TW201606357A - 附防眩膜之基材及物品 - Google Patents

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TW201606357A
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cerium oxide
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glare
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Yoshimi Otani
Satoshi Mototani
Azusa Takai
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Asahi Glass Co Ltd
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Abstract

本發明之課題在於提供一種對於入射角較大之入射光具有優異防眩效果的附防眩膜之基材、及使用其之物品。 作為解決手段的附防眩膜之基材具備基材及防眩膜,防眩膜之折射率為1.2以上且小於1.4,表面的算術平均粗度Ra為0.112~0.700μm且85°鏡面光澤度為70%以下,或者是折射率為1.4以上且1.5以下,表面的算術平均粗度Ra為0.158~0.500μm且85°鏡面光澤度為70%以下。

Description

附防眩膜之基材及物品 發明領域
本發明係有關於一種附防眩膜之基材及使用其之物品。
發明背景
在各種機器(電視、個人電腦、智慧型手機、行動電話等)所裝設之影像顯示裝置(液晶顯示器、有機EL顯示器、電漿顯示器等)上,有室內照明(螢光燈等)、太陽光等外光映射到顯示面時,會因為反射像而降低目視性。
爰此,為了抑制外光之映射,一直以來都會在構成影像顯示裝置之顯示面的基材(玻璃板等)表面施行防眩處理或低反射處理。
近年,也會對太陽電池模組之蓋玻璃的光入射面施行低反射處理來減低太陽光反射以提高發電效率,或者實施防眩處理以防止在蓋玻璃表面反射之反射光造成光害。
防眩處理係一於表面設置凹凸,藉由該凹凸讓入射光散射而使反射像不鮮明之處理。就防眩處理而言,過去所知的方法是藉由侵蝕、噴砂等將基材表面粗面化。又,有文獻提議一種塗佈經水解之矽酸酯、醇、水及酸(鹽酸、 硝酸等)所構成的處理液並進行燒成而形成光擴散層(防眩膜)之方法(專利文獻1)。
低反射處理係一對入射光反射本身進行抑制的處理。就低反射處理而言,過去所知的方法是設置低反射膜。低反射膜周知有由低折射率材料構成之單層膜、及將低折射率材料所構成之層與高折射率材料所構成之層加以組合而成之多層膜等。
由於低反射膜係依照垂直入射角之光程距離(optical path length)設計,因此有隨著外光之入射角或觀看畫面之人的位置而讓光程距離偏離設計以致反射率上升、損害低反射效果之缺點。
防眩膜則是使外光擴散反射,所以不管外光之入射角或觀看畫面之人的位置如何均可顯現防眩效果,在抑制外光映射的觀點下亦認為比低反射膜更為有利。
防眩膜之防眩效果一般係以60°入射角之光澤度(60°鏡面光澤度)作評估。所以,防眩膜通常會作降減60°鏡面光澤度的膜設計。
但,即使是防眩膜,一旦入射角大於60°尤其在快接近90°時,有無法充分發揮防眩效果之問題。
若於傾斜的屋頂設置太陽電池模組,太陽光有時會以幾近90°的入射角入射蓋玻璃。此時,即使於蓋玻璃表面設有防眩膜,恐怕在蓋玻璃表面反射之反射光會入射到鄰近的建築物內而引發光害。
先前技術文獻 專利文獻
專利文獻1:日本專利特開昭60-109134號公報
發明概要
本發明目的在於提供一種對於入射角較大之入射光具有優異防眩效果的附防眩膜之基材及使用其之物品。
本發明具有以下態樣。
[1]一種附防眩膜之基材,具備基材及形成於前述基材上之防眩膜,其特徵在於:前述防眩膜之折射率為1.2以上且小於1.4,前述防眩膜表面之算術平均粗度Ra為0.112~0.700μm,且前述防眩膜表面之85。鏡面光澤度為70%以下。
[2]一種附防眩膜之基材,具備基材及形成於前述基材上之防眩膜,其特徵在於:前述防眩膜之折射率為1.4以上且1.5以下,前述防眩膜表面之算術平均粗度Ra為0.158~0.500μm,且前述防眩膜表面之85°鏡面光澤度為70%以下。
[3]如[1]或[2]之附防眩膜之基材,其中前述防眩膜含有實心二氧化矽粒子及空心二氧化矽粒子中之任一者或兩 者。
[4]如[1]~[3]中任一項之附防眩膜之基材,其中前述防眩膜係由含有二氧化矽前驅物及液狀介質之塗佈液形成者。
[5]如[1]~[4]中任一項之附防眩膜之基材,其中前述基材為玻璃板。
[6]如[5]之附防眩膜之基材,其中前述玻璃板為強化玻璃板。
[7]如[6]之附防眩膜之基材,其中前述強化玻璃板為化學強化玻璃板且板厚為0.4~1.1mm。
[8]一種物品,具備如[1]~[7]中任一項之附防眩膜之基材。
[9]如[8]之物品,其為太陽電池模組。
依據本發明,可提供一種對於入射角較大之入射光具有優異防眩效果的附防眩膜之基材及使用其之物品。
10‧‧‧附防眩膜之基材
12‧‧‧基材
14‧‧‧防眩膜
圖1係示意顯示本發明之附防眩膜之基材之一實施形態的截面圖。
用以實施發明之形態
以下用語之定義適用範圍涵蓋本說明書及申請專利範圍。
「二氧化矽前驅物」係表示可形成以二氧化矽為主成 分之基質的物質。
「以二氧化矽為主成分」係表示含有90質量%以上之SiO2
「以二氧化鈦為主成分」係表示含有90質量%以上之TiO2
「實心」係表示內部不具有空洞。
「空心」則表示內部具有空洞。
「已與矽原子鍵結之水解性基」係表示可利用水解而轉換成與矽原子鍵結之OH基的基。
「85°鏡面光澤度」、「60°鏡面光澤度」係分別藉由JIS Z 8741:1997(ISO 2813:1994)中記載之方法,針對於與已形成防眩膜側為相反側之面貼附有黑色膠帶的附防眩膜之基材進行測定。
「算術平均粗度Ra」係藉由JIS B0601:2001(ISO4287:1997)中記載之方法進行測定。
「霧度」係藉由JIS K 7136:2000(ISO 14782:1999)中記載之方法進行測定。
[附防眩膜之基材]
圖1係示意顯示本發明之附防眩膜之基材之一實施形態的截面圖。
本實施形態之附防眩膜之基材10具備基材12及形成於基材12上之防眩膜14。
(基材)
基材12之形態可舉如板、薄膜等。
基材12之材料則可舉如玻璃、樹脂等。
以玻璃來說,例如可列舉鈉鈣玻璃、硼矽酸玻璃、鋁矽酸鹽玻璃、無鹼玻璃等。
以樹脂來說,例如可列舉聚對苯二甲酸乙二酯、聚碳酸酯、三乙酸纖維素、聚甲基丙烯酸甲酯等。
基材12以透明為佳。基材12之透明係表示平均穿透80%以上之波長區域400~1100nm之光。
基材12以玻璃板為佳。
玻璃板可為藉由浮製玻板法、熔融法等成形之平滑的玻璃板,亦可為藉由滾壓(roll out)法等形成之表面具有凹凸的模板玻璃。又,不僅可為平坦的玻璃,亦可為具有曲面形狀的玻璃。
玻璃板之厚度並無特別限定。例如,可使用厚度10mm以下之玻璃板。厚度愈薄,愈可壓低光之吸收,因此對於以提升穿透率為目的之用途來說相當理想。
玻璃為鈉鈣玻璃時,以具有下述組成者為佳。
以氧化物基準之質量百分率表示,含有:SiO2:65~75%、Al2O3:0~10%、CaO:5~15%、MgO:0~15%、Na2O:10~20%、K2O:0~3%、Li2O:0~5%、 Fe2O3:0~3%、TiO2:0~5%、CeO2:0~3%、BaO:0~5%、SrO:0~5%、B2O3:0~15%、ZnO:0~5%、ZrO2:0~5%、SnO2:0~3%、及SO3:0~0.5%。
玻璃為鋁矽酸鹽玻璃時,以具有下述組成者為佳。
以氧化物基準之莫耳百分率表示,含有:SiO2:62~68%、Al2O3:6~20%、MgO:7~13%、Na2O:9~17%、K20:0~7%、及ZrO2:0~8%。
玻璃板以強化玻璃板為佳。強化玻璃板係業已施行強化處理之玻璃板。藉由強化處理,可提升玻璃強度,例如可維持強度又同時削減板厚。
惟,本發明中亦可使用強化玻璃板以外之玻璃板,可因應附防眩膜之基材10的用途等適當地設定。
就強化處理而言,一般周知為在玻璃板表面形成壓縮應力層之處理。玻璃板表面的壓縮應力層可提升玻璃板對損傷或撞擊的強度。在玻璃板表面形成壓縮應力層之手法則以風冷強化法(物理強化法)及化學強化法為代表。
在風冷強化法中,係藉由風冷等讓加熱至玻璃軟化點溫度附近(例如600~700℃)的玻璃板表面急冷。藉此,讓玻璃板表面與內部之間產生溫度差,而於玻璃板表層產生壓縮應力。
在化學強化法中,係在玻璃應變點溫度以下之溫度下將玻璃板浸漬於熔鹽,將玻璃板表層之離子(例如鈉離子)交換成離子半徑較大的離子(例如鉀離子)。藉此,於玻璃板表層產生壓縮應力。另外,玻璃之應變點低於軟化點。
玻璃板之厚度一旦變薄(例如小於2mm),以風冷強化法而言將難以在玻璃板內部與表層之間產生溫度差,而無法讓玻璃板充分強化,因此宜使用化學強化法。
施行化學強化處理的玻璃板只要是具有可化學強化之組成者即無特別限定,可使用各種組成之物,例如可列舉鈉鈣玻璃、鋁矽酸鹽玻璃、硼酸鹽玻璃、鋰鋁矽酸鹽玻璃、硼矽酸玻璃、無鹼玻璃、其他各種玻璃。在容易化學強化的觀點下,玻璃組成以氧化物基準之莫耳百分率表示含有SiO2:56~75%、Al2O3:1~20%、Na2O:8~22%、K2O:0~10%、MgO:0~14%、ZrO2:0~5%、CaO:0~10%為佳。該等中又以鋁矽酸鹽玻璃為佳。
施行化學強化處理之玻璃板的板厚以0.4~1.1mm為 佳,0.5~1.0mm尤佳。化學強化玻璃板之板厚只要在前述範圍之上限值以下,附防眩膜之基材10便輕;只要在前述範圍之下限值以上,附防眩膜之基材10的強度即佳。
另外,在化學強化前後,板厚不會產生變化。即,施行化學強化處理之玻璃板的板厚即為化學強化玻璃板(施行化學強化處理後的玻璃板)的板厚。
(防眩膜)
防眩膜14為下述(α)或(β)。
(α)防眩膜,其折射率為1.2以上且小於1.4,表面的算術平均粗度Ra為0.112~0.700μm,且表面之85°鏡面光澤度為70%以下。
(β)防眩膜,其折射率為1.4以上且1.5以下,表面的算術平均粗度Ra為0.158~0.500μm,且表面之85°鏡面光澤度為70%以下。
在此,防眩膜14之表面係表示與基材12側為相反側之面,亦即附防眩膜之基材10之防眩膜14側的表面。
算術平均粗度Ra係表示表面凹凸之山部谷部平均高度的指標。
防眩膜14之折射率若相同,就有表面算術平均粗度Ra愈大、85°鏡面光澤度愈小且對入射角大於60°之入射光(以下亦稱斜入射光)的防眩效果愈優異之傾向。又,防眩膜14表面之算術平均粗度Ra若相同,就有折射率愈小、85°鏡面光澤度愈小且對斜入射光的防眩效果愈優異之傾向。
防眩膜14之折射率若為1.5以下尤其是小於1.4, 則在防眩膜14表面之反射率便會降低,即使Ra在0.700μm以下甚至到0.500μm以下,還是可獲得充分的防眩效果。
防眩膜14之折射率若為1.2以上尤其是在1.4以上,防眩膜14之緻密性就夠高,與玻璃板等基材12之密著性即佳。又,表面的算術平均粗度Ra一旦增大,便有防眩膜14之耐摩耗性等機械強度降低之傾向,但因防眩膜14之緻密性高,即使算術平均粗度Ra變大,防眩膜14之機械強度還是夠優異。
(α)防眩膜之折射率以1.25以上且小於1.4為佳。
(α)防眩膜之算術平均粗度Ra以0.113~0.650μm為佳。(α)防眩膜表面之算術平均粗度Ra只要在前述範圍之下限以上,便可充分發揮防眩效果。(α)防眩膜表面之算術平均粗度Ra只要在前述範圍之上限值以下,防眩膜14之機械強度即佳,且附防眩膜之基材10的霧度亦可充分變小。
(α)防眩膜之85°鏡面光澤度以65%以下為佳,60%以下較佳。該85°鏡面光澤度之下限在對斜入射光之防眩效果方面並無特別限定,但若從防眩膜14之機械強度的觀點來看,則以15%以上為佳,20%以上較佳。
(α)防眩膜表面之60°鏡面光澤度以60%以下為佳,50%以下較佳。60°鏡面光澤度只要在60%以下,對斜入射光以外之入射光(入射角為0~60°之入射光)亦可發揮優異的防眩效果。
(β)防眩膜之折射率以1.40以上且1.46以下為佳。
(β)防眩膜之算術平均粗度Ra以0.200~0.500μm為 佳。(β)防眩膜表面之算術平均粗度Ra只要在前述範圍之下限值以上,便可充分發揮防眩效果。(β)防眩膜表面之算術平均粗度Ra只要在前述範圍之上限值以下,防眩膜14之機械強度即佳,且附防眩膜之基材10的霧度亦會充分變小。
(β)防眩膜之85°鏡面光澤度的理想範圍及60°鏡面光澤度的理想範圍分別與(α)防眩膜相同。
防眩膜14表面之85°鏡面光澤度及60°鏡面光澤度可藉由防眩膜14之折射率、防眩膜14表面之算術平均粗度Ra等來調整。
防眩膜14之折射率可藉由防眩膜14之基質材料、防眩膜14之空隙率、於基質中添加具有任意折射率之物質等來調整。例如,藉由提高防眩膜14之空隙率,可降低折射率。又,藉由於基質中添加折射率低的物質(實心二氧化矽粒子、空心二氧化矽粒子等),可降低防眩膜14之折射率。
有關防眩膜14表面之算術平均粗度Ra的調整方法將於後詳述。
就防眩膜14而言,從可輕易調整折射率或算術表面粗度Ra及化學穩定性優異等來看,宜含有實心二氧化矽粒子及空心二氧化矽粒子中之任一者或兩者(以下亦稱二氧化矽粒子(I))。
含有二氧化矽粒子(I)之膜典型上更含有充填二氧化矽粒子(I)間之空隙的基質。基質亦可以不會讓二氧化矽粒子(I)露出的方式覆蓋在二氧化矽粒子(I)之上側(與基材12側 相反之側)。
亦可使用由基質構成且不含二氧化矽粒子(I)之膜作為防眩膜14。
防眩膜14更可含有二氧化矽粒子(I)以外之其他粒子。
防眩膜14更可含有萜烯化合物。
防眩膜14更可含有二氧化矽粒子(I)、基質、其他粒子及萜烯化合物以外的其他成分(以下亦稱「其他任意成分」)。
基質:
就防眩膜14之基質而言,可列舉二氧化矽系基質、二氧化鈦系基質等。
「二氧化矽系基質」係指以二氧化矽為主成分之基質。
「二氧化鈦系基質」係指以二氧化鈦為主成分之基質。
防眩膜14之基質以二氧化矽系基質為佳。基質只要是二氧化矽系基質,防眩膜14之折射率(反射率)便容易降低。又,化學穩定性、耐摩耗性等亦佳。當基材12為玻璃時,密著性尤佳。
二氧化矽系基質亦可含有少量的二氧化矽以外之成分。該成分可舉如選自於Li,B,C,N,F,Na,Mg,Al,P,S,K,Ca,Ti,V,Cr,Mn,Fe,Co,Ni,Cu,Zn,Ga,Sr,Y,Zr,Nb,Ru,Pd,Ag,In,Sn,Hf,Ta,W,Pt,Au,Bi及鑭系元素之1個或多數個離子及/或氧化物等化合物。
二氧化矽系基質以實質上由二氧化矽構成者為佳。實 質上由二氧化矽構成係表示除了無法避免的不純物以外僅由二氧化矽構成。
二氧化矽系基質可舉如由含有二氧化矽前驅物及液狀介質之塗佈液所形成者。有關二氧化矽前驅物將於後詳述。
二氧化矽粒子(I):
二氧化矽粒子(I)係實心二氧化矽粒子及空心二氧化矽粒子中之任一者或兩者。
就實心二氧化矽粒子之形狀而言,可舉如球狀、橢圓狀、針狀、板狀、棒狀、圓錐狀、圓柱狀、立方體狀、長方體狀、鑽石狀、星狀、不定形狀等。實心二氧化矽粒子可以是各粒子以獨立狀態存在,或各粒子連結成鏈狀,又或是各粒子呈凝聚狀態。
就實心二氧化矽粒子來說,在容易進行低折射率化方面,以鏈狀實心二氧化矽粒子為佳。
鏈狀實心二氧化矽粒子係具有鏈狀形狀的實心二氧化矽粒子。舉例如具有多數個球狀、楕圓狀、針狀等形狀之實心二氧化矽粒子連結成鏈狀之形狀者。鏈狀實心二氧化矽粒子之形狀可由電子顯微鏡作確認。
鏈狀實心二氧化矽粒子可以市售品輕鬆地入手。又,亦可使用藉由公知製造方法所製造者。就市售品而言,可舉例如日產化學工業(股)製的SNOWTEX ST-OUP等。
實心二氧化矽粒子之平均凝聚粒徑以5~300nm為佳,5~200nm較佳。實心二氧化矽粒子之平均凝聚粒徑 只要在前述範圍內,便可輕易地使防眩膜14表面之算術平均粗度Ra落在前述範圍內。
平均凝聚粒徑可使用動態光散射法粒度分析計(例如日機裝公司製、Microtrac UPA)進行測定。
由於空心二氧化矽粒子於內部具有空洞,因此折射率比實心二氧化矽粒子低。所以,與實心二氧化矽粒子相較下,具有可以少量即獲得折射率之減低效果的優點。
就空心二氧化矽粒子而言,可舉如具有二氧化矽(SiO2)之外殻且外殻內部呈空洞者。
空心二氧化矽粒子之平均一次粒徑以40~150nm為佳,50~100nm較佳。空心二氧化矽粒子之平均一次粒徑只要在前述範圍內,便可輕易地使防眩膜14表面之算術平均粗度Ra落在前述範圍內。
空心二氧化矽粒子之平均一次粒徑係以下述方式求得。
以掃描型電子顯微鏡(以下表記為SEM)或穿透型電子顯微鏡(以下表記為TEM)觀察空心二氧化矽粒子,並隨機選出100個空心二氧化矽粒子,測出各空心二氧化矽粒子之粒徑後將100個空心二氧化矽粒子之粒徑平均而求得。
其他粒子:
其他粒子可列舉金屬氧化物粒子、金屬粒子、顏料系粒子、樹脂粒子等。其他粒子可為空心結構亦可為實心結構。
就金屬氧化物粒子之材料來說,可舉如Al2O3、SiO2、SnO2、TiO2、ZrO2、ZnO、CeO2、含Sb之SnOX(ATO)、含Sn之In2O3(ITO)、RuO2等。
金屬粒子之材料可舉如金屬(Ag、Ru等)、合金(AgPd、RuAu等)等。
顏料系粒子則例如有無機顏料(鈦黑、碳黑等)、有機顏料。
樹脂粒子之材料可舉如聚苯乙烯、三聚氰胺樹脂等。
以其他粒子之形狀來說,可舉如鱗片狀、球狀、楕圓狀、針狀、板狀、棒狀、圓錐狀、圓柱狀、立方體狀、長方體狀、鑽石狀、星狀、不定形狀等。其他粒子可以是各粒子以獨立狀態存在,或各粒子連結成鏈狀,又或是各粒子呈凝聚狀態。
其他粒子可單獨使用1種亦可將2種以上併用。
從可抑制防眩膜14之裂痕或膜剝離的觀點來看,其他粒子以鱗片狀粒子為佳。「鱗片狀粒子」係指具有扁平形狀的粒子。粒子之形狀可使用TEM作確認。
鱗片狀粒子可舉如鱗片狀二氧化矽粒子、鱗片狀氧化鋁粒子、鱗片狀二氧化鈦、鱗片狀二氧化鋯等,從可抑制膜之折射率上升、降低反射率的觀點來看,以鱗片狀二氧化矽粒子為佳。
鱗片狀二氧化矽粒子以藉由日本專利特開2014-94845號公報中記載之製造方法製成者為佳。
萜烯化合物:
有關萜烯化合物將於後詳述。
其他任意成分:
有關其他任意成分將於後詳述。
防眩膜14中,相對於防眩膜14之總質量,基質與二氧化矽粒子(I)之合計含量宜為10~100質量%,20~100質量%較佳,30~100質量%尤佳。基質與二氧化矽粒子(I)之合計含量只要在前述範圍之下限值以上,耐摩耗性即佳。
防眩膜14中之二氧化矽粒子(I)含量可考慮防眩膜14之折射率、算術表面粗度Ra及二氧化矽粒子(I)之種類等適當設定。
防眩膜14為前述(α)防眩膜且二氧化矽粒子(I)為實心二氧化矽粒子時,相對於防眩膜14之總質量,防眩膜14中之實心二氧化矽粒子含量宜大於0質量%且70質量%以下,大於0質量%且60質量%以下較佳,大於0質量%且50質量%以下尤佳。實心二氧化矽粒子含量只要在前述範圍內,便有實心二氧化矽粒子含量愈多,愈發使防眩膜14之折射率變低且算術表面粗度Ra變大之傾向。實心二氧化矽粒子含量只要在前述範圍之上限值以下,防眩膜14之折射率便容易落在前述範圍之下限值以上,算術表面粗度Ra也容易落在前述範圍之上限值以下。
從相同理由來看,防眩膜14為前述(β)防眩膜且二氧化矽粒子(I)為實心二氧化矽粒子時,相對於防眩膜14之總質量,防眩膜14中之實心二氧化矽粒子含量以60~80質量% 為佳,70~80質量%較佳。
防眩膜14為前述(α)防眩膜且二氧化矽粒子(I)為空心二氧化矽粒子時,相對於防眩膜14之總質量,防眩膜14中之空心二氧化矽粒子含量宜大於0質量%且20質量%以下,大於0質量%且15質量%以下較佳,大於0質量%且20質量%以下尤佳。空心二氧化矽粒子含量只要在前述範圍內,便有空心二氧化矽粒子含量愈多,愈發使防眩膜14之折射率變低且算術表面粗度Ra變大之傾向。空心二氧化矽粒子含量只要在前述範圍之上限值以下,防眩膜14之折射率便容易落在前述範圍之下限值以上,算術表面粗度Ra也容易落在前述範圍之上限值以下。
從相同理由來看,防眩膜14為前述(β)防眩膜且二氧化矽粒子(I)為空心二氧化矽粒子時,相對於防眩膜14之總質量,防眩膜14中之空心二氧化矽粒子含量以21~80質量%為佳,30~70質量%較佳。
(霧度)
附防眩膜之基材10之霧度以5~20%為佳,5~15%較佳。霧度只要在前述範圍之上限值以下,於顯示裝置使用附防眩膜之基材10時影像對比即佳,或者是於太陽電池模組使用附防眩膜之基材10時發電效率即佳。霧度只要在前述範圍之下限值以上,便容易發揮防眩效果。
<附防眩膜之基材之製造方法>
就附防眩膜之基材10之製造方法而言,可舉下述方法為例:於基材12上塗佈含有二氧化矽前驅物及液狀介質之 塗佈液(以下亦稱防眩膜用塗佈液)並進行乾燥而形成防眩膜14。
防眩膜用塗佈液可因應需求含有二氧化矽粒子(I)、其他粒子、萜烯化合物、其他任意成分等。有關防眩膜用塗佈液將於後詳述。
形成防眩膜14時,防眩膜用塗佈液之塗佈及乾燥係以可讓防眩膜14表面之算術平均粗度Ra落在預定範圍內的方式進行。
(塗佈)
就防眩膜用塗佈液之塗佈方法而言,可舉如公知的濕式法(噴塗法、旋塗法、浸塗法、模塗法、淋幕式塗佈法、網版塗佈法、噴墨法、流動施膜法、凹版塗佈法、棒塗法、柔版塗佈法、狹縫塗佈法、輥塗法等)等。
就塗佈方法來說,從容易形成充分的凹凸之觀點來看以噴塗法為佳。
使用於噴塗法之噴嘴可舉如二流體噴嘴、單流體噴嘴等。
從噴嘴吐出之塗佈液的液滴粒徑通常為0.1~100μm,以1~50μm為佳。液滴粒徑只要有1μm以上,便可在短時間內形成可充分發揮防眩效果的凹凸。液滴粒徑只要在50μm以下,便可輕易形成可充分發揮防眩效果的適度凹凸。
液滴粒徑可藉由噴嘴之種類、噴塗壓力、液量等適當調整。以二流體噴嘴為例,噴塗壓力愈高,液滴愈 小,且液量愈多液滴就愈大。
液滴粒徑係藉由雷射測定器測定之紹特平均粒徑(Sauter mean diameter)。
防眩膜表面之算術平均粗度Ra可藉由防眩膜用塗佈液之組成(固體成分濃度、二氧化矽粒子(I)及其他粒子之種類、大小、含量等)、防眩膜用塗佈液之塗佈條件(塗敷塗佈液時的噴塗壓力、液量、基材溫度、塗佈次數等)等來調整。
例如,在防眩膜用塗佈液之固體成分濃度以外的條件相同之情況下,有固體成分濃度愈高算術平均粗度Ra愈大之傾向。
在防眩膜用塗佈液含有二氧化矽粒子(I)且二氧化矽粒子(I)之平均粒徑(平均一次粒徑平均凝聚粒徑等)以外的條件相同之情況下,有二氧化矽粒子(I)之平均粒徑愈大算術平均粗度Ra愈大之傾向。
在防眩膜用塗佈液含有二氧化矽粒子(I)且二氧化矽粒子(I)之含量以外的條件相同之情況下,有二氧化矽粒子(I)之含量愈多算術平均粗度Ra愈大之傾向。
在塗佈防眩膜用塗佈液時之噴塗壓力以外的條件相同之情況下,有噴塗壓力愈低算術平均粗度Ra愈大之傾向。
在塗佈防眩膜用塗佈液時之液量以外的條件相同之情況下,有液量愈多算術平均粗度Ra愈大之傾向。
在塗佈防眩膜用塗佈液時之基材溫度以外的條件相同之情況下,有基材溫度愈高算術平均粗度Ra愈大之傾向。
在塗佈防眩膜用塗佈液時之塗佈次數以外的條件相同之情況下,有塗佈次數即噴塗法之塗佈面數(重複塗佈次數)愈多算術平均粗度Ra愈大之傾向。
而且,算術平均粗度Ra大時,就有85°鏡面光澤度變小且對斜入射光之防眩效果變高之傾向,及有霧度變大之傾向。
利用噴塗法塗佈防眩膜用塗佈液時,宜預先將基材12加熱至30~90℃。基材12之溫度只要在30℃以上,液狀介質便會快速蒸發,因此容易形成充分的凸凹。基材12之溫度只要在90℃以下,基材12與防眩膜14之密著性即佳。基材12為厚度5mm以下之玻璃板時,亦可將預先已設定成基材12溫度以上之溫度的保溫板配置在基材12下,以抑制基材12之溫度降低。
(乾燥)
將藉由防眩膜用塗佈液之塗佈而形成於基材12上的防眩膜用塗佈液之塗膜予以乾燥。藉此,可去除塗膜中之液狀介質,且當殘存於塗膜中之二氧化矽前驅物在轉化成二氧化矽系基質(例如,在二氧化矽前驅物為具有與矽原子鍵結之水解性基的矽烷化合物時,水解性基會大致分解而進行水解物之縮合)的同時膜會緻密化,而形成防眩膜14。
乾燥可藉由加熱進行,亦可不經加熱(自然乾燥、風乾等)進行。
塗膜之加熱可藉由將防眩膜用塗佈液塗佈至基材12上 時預先將基材12加熱的方式與塗佈同時進行,亦可在將防眩膜用塗佈液塗佈至基材12後,藉由加熱塗膜而進行。
乾燥溫度以30℃以上為佳,因應基材12之材料及防眩膜用塗佈液之材料等適當決定即可。
二氧化矽前驅物為具有與矽原子鍵結之水解性基的矽烷化合物(後述之矽烷化合物(A))時,乾燥溫度以80℃以上為佳,100℃以上較佳。乾燥溫度若在80℃以上,膜便可緻密化而提升防眩膜14之機械強度等耐久性。
基材12之材料為樹脂時,乾燥溫度會是樹脂之耐熱溫度以下。基材12之材料為玻璃時,乾燥溫度宜在玻璃之軟化點溫度以下。
基材12為化學強化玻璃板時,乾燥溫度以80~450℃為佳。
基材12為未經化學強化之玻璃板時,亦可兼具形成防眩膜14時的乾燥步驟及玻璃板之物理強化(風冷強化)步驟。在物理強化步驟中,玻璃板會被加熱至玻璃的軟化溫度附近。此時,乾燥溫度典型上設定在約600~700℃前後。
即使為自然乾燥,聚合還是有某程度上的進展,所以如果在時間上無任何限制,理論上亦可將乾燥溫度設定成室溫附近的溫度。
(防眩膜用塗佈液)
防眩膜用塗佈液含有二氧化矽前驅物及液狀介質。
因應需求,防眩膜用塗佈液更可含有二氧化矽粒子(I)、其他粒子、萜烯化合物、其他任意成分等。
二氧化矽前驅物:
就二氧化矽前驅物而言,可舉如具有與矽原子鍵結之水解性基的矽烷化合物(以下亦稱矽烷化合物(A))、矽烷化合物(A)之水解縮合物(溶膠凝膠二氧化矽)及矽氮烷等,從防眩膜14之各特性方面來看,以矽烷化合物(A)及其水解縮合物中之任一者或兩者為佳,且以矽烷化合物(A)之水解縮合物較佳。
就矽烷化合物(A)而言,可舉如具有與矽原子鍵結之烴基及水解性基的矽烷化合物(A1)、以及烷氧矽烷(惟,矽烷化合物(A1)除外)等。
在矽烷化合物(A1)中,已與矽原子鍵結之烴基可為與1個矽原子鍵結之1價烴基,亦可為與2個矽原子鍵結之2價烴基。1價烴基可舉如烷基、烯基、芳基等。2價烴基則可舉如伸烷基、伸烯基、伸芳基等。
烴基亦可於碳原子間具有選自-O-、-S-、-CO-及-NR’-(惟,R’為氫原子或1價烴基)中之1個或2個以上所組合成之基。
就已與矽原子鍵結之水解性基而言,可舉如烷氧基、醯氧基、酮圬基、烯氧基、胺基、胺氧基、醯胺基、異氰酸酯基、鹵素原子等。該等中,從矽烷化合物(A1)之穩定性及易水解性之平衡觀點來看,以烷氧基、異氰酸酯基及鹵素原子(尤其是氯原子)為佳。
烷氧基以碳數1~3之烷氧基為佳,甲氧基或乙氧基較佳。
矽烷化合物(A1)中存有多數個水解性基時,水解性基可為相同之基亦可為相異之基,在易入手性方面以相同之基為佳。
就矽烷化合物(A1)而言,可舉如後述式(I)所示之化合物、具有烷基之烷氧矽烷(甲基三甲氧矽烷、乙基三乙氧矽烷等)、具有乙烯基之烷氧矽烷(乙烯基三甲氧矽烷、乙烯基三乙氧矽烷等)、具有環氧基之烷氧矽烷(2-(3,4-環氧環己基)乙基三甲氧矽烷、3-環氧丙氧基丙基三甲氧矽烷、3-環氧丙氧基丙基甲基二乙氧矽烷、3-環氧丙氧基丙基三乙氧矽烷等)、具有丙烯醯氧基之烷氧矽烷(3-丙烯醯氧基丙基三甲氧矽烷等)等。
從防眩膜14之機械強度的觀點來看,矽烷化合物(A1)以下式(I)所示化合物為佳。
R3-pLpSi-Q-SiLpR3-p…(I)
式(I)中,Q為2價烴基(碳原子間可具有選自於-O-、-S-、-CO-及-NR’-(惟,R’為氫原子或1價烴基)中之1個或2個以上所組合成之基)。2價烴則可列舉如上述者。
從防眩膜14之機械強度及易入手性等觀點來看,Q以碳數2~8之伸烷基為佳,碳數2~6之伸烷基更佳。
式(I)中,L為水解性基。水解性基可舉如上述者,理想的態樣亦同。
R為氫原子或1價烴基。以1價烴來說可舉如上述者。
p為1~3之整數。從反應速度不會變得太慢的觀點來看,p以2或3為佳,3尤佳。
就烷氧矽烷(惟,前述矽烷化合物(A1)除外)而言,可舉如四烷氧矽烷(四甲氧矽烷、四乙氧矽烷、四丙氧矽烷、四丁氧矽烷等)、具有全氟聚醚基之烷氧矽烷(全氟聚醚三乙氧矽烷等)、及具有全氟烷基之烷氧矽烷(全氟乙基三乙氧矽烷等)等。
矽烷化合物(A)之水解及縮合可藉由公知方法進行。
例如,當矽烷化合物(A)為四烷氧矽烷時,可使用四烷氧矽烷之4倍莫耳以上的水及使用酸或鹼作為觸媒來進行。
就酸而言,可舉如無機酸(HNO3、H2SO4、HCl等)、有機酸(蟻酸、草酸、一氯乙酸、二氯乙酸、三氯乙酸等)。鹼的部分則可舉如氨、氫氧化鈉、氫氧化鉀等。就觸媒來說,在矽烷化合物(A)之水解縮合物的長期保存性方面,以酸為佳。
用於矽烷化合物(A)之水解的觸媒以不會妨礙二氧化矽粒子(I)等粒子分散者為佳。
作為二氧化矽前驅物,可單獨使用1種亦可將2種以上組合使用。
從防止防眩膜14之裂痕及膜剝離的觀點來看,二氧化矽前驅物宜含有矽烷化合物(A1)及其水解縮合物中之任一者或兩者。
從防眩膜14之耐摩耗強度的觀點來看,二氧化矽前驅物宜含有四烷氧矽烷及其水解縮合物中之任一者或兩者。
二氧化矽前驅物尤宜含有矽烷化合物(A1)及其水解縮合物中之任一者或兩者、以及四烷氧矽烷及其水解縮合物中之任一者或兩者。
相對於二氧化矽前驅物之SiO2換算固體成分(100質量%),二氧化矽前驅物中之矽烷化合物(A1)及其水解縮合物的比例宜為5~30質量%。
液狀介質:
液狀介質係讓二氧化矽前驅物溶解或分散之液體。防眩膜用塗佈液含有二氧化矽粒子、其他粒子等之粒子時,液狀介質亦可具有作為讓該粒子分散之分散媒的功能。
就液狀介質而言,可舉例如水、醇類、酮類、醚類、賽珞蘇類、酯類、甘醇醚類、含氮化合物、含硫化合物等。
醇類可舉如甲醇、乙醇、異丙醇、丁醇、二丙酮醇等。
酮類可舉如丙酮、甲基乙基酮、甲基異丁基酮等。
醚類可舉如四氫呋喃、1,4-二烷等。
賽珞蘇類可舉如甲基賽珞蘇、乙基賽珞蘇等。
酯類可舉如乙酸甲酯、乙酸乙酯等。
甘醇醚類,可舉如乙二醇單烷基醚等。
含氮化合物可舉如N,N-二甲基乙醯胺、N,N-二甲基甲醯胺、N-甲基吡咯啶酮等。
含硫化合物則可舉如二甲亞碸等。
液狀介質可單獨使用1種亦可將2種以上組合使用。
於二氧化矽前驅物之烷氧矽烷等之水解需要水,因此水解後在未進行液狀介質之置換的前提下,液狀介質中至少含有水。
此時,液狀介質可僅為水,亦可為水與其他液體之混合液。其他液體例如可為醇類、酮類、醚類、賽珞蘇類、酯類、甘醇醚類、含氮化合物、含硫化合物等。其他液體中,就二氧化矽前驅物之溶劑來說以醇類為佳,且以甲醇、乙醇、異丙醇、丁醇尤佳。
於液狀介質中亦可含有酸或鹼。酸或鹼可在調製二氧化矽前驅物之溶液時,為了原料(烷氧矽烷等)之水解、縮合而作為觸媒添加,亦可在調製出二氧化矽前驅物之溶液後添加。
二氧化矽粒子(I):
有關二氧化矽粒子(I)之說明與前述相同。
其他微粒子:
有關其他微粒子之說明與前述相同。
萜烯化合物:
防眩膜用塗佈液含有二氧化矽粒子(I)等粒子時若更含有萜烯化合物,便會於粒子周圍形成空隙,與不含萜烯化合物之情況相比,有折射率變低之傾向。
萜烯係指以異戊二烯(C5H8)作為構成單元之(C5H8)n(惟,n為1以上之整數)之組成的烴。萜烯化合物係指具有從萜烯衍生而來之官能基的萜烯類。萜烯化合物亦包含不飽和度互異者。
另外,於萜烯化合物中亦有可作用為液狀介質之物,但「以異戊二烯作為構成單元之(C5H8)n之組成的烴」是設為歸屬於萜烯衍生物,而非歸屬於液狀介質。
就萜烯化合物而言,可使用國際公開第2010/018852號中記載之萜烯衍生物等。
其他任意成分:
其他任意成分例如有用以提升調平性之界面活性劑、用以提升防眩膜14之耐久性的金屬化合物、紫外線吸收劑、紅外線反射/紅外線吸收劑及抗反射劑等。
界面活性劑可舉如矽油系、丙烯酸系等。
金屬化合物以鋯螫合物化合物、鈦螫合物化合物、鋁螫合物化合物等為佳。鋯螫合物化合物可舉如四乙醯乙酸鋯、三丁氧基硬脂酸鋯等。
組成:
相對於防眩膜用塗佈液中之固體成分(100質量%)(惟,二氧化矽前驅物要做SiO2換算),防眩膜用塗佈液中之二氧化矽前驅物含量(SiO2換算)在20質量%以上為佳,在25質量%以上較佳。二氧化矽系基質前驅物之含量若在前述之下限值以上,防眩膜14的機械強度即佳。又,可在基材12與防眩膜14之間獲得充分的密著強度。
二氧化矽前驅物相對於固體成分的含量(SiO2換算)上限並無特別限定,亦可為100質量%。可依據因應需求摻混到防眩膜用塗佈液中的其他成分含量來適當設定。
例如,當防眩膜用塗佈液含有二氧化矽粒子(I)時,相 對於防眩膜用塗佈液中之固體成分(100質量%),二氧化矽前驅物相對於固體成分的含量(SiO2換算)在50質量%以下為佳,在45質量%以下較佳。
塗佈液中之液狀介質含量係設為與塗佈液之固體成分濃度相應之量。
防眩膜用塗佈液之固體成分濃度宜為2~7質量%,3~5質量%較佳。固體成分濃度若在前述範圍內,便容易獲得表面的算術平均粗度Ra在前述範圍內之防眩膜14。
防眩膜用塗佈液之固體成分係防眩膜用塗佈液中之液狀介質以外的總成分含量合計。惟,二氧化矽前驅物之含量為SiO2換算。
防眩膜用塗佈液中之二氧化矽粒子(I)含量可考慮前述之防眩膜14中之二氧化矽粒子(I)含量來適當設定。
防眩膜14中之二氧化矽粒子(I)含量與相對於防眩膜用塗佈液中之固體成分(100質量%)(惟,二氧化矽前驅物要做SiO2換算)的二氧化矽粒子(I)含量大致相同。
防眩膜用塗佈液含有萜烯化合物時,相對於防眩膜用塗佈液中之固體成分(100質量%)(惟,二氧化矽前驅物要做SiO2換算),防眩膜用塗佈液中之萜烯化合物含量宜為0.05~0.25質量%,0.1~0.15質量%較佳。萜烯化合物之含量若在前述範圍之下限值以上,便可輕易獲得含有萜烯化合物所致之效果。萜烯化合物之含量若在前述範圍之上限值以下,機械強度即佳。
防眩膜用塗佈液例如可藉由調製矽烷前驅物已 溶解於液體介質之溶液,並因應需求將追加的液狀介質、二氧化矽粒子(I)之分散液、其他粒子之分散液、萜烯化合物及其他任意成分等加以混合來調製。
(作用效果)
附防眩膜之基材10因為防眩膜14為前述之(α)或(β),所以與習知物相較下,對幾近水平的斜入射光之防眩效果較佳。
又,附防眩膜之基材10對幾近水平之斜入射光以外之光的防眩效果亦佳。
另外,就膜之表面粗度特性而言,周知除算術平均粗度Ra以外,還有粗度曲線要素之平均長度RSm、最大高度粗度Rz、粗度曲線之峰度Rku、粗度曲線之偏斜度Rsk等種種項目。本發明人等確認了算術平均粗度Ra與防眩膜14表面之85°鏡面光澤度的相關性很高,而其他表面粗度特性與防眩膜14表面之85°鏡面光澤度的相關性則很低(參照後述[實施例])。
(用途)
附防眩膜之基材10的用途並無特別限定。以具體例來說,可舉如車輛用透明零件(頭燈罩、側鏡、前透明基板、側透明基板、後透明基板等)、車輛用透明零件(儀表板表面等)、儀表、建築窗、展示窗、顯示器(筆記型電腦、監測器、LCD、PDP、ELD、CRT、PDA等)、LCD濾色器、觸控面板用基板、拾取透鏡、光學透鏡、眼鏡透鏡、照相機零件、視訊零件、CCD用覆蓋基板、光纖端 面、投影機零件、複印機零件、太陽電池用透明基板(蓋玻璃等)、行動電話視窗、背光組件零件(導光板、冷陰極管等)、背光組件零件液晶輝度提升薄膜(稜鏡、半穿透薄膜等)、液晶輝度提升薄膜、有機EL發光元件零件、無機EL發光元件零件、螢光體發光元件零件、光學濾器、光學零件之端面、照明燈、照明器具之外殼、放大雷射光源、抗反射薄膜、偏光薄膜、農業用薄膜等。
從對斜入射光之防眩效果優異來看,附防眩膜之基材10以太陽電池用透明基板為佳。
在太陽電池模組中,為了保護太陽電池,會於太陽電池之前面等配置透明基板(蓋玻璃等)。依設置場所,可能會因在透明基板表面反射之反射光而產生光害。尤其若於傾斜屋頂上等之傾斜面設置太陽電池模組,恐有光以近90°之入射角入射而產生強烈的反射光之疑慮。藉由使用附防眩膜之基材10作為太陽電池用透明基板,可抑制如上述反射光所致之光害發生。
以上係針對本發明之附防眩膜之基材揭示一實施形態加以說明,惟本發明不受上述實施形態限定。上述實施形態之各構成及該等組合等僅為一例,可在不脫離本發明主旨之範圍內進行構成之附加、省略、置換及其他變更。
例如,於防眩膜14之上側(與基材12側為相反側)亦可具有AFP(指紋除去層)等功能層。在基材12與防眩膜14之間亦可具有鹼障壁層、反射率波形調整層、紅外線遮蔽層 等功能層。功能層可藉由塗佈法等公知方法形成。
基材12之形態不限於板、薄膜等片狀。例如,亦可為矩形或者是曲面等形態。
附防眩膜之基材的製造方法不限定為在基材上塗佈前述防眩膜用塗佈液並進行乾燥來形成防眩膜14之方法。
[物品]
本發明之物品具備前述本發明之附防眩膜之基材。
本發明之物品可由本發明之附防眩膜之基材所構成,亦可更具備本發明之附防眩膜之基材以外的其他構件。
本發明之物品之實例可舉如前述就附防眩膜之基材10之用途所列舉者、及具備該等中任1種以上之裝置等。
就裝置而言,例如可列舉太陽電池模組、顯示裝置、照明裝置等。
就太陽電池模組而言,其具備太陽電池、與用以保護太陽電池而分別配置在太陽電池之前面及背面的透明基板(蓋玻璃等),而作為前述透明基板之至少其中一透明基板(理想是至少前面側之透明基板),宜使用本發明之附防眩膜之基材。
顯示裝置之實例可舉如行動電話、智慧型手機、輸入板、汽車導航等。
照明裝置之實例則可舉如有機EL(場發光)照明裝置、LED(發光二極體)照明裝置等。
實施例
以下將揭示實施例詳細說明本發明。惟,本發 明不受以下記載限定。
後述之例1~16中,例1~4、10~15為實施例,例5~9、16為比較例。
各例中使用之測定‧評估方法及材料(入手源或調製方法)顯示於下。
<測定‧評估方法>
(光澤度)
就防眩膜之表面光澤度測定了60°鏡面光澤度及85°鏡面光澤度。各鏡面光澤度係使用光澤度計(KONICA MINOLTA公司製、GM-268plus),藉由JIS Z8741:1997中所規定之方法在防眩膜之大致中央部進行測定。又,各鏡面光澤度係藉由在玻璃板之背面(與防眩膜為相反側之面)黏貼黑膠帶,在無玻璃板之背面反射影響的狀態下進行測定。光澤度愈小表示防眩性愈佳。
(表面粗度)
使用表面粗度計(東京精密公司製、Surfcom(註冊商標)1500DX),藉由JIS B0601:2001中記載之方法測定防眩膜之表面粗度(算術平均粗度Ra、粗度曲線要素之平均長度RSm、最大高度粗度Rz、粗度曲線之峰度Rku、粗度曲線之偏斜度Rsk)。粗度曲線用之基準長度lr(截止值λ c)係設為0.08mm。
(防眩膜之折射率)
防眩膜之折射率n係以下述方法測定。
以旋塗器將欲求算折射率之層的單層平滑膜形成於玻 璃板表面,並將黑色塑膠膠帶以不含氣泡的方式黏附至該玻璃板之與該單層膜為相反側之表面。然後藉由分光光度計(大塚電子公司製、瞬間多重測光系統MCPD-3000)在波長300~780nm範圍下測定前述單層膜之反射率。測定反射率時係將光之入射角度設為2°。從波長300~780nm範圍下最低的反射率(底部反射率Rmin)與前述玻璃板的折射率ns藉由下式(1)算出折射率n。
Rmin=(n-ns)2/(n+ns)2…(1)
<使用材料>
(二氧化矽前驅物溶液(a-1)之調製)
一邊攪拌改質乙醇(Japan Alcohol Trading CO.,LTD製、商品名「Solmix AP-11」。以乙醇作為主劑之混合溶劑。以下亦同)69.0g一邊加入離子交換水11.9g與61質量%硝酸0.1g之混合液,並攪拌5分鐘。於其中加入四乙氧矽烷(SiO2換算固體成分濃度:29質量%)19.0g,在室溫下攪拌30分鐘而調製出SiO2換算固體成分濃度為5.5質量%之二氧化矽前驅物溶液(a-1)。
另外,在此之SiO2換算固體成分濃度係四乙氧矽烷的所有Si均轉化成SiO2時的固體成分濃度。
(二氧化矽前驅物溶液(a-2)之調製)
一邊攪拌改質乙醇80.3g一邊加入離子交換水7.9g與61質量%硝酸0.2g之混合液,並攪拌5分鐘。接著加入1,6-雙(三甲氧矽基)己烷(信越矽利光公司製、商品名「KBM3066」、SiO2換算固體成分濃度:37質量%)11.6g, 在水浴中60℃下攪拌15分鐘而調製出SiO2換算固體成分濃度為4.3質量%之二氧化矽前驅物溶液(a-2)。
另外,在此之SiO2換算固體成分濃度係1,6-雙(三甲氧矽基)己烷的所有Si均轉化成SiO2時的固體成分濃度。
(二氧化矽前驅物溶液(a)之調製)
一邊攪拌二氧化矽前驅物溶液(a-1)81.8g一邊加入二氧化矽前驅物溶液(a-2)11.7g,並攪拌30分鐘。接著加入改質乙醇6.5g,在室溫下攪拌30分鐘而獲得SiO2換算固體成分濃度為5.0質量%之二氧化矽前驅物溶液(a)。
(二氧化矽前驅物溶液(b)之調製)
一邊攪拌改質乙醇91.1g一邊加入離子交換水1.2g與36質量%鹽酸0.4g之混合液,並攪拌5分鐘。於其中加入矽酸乙酯40(多摩化學工業公司製、聚四乙氧矽烷、SiO2換算固體成分濃度:40質量%)7.3g,在室溫下攪拌30分鐘而調製出SiO2換算固體成分濃度為3.0質量%之二氧化矽前驅物溶液(b)。
(實心二氧化矽粒子分散液(c))
日產化學工業公司製之鏈狀SiO2微粒子分散液;商品名:SNOWTEX OUP;SiO2換算固體成分濃度:15.5質量%;平均一次粒徑:10~20nm;平均凝聚粒徑:40~100nm。
(空心二氧化矽粒子分散液(d))
日揮觸媒化成工業製之空心SiO2微粒子分散液;商品名:THRULYA 4110;SiO2換算固體成分濃度:20.5質量%; 平均一次粒徑:60nm。
(塗佈液(A)之調製)
一邊攪拌二氧化矽前驅物溶液(a)60.0g一邊加入改質乙醇40.0g,在室溫下攪拌30分鐘而獲得SiO2換算固體成分濃度為3.0質量%之塗佈液(A)。
(塗佈液(B)之調製)
直接使用二氧化矽前驅物溶液(a)而獲得SiO2換算固體成分濃度為5.0質量%之塗佈液(B)。
(塗佈液(C)之調製)
一邊攪拌二氧化矽前驅物溶液(a)80.0g一邊加入改質乙醇20.0g,在室溫下攪拌30分鐘而獲得SiO2換算固體成分濃度為4.0質量%之塗佈液(C)。
(塗佈液(D)之調製)
一邊攪拌改質乙醇47.4g一邊加入二氧化矽前驅物溶液(a)30.0g,接著加入實心二氧化矽粒子分散液(c)22.6g,在室溫下攪拌30分鐘而獲得SiO2換算固體成分濃度為5.0質量%之塗佈液(D)。
(塗佈液(E)之調製)
一邊攪拌改質乙醇7.4g一邊於其中加入異丁醇24.0g、二丙酮醇15.0g、α萜品醇1.00g、二氧化矽前驅物溶液(a)30.0g,接著加入實心二氧化矽粒子分散液(c)22.6g,在室溫下攪拌30分鐘而獲得SiO2換算固體成分濃度為5.0質量%之塗佈液(E)。
(塗佈液(F)之調製)
一邊攪拌改質乙醇37.8g一邊加入二氧化矽前驅物溶液(a)50.0g,接著加入空心二氧化矽粒子分散液(d)12.2g,在室溫下攪拌30分鐘而獲得SiO2換算固體成分濃度為5.0質量%之塗佈液(D)。
(塗佈液(G)之調製)
一邊攪拌改質乙醇76.3g一邊加入二氧化矽前驅物溶液(a)12.0g,接著加入空心二氧化矽粒子分散液(d)11.7g,在室溫下攪拌30分鐘而獲得SiO2換算固體成分濃度為3.0質量%之塗佈液(G)。
(塗佈液(H)之調製)
一邊攪拌改質乙醇71.8g一邊加入二氧化矽前驅物溶液(a)18.0g,接著加入空心二氧化矽粒子分散液(d)10.2g,在室溫下攪拌30分鐘而獲得SiO2換算固體成分濃度為3.0質量%之塗佈液(H)。
(塗佈液(I)之調製)
一邊攪拌改質乙醇22.8g一邊加入二氧化矽前驅物溶液(a)70.0g,接著加入空心二氧化矽粒子分散液(d)7.3g,在室溫下攪拌30分鐘而獲得SiO2換算固體成分濃度為5.0質量%之塗佈液(I)。
(塗佈液(J)之調製)
直接使用二氧化矽前驅物溶液(b)而獲得SiO2換算固體成分濃度為3.0質量%之塗佈液(J)。
<例1>
(玻璃板洗淨)
玻璃板準備的是一業經化學強化之鋁矽酸鹽玻璃板(旭硝子公司製、商品名「Leoflex」。尺寸:300mm×300mm、厚0.85mm)。以碳酸氫納水將該玻璃板表面洗淨後,以離子交換水淋洗再使其乾燥。
(附防眩膜之玻璃板之製作)
將前述玻璃板以預熱爐(ISUZU公司製、VTR-115)預熱。接著在將玻璃板之表面溫度保溫於90℃之狀態下,於前述玻璃板上藉由噴塗法在下述塗佈條件下,以可使欲形成之防眩膜表面之算術平均粗度Ra成為表2所示之值的方式來塗佈塗佈液(A)。即,將噴塗壓力(噴嘴之空氣排洩壓力)設定為0.2MPa,以可使欲形成之防眩膜表面之算術平均粗度Ra成為0.247μm的方式重複下述塗佈處理。
塗佈處理:使噴嘴以750mm/分之速度在玻璃板上往橫向移動,接著使其往前方移動22mm,然後再從該處以750mm/分之速度在玻璃板上往橫向移動,重覆以上操作直至將塗佈液(A)塗滿玻璃板整面。
(塗佈條件)
塗佈液之液量:40cm3/分、 噴塗壓力:0.2MPa、 噴嘴移動速度:750mm/分、 噴塗間隔:22mm。
然後,於大氣中,在200℃下進行3分鐘的加熱硬化而獲得附防眩膜之玻璃板。
利用噴塗法之塗佈係使用了6軸塗裝用自動操作機(Ka wasaki Robotics公司製、JF-5)。又,噴嘴係使用VAU噴嘴(S praying Systens Japan Co.製)。
<例2~16>
將塗佈液之種類、塗佈液之液量及噴塗壓力變更成如表1所示,並將算術平均粗度Ra變更成如表2所示,除此以外以與例1同樣的方式獲得附防眩膜之玻璃板。
針對各例所得之附防眩膜之玻璃板測定防眩膜中之折射率、在入射角60°或85°下之光澤度(60°鏡面光澤度、85°鏡面光澤度)、防眩膜表面之表面粗度(算術平均粗度Ra、粗度曲線要素之平均長度RSm、最大高度粗度Rz、粗度曲線之峰度Rku、粗度曲線之偏斜度Rsk),並將測定結果顯示於表1~2。
[表1]
如同表1之結果所示,防眩膜之折射率為1.4以上且1.5以下而且表面的算術平均粗度Ra為0.158~0.500μm之例1~4的防眩膜,其在入射角85°之光澤度為70%以下,對斜入射光具有優異的防眩效果。
相對於此,算術平均粗度Ra小於0.158μm之例5~9的防眩膜,其在入射角85°之光澤度超過70%,與例1~4之防眩膜相較下,對斜入射光的防眩效果較差。尤其是例7、9之防眩膜,儘管在入射角60°之光澤度低於例1,在入射角85°之光澤度卻高於例1。
如同表2之結果所示,防眩膜之折射率為1.2以上且小於1.4而且算術平均粗度Ra為0.112~0.700μm之例10~15的防眩膜,其在入射角85°之光澤度為70%以下,對斜入射光具有優異的防眩效果。
相對於此,算術平均粗度Ra小於0.112μm之例16的防眩膜,其在入射角85°之光澤度超過70%,與例10~15相較下,對斜入射光之防眩效果較差。
另外,防眩膜表面之表面粗度特性中,關於算術平均粗度Ra,其與在入射角85°之光澤度之間有觀察到高度相關關係,但於其他特性(粗度曲線要素之平均長度RSm、最大高度粗度Rz、粗度曲線之峰度Rku、粗度曲線之偏斜度Rsk)上,與在入射角85°之光澤度之間則未觀察到相關關係。由此點可確認算術平均粗度Ra可有效作為對斜入射光之防眩效果的指標。
10‧‧‧附防眩膜之基材
12‧‧‧基材
14‧‧‧防眩膜

Claims (9)

  1. 一種附防眩膜之基材,具備基材及形成於前述基材上之防眩膜,其特徵在於:前述防眩膜之折射率為1.2以上且小於1.4,前述防眩膜表面之算術平均粗度Ra為0.112~0.700μm,且前述防眩膜表面之85°鏡面光澤度為70%以下。
  2. 一種附防眩膜之基材,具備基材及形成於前述基材上之防眩膜,其特徵在於:前述防眩膜之折射率為1.4以上且1.5以下,前述防眩膜表面之算術平均粗度Ra為0.158~0.500μm,且前述防眩膜表面之85°鏡面光澤度為70%以下。
  3. 如請求項1或2之附防眩膜之基材,其中前述防眩膜含有實心二氧化矽粒子及空心二氧化矽粒子中之任一者或二者。
  4. 如請求項1至3中任一項之附防眩膜之基材,其中前述防眩膜係由含有二氧化矽前驅物及液狀介質之塗佈液所形成者。
  5. 如請求項1至4中任一項之附防眩膜之基材,其中前述基材為玻璃板。
  6. 如請求項5之附防眩膜之基材,其中前述玻璃板為強化玻璃板。
  7. 如請求項6之附防眩膜之基材,其中前述強化玻璃板為化學強化玻璃板且板厚為0.4~1.1mm。
  8. 一種物品,具備如請求項1至7中任一項之附防眩膜之基材。
  9. 如請求項8之物品,其為太陽電池模組。
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