JP2015078985A - 透明基板の表面パターン不良測定装置 - Google Patents
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Abstract
Description
検出部2は、p偏光光のみ透過させるフィルターをさらに含みうる。ノイズを取り除いて、向上した検出能を導出することができる。
2 検出部
10 レーザ光源
15 光源
20 スキャナー
30、35 偏光器
50 ステージ
Claims (10)
- 異なる物質のパターンが形成され、前記パターン物質とは異なる反射度の基板と、
前記基板に向けて、前記基板に対して電場が平行(p偏光)な光が、前記基板の屈折率と、前記基板に接する媒質の屈折率とによるブルースター角で入射されるように、前記p偏光光を照射する照射部と、
前記基板によって反射される光を検出する検出部と、を含み、
前記照射部は、
レーザビームを出射するレーザ光源と、
入射される前記レーザビームを、スキャナー制御信号によって、一定放射角で経路が連続して変更されるように反射するスキャナーと、
前記スキャナーに前記レーザビームが入射される経路、及び前記スキャナーによって、前記レーザビームが反射される経路のうち何れか1つの経路に配されて、前記レーザビームを前記基板に対してp偏光させる偏光器と、
前記p偏光されたレーザビームを第1方向に屈折させるシリンダー型凹ミラーと、を備え、
前記第1方向と前記基板の法線との角は、前記基板の屈折率と、前記基板に接する媒質によるブルースター角であり、
前記シリンダー型凹ミラーは、入射される前記p偏光されたレーザビームの偏光程度が均一になるように反射することを特徴とする表面パターン測定装置。 - 異なる物質のパターンが形成され、前記パターン物質とは異なる反射度の基板と、
前記基板に向けて、前記基板に対して電場が平行(p偏光)な光が、前記基板の屈折率と、前記基板に接する媒質の屈折率とによるブルースター角で入射されるように、前記p偏光光を照射する照射部と、
前記基板によって反射される光を検出する検出部と、を含み、
前記照射部は、
レーザビームを出射するレーザ光源と、
入射される前記レーザビームを、スキャナー制御信号によって、一定放射角で経路が連続して変更されるように反射するスキャナーと、
前記スキャナーに前記レーザビームが入射される経路、及び前記スキャナーによって、前記レーザビームが反射される経路のうち何れか1つの経路に配されて、前記レーザビームを前記基板に対してp偏光させる偏光器と、
前記p偏光されたレーザビームを第1方向に屈折させる第2光学系と、を備え、
前記第1方向と前記基板の法線との角は、前記基板の屈折率と、前記基板に接する媒質によるブルースター角であり、
前記第2光学系は、
前記スキャナーから反射されたビームを第1鋭角で反射させる第1反射部と、
前記第1反射部から反射されたビームを第2鋭角で反射させ、前記第2鋭角で反射されたビームの方向は、前記第1方向にする第2反射部と、を備え、
前記第1及び第2反射部のうち何れか1つは、平ミラー及びシリンダー型凹ミラーのうち何れか1つであり、前記第1及び第2反射部のうち残りの1つは、前記平ミラー及びシリンダー型凹ミラーのうち残りの1つであり、
前記シリンダー型凹ミラーは、入射される前記p偏光されたレーザビームの偏光程度が均一になるように反射することを特徴とする表面パターン測定装置。 - 前記検出部は、前記検出した光を分析して、前記基板のパターンを抽出するか、前記パターンの不良の有無を判断する請求項1または2に記載の表面パターン測定装置。
- 前記照射部は、
1次元形態の光を放出する光源と、
前記1次元形態の光を前記基板に対してp偏光させる偏光器と、を備え、
前記検出部は、
前記偏光器によるp偏光光と経路が同じである一般光が、前記基板に反射されて進行する反射経路に配されて、前記一般光を特定位置に収斂させる対象レンズと、
前記対象レンズを通過したp偏光光を検出する撮影部と、
を備える請求項1または2に記載の表面パターン測定装置。 - 前記光源は、扇状の光を放出し、
前記照射部は、前記偏光器によってp偏光された扇状の光を一定方向に進行するp偏光平行光に変換して、前記基板に照射する第1光学系をさらに含む請求項4に記載の表面パターン測定装置。 - 前記検出部は、前記対象レンズと前記撮影部との間に配されて、前記撮影部に前記基板に対してp偏光された光のみ通過させるp偏光フィルターをさらに備える請求項4に記載の表面パターン測定装置。
- 前記検出部は、前記基板に入射されるp偏光レーザビームが、前記基板によって反射されるか否かを検出するビーム検出器を備える請求項1または2に記載の表面パターン測定装置。
- 前記シリンダー型凹ミラーは、焦点の位置から放射される放射型のビームを平行ビームに変更し、
前記シリンダー型凹ミラーに反射されるビームの前記基板までの経路長は、前記焦点の距離と同一である請求項1または2に記載の表面パターン測定装置。 - 前記基板は、ガラス及び透明フィルムのうち何れか1つであり、
前記パターン物質は、ITO、グラフェン、カーボンナノチューブ(CNT)、及び銀ナノワイヤのうち少なくとも1つを含む請求項1または2に記載の表面パターン測定装置。 - 前記基板の反射率と前記パターン物質の反射率との差は、1〜10%であることを特徴とする請求項1または2に記載の表面パターン測定装置。
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