TW201445394A - 透明電極圖型層板及含此之觸控螢幕面板 - Google Patents
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Abstract
揭露的是一種透明電極層板以及具有該透明電極層板的觸控螢幕面板，該透明電極層板包括：具有透明介電層形成於其上的透明基板；以彼此連接的第一圖型以及彼此分開的第二圖型形成於該透明介電層上的第一透明電極層；沉積在該第一透明電極層上的絕緣層；以及第二透明電極層，其為被配置用以經由於該絕緣層中形成的接觸孔來彼此電連接該第二圖型的橋電極；其中該第一透明電極層具有20至200 nm的厚度，如果該第一透明電極層具有20 nm或更高至低於120 nm的厚度，則該第一透明電極層比上該第二透明電極層的厚度比（第一透明電極層的厚度/第二透明電極層的厚度）是0.15至0.375，以及如果該第一透明電極層具有120 nm或更高至200 nm或更低的厚度，則該第二透明電極層比上該第一透明電極層的厚度比（第二透明電極層的厚度/第一透明電極層的厚度）是0.60至1.50，藉此大大地減少不同位置上的反射率差異。
Description
本發明有關一種透明電極層板以及包括該透明電極層板的觸控螢幕面板，且更特別的是有關一種具有低可見度的透明電極層板以及具有該透明電極層板的觸控螢幕面板。
一般而言，觸控螢幕是一種配備有特殊輸入裝置以藉由以使用者的手指或觸控筆碰觸該螢幕來接收位置輸入的螢幕。這種觸控螢幕不使用鍵盤，但具有多層層板的配置，其中，當使用者的手指或物體（例如觸控筆）碰觸在螢幕上顯示的特定特徵或位置時，該觸控螢幕識別該位置，並經由螢幕圖片直接接收資料，以實際上藉由於其中儲存的軟體在特定的位置處理資訊。
為了辨識所碰觸的位置而不降低在螢幕上顯示的影像可見度，一般而言需要使用預定圖型形成在其中的透明電極。
當在觸控螢幕面板中使用透明電極時，各種結構在相關技術中為已知的。例如，在觸控螢幕面板使用了玻璃-ITO薄膜-ITO薄膜（GFF）、玻璃-ITO薄膜（G1F）或只有玻璃（G2）的結構。
在這些之中，GFF是最常用的結構且包括以兩層用以實施X軸與Y軸所需的薄膜所形成的兩個透明電極（氧化銦錫，ITO）。GIF包括沉積在玻璃的後表面上的第一ITO薄膜，並類似於傳統方法使用薄膜作為第二ITO薄膜。G2是藉由在一片強化玻璃的後表面上沉積並圖型化用於X軸的ITO薄膜、在其上形成絕緣層、並圖型化另一層用於Y軸的ITO薄膜的方法所形成的結構。當電力消耗降低時，該GFF、G1F以及G2中的透光度以此順序增加，因此對於G2結構的研究是活躍地進行的。
然而，在使用圖型化透明電極的G2結構中，該透明電極的圖型部分以及非圖型部分（圖型開口）可能在視覺上彼此不同。因此，在該圖型部分以及該非圖型部分之間的反射率差異越大，反射率差異清楚地顯現，因此，作為顯示元件的外觀的可見度就會減少。特別是，在電容型觸控面板中，由於圖型透明電極是在顯示器的顯示單元的整個表面上形成，即使圖型化該透明電極層，該顯示裝置需要具有好的外觀。
為了改進這種問題，例如，日本專利公開案編號2008-98169揭露了一種透明的導電薄膜，其中包括具有不同折射係數的兩層的下塗層在透明基板以及透明導電層之間形成。此外，如同其具體實施例，上述專利進一步揭露了一種透明導電薄膜，其中具有折射係數1.7、作為高折射係數層的氧化矽錫層（具有10 nm或更高的厚度）、具有折射係數1.43、作為低折射係數層的二氧化矽層（具有30 nm的厚度）、以及具有折射係數1.95、作為透明導電層的ITO薄膜（具有15 nm的厚度）被連續地以此順序形成。
然而，由於圖型部分以及非圖型部分之間的差異清楚地顯現在上述專利中揭露的透明導電薄膜中，其仍不足以改進顯示裝置的外觀。
為了辨識所碰觸的位置而不降低在螢幕上顯示的影像可見度，一般而言需要使用預定圖型形成在其中的透明電極。
當在觸控螢幕面板中使用透明電極時，各種結構在相關技術中為已知的。例如，在觸控螢幕面板使用了玻璃-ITO薄膜-ITO薄膜（GFF）、玻璃-ITO薄膜（G1F）或只有玻璃（G2）的結構。
在這些之中，GFF是最常用的結構且包括以兩層用以實施X軸與Y軸所需的薄膜所形成的兩個透明電極（氧化銦錫，ITO）。GIF包括沉積在玻璃的後表面上的第一ITO薄膜，並類似於傳統方法使用薄膜作為第二ITO薄膜。G2是藉由在一片強化玻璃的後表面上沉積並圖型化用於X軸的ITO薄膜、在其上形成絕緣層、並圖型化另一層用於Y軸的ITO薄膜的方法所形成的結構。當電力消耗降低時，該GFF、G1F以及G2中的透光度以此順序增加，因此對於G2結構的研究是活躍地進行的。
然而，在使用圖型化透明電極的G2結構中，該透明電極的圖型部分以及非圖型部分（圖型開口）可能在視覺上彼此不同。因此，在該圖型部分以及該非圖型部分之間的反射率差異越大，反射率差異清楚地顯現，因此，作為顯示元件的外觀的可見度就會減少。特別是，在電容型觸控面板中，由於圖型透明電極是在顯示器的顯示單元的整個表面上形成，即使圖型化該透明電極層，該顯示裝置需要具有好的外觀。
為了改進這種問題，例如，日本專利公開案編號2008-98169揭露了一種透明的導電薄膜，其中包括具有不同折射係數的兩層的下塗層在透明基板以及透明導電層之間形成。此外，如同其具體實施例，上述專利進一步揭露了一種透明導電薄膜，其中具有折射係數1.7、作為高折射係數層的氧化矽錫層（具有10 nm或更高的厚度）、具有折射係數1.43、作為低折射係數層的二氧化矽層（具有30 nm的厚度）、以及具有折射係數1.95、作為透明導電層的ITO薄膜（具有15 nm的厚度）被連續地以此順序形成。
然而，由於圖型部分以及非圖型部分之間的差異清楚地顯現在上述專利中揭露的透明導電薄膜中，其仍不足以改進顯示裝置的外觀。
因此，本發明的目的是提供一種由於在不同位置上反射率的些微差異而具有低可見度的透明電極層板。
此外，本發明的另一個目的是提供一種具有透明電極層板的觸控面板螢幕。
本發明的上述目的將藉由下述特徵來達成：
（1）一種透明電極層板，包括：具有透明介電層形成於其上的透明基板；以彼此連接的第一圖型以及彼此分開的第二圖型形成於該透明介電層上的第一透明電極層；沉積在該第一透明電極層上的絕緣層；以及第二透明電極層，其為被配置用以經由於該絕緣層中形成的接觸孔來彼此電連接該第二圖型的橋電極；其中該第一透明電極層具有20至200 nm的厚度，如果該第一透明電極層具有20 nm或更高至低於120 nm的厚度，則該第一透明電極層比上該第二透明電極層的厚度比（第一透明電極層的厚度/第二透明電極層的厚度）是0.15至0.375，以及如果該第一透明電極層具有120 nm或更高至200 nm或更低的厚度，則該第二透明電極層比上該第一透明電極層的厚度比（第二透明電極層的厚度/第一透明電極層的厚度）是0.60至1.50。
（2）根據上述第（1）項所述的透明電極層板，其中該第一透明電極層以及該第二透明電極層分別具有1.8至2.2的折射係數。
（3）根據上述第（1）項所述的透明電極層板，其中該絕緣層具有1.4至1.6的折射係數。
（4）根據上述第（1）項所述的透明電極層板，其中該透明基板具有0.1至0.7 mm的厚度。
（5）根據上述第（1）項所述的透明電極層板，其中該透明基板具有1.4至1.6的折射係數。
（6）根據上述第（1）項所述的透明電極層板，其中多個透明介電層於該透明基板上形成。
（7）根據上述第（1）項所述的透明電極層板，其中該透明介電層具有1.4至2.5的折射係數。
（8）根據上述第（6）項所述的透明電極層板，其中該多個透明介電層的每一層具有1.4至2.5的折射係數。
（9）根據上述第（1）項所述的透明電極層板，其中該透明介電層具有50至80 nm的總厚度。
（10）根據上述第（1）項所述的透明電極層板，其中該絕緣層具有1,000至2,000 nm的厚度。
（11）根據上述第（1）項所述的透明電極層板，其中該第二透明電極層於該透明介電層上形成，該絕緣層於該第二透明電極層上形成，以及該第一透明電極層於該絕緣層上形成。
（12）根據上述第（1）項所述的透明電極層板，關於該透明電極層板，更包括在相對於該透明電極或該絕緣層形成於其上的該透明基板的表面的一側上的鈍化層。
（13）根據上述第（12）項所述的透明電極層板，其中該鈍化層具有2,000 nm或更低的厚度。
（14）根據上述第（12）項所述的透明電極層板，其中該鈍化層具有1.4至1.6的折射係數。
（15）一種觸控螢幕面板，包括根據上述第（1）至（14）項中任一項所述的透明電極層板。
根據如上所述的這些方面，由於本發明的透明電極層板具有分別以預定範圍來調整厚度的各種層，由於在不同位置上反射率的些微差異，其可由圖型透明電極結構造成，其可能表現出低可見度。
此外，根據本發明的透明電極層板，當將該透明電極層板應用至具有G2結構的觸控螢幕面板時，其可表現出高透光度以及低反射率，因此被有用地利用。
此外，本發明的另一個目的是提供一種具有透明電極層板的觸控面板螢幕。
本發明的上述目的將藉由下述特徵來達成：
（1）一種透明電極層板，包括：具有透明介電層形成於其上的透明基板；以彼此連接的第一圖型以及彼此分開的第二圖型形成於該透明介電層上的第一透明電極層；沉積在該第一透明電極層上的絕緣層；以及第二透明電極層，其為被配置用以經由於該絕緣層中形成的接觸孔來彼此電連接該第二圖型的橋電極；其中該第一透明電極層具有20至200 nm的厚度，如果該第一透明電極層具有20 nm或更高至低於120 nm的厚度，則該第一透明電極層比上該第二透明電極層的厚度比（第一透明電極層的厚度/第二透明電極層的厚度）是0.15至0.375，以及如果該第一透明電極層具有120 nm或更高至200 nm或更低的厚度，則該第二透明電極層比上該第一透明電極層的厚度比（第二透明電極層的厚度/第一透明電極層的厚度）是0.60至1.50。
（2）根據上述第（1）項所述的透明電極層板，其中該第一透明電極層以及該第二透明電極層分別具有1.8至2.2的折射係數。
（3）根據上述第（1）項所述的透明電極層板，其中該絕緣層具有1.4至1.6的折射係數。
（4）根據上述第（1）項所述的透明電極層板，其中該透明基板具有0.1至0.7 mm的厚度。
（5）根據上述第（1）項所述的透明電極層板，其中該透明基板具有1.4至1.6的折射係數。
（6）根據上述第（1）項所述的透明電極層板，其中多個透明介電層於該透明基板上形成。
（7）根據上述第（1）項所述的透明電極層板，其中該透明介電層具有1.4至2.5的折射係數。
（8）根據上述第（6）項所述的透明電極層板，其中該多個透明介電層的每一層具有1.4至2.5的折射係數。
（9）根據上述第（1）項所述的透明電極層板，其中該透明介電層具有50至80 nm的總厚度。
（10）根據上述第（1）項所述的透明電極層板，其中該絕緣層具有1,000至2,000 nm的厚度。
（11）根據上述第（1）項所述的透明電極層板，其中該第二透明電極層於該透明介電層上形成，該絕緣層於該第二透明電極層上形成，以及該第一透明電極層於該絕緣層上形成。
（12）根據上述第（1）項所述的透明電極層板，關於該透明電極層板，更包括在相對於該透明電極或該絕緣層形成於其上的該透明基板的表面的一側上的鈍化層。
（13）根據上述第（12）項所述的透明電極層板，其中該鈍化層具有2,000 nm或更低的厚度。
（14）根據上述第（12）項所述的透明電極層板，其中該鈍化層具有1.4至1.6的折射係數。
（15）一種觸控螢幕面板，包括根據上述第（1）至（14）項中任一項所述的透明電極層板。
根據如上所述的這些方面，由於本發明的透明電極層板具有分別以預定範圍來調整厚度的各種層，由於在不同位置上反射率的些微差異，其可由圖型透明電極結構造成，其可能表現出低可見度。
此外，根據本發明的透明電極層板，當將該透明電極層板應用至具有G2結構的觸控螢幕面板時，其可表現出高透光度以及低反射率，因此被有用地利用。
100．．．第一透明電極層
110．．．第一圖型
120．．．第二圖型
200．．．第二透明電極層
300．．．絕緣層
400．．．接觸孔
結合所附圖式，從下述詳細的描述將更清楚地了解本發明的上述以及其他的目的、特徵以及其他優勢，其中：
第1圖是示例根據本發明具體實施例的透明電極層板的示意性平面圖；
第2圖是示例根據本發明具體實施例的透明電極層板的單元方格的示意性平面圖；以及
第3圖是示例根據本發明具體實施例的透明電極層板的不同位置上的層板結構的示意性截面圖。
第1圖是示例根據本發明具體實施例的透明電極層板的示意性平面圖；
第2圖是示例根據本發明具體實施例的透明電極層板的單元方格的示意性平面圖；以及
第3圖是示例根據本發明具體實施例的透明電極層板的不同位置上的層板結構的示意性截面圖。
本發明揭露了一種透明電極層板以及具有該透明電極層板的觸控螢幕面板，該透明電極層板包括：具有透明介電層形成於其上的透明基板；以彼此連接的第一圖型以及彼此分開的第二圖型形成於該透明介電層上的第一透明電極層；沉積在該第一透明電極層上的絕緣層；以及第二透明電極層，其為被配置用以經由於該絕緣層中形成的接觸孔來彼此電連接該第二圖型的橋電極；其中該第一透明電極層具有20至200 nm的厚度，如果該第一透明電極層具有20 nm或更高至低於120 nm的厚度，則該第一透明電極層比上該第二透明電極層的厚度比（第一透明電極層的厚度/第二透明電極層的厚度）是0.15至0.375，以及如果該第一透明電極層具有120 nm或更高至200 nm或更低的厚度，則該第二透明電極層比上該第一透明電極層的厚度比（第二透明電極層的厚度/第一透明電極層的厚度）是0.60至1.50，藉此大大地減少不同位置上的反射率差異。
此後，參照範例以及比較性範例，將描述較佳的具體實施例以更具體地了解本發明。然而，本領域技術人員將領略的是，這種具體實施例是提供用以進一步了解本發明的精神，且不限制如同詳細描述以及所附申請專利範圍所揭露的將要保護的標的。
第1圖是示例根據本發明具體實施例的透明電極層板的示意性平面圖。
如同第1圖中所示例的，本發明的透明電極層板包括第一透明電極層100、第二透明電極層200、絕緣層300以及接觸孔400。此外，本發明的透明電極層板可於透明基板（未示出）上形成，且更包括在相對於該透明電極或該絕緣層形成於其上的該透明基板的表面的一側上的鈍化層（未示出）。
如同第1圖中所示例的，透明電極層板以預定圖型形成。第一透明電極層100以及第二透明電極層200提供了在使用者所碰觸的點上的位置資訊。該絕緣層300是沉積在該第一透明電極層100以及該第二透明電極層200之間，以彼此電隔離，且接觸孔400於絕緣層300中形成，以電連接該第一透明電極層100與該第二透明電極層200。
如上所述，透明電極層板的每個組件是以預定圖型形成的，且因為此圖型結構，本發明的透明電極層板取決於其位置而可包括各種層板結構。第2圖是示例根據本發明具體實施例的透明電極層板的單元方格的示意性平面圖。參見第2圖，取決於至的不同位置，該透明電極層板可分別具有五種類型的層板結構。第3圖示意性地示例了分別在至不同位置上的層板結構。
如同第3圖中所示例的，由於透明電極層板具有各種層狀結構，由於取決於其位置的這些各種層狀結構，對於不同位置的反射率、亮度、色度或諸如此類的差異可發生，且藉此不想要地增加了圖型可見度。因此，在傳統透明電極層板作為透明電極的功能是有限制的。
因此，為了解決上述問題，本發明的透明電極層板包括了具有在預定範圍中分別調整的厚度的透明電極層以及絕緣層，因此，其可能最小化在不同位置上反射率的差異。此後，將更詳細地描述根據本發明具體實施例的透明電極層板。
（透明電極層）
如同第1圖至第3圖中所示例，根據本發明具體實施例的透明電極層板包括第一透明電極層以及第二透明電極層。
第一透明電極層100可以彼此連接的第一圖型110以及彼此分開的第二圖型120來形成。該第一圖型110以及第二圖型120被配置在同一列或行方向，以提供在使用者碰觸的位置處的X及Y座標上的資訊。具體而言，當該使用者的手指或例如觸控筆的物體接觸於透明基板上時，所碰觸位置的電容被改變，且關於所改變電容的資訊經由該第一圖型110、第二圖型120、第二透明電極層200以及位置偵測線而被傳送至驅動電路（未示出）。此外，電容的差異被X以及Y輸入處理電路（未示出）轉換成電訊號，以測量所碰觸的位置，並且基於該電訊號來計算所碰觸位置的X以及Y座標。
就這一點而言，第一圖型110以及第二圖型120必須形成在相同的層（第一透明電極層）中，且各自的圖型必須彼此電連接，以偵測所碰觸的位置。然而，如上所述，該第一圖型110是彼此連接的，而該第二圖型120是以島狀形式彼此分開的，藉此需要額外的連接線以將該第二圖型120彼此電連接。
然而，連接線不應電連接至第一圖型110，因此，必須形成於與第一透明電極層100不同的層中。因此，第二透明電極層200是形成於與該第一透明電極層100不同的替代層中，以將該第二圖型120彼此電連接。也就是說，該第二透明電極層200是形成於與該第一透明電極層100不同的層中，使得該第二透明電極層200具有用於經由下面將描述的於絕緣層300中形成的接觸孔400來將該第一透明電極層100的該第二圖型120彼此電連接的橋電極的角色。
因此，在第2圖以及第3圖中，、以及的位置分別代表其中第一透明電極層100以預定圖型形成來偵測所碰觸區域的部分，以及、以及的位置分別代表其中配置第二透明電極層200以電連接以島狀形式形成的第二圖型120的部分。
在本文中，第二透明電極層200必須與第一透明電極層100的第一圖型110電隔離。因此，本發明的透明電極層板包括絕緣層300以及接觸孔400（第2圖中的），其將在下面描述。
在本發明中，第一透明電極層100可具有20至200 nm的厚度。如果該第一透明電極層100具有20 nm或更高至低於120 nm的厚度，則該第一透明電極層比上該第二透明電極層的厚度比（第一透明電極層的厚度/第二透明電極層的厚度）是0.15至0.375，較佳為0.17至0.3，且更佳為0.17至0.23，以及當該第一透明電極層100具有120 nm或更高至200 nm或更低的厚度時，該第二透明電極層比上該第一透明電極層的厚度比（第二透明電極層的厚度/第一透明電極層的厚度）是0.60至1.50，較佳為0.70至1.20，且更佳為0.8至1。
如果第一透明電極層100的厚度不在上述範圍內，在不同位置上的反射率差異可能會增加，因此導致圖型反射可見度的增加。具體而言，當其厚度低於20 nm時，觸控敏感度可藉由增加電阻而降低，而如果其厚度高於150 nm，透光度可能會惡化。
此外，較佳的是，第一以及第二透明電極層100以及200分別具有1.8至2.2的折射係數。當這些層具有在上述範圍內的折射係數時，可更加地改進反射率的降低。
本相關技術中已知的任何傳統導電材料可用於第一以及第二透明電極層100以及200，其無特別的限制。例如，用於形成透明電極的導電材料可包括氧化銦錫（ITO）、氧化銦鋅（IZO）、氧化鋅（ZnO）、氧化銦鋅錫（IZTO）、氧化鎘錫（CTO）、聚(3,4-乙烯二氧噻吩)（PEDOT）、奈米碳管（CNT）、金屬線等等，其被單獨或以其二或更多種任何組合而使用。較佳的是使用氧化銦錫（ITO）。金屬線中所使用的金屬不特別受限，但可包括，例如，銀（Ag）、金、鋁、銅、鐵、鎳、鈦、碲、鎘等等，其被單獨或以其二或更多種任何組合而使用。
第一以及第二透明電極層100以及200可藉由各種薄膜沉積技術來形成，例如物理氣相沉積（PVD）方法、化學氣相沉積（CVD）方法或諸如此類。例如，該第一以及該第二透明電極層100以及200可藉由反應濺鍍來形成，其為PVD方法的範例。
此外，第一以及第二透明電極層100以及200可藉由印刷製程來形成。為了印刷出透明電極，在印刷製程期間可使用各種印刷方法，例如凹版偏位印刷、反轉偏位印刷、網版印刷、凹版印刷等等。特別是，當藉由印刷製程來形成該第一以及第二透明電極層100以及200時，該透明電極可由可印刷膏狀材料製成。例如，透明電極可由奈米碳管（CNT）、導電聚合物以及銀奈米線墨水製成。
在本發明中，第一透明電極層100以及第二透明電極層200的壓層順序不特別受限。因此，在本發明的另一個具體實施例中，可改變第3圖中所示出的該第一透明電極層100以及該第二透明電極層200的壓層順序。例如，第二透明電極層先形成於透明基板上而非該第一透明電極層上，絕緣層形成於其上，以及第一透明電極層形成於該絕緣層上。
（絕緣層以及接觸孔）
絕緣層300是在第一透明電極層100以及第二透明電極層200之間形成，以隔離該第一透明電極層100與該第二透明電極層200，以致於避免其間的電連接。然而，如同第2圖以及第3圖中所示例，當該第二透明電極層200電連接鄰近的該第一透明電極層100的第二圖型120時，該第二透明電極層200應與該第一透明電極層100電連接，因此，需要該絕緣層300未於其上形成的部分。因此，該絕緣層300未於其上形成的部分被稱為接觸孔400（第2圖中的）。因此，該第二透明電極層200與該第一透明電極層100（其第二圖型120）在接觸孔400中電連接。
在本發明中，絕緣層300可具有1,000至2,000 nm的厚度。如果該絕緣層300的厚度不在上述範圍內，在不同位置上的反射率差異可能會增加，因此增加了該圖型反射可見度。當其厚度低於1,000 nm時，觸控敏感度可藉由發生在透明電極之間減少的電容而降低，而如果其厚度大於2,000 nm，可能不會進一步獲得源自厚度增加的效果。
較佳的是，絕緣層300具有1.4至1.6的折射係數。當該絕緣層300具有在上述範圍內的折射係數時，可更加改進反射率的降低。
本相關技術中已知的任何傳統絕緣材料可用於絕緣層300，其無特別的限制。例如，該絕緣層300可使用金屬氧化物以想要的圖型來形成，例如二氧化矽、透明感光樹脂組成物，包括壓力克樹脂，或熱固性樹脂組成物。
例如，可使用沉積或印刷方法將絕緣層300形成於第一透明電極層100上。
在本發明中，接觸孔400可以以將絕緣層完全地形成於第一透明電極層100上，然後將多個孔洞形成於其中（孔洞方法）的這樣方法來形成，或者以除了該第一透明電極層100與第二透明電極層200電連接的部分之外，將絕緣層形成於該第一透明電極層100上的方式（島方法）的這樣方法來形成。
（透明基板）
透明基板是形成觸控螢幕面板的最外表面並與使用者的手指或例如觸控筆的物體直接接觸的一部分。本發明的透明電極層板是在相對於與該使用者的手指或該物體直接接觸的表面的一側上形成。
如果其具有高耐久性以足以保護觸控螢幕面板避免外力，並允許使用者非常好地觀看顯示器的話，透明基板可由任何材料製備，且可採用本相關技術中所使用的用於形成透明基板的任何材料，對其無特別的限制。例如，可使用玻璃、聚醚碸（PES）、聚丙烯酸酯（PAR）、聚醚醯亞胺（PEI）、聚萘二甲酸乙二酯（PEN）、聚對苯二甲酸乙二酯（PET）、聚苯硫醚（PPS）、聚烯丙醇酯、聚醯亞胺、聚碳酸酯（PC）、三醋酸纖維素（TAC）、醋酸丙酸纖維素（CAP）或諸如此類。較佳的是使用玻璃，且更佳的是使用強化玻璃。
根據本發明的透明基板可具有適當的厚度，例如，範圍從0.1至0.7 mm。當該透明基板具有上述範圍內的厚度時，可更加改進反射率的降低。
較佳的是，透明基板具有1.4至1.6的折射係數。當該透明基板具有上述範圍內的折射係數時，可更加改進反射率的降低。
（透明介電層）
根據本發明的透明電極層板包括在透明基板以及第一透明電極層之間形成的透明介電層，以致於改進觸控螢幕面板的光學均勻性。也就是說，該透明介電層作用用以減少由於在不同位置上的結構差異造成的光學特性差異，不同位置上的結構差異可能是由圖型透明電極結構造成。
透明介電層可由氧化鈮、二氧化矽、氧化鈰、氧化銦或諸如此類所形成，其可被單獨或以其二或更多種任何組合而使用。該透明介電層可藉由使用氣相沉積方法、濺鍍、離子電鍍製程或諸如此類而以薄膜形式來輕易地沉積。
在本發明中，如果需要的話，多個透明介電層是於透明基板上形成。在此情況中，該多個透明介電層的每一層可由彼此不同的材料所形成，並具有不同的折射係數以及厚度。
較佳的是，透明介電層具有1.4至2.5的折射係數，用於降低透明電極層板的反射率。當該多個透明介電層於透明基板上形成時，較佳的是其每一層具有1.8至2.2的折射係數。關於反射率降低，較佳的是，該透明介電層具有50至80 nm的厚度。當該透明基板包括形成於其上的該多個透明介電層時，其每一層可具有其總厚度不在上述範圍外的範圍內的厚度。
（鈍化層）
為了避免第一以及第二透明電極層100以及200被曝露至外部環境（水、空氣等等）而污染，如果需要的話，關於透明電極層板，本發明的透明電極層板在相對於該透明電極所附著至的表面的一側上可包括鈍化層。
鈍化層可藉由採用可用於絕緣層300的任何材料來製備。
根據本發明的鈍化層可具有適當的厚度，例如，2,000 nm或更低。當該鈍化層具有上述範圍內的厚度時，可更加改進反射率的降低。
較佳的是，鈍化層具有1.4至1.6的折射係數。當該鈍化層具有上述範圍內的折射係數時，可更加改進反射率的降低。
（黏結層）
為了附著至顯示器面板部分，本發明的透明電極層板可包括黏結層。該黏結層是藉由施加透明可固化樹脂組成物並固化該組成物（OCR），或將事先形成為薄膜形狀的黏結劑按壓至該透明電極層板（OCA）上來製備。
黏結層也可影響透明電極層板的反射率。因此，為了降低該透明電極層板的反射率，較佳的是，該黏結層具有適當的厚度以及折射係數。例如，該黏結層可具有0至250 μm的厚度以及1至1.6的折射係數。當該黏結層具有0 μm的厚度時，該透明電極層板不具有黏結層，且在該透明電極層板以及該觸控螢幕面板之間只形成了空氣間隙。例如，該黏結層不形成在該黏結層所形成的邊緣部分之外、將實際地顯示影像的該透明電極層板的部分上。
如上所述，由於透明電極層以及絕緣層具有預定範圍中的厚度，其可能最小化不同位置上的反射率差異，並顯著地改進該透明電極層板的透明度。因此，藉由將上述層板黏結至顯示器面板部分，本發明的透明電極層板可用於製造具有極佳透明度的觸控螢幕面板。
此後，將參照範例來描述較佳的具體實施例，以更具體地了解本發明。然而，對於本領域技術人員將顯而易見的是，這種具體實施例是提供用於示例的目的，且各種修飾以及改變是可能的，而不悖離本發明的範圍以及精神，且這種修飾以及改變充分地包括在如同所附申請專利範圍定義的本發明內。
範例
範例1至9以及比較性範例1至13
分別在範例1至9以及比較性範例1至13中製造出具有下面表1中所示出厚度的透明電極層板。然後，對於每個層板，在其上分別測量不同位置上的平均反射率，且該平均反射率的最大值以及最小值之間的差異示出於表1中。在本文中，平均反射率意指在400 nm至700 nm的範圍中的反射率的平均。
分別使用作為透明基板的玻璃（折射係數：1.51，消光係數：0）、作為透明介電層的具有Nb2O5薄膜（折射係數：2.32，消光係數：0）以及SiO2薄膜（折射係數：1.46，消光係數：0）的雙層、作為第一透明電極層的ITO薄膜（折射係數：1.8，消光係數：0.014）、作為第二透明電極層的ITO薄膜（折射係數：1.8，消光係數：0.014）以及作為絕緣層與鈍化層的壓克力絕緣材料（折射係數：1.51，消光係數：0），並參照具有550 nm波長的光來決定折射係數以及消光係數。
在表1的黏結層項目中說明的空氣意指該黏結層不在將要顯示影像的部分上形成，且該黏結層僅在表框（邊緣）部分上形成。
範例10至22以及比較性範例14至20
分別製造出具有下面表2中所示出的厚度的透明電極層板。然後，對於每個層板，在其上分別測量不同位置上的平均反射率，且該平均反射率的最大值以及最小值之間的差異示出於表2中。在本文中，平均反射率意指在400 nm至700 nm的範圍中的反射率的平均。
分別使用作為透明基板的玻璃（折射係數：1.51，消光係數：0）、作為透明介電層的具有Nb2O5薄膜（折射係數：2.32，消光係數：0）以及SiO2薄膜（折射係數：1.46，消光係數：0）的雙層、作為第一透明電極層的ITO薄膜（折射係數：1.975，消光係數：0.014）、作為第二透明電極層的ITO薄膜（折射係數：1.8，消光係數：0.014）以及作為絕緣層與鈍化層的壓克力絕緣材料（折射係數：1.51，消光係數：0），並參照具有550 nm波長的光來決定折射係數以及消光係數。
在表2的黏結層項目中說明的空氣意指該黏結層不在將要顯示影像的部分上形成，且該黏結層僅在表框（邊緣）部分上形成。
參見上述表1以及2，由於平均反射率的最大值以及最小值之間的差異是2％或更低，在不同位置上的反射率偏差小，藉此展現出低可見度。
相反的是，在比較性範例之中，有平均反射率的最大值以及最小值之間的差異超過2％的例子。因此，發現到的是，相較於範例，在不同位置上的反射率偏差大且可見度非常高。
此外，在所示出的比較性範例之中，比較性範例7以及20具有在本發明中所描述的範圍之外的第一透明電極層與第二透明電極層之間的厚度比，且平均反射率的差異是2％或更低，但這些比較性範例7以及20的該第一或該第二透明電極層分別具有10 nm或更低的厚度。當該透明電極層的厚度是10 nm或更低時，導電性減低，且因此未達到作為電極的基本功能。
就這一點而言，在120℃下，以不同的厚度將ITO薄膜沉積在長度50 mm、寬度50 mm以及0.7 mm厚度（50×50×0.7 mm）的玻璃基板上之後，在其一個中心點測量電阻，且測量結果示出於下面表3中。
此後，參照範例以及比較性範例，將描述較佳的具體實施例以更具體地了解本發明。然而，本領域技術人員將領略的是，這種具體實施例是提供用以進一步了解本發明的精神，且不限制如同詳細描述以及所附申請專利範圍所揭露的將要保護的標的。
第1圖是示例根據本發明具體實施例的透明電極層板的示意性平面圖。
如同第1圖中所示例的，本發明的透明電極層板包括第一透明電極層100、第二透明電極層200、絕緣層300以及接觸孔400。此外，本發明的透明電極層板可於透明基板（未示出）上形成，且更包括在相對於該透明電極或該絕緣層形成於其上的該透明基板的表面的一側上的鈍化層（未示出）。
如同第1圖中所示例的，透明電極層板以預定圖型形成。第一透明電極層100以及第二透明電極層200提供了在使用者所碰觸的點上的位置資訊。該絕緣層300是沉積在該第一透明電極層100以及該第二透明電極層200之間，以彼此電隔離，且接觸孔400於絕緣層300中形成，以電連接該第一透明電極層100與該第二透明電極層200。
如上所述，透明電極層板的每個組件是以預定圖型形成的，且因為此圖型結構，本發明的透明電極層板取決於其位置而可包括各種層板結構。第2圖是示例根據本發明具體實施例的透明電極層板的單元方格的示意性平面圖。參見第2圖，取決於至的不同位置，該透明電極層板可分別具有五種類型的層板結構。第3圖示意性地示例了分別在至不同位置上的層板結構。
如同第3圖中所示例的，由於透明電極層板具有各種層狀結構，由於取決於其位置的這些各種層狀結構，對於不同位置的反射率、亮度、色度或諸如此類的差異可發生，且藉此不想要地增加了圖型可見度。因此，在傳統透明電極層板作為透明電極的功能是有限制的。
因此，為了解決上述問題，本發明的透明電極層板包括了具有在預定範圍中分別調整的厚度的透明電極層以及絕緣層，因此，其可能最小化在不同位置上反射率的差異。此後，將更詳細地描述根據本發明具體實施例的透明電極層板。
（透明電極層）
如同第1圖至第3圖中所示例，根據本發明具體實施例的透明電極層板包括第一透明電極層以及第二透明電極層。
第一透明電極層100可以彼此連接的第一圖型110以及彼此分開的第二圖型120來形成。該第一圖型110以及第二圖型120被配置在同一列或行方向，以提供在使用者碰觸的位置處的X及Y座標上的資訊。具體而言，當該使用者的手指或例如觸控筆的物體接觸於透明基板上時，所碰觸位置的電容被改變，且關於所改變電容的資訊經由該第一圖型110、第二圖型120、第二透明電極層200以及位置偵測線而被傳送至驅動電路（未示出）。此外，電容的差異被X以及Y輸入處理電路（未示出）轉換成電訊號，以測量所碰觸的位置，並且基於該電訊號來計算所碰觸位置的X以及Y座標。
就這一點而言，第一圖型110以及第二圖型120必須形成在相同的層（第一透明電極層）中，且各自的圖型必須彼此電連接，以偵測所碰觸的位置。然而，如上所述，該第一圖型110是彼此連接的，而該第二圖型120是以島狀形式彼此分開的，藉此需要額外的連接線以將該第二圖型120彼此電連接。
然而，連接線不應電連接至第一圖型110，因此，必須形成於與第一透明電極層100不同的層中。因此，第二透明電極層200是形成於與該第一透明電極層100不同的替代層中，以將該第二圖型120彼此電連接。也就是說，該第二透明電極層200是形成於與該第一透明電極層100不同的層中，使得該第二透明電極層200具有用於經由下面將描述的於絕緣層300中形成的接觸孔400來將該第一透明電極層100的該第二圖型120彼此電連接的橋電極的角色。
因此，在第2圖以及第3圖中，、以及的位置分別代表其中第一透明電極層100以預定圖型形成來偵測所碰觸區域的部分，以及、以及的位置分別代表其中配置第二透明電極層200以電連接以島狀形式形成的第二圖型120的部分。
在本文中，第二透明電極層200必須與第一透明電極層100的第一圖型110電隔離。因此，本發明的透明電極層板包括絕緣層300以及接觸孔400（第2圖中的），其將在下面描述。
在本發明中，第一透明電極層100可具有20至200 nm的厚度。如果該第一透明電極層100具有20 nm或更高至低於120 nm的厚度，則該第一透明電極層比上該第二透明電極層的厚度比（第一透明電極層的厚度/第二透明電極層的厚度）是0.15至0.375，較佳為0.17至0.3，且更佳為0.17至0.23，以及當該第一透明電極層100具有120 nm或更高至200 nm或更低的厚度時，該第二透明電極層比上該第一透明電極層的厚度比（第二透明電極層的厚度/第一透明電極層的厚度）是0.60至1.50，較佳為0.70至1.20，且更佳為0.8至1。
如果第一透明電極層100的厚度不在上述範圍內，在不同位置上的反射率差異可能會增加，因此導致圖型反射可見度的增加。具體而言，當其厚度低於20 nm時，觸控敏感度可藉由增加電阻而降低，而如果其厚度高於150 nm，透光度可能會惡化。
此外，較佳的是，第一以及第二透明電極層100以及200分別具有1.8至2.2的折射係數。當這些層具有在上述範圍內的折射係數時，可更加地改進反射率的降低。
本相關技術中已知的任何傳統導電材料可用於第一以及第二透明電極層100以及200，其無特別的限制。例如，用於形成透明電極的導電材料可包括氧化銦錫（ITO）、氧化銦鋅（IZO）、氧化鋅（ZnO）、氧化銦鋅錫（IZTO）、氧化鎘錫（CTO）、聚(3,4-乙烯二氧噻吩)（PEDOT）、奈米碳管（CNT）、金屬線等等，其被單獨或以其二或更多種任何組合而使用。較佳的是使用氧化銦錫（ITO）。金屬線中所使用的金屬不特別受限，但可包括，例如，銀（Ag）、金、鋁、銅、鐵、鎳、鈦、碲、鎘等等，其被單獨或以其二或更多種任何組合而使用。
第一以及第二透明電極層100以及200可藉由各種薄膜沉積技術來形成，例如物理氣相沉積（PVD）方法、化學氣相沉積（CVD）方法或諸如此類。例如，該第一以及該第二透明電極層100以及200可藉由反應濺鍍來形成，其為PVD方法的範例。
此外，第一以及第二透明電極層100以及200可藉由印刷製程來形成。為了印刷出透明電極，在印刷製程期間可使用各種印刷方法，例如凹版偏位印刷、反轉偏位印刷、網版印刷、凹版印刷等等。特別是，當藉由印刷製程來形成該第一以及第二透明電極層100以及200時，該透明電極可由可印刷膏狀材料製成。例如，透明電極可由奈米碳管（CNT）、導電聚合物以及銀奈米線墨水製成。
在本發明中，第一透明電極層100以及第二透明電極層200的壓層順序不特別受限。因此，在本發明的另一個具體實施例中，可改變第3圖中所示出的該第一透明電極層100以及該第二透明電極層200的壓層順序。例如，第二透明電極層先形成於透明基板上而非該第一透明電極層上，絕緣層形成於其上，以及第一透明電極層形成於該絕緣層上。
（絕緣層以及接觸孔）
絕緣層300是在第一透明電極層100以及第二透明電極層200之間形成，以隔離該第一透明電極層100與該第二透明電極層200，以致於避免其間的電連接。然而，如同第2圖以及第3圖中所示例，當該第二透明電極層200電連接鄰近的該第一透明電極層100的第二圖型120時，該第二透明電極層200應與該第一透明電極層100電連接，因此，需要該絕緣層300未於其上形成的部分。因此，該絕緣層300未於其上形成的部分被稱為接觸孔400（第2圖中的）。因此，該第二透明電極層200與該第一透明電極層100（其第二圖型120）在接觸孔400中電連接。
在本發明中，絕緣層300可具有1,000至2,000 nm的厚度。如果該絕緣層300的厚度不在上述範圍內，在不同位置上的反射率差異可能會增加，因此增加了該圖型反射可見度。當其厚度低於1,000 nm時，觸控敏感度可藉由發生在透明電極之間減少的電容而降低，而如果其厚度大於2,000 nm，可能不會進一步獲得源自厚度增加的效果。
較佳的是，絕緣層300具有1.4至1.6的折射係數。當該絕緣層300具有在上述範圍內的折射係數時，可更加改進反射率的降低。
本相關技術中已知的任何傳統絕緣材料可用於絕緣層300，其無特別的限制。例如，該絕緣層300可使用金屬氧化物以想要的圖型來形成，例如二氧化矽、透明感光樹脂組成物，包括壓力克樹脂，或熱固性樹脂組成物。
例如，可使用沉積或印刷方法將絕緣層300形成於第一透明電極層100上。
在本發明中，接觸孔400可以以將絕緣層完全地形成於第一透明電極層100上，然後將多個孔洞形成於其中（孔洞方法）的這樣方法來形成，或者以除了該第一透明電極層100與第二透明電極層200電連接的部分之外，將絕緣層形成於該第一透明電極層100上的方式（島方法）的這樣方法來形成。
（透明基板）
透明基板是形成觸控螢幕面板的最外表面並與使用者的手指或例如觸控筆的物體直接接觸的一部分。本發明的透明電極層板是在相對於與該使用者的手指或該物體直接接觸的表面的一側上形成。
如果其具有高耐久性以足以保護觸控螢幕面板避免外力，並允許使用者非常好地觀看顯示器的話，透明基板可由任何材料製備，且可採用本相關技術中所使用的用於形成透明基板的任何材料，對其無特別的限制。例如，可使用玻璃、聚醚碸（PES）、聚丙烯酸酯（PAR）、聚醚醯亞胺（PEI）、聚萘二甲酸乙二酯（PEN）、聚對苯二甲酸乙二酯（PET）、聚苯硫醚（PPS）、聚烯丙醇酯、聚醯亞胺、聚碳酸酯（PC）、三醋酸纖維素（TAC）、醋酸丙酸纖維素（CAP）或諸如此類。較佳的是使用玻璃，且更佳的是使用強化玻璃。
根據本發明的透明基板可具有適當的厚度，例如，範圍從0.1至0.7 mm。當該透明基板具有上述範圍內的厚度時，可更加改進反射率的降低。
較佳的是，透明基板具有1.4至1.6的折射係數。當該透明基板具有上述範圍內的折射係數時，可更加改進反射率的降低。
（透明介電層）
根據本發明的透明電極層板包括在透明基板以及第一透明電極層之間形成的透明介電層，以致於改進觸控螢幕面板的光學均勻性。也就是說，該透明介電層作用用以減少由於在不同位置上的結構差異造成的光學特性差異，不同位置上的結構差異可能是由圖型透明電極結構造成。
透明介電層可由氧化鈮、二氧化矽、氧化鈰、氧化銦或諸如此類所形成，其可被單獨或以其二或更多種任何組合而使用。該透明介電層可藉由使用氣相沉積方法、濺鍍、離子電鍍製程或諸如此類而以薄膜形式來輕易地沉積。
在本發明中，如果需要的話，多個透明介電層是於透明基板上形成。在此情況中，該多個透明介電層的每一層可由彼此不同的材料所形成，並具有不同的折射係數以及厚度。
較佳的是，透明介電層具有1.4至2.5的折射係數，用於降低透明電極層板的反射率。當該多個透明介電層於透明基板上形成時，較佳的是其每一層具有1.8至2.2的折射係數。關於反射率降低，較佳的是，該透明介電層具有50至80 nm的厚度。當該透明基板包括形成於其上的該多個透明介電層時，其每一層可具有其總厚度不在上述範圍外的範圍內的厚度。
（鈍化層）
為了避免第一以及第二透明電極層100以及200被曝露至外部環境（水、空氣等等）而污染，如果需要的話，關於透明電極層板，本發明的透明電極層板在相對於該透明電極所附著至的表面的一側上可包括鈍化層。
鈍化層可藉由採用可用於絕緣層300的任何材料來製備。
根據本發明的鈍化層可具有適當的厚度，例如，2,000 nm或更低。當該鈍化層具有上述範圍內的厚度時，可更加改進反射率的降低。
較佳的是，鈍化層具有1.4至1.6的折射係數。當該鈍化層具有上述範圍內的折射係數時，可更加改進反射率的降低。
（黏結層）
為了附著至顯示器面板部分，本發明的透明電極層板可包括黏結層。該黏結層是藉由施加透明可固化樹脂組成物並固化該組成物（OCR），或將事先形成為薄膜形狀的黏結劑按壓至該透明電極層板（OCA）上來製備。
黏結層也可影響透明電極層板的反射率。因此，為了降低該透明電極層板的反射率，較佳的是，該黏結層具有適當的厚度以及折射係數。例如，該黏結層可具有0至250 μm的厚度以及1至1.6的折射係數。當該黏結層具有0 μm的厚度時，該透明電極層板不具有黏結層，且在該透明電極層板以及該觸控螢幕面板之間只形成了空氣間隙。例如，該黏結層不形成在該黏結層所形成的邊緣部分之外、將實際地顯示影像的該透明電極層板的部分上。
如上所述，由於透明電極層以及絕緣層具有預定範圍中的厚度，其可能最小化不同位置上的反射率差異，並顯著地改進該透明電極層板的透明度。因此，藉由將上述層板黏結至顯示器面板部分，本發明的透明電極層板可用於製造具有極佳透明度的觸控螢幕面板。
此後，將參照範例來描述較佳的具體實施例，以更具體地了解本發明。然而，對於本領域技術人員將顯而易見的是，這種具體實施例是提供用於示例的目的，且各種修飾以及改變是可能的，而不悖離本發明的範圍以及精神，且這種修飾以及改變充分地包括在如同所附申請專利範圍定義的本發明內。
範例
範例1至9以及比較性範例1至13
分別在範例1至9以及比較性範例1至13中製造出具有下面表1中所示出厚度的透明電極層板。然後，對於每個層板，在其上分別測量不同位置上的平均反射率，且該平均反射率的最大值以及最小值之間的差異示出於表1中。在本文中，平均反射率意指在400 nm至700 nm的範圍中的反射率的平均。
分別使用作為透明基板的玻璃（折射係數：1.51，消光係數：0）、作為透明介電層的具有Nb2O5薄膜（折射係數：2.32，消光係數：0）以及SiO2薄膜（折射係數：1.46，消光係數：0）的雙層、作為第一透明電極層的ITO薄膜（折射係數：1.8，消光係數：0.014）、作為第二透明電極層的ITO薄膜（折射係數：1.8，消光係數：0.014）以及作為絕緣層與鈍化層的壓克力絕緣材料（折射係數：1.51，消光係數：0），並參照具有550 nm波長的光來決定折射係數以及消光係數。
在表1的黏結層項目中說明的空氣意指該黏結層不在將要顯示影像的部分上形成，且該黏結層僅在表框（邊緣）部分上形成。
範例10至22以及比較性範例14至20
分別製造出具有下面表2中所示出的厚度的透明電極層板。然後，對於每個層板，在其上分別測量不同位置上的平均反射率，且該平均反射率的最大值以及最小值之間的差異示出於表2中。在本文中，平均反射率意指在400 nm至700 nm的範圍中的反射率的平均。
分別使用作為透明基板的玻璃（折射係數：1.51，消光係數：0）、作為透明介電層的具有Nb2O5薄膜（折射係數：2.32，消光係數：0）以及SiO2薄膜（折射係數：1.46，消光係數：0）的雙層、作為第一透明電極層的ITO薄膜（折射係數：1.975，消光係數：0.014）、作為第二透明電極層的ITO薄膜（折射係數：1.8，消光係數：0.014）以及作為絕緣層與鈍化層的壓克力絕緣材料（折射係數：1.51，消光係數：0），並參照具有550 nm波長的光來決定折射係數以及消光係數。
在表2的黏結層項目中說明的空氣意指該黏結層不在將要顯示影像的部分上形成，且該黏結層僅在表框（邊緣）部分上形成。
參見上述表1以及2，由於平均反射率的最大值以及最小值之間的差異是2％或更低，在不同位置上的反射率偏差小，藉此展現出低可見度。
相反的是，在比較性範例之中，有平均反射率的最大值以及最小值之間的差異超過2％的例子。因此，發現到的是，相較於範例，在不同位置上的反射率偏差大且可見度非常高。
此外，在所示出的比較性範例之中，比較性範例7以及20具有在本發明中所描述的範圍之外的第一透明電極層與第二透明電極層之間的厚度比，且平均反射率的差異是2％或更低，但這些比較性範例7以及20的該第一或該第二透明電極層分別具有10 nm或更低的厚度。當該透明電極層的厚度是10 nm或更低時，導電性減低，且因此未達到作為電極的基本功能。
就這一點而言，在120℃下，以不同的厚度將ITO薄膜沉積在長度50 mm、寬度50 mm以及0.7 mm厚度（50×50×0.7 mm）的玻璃基板上之後，在其一個中心點測量電阻，且測量結果示出於下面表3中。
參見表3，可看到的是，透明電極層不具有極佳的導電性，直到該電極具有至少10 nm的厚度。
100．．．第一透明電極層
110．．．第一圖型
120．．．第二圖型
200．．．第二透明電極層
300．．．絕緣層
400．．．接觸孔
Claims (1)
1.一種透明電極層板，包含：
一透明基板，具有形成於其上的一透明介電層；
一第一透明電極層，以彼此連接的第一圖型以及彼此分開的第二圖型形成於該透明介電層上；
一絕緣層，沉積在該第一透明電極層上；以及
一第二透明電極層，其為被配置用以經由於該絕緣層中形成的接觸孔來彼此電連接該第二圖型的一橋電極；
其中該第一透明電極層具有20至200 nm的一厚度，
如果該第一透明電極層具有20 nm或更高至低於120 nm的一厚度，則該第一透明電極層比上該第二透明電極層的一厚度比（第一透明電極層的厚度/第二透明電極層的厚度）是0.15至0.375，以及
如果該第一透明電極層具有120 nm或更高至200 nm或更低的一厚度，則該第二透明電極層比上該第一透明電極層的一厚度比（第二透明電極層的厚度/第一透明電極層的厚度）是0.60至1.50。
2.如申請專利範圍第1項所述的透明電極層板，其中該第一透明電極層以及該第二透明電極層分別具有1.8至2.2的一折射係數。
3.如申請專利範圍第1項所述的透明電極層板，其中該絕緣層具有1.4至1.6的一折射係數。
4.如申請專利範圍第1項所述的透明電極層板，其中該透明基板具有0.1至0.7 mm的一厚度。
5.如申請專利範圍第1項所述的透明電極層板，其中該透明基板具有1.4至1.6的一折射係數。
6.如申請專利範圍第1項所述的透明電極層板，其中多個透明介電層於該透明基板上形成。
7.如申請專利範圍第1項所述的透明電極層板，其中該透明介電層具有1.4至2.5的一折射係數。
8.如申請專利範圍第6項所述的透明電極層板，其中該多個透明介電層的每一層具有1.4至2.5的一折射係數。
9.如申請專利範圍第1項所述的透明電極層板，其中該透明介電層具有50至80 nm的一總厚度。
10.如申請專利範圍第1項所述的透明電極層板，其中該絕緣層具有1,000至2,000 nm的一厚度。
11.如申請專利範圍第1項所述的透明電極層板，其中該第二透明電極層於該透明介電層上形成，該絕緣層於該第二透明電極層上形成，以及該第一透明電極層於該絕緣層上形成。
12.如申請專利範圍第1項所述的透明電極層板，關於該透明電極層板，更包含在相對於該透明電極或該絕緣層形成於其上的該透明基板的一表面的一側上的一鈍化層。
13.如申請專利範圍第12項所述的透明電極層板，其中該鈍化層具有2,000 nm或更低的一厚度。
14.如申請專利範圍第12項所述的透明電極層板，其中該鈍化層具有1.4至1.6的一折射係數。
15.一種觸控螢幕面板，包含如申請專利範圍第1項至第14項中任一項所述的透明電極層板。
一透明基板，具有形成於其上的一透明介電層；
一第一透明電極層，以彼此連接的第一圖型以及彼此分開的第二圖型形成於該透明介電層上；
一絕緣層，沉積在該第一透明電極層上；以及
一第二透明電極層，其為被配置用以經由於該絕緣層中形成的接觸孔來彼此電連接該第二圖型的一橋電極；
其中該第一透明電極層具有20至200 nm的一厚度，
如果該第一透明電極層具有20 nm或更高至低於120 nm的一厚度，則該第一透明電極層比上該第二透明電極層的一厚度比（第一透明電極層的厚度/第二透明電極層的厚度）是0.15至0.375，以及
如果該第一透明電極層具有120 nm或更高至200 nm或更低的一厚度，則該第二透明電極層比上該第一透明電極層的一厚度比（第二透明電極層的厚度/第一透明電極層的厚度）是0.60至1.50。
2.如申請專利範圍第1項所述的透明電極層板，其中該第一透明電極層以及該第二透明電極層分別具有1.8至2.2的一折射係數。
3.如申請專利範圍第1項所述的透明電極層板，其中該絕緣層具有1.4至1.6的一折射係數。
4.如申請專利範圍第1項所述的透明電極層板，其中該透明基板具有0.1至0.7 mm的一厚度。
5.如申請專利範圍第1項所述的透明電極層板，其中該透明基板具有1.4至1.6的一折射係數。
6.如申請專利範圍第1項所述的透明電極層板，其中多個透明介電層於該透明基板上形成。
7.如申請專利範圍第1項所述的透明電極層板，其中該透明介電層具有1.4至2.5的一折射係數。
8.如申請專利範圍第6項所述的透明電極層板，其中該多個透明介電層的每一層具有1.4至2.5的一折射係數。
9.如申請專利範圍第1項所述的透明電極層板，其中該透明介電層具有50至80 nm的一總厚度。
10.如申請專利範圍第1項所述的透明電極層板，其中該絕緣層具有1,000至2,000 nm的一厚度。
11.如申請專利範圍第1項所述的透明電極層板，其中該第二透明電極層於該透明介電層上形成，該絕緣層於該第二透明電極層上形成，以及該第一透明電極層於該絕緣層上形成。
12.如申請專利範圍第1項所述的透明電極層板，關於該透明電極層板，更包含在相對於該透明電極或該絕緣層形成於其上的該透明基板的一表面的一側上的一鈍化層。
13.如申請專利範圍第12項所述的透明電極層板，其中該鈍化層具有2,000 nm或更低的一厚度。
14.如申請專利範圍第12項所述的透明電極層板，其中該鈍化層具有1.4至1.6的一折射係數。
15.一種觸控螢幕面板，包含如申請專利範圍第1項至第14項中任一項所述的透明電極層板。
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