JP2009008643A - 光走査式平面検査装置 - Google Patents
光走査式平面検査装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2009008643A JP2009008643A JP2007193923A JP2007193923A JP2009008643A JP 2009008643 A JP2009008643 A JP 2009008643A JP 2007193923 A JP2007193923 A JP 2007193923A JP 2007193923 A JP2007193923 A JP 2007193923A JP 2009008643 A JP2009008643 A JP 2009008643A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- light
- plane
- angle
- scanning
- optical scanning
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Landscapes
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
- Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
Abstract
【解決手段】光源より出射された光を、前記平面に対してライン状に走査する光走査手段と、該走査光による該平面および平面異常部からの透過光を受光する反射光位置検知手段と、該検知手段からの検知信号により該平面異常部の角度を算出して平面異常の検査を行う角度検査測定部と、を有する光走査式平面検査装置とした。
【選択図】図1
Description
θ1=(f2・x)/(2・f1・d)
として傾斜角が検出されるものである。
また対象物平面と1次元PSDまたは位置検出型光電子増倍管の間にバンドルされた光ファイバを設け、光ファイバの入射口と光走査手段によって集光された走査線とを共役とするシリンドリカルレンズを設けた。
またさらに対象物および表面異常部からの反射光を受光する1次元PSDまたは位置検出型光電子増倍管と、そこからの検知信号により表面異常部の反射光角度を算出し、表面異常の検査を行う角度検査測定部とを設けた。
さらに透過光と別に反射光を同時に検出することにより、両者の比較から表面異常部が表面にあるか裏面にあるかを識別することができ、一層正確な表面状態の把握が可能となる。
図3は本発明の第2の実施例を説明したもので、対象平面6の上方には、光源として半導体レーザコリメーション光源1が配設され、半導体レーザコリメーション光源1から出射されたレーザ光がポリゴンスキャナ2に入射する。ポリゴンスキャナ2が回転することにより走査レンズ3には走査されたレーザ光が入射し、対象平面6上に、レーザ走査光が照射される。これらポリゴンスキャナ2、走査レンズ3により光走査手段を構成する。
x=(s1・d・θ2)/s2
逆算すると以下の式により平面上の反射角変動θ1を計算することができる。
θ2≒(2・s2・x)/(s1・d)
このようにして平面異常5上の光線傾斜角が検出される。上記はシリンドリカル結像レンズ21の曲率をもつ側で説明したが通常の球面により構成されたレンズでも同じである。
図5は本発明の第3の実施例を説明したもので、対象平面6の上方には、光源として半導体レーザコリメーション光源1が配設され、半導体レーザコリメーション光源1から出射されたレーザ光がポリゴンスキャナ2に入射する。ポリゴンスキャナ2が回転することにより走査レンズ3には走査されたレーザ光が入射し、対象平面6上に、レーザ走査光が照射される。これらポリゴンスキャナ2、走査レンズ3により光走査手段を構成する。
x=(f3・d・θ2)/f4
逆算すると以下の式により平面上の反射角変動θ2を計算することができる。
θ2=(f4・x)/(f3・d)
θ=(α・x)/h
としてθが求められ、これを積分することで表面の形状が求められる。
2 ポリゴンスキャナ
3 走査レンズ
4 搬送手段
5 平面異常部
6 対象平面
7 角度検査測定部
8 結像レンズ
9 1次元PSD
10 I/V変換回路
11 A/D変換回路
12 ビームスプリッタ
14 1/4波長板
17 結像レンズ2
18 小型PSD
19 ファイバ用シリンドリカルレンズ
20 ファイババンドル
21 シリンドリカル結像レンズ
22 ハーフミラー
A,B,C,D PSD出力
d 再結像点からの光軸方向距離
x PSD上の変動量
y PSD上の変動量
s1 結像レンズ前側距離
s2 結像レンズ後側距離
f3 走査レンズ焦点距離
f4 第2結像レンズ焦点距離
θ1 平面異常部傾き角度
θ2 平面異常部出射光角度
Claims (4)
- 対象物(6)に光源(1)より光を照射し、その透過光を受光して該透明対象物(6)の表面を検査する平面検査装置であって、前記光源(1)より出射された光を、前記対象物(6)に対してライン状に走査する光走査手段(2,3)と、該走査光による該対象物(6)および表面異常部(5)からの透過光を受光する1次元PSDまたは位置検出型光電子増倍管(9)と、該1次元PSDまたは位置検出型光電子増倍管(9)からの検知信号により該表面異常部(5)の透過光角度を算出して表面異常の検査を行う角度検査測定部(7)と、を有することを特徴とする光走査式表面検査装置。
- 前記対象物平面(6)と前記1次元PSDまたは位置検出型光電子増倍管(9)の間に結像レンズ(8、21)を設け、前記反射光位置検知手段(9)は結像レンズ(8)による結像位置から所定の距離だけ光軸方向に離れて設けられることを特徴とする請求項1の光走査式表面検査装置。
- 前記対象物平面(6)と前記1次元PSDまたは位置検出型光電子増倍管(9)の間にバンドルされた光ファイバ(20)を設け、光ファイバ(20)の入射口と前記光走査手段によって集光された走査線とを共役とするシリンドリカルレンズ(19)を設けることを特徴とする請求項1の光走査式表面検査装置。
- 前記走査光による対象物(6)および表面異常部(5)からの反射光を受光する1次元PSDまたは位置検出型光電子増倍管(9)と、該1次元PSDまたは位置検出型光電子増倍管(9)からの検知信号により該表面異常部(5)の反射光角度を算出し、表面異常の検査を行う角度検査測定部(7)と、を有することを特徴とする請求項1乃至3の光走査式表面検査装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007193923A JP2009008643A (ja) | 2007-06-27 | 2007-06-27 | 光走査式平面検査装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007193923A JP2009008643A (ja) | 2007-06-27 | 2007-06-27 | 光走査式平面検査装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2009008643A true JP2009008643A (ja) | 2009-01-15 |
Family
ID=40323855
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2007193923A Pending JP2009008643A (ja) | 2007-06-27 | 2007-06-27 | 光走査式平面検査装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2009008643A (ja) |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN105091761A (zh) * | 2014-04-28 | 2015-11-25 | 深圳迈瑞生物医疗电子股份有限公司 | 样本形态监测装置及方法 |
WO2016185729A1 (ja) * | 2015-05-20 | 2016-11-24 | オリンパス株式会社 | 標本形状測定方法及び標本形状測定装置 |
WO2017119118A1 (ja) * | 2016-01-08 | 2017-07-13 | オリンパス株式会社 | 標本形状測定方法及び標本形状測定装置 |
WO2017175495A1 (ja) * | 2016-04-05 | 2017-10-12 | オリンパス株式会社 | 標本形状測定方法及び標本形状測定装置 |
WO2018092247A1 (ja) * | 2016-11-17 | 2018-05-24 | オリンパス株式会社 | 標本形状測定方法及び標本形状測定装置 |
WO2018092248A1 (ja) * | 2016-11-17 | 2018-05-24 | オリンパス株式会社 | 標本形状測定装置 |
Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5520454A (en) * | 1978-08-02 | 1980-02-13 | Citizen Watch Co Ltd | Testing unit of light transmitting object dependent upon laser |
JPH04174315A (ja) * | 1989-12-26 | 1992-06-22 | Fujitsu Ltd | 光軸調整装置 |
JPH05240640A (ja) * | 1992-02-26 | 1993-09-17 | Omron Corp | 光学式距離測定装置 |
JPH09133606A (ja) * | 1995-11-07 | 1997-05-20 | Ricoh Co Ltd | 光学素子等の特性測定方法及びその装置 |
JPH11120592A (ja) * | 1997-10-15 | 1999-04-30 | Nec Corp | 光ディスクの傾き検出方法及び検出装置 |
JPH11257925A (ja) * | 1998-03-12 | 1999-09-24 | Omron Corp | センサ装置 |
JP2000074625A (ja) * | 1998-08-27 | 2000-03-14 | Oputouea Kk | 位置検出センサ用ビーム拡大光学系 |
JP2003149163A (ja) * | 2001-11-14 | 2003-05-21 | Hitachi Ltd | 表面検査方法及び装置 |
JP2005241621A (ja) * | 2003-08-20 | 2005-09-08 | Sunx Ltd | 光学測定装置及び光学測定装置における距離算出方法 |
-
2007
- 2007-06-27 JP JP2007193923A patent/JP2009008643A/ja active Pending
Patent Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5520454A (en) * | 1978-08-02 | 1980-02-13 | Citizen Watch Co Ltd | Testing unit of light transmitting object dependent upon laser |
JPH04174315A (ja) * | 1989-12-26 | 1992-06-22 | Fujitsu Ltd | 光軸調整装置 |
JPH05240640A (ja) * | 1992-02-26 | 1993-09-17 | Omron Corp | 光学式距離測定装置 |
JPH09133606A (ja) * | 1995-11-07 | 1997-05-20 | Ricoh Co Ltd | 光学素子等の特性測定方法及びその装置 |
JPH11120592A (ja) * | 1997-10-15 | 1999-04-30 | Nec Corp | 光ディスクの傾き検出方法及び検出装置 |
JPH11257925A (ja) * | 1998-03-12 | 1999-09-24 | Omron Corp | センサ装置 |
JP2000074625A (ja) * | 1998-08-27 | 2000-03-14 | Oputouea Kk | 位置検出センサ用ビーム拡大光学系 |
JP2003149163A (ja) * | 2001-11-14 | 2003-05-21 | Hitachi Ltd | 表面検査方法及び装置 |
JP2005241621A (ja) * | 2003-08-20 | 2005-09-08 | Sunx Ltd | 光学測定装置及び光学測定装置における距離算出方法 |
Cited By (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN105091761A (zh) * | 2014-04-28 | 2015-11-25 | 深圳迈瑞生物医疗电子股份有限公司 | 样本形态监测装置及方法 |
WO2016185729A1 (ja) * | 2015-05-20 | 2016-11-24 | オリンパス株式会社 | 標本形状測定方法及び標本形状測定装置 |
JPWO2016185729A1 (ja) * | 2015-05-20 | 2018-03-08 | オリンパス株式会社 | 標本形状測定方法及び標本形状測定装置 |
US10458785B2 (en) | 2015-05-20 | 2019-10-29 | Olympus Corporation | Sample shape measuring method and sample shape measuring apparatus |
JPWO2017119118A1 (ja) * | 2016-01-08 | 2018-11-01 | オリンパス株式会社 | 標本形状測定方法及び標本形状測定装置 |
WO2017119118A1 (ja) * | 2016-01-08 | 2017-07-13 | オリンパス株式会社 | 標本形状測定方法及び標本形状測定装置 |
US10458781B2 (en) | 2016-01-08 | 2019-10-29 | Olympus Corporation | Sample shape measuring method and sample shape measuring apparatus |
WO2017175495A1 (ja) * | 2016-04-05 | 2017-10-12 | オリンパス株式会社 | 標本形状測定方法及び標本形状測定装置 |
WO2017175303A1 (ja) * | 2016-04-05 | 2017-10-12 | オリンパス株式会社 | 標本形状測定方法及び標本形状測定装置 |
US11175129B2 (en) | 2016-04-05 | 2021-11-16 | Olympus Corporation | Sample shape measuring method and sample shape measuring apparatus |
WO2018092248A1 (ja) * | 2016-11-17 | 2018-05-24 | オリンパス株式会社 | 標本形状測定装置 |
WO2018092247A1 (ja) * | 2016-11-17 | 2018-05-24 | オリンパス株式会社 | 標本形状測定方法及び標本形状測定装置 |
US10539411B2 (en) | 2016-11-17 | 2020-01-21 | Olympus Corporation | Sample shape measuring apparatus |
US10697764B2 (en) | 2016-11-17 | 2020-06-30 | Olympus Corporation | Sample shape measuring apparatus for calculating a shape of a sample disposed between an illumination optical system and an observation optical system |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US6453006B1 (en) | Calibration and alignment of X-ray reflectometric systems | |
US6975410B1 (en) | Measuring device | |
JPH03267745A (ja) | 表面性状検出方法 | |
US11262293B2 (en) | System and method for use in high spatial resolution ellipsometry | |
TW201305546A (zh) | 用於決定影像感測器之傾斜的方法 | |
JP2009008643A (ja) | 光走査式平面検査装置 | |
TWI659201B (zh) | 識別一光學系統之一焦點之一位置之方法,測試其中之每一者包含一或多個元件之複數個裝置之方法,以及量測包括一或多個元件之一光學系統之特徵之系統 | |
JP6290225B2 (ja) | 容器の壁厚測定用設備 | |
KR101446061B1 (ko) | 투명 기판의 표면 패턴 불량 측정 장치 | |
JP2010271133A (ja) | 光走査式平面検査装置 | |
US20140250679A1 (en) | Optical inspection apparatus and optical inspection system | |
EP1795862A1 (en) | Device for measuring thickness of transparent objects | |
JP2013002819A (ja) | 平面度測定装置 | |
TW201421010A (zh) | 在一晶圓檢測系統中監視入射光束位置 | |
JP2013205332A (ja) | 欠点検査装置および欠点検査方法 | |
JP4864734B2 (ja) | 光変位センサー及びそれを用いた変位測定装置 | |
JPH10206335A (ja) | 表面欠陥検査装置及び検査方法 | |
JP2008032669A (ja) | 光走査式平面外観検査装置 | |
JP2008026049A (ja) | フランジ焦点距離測定装置 | |
JP6142996B2 (ja) | ビア形状測定装置及びビア検査装置 | |
JP3570488B2 (ja) | レーザビーム使用亜鉛メッキ鋼板合金化度測定方法 | |
JP5082552B2 (ja) | 光学的測定装置及び光学的測定方法 | |
JP3168480B2 (ja) | 異物検査方法、および異物検査装置 | |
JP2008032669A5 (ja) | ||
JP2009042128A (ja) | 高さ測定装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20100614 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20111228 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20120105 |
|
A521 | Written amendment |
Effective date: 20120302 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20121105 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20130312 |