CN107924002B - 透光性结构体、其制造方法及物品 - Google Patents

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Abstract

一种透光性结构体，其具备透光性基材和设置在其可视侧的基底层(5)，可视侧的最外表面具有下述凹凸结构。凹凸结构：包含利用激光显微镜测定的区域的表面形状的承载部高度+0.05μm的高度处的截面中的直径大于10μm的第一凸部和上述表面形状的承载部高度+0.5μm的高度处的截面中的直径大于1μm的第二凸部，上述表面形状的承载部高度+0.05μm的高度处的截面中的第一凸部的平均直径大于10μm且小于等于185μm，第一凸部的以上述区域内最低部分的高度作为基准时的最大高度为0.2μm～8μm，第二凸部的数量为0.0001～1.2个/1μm2，第二凸部的以上述承载部高度作为基准时的平均高度为0.1μm～8μm。

Description

透光性结构体、其制造方法及物品
技术领域
本发明涉及透光性结构体、其制造方法及物品。
背景技术
对于设置于各种设备(例如，电视机、个人电脑、智能手机、手机、车辆等)的图像显示装置(例如，液晶显示器、有机EL显示器、等离子体显示器等)而言，室内照明(荧光灯等)、太阳光等外部光映射到显示面时，由于反射像而导致可视性降低。
为了提高可视性，提出了在图像显示装置的显示面上实施减反射处理、防眩(防眩光)处理的方案。在减反射处理中，在显示面上形成减反射层，从而抑制外部光的反射本身。在防眩处理中，通过在显示面上形成凹凸而使外部光漫反射，由此使反射像不清晰。作为凹凸的形成方法，存在对显示面进行蚀刻的方法、在显示面上形成表面具有凹凸的防眩层的方法等。作为防眩层的形成方法，已知利用喷涂法将含有烷氧基硅烷的水解缩合物等二氧化硅前体的涂布液涂布在基材上并进行烘烤的方法(例如专利文献1)。
在专利文献2中，提出了一种防眩和减反射构件，其具备设置有在表层具有凹凸结构的防眩光层的基材和设置在上述防眩光层上的减反射层。对于该防眩和减反射构件而言，由于在防眩光层上配置有减反射层，因此，防眩光层的反射率降低，能够减少被防眩光层漫反射的光的光量，可以得到更优良的防眩特性。
但是，在显示面上实施防眩处理的情况下，虽然抑制了外部光映射到显示面，但是存在在显示面产生闪光(ぎらつき)由此导致图像的可视性降低的问题。该闪光具有防眩性越高则越强的倾向。例如在通过喷涂法形成防眩层的情况下，反复涂布涂布液时，雾度提高且防眩性提高，但是闪光变强。对于专利文献2中记载的防眩和减反射构件而言也存在同样的问题。
在专利文献3中，为了抑制图像的闪光等，提出了在基材上分离配置多个凸部。该凸部为平台状或近似圆形盆地形状且具有至少一个以上边缘的形状，并且与基材粘附的部位的尺寸为50μm～250μm。
但是，在专利文献3中，将雾度调节为10％以下，防眩性不足。
现有技术文献
专利文献
专利文献1：日本特开2009-058640号公报
专利文献2：国际公开第2014/034720号
专利文献3：日本特开2013-214059号公报
发明内容
发明所要解决的问题
本发明的目的在于提供防眩性和减反射性优良、并且充分地抑制了闪光的透光性结构体以及具备该透光性结构体的物品。
另外，本发明的另一个目的在于提供能够制造防眩性和减反射性优良、并且充分地抑制了闪光的透光性结构体的制造方法。
用于解决问题的手段
本发明具有下述方式。
(1)一种透光性结构体，其具备透光性基材和设置在上述透光性基材的可视侧的减反射层，由此所述透光性结构体的通过SCI方式测定的反射率为3％以下，
所述透光性结构体的可视侧的最外表面具有下述凹凸结构。
凹凸结构：包含通过利用激光显微镜对(101μm×135μm)～(111μm×148μm)的区域进行测定而得到的表面形状的承载部高度+0.05μm的高度处的截面中的直径(按正圆换算)大于10μm的第一凸部、和上述表面形状的承载部高度+0.5μm的高度处的截面中的直径(按正圆换算)大于1μm的第二凸部，
上述表面形状的承载部高度+0.05μm的高度处的截面中的上述第一凸部的平均直径(按正圆换算)大于10μm且小于等于185μm，
上述第一凸部的以上述区域内最低部分的高度作为基准时的最大高度为0.2μm～8μm，
上述第二凸部的数量为0.0001～1.2个/1μm2，上述第二凸部的以上述承载部高度作为基准时的平均高度为0.1μm～8μm。
即，一种透光性结构体，其为可视侧的最外表面具有(A)第一凸部和(B)第二凸部的凹凸结构且至少具备减反射层的透光性结构体，其中，
上述(A)第一凸部的在利用激光显微镜测定的(101μm×135μm)～(111μm×148μm)的区域内表面形状的承载部高度+0.05μm的高度处的截面中的直径(按正圆换算)大于10μm且小于等于185μm，且上述(A)第一凸部的在上述区域内以最低部分的高度作为基准时的最大高度为0.2μm～8μm，
上述(B)第二凸部的在上述区域内表面形状的承载部高度+0.5μm的高度处的截面中的直径(按正圆换算)大于1μm，上述(B)第二凸部的在上述区域内每1μm2的数量为0.0001～1.2个，且上述(B)第二凸部的以上述承载部高度作为基准时的平均高度为0.1μm～8μm。
(2)如(1)所述的透光性结构体，其中，在最靠近可视侧之处存在上述减反射层。
(3)如(1)所述的透光性结构体，其中，
所述透光性结构体还具备拒水拒油层，
在最靠近可视侧之处存在上述拒水拒油层，在紧接其下方存在上述减反射层。
(4)如(1)～(3)中任一项所述的透光性结构体，其中，
在上述透光性基材与上述减反射层之间还具备基底层，
上述基底层的上述减反射层侧的表面具有上述凹凸结构。
(5)如(1)～(3)中任一项所述的透光性结构体，其中，上述透光性基材的可视侧的表面具有上述凹凸结构。
(6)如(1)～(5)中任一项所述的透光性结构体，其中，上述透光性基材为玻璃板。
(7)如(1)～(6)中任一项所述的透光性结构体，其中，上述透光性基材具有曲面。
(8)如(1)～(7)中任一项所述的透光性结构体，其中，上述透光性结构体的雾度大于10％且小于等于70％。
(9)如(1)～(8)中任一项所述的透光性结构体，其用于车载物品。
(10)一种透光性结构体的制造方法，其为(4)所述的透光性结构体的制造方法，其特征在于，
该制造方法具有以下工序：
在透光性基材上涂布涂料组合物而形成涂膜并对上述涂膜进行烘烤由此形成基底层的工序、和
在上述基底层上形成减反射层的工序，
上述涂料组合物含有二氧化硅前体(A)和粒子(C)中的至少一者以及液态介质(B)，并且上述液态介质(B)含有相对于上述液态介质(B)的总量为86质量％以上的沸点150℃以下的液态介质(B1)，
上述涂料组合物的涂布通过使用具备静电涂装枪的静电涂装装置使上述涂料组合物带电并将其喷雾来进行，上述静电涂装枪具备旋转雾化头。
(11)如(10)所述的透光性结构体的制造方法，其中，上述涂料组合物的涂布温度下的粘度为0.003Pa·s以下。
(12)一种物品，其具备(1)～(9)中任一项所述的透光性结构体。
发明效果
本发明的透光性结构体是防眩性和减反射性优良、并且充分地抑制了闪光的透光性结构体。
根据本发明的透光性结构体的制造方法，能够制造防眩性和减反射性优良、并且充分地抑制了闪光的透光性结构体。
本发明的物品所具备的透光性结构体是防眩性和减反射性优良、并且充分地抑制了闪光的透光性结构体。
附图说明
图1是示出本发明的透光性结构体的第一实施方式的剖视示意图。
图2是示出第一实施方式的透光性结构体的表面形状的剖视示意图。
图3是说明第一实施方式的透光性结构体的基底层的表面形状的承载部高度+0.05μm的高度的剖视示意图。
图4是说明第一实施方式的透光性结构体的基底层的表面形状的承载部高度+0.5μm的高度的剖视示意图。
图5是示出静电涂装装置的一例的示意图。
图6是图5的静电涂装装置所具备的静电涂装枪17的剖视示意图。
图7是从正面观察图6的静电涂装枪17的前视示意图。
图8是示出本发明的透光性结构体的第二实施方式的示意性剖视图。
图9是示出第二实施方式的透光性结构体的表面形状的剖视示意图。
图10是示出本发明的透光性结构体的第三实施方式的示意性剖视图。
图11是示出第三实施方式的透光性结构体的表面形状的剖视示意图。
图12是示出本发明的透光性结构体的第四实施方式的示意性剖视图。
图13是示出第四实施方式的透光性结构体的表面形状的剖视示意图。
图14是从斜上方60度观察[实施例]中的例8中所得到的透光性结构体的可视侧的最外表面而得到的扫描型电子显微镜(SEM)图像。
图15是从斜上方60度观察[实施例]中的例9中所得到的透光性结构体的可视侧的最外表面而得到的扫描型电子显微镜(SEM)图像。
图16是从斜上方60度观察[实施例]中的例10中所得到的透光性结构体的可视侧的最外表面而得到的扫描型电子显微镜(SEM)图像。
具体实施方式
下述术语的定义应用于整个本说明书和权利要求书中。
“透光性”是指能够透过可见光。
“减反射性”是指降低反射率的特性。作为反射率的测定方式，SCI(包含正反射光)方式和SCE(不包含正反射光)方式中的任一种均可。
“承载部高度”是指通过利用激光显微镜对(101μm×135μm)～(111μm×148μm)的区域(以下，也称为“观察区域”)进行测定而得到的、从观察区域的表面形状的xyz数据求出的高度分布直方图中最占优的高度z的值。xyz数据中的高度z是以观察区域的最低点作为基准时的高度(从测定高度z的位置到与观察区域内的透光性结构体的主面平行且包含最低点的平面的垂线的长度)，以下没有特别规定基准的情况下的表面形状中的高度的含义也是同样的。计算承载部高度时的直方图的刻度(bin)设定为1000。
“以二氧化硅作为主要成分”是指含有90质量％以上的SiO2。
“二氧化硅前体”是指可以通过烘烤而形成以二氧化硅作为主要成分的基质的物质。
“与硅原子键合的可水解基团”是指可以通过水解而转化成与硅原子键合的OH基的基团。
“鳞片状粒子”是指具有扁平形状的粒子。粒子的形状可以利用透射型电子显微镜(以下，也记为TEM)来确认。
“平均粒径”是指将以体积基准求出的粒度分布的总体积设为100％的累积体积分布曲线中达到50％的点的粒径、即体积基准累积50％直径(D50)。粒度分布由利用激光衍射/散射式粒径分布测定装置测定的频数分布和累积体积分布曲线求出。
“长径比”是指粒子的最长长度相对于厚度之比(最长长度/厚度)，“平均长径比”为随机选择的50个粒子的长径比的平均值。粒子的厚度利用原子力显微镜(以下，也记为AFM)进行测定，最长长度利用TEM进行测定。
在本说明书中表示数值范围的“～”以包括其前后所记载的数值作为下限值和上限值的含义使用，只要没有特别说明，在下述本说明书中“～”具有同样的含义而使用。
《透光性结构体》
{第一实施方式}
图1是示出本发明的透光性结构体的第一实施方式的剖视示意图。图2是示出本实施方式的透光性结构体的表面形状的剖视示意图。
本实施方式的透光性结构体1具备透光性基材3、形成在透光性基材3的第一表面3A上的基底层5、和形成在基底层5上的减反射层(以下，也称为“AR层”)7。
透光性基材3的第一表面3A一侧为可视侧。基底层5和AR层7各自在表面具有凹凸结构。AR层7存在于透光性结构体1的最靠近可视侧。因此，AR层7的表面为透光性结构体1的可视侧的最外表面。
(透光性基材)
作为透光性基材3，只要是能够使可见光透过的基材即可，优选透明的基材。透光性基材3的透明是指平均透过80％以上的400nm～1100nm的波长范围的光(即，平均透射率为80％以上)。400nm～1100nm的波长范围的光的平均透射率利用分光光度计来测定。
作为透光性基材3的材料，可以列举例如：玻璃、树脂等。
作为玻璃，可以列举例如：钠钙玻璃、硼硅酸盐玻璃、铝硅酸盐玻璃、无碱玻璃等。
作为树脂，可以列举例如：聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚碳酸酯、三乙酰纤维素、聚甲基丙烯酸甲酯等。
作为透光性基材3的形态，可以列举例如：板、膜等。
透光性基材3的第一表面3A既可以是平滑的，也可以具有凹凸。从设置基底层5时的有用性的方面考虑，优选为平滑的。第一表面3A的算术平均粗糙度Ra优选为10nm以下，更优选为5nm以下，进一步优选为2nm以下，特别优选为1nm以下。在此所谓的Ra是利用英弘精机株式会社制造的扫描型探针显微镜多功能单元SPA-400的原子力显微镜(AFM)模式进行测定而得到的值。
透光性基材3的形状不仅可以为如图所示的平坦的形状，也可以为具有曲面的形状。最近，在具备图像显示装置的各种设备(电视机、个人电脑、智能手机、汽车导航系统等)中，出现了将图像显示装置的显示面形成为曲面的设备。透光性基材3为具有曲面的形状的透光性结构体1作为这样的图像显示装置用是有用的。
在透光性基材3具有曲面的情况下，透光性基材3的表面既可以整体由曲面构成，也可以由曲面的部分和平坦的部分构成。作为表面整体由曲面构成的情况的例子，可以列举例如透光性基材的截面为圆弧状的情况。
需要说明的是，此处的曲面为在利用激光显微镜观察的观察区域中可以忽略的程度的宏观曲面。
在透光性基材3具有曲面的情况下，该曲面的曲率半径(以下，也称为“R”)可以根据透光性结构体1的用途、透光性基材3的种类等适当设定，没有特别限定，优选为25000mm以下，更优选为10mm～5000mm，特别优选为50mm～3000mm。R如果为上述上限值以下，则与平板相比，外观设计性更优良。R如果为上述下限值以上，则在曲面表面上也能够均匀地形成基底层。
作为透光性基材3，优选玻璃板。
玻璃板既可以是通过浮法、熔合法、下拉法等进行成形而得到的平滑的玻璃板，也可以是通过辊压法等形成的在表面具有凹凸的压花玻璃。另外，不仅可以为平坦形状的玻璃板，也可以为具有曲面的形状的玻璃板。在玻璃板具有曲面的情况下，该曲面的优选的曲率半径与上述同样。
玻璃板的厚度没有特别限定。可以使用例如厚度为10mm以下的玻璃板。厚度越薄，越能够将光的吸收抑制得低，因此，对于以提高透射率作为目的的用途而言是优选的。另外，厚度越薄，越有助于透光性结构体1的轻量化。
玻璃板优选为强化玻璃板。强化玻璃板是实施了强化处理的玻璃板。通过强化处理，玻璃的强度提高，例如能够在保持强度的同时削减板厚。
但是，在本发明中，也可以使用除了强化玻璃板以外的玻璃板，可以根据透光性结构体1的用途等适当设定。
作为强化处理，通常已知在玻璃板表面上形成压应力层的处理。玻璃板表面的压应力层使玻璃板对于损伤或冲击的强度提高。作为在玻璃板表面上形成压应力层的方法，代表性的是风冷强化法(物理强化法)和化学强化法。
风冷强化法中，通过风冷等将加热至玻璃的软化点温度附近(例如600℃～700℃)的玻璃板表面进行骤冷。由此，在玻璃板的表面与内部之间产生温度差，从而在玻璃板表层产生压应力。
化学强化法中，在玻璃的应变点温度以下的温度下将玻璃板浸渍于熔融盐中，从而使玻璃板表层的离子(例如钠离子)与离子半径较大的离子(例如钾离子)进行交换。由此，在玻璃板表层产生压应力。
玻璃板的厚度变薄(例如小于2mm)时，利用风冷强化法难以在玻璃板内部与表层之间产生温度差，因此不能充分地强化玻璃板，因此，优选使用化学强化法。
实施化学强化处理的玻璃板只要具有能够进行化学强化的组成就没有特别限定，可以使用各种组成的玻璃板，可以列举例如：钠钙玻璃、铝硅酸盐玻璃、硼酸盐玻璃、铝硅酸锂玻璃、硼硅酸盐玻璃、其它各种玻璃。从容易进行化学强化的方面考虑，作为玻璃组成，以氧化物基准的摩尔百分率表示，优选含有56％～75％的SiO2、1％～20％的Al2O3、8％～22％的Na2O、0～10％的K2O、0～14％的MgO、0～5％的ZrO2、0～10％的CaO。这些之中，优选铝硅酸盐玻璃。
将要实施化学强化处理的玻璃板的板厚优选为0.4mm～3mm，特别优选为0.5mm～2.5mm。化学强化玻璃板的板厚如果为上述范围的上限值以下，则透光性结构体1重量轻，如果为上述范围的下限值以上，则透光性结构体1的强度优良。
需要说明的是，在进行化学强化前后板厚没有变化。即，将要实施化学强化处理的玻璃板的板厚为化学强化玻璃板(实施化学强化处理后的玻璃板)的板厚。
上述的玻璃的物理强化处理和化学强化处理既可以在玻璃板表面上形成基底层之前进行，也可以在形成基底层之后进行。
透光性基材3可以是在透光性基材主体的表面上具有功能层的基材。
透光性基材主体与上述作为透光性基材3所列举的基材同样。
作为功能层，可以列举：底涂层、粘附改善层、保护层等。
底涂层具有作为碱阻隔层、宽禁带的低折射率层的功能。作为底涂层，优选通过在透光性基材主体上涂布含有烷氧基硅烷的水解产物(溶胶凝胶二氧化硅)的底涂用涂料组合物而形成的层。
(基底层)
基底层5在AR层7一侧的表面具有凹凸结构。
图3是说明基底层5的表面形状的承载部高度+0.05μm的高度的剖视示意图。图4是代替图3中的承载部高度+0.05μm的高度而对承载部高度+0.5μm的高度进行说明的剖视示意图。
基底层5的表面的凹凸结构包含第一凸部5a和第二凸部5b。基底层5可以局部存在不存在第一凸部5a和第二凸部5b并且透光性基材3露出的部分。
第一凸部5a是通过利用激光显微镜对观察区域进行测定而得到的表面形状的承载部高度h1+0.05μm的高度h2处的截面中的直径(按正圆换算)大于10μm的凸部。即，其为上述表面形状的高度h2处的截面中观察到切割面且由该切割面的面积计算出的直径(按正圆换算)大于10μm的凸部。
第二凸部5b是上述表面形状的承载部高度h1+0.5μm的高度h3处的截面中的直径(按正圆换算)大于1μm(优选为大于1μm且小于等于20μm)的凸部。即，其为上述表面形状的高度h3处的截面中观察到切割面且由该切割面的面积计算出的直径(按正圆换算)大于1μm的凸部。
观察区域在(101μm～111μm)×(135μm～148μm)的范围内。即，观察区域最小为101μm×135μm、最大为111μm×148μm。另外，纵向×横向的比率通常设定在约1.21～约1.46的范围内。
在此，以范围记载观察区域是因为，即使使用相同倍数的物镜，由于透镜的个体差异，观察区域也不同。测定结果以观察区域内的最大值、最小值和平均值来表示，因此，即使观察区域略微不同，只要选择相同倍数的物镜，则结果几乎没有差异。
上述凹凸结构中，上述表面形状的承载部高度h1+0.05μm的高度处的截面中的第一凸部5a的平均直径(按正圆换算)大于10μm且小于等于185μm，优选大于10μm且小于等于182μm，更优选大于10μm且小于等于143μm，进一步优选大于10μm且小于等于140μm，特别优选大于20μm且小于等于135μm。如果第一凸部5a的上述平均直径在上述范围内，则使外部光漫反射的效果高，防眩性优良。
上述凹凸结构中的第一凸部5a的最大高度为0.2μm～8μm，优选为0.2μm～7μm，更优选为0.2μm～5μm，进一步优选为0.7μm～5μm，特别优选为1.0μm～4μm。如果第一凸部5a的最大高度为上述范围的下限值以上，则使外部光漫反射的效果更高。通常，第一凸部5a的最大高度在上述范围内越高则防眩性越优良。
上述最大高度是以上述区域内最低部分的高度作为基准时的值。即，是通过下述hp-hv求出的值(以下，也称为“P至V”)。
hv：利用激光显微镜进行测定的区域内最低部分的高度。
hp：对于上述表面形状，将在高度hv处利用与使用三次多项式面拟合法对由透光性基材3的表面得到的激光显微镜数据进行斜率校正后的面平行的面切割而得到的截面作为基准面，将该截面高度提高时，最先不再观察到直径(按正圆换算)大于10μm的凸部的切割面的截面的高度。
上述凹凸结构中，上述表面形状的承载部高度h1+0.5μm的高度处的截面中的第二凸部5b的平均直径(按正圆换算)优选大于1μm，更优选大于1μm且小于等于20μm，特别优选大于1μm且小于等于10μm。如果第二凸部5b的上述平均直径在上述范围内，则随着第二凸部的密度增大，进一步抑制了闪光。
上述凹凸结构中的第二凸部5b的平均高度为0.1μm～8μm，优选为0.5μm～8μm，更优选为1μm～8μm，进一步优选为1.5μm～5μm，特别优选为1.7μm～4μm。如果第二凸部5b的平均高度为上述范围的下限值以上，则抑制闪光的效果优良。如果第二凸部5b的平均高度为上述范围的上限值以下，则基底层5的耐磨性等耐久性优良。
上述平均高度是以上述表面形状的承载部高度h1作为基准时的值。即，对于上述区域内的各个第二凸部5b，测定将承载部高度h1设定为高度0时的高度，并将它们进行平均而得到的值。
上述凹凸结构中的第二凸部5b的数量为0.0001～1.2个/1μm2，优选为0.0004～1.2个/1μm2，更优选为0.0006～1.2个/1μm2，进一步优选为0.0006～0.5个/1μm2，特别优选为0.0008～0.1个/1μm2，最优选为0.001～0.05个/1μm2。如果每1μm2的第二凸部5b的数量(第二凸部5b的密度)为上述范围的下限值以上且上限值以下时，则能够充分地抑制闪光。该数量在上述范围内越大，则越容易阻碍被第一凸部5a折射的光彼此的干涉，抑制闪光的效果增大。
利用上述激光显微镜进行测定的区域从透光性结构体1的基底层5一侧的表面随机选择。
承载部高度h1、承载部高度h1+0.05μm的高度h3处的截面、承载部高度h1+0.5μm的高度h3处的截面各自的凸部的切割面的直径(按正圆换算)、第一凸部5a的最大高度(P至V)、第二凸部5b的平均高度、第二凸部5b的数量各自通过利用图像处理软件(ImageMetorology公司制造的“SPIP”)对利用激光显微镜测定的表面形状的数据进行分析而求出。详细的分析方法如后述的实施例中所示。
折射率：
基底层5的折射率优选为1.36～1.46，更优选为1.40～1.46，特别优选为1.43～1.46。如果基底层5的折射率为上述范围的上限值以下，则基底层5的表面处的外部光的反射率降低，防眩效果更优良。如果基底层5的折射率为上述范围的下限值以上，则基底层5的致密性足够高，与玻璃板等透光性基材3的粘附性优良。
基底层5的折射率可以通过基底层5的基质的材质、基底层5的空隙率、向基质中添加具有任意折射率的物质等来调节。例如，可以通过提高基底层5的空隙率而降低折射率。另外，可以通过在基质中添加折射率低的物质(实心二氧化硅粒子、中空二氧化硅粒子等)而降低基底层5的折射率。
基底层5(第一凸部5a、第二凸部5b等)的材质可以考虑折射率等适当设定。作为基底层5的折射率为1.40～1.46的情况下的基底层5的材质，可以列举：二氧化硅、二氧化钛等。
基底层5优选以二氧化硅作为主要成分。如果以二氧化硅作为主要成分，则基底层5的折射率(反射率)容易降低。另外，基底层5的化学稳定性等也良好。另外，在透光性基材3的材质为玻璃的情况下，与透光性基材3的粘附性良好。
在以二氧化硅作为主要成分的情况下，基底层5可以仅由二氧化硅构成，也可以含有少量除二氧化硅以外的成分。作为该成分，可以列举选自Li、B、C、N、F、Na、Mg、Al、P、S、K、Ca、Ti、V、Cr、Mn、Fe、Co、Ni、Cu、Zn、Ga、Sr、Y、Zr、Nb、Ru、Pd、Ag、In、Sn、Hf、Ta、W、Pt、Au、Bi和镧系元素中的一种或多种离子和/或氧化物等化合物。
作为基底层5，可以列举例如由含有二氧化硅前体(A)和粒子(C)中的至少一者以及液态介质(B)的涂料组合物形成的基底层。该涂料组合物可以根据需要含有除二氧化硅前体(A)以外的其它粘结剂(D)、其它添加剂(E)等。
在涂料组合物含有二氧化硅前体(A)的情况下，基底层5的基质是来源于二氧化硅前体(A)的、以二氧化硅作为主要成分的基质。基底层5可以由粒子(C)构成。在这种情况下，粒子(C)优选为二氧化硅粒子。基底层5可以是在上述基质中分散有粒子(C)的基底层。
关于使用该涂料组合物的基底层5的形成方法，之后详细地进行说明。
作为以二氧化硅作为主要成分的基底层，可以列举：由含有上述二氧化硅前体(A)的涂布组合物形成的基底层、由含有二氧化硅粒子作为上述粒子(C)的涂布组合物形成的基底层、由含有上述二氧化硅前体(A)和作为上述粒子(C)的二氧化硅粒子的涂布组合物形成的基底层等。
(AR层)
AR层7具有降低反射率的功能。透光性结构体1通过具有AR层7，与不具有AR层7的情况相比，反射率降低。
作为AR层7，可以列举例如以下的AR层。
(1)折射率相对较低的低折射率层与折射率相对较高的高折射率层交替层叠而得到的多层结构的AR层。
(2)由折射率低于透光性基材3的低折射率层构成的AR层。
(1)的AR层的材料没有特别限定，只要是能够抑制光的反射的材料就可以利用各种材料。
高折射率层和低折射率层可以是各自包含各一层的形态，但是也可以是各自包含两层以上的构成。在包含两层以上高折射率层和两层以上低折射率层的情况下，优选为将高折射率层与低折射率层交替层叠而得到的形态。
特别是，为了提高减反射性能，(1)的AR层优选多个层层叠而成的层叠体，例如该层叠体优选整体层叠有2层以上且6层以下的层。
高折射率层、低折射率层的材料没有特别限定，可以考虑所要求的减反射的程度、生产率等选择。作为构成高折射率层的材料，例如可以优选利用选自氧化铌(Nb2O5)、氧化钛(TiO2)、氧化锆(ZrO2)、氮化硅(SiN)、氧化钽(Ta2O5)中的一种以上。作为构成低折射率层的材料，可以优选利用氧化硅(SiO2)。
作为高折射率层，从生产率、折射率的程度出发，更优选上述高折射率层包含选自氧化铌层、氧化钽层、氧化钛层中的任一层，并且上述低折射率层为氧化硅层。
(2)的AR层中，低折射率层的折射率根据透光性基材3的折射率来设定。例如，在透光性基材3为玻璃的情况下，低折射率层的折射率优选为1.1～1.5，更优选为1.1～1.3。
作为(2)的AR层，例如可以列举在以二氧化硅作为主要成分的基质中具有孔的二氧化硅类多孔膜等。
作为二氧化硅类多孔膜，例如可以列举包含在粒子内部具有孔的中空粒子和基质的二氧化硅类多孔膜等。
(2)的AR层的厚度优选为50nm～300nm，更优选为80nm～160nm。
层(低折射率层、高折射率层等)的折射率利用椭偏仪、分光光度计等来测定。
层(低折射率层、高折射率层、AR层等)的厚度利用分光光度计、触针式膜厚计等来测定。
另外，AR层7在表面具有凹凸结构，上述凹凸结构包含第一凸部7a和第二凸部7b。
AR层7的表面的凹凸结构与基底层5的表面的凹凸结构一样，且优选的方式也一样。
基底层5的表面的凹凸结构与AR层7的表面的凹凸结构只要满足上述规定则可以相同也可以不同。例如，第一凸部5a、7a各自的平均直径(按正圆换算)和最大高度、以及第二凸部5b、7b各自的平均高度和每1μm2的数量中的一者以上可以不同。
AR层7的表面的凹凸优选如图2所示依照基底层5的表面的凹凸。在这种情况下，AR层7的表面的凹凸结构可以是与基底层5的表面的凹凸结构相比角、高低差较小的凹凸结构。例如，第二凸部7b的平均高度可以低于第二凸部5b的平均高度。
(最外表面的光泽度)
透光性结构体1的可视侧的最外表面(在本实施方式中AR层7的表面)的60°镜面光泽度优选为90％以下，更优选为70％以下，进一步优选为50％以下。如果最外表面的60°镜面光泽度为上述上限值以下，则充分地发挥防眩效果。
“60°镜面光泽度”通过JIS Z8741：1997(ISO2813：1994)中记载的方法在不消除背面(与可视侧相反侧的面)反射的情况下进行测定。
(雾度)
透光性结构体1的雾度优选大于10％且小于等于70％，更优选大于10％且小于等于60％，特别优选大于10％且小于等于50％。如果雾度为上述范围的下限值以上，则防眩性更优良。
“雾度”通过JIS K7136：2000(ISO14782：1999)中记载的方法进行测定。
(反射率)
透光性结构体1的通过SCI方式测定的反射率优选为3％以下，更优选为2％以下，特别优选为1％以下。反射率越低，则减反射性越优良。
通过SCI方式测定的反射率Y(％)利用柯尼卡美能达公司制造的CM-2600d来测定。
(闪光指标值S)
对于透光性结构体1而言，使用I-System公司制造的EyeScale ISC-A，在苹果公司制造的iPhone(注册商标)4上以具有凹凸结构的表面(AR层7侧的表面)朝上的方式放置透光性结构体1并测定的闪光(Sparkle)指标值S优选小于100，更优选小于80，特别优选小于60。闪光指标值S越小，则越抑制闪光。
<作用效果>
对于以上说明的透光性结构体1而言，在透光性基材3的可视侧具备AR层7，在可视侧的最外表面具有包含第一凸部7a和第二凸部7b且第二凸部7b的数量为0.0001～1.2个/1μm2的凹凸结构，因此防眩性和减反射性优良，并且充分地抑制了闪光。
认为在最外表面的凹凸结构中，第一凸部7a主要通过使外部光漫反射而有助于防眩性，第二凸部7b主要有助于抑制闪光。据推测在凹凸结构仅由第一凸部7a构成的情况下，从透光性基材3一侧经由基底层5入射至AR层7的光在第一凸部7a的表面发生折射，折射后的光彼此在第一凸部7a的表面附近发生干涉而导致闪光。据推测第二凸部7b通过阻碍折射后的光彼此发生干涉而抑制闪光。
<透光性结构体的制造方法>
作为透光性结构体1的制造方法，例如，可以列举如下所述的透光性结构体的制造方法，其特征在于，
该制造方法具有以下工序：
在透光性基材3上涂布涂料组合物而形成涂膜并对上述涂膜进行烘烤由此形成基底层5的工序、和
在基底层5上形成AR层7的工序，
上述涂料组合物包含二氧化硅前体(A)和粒子(C)中的至少一者以及液态介质(B)，并且上述液态介质(B)含有相对于上述液态介质(B)的总量为86质量％以上的沸点150℃以下的液态介质(B1)，
上述涂料组合物的涂布通过使用具备静电涂装枪的静电涂装装置使上述涂料组合物带电并将其喷雾来进行，所述静电涂装枪具备旋转雾化头。
作为上述制造方法的一个实施方式，可以列举如下所述的制造方法：
该制造方法具有以下工序：
准备上述涂料组合物的工序(以下，也称为涂料组合物制备工序)、
通过使用具备静电涂装枪的静电涂装装置使上述涂料组合物带电并将其喷雾而在透光性基材3上进行涂布从而形成涂膜的工序，所述静电涂装枪具备旋转雾化头(以下，也称为涂布工序)、
对上述涂膜进行烘烤由此形成基底层5的工序(以下，也称为烘烤工序)、和
在基底层5上形成AR层7的工序(以下，也称为AR层形成工序)。
上述的制造方法可以根据需要具有在形成基底层5之前在透光性基材主体的表面上形成功能层从而制作透光性基材3的工序，也可以具有在形成AR层7之后实施公知的后加工的工序。
[涂料组合物制备工序]
涂料组合物含有二氧化硅前体(A)和粒子(C)中的至少一者以及液态介质(B)。
在涂料组合物含有粒子(C)而不含二氧化硅前体(A)的情况下，粒子(C)的平均粒径优选为30nm以下。
涂料组合物可以根据需要在不损害本发明效果的范围内含有除二氧化硅前体(A)以外的其它粘结剂(D)、其它添加剂(E)等。
(二氧化硅前体(A))
作为二氧化硅前体(A)，可以列举：具有与硅原子键合的烃基和可水解基团的硅烷化合物(A1)及其水解缩合物、烷氧基硅烷(但是不包括硅烷化合物(A1))及其水解缩合物(溶胶凝胶二氧化硅)、硅氮烷等。
硅烷化合物(A1)中，与硅原子键合的烃基可以是与一个硅原子键合的一价烃基，也可以是与两个硅原子键合的二价烃基。作为一价烃基，可以列举烷基、烯基、芳基等。作为二价烃基，可以列举亚烷基、亚烯基、亚芳基等。
烃基可以在碳原子间具有将选自-O-、-S-、-CO-和-NR’-(其中，R’为氢原子或一价烃基)中的一个或两个以上组合而得到的基团。
作为与硅原子键合的可水解基团，可以列举：烷氧基、酰氧基、酮肟基、烯氧基、氨基、氨氧基、酰胺基、异氰酸酯基、卤素原子等。其中，从硅烷化合物(A1)的稳定性与水解的容易性的平衡的观点出发，优选烷氧基、异氰酸酯基和卤素原子(尤其是氯原子)。
作为烷氧基，优选碳原子数1～3的烷氧基，更优选甲氧基或乙氧基。
在硅烷化合物(A1)中存在多个可水解基团的情况下，可水解基团可以是相同的基团，也可以是不同的基团，从容易获得观点考虑优选为相同的基团。
作为硅烷化合物(A1)，可以列举：后述的式(I)所表示的化合物、具有烷基的烷氧基硅烷(甲基三甲氧基硅烷、乙基三乙氧基硅烷等)、具有乙烯基的烷氧基硅烷(乙烯基三甲氧基硅烷、乙烯基三乙氧基硅烷等)、具有环氧基的烷氧基硅烷(2-(3,4-环氧环己基)乙基三甲氧基硅烷、3-环氧丙氧基丙基三甲氧基硅烷、3-环氧丙氧基丙基甲基二乙氧基硅烷、3-环氧丙氧基丙基三乙氧基硅烷等)、具有丙烯酰氧基的烷氧基硅烷(3-丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷等)等。
作为硅烷化合物(A1)，从即使膜厚较厚也不容易产生基底层5的裂纹、膜剥离的观点出发，优选下式(I)所表示的化合物。
R3-pLpSi-Q-SiLpR3-p…(I)
式(I)中，Q为二价烃基(在碳原子间可以具有将选自-O-、-S-、-CO-和-NR’-(其中，R’为氢原子或一价烃基)中的一个或两个以上组合而得到的基团)。作为二价烃基，可以列举上述基团。
作为Q，从容易获得、并且即使膜厚较厚也不容易产生基底层5的裂纹、膜剥离的观点出发，优选碳原子数2～8的亚烷基，进一步优选碳原子数2～6的亚烷基。
式(I)中，L为可水解基团。作为可水解基团，可以列举上述基团，优选的方式也一样。
R为氢原子或一价烃基。作为一价烃基，可以列举上述基团。
p为1～3的整数。从反应速度不变得过慢的观点出发，p优选为2或3，特别优选为3。
作为烷氧基硅烷(但是不包括上述硅烷化合物(A1))，可以列举：四烷氧基硅烷(四甲氧基硅烷、四乙氧基硅烷、四丙氧基硅烷、四丁氧基硅烷等)、具有全氟聚醚基的烷氧基硅烷(全氟聚醚基三乙氧基硅烷等)、具有全氟烷基的烷氧基硅烷(全氟乙基三乙氧基硅烷等)等。
硅烷化合物(A1)和烷氧基硅烷(但是不包括硅烷化合物(A1))的水解和缩合可以通过公知的方法进行。
例如，在四烷氧基硅烷的情况下，使用四烷氧基硅烷的4倍摩尔以上的水和作为催化剂的酸或碱来进行。
作为酸，可以列举：无机酸(HNO3、H2SO4、HCl等)、有机酸(甲酸、草酸、单氯乙酸、二氯乙酸、三氯乙酸等)。作为碱，可以列举：氨、氢氧化钠、氢氧化钾等。作为催化剂，从硅烷化合物(A)的水解缩合物的长期保存性的观点考虑，优选酸。
作为二氧化硅前体(A)，可以单独使用一种，也可以组合使用两种以上。
从防止基底层5的裂纹、膜剥离的观点出发，二氧化硅前体(A)优选含有硅烷化合物(A1)及其水解缩合物中的任一者或两者。
从基底层5的耐磨强度的观点出发，二氧化硅前体(A)优选含有四烷氧基硅烷及其水解缩合物中的任一者或两者。
二氧化硅前体(A)特别优选含有硅烷化合物(A1)及其水解缩合物中的任一者或两者、和四烷氧基硅烷及其水解缩合物中的任一者或两者。
(液态介质(B))
在涂料组合物含有二氧化硅前体(A)的情况下，液态介质(B)是溶解或分散二氧化硅前体(A)的液态介质，在涂料组合物含有粒子(C)的情况下，液态介质(B)是使粒子(C)分散的液态介质。在涂料组合物含有二氧化硅前体(A)和粒子(C)两者的情况下，液态介质(B)可以具有作为溶解或分散二氧化硅前体(A)的溶剂或分散介质的功能和作为使粒子(C)分散的分散介质的功能两者。
液态介质(B)至少含有沸点150℃以下的液态介质(B1)。液态介质(B1)的沸点优选为50℃～145℃，更优选为55℃～140℃。
如果液态介质(B1)的沸点为150℃以下，则通过使用具备具有旋转雾化头的静电涂装枪的静电涂装装置将涂料组合物涂布在透光性基材3上并进行烘烤而得到的膜具有更优选的防眩性能。如果液态介质(B1)的沸点为上述范围的下限值以上，则在涂料组合物的液滴附着于透光性基材3上之后，能够在充分保持液滴形状的状态下形成凹凸结构。
作为液态介质(B1)，可以列举例如：水、醇类(甲醇、乙醇、异丙醇、正丁醇、异丁醇、1-戊醇等)、酮类(丙酮、甲乙酮、甲基异丁基甲酮等)、醚类(四氢呋喃、1,4-二氧杂环己烷等)、溶纤剂类(甲基溶纤剂、乙基溶纤剂等)、酯类(乙酸甲酯、乙酸乙酯等)、二醇醚类(乙二醇单甲醚、乙二醇单乙醚等)等。
液态介质(B1)可以单独使用一种，也可以组合使用两种以上。
液态介质(B)可以根据需要还含有除液态介质(B1)以外的其它液态介质、即沸点高于150℃的液态介质。
作为其它液态介质，可以列举例如：醇类、酮类、醚类、溶纤剂类、酯类、二醇醚类、含氮化合物、含硫化合物等。
作为醇类，可以列举：双丙酮醇、1-己醇、乙二醇等。
作为含氮化合物，可以列举：N,N-二甲基乙酰胺、N,N-二甲基甲酰胺、N-甲基吡咯烷酮等。
作为二醇醚类，可以列举乙二醇单丁醚等。
作为含硫化合物，可以列举二甲基亚砜等。
其它液态介质可以单独使用一种，也可以组合使用两种以上。
二氧化硅前体(A)中的烷氧基硅烷等的水解需要水，因此，如果在水解后不进行液态介质的置换，则液态介质(B)中至少包含水作为液态介质(B1)。
在这种情况下，液态介质(B)可以仅为水，也可以是水与其它液体的混合液。作为其它液体，可以是除水以外的液态介质(B1)，也可以是其它液态介质，可以列举例如：醇类、酮类、醚类、溶纤剂类、酯类、二醇醚类、含氮化合物、含硫化合物等。其中，作为二氧化硅前体(A)的溶剂，优选醇类，特别优选甲醇、乙醇、异丙醇、丁醇。
(粒子(C))
粒子(C)单独构成基底层，或者与来源于二氧化硅前体(A)的基质一起构成基底层。
在涂料组合物含有粒子(C)而不含二氧化硅前体(A)的情况下，粒子(C)的平均粒径优选为30nm以下。
作为粒子(C)，可以列举：鳞片状粒子(C1)、除鳞片状粒子(C1)以外的其它粒子(C2)等。
鳞片状粒子(C1)：
鳞片状粒子(C1)的平均长径比优选为50～650，更优选为100～350，进一步优选为170～240。如果鳞片状粒子(C1)的平均长径比为50以上，则即使膜厚较厚也充分地抑制基底层的裂纹、膜剥离。如果鳞片状粒子(C1)的平均长径比为650以下，则涂料组合物中的分散稳定性良好。
鳞片状粒子(C1)的平均粒径优选为0.08μm～0.42μm，更优选为0.17μm～0.21μm。如果鳞片状粒子(C1)的平均粒径为0.08μm以上，则即使膜厚较厚也充分地抑制基底层的裂纹、膜剥离。如果鳞片状粒子(C1)的平均粒径为0.42μm以下，则涂料组合物中的分散稳定性良好。
作为鳞片状粒子(C1)，可以列举：鳞片状二氧化硅粒子、鳞片状氧化铝粒子、鳞片状二氧化钛、鳞片状氧化锆等，从能够抑制膜的折射率升高、降低反射率的观点出发，优选鳞片状二氧化硅粒子。
鳞片状二氧化硅粒子是薄片状的二氧化硅一次粒子、或者多片薄片状的二氧化硅一次粒子彼此面间平行地取向并重叠而形成的二氧化硅二次粒子。二氧化硅二次粒子通常具有层叠结构的粒子形态。
鳞片状二氧化硅粒子可以仅为二氧化硅一次粒子和二氧化硅二次粒子中的任一种，也可以为这两者。
二氧化硅一次粒子的厚度优选为0.001μm～0.1μm。如果二氧化硅一次粒子的厚度在上述范围内，则可以彼此面间平行地取向从而形成一片或多片重叠而成的鳞片状的二氧化硅二次粒子。
二氧化硅一次粒子的最小长度相对于厚度之比(最小长度/厚度)优选为2以上，更优选为5以上，进一步优选为10以上。
二氧化硅二次粒子的厚度优选为0.001μm～3μm，更优选为0.005μm～2μm。
二氧化硅二次粒子的最小长度相对于厚度之比(最小长度/厚度)优选为2以上，更优选为5以上，进一步优选为10以上。
二氧化硅二次粒子优选相互独立地存在而不熔合。
鳞片状二氧化硅粒子的SiO2纯度优选为95质量％以上，更优选为99质量％以上。
在涂料组合物的制备中，使用作为多个鳞片状二氧化硅粒子的集合体的粉体、或者将该粉体分散于液态介质中而得到的分散体。分散体中的二氧化硅浓度优选为1～80质量％。
在粉体或分散体中有时不仅包含鳞片状二氧化硅粒子，还包含在鳞片状二氧化硅粒子的制造时产生的不定形状的二氧化硅粒子。鳞片状二氧化硅粒子例如通过将鳞片状二氧化硅粒子聚集且不规则地重叠而形成的具有间隙的聚集体形状的二氧化硅三次粒子(以下，也记为二氧化硅聚集体)破碎并分散化而得到。不定形状的二氧化硅粒子是二氧化硅聚集体被一定程度微粒化的状态，但是没有微粒化至成为各个鳞片状二氧化硅粒子的状态，而是多个鳞片状二氧化硅粒子形成块的形状。包含不定形状的二氧化硅粒子时，有可能所形成的基底层的致密性降低从而容易产生裂纹、膜剥离。因此，粉体或分散体中的不定形状的二氧化硅粒子的含量越少越优选。
不定形状的二氧化硅粒子和二氧化硅聚集体在TEM观察中观察到均为黑色状。另一方面，薄片状的二氧化硅一次粒子或二氧化硅二次粒子在TEM观察中观察到为透明或半透明状。
鳞片状二氧化硅粒子可以使用市售的鳞片状二氧化硅粒子，也可以使用制造而得到的鳞片状二氧化硅粒子。
作为鳞片状二氧化硅粒子，优选通过日本特开2014-94845号公报中记载的制造方法制造而得到的鳞片状二氧化硅粒子。该制造方法具有下述工序：在pH 2以下对包含鳞片状二氧化硅粒子聚集而得到的二氧化硅聚集体的二氧化硅粉体进行酸处理的工序；在pH 8以上对酸处理后的二氧化硅粉体进行碱处理从而使二氧化硅聚集体解除絮凝(解膠)的工序；和对碱处理后的二氧化硅粉体进行湿式破碎从而得到鳞片状二氧化硅粒子的工序。根据该制造方法，与公知的制造方法(例如，日本专利第4063464号公报所记载的方法)相比，可以抑制制造工序中的不定形状的二氧化硅粒子的产生，从而得到不定形状的二氧化硅粒子的含量少的粉体或分散体。
粒子(C2)：
作为除鳞片状粒子(C1)以外的其它粒子(C2)，可以列举：金属氧化物粒子、金属粒子、颜料类粒子、树脂粒子等。
作为金属氧化物粒子的材料，可以列举：Al2O3、SiO2、SnO2、TiO2、ZrO2、ZnO、CeO2、含Sb的SnOX(ATO)、含Sn的In2O3(ITO)、RuO2等。基底层5中优选使用的基质为二氧化硅，在基质为二氧化硅的情况下，作为金属氧化物粒子的材料，优选折射率与基质相同的SiO2。
作为金属粒子的材料，可以列举：金属(Ag、Ru等)、合金(AgPd、RuAu等)等。
作为颜料类粒子，可以列举：无机颜料(钛黑、炭黑等)、有机颜料。
作为树脂粒子的材料，可以列举：丙烯酸类树脂、聚苯乙烯、三聚氰胺树脂等。
作为粒子(C2)的形状，可以列举：球形、椭圆形、针状、板状、棒状、圆锥形、圆柱形、立方体形、长方体形、金刚石状、星形、不规则形状或者这些形状的组合等。关于其它粒子，各粒子可以以独立的状态存在，各粒子也可以连接成链状，各粒子还可以聚集在一起。
粒子(C2)可以是实心粒子，也可以是中空粒子，还可以是多孔粒子等带孔粒子。
作为粒子(C2)，优选球形二氧化硅粒子、棒状二氧化硅粒子、针状二氧化硅粒子等二氧化硅粒子(但是不包括鳞片状二氧化硅粒子)。其中，从透光性结构体1的雾度足够高并且基底层5的表面的60°镜面光泽度足够低、从而其结果是充分地发挥防眩效果的观点出发，优选球形二氧化硅粒子，更优选多孔球形二氧化硅粒子。
粒子(C2)的平均粒径优选为0.3μm～2μm，更优选为0.5μm～1.5μm。如果粒子(C2)的平均粒径为0.3μm以上，则充分发挥防眩效果。如果粒子(C2)的平均粒径为2μm以下，则涂料组合物中的分散稳定性良好。
多孔球形二氧化硅粒子的BET比表面积优选为200m2/g～300m2/g。
多孔球形二氧化硅粒子的孔容优选为0.5cm3/g～1.5cm3/g。
作为多孔球形二氧化硅粒子的市售品，可以列举日产化学工业公司制造的LIGHTSTAR(注册商标)系列。
粒子(C)可以单独使用一种，也可以并用两种以上。
粒子(C)优选含有鳞片状粒子(C1)，可以还含有粒子(C2)。通过含有鳞片状粒子(C1)，基底层5的雾度提高，得到更优良的防眩性能。另外，与粒子(C2)相比，在含有鳞片状粒子(C1)的情况下，使基底层5的膜厚变厚时不容易产生裂纹、膜剥离。
(粘结剂(D))
作为粘结剂(D)(但是不包括二氧化硅前体(A))，可以列举在液态介质(B)中溶解或分散的无机物、树脂等。
作为无机物，例如可以列举除二氧化硅以外的金属氧化物前体(金属：钛、锆等)。
作为树脂，可以列举：热塑性树脂、热固性树脂、紫外线固化性树脂等。
(添加剂(E))
作为添加剂(E)，可以列举例如：具有极性基团的有机化合物(E1)、紫外线吸收剂、红外线反射剂、红外线吸收剂、减反射剂、用于提高流平性的表面活性剂、用于提高耐久性的金属化合物等。
在涂料组合物含有粒子(C)的情况下，通过使涂料组合物中包含具有极性基团的有机化合物(E1)，能够抑制涂料组合物中的因静电力引起的粒子(C)的聚集。
作为具有极性基团的有机化合物(E1)，从粒子(C)的聚集抑制效果的观点出发，优选在分子中具有羟基和/或羰基的有机化合物，更优选在分子中具有选自由羟基、醛基(-CHO)、酮基(-C(＝O)-)、酯键(-C(＝O)O-)、羧基(-COOH)构成的组中的一种以上基团的有机化合物，进一步优选在分子中具有选自由羧基、羟基、醛基和酮基构成的组中的一种以上基团的有机化合物。
作为具有极性基团的有机化合物(E1)，可以列举：不饱和羧酸聚合物、纤维素衍生物、有机酸(但是不包括不饱和羧酸聚合物)、萜烯化合物等。有机化合物(E1)可以单独使用一种，也可以并用两种以上。
作为不饱和羧酸聚合物，可以列举聚丙烯酸。
作为纤维素衍生物，可以列举多羟基烷基纤维素。
作为有机酸(但是不包括不饱和羧酸聚合物)，可以列举：甲酸、草酸、单氯乙酸、二氯乙酸、三氯乙酸、柠檬酸、酒石酸、马来酸等。
需要说明的是，在烷氧基硅烷等的水解中使用有机酸作为催化剂的情况下，该有机酸也包含在作为有机化合物(E1)的有机酸中。
萜烯是指以异戊二烯(C5H8)作为构成单元的(C5H8)n(其中，n为1以上的整数)的组成的烃。萜烯化合物是指具有由萜烯衍生的官能团的萜烯类。萜烯化合物也包含不饱和度不同的萜烯化合物。
需要说明的是，萜烯化合物有时也作为液态介质发挥作用，但是作为“以异戊二烯作为构成单元的(C5H8)n的组成的烃”的萜烯化合物属于萜烯衍生物，而不属于液态介质。
作为萜烯衍生物，可以列举：萜烯醇(α-萜品醇、萜品烯-4-醇、L-薄荷醇、(±)香茅醇、桃金娘烯醇、冰片、橙花醇、法尼醇、植醇等)、萜烯醛(柠檬醛、β-环柠檬醛、紫苏醛等)、萜烯酮((±)樟脑、β-紫罗酮等)、萜烯羧酸(香茅酸、松香酸等)、萜烯酯(乙酸萜品酯、乙酸薄荷酯等)等。
作为用于提高流平性的表面活性剂，可以列举：硅油类、丙烯酸类等。
作为用于提高耐久性的金属化合物，优选锆螯合物、钛螯合物、铝螯合物等。作为锆螯合物，可以列举：四乙酰丙酮锆、三丁氧基硬脂酸锆等。
(组成)
在涂料组合物含有二氧化硅前体(A)和粒子(C)的情况下，在涂料组合物中的固体成分(100质量％)(其中，二氧化硅前体(A)按SiO2换算)中，涂料组合物中的二氧化硅前体(A)与粒子(C)的合计含量优选为30～100质量％，更优选为40～100质量％。如果二氧化硅前体(A)与粒子(C)的合计含量为上述范围的下限值以上，则基底层5的与透光性基材3的粘附性优良。如果二氧化硅前体(A)与粒子(C)的合计含量为上述范围的上限值以下时，则抑制了基底层5的裂纹、膜剥离。
在涂料组合物含有二氧化硅前体(A)的情况下，在涂料组合物中的固体成分(100质量％)(其中，二氧化硅前体(A)按SiO2换算)中，涂料组合物中的二氧化硅前体(A)的含量优选为35～95质量％，更优选为50～90质量％。如果二氧化硅前体(A)的含量为上述范围的下限值以上，则得到基底层5的与透光性基材3充分的粘附强度。如果二氧化硅前体(A)的含量为上述范围的上限值以下，则即使膜厚较厚也充分地抑制基底层5的裂纹、膜剥离。
在涂料组合物含有二氧化硅前体(A)、并且二氧化硅前体(A)含有硅烷化合物(A1)及其水解缩合物中的任一者或两者的情况下，二氧化硅前体(A)中的硅烷化合物(A1)及其水解缩合物的比例相对于二氧化硅前体(A)的按SiO2换算固体成分(100质量％)优选为5～100质量％。如果硅烷化合物(A1)及其水解缩合物的比例为上述范围的下限值以上，则即使膜厚较厚也充分地抑制基底层5的裂纹、膜剥离。
在涂料组合物含有二氧化硅前体(A)、并且二氧化硅前体(A)含有四烷氧基硅烷及其水解缩合物中的任一者或两者的情况下，二氧化硅前体(A)中的四烷氧基硅烷及其水解缩合物中的任一者或两者的比例相对于二氧化硅前体(A)的按SiO2换算固体成分(100质量％)优选为60～100质量％。如果四烷氧基硅烷及其水解缩合物中的任一者或两者的比例为上述范围的下限值以上，则基底层5的耐磨强度更优良。
在二氧化硅前体(A)含有硅烷化合物(A1)及其水解缩合物中的任一者或两者、以及四烷氧基硅烷及其水解缩合物中的任一者或两者的情况下，相对于二氧化硅前体(A)的按SiO2换算固体成分(100质量％)，优选硅烷化合物(A1)及其水解缩合物中的任一者或两者的比例大于0质量％且小于等于50质量％(更优选大于0质量％且小于等于30质量％)、四烷氧基硅烷及其水解缩合物中的任一者或两者的比例大于等于50质量％且小于100质量％(更优选大于等于70质量％且小于100质量％)。
涂料组合物中的液态介质(B)的含量设定为根据涂料组合物的固体成分浓度的量。
在涂料组合物的总量(100质量％)中，涂料组合物的固体成分浓度优选为1～8质量％，更优选为2～6质量％。如果固体成分浓度为上述范围的下限值以上，则能够减少涂料组合物的液体量。如果固体含量浓度为上述范围的上限值以下，则基底层5的膜厚的均匀性提高。
涂料组合物的固体成分浓度为涂料组合物中的除液态介质(B)以外的全部成分的含量的合计。但是，二氧化硅前体(A)的含量为按SiO2换算的含量。
涂料组合物中的沸点150℃以下的液态介质(B1)的含量相对于液态介质(B)的总量为86质量％以上。通过以86质量％以上的比例含有液态介质(B1)，在使用具备具有旋转雾化头的静电涂装枪的静电涂装装置将涂料组合物涂布于透光性基材上并进行烘烤时，形成具有发挥更优选的防眩效果的表面形状的基底层5。液态介质(B1)的比例小于86质量％时，有可能溶剂挥发干燥前平滑化，因此不能形成凹凸结构，在烘烤后的膜的表面上未形成上述表面形状。
液态介质(B1)的含量相对于液态介质(B)的总量优选为90质量％以上。液态介质(B1)的含量相对于液态介质(B)的总量可以为100质量％。
在涂料组合物含有粒子(C)的情况下，在涂料组合物中的固体成分(100质量％)(其中，二氧化硅前体(A)按SiO2换算)中，粒子(C)的含量优选为3～40质量％，更优选为5～30质量％。如果粒子(C)的含量为上述范围的下限值以上，则透光性结构体的雾度足够高，并且基底层5的表面的60°镜面光泽度、进而透光性结构体的可视侧的最外表面的60°镜面光泽度足够低，因此充分地发挥防眩效果。如果粒子(C)的含量为上述范围的上限值以下，则得到充分的耐磨强度。
在涂料组合物含有粒子(C)、且粒子(C)含有鳞片状粒子(C1)的情况下，在粒子(C)的总量(100质量％)中，鳞片状粒子(C1)的含量优选为20质量％以上，更优选为30质量％以上。上限没有特别限定，可以为100质量％。如果鳞片状粒子(C1)的比例为上述下限值以上，则防眩效果更优良。另外，即使膜厚较厚也充分地抑制基底层5的裂纹、膜剥离。
(粘度)
涂料组合物的涂布温度下的粘度(以下，也称为“液体粘度”)优选为0.003Pa·s以下(3mPa·s以下)，特别优选为0.001～0.003Pa·s。如果液体粘度为上述上限值以下，则在将涂料组合物喷雾时形成的液滴变得更微细，容易形成所期望的表面形状的基底层5。如果液体粘度为上述下限值以上，则基底层5的表面凹凸形状变得均匀。
涂料组合物的粘度是利用B型粘度计测定而得到的值。
(制备方法)
涂料组合物例如可以通过制备硅烷前体(A)溶解在液态介质(B)中而得到的溶液并根据需要混合追加的液态介质(B)、粒子(C)的分散液等来制备。
在粒子(C)包含鳞片状粒子(C1)、二氧化硅前体(A)包含四烷氧基硅烷的水解缩合物的情况下，从能够以高水平且重现性良好地制造具有所期望的性能的基底层5的观点出发，优选将四烷氧基硅烷的溶液或四烷氧基硅烷及其水解缩合物的混合物的溶液与鳞片状粒子(C1)的分散液混合后在鳞片状粒子(C1)的存在下使四烷氧基硅烷水解并缩合。
[涂布工序]
在透光性基材3上的上述涂料组合物的涂布通过使用具备静电涂装枪的静电涂装装置使上述涂料组合物带电并将其喷雾来进行，所述静电涂装枪具备旋转雾化头。由此，在透光性基材3上形成上述涂料组合物的涂膜。
(静电涂装装置)
图5是示出静电涂装装置的一例的示意图。
静电涂装装置10具备涂布室11、链式输送机12、多个静电涂装枪17、高电压产生装置18和废气箱20。
链式输送机12贯穿涂布室11，以使得将导电性基板21以及载置于其上的透光性基材3沿规定方向运送。
多个静电涂装枪17在链式输送机12的上方的涂布室11内沿与透光性基材3的运送方向交叉的方向并列配置，并且各自与高压电缆13、涂料组合物的供给管线14、涂料组合物的回收管线15以及双系统空气供给管线16a、16b连接。
高电压产生装置18经由高压电缆13与静电涂装枪17连接，并且接地。
废气箱20配置在静电涂装枪17和链式输送机12的下方，并且与废气管道19连接。
静电涂装枪17固定于喷嘴组框架上(省略图示)。以使得通过喷嘴组框架能够调节从静电涂装枪17的喷嘴前端到透光性基材3的距离、静电涂装枪17相对于透光性基材3的角度、相对于透光性基材3的运送方向的多个静电涂装枪17排列的方向等。
对静电涂装枪17的喷嘴前端部以及涂料组合物的供给管线14和回收管线15施加高电压，因此对静电涂装枪17、供给管线14和回收管线15与包含金属的部分(例如，喷嘴组框架、涂布室11的侧壁贯穿部分等金属部分)的连接部分利用树脂等实施了绝缘处理。
链式输送机12包含多个塑料链条，多个塑料链条中的一部分为导电性塑料链条。导电性塑料链条经由嵌入塑料链条的金属链条(省略图示)及其驱动电动机(省略图示)的接地电缆(省略图示)而接地。
导电性基板21用于使载置于其上的透光性基材3经由链式输送机12的导电性塑料链条、金属链条和驱动电动机的接地电缆充分接地。通过使透光性基材3充分接地，涂料组合物均匀地附着于透光性基材3上。
作为导电性基板21，从抑制透光性基材3的温度下降并且能够使温度分布均匀化的方面出发，优选金属网托盘。
(静电涂装枪)
图6是静电涂装枪17的剖视示意图。图7是从正面观察静电涂装枪17的前视示意图。
静电涂装枪17具备枪主体30和旋转雾化头40。旋转雾化头40以使轴线朝向前后方向的方式配置在枪主体30的前端部。
对于静电涂装枪17而言，通过对旋转雾化头40进行旋转驱动，利用离心力将供给至旋转雾化头40的涂料组合物雾化并喷出(即喷雾)。
需要说明的是，在静电涂装枪17的说明中，前方、前端等中的“前”表示涂料组合物的喷雾方向，其相反方向为后方。图6、7中的下方为静电涂装枪17中的前方。
静电涂装装置可以具备多个静电涂装枪17。通过具备多个静电涂装枪，能够提高效率、有效地在宽度宽的基板上涂布，因此优选。在设置多个静电涂装枪17的情况下，可以沿与基板运送方向垂直的方向并列配置，但是考虑到一个静电涂装枪17的涂布宽度和静电涂装枪17间的电场的干扰，从效率上的观点出发，优选以Z字形(锯齿)状配置。
在枪主体30内，在与旋转雾化头40相同的轴上固定并收容有涂料供给管31。
在枪主体30内设置有未图示的空气涡轮电动机，在该空气涡轮电动机中设置有旋转轴32。另外，空气涡轮电动机与双系统空气供给管线16a、16b中的一个系统(例如供给管线16a)连接，从而能够利用来自供给管线16a的空气压力来控制旋转轴32的转速。旋转轴32以包围涂料供给管31的方式配置在与旋转雾化头40相同的轴上。
需要说明的是，在此示出了使用空气涡轮电动机作为旋转轴32的旋转驱动单元的例子，但是也可以使用除空气涡轮电动机以外的旋转驱动单元。
枪主体30中形成有多个成形空气(シェービングエア)(也称为成形空气)的出风口33，多个出风口33各自形成有用于供给成形空气的空气供给路径35。另外，空气供给路径35与双系统空气供给管线16a、16b中的一个系统(例如，供给管线16b)连接，从而能够经由空气供给路径35向出风口33供给空气(成形空气)。
在静电涂装枪17的前视图中，多个出风口33按以等间隔开口的方式形成在以轴心为中心的同心圆上。另外，在静电涂装枪17的侧视图中，多个出风口33以朝向静电涂装枪17的前方并逐渐远离轴心的方式形成。
旋转雾化头40具备第一部件41和第二部件42。第一部件41和第二部件42各自为筒状。
第一部件41是一体地形成有轴安装部43、从轴安装部43向前方延伸的形态的保持部44、从保持部44向前方延伸的形态的周壁45、从周壁45向前方延伸的形态的扩径部47、和在周壁45与扩径部47的边界位置处对第一部件41的中心孔进行前后划分的形态的前壁49的部件。
保持部44使第二部件42相对于第一部件41保持为同轴状。
周壁45的内周面形成为在旋转雾化头40的轴线方向的整个区域向前方逐渐扩大的锥状的引导面46。
扩径部47为向前方扩大成杯状的形态，扩径部47的前表面形成为向前方逐渐扩大的形态的扩散面48。
扩径部47的扩散面48的外周缘48a上在整个外周上大致等间隔地设置有多个用于涂料组合物的微粒化的微细的切口。
在前壁49上形成有前后贯穿前壁49的外周缘的形态的流出孔50。流出孔50形成为圆形，并在周向上以等角度间隔形成有多个流出孔50。另外，流出孔50的贯穿方向与周壁45的引导面46的倾斜方向平行。
前壁49的背面的中央部分为向后方突出的圆锥状。另外，该中央部分形成有从前壁49的前表面的中心部向后方延伸、途中分支成三个且在圆锥状部分的周面上开口的通孔53。
第二部件42是具有形成为一体的筒状部51和后壁52的部件。后壁52配置于筒状部51的前端部。在后壁52的中央形成有圆形的通孔，以使得能够插入涂料供给管31的前端部。
旋转雾化头40中，由前壁49、周壁45和后壁52围成的空间为储存室S。该储存室S经由多个流出孔50与扩散面48连通。
静电涂装枪17中，涂料供给管31的前端部插入后壁52的中央的通孔，使得涂料供给管31的前端的排出口31a在储存室S内开口。由此，能够经由涂料供给管31向储存室S内供给涂料组合物。
需要说明的是，静电涂装装置和静电涂装枪并不限定于图示的例子。关于静电涂装装置，只要具备具有旋转雾化头的静电涂装枪，就可以采用公知的静电涂装装置。静电涂装枪只要具备旋转雾化头，就可以采用公知的静电涂装枪。
(涂布方法)
对于静电涂装装置10而言，以下述的方式在透光性基材3上涂布涂料组合物。
将透光性基材3设置在导电性基板21上。另外，通过高电压产生装置18对静电涂装枪17施加高电压。同时，从涂料组合物的供给管线14向静电涂装枪17供给涂料组合物，并且分别从双系统空气供给管线16a、16b向静电涂装枪17供给空气。
对于从空气供给管线16b供给的空气而言，将空气供给至枪主体30内的空气供给路径35，并作为成形空气从出风口33的开口吹出。
从空气供给管线16a供给的空气驱动枪主体30内的空气涡轮电动机，从而使旋转轴32旋转。由此，从涂料组合物的供给管线14通过涂料供给管31被供给至储存室S内的涂料组合物利用离心力沿着周壁45的引导面46向前方移动，通过流出孔50并供给至扩散面48。涂料组合物的一部分通过中央部分的通孔53并被供给至扩散面48。在此，周壁45的引导面46形成为朝向流出孔50扩大的锥状，因此，储存室S内的涂料组合物利用离心力确定地到达流出孔50而不残留在储存室S内。
然后，供给至扩散面48的涂料组合物在利用离心力沿着扩散面48扩散的同时向外周缘48a一侧移动，在扩散面48上形成涂料组合物的液膜，在扩径部47的扩散面48的外周缘48a进行微粒化，形成液滴并以放射状飞散。
将从旋转雾化头40飞散的涂料组合物的液滴利用成形空气的流动向透光性基材3方向引导。另外，上述液滴带负电荷，通过静电引力被吸引向接地的透光性基材3。因此，有效地附着于透光性基材3的表面。
未从静电涂装枪17喷雾的一部分涂料组合物通过涂料组合物的回收管线15被回收至涂料组合物罐(省略图示)。另外，从静电涂装枪17喷雾而未附着于透光性基材3的一部分涂料组合物被抽吸至废气箱20，通过废气管道19并被回收。
透光性基材3的表面温度优选为60℃以下，优选为15℃～50℃，更优选为20℃～40℃。如果透光性基材3的表面温度为上述范围的上限值以下，则透光性基材3与基底层5的粘附性良好。如果透光性基材3的表面温度为上述范围的下限值以上，则涂料组合物的液态介质(B)迅速蒸发，因此容易形成充分的凸凹。
从静电涂装枪17喷雾的涂料组合物的温度(涂布温度)、涂布室11内的温度的优选范围也与上述一样。另外，将从静电涂装枪17到透光性基材3之间的气氛设定为20℃以上并且将相对湿度设定为60％以下时，基底层5的膜特性和雾度分布提高，因此优选。涂布室11内的环境更优选20℃～30℃的温度范围且相对湿度25％～45％，进一步优选20℃～30℃的温度范围且相对湿度25％～40％。
透光性基材3的运送速度优选为0.6m/分钟～20.0m/分钟，更优选为1.5m/分钟～15.0m/分钟。如果透光性基材3的运送速度为0.6m/分钟以上，则生产率提高。如果透光性基材3的运送速度为20.0m/分钟以下，则容易控制涂布于透光性基材3上的涂料组合物的膜厚。
透光性基材3的运送次数、即使透光性基材3通过静电涂装枪17的下方并涂布涂料组合物的次数可以根据所期望的雾度、光泽度等适当设定。从防眩性的观点考虑，优选1次以上，更优选2次以上。从生产率的观点考虑，优选10次以下，更优选8次以下。
静电涂装枪17的旋转雾化头40的外周缘48a的直径(扩散面48的最大直径，以下也称为“杯径”)Dc优选为50mm以上，优选为55mm～90mm，特别优选为60mm～80mm。如果杯径为上述下限值以上，则旋转雾化头40的旋转时的离心力大，从旋转雾化头40飞散的涂料组合物的液滴更微细，容易形成所期望的表面形状的基底层5。如果杯径为上述范围的上限值以下，则能够稳定地使杯旋转。
从静电涂装枪17的喷嘴前端(即，在涂料组合物的喷雾方向上的旋转雾化头40的前端)到透光性基材3的距离(以下，也称为喷嘴高度)根据透光性基材3的宽度、涂布在透光性基材3上的涂料组合物的膜厚等适当调节。通常为150mm～450mm。缩短从静电涂装枪17的喷嘴前端到透光性基材3的距离时，涂布效率提高，但是，过于接近时，发生放电的可能性增高，产生安全上的问题。另一方面，随着从静电涂装枪17的喷嘴前端到透光性基材3的距离增大，涂布区域扩大，但是过度远离时，涂布效率的降低成为问题。
对静电涂装枪17施加的电压根据涂布在透光性基材3上的涂料组合物的涂布量等适当调节，通常为-30kV～-90kV的范围。电压的绝对值越大，存在涂布效率越提高的倾向。需要说明的是，虽然也取决于液体特性、涂布环境和涂布条件，但是施加电压达到一定程度高时，涂布效率达到饱和。
向静电涂装枪17的涂料组合物的供给量(以下，也称为涂布液量)根据涂布在透光性基材3上的涂料组合物的涂布量等适当调节。优选小于70mL/分钟，更优选为10mL/分钟～50mL/分钟。如果涂布液量为上述上限值以下，则从旋转雾化头40飞散的涂料组合物的液滴更微细，容易形成所期望的表面形状的基底层5。如果涂布液量为上述下限值以上，则面内雾度的分布减小。
分别从双系统空气供给管线16a、16b供给至静电涂装枪17的空气压力根据涂布在透光性基材3上的涂料组合物的涂布量等适当调节，通常为0.01MPa～0.5MPa。
可以通过分别从双系统空气供给管线16a、16b供给至静电涂装枪17的空气压力来控制涂料组合物的涂布图案。
涂料组合物的涂布图案是指利用从静电涂装枪17喷雾的涂料组合物的液滴在透光性基材上形成的图案。
提高向静电涂装枪17内的空气涡轮电动机供给的空气的空气压力时，旋转轴32的旋转速度升高，旋转雾化头40的旋转速度升高，由此，显示出从旋转雾化头40飞散的液滴的尺寸减小、涂布图案增大的倾向。
提高向静电涂装枪17内的空气供给路径35供给的空气的空气压力、提高从出风口33吹出的空气(成形空气)的空气压力时，显示出从旋转雾化头40飞散的液滴的扩散被抑制、涂布图案减小的倾向。
向空气涡轮电动机供给的空气的空气压力根据旋转雾化头40的旋转速度(以下，也称为杯转速)进行设定。该空气压力越高，则杯转速越高。
杯转速优选为30000rpm以上，更优选为30000rpm～80000rpm，特别优选为32000rpm～80000rpm。如果杯转速为上述范围的下限值以上，则从旋转雾化头40飞散的涂料组合物的液滴更微细，容易形成所期望的表面形状的基底层5。如果杯转速为上述范围的上限值以下，则涂布效率优良。
杯转速可以利用静电涂装装置10附带的测量仪(省略图示)测定。
向空气供给路径35供给的空气的空气压力优选调节为成形空气的空气压力(以下，也称为成形压力)在0.01MPa～0.3MPa的范围内的压力。成形压力更优选为0.01MPa～0.25MPa，特别优选为0.01MPa～0.2MPa。如果成形压力为上述范围的下限值以上，则由防止液滴飞散的效果的提高所带来的涂布效率提高的效果优良。如果成形压力为上述范围的上限值以下，则能够确保涂布宽度。
[烘烤工序]
在烘烤工序中，对在涂布工序中在透光性基材3上形成的涂料组合物的涂膜进行烘烤从而形成基底层5。
烘烤可以通过在将涂料组合物涂布于透光性基材3时对透光性基材3进行加热从而与涂布同时进行，也可以通过在将涂料组合物涂布于透光性基材3后对涂膜进行加热来进行。
烘烤温度优选为30℃以上，例如在透光性基材3为玻璃的情况下，更优选为100℃～750℃，进一步优选为150℃～550℃。
[AR层形成工序]
基底层5的表面具有上述凹凸结构，因此，通过在AR层形成工序中按照基底层5的表面形状形成AR层7，能够形成在表面具有上述凹凸结构的AR层7。
作为AR层7的形成方法，没有特别限定，可以利用干式法、湿式法等公知的方法。
作为干式法，可以列举：溅射法、真空蒸镀法、离子镀法、化学气相沉积法等。例如，以金属(Si、Nb等)作为靶在氧气气氛下进行溅射时，形成金属氧化物的层。
对于湿式法而言，涂布含有基质或其前体和液态介质的涂布液并进行干燥，由此形成层。涂布液可以根据需要还含有粒子、添加剂等。
作为基质或其前体，可以列举例如上述二氧化硅前体(A)、粘结剂(D)等。液态介质、粒子、添加剂分别可以列举与上述液态介质(B)、粒子(C)、添加剂(E)同样的物质。作为粒子，优选中空粒子。但是，在AR层的情况下，液态介质不一定需要以一定比例含有沸点150℃以下的液态介质(B1)。
作为涂布液的涂布方法，可以列举：公知的湿式涂布法(旋涂法、喷涂法、浸涂法、口模式涂布法、幕涂法、丝网涂布法、喷墨法、流涂法、凹版涂布法、刮棒涂布法、柔版涂布法、狭缝涂布法、辊涂法等)等。
作为AR层7的形成方法，从减反射性的方面考虑，优选干式法，其中，从生产率的观点出发，更优选溅射法。
以上所说明的制造方法中，利用具有旋转雾化头的静电涂装枪将规定的涂料组合物喷雾，由此能够形成在表面具有包含第一凸部5a和第二凸部5b的凹凸结构的层作为基底层5。认为这是因为：与应用以往通用的喷涂法(特别是使用双流体喷嘴的方法)的情况相比，涂料组合物的液滴以缓慢的速度附着于透光性基材3上，另外，在液滴附着后，液态介质(B)迅速挥发，由此液滴不容易在透光性基材3上扩展，以充分保持附着时刻的形状的状态进行成膜(即，液态介质(B)全部被除去。另外，在含有二氧化硅前体(A)的情况下，二氧化硅前体(A)变为基质)。
另外，在上述制造方法中，可以通过涂料组合物的粘度、涂布工序中的涂布条件(杯径、涂布液量、杯转速等)、烘烤工序的温度等控制所形成的基底层5的表面形状、进而控制AR层7的表面形状。例如，涂料组合物的粘度越低、或者杯径越大、或者涂布液量越少、或者杯转速越快，则使涂料组合物带电并将其喷雾时形成的液滴的尺寸倾向于越小。该液滴的尺寸越小，则第二凸部5b、7b的每1μm2的数量倾向于越多。
{第二实施方式}
图8是示出本发明的透光性结构体的第二实施方式的示意性剖视图。图9是示出本实施方式的透光性结构体的表面形状的剖视示意图。需要说明的是，在下述所示的实施方式中，对于与已说明的实施方式对应的构成要素赋予相同符号并省略其详细说明。
本实施方式的透光性结构体2具备透光性基材4和形成在透光性基材4的第一表面4A上的AR层7。
透光性基材4的第一表面4A一侧为可视侧。透光性基材4和AR层7各自在表面具有凹凸结构。AR层7存在于透光性结构体2的最靠近可视侧。因此，AR层7的表面为透光性结构体2的可视侧的最外表面。
透光性基材4的表面的凹凸结构包含第一凸部4a和第二凸部4b。
透光性基材4的表面的凹凸结构与第一实施方式的基底层5的表面的凹凸结构一样，优选的方式也一样。
除了透光性基材4在第一表面4A具有凹凸结构以外，与第一实施方式的透光性基材3一样，优选的方式也一样。
在透光性结构体2中，透光性基材4的第一表面4A的凹凸结构与AR层7的表面的凹凸结构可以相同也可以不同。例如，第一凸部4a、7a各自的平均直径(按正圆换算)和最大高度、以及第二凸部4b、7b各自的平均高度和每1μm2的数量中的任意一者以上可以不同。
AR层7的表面凹凸优选如图9所示仿照透光性基材4的第一表面4A的凹凸。在这种情况下，AR层7的表面的凹凸结构可以是与透光性基材4的第一表面4A的凹凸结构相比角、高低差较小的凹凸结构。例如，第二凸部7b的平均高度可以低于第二凸部4b的平均高度。
透光性结构体2的可视侧的最外表面(本实施方式中为AR层7的表面)的60°镜面光泽度、透光性结构体2的雾度、通过SCI方式测定的反射率、闪光指标值S各自的优选范围与第一实施方式一样。
<作用效果>
在透光性结构体2中，在透光性基材4的可视侧具备AR层7，在可视侧的最外表面具有包含第一凸部7a和第二凸部7b、且第二凸部7b的数量为0.0001～1.2个/1μm2的凹凸结构，因此，与上述透光性结构体1同样地，防眩性和减反射性优良，并且充分地抑制了闪光。
<透光性结构体的制造方法>
作为透光性结构体2的制造方法，可以列举例如如下方法：对不具有上述凹凸结构的透光性基材的表面在各自不同的处理条件下进行两次以上蚀刻处理，由此形成上述凹凸结构而制作透光性基材4，并在该透光性基材4的凹凸结构上形成AR层7。
例如，通过利用第一次蚀刻处理形成第一凸部，利用第二次蚀刻处理形成第二凸部，由此形成上述凹凸结构。
蚀刻处理可以根据透光性基材的材质、所要求的雾度等利用公知的各种蚀刻方法来进行。优选第二次的蚀刻处理的蚀刻速度快于第一次蚀刻处理的蚀刻速度。
另外，即使在进行了蚀刻处理的透光性基材上形成基底层，也可以对形成有基底层的透光性基材进行蚀刻。例如，通过对透光性基材进行蚀刻处理而形成第一凸部，然后通过涂布涂料组合物而形成第二凸部，由此形成上述凹凸结构。
例如，作为透光性基材为玻璃基材的情况下的蚀刻方法，可以列举使氟化剂与玻璃基材的表面接触的方法。与氟化剂接触时，在玻璃表面中，氟化剂与作为玻璃的骨架结构的SiO2发生反应而生成SiF4(气体)，失去骨架后的剩余的成分变为硅氟化物从而玻璃表面形成凹凸。作为氟化剂，可以列举例如：氟单质(F2)、氟化氢(HF)等。对于该方法而言，可以通过所使用的氟化剂的种类、使氟化剂与玻璃表面接触的时间、蚀刻温度等来调节所形成的凹凸的形状。
作为除与氟化剂接触以外的玻璃基材的蚀刻方法、也能够应用于除玻璃以外的材质的透光性基材的情况的蚀刻方法，可以列举例如：喷砂处理、离子蚀刻处理等。
{第三实施方式}
图10是示出本发明的透光性结构体的第三实施方式的示意性剖视图。图11是示出本实施方式的透光性结构体的表面形状的剖视示意图。
本实施方式的透光性结构体6具备透光性基材3、形成在透光性基材3的第一表面3A上的基底层5、形成在基底层5上的AR层7和形成在AR层7上的拒水拒油层(以下，也称为“AFP层”)9。
透光性基材3的第一表面3A一侧为可视侧。基底层5、AR层7和AFP层9各自在表面具有凹凸结构。在透光性结构体6中，在最靠近可视侧存在AFP层9，在紧接其下方存在AR层7。因此，AFP层9的表面为透光性结构体6的可视侧的最外表面。
(AFP层)
AFP层也被称为耐指纹层(Anti Finger Print)，优选使用具有全氟聚醚基的硅烷化合物。
作为AFP层的材料，可以使用例如含有下式(A)所表示的化合物和/或其部分水解缩合物的材料。
(A)式(1)：Rf3-Rf2-Z1
(式中，Rf3为基团CmF2m+1(其中，m为1～6的整数)，
Rf2为-O-(CaF2aO)n-(其中，a为1～6的整数，n为1以上的整数，在n为2以上的情况下，各-CaF2aO-单元可以相同也可以不同)，
Z1为基团-Q2-{CH2CH(SiR2 qX2 3-q)}r-H(其中，Q2为-(CH2)s-(其中，s为0～12的整数)、或者含有选自酯键、醚键、酰胺键、氨基甲酸酯键和亚苯基中的一种以上的-(CH2)s-，-CH2-单元的一部分或者全部可以被-CF2-单元和/或-CFCF3-单元置换，R2为氢原子或碳原子数1～6的一价烃基，该烃基可以含有取代基，X2各自独立地为羟基或可水解基团，q为0～2的整数，r为1～20的整数))
作为X2中的可水解基团，可以列举与硅烷化合物(A1)中所列举的基团同样的基团。
如果AFP层7的厚度为5nm以上，则发挥充分的拒水拒油性，AFP层7的表面上的手指滑动性(指すべり性)良好，因此优选。另外，AFP层7的厚度为15nm以下时，对减反射性产生的影响小，因此优选，但是即使在比15nm厚的情况下也能够使用。
AFP层7的表面的凹凸结构包含第一凸部7a和第二凸部7b。
AFP层7的表面的凹凸结构与第一实施方式的基底层5的表面的凹凸结构一样，优选的方式也一样。
在透光性结构体6中，基底层5的表面的凹凸结构、AR层7的表面的凹凸结构和AFP层9的表面的凹凸结构只要满足上述规定，则既可以相同也可以不同。例如第一凸部5a、7a、9a各自的平均直径(按正圆换算)和最大高度以及第二凸部5b、7b、9b各自的平均高度和每1μm2的数量中的任意一者以上可以不同。
AFP层9的表面的凹凸优选如图11所示仿照基底层5、AR层7各自的表面的凹凸。在这种情况下，AFP层9的表面的凹凸结构可以是与基底层5的表面的凹凸结构、AR层7的表面的凹凸结构相比角、高低差较小的凹凸结构。例如，第二凸部9b的平均高度可以低于第二凸部5b、7b的平均高度。
透光性结构体6的可视侧的最外表面(本实施方式中为AFP层9的表面)的60°镜面光泽度、透光性结构体6的雾度、通过SCI方式测定的反射率、闪光指标值S各自的优选范围与第一实施方式一样。
<作用效果>
在透光性结构体6中，在透光性基材3的可视侧具备AR层7，在可视侧的最外表面具有包含第一凸部9a和第二凸部9b、且第二凸部9b的数量为0.0001～1.2个/1μm2的凹凸结构，因此，与上述透光性结构体1同样，防眩性和减反射性优良，并且充分地抑制了闪光。
另外，在可视侧的最外层配置有AFP层7，因此手指滑动性良好。例如在触控面板的操作性方面，优选手指滑动性良好。
<透光性结构体的制造方法>
透光性结构体6例如可以通过以下方式制造：利用第一实施方式中所列举的制造方法在透光性基材3的第一表面3A上依次形成基底层5和AR层7，并利用拒水拒油剂对该AR层7的表面进行处理而形成AFP层9。
利用拒水拒油剂对AR层7的表面进行处理时，按照AR层7的表面形成AFP层9。因此，AFP层9的表面会产生形状的略微变动，但是具有与AR层7的表面的凹凸结构类似的形状的凹凸结构。
作为利用拒水拒油剂的处理方法，可以列举：蒸镀法、刮板涂布法、擦拭涂布法、流涂法等。可以在成膜后进行热处理。作为热处理条件，可以列举例如在大气中在50℃～200℃下进行3分钟～120分钟等。可以在加湿至相对湿度50％～90％的同时进行热处理。
{第四实施方式}
图12是示出本发明的透光性结构体的第四实施方式的示意性剖视图。图13是示出本实施方式的透光性结构体的表面形状的剖视示意图。
本实施方式的透光性结构体8具备透光性基材4、形成在透光性基材4的第一表面4A上的AR层7、和形成在AR层7上的AFP层9。
透光性基材4的第一表面4A一侧为可视侧。AR层7和AFP层9各自在表面具有凹凸结构。在透光性结构体8中，在最靠近可视侧存在AFP层9，在紧接其下方存在AR层7。因此，AFP层9的表面为透光性结构体8的可视侧的最外表面。
在透光性结构体8中，透光性基材4的第一表面4A的凹凸结构与AR层7的表面的凹凸结构与AFP层9的表面的凹凸结构可以相同也可以不同。例如，第一凸部4a、7a、9a各自的平均直径(按正圆换算)和最大高度以及第二凸部4b、7b、9b各自的平均高度和每1μm2的数量中的任意一者以上可以不同。
AFP层9的表面的凹凸优选如图13所示仿照透光性基材4的第一表面4A、AR层7各自的凹凸。在这种情况下，AFP层9的表面的凹凸结构可以是与透光性基材4的第一表面4A的凹凸结构、AR层7的表面的凹凸结构相比角、高低差较小的凹凸结构。例如，第二凸部9b的平均高度可以低于第二凸部4b、7b的平均高度。
透光性结构体8的可视侧的最外表面(本实施方式中为AFP层9的表面)的60°镜面光泽度、透光性结构体6的雾度、通过SCI方式测定的反射率、闪光指标值S各自的优选范围与第一实施方式一样。
<作用效果>
在透光性结构体8中，在透光性基材4的可视侧具备AR层7，在可视侧的最外表面具有包含第一凸部9a和第二凸部9b、且第二凸部9b的数量为0.0001～1.2个/1μm2的凹凸结构，因此，与上述透光性结构体6同样，防眩性和减反射性优良，并且充分地抑制了闪光。另外，在最外层配置有AFP层7，因此，手指滑动性良好。
<透光性结构体的制造方法>
透光性结构体8例如可以通过以下方式制造：利用第二实施方式中列举的制造方法制造透光性基材4，在透光性基材4的第一表面4A上形成AR层7，然后利用拒水拒油剂对AR层7的表面进行处理从而形成AFP层9。
作为利用拒水拒油剂的处理方法，可以列举第三实施方式中列举的方法。
以上，示出第一～第四实施方式对本发明的透光性结构体进行了说明，但是本发明并不限定于这些实施方式。上述实施方式中的各构成及它们的组合等为一例，在不脱离本发明的要旨的范围内可以进行构成的附加、省略、置换及其它变更。
例如，在第一、第三实施方式中示出了基底层5在表面具有特定凹凸结构的例子，从防眩性和抑制闪光的观点考虑，重要的是可视侧的最外表面的形状，因此，并非可视侧的最外表面的基底层5的表面可以不具有上述凹凸结构。例如，可以使基底层5的表面具有具有第一凸部5a而不具有第二凸部5b的凹凸结构。同样地，第二实施方式中的透光性基材4的第一表面4A、第三～第四实施方式中的AR层7的表面可以是不具有上述凹凸结构的表面。在容易制造在最外表面具有特定凹凸结构的透光性结构体的方面，优选在透光性基材与减反射膜之间具有在表面具有特定的凹凸结构的基底层、或者在透光性基材的表面具有特定的凹凸结构。
{用途}
本发明的透光性结构体的用途没有特别限定。作为具体例，可以列举：车辆用透明部件(前灯罩、侧视镜、前透明基板、侧透明基板、后透明基板、仪器面板表面等)、计量器、建筑窗户、橱窗、显示器(笔记本电脑、监视器、LCD、PDP、ELD、CRT、PDA等)、LCD滤色片、触控面板用基板、拾取透镜、光学透镜、眼镜镜片、照相机部件、摄像机部件、CCD用覆盖基板、光纤端面、投影仪部件、复印机部件、太阳能电池用透明基板(保护玻璃等)、手机视窗、背光单元构件(导光板、冷阴极管等)、背光单元部件液晶增亮膜(棱镜、半透膜等)、液晶增亮膜、有机EL发光元件部件、无机EL发光元件部件、荧光体发光元件部件、滤光片、光学部件的端面、照明灯、照明器具的罩、增幅激光光源、减反射膜、偏振膜、农业用膜等。
作为本发明的透光性结构体的用途，从能够以高水准实现防眩性、减反射性和低闪光性的方面考虑，优选运输机的内部物品，进一步优选车载物品。作为车载物品，优选具备图像显示装置的车载系统(汽车导航系统、仪器面板、平视显示器、仪表盘、中控台、换挡手柄等)。
《物品》
本发明的物品具备上述透光性结构体。
本发明的物品可以由上述透光性结构体构成，也可以还具备除上述透光性结构体以外的其它构件。
作为本发明的物品的例子，可以列举：上述作为透光性结构体的用途所列举的物品、具备它们中的任一种以上的装置等。
作为装置，可以列举例如：图像显示装置及具备该图像显示装置的系统、照明装置及具备该照明装置的系统、太阳能电池模块等。
从雾度、光泽度、防眩性、减反射性等光学特性的方面考虑，本发明的物品优选为图像显示装置或具备该图像显示装置的系统。
在本发明的物品为图像显示装置的情况下，该图像显示装置具备显示图像的图像显示装置主体和设置于图像显示装置主体的可视侧的本发明的透光性结构体。
作为图像显示装置主体，可以列举：液晶面板、有机EL(电致发光)面板、等离子体显示面板等。
透光性结构体可以作为图像显示装置主体的保护板与图像显示装置主体一体地设置，也可以作为各种滤光器配置于图像显示装置主体的可视侧。
以上说明的图像显示装置或具备该图像显示装置的系统中，由于本发明的透光性结构体设置在图像显示装置主体的可视侧，因此可视性良好。
实施例
以下，示出实施例对本发明详细地进行说明。但是，本发明并不限定于下述记载。
后述的例1～15中，例4～5、7、9～10、12～13、15为实施例，例1～3、6、8、11、14为比较例。
以下示出各例中使用的评价方法及材料。
<评价方法>
(液体粘度测定)
利用英弘精机公司制造的B型粘度计进行测定。
(表面形状测定)
透光性结构体的可视侧的最外表面(例1为基材的表面、例2～15为与基材侧相反的一侧的表面)的表面形状使用基恩士公司制造的激光显微镜VK-X100进行测定(物镜使用“×100”。观察区域：107μm×143μm或109μm×145μm，倍数：1000倍)。
在此，记载了两种观察区域是因为即使使用相同的×100的规格的物镜，也会由于透镜的个体差异而导致观察区域不同。测定结果以观察区域内的最大值、最小值和平均值表示，因此，即使观察区域略有不同，如果选择×100的物镜，则结果几乎没有差异。测定模式设定为“表面形状”，测定品质设定为“标准(1024×768)”，间距设定为“0.08μm”。
(表面形状分析)
使用Image Metorology公司制造的图像处理软件SPIP(版本5.1.11)对通过表面形状测定而得到的表面形状的xyz数据进行分析，并计算出以下项目。
第一凸部的最大高度(P至V)；
第一凸部的平均直径(承载部高度+0.05μm的高度处的截面中存在的凸部切割面中，直径(按正圆换算)大于10μm的凸部切割面的直径(按正圆换算)的平均值)；
第二凸部的平均直径(承载部高度+0.5μm的高度处的截面中存在的凸部切割面中，直径(按正圆换算)1μm～10μm的凸部切割面的直径(按正圆换算)的平均值)；
第二凸部的最大直径和最小直径(承载部高度+0.5μm高度处的截面中存在的直径(按正圆换算)1μm～10μm的凸部切割面中，最小凸部切割面的直径(按正圆换算)以及最大凸部切割面的直径(按正圆换算))；
观察区域(107×143μm或109×145μm的范围)中的第二凸部的数量(承载部高度+0.5μm的高度处的截面中存在的直径(按正圆换算)大于1μm的凸部切割面的数量)；
第二凸部的密度(将观察区域中的第二凸部的数量换算成每1μm2的值而得到的值)；
第二凸部的平均高度(以承载部高度作为基准对所测定的区域内存在的第二凸部的高度进行测定并进行平均而得到的值)。
详细而言，按照下述步骤计算出各项目。
在第一凸部的最大高度(P至V)的计算中，在斜率校正中，模式(mode)选择“自定义”、Z偏置法选择“将最小值设为零”，检测方法设定为“粒子检测”，在形状形成中，去除“保留形状的孔”，选择“使形状轮廓平滑”，“滤波器·尺寸”设定为51个点。在滤波中，选择“包含图像边缘的形状”，将直径最小值设定为10.0μm，并增加阈值水平，将无法检测出直径10μm以上的形状时的阈值水平作为第一凸部的最大高度(P至V)。
第一凸部的平均直径的计算中，在斜率校正中，模式(mode)选择“品质优先”、Z偏置法选择“将承载部高度设为零”，检测方法设定为“粒子检测”，在形状形成中，去除“保留形状的孔”，选择“使形状轮廓平滑”，“滤波器·尺寸”设定为51个点。阈值水平设定为0.05μm，在滤波中选择“包含图像边缘的形状”，将直径最小值设定为10.0μm。
在第二凸部的平均直径、第二凸部的最大直径和最小直径、观察区域中的第二凸部的数量以及第二凸部的平均高度的计算中，在斜率校正中，模式(mode)选择“品质优先”、Z偏置法选择“将承载部高度设为零”，检测方法设定为“粒子检测”，在形状形成中，去除“保留形状的孔”，选择“使形状轮廓平滑”，“滤波器·尺寸”设定为51个点。将阈值水平设定为0.05μm，在滤波中去除“包含图像边缘的形状”的选择，将直径最小值设定为1.0μm。
(闪光(Sparkle)测定)
对于透过性结构体，使用I-System公司制造的EyeScale ISC-A测定闪光指标值S。
基于闪光指标值S，按照下述标准对闪光进行评价。
×：闪光指标S≥100(观察到显著的闪光)。
○：闪光指标80≤S<100(虽然观察到闪光但是实用上没有问题的水平)。
◎：闪光指标60≤S<80(观察到少量闪光的水平)。
◎◎：闪光指标S<60(完全未观察到闪光的水平)。
(雾度测定)
透光性结构体的雾度利用雾度计(村上色彩研究所公司制造的HR-100型)按照JISK7136：2000中规定的方法进行测定。
(60°镜面光泽度)
测定了60°镜面光泽度作为透光性结构体的可视侧的最外表面的光泽度。对于60°镜面光泽度而言，按照JIS Z8741：1997的60°镜面光泽度中规定的方法使用光泽度计(柯尼卡美能达公司制造、MULTI GLOSS 268Plus)在不消除透光性结构体的背面反射的情况下在最外表面的大致中央部进行测定。
(Y(SCI))
通过SCI方式测定的反射率Y(％)利用柯尼卡美能达公司制造的CM-2600d进行测定。
(手指滑动性)
透光性结构体的可视侧的最外表面的手指滑动性按照下述基准进行评价。
○：利用手指触摸表面时的触感非常光滑。
×：作为利用手指触摸表面时的触感，感觉到卡顿(ひっかかり)。
(基液(A)的制备)
向作为液态介质(B)的改性乙醇(日本醇类销售公司制造、SOLMIX(注册商标)AP-11、以乙醇作为主剂的混合溶剂；以下同样)中添加作为二氧化硅前体(A)的SILICATE 40(多摩化学工业公司制造、四乙氧基硅烷及其水解缩合物的混合物)，并搅拌30分钟。向其中添加离子交换水和硝酸水溶液(硝酸浓度为61质量％)的混合液，并搅拌60分钟，从而制备出基液(A)。
(硅烷化合物溶液(B)的制备)
向改性乙醇中添加离子交换水和硝酸水溶液(硝酸浓度：61质量％)的混合液，并搅拌5分钟。向其中添加作为二氧化硅前体(A)的1,6-双(三甲氧基甲硅烷基)己烷(信越化学工业公司制造、KBM-3066)，并在水浴中在60℃下搅拌15分钟，从而制备出硅烷化合物溶液(B)。
(涂布液(C)的制备)
将上述基液(A)与上述硅烷化合物溶液(B)混合，从而制备出涂布液(C)。
(基液(D)的制备)
添加改性乙醇、乙烯基三甲氧基硅烷和鳞片状二氧化硅粒子分散液(按照日本专利第4063464号公报中记载的方法制作的分散液、25℃下的粘度为0.100Pa·s)，并搅拌30分钟。向其中添加离子交换水和硝酸水溶液(硝酸浓度：61质量％)的混合液，并搅拌60分钟，从而制备出基液(D)。
(涂布液(C)的制备)
将基液(A)变更为上述基液(D)，除此以外进行与涂布液(C)的制备同样的操作，从而制备出涂布液(C)。
(涂布液(F)的制备)
将制备基液(A)时所使用的乙烯基三甲氧基硅烷变为SILICATE40，除此以外进行与涂布液(C)的制备同样的操作，从而制备出涂布液(F)。
(涂布液(G)的制备)
将乙烯基三甲氧基硅烷变为SILICATE 40，除此以外进行与基液(D)的制备同样的操作，从而制备出涂布液(G)。
(中空状SiO2微粒分散液(H)的制备)
在对乙醇59g进行搅拌的同时，添加ZnO微粒水分散液(固体成分浓度：20质量％、平均一次粒径：30nm)30g、四乙氧基硅烷(按SiO2换算固体成分含量：29质量％)10g，然后添加28质量％的氨水溶液1g，将分散液的pH调节为10，在20℃搅拌6小时，从而得到核壳型微粒分散液(固体成分浓度：6质量％)100g。
向所得到的核壳型微粒分散液中添加强酸性阳离子交换树脂(三菱化学公司制造、DIAION、总交换量：2.0mseq/mL以上)100g，搅拌1小时，pH变为4后，通过过滤而除去强酸性阳离子树脂，并对该分散液进行超滤，由此得到了按SiO2换算固体成分浓度为15质量％的中空状SiO2微粒分散液(H)。中空状SiO2微粒的外壳厚度为8nm，孔径为26nm，平均一次粒径为42nm。
(基质前体溶液(I))
作为基质前体溶液(I)，准备COLCOAT公司制造的Colcoat P(烷氧基硅烷的水解物的溶液、按SiO2换算固体成分浓度：2质量％、乙醇：4质量％、异丙醇：40质量％、正丁醇：50质量％、水：4质量％)。
[例1]
准备旭硝子公司制造的化学强化用特殊玻璃Dragontrail(注册商标)(尺寸：100mm×100mm、厚度：1.1mm、波长550nm下的透射率：91.4％、表面的算术平均粗糙度Ra：0.13nm(利用英弘精机制造的SPA400-AFM测定))作为基材。使用KNO3熔融盐在410℃下对该基材实施2.5小时化学强化处理。实施化学强化处理后的结果是，DOL(应力层深度，DepthOf Layer)为25μm、CS(压应力，Compressive Stress)为750MPa。将该化学强化处理后的基材作为例1的透光性结构体。
[例2]
(基材的预处理)
准备与例1中所使用的基材相同的基材，使用KNO3熔融盐在410℃下进行2.5小时化学强化处理。接着，进行如下所述的预处理：利用中性洗涤剂对其表面进行清洗，利用纯水进行清洗，并使其干燥。
(利用溅射法形成AR层)
将进行预处理后的基材设置于薄膜形成装置的基板支架上。
在向薄膜形成装置中引入氩气以使得氩气分压为0.3Pa、并引入氧气以使得氧气分压为0.3Pa的同时，使用Nb靶在输入功率为10kW的条件下进行溅射，从而在上述基材上形成厚度约13nm、折射率(n)2.36的高折射率层。接着，在引入氩气以使得氩气分压为0.29Pa、并引入氧气以使得氧气分压为0.27Pa的同时，使用Si靶在输入功率为10kW的条件下进行溅射，从而在上述高折射率层上形成厚度约35nm、折射率(n)1.47的低折射率层。
然后，在上述低折射率层上使用与上述高折射率层同样的材料通过同样的形成方法形成厚度约115nm的高折射率层，再在该高折射率层上使用与上述低折射率层同样的材料通过同样的形成方法形成厚度约89nm的低折射率层。由此，得到了基材与四层结构的AR层层叠而成的层叠体。将该层叠体作为例2的透光性结构体。
[例3]
(基材的预处理)
准备与例1中所使用的基材相同的基材，进行如下所述的预处理：利用碳酸氢钠水溶液对该基材的表面进行清洗，然后利用离子交换水进行冲洗，并使其干燥。
(静电涂装装置)
准备与图5所示的静电涂装装置10同样的构成的静电涂装装置(液体静电涂布机、Asahi Sanac公司制造)。作为静电涂装枪，准备旋转雾化式自动静电枪(Asahi Sanac公司制造、Sun Bell、ESA120、杯径70mm)。
为了更容易得到基材的接地，准备金属网状托盘作为导电性基板。
(静电涂装)
将静电涂装装置的涂布室内的温度调节到25±1℃的范围内，并将湿度调节到50％±10％的范围内。
将预先加热至30℃±3℃的预处理后的基材隔着导电性基板放置于静电涂装装置的链式输送机上。利用链式输送机进行恒速运送，同时通过基于表1所示的涂布条件(涂布液量、杯转速、喷嘴高度、杯径、电压、涂布次数)的静电涂装法将25±1℃的范围内的温度的涂布液(C)涂布于基材的T面(利用浮法制造时与熔融锡接触的面的相反侧的面)，然后，在大气中在450℃下烘烤30分钟，从而形成基底层。由此得到了基材与基底层层叠而成的层叠体。使用KNO3熔融盐在410℃下对该层叠体进行2.5小时化学强化处理，从而得到了例3的透光性结构体。
[例4]
与例3同样地，得到了基材与基底层层叠而成的层叠体。
使用KNO3熔融盐在410℃下对该层叠体进行了2.5小时化学强化处理。接着，进行如下预处理：利用中性洗涤剂对基底层的表面进行清洗，利用纯水进行清洗，并使其干燥。
接着，将进行了预处理的层叠体设置于薄膜形成装置的基板支架上，与例2同样地在基底层上形成AR层。由此，得到了基材、基底层与四层结构的AR层层叠而成的层叠体。将该层叠体作为例4的透光性结构体。
[例5]
与例3同样地，得到了基材与基底层层叠而成的层叠体。
与例4同样地，对该层叠体进行了化学强化处理和预处理。
(利用蒸镀法形成AR层)
接着，将进行了预处理的层叠体设置于薄膜形成装置的基板支架上。
进行抽真空，保持在以设定温度为约200℃进行基板加热的状态下，然后向薄膜形成装置中引入氩气和氧气，同时在约0.03Pa的压力下通过电子束蒸镀以约14nm的膜厚形成第一层的高折射率层的Ta2O5。此时，向成膜装置附带的离子源流通Ar和O2气体，施加1000V的电压、1000mA的电流，使氩离子、氧离子在基板上进行辅助的同时进行成膜。以下，对于第二～四层也同样地使氩离子、氧离子在基板上进行辅助的同时进行成膜。
接着，在约0.03Pa的压力下通过电子束蒸镀以约33nm的膜厚形成第二层的低折射率层的SiO2。然后，与第一层同样地，以约121nm的膜厚形成第三层的高折射率层的Ta2O5。接着，与第二层同样地，以约81nm的膜厚形成第四层的低折射率层的SiO2，从而得到蒸镀的AR层。由此，得到了基材、基底层与四层结构的AR层层叠而成的层叠体。
在此，进行了使用电子束且使离子进行辅助的方式的蒸镀，但是也可以是电阻加热蒸镀等其它方式、离子镀等其它方式的蒸镀。另外，在此以设定温度为约200℃进行基板加热，但是也可以为约100℃的低温或者不加热。但是，从膜的粘附性等观点出发，优选以设定温度为约150℃～约200℃预先进行基板加热。
[例6、8、11、14]
将静电涂装中使用的涂布液及涂布条件变更为如表1所示，除此以外与例3同样地，得到了基材与基底层层叠而得到的层叠体。使用KNO3熔融盐在410℃对所得到的层叠体进行2.5小时化学强化处理，从而得到各例6、8、11、14的透光性结构体。
[例7]
与例6同样地，得到了基材与基底层层叠而成的层叠体。
与例4同样地，对该层叠体进行了化学强化处理和预处理。
接着，将进行了预处理的层叠体设置于薄膜形成装置的基板支架上，与例2同样地在基底层上形成AR层。由此，得到了基材、基底层与四层结构的AR层层叠而成的层叠体。将该层叠体作为例7的透光性结构体。
[例9]
与例8同样地，得到了基材与基底层层叠而成的层叠体。
与例4同样地，对该层叠体进行了化学强化处理和预处理。
接着，将进行了预处理的层叠体设置于薄膜形成装置的基板支架上，与例2同样地在基底层上形成AR层。由此，得到了基材、基底层与四层结构的AR层层叠而成的层叠体。将该层叠体作为例9的透光性结构体。
[例10]
与例9同样地，使用KNO3熔融盐在410℃下对基材与基底层层叠而成的层叠体进行2.5小时化学强化处理，从而得到了基材、基底层与四层结构的AR层层叠而成的层叠体。
(AFP层的形成)
接着，从薄膜形成装置中取出该层叠体，利用电晕处理装置对上述AR层的表面进行清洁处理，然后利用喷涂装置在最外表面的低折射率层上将含氟拒油剂(旭硝子公司制造、商品名“Afluid(注册商标)S-550”)成膜，从而形成厚度约7nm的AFP层。AFP层的成膜后，在大气中在120℃进行20分钟热处理。由此，得到了基材、基底层、四层结构的AR层以及AFP层层叠而成的层叠体。将该层叠体作为例10的透光性结构体。
需要说明的是，在本实施例中使用了旭硝子公司制造的商品名“Afluid(注册商标)S-550”，但是并不特别地限定于该商品、材料，也可以使用大金公司制造的OPTOOL DSX等。
[例12]
与例11同样地，得到了基材与基底层层叠而成的层叠体。
与例4同样地，对该层叠体进行了化学强化处理和预处理。
接着，将进行了预处理的层叠体设置于薄膜形成装置的基板支架上，与例2同样地在基底层上形成AR层。由此，得到了基材、基底层与四层结构的AR层层叠而成的层叠体。将该层叠体作为例12的透光性结构体。
[例13]
与例11同样地，得到了基材与基底层层叠而得的层叠体。
与例4同样地，对该层叠体进行了化学强化处理和预处理。
(利用溅射法形成AR层)
将进行了预处理的层叠体设置于薄膜形成装置的基板支架上。
在向薄膜形成装置中引入氩气以使得氩气分压为0.3Pa、并引入氧气以使得氧气分压为0.3Pa的同时，使用Nb靶在输入功率为10kW的条件下进行溅射，从而在上述基材上形成厚度约13nm、折射率(n)2.36的高折射率层。接着，在引入氩气以使得氩气分压为0.29Pa、并引入氧气以使得氧气分压为0.27Pa的同时，使用Si靶在输入功率为10kW的条件下进行溅射，从而在上述高折射率层上形成厚度约38nm、折射率(n)1.47的低折射率层。
然后，使用与上述高折射率层、低折射率层同样的材料通过同样的形成方法在上述低折射率层上依次形成厚度约44nm的高折射率层、厚度约19nm的低折射率层、厚度约37nm的高折射率层、厚度约97nm的低折射率层。由此，得到了基材、基底层与六层结构的AR层层叠而成的层叠体。将该层叠体作为例13的透光性结构体。
[例15]
在对乙醇82.4g进行搅拌的同时，向其中添加中空状SiO2微粒分散液(H)9.6g和基质前体溶液(I)8.0g，从而制备出固体成分浓度为2.0质量％的上层涂布液。
另外，在与后述的上层形成条件相同的条件下在玻璃板(折射率ns：1.53)的表面上涂布上层涂布液并进行烘烤而形成单层膜，并求出折射率、膜厚。其结果是上述单层膜的折射率为1.24、膜厚为108nm。
与例14同样地，得到了基材与基底层层叠而成的层叠体。
利用预热炉将该层叠体进行预热，然后通过旋涂(500rpm、20秒)将上述上层涂布液涂布于基底层上。然后，在650℃烘烤10分钟从而形成AR层。由此，得到了基材、基底层与AR层层叠而成的层叠体。将该层叠体作为例15的透光性结构体。
对于所得到的透光性结构体，进行上述评价。将结果示于表2中。
另外，图14～16中分别示出从斜上方60度观察例8～10中得到的透光性结构体的可视侧的最外表面而得到的SEM图像。SEM图像使用日立High-Tech Fielding公司制造的扫描型电子显微镜S-3400N以600倍的倍数进行拍摄。
Figure BDA0001584500640000671
Figure BDA0001584500640000681
如上述结果所示，例4～5、7、9～10、12～13、15的透光性结构体的Y值为3％以下，具有优良的减反射性。另外，雾度为0.3％以上，具有防眩性。特别是，例7、9～10、12～13、15的防眩性优良。另外，闪光指标S小于100，实用上充分地抑制了闪光。在最外层设置有AFP层的例10的透光性结构体的手指滑动性也优良。
另一方面，不具备AR层且在最外表面不具有凹凸结构的例1的透光性结构体的Y值最高。虽然具备AR层但是在最外表面不具有凹凸结构的例2的透光性结构体的雾度小，防眩性差。不具备AR层且最外表面的凹凸结构不包含第二凸部的例3的透光性结构体的防眩性和减反射性差。不具备AR层的例6、8、11、14的透光性结构体的减反射性差。
本申请基于2015年8月31日提出的日本专利申请：日本特愿2015-170874，其内容作为参考并入本申请中。
产业实用性
对于本发明的透光性结构体而言，在透光性基材的可视侧具备AR层，在可视侧的最外表面具有包含第一凸部和第二凸部且第二凸部的数量为0.0001～1.2个/1μm2的凹凸结构，因此防眩性和减反射性优良、并且充分地抑制了闪光。
因此，例如在图像显示装置的显示面配置本发明的透光性结构体时，抑制了外部光的反射本身，能够抑制由于外部光映射到显示面而引起的图像的可视性的降低。另外，外部光被最外表面的凹凸结构漫反射，反射图像变得不清晰，从这一点出发，也能够抑制由于外部光映射到显示面而引起的图像的可视性的降低。此外，在凹凸结构的表面不容易产生闪光，能够抑制因闪光引起的图像的可视性的降低。
本发明的透光性结构体能够用于上述列举的多种用途中。特别是，从能够以高水准实现防眩性、减反射性和低闪光性的观点出发，能够适合用于输送机的内部部件、尤其是车载物品。
附图标记
1、2、6 透光性结构体
3、4 透光性基材
5 基底层
7 减反射(AR)层
8 透光性结构体
9 拒水拒油(AFP)层
4a、5a、7a、9a 第一凸部
4b、5b、7b、9b 第二凸部
10 静电涂装装置
11 涂布室
12 链式输送机
13 高压电缆
14 涂料组合物的供给管线
15 涂料组合物的回收管线
16a、16b 空气供给管线
17 静电涂装枪
18 高电压产生装置
19 废气管道
20 废气箱
21 导电性基板
30 枪主体
31 涂料供给管
32 旋转轴
33 出风口
35 空气供给路径
40 旋转雾化头
41 第一部件
42 第二部件
43 轴安装部
44 保持部
45 周壁
46 引导面
47 扩径部
48 扩散面
49 前壁
50 流出孔
51 筒状部
52 后壁
53 通孔
S 储存室

Claims (12)

1.一种透光性结构体，其具备透光性基材和设置在所述透光性基材的可视侧的减反射层，由此所述透光性结构体的通过SCI方式测定的反射率为3%以下，
所述透光性结构体的可视侧的最外表面具有下述凹凸结构，
凹凸结构：包含通过利用激光显微镜对(101μm×135μm)～(111μm×148μm)的区域进行测定而得到的表面形状的承载部高度+0.05μm的高度处的截面中的按正圆换算的直径大于10μm的第一凸部、和所述表面形状的承载部高度+0.5μm的高度处的截面中的按正圆换算的直径大于1μm的第二凸部，
所述表面形状的承载部高度+0.05μm的高度处的截面中的所述第一凸部的按正圆换算的平均直径大于10μm且小于等于185μm，
所述第一凸部的以所述区域内最低部分的高度作为基准时的最大高度为0.2μm～8μm，
所述第二凸部的数量为0.0001～1.2个/1μm2，所述第二凸部的以所述承载部高度作为基准时的平均高度为0.1μm～8μm，并且
所述减反射层选自：
(1)折射率相对较低的低折射率层与折射率相对较高的高折射率层交替层叠而得到的多层结构的AR层；或
(2)由折射率低于所述透光性基材的低折射率层构成的AR层，在所述透光性基材为玻璃的情况下，该低折射率层的折射率为1.1～1.5。
2.如权利要求1所述的透光性结构体，其中，在最靠近可视侧之处存在所述减反射层。
3.如权利要求1所述的透光性结构体，其中，
所述透光性结构体还具备拒水拒油层，
在最靠近可视侧之处存在所述拒水拒油层，在紧接其下方存在所述减反射层。
4.如权利要求1～3中任一项所述的透光性结构体，其中，
在所述透光性基材与所述减反射层之间还具备基底层，
所述基底层的所述减反射层侧的表面具有所述凹凸结构。
5.如权利要求1～3中任一项所述的透光性结构体，其中，所述透光性基材的可视侧的表面具有所述凹凸结构。
6.如权利要求1～3中任一项所述的透光性结构体，其中，所述透光性基材为玻璃板。
7.如权利要求1～3中任一项所述的透光性结构体，其中，所述透光性基材具有曲面。
8.如权利要求1～3中任一项所述的透光性结构体，其中，所述透光性结构体的雾度大于10%且小于等于70%。
9.如权利要求1～3中任一项所述的透光性结构体，其用于车载物品。
10.一种透光性结构体的制造方法，其为权利要求4所述的透光性结构体的制造方法，其特征在于，
所述制造方法具有以下工序：
在透光性基材上涂布涂料组合物而形成涂膜并对所述涂膜进行烘烤由此形成基底层的工序、和
在所述基底层上形成减反射层的工序，
所述涂料组合物含有二氧化硅前体(A)和粒子(C)中的至少一者以及液态介质(B)，并且所述液态介质(B)含有相对于所述液态介质(B)的总量为86质量%以上的沸点150℃以下的液态介质(B1)，
所述涂料组合物的涂布通过使用具备静电涂装枪的静电涂装装置使所述涂料组合物带电并将其喷雾来进行，所述静电涂装枪具备旋转雾化头，并且
所述减反射层选自：
(1)折射率相对较低的低折射率层与折射率相对较高的高折射率层交替层叠而得到的多层结构的AR层；或
(2)由折射率低于所述透光性基材的低折射率层构成的AR层，在所述透光性基材为玻璃的情况下，该低折射率层的折射率为1.1～1.5。
11.如权利要求10所述的透光性结构体的制造方法，其中，所述涂料组合物的涂布温度下的粘度为0.003Pa・s以下。
12.一种物品，其具备权利要求1～9中任一项所述的透光性结构体。
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