3分鐘內進行。 設備：艾格菲ECS-401GX（艾格菲有限公司（Eyegraphics Co., Ltd.）） 光源：金屬鹵化物燈 通量：1000毫焦/平方公分 輸送速度：5公尺/分鐘。

（實例2至實例11、比較實例1至比較實例3）

除了如表3及表4中所列使用製備實例中製備之(甲基)丙烯酸類共聚物、光聚合起始劑、矽烷偶合劑、碳化二亞胺固化劑、活性能量可固化化合物、抗靜電劑以及其他添加劑之外，以與實例1中相同之方式製備接著劑組成物溶液以及接著層附接之偏光板或接著片。光聚合起始劑B-1及光聚合起始劑B-2、碳化二亞胺固化劑C-1及碳化二亞胺固化劑C-2、矽烷偶合劑D-1及矽烷偶合劑D-2、活性能量可固化化合物E-1至活性能量可固化化合物E-4、抗靜電劑F-1至抗靜電劑F-2以及其他添加劑G之細節如下。此外，表3及4中，重量份指示有效組分之量代替相應產物之量。 B-1：1-羥基-環己基苯基酮:二苯甲酮=1:1（w/w）（Irgacure® 500，巴斯夫日本株式會社） B-2：雙(2,4,6-三甲基苯甲醯基)-苯基膦氧化物（Irgacure® 819，巴斯夫日本株式會社） C-1：CARBODILITE® V-09GB（日清化學公司） C-2：CARBODILITE® V-01（日清化學公司） D-1：3-縮水甘油氧基丙基甲基二乙氧基矽烷（信越Silicon^® KBM-403，信越化學株式會社） D-2：信越Silicon^® X-41-1810（信越化學株式會社） E-1：三羥甲基丙烷三丙烯酸酯（NKESTER A-TMPT，信中村化學工業有限公司） E-2：二季戊四醇六丙烯酸酯（NKESTER A-DPH，信中村化學工業有限公司） E-3：三乙二醇二丙烯酸酯（LIGHT ACRYLATE 3EG -A，共榮社化學有限公司） E-4：三羥甲基丙烷三甲基丙烯酸酯（NKESTER TMPT，信中村化學工業有限公司） F-1：六氟磷酸1-丁基-4-甲基吡錠（東京化成工業株式會社） F-2：三丁基甲基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺（東京化成工業株式會社） G：三羥甲基丙烷/二異氰酸甲苯酯（Colonate^® L，日本聚胺酯工業株式會社）

在碳化二亞胺固化劑中，D-1（CARBODILITE^® V-09）不含異氰酸酯基（NCO含量：0%），且D-2（CARBODILITE^® V-01）含有異氰酸酯基（NCO含量：9.8%）。如下式4中所示，活性能量可固化化合物E-1至活性能量可固化化合物E-4具有直鏈或分支鏈結構。 [式4]

為評估接著層之實際接著效能，藉由以下方法，評估具有實例及比較實例中之接著層的偏光板或接著片之特性。結果展示於表5及6中。在以下評估中，表述「在製備之後1小時內」意謂評估在用活性能量射線照射之後1小時內進行。

（1）凝膠分率

使用實例1至實例11及比較實例1至比較實例3中製備之每一接著片，量測對應接著劑組成物之凝膠分率。藉由以下方法量測凝膠分率。首先，在用活性能量射線照射之後，接著片置於23℃及45% RH之條件下。亦即，經由在用活性能量射線照射之後在這些條件下儲存5分鐘、1小時及7天，獲取約0.1公克接著劑組成物且定義為W₁ （g）。在組成物置於樣品瓶中下，向其中添加約30公克乙酸乙酯且組成物靜置24小時。在預定時間之後，經由200目不鏽鋼篩網過濾樣品瓶內含物（重量：W₂ （g））。將篩網及剩餘材料在90℃下乾燥1小時，接著量測總重量W₃ （g）。基於量測值，根據等式2，計算凝膠分率（%）： [等式2] 凝膠分率（%）= {(W₃ - W₂ )/W₁ } × 100

（2）金屬腐蝕控制及預防特性

在製備接著層附接之偏光板之後1小時內，將各接著層附接之偏光板的接著層側附接至鋁箔且置於60℃及95% RH下2天或10天，接著觀測腐蝕。在表5表及6中，「○」指示無改變且「×」指示白化。

（3）抗漏光性

在製備接著層附接之偏光板之後，立即將各接著層附接之偏光板切成120毫米（偏光板之MD（加工方向））×60毫米片及120毫米（TD（橫向方向））×60毫米片。相應片附接至玻璃基板之兩側，彼此重疊，且在50℃及0.49兆帕（5公斤/平方公分）下進行高壓滅菌20分鐘。接著，玻璃基板置於85℃下120小時及500小時，接著觀測外觀。表5及表6中，「◎」指示在120小時及500小時之後無漏光，「○」指示在120小時之後無漏光，「△」指示在120小時之後在末端部分漏光，且「×」指示漏光。

（4）耐久性

在製備接著層附接之偏光板之後，立即將各接著層附接之偏光板切成120毫米（偏光板之MD（加工方向））×60毫米片，其又附接至無鹼玻璃基板（Eagle XG，康寧公司（Corning Corporation））且接著在50℃及0.49兆帕（5公斤/平方公分）下進行高壓滅菌20分鐘。接著，玻璃基板置於85℃及60℃及95% RH下500小時，接著觀測外觀。另外，樣品進行熱衝擊測試之200個循環，每一者包括置於-40℃下30分鐘之第一階段，及置於85℃下30分鐘之第二階段，接著觀測外觀。表5及表6中，「○」指示未出現氣泡、脫離或剝落，「△」指示在末端部分出現氣泡、脫離或剝落，且「×」指示出現氣泡、脫離或剝落中之至少一者。

（5）接著強度

在製備接著層附接之偏光板之後，立即將各接著層附接之偏光板切成25毫米寬之片，其又附接至無鹼玻璃基板（Eagle XG，康寧公司）且在50℃及0.49兆帕（5公斤/平方公分）下進行高壓滅菌20分鐘。根據JIS Z0237 2000中揭露之接著帶及片測試方法，使用抗張測定器，在180°剝除角度及0.3公尺/分鐘之剝除速率下在23℃及50% RH之條件下量測接著層之接著強度。

（6）與基板之附著性

在量測（5）接著強度的同時，評估接著性。在表5及表6中，「○」指示不與基板分離之接著層，且「×」指示與基板分離之接著層。

（7）接著物抗污染性

在量測（5）接著強度前後量測玻璃基板側上之接觸角。接觸角之量測藉由JIS R3257（1999）中揭露的測試玻璃基板之表面上之可濕性的方法進行。表5及表6中，當量測接著強度前後玻璃基板表面上之接觸角改變為3°或低於3°時，其由「○」指示，且當量測接著強度前後玻璃基板表面上之接觸角改變超出3°時，其由「×」指示。

（8）表面電阻

在製備接著層附接之偏光板之後，立即在23℃及45% RH之條件下使用抗性儀錶Highrester UP（三菱化學公司（Mitsubishi Chemical Corporation））量測各偏光板之接著層側的表面電阻。塗覆電壓為100伏。

（9）可再加工性

在量測（5）接著強度的同時,觀測分離狀態。表5及表6中,「○」指示界面失效之外觀，且「×」表示接著劑與玻璃基板（接著物）之接著及/或內聚失效之外觀。

表 3 表 4 表 5 表 6

參看表3至表6，可看到根據本發明之接著劑組成物（實例1至實例11）的適用期比比較實例1至比較實例3之接著劑組成物長，且藉由1小時之短老化時間段可容易獲得實際接著效能。此外，由根據本發明之接著劑組成物（實例1至實例11）形成之接著層顯示優良抗漏光性及耐久性。

無

無

無

Claims (27)

1. 一種接著膜，包括：（A）(甲基)丙烯酸類共聚物、（B）光聚合起始劑以及（C）碳化二亞胺固化劑，所述接著膜具有如藉由等式1所計算的10%或低於10%之凝膠分率差異之絕對值： [等式1] 凝膠分率差異= GF7-GF1 其中GF7為如藉由等式2所計算，在用活性能量射線照射，接著在23℃及45% RH下老化7天之後的凝膠分率，且GF1為如藉由等式2所計算，在用活性能量射線照射，接著在23℃及45% RH下老化1小時之後的凝膠分率： [等式2] 凝膠分率（%）= {(W₃ - W₂ )/W₁ } × 100 其中W₁ 為藉由所述接著膜經受活性能量射線照射，接著在23℃及45% RH下老化1小時或7天所獲得之樣本的重量；W₂ 為線網（200網目）之重量；且W₃ 為所述線網與所述接著膜之所述樣本之總重量，將其置於樣品瓶中，在添加30公克乙酸乙酯至所述樣品瓶之後在25℃下靜置1天，且在90℃下乾燥1小時。
2. 如申請專利範圍第1項所述之接著膜，其中所述接著膜在用活性能量射線照射，接著在23℃及45% RH下老化7天之後具有65%至92%之凝膠分率。
3. 如申請專利範圍第2項所述之接著膜，其中所述接著膜包括100重量份之所述(甲基)丙烯酸類共聚物（A）；0.05重量份至4重量份之所述光聚合起始劑（B）；以及0.05重量份至5重量份之所述碳化二亞胺固化劑（C）。
4. 如申請專利範圍第1項所述之接著膜，其中所述碳化二亞胺固化劑（C）為不含異氰酸酯基之碳化二亞胺固化劑。
5. 如申請專利範圍第1項所述之接著膜，更包括：（D）矽烷偶合劑。
6. 如申請專利範圍第5項所述之接著膜，其中所述接著膜包括以100重量份所述(甲基)丙烯酸類共聚物（A）計的0.05重量份至0.5重量份之所述矽烷偶合劑（D）。
7. 如申請專利範圍第1項所述之接著膜，更包括：以100重量份所述(甲基)丙烯酸類共聚物（A）計的9重量份或低於9重量份之（E）活性能量可固化化合物。
8. 如申請專利範圍第1項所述之接著膜，更包括：以100重量份所述(甲基)丙烯酸類共聚物（A）計的1重量份至8重量份之（E）活性能量可固化化合物。
9. 如申請專利範圍第10項所述之接著膜，其中所述光聚合起始劑（B）與所述活性能量可固化化合物（E）以1:1至1:50之重量比存在。
10. 如申請專利範圍第1項所述之接著膜，其中所述光聚合起始劑（B）與所述碳化二亞胺固化劑（C）以1:0.1至1:15之重量比存在。
11. 如申請專利範圍第1項所述之接著膜，更包括：以100重量份所述(甲基)丙烯酸類共聚物（A）計的0.2重量份至5重量份之（F）抗靜電劑。
12. 如申請專利範圍第1項所述之接著膜，其中所述(甲基)丙烯酸類共聚物（A）包括以100重量份所述(甲基)丙烯酸類共聚物（A）計的90重量份至99.9重量份之（a-1）(甲基)丙烯酸酯單體以及0.1重量份至10重量份之（a-2）含羧基之單體與（a-3）含羥基之(甲基)丙烯酸單體中之至少一者。
13. 如申請專利範圍第1項所述之接著膜，其中所述(甲基)丙烯酸類共聚物（A）包括以100重量份所述(甲基)丙烯酸類共聚物（A）計的90重量份至99.5重量份之（a-1）(甲基)丙烯酸酯單體、0.5重量份至10重量份之（a-2）含羧基之單體以及其餘部分之（a-3）含羥基之(甲基)丙烯酸單體，所述(甲基)丙烯酸酯單體（a-1）、所述含羧基之單體（a-2）以及所述含羥基之(甲基)丙烯酸單體（a-3）的總和為100重量份。
14. 如申請專利範圍第1項所述之接著膜，其中所述接著膜具有1牛頓/25毫米至6牛頓/25毫米之接著強度。
15. 一種接著劑組成物，包括： 100重量份之（A）(甲基)丙烯酸類共聚物； 0.05重量份至4重量份之（B）光聚合起始劑；以及 0.05重量份至5重量份之（C）不含異氰酸酯基之碳化二亞胺固化劑。
16. 如申請專利範圍第15項所述之接著劑組成物，更包括： 以100重量份所述(甲基)丙烯酸類共聚物（A）計的0.05重量份至0.5重量份之（D）矽烷偶合劑。
17. 如申請專利範圍第15項所述之接著劑組成物，更包括： 以100重量份所述(甲基)丙烯酸類共聚物（A）計的9重量份或低於9重量份之（E）活性能量可固化化合物。
18. 如申請專利範圍第15項所述之接著劑組成物，更包括： 以100重量份所述(甲基)丙烯酸類共聚物（A）計的1重量份至8重量份之（E）活性能量可固化化合物。
19. 如申請專利範圍第15項所述之接著劑組成物，其中所述光聚合起始劑（B）與所述活性能量可固化化合物（E）以1:1至1:50之重量比存在。
20. 如申請專利範圍第15項所述之接著劑組成物，其中所述光聚合起始劑（B）與所述碳化二亞胺固化劑（C）以1:0.1至1:15之重量比存在。
21. 如申請專利範圍第15項所述之接著劑組成物，更包括： 以100重量份所述(甲基)丙烯酸類共聚物（A）計的0.2重量份至5重量份之（F）抗靜電劑。
22. 如申請專利範圍第15項所述之接著劑組成物，其中所述(甲基)丙烯酸類共聚物（A）包括以100重量份所述(甲基)丙烯酸類共聚物（A）計的90重量份至99.9重量份之（a-1）(甲基)丙烯酸酯單體以及0.1重量份至10重量份之（a-2）含羧基之單體與（a-3）含羥基之(甲基)丙烯酸單體中之至少一者。
23. 如申請專利範圍第15項所述之接著劑組成物，其中所述(甲基)丙烯酸類共聚物（A）包括以100重量份所述(甲基)丙烯酸類共聚物（A）計的90重量份至99.5重量份之（a-1）(甲基)丙烯酸酯單體、0.5重量份至10重量份之（a-2）含羧基之單體以及其餘部分之（a-3）含羥基之(甲基)丙烯酸單體。
24. 如申請專利範圍第15項所述之接著劑組成物，其中所述(甲基)丙烯酸類共聚物（A）具有500,000公克/莫耳至2,000,000公克/莫耳之重量平均分子量。
25. 一種光學構件，包括如申請專利範圍第1項所述之接著膜或由如申請專利範圍第15項所述之接著劑組成物形成的接著層。
26. 如申請專利範圍第25項所述之光學構件，其中所述接著膜或所述接著層在偏光板上形成。
27. 一種接著片，包括如申請專利範圍第1項所述之接著膜或由如申請專利範圍第15項所述之接著劑組成物形成的接著層。