CN101923252B - 摩擦方法、装置、取向膜及光学构件的制造方法 - Google Patents

Abstract

本发明提供一种可以同时解决由取向不良引起的亮点缺陷和由尘埃引起的亮点缺陷这两个问题的摩擦方法、装置以及光学补偿膜的制造方法。在所述摩擦方法中，随着摩擦用布材(1)卷回，使同时旋转的摩擦辊(70A、70B)卷起连续移动的织物(16)，用摩擦用布材(1)摩擦形成于织物上的取向膜形成层(19)，形成取向膜，所述摩擦方法的特征在于，摩擦用布材(1)是在由底布组织的经线(2)和纬线(3)形成的基布(5)中织入绒头纱线(4)而形成的，同时，绒布(4)摩擦时的弯曲度用摩擦前的绒头纱线(4)的全长A和可对绒头纱线(4)赋予摩擦加重的摩擦中从基布(5)面到取向膜形成层(19)面的长度B的比率(B/A)×100％表示时，在将该比率设定在60％～90％的范围内的状态下进行摩擦。

Description

摩擦方法、装置、取向膜及光学构件的制造方法

技术领域

本发明涉及一种摩擦(ラビング)方法、装置、取向膜及光学构件的制造方法，特别涉及一种在制造液晶显示装置使用的光学构件时，能够抑制起尘并且能充分地摩擦取向膜形成层的技术。

背景技术

液晶显示装置中使用了各种光学构件，比如：作为偏光板使用的构件，使用了使视野扩大的光学补偿薄膜。这种光学补偿薄膜，一般是在透明树脂制的带状可绕性的支撑体表面涂上取向用的涂布液，经过干燥，形成取向膜形成层，之后在它的表面施以摩擦，从而形成取向膜。然后，在取向膜表面涂上液晶性涂布液，经过干燥，形成液晶层，其后使其硬化，由此制造光学补偿薄膜。

所谓摩擦是液晶分子的取向方法中所具代表性的一种，通过在织物(web)表面形成取向膜形成层，对这种取向膜形成层的表面，使卷回了摩擦用布材的摩擦辊高速旋转而涂擦来进行。

然而，近年来，随着液晶显示装置的高亮度化，高精细化，在减少对液晶显示装置的显示品质的降低有影响的亮点数的同时，需要减小亮点的大小。亮点缺陷的原因有的情况是由于摩擦不足或不稳定引起的取向不佳而产生的表面缺陷引起，也有的情况是由于摩擦时的灰尘引起。

目前，作为取向膜形成层的摩擦技术，例如有专利文献1～6。专利文献1是将取向膜形成层调湿，消除取向膜形成层的局部延伸的痕迹，由此降低由于取向不佳而引起的表面缺陷。专利文献2是在摩擦装置的上方一侧设置支撑体调湿装置，在控制支撑体的含水量的同时也控制摩擦装置周围的环境湿度，从而降低由于取向不佳引起的表面缺陷。专利文献3是在摩擦时从支撑体的背面一侧施加流体压力，对摩擦辊挤压支撑体，从而降低由于取向不佳引起的表面缺陷。专利文献4是通过使摩擦辊的旋转数在两个阶段可变，控制取向膜限制力的离散，从而降低由于取向不佳引起的表面缺陷。专利文献5是通过将摩擦布的绒头纱线设定为特定倾斜角度(对应垂直线Z为26～40°)，从而降低由于取向不佳引起的表面缺陷。专利文献6公开了利用离子风使摩擦后的摩擦布除去静电，由此使摩擦布进行除尘，从而降低由于取向不佳引起的表面缺陷。

专利文献1：日本特开2003-329833号公报

专利文献2：日本特开2006-259151号公报

专利文献3：日本特开2006-267919号公报

专利文献4：日本特开2009-003368号公报

专利文献5：日本登录实用新案第3032820号公报

专利文献6：日本特开2009-031735号公报

正如专利文献1～5所述，目前为了防止取向不佳，正在进行摩擦技术的改进。通过摩擦性能的提高，抑制由取向不良引起的表面缺陷，从而可以在制造光学补偿薄膜时降低亮点缺陷。

但是，为了避免取向不佳而采取强行摩擦时，摩擦时出现的尘埃增多，存在尘埃引起的亮点缺陷增加的问题。如专利文献6所述，通过进行摩擦布的除尘，多少可以减少一些由于尘埃引起的亮点缺陷，但不抑制摩擦时的起尘则从根本上没有解决问题。

发明内容

本发明是鉴于上述课题进行的研究，目的在于能够提供一种可以同时解决由于取向不佳引起的亮点缺陷由于和尘埃引起的亮点缺陷这两个问题的的摩擦方法、装置、取向膜以及光学构件的制造方法。

本发明的第一方面，为了实现上述目的，提供了一种摩擦方法，其中，使连续移动的支撑体与随着摩擦用布材卷回而一起旋转的摩擦辊接触，从而用所述摩擦用布材摩擦形成于支撑体的取向膜形成层而形成取向膜，其特征在于，

所述摩擦用布材是在底布组织的经线和纬线组成的基布上织入绒头纱线(パィル糸)而形成的，并且，所述绒头纱线在摩擦时的弯曲度用A和B的比值(B/A)×100％表示时，以将该比值设定在60％～90％的范围内的状态进行摩擦，其中，A为所述摩擦前的所述绒头纱线的全长，B为对所述绒头纱线施加摩擦加重时的摩擦中从所述基布面到所述取向膜形成层面的长度。

本发明者兼顾抑制由于取向不佳引起的亮点缺陷和抑制摩擦时起尘的尘埃引起的亮点缺陷这两种问题，对其对策进行了深入的研究。其结果得到如下结论：通过适当设定卷回到摩擦辊上的摩擦用布材的绒头纱线在摩擦时的弯曲度，可以不发生取向不佳，而且可以显著抑制起尘。

在此，绒头纱线在摩擦时的弯曲度是摩擦前绒头纱线的全长A与对绒头纱线施加摩擦加重时的摩擦中从摩擦用布材的基布面到取向膜形成层面的长度B的比值(B/A)×100％，该比值越小，表示弯曲度越大。

根据本发明的第一方面，上述绒头纱线在摩擦时的弯曲度用A和B的比值(B/A)×100％表示时，将该比值设定在60％～90％的状态进行摩擦，其中，A为上述摩擦前的上述绒头纱线的全长；B为对上述绒头纱线施加摩擦加重时的摩擦中从上述基布面到上述取向膜形成层面的长度，因此，可以同时解决取向不佳引起的亮点缺陷和尘埃引起的亮点缺陷这两问题。

另外需要说明的是，如果比值不足60％，绒头纱线相对取向膜形成层的接触面积变大，因此虽然取向性能提高，但摩擦时起尘也急剧增大。因此，在制造光学构件时，即使可以抑制由于取向不佳引起的亮点缺陷，但由于尘埃引起的亮点缺陷增大，故总的亮点缺陷变多。

另一方面，如果比值超过了90％，绒头纱线相对取向膜形成层的接触面积变小，故能够抑制起尘但却会发生取向不佳。因此，在制造光学构件时，尽管抑制了由于尘埃引起的亮点缺陷，但增大了由于取向不佳引起的亮点缺陷，故总的亮点缺陷变多。

在第1方面的摩擦方法中，通过调整进行上述摩擦的摩擦室内的相对湿度，可以改变上述绒头纱线的刚性，由此优选将绒头纱线的弯曲度设定在上述比值范围内。

这是利用了绒头纱线的刚性根据绒头纱线中的水分显著变动的原理，增加摩擦室的湿度，绒头纱线的水分会变多，容易弯曲；减少摩擦室的湿度，绒头纱线的水分会减少，难以弯曲。因此，适当地调整摩擦室的湿度，可以将绒头纱线的弯曲度设定在上述比值范围内。具体而言，优选将摩擦室内的相对湿度调整至10～50％的范围内。

在第一方面的摩擦方法中，在上述绒头纱线的表面涂覆树脂，能够改变绒头纱线的刚性，由此优选将上述绒头纱线的弯曲度设定在上述比值范围内。

这就是利用改变绒头纱线自身的刚性，将绒头纱线的弯曲度设定在上述比值范围内。根据这种方法，可以不受摩擦室的湿度环境影响，适当地设定绒头纱线摩擦时的弯曲度。

本发明的第五方面为了实现上述目的，提供一种摩擦方法，其特征在于，使连续移动的支撑体与随着摩擦用布材卷回而一起旋转的摩擦辊接触，从而用所述摩擦用布材摩擦形成于支撑体的取向膜形成层而形成取向膜，其特征在于，具有：加湿工序，其中，加湿进行所述摩擦之前的前室内而对所述支撑体赋予湿气；和除湿工序，其中，以使进行所述摩擦的摩擦室内的相对湿度比所述前室内更小的方式进行除湿，从而防止由于搬运所述支撑体，导致从所述前室带进所述摩擦室内的湿气使所述摩擦用布材的水分上升。

根据本发明的第五方面，将摩擦的前室加湿，赋予取向膜形成层湿气，由此能够使取向膜形成层局部延伸的痕迹消失，因此能够抑制摩擦时的取向不佳。但是，在前室加湿了的支撑体一旦被直接搬运到摩擦室，摩擦室内的相对湿度就上升。这样，卷回到摩擦辊上的摩擦用布材的水分上升，绒头纱线在摩擦时的弯曲度变大，因此起尘增多。更甚一步，当摩擦在前室直接加湿的取向膜形成层时，取向膜形成层容易形成伤痕。

正因为如此，本发明中，以使进行所述摩擦的摩擦室内的相对湿度比所述前室内更小的方式进行除湿，从而防止由于搬运所述支撑体，导致从所述前室带进所述摩擦室内的湿气使所述摩擦用布材的水分上升，因此，能够有效地抑制摩擦时的起尘。

这样一来，就能够同时解决由于取向不佳引起的亮点缺陷和尘埃引起的亮点缺陷这两方面的问题。

在本发明的第五方面的摩擦方法中，优选在上述前室的相对湿度为55％～80％的条件下进行加湿，同时在上述摩擦室的相对湿度为10％～50％的条件下除湿。

在本发明的第五方面的摩擦方法中，优选在所述前室中的加湿工序和所述摩擦室的除湿工序之间，设置湿气带入防止工序，其中，只留下能够使所述支撑体通过的狭小缝隙而将所述的前室和所述的摩擦室分隔开，由此防止从所述前室到带入湿气至所述摩擦室内。

在本发明的第五方面的摩擦方法中，优选设置使上述摩擦室内的气压比上述前室内的气压高的气压控制工序。

这样一来，从对支撑体赋予湿气的前室而来的湿气难以进入摩擦室。能够将摩擦室内的湿度精确地控制在适宜的湿度范围内，因此能够更加有效地抑制摩擦时的起尘。这种情况下，如果混合使用湿气进入防止工序和气压控制工序，效果更佳。

本发明的第九方面为了实现上述目的提供一种摩擦装置，其使连续移动的支撑体与随着摩擦用布材卷回而一起旋转的摩擦辊接触，从而用所述摩擦用布材摩擦形成于支撑体的取向膜形成层而形成取向膜，其特征在于，具有加湿进行所述摩擦前的前室内的加湿机构和对所述摩擦时的摩擦室内进行除湿的除湿机构。

本发明的第九方面是以装置的形式来构成本发明的。

在本发明的摩擦装置中，优选在上述前室和上述摩擦室之间，只留下可以供上述支撑体通过的狭小缝隙，设置将上述前室和上述摩擦室分隔开的分隔结构。

在本发明的摩擦装置中，优选调整所述前室内气压的第1气压调整机构、调整所述摩擦室内气压的第2气压调整机构、和控制所述第1和第2气压调整机构的气压差的控制机构。

这样一来，从对支撑体赋予湿气的前室而来的湿气难以进入摩擦室。能够将摩擦室内的湿度精确地控制在适宜的湿度范围内，因此能够更加有效地抑制摩擦时的起尘。这种情况下，如果混合使用分隔构造和气压控制工序，效果更佳。

在本发明的摩擦处理装置中，优选在上述摩擦室内，设置出能将上述摩擦辊的摩擦用布材直接除湿的摩擦用布材除湿机构。

如上所述，通过除了摩擦室的除湿机构之外，还设置摩擦用布材除湿机构，可以直接控制摩擦用布材的水分，因此可以进一步有效地抑制摩擦时的起尘。

本发明的第十三方面，为了达到上述目的，提供了如下取向膜的制造方法，其特征在于，根据第一方面～第八方面中任一方面记载的摩擦方法在支撑体上形成取向膜。

本发明的第十三方面在于应用本发明的摩擦方法制造取向膜。

本发明的第十四方面，为了达到上述的目的，提供了如下取向膜的制造方法，其特征在于，包括：在由第十三方面所述的制造方法形成的取向膜上形成液晶层的液晶层形成工序；使所述形成的液晶层取向的液晶取向工序；以及使所述取向的液晶层固定的液晶层固定工序。

本发明的第十四方面是在光学构件的制造方法中应用本方法的摩擦方法，可以显著降低由此制造的光学构件例如液晶显示装置中使用的光学补偿薄膜、亮度提高薄膜的亮点缺陷。

根据本发明，能够同时解决由于取向不佳引起的亮点缺陷和尘埃引起的亮点缺陷两方面的问题。

附图说明

图1是适用于本发明的摩擦方法及装置的光学补偿薄膜的制造生产线说明图。

图2是对设置有摩擦前的加湿机构的前室和设置有摩擦时的除湿机构摩擦室进行说明的说明图。

图3是显示摩擦用布材构成的局部放大立体图。

图4是对绒头纱线的弯曲度进行说明的说明图。

图5是表示绒头纱线的弯曲度和摩擦室的相对湿度的关系图。

图6是在长丝上涂覆有树脂的绒头纱线的说明图。

图7是对用于摩擦用布材水分调整的优选构成进行说明的说明图。

图8是实施例的图表。

图9是表示绒头纱线的弯曲度和光学补偿薄膜的亮点关系的图。

图10是表示绒头纱线的弯曲度和摩擦时的起尘量之间关系的图。

图11是表示绒头纱线的弯曲度和倾斜角度的关系的图表。

【符号的说明】

1…摩擦用布材、2…经线、3…纬线、4…绒头纱线、5…基布、6…长丝、7…被覆层、10…光学补偿薄膜的制造生产线、11…棒涂装置、16织物、20…前室、21…加湿机构、22…摩擦室、23…除湿机构、66…送出机68…导辊、70…摩擦装置、72…摩擦辊、76…干燥区域、78…加热区域、80…紫外线灯、82…卷绕机、84…滚筒台、86、88…备用辊

具体实施方式

下面，对于本发明的摩擦方法、装置、取向膜以及光学构件的制造方法的优选实施方式进行详细说明。

图1作为应用本发明的摩擦方法以及装置的光学构件的制造生产线的一个例子，显示出光学补偿薄膜的制造生产线。需要说明的是，在本实施方式中，以光学补偿薄膜的制造为例进行说明，本发明可以提供如提高亮度薄膜所述，包括制造生产线中进行摩擦处理而形成取向膜的工序的所有光学构件。

取向膜形成层的形成工序

如图1所示，从送出机66送出作为透明支撑体的带状可弯曲性支撑体(以下称作织物)16。织物16通过导引辊68导引，经过除尘机15A，除去织物16表面附着的尘埃。作为除尘机15A，可以采用公知的各种类型。例如，可以适当采用具有如下结构的类型：在织物16表面吹上静电除尘的压缩空气(氮气)，除去织物16表面附着的尘埃。

除尘机15A的基板运行方向以下，设置了棒状涂布装置。用含有取向膜形成用的树脂的涂布液在基板16上涂布。涂布装置并不限于棒状涂布装置，还有各种涂布装置，例如，印刷涂布、辊式涂布(门辊涂布(トランスファ口一ルコ一タ)；逆辊涂布等)、狭缝涂布、挤压涂布、喷注式涂布、帘式涂布、含浸涂布、喷雾涂布、滑动料斗(スラィドホツパ)涂布等。

棒式涂布装置11A的下游依次设置干燥区域76A、加热区域78A，通过干燥及加热，在织物16上形成取向膜形成层。

取向膜形成层的摩擦工序

含有取向膜形成用树脂的涂布液经涂布、干燥后，织物16由导引辊68导引，送入摩擦前的前室20。如图2所示，前室20以织物入口20A和出口20B开口的隧道状形成。而且前室20设置了加湿机构21，加湿摩擦前的织物16。加湿机构21在调整加湿水分的调整机构21A上调整加湿空气。通过加湿管道21B供给到前室20内。前室20内的空气通过排气管道21C循环到调整加湿水分的机构21A中。这样一来，前室20内的相对湿度就调整到55％～80％。

如上所述，在摩擦前的前室20内设置加湿机构21，前室20内的相对湿度保持在55％～80％之间，通过加湿织物16，能够消除取向膜形成层的局部延伸的痕迹，取消表面缺陷。因此，能够抑制取向不佳引起的亮点缺陷。

在前室20内加湿的织物16被送到摩擦室22。如图2所示，摩擦室22形成织物的入口22A和出口22B，与此同时，在摩擦室22内设置摩擦装置70。

摩擦辊72是为了在取向膜形成层进行摩擦而设计的。在摩擦辊72的上面设置除尘机71，除去附着在织物16表面的尘埃。

摩擦装置70，可以使外周表面被下述摩擦用布材1卷绕着的摩擦辊72旋转驱动，例如，能够控制旋转速度在1000rpm左右。摩擦辊72的形状，例如外径是150mm，可以形成为其长度在带摩擦角度(卷回角度)的状态下也比织物16的宽度长一些的辊形状。另外，摩擦装置70，能够任意地调整摩擦角度，相对织物16的移动方向在水平面上为自由旋转。

摩擦辊72的上方，设置了滚转平台84，这个滚转平台84的下面通过弹簧安装了能够自由旋转的支承辊86和88。在支承辊86和88上，设置了能够检测出织物16张力的机构，可以进行摩擦时的张力管理。

而且，支承辊86和88可以上下调整，使辊上下移动，能够调整织物16向摩擦辊72的研磨角。

根据以上构造，织物16通过支承辊86、88从上部施压施加摩擦加重，在该状态下，利用下部受到挤压的摩擦辊72摩擦织物16表面(下面)的取向膜形成层的表面，形成了施加取向性的取向膜。在摩擦装置70的下面设置了除尘机15B，能够除去织物16表面附着的尘埃。

如图3所示，摩擦用布材1是在底布组织的经线2和底布组织的纬线3编织成格子状的基布5上，织入绒头纱线4而形成的。其中，如图3(A)所示的摩擦用布材1所示，将绒头纱线4织入三根纬线3中的，称作“W组织”。如图3(B)所示的摩擦用布材1所示，将绒头纱线4织入一根纬线3中的，称作“V组织”。W组织和V组织，只是绒头纱线7的编织方法不同，使用的材料可以使用相同的材料。

作为基布5，可列举选自例如尼龙6·6(注册商标)等聚酰胺类；聚对苯二甲酸乙二醇酯等聚酯类；聚乙烯等聚烯烃类；聚乙烯醇类；聚偏氯乙烯类，聚氯乙烯类；聚丙烯腈类；丙烯酰胺、甲基丙烯酰胺等丙烯酸类；聚偏氰乙烯类、聚氟乙烯类，聚氨酯类等合成纤维；丝绸、棉花、羊毛、纤维素类、纤维素酯类等天然纤维；再生纤维(人造纤维、乙酸酯等)中的一种或组合两种以上而成的纤维。

该基布5的经线2和纬线3，优选例如1.4旦的纤维用70根合在一起，在形成大约100旦的长丝(长的连续状的纤维)的状态下使用。作为这样的经线2和纬线3，可以优选使用例如旭化成(株)制造的铜铵纤维(本伯格铜铵人造丝)。

如图2所示，摩擦室22中设置了用于降低摩擦室22内的相对湿度的除湿机构23，除湿机构23是将摩擦室22内的空气，通过吸入管道23B吸引到除湿水分调整机构23A，用除湿水分调整机构23A将空气除湿后，通过供气管道23C回到摩擦室22内。这样一来，通过调整在进行摩擦的摩擦室22内的相对湿度，能够改变绒头纱线4的刚性，恰当地设定摩擦时的绒头纱线4的弯曲度。

也就是说，在用摩擦之前的绒头纱线的全长A和在给绒布摩擦加重时从摩擦中的基布5面到取向膜形成层的长度B的比值(B/A)×100％表示时，使该比值在60％～90％的范围内设定绒头纱线4的弯曲度。

关于绒头纱线的适当的弯曲度进行更详细地说明，如图4所示，用摩擦前的绒头纱线4的全长A(图4(a))和在给绒布4摩擦加重时从摩擦中的基布5面到取向膜形成层19面的长度B(图4(b)，(c)，(d))的比值(B/A)×100％表示时，将该比值设定为60％～90％的范围内。这样一来，能够同时解决由于取向不佳引起的亮点缺陷和尘埃引起的亮点缺陷这两方面的问题。

图4(b)，由于长度B1相对绒头纱线4的全长A的比值超过90％，绒头纱线4的弯曲度过小，因而摩擦时的起尘比较少，这时由于摩擦不足会产生取向不足的现象。符号25是由于起尘引起的尘埃。

图4(c)，长度B2相对绒头纱线4的全长A的比值满足60～90％的范围，绒头纱线4的弯曲度较适宜，这时摩擦时的起尘少而且摩擦性能足够，因而不会产生取向不良的现象。

图4(d)，由于长度B3相对绒头纱线4的全长A的比值不满60％，绒头纱线4的弯曲度过大，因此摩擦性能足够，不产生取向不良，这时摩擦时的起尘会多。

在此，对于摩擦室22内的相对湿度和绒头纱线4的弯曲度的关系进行说明。

如图5所示，随着摩擦室22内的相对湿度增大，绒头纱线4的弯曲度(长度B相对全长A)有减小的倾向。相对湿度在10～50％的范围内，绒头纱线4的弯曲度满足60～90％的范围。摩擦室22的相对湿度和绒头纱线4的弯曲度的关系是，根据摩擦用布材1使用的纤维的种类，吸湿性多少会有些不同，因此根据预备实验等，预先试验在绒头纱线4的弯曲度满足60～90％的范围内的摩擦室22内的相对湿度，效果更好。

摩擦室22内的相对湿度的下限设定为10％，是因为如果降至10％以下，使摩擦室22维持在非常干燥的状态，则对取向膜形成层带来不良的影响。

在不用除湿机构23进行除湿，也能使摩擦室22内维持在10％～50％相对湿度，这时不需要运转除湿机构23，当在前室20中被加湿到相对湿度为55％～80％范围内的织物16被直接搬运至摩擦室22内时，通常，摩擦室22内的相对湿度超过50％而会变大。这样一来，摩擦辊72A(72B)上被卷回的摩擦用布材1的水分上升，绒头纱线4在摩擦时的弯曲度会变大，因此起尘增多。而且，直接在前室20中加湿的取向膜形成层19在摩擦时，对取向膜形成层19容易形成伤痕。

为了适当调整摩擦用布材1的水分，优选追加在摩擦室22的除湿以外的图7中加以说明的结构。

如图7所示，前室20和摩擦室22通过隧道状的连接通路31连接，与此同时。在连接通路31上，仅留下可供织物16通过的狭小的间隙，设置一对辊33、33，能将前室20和摩擦室22分隔开。由此可以防止前室20的湿气进入摩擦室22内。

作为将前室20和摩擦室22的分隔开的构件，如图7所示，可以是一对板状构件35、35，只要是辊33，即使织物16接触也旋转，因此难以将织物16弄伤。

另外，前室20和摩擦室22通过空调管道37供给洁净的空气，同时在延长设计到前室20的空调管道37A和延长设计到摩擦室22的空调管道37B上，分别设置调整它们供气量的调整阀门39A、39B。

另一方面，在前室20内和摩擦室22内，设置测定各室20、22的气压(室内压力)的压力传感器41A、41B。

并且，用各个压力传感器41A、41B测定的压力参数，被输入到压力控制器43，与此同时压力控制器43根据输入的压力参数，按照使进入摩擦室22的供气量多于前室20的方式控制各个调整阀门39A、39B的开度。这样，摩擦室22内的气压会比前室20的气压高，因此能够防止前室20的湿气进入摩擦室22内。

更优选将前室20和摩擦室22分隔开的结构与前室20和摩擦室22之间的气压控制这两者并用。

而且，如图7所示，设置对卷回到摩擦辊72上的摩擦用布材1吹入干燥空气的空气喷射嘴45更佳。这样能够直接调整摩擦用布材1的水分。这种情况下，从摩擦辊72的旋转方向来看，在除尘机71的下游位置设置空气喷射嘴45是比较理想的。由此在摩擦用布材1上附着的摩擦屑用除尘机71除去后，由于对摩擦用布材吹入干燥空气，故不会使摩擦屑向摩擦室22内飞散。

[液晶层的形成工序]

如图1所示，在除尘机15B的下游设置了棒状涂布装置11B，用含有盘状向列相(disco nematic)液晶的涂布液涂布在织物16上。作为涂布装置11B，与含有取向膜形成层树脂的涂布液涂布在织物16上时一样，可以采用各种涂布装置。

在棒状涂布装置11B的下游，依次设置干燥区域76B、加热区域78B，在织物16上形成液晶层。再在它的下游设置紫外灯80，通过紫外线照射，使液晶交联，形成所期望的聚合物。然后，用检查装置84检查，由层压机88送出的保护薄膜88A层压在织物16上，通过设置在它的下游的卷绕机82将形成聚合物的织物16卷起。由此制造出光学补偿薄膜。

在本实施的具体形式中，将光学补偿薄膜的制造生产线10的整体，特别是棒状涂布装置11A、11B设置在无尘室等洁净的氛围中较好。此时，净洁度优选1000级以下，特别优选100级以下，10级以下优选。

需要说明的是，上述实施方式中，摩擦时的绒头纱线4的弯曲度是通过调整摩擦室22内的相对湿度来设定的。但是，如图6所示，构成绒头纱线4的长纤维6(长的连续状纤维)的表面涂覆树酯，形成被覆层7，通过改变绒头纱线4的刚性，可以将绒头纱线4的弯曲度设定在上述比值60％～90％的范围内。绒头纱线4的刚性可以通过长纤维6上涂覆的树脂材料(软质性树酯、硬质性树酯)的选择，或者改变包覆的树脂层的厚度进行任意设定。

作为长纤维6，例如可以优选使用再生纤维(人造纤维、高湿模量粘胶纤维、铜铵纤维)、半合成纤维(醋酸酯、三醋酸酯、普罗米克斯)、合成纤维(聚酯、尼龙、丙烯酸类树酯、维尼纶、聚氨酯)等作为材料。

实施例

下面，以光学补偿薄膜为例来说明本发明的实施例，但是本发明并不只限于这些实施例。

实施例A

实施例A是调查绒头纱线4的弯曲度(长度B相对全长A的比值)和光学补偿薄膜的亮点检出数(个/m)之间关系的试验。

(光学补偿薄膜的制造)

在三乙酸纤维素(フジタツク、富士照相薄膜(株)制、厚度：600μm、宽度：1500mm、长度7000m)的长条状织物16的一侧上，涂布长链烷基改性聚乙烯醇(MP-203、クラレ(株)制)5％的溶液，90℃下干燥4分钟后，进行摩擦，形成膜后为2.0μm的取向膜形成层。织物16的搬运速度是20m/分钟。

接下来，将形成取向膜形成层19的织物16，送到加湿调整至相对湿度为70％的前室20中，织物16加湿后，送入摩擦室22。然后，在摩擦装置70上，使织物16以20m/分钟的速度连续搬运，与此同时，在取向膜形成层19的表面施行摩擦。摩擦时，摩擦辊72的旋转数设定在300rpm。在所述摩擦室22内的摩擦中，为使摩擦用布材1的绒头纱线4的弯曲度在58％～100％范围内，需要调节摩擦室22内的相对湿度，实施了试验1～7。需要说明的是，绒头纱线4的倾斜角度都是15°。

试验1，是按绒头纱线4的弯曲度达到58％，调整摩擦室22的相对湿度的情况。

试验2，是按绒头纱线4的弯曲度达到60％，调整摩擦室22的相对湿度的情况。

试验3，是按绒头纱线4的弯曲度达到68％，调整摩擦室22的相对湿度的情况。

试验4，是按绒头纱线4的弯曲度达到78％，调整摩擦室22的相对湿度的情况。

试验5，是按绒头纱线4的弯曲度达到90％，调整摩擦室22的相对湿度的情况。

试验6，是按绒头纱线4的弯曲度达到92％，调整摩擦室22的相对湿度的情况。

试验7，是按绒头纱线4的弯曲度达到100％，调整摩擦室22的相对湿度的情况。

并且，在试验1～7的摩擦条件下实施摩擦后，得到的具有取向膜的织物16，以20m/分钟的速度进行连续搬运，与此同时，在取向膜上，将在盘状(discotic)化合物TE-8(3)和TE-8(5)的重量比为4∶1的混合物中、添加相对上述混合物为重量1％的光重合引发剂(ィルガキュァ907，日本チバガィギ一(株)制)得到的混合物的10重量％丁酮溶液(涂布液)，用棒状涂布装置11B以涂布量为5m1/m²涂布，然后，使其通过干燥区域76B和加热区域78B。

向干燥区域76B吹入0.1m/秒的风，加热区域78B调节到130℃。织物16上，在涂布3秒钟后进入干燥区域76B，再经过3秒钟后进入加热区域78B。织物16大约用3分钟的时间通过加热区域78B。

随后，将涂布该取向膜和液晶层的织物16，以20m/分的速度连续搬运，同时，向液晶层表面用紫外灯80照射紫外线。也就是说，对通过加热区域78B的织物16，用紫外灯80(输出功率：160W/cm、发光长：1.6m)，以光照强度600mW的紫外线照射4秒，使液晶层之间交联。

另外，形成取向膜和液晶层的织物16，利用检测装置84对其表面的光学特性进行检测、检查，然后，在液晶层表面用层压机88层叠保护薄膜88A，用卷绕机82卷绕，得到光学补偿薄膜。

【化学式1】

《亮点数的检测》

分别对根据试验1～7制造出的光学补偿薄膜调查亮点数。亮点数的检测装置，将CCD照相机16放置在织物16的取向膜形成层一侧，夹持织物16在对着CCD照相机的位置放置光源。检测是在正交尼科耳Cross-Nico1偏光板处夹住薄膜的状态下进行，从光源发出光，利用CCD照相机上连续监视该光的透过状态，将透光率在设定基准以上的点作为亮点。另外，亮点的大小使用S印字(50～70μm)以及M印字(70～100μm)进行分类，测定S印字和M印字的亮点数。

《起尘量的测定》

另外，由配放在摩擦室22的除尘机71除尘的排气管(图中未标示)处，放置起尘量测定装置(LIGHTHOUSE公司生产，Handheld3016型)，对摩擦时的起尘量进行测定。测定时间设定为每1分钟测定一次，测定所检测出的0.3m以上的尘埃的个数，测定1分钟、停止5秒，连续重复10次进行测定，用其平均值表示起尘量。

《试验结果》

试验结果在图8表格中表示，图8表中的亮点数用图形化表示为图9，摩擦时的起尘状态用图形化表示为图10。

从这些图可知，在试验1中，绒头纱线4在摩擦时的弯曲度低于60％，M印字以及S印字的亮点数都急剧增加，换言之，弯曲度低于60％时，由于绒头纱线4相对取向膜形成层的接触面积变大，故取向性能提高，摩擦时的起尘急剧增大。所以，在制造光学补偿薄膜时，即使可以抑制由于取向不良引起的亮点缺陷，但由于尘埃引起的亮点缺陷增大，因此总的亮点缺陷仍然会增多。

另一方面可看出，绒头纱线的弯曲度在超过90％的试验6以及7中，M印字以及S印字的亮点数都急剧增加。也就是说，弯曲度一旦超过90％，由于绒头纱线4相对取向膜形成层的接触面积变小，虽然会抑制起尘但也会发生取向不良。由此，在制造光学补偿薄膜时，虽然可以抑制由于尘埃引起的亮点缺陷，但由于取向不良引起的亮点缺陷增大，因此总的亮点缺陷仍然会增多。

与此相对，绒头纱线的弯曲度在60％～90％的范围内的试验2～5中，能够使M印字以及S印字的亮点数均减少。推测这是由于在绒头纱线弯曲度设定在60％～90％的范围内时，通过摩擦，可以抑制尘埃且不发生取向不良，能确保充分的取向性能。

通过以上事实可知，绒头纱线的弯曲度设定在60％～90％范围内时，通过摩擦，可以同时解决由于取向不良引起的亮点数缺陷和由于尘埃引起的亮点数缺陷这两个问题。

实施例B

实施例B这个实验是为了同时解决由于取向不良引起的亮点数缺陷和由于尘埃引起的亮点数缺陷这两个问题，并非专利文献5所述的绒头纱线4的倾斜角度(26～40°)上具有根本的解决方法，而是为了实验证实本发明中所述的绒头纱线4的弯曲度具有根本的解决方法。

试验方法和测定方法与实施例A相同。

《试验结果》

试验结果在图11表格中所示。

试验4是将实施例A的结果直接计入的试验，在倾斜角度为15°的条件下，进行摩擦处理。

试验8是绒头纱线4的弯曲度维持在满足本发明的条件的78％的条件下，设定绒头纱线4的倾斜角度为比试验4小的5°，进行摩擦处理。

试验9是绒头纱线4的弯曲度维持在满足本发明的条件的78％的条件下，设定绒头纱线4的倾斜角度为比试验4大的35°(满足特许文献5的范围)，进行摩擦处理。

试验10是绒头纱线4的弯曲度维持在满足本发明的条件的78％的条件下，设定绒头纱线4的倾斜角度为比试验9更大的40°(满足特许文献5的范围)，进行摩擦处理。

试验11是在绒头纱线4的倾斜角度维持在35％，绒头纱线4的弯曲度设定在不满足本发明的下限的58％的条件下，进行摩擦处理。

试验12是在绒头纱线4的倾斜角度维持在35％，设定绒头纱线4的弯曲度为不未满足本发明的上限的92％的条件下，进行摩擦处理。

从图11的表中试验结果可知，满足本申请发明的绒头纱线的弯曲度的试验4、8、9、10中，绒头纱线的倾斜度即使在5～40°范围内发生变化，也可以得到亮点数和起尘量都好的结果。

与此相对，如试验11和试验12所述，在满足特许文献5的绒头纱线倾斜角度(26～40°)35°的情况下，绒头纱线的弯曲度如果不满足本申请发明的60％～90％范围，可知亮点数和起尘量都会变差。

Claims (15)

1.一种光学构件的制造中使用的摩擦方法，其中，使连续移动的支撑体与随着摩擦用布材卷回而一起旋转的摩擦辊接触，从而用所述摩擦用布材摩擦形成于支撑体的取向膜形成层而形成取向膜，其特征在于，

所述摩擦用布材是在底布组织的经线和纬线组成的基布上织入绒头纱线而形成的，

并且，通过改变所述绒头纱线的刚性，所述绒头纱线在摩擦时的弯曲度用A和B的比值(B/A)×100％表示时，以将该比值设定在60％～90％的范围内的状态进行摩擦，其中，A为所述摩擦前的所述绒头纱线的全长，B为对所述绒头纱线施加摩擦加重时的摩擦中从所述基布面到所述取向膜形成层面的长度。

2.如权利要求1所述的摩擦方法，其特征在于，调整进行所述摩擦的摩擦室内的相对湿度，改变所述绒头纱线的刚性，由此将所述绒头纱线的弯曲度设定在所述比值范围内。

3.如权利要求2所述的摩擦方法，其特征在于，将所述摩擦室内的相对湿度调整在10％～50％的范围内。

4.如权利要求1所述的摩擦方法，其特征在于，在所述绒头纱线的表面涂覆树脂，改变绒头纱线的刚性，由此将所述绒头纱线的弯曲度设定在所述比值范围内。

5.如权利要求1-4任意一项所述的摩擦方法，其特征在于，使连续移动的支撑体与随着摩擦用布材卷回而一起旋转的摩擦辊接触，从而用所述摩擦用布材摩擦形成于支撑体的取向膜形成层而形成取向膜，其特征在于，具有：

加湿工序，其中，对所述摩擦之前的前室内进行加湿而对所述支撑体赋予湿气；和

除湿工序，其中，以使进行所述摩擦的摩擦室内的相对湿度比所述前室内更小的方式进行除湿，从而防止由于搬运所述支撑体，导致从所述前室带进所述摩擦室内的湿气使所述摩擦用布材的水分上升。

6.如权利要求5所述的摩擦方法，其特征在于，以使所述前室的相对湿度为55％～80％的方式进行加湿，同时，以使所述摩擦室的相对湿度为10％～50％的方式进行除湿。

7.如权利要求5所述的摩擦方法，其特征在于，在所述前室中的加湿工序和所述摩擦室的除湿工序之间，设置湿气带入防止工序，其中，只留下能够使所述支撑体通过的狭小缝隙而将所述的前室和所述的摩擦室分隔开，由此防止从所述前室带入湿气至所述摩擦室内。

8.如权利要求5所述的摩擦方法，其特征在于，设置使所述摩擦室内的气压比所述前室内的气压高的气压控制工序。

9.一种光学构件的制造中使用的摩擦装置，其使连续移动的支撑体与随着摩擦用布材卷回而一起旋转的摩擦辊接触，从而用所述摩擦用布材摩擦形成于支撑体的取向膜形成层而形成取向膜，其特征在于，

所述摩擦用布材是在底布组织的经线和纬线组成的基布上织入绒头纱线而形成的，

具有对所述摩擦前的前室内进行加湿的加湿机构和对所述摩擦时的摩擦室内进行除湿的除湿机构，

通过由所述除湿机构调整所述摩擦室内的相对湿度改变所述绒头纱线的刚性，所述绒头纱线在摩擦时的弯曲度用A和B的比值(B/A)×100％表示时，以将该比值设定在60％～90％的范围内的状态进行摩擦，其中，A为所述摩擦前的所述绒头纱线的全长，B为对所述绒头纱线施加摩擦加重时的摩擦中从所述基布面到所述取向膜形成层面的长度。

10.如权利要求9所述的摩擦装置，其特征在于，在所述前室和所述摩擦室之间，只留下能够使所述支撑体通过的狭小缝隙，而设置有将所述前室和所述摩擦室分隔开的分隔结构。

11.如权利要求9或10所述的摩擦装置，其特征在于，具有：

调整所述前室内气压的第1气压调整机构、

调整所述摩擦室内气压的第2气压调整机构、和

控制所述第1和第2气压调整机构的气压差的控制机构。

12.如权利要求9或10所述的摩擦装置，其特征在于，在所述摩擦室内，设置有对所述摩擦辊的摩擦用布材直接进行除湿的摩擦用布材除湿机构。

13.一种取向膜的制造方法，其特征在于，利用如权利要求1～6中任一项所述的摩擦方法，在支撑体上形成取向膜。

14.一种光学构件的制造方法，其特征在于，包括：

在由权利要求13所述的制造方法形成的取向膜上形成液晶层的液晶层形成工序；

使所述形成的液晶层取向的液晶取向工序；以及

使所述取向的液晶层固定的液晶层固定工序。

15.如权利要求14所述的光学构件的制造方法，其特征在于，所述光学构件是可使用于液晶显示装置的光学补偿薄膜和亮度提高薄膜中的任意一种。