TW201540657A - 氫製造系統及氫製造方法 - Google Patents

氫製造系統及氫製造方法 Download PDF

Info

Publication number
TW201540657A
TW201540657A TW104107422A TW104107422A TW201540657A TW 201540657 A TW201540657 A TW 201540657A TW 104107422 A TW104107422 A TW 104107422A TW 104107422 A TW104107422 A TW 104107422A TW 201540657 A TW201540657 A TW 201540657A
Authority
TW
Taiwan
Prior art keywords
dehydrogenation
hydrogen
reactor
reaction
catalyst
Prior art date
Application number
TW104107422A
Other languages
English (en)
Other versions
TWI628142B (zh
Inventor
Tomoyuki Mikuriya
Kenichi Imagawa
Hironori Kawai
Yusuke Nakajima
Takenori Kanda
Original Assignee
Chiyoda Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Chiyoda Corp filed Critical Chiyoda Corp
Publication of TW201540657A publication Critical patent/TW201540657A/zh
Application granted granted Critical
Publication of TWI628142B publication Critical patent/TWI628142B/zh

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C01—INORGANIC CHEMISTRY
    • C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
    • C01B3/00—Hydrogen; Gaseous mixtures containing hydrogen; Separation of hydrogen from mixtures containing it; Purification of hydrogen
    • C01B3/02—Production of hydrogen or of gaseous mixtures containing a substantial proportion of hydrogen
    • C01B3/22—Production of hydrogen or of gaseous mixtures containing a substantial proportion of hydrogen by decomposition of gaseous or liquid organic compounds
    • C01B3/24—Production of hydrogen or of gaseous mixtures containing a substantial proportion of hydrogen by decomposition of gaseous or liquid organic compounds of hydrocarbons
    • C01B3/26—Production of hydrogen or of gaseous mixtures containing a substantial proportion of hydrogen by decomposition of gaseous or liquid organic compounds of hydrocarbons using catalysts
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J7/00—Apparatus for generating gases
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J8/00—Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes
    • B01J8/02—Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes with stationary particles, e.g. in fixed beds
    • B01J8/04—Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes with stationary particles, e.g. in fixed beds the fluid passing successively through two or more beds
    • B01J8/0446—Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes with stationary particles, e.g. in fixed beds the fluid passing successively through two or more beds the flow within the beds being predominantly vertical
    • B01J8/0449—Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes with stationary particles, e.g. in fixed beds the fluid passing successively through two or more beds the flow within the beds being predominantly vertical in two or more cylindrical beds
    • B01J8/0453—Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes with stationary particles, e.g. in fixed beds the fluid passing successively through two or more beds the flow within the beds being predominantly vertical in two or more cylindrical beds the beds being superimposed one above the other
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J8/00—Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes
    • B01J8/02—Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes with stationary particles, e.g. in fixed beds
    • B01J8/04—Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes with stationary particles, e.g. in fixed beds the fluid passing successively through two or more beds
    • B01J8/0446—Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes with stationary particles, e.g. in fixed beds the fluid passing successively through two or more beds the flow within the beds being predominantly vertical
    • B01J8/0449—Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes with stationary particles, e.g. in fixed beds the fluid passing successively through two or more beds the flow within the beds being predominantly vertical in two or more cylindrical beds
    • B01J8/0457—Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes with stationary particles, e.g. in fixed beds the fluid passing successively through two or more beds the flow within the beds being predominantly vertical in two or more cylindrical beds the beds being placed in separate reactors
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J8/00—Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes
    • B01J8/02—Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes with stationary particles, e.g. in fixed beds
    • B01J8/04—Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes with stationary particles, e.g. in fixed beds the fluid passing successively through two or more beds
    • B01J8/0446—Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes with stationary particles, e.g. in fixed beds the fluid passing successively through two or more beds the flow within the beds being predominantly vertical
    • B01J8/0476—Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes with stationary particles, e.g. in fixed beds the fluid passing successively through two or more beds the flow within the beds being predominantly vertical in two or more otherwise shaped beds
    • B01J8/0488—Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes with stationary particles, e.g. in fixed beds the fluid passing successively through two or more beds the flow within the beds being predominantly vertical in two or more otherwise shaped beds the beds being placed in separate reactors
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J8/00—Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes
    • B01J8/02—Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes with stationary particles, e.g. in fixed beds
    • B01J8/04—Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes with stationary particles, e.g. in fixed beds the fluid passing successively through two or more beds
    • B01J8/0492—Feeding reactive fluids
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J8/00—Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes
    • B01J8/02—Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes with stationary particles, e.g. in fixed beds
    • B01J8/04—Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes with stationary particles, e.g. in fixed beds the fluid passing successively through two or more beds
    • B01J8/0496—Heating or cooling the reactor
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J8/00—Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes
    • B01J8/02—Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes with stationary particles, e.g. in fixed beds
    • B01J8/06—Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes with stationary particles, e.g. in fixed beds in tube reactors; the solid particles being arranged in tubes
    • B01J8/067—Heating or cooling the reactor
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C01—INORGANIC CHEMISTRY
    • C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
    • C01B3/00—Hydrogen; Gaseous mixtures containing hydrogen; Separation of hydrogen from mixtures containing it; Purification of hydrogen
    • C01B3/02—Production of hydrogen or of gaseous mixtures containing a substantial proportion of hydrogen
    • C01B3/22—Production of hydrogen or of gaseous mixtures containing a substantial proportion of hydrogen by decomposition of gaseous or liquid organic compounds
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J2208/00—Processes carried out in the presence of solid particles; Reactors therefor
    • B01J2208/00008—Controlling the process
    • B01J2208/00017—Controlling the temperature
    • B01J2208/00106—Controlling the temperature by indirect heat exchange
    • B01J2208/00168—Controlling the temperature by indirect heat exchange with heat exchange elements outside the bed of solid particles
    • B01J2208/00176—Controlling the temperature by indirect heat exchange with heat exchange elements outside the bed of solid particles outside the reactor
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J2208/00—Processes carried out in the presence of solid particles; Reactors therefor
    • B01J2208/00008—Controlling the process
    • B01J2208/00017—Controlling the temperature
    • B01J2208/00106—Controlling the temperature by indirect heat exchange
    • B01J2208/00168—Controlling the temperature by indirect heat exchange with heat exchange elements outside the bed of solid particles
    • B01J2208/00256—Controlling the temperature by indirect heat exchange with heat exchange elements outside the bed of solid particles in a heat exchanger for the heat exchange medium separate from the reactor
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J2208/00—Processes carried out in the presence of solid particles; Reactors therefor
    • B01J2208/02—Processes carried out in the presence of solid particles; Reactors therefor with stationary particles
    • B01J2208/023—Details
    • B01J2208/024—Particulate material
    • B01J2208/025—Two or more types of catalyst
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J2208/00—Processes carried out in the presence of solid particles; Reactors therefor
    • B01J2208/06—Details of tube reactors containing solid particles
    • B01J2208/065—Heating or cooling the reactor
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C01—INORGANIC CHEMISTRY
    • C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
    • C01B2203/00—Integrated processes for the production of hydrogen or synthesis gas
    • C01B2203/02—Processes for making hydrogen or synthesis gas
    • C01B2203/0266—Processes for making hydrogen or synthesis gas containing a decomposition step
    • C01B2203/0277—Processes for making hydrogen or synthesis gas containing a decomposition step containing a catalytic decomposition step
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C01—INORGANIC CHEMISTRY
    • C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
    • C01B2203/00—Integrated processes for the production of hydrogen or synthesis gas
    • C01B2203/08—Methods of heating or cooling
    • C01B2203/0805—Methods of heating the process for making hydrogen or synthesis gas
    • C01B2203/0833—Heating by indirect heat exchange with hot fluids, other than combustion gases, product gases or non-combustive exothermic reaction product gases
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C01—INORGANIC CHEMISTRY
    • C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
    • C01B2203/00—Integrated processes for the production of hydrogen or synthesis gas
    • C01B2203/10—Catalysts for performing the hydrogen forming reactions
    • C01B2203/1041—Composition of the catalyst
    • C01B2203/1047—Group VIII metal catalysts
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C01—INORGANIC CHEMISTRY
    • C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
    • C01B2203/00—Integrated processes for the production of hydrogen or synthesis gas
    • C01B2203/10—Catalysts for performing the hydrogen forming reactions
    • C01B2203/1041—Composition of the catalyst
    • C01B2203/1047—Group VIII metal catalysts
    • C01B2203/1052—Nickel or cobalt catalysts
    • C01B2203/1058—Nickel catalysts
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C01—INORGANIC CHEMISTRY
    • C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
    • C01B2203/00—Integrated processes for the production of hydrogen or synthesis gas
    • C01B2203/10—Catalysts for performing the hydrogen forming reactions
    • C01B2203/1041—Composition of the catalyst
    • C01B2203/1047—Group VIII metal catalysts
    • C01B2203/1064—Platinum group metal catalysts
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C01—INORGANIC CHEMISTRY
    • C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
    • C01B2203/00—Integrated processes for the production of hydrogen or synthesis gas
    • C01B2203/10—Catalysts for performing the hydrogen forming reactions
    • C01B2203/1041—Composition of the catalyst
    • C01B2203/1047—Group VIII metal catalysts
    • C01B2203/1064—Platinum group metal catalysts
    • C01B2203/107—Platinum catalysts
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C01—INORGANIC CHEMISTRY
    • C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
    • C01B2203/00—Integrated processes for the production of hydrogen or synthesis gas
    • C01B2203/10—Catalysts for performing the hydrogen forming reactions
    • C01B2203/1041—Composition of the catalyst
    • C01B2203/1082—Composition of support materials
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C01—INORGANIC CHEMISTRY
    • C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
    • C01B2203/00—Integrated processes for the production of hydrogen or synthesis gas
    • C01B2203/12—Feeding the process for making hydrogen or synthesis gas
    • C01B2203/1205—Composition of the feed
    • C01B2203/1211—Organic compounds or organic mixtures used in the process for making hydrogen or synthesis gas
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C01—INORGANIC CHEMISTRY
    • C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
    • C01B2203/00—Integrated processes for the production of hydrogen or synthesis gas
    • C01B2203/12—Feeding the process for making hydrogen or synthesis gas
    • C01B2203/1205—Composition of the feed
    • C01B2203/1211—Organic compounds or organic mixtures used in the process for making hydrogen or synthesis gas
    • C01B2203/1235—Hydrocarbons
    • C01B2203/1252—Cyclic or aromatic hydrocarbons
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C01—INORGANIC CHEMISTRY
    • C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
    • C01B2203/00—Integrated processes for the production of hydrogen or synthesis gas
    • C01B2203/14—Details of the flowsheet
    • C01B2203/142—At least two reforming, decomposition or partial oxidation steps in series
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C01—INORGANIC CHEMISTRY
    • C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
    • C01B2203/00—Integrated processes for the production of hydrogen or synthesis gas
    • C01B2203/16—Controlling the process
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C01—INORGANIC CHEMISTRY
    • C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
    • C01B2203/00—Integrated processes for the production of hydrogen or synthesis gas
    • C01B2203/16—Controlling the process
    • C01B2203/1614—Controlling the temperature
    • C01B2203/1623—Adjusting the temperature

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Combustion & Propulsion (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Hydrogen, Water And Hydrids (AREA)

Abstract

本發明之課題係為抑制進行有機氫化物之脫氫反應的脫氫反應裝置中脫氫觸媒之活性降低，要可藉簡易之構成對該脫氫反應裝置供給氫。 本發明之解決手段係提供一種氫製造系統，其包含：第1脫氫反應裝置，係在有機氫化物之觸媒存在下藉脫氫反應生成氫者；及第2脫氫反應裝置，係經供給第1脫氫反應裝置之生成物，並在殘留於該生成物中之有機氫化物的觸媒存在下藉脫氫反應生成氫者；又，該氫製造系統構造成第1脫氫反應裝置中使用之第1觸媒的量係在第2脫氫反應裝置中使用之第2觸媒的量以下，且第1脫氫反應裝置之氫產生量比第2脫氫反應裝置之氫產生量少。

Description

氫製造系統及氫製造方法 技術領域
本發明係有關於藉有機氫化物之脫氫化來製造氫之氫製造系統及氫製造方法，特別有關於適於應用在有機化學氫化物法之氫製造系統及氫製造方法，該有機化學氫化物法係藉由使芳香族化合物氫化而在有機氫化物之狀態下進行氫之貯藏或輸送。
背景技術
近年來，已開發出使甲苯等之芳香族化合物氫化，且在有機氫化物(氫化芳香族化合物)之狀態下進行氫之貯藏或輸送的有機化學氫化物法。依據該方法，氫可在生產地轉換成有機氫化物，且以有機氫化物之形態輸送。此外，在鄰近都市等之氫使用地之工廠或加氫站等中，藉有機氫化物之脫氫反應生成氫及芳香族化合物。經脫氫反應產生之芳香族化合物再被輸送至氫生產地，且使用於氫化反應中。
上述有機氫化物之脫氫反應中，有時來自有毒物質(例如，在芳香族化合物氫化時產生之苯基等)之碳會 附著於脫氫觸媒之表面(即，因碳化而析出)等，使觸媒之活性(即，壽命)顯著地降低。
因此，以往，使藉有機氫化物之脫氫反應在脫氫反應裝置中產生之氫的一部份在該脫氫反應裝置中循環(即，使由外部供給之氫在觸媒層中流通)，藉此抑制在脫氫觸媒析出碳，因此，可抑制觸媒活性之降低的技術是習知的(參照專利文獻1、2)。依據如此之習知技術，具有不需要外部之氫供給源，且，由外部供給氫時亦不用調整氫之純度的優點。
先前技術文獻 專利文獻
專利文獻1：日本特開2010-6652號公報
專利文獻2：日本特開2011-195418號公報
發明概要
又，本申請案發明人等發現在對脫氫反應供給反應物(原料)的同時不提供氫之一般脫氫反應中，會在氫不存在(或氫濃度比較低)之脫氫反應裝置的入口(反應物之供給口)附近激烈地進行反應，因此該入口附近之脫氫觸媒的活性顯著降低，這會成為觸媒之壽命減少之主因。
但是，如上述專利文獻1、2記載之習知技術所述，在使經脫氫反應產生之氫在脫氫反應裝置中循環的構成中，由於運轉開始時在脫氫反應裝置中循環之氫量不穩 定，故有在脫氫反應裝置之入口附近劇烈地進行脫氫反應、或為抑制如此之劇烈反應而需要額外之外部氫供給源的問題。此外，在上述習知技術中，亦有不僅需要用以使氫在脫氫反應裝置中循環之新設備，而且脫氫反應裝置之構成複雜化的問題。
本發明係有鑒於所述習知技術之課題而研究出來，且其主要目的在於提供具下述特性之氫製造系統及氫製造方法：在為抑制進行有機氫化物之脫氫反應的脫氫反應裝置中脫氫觸媒之活性降低上，可藉簡易之構成對該脫氫反應裝置供給氫。
本發明之第1態樣為一種氫製造系統(1)，係藉有機氫化物之脫氫化來製造氫，其特徵在於包含：第1脫氫反應裝置(3)，係在前述有機氫化物之觸媒存在下藉脫氫反應生成氫者；及第2脫氫反應裝置(4)，係經供給前述第1脫氫反應裝置之生成物，並在殘留於該生成物中之前述有機氫化物的觸媒存在下藉脫氫反應生成氫者；並且，前述第1脫氫反應裝置中使用之第1觸媒的量係在前述第2脫氫反應裝置中使用之第2觸媒的量以下，且前述第1脫氫反應裝置之氫產生量比前述第2脫氫反應裝置之氫產生量少。
該第1態樣之氫製造系統中，為抑制第2脫氫反應裝置(主要脫氫反應裝置)中脫氫觸媒(第2觸媒)之觸媒活性降低，設置一觸媒量在第2脫氫反應裝置之觸媒量以下、且氫產生量比第2脫氫反應裝置少之第1脫氫反應裝置 (輔助脫氫反應裝置)，並且構造成供給該第1脫氫反應裝置之生成物(含氫)至第2脫氫反應裝置中作為反應物(原料)，因此可藉由簡易之構成對第2脫氫反應裝置供給氫。
本發明之第2態樣係有關於上述第1態樣，特徵在於前述第1脫氫反應裝置由隔熱型反應器構成，前述第2脫氫反應裝置由熱交換型反應器構成。
該第2態樣之氫製造系統中，令第1脫氫反應裝置(輔助脫氫反應裝置)為構造比較簡單之隔熱型反應器，藉此可減少裝置成本。另一方面，令第2脫氫反應裝置(主要脫氫反應裝置)為熱交換型反應器，藉此可控制脫氫反應之反應溫度而穩定地進行脫氫反應。
本發明之第3態樣係有關於上述第2方面，特徵在於前述第1脫氫反應裝置之生成物的出口溫度係設定在前述第2脫氫反應裝置之反應物的入口溫度以上。
該第3態樣之氫製造系統中，對於供給至第2脫氫反應裝置中之第1脫氫反應裝置的生成物(含氫)，可藉由不需要預熱設備之簡易構成，將之供給至第2脫氫反應裝置中作為反應物。
本發明之第4態樣係有關於上述第1至第3態樣中任一態樣，特徵在於前述第2脫氫反應裝置之生成物的出口溫度係設定為比該第2脫氫反應裝置之反應物的入口溫度高。
該第4態樣之氫製造系統中，可一面抑制在第2脫氫反應裝置之入口(反應物之供給口)附近劇烈進行脫氫 反應，一面在第2脫氫反應裝置中穩定地進行吸熱反應之脫氫反應。
本發明之第5態樣係有關於上述第1至第4態樣中任一態樣，特徵在於前述第1脫氫反應裝置之生成物之氫濃度係10vol%以上。
該第5態樣之氫製造系統中，藉由調節第1脫氫反應裝置之生成物之氫濃度在適當範圍內，可一面穩定地進行第2脫氫反應裝置(主要脫氫反應裝置)之脫氫反應，一面抑制該脫氫觸媒(第2觸媒)之觸媒活性降低。
本發明之第6態樣為一種氫製造方法，係藉有機氫化物之脫氫化來製造氫，其特徵在於具有以下步驟：第1脫氫反應步驟，係在前述有機氫化物之觸媒存在下藉脫氫反應生成氫；及第2脫氫反應步驟，係經供給前述第1脫氫反應之生成物，並在殘留於該生成物中之前述有機氫化物的觸媒存在下藉脫氫反應生成氫；並且，前述第1脫氫反應步驟中使用之第1觸媒的量係在前述第2脫氫反應步驟中使用之第2觸媒的量以下，且前述第1脫氫反應步驟之氫產生量比前述第2脫氫反應步驟之氫產生量少。
因此依據本發明，在為抑制進行有機氫化物之脫氫反應的脫氫反應裝置中脫氫觸媒之活性降低上，便可藉簡易之構成對該脫氫反應裝置供給氫。
1‧‧‧氫製造系統
2‧‧‧貯藏裝置
3‧‧‧第1脫氫反應裝置
4‧‧‧第2脫氫反應裝置
5‧‧‧加熱裝置
6‧‧‧氫分離裝置
11‧‧‧預熱器
21‧‧‧脫氫反應裝置
22‧‧‧前段反應器(第1脫氫反應裝置)
23‧‧‧後段反應器(第2脫氫反應裝置)
24‧‧‧加熱裝置
L1‧‧‧第1原料供給線
L2‧‧‧第2原料供給線
L3‧‧‧生成物供給線
L4‧‧‧熱輸送線
圖式之簡單說明
圖1係顯示本發明之氫製造系統之概略構成的方塊圖。
圖2所示圖表係第1脫氫反應裝置之反應溫度之推移的一例。
圖3所示圖表係第2脫氫反應裝置之反應溫度之推移的一例。
圖4(A)、(B)係顯示氫製造系統之脫氫反應裝置之構成例的示意圖。
用以實施發明之形態
以下，一面參照圖式一面說明本發明之實施形態。
圖1係顯示本發明之氫製造系統1之概略構成的方塊圖，圖2及圖3所示圖表分別是第1脫氫反應裝置3及第2脫氫反應裝置4之反應溫度之推移的一例。
氫製造系統1係藉有機氫化物之脫氫化來製造氫的系統，如圖1所示，主要包含：貯藏裝置2，收容藉芳香族化合物(在此為甲苯)之脫氫化而生成之貯藏、輸送用有機氫化物(在此為甲基環己烷，以下稱為「MCH」)；第1脫氫反應裝置3，藉MCH之脫氫反應生成氫；第2脫氫反應裝置4，藉殘留於第1脫氫反應裝置3之生成物中之MCH的脫氫反應生成氫；加熱裝置5，由外部供給在第2脫氫反應裝置4中供給脫氫反應(吸熱反應)之熱；及氫分離裝置6，由第2脫氫反應裝置4之生成物分離氫及甲苯。
該氫製造系統1中，貯藏在設於貯藏裝置2中之儲存槽(未圖示)的MCH係透過第1原料供給線L1供給至第1脫氫反應裝置3中作為反應物(原料)。原料供給線L1設有具有習知構成之預熱器11，且藉該預熱器11可由常溫加熱MCH至所希望溫度。此外，氫製造系統1亦可為省略貯藏裝置2之構成。
第1脫氫反應裝置3中，藉脫氫觸媒(以下，稱為「第1觸媒」)存在下之MCH的脫氫反應，可生成氫及甲苯(TOL)(第1脫氫反應步驟)。該第1脫氫反應裝置3係對於主要反應裝置之第2脫氫反應裝置4的輔助反應裝置，且其設置目的在於將第1脫氫反應裝置3之生成物(即，供給至第2脫氫反應裝置之反應物)中的氫濃度(MCH之轉化率)調節至適當範圍。因此，藉第1脫氫反應裝置3之脫氫反應產生的氫量設定成比後述第2脫氫反應裝置4之脫氫反應的氫量。第1脫氫反應裝置3之生成物(包含預定濃度之氫及未反應之MCH)透過第2原料供給線L2送至第2脫氫反應裝置4。
第2脫氫反應裝置4中，藉脫氫觸媒(以下，稱為「第2觸媒」)存在下之MCH(第1脫氫反應裝置3中未反應之MCH)的脫氫反應，生成氫及甲苯(第2脫氫反應步驟)。該第2脫氫反應裝置4中，設定脫氫反應之反應條件，以一面抑制第2觸媒之觸媒活性降低，一面進一步提高氫之產率。第2脫氫反應裝置4之反應溫度可藉由加熱裝置5所供給之熱量控制。第2脫氫反應裝置4之生成物(包含氫及甲苯)透過生成物供給線L3送至氫分離裝置6。
氫分離裝置6由習知之氣液分離器構成，且藉未圖示之冷卻裝置冷卻反應生成物，由液化之甲苯分離含有氫之生成氣體(氫生成步驟)。此外，氫分離裝置6之後段可配置可去除生成氣體中含有之甲苯或未反應MCH之蒸氣成分的習知吸附裝置，藉此，可提高生成氣體中之氫純度。
分離之甲苯送至圖未示之貯藏裝置而貯藏，然後，藉習知之輸送裝置(管線、車輛及船舶等)循環至圖未示之氫化系統。氫化系統中，藉添加氫於甲苯中再生MCH。再生之MCH可在氫製造系統1中再利用。另一方面，以氫為主成分之第2脫氫反應裝置4的生成氣體送至貯藏裝置(高壓槽等)而貯藏，然後，依需要輸送至預定之氫使用地。此外，雖然省略詳細之說明，但是氫製造系統1之上述線L1至L3具有包含圖未示之管路、閥及泵等的習知構成。
第1脫氫反應裝置3雖然由不接受由外部供給之熱的隔熱型固定床反應器構成，且未圖示細節，但是具有在內襯有隔熱材之觸媒反應容器內填充有第1觸媒(固體觸媒)的習知構成。在觸媒反應容器內，反應物(MCH)由觸媒層之一側流通至另一側。關於第1脫氫反應裝置3之第1觸媒，假設以比第2脫氫反應裝置4之第2觸媒高的頻率交換，而當需要交換第1觸媒時，由觸媒反應容器取出使用過之固體觸媒，接著填充新固體觸媒。
如此，令第1脫氫反應裝置3為構造比較簡單之隔熱型反應器，藉此可減少裝置成本。此外，第1脫氫反 應裝置3宜為單管式，藉此，第1觸媒之填充及取出(交換)等會容易。此外，第1脫氫反應裝置3不一定限定於隔熱型反應器，只要是至少具有比後述第2脫氫反應裝置4簡易之構成，且可調節該生成物中之氫濃度(MCH之轉化率)至所希望範圍的構成即可。
第1脫氫反應裝置3中，依據以下化學反應式(1)藉脫氫反應由MCH(C7H14)生成氫及甲苯(C7H8)。該脫氫反應係吸熱反應(△H298=205kJ/mol)。由MCH成為甲苯及氫之反應以化學平衡上高溫、低壓之條件為佳。
第1脫氫反應裝置3中，如例如圖2所示，觸媒反應容器之入口溫度(反應物之供給口溫度)T1最高，然後，隨著進入觸媒反應容器之出口側(即，進行吸熱反應)，反應溫度降低，因此觸媒反應容器之出口溫度(生成物之排出口溫度)T2成為比入口溫度T1低之值。在此，入口溫度T1=330℃，出口溫度T2=260℃。此外，脫氫反應之反應壓力在0MPaG至1.0MPaG之範圍內。另外，雖然MCH之液空間速度(LHSV)係受觸媒之活性左右，但是在1.0h-1至4.0h-1之範圍內。再者，第1脫氫反應裝置3之脫氫反應係控制成使MCH之轉化率為10%至20%之範圍。
此外，第1脫氫反應裝置3之溫度條件不限於上 述情形，入口溫度T1可適當設定在250℃至380℃之範圍內，而以在280℃至350℃之範圍內為佳，且，出口溫度T2可適當設定在200℃至300℃之範圍內，而以在240℃至280℃之範圍內為佳。藉分別控制入口溫度T1及出口溫度T2在如此之溫度範圍內，可穩定地提高第1脫氫反應裝置3之生成物中的氫濃度至必要之濃度。結果，可在以下詳述之第2脫氫反應裝置4之入口附近在更溫和之反應條件下實施脫氫反應。
第1脫氫反應裝置3之生成物中的氫濃度下限係10vol%，而以20vol%更佳。令第1脫氫反應裝置3之生成物中的氫濃度為10vol%以上，可穩定地抑制後述第2脫氫反應裝置4之入口附近之脫氫反應的劇烈進行。另一方面，生成物中之氫濃度上限宜為30vol%左右。令生成物中之氫濃度為30vol%以下，藉此可採用小型之反應裝置作為第1脫氫反應裝置3，結果，可使第1脫氫反應裝置3之設置場所省空間化。
氫製造系統1之脫氫反應之反應物的有機氫化物，不限於MCH，可使用環己烷等之單環式氫化芳香族化合物，四氫萘、十氫萘、甲基十氫萘等之2環式氫化芳香族化合物，及十四氫蒽等之3環式氫化芳香族化合物等作為單獨、或2種以上之混合物。考慮貯藏或輸送之方便，有機氫化物宜選擇可在常溫、常溫下作為安定之液體處理者。
此外，氫製造系統1之脫氫反應中與氫一起產生之芳香族化合物不特別限定於甲苯，可依據上述有機氫化 物之種類，使用例如，苯、二甲苯等之單環式芳香族化合物，萘、四氫萘、甲基萘等之2環式芳香族化合物，及蒽等之3環式芳香族化合物等作為單獨、或2種以上之混合物。
雖然第1觸媒係在選自於氧化鋁、氧化矽鋁及氧化矽之載體上載持有選自於鎳(Ni)、白金(Pt)、鈀(Pd)、銠(Rh)、銥(Ir)及釕(Ru)之至少1種活性金屬者，但是不限於此，可使用用於有機氫化物之脫氫反應的習知觸媒。
此外，第2脫氫反應裝置4由熱交換型之固定床多管式反應器構成，雖然未圖示細節，但是具有填充有第2觸媒(固體觸媒)之多數反應管收容在外殼內的習知構成。供給至第2脫氫反應裝置4之各反應管之反應物(即，第1脫氫反應裝置3之生成物)一面接觸觸媒一面流過各反應管。再者，雖然第2觸媒可使用與上述第1觸媒同樣之觸媒，但是第1觸媒及第2觸媒亦可使用互相不同者。
第2脫氫反應裝置4中，雖然依據上述化學反應式(1)藉脫氫反應(吸熱反應)由MCH生成氫及甲苯，但是在此為進一步提高MCH之轉化率(即，為避免反應溫度降低而使MCH之轉化率降低)，可供給來自外部之熱。固定床多管式反應器之外殼中設有加熱用外套，而該加熱用外套中透過熱輸送線L4流通來自加熱裝置5之高溫(在此為400℃)之熱媒(在此為油)。在加熱用外套中冷卻之熱媒透過熱輸送線L4送至加熱裝置5，在此再加熱後循環至固定床多管式反應器。如此，令第2脫氫反應裝置4為熱交換型反應器，可控制脫氫反應之反應溫度而穩定地進行脫氫反應。
在第2脫氫反應裝置4之入口附近，如例如圖3中之實線所示，反應管之入口溫度(反應物之供給口溫度)T3隨著進入出口側而暫時降低。然後，第2脫氫反應裝置4中，藉來自加熱裝置5之熱供給，隨著進入出口側而反應溫度上升，且反應管之出口溫度(生成物之排出口溫度)T4成為比入口溫度T3高之值。在此，雖然入口溫度T3=260℃，出口溫度T4=380℃，但是該等溫度T3可適當地設定在200℃至350℃之範圍內，而以在250℃至330℃之範圍內為佳，且T4可適當地設定在250℃至400℃之範圍內，而以在300℃至380℃之範圍內為佳。此外，脫氫反應之反應壓力在0MPaG至1.0MPaG之範圍內。另外，雖然MCH之液空間速度(LHSV)亦受觸媒之活性左右，但是在1.0h-1至4.0h-1之範圍內。
使用MCH作為有機氫化物之本實施形態中，第2脫氫反應裝置4之生成物中的氫濃度係75vol%左右，且MCH之轉化率為95%以上。但是，不限於此，第2脫氫反應裝置4之脫氫反應係控制成使生成物中之氫濃度在60vol%至75vol%之範圍內，且MCH之轉化率為60%以上。
此外，不限於使用MCH作為有機氫化物之情形，且宜控制成使第1脫氫反應裝置3之有機氫化物轉化率為5至30%，而以10至20%為佳，且，控制成使第2脫氫反應裝置4之有機氫化物轉化率為60%以上，而以80%以上為佳。藉控制第1及第2脫氫反應裝置3、4之有機氫化物轉化率在上述範圍內，可進一步控制第2觸媒之活性降低。
再者，氫製造系統1中，第1脫氫反應裝置3之生成物的出口溫度T2設定在第2脫氫反應裝置4之反應物的入口溫度T3以上。因此，關於導入第2脫氫反應裝置4中之第1脫氫反應裝置3的生成物(含氫)，在第2原料供給線L2中不需要預熱設備，而可藉由簡易構成供給至第2脫氫反應裝置4中作為反應物(原料)。此時，由於第1脫氫反應裝置3之出口溫度T2根據入口溫度T1變化，故考慮上述氫產生量(生成物中之氫濃度)及脫氫反應造成之溫度降低(更嚴密地，包含第2原料供給線L2之溫度降低)，入口溫度T1可設定成使供給至第2脫氫反應裝置4之生成物溫度在適當之溫度範圍內。
另一方面，如例如圖3中虛線所示，在未供給氫至第2脫氫反應裝置4之情形(即，省略第1脫氫反應裝置3之情形)中，第2脫氫反應裝置4之入口附近的反應溫度劇烈地降低(即，脫氫反應劇烈地進行)，藉此該入口附近之第2觸媒的活性顯著地降低，接著這導致第2觸媒之活性降低。如此，觸媒活性降低之部位緩緩地移動至出口側，最後第2觸媒全體之活性降低。
在此，第1脫氫反應裝置3之第1觸媒與第2脫氫反應裝置4之第2觸媒的重量比範圍係在1：2至1：15之範圍內，而以在1：3至1：10之範圍內為佳，且在1：4至1：8之範圍內更佳。藉設定第1觸媒與第2觸媒之重量比在適當範圍內，可因設置第1脫氫反應裝置而抑制設備成本及運轉成本之增大，同時可藉簡易之構成對第2脫氫反應裝 置供給氫。此外，使用第1及第2脫氫反應裝置3、4之脫氫觸媒不一定限定於上述重量比，只要至少第1脫氫反應裝置3之第1觸媒量(重量)在第2脫氫反應裝置4之第2觸媒量以下即可。
如此，氫製造系統1中，為抑制第2脫氫反應裝置4之第2觸媒之觸媒活性降低，觸媒量在第2脫氫反應裝置4之觸媒量以下，且設置氫之產生量比第2脫氫反應裝置4少之第1脫氫反應裝置3，構成為供給該第1脫氫反應裝置3之生成物(含氫)至第2脫氫反應裝置4中作為反應物(原料)，因此可藉簡易之構成對第2脫氫反應裝置4供給氫。特別地，藉由調節第1脫氫反應裝置3之生成物之氫濃度於適當範圍內，可一面穩定地進行主要脫氫反應裝置之脫氫反應，一面抑制脫氫觸媒(第2觸媒)之觸媒活性降低。
此外，藉如圖3(實線)所示地控制反應溫度由第2脫氫反應裝置4之入口附近向出口推移，具有更確實控制在其入口附近之脫氫反應的劇烈進行，同時可使裝置全體更穩定地進行脫氫反應的優點。再者，不論氫濃度如何變動，如此之第2脫氫反應裝置4之溫度分布的控制都具有一定之效果。另外，藉從上述第2脫氫反應裝置4之入口一直到出口配置多數上述加熱用外套，可進一步精度良好地控制反應溫度。
此外，關於使用本發明之氫製造系統1之有機化學氫化物法之細節，例如，可參照引用岡田佳巳等人，有機化學氫化物法之開發(Development of dehydrogenation catalyst for organic chemical hydride method)，觸媒，2004，46(6)，p510至512，ISSN 05598958；岡田佳巳等人，有機化學氫化物法之開發及氫能源鏈合方案(Dehydrogenation catalyst development for organic chemical hydride method and hydrogen energy chain vision)，觸媒，2009，51(6)，p496至498，ISSN 05598958；岡田佳巳等人，以確立氫能源之大量長距離貯藏輸送技術為目標之有機化學氫化物法脫氫觸媒的開發，化學工程學，2010，74(9)，p468至470，ISSN 03759253；岡田佳巳等人，氫貯藏、輸送之有機化學氫化物法脫氫觸媒的開發(新春特集GSC研討會2005)，精純化學品(FINE CHEMICAL)，2006，35(1)，p5至13，ISSN 09136150，藉此省略說明書之記載內容。
圖4係顯示氫製造系統1之脫氫反應裝置之構成例的示意圖。如圖4(A)所示，雖然說明個別地設置第1及第2脫氫反應裝置3、4之例，但是不限於此，如圖4(B)所示，亦可使用具有與第1及第2脫氫反應裝置3、4同樣功能之1脫氫反應裝置21。
如圖4(B)所示，脫氫反應裝置21中，入口側之前段反應器22具有與由隔熱型固定床反應器構成之第1脫氫反應裝置3同樣的構成，且出口側之後段反應器23具有與由熱交換型固定床多管式反應器構成之第2脫氫反應裝置4同樣的構成。後段反應器23附設有加熱裝置24，且該加熱裝置24具有與加熱裝置5同樣之構成，藉此，可控制後段反應器23內之反應溫度。
脫氫反應裝置21中，先供給MCH至前段反應器22中，在此，調節氫濃度至適當範圍內後，導入後段反應器23。藉如此之構成，脫氫反應裝置21可實現與使用如圖4(A)所示之第1及第2脫氫反應裝置3、4之情形同樣的脫氫反應。此外，前段反應器22不一定限定於隔熱型之反應器，且，亦可為藉加熱裝置可控制到與後段反應器23不同之反應溫度的構成。另外，雖然說明了具有2脫氫反應裝置之氫製造系統之實施形態，但是脫氫反應裝置亦可使用3以上，且可抑制用於後段(第2段以後)之脫氫裝置的脫氫觸媒活性降低。
以上，雖然依據特定實施形態說明了本發明，但是該等實施形態只不過是舉例說明，本發明不受該等實施形態限定。此外，上述實施形態所示之本發明之氫製造系統及氫製造方法的各構成要素不一定全部需要，只要至少不脫離本發明範圍，就可適當取捨選擇。另外，亦可使用具有上述實施形態所示之多數裝置之功能的複合裝置。
1‧‧‧氫製造系統
2‧‧‧貯藏裝置
3‧‧‧第1脫氫反應裝置
4‧‧‧第2脫氫反應裝置
5‧‧‧加熱裝置
6‧‧‧氫分離裝置
11‧‧‧預熱器
L1‧‧‧第1原料供給線
L2‧‧‧第2原料供給線
L3‧‧‧生成物供給線
L4‧‧‧熱輸送線

Claims (6)

  1. 一種氫製造系統，係藉有機氫化物之脫氫化來製造氫者，其特徵在於包含：第1脫氫反應裝置，係在前述有機氫化物之觸媒存在下藉脫氫反應生成氫者；及第2脫氫反應裝置，係經供給前述第1脫氫反應裝置之生成物，並在殘留於該生成物中之前述有機氫化物的觸媒存在下藉脫氫反應生成氫者；前述第1脫氫反應裝置中使用之第1觸媒的量係在前述第2脫氫反應裝置中使用之第2觸媒的量以下，且前述第1脫氫反應裝置之氫產生量比前述第2脫氫反應裝置之氫產生量少。
  2. 如請求項1之氫製造系統，其中前述第1脫氫反應裝置由隔熱型反應器構成，前述第2脫氫反應裝置由熱交換型反應器構成。
  3. 如請求項2之氫製造系統，其中前述第1脫氫反應裝置之生成物的出口溫度係設定在前述第2脫氫反應裝置之反應物的入口溫度以上。
  4. 如請求項1至3中任一項之氫製造系統，其中前述第2脫氫反應裝置之生成物的出口溫度係設定為比該第2脫氫反應裝置之反應物的入口溫度高。
  5. 如請求項1至4中任一項之氫製造系統，其中前述第1脫氫反應裝置之生成物之氫濃度係10vol%以上。
  6. 一種氫製造方法，係藉有機氫化物之脫氫化來製造氫，其特徵在於具有以下步驟：第1脫氫反應步驟，係在前述有機氫化物之觸媒存在下藉脫氫反應生成氫；及第2脫氫反應步驟，係經供給前述第1脫氫反應之生成物，並在殘留於該生成物中之前述有機氫化物的觸媒存在下藉脫氫反應生成氫；前述第1脫氫反應步驟中使用之第1觸媒的量係在前述第2脫氫反應步驟中使用之第2觸媒的量以下，且前述第1脫氫反應步驟之氫產生量比前述第2脫氫反應步驟之氫產生量少。
TW104107422A 2014-03-10 2015-03-09 氫製造系統及氫製造方法 TWI628142B (zh)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2014046323A JP6246027B2 (ja) 2014-03-10 2014-03-10 水素製造システムおよび水素製造方法
JP2014-046323 2014-03-10

Publications (2)

Publication Number Publication Date
TW201540657A true TW201540657A (zh) 2015-11-01
TWI628142B TWI628142B (zh) 2018-07-01

Family

ID=54071362

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW104107422A TWI628142B (zh) 2014-03-10 2015-03-09 氫製造系統及氫製造方法

Country Status (9)

Country Link
US (1) US10053363B2 (zh)
EP (1) EP3118155B1 (zh)
JP (1) JP6246027B2 (zh)
KR (1) KR102168375B1 (zh)
AR (1) AR099705A1 (zh)
AU (1) AU2015228270B2 (zh)
CA (1) CA2940616C (zh)
TW (1) TWI628142B (zh)
WO (1) WO2015136904A1 (zh)

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2016040217A (ja) * 2014-08-13 2016-03-24 Ｊｘ日鉱日石エネルギー株式会社 脱水素化システム及び脱水素化システムの運転方法
JP2016050143A (ja) * 2014-08-29 2016-04-11 Ｊｘ日鉱日石エネルギー株式会社 脱水素化システム
KR102122173B1 (ko) 2018-12-21 2020-06-15 한국가스공사 수소스테이션용 수소제조장치 및 수소제조방법
CN112707368B (zh) * 2019-10-25 2023-04-07 中国石油化工股份有限公司 含氢物质的脱氢方法

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004224596A (ja) * 2003-01-20 2004-08-12 Sekisui Chem Co Ltd 水素供給装置
JP2005022939A (ja) * 2003-07-02 2005-01-27 Sekisui Chem Co Ltd 水素供給システムの反応装置及び水素供給システム
JP4662534B2 (ja) * 2004-10-01 2011-03-30 株式会社新エネルギー研究所 水素ガス生成装置
JP2007309302A (ja) * 2006-05-22 2007-11-29 Toyota Motor Corp 水素生成装置及び水素利用内燃機関
JP5243860B2 (ja) 2008-06-27 2013-07-24 Ｊｘ日鉱日石エネルギー株式会社 水素製造方法
KR101562691B1 (ko) * 2009-03-05 2015-10-22 유오피 엘엘씨 탄화수소 탈수소화 공정
JP5798718B2 (ja) * 2010-01-06 2015-10-21 Ｊｘ日鉱日石エネルギー株式会社 有機化合物の脱水素反応器および水素製造方法
JP5554102B2 (ja) 2010-03-23 2014-07-23 Ｊｘ日鉱日石エネルギー株式会社 水素の製造装置及び水素の製造方法
JP5688238B2 (ja) * 2010-05-31 2015-03-25 一般財団法人石油エネルギー技術センター 熱交換型有機ハイドライド脱水素システム
CN103380077B (zh) * 2011-02-21 2016-08-31 埃克森美孚化学专利公司 氢气纯化方法

Also Published As

Publication number Publication date
AU2015228270B2 (en) 2018-05-10
US20170015553A1 (en) 2017-01-19
EP3118155A4 (en) 2017-08-30
EP3118155A1 (en) 2017-01-18
JP2015168608A (ja) 2015-09-28
CA2940616A1 (en) 2015-09-17
KR20160140713A (ko) 2016-12-07
WO2015136904A1 (ja) 2015-09-17
EP3118155B1 (en) 2019-10-02
JP6246027B2 (ja) 2017-12-13
CA2940616C (en) 2020-12-22
AR099705A1 (es) 2016-08-10
TWI628142B (zh) 2018-07-01
AU2015228270A1 (en) 2016-09-22
KR102168375B1 (ko) 2020-10-21
US10053363B2 (en) 2018-08-21

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TW201540657A (zh) 氫製造系統及氫製造方法
TWI630198B (zh) Hydrogenation system of aromatic compound and hydrogen storage method having the same, and hydrogenation method of aromatic compound
US9340421B2 (en) Hydrogen supply system
JP2023551998A (ja) 資源として水素を使用するための方法及びシステム
KR102454095B1 (ko) 액상유기물수소운반체를 이용한 연속식 수소저장장치
US10576444B2 (en) Loading a catalyst into a bubble column for Fischer-Topsch synthesis
EP4130544A1 (en) Accommodation body and transportation method
TWI618696B (zh) 芳香族化合物之氫化系統及氫化方法
JP2004059336A (ja) 水素ガスの製造方法
KR101684767B1 (ko) 유기계 화학 수소화물을 이용한 잠수함의 수소 공급 장치 및 방법
JP2016050145A (ja) 脱水素化システム
CN219849520U (zh) 一种加氢设备
JP2003299947A (ja) 水素添加装置および方法
CN116272687A (zh) 一种加氢设备及方法
JP2019151514A (ja) 水素生成装置およびその運転方法
JP2004203712A (ja) 水素製造方法
JP2016050144A (ja) 脱水素化反応器及び脱水素化システム
JP2016050143A (ja) 脱水素化システム