JP6747445B2 - 透光性構造体、その製造方法および物品 - Google Patents

Description

本発明は、透光性構造体、その製造方法および物品に関する。

各種機器（たとえば、テレビ、パーソナルコンピュータ、スマートフォン、携帯電話、車両等）に備え付けられた画像表示装置（たとえば、液晶ディスプレイ、有機ＥＬディスプレイ、プラズマディスプレイ等）においては、室内照明（蛍光灯等）、太陽光等の外光が表示面に映り込むと、反射像によって視認性が低下する。

視認性を高めるために、画像表示装置の表示面に反射防止処理や防眩（アンチグレア）処理を施すことが提案されている。反射防止処理では、表示面に反射防止層を形成し、外光の反射自体を抑える。防眩処理では、表示面に凹凸を形成し、外光を拡散反射させることで、反射像を不鮮明にする。凹凸の形成方法としては、表示面をエッチングする方法、凹凸を表面に有する防眩層を表示面に形成する方法等がある。防眩層の形成方法としては、アルコキシシランの加水分解縮合物等のシリカ前駆体を含む塗布液をスプレー法にて基材上に塗布し、焼成する方法が知られている（例えば特許文献１）。

特許文献２では、表層に凹凸構造を有するアンチグレア層が設けられた基材と、前記アンチグレア層の上に設けられた反射防止層とを備える防眩・反射防止部材が提案されている。この防眩・反射防止部材にあっては、アンチグレアの上に反射防止層が配されているため、アンチグレア層における反射率が低減され、アンチグレア層によって乱反射された光の光量を低減することができ、より優れた防眩特性を得ることができるとされている。

しかし、表示面に防眩処理が施されている場合、表示面への外光の映り込みは抑制されるが、表示面でぎらつきが発生し、それによって画像の視認性が低下する問題がある。このぎらつきは、防眩性が高いほど強い傾向がある。たとえばスプレー法により防眩層を形成する場合、塗布液を塗り重ねると、ヘイズが高くなり防眩性は高まるが、ぎらつきが強くなる。特許文献２に記載の防眩・反射防止部材においても同様の問題がある。

特許文献３では、画像のぎらつきの抑制等のために、基材上に複数の凸部を分離配置することが提案されている。該凸部は、台地状または略円形盆地型に少なくとも一つ以上の縁を持つ形状で、基材と密着する部位の大きさが５０〜２５０μｍとされている。
しかし、特許文献３ではヘイズを１０％以下にしており、防眩性が不充分である。

日本国特開２００９−０５８６４０号公報 国際公開第２０１４／０３４７２０号 日本国特開２０１３−２１４０５９号公報

本発明は、防眩性および反射防止性に優れ、かつぎらつきが充分に抑制された透光性構造体およびこれを備える物品を提供することを目的とする。
また、本発明は、防眩性および反射防止性に優れ、かつぎらつきが充分に抑制された透光性構造体を製造できる製造方法を提供することを他の目的とする。

本発明は、以下の態様を有する。
（１）透光性基材と、前記透光性基材の視認側に設けられた反射防止層とを備えることによりＳＣＩ方式での反射率が、３％以下であり、
視認側の最表面が以下の凹凸構造を有する透光性構造体。
凹凸構造：レーザ顕微鏡で（１０１μｍ×１３５μｍ）〜（１１１μｍ×１４８μｍ）の領域を測定して得られる表面形状のベアリング高さ＋０．０５μｍの高さでの断面における直径（真円換算）が１０μｍ超である第一の凸部と、前記表面形状のベアリング高さ＋０．５μｍの高さでの断面における直径（真円換算）が１μｍ超である第二の凸部とを含み、
前記表面形状のベアリング高さ＋０．０５μｍの高さでの断面における前記第一の凸部の平均直径（真円換算）が１０μｍ超１８５μｍ以下であり、
前記第一の凸部の、前記領域内で最も低い部分の高さを基準とした最大高さが０．２〜８μｍであり、
前記第二の凸部の数が、１μｍ^２あたり０．０００１〜１．２個であり、前記第二の凸部の、前記ベアリング高さを基準とした平均高さが０．１〜８μｍである。
すなわち、視認側の最表面が（Ａ）第一の凸部と（Ｂ）第二の凸部の凹凸構造を有する、少なくとも反射防止層を備えた透光性構造体であって、
前記（Ａ）第一の凸部は、レーザ顕微鏡により測定される（１０１μｍ×１３５μｍ）〜（１１１μｍ×１４８μｍ）の領域内で、表面形状のベアリング高さ＋０．０５μｍの高さでの断面における直径（真円換算）が１０μｍ超１８５μｍ以下であり、前記領域内で最も低い部分の高さを基準とした最大高さが０．２〜８μｍであり、
前記（Ｂ）第二の凸部は、前記領域内で表面形状のベアリング高さ＋０．５μｍの高さでの断面における直径（真円換算）が１μｍ超であり、前記領域内で１μｍ^２あたりの数が０．０００１〜１．２個であり、平均高さが前記ベアリング高さを基準として０．１〜８μｍである。
（２）最も視認側に前記反射防止層が存在する（１）に記載の透光性構造体。
（３）撥水撥油層をさらに備え、
最も視認側に前記撥水撥油層が存在し、その直下に前記反射防止層が存在する（１）に記載の透光性構造体。
（４）前記透光性基材と前記反射防止層との間に下地層をさらに備え、
前記下地層の前記反射防止層側の表面が前記凹凸構造を有する（１）〜（３）のいずれか一項に記載の透光性構造体。
（５）前記透光性基材の視認側の表面が前記凹凸構造を有する（１）〜（３）のいずれか一項に記載の透光性構造体。
（６）前記透光性基材がガラス板である（１）〜（５）のいずれか一項に記載の透光性構造体。
（７）前記透光性基材が曲面を有する（１）〜（６）のいずれか一項に記載の透光性構造体。
（８）ヘイズが１０％超７０％以下である（１）〜（７）のいずれか一項に記載の透光性構造体。
（９）車載物品用である（１）〜（８）のいずれか一項に記載の透光性構造体。
（１０）（４）に記載の透光性構造体の製造方法であって、
透光性基材上に塗料組成物を塗布して塗膜を形成し、前記塗膜を焼成することにより下地層を形成する工程と、
前記下地層上に反射防止層を形成する工程と、
を有し、
前記塗料組成物が、シリカ前駆体（Ａ）および粒子（Ｃ）の少なくとも一方と、液状媒体（Ｂ）とを含み、かつ前記液状媒体（Ｂ）が、沸点１５０℃以下の液状媒体（Ｂ１）を、前記液状媒体（Ｂ）の全量に対して８６質量％以上含み、
前記塗料組成物の塗布が、回転霧化頭を備える静電塗装ガンを備える静電塗装装置を用いて前記塗料組成物を帯電させ噴霧することにより行われることを特徴とする透光性構造体の製造方法。
（１１）前記塗料組成物の塗布温度における粘度が、０．００３Ｐａ・ｓ以下である、（１０）に記載の透光性構造体の製造方法。
（１２）（１）〜（９）のいずれか一項に記載の透光性構造体を備える物品。

本発明の透光性構造体は、防眩性および反射防止性に優れ、かつぎらつきが充分に抑制されたものである。
本発明の透光性構造体の製造方法によれば、防眩性および反射防止性に優れ、かつぎらつきが充分に抑制された透光性構造体を製造できる。
本発明の物品が備える透光性構造体は、防眩性および反射防止性に優れ、かつぎらつきが充分に抑制されたものである。

図１は、本発明の透光性構造体の第一実施形態を示す断面模式図である。 図２は、第一実施形態の透光性構造体の表面形状を示す断面模式図である。 図３は、第一実施形態の透光性構造体の下地層の表面形状におけるベアリング高さ＋０．０５μｍの高さを説明する断面模式図である。 図４は、第一実施形態の透光性構造体の下地層の表面形状におけるベアリング高さ＋０．５μｍの高さを説明する断面模式図である。 図５は、静電塗装装置の一例を示す概略図である。 図６は、図５の静電塗装装置が備える静電塗装ガン１７の断面模式図である。 図７は、図６の静電塗装ガン１７を前方から見た正面模式図である。 図８は、本発明の透光性構造体の第二実施形態を示す模式断面図である。 図９は、第二実施形態の透光性構造体の表面形状を示す断面模式図である。 図１０は、本発明の透光性構造体の第三実施形態を示す模式断面図である。 図１１は、第三実施形態の透光性構造体の表面形状を示す断面模式図である。 図１２は、本発明の透光性構造体の第四実施形態を示す模式断面図である。 図１３は、第四実施形態の透光性構造体の表面形状を示す断面模式図である。 図１４は、［実施例］中の例８で得た透光性構造体の視認側の最表面を斜め上方６０度から観察した走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）像である。 図１５は、［実施例］中の例９で得た透光性構造体の視認側の最表面を斜め上方６０度から観察した走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）像である。 図１６は、［実施例］中の例１０で得た透光性構造体の視認側の最表面を斜め上方６０度から観察した走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）像である。

以下の用語の定義は、本明細書および特許請求の範囲にわたって適用される。
「透光性」とは、可視光を透過可能であることを意味する。
「反射防止性」とは、反射率を低減する特性を意味する。反射率の測定方式としては、ＳＣＩ（正反射光を含む）方式およびＳＣＥ（正反射光を含まない）方式のいずれかであればよい。
「ベアリング高さ」は、レーザ顕微鏡で（１０１μｍ×１３５μｍ）〜（１１１μｍ×１４８μｍ）の領域（以下、「観察領域」ともいう。）を測定して得られる、観察領域の表面形状のｘｙｚデータから求められる高さ分布ヒストグラムにて、最も優勢な高さｚの値である。ｘｙｚデータにおける高さｚは、観察領域の最低点を基準とした高さ（高さｚを測定する位置から、観察領域における透光性構造体の主面に平行な平面であって最低点を含む平面に下した垂線の長さ）であり、以下において特に基準を規定しない場合の表面形状における高さの意味も同様である。ベアリング高さ算出時のヒストグラムの刻み（ｂｉｎ）は１０００に設定した。
「シリカを主成分とする」とは、ＳｉＯ_２を９０質量％以上含むことを意味する。
「シリカ前駆体」とは、焼成することによってシリカを主成分とするマトリックスを形成し得る物質を意味する。
「ケイ素原子に結合した加水分解性基」とは、加水分解によって、ケイ素原子に結合したＯＨ基に変換し得る基を意味する。
「鱗片状粒子」とは、扁平な形状を有する粒子を意味する。粒子の形状は、透過型電子顕微鏡（以下、ＴＥＭとも記す。）を用いて確認できる。
「平均粒子径」は、体積基準で求めた粒度分布の全体積を１００％とした累積体積分布曲線において５０％となる点の粒子径、すなわち体積基準累積５０％径（Ｄ５０）を意味する。粒度分布は、レーザ回折／散乱式粒子径分布測定装置で測定した頻度分布および累積体積分布曲線で求められる。
「アスペクト比」は、粒子の厚さに対する最長長さの比（最長長さ／厚さ）を意味し、「平均アスペクト比」は、無作為に選択された５０個の粒子のアスペクト比の平均値である。粒子の厚さは原子間力顕微鏡（以下、ＡＦＭとも記す。）によって測定され、最長長さは、ＴＥＭによって測定される。
本明細書において数値範囲を示す「〜」とは、その前後に記載された数値を下限値および上限値として含む意味で使用され、特段の定めがない限り、以下本明細書において「〜」は同様の意味をもって使用される。

≪透光性構造体≫
｛第一実施形態｝
図１は、本発明の透光性構造体の第一実施形態を示す断面模式図である。図２は、本実施形態の透光性構造体の表面形状を示す断面模式図である。
本実施形態の透光性構造体１は、透光性基材３と、透光性基材３の第一の表面３Ａ上に形成された下地層５と、下地層５上に形成された反射防止層（以下、「ＡＲ層」ともいう。）７とを備える。
透光性基材３は、第一の表面３Ａ側が視認側である。下地層５およびＡＲ層７はそれぞれ、表面に凹凸構造を有する。ＡＲ層７は、透光性構造体１の最も視認側に存在している。そのため、ＡＲ層７の表面は、透光性構造体１の視認側の最表面である。

（透光性基材）
透光性基材３としては、可視光を透過可能なものであればよく、透明であるものが好ましい。透光性基材３における透明とは、４００〜１１００ｎｍの波長領域の光を平均して８０％以上透過する（すなわち、平均透過率が８０％以上である）ことを意味する。４００〜１１００ｎｍの波長領域の光の平均透過率は、分光光度計を用いて測定される。

透光性基材３の材料としては、たとえばガラス、樹脂等が挙げられる。
ガラスとしては、たとえばソーダライムガラス、ホウケイ酸ガラス、アルミノシリケートガラス、無アルカリガラス等が挙げられる。
樹脂としては、たとえばポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、トリアセチルセルロース、ポリメタクリル酸メチル等が挙げられる。

透光性基材３の形態としては、たとえば板、フィルム等が挙げられる。
透光性基材３の第一の表面３Ａは、平滑であってもよく、凹凸を有してもよい。下地層５を設けることの有用性の点では、平滑であることが好ましい。第一の表面３Ａの算術平均粗さＲａは、１０ｎｍ以下であることが好ましく、５ｎｍ以下がより好ましく、２ｎｍ以下がさらに好ましく、１ｎｍ以下が特に好ましい。ここで言うＲａは、英弘精機株式会社製走査型プローブ顕微鏡多機能ユニットＳＰＡ−４００の原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）モードで測定した値である。
透光性基材３の形状は、図示するような平坦な形状のみでなく、曲面を有する形状であってもよい。最近では、画像表示装置を備える各種機器（テレビ、パーソナルコンピュータ、スマートフォン、カーナビゲーション等）において、画像表示装置の表示面が曲面とされたものが登場している。透光性基材３が曲面を有する形状である透光性構造体１は、このような画像表示装置用として有用である。
透光性基材３が曲面を有する場合、透光性基材３の表面は、全体が曲面で構成されてもよく、曲面である部分と平坦である部分とから構成されてもよい。表面全体が曲面で構成される場合の例として、たとえば、透光性基材の断面が円弧状である場合が挙げられる。
なお、ここでの曲面は、レーザ顕微鏡で観察される観察領域では無視できる程度のマクロ的な曲面である。

透光性基材３が曲面を有する場合、該曲面の曲率半径（以下、「Ｒ」ともいう。）は、透光性構造体１の用途、透光性基材３の種類等に応じて適宜設定でき、特に限定されないが、２５０００ｍｍ以下であることが好ましく、１０〜５０００ｍｍがより好ましく、５０〜３０００ｍｍが特に好ましい。Ｒが前記の上限値以下であれば、平板に比較し、意匠性に優れる。Ｒが前記の下限値以上であれば、曲面表面へも均一に下地層を形成できる。

透光性基材３としては、ガラス板が好ましい。
ガラス板は、フロート法、フュージョン法、ダウンドロー法等により成形された平滑なガラス板であってもよく、ロールアウト法等で形成された表面に凹凸を有する型板ガラスであってもよい。また、平坦な形状のガラス板のみでなく、曲面を有する形状のガラス板でもよい。ガラス板が曲面を有する場合、該曲面の好ましい曲率半径は前記と同様である。
ガラス板の厚みは特に限定されない。たとえば厚み１０ｍｍ以下のガラス板を使用できる。厚みが薄いほど光の吸収を低く抑えられるため、透過率向上を目的とする用途にとって好ましい。また、厚みが薄いほど透光性構造体１の軽量化に寄与する。

ガラス板は、強化ガラス板であることが好ましい。強化ガラス板は、強化処理が施されたガラス板である。強化処理により、ガラスの強度が向上し、たとえば強度を維持しながら板厚みを削減することが可能となる。
ただし本発明においては、強化ガラス板以外のガラス板も使用でき、透光性構造体１の用途等に応じて適宜設定できる。

強化処理としては、ガラス板表面に圧縮応力層を形成させる処理が一般的に知られている。ガラス板表面の圧縮応力層が、傷や衝撃に対するガラス板の強度を向上させる。ガラス板表面に圧縮応力層を形成させる手法としては、風冷強化法（物理強化法）と、化学強化法とが代表的である。
風冷強化法では、ガラスの軟化点温度付近（例えば６００〜７００℃）まで加熱したガラス板表面を風冷等により急冷する。これにより、ガラス板の表面と内部との間に温度差が生じ、ガラス板表層に圧縮応力が生じる。
化学強化法では、ガラスの歪点温度以下の温度でガラス板を溶融塩に浸漬して、ガラス板表層のイオン（例えばナトリウムイオン）を、より大きなイオン半径のイオン（例えばカリウムイオン）へと交換する。これにより、ガラス板表層に圧縮応力が生じる。

ガラス板の厚みが薄く（たとえば２ｍｍ未満）なると、風冷強化法では、ガラス板内部と表層との間に温度差が生じにくいことから、ガラス板を充分に強化することができないため、化学強化法が好ましく用いられる。
化学強化処理が施されるガラス板は、化学強化可能な組成を有するものである限り特に限定されず、種々の組成のものを使用することができ、例えばソーダライムガラス、アルミノシリケートガラス、ボレートガラス、リチウムアルミノシリケートガラス、ホウ珪酸ガラス、その他の各種ガラスが挙げられる。化学強化しやすい点では、ガラス組成として、酸化物基準のモル百分率表示で、ＳｉＯ_２を５６〜７５％、Ａｌ_２Ｏ_３を１〜２０％、Ｎａ_２Ｏを８〜２２％、Ｋ_２Ｏを０〜１０％、ＭｇＯを０〜１４％、ＺｒＯ_２を０〜５％、ＣａＯを０〜１０％含有することが好ましい。これらの中では、アルミノシリケートガラスが好ましい。
化学強化処理が施されるガラス板の板厚みは、０．４〜３ｍｍが好ましく、０．５〜２．５ｍｍが特に好ましい。化学強化ガラス板の板厚みが前記範囲の上限値以下であれば、透光性構造体１が軽量で、前記範囲の下限値以上であれば、透光性構造体１が強度に優れる。
尚、化学強化される前後で板厚みに変化は無い。すなわち、化学強化処理が施されるガラス板の板厚みは、化学強化ガラス板（化学強化処理が施された後のガラス板）の板厚みである。
以上のガラスの物理強化処理及び化学強化処理は、ガラス板表面に下地層を形成する前に行ってもよく、形成した後に行ってもよい。

透光性基材３は、透光性基材本体の表面に機能層を有するものであってもよい。
透光性基材本体は、前記で透光性基材３として挙げたものと同様である。
機能層としては、アンダーコート層、密着改善層、保護層等が挙げられる。
アンダーコート層は、アルカリバリア層やワイドバンドの低屈折率層としての機能を有する。アンダーコート層としては、アルコキシシランの加水分解物（ゾルゲルシリカ）を含むアンダーコート用塗料組成物を透光性基材本体に塗布することによって形成される層が好ましい。

（下地層）
下地層５は、ＡＲ層７側の表面に凹凸構造を有する。
図３は、下地層５の表面形状におけるベアリング高さ＋０．０５μｍの高さを説明する断面模式図である。図４は、図３におけるベアリング高さ＋０．０５μｍの高さに換えてベアリング高さ＋０．５μｍの高さを説明する断面模式図である。
下地層５の表面の凹凸構造は、第一の凸部５ａと、第二の凸部５ｂとを含む。下地層５には局所的に、第一の凸部５ａおよび第二の凸部５ｂが存在せず、透光性基材３が露出している部分があってもよい。

第一の凸部５ａは、レーザ顕微鏡で観察領域を測定して得られる表面形状のベアリング高さｈ_１＋０．０５μｍの高さｈ_２での断面における直径（真円換算）が１０μｍ超である凸部である。すなわち、前記表面形状の高さｈ_２での断面において切断面が観察される凸部であって、該切断面の面積から算出される直径（真円換算）が１０μｍ超のものである。
第二の凸部５ｂは、前記表面形状のベアリング高さｈ_１＋０．５μｍの高さｈ_３での断面における直径（真円換算）が１μｍ超（好ましくは１μｍ超２０μｍ以下）である凸部である。すなわち、前記表面形状の高さｈ_３での断面において切断面が観察される凸部であって、該切断面の面積から算出される直径（真円換算）が１μｍ超のものである。
観察領域は、（１０１μｍ〜１１１μｍ）×（１３５μｍ〜１４８μｍ）の範囲内である。つまり観察領域は、最小で１０１μｍ×１３５μｍ、最大で１１１μｍ×１４８μｍである。また、縦×横の比率は通常、約１．２１〜１．４６の範囲内とされている。
ここで、観察領域を範囲で記載したのは、同じ倍率の対物レンズを用いても、レンズの個体差により観察領域が異なるためである。測定結果は観察領域内の最大、最小、および平均値で表されるため、わずかに観察領域が異なっても、同じ倍率の対物レンズを選定すれば、結果にはほとんど違いは無い。

前記凹凸構造において、前記表面形状のベアリング高さｈ_１＋０．０５μｍの高さでの断面における第一の凸部５ａの平均直径（真円換算）は、１０μｍ超１８５μｍ以下であり、１０μｍ超１８２μｍ以下が好ましく、１０μｍ超１４３μｍ以下がより好ましく、１０μｍ超１４０μｍ以下がさらに好ましく、２０μｍ超１３５μｍ以下が特に好ましい。第一の凸部５ａの前記平均直径が前記範囲内であれば、外光を拡散反射させる効果が高く、防眩性が優れる。

前記凹凸構造中の第一の凸部５ａの最大高さは、０．２〜８μｍであり、０．２〜７μｍが好ましく、０．２〜５μｍがより好ましく、０．７〜５μｍがさらに好ましく、１．０〜４μｍが特に好ましい。第一の凸部５ａの最大高さが前記範囲の下限値以上であれば、外光を拡散反射させる効果がより高い。通常、第一の凸部５ａの最大高さが前記の範囲内で高いほど防眩性が優れる。

前記最大高さは、前記領域内で最も低い部分の高さを基準とした値である。すなわち、下記のｈ_ｐ−ｈ_ｖにより求められる値（以下、「Ｐ ｔｏ Ｖ」ともいう。）である。
ｈ_ｖ：レーザ顕微鏡で測定する領域内で最も低い部分の高さ。
ｈ_ｐ：前記表面形状を、高さｈ_ｖにて、透光性基材３の表面から得られたレーザ顕微鏡データを３次多項式面フィット法を用いて傾き補正した面と平行な面で切断した断面を基準面とし、該断面の高さを高くしていったときに、最初に直径（真円換算）１０μｍ超の凸部の切断面が観察されなくなる断面の高さ。

前記凹凸構造において、前記表面形状のベアリング高さｈ_１＋０．５μｍの高さでの断面における第二の凸部５ｂの平均直径（真円換算）は、１μｍ超が好ましく、１μｍ超２０μｍがより好ましく、１μｍ超１０μｍ以下が特に好ましい。第二の凸部５ｂの前記平均直径が前記範囲内であれば、第二の凸部の密度が増大するに従ってぎらつきがより抑制される。

前記凹凸構造中の第二の凸部５ｂの平均高さは、０．１〜８μｍであり、０．５〜８μｍが好ましく、１〜８μｍがより好ましく、１．５〜５μｍがさらに好ましく、１．７〜４μｍが特に好ましい。第二の凸部５ｂの平均高さが前記範囲の下限値以上であれば、ぎらつきを抑制する効果に優れる。第二の凸部５ｂの平均高さが前記範囲の上限値以下であれば、下地層５が耐摩耗性等の耐久性に優れる。
前記平均高さは、前記表面形状におけるベアリング高さｈ_１を基準とした値である。すなわち、前記領域内の個々の第二の凸部５ｂについて、ベアリング高さｈ_１を高さ０とした高さを測定し、それらを平均した値である。

前記凹凸構造中の第二の凸部５ｂの数は、１μｍ^２あたり０．０００１〜１．２個であり、０．０００４〜１．２個が好ましく、０．０００６〜１．２個がより好ましく、０．０００６〜０．５個がさらに好ましく、０．０００８〜０．１個が特に好ましく、０．００１〜０．０５個が最も好ましい。１μｍ^２あたりの第二の凸部５ｂの数（第二の凸部５ｂの密度）が前記範囲の下限値以上かつ上限値以下であれば、ぎらつきを充分に抑制できる。当該数が前記の範囲内で大きい方が、第一の凸部５ａで屈折された光同志の干渉を阻害しやすく、ぎらつきを抑制する効果が大きくなる。

前記レーザ顕微鏡で測定される領域は、透光性構造体１の下地層５側の表面から無作為に選択される。
ベアリング高さｈ_１、ベアリング高さｈ_１＋０．０５μｍの高さｈ_３での断面、ベアリング高さｈ_１＋０．５μｍの高さｈ_３での断面それぞれにおける凸部の切断面の直径（真円換算）、第一の凸部５ａの最大高さ（Ｐ ｔｏ Ｖ）、第二の凸部５ｂの平均高さ、第二の凸部５ｂの数はそれぞれ、レーザ顕微鏡で測定した表面形状のデータを画像処理ソフトウェア（イメージメトロロジー社製「ＳＰＩＰ」）で解析することにより求められる。詳しい解析方法は後述の実施例に示すとおりである。

屈折率：
下地層５の屈折率は、１．３６〜１．４６であることが好ましく、１．４０〜１．４６であることがより好ましく、１．４３〜１．４６が特に好ましい。下地層５の屈折率が前記範囲の上限値以下であれば、下地層５の表面での外光の反射率が低くなり、防眩効果がより優れる。下地層５の屈折率が前記範囲の下限値以上であれば、下地層５の緻密性が充分に高く、ガラス板等の透光性基材３との密着性に優れる。

下地層５の屈折率は、下地層５のマトリクスの材質、下地層５の空隙率、マトリクス中への任意の屈折率を有する物質の添加等によって調整できる。たとえば、下地層５の空隙率を高くすることにより屈折率を低くすることができる。また、マトリクス中に屈折率の低い物質（中実シリカ粒子、中空シリカ粒子等）を添加することで、下地層５の屈折率を低くすることができる。

下地層５（第一の凸部５ａ、第二の凸部５ｂ等）の材質は、屈折率等を考慮して適宜設定できる。下地層５の屈折率が１．４０〜１．４６である場合の下地層５の材質としては、シリカ、チタニア等が挙げられる。
下地層５は、シリカを主成分とすることが好ましい。シリカを主成分とすれば、下地層５の屈折率（反射率）が低くなりやすい。また、下地層５の化学的安定性等も良好である。また、透光性基材３の材質がガラスの場合、透光性基材３との密着性が良好である。
シリカを主成分とする場合、下地層５は、シリカのみから構成されてもよく、シリカ以外の成分を少量含んでもよい。該成分としては、Ｌｉ，Ｂ，Ｃ，Ｎ，Ｆ，Ｎａ，Ｍｇ，Ａｌ，Ｐ，Ｓ，Ｋ，Ｃａ，Ｔｉ，Ｖ，Ｃｒ，Ｍｎ，Ｆｅ，Ｃｏ，Ｎｉ，Ｃｕ，Ｚｎ，Ｇａ，Ｓｒ，Ｙ，Ｚｒ，Ｎｂ，Ｒｕ，Ｐｄ，Ａｇ，Ｉｎ，Ｓｎ，Ｈｆ，Ｔａ，Ｗ，Ｐｔ，Ａｕ，Ｂｉおよびランタノイド元素より選ばれる１つもしくは複数のイオンおよびまたは酸化物等の化合物が挙げられる。

下地層５としては、たとえば、シリカ前駆体（Ａ）および粒子（Ｃ）の少なくとも一方と、液状媒体（Ｂ）とを含む塗料組成物から形成されたものが挙げられる。該塗料組成物は、必要に応じて、シリカ前駆体（Ａ）以外の他のバインダ（Ｄ）、その他の添加剤（Ｅ）等を含んでいてもよい。
塗料組成物がシリカ前駆体（Ａ）を含む場合、下地層５のマトリックスは、シリカ前駆体（Ａ）に由来する、シリカを主成分とするものである。下地層５は、粒子（Ｃ）から構成されてもよい。この場合、粒子（Ｃ）は、シリカ粒子が好ましい。下地層５は、前記マトリックス中に粒子（Ｃ）が分散したものであってもよい。
該塗料組成物を用いた下地層５の形成方法については後で詳しく説明する。

シリカを主成分とする下地層としては、前記シリカ前駆体（Ａ）を含む塗布組成物から形成されるもの、前記粒子（Ｃ）としてシリカ粒子を含む塗布組成物から形成されるもの、前記シリカ前駆体（Ａ）および前記粒子（Ｃ）としてシリカ粒子を含む塗布組成物から形成されるもの等が挙げられる。

（ＡＲ層）
ＡＲ層７は、反射率を低減する機能を有する。透光性構造体１は、ＡＲ層７を有することで、ＡＲ層７を有さない場合に比べて、反射率が低くなる。
ＡＲ層７としては、たとえば以下のものが挙げられる。
（１）相対的に屈折率が低い低屈折率層と相対的に屈折率が高い高屈折率層とが交互に積層した多層構造のＡＲ層。
（２）透光性基材３よりも屈折率が低い低屈折率層からなるＡＲ層。

（１）のＡＲ層の材料は特に限定されるものではなく、光の反射を抑制できる材料であれば各種材料を利用できる。
高屈折率層と低屈折率層とは、それぞれ１層ずつ含む形態であってもよいが、それぞれ２層以上含む構成であってもよい。高屈折率層と低屈折率層とをそれぞれ２層以上含む場合には、高屈折率層と低屈折率層とを交互に積層した形態であることが好ましい。
特に反射防止性能を高めるためには、（１）のＡＲ層は、複数の層が積層された積層体であることが好ましく、例えば該積層体は全体で２層以上６層以下の層が積層されていることが好ましい。
高屈折率層、低屈折率層の材料は特に限定されるものではなく、要求される反射防止の程度や生産性等を考慮して選択できる。高屈折率層を構成する材料としては、例えば酸化ニオブ（Ｎｂ_２Ｏ_５）、酸化チタン（ＴｉＯ_２）、酸化ジルコニウム（ＺｒＯ_２）、窒化ケイ素（ＳｉＮ）、酸化タンタル（Ｔａ_２Ｏ_５）から選択された１種以上を好ましく利用できる。低屈折率層を構成する材料としては、酸化ケイ素（ＳｉＯ_２）を好ましく利用できる。
高屈折率層としては、生産性や屈折率の程度から、前記高屈折率層が酸化ニオブ層、酸化タンタル層、酸化チタン層から選択されたいずれか一つからなり、前記低屈折率層が酸化ケイ素層であることがより好ましい。

（２）のＡＲ層において、低屈折率層の屈折率は、透光性基材３の屈折率に応じて設定される。たとえば透光性基材３がガラスの場合、低屈折率層の屈折率は、１．１〜１．５が好ましく、１．１〜１．３がより好ましい。
（２）のＡＲ層としては、たとえばシリカを主成分とするマトリックス中に空孔を有するシリカ系多孔質膜等が挙げられる。
シリカ系多孔質膜としては、たとえば粒子内部に空孔を有する中空粒子とマトリックスとを含むもの等が挙げられる。
（２）のＡＲ層の厚さは、５０〜３００ｎｍが好ましく、８０〜１６０ｎｍがより好ましい。

層（低屈折率層、高屈折率層等）の屈折率は、エリプソメーターや分光光度計等により測定される。
層（低屈折率層、高屈折率層、ＡＲ層等）の厚さは、分光光度計や触診式膜厚計等により測定される。

また、ＡＲ層７は、表面に凹凸構造を有し、前記凹凸構造は、第一の凸部７ａと、第二の凸部７ｂとを含む。
ＡＲ層７の表面の凹凸構造は、下地層５の表面の凹凸構造と同様であり、好ましい態様も同様である。
下地層５の表面の凹凸構造と、ＡＲ層７の表面の凹凸構造とは、前記の規定を満たす限り、同一であってもよく異なっていてもよい。たとえば第一の凸部５ａ、７ａそれぞれの平均直径（真円換算）および最大高さ、ならびに第二の凸部５ｂ、７ｂそれぞれの平均高さおよび１μｍ^２あたりの数のいずれか１以上が異なっていてもよい。
ＡＲ層７の表面の凹凸は、図２に示すように、下地層５の表面の凹凸に追従していることが好ましい。この場合、ＡＲ層７の表面の凹凸構造は、下地層５の表面の凹凸構造に比べて、角や高低差の少ないものとなっていてもよい。たとえば第二の凸部７ｂの平均高さが第二の凸部５ｂの平均高さよりも低くなっていてよい。

（最表面の光沢度）
透光性構造体１の視認側の最表面（本実施形態ではＡＲ層７の表面）における６０゜鏡面光沢度は、９０％以下が好ましく、７０％以下がより好ましく、５０％以下がさらに好ましい。最表面における６０゜鏡面光沢度が前記の上限値以下であれば、防眩効果が充分に発揮される。
「６０゜鏡面光沢度」は、ＪＩＳ Ｚ８７４１：１９９７（ＩＳＯ２８１３：１９９４）に記載された方法によって、裏面（視認側とは反対側の面）反射を消さずに測定される。

（ヘイズ）
透光性構造体１のヘイズは、１０％超７０％以下が好ましく、１０％超６０％以下がより好ましく、１０％超５０％以下が特に好ましい。ヘイズが前記範囲の下限値以上であれば、防眩性がより優れる。
「ヘイズ」は、ＪＩＳ Ｋ７１３６：２０００（ＩＳＯ１４７８２：１９９９）に記載された方法によって測定される。

（反射率）
透光性構造体１は、ＳＣＩ方式での反射率が、３％以下であることが好ましく、２％以下がより好ましく、１％以下が特に好ましい。反射率が低いほど、反射防止性に優れる。
ＳＣＩ方式での反射率Ｙ（％）は、コニカミノルタ社製ＣＭ−２６００ｄによって測定される。

（ぎらつき指標値Ｓ）
透光性構造体１は、アイシステム社製アイスケールＩＳＣ−Ａを用いて、アップルインコーポレイテッド社製ｉＰｈｏｎｅ（登録商標）４の上に、凹凸構造を有する表面（ＡＲ層７側の表面）が上になるように透光性構造体１を置いて測定されるぎらつき（Ｓｐａｒｋｌｅ）指標値Ｓが、１００未満であることが好ましく、８０未満がより好ましく、６０未満が特に好ましい。ぎらつき指標値Ｓが小さいほど、ぎらつきが抑制されている。

＜作用効果＞
以上説明した透光性構造体１にあっては、透光性基材３の視認側にＡＲ層７を備え、視認側の最表面に、第一の凸部７ａと第二の凸部７ｂとを含み、第二の凸部７ｂの数が１μｍ^２あたり０．０００１〜１．２個である凹凸構造を有するため、防眩性および反射防止性に優れ、かつぎらつきが充分に抑制されている。
最表面の凹凸構造のうち、第一の凸部７ａは主に、外光を拡散反射させることで防眩性に寄与し、第二の凸部７ｂは主に、ぎらつきの抑制に寄与すると考えられる。凹凸構造が第一の凸部７ａのみから構成される場合、透光性基材３側から下地層５を介してＡＲ層７に入射した光が第一の凸部７ａの表面で屈折し、屈折した光同士が第一の凸部７ａの表面近傍で干渉してぎらつきの原因になると推測される。第二の凸部７ｂは、屈折した光同士が干渉することを阻害してぎらつきを抑制すると推測される。

＜透光性構造体の製造方法＞
透光性構造体１の製造方法としては、たとえば、
透光性基材３上に塗料組成物を塗布して塗膜を形成し、前記塗膜を焼成することにより下地層５を形成する工程と、
下地層５上にＡＲ層７を形成する工程と、
を有し、
前記塗料組成物が、シリカ前駆体（Ａ）および粒子（Ｃ）の少なくとも一方と、液状媒体（Ｂ）とを含み、かつ前記液状媒体（Ｂ）が、沸点１５０℃以下の液状媒体（Ｂ１）を、前記液状媒体（Ｂ）の全量に対して８６質量％以上含み、
前記塗料組成物の塗布が、回転霧化頭を備える静電塗装ガンを備える静電塗装装置を用いて前記塗料組成物を帯電させ噴霧することにより行われることを特徴とする透光性構造体の製造方法が挙げられる。

上記の製造方法の一実施形態として、
前記塗料組成物を準備する工程（以下、塗料組成物調製工程ともいう。）と、
回転霧化頭を備える静電塗装ガンを備える静電塗装装置を用いて、前記塗料組成物を帯電させ噴霧することにより透光性基材３上に塗布して塗膜を形成する工程（以下、塗布工程ともいう。）と、
前記塗膜を焼成することにより下地層５を形成する工程（以下、焼成工程ともいう。）と、
下地層５上にＡＲ層７を形成する工程（以下、ＡＲ層形成工程ともいう。）と、
を有する製造方法が挙げられる。
上記の製造方法は、必要に応じて、下地層５を形成する前に、透光性基材本体の表面に機能層を形成して透光性基材３を作製する工程を有していてもよく、ＡＲ層７を形成した後に、公知の後加工を施す工程を有していてもよい。

〔塗料組成物調製工程〕
塗料組成物は、シリカ前駆体（Ａ）および粒子（Ｃ）の少なくとも一方と、液状媒体（Ｂ）とを含む。
塗料組成物が、シリカ前駆体（Ａ）を含まず、粒子（Ｃ）を含む場合、粒子（Ｃ）の平均粒子径は３０ｎｍ以下であることが好ましい。
塗料組成物は、必要に応じて、本発明の効果を損なわない範囲で、シリカ前駆体（Ａ）以外の他のバインダ（Ｄ）、その他の添加剤（Ｅ）等を含んでいてもよい。

（シリカ前駆体（Ａ））
シリカ前駆体（Ａ）としては、ケイ素原子に結合した炭化水素基および加水分解性基を有するシラン化合物（Ａ１）およびその加水分解縮合物、アルコキシシラン（ただしシラン化合物（Ａ１）を除く。）およびその加水分解縮合物（ゾルゲルシリカ）、シラザン等が挙げられる。

シラン化合物（Ａ１）において、ケイ素原子に結合した炭化水素基は、１つのケイ素原子に結合した１価の炭化水素基であってもよく、２つのケイ素原子に結合した２価の炭化水素基であってもよい。１価の炭化水素基としては、アルキル基、アルケニル基、アリール基等が挙げられる。２価の炭化水素基としては、アルキレン基、アルケニレン基、アリーレン基等が挙げられる。
炭化水素基は、炭素原子間に−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−および−ＮＲ’−（ただしＲ’は水素原子または１価の炭化水素基である。）から選ばれる１つまたは２つ以上を組み合わせた基を有していてもよい。

ケイ素原子に結合した加水分解性基としては、アルコキシ基、アシロキシ基、ケトオキシム基、アルケニルオキシ基、アミノ基、アミノキシ基、アミド基、イソシアネート基、ハロゲン原子等が挙げられる。これらの中では、シラン化合物（Ａ１）の安定性と加水分解のしやすさとのバランスの点から、アルコキシ基、イソシアネート基およびハロゲン原子（特に塩素原子）が好ましい。
アルコキシ基としては、炭素数１〜３のアルコキシ基が好ましく、メトキシ基またはエトキシ基がより好ましい。
シラン化合物（Ａ１）中に加水分解性基が複数存在する場合には、加水分解性基は、同じ基であっても異なる基であってもよく、同じ基であることが入手しやすさの点で好ましい。

シラン化合物（Ａ１）としては、後述する式（Ｉ）で表される化合物、アルキル基を有するアルコキシシラン（メチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン等）、ビニル基を有するアルコキシシラン（ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン等）、エポキシ基を有するアルコキシシラン（２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン等）、アクリロイルオキシ基を有するアルコキシシラン（３−アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン等）等が挙げられる。

シラン化合物（Ａ１）としては、膜厚が厚くても下地層５のクラックや膜剥がれが生じにくい点から、下式（Ｉ）で表される化合物が好ましい。
Ｒ_３−ｐＬ_ｐＳｉ−Ｑ−ＳｉＬ_ｐＲ_３−ｐ ・・・（Ｉ）

式（Ｉ）中、Ｑは、２価の炭化水素基（炭素原子間に−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−および−ＮＲ’−（ただし、Ｒ’は水素原子または１価の炭化水素基である。）から選ばれる１つまたは２つ以上を組み合わせた基を有していてもよい。）である。２価の炭化水素基としては、上述したものが挙げられる。
Ｑとしては、入手が容易であり、かつ膜厚が厚くても下地層５のクラックや膜剥がれが生じにくい点から、炭素数２〜８のアルキレン基が好ましく、炭素数２〜６のアルキレン基がさらに好ましい。

式（Ｉ）中、Ｌは、加水分解性基である。加水分解性基としては、上述したものが挙げられ、好ましい態様も同様である。
Ｒは、水素原子または１価の炭化水素基である。１価の炭化水素としては、上述したものが挙げられる。
ｐは、１〜３の整数である。ｐは、反応速度が遅くなりすぎない点から、２または３が好ましく、３が特に好ましい。

アルコキシシラン（ただし、前記シラン化合物（Ａ１）を除く。）としては、テトラアルコキシシラン（テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラプロポキシシラン、テトラブトキシシラン等）、パーフルオロポリエーテル基を有するアルコキシシラン（パーフルオロポリエーテルトリエトキシシラン等）、パーフルオロアルキル基を有するアルコキシシラン（パーフルオロエチルトリエトキシシラン等）等が挙げられる。

シラン化合物（Ａ１）およびアルコキシシラン（ただしシラン化合物（Ａ１）を除く。）の加水分解および縮合は、公知の方法により行うことができる。
たとえばテトラアルコキシシランの場合、テトラアルコキシシランの４倍モル以上の水、および触媒として酸またはアルカリを用いて行う。
酸としては、無機酸（ＨＮＯ_３、Ｈ_２ＳＯ_４、ＨＣｌ等。）、有機酸（ギ酸、シュウ酸、モノクロル酢酸、ジクロル酢酸、トリクロル酢酸等。）が挙げられる。アルカリとしては、アンモニア、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等が挙げられる。触媒としては、シラン化合物（Ａ）の加水分解縮合物の長期保存性の点では、酸が好ましい。

シリカ前駆体（Ａ）としては、１種を単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
シリカ前駆体（Ａ）は、下地層５のクラックや膜剥がれを防止する観点から、シラン化合物（Ａ１）およびその加水分解縮合物のいずれか一方または両方を含むことが好ましい。
シリカ前駆体（Ａ）は、下地層５の耐摩耗強度の観点から、テトラアルコキシシランおよびその加水分解縮合物のいずれか一方または両方を含むことが好ましい。
シリカ前駆体（Ａ）は、シラン化合物（Ａ１）およびその加水分解縮合物のいずれか一方または両方と、テトラアルコキシシランおよびその加水分解縮合物のいずれか一方または両方と、を含むことが特に好ましい。

（液状媒体（Ｂ））
液状媒体（Ｂ）は、塗料組成物がシリカ前駆体（Ａ）を含む場合は、シリカ前駆体（Ａ）を溶解または分散するものであり、塗料組成物が粒子（Ｃ）を含む場合は、粒子（Ｃ）を分散するものである。塗料組成物がシリカ前駆体（Ａ）および粒子（Ｃ）の両方を含む場合、液状媒体（Ｂ）は、シリカ前駆体（Ａ）を溶解または分散する溶媒または分散媒としての機能と、粒子（Ｃ）を分散する分散媒としての機能の両方を有するものであってもよい。

液状媒体（Ｂ）は、少なくとも、沸点１５０℃以下の液状媒体（Ｂ１）を含む。液状媒体（Ｂ１）の沸点は、５０〜１４５℃が好ましく、５５〜１４０℃がより好ましい。
液状媒体（Ｂ１）の沸点が１５０℃以下であれば、塗料組成物を、回転霧化頭を備える静電塗装ガンを備える静電塗装装置を用いて透光性基材３上に塗布し、焼成して得られる膜がより好ましい防眩性能を有する。液状媒体（Ｂ１）の沸点が前記範囲の下限値以上であれば、塗料組成物の液滴が透光性基材３上に付着した後、液滴形状を十分に保ったまま凹凸構造を形成できる。

液状媒体（Ｂ１）としては、たとえば、水、アルコール類（メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、ｎ−ブチルアルコール、イソブチルアルコール、１−ペンタノール等）、ケトン類（アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等）、エーテル類（テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン等）、セロソルブ類（メチルセロソルブ、エチルセロソルブ等）、エステル類（酢酸メチル、酢酸エチル等）、グリコールエーテル類（エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル等）等が挙げられる。
液状媒体（Ｂ１）は、１種を単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。

液状媒体（Ｂ）は、必要に応じて、液状媒体（Ｂ１）以外の他の液状媒体、すなわち沸点が１５０℃超の液状媒体をさらに含んでいてもよい。
他の液状媒体としては、たとえば、アルコール類、ケトン類、エーテル類、セロソルブ類、エステル類、グリコールエーテル類、含窒素化合物、含硫黄化合物等が挙げられる。
アルコール類としては、ジアセトンアルコール、１−ヘキサノール、エチレングリコール等が挙げられる。
含窒素化合物としては、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルピロリドン等が挙げられる。
グリコールエーテル類としては、エチレングリコールモノブチルエーテル等が挙げられる。
含硫黄化合物としては、ジメチルスルホキシド等が挙げられる。
他の液状媒体は、１種を単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。

シリカ前駆体（Ａ）におけるアルコキシシラン等の加水分解に水が必要となるため、加水分解後に液状媒体の置換を行わない限り、液状媒体（Ｂ）は液状媒体（Ｂ１）として少なくとも水を含む。
この場合、液状媒体（Ｂ）は、水のみであってもよく、水と他の液体との混合液であってもよい。他の液体としては、水以外の液状媒体（Ｂ１）でもよく、他の液状媒体でもよく、たとえば、アルコール類、ケトン類、エーテル類、セロソルブ類、エステル類、グリコールエーテル類、含窒素化合物、含硫黄化合物等が挙げられる。これらのうち、シリカ前駆体（Ａ）の溶媒としては、アルコール類が好ましく、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、ブタノールが特に好ましい。

（粒子（Ｃ））
粒子（Ｃ）は、単独で、またはシリカ前駆体（Ａ）に由来するマトリックスとともに、下地層を構成する。
塗料組成物が、シリカ前駆体（Ａ）を含まず、粒子（Ｃ）を含む場合、粒子（Ｃ）の平均粒子径は３０ｎｍ以下であることが好ましい。
粒子（Ｃ）としては、鱗片状粒子（Ｃ１）、鱗片状粒子（Ｃ１）以外の他の粒子（Ｃ２）等が挙げられる。

鱗片状粒子（Ｃ１）：
鱗片状粒子（Ｃ１）の平均アスペクト比は、５０〜６５０が好ましく、１００〜３５０がより好ましく、１７０〜２４０がさらに好ましい。鱗片状粒子（Ｃ１）の平均アスペクト比が５０以上であれば、膜厚が厚くても下地層のクラックや膜剥がれが充分に抑えられる。鱗片状粒子（Ｃ１）の平均アスペクト比が６５０以下であれば、塗料組成物中における分散安定性が良好となる。

鱗片状粒子（Ｃ１）の平均粒子径は、０．０８〜０．４２μｍが好ましく、０．１７〜０．２１μｍがより好ましい。鱗片状粒子（Ｃ１）の平均粒子径が０．０８μｍ以上であれば、膜厚が厚くても下地層のクラックや膜剥がれが充分に抑えられる。鱗片状粒子（Ｃ１）の平均粒子径が０．４２μｍ以下であれば、塗料組成物中における分散安定性が良好となる。

鱗片状粒子（Ｃ１）としては、鱗片状シリカ粒子、鱗片状アルミナ粒子、鱗片状チタニア、鱗片状ジルコニア等が挙げられ、膜の屈折率上昇を抑え、反射率を下げることができる点から、鱗片状シリカ粒子が好ましい。

鱗片状シリカ粒子は、薄片状のシリカ１次粒子、または複数枚の薄片状のシリカ１次粒子が、互いに面間が平行的に配向し重なって形成されるシリカ２次粒子である。シリカ２次粒子は、通常、積層構造の粒子形態を有する。
鱗片状シリカ粒子は、シリカ１次粒子およびシリカ２次粒子のいずれか一方のみであってもよく、両方であってもよい。

シリカ１次粒子の厚さは、０．００１〜０．１μｍが好ましい。シリカ１次粒子の厚さが前記範囲内であれば、互いに面間が平行的に配向して１枚または複数枚重なった鱗片状のシリカ２次粒子を形成できる。
シリカ１次粒子の厚さに対する最小長さの比（最小長さ／厚さ）は、２以上が好ましく、５以上がより好ましく、１０以上がさらに好ましい。

シリカ２次粒子の厚さは、０．００１〜３μｍが好ましく、０．００５〜２μｍがより好ましい。
シリカ２次粒子の厚さに対する最小長さの比（最小長さ／厚さ）は、２以上が好ましく、５以上がより好ましく、１０以上がさらに好ましい。
シリカ２次粒子は、融着することなく互いに独立に存在していることが好ましい。

鱗片状シリカ粒子のＳｉＯ_２純度は、９５質量％以上が好ましく、９９質量％以上がより好ましい。
塗料組成物の調製には、複数の鱗片状シリカ粒子の集合体である粉体、または該粉体を液状媒体に分散させた分散体が用いられる。分散体中のシリカ濃度は、１〜８０質量％が好ましい。

粉体または分散体には、鱗片状シリカ粒子だけでなく、鱗片状シリカ粒子の製造時に発生する不定形シリカ粒子が含まれることがある。鱗片状シリカ粒子は、たとえば、鱗片状シリカ粒子が凝集して不規則に重なり合って形成される間隙を有する凝集体形状のシリカ３次粒子（以下、シリカ凝集体とも記す。）を解砕、分散化することによって得られる。不定形シリカ粒子は、シリカ凝集体がある程度微粒化された状態であるが、個々の鱗片状シリカ粒子まで微粒化されていない状態のものであり、複数の鱗片状シリカ粒子が塊を形成する形状である。不定形シリカ粒子を含むと、形成される下地層の緻密性が低下してクラックや膜剥がれが発生しやすくなるおそれがある。そのため、粉体または分散体における不定形シリカ粒子の含有量は、少ないほど好ましい。
不定形シリカ粒子およびシリカ凝集体は、いずれも、ＴＥＭ観察において黒色状に観察される。一方、薄片状のシリカ１次粒子またはシリカ２次粒子は、ＴＥＭ観察において透明または半透明状に観察される。

鱗片状シリカ粒子は、市販のものを用いてもよく、製造したものを用いてもよい。
鱗片状シリカ粒子としては、日本国特開２０１４−９４８４５号公報に記載の製造方法によって製造されたものが好ましい。該製造方法は、鱗片状シリカ粒子が凝集したシリカ凝集体を含むシリカ粉体をｐＨ２以下で酸処理する工程と、酸処理したシリカ粉体をｐＨ８以上でアルカリ処理し、シリカ凝集体を解膠する工程と、アルカリ処理したシリカ粉体を湿式解砕し、鱗片状シリカ粒子を得る工程とを有する。該製造方法によれば、公知の製造方法（たとえば、日本国特許第４０６３４６４号公報に記載の方法）に比べて、製造工程での不定形シリカ粒子の発生が抑えられ、不定形シリカ粒子の含有量の少ない粉体または分散体を得ることができる。

粒子（Ｃ２）：
鱗片状粒子（Ｃ１）以外の他の粒子（Ｃ２）としては、金属酸化物粒子、金属粒子、顔料系粒子、樹脂粒子等が挙げられる。

金属酸化物粒子の材料としては、Ａｌ_２Ｏ_３、ＳｉＯ_２、ＳｎＯ_２、ＴｉＯ_２、ＺｒＯ_２、ＺｎＯ、ＣｅＯ_２、Ｓｂ含有ＳｎＯ_Ｘ（ＡＴＯ）、Ｓｎ含有Ｉｎ_２Ｏ_３（ＩＴＯ）、ＲｕＯ_２等が挙げられる。下地層５において好ましく使用されるマトリックスはシリカであり、マトリックスがシリカである場合、金属酸化物粒子の材料としては、屈折率がマトリックスと同じである、ＳｉＯ_２が好ましい。
金属粒子の材料としては、金属（Ａｇ、Ｒｕ等）、合金（ＡｇＰｄ、ＲｕＡｕ等）等が挙げられる。
顔料系粒子としては、無機顔料（チタンブラック、カーボンブラック等）、有機顔料が挙げられる。
樹脂粒子の材料としては、アクリル樹脂、ポリスチレン、メラニン樹脂等が挙げられる。

粒子（Ｃ２）の形状としては、球状、楕円状、針状、板状、棒状、円すい状、円柱状、立方体状、長方体状、ダイヤモンド状、星状、不定形状、あるいはこれらの形状の組み合わせ等が挙げられる。他の粒子は、各粒子が独立した状態で存在していてもよく、各粒子が鎖状に連結していてもよく、各粒子が凝集していてもよい。
粒子（Ｃ２）は、中実粒子でもよく、中空粒子でもよく、多孔質粒子等の穴あき粒子でもよい。

粒子（Ｃ２）としては、球状シリカ粒子、棒状シリカ粒子、針状シリカ粒子等のシリカ粒子（ただし鱗片状シリカ粒子を除く。）が好ましい。中でも、透光性構造体１のヘイズが充分に高くなり、かつ下地層５の表面における６０゜鏡面光沢度が充分に低くなり、その結果、防眩効果が充分に発揮される点から、球状シリカ粒子が好ましく、多孔質球状シリカ粒子がより好ましい。

粒子（Ｃ２）の平均粒子径は、０．３〜２μｍが好ましく、０．５〜１．５μｍがより好ましい。粒子（Ｃ２）の平均粒子径が０．３μｍ以上であれば、防眩効果が充分に発揮される。粒子（Ｃ２）の平均粒子径が２μｍ以下であれば、塗料組成物中における分散安定性が良好となる。

多孔質球状シリカ粒子のＢＥＴ比表面積は、２００〜３００ｍ^２／ｇが好ましい。
多孔質球状シリカ粒子の細孔容積は、０．５〜１．５ｃｍ^３／ｇが好ましい。
多孔質球状シリカ粒子の市販品としては、日産化学工業社製のライトスター（登録商標）シリーズが挙げられる。

粒子（Ｃ）は、１種を単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
粒子（Ｃ）は、鱗片状粒子（Ｃ１）を含むことが好ましく、さらに粒子（Ｃ２）を含んでもよい。鱗片状粒子（Ｃ１）を含むことで、下地層５のヘイズが高まり、より優れた防眩性能が得られる。また、粒子（Ｃ２）に比べて、鱗片状粒子（Ｃ１）を含ませた場合、下地層５の膜厚を厚くしたときにクラックや膜剥がれが生じにくい。

（バインダ（Ｄ））
バインダ（Ｄ）（ただしシリカ前駆体（Ａ）を除く。）としては、液状媒体（Ｂ）に溶解または分散する無機物や樹脂等が挙げられる。
無機物としては、たとえばシリカ以外の金属酸化物前駆体（金属：チタン、ジルコニウム、等）が挙げられる。
樹脂としては、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、紫外線硬化性樹脂等が挙げられる。

（添加剤（Ｅ））
添加剤（Ｅ）としては、たとえば、極性基を有する有機化合物（Ｅ１）、紫外線吸収剤、赤外線反射剤、赤外線吸収剤、反射防止剤、レベリング性向上のための界面活性剤、耐久性向上のための金属化合物等が挙げられる。

塗料組成物が粒子（Ｃ）を含有する場合、塗料組成物に極性基を有する有機化合物（Ｅ１）を含ませることによって、塗料組成物中における静電気力による粒子（Ｃ）の凝集を抑制できる。
極性基を有する有機化合物（Ｅ１）としては、粒子（Ｃ）の凝集抑制効果の点から、分子中に水酸基および／またはカルボニル基を有するものが好ましく、分子中に水酸基、アルデヒド基（−ＣＨＯ）、ケトン基（−Ｃ（＝Ｏ）−）、エステル結合（−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−）、カルボキシ基（−ＣＯＯＨ）からなる群から選ばれる１種以上を有するものがより好ましく、分子中にカルボキシ基、水酸基、アルデヒド基およびケトン基からなる群から選ばれる１種以上を有するものがさらに好ましい。

極性基を有する有機化合物（Ｅ１）としては、不飽和カルボン酸重合体、セルロース誘導体、有機酸（ただし、不飽和カルボン酸重合体を除く。）、テルペン化合物等が挙げられる。有機化合物（Ｅ１）は、１種を単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。

不飽和カルボン酸重合体としては、ポリアクリル酸が挙げられる。
セルロース誘導体としては、ポリヒドロキシアルキルセルロースが挙げられる。
有機酸（ただし、不飽和カルボン酸重合体を除く。）としては、ギ酸、しゅう酸、モノクロル酢酸、ジクロル酢酸、トリクロル酢酸、クエン酸、酒石酸、マレイン酸等が挙げられる。
なお、アルコキシシラン等の加水分解に触媒として有機酸を用いた場合、該有機酸も有機化合物（Ｅ１）としての有機酸に含まれる。

テルペンとは、イソプレン（Ｃ_５Ｈ_８）を構成単位とする（Ｃ_５Ｈ_８）_ｎ（ただし、ｎは１以上の整数である。）の組成の炭化水素を意味する。テルペン化合物とは、テルペンから誘導される官能基を有するテルペン類を意味する。テルペン化合物は、不飽和度を異にするものも包含する。
なお、テルペン化合物には液状媒体として機能するものもあるが、「イソプレンを構成単位とする（Ｃ_５Ｈ_８）_ｎの組成の炭化水素」であるものは、テルペン誘導体に該当し、液状媒体には該当しないものとする。
テルペン誘導体としては、テルペンアルコール（α−テルピネオール、テルピネン４−オール、Ｌ−メントール、（±）シトロネロール、ミルテノール、ボルネオール、ネロール、ファルネソール、フィトール等）、テルペンアルデヒド（シトラール、β−シクロシトラール、ペリラアルデヒド等）、テルペンケトン（（±）しょうのう、β−ヨノン等）、テルペンカルボン酸（シトロネル酸、アビエチン酸等）、テルペンエステル（酢酸テルピニル、酢酸メンチル等）等が挙げられる。

レベリング性向上のための界面活性剤としては、シリコーンオイル系、アクリル系等が挙げられる。
耐久性向上のための金属化合物としては、ジルコニウムキレート化合物、チタンキレート化合物、アルミニウムキレート化合物等が好ましい。ジルコニウムキレート化合物としては、ジルコニウムテトラアセチルアセトナート、ジルコニウムトリブトキシステアレート等が挙げられる。

（組成）
塗料組成物がシリカ前駆体（Ａ）および粒子（Ｃ）を含む場合、塗料組成物中のシリカ前駆体（Ａ）と粒子（Ｃ）との合計の含有量は、塗料組成物中の固形分（１００質量％）（ただし、シリカ前駆体（Ａ）はＳｉＯ_２換算とする。）のうち、３０〜１００質量％が好ましく、４０〜１００質量％がより好ましい。シリカ前駆体（Ａ）と粒子（Ｃ）との合計の含有量が前記範囲の下限値以上であれば、下地層５の透光性基材３との密着性に優れる。シリカ前駆体（Ａ）と粒子（Ｃ）との合計の含有量が前記範囲の上限値以下であれば、下地層５のクラックや膜はがれが抑えられる。

塗料組成物がシリカ前駆体（Ａ）を含む場合、塗料組成物中のシリカ前駆体（Ａ）の含有量は、塗料組成物中の固形分（１００質量％）（ただし、シリカ前駆体（Ａ）はＳｉＯ_２換算とする。）のうち、３５〜９５質量％が好ましく、５０〜９０質量％がより好ましい。シリカ前駆体（Ａ）の含有量が前記範囲の下限値以上であれば、下地層５の透光性基材３との充分な密着強度が得られる。シリカ前駆体（Ａ）の含有量が前記範囲の上限値以下であれば、膜厚が厚くても下地層５のクラックや膜剥がれが充分に抑えられる。

塗料組成物がシリカ前駆体（Ａ）を含み、かつシリカ前駆体（Ａ）がシラン化合物（Ａ１）およびその加水分解縮合物のいずれか一方または両方を含む場合、シリカ前駆体（Ａ）中のシラン化合物（Ａ１）およびその加水分解縮合物の割合は、シリカ前駆体（Ａ）のＳｉＯ_２換算固形分（１００質量％）に対し、５〜１００質量％が好ましい。シラン化合物（Ａ１）およびその加水分解縮合物の割合が前記範囲の下限値以上であれば、膜厚が厚くても下地層５のクラックや膜剥がれが充分に抑えられる。

塗料組成物がシリカ前駆体（Ａ）を含み、かつシリカ前駆体（Ａ）がテトラアルコキシシランおよびその加水分解縮合物のいずれか一方または両方を含む場合、シリカ前駆体（Ａ）中のテトラアルコキシシランおよびその加水分解縮合物のいずれか一方または両方の割合は、シリカ前駆体（Ａ）のＳｉＯ_２換算固形分（１００質量％）に対し６０〜１００質量％が好ましい。テトラアルコキシシランおよびその加水分解縮合物のいずれか一方または両方の割合が前記範囲の下限値以上であれば、下地層５の耐摩耗強度がより優れる。

シリカ前駆体（Ａ）が、シラン化合物（Ａ１）およびその加水分解縮合物のいずれか一方または両方と、テトラアルコキシシランおよびその加水分解縮合物のいずれか一方または両方とを含む場合、シリカ前駆体（Ａ）のＳｉＯ_２換算固形分（１００質量％）に対し、シラン化合物（Ａ１）およびその加水分解縮合物のいずれか一方または両方の割合が ０質量％超５０質量％以下（より好ましくは０質量％超３０質量％以下）で、テトラアルコキシシランおよびその加水分解縮合物のいずれか一方または両方の割合が５０質量％以上１００質量％未満（より好ましくは７０質量％以上１００質量％未満）であることが好ましい。

塗料組成物中の液状媒体（Ｂ）の含有量は、塗料組成物の固形分濃度に応じた量とされる。
塗料組成物の固形分濃度は、塗料組成物の全量（１００質量％）のうち、１〜８質量％が好ましく、２〜６質量％がより好ましい。固形分濃度が前記範囲の下限値以上であれば、塗料組成物の液量を少なくできる。固形分濃度が前記範囲の上限値以下であれば、下地層５の膜厚の均一性が向上する。
塗料組成物の固形分濃度は、塗料組成物中の、液状媒体（Ｂ）以外の全成分の含有量の合計である。ただしシリカ前駆体（Ａ）の含有量はＳｉＯ_２換算である。

塗料組成物中の沸点１５０℃以下の液状媒体（Ｂ１）の含有量は、液状媒体（Ｂ）の全量に対して８６質量％以上である。液状媒体（Ｂ１）を８６質量％以上の割合で含むことにより、塗料組成物を、回転霧化頭を備える静電塗装ガンを備える静電塗装装置を用いて透光性基材上に塗布し、焼成したときに、より好ましい防眩効果を発揮する表面形状を有する下地層５が形成される。液状媒体（Ｂ１）の割合が８６質量％未満であると、溶媒揮発乾燥前に平滑化するため凹凸構造が形成できず、焼成後の膜の表面に前記の表面形状が形成されないおそれがある。
液状媒体（Ｂ１）の含有量は、液状媒体（Ｂ）の全量に対して９０質量％以上が好ましい。液状媒体（Ｂ１）の含有量は、液状媒体（Ｂ）の全量に対して１００質量％であっても構わない。

塗料組成物が粒子（Ｃ）を含む場合、粒子（Ｃ）の含有量は、塗料組成物中の固形分（１００質量％）（ただし、シリカ前駆体（Ａ）はＳｉＯ_２換算とする。）のうち、３〜４０質量％が好ましく、５〜３０質量％がより好ましい。粒子（Ｃ）の含有量が前記範囲の下限値以上であれば、透光性構造体のヘイズが充分に高くなり、かつ下地層５の表面における６０°鏡面光沢度、ひいては透光性構造体の視認側の最表面の６０°鏡面光沢度が充分に低くなることから、防眩効果が充分に発揮される。粒子（Ｃ）の含有量が前記範囲の上限値以下であれば、充分な耐摩耗強度が得られる。

塗料組成物が粒子（Ｃ）を含み、かつ粒子（Ｃ）が鱗片状粒子（Ｃ１）を含む場合、鱗片状粒子（Ｃ１）の含有量は、粒子（Ｃ）の全量（１００質量％）のうち、２０質量％以上が好ましく、３０質量％以上がより好ましい。上限は特に限定されず、１００質量％であってもよい。鱗片状粒子（Ｃ１）の割合が前記の下限値以上であれば、防眩効果がより優れたものとなる。また、膜厚が厚くても下地層５のクラックや膜剥がれが充分に抑えられる。

（粘度）
塗料組成物の塗布温度における粘度（以下、「液粘度」ともいう。）は、０．００３Ｐａ・ｓ以下（３ｍＰａ・ｓ以下）であることが好ましく、０．００１〜０．００３Ｐａ・ｓが特に好ましい。液粘度が前記の上限値以下であれば、塗料組成物を噴霧したときに形成される液滴がより微細になり、所望の表面形状の下地層５が形成されやすい。液粘度が前記の下限値以上であれば、下地層５の表面凹凸形状が均一となる。
塗料組成物の粘度は、Ｂ型粘度計により測定される値である。

（調製方法）
塗料組成物は、たとえば、シラン前駆体（Ａ）が液状媒体（Ｂ）に溶解した溶液を調製し、必要に応じて追加の液状媒体（Ｂ）、粒子（Ｃ）の分散液等を混合することによって調製できる。
粒子（Ｃ）が鱗片状粒子（Ｃ１）を含み、シリカ前駆体（Ａ）がテトラアルコキシシランの加水分解縮合物を含む場合は、所望の性能を有する下地層５を高いレベルで再現性よく製造できる点から、テトラアルコキシシランの溶液、またはテトラアルコキシシランおよびその加水分解縮合物の混合物の溶液と、鱗片状粒子（Ｃ１）の分散液とを混合した後、鱗片状粒子（Ｃ１）の存在下でテトラアルコキシシランを加水分解し、縮合させることが好ましい。

〔塗布工程〕
透光性基材３上への前記塗料組成物の塗布は、回転霧化頭を備える静電塗装ガンを備える静電塗装装置を用いて、前記塗料組成物を帯電させ噴霧することにより行われる。これにより、透光性基材３上に、前記塗料組成物の塗膜が形成される。

（静電塗装装置）
図５は、静電塗装装置の一例を示す概略図である。
静電塗装装置１０は、コーティングブース１１と、チェーンコンベア１２と、複数の静電塗装ガン１７と、高電圧発生装置１８と、排気ボックス２０とを具備する。
チェーンコンベア１２は、コーティングブース１１を貫通し、導電性基板２１およびこの上に載せられた透光性基材３を所定方向に搬送するようになっている。
複数の静電塗装ガン１７は、チェーンコンベア１２の上方のコーティングブース１１内に、透光性基材３の搬送方向に交差する方向に並んで配置され、それぞれに高電圧ケーブル１３、塗料組成物の供給ライン１４、塗料組成物の回収ライン１５、および２系統のエアの供給ライン１６ａ、１６ｂが接続されている。
高電圧発生装置１８は、高電圧ケーブル１３を介して静電塗装ガン１７に接続され、かつ接地されている。
排気ボックス２０は、静電塗装ガン１７およびチェーンコンベア１２の下方に配置され、排気ダクト１９が接続されている。

静電塗装ガン１７は、ノズルセットフレーム（図示略）に固定されている。ノズルセットフレームによって、静電塗装ガン１７のノズル先端から透光性基材３までの距離、透光性基材３に対する静電塗装ガン１７の角度、透光性基材３の搬送方向に対する複数の静電塗装ガン１７が並ぶ方向等を調整できるようになっている。
静電塗装ガン１７のノズル先端部および塗料組成物の供給ライン１４、および回収ライン１５には高電圧が印加されるため、静電塗装ガン１７、供給ライン１４、および回収ライン１５と、金属からなる部分（たとえば、ノズルセットフレーム、コーティングブース１１の側壁貫通部分等の金属部分）との接続部分は、樹脂等で絶縁処理されている。

チェーンコンベア１２は、複数のプラスチックチェーンからなる、複数のプラスチックチェーンの一部は導電性プラスチックチェーンである。導電性プラスチックチェーンは、プラスチックチェーンを嵌め込む金属チェーン（図示略）およびその駆動モータ（図示略）の接地ケーブル（図示略）を介して、接地されている。

導電性基板２１は、その上に載せられる透光性基材３を、チェーンコンベア１２の導電性プラスチックチェーン、金属チェーンおよび駆動モータの接地ケーブルを介して充分に接地するために用いられる。透光性基材３が充分に接地されることで、塗料組成物が均一に透光性基材３上に付着する。
導電性基板２１としては、透光性基材３の温度降下を抑制し、かつ温度分布を均一化できることから、金属メッシュトレイが好ましい。

（静電塗装ガン）
図６は、静電塗装ガン１７の断面模式図である。図７は、静電塗装ガン１７を前方から見た正面模式図である。
静電塗装ガン１７は、ガン本体３０と、回転霧化頭４０とを備える。回転霧化頭４０は、ガン本体３０の前端部に、軸線を前後方向に向けて配置されている。
静電塗装ガン１７においては、回転霧化頭４０を回転駆動することにより、回転霧化頭４０に供給された塗料組成物を遠心力により霧化して放出（すなわち、噴霧）するようになっている。
なお、静電塗装ガン１７の説明において、前方、前端等における「前」は、塗料組成物の噴霧方向を示し、その反対方向が後方である。図６、７中の下方が、静電塗装ガン１７中の前方である。
静電塗装装置は複数の静電塗装ガン１７を備えていても構わない。複数の静電塗装ガンを備えることで、効率化や幅の広い基板へ効率良く塗布できるため好ましい。複数の静電塗装ガン１７を設置する場合、基板搬送方向に対して直行する方向に並べて配置しても良いが、１本の静電塗装ガン１７の塗布幅および静電塗装ガン１７間の電場の干渉を考慮するとジグザグ（チドリ）状に配置にすることが効率上の観点から好ましい。

ガン本体３０内には、回転霧化頭４０と同軸上に、塗料供給管３１が固定して収容されている。
ガン本体３０内には、図示しないエアタービンモータが設けられ、このエアタービンモータには回転軸３２が設けられている。また、エアタービンモータには、２系統のエアの供給ライン１６ａ、１６ｂのうちの１系統（たとえば、供給ライン１６ａ）が接続され、供給ライン１６ａからのエア圧によって回転軸３２の回転数を制御できるようになっている。回転軸３２は、回転霧化頭４０と同軸上に、塗料供給管３１を包囲するように配置されている。
なお、ここでは回転軸３２の回転駆動手段としてエアタービンモータを用いる例を示したが、エアタービンモータ以外の回転駆動手段を用いてもよい。

ガン本体３０には、シェービングエア（シェーピングエアともいう。）の吹出口３３が複数形成され、複数の吹出口３３それぞれにシェービングエアを供給するためのエア供給路３５が形成されている。また、エア供給路３５には、２系統のエアの供給ライン１６ａ、１６ｂのうちの１系統（たとえば、供給ライン１６ｂ）が接続され、エア（シェービングエア）を、エア供給路３５を介して吹出口３３に供給できるようになっている。
複数の吹出口３３は、静電塗装ガン１７の正面視において、軸心を中心とする同心円上に等間隔で開口するように形成されている。また、複数の吹出口３３は、静電塗装ガン１７の側面視において、静電塗装ガン１７の前方に向かって次第に軸心から離れるように形成されている。

回転霧化頭４０は、第１部品４１と、第２部品４２とを備える。第１部品４１および第２部品４２はそれぞれ筒状である。
第１部品４１は、軸取付部４３と、軸取付部４３から前方に延出した形態の保持部４４と、保持部４４から前方に延出した形態の周壁４５と、周壁４５から前方へ延出した形態の拡径部４７と、周壁４５と拡径部４７の境界位置において第１部品４１の中心孔を前後に区画する形態の前面壁４９とが一体に形成されたものである。

保持部４４は、第２部品４２を第１部品４１に対して同軸状に保持するものである。
周壁４５の内周面は、回転霧化頭４０の軸線方向における全領域に亘り、前方に向かって次第に拡径するテーパ状の誘導面４６となっている。
拡径部４７は、前方に向かってカップ状に拡径した形態であり、拡径部４７の前面は、前方に向かって次第に拡径した形態の拡散面４８となっている。
拡径部４７の拡散面４８の外周縁４８ａには、全周にわたって、塗料組成物の微粒化のための微細な切り込みが多数、略等間隔に設けられている。
前面壁４９には、前面壁４９の外周縁を前後に貫通した形態の流出孔５０が形成されている。流出孔５０は、円形をなし、周方向において等角度ピッチで複数形成されている。また、流出孔５０の貫通方向は、周壁４５の誘導面４６の傾斜方向と平行である。
前面壁４９の後面のうち中央部分は後方に向かって突出した円錐状となっている。また、この中央部分には、前面壁４９の前面の中心部から後方に延び、途中で３つに分岐して円錐状の部分の周面上に開口する貫通孔５３が形成されている。

第２部品４２は、筒状部５１と後面壁５２とを一体に形成したものである。後面壁５２は、筒状部５１の前端部に配置されている。後面壁５２の中央には、円形の貫通孔が形成されており、塗料供給管３１の前端部を挿入できるようになっている。
回転霧化頭４０においては、前面壁４９、周壁４５及び後面壁５２によって囲まれた空間が貯留室Ｓとされている。この貯留室Ｓは複数の流出孔５０を介して拡散面４８に連通している。
静電塗装ガン１７においては、塗料供給管３１の前端の吐出口３１ａが貯留室Ｓ内に開口するように、塗料供給管３１の前端部が後面壁５２の中央の貫通孔に挿入されている。これにより、塗料供給管３１を介して塗料組成物を貯留室Ｓ内に供給できるようになっている。

なお、静電塗装装置および静電塗装ガンは、図示例のものに限定はされない。静電塗装装置は、回転霧化頭を備える静電塗装ガンを備えるものであれば、公知の静電塗装装置を採用できる。静電塗装ガンは、回転霧化頭を備えるものであれば、公知の静電塗装ガンを採用できる。

（塗布方法）
静電塗装装置１０においては、下記のようにして透光性基材３上に塗料組成物が塗布される。
透光性基材３を、導電性基板２１上に設置する。また、高電圧発生装置１８によって、静電塗装ガン１７に高電圧を印加する。同時に、塗料組成物の供給ライン１４から塗料組成物を静電塗装ガン１７に供給するとともに、２系統のエアの供給ライン１６ａ、１６ｂそれぞれからエアを静電塗装ガン１７に供給する。
エアの供給ライン１６ｂから供給されるエアは、ガン本体３０内のエア供給路３５にエアが供給され、シェービングエアとして吹出口３３の開口から吹き出される。
エアの供給ライン１６ａから供給されるエアは、ガン本体３０内のエアタービンモータを駆動させ、回転軸３２を回転させる。これにより、塗料組成物の供給ライン１４から塗料供給管３１を通して貯留室Ｓ内に供給された塗料組成物が、遠心力により周壁４５の誘導面４６に沿って前方へ移動し、流出孔５０を通過して拡散面４８へ供給される。塗料組成物の一部は、中央部分の貫通孔５３を通過して拡散面４８へ供給される。ここで、周壁４５の誘導面４６は、流出孔５０に向かって拡径したテーパ状をなすので、貯留室Ｓ内の塗料組成物は、遠心力により、貯留室Ｓ内に残留することなく確実に流出孔５０に到達する。
そして、拡散面４８に供給された塗料組成物は、遠心力により拡散面４８に沿って拡散されながら外周縁４８ａ側へ移動し、拡散面４８に塗料組成物の液膜を形成し、拡径部４７の拡散面４８の外周縁４８ａにおいて微粒化され、液滴となって放射状に飛散する。
回転霧化頭４０から飛散した塗料組成物の液滴は、シェービングエアの流れによって透光性基材３方向に導かれる。また、前記液滴は、マイナス電荷を帯びており、接地された透光性基材３に向かって静電引力によって引き寄せられる。そのため、透光性基材３の表面に効率よく付着する。

静電塗装ガン１７から噴霧されなかった一部の塗料組成物は、塗料組成物の回収ライン１５を通って塗料組成物タンク（図示略）に回収される。また、静電塗装ガン１７から噴霧され、透光性基材３に付着しなかった一部の塗料組成物は、排気ボックス２０に吸引され、排気ダクト１９を通って回収される。

透光性基材３の表面温度は、６０℃以下が好ましく、１５〜５０℃が好ましく、２０〜４０℃がより好ましい。透光性基材３の表面温度が前記範囲の上限値以下であれば、透光性基材３と下地層５との密着性が良好となる。透光性基材３の表面温度が前記範囲の下限値以上であれば、塗料組成物の液状媒体（Ｂ）がすばやく蒸発するため、充分な凸凹を形成しやすい。
静電塗装ガン１７から噴霧される塗料組成物の温度（塗布温度）、コーティングブース１１内の温度の好ましい範囲も上記と同様である。また、静電塗装ガン１７から透光性基材３までの間の雰囲気を２０℃以上かつ相対湿度を６０％以下とすると下地層５の膜特性およびヘイズ率分布が向上するため好ましい。コーティングブース１１内の環境は、２０〜３０℃の温度範囲かつ相対湿度２５〜４５％がより好ましく、２０〜３０℃の温度範囲かつ相対湿度２５〜４０％がさらに好ましい。

透光性基材３の搬送速度は、０．６〜２０．０ｍ／分が好ましく、１．５〜１５．０ｍ／分がより好ましい。透光性基材３の搬送速度が０．６ｍ／分以上であれば、生産性が向上する。透光性基材３の搬送速度が２０．０ｍ／分以下であれば、透光性基材３上に塗布される塗料組成物の膜厚を制御しやすい。

透光性基材３の搬送回数、すなわち透光性基材３に静電塗装ガン１７の下を通過させて塗料組成物を塗布する回数は、所望のヘイズ、光沢度等に応じて適宜設定できる。防眩性の点では、１回以上が好ましく、２回以上がより好ましい。生産性の点では、１０回以下が好ましく、８回以下がより好ましい。

静電塗装ガン１７の回転霧化頭４０の外周縁４８ａの直径（拡散面４８の最大径、以下「カップ径」ともいう。）Ｄｃは、５０ｍｍ以上が好ましく、５５〜９０ｍｍが好ましく、６０〜８０ｍｍが特に好ましい。カップ径が前記の下限値以上であれば、回転霧化頭４０の回転時の遠心力が大きく、回転霧化頭４０から飛散する塗料組成物の液滴がより微細になり、所望の表面形状の下地層５が形成されやすい。カップ径が前記範囲の上限値以下であれば、安定的にカップを回転させることができる。

静電塗装ガン１７のノズル先端（すなわち、塗料組成物の噴霧方向における回転霧化頭４０の前端）から透光性基材３までの距離（以下、ノズル高さともいう。）は、透光性基材３の幅、透光性基材３上に塗布される塗料組成物の膜厚等に応じて適宜調整される。通常は、１５０〜４５０ｍｍである。透光性基材３までの距離を近づけると塗布効率は高まるが、近づけ過ぎると放電を起こす可能性が高くなり安全上の問題が発生する。一方、透光性基材３までの距離が離れるにしたがって塗布領域は拡大するが、離れ過ぎると塗布効率の低下が問題となる。

静電塗装ガン１７に印加される電圧は、透光性基材３上に塗布される塗料組成物の塗布量等に応じて適宜調整され、通常は、−３０ｋＶ〜−９０ｋＶの範囲である。電圧の絶対値が大きい方が塗着効率が高まる傾向にある。なお、液特性、塗布環境および塗布条件にもよるが、印加電圧がある程度の高さになると、塗布効率は飽和に達する。

静電塗装ガン１７への塗料組成物の供給量（以下、コート液量ともいう。）は、透光性基材３上に塗布される塗料組成物の塗布量等に応じて適宜調整される。好ましくは、７０ｍＬ／分未満であり、より好ましくは１０〜５０ｍＬ／分である。コート液量が前記の上限値以下であれば、回転霧化頭４０から飛散する塗料組成物の液滴がより微細になり、所望の表面形状の下地層５が形成されやすい。コート液量が前記の下限値以上であれば、面内ヘイズ率の分布が小さくなる。

２系統のエアの供給ライン１６ａ、１６ｂそれぞれから静電塗装ガン１７に供給されるエアの圧力は、透光性基材３上に塗布される塗料組成物の塗布量等に応じて適宜調整され、通常は、０．０１ＭＰａ〜０．５ＭＰａである。
２系統のエアの供給ライン１６ａ、１６ｂそれぞれから静電塗装ガン１７に供給するエア圧によって、塗料組成物の塗布パターンを制御できる。
塗料組成物の塗布パターンとは、静電塗装ガン１７から噴霧された塗料組成物の液滴によって透光性基材上に形成されるパターンを示す。
静電塗装ガン１７内のエアタービンモータに供給されるエアのエア圧を高くすると、回転軸３２の回転速度が上昇し、回転霧化頭４０の回転速度が上昇することにより、回転霧化頭４０から飛散する液滴の大きさが小さくなり、塗布パターンが大きくなる傾向を示す。
静電塗装ガン１７内のエア供給路３５に供給されるエアのエア圧を高くし、吹出口３３から吹き出されるエア（シェービングエア）のエア圧を高くすると、回転霧化頭４０から飛散する液滴の広がりが抑制され、塗布パターンが小さくなる傾向を示す。

エアタービンモータに供給するエアのエア圧は、回転霧化頭４０の回転速度（以下、カップ回転数ともいう。）に応じて設定される。該エア圧が高いほど、カップ回転数が多くなる。
カップ回転数は、３０，０００ｒｐｍ以上が好ましく、３０，０００〜８０，０００ｒｐｍがより好ましく、３２，０００〜８０，０００ｒｐｍが特に好ましい。カップ回転数が前記範囲の下限値以上であれば、回転霧化頭４０から飛散する塗料組成物の液滴がより微細になり、所望の表面形状の下地層５が形成されやすい。カップ回転数が前記範囲の上限値以下であれば、塗着効率に優れる。
カップ回転数は、静電塗装装置１０に付属の計測器（図示略）により測定できる。

エア供給路３５に供給するエアのエア圧は、シェービングエアのエア圧（以下、シェーブ圧ともいう。）が０．０１〜０．３ＭＰａの範囲内となる圧力とすることが好ましい。シェーブ圧は、０．０１〜０．２５ＭＰａがより好ましく、０．０１〜０．２ＭＰａが特に好ましい。シェーブ圧が前記範囲の下限値以上であれば、液滴の飛散防止効果向上による塗着効率向上に優れる。シェーブ圧が前記範囲の上限値以下であれば、塗布幅を確保できる。

〔焼成工程〕
焼成工程では、塗布工程で透光性基材３上に形成された、塗料組成物の塗膜を焼成して下地層５とする。
焼成は、塗料組成物を透光性基材３に塗布する際に透光性基材３を加熱することによって塗布と同時に行ってもよく、塗料組成物を透光性基材３に塗布した後、塗膜を加熱することによって行ってもよい。
焼成温度は、３０℃以上が好ましく、たとえば透光性基材３がガラスである場合は１００〜７５０℃がより好ましく、１５０〜５５０℃がさらに好ましい。

〔ＡＲ層形成工程〕
下地層５の表面が前記凹凸構造を有することから、ＡＲ層形成工程でＡＲ層７を下地層５の表面形状に沿って形成することで、表面に前記凹凸構造を有するＡＲ層７を形成できる。

ＡＲ層７の形成方法としては、特に限定されず、乾式法、湿式法等の公知の方法を利用できる。
乾式法としては、スパッタ法、真空蒸着法、イオンプレーティング法、化学気相成長法等が挙げられる。たとえば金属（Ｓｉ、Ｎｂ等）をターゲットとして、酸素雰囲気下でスパッタリングすると、金属酸化物の層が形成される。

湿式法では、マトリックスまたはその前駆体と、液状媒体とを含む塗布液を塗布し、乾燥することによって層を形成する。塗布液は、必要に応じて、粒子、添加剤等をさらに含んでもよい。
マトリックスまたはその前駆体としては、たとえば前述のシリカ前駆体（Ａ）、バインダ（Ｄ）等が挙げられる。液状媒体、粒子、添加剤はそれぞれ、前述の液状媒体（Ｂ）、粒子（Ｃ）、添加剤（Ｅ）と同様のものが挙げられる。粒子としては中空粒子が好ましい。ただしＡＲ層の場合、液状媒体は必ずしも沸点１５０℃以下の液状媒体（Ｂ１）を一定の割合で含む必要はない。
塗布液の塗布方法としては、公知のウェットコート法（スピンコート法、スプレーコート法、ディップコート法、ダイコート法、カーテンコート法、スクリーンコート法、インクジェット法、フローコート法、グラビアコート法、バーコート法、フレキソコート法、スリットコート法、ロールコート法等）等が挙げられる。

ＡＲ層７の形成方法としては、反射防止性の点では、乾式法が好ましく、その中でも、生産性の観点からスパッタ法がより好ましい。

以上説明した製造方法にあっては、所定の塗料組成物を、回転霧化頭を備える静電塗装ガンで噴霧することによって、下地層５として、表面に第一の凸部５ａと第二の凸部５ｂとを含む凹凸構造を有するものを形成できる。これは、塗料組成物の液滴が、従来汎用されているスプレー法（特に二流体ノズルを用いる方法）を適用した場合に比べて、緩やかな速度で透光性基材３上に付着し、また、液滴が付着した後、迅速に液状媒体（Ｂ）が揮発することで、液滴が透光性基材３上で広がりにくく、付着した時点の形状を充分に保った状態で成膜される（すなわち、液状媒体（Ｂ）の全体が除去される。また、シリカ前駆体（Ａ）を含む場合にはシリカ前駆体（Ａ）がマトリックスになる。）ためと考えられる。
また、前記製造方法にあっては、塗料組成物の粘度、塗布工程での塗布条件（カップ径、コート液量、カップ回転数等）、焼成工程の温度等によって、形成される下地層５の表面形状、ひいてはＡＲ層７の表面形状を制御できる。たとえば塗料組成物の粘度が低いほど、またはカップ径が大きいほど、またはコート液量が少ないほど、またはカップ回転数が多いほど、塗料組成物を帯電させ噴霧したときに形成される液滴の大きさが小さくなる傾向がある。該液滴の大きさが小さいほど、第二の凸部５ｂ、７ｂの１μｍ^２当たりの数が多くなる傾向がある。

｛第二実施形態｝
図８は、本発明の透光性構造体の第二実施形態を示す模式断面図である。図９は、本実施形態の透光性構造体の表面形状を示す断面模式図である。なお、以下に示す実施形態において、既出の実施形態に対応する構成要素には同一の符号を付してその詳細な説明を省略する。
本実施形態の透光性構造体２は、透光性基材４と、透光性基材４の第一の表面４Ａ上に形成されたＡＲ層７と、を備える。
透光性基材４は、第一の表面４Ａ側が視認側である。透光性基材４およびＡＲ層７はそれぞれ、表面に凹凸構造を有する。ＡＲ層７は、透光性構造体２の最も視認側に存在している。そのため、ＡＲ層７の表面は、透光性構造体２の視認側の最表面である。

透光性基材４の表面の凹凸構造は、第一の凸部４ａと、第二の凸部４ｂとを含む。
透光性基材４の表面の凹凸構造は、第一実施形態の下地層５の表面の凹凸構造と同様であり、好ましい態様も同様である。
透光性基材４は、第一の表面４Ａに凹凸構造を有すること以外は、第一実施形態の透光性基材３と同様であり、好ましい態様も同様である。

透光性構造体２において、透光性基材４の第一の表面４Ａの凹凸構造と、ＡＲ層７の表面の凹凸構造とは、同一であってもよく異なっていてもよい。たとえば第一の凸部４ａ、７ａそれぞれの平均直径（真円換算）および最大高さ、ならびに第二の凸部４ｂ、７ｂそれぞれの平均高さおよび１μｍ^２あたりの数のいずれか１以上が異なっていてもよい。
ＡＲ層７の表面の凹凸は、図９に示すように、透光性基材４の第一の表面４Ａの凹凸に追従していることが好ましい。この場合、ＡＲ層７の表面の凹凸構造は、透光性基材４の第一の表面４Ａの凹凸構造に比べて、角や高低差の少ないものとなっていてもよい。たとえば第二の凸部７ｂの平均高さが第二の凸部４ｂの平均高さよりも低くなっていてよい。

透光性構造体２の視認側の最表面（本実施形態ではＡＲ層７の表面）における６０゜鏡面光沢度、透光性構造体２のヘイズ、ＳＣＩ方式での反射率、ぎらつき指標値Ｓそれぞれの好ましい範囲は第一実施形態と同様である。

＜作用効果＞
透光性構造体２にあっては、透光性基材４の視認側にＡＲ層７を備え、視認側の最表面に、第一の凸部７ａと第二の凸部７ｂとを含み、第二の凸部７ｂの数が１μｍ^２あたり０．０００１〜１．２個である凹凸構造を有するため、前述の透光性構造体１と同様に、防眩性および反射防止性に優れ、かつぎらつきが充分に抑制されている。

＜透光性構造体の製造方法＞
透光性構造体２の製造方法としては、たとえば、前記凹凸構造を有さない透光性基材の表面を、２回以上、それぞれ異なる処理条件でエッチング処理することにより前記凹凸構造を形成して透光性基材４を作製し、この透光性基材４の凹凸構造上にＡＲ層７を形成する方法が挙げられる。
たとえば１回目のエッチング処理で第一の凸部を形成し、２回目のエッチング処理で第二の凸部を形成することで、前記の凹凸構造が形成される。

エッチング処理は、透光性基材の材質、求められるヘイズ等に応じて、公知の各種のエッチング方法を利用して行うことができる。２回目のエッチング処理のエッチング速度は１回目のエッチング処理のエッチング速度よりも早いことが望ましい。
また、エッチング処理した透光性基材に下地層を形成しても、下地層を形成した透光性基材をエッチングしてもよい。たとえば、透光性基材をエッチング処理して第一の凸部を形成した後に、塗料組成物の塗布により第二の凸部を形成することで前記の凹凸構造が形成される。
たとえば、透光性基材がガラス基材である場合のエッチング方法としては、ガラス基材の表面にフッ素化剤を接触させる方法が挙げられる。フッ素化剤を接触させると、ガラス表面において、フッ素化剤がガラスの骨格構造であるＳｉＯ_２と反応してＳｉＦ_４（ガス）を生成し、骨格を失った残りの成分が珪フッ化物となってガラス表面が凹凸化される。フッ素化剤としては、たとえばフッ素単体（Ｆ_２）、フッ化水素（ＨＦ）等が挙げられる。この方法では、形成される凹凸の形状を、使用するフッ素化剤の種類、フッ素化剤をガラス表面に接触させる時間、エッチング温度等によって調整できる。
フッ素化剤を接触させる以外のガラス基材のエッチング方法や、ガラス以外の材質の透光性基材の場合にも適用できるエッチング方法として、たとえばブラスト処理、イオンエッチング処理等が挙げられる。

｛第三実施形態｝
図１０は、本発明の透光性構造体の第三実施形態を示す模式断面図である。図１１は、本実施形態の透光性構造体の表面形状を示す断面模式図である。
本実施形態の透光性構造体６は、透光性基材３と、透光性基材３の第一の表面３Ａ上に形成された下地層５と、下地層５上に形成されたＡＲ層７と、ＡＲ層７上に形成された撥水撥油層（以下、「ＡＦＰ層」ともいう。）９と、を備える。
透光性基材３は、第一の表面３Ａ側が視認側である。下地層５、ＡＲ層７およびＡＦＰ層９はそれぞれ、表面に凹凸構造を有する。透光性構造体６においては、最も視認側にＡＦＰ層９が存在し、その直下にＡＲ層７が存在する。そのため、ＡＦＰ層９の表面は、透光性構造体６の視認側の最表面である。

（ＡＦＰ層）
ＡＦＰ層は、Ａｎｔｉ Ｆｉｎｇｅｒ Ｐｒｉｎｔと呼ばれるものであり、パーフルオロポリエーテル基を有するシラン化合物が好ましく用いられる。
ＡＦＰ層の材料としては、例えば、下式（Ａ）で表される化合物及び／又はその部分加水分解縮合物を含む材料が用いられる。
（Ａ）式 （１）：Ｒｆ^３−Ｒｆ^２−Ｚ^１
（式中、Ｒｆ^３は、基：Ｃ_ｍＦ_２ｍ＋１（ここで、ｍは、１〜６の整数である。）であり、
Ｒｆ^２は、−Ｏ−（Ｃ_ａＦ_２ａＯ）_ｎ−（ここで、ａは、１〜６の整数であり、ｎは、１以上の整数であり、ｎが２以上である場合、各−Ｃ_ａＦ_２ａＯ−単位は、同一であっても、異なっていてもよい。）であり、
Ｚ^１は、基：−Ｑ^２−｛ＣＨ_２ＣＨ（ＳｉＲ^２ _ｑＸ^２ _３−ｑ）｝_ｒ−Ｈ（ここで、Ｑ^２は、−（ＣＨ_２）_ｓ−（ここで、ｓは、０〜１２の整数である。）であるか、又はエステル結合、エーテル結合、アミド結合、ウレタン結合及びフェニレン基から選ばれる１種以上を含有する−（ＣＨ_２）_ｓ−であり、−ＣＨ_２−単位の一部又は全部は、−ＣＦ_２−単位及び／又は−ＣＦＣＦ_３−単位によって置き換えられていてもよく、Ｒ^２は、水素原子、又は炭素原子数１〜６の１価の炭化水素基であって、該炭化水素基は置換基を含有していてもよく、Ｘ^２は、それぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基であり、ｑは、０〜２の整数であり、ｒは、１〜２０の整数である。）である。）
Ｘ^２における加水分解性基としては、シラン化合物（Ａ１）において挙げたものと同様のものが挙げられる。

ＡＦＰ層７の厚さは、５ｎｍ以上であれば、充分な撥水撥油性が発揮され、ＡＦＰ層７の表面での指すべり性が良好で、好ましい。また、１５ｎｍ以下であると反射防止性に与える影響が小さく好ましいが、これより厚い場合でも使用できる。

ＡＦＰ層７の表面の凹凸構造は、第一の凸部７ａと、第二の凸部７ｂとを含む。
ＡＦＰ層７の表面の凹凸構造は、第一実施形態の下地層５の表面の凹凸構造と同様であり、好ましい態様も同様である。

透光性構造体６において、下地層５の表面の凹凸構造と、ＡＲ層７の表面の凹凸構造と、ＡＦＰ層９の表面の凹凸構造とは、前記の規定を満たす限り、同一であってもよく異なっていてもよい。たとえば第一の凸部５ａ、７ａ、９ａそれぞれの平均直径（真円換算）および最大高さ、ならびに第二の凸部５ｂ、７ｂ、９ｂそれぞれの平均高さおよび１μｍ^２あたりの数のいずれか１以上が異なっていてもよい。
ＡＦＰ層９の表面の凹凸は、図１１に示すように、下地層５、ＡＲ層７それぞれの表面の凹凸に追従していることが好ましい。この場合、ＡＦＰ層９の表面の凹凸構造は、下地層５の表面の凹凸構造やＡＲ層７の表面の凹凸構造に比べて、角や高低差の少ないものとなっていてもよい。たとえば第二の凸部９ｂの平均高さが第二の凸部５ｂ、７ｂの平均高さよりも低くなっていてよい。

透光性構造体６の視認側の最表面（本実施形態ではＡＦＰ層９の表面）における６０゜鏡面光沢度、透光性構造体６のヘイズ、ＳＣＩ方式での反射率、ぎらつき指標値Ｓそれぞれの好ましい範囲は第一実施形態と同様である。

＜作用効果＞
透光性構造体６にあっては、透光性基材３の視認側にＡＲ層７を備え、視認側の最表面に、第一の凸部９ａと第二の凸部９ｂとを含み、第二の凸部９ｂの数が１μｍ^２あたり０．０００１〜１．２個である凹凸構造を有するため、前述の透光性構造体１と同様に、防眩性および反射防止性に優れ、かつぎらつきが充分に抑制されている。
また、視認側の最表層にＡＦＰ層７が配置されているため、指滑り性が良好である。指滑り性が良好であることは、例えばタッチパネルの操作性の点で好ましい。

＜透光性構造体の製造方法＞
透光性構造体６は、たとえば、第一実施形態で挙げた製造方法により透光性基材３の第一の表面３Ａ上に下地層５およびＡＲ層７を順次を形成し、このＡＲ層７の表面を撥水撥油剤で処理してＡＦＰ層９を形成することにより製造できる。
ＡＲ層７の表面を撥水撥油剤で処理すると、ＡＲ層７の表面に沿ってＡＦＰ層９が形成される。そのため、ＡＦＰ層９の表面は、若干の形状の変動は生じ得るが、ＡＲ層７の表面の凹凸構造に類似した形状の凹凸構造を有するものとなる。

撥水撥油剤による処理方法としては、蒸着法、スキージコーティング法、ワイプコーティング法、フローコーティング法等が挙げられる。成膜後に熱処理してもよい。熱処理条件としては、たとえば大気中、５０〜２００℃で３〜１２０分間等が挙げられる。相対湿度５０〜９０％に加湿しながら熱処理してもよい。

｛第四実施形態｝
図１２は、本発明の透光性構造体の第四実施形態を示す模式断面図である。図１３は、本実施形態の透光性構造体の表面形状を示す断面模式図である。
本実施形態の透光性構造体８は、透光性基材４と、透光性基材４の第一の表面４Ａ上に形成されたＡＲ層７と、ＡＲ層７上に形成されたＡＦＰ層９と、を備える。
透光性基材４は、第一の表面４Ａ側が視認側である。ＡＲ層７およびＡＦＰ層９はそれぞれ、表面に凹凸構造を有する。透光性構造体８においては、最も視認側にＡＦＰ層９が存在し、その直下にＡＲ層７が存在する。そのため、ＡＦＰ層９の表面は、透光性構造体８の視認側の最表面である。

透光性構造体８において、透光性基材４の第一の表面４Ａの凹凸構造と、ＡＲ層７の表面の凹凸構造と、ＡＦＰ層９の表面の凹凸構造とは、同一であってもよく異なっていてもよい。たとえば第一の凸部４ａ、７ａ、９ａそれぞれの平均直径（真円換算）および最大高さ、ならびに第二の凸部４ｂ、７ｂ、９ｂそれぞれの平均高さおよび１μｍ^２あたりの数のいずれか１以上が異なっていてもよい。
ＡＦＰ層９の表面の凹凸は、図１３に示すように、透光性基材４の第一の表面４Ａ、ＡＲ層７それぞれの凹凸に追従していることが好ましい。この場合、ＡＦＰ層９の表面の凹凸構造は、透光性基材４の第一の表面４Ａの凹凸構造やＡＲ層７の表面の凹凸構造に比べて、角や高低差の少ないものとなっていてもよい。たとえば第二の凸部９ｂの平均高さが第二の凸部４ｂ、７ｂの平均高さよりも低くなっていてよい。

透光性構造体８の視認側の最表面（本実施形態ではＡＦＰ層９の表面）における６０゜鏡面光沢度、透光性構造体６のヘイズ、ＳＣＩ方式での反射率、ぎらつき指標値Ｓそれぞれの好ましい範囲は第一実施形態と同様である。

＜作用効果＞
透光性構造体８にあっては、透光性基材４の視認側にＡＲ層７を備え、視認側の最表面に、第一の凸部９ａと第二の凸部９ｂとを含み、第二の凸部９ｂの数が１μｍ^２あたり０．０００１〜１．２個である凹凸構造を有するため、前述の透光性構造体６と同様に、防眩性および反射防止性に優れ、かつぎらつきが充分に抑制されている。また、最表層にＡＦＰ層７が配置されているため、指滑り性が良好である。

＜透光性構造体の製造方法＞
透光性構造体８は、たとえば、第二実施形態で挙げた製造方法により透光性基材４を製造し、透光性基材４の第一の表面４Ａ上にＡＲ層７を形成した後、ＡＲ層７の表面を撥水撥油剤で処理してＡＦＰ層９を形成することにより製造できる。
撥水撥油剤による処理方法としては、第三実施形態で挙げた方法が挙げられる。

以上、第一〜第四実施形態を示して本発明の透光性構造体を説明したが、本発明はこれらの実施形態に限定されるものではない。上記実施形態における各構成及びそれらの組み合わせ等は一例であり、本発明の趣旨を逸脱しない範囲内で、構成の付加、省略、置換、およびその他の変更が可能である。
たとえば、第一、第三実施形態では、下地層５が表面に特定の凹凸構造を有する例を示したが、防眩性およびぎらつき抑制の観点で重要なのは視認側の最表面の形状であるため、視認側の最表面ではない下地層５の表面は、前記凹凸構造を有しないものであってもよい。たとえば下地層５の表面を、第一の凸部５ａを有し、第二の凸部５ｂを有しない凹凸構造を有するものとしてもよい。同様に、第二実施形態における透光性基材４の第一の表面４Ａや、第三〜第四実施形態におけるＡＲ層７の表面が、前記凹凸構造を有しないものであってもよい。最表面に特定の凹凸構造を有する透光性構造体を製造し易い点では、透光性基材と反射防止膜との間に、特定の凹凸構造を表面に有する下地層を有するか、または透光性基材の表面に特定の凹凸構造を有することが好ましい。

｛用途｝
本発明の透光性構造体の用途としては、特に限定されない。具体例としては、車両用透明部品（ヘッドライトカバー、サイドミラー、フロント透明基板、サイド透明基板、リア透明基板、インスツルメントパネル表面等。）、メータ、建築窓、ショーウインドウ、ディスプレイ（ノート型パソコン、モニタ、ＬＣＤ、ＰＤＰ 、ＥＬＤ、ＣＲＴ、ＰＤＡ等）、ＬＣＤカラーフィルタ、タッチパネル用基板、ピックアップレンズ、光学レンズ、眼鏡レンズ、カメラ部品、ビデオ部品、ＣＣＤ用カバー基板、光ファイバ端面、プロジェクタ部品、複写機部品、太陽電池用透明基板（カバーガラス等。）、携帯電話窓、バックライトユニット部品（導光板、冷陰極管等。）、バックライトユニット部品液晶輝度向上フィルム（プリズム、半透過フィルム等。）、液晶輝度向上フィルム、有機ＥＬ発光素子部品、無機ＥＬ発光素子部品、蛍光体発光素子部品、光学フィルタ、光学部品の端面、照明ランプ、照明器具のカバー、増幅レーザ光源、反射防止フィルム、偏光フィルム、農業用フィルム等が挙げられる。

本発明の透光性構造体の用途としては、高い水準で防眩性と反射防止性と低ぎらつき性とを達成出来る点から、輸送機の内装部品が好ましく、車載物品がさらに好ましい。車載物品としては、画像表示装置を備える車載システム（カーナビゲーション、インストルメントパネル、ヘッドアップディスプレイ、ダッシュボード、センターコンソール、シフトノブ等）が好ましい。

≪物品≫
本発明の物品は、前記透光性構造体を備える。
本発明の物品は、前記透光性構造体からなるものでもよく、前記透光性構造体以外の他の部材をさらに備えるものでもよい。
本発明の物品の例としては、前記で透光性構造体の用途として挙げたもの、それらのいずれか１種以上を備える装置、等が挙げられる。
装置としては、例えば画像表示装置およびこれを備えるシステム、照明装置およびこれを備えるシステム、太陽電池モジュール等が挙げられる。

本発明の物品は、ヘイズ、光沢度、防眩性、反射防止性等の光学特性の点で、画像表示装置またはこれを備えるシステムであることが好ましい。
本発明の物品が画像表示装置である場合、該画像表示装置は、画像を表示する画像表示装置本体と、画像表示装置本体の視認側に設けられた本発明の透光性構造体とを具備する。
画像表示装置本体としては、液晶パネル、有機ＥＬ（エレクトロルミネッセンス）パネル、プラズマディスプレイパネル等が挙げられる。
透光性構造体は、画像表示装置本体の保護板として、画像表示装置本体に一体に設けられてもよく、各種フィルタとして、画像表示装置本体の視認側に配置されてもよい。
以上説明した画像表示装置またはこれを備えるシステムにあっては、本発明の透光性構造体が画像表示装置本体の視認側に設けられているため、視認性が良好である。

以下、実施例を示して本発明を詳細に説明する。ただし、本発明は以下の記載によっては限定されない。
後述する例１〜１５のうち、例７、９〜１０、１２〜１３、１５は実施例であり、例１〜３、６、８、１１、１４は比較例であり、例４〜５は参考例である。
各例で使用した評価方法および材料を以下に示す。

＜評価方法＞
（液粘度測定）
英弘精機社製Ｂ型粘度計を用いて測定した。

（表面形状測定）
透光性構造体の視認側の最表面（例１は基材の表面、例２〜１５は、基材側とは反対側の表面）の表面形状は、キーエンス社製レーザ顕微鏡ＶＫ−Ｘ１００を用いて測定した（対物レンズは「×１００」を使用。観察領域：１０７μｍ×１４３μｍもしくは１０９μｍ×１４５μｍ、倍率：１０００倍）。
ここで、観察領域を２種類記載したのは、同じ×１００の規格の対物レンズを用いても、レンズの個体差により観察領域が異なるためである。測定結果は観察領域内の最大、最小、および平均値で表されるため、わずかに観察領域が異なっても、×１００の対物レンズを選定すれば、結果にはほとんど違いは無い。測定モードは「表面形状」、測定品質は「標準（１０２４×７６８）」、ピッチは「０．０８μｍ」とした。

（表面形状解析）
表面形状測定で得られた表面形状のｘｙｚデータを、イメージメトロロジー社製画像処理ソフトウエアＳＰＩＰ（バージョン５．１．１１）を用いて解析し、以下の項目を算出した。
第一の凸部の最大高さ（Ｐ ｔｏ Ｖ）、
第一の凸部の平均直径（ベアリング高さ＋０．０５μｍの高さでの断面に存在する凸部切断面のうち、直径（真円換算）１０μｍ超の凸部切断面の直径（真円換算）の平均値）、
第二の凸部の平均直径（ベアリング高さ＋０．５μｍの高さの断面に存在する凸部切断面のうち、直径（真円換算）１〜１０μｍの凸部切断面の直径（真円換算）の平均値）、
第二の凸部の最大直径および最小直径（ベアリング高さ＋０．５μｍの高さでの断面に存在する直径（真円換算）１〜１０μｍの凸部切断面のうち、最も小さい凸部切断面の直径（真円換算）および最も大きい凸部切断面の直径（真円換算））、
観察領域（１０７×１４３μｍもしくは１０９×１４５μｍの範囲）における第二の凸部の数（ベアリング高さ＋０．５μｍの高さでの断面に存在する直径（真円換算）１μｍ超の凸部切断面の数）、
第二の凸部の密度（観察領域における第二の凸部の数を１μｍ^２当たりの値に換算した値）、
第二の凸部の平均高さ（測定した領域内に存在する第二の凸部の高さをベアリング高さを基準として測定し、平均した値）。
詳細には、以下の手順で各項目を算出した。
第一の凸部の最大高さ（Ｐ ｔｏ Ｖ）の算出においては、傾き補正において、最頻値（モード）：「カスタム」、Ｚオフセット法：「最小値をゼロとする」、を選択し、検出方法：「粒子検出」、とし、形状形成においては、「形状のホールを保存」をはずし、「形状輪郭をスムージング」を選択し、「フィルタ・サイズ」は５１ポイントに設定した。フィルタリングにおいて「イメージ端の形状を含む」、を選択し、直径最小値を１０．０μｍに設定し、閾値レベルを上げていって、直径１０μｍ以上の形状が検出されなくなる閾値レベルを第一の凸部の最大高さ（Ｐ ｔｏ Ｖ）とした。
第一の凸部の平均直径の算出においては、傾き補正において、最頻値（モード）：「品質優先」、Ｚオフセット法：「ベアリング高さをゼロとする」、を選択し、検出方法：「粒子検出」、とし、形状形成においては、「形状のホールを保存」をはずし、「形状輪郭をスムージング」を選択し、「フィルタ・サイズ」は５１ポイントに設定した。閾値レベルは０．０５μｍに設定し、フィルタリングにおいて「イメージ端の形状を含む」、を選択し、直径最小値を１０．０μｍに設定した。
第二の凸部の平均直径、第二の凸部の最大直径および最小直径、観察領域における第二の凸部の数および第二の凸部の平均高さの算出においては、傾き補正において、最頻値(モード)：「品質優先」、Ｚオフセット法：「ベアリング高さをゼロとする」、を選択し、検出方法：「粒子検出」、とし、形状形成においては、「形状のホールを保存」をはずし、「形状輪郭をスムージング」を選択し、「フィルタ・サイズ」は５１ポイントに設定した。閾値レベルは０．０５μｍに設定し、フィルタリングにおいて「イメージ端の形状を含む」の選択をはずし、直径最小値を１．０μｍに設定した。

（ぎらつき（Ｓｐａｒｋｌｅ）測定）
透光性構造体について、アイシステム社製アイスケールＩＳＣ−Ａを用いてぎらつき指標値Ｓを測定した。
ぎらつき指標値Ｓに基づき、以下の基準でぎらつきを評価した。
×：ぎらつき指標Ｓ≧１００（顕著なぎらつきが見える）。
○：ぎらつき指標８０≦Ｓ＜１００（ぎらつきが見えるが実用上問題ないレベル）。
◎：ぎらつき指標６０≦Ｓ＜８０（ぎらつきがわずかに見えるレベル）。
◎◎：ぎらつき指標Ｓ＜６０（ぎらつきが全く見えないレベル）。

（ヘイズ測定）
透光性構造体のヘイズは、ヘイズメーター（村上色彩研究所社製ＨＲ−１００型）を用いて、ＪＩＳ Ｋ７１３６：２０００に規定されている方法に従って測定した。

（６０°鏡面光沢度）
透光性構造体の視認側の最表面の光沢度として６０゜鏡面光沢度を測定した。６０゜鏡面光沢度は、ＪＩＳ Ｚ８７４１：１９９７の６０゜鏡面光沢度に規定されている方法で、光沢度計（コニカミノルタ社製、ＭＵＬＴＩ ＧＬＯＳＳ ２６８Ｐｌｕｓ）を用い、透光性構造体の裏面反射は消さず、最表面のほぼ中央部で測定した。

（Ｙ（ＳＣＩ））
ＳＣＩ方式での反射率Ｙ（％）は、コニカミノルタ製 ＣＭ−２６００ｄにより測定した。

（指滑り）
透光性構造体の視認側の最表面の指滑り性は、以下の基準で評価した。
○：指で表面を触った時の触感が非常につるつるして滑らかである。
×：指で表面を触った時の触感としてひっかかりを感じる。

（ベース液（Ａ）の調製）
液状媒体（Ｂ）としての変性エタノール（日本アルコール販売社製、ソルミックス（登録商標）ＡＰ−１１、エタノールを主剤とした混合溶媒；以下同様）に、シリカ前駆体（Ａ）としてのシリケート４０（多摩化学工業社製、テトラエトキシシランおよびその加水分解縮合物の混合物）を加え、３０分間撹拌した。これに、イオン交換水および硝酸水溶液（硝酸濃度：６１質量％の混合液を加え、６０分間撹拌し、ベース液（Ａ）を調製した。

（シラン化合物溶液（Ｂ）の調製）
変性エタノールに、イオン交換水および硝酸水溶液（硝酸濃度：６１質量％）の混合液を加え、５分間撹拌した。そこにシリカ前駆体（Ａ）としての１，６−ビス（トリメトキシシリル）ヘキサン（信越化学工業社製、ＫＢＭ−３０６６）を加え、ウォーターバス中６０℃で１５分間撹拌し、シラン化合物溶液（Ｂ）を調製した。

（塗布液（Ｃ）の調製）
上記ベース液（Ａ）と上記シラン化合物溶液（Ｂ）とを混合し、塗布液（Ｃ）を調製した。

（ベース液（Ｄ）の調製）
変性エタノール、ビニルトリメトキシシランおよび鱗片状シリカ粒子分散液（日本国特許第４０６３４６４号公報に記載の方法で作製したもの、２５℃における粘度：０．１００Ｐａ・ｓ）を加え、３０分間撹拌した。これに、イオン交換水および硝酸水溶液（硝酸濃度：６１質量％の混合液を加え、６０分間撹拌し、ベース液（Ｄ）を調製した。

（塗布液（Ｃ）の調製）
ベース液（Ａ）を上記ベース液（Ｄ）に変更した以外は、塗布液（Ｃ）の調製と同様の操作を行って塗布液（Ｃ）を調製した。

（塗布液（Ｆ）の調製）
ベース液（Ａ）の調製の際に用いるビニルトリメトキシシランをシリケート４０に変更した以外は、塗布液（Ｃ）の調製と同様の操作を行って塗布液（Ｆ）を調製した。

（塗布液（Ｇ）の調製）
ビニルトリメトキシシランをシリケート４０に変更した以外は、ベース液（Ｄ）の調製と同様の操作を行って塗布液（Ｇ）を調製した。

（中空状ＳｉＯ_２微粒子分散液（Ｈ）の調製）
エタノールの５９ｇを撹拌しながら、ＺｎＯ微粒子水分散液（固形分濃度：２０質量％、平均一次粒子径：３０ｎｍ）の３０ｇ、テトラエトキシシラン（ＳｉＯ_２換算固形分量：２９質量％）の１０ｇを加えた後、２８質量％のアンモニア水溶液の１ｇを加え、分散液のｐＨを１０に調整し、２０℃で６時間撹拌して、コア−シェル型微粒子分散液（固形分濃度：６質量％）の１００ｇを得た。
得られたコア−シェル型微粒子分散液に、強酸性カチオン交換樹脂（三菱化学社製、ダイヤイオン、総交換量：２．０ｍｓｅｑ／ｍＬ以上）の１００ｇを加え、１時間撹拌してｐＨが４となった後、ろ過により強酸性カチオン樹脂を除去し、該分散液を限外ろ過することでＳｉＯ_２換算固形分濃度が１５質量％の中空状ＳｉＯ_２微粒子分散液（Ｈ）を得た。中空状ＳｉＯ_２微粒子の外殻厚さは８ｎｍであり、空孔径は２６ｎｍであり、平均一次粒子径は４２ｎｍであった。

（マトリックス前駆体溶液（Ｉ））
マトリックス前駆体溶液（Ｉ）として、コルコート社製、コルコートＰ（アルコキシシランの加水分解物の溶液、ＳｉＯ_２換算固形分濃度：２質量％、エタノール：４質量％、イソプロパノール：４０質量％、ｎ−ブタノール：５０質量％、水：４質量％）を用意した。

〔例１〕
基材として、旭硝子社製化学強化用特殊ガラスＤｒａｇｏｎｔｒａｉｌ（登録商標）（サイズ：１００ｍｍ×１００ｍｍ、厚さ：１．１ｍｍ、波長５５０ｎｍでの透過率：９１．４％、表面の算術平均粗さＲａ：０．１３ｎｍ（英弘精機製ＳＰＡ４００−ＡＦＭで測定））を用意した。この基材に対して、ＫＮＯ_３溶融塩を用いて、４１０℃で２．５時間の化学強化処理を実施した。化学強化処理を実施した結果、ＤＯＬ（Ｄｅｐｔｈ Ｏｆ Ｌａｙｅｒ）が２５μｍ、ＣＳ（Ｃｏｍｐｒｅｓｓｉｖｅ Ｓｔｒｅｓｓ）が７５０ＭＰａであった。この化学強化処理した基材を例１の透光性構造体とした。

〔例２〕
（基材の前処理）
例１で用いたのと同じ基材を用意し、ＫＮＯ_３溶融塩を用いて、４１０℃で２．５時間の化学強化処理をした。次いで、その表面を中性洗剤で洗浄し、純水で洗浄し、乾燥させる前処理を行った。

（スパッタ法によるＡＲ層の形成）
前処理を行った基材を、薄膜形成装置の基板ホルダーにセットした。
薄膜形成装置に、アルゴンガスをアルゴンガス分圧が０．３Ｐａ、酸素ガスを酸素ガス分圧が０．３Ｐａとなるよう導入しながら、Ｎｂターゲットを用い、投入電力１０ｋＷにてスパッタリングを行い、前記基材の上に厚さ約１３ｎｍ、屈折率（ｎ）２．３６の高屈折率層を形成した。次に、アルゴンガスをアルゴンガス分圧が０．２９Ｐａ、酸素ガスを酸素ガス分圧が０．２７Ｐａとなるよう導入しながら、Ｓｉターゲットを用い、投入電力１０ｋＷにてスパッタリングを行い、前記高屈折率層の上に厚さ約３５ｎｍ、屈折率（ｎ）１．４７の低屈折率層を形成した。
この後、前記低屈折率層の上に、上述した高屈折率層と同様の材料を用いて同様の形成方法により、厚さ約１１５ｎｍの高屈折率層を形成し、さらにこの高屈折率層の上に、上述した低屈折率層と同様の材料を用いて同様の形成方法により、厚さが約８９ｎｍの低屈折率層を形成した。これにより、基材と４層構造のＡＲ層とが積層した積層体を得た。この積層体を例２の透光性構造体とした。

〔例３〕
（基材の前処理）
例１で用いたのと同じ基材を用意し、その表面を炭酸水素ナトリウム水で洗浄後、イオン交換水でリンスし、乾燥させる前処理を行った。

（静電塗装装置）
図５に示した静電塗装装置１０と同様の構成の静電塗装装置（液体静電コーター、旭サナック社製）を用意した。静電塗装ガンとしては、回転霧化式自動静電ガン（旭サナック社製、サンベル、ＥＳＡ１２０、カップ径７０ｍｍ）を用意した。
基材の接地をより取りやすくするために導電性基板として金属メッシュトレイを用意した。

（静電塗装）
静電塗装装置のコーティングブース内の温度を２５±１℃の範囲内、湿度を５０％±１０％の範囲内に調節した。
静電塗装装置のチェーンコンベア上に、あらかじめ３０℃±３℃に加熱しておいた前処理済みの基材を、導電性基板を介して置いた。チェーンコンベアで等速搬送しながら、基材のＴ面（フロート法による製造時に溶融スズに接した面の反対側の面）に、表１に示す塗布条件（コート液量、カップ回転数、ノズル高さ、カップ径、電圧、塗布回数）による静電塗装法によって、２５±１℃の範囲内の温度の塗布液（Ｃ）を塗布した後、大気中、４５０℃で３０分間焼成して下地層を形成した。これにより、基材と下地層とが積層した積層体を得た。この積層体に対し、ＫＮＯ_３溶融塩を用いて、４１０℃で２．５時間の化学強化処理をし、例３の透光性構造体とした。

〔例４〕
例３と同様にして、基材と下地層とが積層した積層体を得た。
この積層体に対し、ＫＮＯ_３溶融塩を用いて、４１０℃で２．５時間の化学強化処理をした。次いで、下地層の表面を中性洗剤で洗浄し、純水で洗浄し、乾燥させる前処理を行った。
次に、前処理を行った積層体を薄膜形成装置の基板ホルダーにセットし、下地層上に、例２と同様にしてＡＲ層を形成した。これにより、基材と下地層と４層構造のＡＲ層とが積層した積層体を得た。この積層体を例４の透光性構造体とした。

〔例５〕
例３と同様にして、基材と下地層とが積層した積層体を得た。
この積層体に対し、例４と同様に、化学強化処理および前処理を行った。

（蒸着法によるＡＲ層の形成）
次に、前処理を行った積層体を薄膜形成装置の基板ホルダーにセットした。
真空引きを行い、設定温度２００℃程度で基板加熱した状態で保持した後、薄膜形成装置にアルゴンガスと酸素ガスを導入しながら、０．０３Ｐａ程度の圧力にて、電子ビーム蒸着により第１層目の高屈折率層のＴａ_２Ｏ_５をおよそ１４ｎｍの膜厚で形成した。この際、成膜装置に付帯しているイオン源にＡｒとＯ_２ガスを流し、電圧１０００Ｖ、電流１０００ｍＡを印加し、アルゴンイオンや酸素イオンを基板上にアシストしながら成膜を行った。以下、２〜４層目でも同様にして、アルゴンイオンや酸素イオンを基板上にアシストしながら成膜を行った。
次いで、０．０３Ｐａ程度の圧力にて、電子ビーム蒸着により第２層目の低屈折率層のＳｉＯ_２をおよそ３３ｎｍの膜厚で形成した。その後、第１層目と同様にして、第３層目の高屈折率層のＴａ_２Ｏ_５をおよそ１２１ｎｍの膜厚で形成した。次に、第２層目と同様にして、第４層目の低屈折率層のＳｉＯ_２をおよそ８１ｎｍの膜厚で形成し、蒸着のＡＲ層を得た。これにより、基材と下地層と４層構造のＡＲ層とが積層した積層体を得た。

ここでは、電子ビームを用い、かつイオンをアシストする方式の蒸着を行ったが、抵抗加熱蒸着等の別の方式やイオンプレーティング等の他の方式の蒸着であってもよい。また、ここでは設定温度２００℃程度で基板加熱したが、１００℃程度の低温あるいは無加熱であってもよい。ただし、膜の密着性等の観点からは、設定温度１５０〜２００℃程度で基板加熱しておくことが好ましい。

〔例６、８、１１、１４〕
静電塗装に用いる塗布液および塗布条件を表１に示すようにした以外は例３と同様にして、基材と下地層とが積層した積層体を得た。得られた積層体に対し、ＫＮＯ_３溶融塩を用いて、４１０℃で２．５時間の化学強化処理をし、それぞれ例６、８、１１、１４の透光性構造体とした。

〔例７〕
例６と同様にして、基材と下地層とが積層した積層体を得た。
この積層体に対し、例４と同様に、化学強化処理および前処理を行った。
次に、前処理を行った積層体を薄膜形成装置の基板ホルダーにセットし、下地層上に、例２と同様にしてＡＲ層を形成した。これにより、基材と下地層と４層構造のＡＲ層とが積層した積層体を得た。この積層体を例７の透光性構造体とした。

〔例９〕
例８と同様にして、基材と下地層とが積層した積層体を得た。
この積層体に対し、例４と同様に、化学強化処理および前処理を行った。
次に、前処理を行った積層体を薄膜形成装置の基板ホルダーにセットし、下地層上に、例２と同様にしてＡＲ層を形成した。これにより、基材と下地層と４層構造のＡＲ層とが積層した積層体を得た。この積層体を例９の透光性構造体とした。

〔例１０〕
例９と同様にして、基材と下地層とが積層した積層体に対し、ＫＮＯ_３溶融塩を用いて、４１０℃で２．５時間の化学強化処理をし、基材と下地層と４層構造のＡＲ層とが積層した積層体を得た。

（ＡＦＰ層の形成）
次に、この積層体を薄膜形成装置から取り出し、前記ＡＲ層の表面をコロナ処理装置を用いてクリーニング処理した後、最表面の低屈折率層の上に、フッ素系撥油剤（旭硝子社製、商品名「Ａｆｌｕｉｄ（登録商標） Ｓ−５５０」）をスプレーコーティング装置を用いて成膜し厚さ約７ｎｍのＡＦＰ層を形成した。ＡＦＰ層の成膜後に、大気中、１２０℃で２０分熱処理を行った。これにより、基材と下地層と４層構造のＡＲ層とＡＦＰ層とが積層した積層体を得た。この積層体を例１０の透光性構造体とした。
なお、本実施例では旭硝子社製、商品名「Ａｆｌｕｉｄ（登録商標） Ｓ−５５０」を用いたが、特にこの商品、材料に限定されるものではなく、ダイキン社製 オプツールＤＳＸなどを用いてもよい。

〔例１２〕
例１１と同様にして、基材と下地層とが積層した積層体を得た。
この積層体に対し、例４と同様に、化学強化処理および前処理を行った。
次に、前処理を行った積層体を薄膜形成装置の基板ホルダーにセットし、下地層上に、例２と同様にしてＡＲ層を形成した。これにより、基材と下地層と４層構造のＡＲ層とが積層した積層体を得た。この積層体を例１２の透光性構造体とした。

〔例１３〕
例１１と同様にして、基材と下地層とが積層した積層体を得た。
この積層体に対し、例４と同様に、化学強化処理および前処理を行った。

（スパッタ法によるＡＲ層の形成）
前処理を行った積層体を、薄膜形成装置の基板ホルダーにセットした。
薄膜形成装置に、アルゴンガスをアルゴンガス分圧が０．３Ｐａ、酸素ガスを酸素ガス分圧が０．３Ｐａとなるよう導入しながら、Ｎｂターゲットを用い、投入電力１０ｋＷにてスパッタリングを行い、前記基材の上に厚さ約１３ｎｍ、屈折率（ｎ）２．３６の高屈折率層を形成した。次に、アルゴンガスをアルゴンガス分圧が０．２９Ｐａ、酸素ガスを酸素ガス分圧が０．２７Ｐａとなるよう導入しながら、Ｓｉターゲットを用い、投入電力１０ｋＷにてスパッタリングを行い、前記高屈折率層の上に厚さ約３８ｎｍ、屈折率（ｎ）１．４７の低屈折率層を形成した。
この後、前記低屈折率層の上に、上述した高屈折率層、低屈折率層と同様の材料を用いて同様の形成方法により、厚さ約４４ｎｍの高屈折率層、厚さ約１９ｎｍの低屈折率層、厚さ約３７ｎｍの高屈折率層、厚さ約９７ｎｍの低屈折率層を、この順に形成した。これにより、基材と下地層と６層構造のＡＲ層とが積層した積層体を得た。この積層体を例１３の透光性構造体とした。

〔例１５〕
エタノールの８２．４ｇを撹拌しながら、これに中空状ＳｉＯ_２微粒子分散液（Ｈ）の９．６ｇおよびマトリックス前駆体溶液（Ｉ）の８．０ｇを加え、固形分濃度が２．０質量％の上層塗布液を調製した。
また、ガラス板（屈折率ｎｓ：１．５３）の表面に、後述の上層形成条件と同じ条件にて上層塗布液を塗布、焼成して単層膜を形成し、屈折率、膜厚を求めた。その結果、前記単層膜の屈折率は１．２４、膜厚は１０８ｎｍであった。

例１４と同様にして、基材と下地層とが積層した積層体を得た。
この積層体を予熱炉にて予熱した後、下地層の上に前記上層塗布液をスピンコート（５００ｒｐｍ、２０秒間）にて塗布した。その後、６５０℃で１０分間焼成してＡＲ層を形成した。これにより、基材と下地層とＡＲ層とが積層した積層体を得た。この積層体を例１５の透光性構造体とした。

得られた透光性構造体について、前記の評価を行った。結果を表２に示す。
また、図１４〜１６にそれぞれ、例８〜１０で得た透光性構造体における視認側の最表面を斜め上方６０度から観察したＳＥＭ像を示す。ＳＥＭ像は日立ハイテクフィールディング社製走査電子顕微鏡Ｓ−３４００Ｎを用いて６００倍の倍率で撮影した。

上記結果に示すとおり、例４〜５、７、９〜１０、１２〜１３、１５の透光性構造体は、Ｙ値が３％以下であり、優れた反射防止性を有していた。また、ヘイズが０．３％以上であり、防眩性を有していた。特に例７、９〜１０、１２〜１３、１５の防眩性が優れていた。また、ぎらつき指標Ｓが１００未満であり、実用上充分にぎらつきが抑制されていた。ＡＦＰ層を最表層に設けた例１０の透光性構造体は、指滑り性にも優れていた。
一方、ＡＲ層を備えておらず、最表面に凹凸構造の無い例１の透光性構造体は、Ｙ値が最も高かった。ＡＲ層を備えていても最表面に凹凸構造が無い例２の透光性構造体は、ヘイズが小さく、防眩性に劣っていた。ＡＲ層を備えておらず、最表面の凹凸構造が第２の凸部を含まない例３の透光性構造体は、防眩性および反射防止性に劣っていた。ＡＲ層を備えていない例６、８、１１、１４の透光性構造体は、反射防止性に劣っていた。

本出願は、２０１５年８月３１日出願の日本特許出願、特願２０１５−１７０８７４に基づくものであり、その内容はここに参照として取り込まれる。

本発明の透光性構造体にあっては、透光性基材の視認側にＡＲ層を備え、視認側の最表面に、第一の凸部と第二の凸部とを含み、第二の凸部の数が１μｍ^２あたり０．０００１〜１．２個である凹凸構造を有するため、防眩性および反射防止性に優れ、かつぎらつきが充分に抑制されている。
そのため、たとえば画像表示装置の表示面に本発明の透光性構造体を配置すると、外光の反射自体が抑えられ、外光が表示面に映り込むことによる画像の視認性の低下を抑制できる。また、最表面の凹凸構造によって外光が拡散反射され、反射像が不鮮明になり、この点からも、外光が表示面に映り込むことによる画像の視認性の低下を抑制できる。さらに、凹凸構造の表面でぎらつきが発生しにくく、ぎらつきによる画像の視認性の低下を抑制できる。
本発明の透光性構造体は、前記で挙げた多様な用途に用いることができる。特に、高い水準で防眩性と反射防止性と低ぎらつき性とを達成出来る点から、輸送機の内装部品、なかでも車載物品に好適に用いることができる。

１、２、６ 透光性構造体
３、４ 透光性基材
５ 下地層
７ 反射防止（ＡＲ）層
８ 透光性構造体
９ 撥水撥油（ＡＦＰ）層
４ａ、５ａ、７ａ、９ａ 第一の凸部
４ｂ、５ｂ、７ｂ、９ｂ 第二の凸部
１０ 静電塗装装置
１１ コーティングブース
１２ チェーンコンベア
１３ 高電圧ケーブル
１４ 塗料組成物の供給ライン
１５ 塗料組成物の回収ライン
１６ａ、１６ｂ エアの供給ライン
１７ 静電塗装ガン
１８ 高電圧発生装置
１９ 排気ダクト
２０ 排気ボックス
２１ 導電性基板
３０ ガン本体
３１ 塗料供給管
３２ 回転軸
３３ 吹出口
３５ エア供給路
４０ 回転霧化頭
４１ 第１部品
４２ 第２部品
４３ 軸取付部
４４ 保持部
４５ 周壁
４６ 誘導面
４７ 拡径部
４８ 拡散面
４９ 前面壁
５０ 流出孔
５１ 筒状部
５２ 後面壁
５３ 貫通孔
Ｓ 貯留室

Claims (11)

1. 透光性基材と、前記透光性基材の視認側に設けられた反射防止層とを備えることによりＳＣＩ方式での反射率が、３％以下であり、
   ヘイズが１０％超７０％以下であり、
   視認側の最表面が以下の凹凸構造を有する透光性構造体。
   凹凸構造：レーザ顕微鏡で、無作為に選択される（１０１μｍ×１３５μｍ）〜（１１１μｍ×１４８μｍ）の領域を測定して得られる表面形状のベアリング高さ＋０．０５μｍの高さでの断面における直径（真円換算）が１０μｍ超である第一の凸部と、前記表面形状のベアリング高さ＋０．５μｍの高さでの断面における直径（真円換算）が１μｍ超である第二の凸部とを含み、
   前記表面形状のベアリング高さ＋０．０５μｍの高さでの断面における前記第一の凸部の平均直径（真円換算）が１０μｍ超１８５μｍ以下であり、
   前記第一の凸部の、前記領域内で最も低い部分の高さを基準とした最大高さが０．２〜８μｍであり、
   前記第二の凸部の数が、１μｍ^２あたり０．００２２７８〜１．２個であり、前記第二の凸部の、前記ベアリング高さを基準とした平均高さが０．１〜８μｍである。
2. 最も視認側に前記反射防止層が存在する請求項１に記載の透光性構造体。
3. 撥水撥油層をさらに備え、
   最も視認側に前記撥水撥油層が存在し、その直下に前記反射防止層が存在する請求項１に記載の透光性構造体。
4. 前記透光性基材と前記反射防止層との間に下地層をさらに備え、
   前記下地層の前記反射防止層側の表面が前記凹凸構造を有する請求項１〜３のいずれか一項に記載の透光性構造体。
5. 前記透光性基材の視認側の表面が前記凹凸構造を有する請求項１〜３のいずれか一項に記載の透光性構造体。
6. 前記透光性基材がガラス板である請求項１〜５のいずれか一項に記載の透光性構造体。
7. 前記透光性基材が曲面を有する請求項１〜６のいずれか一項に記載の透光性構造体。
8. 車載物品用である請求項１〜７のいずれか一項に記載の透光性構造体。
9. 請求項４に記載の透光性構造体の製造方法であって、
   透光性基材上に塗料組成物を塗布して塗膜を形成し、前記塗膜を焼成することにより下地層を形成する工程と、
   前記下地層上に反射防止層を形成する工程と、
   を有し、
   前記塗料組成物が、シリカ前駆体（Ａ）および粒子（Ｃ）の少なくとも一方と、液状媒体（Ｂ）とを含み、かつ前記液状媒体（Ｂ）が、沸点１５０℃以下の液状媒体（Ｂ１）を、前記液状媒体（Ｂ）の全量に対して８６質量％以上含み、
   前記塗料組成物の塗布が、回転霧化頭を備える静電塗装ガンを備える静電塗装装置を用いて前記塗料組成物を帯電させ噴霧することにより行われることを特徴とする透光性構造体の製造方法。
10. 前記塗料組成物の塗布温度における粘度が、０．００３Ｐａ・ｓ以下である、請求項９に記載の透光性構造体の製造方法。
11. 請求項１〜８のいずれか一項に記載の透光性構造体を備える物品。

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