TW201536535A - 光學膜的製造方法 - Google Patents

Abstract

一種光學膜的製造方法，可減少摩擦處理中由配向不良所引起的光學膜表面缺陷，至少包括以下步驟：將第一面上具有配向層形成層的連續的支撐體加以搬送；為了形成配向層而進行摩擦處理，在相對於與搬送方向正交的寬度方向而以摩擦角α配置的摩擦輥上，以包繞角θ捲繞支撐體並賦予第一按壓力F1，且從噴嘴中對支撐體的第二面噴附氣體而賦予第二按壓力F2，由此使支撐體按壓在摩擦輥上，在該狀態下使配向層形成層與摩擦輥接觸，且第二按壓力F2在支撐體的中央部高於支撐體的各端部；及在經摩擦處理的配向層上塗佈塗佈液。

Description

光學膜的製造方法

本發明涉及一種光學膜的製造方法。

在液晶顯示裝置中使用各種光學膜。其中，通過實施摩擦處理對液晶層賦予配向性的光學膜已為人所知。該光學膜例如是通過以下方式製造：使具有配向層形成層的支撐體連續移動，對配向層形成層實施摩擦處理而形成配向層，在配向層上塗佈含有交聯性液晶性化合物的塗佈液，接著加以乾燥，然後使之硬化而形成液晶層。

在製造這種光學膜時的摩擦處理中，由配向不良所引起的表面缺陷成問題。已提出了用來減少該缺陷的方法。例如專利文獻1公開了以下方法：在摩擦處理時從支撐體的背面側施加流體壓力，將支撐體按壓在摩擦輥上，由此減少由配向不良引起的表面缺陷

[現有技術文獻]

[專利文獻]

[專利文獻1]日本專利特開2006-267919號公報

但是近年來，對光學膜的表面缺陷的品質要求不斷提高。已判明特別是在相對於支撐體的搬送方向而傾斜配置摩擦輥的情況下，有時光學膜中產生由配向不良所引起的表面缺陷。

本發明是鑒於這種情況而成，其目的在於提供一種光學膜的製造方法，所述光學膜的製造方法在製造光學膜時的摩擦處理中，可減少由配向不良所引起的表面缺陷。

第一實施形態的光學膜的製造方法至少包括以下步驟：將在第一面上具有配向層形成層的連續的支撐體加以搬送；為了形成配向層而進行摩擦處理，所述摩擦處理在相對於與搬送方向正交的寬度方向而以摩擦角α配置的摩擦輥上，以包繞角θ捲繞支撐體並賦予第一按壓力F1，且對支撐體的第二面噴附氣體而賦予第二按壓力F2，由此將支撐體按壓在摩擦輥上，在此狀態下使配向層形成層與經旋轉驅動的摩擦輥接觸，並且第二按壓力F2在支撐體的中央部高於支撐體的各端部；以及在經摩擦處理的配向層上塗佈含有交聯性液晶性化合物的塗佈液。

第二實施形態的光學膜的製造方法較佳的是摩擦角α為5°~60°的範圍。

第三實施形態的光學膜的製造方法較佳的是支撐體的中心處的包繞角θ為3°~15°的範圍。

第四實施形態的光學膜的製造方法較佳的是僅對中央部 賦予第二按壓力F2。

根據本發明的光學膜的製造方法，可減少摩擦處理中的由配向不良所引起的光學膜的表面缺陷。

20‧‧‧製造流水線

21A、21B‧‧‧棒式塗佈裝置

25A、25B‧‧‧除塵機

26‧‧‧網

50‧‧‧噴嘴

50A‧‧‧開口

66‧‧‧送出機

68‧‧‧導輥

72‧‧‧摩擦輥

76A、76B‧‧‧乾燥區

78A、78B‧‧‧加熱區

80‧‧‧紫外線燈

82‧‧‧卷取機

86、88‧‧‧支承輥

90‧‧‧檢查裝置

92‧‧‧層壓機

94‧‧‧保護膜

CL‧‧‧中心線

F‧‧‧合計按壓力

F1‧‧‧第一按壓力

F2‧‧‧第二按壓力

X1、Y1、Y2、Y、Z‧‧‧距離

α‧‧‧摩擦角

θ、θ1、θ2‧‧‧包繞角

μ‧‧‧動摩擦係數

圖1為表示光學膜的製造流水線的概略構成圖。

圖2為用來說明摩擦角α的說明圖。

圖3為用來說明包繞角的說明圖。

圖4(A)至圖4(B)為表示加工量的算出方法的說明圖。

圖5為表示摩擦處理步驟的裝置構成的概略構成圖。

圖6為說明摩擦角α與包繞角θ的關係的說明圖。

圖7為說明摩擦角α與包繞角θ的關係的說明圖。

圖8為表示第一按壓力F1與支撐體的寬度方向的位置的關係的圖。

圖9為表示合計按壓力F與支撐體的寬度方向的位置的關係的圖。

圖10為說明支撐體的中央部與端部的說明圖。

圖11(A)至圖1(C)為表示第二按壓力F2的分佈(profile)的圖。

以下，根據隨附圖式對本發明的較佳實施形態加以說 明。本發明是通過以下的較佳實施形態來進行說明。可在不偏離本發明的範圍的情況下，通過多種方法進行變更，且可利用本實施形態以外的其他實施形態。因此，本發明的範圍內的所有變更包括在申請專利範圍的範圍內。

此處，圖中以同一記號表示的部分為具有相同功能的相同要素。另外，本說明書中，在使用“~”表示數值範圍的情況下，視為“~”所表示的上限、下限的數值也包括在數值範圍內。

參照圖1的製造流水線20來對本實施形態的光學膜的製造方法進行說明。在光學膜的製造流水線20中，將卷形狀的連續的支撐體26設置在送出機66中。從送出機66中送出支撐體26，向下游的步驟搬送。所送出的支撐體26是由導輥68所引導，向除塵機25A搬送。通過除塵機25A將附著在支撐體26的表面上的灰塵除去。

例如，支撐體26是從送出機66中以1m/min~50m/min的搬送速度送出。但是，不限定於該搬送速度。另外，在送出時，例如對支撐體26施加25N/m~500N/m的張力。從防止皺褶和防止由膜滑動所致的傷痕的觀點來看，較佳為50N/m~300N/m。

連續的支撐體26具有相向的第一面與第二面，且具有長條的形狀。支撐體26的第一面與第二面的距離、即厚度較佳為10μm~100μm。從所應用的產品的減小厚度的要求和防止皺褶的觀點來看，支撐體26更佳的是具有15μm~60μm的厚度。另外， 支撐體26例如具有300mm~1500mm的寬度，且具有100m~5000m的長度。支撐體26的厚度及寬度是根據所應用的產品而適當選擇。支撐體26有時被稱為網(web)、膜、片(sheet)。

支撐體26較佳的是含有選自醯化纖維素(cellulose acylate)、環狀烯烴、丙烯酸系樹脂、聚對苯二甲酸乙二酯樹脂及聚碳酸酯樹脂中的至少一種作為主成分。另外，支撐體26中，除了所述主成分的樹脂以外，例如可含有塑化劑、紫外線吸收劑等。

將支撐體26搬送到設置在除塵機25A下游的棒式塗佈裝置21A中。通過棒式塗佈裝置21A將含有配向層形成用樹脂的塗佈液塗佈在支撐體26上，在支撐體26的第一面上形成含有配向層形成用樹脂的塗膜。另外，也可以採用其他塗佈機構代替棒式塗佈裝置21A。其他塗佈機構可以應用：凹版塗佈機(gravure coater)、輥式塗佈機(轉送輥式塗佈機(transfer roll coater)、逆轉輥式塗佈機(reverse roll coater)等)、模式塗佈機(die coater)、擠壓式塗佈機(extrusion coater)、噴注式塗佈機(fountain coater)、簾幕式塗佈機(curtain coater)、浸漬塗佈機(dip coater)、噴霧塗佈機(spray coater)或滑動料斗(slide hopper)等。

用於配向層形成用樹脂的聚合物可使用其本身可交聯的聚合物或通過交聯劑而交聯的聚合物的任一種。另外，也可使用多種這些聚合物的組合。聚合物的例子中，可以舉出：聚甲基丙烯酸甲酯、丙烯酸/甲基丙烯酸共聚物、苯乙烯/馬來醯亞胺共聚物、聚乙烯醇及改性聚乙烯醇、聚(N-羥甲基丙烯醯胺)、苯乙烯/ 乙烯基甲苯共聚物、氯磺化聚乙烯、硝基纖維素、聚氯乙烯、氯化聚烯烴、聚酯、聚醯亞胺、乙酸乙烯酯/氯乙烯共聚物、乙烯/乙酸乙烯酯共聚物、羧甲基纖維素、明膠(gelatin)、聚乙烯、聚丙烯及聚碳酸酯等聚合物及矽烷偶合劑等化合物。較佳聚合物的例子為聚(N-羥甲基丙烯醯胺)、羧甲基纖維素、明膠、聚乙烯醇及改性聚乙烯醇等水溶性聚合物，進而較佳明膠、聚乙烯醇及改性聚乙烯醇，特別較佳聚乙烯醇及改性聚乙烯醇，尤其較佳將聚合度不同的2種聚乙烯醇或改性聚乙烯醇並用。

在第一面上形成有塗膜的支撐體26被依次搬送到乾燥區76A、加熱區78A中。通過使含有配向層形成用樹脂的塗膜乾燥，而在支撐體26的第一面上形成配向層形成層。在第一面上形成有配向層形成層的支撐體26是由導輥68所引導，向摩擦處理的步驟搬送。

所謂摩擦處理，是指使用紙或紗布(gauze)、毛氈(felt)、橡膠或尼龍、聚酯纖維等將配向層形成層的表面朝一定方向摩擦的處理。通常通過以下方式來實施：將平均地植毛有長度及粗細度均勻的纖維的布等貼附在輥上，摩擦幾次左右。

在摩擦處理的步驟中，為了對配向層形成層實施摩擦處理而配置著摩擦輥72。摩擦輥72是由圓筒狀的輥、及貼附在輥的外周面上的摩擦布所構成。摩擦布例如是由基布及織入到基布中的絨頭紗線(pile yarn)所構成。例如，基布及絨頭紗線例如可以使用選自以下材料中的一種或將兩種以上組合而成的纖維：尼龍 6．6(注冊商標)等聚醯胺系、聚對苯二甲酸乙二酯等聚酯系、聚乙烯等聚烯烴系、聚乙烯醇系、聚偏二氯乙烯系、聚氯乙烯系、聚丙烯腈、丙烯醯胺及甲基丙烯醯胺等丙烯酸系、聚偏氰乙烯(polyvinylidene cyanide)系、聚氟乙烯系、聚胺基甲酸酯系等的合成纖維，絹、木棉、羊毛、纖維素系、纖維素酯系等的天然纖維，再生纖維(人造絲、乙酸酯等)。通過未圖示的驅動裝置將摩擦輥72旋轉驅動至例如1000rpm左右。

本實施形態中，摩擦輥72是以相對於支撐體26的搬送方向而在水平面上旋轉自如的方式構成，設定有既定的摩擦角α。通過設定摩擦角α，可使液晶以任意的角度配向。在本實施形態中，摩擦角α較佳5°~60°的範圍，進而較佳10°以上，且進而較佳55°以下。另外，摩擦輥72具有50mm~500mm的範圍的外徑，即便在設定有摩擦角α的情況下也具有支撐體26的寬度以上的長度。但是，不限定於該外徑、長度。

相對於支撐體26而在摩擦輥72的相反側，在不與摩擦輥72相干涉的位置上轉動自如地安裝著支承輥86、支承輥88。支承輥86是相對於摩擦輥72而配置在上游，支承輥88是相對於摩擦輥72而配置在下游。此處，所謂「上游」、「下游」，是相對於支撐體26的搬送方向而使用。將相對於某個基準而位於與搬送方向相同之側的情況定義為「下游」，將位於與搬送方向相反之側的情況定義為「上游」。在支承輥86、支承輥88上，為了進行摩擦時的張力管理而安裝著檢測支撐體26的張力的張力檢測器。支 承輥86、支承輥88是以可移動的方式構成。支撐體26對摩擦輥72的包繞角θ是通過移動支承輥86、支承輥88來調整。

本實施形態中，所謂摩擦角α，像圖2所示那樣，是指相對於與支撐體26的搬送方向(Machine Direction)正交的寬度方向(Transverse Direction)而傾斜配置的摩擦輥72、與寬度方向所成的角度。

本實施形態中，所謂包繞角θ，像圖3所示那樣，是指由將摩擦輥72的中心與支撐體26進入時的最初的接點1連結的直線、及將摩擦輥72的中心與支撐體26剝離時的最後的接點2連結的直線所形成的角度。像箭頭所示那樣，支承輥86、支承輥88在使支撐體26對摩擦輥72的包繞角θ變化的方向上移動。

像圖1所示那樣，以噴嘴50與摩擦輥72夾持支撐體26的方式將噴嘴50配置在與摩擦輥72相向的位置。噴嘴50對支撐體26的第二面噴附氣體(空氣、氮氣等)。通過來自噴嘴50的氣體將支撐體26按壓在摩擦輥72上。在將支撐體26按壓在摩擦輥72上的狀態下，使配向層形成層與經旋轉驅動的摩擦輥72接觸並進行摩擦，由此對配向層形成層實施摩擦處理，形成配向層。

在摩擦輥72的下游設置著除塵機25B。通過除塵機25B將附著在支撐體26的配向層上的灰塵除去。進而，在除塵機25B的下游設置著棒式塗佈裝置21B。通過棒式塗佈裝置21B將含有交聯性液晶性化合物的塗佈液塗佈在支撐體26的配向層上，在支撐體26的第一面側形成含有交聯性液晶性化合物的塗膜。另外， 也可以採用其他塗佈機構代替棒式塗佈裝置21B。其他塗佈機構可以應用：凹版塗佈機、輥式塗佈機(轉送輥式塗佈機、逆轉輥式塗佈機等)、模式塗佈機、擠壓式塗佈機、噴注式塗佈機、簾幕式塗佈機、浸漬塗佈機、噴霧塗佈機或滑動料斗等。

在棒式塗佈裝置21B的下游，依次設置著乾燥區76B、加熱區78B。將形成在支撐體26的配向層上的塗膜乾燥。進而，在其下游設置著紫外線燈80。通過紫外線照射使塗膜所含的交聯性液晶性化合物交聯，由此形成液晶層，製造光學膜。

本實施形態中，液晶層為含有交聯性液晶性化合物的層，且具有賦予光學各向異性的功能。可使用光硬化型液晶性化合物作為交聯性液晶性化合物。光硬化型液晶性化合物例如為具有聚合性基的光硬化型棒狀液晶性化合物、或光硬化型圓盤狀液晶性化合物。光硬化型棒狀液晶性化合物可以較佳地使用：甲亞胺類、氧化偶氮類、氰基聯苯類、氰基苯基酯類、苯甲酸酯類、環己烷羧酸苯基酯類、氰基苯基環己烷類、氰基取代苯基嘧啶類、烷氧基取代苯基嘧啶類、苯基二噁烷類、二苯乙炔(tolane)類及烯基環己基苄腈類。不僅可使用像以上那樣的低分子液晶性分子，而且也可使用高分子液晶性分子。高分子液晶性分子特別較佳的是在高分子鏈上以懸吊(pendant)狀鍵結著棒狀液晶的分子。

利用檢查裝置90對形成有配向層及液晶層的支撐體26(光學膜)進行檢查。然後，由層壓機92將保護膜94送出，貼附在支撐體26的液晶層上。通過設置在其下游的卷取機82來卷 取形成有配向層及液晶層的支撐體26(光學膜)。

在具有所述構成的摩擦處理中，發明人對相對於支撐體26的搬送方向而傾斜配置摩擦輥72的情況、即設有摩擦角α的情況所產生的配向層的配向不良進行了努力研究。發現在以摩擦角α而配置摩擦輥72的情況下，支撐體26對摩擦輥72的包繞角θ從支撐體26的邊向支撐體的中央減小，包繞角θ的差異與摩擦處理量的差異相對應。

與支撐體26的中央部的摩擦處理量相比，兩端部的摩擦處理量變多，支撐體26總體的均勻性受損。因此，通過從支撐體26的第二面向支撐體26噴附氣體而賦予按壓力，且使對支撐體中央部的按壓力高於對支撐體端部的按壓力，由此完成了本發明。可消除支撐體26的中央部與兩端部之間的摩擦處理量的差。

以下，對設定有摩擦角α的摩擦輥72對配向層的摩擦加工量(摩擦處理量)進行以下說明。

通常，加工量像圖4(A)所示那樣，在對物體施加力F(N)、且該物體在所施加的力的方向上僅移動S(m)時，加工量的大小L(Nm)是由L=F×S…(1)

所求出。另外，像圖4(B)所示那樣，在使重量W的物體在水準的地板面上僅移動S時，若將動摩擦係數設定為μ，則加工 量的大小L是由L=μ×W×S…(2)

所求出。為了求出摩擦加工量，而求出摩擦處理中的μ、W及S。

圖5為表示支承輥86、支承輥88、噴嘴50及摩擦輥72的位置關係的要部放大圖。支撐體26是以搬送張力T(N)、搬送速度V(m/min)朝箭頭方向被搬送。通過支承輥86、支承輥88的移動，將搬送的支撐體26以既定的包繞角θ捲繞在摩擦輥72上，對支撐體26賦予第一按壓力F1。

噴嘴50具有用來對支撐體26噴附氣體的開口50A。噴嘴50是以與摩擦輥72的軸平行的方式配置。從開口50A中以壓力P(Pa)、寬度S2(m)對以包繞角θ而包繞在摩擦輥72上的支撐體26的第二面噴附氣體。通過噴附氣體而對支撐體26賦予第二按壓力F2。在所述構成中，成為通過第一按壓力F1與第二按壓力F2的合計按壓力F將支撐體26按壓在摩擦輥72上的狀態。

在該條件下，若代入至式(2)中，則重量W成為對支撐體26施加的第一按壓力F1與第二按壓力F2的合計。因此，加工量的大小L成為L=μ×(F1+F2)×S…(3)。

然後，若設定摩擦輥72轉一圈的期間中搬送支撐體26的距離S0、摩擦輥72轉一圈的距離S1，則摩擦輥72轉一圈時的移動距離Sr成為Sr=S0+S1…(4)。

其原因在於，支撐體26搬送方向與摩擦輥72的旋轉為相反方向。若將該Sr代入至(3)式的S中，則摩擦輥72轉一圈時的加工量L1成為L1=μ×(F1+F2)×(S0+S1)…(5)。

若設定支撐體26的搬送速度V(m/min)、摩擦輥72的半徑r(m)、轉速N(rpm)，則每一分鐘的移動距離Sm成為Sm=V+2πrN…(6)。

若將該Sm代入至(3)式的S中，則每一分鐘的加工量L1成為L1=μ×(F1+F2)×(V+2πrN)…(7)。

然後，若設定包繞角θ(°)、搬送張力T(N)、摩擦輥72的半徑r(m)、支撐體26的寬度w(m)，則F1成為F1=(T/(w×r))×(2πrθ/360)×w=(T×θ×π)/180…(8)。

另外，若設定壓力P(Pa)、壓制的寬度S2(m)、支撐體26的寬度w(m)，則F2成為F2=P×S2×w…(9)。

因此，每一分鐘的加工量L1成為L1=μ×(F1+F2)×(V+2πrN)=μ×((T×θ×π/180)+P×S2×w)×(V+2πrN)…(10)。

另外，每單位面積的加工量L2成為L2=L1/(V×w)…(11)。

關於所述摩擦加工量，第一按壓力F1像式(8)所示那樣是表示為(T×θ×π)/180。若支撐體26對摩擦輥72的包繞角θ一定，則F1遍及支撐體26的寬度方向而成為一定。因此，在以 摩擦角α配置摩擦輥72的情況下，包繞角θ根據摩擦輥72的位置而其大小變化。

以下，參考圖6及圖7加以說明。Y(m)為2個支承輥86、支承輥88之間的距離，X1(m)為從支撐體26的中心線CL至任一支承輥86、支承輥88上的任意位置的距離(圖6)。若設定摩擦角α，則任意位置上的支承輥88與摩擦輥72的距離Y1成為Y1=(Y/2)+X1×tanα…(12)。

另外，任意位置上的支承輥86與摩擦輥-72的距離Y2成為Y2=Y-Y1…(13)。

若將由支承輥88與摩擦輥72所形成的支撐體26的包繞角設為θ1、由支承輥86與摩擦輥72所形成的支撐體的包繞角設為θ2，則整個包繞角θ成為θ=θ1+θ2…(14)(圖7)。

若將支承輥86、支承輥88的最下點與摩擦輥72的最上點的高度方向的長度設為距離Z，則成為 tanθ1=Z/Y1…(15)、tanθ2=Z/Y2=Z/(Y-Y1)…(16)。

θ1與θ2成為θ1=tan^-1(Z/Y1)…(17)、θ2=tan^-1(Z/(Y-Y1))…(18)。即，可理解θ1與θ2根據Y1與Y2的長度而變化。於Y1與Y2的長度相同、即在支撐體26的中心處，θ1與θ2成為相同大小。Y1越長則θ1越變小。Y1越長則Y2越變短，故θ2越變大。Y1與Y2的長度相同時的包繞角θ變為最小。在Y1最長、Y2最短時，包繞角θ變為最大。

本實施形態中，支撐體26的中心處的包繞角θ較佳3°~15°的範圍。在以摩擦角α配置摩擦輥72的情況下，通過將包繞角θ設定為3°~15°的範圍，可抑制支撐體26產生皺褶。包繞角θ更佳5°以上。包繞角θ更佳10°以下。

圖8表示第一按壓力F1與支撐體的寬度方向的位置的關係。縱軸表示按壓力，橫軸表示支撐體的寬度方向的位置。像該 圖所示那樣，第一按壓力F1在支撐體26的中心變為最小，在支撐體26的邊變為最大。摩擦處理量與第一按壓力F1處於比例關係，對支撐體26的摩擦處理量在中心變為最小，在支撐體26的端部變為最大。由摩擦角α所致的包繞角θ的變化與摩擦處理量相對應。

本實施形態中，通過從噴嘴50中對支撐體26的第二面噴附氣體來賦予第二按壓力F2，而消除由第一按壓力F1所引起的摩擦處理量的不均勻。圖9為概念性地表示本實施形態的圖(graph)。較佳的是通過調整第二按壓力F2，而使第一按壓力F1與第二按壓力F2的合計按壓力F均勻。此處所謂均勻，是指合計按壓力F的最大值F_max與最小值F_min之差相對於最大值F_max而為10%以內的範圍，可由100×(F_max-F_min)/F_max(%)而求出。

根據所述作用，本實施形態中，以第二按壓力F2在支撐體26的中央部高於支撐體26的各端部的方式，來調整第二按壓力F2的噴附力。此處，像圖10所示那樣，所謂支撐體26的端部，是指相對於支撐體26的整個寬度而距支撐體26的邊10%以內的區域。所謂支撐體26的中央部，是指除了支撐體26的兩個端部的80%的區域。根據圖9，最較佳的是對應於支撐體26的位置來調整第二按壓力F2。另一方面，若考慮到設備等，則對應於支撐體26的位置來調整第二按壓力F2有限制。因此，將支撐體26分為各端部與中央部，使中央部的第二按壓力F2大於各端部的第二按壓力F2。由此，使合計按壓力F在支撐體26的各端部與中央 部變得均勻。

圖11(A)至圖1(C)表示本實施形態的第二按壓力F2的分佈。縱軸表示按壓力，橫軸表示支撐體的寬度方向的位置。圖11(A)中，對各端部與中央部賦予第二按壓力F2，進而使中央部的第二按壓力F2大於各端部的第二按壓力F2。

另外，在圖11(B)中，僅對中央部賦予第二按壓力F2，且不對端部賦予第二按壓力F2。圖11(C)為僅對中央部賦予第二按壓力F2的本發明的其他實施方式。即，在僅對中央部賦予第二按壓力F2的情況下，無需對中央部的整個區域賦予第二按壓力F2。作為第二按壓力F2的分佈，示出圖11(A)、圖11(B)及圖11(C)三個例子，但不限定於此。第二按壓力F2的壓力分佈只要依照本發明，則可適當調整。中央部的第二按壓力F2與端部的第二按壓力F2較佳的是具有0.1倍以上的差。較佳的是中央部的第二按壓力F2為2kPa~15kPa的範圍，且端部的第二按壓力F2為1kPa~10kPa的範圍。

中央部的第二按壓力F2與各端部的第二按壓力F2是根據噴嘴50的開口50A的空氣壓測定數值以每單位面積的壓力的形式而計算。通過比較所算出的壓力，可以比較中央部的第二按壓力F2與各端部的第二按壓力F2的大小。

[實施例]

以下舉出實施例對本發明加以更具體說明。以下的實施例中所示的材料、製造條件等只要不偏離本發明的主旨，則可適 當變更。因此，本發明的範圍不受以下的具體例的限制。

[實施例1]

使用圖1所示的光學膜的製造流水線20在各種條件下製造光學膜。以30m/min的速度來搬送三乙醯纖維素(厚度：80μm，寬度：1490mm)的連續(長條狀)的支撐體。在支撐體的第一面上形成厚度為2.0μm的配向層形成層，對配向層形成層實施摩擦處理。

關於摩擦處理的條件，將支撐體對摩擦輥的包繞角θ設定為10°，將摩擦輥的外徑設定為300mm(半徑：150mm)，將摩擦輥的轉速設定為400rpm，將支撐體的張力設定為290N/m，將摩擦角α設定為45°。

將摩擦處理時的噴嘴的前端部與支撐體的第二面的間隔(間隙)設定為10mm。將噴嘴的開口的開口寬度設定為1mm。將噴嘴內部的氣體壓力在中央部設定為10kPa，在端部設定為5kPa。噴嘴具有1500mm的長度。

在經摩擦處理的配向層上塗佈含有交聯性液晶性化合物的塗佈液，形成塗膜。然後使之通過乾燥區及加熱區。一面搬送形成有配向層及含有交聯性液晶性化合物的塗膜的支撐體，一面對塗膜的表面照射紫外線。使塗膜交聯而形成液晶層，並利用卷取機82卷取。

關於所得的光學膜的評價，以消光度的偏差來進行評價。其原因在於，消光度的偏差與摩擦加工量有關。在利用消光 度的評價中，使用大塚電子股份有限公司製造的消光度測定裝置。在該裝置中，將從由卷取機82所卷取的光學膜中切出以進行測定的膜片，以透過率成為最小的方式配置在經正交偏光(cross nicol)配置的2片偏光板間，測定此時的透過率(消光度)。將測定波長設定為550nm，將平行偏光配置的偏光板的透過率設定為100%。關於消光度的偏差，以100×(消光度Max-消光度Min)/消光度Ave(%)來進行計算，結果將消光度的偏差為30%以下視為G(良好)，將大於30%的情況視為NG(不良)。

[實施例2~實施例6及比較例1、比較例2]

除了摩擦處理的條件以外，利用與實施例1相同的方法來製造實施例2~實施例6及比較例1、比較例2的光學膜。

表1表示實施例1~實施例6及比較例1、比較例2的摩擦處理條件及其評價結果。由表1得知，在實施例中，可遍及支撐體的寬度方向的整個區域而獲得良好的配向。另一方面，比較例中，視支撐體的寬度方向的位置不同而有時配向劣化，另外，視支撐體的位置不同而有時配向劣化，配向的整體水準也變低。由以上的評價結果而確認到本發明的效果。

20‧‧‧製造流水線

21A、21B‧‧‧棒式塗佈裝置

25A、25B‧‧‧除塵機

26‧‧‧支撐體

50‧‧‧噴嘴

66‧‧‧送出機

68‧‧‧導輥

72‧‧‧摩擦輥

76A、76B‧‧‧乾燥區

78A、78B‧‧‧加熱區

80‧‧‧紫外線燈

82‧‧‧卷取機

86、88‧‧‧支承輥

90‧‧‧檢查裝置

92‧‧‧層壓機

94‧‧‧保護膜

Claims (4)

1. 一種光學膜的製造方法，至少包括以下步驟：將在第一面上具有配向層形成層的連續的支撐體加以搬送；為了形成配向層而進行摩擦處理，所述摩擦處理在相對於與搬送方向正交的寬度方向而以摩擦角α配置的摩擦輥上，以包繞角θ捲繞所述支撐體並賦予第一按壓力F1，且對所述支撐體的第二面噴附氣體而賦予第二按壓力F2，由此使所述支撐體按壓在所述摩擦輥上，在所述狀態下使所述配向層形成層與經旋轉驅動的所述摩擦輥接觸，並且所述第二按壓力F2在所述支撐體的中央部高於所述支撐體的各端部；以及在經摩擦處理的所述配向層上塗佈含有交聯性液晶性化合物的塗佈液。
2. 如申請專利範圍第1項所述的光學膜的製造方法，其中所述摩擦角α為5°~60°的範圍。
3. 如申請專利範圍第1項或第2項所述的光學膜的製造方法，其中所述支撐體的中心處的所述包繞角θ為3°~15°的範圍。
4. 如申請專利範圍第1項或第2項所述的光學膜的製造方法，其中僅對所述中央部賦予所述第二按壓力F2。