TW201436812A - 包含鋅胺基酸鹵化物之口腔保健組成物 - Google Patents

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Abstract

本文揭示包含一種鋅胺基酸鹵化物之口腔保健組成物，也提供製造及使用該組成物的方法。

Description

包含鋅胺基酸鹵化物之口腔保健組成物
本文揭示包含一種鋅胺基酸鹵化物之口腔保健組成物，也提供製造及使用該組成物的方法。
牙齒侵蝕是有關歸因於非細菌性來源之酸蝕，所導致牙齒結構去礦化及損傷。首先在琺瑯質發生侵蝕，且如果未發現，會繼續侵蝕下面的牙本質。牙齒侵蝕會因酸性食物與飲料、暴露在游泳池的氯化水，及胃酸逆流而造成或惡化。牙齒琺瑯質是一個帶負電的表面，自然的會吸引帶正電的離子如氫或鈣離子，而排斥帶負電的離子如氟離子。
牙本質敏感是牙本質表面，對物理性刺激所反應出急性、局部的牙齒疼痛，如當暴露的牙本質受到溫度(熱或冷)滲透、觸碰合併溫差、滲透與觸碰的刺激。牙本質暴露，一般是因牙齦萎縮，或琺瑯質流失所引起，通常會導致敏感。牙本質小管開口暴露在牙齒表面，與牙本質敏感有高度的相關性。牙本質小管是連接牙髓及牙骨質，當牙根的牙骨質表面受到侵蝕，牙本質小管會暴露於外在環境。暴露的牙本質小管提供了液體流 動傳遞至牙髓神經的途徑，傳遞作用會因溫度、壓力及離子梯度的改變而誘發。
而先前技術提供使用各種口腔組成物，以治療牙本質敏感、齲齒、及琺瑯質侵蝕與去礦化。但仍然需求其他組成物及方法，以提供在這些治療更佳的表現。
目前已發現鋅離子可與胺基酸形成可溶性錯合物。錯合物包含鋅及胺基酸，及任意地一個陰離子及/或氧，形成一可溶性的陽離子分子，而後與鹵離子或其他陰離子形成鹽類。當置入調配物中，這個錯合物可提供有效濃度的鋅離子至琺瑯質，因而保護對抗侵蝕，減少細菌聚集與生物膜形成，及促進牙齒光亮。再者，在使用上，此調配物提供一沉澱物，其可封閉牙本質小管，因而減低牙齒的敏感性。當與不溶性鋅鹽調配物相較，其提供了更有效率的傳輸鋅離子，包含鋅-胺基酸錯合物的調配物，不會呈現使用可溶性鋅鹽之習知含鋅口腔保健組成物，有關味道與口感不佳、氟離子傳輸不佳，及發泡與清潔不佳的問題。
在一個特別的實施例，鋅-胺基酸錯合物是鋅-離胺酸-鹽酸鹽錯合物，例如一個以ZLC表示之新穎錯合物，其可由氧化鋅及離胺酸鹽酸鹽混合物中形成。ZLC具有[Zn(C6H14N2O2)2Cl]+ Cl-之化學結構，及可於陽離子([Zn(C6H14N2O2)2Cl]+)及氯陰離子之溶液中存在，或可為固體鹽類，如結晶物，任意地呈單或二水合物形式。
因此本發明提供口腔保健組成物，如漱口水、口凝膠或潔牙劑組成物，其包含鋅-胺基酸錯合物，如鋅-離胺酸-氯錯合物，如ZLC。組成物可任意地更包含氟來源劑及或其他磷酸鹽來源劑。組成物可調配成適當的口腔保健調配物，如習知的潔牙劑、口凝膠或漱口水基質，如包含一或多種研磨劑、界面活性劑、發泡劑、維他命、聚合物、酵素、濕潤劑、稠化劑、抗菌劑、防腐劑、芳香劑及/或著色劑。
本發明更提供一種使用本發明組成物以減少或抑制琺瑯質酸蝕、清潔牙齒、減少細菌產生的生物膜與牙菌斑、降低齒齦炎、抑制牙齒蛀蝕及蛀洞形成、及降低牙本質敏感的方法，包括將本發明之組成物施用至牙齒。
本發明更提供一種製造本發明組成物的方法，包括將鋅離子來源劑(如ZnO)、胺基酸(如鹼性胺基酸，如精胺酸或離胺酸)、及任意地鹵離子來源劑混合，例如在水溶液中混合氧化鋅及離胺酸鹽酸鹽，如在Zn：胺基酸之莫耳比1：1至1：3，如1：2，及在Zn：鹵離子之莫耳比1：1至1：3，如1：2；任意地，分離出離子錯合物，因此形成一固體；與口腔保健基質混合，如潔牙劑、口凝膠或漱口水基質。
本發明其他的應用領域，由本文的詳細說明變的顯而易知。可了解的是，本發明的詳細說明及特定實施例，其係顯示本發明較佳的實施例，其僅是用來例示而不是限制本發明之範圍。
以下說明之較佳實施例，本質上僅是例示，而不是限制本發明之應用或使用。
在第一個實施例，本發明提供一種口腔保健組成物(組成物1)，包含與胺基酸錯合之鋅；例如：
1.1 組成物1，其中胺基酸選自離胺酸、甘胺酸及精胺酸，呈游離或口腔可接受酸加成鹽類形式，如鹽酸鹽形式。
1.2 組成物1或1.1，其中胺基酸是鹼性胺基酸，如精胺酸或離胺酸，呈游離或口腔可接受鹽類形式。
1.3 任一前述組成物，其更包含一個鹵化物，其以與鋅及胺基酸離子性結合。
1.4 任一前述錯合物，其中Zn：胺基酸之莫耳比是自3：1至1：5，如約1：2，及Zn：鹵離子之莫耳比是3：1至1：3，如約1：2。
1.5 任一前述組成物，其中在施用組成物後，鋅-胺基酸錯合物是，全部或部分，在原位生成。
1.6 任一前述組成物，其中在組成物調製後，鋅-胺基酸錯合物是，全部或部分，在原位生成。
1.7 任一前述組成物，其中胺基酸是離胺酸。
1.8 任一前述組成物，其中鋅存在量是以組成物重量計0.05至10%，任意地，以組成物重量計至少0.1，至少0.2，至少0.3，至少0.4，至少0.5，至少1，至少2，至少3，或至少4至高達10%，如以重量計約1-3%，如約2-2.7%。
1.9 任一前述組成物，其中胺基酸存在量是以組成物重量計0.05至30%，任意地，以組成物重量計至少0.1，至少0.2，至少0.3，至少0.4，至少0.5，至少1，至少2，至少3，至少4， 至少5，至少10，至少15，或以重量計至少20至高達30%，如約1-10%。
1.10 任一前述組成物，其中Zn對胺基酸之莫耳比是2：1至1：4，任意地，1：1至1：4，1：2至1：4，1：3至1：4，2：1至1：3，2：1至1：2或2：1至1：1，如約1：2或1：3。
1.11 任一前述組成物，其包含一個鹵化物，其與鋅及胺基酸離子性結合，其中鹵化物是選自包含氟、氯，及其混合物之族群。
1.12 任一前述組成物，其中鋅胺基酸錯合物是鋅離胺酸氯錯合物(如(ZnLys2Cl)+Cl-或(ZnLys3)2 +Cl2)或鋅精胺酸氯錯合物。
1.13 任一前述組成物，其中鋅胺基酸錯合物是鋅離胺酸氯錯合物，如ZLC，如鋅離胺酸氯錯合物，其具有[Zn(C6H14N2O2)2Cl]+ Cl-之化學結構，其於陽離子([Zn(C6H14N2O2)2Cl]+)及氯陰離子之溶液中存在，或呈固體鹽類形式，如結晶物形式，任意地呈單或二水合物形式存在。
1.14 任一前述組成物，呈牙膏、凝膠、漱口水、粉劑、乳膏、條帶、或膠之形式。
1.15 任一前述組成物，於口腔可接受基質中，如漱口水、凝膠或潔牙劑基質。
1.16 任一前述組成物，呈潔牙劑形式，如其中存在有效量鋅-胺基酸錯合物，如鋅含量0.5-4重量%，如約鋅含量1-3重量%，在潔牙劑基質中。
1.17 任一前述組成物，呈潔牙劑形式，其中潔牙劑基 質包含一種研磨劑，如有效量之矽土研磨劑，如10-30%，如約20%。
1.18 任一前述組成物，呈漱口水形式，如其中存在有效量鋅-胺基酸錯合物，如鋅含量0.5-4重量%，如約鋅含量1-3重量%。
1.19 任一前述組成物，其更包含有效量之氟離子來源劑，如提供50至3000ppm氟離子。
1.20 任一前述組成物，其更包含有效量之氟離子，如其中氟離子是選自鹽類，如氟化亞錫、氟化鈉、氟化鉀、單氟磷酸鈉、氟矽酸鈉、氟矽酸銨、氟化胺(如N'-十八烷基三甲基二胺-N,N,N'-三(2-乙醇)-二氫氟化物)，氟化銨、氟化鈦、六氟硫酸鹽，及其組成物。
1.21 任一前述組成物，其包含有效量之一或多種鹼金屬磷酸鹽，如鈉、鉀或鈣鹽，如選自鹼金屬磷酸二鹽及鹼金屬焦磷酸鹽，如，鹼金屬磷酸鹽，其選自磷酸氫二鈉、磷酸氫二鉀、磷酸二鈣二水合物、焦磷酸鈣、焦磷酸四鈉、焦磷酸四鉀、三多磷酸鈉，及任二或多種混合物，如含量1-20%，如2-8%，如約5%，以組成物重量計。
1.22 任一前述組成物，其包含緩衝劑，如磷酸鈉緩衝劑(如磷酸二氫鈉及磷酸二鈉)。
1.23 任一前述組成物，其包含濕潤劑，如選自甘油、山梨醇、丙二醇、聚乙二醇、木醣醇，及其混合物，如包含至少20%，如20-40%，如25-35%甘油。
1.24 任一前述組成物，其包含一或多種界面活性劑， 如選自陰離子、陽離子、兩性離子與非離子性界面活性劑，及其混合物，如包含陰離子界面活性劑，如選自月桂硫酸鈉、月桂硫酸醚鈉，及其混合物，如含量以重量計自約0.3%至約4.5%，如1-2%月桂硫酸鈉(SLS)；及/或兩性離子界面活性劑，例如甜菜鹼界面活性劑，例如丙基醯胺甜菜鹼，如含量以重量計自約0.1%至約4.5%，如0.5-2%丙基醯胺甜菜鹼。
1.25 任一前述組成物，其更包含黏度調整量之一或多種多醣膠，例如黃原膠或鹿角菜膠，矽土稠化劑，及其組合。
1.26 任一前述組成物，其包含膠條或段。
1.27 任一前述組成物，其更包含香味劑，香精及/或著色劑。
1.28 任一前述組成物，其包含有效量之一或多種抗菌劑，例如包含一種選自下列之抗菌劑：鹵化二苯醚類(如三氯沙)、植物萃取物及精油(如迷迭香萃取物、茶萃取物、木蘭花萃取物、瑞香草酚、薄荷醇、桉油醇、香草醇、香芹酚、檸檬醛、扁柏油酚、兒茶酚、水楊酸甲酯、沒食子兒茶素沒食子酸鹽、沒食子兒茶素、沒食子酸、刷牙素萃取物、沙棘萃取物)、雙胍類殺菌劑(如克羅西啶、阿來西啶或奧替尼啶)、四級銨化合物(如氯化十六烷基吡啶(CPC)、氯化二甲基芐基銨、氯化四癸基吡啶(TPC)、氯化N-四癸基-4-乙基吡啶(TDEPC)、酚類殺菌劑、海克替啶、奧替尼啶、血根鹼、優碘、地莫匹醇、5正-辛醯基-3'-三氟甲基柳醯胺苯、金屬離子(如鋅鹽，例如檸檬酸鋅、亞錫鹽類、銅鹽類、鐵鹽類)、血根鹼、蜂膠及氧化劑(例如，過氧化氫，緩衝的過氧硼酸鈉或過氧碳酸鈉)、苯二甲酸及其 鹽類、單過酞酸酸(monoperthalic acid)及其鹽類及酯類、硬脂酸抗壞血酸酯、油醯肌胺酸、烷基硫酸鹽、二正辛基磺基琥珀酸酯、柳醯胺苯、溴化度米芬、地莫匹醇、辛派醇及其他六氫吡啶衍生物、菸鹼酸製劑、亞氯酸鹽；及任一前述混合物；如包含三氯沙或氯化十六烷基吡啶。
1.29 任一前述組成物，其包含抗菌有效量之三氯沙，如0.1-0.5%，如約0.3%。
1.30 任一前述組成物，其更包含美白劑，如選自由下列組成之群組：過氧化物、金屬亞氯酸鹽、過硼酸鹽、過碳酸鹽、過氧酸、次氯酸鹽，及其組合。
1.31 任一前述組成物，其更包含過氧化氫或過氧化氫來源劑，如過氧化尿素或一種過氧化鹽類或錯合物(如過氧磷酸鹽、過氧碳酸鹽、過硼酸鹽、過氧矽酸鹽、或過氧硫酸鹽；例如過氧磷酸鈣、過硼酸鈉、過氧碳酸鈉、過氧磷酸鈉，及過氧硫酸鉀)。
1.32 任一前述組成物，其更包含一種可干擾或防止細菌附著之藥劑，如，對羥基苯甲酸甲酯或三氯沙。
1.33 任一前述組成物，其更包含一種鈣或磷酸鹽來源劑，其選自(i)鈣-玻璃錯合物，如磷矽酸鈉鈣，及(ii)鈣-蛋白質錯合物，如酪蛋白磷酸胜肽-無晶形磷酸鈣。
1.34 任一前述組成物，其更包含一種可溶性鈣鹽，如選自硫酸鈣、氯化鈣、硝酸鈣、醋酸鈣、乳酸鈣，及其組合。
1.35 任一前述組成物，其更包含一種生理或口腔可接受鉀鹽，如硝酸鉀或氯化鉀，其含量可有效減輕牙本質敏感。
1.36 任一前述組成物，其更包含一種陰離子聚合物，如一種合成陰離子聚合聚羧酸鹽類，如其中陰離子聚合物是選自順丁烯二酸酐或酸與其他可聚合乙烯基不飽和單體之1：4至4：1共聚物，如其中陰離子聚合物是甲基乙烯基醚/順丁烯二酸酐(PVM/MA)共聚物，其平均分子量(M.W.)約30,000至約1,000,000，如約300,000至約800,000，如其中陰離子聚合物是約1-5%，如約2%，以組成物重量計。
1.37 任一前述組成物，其更包含一種呼吸清新劑、芳香劑或香味劑。
1.38 任一前述組成物，其中組成物pH值是近乎中性，如從pH6至pH8，如約pH7。
1.39 任一前述組成物，呈漱口水形式，其中胺基酸是離胺酸，及鋅與離胺酸形成具化學結構[Zn(C6H14N2O2)2Cl]+ Cl-之鋅-離胺酸-氯錯合物，其含量可提供以重量計0.5-2%，如約1%鋅，組成物更包含濕潤劑，如山梨醇、丙二醇及其混合物，如以含量10-25%，如約15-20%，非離子界面活性劑，如poloxamer，如以含量0.1-1%，及甜味劑、香味劑，及水，如一種包含下列之漱口水：
1.40 任一前述組成物，以口凝膠形式，其中胺基酸是離胺酸，及鋅與離胺酸形成具化學結構[Zn(C6H14N2O2)2Cl]+ Cl-之鋅-離胺酸-氯錯合物，其含量可提供以重量計0.1-2%，如約0.5%鋅，組成物更包含濕潤劑，如山梨醇、丙二醇及其混合物，如以含量45-65%，如約50-60%，稠化劑，如纖維素衍生物，如選自羧甲基纖維素(CMC)、三甲基纖維素(TMC)及其混合物，如以含量0.1-2%，及甜味劑及/或香味劑，及水，如一種包含下列之口凝膠：
1.1 任一前述組成物，用來減低或抑制琺瑯質酸蝕、清潔牙齒、減少細菌產生的生物膜及牙菌斑、降低齒齦炎、抑制牙齒蛀蝕及蛀洞形成，及降低牙本質敏感。
本發明更提供一種減低或抑制琺瑯質酸蝕、清潔牙齒、減少細菌產生生物膜及牙菌斑、降低齒齦炎、抑制牙齒蛀蝕及蛀洞形成、及降低牙本質敏感的方法，包括將本發明有效量之組成物，如組成物1及以下其等施用至牙齒，且而後任意地，以足以可驅動氧化鋅從組成物中沉澱出的水或水溶液清洗。
本發明更提供一種製造口腔保健組成物的方法，其包含鋅胺基酸錯合物，如任一組成物1及以下其等，包括將鋅離子來源劑與一種胺基酸(其呈游離或鹽類形式)在水溶液介質中組合(如組合氧化鋅與離胺酸鹽酸鹽)，任意地分離以固體鹽類形式形成的錯合物，將錯合物與口腔保健基質組合，如潔牙劑或漱口水基質。
例如，在不同的實施例，本發明提供方法來(i)減低牙齒的敏感性，(ii)減低牙菌斑的累積，(iii)減低或抑制牙齒的去礦化及促進牙齒的再礦化，(iv)抑制口腔內微生物生物膜的形成，(v)減輕或抑制齒齦炎，(vi)促進口腔潰瘍或傷口的修復，(vii)減低產酸細菌的含量，(viii)增加非致齟齒及/或非致牙菌斑細菌的含量，(ix)減低或抑制牙齟齒的形成，(x)減低、修復或抑制琺瑯質前-齟齒的損害，如以定量光激發螢光法(QLF)或電阻抗齲齒檢測法(ECM)檢測，(xi)治療、舒緩或減輕口乾症，(xii)清潔口腔及牙齒，(xiii)減低侵蝕，(xiv)美白牙齒，(xv)減少牙結石聚集及/或(xvi)促進全身健康，包括心血管健康，如減低經口腔組織造成全身性感染的可能，包括施用如前揭任一組成物1及以下其等至需求者的口腔，如每天一或多次。本發明更 提供組成物1及以下其等使用在這些方法任一種中。
本發明更提供使用鋅及胺基酸，以製造一種包含鋅胺基酸錯合物之口腔組成物。
本發明更提供使用鋅胺基酸錯合物，例如鋅胺基酸鹵化物，例如一種鋅-離胺酸-氯錯合物，以減低或抑制琺瑯質酸蝕、清潔牙齒、減少細菌產生的生物膜及牙菌斑、降低齒齦炎、抑制牙齒蛀蝕及蛀洞形成，及/或降低牙本質敏感。
不意欲為任何理論所束縛，一般相信鋅胺基酸鹵化物的形成，是經由生成鹵化鋅，而後胺基酸殘基圍繞著中心鋅離子配位。以在水中氧化鋅與離胺酸鹽酸鹽反應為例，鋅與離胺酸及/或離胺酸鹽酸鹽反應形成鋅-離胺酸-錯合物(ZnLys3Cl2)澄清溶液，其中Zn++是位在在赤道面被兩個氧及兩個氮原子配位之八面體中央，其等分別來自二個離胺酸之羧酸及胺基。在金屬幾何體的頂點，鋅離子亦可經由其氮及羧基氧配位至第三個離胺酸。
其他實施例，鋅陽離子被係與二個胺基酸殘基及二個氯殘基錯合。例如，其中胺基酸是離胺酸，錯合物具有式[Zn(C6H14N2O2)2C1]+Cl-。在這個錯合物，鋅陽離子在赤道面被二個離胺酸配子(二個N原子來自NH2基及氧原子來自羧基)配位。其顯示頂點被Cl-原子佔據之扭曲的四面錐體幾何形。此新穎結構產生正價陽離子部分，在此Cl-陰離子結合形成一個離子性鹽類。
其他鋅與胺基酸錯合物是可能的，且精確的形式部分是視前驅化合物的莫耳比例而定，如，假如鹵化物存在量有限，可 能生成不含鹵化物之錯合物，如ZnOLys2，其具錐體幾何結構，赤道面同前述化合物(Zn結合來自不同離胺酸之二個氧及二個氮原子)，其中錐體頂端被O原子佔據。
錯合物的混合物及/或其他錯合物結構，如基於鋅離子結構涉及多個鋅離子，是可能且為本發明範圍所預期的。當錯合物是固體形式，它們可形成結晶物，如以水合物形式。
不論錯合物或錯合物們精確結構，然而，在約中性pH下，鋅與胺基酸交互作用，轉化不溶性氧化鋅或鋅鹽成為高度可溶性錯合物。但是，隨著在水中持續稀釋，錯合物會解離，且鋅離子轉化成為不溶性氧化鋅。動力學是不可預期的-典型地離子組成物在更高度稀釋下變得更可溶，不少於-且當施用後，此促進鋅沉澱物沉積在牙齒上，在口水存在下並以之濕潤。此沉澱作用封閉牙本質小管，因此降低敏感性，並提供鋅至琺瑯質，其可減低酸蝕、生物膜及牙菌斑的形成。
可了解的是，在前述的組合中可使用其他胺基酸來取代離胺酸。亦可被了解的是，鋅、胺基酸及任意地鹵化物可先以前驅物質形式或離子錯合物形式，其間可能有某程度的平衡，所以真正以錯合物形式及前驅物形式存在的比例，可視調配物確切條件、物質濃度、pH值、水存在與否、其他帶電分子存在與否等因素而異。
活性成分可以任何口腔保健調配物形式傳送，例如，牙膏、凝膠、漱口水、粉劑、乳膏、條帶、膠，或任何此技藝所知之形式。
如活性成分以漱口水形式傳送，期望利益者以儲備溶液漱 口，且儲備溶液被口水自然的稀釋將引發鋅的沉澱。替代地，使用者可以適當量的稀釋液與儲備溶液混合，而後以混合液清洗。
在其他實施例，製備一混合液而後立即移入一個固定容器，如那些用於留置美白凝膠者，而後使用者可戴起這個容器一段有效時間，將可治療與混合液接觸的牙齒，使用於固定容器時，混合液可為低黏度液體或凝膠形式。
在其他實施例，儲備溶液，或儲備溶液與水混合液，以凝膠調配物施用至牙齒，如凝膠可在牙齒停留一段長的時間，以有效治療。
在其他實施例，以牙膏提供活性成分，當刷牙時，活性成分被唾液及水稀釋，導致沉澱並形生沉積及封閉粒子。
自調配物中沉澱的速率可藉由調整儲備溶液中錯合物的濃度、及改變儲備溶液對水的比例來調節。愈稀釋的調配物愈快生成沉澱，因此當需要快速治療的時候為較佳。
本發明口腔保健組成物有許多利益。藉由提供鋅離子及可釋出鋅離子至口腔之含鋅化合物，本發明口腔保健組成物提供抗菌、抗牙菌斑、抗齒齦炎、抗惡臭、抗齲齒，及抗結石功效。封閉粒子及表面沉積的是含鋅化合物(尤其是ZnO)，及可釋出鋅離子至口腔內之其他鋅衍生物，並提供如上述認可的各種功效。其他利益包括，但不是限於抗附著、抗牙周炎及抗骨質流失，及促進傷口癒合。
第二個利益是鋅離子的抗侵蝕性質，其經由氧化及水解在牙齒表面形成抗侵蝕的沉積物。表面沉積物，以及同封閉粒 子，可與酸反應並中和，因而保護牙齒表面不受酸的侵蝕作用。在這點上，表面越沉積/封閉導致治療更有效果，同時鋅-精胺酸及鋅-離胺酸是較佳的。同時注意到當表面沉積物及封閉粒子中和酸，能釋出有效的鋅離子及胺基酸(其內的)，提供除了抗侵蝕外的口腔保健功效。
第三個利益是封閉後的抗敏感效果，封閉牙本質小管導至敏感性緩解。
第四個利益是有關胺基酸的利益，封閉粒子及表面沉積物含有相關的胺基酸，如精胺酸及離胺酸。這些胺基酸提供了多重利益，例如，鹼性胺基酸導致牙菌斑具有較高的pH，並可提供抗齲齒功效。
組成物可包括鋅胺基酸鹵化物及/或其前驅物。可在原位與水反應而形成鋅胺基酸鹵化物之前驅物包括(i)鋅及一個胺基酸氫鹵化物，或(ii)氯化鋅及胺基酸，或(iii)鋅離子來源劑、胺基酸、及鹵酸，或(iv)(i)、(ii)及/或(iii)的組合。在一個實施例，鋅胺基酸鹵化物可在室溫下，在溶液中，如水，混合前驅物質而製備。在原位生成提供了調配物容易。前驅物質可被用來代替必須事先合成的鋅胺基酸鹵化物。在其他實施例，當施用後，組成物與來自唾液及/或漱口水接觸，允許由前驅物質生成鋅胺基酸鹵化物。
鋅胺基酸鹵化物是水溶性錯合物，自鋅及胺基酸之鹵酸加成鹽(如氯化鋅)形成，或來自胺基酸鹽之鹵酸加成鹽(如離胺酸鹽酸鹽)及鋅離子來源劑形成，及/或來自所有鹵酸、胺基酸及鋅離子來源劑三者的組合形成。
胺基酸的實例包括，但不是限於一般天然胺基酸如，離胺酸、精胺酸、組胺酸、甘胺酸、絲胺酸、蘇胺酸、天冬醯胺酸、麩醯胺酸、半胱胺酸、硒半胱胺酸、脯胺酸、丙胺酸、纈胺酸、異白胺酸、白胺酸、甲硫胺酸、苯丙胺酸、酪胺酸、色胺酸、天冬門酸，及麩胺酸。在一些實施例中胺基酸是中性或酸性胺基酸，如甘胺酸。
由下列實例可見，在以水稀釋錯合物沉澱出鋅，最顯著的是當錯合物自鹼性胺基酸形成。因此，當需求稀釋沉澱時，較佳的是鹼性胺基酸。在一些實施例，因此胺基酸是鹼性胺基酸。”鹼性胺基酸”是表天然存在的鹼性胺基酸，如精胺酸、離胺酸，及組胺酸。而且任一鹼性胺基酸，在分子中具有一個羧基及一個胺基，其是水溶性，並提供具約7或更高pH值的溶液。因此，鹼性胺基酸包括，但不是限於精胺酸、離胺酸、瓜胺酸、鳥胺酸、肌酸、組胺酸，二胺基丁酸、二胺基丙酸，其鹽類或其組成物。在一些實施例，胺基酸是離胺酸。在其他實施例，胺基酸是精胺酸。
鹵化物可為氯、溴或碘，最典型地是氯。胺基酸與鹵酸(如HCl,、HBr或HI)的酸加成鹽，一般在本文稱之為胺基酸氫鹵化物。因此一個胺基酸氫鹵化物之實例是離胺酸鹽酸鹽。其他是甘胺酸鹽酸鹽。
在此情況中，用於與胺基酸鹵化物或胺基酸、任意地加鹵酸組合之鋅離子來源劑，可為如氧化鋅或氯化鋅。
在一些實施例，在組成物中鋅胺基酸鹵化物之含量是0.05至10%，以組成物重量計。在一些實施例，前驅物如鋅及胺基 酸氫鹵化物，其含量是當組合成鋅胺基酸鹵化物，鋅胺基酸鹵化物存在之含量是0.05至10%，以組成物重量計。在這些實施例，鋅胺基酸鹵化物的含量可依所期望之目的而不同，如潔牙劑或漱口水。在其他實施例，鋅胺基酸鹵化物之含量是至少0.1，至少0.2，至少0.3，至少0.4，至少0.5，至少1，至少2，至少3，或至少4至高達10%，以組成物重量計。在其他實施例，鋅胺基酸鹵化物的含量是少於9，少於8，少於7，少於6，少於5，少於4，少於3，少於2，少於1，少於0.5至0.05%，以組成物重量計。在其他實施例，其量是0.05至5%，0.05至4%，0.05至3%，0.05至2%，0.1至5%，0.1至4%，0.1至3%，0.1至2%，0.5至5%，0.5至4%，0.5至3%或0.5至2%，以組成物重量計。
在一些實施例，鋅的含量是0.05至10%，以組成物重量計。在其他實施例，鋅的含量是至少0.1，至少0.2，至少0.3，至少0.4，至少0.5，至少1，至少2，至少3，或至少4至高達10%，以組成物重量計。在其他實施例，鋅的含量是少於9，少於8，少於7，少於6，少於5，少於4，少於3，少於2，少於1，或少於0.5至0.05%，以組成物重量計。在其他實施例，含量是0.05至5%，0.05至4%，0.05至3%，0.05至2%，0.1至5%，0.1至4%，0.1至3%，0.1至2%，0.5至5%，0.5至4%，0.5至3%或0.5至2%，以組成物重量計。
在一些實施例，胺基酸氫鹵化物的含量是0.05至30%，以重量計。在其他實施例，含量是至少0.1，至少0.2，至少0.3，至少0.4，至少0.5，至少1，至少2，至少3，至少4，至少5，至少10，至少15，至少20至高達30%，以重量計。在其他實施例， 含量是少於30，少於25，少於20，少於15，少於10，少於5，少於4，少於3，少於2，或少於1至0.05%，以組成物重量計。
當存在前驅物質，其較佳存在之莫耳比例是接近產生所期望鋅胺基酸鹵化物所需的，在一些調配物中，雖然一種物質或其他的部分是需要過量的，如平衡pH值對抗其他調配物組成，以提供額外的抗菌鋅，或提供胺基酸緩衝液。然而，較佳地，限制鹵化物的量，由於限制鹵化物的量可促進鋅與胺基酸間的交互作用。
在一些實施例，在組成物中鋅的總量，是0.05至8%，以組成物重量計。在其他實施例，鋅的總量是至少0.1，至少0.2，至少0.3，至少0.4，至少0.5，或至少1至高達8%，以組成物重量計。在其他實施例，組成物鋅的總量是少於5，少於4，少於3，少於2，或少於1至0.05%，以組成物重量計。
在一些實施例，鋅對胺基酸的莫耳比是至少2：1。在其他實施例，莫耳比是至少1：1，至少1：2，至少1：3，至少1：4，2：1至1：4，1：1至1：4，1：2至1：4，1：3至1：4，2：1至1：3，2：1至1：2，2：1至1：1，或1：3。上述1：4，可期待的，鋅可完全溶解。
在一些實施例，組成物是無水的。無水，是水含量少於5%，以重量計，任意地少於4，少於3，少於2，少於1，少於0.5%，少於0.1至0%。
當以無水組成物提供，前驅物，如TBZC及胺基酸氫鹵化物，將不會顯著的反應生成鋅胺基酸鹵化物。在施用組成物其間或之後，當與足量的水接觸，其可呈唾液及/或用來漱口的 水之形式，前驅物會反應生成鋅胺基酸鹵化物，而後當進一步稀釋，會將含鋅沉澱物提供至牙齒。
載劑係指組成物中，除了鋅胺基酸鹵化物錯合物或其前驅物以外之所有其他物質。載劑的含量是，加入鋅胺基酸鹵化物後，包括任何前驅物，達到100%重量
活性劑：本發明組成物可包含各種藥劑，其可保護及增強琺瑯質及牙齒結構的強度及完整性，及/或減少細菌及相關的牙齒蛀蝕及/或牙齦疾病，其包含或除了鋅-胺基酸-鹵化物錯合物之外。本文所用活性成分之有效濃度，是視所使用特定藥劑及傳輸系統。可了解的是，例如牙膏典型地是在使用時以水稀釋，而典型地，漱口水則不需要。所以在牙膏內活性成分之有效濃度，通常較漱口水需求量高5至15倍。濃度通常也視確切選用之鹽類或聚合物。例如，當活性藥劑以鹽類型式提供，相對離子會影響鹽類的重量，所以如果相對離子是較重的，在最終產品中，要提供相同濃度之活性離子，將需要較多的鹽類(以重量計)。精胺酸，其存在，其可能存在量自如約0.1至約20wt%(以游離鹼基重量表示)，對消費者用牙膏如約1至約10wt%，或對專業用或處方治療產品約7至約20wt%。氟，當存在，其可能存在量自如約25至約25,000ppm，例如約750至約2,000ppm，對消費者用牙膏，或約2,000至約25,000ppm對專業用或處方治療產品用。類似地，抗菌劑的量也不同，在牙膏使用的濃度是用於漱口水需求量之約5至約15倍。例如，三氯沙牙膏可含約0.3wt%三氯沙。
氟離子來源劑：口腔保健組成物可進一步包含一或多種氟 離子來源劑，如可溶性氟鹽。在本發明組成物可使用各種不同氟離子-產生物質，作為可溶性氟離子的來源。適當作為氟離子-產生物質之實例參見授予Briner等人之美國專利案號3,535,421、授予Parran,Jr.等人之美國專利案號4,885,155及授予Widder等人之美國專利案號3,678,154。氟離子來源劑的代表包括，但不是限於氟化亞錫、氟化鈉、氟化鉀、單氟磷酸鈉、氟矽酸鈉、氟矽酸銨、氟化胺、氟化銨及其組成物。在一些實施例氟離子來源劑包括氟化亞錫、氟化鈉、單氟磷酸鈉及其混合物。在一些實施例，本發明口腔保健組成物也可包含氟離子來源或氟-提供成分，其量足以供應約25ppm至約25,000ppm的氟離子，一般至少約500ppm，如約500ppm至約2,000ppm，如約1,000ppm至約1,600ppm，如約1,450ppm。氟離子適當的含量將視特定的用途而定。一般消費者使用的牙膏，典型地含約1,000至約1,500ppm，小兒用牙膏具較少的量。專業使用的潔牙劑可或塗層可含有高達約5,000或甚至約25,000ppm的氟離子。在一個實施例，氟離子來源劑可加入本發明組成物之量約0.01wt.%至約10wt.%，或約0.03wt.%至約5wt.%，及在其他實施例約0.1wt.%至約1wt.%，以組成物重量計。提供適當氟離子濃度之氟鹽重量，明顯地將視鹽類中相對離子的重量而異。
胺基酸：在一些實施例，本發明組成物包括一種胺基酸。在一些特殊實施例，胺基酸可為鹼性胺基酸。”鹼性胺基酸”是表天然存在的鹼性胺基酸，如精胺酸、離胺酸，及組胺酸，及任何在分子中具羧基及胺基的鹼性胺基酸，其是水溶性並可提 供水溶液pH值約7或更高。依此，鹼性胺基酸包括，但不是限制，精胺酸、離胺酸、瓜胺酸、鳥胺酸、肌酸、組胺酸，二胺基丁酸、二胺基丙酸，其鹽類或其組成物。在一些特殊實施例，鹼性胺基酸是選自精胺酸、瓜胺酸，及鳥胺酸。在一些實施例，鹼性胺基酸是精胺酸，例如，l-精胺酸，或其鹽類。
在不同實施例，胺基酸存在量約0.5wt.%至約20wt.%，以組成物總重量計，約0.5wt.%至約10wt.%，例如在潔牙劑約1.5wt.%、約3.75wt.%，約5wt.%，約7.5wt.%，以組成物總重量計，或在漱口水例如0.5-2wt.%，如約1%。
研磨劑：發明組成物，如組成物1及以下其等，包括矽土研磨劑，及可包含其他研磨劑，如磷酸鈣研磨劑，如磷酸三鈣(Ca3(PO4)2)、羥磷石灰(Ca10(PO4)6(OH)2)、或磷酸二鈣二水化合物(CaHPO4‧2H2O,本文有時稱為DiCal)或焦磷酸鈣、碳酸鈣研磨劑；或研磨劑如偏磷酸鈉、偏磷酸鉀、矽酸鋁、煅燒氧化鋁、皂土或其他含矽物質，或其組成物。
其他本文有用的矽土磨擦拋光物質，及其他研磨劑，一般具有平均粒子尺寸範圍介於約0.1至約30微米，約5至約15微米。矽土研磨劑可來自沉澱矽土或矽膠，如揭示於授予Pader等人之美國專利案號3,538,230及授予Digiulio之美國專利案號3,862,307之矽乾凝膠。特殊的矽乾凝膠以商品名Syloid®(the W.R.Grace & Co.,Davison Chemical Division製造)上市。沉澱矽土物質包括以商品名Zeodent®(J.M.Huber Corp.)上市，包括Zeodent 115and 119之矽土。這些矽土研磨劑揭示在授予Wason之美國專利案號4,340,583。在一些實施例，依本發 明口腔組成物實例有用的研磨劑物質包括矽膠及沉澱無晶形矽土，其具有油吸收值少於100毫升/100克矽土及在範圍約45毫升/100克至約70毫升/100克矽土。油吸收值是使用ASTARub-Out方法D281來測定。在一些實施例，矽土是膠體粒子，其具有粒子尺寸約3微米至約12微米，及約5至約10微米。在本發明實例特別有用的低油吸收矽土研磨劑是以商品名Sylodent XWA®(Davison Chemical Division of W.R.Grace & Co.,Baltimore,Md.21203製造)上市。Sylodent 650 XWA®是一種矽水膠，包含具有含水量29%(以重量計)直徑平均約7至約10微米之膠體矽土粒子，及吸油值少於約70毫升/100克矽土，是本發明實例有用的低吸油值之矽土研磨劑。
發泡劑：本發明口腔保健組成物，亦可包含可增加發泡量的藥劑(當刷口腔時)。增加發泡量例示的藥劑包括，但不是限制在聚氧乙烯及一些聚合物包括，但不限於海藻酸聚合物。本發明口腔保健載劑成分，聚氧乙烯可增加發泡量及泡沫的厚度。聚氧乙烯一般習知的是聚乙二醇(PEG)或聚氧乙烯。本發明適合的聚氧乙烯具有分子量約200,000至約7,000,000。在一個實施例分子量約600,000至約2,000,000及在其他實施例約800,000至約1,000,000。Polyox®是Union Carbide公司生產高分子聚氧乙烯之商品名。聚氧乙烯可存在的量約1%至約90%，在一個實施例約5%至約50%及在其他實施例約10%至約20%(以本發明口腔保健組成物之口腔保健載劑成分重量計)。如存在，在口腔保健組成物發泡劑的量(在單一劑量)是以重量計約0.01至約0.9%，以重量計約0.05至約0.5%，及在其他實施例是 以重量計約0.1至約0.2%。
界面活性劑：本發明有用的組成物可包含陰離子界面活性劑，例如：
i.水溶性高級脂肪酸單甘油酯單硫酸鹽類，如氫化椰子油脂肪酸單甘油酯單硫酸鈉鹽，如N-甲基N-椰油醯基牛磺酸鈉，椰油酸單甘油酯硫酸鈉。
ii.高級烷基硫酸鹽，如月桂基硫酸鈉。
iii.高級烷基-醚硫酸鹽，如式CH3(CH2)mCH2(OCH2CH2)nOSO3X，其中m是6-16如10，n是1-6，如2,3或4,及X是Na或K，例如十二烷基醚-2硫酸鈉(CH3(CH2)10CH2(OCH2CH2)2OSO3Na)。
iv.高級烷基芳基磺酸鹽如十二烷基苯磺酸鈉(月桂苯磺酸鈉)。
v.高級烷基磺基乙酸酯，如月桂醇磺基乙酸酯鈉(十二烷基磺基乙酸酯鈉)，1,2-二羥基丙烷磺酸高級脂肪酸酯，磺基月桂酸酯(N-2-乙基乙醯磺胺月桂酸酯鉀)及月桂醇基胺酸鈉。
“高級烷基”係表C6-30烷基。在特殊實施例，陰離子界面活性劑選自月桂硫酸鈉及月桂硫酸醚鈉。陰離子界面活性劑可存在有效量，如>0.01%以調配物重量計，但不是會刺激口腔組織的濃度，如<10%，且最佳濃度是視特殊調配物及特殊的界面活性劑。例如，所使用的濃度或一種漱口水，典型地大約是牙膏用量的十分之一。在一實施例，在牙膏中陰離子界面活性劑的量是以重量計從約0.3%至約4.5%，如約1.5%。本發明組成物可任意地含有界面活性劑混合物，如包含陰離子界面活性劑 及其他界面活性劑，其可為陰離子、陽離子、兩性離子或非離子。一般而言，界面活性劑是那些在很廣的pH範圍內是合理穩定的。界面活性劑更完整的揭示在授予Agricola等人之美國專利案號3,959,458、授予Haefele之美國專利案號3,937,807及授予Gieske等人之美國專利案號4,051,234。在一些實施例，本文有用的陰離子界面活性劑包括在烷基具約10至約18個碳原子之水可溶的烷基硫酸鹽類及具約10至約18個碳原子之脂肪酸磺酸單甘油酯之水可溶性鹽類。月桂硫酸鈉、月桂醯基肌胺酸鈉及椰子單甘油酯磺酸鈉，是這類陰離子界面活性劑的實例。在特殊實施例，如組成物1及以下其等，包含月桂硫酸鈉。
可存在本發明組成物之界面活性劑或可相容界面活性劑的混合物是約0.1%至約0.5%，在其他實施例是約0.3%至約3.0%，及在其他實施例是約0.5%至約2.0%，以整個組成物重量計。
結石控制劑：在本發明不同實施例，組成物包含一種抗結石藥劑(結石控制)。適合的抗結石劑包括而不限制磷酸鹽及多磷酸鹽(例如焦磷酸鹽)、多胺基丙烷磺酸(AMPS)、六偏磷酸鹽、檸檬酸鋅三水化合物、多胜肽、聚烯烴磺酸鹽、聚烯烴磷酸鹽、雙磷酸鹽。因此本發明可包含磷酸鹽。在特殊實施例，這些鹽類是鹼金屬磷酸鹽，即鹼金屬氫氧化鹽或鹼土金屬氫氧化鹽，例如鈉、鉀或鈣鹽。本文所用“磷酸鹽”包括口腔可接受單及多磷酸鹽，例如P1-6磷酸鹽，例如單體磷酸鹽如一元、二元或三元磷酸鹽，二聚磷酸鹽如焦磷酸鹽，及多聚磷酸鹽如六偏磷酸鈉。在特殊實施例，所選用的磷酸鹽是選自鹼金屬二元 磷酸鹽及鹼金屬偏磷酸鹽，如選自磷酸氫二鈉、磷酸氫二鉀、磷酸氫二鈣二水化合物、焦磷酸鈣、焦磷酸四鈉、焦磷酸四鉀、三多磷酸鈉，及其任二或多種混合物。在特殊實施例，例如組成物包含焦磷酸四鈉(Na4P2O7)、焦磷酸鈣(Ca2P2O7)及磷酸氫二鈉(Na2HPO4)之混合物，如含量約3-4%磷酸氫二鈉及約0.2-1%各種焦磷酸鹽。在其他實施例，組成物包含焦磷酸四鈉(TSPP)及三多磷酸鈉(STPP)(Na5P3O10)之混合物，如TSPP比例約1-2%及STPP約7至約10%。提供有效量之這些磷酸鹽以減低琺瑯質之侵蝕，輔助清潔，及/或減低牙齒上結石的聚集，例如含量2-20%，如約5-15%，以組成物重量計。
香味劑：本發明口腔保健組成物亦可包含香味劑。本發明實例使用之香味劑包括，但不是限制，精油及各種芳香醛類、酯類、醇類，及相類物質。精油的實例包括綠薄荷油、薄荷油、冬青油、黃樟油、丁香油、鼠尾草、桉油、馬鬱蘭、肉桂、檸檬、萊姆、葡萄柚及柳橙。也有用的包括化學品如薄荷、香旱芹酮及茴香腦。一些實施例使用薄荷或綠薄荷油。香味劑可摻入口腔組成物之濃度以重量計約0.1至約5%，如以重量計約0.5至約1.5%。
聚合物：本發明口腔保健組成物亦可包含其他聚合物以調整調配物之黏稠度或促進其他成分的溶解度。這些聚合物包括聚乙二醇、多醣類(如纖維素衍生物，例如羧甲基纖維素、或多醣類膠，例如黃原膠或多角菜膠)。酸性聚合物，例如聚丙烯酸酯膠，可以其游離酸或部分或全部以水溶性鹼金屬中和形式提供(如鉀或鈉)或銨鹽。
可存在矽土稠化劑，其在水溶液介質中形成聚合結構或膠體。注意這些矽土稠化劑在物理性及功能性上明顯不同於亦可存在於組成物中之矽土磨擦粒子，作為矽土稠化劑是非常細微，並不具或僅具微小的磨擦作用。其他稠化劑是羧乙烯基聚合物、多角菜膠、羥乙基纖維素及水溶性纖維素醚如羧甲基纖維素鈉及羧甲基羥乙基纖維素鈉。可摻入天然膠如刺梧桐膠、阿拉伯膠，及黃蓍膠。膠體矽酸鎂鋁亦可做為稠化組成物之成分，以進一步改善組成物之結構，在一些實施例，稠化劑的量是約0.5至約5.0%，以所使用總組成物重量計。
本發明組成物可包含陰離子聚合物，例如含量自約0.05至約5%。已知這些藥劑一般用於潔牙劑中，雖然不止對這個特殊的應用，在本發明有用的，揭示在美國專利編案號5,188,821及5,192,531；及包括合成的陰離子聚合多羧酸鹽，如1：4至4：1順丁烯二酸酐或酸與其他可聚合乙烯基不飽和單體的共聚物，較佳的甲基乙烯基醚/順丁烯二酸酐具有分子量(M.W.)約30,000至約1,000,000，最佳的約30,000至約800,000。這些共聚物是市售可獲得的，例如Gantrez，如AN 139(M.W.500,000)、AN 119(M.W.250,000)及較佳地S-97藥用級(M.W.700,000)來自ISP Technologies,Inc.,Bound Brook,N.J.08805。當存在促進劑，其含量以重量計從約0.05至約3%。其他可用聚合物包括那些如1：1順丁烯二酸酐與丙烯酸乙酯、甲基丙烯基酸羥乙基酯、N-乙烯基-2-吡咯啶酮、或乙烯之共聚物，後者可由例如Monsanto EMA No.1103,M.W.10,000及EMA Grade 61獲得，及1：1丙烯酸與甲基丙烯基酸羥乙基或甲基酯，丙烯酸甲酯或 乙酯，異丁基乙烯醚或N-乙烯基-2-吡咯啶酮之共聚物。一般說來適合的是，經聚合的烯烴或乙烯不飽和羧酸，其包含一活性的碳-碳烯烴雙鍵及至少一個羧基，其是，含有烯烴雙鍵之酸，其可在聚合反應中作用，因其以單體分子存在，單體分子是相對於羧基在α-β位置或是末尾甲基的一部分。這些酸的實例是丙烯酸基、甲基丙烯酸基、乙基丙烯酸基、α-氯丙烯酸基、巴豆基、β-丙烯酸氧基丙酸基、山梨基、α-氯山梨基、桂皮基、β-苯乙烯丙烯酸基、己二烯酸基、亞甲琥珀酸基、甲基順丁烯二酸基、甲基反丁烯二酸基、戊烯二酸基、烏頭酸基、α-苯基丙烯酸基、2-苯甲基丙烯酸基、2-環己基丙烯酸基、順二甲基丁烯酸基、二羥基桂皮酸基、反丁烯二酸基、順丁烯二酸及酐。其他不同烯烴單體可與如羧酸單體聚合，包括乙酸乙烯酯、氯化乙烯、順丁烯二酸二甲酯及其相類物。共聚物包含足夠的羧酸鹽基，以提供水溶解度。進一步聚合物藥劑族群，包括組成物中含有經取代丙烯醯胺均聚物及/或不飽和磺酸及其鹽類均聚物，尤其是基於不飽和磺酸均聚物，其選自丙烯醯胺烷烴磺酸如2-丙烯醯胺2甲基丙烷磺酸，其具有分子量約1,000至約2,000,000，揭示在1989年6月27日授予Zahid之美國專利案號4,842,847。其他有用聚合物族群包括聚胺基酸，其包含部分陰離子表面-活性胺基酸如天門冬胺酸、麩胺酸及磷酸絲胺酸，如揭示在授予Sikes等人之美國專利案號4,866,161。
水：口腔組成物可包含顯著量的水。用於市售口腔組成物製劑的水，應是去離子水及不含有機雜質。組成物中水的含量包括所加入的游離水及併其他物質所加入的量。
濕潤劑：在口腔組成物的一些實施例，理想的也摻入濕潤劑，以避免組成物暴露在空氣後變硬。一些濕潤劑也賦與潔牙劑組成物理想的甜味或芳香味。適合的濕潤劑包括可食用的多元醇如甘油、山梨醇、木醣醇、聚乙二醇及其他多醇類及這些濕潤劑的混合物。在本發明的一個實施例，主要的濕潤劑是甘油其含量大於25%，如25-35%，約30%，含5%或更少之其他濕潤劑。
其他任意的成分：除了前揭成分外，本發明實施例可含有各種不同任意的潔牙劑成分，其部分揭示如下。任意的成分包括，例如，但不是限制，黏著劑、皂洗劑、香味劑、甜味劑、其他抗牙菌斑藥劑、研磨劑及著色劑。這些及其他任意的成分，進一步揭示在授予Majeti之美國專利案號5,004,597、授予Agricola等人之美國專利案號3,959,458、授予Haefele之美國專利案號3,937,807，所有均引用作為本說明書的揭示內容。
除非特別說明，在本發明說明書所示組成物成分之所有百分比，是以整個組成物或調配物之100%重量計。
除非其他特別確認，在本發明組成物及調配物所使用之成分，較佳的是化妝品級可接受的成分。“化妝品級可接受的”係指適合用於調配物以局部施用至人類皮膚。化妝品級可接受的賦形劑，例如，是在本發明調配物預定使用之用量及濃度，適合於外用之賦形劑，及包括如美國食品藥物管理局”一般認可為安全”之賦形劑。
在本發明所揭示或申請之組成物或調配物，有關其成分，是在此技藝中所常用的。對習於此技藝者是顯而易知的，在一 些實例中，各成分可能會與其他成分反應，所以真正組成物其最後調配物，可能與所列出成分不完全一致。因此，要了解的是本發明擴展至所列成分組合後之產品。
當用於各處，範圍被用來作為描述每一或個個數值之簡略表達。在此範圍之任一數值，可被選作為範圍的界線。此外，本文所引用參考資料，全部皆引用作為本說明書的揭示內容，假如本發明所揭示與引用文獻之定義發生衝突，由本發明所揭示者管制。
除非特別指明，在此及說明書所示所有百分比及含量，可了解的是關於重量百分比。所述含量是基於物質之活性重量。
實施例1
合成ZLC之一般反應，如下所示：ZnO+2(離胺酸．HCl)─›[Zn(離胺酸)2Cl]+Cl-．2H2O(ZLC)
莫耳比2：1之ZnO：離胺酸．HCl懸浮液在室溫下攪拌約12小時。將混合液離心，取1毫升上清液移轉入NMR管。而後NMR管置入一充滿乙醇之密閉試管，以讓結晶成長。一週後生成一些無色、立體結晶。ZLC結晶之晶體結構以單晶X-光繞射測定。此錯合物分子之體積是1.7nm*7.8nm*4.3nm。在這個錯合物，Zn陽離子在赤道面被二個離胺酸配子(其具有來自NH2基之 二個氮原子及來自羧基的氧原子)配位。此結構其頂點被氯原子佔據，呈現扭曲的四面-錐體幾何狀。此新穎結構產生一個正價陽離子部分，氯陰離子在此結合形成離子性的鹽類。
實驗室放大合成純的ZLC粉末：2莫耳離胺酸HCl溶於1000毫升去離子水，在室溫下攪拌，將1莫耳固體ZnO緩慢加入離胺酸HCl溶液並攪拌，在室溫下持續攪拌過夜(約12小時)。懸浮溶液在高速下離心15分鐘，將上清液緩慢到入乙醇中，立即生成沉澱。得到1克粉末約需5-8毫升乙醇，將含有粉末之乙醇溶劑過濾，可得到灰白色的粉末。將粉末置於50℃之烘箱乾燥，可得到產率88%之產物。利用PXRD與ZLC結晶比較，以確認ZLC粉末的純度。
實施例2
分別含有NaF、ZLC、ZnCl2及ZnO作為活性成分之四組500克之漱口水與如表1所示其他成分調配。本實驗的目的是比較不同活性成分樣本之澄清度。混濁度是以TurbiScan®分散安定分析儀，測定光通過溶液之穿透百分比。愈高的透光百分比，溶液愈澄清。因此，愈小的透光百分比表示溶液愈混濁。在ZLC溶液中鋅離子的濃度，以ICP(感應耦合電漿)分析得到25,300ppm，其是相當於約溶液中含17% ZLC重量活性成分。在各組中鋅離子的濃度控制在相同的量，即1.01wt%。在四組中，含有ZnO作為活性成分的那組呈現牛奶白，透光率0%，而其他三組如去離子水一樣澄清(表2)。
將四組原始漱口水稀釋成2倍、4倍、8倍、16倍及32倍。所有溶液製備後並充分混搖，測定混濁度。樣本混濁度數據顯示於表3、4、5及6，分別含有NaF、ZLC、ZnCl2及ZnO之漱口水稀釋液，當含ZLC漱口水樣本經稀釋，可看到沉澱，但其他樣本之混濁度並未改變。
將經稀釋的ZLC漱口水樣本置於37℃烘箱經過一個週末(約60小時)，以進行安定性試驗。結果顯示於表7。從稀釋4倍開始可觀察到沉澱。在稀釋16倍可看到最大沉澱量。原始各組，然而，即使經過60小時熟化，仍呈現穩定且未顯示沉澱。
比較使用ZnCl2及ZnO調配之漱口水組，僅以ZLC為活性成分之調配物，呈現澄清、穩定的溶液，但當稀釋時會產生沉澱。 此ZLC漱口水調配物具中性pH，且在37℃下是穩定的。ZLC提供了漱口水調配物在架儲期是穩定的，但在稀釋溶液會沉澱。稀釋時會生成不溶性沉澱物，使得其在牙本質小管產生塞子，對敏感產生功效。
實施例3
在使用ZLC作為活性成分之漱口水調配物實例，當與含有NaF作為活性成分之目前市售漱口水產品相較，不僅顯示具競爭性的澄清度，當以水稀釋時亦呈現沉澱的能力。這個獨特的性質，促進抗過敏及抗蛀洞效果，因此在牙膏產品使用ZLC是有益的。
調配以ZLC作為活性成分之口凝膠牙膏，並與其他含有ZnCl2、ZnO及NaF之調配物比較。僅ZLC調配物與目前含NaF凝膠層，顯示具競爭性的澄清度。ZLC凝膠層的沉澱性質，也以水解反應實驗探討，證據顯示當以含ZLC活性成分之牙膏刷牙時，在刷牙期間會生成不溶性粒子，其可穿透牙本質小管，並封閉小管產生抗敏效果及對消費者提供訊息。
四組500克之凝膠層，其分別含有NaF(對照組)、ZLC、ZnCl2及ZnO作為活性成分，並與其他成分調配如表8所示。比較不同活性成分樣本之澄清度，並評估稀釋後ZLC凝膠層之沉澱性質。以ICP測得ZLC溶液中鋅離子的濃度是25300ppm，轉換在溶液中ZLC活性成分約是17%，以重量計。在下列各組鋅離子濃度均調配為0.5%(W/W)鋅含量。
使用λ25UV/VIS分光光度計(PerkinElmer)得到所有樣本之吸光度資料，以比較不同活性成分間凝膠層的澄清度。吸光度是測定當光線穿過物質，光線被吸收的對數計量。因為在凝膠的粒子會吸光，溶液中存在愈多的粒子，愈多的光會被凝膠 吸收。因此凝膠較低的吸光度顯示較高的澄清度。以去離子水作為空白對照溶液，在波長610nm下校正吸光度。ZnO不會溶解且被懸浮在凝膠層，導致高度吸光度。即使ZnCl2溶於水，含ZnCl2之凝膠層顯示混濁。僅以ZLC調製之凝膠層生成均勻的溶液，如含NaF配製之凝膠層，顯示具競爭性的澄清度。所有樣本之吸光度及pH顯示於表9。
稀釋試驗：所有原始凝膠各組稀釋成2倍、4倍、8倍、16倍及32倍。當NaF凝膠、ZnCl2凝膠及ZnO凝膠進一步稀釋，其吸光度遞減，及ZLC凝膠溶液進一步稀釋，其吸光度增加。此結果證實，當ZLC凝膠溶液以水稀釋生成沉澱物。以水稀釋的2倍、4倍、8倍、16倍及32倍ZLC凝膠溶液，其pH分別是7.71、7.91、8.03、8.12及8.14。
前述凝膠可單獨使用或用於具凝膠層及磨擦層之牙膏。ZLC作為牙膏調配物凝膠層之活性成分。與以ZnCl2及ZnO調製凝膠層組比較，僅ZLC作為活性成分之調配物，如用於市售產品(NaF作為活性成分)，顯示具競爭性的澄清度及pH。稀釋試驗顯示，僅ZLC凝膠層當稀釋時，可從透明之凝膠中，產生不溶性沉澱物。當使用此類牙膏後，經稀釋生成之不溶性沉澱物，可促進在牙本質小管生成”塞子”，再者，當消費者使用時，其提供白色沉澱物的訊息。
實施例4
測量含ZLC口腔凝膠對牙本質小管封閉作用，與不含ZLC之口腔凝膠比較潛在的抗敏效果。使用FLODEC儀器測量液體流過牙本質小管。使用Pashley細胞方法(如Pashley DH,O’Meara JA,Kepler EE,et al.Dentin permeability effects of desensitizing dentifrices in vitro.J Periodontol.1984；55(9)：522-525)，而後依S.Mello所揭示測量漱口劑調配物封閉牙本質小管的步驟。以吸管在間隔十分鐘，以400微升樣本，處理牙本質盤10分鐘、二次，每次處理後，牙本質盤以磷酸鹽緩衝生理食鹽水(PBS)沖洗，並使用FLODEC儀器(一種追蹤半月板內部毛細管位置，以測量體基微小的改變之裝置)測量流量。表11顯示含有ZLC口腔凝膠之平均流量及施予樣本後流量減少 百分比。
如上所示，含ZLC口腔凝膠，重複三次試驗平均流量減低百分率，是約通過牙本質小管41%。
表12顯示施用樣本後，不含ZLC(對照組)口腔凝膠平均流量及流量減低百分率。
如上所示，不含ZLC口腔凝膠(對照組)，重複三次試驗平均流量減低百分率，是約通過牙本質小管31%。
使用FLODEC儀器，以試管中液壓傳導模式，與不含ZLC口腔凝膠(對照組)比較，含ZLC口腔凝膠顯示較佳的表現。
實施例5
製備各種稀釋之ZLC，以評估在產生可見的沉澱物及/或凝絮作用之效率，其可在原位被傳遞至口腔表面或至牙本質開口，如開口的牙本質小管。
製備一ZLC純溶液以1)，在室溫下，1公升的水中，0.5莫耳ZnO粉末與1莫耳離胺酸鹽酸鹽反應約2小時，及2)離心收集上清液，而後以孔徑0.45微米膜過濾。純的溶液含有鋅濃度2.39%以重量計及約7.03之pH值。
稀釋試驗是以去離子水稀釋純溶液進行。純溶液稀釋2倍、4倍、6倍、7倍、8倍、10倍、12倍、16倍、20倍、24倍、28及32倍，相對應起始鋅的濃度分別是1.20%、0.598%、0.398%、0.341%、0.299%、0.239%、0.199%、0.149%、0.120%、0.0996%、0.0854%、0.0747%，以重量計。經稀釋的樣本保持在37℃，並監測發生凝絮/沉澱作用的速率。起始鋅離子濃度在0.149%及0.199%稀釋液，自當備儲溶液與水混合時開始，30分鐘內可產生一些可見的凝絮。混合1小時後，在起始鋅離子濃度介於0.0854%至0.239%間之稀釋液，可觀察到一些可見的凝絮。混合1個半小時後，起始鋅離子濃度介於0.0747%至0.239%間之稀釋液，可觀察到一些可見的凝絮。混合2小時後， 起始鋅離子濃度0.299%之其他樣本，亦顯示有凝絮存在。總計19小時後，除了起始鋅離子濃度1.20%的一個樣本外，所有樣本可觀察到凝絮及/或沉澱，及起始鋅離子濃度介於0.0747%至0.239%間者，呈現最多的沉澱物。
最後經稀釋的樣本pH值是適合口腔保健使用。起始鋅離子濃度0.0747%、0.0854%、0.0996%、0.120%、0.149%、0.199wt%及0.239%之樣本，分別具有最終pH值7.99、8.13、8.11、7.97、7.99、6.80及6.70。這些pH值在5.5至10之範圍，其定義為適合口腔保健調配物之範圍。
存在沉澱物中的鋅，主要是以氧化鋅形式。存在沉澱物中的離胺酸，是以其整體成分及/或雜質。
實施例6
在可生成可見沉澱的條件下，共焦影像顯示ZLC在產生表面沉積及封閉牙本質表面小管開口的效率。
沉積/封閉分析是使用人類牙本質切片及實施例5之純溶液進行。製備牙本質切片，是將人類牙齒切成厚度約800毫米之薄的牙本質切片，選擇測試面，使用約600粒度之砂紙研磨測試面，使用Buehler拋光布及5微米Buehler氧化鋁拋光測試面，以1%(以重量計)檸檬酸溶液酸蝕牙本質切片約20秒，將牙本質切片震盪10分鐘，並儲存在磷酸緩衝生理食鹽水中(PBS，pH7.4)。
處理上，純溶液以水稀釋16倍，得到起始鋅離子濃度約0.149%(以重量計)之處理溶液。在37℃下，將牙本質切片浸漬 於處理溶液中1小時。將經處理的牙本質切片自處理液中移出，並以PBS清洗四次，每次1毫升。而後使用衛生紙乾燥牙本質切片，在XYZ及XYZ模式之共焦顯微鏡下觀察。後續處理以相同方式進行。
進行性沉積及封閉可經由共焦影像來觀察。第一次處理產生顯著的沉積。第二次處理產生表面完全覆蓋，包括封閉所有牙本質小管開口。表面沉積厚度可為10微米或更厚。第三次處理後，可觀察到表面完全覆蓋及完全封閉牙本質小管。表面沉積厚度可為25毫米或更厚。沉積使得牙本質表面呈現白色。
表面沉積提供了多種功效，包括那些與鋅及離胺酸有關的，及利用沉積物，經由中和腐蝕性酸來保護侵蝕，經由封閉牙本質小管保護敏感，及緩釋出活性成分，其係經沉積物緩緩釋出鋅及離胺酸活性成分，由其是在酸挑戰下。
實施例7
在未觀察到可見的沉澱條件下，共焦影像顯示ZLC在產生表面沉積物及封閉牙本質表面小管開口的效率。
牙本質切片之製備如實施例6，以ZLC稀釋液重複處理，稀釋液含有起始0.074%之鋅離子濃度，以重量計。每次處理使用32毫升經稀釋的溶液(取自實施例5之1毫升純溶液及31毫升之去離子水)，及在37℃下維持10分鐘，在那時以肉眼並未觀察到沉澱。每一次處理後，在共焦顯微鏡下檢視切片。經連續4次處理後，可觀察到顯著的表面沉積。連續12次處理後，可看到表面完全覆蓋，且未見牙本質小管有開口的現象。
因此，在稀釋比例及處理期間之條件下，可發生表面沉積及封閉牙本質小管，而不會產生可見的沉澱反應。
實施例8
製備包含鋅-離胺酸、1450ppm氟離子，及磷酸鹽之測試潔牙劑，如揭示在表13：
雖然本發明已揭示關於特殊實施例，包括實施本發明較佳模式，那些習於此技藝者，可理解前揭系統及技術有多種變化及變更。可了解的，只要在不悖離本發明範圍，可利用其他的實施例及做結構上與功能上的修飾。

Claims (19)

  1. 一種包含鋅胺基酸鹵化物之口腔保健組成物。
  2. 如申請專利範圍第1項之組成物，其中鋅胺基酸鹵化物是由前驅物形成。
  3. 如申請專利範圍第2項之組成物，其中前驅物是鋅離子來源劑、胺基酸來源劑，及鹵化物來源劑。
  4. 如申請專利範圍第2項或第3項之組成物，其中鹵化物來源劑可為部分鋅離子來源劑、胺基酸來源劑，或鹵酸。
  5. 如申請專利範圍第3項或第4項之組成物，其中鋅離子來源劑及胺基酸來源劑形成一種錯合物。
  6. 如前述申請專利範圍中任一項之組成物，其中胺基酸是選自離胺酸、甘胺酸及精胺酸，以游離或口腔可接受加成鹽類形式。
  7. 如前述申請專利範圍中任一項之組成物，其中胺基酸是鹼性胺基酸，呈游離或口腔可接受鹽類形式。
  8. 如前述申請專利範圍中任一項之組成物，其中鋅的含量是0.05-4重量%。
  9. 如前述申請專利範圍中任一項之組成物，其中鋅是溶解在調配物中，但以唾液及/或漱口水稀釋至1：16時，可提供鋅沉澱物。
  10. 如前述申請專利範圍中任一項之組成物，其中鋅離子來源劑及胺基酸來源劑形成鋅離胺酸氯錯合物或鋅精胺酸氯錯合物。
  11. 如前述申請專利範圍中任一項之組成物，其中鋅胺基酸錯合物是具有化學式[Zn(C6H14N2O2)2Cl]+ Cl-之鋅離胺酸氯錯合物，其於陽離子(如[Zn(C6H14N2O2)2Cl]+)及氯陰離子之溶液中，或呈固體鹽類形式，任意地以單或二水化合物形式。
  12. 如前述申請專利範圍中任一項之組成物，其是呈牙膏、凝膠、漱口水、粉劑、乳膏、條帶或膠之形式。
  13. 如前述申請專利範圍中任一項之組成物，其於口腔可接受基質，如漱口水、凝膠或潔牙劑基質。
  14. 如前述申請專利範圍中任一項之組成物，其進一步包含有效量之氟離子來源。
  15. 如前述申請專利範圍中任一項之組成物，其包含口腔可接受基質，其包含一或多種選自下列之成分：研磨劑、緩衝劑、濕潤劑、界面活性劑、稠化劑、膠條或段、呼吸清涼劑、香味劑，香精、著色劑、抗菌劑、美白劑、干擾或防止細菌附著劑、鈣來源劑、磷酸鹽來源劑、口腔可接受鉀鹽、陰離子聚合物，及其組合。
  16. 如前述申請專利範圍中任一項之組成物，其中組成物之pH值是自pH 6至pH 8。
  17. 如前述申請專利範圍中任一項之組成物，其用來減少或抑制琺瑯質之酸蝕、清潔牙齒、減少細菌產生的生物膜與牙菌斑、減低齒齦炎、抑制牙齒蛀蝕及蛀洞形成、及/或減輕牙本質敏感。
  18. 一種鋅胺基酸鹵化物用於製造一種口腔保健組成物之用途。
  19. 一種如申請專利範圍第1至18項中任一項之組成物用於製造一種口腔保健產品之用途，該產品用於治療或減少牙齒琺瑯質侵蝕、清潔牙齒、減少細菌產生的生物膜與牙菌斑、減低齒齦炎、抑制牙齒蛀蝕及蛀洞形成、及/或減輕牙本質敏感。
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