TW201514480A - 透明基板的表面圖案不良測定裝置 - Google Patents

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Abstract

本發明涉及透明基板的表面圖案不良測定裝置，即便由於反射率低的物質在透明基板形成圖案，而透明基板和形成圖案的物質之間不存在太大的反射率差異，也能使透明基板的反射率接近0，從而帶來圖案物質的反射率相對增加的效果，提高圖案物質和透明基板之間的反射對比度，由此測定提高檢測準確度的表面圖案或圖案是否不良的裝置。

Description

透明基板的表面圖案不良測定裝置
本發明涉及透明基板的表面圖案不良測定裝置，更詳細地，涉及即便由於反射率低的物質在透明基板形成圖案，而透明基板和形成圖案的物質之間不存在太大的反射率差異，也能使透明基板的反射率接近0，從而帶來圖案物質的反射率相對增加的效果，提高圖案物質和透明基板之間的反射對比度，由此測定提高檢測準確度的表面圖案或圖案是否不良的裝置。
圖1表示普通的掃描裝置的概念圖。
圖1所示的掃描裝置包括：鐳射激發部10，用於激發鐳射；束分割部90，用於分割束；掃描器20，以能夠以一定點為中心旋轉的方式設置；以及集光透鏡7，為了在目標平面(TP)上形成焦點而使由掃描器20調節了行進方向的平行的雷射光束透過而進行集光。
在這種掃描裝置的掃描方法中，從鐳射激發部1掃描的鐳射路徑R1(以下與“雷射光束R1”混用)，因束分割部90，而一部分向y軸方向透過，剩餘部分向正z軸方向反射。透過束分割部90的鐳射R2，借助掃描器10反射為多路徑束R3、R4、R5。多路徑束R3、R4、R5借助集光透鏡20成為平行式束R6、R7、R8，從而在目標平面TP形成焦點。被目標平面反射的束，沿著逆向(路徑R6、路徑R7、路徑R8、路徑R3、路徑R4、路徑R5、路徑R2)形成路徑直到束分割部90，並且，一部分束R9因束分割部30而向負z軸方向反射，從而到達檢測部6。
檢測部6測定反射回來的雷射光束的強度等來測定圖像。通常情況下，玻璃或透明膜的反射率不會成為0%，雖然低，但具有小的反射率。可以在玻璃或透明膜之類的透明基板，將氧化銦錫(ITO)、石墨烯(graphene)、碳納米管(CNT)或銀納米線(Ag nano wire)等反射率低的物質(以下，稱為“圖案物質”)實施圖案化。這種圖案物質由於與透明基板的反射率的差異小而在進行測定時，明暗對比大大降低，因而檢測準確度降低。為此，在透明基板和圖案物質之類的反射率的差異並不大的情況下，有必要使明暗對比相對變大。
本發明的目的在於，提供為了區別玻璃之類的透明基板和形成於透明基板的表面的、與透明基板之間的折射率不產生太大差異的透明電極等物質，盡可能地去除透明基板的反射率，由此增大相對比的兩種物質之間的明暗(反射率)對比的裝置。
本發明的表面圖案不良測定裝置可包括：載物台，在上表面配置具有與透明基板不同物質的圖案的透明基板；照射部，以使電場與上述透明基板平行(p偏轉)的光按照由上述透明基板的折射率和與上述透明基板交界的介質的折射率決定的布魯斯特角入射的方式，朝向上述透明基板照射上述p偏轉光；以及檢測部，判斷上述p偏轉光是否被上述透明基板反射。
本發明的透明基板的圖案不良測定裝置，通過去除在反射率差異不大的物質中的某一物質反射的光，能夠增大兩種物質之間的明暗對比。由此，能夠使透明基板的圖案圖像化，或者能夠容易地測定圖案的不良。
1‧‧‧照射部
2‧‧‧檢測部
10‧‧‧鐳射光源
15‧‧‧光源
20‧‧‧掃描器
30,35‧‧‧偏光儀
50‧‧‧載物台
圖1表示普通的掃描裝置的概念圖。
圖2為本發明一實施例的表面圖案測定裝置的框圖。
圖3為本發明再一實施例的表面圖案測定裝置的立體圖。
圖4及圖5為本發明另一實施例的表面圖案測定裝置的立體圖。
圖6為本發明又一實施例的表面圖案測定裝置的立體圖。
第一、第二等術語雖然能夠用於說明多種結構要素，但上述結構要素不應受上述術語的限制。上述術語僅用於從其他結構要素中區別一個結構要素。例如，在不脫離本發明的保護範圍的情況下，第一結構要素能夠命名為第二結構要素，相似地，第二結構要素也能夠命名為第一結構要素。術語“和/或”包括多個相關記載項目的組合或多個相關記載項目中的某一項目。
當稱某一結構要素與其他結構要素“連接”或“接入”的情況下，雖然可以理解為直接與其他結構要素連接或接入，但也可以理解為中間還能存在其他結構要素。相反，當稱某一結構要素與其他結構要素“直接連接”或“直接接入”的情況下，應理解為中間不存在其他結構要素。並且，網路上的第一結構要素和第二結構要素相連接或接入意味著能夠以有線或無線方式在第一結構要素和第二結構要素之間傳遞資料。
並且，在以下的說明中所使用的結構要素的詞尾“系統”、“模組”及“部”僅考慮製作本說明書時的便捷而賦予，其本身並不賦予特別重要的意義或作用。因此，上述“系統”、“模組”及“部”能夠相互混合使用。當體現于實際應用中時，這種結構要素可以根據需要，由兩種以上的結構要素合併為一種結構要素，或者一種結構要素細分為兩種以上的結構要素。
在本說明中，光學系統可以包括一個光學機構或多個光學機構的組合。並且，即使某一光學機構屬於某一光學系統，這只用於說明的方便，上述某一光學機構可單獨構成獨立的系統。為此，不特別提及各光學機構屬於某一光學系統進行敘述。
橫向模式意味著光行進的軸、即與光軸垂直的光的剖面。橫向模式成分意味著光的剖面中的某一軸的光成分。優選地，第一橫向模式及第二橫向模式相垂直。以下，“第一橫向模式方向”作為垂直於光軸的任意軸，以第一軸、第一方向、x軸、y軸及z軸中的某一軸或其方向，水準及垂直中的某一軸或其方向，縱向或橫向等混用來敘述。尤其，關於縱向(垂直方向)及橫向(水準方向)，縱向意味著由雷射光束的路徑形成的平面的法線方向，橫向意味著分別垂直於縱向及雷射光束的路徑方向的方向，但可以根據與地面之間的關係指定方向。並且，“第一橫向模式”意味著第一軸(方向)成分具有最大成分。第一橫向模式成分也能被稱為第一成分。
圓筒形光學系統可具有圓筒形光學儀。圓筒形光學儀意味著由於只具有一方向的曲率，因而使入射束只向一維方向集光或擴散的方式透過或反射的光學儀。圓筒形透鏡意味著透過型，圓筒形鏡意味著反射型。圓筒形透鏡可具有多種形狀。例如，可以只使一側面(入射面或射出面)具有曲率，或者使兩側面(入射面積射出面)均具有曲率。
以下，參照附圖對本發明的實施例進行詳細說明。
圖2為本發明一實施例的表面圖案測定裝置的框圖。
參照圖2，本實施例的表面圖案測定裝置可包括：載物台50，在上表面配置具有由其他物質形成的圖案的基板，且使基板移動；照射部1，向載物台50照射光；以及檢測部2，用於檢測從照射部1照射的光被載物台50反射過來的光。
基板可以為玻璃或透明膜之類的材質的透明基板。在基板形成圖案的物質，可以由氧化銦錫、石墨烯、碳納米管、銀納米線等或由它們的組合組成的物質之類的透明度高的材質形成。即，基板和形成圖案的物質(圖案物質)，反射率或透明度(折射率)的差異可以小。基板的反射率可以為5~15%，圖案物質的反射率可以為8~25%。基板和圖案物質的反射率之差即使在10%以內，本發明的表面圖案測定裝置也可以區別圖案物質和基板。並且，在圖案物質和基板的反射率具有實質上並不相同的程度的差異，本發明的表面圖案測定裝置也能進行測定。尤其，即使兩種物質的 反射率之差在1%左右，本發明的裝置也可以區別圖案物質和基板。在本發明中所提及的反射率意味著垂直入射的反射率。
照射部1可以為了放出光而具有鐳射光源或發光二極體(LED)光源。照射部1還可以包括線束髮生部，上述線束髮生部將點光源形態的鐳射光源成形為線束形態。線束髮生部可以包括掃描器。照射部1的發光二極體光源可以以線束形態放出，或者可以將發光二極體光源成形為線束的成形部包含於照射部1。成形部可以包括圓筒形光學系統。
照射部1可向載物台50照射相對於基板或載物台50進行p偏轉(p-polarized)的狀態的光。p偏轉光意味著與電場所入射的載物台50的平面相平行的光。照射部1為了照射p偏轉光而可具有偏光儀，上述偏光儀只使從光源放出的照射光中的被p偏轉的光、或使照射光被p偏轉。偏光儀可包括用於只使被p偏轉的光通過的偏光膜(濾波器)(polarizer film(filter))或改變所通過的光的偏光狀態的波長板(wave plate)。在光源為普通光源而非鐳射光源的情況下，偏光儀優選具有偏光膜。波長板還被稱為相位延遲構件。若電磁波通過波長板，則偏光方向成為平行于光軸的成分和垂直于光軸的成分之和，且由於根據波長板的雙折射和厚度，兩種成分的向量之和會改變，因此，通過之後的偏光方向會不同。照射光可以在沿著規定方向偏光(鐳射光源)或借助偏光膜向規定方向偏光(普通光源)之後，借助波長板變形為相對於基板的p偏轉光。通過波長板的光的相位變化率，可根據向波長板入射的光的偏光方向以及與基板之間的關係而不同。
照射部1能夠使電場平行(以下，稱為p偏轉)的光以基於基板的折射率和與基板交界的介質(通常為空氣)的折射率的偏振角(布魯斯特角；Brewster angle)向基板入射。向基板照射的光在基板中的反射率為0或接近0，從而實質上反射幾乎不存在。
檢測部2以與反射光相匹配的方式配置于向載物台50照射的光的反射路徑，由此能夠檢測反射光。檢測部2為了測定光，可以具有光電倍增管(PMT，photo multiplier tube)、光電二極體(photo diode)或電荷耦合元件(CCD)陳列等。
在本實施例中，向基板照射的光不會引起反射，而向圖案物質照射的光會引起反射。因此，檢測部2能夠通過判斷是否具有反射光來判斷是否存在圖案物質或圖案是否不良等。
由於圖案物質的透明度偏高，因此，被圖案物質反射的光的強度可能小。但是，由於檢測部2只要檢測是否存在反射的光即可，即，明暗對比率高，因此，即使反射光的強度弱，也能容易地檢測出相對比的兩種物質。檢測部2可具有用於放大所檢測的信號的強度的放大部。
檢測部2還可以包括僅使p偏轉光透過的濾波器。通過過濾雜波，能夠匯出提高的檢測性能。
在本實施例中，雖然以借助照射部1向載物台50入射的入射角由基板的折射率和與上述基板相接的介質的折射率決定，但並不局限於此。例如，入射角可以成為由形成圖案的物質的折射率和與其相接的介質的折射率決定的布魯斯特角。在這種情況下，向形成圖案的物質照射的光不被反射。
本實施例的表面圖案測定裝置並不局限于形成有圖案物質的基板的表面測定。例如，可以測定形成於基板的表面的污染物質或瑕疵等缺陷。
圖3為本發明再一實施例的表面圖案測定裝置的立體圖。參照圖2。
參照圖3，表面圖案不良測定裝置可包括：載物台50，形成有反射率低的物質，並在上表面配置反射率與上述形成的物質不同的基板；鐳射光源10，用於射出雷射光束；偏光儀30，使雷射光束相對於載物台50進行p偏轉；掃描器20，將所入射的雷射光束，根據掃描器控制信號，使路徑按照規定輻射角連續變更的方式反射；第一對象透鏡110，將被掃描器20反射的雷射光束變更為平行路徑束；第一受光透鏡210，接收被載物台50反射的雷射光束；以及束檢測部，用於檢測是否存在反射束。
基板可以為玻璃或透明膜等材質的透明基板。在基板形成圖案的物質可以由氧化銦錫、石墨烯、碳納米管或銀納米線等透明度高的材 質形成。即，基板和形成圖案的物質(圖案物質)的反射率或透明度(折射率)的差異可能小。
實質上，鐳射光源10可以激發出平行或收斂的雷射光束。優選地，從鐳射光源10中射出的束朝向某一方向被線偏光。
偏光儀30能夠使透過的雷射光束相對於載物台50進行p偏轉。通常情況下，由於從鐳射光源10射出的雷射光束向一方向進行線偏光，因此，優選地，偏光儀30具有用於變更入射束的偏光狀態的波長板(wave plate)。偏光儀30可具有p偏轉濾波器(p-polarizer)，上述p偏轉濾波器只透過所入射的雷射光束中的相對於載物台50進行p偏轉的束。
在本實施例中，雖然偏光儀30配置于從鐳射光源10中射出的束向掃描器20入射的路徑上，但並不局限於此。例如，可配置于向掃描器20入射的束被反射的路徑上。
掃描器20可以根據控制裝置(未圖示)所提供的掃描器控制信號，將所入射的雷射光束以在規定的輻射角內路徑連續變更的方式偏轉。圖3雖然示出了三個反射路徑，但存在未圖示的很多反射路徑。將被掃描器20反射而以規定的輻射角路徑連續發生變更的反射束，稱為輻射型多路徑(鐳射)束或偏轉(鐳射)束。
掃描器20可包括電流計、多角鏡、共振型掃描器(resonant scanner)及聲光偏轉器(acousto-opticdeflector)等。掃描器20可根據掃描器控制信號開啟/關閉運行，或者變更偏轉週期。
第一物件透鏡110配置於由掃描器20產生的多路徑束所行進的路徑上。第一物件透鏡110可將由掃描器20產生的多路徑束變更為向相互平行的路徑行進的平行式多路徑束(線束)。為此，在第一對象透鏡110的焦點為f的情況下，第一物件透鏡110和掃描器20之間的距離優選為f。平行式多路徑束可在載物台50上的目標(透明基板及透明圖案)的一部分區域形成掃描線(SL)。
優選地，第一物件透鏡110和透明基板的圖案之間的束路徑長度為第一物件透鏡110的焦點距離f。這是因為只有在向圖案入射的束的焦 點形成於圖案，才能使反射光的強度變大。優選地，由於圖案的高度非常小，因此，也能將第一物件透鏡110和透明基板之間的束路徑長度設置為f。第一物件透鏡110可以為球形凸透鏡或圓筒形凸透鏡。
第一受光透鏡210能夠使所入射的平行式多路徑束向特定位置折射。第一受光透鏡210可以為球形凸透鏡或圓筒形凸透鏡，且優選地，其類型與第一對象透鏡110相同。例如，若第一物件透鏡110為球形透鏡，則第一受光透鏡210也可以由球形凸透鏡構成。
檢測部可配置於第一受光透鏡的透過面方向的焦點位置。檢測部可包括束檢測儀220，上述束檢測儀220用於檢測是否存在從載物台50上的掃描線SL中反射的束。檢測部還可以包括雜波去除用p偏轉濾波器230，上述雜波去除用p偏轉濾波器230只透過向束檢測儀220入射的束中的相對於載物台50進行p偏轉的束。
在本實施例中，從鐳射光源10中激發的被線偏光的雷射光束，經由偏光儀30相對於載物台50被p偏轉。被p偏轉的束，被掃描器20反射為輻射型多路徑束，輻射型多路徑束透過第一物件透鏡100而成為多路徑束，從而能夠在載物台50上的目標形成掃描線SL。在掃描線SL中向透明基板區域入射的束不被反射，而在掃描線SL中向圖案物質區域入射的束被反射而向第一受光透鏡210行進。第一受光透鏡210使從掃描線SL入射的束與檢測部耦合。束檢測儀220檢測是否存在通過p偏轉濾波器230的束，從而能夠提取圖案圖像或測定圖案是否不良。
圖4及圖5為本發明另一實施例的表面圖案測定裝置的立體圖。參照圖2及圖3。對於相對應的結構要素的說明將省略。
參照圖4及圖5，表面圖案測定裝置可包括：載物台50，在上表面配置具有形成反射率不同的物質的圖案的基板；鐳射光源10，用於射出雷射光束；偏光儀30，使雷射光束相對於載物台50進行p偏轉；掃描器20，將所入射的上述雷射光束，根據掃描器控制信號，使路徑按照規定的輻射角連續變更的方式反射；圓筒形光學系統，將被掃描器20反射的雷射光束變更為平行路徑束；第一受光透鏡210，接受被載物台50反射的雷射光束； 以及束檢測部220、230，用於檢測是否存在反射束。
基板可以為玻璃或透明膜之類的材質的透明基板。在基板形成圖案的物質，可以由氧化銦錫、石墨烯、碳納米管或銀納米線等透明度高的材質形成。即，基板和形成圖案的物質(圖案物質)的反射率或透明度(折射率)的差異可以小。
優選地，圖4所示的表面圖案測定裝置的圓筒形光學系統包括圓筒形凹面鏡120。
優選地，圖5所示的表面圖案測定裝置的圓筒形光學系統包括圓筒形凹面鏡120及平面鏡130。圓筒形凹面鏡和平面鏡的配置順序相互交換也無妨。
在球形透鏡中，其中央的厚度和週邊的厚度不同。因此，透過球形透鏡的雷射光束的偏光程度(polarization)會不均勻。即，很難將掃描線SL處的反射率設成0。但在使用圓筒形鏡的情況下，不會發生由介質的厚度差產生的偏光非均勻性。
在圖4中，從鐳射光源10激發的被線偏光的雷射光束，一邊經由偏光儀30，一邊相對於載物台50被p偏轉。被p偏轉的束，被掃描器20反射為輻射型多路徑束。輻射型多路徑束被圓筒形凹面鏡120反射，並以平行式多路徑束行進。為此，優選地，掃描器20和圓筒形凹面鏡120的束路徑長度，實質上與圓筒形凹面鏡120的焦點距離相同。平行式多路徑束在載物台50上的目標形成掃描線SL。在掃描線SL中向透明基板區域入射的束不發生反射，而在掃描線SL中向圖案物質區域入射的束髮生反射，並向第一受光透鏡210行進。第一受光透鏡210使從掃描線SL入射的束與檢測部耦合。束檢測儀220檢測是否存在通過p偏轉濾波器230的束，從而能夠提取圖案圖像。
在圖5中，從鐳射光源10激發的被線偏光的雷射光束一邊經由偏光儀30，一邊相對於載物台50被p偏轉。被p偏轉的束，被掃描器20反射為輻射型多路徑束。輻射型多路徑束被圓筒形凹面鏡120反射，並以平行式多路徑束行進。為此，優選地，掃描器20和圓筒形凹面鏡120的束路徑長度 實質上與圓筒形凹面鏡120的焦點距離相同。平面鏡130以使被圓筒形凹面鏡120反射的束朝向載物台50的方式進行反射。在圓筒形凹面鏡120中，入射角越小，束成形得越好。但是，若將入射角變小，則在結構要素的配置方面存在困難。為此，能夠利用平面鏡130使結構要素的配置變得更自由。被平面鏡130反射的平行式多路徑束在載物台50上的目標形成掃描線SL。在掃描線SL中向透明基板區域入射的束不發生反射，而在掃描線SL中向圖案物質區域入射的束髮生反射，從而向第一受光透鏡210行進。第一受光透鏡210使從掃描線SL入射的束與檢測部耦合。束檢測儀220檢測是否存在通過p偏轉濾波器230的束，從而能夠提取圖案圖像或測定圖案是否不良。
圖6為本發明又一實施例的表面圖案測定裝置的立體圖。參照圖2。
參照圖6，表面圖案測定裝置可包括：載物台50，在上表面配置具有形成反射率不同的物質的圖案的基板；光源15，用於放出光；偏光儀35，在從光源15中放出的光中，只使相對於載物台50被p偏轉的光透過；第二對象透鏡115，使透過偏光儀35的光平行；第二受光透鏡215，借助載物台50接受光；以及束檢測部，用於檢測是否存在反射光。
基板可以為玻璃或透明膜之類的材質的透明基板。在基板形成圖案的物質，可以由氧化銦錫、石墨烯、碳納米管或銀納米線等透明度高的材質形成。即，基板和形成圖案的物質(圖案物質)的反射率或透明度(折射率)的差異可以小。
優選地，光源15放出一維形態的線束或輻射型光。為了放出線束形態的光，光源15可具有多個發光二極體，可以使多個發光二極體排列於直線上，或者包含一側分別與多個發光二極體耦合，另一側排列於直線上的光纖維。為了成形寬度窄的線束，光源15可具有圓筒形光學系統，尤其圓筒形凸透鏡。
偏光儀35可具有偏光濾波器，上述偏光濾波器用於使所入射的光中的向規定方向偏光的光透過。
偏光儀35還可以包括波長板，上述波長板以相對於載物台50 進行p偏轉的方式改變偏光方向。
第二對象透鏡115將從光源15中放出的輻射型光變更為平行式光。為此，在第二對象透鏡115的焦點為f2的情況下，第二物件透鏡115和光源15之間的光路徑長度優選為f。平行式光可在載物台50上的目標(透明基板及透明圖案)的一部分區域形成掃描線SL。第二物件透鏡115可以為球形凸透鏡或圓筒形凸透鏡。
第二受光透鏡215能夠使所入射的平行式多路徑束向特定位置折射。第二受光透鏡215可以為球形凸透鏡或圓筒形凸透鏡。優選地，第二受光透鏡215為與第二對象透鏡115相對應的光學儀器。
檢測部可配置於第一受光透鏡的透過面方向的焦點位置。檢測部可包括束檢測儀225，上述束檢測儀225用於檢測是否存在從載物台50上的掃描線SL反射的束。檢測部還可以包括雜波去除用p偏轉濾波器235，上述雜波去除用p偏轉濾波器235只透過向束檢測儀225入射的束中的相對於載物台50被p偏轉的束。
在本實施例中，從光源15中放出的輻射型光只透過通過偏光儀35相對於載物台50被p偏轉的光。被p偏轉的光，一邊透過第二對象透鏡115，一邊成為平行式光，從而能夠在載物台50上的目標形成掃描線SL。在掃描線SL中向透明基板區域入射的光不發生反射，而在掃描線SL中向圖案物質區域入射的光發生反射，而向第二受光透鏡215行進。第二受光透鏡215使從掃描線SL入射的光與檢測部耦合。束檢測儀225檢測是否存在通過p偏轉濾波器235的束，從而能夠提取圖案圖像。
並且，以上雖然對本發明的優選實施例進行圖示和說明，但本發明並不局限於上述的特定實施例，在不脫離權利要求所要求保護的本發明的要旨的情況下，能夠由本發明所屬技術領域的普通技術人員實施多種變形是理所當然的，而這種變形實施不應與本發明的技術思想或前景單獨理解。
1‧‧‧照射部
2‧‧‧檢測部
50‧‧‧載物台
SL‧‧‧掃描線

Claims (10)

  1. 一種表面圖案測定裝置，包括：基板，形成有與該基板不同物質的圖案，且反射率和上述圖案物質不同，照射部，以使電場與上述基板平行即p偏轉的光按照由上述基板的折射率和與上述基板交界的介質的折射率決定的布魯斯特角入射的方式，向上述基板照射上述p偏轉光，以及檢測部，檢測被上述基板反射的光；上述照射部包括：鐳射光源，射出雷射光束，掃描器，將所入射的上述雷射光束，根據掃描器控制信號，使路徑以規定輻射角連續變更的方式反射，偏光儀，配置于上述雷射光束向上述掃描器入射的路徑及上述雷射光束被上述掃描器反射的路徑這兩者中的任一路徑，使上述雷射光束相對於上述基板被p偏轉，以及圓筒形凹面鏡，使被p偏轉的上述雷射光束向第一方向折射；上述第一方向和上述基板的法線之間的角為，由上述基板的折射率和與上述基板交界的介質決定的布魯斯特角；上述圓筒形凹面鏡以使所入射的被p偏轉的上述雷射光束的偏光程度均勻的方式進行反射。
  2. 一種表面圖案測定裝置，包括：基板，形成有與該基板不同物質的圖案，且反射率和上述圖案物質不同，照射部，以使電場與上述基板平行即p偏轉的光按照由上述基板的折射率和與上述基板交界的介質的折射率決定的布魯斯特角入射的方式，向上述基板照射上述p偏轉光，以及檢測部，檢測被上述基板反射的光；上述照射部包括： 鐳射光源，射出雷射光束，掃描器，將所入射的上述雷射光束，根據掃描器控制信號，使路徑按照規定輻射角連續變更的方式反射，偏光儀，配置于上述雷射光束向上述掃描器入射的路徑及上述雷射光束被上述掃描器反射的路徑這兩者中的任一路徑，使上述雷射光束相對於上述基板被p偏轉，以及第二光學系統，使被p偏轉的上述雷射光束向第一方向折射；上述第一方向和上述基板的法線之間的角為，由上述基板的折射率和與上述基板交界的介質決定的布魯斯特角；上述第二光學系統包括：第一反射部，將在上述掃描器被反射的束以第一銳角反射，以及第二反射部，將在上述第一反射部被反射的束以第二銳角反射，並且使以上述第二銳角反射的束的方向成為上述第一方向；上述第一反射部及第二反射部這兩者中的一個為平面鏡及圓筒形凹面鏡這兩者中的一個；上述第一反射部及第二反射部這兩者中的另一個為上述平面鏡及圓筒形凹面鏡這兩者中的另一個；上述圓筒形凹面鏡以使所入射的被p偏轉的上述雷射光束的偏光程度均勻的方式進行反射。
  3. 如申請專利範圍第1項或第2項所述的表面圖案測定裝置，其中，上述檢測部通過分析檢測出的上述光，來提取上述基板的圖案或判斷上述圖案是否不良。
  4. 如申請專利範圍第1項或第2項所述的表面圖案測定裝置，其中，上述照射部包括：光源，放出一維形態的光，以及偏光儀，使上述一維形態的光相對於上述基板被p偏轉；上述檢測部包括：物件透鏡，配置於路徑與由上述偏光儀進行的p偏轉光相同的普通 光在上述基板被反射而行進的反射路徑上，使上述普通光在特定位置收斂，以及拍攝部，檢測通過了上述對象透鏡的p偏轉光。
  5. 如申請專利範圍第4項所述的表面圖案測定裝置，其中，上述光源放出扇形形態的光；上述照射部還包括第一光學系統，上述第一光學系統將由上述偏光儀進行了p偏轉的扇形形態的光轉換為朝向規定方向行進的p偏轉平行光，並向基板照射。
  6. 如申請專利範圍第4項所述的表面圖案測定裝置，其中，上述檢測部還包括p偏轉濾波器，上述p偏轉濾波器配置於上述物件透鏡和上述拍攝部之間，只使相對於上述基板進行了p偏轉的光通過上述拍攝部。
  7. 如申請專利範圍第1項或第2項所述的表面圖案測定裝置，其中，上述檢測部包括束檢測儀，上述束檢測儀檢測向上述基板入射的p偏轉雷射光束是否被上述基板反射。
  8. 如申請專利範圍第1項或第2項所述的表面圖案測定裝置，其中，上述圓筒形凹面鏡將在焦點位置輻射的輻射形的束變更為平行束，被上述圓筒形凹面鏡反射的束的到上述基板為止的路徑長度，與上述焦點距離相同。
  9. 如申請專利範圍第1項或第2項所述的表面圖案測定裝置，其中，上述基板為玻璃及透明膜中的任一種，上述圖案物質包含氧化銦錫、石墨烯、碳納米管及銀納米線中的至少一種。
  10. 如申請專利範圍第1項或第2項所述的表面圖案測定裝置，其中，上述基板的反射率和上述圖案物質的反射率的差異為1%~10%。
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