CN104950356A - 光学膜的制造方法 - Google Patents

Abstract

本发明提供一种光学膜的制造方法，其可减少摩擦处理中的由取向不良所引起的光学膜的表面缺陷，至少包括以下工序：将在第一面上具有取向层形成层的连续的支撑体加以搬送；为了形成取向层而进行摩擦处理，其在相对于与搬送方向正交的宽度方向而以摩擦角(α)配置的摩擦辊上，以包绕角(θ)卷绕支撑体并赋予第一按压力(F1)，且从喷嘴中对支撑体的第二面喷附气体而赋予第二按压力(F2)，由此使支撑体按压在摩擦辊上，在该状态下使取向层形成层与摩擦辊接触，且第二按压力(F2)在支撑体的中央部高于支撑体的各端部；以及在经摩擦处理的取向层上涂布含有交联性液晶性化合物的涂布液。

Description

光学膜的制造方法

技术领域

本发明涉及一种光学膜的制造方法。

背景技术

在液晶显示装置中使用各种光学膜。其中，通过实施摩擦处理对液晶层赋予取向性的光学膜已为人所知。该光学膜例如是通过以下方式制造：使具有取向层形成层的支撑体连续移动，对取向层形成层实施摩擦处理而形成取向层，在取向层上涂布含有交联性液晶性化合物的涂布液，接着加以干燥，然后使之硬化而形成液晶层。

在制造这种光学膜时的摩擦处理中，由取向不良所引起的表面缺陷成问题。已提出了用来减少该缺陷的方法。例如专利文献1公开了以下方法：在摩擦处理时从支撑体的背面侧施加流体压力，将支撑体按压在摩擦辊上，由此减少由取向不良引起的表面缺陷。

[现有技术文献]

[专利文献]

[专利文献1]日本专利特开2006-267919号公报

发明内容

[发明所欲解决的问题]

但是近年来，对光学膜的表面缺陷的品质要求不断提高。已判明特别是在相对于支撑体的搬送方向而倾斜配置摩擦辊的情况下，有时光学膜中产生由取向不良所引起的表面缺陷。

本发明是鉴于这种情况而成，其目的在于提供一种光学膜的制造方法，所述光学膜的制造方法在制造光学膜时的摩擦处理中，可减少由取向不良所引起的表面缺陷。

[解决问题的手段]

第一实施形态的光学膜的制造方法至少包括以下工序：将在第一面上具有取向层形成层的连续的支撑体加以搬送；为了形成取向层而进行摩擦处理，所述摩擦处理在相对于与搬送方向正交的宽度方向而以摩擦角α配置的摩擦辊上，以包绕角θ卷绕支撑体并赋予第一按压力F1，且对支撑体的第二面喷附气体而赋予第二按压力F2，由此将支撑体按压在摩擦辊上，在此状态下使取向层形成层与经旋转驱动的摩擦辊接触，并且第二按压力F2在支撑体的中央部高于支撑体的各端部；以及在经摩擦处理的取向层上涂布含有交联性液晶性化合物的涂布液。

第二实施形态的光学膜的制造方法优选的是摩擦角α为5°～60°的范围。

第三实施形态的光学膜的制造方法优选的是支撑体的中心处的包绕角θ为3°～15°的范围。

第四实施形态的光学膜的制造方法优选的是仅对中央部赋予第二按压力F2。

[发明的效果]

根据本发明的光学膜的制造方法，可减少摩擦处理中的由取向不良所引起的光学膜的表面缺陷。

附图说明

图1为表示光学膜的制造流水线的概略构成图。

图2为用来说明摩擦角α的说明图。

图3为用来说明包绕角的说明图。

图4(A)至图4(B)为表示加工量的算出方法的说明图。

图5为表示摩擦处理工序的装置构成的概略构成图。

图6为说明摩擦角α与包绕角θ的关系的说明图。

图7为说明摩擦角α与包绕角θ的关系的说明图。

图8为表示第一按压力F1与支撑体的宽度方向的位置的关系的图。

图9为表示合计按压力F与支撑体的宽度方向的位置的关系的图。

图10为说明支撑体的中央部与端部的说明图。

图11(A)至图11(C)为表示第二按压力F2的分布(profile)的图。

符号的说明

20：制造流水线

21A、21B：棒式涂布装置

25A、25B：除尘机

26：网

50：喷嘴

50A：开口

66：送出机

68：导辊

72：摩擦辊

76A、76B：干燥区

78A、78B：加热区

80：紫外线灯

82：卷取机

86、88：支承辊

90：检查装置

92：层压机

94：保护膜

CL：中心线

F：合计按压力

F1：第一按压力

F2：第二按压力

X1、Y1、Y2、Y、Z：距离

α：摩擦角

θ、θ1、θ2：包绕角

μ：动摩擦系数

具体实施方式

以下，根据附图对本发明的优选实施形态加以说明。本发明是通过以下的优选实施形态来进行说明。可在不偏离本发明的范围的情况下，通过多种方法进行变更，且可利用本实施形态以外的其他实施形态。因此，本发明的范围内的所有变更包括在权利要求的范围内。

这里，图中以同一记号表示的部分为具有相同功能的相同要素。另外，本说明书中，在使用“～”表示数值范围的情况下，视为“～”所表示的上限、下限的数值也包括在数值范围内。

参照图1的制造流水线20来对本实施形态的光学膜的制造方法进行说明。在光学膜的制造流水线20中，将卷形状的连续的支撑体26设置在送出机66中。从送出机66中送出支撑体26，向下游的工序搬送。所送出的支撑体26是由导辊68所引导，向除尘机25A搬送。通过除尘机25A将附着在支撑体26的表面上的灰尘除去。

例如，支撑体26是从送出机66中以1m/min～50m/min的搬送速度送出。但是，不限定于该搬送速度。另外，在送出时，例如对支撑体26施加25N/m～500N/m的张力。从防止皱褶和防止由膜滑动所致的伤痕的观点来看，优选为50N/m～300N/m。

连续的支撑体26具有相向的第一面与第二面，且具有长条的形状。支撑体26的第一面与第二面的距离、即厚度优选为10μm～100μm。从所应用的产品的减小厚度的要求和防止皱褶的观点来看，支撑体26更优选的是具有15μm～60μm的厚度。另外，支撑体26例如具有300mm～1500mm的宽度，且具有100m～5000m的长度。支撑体26的厚度及宽度是根据所应用的产品而适当选择。支撑体26有时被称为网(web)、膜、片(sheet)。

支撑体26优选的是含有选自酰化纤维素(cellulose acylate)、环状烯烃、丙烯酸系树脂、聚对苯二甲酸乙二酯树脂及聚碳酸酯树脂中的至少一种作为主成分。另外，支撑体26中，除了所述主成分的树脂以外，例如可含有塑化剂、紫外线吸收剂等。

将支撑体26搬送到设置在除尘机25A下游的棒式涂布装置21A中。通过棒式涂布装置21A将含有取向层形成用树脂的涂布液涂布在支撑体26上，在支撑体26的第一面上形成含有取向层形成用树脂的涂膜。另外，也可以采用其他涂布机构代替棒式涂布装置21A。其他涂布机构可以应用：凹版涂布机(gravure coater)、辊式涂布机(转送辊式涂布机(transfer roll coater)、逆转辊式涂布机(reverse roll coater)等)、模式涂布机(die coater)、挤压式涂布机(extrusion coater)、喷注式涂布机(fountain coater)、帘幕式涂布机(curtaincoater)、浸渍涂布机(dip coater)、喷雾涂布机(spray coater)或滑动料斗(slidehopper)等。

用于取向层形成用树脂的聚合物可使用其本身可交联的聚合物或通过交联剂而交联的聚合物的任一种。另外，也可使用多种这些聚合物的组合。聚合物的例子中，可以举出：聚甲基丙烯酸甲酯、丙烯酸/甲基丙烯酸共聚物、苯乙烯/马来酰亚胺共聚物、聚乙烯醇及改性聚乙烯醇、聚(N-羟甲基丙烯酰胺)、苯乙烯/7烯基甲苯共聚物、氯磺化聚乙烯、硝基纤维素、聚氯乙烯、氯化聚烯烃、聚酯、聚酰亚胺、乙酸乙烯酯/氯乙烯共聚物、乙烯/乙酸乙烯酯共聚物、羧甲基纤维素、明胶(gelatin)、聚乙烯、聚丙烯及聚碳酸酯等聚合物及硅烷偶合剂等化合物。优选聚合物的例子为聚(N-羟甲基丙烯酰胺)、羧甲基纤维素、明胶、聚乙烯醇及改性聚乙烯醇等水溶性聚合物，进而优选明胶、聚乙烯醇及改性聚乙烯醇，特别优选聚乙烯醇及改性聚乙烯醇，尤其优选将聚合度不同的2种聚乙烯醇或改性聚乙烯醇并用。

在第一面上形成有涂膜的支撑体26.被依次搬送到干燥区76A、加热区78A中。通过使含有取向层形成用树脂的涂膜干燥，而在支撑体26的第一面上形成取向层形成层。在第一面上形成有取向层形成层的支撑体26是由导辊68所引导，向摩擦处理的工序搬送。

所谓摩擦处理，是指使用纸或纱布(gauze)、毛毡(felt)、橡胶或尼龙、聚酯纤维等将取向层形成层的表面朝一定方向摩擦的处理。通常通过以下方式来实施：将平均地植毛有长度及粗细度均匀的纤维的布等贴附在辊上，摩擦几次左右。

在摩擦处理的工序中，为了对取向层形成层实施摩擦处理而配置着摩擦辊72。摩擦辊72是由圆筒状的辊、及贴附在辊的外周面上的摩擦布所构成。摩擦布例如是由基布及织入到基布中的绒头纱线(pile yarn)所构成。例如，基布及绒头纱线例如可以使用选自以下材料中的一种或将两种以上组合而成的纤维：尼龙6·6(注册商标)等聚酰胺系、聚对苯二甲酸乙二酯等聚酯系、聚乙烯等聚烯烃系、聚乙烯醇系、聚偏二氯乙烯系、聚氯乙烯系、聚丙烯腈、丙烯酰胺及甲基丙烯酰胺等丙烯酸系、聚偏氰乙烯(polyvinylidene cyanide)系、聚氟乙烯系、聚氨基甲酸酯系等的合成纤维，绢、木棉、羊毛、纤维素系、纤维素酯系等的天然纤维，再生纤维(人造丝、乙酸酯等)。通过未图示的驱动装置将摩擦辊72旋转驱动至例如1000rpm左右。

本实施形态中，摩擦辊72是以相对于支撑体26的搬送方向而在水平面上旋转自如的方式构成，设定有既定的摩擦角α。通过设定摩擦角α，可使液晶以任意的角度取向。在本实施形态中，摩擦角α优选5°～60°的范围，进而优选10°以上，且进而优选55°以下。另外，摩擦辊72具有50mm～500mm的范围的外径，即便在设定有摩擦角α的情况下也具有支撑体26的宽度以上的长度。但是，不限定于该外径、长度。

相对于支撑体26而在摩擦辊72的相反侧，在不与摩擦辊72相干涉的位置上转动自如地安装着支承辊86、支承辊88。支承辊86是相对于摩擦辊72而配置在上游，支承辊88是相对于摩擦辊72而配置在下游。这里，所谓“上游”、“下游”，是相对于支撑体26的搬送方向而使用。将相对于某个基准而位于与搬送方向相同之侧的情况定义为“下游”，将位于与搬送方向相反之侧的情况定义为“上游”。在支承辊86、支承辊88上，为了进行摩擦时的张力管理而安装着检测支撑体26的张力的张力检测器。支承辊86、支承辊88是以可移动的方式构成。支撑体26对摩擦辊72的包绕角θ是通过移动支承辊86、支承辊88来调整。

本实施形态中，所谓摩擦角α，像图2所示那样，是指相对于与支撑体26的搬送方向(Machine Direction)正交的宽度方向(Transverse Direction)而倾斜配置的摩擦辊72、与宽度方向所成的角度。

本实施形态中，所谓包绕角θ，像图3所示那样，是指由将摩擦辊72的中心与支撑体26进入时的最初的接点1连结的直线、及将摩擦辊72的中心与支撑体26剥离时的最后的接点2连结的直线所形成的角度。像箭头所示那样，支承辊86、支承辊88在使支撑体26对摩擦辊72的包绕角θ变化的方向上移动。

像图1所示那样，以喷嘴50与摩擦辊72夹持支撑体26的方式将喷嘴50配置在与摩擦辊72相向的位置。喷嘴50对支撑体26的第二面喷附气体(空气、氮气等)。通过来自喷嘴50的气体将支撑体26按压在摩擦辊72上。在将支撑体26按压在摩擦辊72上的状态下，使取向层形成层与经旋转驱动的摩擦辊72接触并进行摩擦，由此对取向层形成层实施摩擦处理，形成取向层。

在摩擦辊72的下游设置着除尘机25B。通过除尘机25B将附着在支撑体26的取向层上的灰尘除去。进而，在除尘机25B的下游设置着棒式涂布装置21B。通过棒式涂布装置21B将含有交联性液晶性化合物的涂布液涂布在支撑体26的取向层上，在支撑体26的第一面侧形成含有交联性液晶性化合物的涂膜。另外，也可以采用其他涂布机构代替棒式涂布装置21B。其他涂布机构可以应用：凹版涂布机、辊式涂布机(转送辊式涂布机、逆转辊式涂布机等)、模式涂布机、挤压式涂布机、喷注式涂布机、帘幕式涂布机、浸渍涂布机、喷雾涂布机或滑动料斗等。

在棒式涂布装置21B的下游，依次设置着干燥区76B、加热区78B。将形成在支撑体26的取向层上的涂膜干燥。进而，在其下游设置着紫外线灯80。通过紫外线照射使涂膜所含的交联性液晶性化合物交联，由此形成液晶层，制造光学膜。

本实施形态中，液晶层为含有交联性液晶性化合物的层，且具有赋予光学各向异性的功能。可使用光硬化型液晶性化合物作为交联性液晶性化合物。光硬化型液晶性化合物例如为具有聚合性基的光硬化型棒状液晶性化合物、或光硬化型圆盘状液晶性化合物。光硬化型棒状液晶性化合物可以优选地使用：甲亚胺类、氧化偶氮类、氰基联苯类、氰基苯基酯类、苯甲酸酯类、环己烷羧酸苯基酯类、氰基苯基环己烷类、氰基取代苯基嘧啶类、烷氧基取代苯基嘧啶类、苯基二恶烷类、二苯乙炔(tolane)类及烯基环己基苄腈类。不仅可使用像以上那样的低分子液晶性分子，而且也可使用高分子液晶性分子。高分子液晶性分子特别优选的是在高分子链上以悬吊(pendant)状键合着棒状液晶的分子。

利用检查装置90对形成有取向层及液晶层的支撑体26(光学膜)进行检查。然后，由层压机92将保护膜94送出，贴附在支撑体26的液晶层上。通过设置在其下游的卷取机82来卷取形成有取向层及液晶层的支撑体26(光学膜)。

在具有所述构成的摩擦处理中，发明人对相对于支撑体26的搬送方向而倾斜配置摩擦辊72的情况、即设有摩擦角α的情况所产生的取向层的取向不良进行了努力研究。发现在以摩擦角α而配置摩擦辊72的情况下，支撑体26对摩擦辊72的包绕角θ从支撑体26的边向支撑体的中央减小，包绕角θ的差异与摩擦处理量的差异相对应。

与支撑体26的中央部的摩擦处理量相比，两端部的摩擦处理量变多，支撑体26总体的均匀性受损。因此，通过从支撑体26的第二面向支撑体26喷附气体而赋予按压力，且使对支撑体中央部的按压力高于对支撑体端部的按压力，由此完成了本发明。可消除支撑体26的中央部与两端部之间的摩擦处理量的差。

以下，对设定有摩擦角α的摩擦辊72对取向层的摩擦加工量(摩擦处理量)进行以下说明。

通常，加工量像图4(A)所示那样，在对物体施加力F(N)、且该物体在所施加的力的方向上仅移动S(m)时，加工量的大小L(Nm)是由

L＝F×S  (1)

所求出。另外，像图4(B)所示那样，在使重量W的物体在水平的地板面上仅移动S时，若将动摩擦系数设定为μ，则加工量的大小L是由

L＝μ×W×S  (2)

所求出。为了求出摩擦加工量，而求出摩擦处理中的μ、W及S。

图5为表示支承辊86、支承辊88、喷嘴50及摩擦辊72的位置关系的要部放大图。支撑体26是以搬送张力T(N)、搬送速度V(m/min)朝箭头方向被搬送。通过支承辊86、支承辊88的移动，将搬送的支撑体26以既定的包绕角θ卷绕在摩擦辊72上，对支撑体26赋予第一按压力F1。

喷嘴50具有用来对支撑体26喷附气体的开口50A。喷嘴50是以与摩擦辊72的轴平行的方式配置。从开口50A中以压力P(Pa)、宽度S2(m)对以包绕角θ而包绕在摩擦辊72上的支撑体26的第二面喷附气体。通过喷附气体而对支撑体26赋予第二按压力F2。在所述构成中，成为通过第一按压力F1与第二按压力F2的合计按压力F将支撑体26按压在摩擦辊72上的状态。

在该条件下，若代入至式(2)中，则重量W成为对支撑体26施加的第一按压力F1与第二按压力F2的合计。因此，加工量的大小L成为

L＝μ×(F1+F2)×S  (3)。

然后，若设定摩擦辊72转一圈的期间中搬送支撑体26的距离S0、摩擦辊72转一圈的距离S1，则摩擦辊72转一圈时的移动距离Sr成为

Sr＝S0+S1  (4)。

其原因在于，支撑体26搬送方向与摩擦辊72的旋转为相反方向。若将该Sr代入至(3)式的S中，则摩擦辊72转一圈时的加工量L1成为

L1＝μ×(F1+F2)×(S0+S1)  (5)。

若设定支撑体26的搬送速度V(m/min)、摩擦辊72的半径r(m)、转速N(rpm)，则每一分钟的移动距离Sm成为

Sm＝V+2πrN  (6)。

若将该Sm代入至(3)式的S中，则每一分钟的加工量L1成为

L1＝μ×(F1+F2)×(V+2πrN)  (7)。

然后，若设定包绕角θ(°)、搬送张力T(N)、摩擦辊72的半径r(m)、支撑体26的宽度w(m)，则F1成为

F1＝(T/(w×r))×(2πrθ/360)×w＝(T×θ×π)/180  (8)。

另外，若设定压力P(Pa)、压制的宽度S2(m)、支撑体26的宽度w(m)，则F2成为

F2＝P×S2×w  (9)。

因此，每一分钟的加工量L1成为

L1＝μ×(F1+F2)×(V+2πrN)＝μ×((T×θ×π/180)+p×S2×w)×(V+2πrN)

                                                     (10)。

另外，每单位面积的加工量L2成为

L2＝L1/(V×w)  (11)。

关于所述摩擦加工量，第一按压力F1像式(8)所示那样是表示为(T×θ×π)/180。若支撑体26对摩擦辊72的包绕角θ一定，则F1遍及支撑体26的宽度方向而成为一定。因此，在以摩擦角α配置摩擦辊72的情况下，包绕角θ根据摩擦辊72的位置而其大小变化。

以下，参考图6及图7加以说明。Y(m)为2个支承辊86、支承辊88之间的距离，X 1(m)为从支撑体26的中心线CL至任一支承辊86、支承辊88上的任意位置的距离(图6)。若设定摩擦角α，则任意位置上的支承辊88与摩擦辊72的距离Y1成为

Y1＝(Y/2)+X 1×tanα  (12)。

另外，任意位置上的支承辊86与摩擦辊72的距离Y2成为

Y2＝Y-Y1  (13)。

若将由支承辊88与摩擦辊72所形成的支撑体26的包绕角设为θ1、由支承辊86与摩擦辊72所形成的支撑体的包绕角设为θ2，则整个包绕角θ成为

θ＝θ1+θ2  (14)(图7)。

若将支承辊86、支承辊88的最下点与摩擦辊72的最上点的高度方向的长度设为距离Z，则成为

tanθ1＝Z/Y1  (15)、

tanθ2＝Z/Y2＝Z/(Y-Y1)  (16)。

θ1与θ2成为

θ1＝tan^-1(Z/Y1)  (17)、

θ2＝tan^-1(Z/(Y-Y1))  (18)。

即，可理解θ1与θ2根据Y1与Y2的长度而变化。于Y1与Y2的长度相同、即在支撑体26的中心处，θ1与θ2成为相同大小。Y1越长则θ1越变小。Y1越长则Y2越变短，故θ2越变大。Y1与Y2的长度相同时的包绕角θ变为最小。在Y1最长、Y2最短时，包绕角θ变为最大。

本实施形态中，支撑体26的中心处的包绕角θ优选3°～15°的范围。在以摩擦角α配置摩擦辊72的情况下，通过将包绕角θ设定为3°～15°的范围，可抑制支撑体26产生皱褶。包绕角θ更优选5°以上。包绕角θ更优选10°以下。

图8表示第一按压力F1与支撑体的宽度方向的位置的关系。纵轴表示按压力，横轴表示支撑体的宽度方向的位置。像该图所示那样，第一按压力F1在支撑体26的中心变为最小，在支撑体26的边变为最大。摩擦处理量与第一按压力F1处于比例关系，对支撑体26的摩擦处理量在中心变为最小，在支撑体26的端部变为最大。由摩擦角α所致的包绕角θ的变化与摩擦处理量相对应。

本实施形态中，通过从喷嘴50中对支撑体26的第二面喷附气体来赋予第二按压力F2，而消除由第一按压力F1所引起的摩擦处理量的不均匀。图9为概念性地表示本实施形态的图(graph)。优选的是通过调整第二按压力F2，而使第一按压力F1与第二按压力F2的合计按压力F均匀。这里所谓均匀，是指合计按压力F的最大值F_max与最小值F_min之差相对于最大值F_max而为10％以内的范围，可由100×(F_max-F_min)/F_max(％)而求出。

根据所述作用，本实施形态中，以第二按压力F2在支撑体26的中央部高于支撑体26的各端部的方式，来调整第二按压力F2的喷附力。这里，像图10所示那样，所谓支撑体26的端部，是指相对于支撑体26的整个宽度而距支撑体26的边10％以内的区域。所谓支撑体26的中央部，是指除了支撑体26的两个端部的80％的区域。根据图9，最优选的是对应于支撑体26的位置来调整第二按压力F2。另一方面，若考虑到设备等，则对应于支撑体26的位置来调整第二按压力F2有限制。因此，将支撑体26分为各端部与中央部，使中央部的第二按压力F2大于各端部的第二按压力F2。由此，使合计按压力F在支撑体26的各端部与中央部变得均匀。

图11(A)至图11(C)表示本实施形态的第二按压力F2的分布。纵轴表示按压力，横轴表示支撑体的宽度方向的位置。图11(A)中，对各端部与中央部赋予第二按压力F2，进而使中央部的第二按压力F2大于各端部的第二按压力F2。

另外，在图11(B)中，仅对中央部赋予第二按压力F2，且不对端部赋予第二按压力F2。图11(C)为仅对中央部赋予第二按压力F2的本发明的其他实施方式。即，在仅对中央部赋予第二按压力F2的情况下，无需对中央部的整个区域赋予第二按压力F2。作为第二按压力F2的分布，示出图11(A)、图11(B)及图11(C)三个例子，但不限定于此。第二按压力F2的压力分布只要依照本发明，则可适当调整。中央部的第二按压力F2与端部的第二按压力F2优选的是具有0.1倍以上的差。优选的是中央部的第二按压力F2为2kPa～15kPa的范围，且端部的第二按压力F2为1kPa～10kPa的范围。

中央部的第二按压力F2与各端部的第二按压力F2是根据喷嘴50的开口50A的空气压测定数值以每单位面积的压力的形式而计算。通过比较所算出的压力，可以比较中央部的第二按压力F2与各端部的第二按压力F2的大小。

[实施例]

以下举出实施例对本发明加以更具体说明。以下的实施例中所示的材料、制造条件等只要不偏离本发明的主旨，则可适当变更。因此，本发明的范围不受以下的具体例的限制。

[实施例1]

使用图1所示的光学膜的制造流水线20在各种条件下制造光学膜。以30m/min的速度来搬送三乙酰纤维素(厚度：80μm，宽度：1490mm)的连续(长条状)的支撑体。在支撑体的第一面上形成厚度为2.0μm的取向层形成层，对取向层形成层实施摩擦处理。

关于摩擦处理的条件，将支撑体对摩擦辊的包绕角θ设定为10°，将摩擦辊的外径设定为300mm(半径：150mm)，将摩擦辊的转速设定为400rpm，将支撑体的张力设定为290N/m，将摩擦角α设定为45°。

将摩擦处理时的喷嘴的前端部与支撑体的第二面的间隔(间隙)设定为10mm。将喷嘴的开口的开口宽度设定为1mm。将喷嘴内部的气体压力在中央部设定为10kPa，在端部设定为5kPa。喷嘴具有1500mm的长度。

在经摩擦处理的取向层上涂布含有交联性液晶性化合物的涂布液，形成涂膜。然后使之通过干燥区及加热区。一面搬送形成有取向层及含有交联性液晶性化合物的涂膜的支撑体，一面对涂膜的表面照射紫外线。使涂膜交联而形成液晶层，并利用卷取机82卷取。

关于所得的光学膜的评价，以消光度的偏差来进行评价。其原因在于，消光度的偏差与摩擦加工量有关。在利用消光度的评价中，使用大塚电子股份有限公司制造的消光度测定装置。在该装置中，将从由卷取机82所卷取的光学膜中切出以进行测定的膜片，以透过率成为最小的方式配置在经正交偏光(cross nicol)配置的2片偏光板间，测定此时的透过率(消光度)。将测定波长设定为550nm，将平行偏光配置的偏光板的透过率设定为100％。关于消光度的偏差，以100×(消光度Max-消光度Min)/消光度Ave(％)来进行计算，结果将消光度的偏差为30％以下视为G(良好)，将大于30％的情况视为NG(不良)。

[实施例2～实施例6及比较例1、比较例2]

除了摩擦处理的条件以外，利用与实施例1相同的方法来制造实施例2～实施例6及比较例1、比较例2的光学膜。

表1表示实施例1～实施例6及比较例1、比较例2的摩擦处理条件及其评价结果。由表1得知，在实施例中，可遍及支撑体的宽度方向的整个区域而获得良好的取向。另一方面，比较例中，视支撑体的宽度方向的位置不同而有时取向劣化，另外，视支撑体的位置不同而有时取向劣化，取向的整体水平也变低。由以上的评价结果而确认到本发明的效果。

[表1]

Claims (4)

1.一种光学膜的制造方法，其特征在于至少包括以下工序：

将在第一面上具有取向层形成层的连续的支撑体加以搬送；

为了形成取向层而进行摩擦处理，所述摩擦处理在相对于与搬送方向正交的宽度方向而以摩擦角(α)配置的摩擦辊上，以包绕角(θ)卷绕所述支撑体并赋予第一按压力(F1)，且对所述支撑体的第二面喷附气体而赋予第二按压力(F2)，由此使所述支撑体按压在所述摩擦辊上，在所述状态下使所述取向层形成层与经旋转驱动的所述摩擦辊接触，并且所述第二按压力(F2)在所述支撑体的中央部高于所述支撑体的各端部；以及

在经摩擦处理的所述取向层上涂布含有交联性液晶性化合物的涂布液。

2.根据权利要求1所述的光学膜的制造方法，其特征在于：所述摩擦角(α)为5°～60°的范围。

3.根据权利要求1或2所述的光学膜的制造方法，其特征在于：所述支撑体的中心处的所述包绕角(θ)为3°～15°的范围。

4.根据权利要求1或2所述的光学膜的制造方法，其特征在于：仅对所述中央部赋予所述第二按压力(F2)。