JP5554102B2 - 水素の製造装置及び水素の製造方法 - Google Patents
水素の製造装置及び水素の製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5554102B2 JP5554102B2 JP2010066363A JP2010066363A JP5554102B2 JP 5554102 B2 JP5554102 B2 JP 5554102B2 JP 2010066363 A JP2010066363 A JP 2010066363A JP 2010066363 A JP2010066363 A JP 2010066363A JP 5554102 B2 JP5554102 B2 JP 5554102B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- hydrogen
- container
- organic compound
- reactor
- reactant
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 title claims description 296
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 title claims description 296
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 252
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 66
- 238000006356 dehydrogenation reaction Methods 0.000 claims description 88
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 claims description 77
- 239000000376 reactant Substances 0.000 claims description 64
- 150000002431 hydrogen Chemical class 0.000 claims description 62
- 239000012528 membrane Substances 0.000 claims description 56
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims description 52
- 238000000926 separation method Methods 0.000 claims description 47
- UAEPNZWRGJTJPN-UHFFFAOYSA-N methylcyclohexane Chemical compound CC1CCCCC1 UAEPNZWRGJTJPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 42
- GYNNXHKOJHMOHS-UHFFFAOYSA-N methyl-cycloheptane Natural products CC1CCCCCC1 GYNNXHKOJHMOHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 21
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 17
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- CXWXQJXEFPUFDZ-UHFFFAOYSA-N tetralin Chemical compound C1=CC=C2CCCCC2=C1 CXWXQJXEFPUFDZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- NNBZCPXTIHJBJL-UHFFFAOYSA-N decalin Chemical compound C1CCCC2CCCCC21 NNBZCPXTIHJBJL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- PXXNTAGJWPJAGM-UHFFFAOYSA-N vertaline Natural products C1C2C=3C=C(OC)C(OC)=CC=3OC(C=C3)=CC=C3CCC(=O)OC1CC1N2CCCC1 PXXNTAGJWPJAGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 239000000047 product Substances 0.000 description 57
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 43
- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 description 27
- 239000010408 film Substances 0.000 description 22
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 11
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 9
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 8
- 150000004678 hydrides Chemical class 0.000 description 7
- 239000012466 permeate Substances 0.000 description 6
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 5
- 239000000446 fuel Substances 0.000 description 5
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 4
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 4
- 238000005192 partition Methods 0.000 description 4
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 4
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YZCKVEUIGOORGS-IGMARMGPSA-N Protium Chemical compound [1H] YZCKVEUIGOORGS-IGMARMGPSA-N 0.000 description 3
- 239000010953 base metal Substances 0.000 description 3
- BTANRVKWQNVYAZ-UHFFFAOYSA-N butan-2-ol Chemical compound CCC(C)O BTANRVKWQNVYAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 description 3
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 3
- 238000005984 hydrogenation reaction Methods 0.000 description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 description 3
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Substances [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 3
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 3
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N Magnesium oxide Chemical compound [Mg]=O CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GLUUGHFHXGJENI-UHFFFAOYSA-N Piperazine Chemical compound C1CNCCN1 GLUUGHFHXGJENI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NQRYJNQNLNOLGT-UHFFFAOYSA-N Piperidine Chemical compound C1CCNCC1 NQRYJNQNLNOLGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910021536 Zeolite Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000004939 coking Methods 0.000 description 2
- 230000006835 compression Effects 0.000 description 2
- 238000007906 compression Methods 0.000 description 2
- 230000009849 deactivation Effects 0.000 description 2
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 2
- 230000002542 deteriorative effect Effects 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- HNPSIPDUKPIQMN-UHFFFAOYSA-N dioxosilane;oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Si]=O.O=[Al]O[Al]=O HNPSIPDUKPIQMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 239000012770 industrial material Substances 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- 229910001092 metal group alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 2
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 2
- 239000010457 zeolite Substances 0.000 description 2
- NENLYAQPNATJSU-UHFFFAOYSA-N 1,2,3,4,4a,5,6,7,8,8a-decahydroisoquinoline Chemical compound C1NCCC2CCCCC21 NENLYAQPNATJSU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- POTIYWUALSJREP-UHFFFAOYSA-N 1,2,3,4,4a,5,6,7,8,8a-decahydroquinoline Chemical compound N1CCCC2CCCCC21 POTIYWUALSJREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LKLLNYWECKEQIB-UHFFFAOYSA-N 1,3,5-triazinane Chemical compound C1NCNCN1 LKLLNYWECKEQIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DKYBVKMIZODYKL-UHFFFAOYSA-N 1,3-diazinane Chemical compound C1CNCNC1 DKYBVKMIZODYKL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001316 Ag alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001252 Pd alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910002668 Pd-Cu Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052784 alkaline earth metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000002485 combustion reaction Methods 0.000 description 1
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 1
- 229910052735 hafnium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052741 iridium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000395 magnesium oxide Substances 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052762 osmium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000012856 packing Methods 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 230000035699 permeability Effects 0.000 description 1
- 238000005504 petroleum refining Methods 0.000 description 1
- 238000009428 plumbing Methods 0.000 description 1
- 239000005373 porous glass Substances 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 230000001737 promoting effect Effects 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052707 ruthenium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011232 storage material Substances 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 230000001629 suppression Effects 0.000 description 1
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Hydrogen, Water And Hydrids (AREA)
Description
以下では、図1を参照しながら、本発明の第一実施形態に係る水素の製造装置及び当該製造装置を用いた水素の製造方法について説明する。
水素の製造装置2Aは、反応物容器4、流通式の反応器8、生成物容器10及び水素容器12を備える。反応器8は、配管30を介して反応物容器4に接続されている。生成物容器10は、配管32を介して反応器8に接続される。反応器8は、反応物容器4と生成物容器10との間に位置する。脱水素触媒の存在下で水素を放出する有機化合物(反応物)が反応物容器4内に導入される。反応器8は脱水素触媒6を内包する。反応物容器4及び生成物容器10の中に脱水素触媒6は存在しない。水素容器12は、上流側水素容器14と、下流側水素容器18と、上流側水素容器14及び下流側水素容器18を接続する連結管16と、から構成される。なお、第一実施形態において、「上流側」とは、反応器8に対して反応物容器4が位置する側を意味する。「下流側」とは、反応器8に対して生成物容器10が位置する側を意味する。以下では、場合により、反応物容器4、反応器8及び生成物容器10を「反応系」と記す。
水素の原料である有機化合物としては、脱水素化反応により水素を放出する化合物を用いる。例えば、脱水素化反応により水素を放出して不飽和化合物に変化する有機化合物を用いればよい。この不飽和化合物は、水素化することにより、水素の輸送及び貯蔵のための媒体として再利用できる。したがって、可逆的に水素を放出する有機化合物が好ましい。なお、不可逆的に水素を放出する有機化合物も用いてもよい。
上記の有機化合物の脱水素化反応を促進する脱水素触媒6としては、Pt、Ni、Ru、Rh、Pd、Ir及びOs等の金属又はこれらの合金が好適である。また、アルミナ、シリカ、マグネシア、シリカアルミナ、ゼオライト及びジルコニア等の支持体に担持された上記の金属又は合金を脱水素触媒6として用いてもよい。必要に応じて、アルカリ金属元素、アルカリ土類金属元素及びLa系列元素等の添加物を脱水素触媒6に加えてもよい。脱水素触媒6の形状は、特に制限されず、粒状、粉末状、ハニカム状等のいかなる形状であってもよい。反応器8は、上記の脱水素触媒のうち一種の脱水素触媒だけを内包してもよく、複数種の脱水素触媒を内包してもよい。
第一水素分離膜20A及び第二水素分離膜20Bとしては、水素を選択的に透過する機能を有する膜を用いればよい。第一膜20A及び第二膜20Bとしては、例えば、多孔質アルミナ膜、多孔質シリカ膜、多孔質ジルコニア膜、ゼオライト膜、多孔質ガラス膜及び多孔質炭素膜等の多孔質セラミックス膜が好ましい。また、Pd膜、Pd−Cu及びPd−Ag等のパラジウム合金膜、並びにTi、Zr、Hf、V、Nb、Ta、Cr、Mo、W及びNi等の卑金属を含む合金膜等の金属膜を第一膜20A及び第二膜20Bとして使用することもできる。卑金属合金膜を使用する場合、必要に応じて卑金属合金膜の表面にPdの薄膜を蒸着法等により形成してもよい。
第一実施形態に係る水素の製造方法では、図1に示す水素の製造装置2Aを用いて、下記の第一工程と第二工程とを並行して行う。
第一工程では、上記の有機化合物の気体を、反応物容器4が有する導入管22から反応物容器4内に連続的に導入する。有機化合物は、第二膜20Bを透過せず、反応物容器4から反応器8へ流れる。反応器8内では、脱水素触媒6によって有機化合物の脱水素化反応が促進され、有機化合物が水素ガスを放出すると共に、有機化合物が不飽和化合物に変化する。反応器8内で生成した水素ガス及び不飽和化合物は生成物容器10へ流れる。
第一工程において生成物容器10から下流側水素容器18へ移動した水素ガスの一部は、連結管16を介して上流側水素容器14内へ流れる。したがって、上流側水素容器14は、高純度の水素ガスで充たされている。一方、反応物容器4内は、脱水素化前のフレッシュな有機化合物のガスで充たされている。また、反応物容器4内には脱水素触媒が存在しないため、反応物容器4内で有機化合物の脱水素化反応は進行しない。したがって、上流側水素容器14内の水素ガスの分圧は、反応物容器4内の水素ガスの分圧よりも高い。この水素ガスの差圧によって、上流側水素容器14内の水素ガスが第二膜20Bを透過して反応物容器4へ移動する。反応物容器4内に移動した水素ガスと、反応物容器4へ導入した有機化合物とを、反応器8へ流す。その結果、反応器4内では第一工程と同様に、有機化合物の脱水素化反応が進行する。また、第二工程では、反応器4内で水素ガスがコーキング(脱水素触媒6表面への炭素の析出)を抑制し、脱水素触媒6の失活が防止される。
以下では、図2を参照しながら、第二実施形態に係る水素の製造装置及び製造方法について説明する。第一実施形態と第二実施形態との共通事項についての説明は省略し、両者の相違点だけについて説明する。
実施例1では、図1に示す水素の製造装置を用いて水素を製造した。反応器8として、内直径25mm,長さ100mmのステンレス鋼製円筒からなる固定床反応器を用いた。固定床反応器内部には、脱水素触媒6として、嵩密度0.8、粒径1〜2mmの2質量%アルミナ担持白金触媒を充填した。第一水素分離膜20A及び第二水素分離膜20Bとして、平板状のPd−Ag合金製水素分離膜を用いた。各水素分離膜の厚さは60μmとした。第二水素分離膜20Bの面積は50cm2とした。第一水素分離膜20Aの面積は100cm2とした。製造装置2A全体を電熱ヒーターの中に設置した。反応器8の出口付近に設置された熱電対により反応系の温度を測定し,該温度を反応温度として制御した。反応系圧力を圧力計28Aで計測した。水素容器12の内圧を圧力計28Bで計測した。
転化率={(M1−M2)/M1}×100 式(1)
で除した値である。
比較例1では、第二水素分離膜20Bをステンレス板に置き換えたこと以外は実施例1と同様の方法でメチルシクロヘキサンの脱水素化反応を行った。つまり、比較例1の水素の製造装置は、反応器8の上流側に第二水素分離膜を備えない。比較例1でも、実施例1と同様の方法で生成物を測定した。
実施例2では、メチルシクロヘキサンの代わりにシクロヘキサンを用いたこと以外は実施例1と同様の方法で、シクロヘキサンの脱水素化反応を行った。実施例2でも、実施例1と同様の方法で生成物を測定した。
転化率={(C1−C2)/C1}×100 式(2)
比較例2では、メチルシクロヘキサンの代わりにシクロヘキサンを用いたこと以外は比較例1と同様の方法で、シクロヘキサンの脱水素化反応を行った。比較例2でも、比較例1と同様の方法で生成物を分析した。
Claims (3)
- 脱水素触媒の存在下で水素を放出する有機化合物が導入される反応物容器と、
前記反応物容器に接続され、前記脱水素触媒を内包する流通式の反応器と、
前記反応器に接続され、前記反応器を挟んで前記反応物容器の反対側に位置する生成物容器と、
前記反応物容器及び前記生成物容器の両方に隣接する水素容器と、
前記水素容器内の空間と前記生成物容器内の空間とを隔てる第一の水素分離膜と、
前記水素容器内の空間と前記反応物容器内の空間とを隔てる第二の水素分離膜と、
を備える、
水素の製造装置。 - 請求項1に記載の水素の製造装置を用いた水素の製造方法であって、
前記反応物容器に導入した前記有機化合物を前記反応器へ供給し、前記反応器内の前記有機化合物から水素を放出させ、
前記反応器内で放出された前記水素を前記生成物容器へ供給し、前記生成物容器内の前記水素を前記第一の水素分離膜を介して前記水素容器へ供給する第一工程と、
前記水素容器内に供給された前記水素の一部を前記第二の水素分離膜を介して前記反応物容器へ供給し、
前記反応物容器内に供給された前記水素と、前記反応物容器へ導入した前記有機化合物とを、前記反応器へ供給する第二工程と、
を備え、
前記第一工程と前記第二工程とを並行して行う、
水素の製造方法。 - 前記有機化合物が、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、デカリン、テトラリン及び2−プロパノールからなる群より選ばれる少なくとも一種である、
請求項2に記載の水素の製造方法。
Priority Applications (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010066363A JP5554102B2 (ja) | 2010-03-23 | 2010-03-23 | 水素の製造装置及び水素の製造方法 |
EP14001222.0A EP2752389A1 (en) | 2010-01-06 | 2010-12-07 | Reactor for dehydrogenation of organic compound, hydrogen production apparatus, and hydrogen production process |
EP10842166.0A EP2522623A4 (en) | 2010-01-06 | 2010-12-07 | REACTOR FOR DEHYDROGENATION OF ORGANIC COMPOUND, APPARATUS FOR PRODUCING HYDROGEN AND PROCESS FOR PRODUCING HYDROGEN |
PCT/JP2010/071922 WO2011083653A1 (ja) | 2010-01-06 | 2010-12-07 | 有機化合物の脱水素反応器、水素の製造装置及び水素の製造方法 |
US13/520,473 US9206046B2 (en) | 2010-01-06 | 2010-12-07 | Reactor for dehydrogenation of organic compound, hydrogen production apparatus, and hydrogen production process |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010066363A JP5554102B2 (ja) | 2010-03-23 | 2010-03-23 | 水素の製造装置及び水素の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2011195418A JP2011195418A (ja) | 2011-10-06 |
JP5554102B2 true JP5554102B2 (ja) | 2014-07-23 |
Family
ID=44874091
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2010066363A Active JP5554102B2 (ja) | 2010-01-06 | 2010-03-23 | 水素の製造装置及び水素の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5554102B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6246027B2 (ja) | 2014-03-10 | 2017-12-13 | 千代田化工建設株式会社 | 水素製造システムおよび水素製造方法 |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH03217227A (ja) * | 1990-01-24 | 1991-09-25 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | 脱水素反応用メンブレンリアクタ |
JP3217447B2 (ja) * | 1992-05-27 | 2001-10-09 | 三菱重工業株式会社 | 脱水素反応用メンブレンリアクタ |
JPH11319521A (ja) * | 1998-05-19 | 1999-11-24 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | ガス分離膜とその製造方法 |
US20070202023A1 (en) * | 2004-07-26 | 2007-08-30 | Ngk Insulators, Ltd. | Reactor |
JP4835967B2 (ja) * | 2005-02-15 | 2011-12-14 | 独立行政法人産業技術総合研究所 | 水素の製造システム |
-
2010
- 2010-03-23 JP JP2010066363A patent/JP5554102B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2011195418A (ja) | 2011-10-06 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN107073427B (zh) | 用于重整天然气的壳管式反应器和使用其制备合成气或氢气的方法 | |
JP5798718B2 (ja) | 有機化合物の脱水素反応器および水素製造方法 | |
Kang et al. | Recent trends in the development of reactor systems for hydrogen production via methanol steam reforming | |
Tosti et al. | Design and process study of Pd membrane reactors | |
Kreuder et al. | Heat storage by the dehydrogenation of methylcyclohexane–Experimental studies for the design of a microstructured membrane reactor | |
Lukyanov et al. | Catalytic reactors with hydrogen membrane separation | |
JP5611627B2 (ja) | 膜分離型反応器、膜分離型水素製造装置及び水素の製造方法 | |
Basov et al. | Membrane catalysis in the dehydrogenation and hydrogen production processes | |
Basile et al. | Co-current and counter-current modes for methanol steam reforming membrane reactor: experimental study | |
JP4849775B2 (ja) | 燃料電池の稼動躯体搭載用水素供給装置 | |
Hwang et al. | A multi-membrane reformer for the direct production of hydrogen via a steam-reforming reaction of methane | |
KR102298046B1 (ko) | 수소 회수율을 증가시키도록 설계된 튜브형 수소분리막을 구비한 분리막 모듈 및 이를 이용한 수소 생산 장치 및 공정 | |
Bian et al. | CFD simulation on hydrogen-membrane reactor integrating cyclohexane dehydrogenation and CO2 methanation reactions: A conceptual study | |
JP4835967B2 (ja) | 水素の製造システム | |
JP5554102B2 (ja) | 水素の製造装置及び水素の製造方法 | |
WO2011083653A1 (ja) | 有機化合物の脱水素反応器、水素の製造装置及び水素の製造方法 | |
Akamatsu et al. | Stable equilibrium shift of methane steam reforming in membrane reactors with hydrogen‐selective silica membranes | |
Miyamoto et al. | CO2 methanation combined with NH3 decomposition by in situ H2 separation using a Pd membrane reactor | |
JP5102932B2 (ja) | 高純度水素製造方法 | |
JP2007076982A (ja) | 水素製造システムおよび発電システム | |
Ferreira-Aparicio et al. | Pure hydrogen production from methylcyclohexane using a new high performance membrane reactor | |
JP4817420B2 (ja) | 水素製造装置及び方法 | |
JP2007084378A (ja) | 水素の製造方法およびそれに使用する装置 | |
Bredesen et al. | Palladium-based membranes in hydrogen production | |
Palma et al. | Membrane reactor technology and catalysis for intensified hydrogen production |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20121213 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20140520 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20140528 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5554102 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |