TW201430252A - 閘閥及基板處理系統 - Google Patents

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Koichi Tateshita
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Abstract

本發明的閘閥(70)，具備：具有形成進行搬運之複數開口部(71a)的垂直壁的殼體(71)；設置在殼體(71)內，開口部(71a)開合用的閥體(81)；使閥體(81)升降的閥體升降機構(73)；與閥體升降機構(73)的升降一起使得閥體(81)轉動的閥體轉動機構(75)；及將閥體(81)的密封面推壓於開口部的閥體推壓機構(74)。閥體升降機構(73)使閥體(81)在開口部對應位置與退避位置之間升降，閥體轉動機構(75)藉著閥體升降機構(73)使得閥體(81)升降時轉動閥體(81)，閥體推壓機構(74)推壓位於開口部對應位置的閥體(81)。

Description

閘閥及基板處理系統
本發明是有關使用於真空容器的開合之閘閥及使用該閘閥的基板處理系統。
以液晶顯示器(LCD)為代表的平板顯示器(FPD)或太陽能電池等的製造過程中，具備對大型的玻璃基板施以蝕刻或成膜等預定處理的複數處理室之多殼體型的處理系統已為人所熟知(例如，專利文獻1)。
並且，在該多殼體型的處理系統中，一次進行多數片基板處理的批式的處理系統也已為人知(例如，專利文獻2)。
以上的多殼體型的基板處理系統具備設有搬運基板(被處理體)之搬運裝置的共同搬運室，在該共同搬運室的周圍具備處理室或在共同搬運室與大氣壓周圍環境之間更換未處理的基板和已處理基板的裝載制動室等。該等共同搬運室、處理室及裝載制動室是藉使用排氣機構排氣使內部成真空狀態，具有作為真空容器的功能。如專利文獻2所記載的批式的處理系統中，在上下方向以多段配 置複數基板的狀態下進行基板的搬運及基板的處理。
在該等處理室或裝載制動室等的真空容器中，設有被處理體出入用的開口部，開口部是利用閘閥來開合。藉閘閥使開口部關閉，藉此將處理室或裝載制動室的內部密封成氣密狀。在關閉閘閥的狀態下，處理室是將其內部的壓力減壓至預定的壓力為止進行預定的處理，裝載制動室則可在大氣狀態與減壓狀態的彼此間進行切換。
閘閥是如上述專利文獻1所記載，具有關閉開合部的閥體，閥體是藉著油壓缸升降，在閥體位於開口部的狀態下，利用連桿機構將閥體推壓至開口部，藉此關閉開口部。
[先前技術文獻]
[專利文獻]
[專利文獻1]日本特開平5-196150號公報
[專利文獻2]日本特開2011-35103號公報
但是，如專利文獻2表示的批式的處理系統中，由於在上下方向以多段配置複數基板的狀態下搬運基板，因此有增加處理室或裝載制動室的開口部高度的必要。在以上的場合中，使用上述構造的閘閥時，一旦將閘閥開放時，有使得閥體朝向開口部的上方或下方分開的必要 ，而變得在高度方向有增大空間的必要。為此，相對於增加基板上下方向的段數或增加處理室內之基板配置間距的要求，也會有產生實現上變得困難的場合。又，如上述，在使閥體升降動作的場合，由於閥體經常會與處理室等的壁部成相對面的狀態，所以閥體密封面的清潔困難。
因此，本發明的目的是以複數基板在上下方向以多段配置的狀態下進行基板的搬運或基板的處理之批式的處理系統的場合，提供一種幾乎不需增加高度方向的空間，並可進行閥體清潔的閘閥及使用該閘閥的基板處理系統。
根據本發明的第1觀點提供一種閘閥，即在真空容器間搬運以上下方向成多段配置的複數基板時，使用於真空容器開合的閘閥，具備：具有形成複數開口部的垂直壁的殼體，以對應所搬運的成為上述多段配置的基板；設置在上述殼體內，使上述開口部開合用的閥體；上述閥體升降用的閥體升降機構；與上述閥體升降機構的升降一起使閥體轉動的閥體轉動機構；及將上述閥體的密封面推壓於上述開口部的閥體推壓機構，上述閥體升降機構使得上述閥體在對應上述開口部的開口部對應位置與鄰接於上述開口部的退避位置之間升降，上述閥體轉動機構藉著上述閥體升降機構使上述閥體升降時轉動上述閥體，並在上述開口部對應位置使得縱向的上述閥體在上述退避位置成為橫向，上述閥體推壓機構將位在上述開口部對應位置的上述閥體朝著上述開口部進出並推壓上述閥體，將上述 閥體的密封面推壓至上述開口部的周圍。
上述第1觀點的閘閥中，進一步具備設置在 上述閥體的兩端，可進退地保持著閥體的閥體座，藉上述閥體與上述閥體座構成閥體單元，上述閥體升降機構為可使上述閥體單元升降的構成。
上述閥體轉動機構具有：設置在上述閥體座 端面的轉動軸與凸輪從動件，及與上述閥體座鄰接，並固定在上述殼體，形成有引導上述凸輪從動件的曲面的導塊，藉著上述閥體升降機構在上述閥體單元升降時，在上述導塊的曲面引導並移動上述凸輪從動件，可與此一起使得包括上述閥體的上述閥體單元在上述轉動軸的周圍轉動。 此時，上述退避位置為上述開口部的下方位置，上述閥體轉動機構在上述閥體單元從上述開口部對應位置下降時，可以在上述退避位置轉動上述閥體單元使得上述密封面向下。
又，上述閥體推壓機構在上述閥體單元中， 可以是僅推壓上述閥體並朝著上述開口部進出的構成。此時，上述閥體推壓機構具有：在對應上述複數閥體的位置具有凸輪的凸輪單元及使上述凸輪單元升降用的升降驅動部，藉著使上述凸輪單元升降，採取上述凸輪推壓上述閥體的推壓位置與解除推壓的推壓解除位置，可藉此獲得將上述凸輪定位於上述推壓位置並推壓上述閥體的構成。並且進一步具備彈推力賦予機構的構成，該彈推力賦予機構在上述閥體推壓機構的推壓力被解除時，可賦予上述閥體 回到原來位置的彈推力。
根據本發明的第2觀點，具備：保持成真空 的共同搬運室；連接於上述共同搬運室的在真空下進行預定處理的處理室；連接於上述共同搬運室，設置成可在大氣狀態與真空狀態之間切換，並更換處理前及處理後的基板的裝載制動室；設置於上述共同搬運室，在上述處理室及上述裝載制動室之間以上下方向成多段配置複數基板的狀態成批地搬運複數基板的基板搬運裝置；及設置在上述共同搬運室與上述處理室之間及上述共同搬運室與上述裝載制動室之間的閘閥，提供使用上述第1觀點的閘閥作為上述閘閥的至少其中之一的基板處理系統。
如上述，僅設置對應各基板的小開口部以成 批搬運基板的數量，將該等開合用的閥體設置在每個開口部，藉此在開放閥體時，只要使閥體退避於開口部與開口部之間即可，實質上可不需設置如以往成批搬運複數基板時的大的開口部且其開口部在以一個閥體開合時使閥體退避之高度方向的空間。因此，可降低殼體的高度。又，在閥體的開合動作時，使閥體升降，此時藉著閥體轉動機構來轉動閥體，在閥體退避時閥體是以橫向使得密封面不與殼體的壁部相對，可進行以往困難之閥體密封面的清洗。
並且，在閥體退避時，轉動使閥體成橫向， 所以可降低閥體的高度，並可以使開口部的間距較閥體的縱寬更小。
1‧‧‧基板處理系統
10‧‧‧共同搬運室
30a、30b、30c‧‧‧處理室
40‧‧‧裝載制動室
50‧‧‧基板搬運裝置
70‧‧‧閘閥
71‧‧‧殼體
71a‧‧‧開口部
72‧‧‧閥體單元
73‧‧‧閥體單元升降機構
74‧‧‧閥體推壓機構
75‧‧‧閥體轉動機構
81‧‧‧閥體
82‧‧‧閥體座
83‧‧‧推壓輥
84‧‧‧轉動軸
85‧‧‧凸輪從動件
87‧‧‧壓縮彈簧
101‧‧‧凸輪單元
102‧‧‧升降驅動部
104‧‧‧凸輪
111‧‧‧導塊
111a‧‧‧曲面
第1圖是概略表示使用本發明之一實施形態有關的閘閥之基板處理系統的上視圖。
第2圖表示設置在第1圖的基板處理系統的共同搬運室的基板搬運裝置的側視圖。
第3圖是從側面顯示本發明之一實施形態有關的閘閥的縱剖視圖。
第4圖是從前面顯示本發明之一實施形態有關的閘閥的縱剖視圖。
第5圖為本發明之一實施形態有關的閘閥的水平剖視圖。
第6圖表示本發明之一實施形態有關的閘閥的閥體單元的透視圖。
第7圖是從側面顯示本發明之一實施形態有關的閘閥之閥體推壓機構之推壓力解除後狀態的縱剖視圖。
第8圖表示閥體轉動機構的透視圖。
第9圖為說明閥體單元的重心位置用的圖。
第10圖是從側面顯示本發明之一實施形態有關的閘閥使閥體退避後的狀態的縱剖視圖。
第11圖是概略表示本發明之一實施形態有關的閘閥為開啟狀態的動作的圖。
第12圖是概略表示本發明之一實施形態有關的閘閥為關閉狀態的動作的圖。
第13圖為說明閥體轉動機構的具體動作用的圖。
以下，參閱圖示針對本發明的實施形態加以 說明。跨參閱的所有圖示針對相同的部份賦予相同的參閱符號。
第1圖是概略表示使用本發明之一實施形態有關的閘閥之基板處理系統的上視圖。該基板處理系統1是構成例如針對作為如液晶顯示器(LCD)的FPD用玻璃基板或者太陽電池用玻璃基板所使用的矩形基板，例如進行如蝕刻或成膜的真空處理的裝置。
如第1圖表示，基板處理系統1，具備：保持 成真空的共同搬運室10；連接於該共同搬運室10的在真空中對基板G施以蝕刻或成膜等處理的三個處理室30a、30b、30c；在配置於大氣側的基板收容容器(未圖示)與保持成真空的共同搬運室10之間更換基板G的裝載制動室40；設置於共同搬運室10內的搬運基板G的基板搬運裝置50。共同搬運室10為平面形狀成矩形的真空容器，處理室30a、30b、30c與裝載制動室40被連接在共同搬運室10的各側面。
基板搬運裝置50被設置在共同搬運室10的內部。並且，在處理室30a、30b、30c分別的內部具有支撐基板G的機構(未圖示)，保持在預定的減壓周圍環境。又，裝載制動室40是在配置於大氣側的基板收容容器(未 圖示)，及保持成真空的共同搬運室10之間更換基板G之用，具有作為可在大氣周圍環境與減壓周圍環境之間切換的真空預備室的功能。亦即，共同搬運室10、處理室30a、30b、30c及裝載制動室40構成為真空容器。
共同搬運室10在對應處理室30a、30b、30c 、裝載制動室40的位置形成有開口部60，在對應處理室30a、30b、30c、裝載制動室40的開口部60的位置，形成有開口部61a、61b、61c、62a。並且，透過該等開口部60、61a、61b、61c、62a進行基板G的搬運。
在共同搬運室10及與此等連接的處理室30a、30b、30c及裝載制動室40之間，分別設有閘閥70。
在裝載制動室40的大氣側形成有朝基板處理系統1的外部開放的開口部62b，該開口部62b被使用於處理前之基板G的裝載、處理後之基板G的卸載，藉大氣狀態下所開放的閘門63進行開合。
該基板處理系統1是構成可一次複數片，例如在高度方向水平配置三片以上的基板G進行處理，基板搬運裝置50是如第2圖表示，構成可使排列於垂直方向的三個基板支撐臂51a、51b、51c在可旋繞的底構件52上直線行走。並且，藉基板支撐臂51a、51b、51c的進出退避動作及底構件52的旋繞動作，使得基板支撐臂51a、51b、51c可接近於處理室30a、30b、30c及裝載制動室40。再者，符號53為實現底構件52的旋繞動作用的驅動系。
在處理時，從外部的基板收容容器藉著未圖 示的大氣側搬運裝置透過閘門63將複數片基板G搬入到裝載制動室40。搬入後的複數片基板G藉基板搬運裝置50，從裝載制動室40透過閘閥70搬入至共同搬運室10，由此共同搬運室10透過閘閥70搬運到處理室30a、30b、30c的其中之一。並且，在處理室30a、30b、30c中結束處理的基板G是從處理室30a、30b、30c透過閘閥70被搬運到裝載制動室40。搬運處理後的基板G的裝載制動室40是其中的壓力恢復到大氣壓之後透過閘門63被搬出。
接著針對閘閥70詳細說明。
在此，採共同搬運室10與處理室30a之間的閘閥70為例說明。
第3圖是從側面顯示閘閥70的縱剖視圖，第 4圖是從前面顯示的縱剖視圖，第5圖為水平剖視圖，第6圖表示閥體單元的透視圖。
閘閥70具有設置在共同搬運室10與例如處 理室30a之間的殼體71。在殼體71的處理室30a側的垂直壁部71c形成有搬運之基板G通過的複數(本實施形態為三個)開口部71a。開口部71a的間距是和基板搬運裝置50的基板支撐臂51a、51b、51c的間距一致。另一方面，在共同搬運室10側的垂直壁部71d形成一個大的開口部71b。
閘閥70並在殼體71內，具備：具有三個開 口部71a分別開合用的閥體81的閥體單元72；使閥體單元72升降用的閥體單元升降機構73；相對於開口部71a的周圍推壓閥體81用的閥體推壓機構74；及隨著閥體單元72的升降而轉動閥體單元72，使閥體81在與對應開口部71a的位置及從開口部71a退避的位置之間移動的閥體轉動機構75。
閥體單元72具有閥體81，及設置於其兩側的 可進退保持著閥體81的閥體座82。閥體座82是呈L字型，具有閥體81的端面側的端面部82a及閥體81的背面側的背面部82b。在閥體81背面的兩端側設有將閥體81推壓至開口部71a的周圍用的推壓輥83。並在閥體座82的端面部82a的外側面安裝有成為閥體轉動機構75一部份的轉動軸84與凸輪從動件85。又，在閥體81的端部設有插穿於閥體座82的背面部82b的進退軸86，在對應進退軸86的背面部82b外側的部份設有作為彈推力賦予機構的壓縮彈簧87。藉此壓縮彈簧87的彈推力，在閥體推壓機構74不推壓閥體81時，使得閥體81回到後方。 再者，第3~5圖是表示閥體81的密封面推壓於開口部71a的周圍的關閉狀態。此時，藉封環(未圖示)將閥體81與開口部71a周圍部份之間密封。
閥體單元升降機構73是如第4圖表示，具有 延伸於閥體單元72兩側的支柱91，及使支柱91升降用的升降驅動部92。升降的支柱91是如第5圖表示，藉著LM導件93引導。閥體單元72與支柱91是以轉動軸84 可旋轉地連結著，藉著支柱91的升降，使閥體單元72升降，以使得閥體81在對應開口部71a的開口部對應位置與開口部71a下方的退避位置之間升降。
閥體推壓機構74具有設置在閥體單元72的 背面側兩端部的一對凸輪單元101，及凸輪單元101升降用的升降驅動部102。升降的凸輪單元101被以LM導件103所引導。凸輪單元101具有設置在對應各閥體單元72的推壓輥83的位置的凸輪104，及支撐凸輪104的支撐棒105。亦即，凸輪單元101在支撐棒105上安裝有上下三個凸輪104。如第3圖表示，凸輪104形成有上部較厚，隨著向下而逐漸變薄的傾斜部。第3圖的位置中，凸輪104是採取其上部厚的部份對應推壓輥83(閥體81)的推壓位置，藉著凸輪104透過推壓輥83使閥體81前進並將其密封面推壓於開口部71a的周圍，使開口部71a成關閉的狀態。從此狀態藉著凸輪單元101的上升，使凸輪104在最薄的下端部成為對應推壓輥83(閥體81)的推壓解除位置，藉壓縮彈簧87的彈推力，推壓輥83通過凸輪104的傾斜部到達最薄的下端部。藉此，如第7圖表示，解除閥體推壓機構74所產生的彈推力，使閥體81到達從垂直壁部71c分離的位置。相反地，藉著凸輪101從第7圖的狀態下降，透過凸輪104及推壓輥83將閥體81推壓至開口部71a的周圍。
閥體轉動機構75是如第8圖表示，具有：上述的轉動軸84與凸輪從動件85，及鄰接於閥體座82的 端面部82a，並固定在殼體71的導塊111。導塊111其上面是形成曲面111a，在該曲面111a以凸輪從動件85接觸的方式引導凸輪從動件85。並且，在閥體單元72升降時，使凸輪從動件85維持接觸於曲面111a狀態在曲面111a上移動。藉此，閥體單元72(閥體81)在轉動軸84的周圍轉動。此時，如第9圖表示，將閥體單元72的重心位置形成於轉動軸84的更背面側。藉此，可使凸輪從動件85形成經常接觸於導塊111的曲面111a的狀態。
因此，藉著閥體單元72從第7圖的狀態下降 ，使閥體單元72(閥體81)轉動90度，並如第10圖表示，閥體81將密封面向下，形成退避到所對應之開口部71a下方的狀態，開放開口部71a。相反地，藉著使閥體單元72從第10圖的開放狀態上升，可以使第7圖的閥體81成為對應於開口部71a的狀態。
接著，針對如上述所構成的基板處理系統的 處理動作以閘閥70的動作為中心說明。
首先，打開閘門63藉大氣側基板搬運裝置(未圖示)將複數片(本實施形態為三片)未處理的基板G搬入至大氣周圍環境的裝載制動室40，關閉閘門63使裝載制動室40內成為減壓周圍環境。並且，開啟裝載制動室40與共同搬運室10之間的閘閥70，使得基板搬運裝置50的三個基板支撐臂51a、51b、51c進出於裝載制動室40內，可成批地接受搬入到裝載制動室40內的未處理的基板G。接著，基板搬運裝置50的三個基板支撐臂51a、51b、51c 退避到共同搬運室10，關閉裝載制動室40與共同搬運室10之間的閘閥70。
其次，使基板搬運裝置50的基板支撐臂51a 、51b、51c與處理室30a、30b或30c相對，開啟共同搬運室10與處理室30a、30b或30c之間的閘閥70，可使基板支撐臂51a、51b、51c進出於處理室30a、30b或30c，將基板G搬運到處理室30a、30b或30c。接著，使基板支撐臂51a、51b、51c退避至共同搬運室10，關閉其閘閥70而開始進行處理室30a、30b或30c的處理。在此期間，只要可開始進行下一個基板G的搬運，即可藉著基板支撐臂51a、51b、51c從裝載制動室40取出複數的基板G，將未處理的基板搬運到處理室30a、30b及30c之中。
在處理室處理結束之後，打開對應的閘閥70 ，使基板支撐臂51a、51b、51c進出於其處理室，接受處理後的基板G。接著，使基板支撐臂51a、51b、51c退避到共同搬運室10，關閉其閘閥70。接著，使基板支撐臂51a、51b、51c與裝載制動室40相對，開啟共同搬運室10與裝載制動室40之間的閘閥70，可使基板支撐臂51a、51b、51c進出於裝載制動室40，將處理後的基板G搬運到裝載制動室40。接著，使基板支撐臂51a、51b、51c退避至共同搬運室10，關閉共同搬運室10與裝載制動室40之間的閘閥70，使裝載制動室40內成為大氣周圍環境。在此之後，打開閘門63藉著大氣側基板搬運裝置(未圖示)從裝載制動室40搬出處理後的基板G。
在以上一連續的動作中，如上述，在各真空 容器間的基板G的搬運時，必然會伴隨著閘閥70的開合。本實施形態中，閘閥70是如上述，在殼體71形成有搬運基板G用的三個開口部71a，閘閥70的開合動作是藉對應該等三個開口部71a的三個閥體81來進行。
如第11圖表示，在開放閥體70時，(a)的閥 體81為縱向從密封面被推壓至開口部71a周圍的「關閉狀態」，使閥體81後退到(b)的位置，隨後一邊使閥體81下降並轉動90度，在以密封面為下的橫向狀態退避到各閥體81對應的開口部71a的下方位置，藉此成為(c)的「開啟狀態」。如上述閘閥70成為「開啟狀態」時，可藉著基板搬運裝置50的基板支撐臂51a、51b、51c通過各開口部71a搬運基板G。
另一方面，如第12圖表示，在關閉閘閥70 時，(a)的閥體81是從密封面為下並呈橫向狀態退避到開口部71a下方位置的「開啟狀態」，一邊使閥體81上升並轉動90度成縱向的狀態，藉以使(b)的各閥體81成為與各開口部71a對面的狀態，隨後，使閥體81前進將其密封面推壓至開口部71a的周圍，成為(c)的「關閉狀態」。
其次，具體說明如上述的閘閥70的開啟動作及關閉動作。
針對開啟動作雖是從第11圖的(a)的「關閉狀態」動作到(c)的「開啟狀態」，但是「關閉狀態」是如第3圖表示，閥體81被以閥體推壓機構74的凸輪單元101的凸輪 104推壓，藉此形成將閥體81推壓至開口部71a的周圍的狀態。在此狀態下藉升降驅動部102使得凸輪單元101上升，解除凸輪104的推壓，並藉著閥體單元72的壓縮彈簧87的彈推力，使閥體81後退成為第7圖(第11圖的(b))的狀態。由此狀態，藉閥體單元升降機構73使閥體單元72下降。此時，利用構成閥體轉動機構75的轉動軸84、凸輪從動件85及導塊111的共同作用，具體地，隨著閥體單元72下降的凸輪從動件85被引導至固定在殼體71的導塊111的曲面111a移動，藉著閥體單元72在轉動軸84周圍的90度轉動，以橫向狀態退避到各閥體單元72(閥體81)對應的開口部71a的下方位置，成為第10圖(第11圖的(c))的「開啟狀態」。
針對關閉動作是在最初從第10圖(第12圖的 (a))的「開啟狀態」，藉閥體單元升降機構73使閥體單元72上升。此時，利用構成閥體轉動機構75的轉動軸84、凸輪從動件85及導塊111的共同作用，具體地，隨著閥體單元72上升的凸輪從動件85被引導至固定在殼體71的導塊111的曲面111a移動，藉著閥體單元72在轉動軸84周圍的90度轉動，以縱向狀態配置在與各閥體單元72(閥體81)對應的開口部71a對面的位置上，成為第7圖(第12圖的(b))的狀態。在此狀態下，藉著使閥體推壓機構74的凸輪單元101下降，凸輪104透過推壓輥83推壓閥體81，使閥體81前進將其密封面推壓至開口部71a的周圍部份，成為第3圖(第12圖的(c))的「關閉狀態」。
接著，更具體說明閥體轉動機構75的動作。
第13圖是說明藉閥體轉動機構75使閥體單元72(閥體81)轉動的動作用的圖，表示進行閘閥70的關閉動作時的例。第13圖的(a)為閥體單元72(閥體81)以橫向退避到開口部71a的下方位置的狀態。由此狀態使(b)、(c)、(d)與閥體單元72上升時，安裝於閥體單元72的凸輪從動件85沿著被固定在殼體71的導塊111的曲面111a移動，閥體單元72隨此而在轉動軸84的周圍轉動，使閥體單元72(閥體81)成為縱向。並且，如最後的(e)，閥體單元72從(a)的狀態轉動90度，成為與開口部71a對面的狀態。再者，進行閘閥70的開啟動作的場合，形成與第13相反的動作。
如上述，本實施形態中，在上下方向以多段配置複數基板G的狀態成批搬運的基板處理系統中，閘閥70僅設置成批搬運對應各基板G的小的開口部71a之基板G的數量，將該等開合用的閥體81設置在每個開口部71a，所以在開放閥體81時，只要配置在對應閥體81的開口部71a的下方位置，即開口部71a與開口部71a之間(針對最下部的開口部71a之其下方位置)即可，實質上可不需設置如以往成批搬運複數基板時的大的開口部且其開口部在以一個閥體開合時使閥體退避之高度方向的空間。因此，可降低殼體71的高度。並且，即使配置在上下方向的基板的段數變化，也不會改變閥體81的衝程。
並且，在該等閥體81的開合動作時，使閥體 單元72(閥體81)升降，此時藉閥體轉動機構75來轉動閥體單元72(閥體81)，在「開啟狀態」閥體81為橫向並以密封面為下的狀態退避到開口部71a的下方位置，因此以往難以進行閥體81的密封面的清洗成為可能。又，此時，將閥體81退避到開口部71a的下方位置時，使閥體81橫向轉動90度，所以可降低閥體81的高度，使得開口部71a的間距比閥體81的縱寬更小。
另外，閥體單元72(閥體81)的轉動動作，在 以閥體單元升降機構73使得閥體單元72升降時，藉構成閥體轉動機構75的轉動軸84、凸輪從動件85及導塊111的共同作用，可不需使用個別的動力進行，所以極為簡便。
並且此外，藉閥體81進行對開口部71a周圍 的密封時及解除密封時的動作，可藉升降驅動部102使閥體推壓機構74的凸輪單元101升降，並藉著凸輪單元101的凸輪104透過推壓輥83使閥體81進出，將閥體81推壓至開口部71的周圍，或藉著凸輪104的推壓力解除時之壓縮彈簧87的彈推力來恢復等簡易的動作進行。
再者，本發明不限於上述的實施形態可進行 種種的變形。例如，上述實施形態中，雖表示將三片基板成批地搬運，進行處理的基板處理系統，但只要為多數即可不論其片數，但是本發明的成批處理的基板片數為越多效果越大，並以三片以上的場合為佳。另外作為閥體轉動機構是利用閥體單元的升降，並藉著轉動軸、凸輪從動件 、導塊的共同作用來轉動閥體，但是閥體轉動機構不限於此。又，作為閥體推壓機構是藉著具有對應閥體的凸輪之凸輪單元的升降動作，雖是利用閥體使凸輪作用，但是不僅限於此。
10‧‧‧共同搬運室
30a‧‧‧處理室
70‧‧‧閘閥
71‧‧‧殼體
71a‧‧‧開口部
71b‧‧‧開口部
71c‧‧‧垂直壁部
71d‧‧‧垂直壁部
72‧‧‧閥體單元
73‧‧‧閥體單元升降機構
74‧‧‧閥體推壓機構
75‧‧‧閥體轉動機構
81‧‧‧閥體
83‧‧‧推壓輥
84‧‧‧轉動軸
85‧‧‧凸輪從動件
91‧‧‧支柱
101‧‧‧凸輪單元
102‧‧‧升降驅動部
103‧‧‧LM導件
104‧‧‧凸輪
105‧‧‧支撐棒
111‧‧‧導塊

Claims (8)

  1. 一種閘閥，係於真空容器間搬運以上下方向成多段配置的複數基板時，使用於真空容器開合用的閘閥，具備：殼體，具有形成複數開口部的垂直壁，以對應所搬運成上述多段配置的基板；閥體，設置在上述殼體內，使上述開口部開合之用；閥體升降機構，上述閥體升降之用；閥體轉動機構，與上述閥體升降機構的升降一起使閥體轉動；及閥體推壓機構，將上述閥體的密封面推壓至上述開口部，上述閥體升降機構，使得上述閥體在對應上述開口部的開口部對應位置與鄰接於上述開口部的退避位置之間升降，上述閥體轉動機構，藉著上述閥體升降機構使上述閥體升降時轉動上述閥體，並在上述開口對應位置使得縱向的上述閥體在上述退避位置成為橫向，上述閥體推壓機構，將位在上述開口部對應位置的上述閥體朝著上述開口部進出並推壓上述閥體，將上述閥體的密封面推壓至上述開口部的周圍。
  2. 如申請專利範圍第1項記載的閘閥，其中，進一步具備設置在上述閥體的兩端，可進退地保持著閥體的閥體座，藉上述閥體與上述閥體座構成閥體單元，上述閥體升 降機構為可使上述閥體單元升降。
  3. 如申請專利範圍第2項記載的閘閥，其中，上述閥體轉動機構，具有：設置在上述閥體座端面的轉動軸與凸輪從動件，及與上述閥體座鄰接，並固定在上述殼體，形成有引導上述凸輪從動件的曲面的導塊，藉著上述閥體升降機構在上述閥體單元升降時，在上述導塊的曲面引導並移動上述凸輪從動件，與此一起使得包括上述閥體的上述閥體單元在上述轉動軸的周圍轉動。
  4. 如申請專利範圍第3項記載的閘閥，其中，上述退避位置為上述開口部的下方位置，上述閥體轉動機構使上述閥體單元從上述開口部對應位置下降時，在上述退壁位置轉動上述閥體單元以使得上述密封面向下。
  5. 如申請專利範圍第2項記載的閘閥，其中，上述閥體推壓機構在上述閥體單元中，僅推壓上述閥體並朝著上述開口部進出。
  6. 如申請專利範圍第5項記載的閘閥，其中，上述閥體推壓機構，具有：在對應上述複數閥體的位置具有凸輪的凸輪單元，及使上述凸輪單元升降用的升降驅動部，藉著使上述凸輪單元升降，採取上述凸輪推壓上述閥體的推壓位置與解除推壓的推壓解除位置，藉此將上述凸輪定位於上述推壓位置並推壓上述閥體。
  7. 如申請專利範圍第5項記載的閘閥，其中，進一步具備彈推力賦予機構，該彈推力賦予機構在上述閥體推壓機構的推壓力被解除時，賦予上述閥體回到原來位置的彈 推力。
  8. 一種基板處理系統，具備：共同搬運室，被保持成真空；處理室，連接於上述共同搬運室的在真空下進行預定的處理；裝載制動室，連接於上述共同搬運室，設置成可在大氣狀態與真空狀態之間切換，並更換處理前及處理後的基板；基板搬運裝置，設置於上述共同搬運室，在上述處理室及上述裝載制動室之間以上下方向成多段配置複數基板的狀態成批地搬運複數基板；及閘閥，設置在上述共同搬運室與上述處理室之間，及上述共同搬運室與上述裝載制動室之間，使用請求項1的閘閥作為上述閘閥的至少其中之一。
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