TW201413301A - 光學積層體 - Google Patents
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Abstract
本發明之目的在於提供可以高精度貼合於顯示裝置上,且可改善貼合後之顯示裝置之上下視角的光學積層體。本發明之光學積層體依序包含表面保護膜、透明支撐體、光學各向異性層、黏著層、脫模膜,光學各向異性層是如下之圖案光學各向異性層:包含面內慢軸方向相互不同之第1相位差區域及第2相位差區域,且第1相位差區域及第2相位差區域於面內交互配置,透明支撐體含有高分子材料,且厚度為10 μm~59 μm,Δ含水率成為規定之範圍。
Description
本發明是有關於可顯示立體影像之影像顯示裝置中所使用之光學積層體。
於顯示立體影像之三維(three Dimension,3D)影像顯示裝置中必需用以將右眼用影像及左眼用影像設為例如相互相反方向之圓偏光影像之光學構件。
於此種光學構件中利用慢軸或延遲等相互不同之區域規則地配置於面內之圖案相位差膜。
例如於專利文獻1中記載了「一種光學膜,其包含:支撐體,含有吸濕率為0.5%以上之聚合物;光學各向異性層,包含雙折射率相互不同之第一相位差區域與第二相位差區域,所述第一相位差區域與所述第二相位差區域每1列地交互圖案化。」([申請專利範圍第1項]),且亦記載了介隔黏著層積層有該光學膜與偏光膜之偏光板([申請專利範圍第11項])。
而且,於專利文獻2中記載了「一種附有相位差層之偏光板,其是3維液晶顯示裝置之視認側中所使用之附有相位差層
之偏光板,包含偏光元件、配置於該偏光元件之至少視認側的保護層、於該視認側所配置之保護層之進一步視認側介隔接著層而配置之相位差層,該相位差層以規定之圖案而包含分別於不同之方向上具有慢軸之多個區域。」([申請專利範圍第1項])。
[先前技術文獻]
[專利文獻]
[專利文獻1]日本專利特開2011-191756號公報
[專利文獻2]日本專利特開2012-123040號公報
此處,於專利文獻1及專利文獻2中,均以使圖案相位差膜(圖案化之相位差層)之尺寸變化變小、減低串擾為目的,但本發明者等人進行了研究,結果可知存在以下之課題。
亦即,可知即使使圖案相位差膜自身之尺寸變化變小,若於顯示裝置上之貼合之精度差,則貼合後之顯示裝置之視角(特別是上下視角)差。
特別是近年來自提高背光源之光利用效率之觀點考慮,存在液晶顯示器之畫素之開孔率(aperture ratio)提高之傾向、或者畫素間所存在之黑色矩陣之寬度變窄之傾向,因此變得進一步容易產生由貼合時之圖案相位差膜與畫素之偏移所造成之串擾。
因此,本發明之目的在於提供一種可以高精度貼合於顯示裝置上、且可改善貼合後之顯示裝置之上下視角的光學積層體。
本發明者等人為了達成上述目的而進行了努力研究,結
果可知,將圖案相位差膜貼合於顯示裝置上之精度降低之因素之一是貼合時之位置偏移。而且,自使該位置偏移變小之觀點考慮,以提高光學積層體之剛性為目的,研究與含有高分子材料之透明支撐體之諸特性之關係。其結果,意外地發現所謂剛性提高於相反方向之薄膜化之方向存在改善區域,且於規定之△含水率之環境(主要是濕度)依存性低之方向存在改善區域,從而完成本發明。
亦即,本發明提供以下之[1]~[10]。
[1]一種光學積層體,其依序包含表面保護膜、透明支撐體、光學各向異性層、黏著層、脫模膜,光學各向異性層是如下之圖案光學各向異性層,包含面內慢軸方向相互不同之第1相位差區域及第2相位差區域,且第1相位差區域及第2相位差區域於面內交互配置,透明支撐體含有高分子材料,且厚度為10μm~59μm,藉由下述式(1)及式(2)所定義之△含水率成為0.20質量%以下:
(1)△含水率[質量%]=於溫度25℃、相對濕度40%之環境下經過336小時後,移動至溫度25℃、相對濕度60%之環境下進一步經過300分鐘後之含水率-於溫度25℃、相對濕度40%之環境下經過336小時後之含水率
(2)含水率[質量%]=光學積層體中所含之水分量/光學積層
體之質量。
[2]如[1]所述之光學積層體,其中,透明支撐體中之光學各向異性層之第1相位差區域及第2相位差區域交互配置之配置方向的彈性模數為1.5GPa~5.0GPa。
[3]如[1]或[2]所述之光學積層體,其中,透明支撐體中之光學各向異性層之第1相位差區域及第2相位差區域交互配置之配置方向的濕度尺寸變化率為0.03%~0.50%。
[4]如[1]~[3]中任一項所述之光學積層體,其中,包含透明支撐體與光學各向異性層之積層部分滿足下述式(I):(I):| Rth(550)|≦120nm
此處,Rth(550)是波長550nm之厚度方向之延遲(nm)。
[5]如[1]~[4]中任一項所述之光學積層體,其中,包含透明支撐體與光學各向異性層之積層部分滿足下述式(II):(II):|△Rth(30%RH-80%RH)|≦30nm
此處,△Rth(30%RH-80%RH)是於相對濕度30%及相對濕度80%下所測定之Rth(550)之差。
[6]如[1]~[5]中任一項所述之光學積層體,其中,透明支撐體中所含有之高分子材料至少包含醯化纖維素。
[7]如[1]~[6]中任一項所述之光學積層體,其中,脫模膜是厚度為10μm~100μm之雙軸延伸聚酯膜。
[8]如[1]~[7]中任一項所述之光學積層體,其中,表面保護膜是厚度為20μm~100μm之雙軸延伸聚酯膜。
[9]如[1]~[8]中任一項所述之光學積層體,其中,光學各向異性層由含有棒狀液晶之組成物而形成。
[10]如[1]~[9]中任一項所述之光學積層體,其中,光學各向異性層由含有圓盤狀液晶之組成物而形成。
如以下所說明那樣,藉由本發明可提供可以高精度貼合於顯示裝置上、且可改善貼合後之顯示裝置之上下視角的光學積層體。
10‧‧‧光學積層體
12‧‧‧表面保護膜
14‧‧‧透明支撐體
16‧‧‧光學各向異性層
16a‧‧‧第1相位差區域
16b‧‧‧第2相位差區域
18‧‧‧黏著層
20‧‧‧脫模膜
22‧‧‧視認側偏光板
a、b‧‧‧面內慢軸
P‧‧‧吸收軸
圖1是表示本發明之光學積層體之一例的示意性剖面圖。
圖2是表示光學各向異性層之一例的示意性俯視圖。
圖3是表示光學各向異性層之另外一例的示意性俯視圖。
以下,對本發明加以詳細說明。另外,於本說明書中使用「~」而表示之數值範圍表示包含「~」之前後所記載之數值作為下限值及上限值的範圍。首先,對本說明書中所使用之用語加以說明。
Re(λ)、Rth(λ)各自表示波長λ之面內之延遲、及厚度方向之延遲。Re(λ)是於KOBRA 21ADH、或WR(王子計測機器股份有限公司製造)中,使波長λnm之光向膜法線方向入射而進行測定。於選擇測定波長λnm時,可手動交換波長選擇型濾波器,或者藉由程式等轉換測定值而進行測定。所測定之膜以單軸或雙軸之折射率橢球而表示之情形時,藉由以下之方法而算出Rth(λ)。另外,該測定方法於後述之光學各向異性層中之盤狀液晶分子之配向膜側之平均傾斜角、其相反側之平均傾斜角之測定中亦可部分性地利用。
Rth(λ)是將面內之慢軸(藉由KOBRA 21ADH或WR而判斷)作為傾斜軸(旋轉軸)(於並無慢軸之情形時,將膜面內之任意方向作為旋轉軸),相對於膜法線方向,自法線方向起直至單側50°每隔10度地分別自該傾斜之方向使波長λnm之光入射,總共測定6點之所述Re(λ),基於該測定之延遲值與平均折射率之假定值及所輸入之膜厚值,由KOBRA 21ADH或WR算出。於上述中,具有自法線方向起,將面內之慢軸作為旋轉軸,於某傾斜角度延遲值成為零之方向的膜之情形時,於大於該傾斜角度之傾斜角度的延遲值將其符號變更為負之後,由KOBRA 21ADH或WR算出。另外,亦可將慢軸作為傾斜軸(旋轉軸)(於並無慢軸之情形時,將膜面內之任意方向作為旋轉軸),自任意之傾斜之2個方向測定延遲值,基於該值與平均折射率之假定值、及所輸入之膜厚值,藉由以下之式(A)及式(B)而算出Rth。
另外,上述Re(θ)表示自法線方向傾斜角度θ之方向的延遲值。而且,式(A)中之nx表示面內之慢軸方向之折射率,ny表示於面內與nx正交之方向的折射率,nz表示與nx及ny正交之方向的折射率。d為膜厚。
Rth=((nx+ny)/2-nz)×d˙˙˙˙˙˙˙˙˙˙式(B)
所測定之膜為無法藉由單軸或雙軸之折射率橢球表現者、亦即並無光軸(optic axis)之膜之情形時,藉由以下方法而算出Rth(λ)。Rth(λ)是將面內之慢軸(藉由KOBRA 21ADH或WR而判斷)作為傾斜軸(旋轉軸),相對於膜法線方向於-50°至+50°中每隔10°地分別自該傾斜之方向使波長λnm之光入射,測定11點之所述Re(λ),基於該測定之延遲值與平均折射率之假定值及所輸入之膜厚值,由KOBRA 21ADH或WR算出。而且,於上述測定中,平均折射率之假定值可使用聚合物手冊(約翰.威利父子出版公司(JOHN WILEY & SONS,INC))、各種光學膜之
目錄值。關於平均折射率之值並不已知者,可藉由阿貝折射計而測定。將主要之光學膜之平均折射率值例示於以下:醯化纖維素(1.48)、環烯烴聚合物(1.52)、聚碳酸酯(1.59)、聚甲基丙烯酸甲酯(1.49)、聚苯乙烯(1.59)。藉由輸入該些平均折射率之假定值與膜厚,由KOBRA 21ADH或WR而算出nx、ny、nz。藉由該算出之nx、ny、nz而進一步算出Nz=(nx-nz)/(nx-ny)。
另外,於本說明書中,所謂「可見光」是指380nm~780nm。而且,於本說明書中,關於測定波長並無特別附記之情形時,測定波長為550nm。
而且,於本說明書中,關於角度(例如「90°」等角度)及其關係(例如「正交」、「平行」、及「45°交叉」等),包含本發明所屬之技術領域中所容許之誤差之範圍。例如表示與嚴格之角度±不足10°之範圍內等,與嚴格之角度的誤差較佳的是5°以下,更佳的是3°以下。
[光學積層體]
本發明之光學積層體依序包含表面保護膜、透明支撐體、光學各向異性層、黏著層、脫模膜,上述光學各向異性層是如下之圖案光學各向異性層:包含面內慢軸方向相互不同之第1相位差區域及第2相位差區域,且上述第1相位差區域及第2相位差區域於面內交互配置,上述透明支撐體含有高分子材料,且厚度為10μm~59μm,藉由下述式(1)及式(2)所定義之△含水率成為0.20質量
%以下:
(1)△含水率[質量%]=於溫度25℃、相對濕度40%之環境下經過336小時後,移動至溫度25℃、相對濕度60%之環境下進一步經過300分鐘後之含水率-於溫度25℃、相對濕度40%之環境下經過336小時後之含水率
(2)含水率[質量%]=光學積層體中所含之水分量/光學積層體之質量。
此處,上述式(1)中之所謂「經過336小時」是意圖規定在溫度25℃、相對濕度40%之環境下實現光學積層體吸濕之水分量(含水率)充分飽和這一效果所需之時間(2週)。因此,可於經過336小時不久後並不移動而測定含水率,亦可於經過336小時以上(例如3週)之後並不移動而測定含水率。
而且,所謂含水率是指藉由卡爾費歇爾(Karl Fischer)法進行測定,水分量(g)除以樣品之質量(g)而算出之值。
具有此種構成之本發明之光學積層體可以高精度貼合於顯示裝置上,可改善貼合後之顯示裝置之上下視角。
認為其原因在於:於將本發明之光學積層體貼合於顯示裝置上時(較佳的是貼合不久前),將脫模膜剝離,介隔黏著層而與立體影像顯示用影像顯示裝置貼合,藉此而抑制位置偏移。
如上所述地抑制位置偏移之理由並不確定,但認為其原因在
於:含有高分子材料之透明支撐體之厚度為59μm以下,因此抑制由於該透明支撐體之上下所設置的表面保護膜與黏著層及脫模膜之存在,隨著溫度或濕度(特別是濕度)之變化的透明支撐體之尺寸變化。另一方面,認為其原因在於:透明支撐體之厚度為10μm以上,因此可抑制由於與影像顯示裝置貼合時,水平方向之拉伸或垂直方向之收縮所引起之應變。
而且,認為其原因在於:光學積層體之△含水率成為0.20質量%以下,因此抑制基於光學積層體之製作環境和與影像顯示裝置貼合時之作業環境之不同、特別是濕度之不同的尺寸變化。
其次,使用圖式對本發明之光學積層體之全體構成加以說明。
圖1中所示之光學積層體10包含表面保護膜12、透明支撐體14、光學各向異性層16、黏著層18、及脫模膜20。
圖1中所示之光學各向異性層16是如下之圖案光學各向異性層:包含面內慢軸方向相互不同之第1相位差區域及第2相位差區域,且第1相位差區域及第2相位差區域於面內交互配置。
此種圖案光學各向異性層較佳的是第1相位差區域及第2相位差區域分別具有相互正交之面內慢軸。具體而言,如圖2及圖3所示,可列舉使第1相位差區域16a及第2相位差區域16b之面內慢軸a及面內慢軸b分別與立體影像顯示用影像顯示裝置中之視認側偏光板22之吸收軸P成±45°而配置光學各向異性層16之
形態。
於利用圓偏光之形態中,第1相位差區域及第2相位差區域之Re較佳的是分別為λ/4,具體而言較佳的是110nm~165nm,更佳的是120nm~145nm。
另外,於透明支撐體為相位差膜之情形時,亦包含透明支撐體之Re,較佳的是於自光學積層體全體除去脫模膜與表面保護膜之狀態下Re為所述範圍。
於一例中,透明支撐體包含低Re之膜,具體而言透明支撐體之Re(550)為0nm~10nm。
其次,對本發明之光學積層體中所使用之各種構件加以詳細說明。
<表面保護膜>
本發明之光學積層體於與後述之脫模膜為相反側之表面包含表面保護膜。
此處,表面保護膜是於直至使用本發明之光學積層體而製作立體影像顯示用影像顯示裝置之間,用以保護表面而設置者。
此種表面保護膜可使用日本專利特開2007-304317號公報中所記載之偏光板用表面保護膜,具體而言可適宜使用雙軸延伸聚酯膜。
於本發明中,表面保護膜之厚度並無特別限定,較佳的是20μm~100μm,自可進一步抑制位置偏移、進一步改善上下視角之理由考慮,與上述透明支撐體之厚度之比率(表面保護膜/
透明支撐體)較佳的是0.3~10,更佳的是0.4~1.5。
於本發明之光學積層體中,可於與透明支撐體上所設置之光學各向異性層相反之側,使用黏著劑等而設置表面保護膜。
<透明支撐體>
本發明之光學積層體包含含有高分子材料、且厚度為10μm~59μm之透明支撐體。
藉由包含此種透明支撐體且包含後述之表面保護膜以及黏著層及脫模膜,可以高精度將本發明之光學積層體貼合於顯示裝置上,可改善貼合後之顯示裝置之上下視角。
認為其原因在於:如上所述將本發明之光學積層體貼合於顯示裝置上時(較佳的是貼合之不久前),將脫模膜剝離,經由黏著層與立體影像顯示用影像顯示裝置貼合,藉此而抑制位置偏移。
作為上述透明支撐體,自可進一步抑制位置偏移、進一步改善上下視角之理由考慮,厚度較佳的是20μm~50μm,更佳的是30μm~45μm。
於本發明中,自進一步抑制位置偏移、進一步改善上下視角之觀點,亦即進一步抑制由於表面保護膜與黏著層及脫模膜之存在而造成之透明支撐體之尺寸變化之觀點考慮,透明支撐體中之光學各向異性層之第1相位差區域及第2相位差區域交互配置之配置方向的彈性模數較佳的是1.5GPa~5.0GPa,更佳的是1.7GPa~4.5GPa,進一步更佳的是2.0GPa~3.5GPa。另外,可藉由高分子材料之種類、添加劑之種類及量、延伸而控制彈性模
數。
此處,彈性模數是準備長150mm、寬10mm之支撐體試樣(膜),於25℃、相對濕度60%下進行24小時之調濕後,基於ISO527-3:1995之規格,於初始試樣長100mm、拉伸速度10mm/min下進行測定,根據應力-應變曲線之初始斜率所求出之拉伸彈性模數。
另外,根據支撐體試樣之長度方向與寬度方向之取法,彈性模數一般不同,於本發明中,測定支撐體試樣中之光學各向異性層之第1相位差區域及第2相位差區域交互配置之配置方向的彈性模數。
而且,於本發明中,將音速成為最大之方向的彈性模數設為E1,將與其正交之方向之彈性模數設為E2時,自保持透明支撐體之柔軟性且使尺寸變化變小之觀點考慮,該些之比(E1/E2)較佳的是1.1~5.0,更佳的是1.5~3.0。
另外,於本發明中音速(音波傳播速度)成為最大之方向是將透明支撐體於25℃、相對濕度60%下進行24小時之調濕後,使用配向性測定機(SST-2500;野村商事股份有限公司製造),以超音波脈衝之縱波振動之傳播速度成為最大之方向的方式求出。
於本發明中,自進一步抑制位置偏移、進一步改善上下視角之觀點,亦即進一步抑制由於表面保護膜與黏著層及脫模膜之存在而造成之透明支撐體之尺寸變化之觀點考慮,透明支撐體中之光學各向異性層之第1相位差區域及第2相位差區域交互配
置之配置方向之濕度尺寸變化率較佳的是0.03%~0.50%,更佳的是0.05%~0.48%,進一步更佳的是0.05%~0.44%。
此處,透明支撐體之濕度尺寸變化率是如下所述地測定、算出之變化率。
首先,如上所述地將光學各向異性層之第1相位差區域及第2相位差區域交互配置之配置方向作為長度方向,準備切出之長25cm(測定方向)、寬5cm之支撐體試樣(膜),於該試樣上以20cm之間隔挖出銷孔(pin hole),於25℃、相對濕度10%下進行24小時之調濕後,以銷規(pin gage)對銷孔之間隔進行測長(將測定值設為L0)。
其次,將試樣於25℃、相對濕度80%下進行24小時之調濕後,以銷規對銷孔之間隔進行測長(將測定值設為L1)。使用該些測定值,藉由下述式算出濕度尺寸變化率。
濕度尺寸變化率(%)={(L1-L0)/L0}×100
於本發明中,自可改善左右視角之理由考慮,包含透明支撐體與後述之光學各向異性層之積層部分之| Rth(550)|較佳的是120nm以下,更佳的是80nm以下,進一步更佳的是40nm以下。另外,Rth(550)之測定方法如上所述。
此處,所謂「包含透明支撐體與後述之光學各向異性層之積層部分」是表示不含作為本發明之光學積層體中之其他必需構成
要件的表面保護膜、黏著層及脫模膜之積層部分,關於表面保護膜與透明支撐體之間所設置的任意構成(例如硬塗層或抗反射層等)、或透明支撐體與光學各向異性層之間所設置之任意構成(例如配向膜等),包含於上述積層部分中。
於本發明中,自可於範圍廣泛之濕度環境中改善左右視角之理由考慮,透明支撐體之於相對濕度30%及相對濕度80%中所測定之Rth(550)之差的絕對值、亦即|△Rth(30%RH-80%RH)|較佳的是30nm以下,更佳的是不足30nm。
而且,自同樣之理由考慮,包含透明支撐體與後述之光學各向異性層的積層部分之|△Rth(30%RH-80%RH)|較佳的是30nm以下,更佳的是不足30nm。
形成上述支撐體之材料例如可列舉纖維素系聚合物;聚甲基丙烯酸甲酯、含有內酯環之聚合物等具有丙烯酸酯聚合物之丙烯酸系聚合物;熱塑性降冰片烯系聚合物;聚碳酸酯系聚合物;聚對苯二甲酸乙二酯、聚萘二甲酸乙二酯等聚酯系聚合物;聚苯乙烯、丙烯腈-苯乙烯共聚物(AS樹脂)等苯乙烯系聚合物;聚乙烯、聚丙烯、乙烯-丙烯共聚物等聚烯烴系聚合物;氯乙烯系聚合物;尼龍、芳香族聚醯胺等醯胺系聚合物;醯亞胺系聚合物;碸系聚合物;聚醚碸系聚合物;聚醚醚酮系聚合物;聚苯硫醚系聚合物;偏二氯乙烯系聚合物;乙烯醇系聚合物;乙烯醇縮丁醛(vinyl butyral)系聚合物;芳酯系聚合物;聚甲醛系聚合物;環氧系聚合物;或混合有該些聚合物之聚合物。
而且,上述支撐體亦可形成為丙烯酸系、胺基甲酸酯系、丙烯酸胺基甲酸酯系、環氧系或矽酮系等紫外線硬化型、熱硬化型樹脂之硬化層。
其中,自藉由選擇各種添加劑或延伸條件、取代度,比較容易控制光學特性之理由考慮,可較佳地使用用作現有偏光板之透明保護膜的以三乙酸纖維素為代表之纖維素系聚合物(以下稱為醯化纖維素)。
而且,自光學積層體之△含水率變低、能夠以更高之精度貼合於顯示裝置上之理由考慮,亦較佳的是使用丙烯酸系聚合物。
丙烯酸系聚合物可列舉聚甲基丙烯酸甲酯或日本專利特開2009-98605號公報之段落[0017]~段落[0107]中所記載之含有內酯環之聚合物等。
同樣地自光學積層體之△含水率變低、能夠以更高之精度貼合於顯示裝置上之理由考慮,可較佳地使用熱塑性降冰片烯系樹脂。熱塑性降冰片烯系樹脂可列舉日本瑞翁(ZEON)股份有限公司製造之ZEONEX、ZEONOR,JSR股份有限公司製造之ARTON等。
於本發明中,上述支撐體含有上述形成材料(特別是醯化纖維素)且亦可含有至少1種塑化劑。但塑化劑一般使膜之彈性模數降低,因此重要的是調整所使用之塑化劑之種類及添加量。若以低添加量添加糖酯及縮聚寡聚物系塑化劑,則有助於拉
伸彈性模數之上升,因此較佳。其中較佳的是具有芳香族基之糖酯及縮聚寡聚物系塑化劑,更佳的是糖酯。例如藉由對包含糖酯之醯化纖維素膜進行延伸處理(較佳的是雙軸延伸處理),可使MD及TD之拉伸彈性模數上升至上述範圍。而且,糖酯亦有助於改善醯化纖維素膜與硬塗層之密接性。
上述糖酯可列舉日本專利特開2012-215812號公報之段落[0022]~段落[0050]中所記載之糖酯等。
而且,於本發明中,上述支撐體之製作方法並無特別限定,例如聚合物膜(特別是醯化纖維素膜)可藉由溶液澆鑄法(溶液流延法)、熔融擠出法、壓延法、壓縮成形法等各種方法而製作。
該些製作方法中較佳的是溶液澆鑄法(溶液流延法)、熔融擠出法,特佳的是溶液澆鑄法。而且,可藉由溶液澆鑄法,使用將醯化纖維素溶解於有機溶劑中之溶液(摻雜物)而製造膜。於使用上述添加劑之情形時,添加劑可於製備摻雜物之任意時序進行添加。
具體而言,可參照日本專利特開2006-184640號公報之段落[0219]~段落[0224]中所記載之醯化纖維素膜之製造方法或日本專利特開2006-116936號公報之段落[0022]~段落[0046]及段落[0062]~段落[0088]以及圖式中所記載之聚合物膜之溶液成膜方法等。
(紫外線吸收劑)
本發明之光學積層體配置於視認側,因此容易受到外光之影
響、特別是紫外線之影響。因此,理想的是於用作透明支撐體之聚合物膜(特別是醯化纖維素膜)等中添加紫外線(Ultraviolet,UV)吸收劑。
此處,UV吸收劑是可表現出紫外線吸收性者,可任意地使用公知者。為了使紫外線吸收性高、獲得於電子影像顯示裝置中所使用之紫外線吸收能力(紫外線截止能力),此種紫外線吸收劑中較佳的是苯并三唑系或羥基苯基三嗪系紫外線吸收劑。而且,為了使紫外線之吸收範圍變廣,可併用2種以上最大吸收波長不同之紫外線吸收劑。
作為UV吸收劑,其中較佳的是於200nm~400nm之紫外區域具有吸收、使膜之| Re(400)-Re(700)|及| Rth(400)-Rth(700)|之雙方降低的化合物,例如相對於醯化纖維素膜之固體成分可使用0.01質量%~30質量%。
而且,近年來,為了於電視或筆記型電腦、行動型移動終端機(portable terminal)等之液晶顯示裝置中以更少之電力提高亮度,要求液晶顯示裝置中所使用之光學構件之穿透率優異。於該方面而言,在將於200nm~400nm之紫外區域具有吸收、使膜之| Re(400)-Re(700)|及| Rth(400)-Rth(700)|降低之化合物添加於醯化纖維素膜中之情形時,要求分光穿透率優異。於此種醯化纖維素膜中,理想的是波長380nm之分光穿透率為45%以上、95%以下,且波長350nm之分光穿透率為10%以下。
而且,作為UV吸收劑,自揮發性之觀點考慮,分子量
較佳的是250~1000。更佳的是260~800,進一步更佳的是270~800,特佳的是300~800。若為該些分子量之範圍,則可為特定之單體結構,亦可為該單體單元多個鍵結而成之寡聚物結構、聚合物結構。
而且,UV吸收劑較佳的是於醯化纖維素膜製作之摻雜物流延、乾燥之過程中並不揮發。
作為醯化纖維素膜之UV吸收劑之具體例,例如可列舉日本專利特開2006-199855號公報之[0059]~[0135]中所記載之化合物。
<光學各向異性層>
本發明之光學積層體中之光學各向異性層是如下之圖案光學各向異性層:包含面內慢軸方向相互不同之第1相位差區域及第2相位差區域、且上述第1相位差區域及第2相位差區域於面內交互配置。
關於此種圖案光學各向異性層之厚度,並無特別限定,較佳的是0.1μm~10μm,更佳的是0.5μm~5μm。
而且,較佳的是於圖案光學各向異性層中包含液晶性化合物。
作為包含液晶性化合物之光學各向異性層的形成方法,例如可列舉將液晶性化合物於配向狀態下固定化之方法。此時,作為將液晶性化合物固定化之方法,可適宜例示使用具有不飽和雙鍵(聚合性基)之液晶性化合物作為上述液晶性化合物,使其聚合
的固定化之方法等。另外,光學各向異性層可為單層結構,亦可為積層結構。
液晶性化合物中所含之不飽和雙鍵之種類並無特別限制,較佳的是可進行加成聚合反應之官能基,更佳的是聚合性乙烯性不飽和基或環聚合性基。更具體而言,可較佳地列舉(甲基)丙烯醯基、乙烯基、苯乙烯基、烯丙基等,更佳的是(甲基)丙烯醯基。
一般情況下,液晶性化合物可根據其形狀而分類為棒狀型與圓盤狀型。進一步分別具有低分子型與高分子型。所謂高分子一般是指聚合度為100以上者(高分子物理、相變動力學,土井正男著,第2頁,岩波書店,1992)。於本發明中,可使用任意之液晶性化合物,較佳的是使用棒狀液晶性化合物或盤狀液晶性化合物(圓盤狀液晶性化合物)。亦可使用2種以上之棒狀液晶性化合物、2種以上之圓盤狀液晶性化合物、或棒狀液晶性化合物與圓盤狀液晶性化合物之混合物。為了上述液晶性化合物之固定化,更佳的是使用具有聚合性基之棒狀液晶性化合物或圓盤狀液晶性化合物而形成,進一步更佳的是液晶性化合物於1分子中具有2個以上聚合性基。於液晶性化合物為兩種以上混合物之情形時,較佳的是至少1種液晶性化合物於1分子中具有2個以上聚合性基。
作為棒狀液晶性化合物,例如可較佳地使用日本專利特表平11-513019號公報之申請專利範圍第1項或日本專利特開2005-289980號公報之段落[0026]~段落[0098]中所記載者;作為
盤狀液晶性化合物,例如可較佳地使用日本專利特開2007-108732號公報之段落[0020]~段落[0067]或日本專利特開2010-244038號公報之段落[0013]~段落[0108]中所記載者,但並不限定於該些。
為了使上述圖案光學各向異性層之相位差為λ/4左右,有時控制液晶性化合物之配向狀態。此時,於使用棒狀液晶性化合物之情形時,較佳的是將棒狀液晶性化合物於水平配向之狀態下固定化,於使用盤狀液晶性化合物之情形時,較佳的是將盤狀液晶性化合物於垂直配向之狀態下固定化。另外,於本發明中,所謂「棒狀液晶性化合物水平配向」是指棒狀液晶性化合物之指向矢(director)與層表面平行,所謂「盤狀液晶性化合物垂直配向」是指盤狀液晶性化合物之圓盤面與層表面垂直。並不嚴格地要求水平、垂直,表示分別自正確之角度±20°之範圍。較佳的是±5°以內,更佳的是±3°以內,進一步更佳的是±2°以內,最佳的是±1°以內。
而且,為了將液晶性化合物設為水平配向、垂直配向狀態,亦可使用促進水平配向、垂直配向之添加劑(配向控制劑)。添加劑可使用各種公知者。
於本發明中,作為上述圖案光學各向異性層之形成方法,可例示以下之適宜之形態,但並不限定於該些,可使用各種公知之方法來形成。
第1適宜形態是利用控制液晶性化合物之配向的多個作用,其後藉由外部刺激(熱處理等)使任意作用消失,使規定之
配向控制作用成為支配性的方法。作為上述方法,例如藉由配向膜之配向控制能力、與液晶性化合物中所添加之配向控制劑之配向控制能力之複合作用,使液晶性化合物成為規定之配向狀態,將其固定而形成其中一方之相位差區域後,藉由外部刺激(熱處理等)使任意之作用(例如配向控制劑之作用)消失,使其他之配向控制作用(配向膜之作用)成為支配性,藉此實現其他之配向狀態,將其固定而形成另外一方之相位差區域。關於該方法之詳細情況,於日本專利特開2012-008170號公報之段落[0017]~段落[0029]中有所記載,其內容作為參照而併入至本說明書中。
第2適宜形態是利用圖案配向膜之形態。於該形態中,形成具有相互不同之配向控制能力的圖案配向膜,於其上配置液晶性化合物,使液晶性化合物配向。液晶性化合物藉由圖案配向膜之各個之配向控制能力而達成相互不同之配向狀態。藉由固定各個之配向狀態,根據配向膜之圖案而形成第1相位差區域及第2相位差區域之圖案。圖案配向膜可利用印刷法、對摩擦配向膜之遮罩摩擦、對光配向膜之遮罩曝光等而形成。於無需大型設備之方面或製造容易之方面而言,較佳的是利用印刷法之方法。關於該方法之詳細情況,於日本專利特開2012-032661號公報之段落[0166]~段落[0181]中有所記載,其內容作為參照而併入至本說明書中。
第3適宜形態是例如於配向膜中添加光酸產生劑之形態。於該例中,於配向膜中添加光酸產生劑,藉由圖案曝光形成
光酸產生劑分解而產生酸性化合物之區域與未產生酸性化合物之區域。於光未照射部分,光酸產生劑基本上未分解,配向膜材料、液晶性化合物、及視需要而添加之配向控制劑之相互作用支配配向狀態,使液晶性化合物配向於其慢軸與摩擦方向正交之方向上。若對配向膜進行光照射而產生酸性化合物,則其相互作用已經變得並非支配性,摩擦配向膜之摩擦方向支配配向狀態,液晶性化合物使其慢軸與摩擦方向平行而平行配向。作為配向膜中所使用之光酸產生劑,可較佳地使用水溶性之化合物。可使用之光酸產生劑之例子包含聚合物科學進展(Prog.Polym.Sci.),第23卷、第1485頁(1998年)中所記載之化合物。光酸產生劑可特佳地使用吡啶鎓鹽、錪鹽及鋶鹽。關於該方法之詳細情況,於日本專利特願2010-289360號說明書有所記載,其內容作為參照而併入至本說明書中。
<黏著層>
本發明之光學積層體包含黏著層,所述黏著層用以使上述光學各向異性層及透明支撐體與立體影像顯示用影像顯示裝置中之視認側偏光板接著。
黏著層若為實用上具有充分之接著力者,則並無特別限定,例如可適宜使用日本專利特開2012-116986號公報中所記載之光學膜用黏著劑層。
於本發明中,黏著層之厚度並無特別限定,較佳的是15μm~30μm,自可進一步抑制位置偏移,進一步改善上下視角之理
由考慮,與上述透明支撐體之厚度之比率(黏著層/透明支撐體)較佳的是0.25~3,更佳的是0.3~1.0。
<脫模膜>
本發明之光學積層體與黏著層一同包含脫模膜。
此處,脫模膜於使用本發明之光學積層體而製作立體影像顯示用影像顯示裝置時、亦即將上述黏著層貼附於偏光膜上時剝離。
作為此種脫模膜,可使用日本專利特開2002-40249號公報中所記載之偏光膜貼合用聚酯膜,具體而言可適宜使用雙軸延伸聚酯膜。
於本發明中,脫模膜之厚度並無特別限定,較佳的是10μm~100μm,自可進一步抑制位置偏移、進一步改善上下視角之理由考慮,與上述透明支撐體之厚度之比率(脫模膜/透明支撐體)較佳的是0.16~10,更佳的是0.4~1.5。
於本發明之光學積層體中,黏著層及脫模膜可藉由如下方式而設置:預先於脫模膜上形成黏著層,其後貼附於透明支撐體之形成有光學各向異性層之側。
<其他層>
(配向膜)
本發明之光學積層體亦可於透明支撐體與光學各向異性層之間形成用以形成光學各向異性層之配向膜。
配向膜一般以聚合物為主成分。作為配向膜用聚合物材料,於多個文獻中有所記載,可獲得多種市售品。所利用之聚合物材
料較佳的是聚乙烯醇或聚醯亞胺、及其衍生物。特佳的是改質或未改質之聚乙烯醇。關於本發明中所可使用之配向膜,可參照WO01/88574A1號公報之第43頁第24行~第49頁第8行、日本專利第3907735號公報之段落[0071]~段落[0095]中所記載之改質聚乙烯醇。
配向膜之厚度較佳的是薄,但自賦予用以形成光學各向異性層之配向能力、及緩和支撐體之表面凹凸而形成均一膜厚之光學各向異性層的觀點考慮,必需某種程度之厚度。具體而言,配向膜之厚度較佳的是0.01μm~10μm,更佳的是0.01μm~1μm,進一步更佳的是0.01μm~0.5μm。
而且,於本發明中,亦較佳的是利用光配向膜。光配向膜並無特別限定,可使用WO2005/096041號公報之段落[0024]~段落[0043]中所記載者或Rolic Technologies公司製造之商品名LPP-JP265CP等。
(硬塗層/抗反射層)
較佳的是於本發明之光學積層體之與液晶單元之相反側所配置之側之表面設置抗反射層等功能性膜。另外,此種任意之功能性膜設於透明支撐體與表面保護膜之間。
特別是於本發明中適宜地使用在透明支撐體上至少依序積層有光散射層與低折射率層之抗反射層或者在透明支撐體上依序積層有中折射率層、高折射率層、低折射率層之抗反射層。其原因在於:特別是於顯示3D影像之情形時,可有效地防止產生由外光
反射所引起之閃爍。上述抗反射層亦可進一步包含硬塗層、前向散射層、底塗層(primer layer)、抗靜電層、下塗層(undercoat layer)或保護層等。關於構成上述抗反射層之各層之詳細情況,於日本專利特開2007-254699號公報之[0182]~[0220]中有所記載,關於可於本發明中利用之抗反射層,較佳之特性、較佳之材料等亦同樣。
[實施例]
以下,基於實施例對本發明加以更詳細之說明。以下之實施例中所示之材料、使用量、比例、處理內容、處理順序等只要不偏離本發明之主旨則可適宜變更。因此,本發明之範圍並不受以下所示之實施例而限定性地解釋。
[實施例1]
<透明支撐體之製作>
(醯化纖維素摻雜物之製作)
將以下所示之組成物投入至混合槽中進行攪拌,使各成分溶解而製備乙酸纖維素溶液。
另外,於以下之成分組成中,塑化劑及紫外線吸收劑之添加量均是相對於醯化纖維素(乙醯基取代度為2.88之乙酸纖維素)100質量份之質量份。
(成分組成)
.紫外線吸收劑(UV-2) 0.8質量份
而且,溶劑組成如下所述,以乙酸纖維素之濃度成為17質量%之方式調整濃度而製備醯化纖維素摻雜物之液體。
(溶劑組成)
進一步相對於所述醯化纖維素摻雜物而加入3.6質量份之下述消光劑分散液。
(消光劑分散液)
(醯化纖維素透明支撐體之製作)
將所述醯化纖維素摻雜物及所述消光劑分散液之混合溶液自流延口流延至20℃之帶上。於溶劑含有率為略20質量%之狀態下剝取,藉由拉幅夾固定支撐體之寬度方向之兩端而使其乾燥。其後,藉由於熱處理裝置之輥間搬送,進一步進行乾燥,製作下述表1所示膜厚之醯化纖維素透明支撐體。
另外,製作與上述醯化纖維素透明支撐體為相同組成之膜試樣,藉由上述方法而測定彈性模數及濕度尺寸變化率。將該些結果示於下述表1。
另外,塑化劑(P-1)是磷酸三苯酯(TPP)/磷酸聯苯基二苯基酯(BDP)=2/1(質量比)之混合物。
而且,紫外線吸收劑(UV-1)及紫外線吸收劑(UV-2)分別為下述式所表示之化合物。
<鹼性鹼化處理>
使乙酸纖維素透明支撐體通過溫度60℃之介電式加熱輥,將膜表面溫度升溫至40℃之後,使用棒式塗佈機以14ml/m2之塗佈量於膜之單面塗佈下述所示之組成的鹼溶液,於加熱至110℃之則武股份有限公司(Noritake Co.,Limited)製造之蒸氣式遠紅外加
熱器下搬送10秒。繼而,同樣地使用棒式塗佈機塗佈3ml/m2之純水。其次,反覆進行3次利用噴射式塗佈機(fountain coater)之水洗與利用氣刀之除水,其後搬送至70℃之乾燥區域而進行乾燥10秒,製作進行了鹼性鹼化處理之乙酸纖維素透明支撐體。
(鹼溶液組成)
<摩擦配向膜之形成>
於上述所製作之支撐體之實施了鹼性鹼化處理之表面,藉由#8之線棒(wire bar)連續地塗佈下述組成之摩擦配向膜塗佈液。以60℃之溫風進行60秒之乾燥,進一步以100℃之溫風進行120秒之乾燥而形成配向膜。其次,將透過部之橫條紋寬100μm、遮蔽部之橫條紋寬300μm之條紋遮罩配置於摩擦配向膜上,於室溫空氣下,使用UV-C區域之照度為2.5mW/cm2之空氣冷卻金屬鹵素燈(EYE GRAPHICS股份有限公司製造)而照射4秒之紫外線,使光酸產生劑分解而產生酸性化合物,藉此形成第1相位差區域用配向膜。其後,於500rpm下向一個方向進行往返1次之摩擦處理,製作附有摩擦配向膜之透明支撐體。另外,配向膜之膜厚為0.5μm。
(配向膜形成用塗佈液之組成)
<圖案光學各向異性層之形成>
製備下述光學各向異性層用組成物後,藉由孔徑為0.2μm之聚丙烯製過濾器進行過濾,製成光學各向異性層用塗佈液,使用棒式塗佈機以4ml/m2之塗佈量進行塗佈。其次,於膜表面溫度為110℃下進行2分鐘之乾燥而設為液晶相狀態,使其均一配向後,冷卻至100℃而於空氣下使用20mW/cm2之空氣冷卻金屬鹵素燈(EVE GRAPHICS股份有限公司製造)照射20秒之紫外線,使其配向狀態固定化,藉此形成圖案光學各向異性層。作為遮罩曝光
部分(第1相位差區域),相對於摩擦方向而言慢軸方向平行地垂直配向盤狀液晶(DLC),未曝光部分(第2相位差區域)正交地垂直配向。另外,光學各向異性層之膜厚為0.8μm。
(光學各向異性層用組成)
<抗反射膜之製作>
(硬塗層用塗佈液之製備)
將下述組成物投入至混合槽中,進行攪拌而製成硬塗層塗佈液。
相對於甲基乙基酮900質量份而言,添加環己酮100質量份、部分己內酯改質之多官能丙烯酸酯(DPCA-20、日本化藥股份有限公司製造)750質量份、矽溶膠(MIBK-ST、日產化學工業股份有限公司製造)200質量份、光聚合起始劑(Irgacure 184、汽巴精化股份有限公司製造)50質量份而進行攪拌。藉由孔徑為0.4μm之聚丙烯製過濾器進行過濾而製備硬塗層用塗佈液。
(中折射率層用塗佈液A之製備)
於含有ZrO2微粒子之硬塗劑(DeSolite Z7404[折射率為1.72、固體成分濃度:60質量%、氧化鋯微粒子含量:70質量%(相對固體成分)、氧化鋯微粒子之平均粒徑:約20nm、溶劑組成:甲基異丁基酮/甲基乙基酮=9/1、JSR股份有限公司製造])5.1質量份中添加二季戊四醇五丙烯酸酯與二季戊四醇六丙烯酸酯之混合物(DPHA)1.5質量份、光聚合起始劑(Irgacure 907、汽巴精化股份有限公司製造)0.05質量份、甲基乙基酮66.6質量份、甲基異丁基酮7.7質量份及環己酮19.1質量份而進行攪拌。充分攪拌後,藉由孔徑為0.4μm之聚丙烯製過濾器進行過濾而製備中折射率層用塗佈液A。
(中折射率層用塗佈液B之製備)
添加二季戊四醇五丙烯酸酯與二季戊四醇六丙烯酸酯之混合物(DPHA)4.5質量份、光聚合起始劑(Irgacure 907、汽巴精化股份有限公司製造)0.14質量份、甲基乙基酮66.5質量份、甲基異丁基酮9.5質量份及環己酮19.0質量份進行攪拌。於充分攪拌後,藉由孔徑為0.4μm之聚丙烯製過濾器進行過濾而製備中折射率層用塗佈液B。
以成為折射率1.36、膜厚90μm之方式將中折射率用塗佈液A與中折射率用塗佈液B適量混合而製備中折射率塗佈液。
(高折射率層用塗佈液之製備)
於含有ZrO2微粒子之硬塗劑(DeSolite Z7404[折射率為1.72、固體成分濃度:60質量%、氧化鋯微粒子含量:70質量%(相對固體成分)、氧化鋯微粒子之平均粒徑:約20nm、含有光聚合起始劑、溶劑組成:甲基異丁基酮/甲基乙基酮=9/1、JSR股份有限公司製造])14.4質量份中添加二季戊四醇五丙烯酸酯與二季戊四醇六丙烯酸酯之混合物(DPHA)0.75質量份、甲基乙基酮62.0質量份、甲基異丁基酮3.4質量份、環己酮1.1質量份而進行攪拌。充分攪拌後,藉由孔徑為0.4μm之聚丙烯製過濾器進行過濾而製備高折射率層用塗佈液C。
(低折射率層用塗佈液之製備)
(全氟烯烴共聚物(1)之合成)
[化4]
上述結構式中,50:50表示莫耳比。
於內容量為100ml之不鏽鋼製附有攪拌機之高壓釜中裝入乙酸乙酯40ml、羥乙基乙烯基醚14.7g及過氧化二月桂醯0.55g,對系統內進行脫氣而藉由氮氣進行置換。進一步將六氟丙烯(HFP)25g導入至高壓釜中而升溫至65℃。高壓釜內之溫度達到65℃之時間點的壓力為0.53MPa(5.4kg/cm2)。保持該溫度繼續反應8小時,於壓力達到0.31MPa(3.2kg/cm2)之時間點停止加熱而放置冷卻。於內溫下降至室溫之時間點將未反應之單體驅出,開放高壓釜而取出反應液。將所得之反應液投入至大量過剩之己烷中,藉由傾析將溶劑除去,藉此取出沈澱之聚合物。進一步將該聚合物溶解於少量之乙酸乙酯中,由己烷進行2次再沈澱,藉此將殘存單體完全除去。乾燥後獲得聚合物28g。其次,將該聚合物之20g溶解於N,N-二甲基乙醯胺100ml中,於冰冷下滴加丙烯醯氯11.4g之後,於室溫下進行10小時之攪拌。於反應液中加入乙酸乙酯進行水洗,對有機層進行萃取後加以濃縮,藉由己烷使所得之聚合物再沈澱,藉此獲得全氟烯烴共聚物(1)19g。所得之聚合物之折射率為1.422、質量平均分子量為50000。
(中空二氧化矽粒子分散液A之製備)
於中空二氧化矽粒子微粒子溶膠(異丙醇矽溶膠、觸媒化成工業股份有限公司製造之CS60-IPA、平均粒徑為60nm、殼厚為10nm、二氧化矽濃度為20質量%、二氧化矽粒子之折射率為1.31)500質量份中加入丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷30質量份、及乙酸乙酯二異丙氧基鋁1.51質量份而進行混合後,加入離子交換水9質量份。於60℃下使其反應8小時後冷卻至室溫,添加乙醯丙酮1.8質量份而獲得分散液。其後,以二氧化矽之含率變得大致固定之方式一面添加環己酮,一面於壓力30Torr下進行利用減壓蒸餾之溶劑置換,最後藉由濃度調整而獲得固體成分濃度為18.2質量%之分散液A。藉由氣相層析法分析所得之分散液A之IPA殘存量,結果是0.5質量%以下。
(低折射率層用塗佈液之製備)
將各成分如下所述地混合,溶解於甲基乙基酮中而製作固體成分濃度為5質量%之低折射率層用塗佈液。下述各成分之質量%是各成分之固體成分相對於塗佈液之所有固體成分的比率。
.P-1:所述全氟烯烴共聚物(1):15質量%
.DPHA:二季戊四醇五丙烯酸酯與二季戊四醇六丙烯酸酯之混合物(日本化藥股份有限公司製造):7質量%
.MF1:國際公開第2003/022906號說明書之實施例中所記載之下述含氟不飽和化合物(重量平均分子量為1600):5質量%
[化5]
.M-1:日本化藥股份有限公司製造之KAYARAD DPHA:20質量%
.分散液A:所述中空二氧化矽粒子分散液A(藉由丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷進行了表面修飾之中空二氧化矽粒子溶膠、固體成分濃度為18.2%):50質量%
.Irg127:光聚合起始劑Irgacure 127(汽巴精化股份有限公司製造):3質量%
於所述製作之光學膜上,使用凹版塗佈機於所述透明支撐體之與相位差層相反之面上塗佈所述組成之硬塗層用塗佈液。於100℃下加以乾燥後,一面以成為氧濃度為1.0vol%以下之環境之方式進行氮氣沖洗一面使用160W/cm之空氣冷卻金屬鹵素燈(EYE GRAPHICS股份有限公司製造)照射照度為400mW/cm2、照射量為150mJ/cm2之紫外線而使塗佈層硬化,形成厚度為12μm之硬塗層A。
進一步使用凹版塗佈機塗佈中折射率層用塗佈液、高折射率層用塗佈液、低折射率層用塗佈液。中折射率層之乾燥條件是90℃、30秒,紫外線硬化條件是一面以成為氧濃度為1.0vol%以下之環境之方式進行氮氣沖洗一面使用180W/cm之空氣冷卻金
屬鹵素燈(EYE GRAPHICS股份有限公司製造),設為照度為300mW/cm2、照射量為240mJ/cm2之照射量。
高折射率層之乾燥條件是90℃、30秒,紫外線硬化條件是一面以成為氧濃度為1.0vol%以下之環境之方式進行氮氣沖洗一面使用240W/cm之空氣冷卻金屬鹵素燈(EYE GRAPHICS股份有限公司製造),設為照度為300mW/cm2、照射量為240mJ/cm2之照射量。
低折射率層之乾燥條件是90℃、30秒,紫外線硬化條件是一面以成為氧濃度為0.1vol%以下之環境之方式進行氮氣沖洗一面使用240W/cm之空氣冷卻金屬鹵素燈(EYE GRAPHICS股份有限公司製造),設為照度為600mW/cm2、照射量為600mJ/cm2之照射量。
關於所述製作之光學膜、亦即包含透明支撐體、配向膜、光學各向異性層及抗反射層之積層部分,藉由上述方法測定| Rth(550)|、及|△Rth(30%RH-80%RH)|。將該些之結果示於下述表1中。另外,於以下之說明中,將包含透明支撐體、配向膜、光學各向異性層及抗反射層之積層部分僅僅略稱為「積層部分(光學膜)」。
<脫模膜之製作>
使聚對苯二甲酸乙二酯熔融而自噴嘴擠出,於25℃之澆鑄滾筒(casting drum)中冷卻固化後,藉由加熱為85℃之輥與輻射加熱器對膜進行加熱,藉由進行延伸而於長度方向上延伸2.8倍,繼
而藉由拉幅機於寬度方向上於110℃下延伸3.53倍,進一步於該拉幅機之後續之熱處理區域於200℃下進行熱處理,藉此獲得厚度為38.2μm之聚酯膜。所得之膜之斷裂強度、斷裂伸長率、彈性模數於長度方向、寬度方向上分別為189MPa、260MPa、200%、105%、3.9GPa、5.5GPa。
<附有黏著層之脫模膜之形成>
(單體乳膠之製備)
於容器中加入丙烯酸丁酯900份、丙烯酸50份、及N,N-二甲基丙烯醯胺50份而進行混合,製備單體混合物。其次,相對於以上述比例而製備之單體混合物600份,加入作為反應性界面活性劑之AQUALON HS-10(第一工業製藥股份有限公司製造)18份及離子交換水382份,使用均質混合機(特殊機化工業股份有限公司製造),於5分鐘、6000(rpm)下進行攪拌而進行強制乳化,製備單體乳膠。
(水分散液之製備)
於具有冷凝管、氮氣導入管、溫度計、滴液漏斗及攪拌翼之反應容器中裝入上述製備之單體乳膠200份及離子交換水330份,其次對反應容器進行充分氮氣置換後,添加過硫酸銨0.6份,一面攪拌一面於60℃下進行1小時之聚合。其次,將剩餘之單體乳膠800份於反應容器中保持為60℃,以3小時滴加於其中,其後進行3小時之聚合,獲得固體成分濃度為46%之含有(甲基)丙烯酸系共聚物之乳膠粒子的水分散液。其次,將該水分散液冷卻至
室溫後,於其中添加濃度為10%之氨水而使pH為8,獲得固體成分調整為46%之水分散液。
(水分散型黏著劑組成物之製備)
於上述製造例中所得之含有(甲基)丙烯酸系聚合物之水分散液(固體成分濃度為46%)之100份(固體成分換算)中混合作為矽烷偶合劑之3-縮水甘油氧基丙基三甲氧基矽烷(信越化學工業股份有限公司製造,KBM-403)0.03份、作為交聯劑之碳二醯亞胺(carbodiimide)系化合物(日清紡公司製造,CARBODILITE V-04,固體成分為40%)1.25份(固體成分換算為0.5份),獲得水分散型黏著劑組成物。
以乾燥後之厚度成為20μm之方式,藉由模塗佈機將上述水分散型黏著劑組成物塗佈於上述脫模膜上,然後於120℃下進行2分鐘之乾燥而形成黏著層。將該黏著層與所述硬塗層之相反側貼合,藉此貼附黏著層及脫模膜。
<表面保護膜之形成>
(黏著劑組成物之製備)
使用常用之方法,於乙酸乙酯中使丙烯酸-2-乙基己酯100重量份、丙烯酸4重量份共聚而獲得重量平均分子量為60萬(聚苯乙烯換算)之丙烯酸系聚合物之溶液。相對於該溶液100重量份(不揮發成分)而添加環氧系交聯劑(三菱瓦斯化學股份有限公司製造,「Tetrad C」)4重量份,然後藉由乙酸乙酯進行稀釋,獲得不揮發成分為20重量%之丙烯酸系黏著劑。
(表面保護膜之製作)
於作為基材膜之雙軸延伸聚酯膜(KOLON股份有限公司製造,「FQ00#25」,厚度為25μm)上,以乾燥(130℃×1min)後之厚度成為30μm之方式塗佈上述丙烯酸系黏著劑而獲得表面保護膜。
其後,將該黏著劑層貼合於所述硬塗層之側,藉此獲得形成有表面保護膜之光學積層體。
[實施例2]
將厚度設為20μm,除此以外藉由與實施例1同樣之方法製作乙酸纖維素透明支撐體,使用其而藉由與實施例1同樣之方法製作光學積層體。
[實施例3]
將厚度設為25μm,除此以外藉由與實施例1同樣之方法製作乙酸纖維素透明支撐體,使用其而藉由與實施例1同樣之方法製作光學積層體。
[實施例4]
將厚度設為30μm,除此以外藉由與實施例1同樣之方法製作乙酸纖維素透明支撐體,使用其而藉由與實施例1同樣之方法製作光學積層體。
[實施例5]
<透明支撐體之製作>
製備下述組成之摻雜物。
摻雜物之組成:
[化6]
使用帶狀流延裝置,將上述組成之摻雜液均一地流延於不鏽鋼帶狀支撐體上。於不鏽鋼帶狀支撐體上,使溶劑蒸發至殘留溶劑量成為40質量%,自不鏽鋼帶狀支撐體上將其剝離。於剝離後,藉由拉幅機把持兩端部,一面以寬度方向之延伸倍率成為1.04倍(4%)之方式向寬度方向延伸一面進行搬送。
於延伸後,一面進行搬送一面於115℃之乾燥區域使其乾燥35分鐘。於乾燥後切割為1980mm寬,製作厚度為30μm之透明支撐體。
<光學各向異性層之形成>
其次,利用日本專利特表2012-517024號公報之實施例中所
記載之方法,使用BASF公司製造之LC242作為棒狀液晶(RLC),以具有第1相位差區域及第2相位差區域之方式形成光學各向異性層。
使用該透明支撐體及光學各向異性層,除此以外與實施例1同樣地進行而製作光學積層體。
[實施例6]
使用以下所示之透明支撐體,除此以外與實施例1同樣地進行而製作光學積層體。
<透明支撐體之製作>
(1)核心層用摻雜物之製備
製備下述組成之核心層用摻雜物。
具體而言,藉由以下方法進行製備。
於具有攪拌翼之4000L之不鏽鋼製溶解槽中添加第1溶劑、第2溶劑及第3溶劑而進行充分攪拌後,緩緩添加乙酸纖維素粉體(薄片)、磷酸三苯基酯、磷酸聯苯基二苯基酯、化合物1及化合物2,以全體成為2000kg之方式進行製備。另外,溶劑均使用其含水率為0.5質量%以下者。
以攪拌剪切速率最初為5m/sec(剪切應力:5×104kgf/m/sec2)之圓周速度進行攪拌之溶解器型偏芯攪拌軸及、於中心軸具有錨(anchor)翼而於圓周速度1m/sec(剪切應力:1×104kgf/m/sec2)下進行攪拌之條件下對溶解槽內進行30分鐘之分散。分散之起始
溫度為25℃,最終到達溫度為48℃。分散結束後,停止高速攪拌,使錨翼之圓周速度為0.5m/sec而進一步進行100分鐘之攪拌,使乙酸纖維素粉末膨潤。藉由氮氣將槽內加壓成為0.12MPa至膨潤結束。此時之槽內之氧濃度不足2vol%,保持於防爆上並無問題之狀態。而且,確認摻雜物中之水分量為0.5質量%以下,具體而言為0.3質量%。
將乙酸纖維素粉體膨潤而成之溶液藉由泵自溶解槽送液至附有夾套之配管。其次,藉由附有夾套之配管加熱至50℃,進一步於2MPa之加壓化加熱至90℃,使其完全溶解。加熱時間為15分鐘。
其次,將溫度下降至36℃,使其通過公稱孔徑為8μm之過濾材料而獲得摻雜物。此時,過濾1次壓力為1.5MPa、2次壓力為1.2MPa。另外,暴露於高溫下之過濾器、外殼、及配管利用赫史特合金製而耐蝕性優異者,使用具有使保溫加熱用熱媒流通之夾套者。
使如上所述而所得之濃縮前摻雜物於80℃、調整為常壓之閃蒸裝置內進行閃蒸,藉由冷凝器回收分離蒸發之溶劑。閃蒸後之摻雜物之固體成分濃度為21.8質量%。另外,冷凝之溶劑作為製備步驟之溶劑而返回至需再利用之回收步驟中。閃蒸裝置之閃蒸槽使用在中心軸具有錨翼者,於圓周速度為0.5m/sec下加以攪拌而進行消泡。槽內之摻雜物之溫度為25℃,槽內之平均滯留時間為50分鐘。採集該摻雜物於25℃下測定之剪切黏度於剪切速
率為10(sec-1)下為450(Pa.s)。
其次,藉由對該摻雜物照射弱的超音波而進行除泡。其後,於加壓為1.5MPa之狀態下,最初通過公稱孔徑為10μm之燒結繊維金屬過濾器,其次使其通過相同之10μm之燒結繊維過濾器。各自之一次壓力為1.5MPa、1.2MPa,二次壓力為1.0MPa、0.8MPa。過濾後之摻雜物溫度調整為36℃而儲藏於2000L之不鏽鋼製之儲料槽(stock tank)內。儲料槽使用在中心軸具有錨翼者,於圓周速度為0.3m/sec下進行連續攪拌,藉此獲得核心層用摻雜物1。
(2)支撐體層用摻雜物1-a之製備
經由靜止型混合器使消光劑(二氧化矽(粒徑為20nm))、剝離促進劑(檸檬酸乙酯(檸檬酸單乙酯、檸檬酸二乙酯、檸檬酸三乙酯之混合物))與核心層用摻雜物1混合而製備支撐體層用摻雜物1-a。以添加量是所有固體成分濃度成為20.5質量%、消光劑濃度成為0.05質量%、剝離促進劑濃度成為0.03質量%之方式而進行。
(3)空氣層用摻雜物1-b之製備
經由靜止型混合器使消光劑(二氧化矽(粒徑為20nm))混合於所述核心層用摻雜物1中,製備空氣層用摻雜物1-b。以添加量是所有固體成分濃度成為20.5質量%、消光劑濃度成為0.1質量%之方式而進行。
(4)共流延之成膜
作為流延模具,使用裝備調整為共流延用之給料器台,可除了主流以外於兩個面分別積層而成形3層結構之膜的裝置。於以下之說明中,將由主流而形成之層稱為核心層,將支撐體面側之層稱為支撐體層,將相反側之面稱為空氣層。另外,摻雜物之送液流路使用核心層用、支撐體層用、空氣層用這3個流路。
將上述核心層用摻雜物、支撐體層用摻雜物1-a、及空氣層用摻雜物1-b自流延口共流延至冷卻為-5℃之滾筒上。此時,以厚度之比成為空氣層/核心層/支撐體層=3/35/3之方式調整各摻雜物之流量。將流延之摻雜物膜於滾筒上以230m3/min接觸34℃之乾燥風而使其乾燥,於殘留溶劑為150%之狀態下自滾筒上剝離。於剝離時,於搬送方向(長度方向)進行17%之延伸。其後,一面藉由針梳拉幅機(日本專利特開平4-1009號公報之圖3中所記載之針梳拉幅機)把持膜之寬度方向(相對於流延方向而正交之方向)之兩端一面進行搬送。另外,藉由於熱處理裝置之輥間搬送而進一步進行乾燥,製造透明支撐體。所製作之醯化纖維素透明支撐體之殘留溶劑量為0.2%,厚度為40μm。
[實施例7]
使用以下所示之透明支撐體,除此以外與實施例5同樣地製作光學積層體。
<透明支撐體之製作>
製備下述之組成之摻雜物。
摻雜物之組成:
[化8]
[化9]
使用帶狀流延裝置將上述組成之摻雜液均一地流延於不鏽鋼帶狀支撐體上。於不鏽鋼帶狀支撐體上,使溶劑蒸發至殘留溶劑量成為40質量%,自不鏽鋼帶狀支撐體上將其剝離。於剝離後,藉由拉幅機把持兩端部,一面以寬度方向之延伸倍率成為1.04倍(4%)之方式向寬度方向延伸一面進行搬送。
於延伸後,一面進行搬送一面於115℃之乾燥區域使其乾燥35分鐘。於乾燥後切割為1980mm寬,製作厚度為40μm之透明支撐體。
[實施例8]
使用以下所示之透明支撐體,除此以外與實施例5同樣地製作光學積層體。
<(甲基)丙烯酸系樹脂透明支撐體之製作>
將[下述通式(1)中,R1為氫原子、R2及R3為甲基之具有內酯環結構之(甲基)丙烯酸系樹脂{共聚單體重量比=甲基丙烯酸甲酯/2-(羥基甲基)丙烯酸甲酯=8/2、內酯環化率約為100%、內酯環結構之含有比例為19.4%、重量平均分子量為133000、熔融流動速率為6.5g/10min(240℃、10kgf)、Tg為131℃}90重量份、與丙烯腈-苯乙烯(AS)樹脂{TOYOAS AS20、東洋苯乙烯公司製造}10重量份之混合物;Tg為127℃]之顆粒供給至雙軸擠出機,於約280℃下熔融擠出為薄片狀,獲得厚度為110μm之具有內酯環結構之(甲基)丙烯酸系樹脂薄片。將該未延伸薄片於160℃之溫度條件下延伸為縱2.0倍、橫2.4倍而獲得(甲基)丙烯酸系樹脂透明支撐體(厚度:40μm)。
(電暈放電處理)
對上述所得之(甲基)丙烯酸系樹脂透明支撐體之單側實施電暈放電處理(電暈放電電子照射量:77W/m2/min)。
(易接著層形成)
將聚酯-胺基甲酸酯(第一工業製藥製造、商品名:superflex 210、固體成分:33%)16.8g、交聯劑(含有噁唑啉之聚合物、日本觸媒製造、商品名:EPOCROS WS-700、固體成分:25%)4.2g、1重量%之氨水2.0g、膠體二氧化矽(扶桑化學工業製造、Quartron PL-3、固體成分:20重量%)0.42g及純水76.6g加以混合而獲得易接著劑組成物。
藉由棒式塗佈機(#6)將所得之易接著劑組成物,以乾燥後之厚度成為350nm之方式塗佈於實施了電暈放電處理之(甲基)丙烯酸系樹脂透明支撐體之電暈放電處理面上。其後,將(甲基)丙烯酸系樹脂透明支撐體投入至熱風乾燥機(140℃)中,使易接著劑組成物乾燥約5分鐘而形成易接著層(0.3μm~0.5μm)。
[實施例9]
使用以下所示之透明支撐體,除此以外與實施例5同樣地進行而製作光學積層體。
<降冰片烯系樹脂透明支撐體之製作>
使用ARTON R5300:JSR公司製造(厚度:40μm)、電暈表面處理裝置(春日電機公司製造之「AGF-012」),以320W.min/m2之放電量對膜表面進行電暈放電處理,於表面處理後使用線棒塗佈機#3塗佈下述接著劑用放射線硬化性組成物,藉由金屬鹵素燈
(照度為276mW/cm2、照射光量為663mJ/cm2)進行光照射。
(接著劑用放射線硬化性組成物)
於附有攪拌裝置之容器中,以下述所示之調配比例投入成分(A)~成分(E)及任意成分,攪拌4小時而均一混合。停止攪拌而靜置24小時。
(A)成分:Celloxide 2021P:3,4-環氧環己烯基甲基-3',4'-環氧環己烯甲酸酯(大賽璐(DAICEL)公司製造) 33.4重量份
(B)成分:
(C)成分:丙二醇單甲醚:(日本乳化劑公司製造;商品名:甲基丙二醇(MFG))
(D)成分二苯基[4-(苯基硫基)苯基]鋶六氟磷酸鹽(三亞普羅(SAN-APRO)公司製造) 4.6重量份
(E)成分:新戊二醇二縮水甘油醚(阪本藥品工業公司製造)34.6重量份
[實施例10]
使厚度為50μm,除此以外藉由與實施例5同樣之方法而製作乙酸纖維素透明支撐體。
使用該透明支撐體,除此以外與實施例5同樣地製作光學積層體。
[實施例11]
使用以下所示之透明支撐體,除此以外與實施例5同樣地製作光學積層體。
<醯化纖維素透明支撐體之製作>
(1)摻雜物製備
<1-1>醯化纖維素溶液
將下述組成物投入至混合槽中,進行攪拌而使各成分溶解,進一步於90℃下加熱約10分鐘後,藉由平均孔徑為34μm之濾紙及平均孔徑為10μm之燒結金屬過濾器進行過濾。
(醯化纖維素溶液)
<1-2>消光劑分散液
其次,將包含藉由上述方法而製作之醯化纖維素溶液的下述組成物投入至分散機中,製備消光劑分散液。
(消光劑分散液)
<1-3>添加劑溶液
將藉由上述方法而製作之醯化纖維素溶液投入至混合槽中,一面進行加熱一面進行攪拌而溶解,添加添加劑(PB-33)9質量份及添加劑(U)4質量份而製備添加劑溶液。而且,關於各添加劑,於以下加以說明。另外,各種添加劑之添加量是相對於醯化纖維素100質量份之量。
PB-33:包含己二酸/鄰苯二甲酸/對苯二甲酸/乙二醇(莫耳比為10/1/9/20)之縮合物(數量平均分子量為800)之兩末端的乙醯基酯化體
化合物U:[化11]
將上述醯化纖維素溶液100質量份、消光劑分散液1.35質量份及所述添加劑溶液加以混合而製備成膜用摻雜物。
另外,用作摻雜物之原料的醯化纖維素及各種添加劑使用預先使用奈良機械製作所製造之儲倉(silo)於120℃下進行2小時之乾燥者。
(2)流延步驟
繼而,藉由1次增壓用齒輪泵,以高精度齒輪泵之1次側壓力成為0.8MPa之方式,藉由變頻馬達(inverter motor)進行反饋控制而送液儲料槽內之摻雜物。高精度齒輪泵具有體積效率為99.3%、噴出量之變動率為0.4%以下之性能。而且,噴出壓力為1.4MPa。
流延模具使用寬度為1.6m,裝備調整為共流延用之給料器台,可除了主流以外於兩個面分別積層而成形3層結構之膜的裝置。於以下之說明中,將由主流而形成之層稱為中間層,將支撐體面側之層稱為支撐體面,將相反側之面稱為空氣面。另外,
摻雜物之送液流路使用中間層用、支撐體面用、空氣面用這3個流路。另外,於本膜之製造中僅僅利用中間層用流路。
繼而,以完成之醯化纖維素透明支撐體之膜厚成為40μm之方式,調整模具突出口之聚合物摻雜物之流量而進行流延。為了將摻雜物之溫度調整為36℃,將於流延模具上設置夾套而供給至夾套內之傳熱介質之入口溫度設為36℃。
模具、給料器台、配管均於作業步驟中保溫為36℃。模具是衣架式之模具,使用厚度調整螺栓設為20mm之間距,具有利用加熱螺栓之自動厚度調整機構之模具。該加熱螺栓是具有如下性能者:亦可藉由預先設定之程式而設定與高精度齒輪泵之送液量對應之設定檔(profile),可藉由基於成膜步驟內所設置之紅外線厚度計之設定檔之調整程式而進行反饋控制。以如下之方式進行調整:於除去了流延邊緣部20mm之膜中,隔開50mm之任意2點之厚度差為1μm以內,寬度方向之厚度的最小值中最大之差為2μm/m以下。而且,於模具之1次側設置有用以減壓之腔室。該減壓腔室之減壓度可於流延液珠(casting bead)前後施加1Pa~5000Pa之壓力差,可根據流延速度而調整。此時,設定為液珠之長度成為2mm~50mm之壓力差。
(流延模具)
模具之材質是具有沃斯田鐵相與肥粒鐵相之混合組成的2相系不鏽鋼,是熱膨脹係數為2×10-5(℃-1)以下之原材料,使用在電解質水溶液中之強制腐蝕試驗中具有與SUS316大致同等之耐
腐蝕性的原材料。流延模具及給料器台之接液面之潤飾精度(accuracy of finishing)是表面粗糙度為1μm以下、真直度於任意方向上均為1μm/m以下,狹縫之間隙(clearance)可藉由自動調整而調整至0.5mm~3.5mm。於本膜之製造中,以1.5mm而進行實施。關於模唇頂端之接液部之棱角部分,以狹縫整個寬度上R成為50μm以下之方式進行加工。於模具內部之剪切速度為1(sec-1)~5000(sec-1)之範圍。
而且,使用在流延模具之模唇頂端設有硬化膜者。存在有碳化鎢(WC)、Al2O3、TiN、Cr2O3等,特佳的是WC,於本發明中使用藉由熱噴塗(thermal spraying)法而形成有WC塗層者。而且,於單側以0.5ml/min將作為可溶化摻雜物之溶劑的混合溶劑(二氯甲烷/甲醇/丁醇(質量份為83/15/2))供給至液珠端部與狹縫之氣液界面。進一步為了使減壓腔室之溫度一定,安裝夾套而供給調整為35℃之傳熱介質。邊緣吸收風量使用可於1L/min~100L/min之範圍進行調整者,於本膜之製造中於30L/min~40L/min之範圍內進行適宜調整。
(金屬支撐體)
支撐體利用長度為100m之不鏽鋼製環帶。帶之厚度為1.5mm,將表面粗糙度研磨為0.05μm以下,材質為SUS316製,具有充分之耐腐蝕性與強度。帶之全體之厚度不均為0.5%以下。帶使用藉由2個滾筒驅動之類型,此時之帶之張力調整為1.5×104kg/m,帶與滾筒之相對速度差成為0.01m/min以下。而且,帶驅
動之速度變動為0.5%以下。而且,以旋轉1週之寬度方向之蜿蜒限制為1.5mm以下之方式對帶檢測兩端位置而進行控制。而且,流延模具正下方之支撐體表面之隨著滾筒旋轉之上下方向之位置變動為200μm以下。支撐體設置於具有風壓振動抑制機構之套(casing)內。自模具將摻雜物流延於支撐體上。流延不久前之支撐體中央部之表面溫度為15℃。兩端之溫度差為6℃以下。使用如下支撐體:金屬支撐體不得存在表面缺陷,且毫無30μm以上之針孔,10μm~30μm之針孔為1個/m2以下、10μm以下之針孔為2個/m2以下。
(流延乾燥)
設有所述流延模具及支撐體等之流延室之溫度保持為35℃。於帶上所流延之摻雜物最初送入平行流之乾燥風進行乾燥。乾燥時之自乾燥風至摻雜物之總傳熱係數(overall heat transfer coefficient)為24kcal/m2.hr.℃。乾燥風之溫度於帶上部之上游側為130℃,於下游側為135℃。而且,帶下部為65℃。各個氣體之飽和溫度均為-8℃附近。於支撐體上之乾燥環境之氧濃度保持為5vol%。另外,為了將氧濃度保持為5vol%而藉由氮氣對空氣進行置換。而且,為了冷凝回收流延室內之溶劑而設置冷凝器(condenser),其出口溫度設定為-10℃。
於流延後5秒間,藉由遮風裝置以乾燥風並不直接與摻雜物接觸之方式將流延模具馬上要靠近時之靜壓變動抑制為±1Pa以下。於摻雜物中之溶劑比率以乾量基準計而言成為45質量%之
時間點,自流延支撐體以膜的形式剝離。此時之剝離張力為8kgf/m,以相對於支撐體速度之剝取速度(剝取輥拉伸)為100.1%~110%之範圍內適宜地剝取之方式而設定。而且,剝取之膜之表面溫度為14℃。於支撐體上之乾燥速度為平均62質量%乾量基準溶劑/分鐘。乾燥而產生之溶劑氣體導入至冷凝裝置中,於-10℃下進行液化,回收而再利用為裝入用溶劑。除去了溶劑之乾燥風可再次加熱而再利用為乾燥風。此時,將溶劑中所含之水分量調整為0.5%以下而再次使用。
藉由設有多個輥之傳送部搬送所剝取之膜。傳送部具有3根輥,而且傳送部之溫度保持為40℃。於藉由傳送部之輥進行搬送時,對膜賦予16N~160N之張力。
(拉幅機搬送、乾燥步驟條件)
至於所剝取之膜,一面藉由具有夾具之拉幅機將兩端固定一面於拉幅機之乾燥區域內搬送,藉由乾燥風進行乾燥。對夾具供給20℃之傳熱介質而進行冷卻。藉由鏈條進行拉幅機之驅動,該鏈輪之速度變動為0.5%以下。而且,將拉幅機內分為3個區域,自上游側起將各個區域之乾燥風溫度設為90℃、100℃、110℃。乾燥風之氣體組成設為-10℃之飽和氣體濃度。於拉幅機內之平均乾燥速度為120質量%(乾量基準溶劑)/分鐘。以於拉幅機之出口,膜內之殘留溶劑之量成為10質量%以下之方式進行調整,於本膜之製造中,以成為7質量%之方式調整乾燥區域之條件。於拉幅機內一面進行搬送一面於寬度方向上進行延伸。另外,將搬送
至拉幅機時之寬度設為100%時的擴寬量設為103%(延伸倍率3%)。將自剝取輥至拉幅機入口之延伸率(拉幅機驅動拉伸)設為102%。至於拉幅機內之延伸率,自拉幅機齧入部離開10mm以上之部分的實質延伸率之差異為10%以下,且離開20mm之任意2點之延伸率差異為5%以下。
基端(base end)中以拉幅機固定之長度的比率為90%。而且,以拉幅夾之溫度不超過50℃之方式一面冷卻一面進行搬送。作為於拉幅機部分蒸發之溶劑,以-10℃之溫度使其冷凝液化而進行回收。設置冷凝回收用的冷凝器(condenser),其出口溫度設定為-8℃。將溶劑中所含之水分調整為0.5質量%以下而再次使用。
而且,自拉幅機出口於30秒以內進行兩端之切邊。藉由NT型切割機切去兩側50mm之邊。將拉幅機部之乾燥環境之氧濃度保持為5vol%。另外,為了將氧濃度保持為5vol%而藉由氮氣對空氣進行置換。於後述之輥搬送區域進行高溫乾燥之間,於供給100℃之乾燥風的預乾燥區域對膜進行預熱。
(後乾燥步驟條件)
於輥搬送區域中對藉由上述方法而所得之切邊後之聚合物膜進行高溫乾燥。將輥搬送區域分割為4個區塊,自上游側起供給120℃、130℃、130℃、130℃之乾燥風。此時,膜之輥搬送張力為100N/寬,進行約10分鐘之乾燥直至最終殘留溶劑量成為0.3質量%。該輥之包角(wrap angle)使用90度及180度。該輥之材
質為鋁製或碳鋼製,表面實施硬鉻鍍金。輥之表面形狀使用平坦形狀且藉由噴射進行了消光加工之形狀。由於輥之旋轉所造成之振動均為50μm以下。而且,以張力為100N/寬之輥之撓曲成為0.5mm以下之方式進行選定。
以搬送中之膜之帶電壓即時成為-3kV~3kV之範圍之方式於步驟中設置強制除電裝置(除電棒)。而且,於捲取部中,為了使帶電成為-1.5kV~1.5kV,不僅僅設置除電棒,而且亦設置離子風除電。
將乾燥之膜搬送至第1調濕室。對輥搬送區域與第1調濕室之間的傳送部供給110℃之乾燥風。對第1調濕室供給溫度為50℃、露點為20℃之空氣。另外,將膜搬送至抑制產生膜之捲曲的第2調濕室。於第2調濕室中,使膜直接與90℃、相對濕度為70%之空氣接觸。
(後處理、捲取條件)
將乾燥後之聚合物膜冷卻至30℃以下而進行兩端之切邊。切邊是於膜之左右兩端部分別設置2台切割膜端部之裝置(每單側之切割裝置數為2台),對膜端部進行切割。此處,切割裝置包含圓盤狀之旋轉上部刀刃(upper steel)與圓筒狀之旋轉下部刀刃(lower steel),旋轉上部刀刃之材質為超硬鋼材,旋轉上部刀刃之直徑為200mm、及切斷位置之刀刃之厚度為0.5mm。圓筒狀之旋轉下部刀刃之材質為超硬鋼材,旋轉下部刀刃之圓筒直徑為100mm。
而且,測定所切割之膜剖面之表面粗糙度(算術平均粗糙度:Ra),結果是0.2μm。而且,所切割之膜剖面比較平滑,且亦無切粉。而且,於上述纖維素酯膜之成膜中,完全無搬送中之膜之破斷。
此處,膜剖面之表面粗糙度之測定使用ZYGO公司製造之表面粗糙度測定器(NewView5010),於物鏡為50倍、及影像變焦為1.3倍之裝置條件下進行測定。而且,於此情形時,測定條件藉由Mesure Cntrl鍵而適宜設定,所測定之資料適宜設定Analyze Cntrl鍵而進行資料處理。
如上所述而獲得寬1500mm及膜厚40μm之醯化纖維素透明支撐體,藉由捲取機進行捲取。而且,測定所切割之醯化纖維素透明支撐體之自膜端部起20mm寬之位置的尺寸變化率。此處,尺寸變化率之評價是獲得相對於醯化纖維素透明支撐體之製造不久後之尺寸(寬度方向長度)而言,於溫度90℃、相對濕度5%之環境下保持120小時後所變化之尺寸(寬度方向長度)之百分率而進行評價。其結果,自醯化纖維素透明支撐體端部起20mm寬之位置之尺寸變化率為-0.13%,並無問題。
進一步於醯化纖維素透明支撐體之兩端進行滾花(knurling)。滾花可藉由自單側進行壓花加工而賦予,滾花之寬度為10mm,以最大高度比平均厚度高平均12μm之方式設定擠壓壓力。
繼而,將膜搬送至捲取室。將捲取室保持為室內溫度
25℃、濕度60%。如上所述而所得之醯化纖維素透明支撐體之產品寬度成為1500mm。設為卷芯之直徑為169mm、捲繞開始張力為390N/寬,捲繞結束張力成為250N/寬之圖案。捲取全長為3250m。捲取時之振動週期設為400m,振動寬度設為±5mm。而且,將壓輥對捲取輥之擠壓壓力設定為50N/寬。捲取時之醯化纖維素透明支撐體之溫度為25℃,含水量為0.8質量%,殘留溶劑量為0.2質量%。通過所有步驟之平均乾燥速度為20質量%(乾量基準溶劑)/分鐘。而且,亦無捲繞鬆弛、皺褶,於10G下之衝擊試驗中亦不產生捲繞偏移。而且,圓筒外觀亦良好。經過以上之步驟而製作醯化纖維素透明支撐體。將醯化纖維素透明支撐體之圓筒於25℃、相對濕度55%之儲藏支架上保管1個月,進一步與上述同樣地進行檢查,結果均未確認到顯著之變化。另外,於圓筒內亦未確認到接著。而且,於成膜醯化纖維素透明支撐體之後,於作為金屬支撐體之環帶上完全未發現由摻雜物所形成之流延膜之剝離殘留。
[實施例12]
於實施例6之摻雜物中,相對於醯化纖維素100質量份而添加10質量份之上述添加劑(PB-33),進一步於橫向(Transverse Direction,TD)方向上延伸25%,除此以外與實施例6同樣地形成膜厚40μm之透明支撐體。除此以外與實施例6同樣地製作光學積層體。
[比較例1]
將厚度設為5μm,除此以外藉由與實施例1同樣之方法而製作乙酸纖維素透明支撐體,使用其而藉由與實施例1同樣之方法製作光學積層體。
[比較例2]
將實施例6之透明支撐體之製作中所使用之核心層用摻雜物之組成變更為以下之組成,以共流延成膜時之厚度比成為空氣層/核心層/支撐體層=3/54/3之方式調整各摻雜物之流量,將厚度設為60μm,除此以外藉由與實施例6同樣之方法製作乙酸纖維素透明支撐體,使用其而藉由與實施例1同樣之方法製作光學積層體。
[比較例3]
使用日本專利特開2012-108452號公報之[0072]~[0075]及[0097]段落中所記載之膜3(厚度:80μm)作為透明支撐體,除此以外與實施例7同樣地製成光學積層體。
[比較例4]
於實施例6之摻雜物中未添加塑化劑(磷酸三苯酯、磷酸聯苯基二苯基酯),進一步於TD方向延伸25%,除此以外與實施例6同樣地形成膜厚40μm之透明支撐體。除此以外與實施例6同樣地製作光學積層體。
[比較例5]
於實施例6之摻雜物中未添加塑化劑(磷酸三苯酯、磷酸聯
苯基二苯基酯),進一步於TD方向上延伸25%,除此以外與實施例6同樣地形成膜厚80μm之透明支撐體。除此以外與實施例5同樣地製作光學積層體。
<△含水率>
分別製作10個光學積層體,對各個算出下述式(1)及式(2)所定義之△含水率,求出其平均值。將其結果示於下述表1中。
另外,含水率之測定是製作將光學積層體切割為24mm×36mm之大小之樣品,使用水分測定器(CA-03、三菱化學公司製造)及試樣乾燥裝置(VA-05、三菱化學公司製造),藉由卡爾費歇爾法進行測定,水分量(g)除以樣品之質量(g)而算出。
(1)△含水率[質量%]=於溫度25℃、相對濕度40%之環境下經過336小時後,移動至溫度25℃、相對濕度60%之環境下進一步經過300分鐘後之含水率-於溫度25℃、相對濕度40%之環境下經過336小時後之含水率
(2)含水率[質量%]=光學積層體中所含之水分量/光學積層體之質量
[立體顯示裝置之製作]
將LG公司製造之LW5700(42吋)之視認側之偏光板上的積層於較視認側之偏光板更外側的黏著層等剝離後,將上述所製作之各光學積層體於溫度25℃、相對濕度60%之環境下放置300分鐘後,將脫模膜剝離,將該些於相同環境下進行貼合,藉此製作立體顯示裝置。另外,該面板於橫方向上構成條紋狀之圖案。
此時,圖案化之光學各向異性層之慢軸與偏光板之吸收軸所成之角度成為±45度。
於所製作之立體顯示裝置上放映立體視覺影像,通過右眼用/左眼用之圓偏光眼鏡進行觀察,對於該立體影像,藉由以下所示之方法評價位置偏移、上下視角、左右視角。將該些結果示於下述表1中。另外,下述表1中所示之評價結果是製作10個立體顯示裝置,藉由該些之平均值進行評價之結果。
<位置偏移之測定>
確認面板之上下方向之所有畫素區域之長度與光學各向異性層之上下方向之所有區域之長度相等,且於光學各向異性層之所有區域之上下賦予標誌,於貼合前後測定標誌位置(mark position),將其差作為位置偏移。以下表示評價基準。
AA:位置偏移不足0.005%
A:位置偏移為0.005%以上且不足0.010%
B:位置偏移為0.010%以上且不足0.015%
C:位置偏移為0.015%以上且不足0.020%(雖然可確認位置偏移,但能夠容許)
D:位置偏移為0.020%以上且不足0.030%(位置偏移大,無法容許)
DD:位置偏移為0.030%以上
<上下視角之測定>
於所製作之立體顯示裝置上,顯示作為右眼用影像之全畫面
白顯示/作為左眼用影像之全畫面黑顯示之立體影像,於拓普康公司(TOPCON TECHNOHOUSE)製造之亮度計BM-5A之透鏡上安裝3D眼鏡之右眼部分,於上下方向、極角+80°~-80°之範圍測定亮度。
同樣地於拓普康公司製造之亮度計BM-5A之透鏡上安裝3D眼鏡之左眼部分,於上下方向、極角+80°~-80°之範圍測定亮度。
而且,將3D眼鏡之左眼部分所測定之亮度除以3D眼鏡之右眼部分所測定之亮度所得之值作為串擾,將串擾成為7%以下之極角範圍定義為視角。
以LG公司製造之LW5700之上下視角為基準,藉由計算求出上下視角變窄之程度。例如,於剝離前之上下視角為26°之情形時,由於位置偏移而產生之上下視角變窄之程度為2.6°時,可算出為「10%」。以下表示評價基準。
A:不足10%(幾乎無法視認變化,能夠容許)
B:10%以上且不足20%(視認到極其微小之變化之程度,能夠容許)
C:20%以上且不足35%(視認到變化,但能夠容許)
D:35%以上(清楚地視認到變化,無法容許)
<左右視角之測定>
於所製作之立體顯示裝置上,顯示作為右眼用影像之全畫面白顯示/作為左眼用影像之全畫面黑顯示之立體影像,於拓普康公司製造之亮度計BM-5A之透鏡上安裝3D眼鏡之右眼部分,於左
右方向、極角+80°~-80°之範圍測定亮度。
同樣地於拓普康公司製造之亮度計BM-5A之透鏡上安裝3D眼鏡之左眼部分,於左右方向、極角+80°~-80°之範圍測定亮度。
而且,將3D眼鏡之左眼部分所測定之亮度除以3D眼鏡之右眼部分所測定之亮度所得之值作為串擾,將串擾成為7%以下之極角範圍定義為視角,藉由以下基準評價其測定結果。
A:160°以上
B:150°以上且不足160°
C:140°以上且不足150°
D:不足140°
根據表1所示之結果可知:使用透明支撐體之厚度為10μm~59μm之範圍外的比較例2及比較例3中所製作之光學積層體之情形時,即使△含水率為0.20質量%以下,於顯示裝置上之貼附中發現位置偏移,上下視角差。
而且可知:作為△含水率大於0.20質量%之比較例4中所製作之光學積層體,即使透明支撐體之厚度為10μm~59μm之範圍
內,於顯示裝置上之貼附中發現位置偏移。
另外可知:作為透明支撐體之厚度為10μm~59μm之範圍外,且△含水率大於0.20質量%之比較例1及比較例5中所製作之光學積層體,於顯示裝置上之貼附中位置偏移大,上下視角及左右視角差。
相對於此,可知:於透明支撐體之厚度為10μm~59μm之範圍內之實施例1~實施例12中,可高精度地貼合於顯示裝置上,且可改善貼合後之顯示裝置之上下視角。
特別是根據實施例1~實施例10及實施例12與實施例11之對比可知:若積層部分(光學膜)中之Rth(550)之絕對值為120nm以下,則左右視角得到改善。
而且,根據實施例5、實施例7及實施例10與其他實施例之對比可知:若積層部分(光學膜)中之△Rth(30%RH-80%RH)之絕對值為30nm以下,則左右視角得到改善。
另外,根據實施例8、實施例9及實施例12與其他實施例之對比可知:若為△含水率低之光學積層體,則可以更高精度而貼合於顯示裝置上。
10‧‧‧光學積層體
12‧‧‧表面保護膜
14‧‧‧透明支撐體
16‧‧‧光學各向異性層
18‧‧‧黏著層
20‧‧‧脫模膜
Claims (12)
- 一種光學積層體,其依序包含表面保護膜、透明支撐體、光學各向異性層、黏著層、脫模膜,上述光學各向異性層是如下之圖案光學各向異性層:包含面內慢軸方向相互不同之第1相位差區域及第2相位差區域,且上述第1相位差區域及上述第2相位差區域於面內交互配置,上述透明支撐體含有高分子材料,且厚度為10μm~59μm,藉由下述式(1)及式(2)所定義之△含水率成為0.20質量%以下:(1)△含水率[質量%]=於溫度25℃、相對濕度40%之環境下經過336小時後,移動至溫度25℃、相對濕度60%之環境下進一步經過300分鐘後之含水率-於溫度25℃、相對濕度40%之環境下經過336小時後之含水率(2)含水率[質量%]=光學積層體中所含之水分量/光學積層體之質量。
- 如申請專利範圍第1項所述之光學積層體,其中上述透明支撐體中之上述光學各向異性層之上述第1相位差區域及上述第2相位差區域交互配置之配置方向的彈性模數為1.5GPa~5.0GPa。
- 如申請專利範圍第1項或第2項所述之光學積層體,其中上述透明支撐體中之上述光學各向異性層之上述第1相位差區域及上述第2相位差區域交互配置之配置方向的濕度尺寸變化 率為0.03%~0.50%。
- 如申請專利範圍第1項或第2項所述之光學積層體,其中包含上述透明支撐體與上述光學各向異性層之積層部分滿足下述式(I):(I):|Rth(550)|≦120nm此處,Rth(550)是波長550nm之厚度方向之延遲(nm)。
- 如申請專利範圍第1項或第2項所述之光學積層體,其中包含上述透明支撐體與上述光學各向異性層之積層部分滿足下述式(II):(II):|△Rth(30%RH-80%RH)|≦30nm此處,△Rth(30%RH-80%RH)是於相對濕度30%及相對濕度80%下所測定之Rth(550)之差。
- 如申請專利範圍第4項所述之光學積層體,其中包含上述透明支撐體與上述光學各向異性層之積層部分滿足下述式(II):(II):|△Rth(30%RH-80%RH)|≦30nm 此處,△Rth(30%RH-80%RH)是於相對濕度30%及相對濕度80%下所測定之Rth(550)之差。
- 如申請專利範圍第1項或第2項所述之光學積層體,其中上述透明支撐體之厚度為20μm~50μm。
- 如申請專利範圍第1項或第2項所述之光學積層體,其中上述透明支撐體中所含有之上述高分子材料至少包含醯化纖維素。
- 如申請專利範圍第1項或第2項所述之光學積層體,其中上述脫模膜是厚度為10μm~100μm之雙軸延伸聚酯膜。
- 如申請專利範圍第1項或第2項所述之光學積層體,其中上述表面保護膜是厚度為20μm~100μm之雙軸延伸聚酯膜。
- 如申請專利範圍第1項或第2項所述之光學積層體,其中上述光學各向異性層由含有棒狀液晶之組成物而形成。
- 如申請專利範圍第1項或第2項所述之光學積層體,其中上述光學各向異性層由含有圓盤狀液晶之組成物而形成。
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