TW201406906A

TW201406906A - 活性能量線硬化型接著劑組成物、偏光薄膜及其製造方法、光學薄膜及影像顯示裝置（一）

Info

Publication number: TW201406906A
Application number: TW102120306A
Authority: TW
Inventors: Takeshi Saito; Miki Okamoto; Masashi Shinagawa; Taiyan Jiang; Yasuaki Okada
Original assignee: Nitto Denko Corp
Priority date: 2012-06-08
Filing date: 2013-06-07
Publication date: 2014-02-16
Also published as: CN104395419A; KR20200058605A; WO2013183680A1; JP2014129505A; CN104395419B; TWI592457B; US20150152299A1; KR20150023382A; KR102208010B1; JP6205179B2

Abstract

本發明係有關於一種活性能量線硬化型接著劑組成物，該活性能量線硬化型接著劑組成物包含作為硬化性成分的自由基聚合性化合物(A)、(B)和(C)以及由(甲基)丙烯醯基單體聚合而成的丙烯酸系寡聚物(D)，其中前述自由基聚合性化合物(A)的SP值為29.0(kJ/m3)1/2以上32.0以下(kJ/m3)1/2，(B)的SP值為18.0(kJ/m3)1/2以上並低於21.0(kJ/m3)1/2，(C)的SP值為21.0(kJ/m3)1/2以上23.0(kJ/m3)1/2以下，且當以組成物總量為100重量%時，該組成物含有25~80重量%之該自由基聚合性化合物(B)。

Description

活性能量線硬化型接著劑組成物、偏光薄膜及其製造方法、光學薄膜及影像顯示裝置(一)

發明領域

本發明係有關於一種形成接著2個以上部件之接著劑層的活性能量線硬化型接著劑組成物，尤其是形成偏光件與透明保護薄膜之接著劑層的活性能量線硬化型接著劑組成物，以及偏光薄膜及其製造方法。該偏光薄膜可單獨作為光學薄膜或將其積層為光學薄膜，以形成液晶顯示裝置(LCD)、有機EL顯示裝置、CRT、PDP等影像顯示裝置。

發明背景

在時鐘、行動電話、PDA、筆記型電腦、個人電腦用顯示器、DVD播放器、電視等方面，液晶顯示裝置正急速地擴展市場。液晶顯示裝置係使液晶切換所致的偏光狀態可見化的裝置，因其顯示原理故偏光件係為所用。尤其，在電視等用途上追求日益提升的高輝度、高對比、廣視角，而在偏光薄膜方面亦追求日益提升的高穿透率、高偏光度、高色再現性等。

作為偏光件係具有高穿透率及高偏光度，故最廣泛使用的是例如碘系偏光件，其係使碘吸附於聚乙烯醇(以下亦簡稱「PVA」)並經拉伸而成之結構。一般而言偏光薄膜係使用：藉由將聚乙烯醇系材料溶於水而成之所謂的水系接著劑，在偏光件兩面貼合透明保護薄膜而成者(下述專利文獻1及專利文獻2)。透明保護薄膜則使用透濕度高的三醋酸纖維素等。

在製造偏光薄膜時，在使用如聚乙烯醇系接著劑之水系接著劑的情況下(亦即濕式積層)，使偏光件與透明保護薄膜貼合之後，需要有乾燥步驟。為能提升偏光薄膜的生產性，希望能縮短乾燥步驟，或採用不需要乾燥步驟的其他接著方法。

再者，在使用水系接著劑的情況時，為能提高與偏光件之接著性，必須先行將偏光件的水分率相對地提升(通常偏光件的水分率為30%左右)，否則無法獲得接著性良好的偏光薄膜。然而，這樣得到的偏光薄膜，會有在高溫、或高溫高濕度下的尺寸變化大，光學特性不佳等問題。另一方面，在抑制尺寸變化上，可降低偏光件的水分率，或使用透濕度低的透明保護薄膜等。然而，若將這樣的偏光件與透明保護薄膜使用水系接著劑加以貼合，則乾燥效率降低、偏光特性下降，或出現外觀不良缺陷而無法得到實質上有用的偏光薄膜。

又，特別是以電視為代表，近年來，隨著影像顯示裝置往大畫面化發展，從生產性或成本方面(成品率、產量提高)而言，偏光薄膜的大型化亦變得非常重要。然而，使用前述之水系接著劑的偏光薄膜會有所謂光逸出(不均缺陷)變得顯著的的問題，亦即因背光熱度導致偏光薄膜發生尺寸變化，其形成不均缺陷而可在畫面整體內的一部分看到黑色畫面泛白的情況。

為了解決上述濕式積層的問題點，有人提出不含水或有機溶劑的活性能量線硬化型接著劑。例如，下述專利文獻3揭示一種活性能量線硬化型接著劑，其包含(A)含極性基團且分子量1,000以下的自由基聚合性化合物、(B)不含極性基團且分子量1,000以下的自由基聚合性化合物、及(D)光聚合起始劑。然而，構成所述接著劑之自由基聚合性化合物(單體)的組合，是以提升與降莰烯系樹脂薄膜的接著性為目的而特別設計的，因此有對偏光膜接著性差的傾向。

在下述專利文獻4揭示了一種活性能量線硬化型接著劑，其以波長360~450nm下莫耳吸光係數400以上的光聚合起始劑以及紫外線硬化性化合物為必要成分。然而，構成所述接著劑的單體組合，主要是以在接著光碟等時防止翹曲/變形為目的而設計的，使用於偏光膜時，會有對偏光膜接著性差的傾向。

下述專利文獻5揭示了一種活性能量線硬化型接著劑，其於(甲基)丙烯酸系化合物之合計量100重量份中包含：(A)分子中具2個以上(甲基)丙烯醯基的(甲基)丙烯酸系化合物、(B)分子中具羥基並僅具有1個聚合性雙鍵的(甲基)丙烯酸系化合物、(C)酚環氧乙烷改質丙烯酸酯或壬基酚環氧乙烷改質丙烯酸酯。然而，構成所述接著劑的單體組合，各單體彼此相溶性相對不高，有相分離隨之而生、接著劑層透明性低下的疑慮。又，所述接著劑係藉由使硬化物(接著劑層)變得柔軟(降低Tg)而謀求接著性的提升，故有耐裂紋性等耐久性惡化的疑慮。耐裂紋性，係可由冷熱衝撃試驗(熱震試驗)予以評價。

本發明人等曾開發一種使用N-取代醯胺系單體作為硬化性成分的自由基聚合型活性能量線硬化型接著劑(下述專利文獻6及專利文獻7)。所述接著劑，雖於高濕度下及高溫下的嚴苛環境下仍發揮優良的耐久性，但實際上市場仍在尋求可進一步提升接著性及/或耐水性的接著劑。

先前技術文獻 專利文獻

專利文獻1：日本專利公開案特開2006-220732號公報

專利文獻2：日本專利公開案特開2001-296427號公報

專利文獻3：日本專利公開案特開2008-009329號公報

專利文獻4：日本專利公開案特開平09-31416號公報

專利文獻5：日本專利公開案特開2008-174667號公報

專利文獻6：日本專利公開案特開2008-287207號公報

專利文獻7：日本專利公開案特開2010-78700號公報

發明概要

近年來，市場上要求生產性的進一步改良，特別在將偏光件與透明保護薄膜貼合(層合)時，試圖藉著將偏光件的水分率降低，而減輕層合後所得之偏光薄膜的乾燥負擔。然而，習知的活性能量線硬化型接著劑組成物，有低水分率偏光件的接著性不足的情形，實際上仍需要接著性的進一步提升。

本發明係有鑑於上述實情而作成者，其目的在於提供一種活性能量線硬化型接著劑組成物，其可形成一種在2個以上部件(尤其是偏光件與透明保護薄膜層)間的接著性經提升、且耐久性及耐水性經提升的接著劑層。

再者，本發明之目的亦在於提供一種具備接著劑層的偏光薄膜及其製造方法、光學薄膜以及影像顯示裝置，該具備接著劑層的偏光薄膜即使在使用低水分率之偏光件時，偏光件與透明保護薄膜之接著性仍良好，且接著劑層之耐久性及耐水性良好。

本發明人等，為了解決上述課題，著眼於活性能量線硬化型接著劑組成物中之硬化性成分的SP值(溶解性參數)。一般而言，SP值相近的物質彼此相互親和性高。因此，例如若自由基聚合性化合物彼此的SP值相近，則其等的相溶性高；又，若活性能量線硬化型接著劑組成物中的自由基聚合性化合物與偏光件的SP值相近，則接著劑層與偏光件的接著性高。同樣地，若活性能量線硬化型接著劑組成物中的自由基聚合性化合物與保護薄膜(例如三醋酸纖維素薄膜(TAC)、壓克力薄膜、環烯烴薄膜)的SP值相近，則接著劑層與保護薄膜之接著性高。根據這樣的傾向，本發明者人致力進行研發，結果發現可藉由下述方式解決上述課題：(I)活性能量線硬化型接著劑組成物中，將至少3種自由基聚合性化合物的各SP值設計在特定範圍內，且作成最適的組成比率；及(II)包含由(甲基)丙烯醯基單體聚合而成的丙烯酸系寡聚物(D)。本發明係由上述研發結果而作成者，經由如下述之結構而達成上述目的。

亦即，本發明之活性能量線硬化型接著劑組成物，包含作為硬化性成分的自由基聚合性化合物(A)、(B)及(C)、以及由(甲基)丙烯醯基單體聚合而成的丙烯酸系寡聚物(D)，該活性能量線硬化型接著劑組成物之特徵在於：前述自由基聚合性化合物(A)的SP值為29.0(kJ/m³)^1/2以上32.0以下(kJ/m³)^1/2，前述自由基聚合性化合物(B)的SP值18.0(kJ/m³)^1/2以上且低於21.0(kJ/m³)^1/2，前述自由基聚合性化合物(C)的SP值為21.0(kJ/m³)^1/2以上23.0(kJ/m³)^1/2以下，且當組成物總量為100重量%時，前述自由基聚合性化合物(B)含25~80重量%。

自由基聚合性化合物(B)的SP值為18.0(kJ/m³)^1/2以上且低於21.0(kJ/m³)^1/2，其組成比率為25~80重量%，此係至為重要。所述自由基聚合性化合物(B)SP值低，SP值與水(SP值47.9)差異甚鉅，大為有益於接著劑層耐水性的提升。又，自由基聚合性化合物(B)的SP值，接近於例如作為透明保護薄膜之環狀聚烯烴樹脂(例如，日本ZEON股份公司製的商品名「ZEONOR」)之SP值(例如SP值18.6)，因此對所述透明保護薄膜的接著性提升亦有所貢獻。為能使接著劑層的耐水性進一步提升，宜使自由基聚合性化合物(B)的SP值低於20.0(kJ/m³)^1/2。尤其若考量接著劑層的耐水性，當以組成物總量為100重量%時，宜使自由基聚合性化合物(B)為30重量%以上，而40重量%以上較佳。另一方面，若自由基聚合性化合物(B)過多，自由基聚合性化合物(A)及(C)的含量必然變少，有與被接著物的接著性降低的傾向。除此之外，由於自由基聚合性化合物(B)係與自由基聚合性化合物(A)的SP值差距較大，若其組成比率過多，則恐有自由基聚合性化合物彼此間相溶性的平衡崩潰，並隨著相分離的進行，接著劑層透明性惡化的可能。因此，在考量與被接著物的接著性及接著劑層的透明性的前提下，當以組成物總量為100重量%時，宜使自由基聚合性化合物(B)的組成比率為75重量%以下，而70重量%以下較佳。

本發明之活性能量線硬化型接著劑組成物中，自由基聚合性化合物(A)的SP值為29.0(kJ/m³)^1/2以上32.0以下(kJ/m³)^1/2。所述自由基聚合性化合物(A)的SP值高，有助於大為提升例如PVA系偏光件(例如SP值32.8)及作為透明保護薄膜之皂化三醋酸纖維素(TAC；例如SP值32.7)其等與接著劑層之接著性。尤其在考量偏光件及/或TAC與接著劑層之接著性下，當以組成物總量為100重量%時，宜使自由基聚合性化合物(A)為3重量%以上，而5重量%以上較佳。另一方面，自由基聚合性化合物(A)係與由(甲基)丙烯醯基單體聚合而成的丙烯酸系寡聚物(D)之間相溶性差，會有因相分離的進行而硬化後接著劑層變得不均勻的狀況。因此，為能確保接著劑層的均勻性及透明性，當以組成物總量為100重量%時，宜使自由基聚合性化合物(A)為40重量%以下，而30重量%以下佳。

自由基聚合性化合物(C)的SP值為21.0(kJ/m³)^1/2以上且低於23.0(kJ/m³)^1/2。如上所述，自由基聚合性化合物(A)與自由基聚合性化合物(B)，SP值相差甚遠，其等彼此間相溶性差。然而，自由基聚合性化合物(C)的SP值，係位於自由基聚合性化合物(A)的SP值與自由基聚合性化合物(B)與SP值之間，因此藉由在自由基聚合性化合物(A)與自由基聚合性化合物(B)以外，再併用自由基聚合性化合物(C)，組成物整體的相溶性會在良好平衡下提升。再者，由於自由基聚合性化合物(C)的SP值接近例如作為透明保護薄膜的未皂化三醋酸纖維素的SP值(例如23.3)及丙烯醯系薄膜的SP值(例如22.2)，因此亦對該等透明保護薄膜的接著性提升有所貢獻。故而，為使耐水性及接著性在良好平衡下提升，宜使自由基聚合性化合物(C)的組成比率為5~55重量%。在考量組成物整體的相溶性及與透明保護薄膜的接著性時，自由基聚合性化合物(C)的組成比率係10重量%以上較佳。又，在考量耐水性時，自由基聚合性化合物(C)的組成比率係30重量%以下較佳。

本發明之活性能量線硬化型接著劑組成物，除了作為硬化性成分的自由基聚合性化合物(A)、(B)及(C)，還包含由(甲基)丙烯醯基單體聚合而成的丙烯酸系寡聚物(D)。藉由在活性能量線硬化型接著劑組成物中包含(D)成分，可降低當對該組成物照射活性能量線並使其硬化時的硬化收縮，並可減輕接著劑與偏光件及透明保護薄膜等被接著物之間的界面應力。其結果，可抑制接著劑層與被接著物間接著性的降低。為能充份抑制硬化物層(接著劑層)的硬化收縮，接著劑組成物中，宜使丙烯酸系寡聚物(D)含3重量%以上，而含5重量%以上較佳。另一方面，若接著劑組成物中的丙烯酸系寡聚物(D)含量過多，對該組成物照射活性能量線時的反應速度衰減過多，會有硬化不良的狀況。故而，接著劑組成物中丙烯酸系寡聚物(D)的含量，宜為20重量%以下，而15重量%以下較佳。

上述活性能量線硬化型接著劑組成物之中，宜含有：具有活性亞甲基的自由基聚合性化合物(E)，以及有奪氫作用的自由基聚合起始劑(F)。根據所述組成，即便從特別是高濕度環境或水中取出即刻(非乾燥狀態)，偏光薄膜具有的接著劑層之接著性亦顯著提升。其理由雖不清楚，但推想有以下原因。亦即，具有活性亞甲基之自由基聚合性化合物(E)，與構成接著劑層之其他自由基聚合性化合物一起進行聚合，嵌入接著劑層中基底聚合物的主鏈及/或側鏈，而形成接著劑層。所述聚合過程中，若存在有奪氫作用的自由基聚合起始劑(F)，構成接著劑層之基底聚合物持續形成時，具有活性亞甲基之自由基聚合性化合物(E)的氫被奪走，於亞甲基產生自由基。然後，產生了自由基的亞甲基與PVA等偏光件的羥基起反應，在接著劑層與偏光件之間形成了共價鍵。其結果，估計特別是即使在非乾燥狀態，偏光薄膜具有之接著劑層的接著性仍顯著提升。

上述活性能量線硬化型接著劑組成物之中，前述活性亞甲基宜為乙醯乙醯基。

上述活性能量線硬化型接著劑組成物之中，前述具有活性亞甲基的自由基聚合性化合物(E)，宜為乙醯乙醯氧基烷基(甲基)丙烯酸酯。

上述活性能量線硬化型接著劑組成物之中，前述自由基聚合起始劑(F)，宜為9-氧硫系自由基聚合起始劑。

上述活性能量線硬化型接著劑組成物之中，在以組成物總量為100重量%時，宜含有1~50重量%之前述具有活性亞甲基之自由基聚合性化合物(E)，及0.1~10重量%自由基聚合起始劑(F)。

上述活性能量線硬化型接著劑組成物之中，宜含有光酸產生劑(G)。

上述活性能量線硬化型接著劑組成物之中，光酸產生劑(G)宜含有：具有選自於由PF₆ ^-、SbF₆ ^-及AsF₆ ^-所構成群組中至少一種作為相對陰離子的光酸產生劑。

上述活性能量線硬化型接著劑組成物之中，宜併用光酸產生劑(G)及含有烷氧基或環氧基任一者之化合物(H)於該活性能量線硬化型接著劑組成物中。

上述活性能量線硬化型接著劑組成物之中，宜包含具有胺基的矽烷偶合劑(I)。根據所述結構，所得接著劑層之溫水接著性會進一步提升。上述活性能量線硬化型接著劑組成物之中，在以組成物總量為100重量%時，宜含有0.01~20重量%之具有胺基之矽烷偶合劑(I)。

上述活性能量線硬化型接著劑組成物之中，若自由基聚合性化合物(A)、(B)及(C)各自的均聚物的玻璃轉移溫度(Tg)均在60℃以上，則耐久性尤為優良，可避免熱震裂紋的發生，故而為宜。在此，「熱震裂紋」意指，在例如偏光件收縮時於拉伸方向裂開的現象，為能避免其發生，抑制偏光件於熱震溫度範圍(-40℃~60℃)下的膨張/收縮是相當重要的。如上所述，自由基聚合性化合物(A)、(B)及(C)各自均聚物的玻璃轉移溫度(Tg)均在60℃以上，因此在形成了接著劑層時，其Tg亦較高。藉此，可抑制熱震溫度範圍下接著劑層急速的彈性率變化，並減低作用於偏光件的膨張/收縮力，故可防止熱震裂紋的發生。

在此，說明關於本發明之SP值(溶解性參數)的計算方法如下。

(溶解度參數(SP值)的計算法)

本發明中，自由基聚合性化合物或偏光件、各種透明保護薄膜等的溶解度參數(SP值)，可依Fedors計算法予以計算而求出〔參照「聚合物工程及科學(Polymer Eng.& Sci.)」，第14卷，第2號(1974)，第148~154頁〕，即：[數1]

(惟其中△ei係屬原子或基在25℃下的蒸發能量，△vi為25℃下之莫耳體積)。

上述算式中的△ei及△vi，表示主要分子中的i個原子及基所給予的一定數值。又，對於原子或基賦與之△e及△v數值之代表例顯示於下表1。

上述活性能量線硬化型接著劑組成物之中，當以活性能量線硬化型接著劑組成物中的自由基聚合性化合物總量為100重量份時，前述自由基聚合性化合物(A)、(B)和(C)以及由(甲基)丙烯醯基單體聚合而成的丙烯酸系寡聚物(D)合計宜含70~100重量份。根據所述結構，可充份確保接著劑組成物中自由基聚合性化合物(A)、(B)和(C)與丙烯酸系寡聚物(D)的比例，故可提升接著劑層的接著性，並可使耐久性及耐水性更為提高。為能使接著性、耐久性及耐水性更為平衡良好地提升，宜使自由基聚合性化合物(A)、(B)和(C)及丙烯酸系寡聚物(D)合計含80~100重量份，而含90~100重量份更佳。

上述活性能量線硬化型接著劑組成物之中，前述自由基聚合性化合物(A)，宜為羥乙基丙烯醯胺及/或N-羥甲基丙烯醯胺。又，上述活性能量線硬化型接著劑組成物之中，前述自由基聚合性化合物(B)，宜為三丙二醇二丙烯酸酯。再者，上述活性能量線硬化型接著劑組成物之中，前述自由基聚合性化合物(C)，宜為丙烯醯基嗎福林及/或N-甲氧基甲基丙烯醯胺。根據此等組成，可在良好平衡下更為提升接著劑層的接著性、耐久性及耐水性。

上述活性能量線硬化型接著劑組成物之中，係宜含有以下述一般式(1)表示的化合物作為光聚合起始劑； (式中，R¹及R²表示-H、-CH₂CH₃、-iPr或Cl；R¹及R²可為相同或相異)。

一般式(1)之光聚合起始劑，可由穿透具有UV吸收能之透明保護薄膜的長波長的光而起始聚合，故即使越過UV吸收性薄膜亦能使接著劑硬化。具體而言例如，在如三醋酸纖維素-偏光件-三醋酸纖維素的兩面積層具有UV吸收能之透明保護薄膜時，若含有一般式(1)之光聚合起始劑，則接著劑組成物仍可硬化。

又，上述活性能量線硬化型接著劑組成物之中，作為光聚合起始劑，除了一般式(1)的光聚合起始劑外，宜更含有以下述一般式(2)表示的化合物； (式中，R³、R⁴及R⁵表示-H、-CH₃、-CH₂CH₃、-iPr或Cl，R³、R⁴及R⁵可為相同一或相異)。藉著併用上述一般式(1)及一般式(2)的光聚合起始劑，因其等的光增感反應而反應高效率化，接著劑層的接著性尤能提升。

又，本發明之偏光薄膜，係於偏光件之至少一側的面上，隔著接著劑層設置有波長365nm光穿透率低於5%的透明保護薄膜，其特徵在於：前述接著劑層，係由前述記載之任何活性能量線硬化型接著劑組成物經照射活性能量線而成之硬化物層所形成者。

如前所述，偏光件SP值高(PVA系偏光件的SP值為例如32.8)，另一方面，透明保護薄膜的SP值一般較低(SP值為約18~24)。本發明之偏光薄膜，在將SP值高的偏光件及SP值低的透明保護薄膜相接著的接著劑層中，形成該接著劑層的活性能量線硬化型接著劑組成物，係設計以使自由基聚合性化合物(A)、(B)及(C)以及由(甲基)丙烯醯基單體聚合而成的丙烯酸系寡聚物(D)的SP值及配比最適化。其結果，所述偏光薄膜，其偏光件與透明保護薄膜係藉著接著劑層而強力接著，且接著劑層的耐久性及耐水性優良。尤其，接著劑層的Tg若為60℃以上、較佳為70℃以上、特佳為90℃以上，則耐久性會尤為優良，可防止熱震裂紋的發生。

上述偏光薄膜之中，前述透明保護薄膜的透濕度宜為150g/m²/24h以下。根據所述結構，空氣中的水分難以進入偏光薄膜中，可抑制偏光薄膜本身的水分率變化。其結果，可抑制因儲存環境而產生的偏光薄膜的翹曲或尺寸變化。

上述偏光薄膜之中，前述透明保護薄膜的SP值宜為29.0(kJ/m³)^1/2以上而低於33.0(kJ/m³)^1/2。當透明保護薄膜的SP值在上述範圍內時，會與活性能量線硬化型接著劑組成物中自由基聚合性化合物(A)的SP值非常接近，故透明保護薄膜與接著劑層間的接著性大為提升。作為SP值29.0(kJ/m³)^1/2以上且低於33.0(kJ/m³)^1/2的透明保護薄膜，可舉例如皂化三醋酸纖維素(例如SP值32.7)。

上述偏光薄膜之中，前述透明保護薄膜的SP值宜為18.0(kJ/m³)^1/2以上而低於24.0(kJ/m³)^1/2。當透明保護薄膜的SP值為上述範圍內時，會與活性能量線硬化型接著劑組成物中自由基聚合性化合物(B)及自由基聚合性化合物(C)的SP值非常接近，故透明保護薄膜與接著劑層間的接著性大為提升。作為SP值18.0(kJ/m³)^1/2以上且低於24.0(kJ/m³)^1/2的透明保護薄膜，可舉例如未皂化三醋酸纖維素(例如SP值23.3)。

本發明之偏光薄膜之製造方法，係在偏光件至少一側的面上，隔著接著劑層設置波長365nm光線穿透率低於5%的透明保護薄膜此一偏光薄膜製造方法，其特徵在於包含下述步驟：於前述偏光件及前述透明保護薄膜之至少一側的面上，塗佈前述所記載之任何活性能量線硬化型接著劑組成物的塗佈步驟；將前述偏光件及前述透明保護薄膜相貼合的貼合步驟；從前述偏光件面側或前述透明保護薄膜面側照射活性能量線，使前述活性能量線硬化型接著劑組成物硬化，藉此得到接著劑層，將前述偏光件及前述透明保護薄膜隔著該接著劑層相接著的接著步驟。根據所述製造方法，可製造出偏光件與透明保護薄膜間的接著性優良、且接著劑層的耐久性及耐水性優良的具備接著劑層之偏光薄膜。

上述偏光薄膜之製造方法中，宜在前述塗佈步驟前，在前述偏光件及前述透明保護薄膜至少一側的面，即欲行貼合之側的面，施行電暈處理、電漿處理、準分子處理或火焰處理。

上述偏光薄膜之製造方法中，前述偏光薄膜，係在偏光件的兩面，隔著接著劑層設置著波長365nm之光線穿透率低於5%的透明保護薄膜者，而該製造方法宜含有下述接著步驟：首先，從一邊的透明保護薄膜側照射活性能量線，接著從另一邊的透明保護薄膜側照射活性能量線，使前述活性能量線硬化型接著劑組成物硬化，藉此得到接著劑層，將前述偏光件及前述透明保護薄膜隔著該接著劑層相接著。

上述偏光薄膜之製造方法中，前述活性能量線，係宜含有波長範圍380~450nm之可見光者。

上述偏光薄膜之製造方法中，前述活性能量線，係波長範圍380~440nm的積算照度與波長範圍250~370nm的積算照度比為100：0~100：50者為宜。

上述偏光薄膜之製造方法中，前述貼合步驟時前述偏光件的水分率宜低於15%。根據所述製造方法，貼合步驟(層合)後所得之偏光薄膜的乾燥負荷得以降低，而可製造出偏光件與透明保護薄膜之接著性優良、且接著劑層之耐久性及耐水性優良的具備接著劑層之偏光薄膜。

本發明之光學薄膜，其特徵在於積層有至少一個前述記載之偏光板。

再者，本發明之影像顯示裝置，特徵在於使用前述記載之偏光薄膜，及/或前述記載之光學薄膜。在所述光學薄膜及影像顯示裝置中，偏光薄膜的偏光件與透明保護薄膜係隔著接著劑層而強力接著，且接著劑層的耐久性及耐水性優良。

在由本發明之活性能量線硬化型接著劑組成物的硬化物形成接著劑層時，可形成一種使2個以上的部件、尤其是偏光件與透明保護薄膜層其間的接著性提升，且耐久性及耐水性經提升的接著劑層。再者，本發明之偏光薄膜係具備一接著劑層，其即使在使用低水分率的偏光件時，偏光件與透明保護薄膜之間的接著性仍良好，且接著劑層的耐久性及耐水性優良。

在具備本發明之接著劑層的情況下，可製作尺寸變化低的偏光薄膜，故可易於因應偏光薄膜的大型化，由成品率、取得數的觀點係可降低生產成本。又，由於本發明之偏光薄膜尺寸安定性佳，故可降低因背光外部熱所致之影像顯示裝置不均缺陷的發生。

用以實施發明之形態

本發明之活性能量線硬化型接著劑組成物，包含作為硬化性成分之SP值29.0(kJ/m³)^1/2以上32.0以下(kJ/m³)^1/2之自由基聚合性化合物(A)，SP值18.0(kJ/m³)^1/2且低於21.0(kJ/m³)^1/2的自由基聚合性化合物(B)及SP值21.0(kJ/m³)^1/2以上23.0(kJ/m³)^1/2以下的自由基聚合性化合物(C)，以及由(甲基)丙烯醯基單體聚合而成的丙烯酸系寡聚物(D)，且當組成物總量為100重量%時，含有前述自由基聚合性化合物(B)25~80重量%。另外，本發明之中，「組成物總量」意指，所含自由基聚合性化合物加上各種起始劑及添加劑的總量。

自由基聚合性化合物(A)，只要是具有(甲基)丙烯酸酯基等自由基聚合性基、且SP值29.0(kJ/m³)^1/2以上32.0以下(kJ/m³)^1/2的化合物即可使用，並無限定。作為自由基聚合性化合物(A)之具體例，可舉例如，羥乙基丙烯醯胺(SP值29.6)、N-羥甲基丙烯醯胺(SP值31.5)等。另外，本發明中，(甲基)丙烯酸酯基意指丙烯酸酯基及/或甲基丙烯酸酯基。

自由基聚合性化合物(B)，只要是具有(甲基)丙烯酸酯基等自由基聚合性基且SP值18.0(kJ/m³)^1/2以上並低於21.0(kJ/m³)^1/2的化合物即可使用，並無限定。作為自由基聚合性化合物(B)的具體例，可舉例如三丙二醇二丙烯酸酯(SP值19.0)、1,9-壬烷二元醇二丙烯酸酯(SP值19.2)、三環癸烷二甲醇二丙烯酸酯(SP值20.3)、環狀三羥甲基丙烷縮甲醛丙烯酸酯(SP值19.1)、二烷二醇二丙烯酸酯(SP值19.4)、EO改質二丙三醇四丙烯酸酯(SP值20.9)等。另外，亦適合使用市售品作為自由基聚合性化合物(B)，可舉例如ARONIX M-220(東亞合成公司製，SP值19.0)、LIGHT ACRYLATE 1,9ND-A(共榮社化學公司製，SP值19.2)、LIGHT ACRYLATE DGE-4A(共榮社化學公司製，SP值20.9)、LIGHT ACRYLATE DCP-A(共榮社化學公司製，SP值20.3)、 SR-531(Sartomer公司製，SP值19.1)、CD-536(Sartomer公司製、SP值19.4)等。

自由基聚合性化合物(C)，只要是具有(甲基)丙烯酸酯基等自由基聚合性基、且SP值21.0(kJ/m³)^1/2以上23.0(kJ/m³)^1/2以下的即可使用，並無限定。作為自由基聚合性化合物(C)的具體例，可舉例如，丙烯醯基嗎福林(SP值22.9)、N-甲氧基甲基丙烯醯胺(SP值22.9)、N-乙氧基甲基丙烯醯胺(SP值22.3)等。另外，亦適合使用市售品作為自由基聚合性化合物(C)，例如ACMO(興人公司製，SP值22.9)、WASUMA 2MA(笠野興產公司製，SP值22.9)，WASUMA EMA(笠野興產公司製，SP值22.3)，WASUMA 3MA(笠野興產公司製，SP值22.4)等。

若自由基聚合性化合物(A)、(B)及(C)各自的均聚物的玻璃轉移溫度(Tg)均在60℃以上，則接著劑層的Tg亦變高，耐久性尤為優良。其結果，例如作為偏光件與透明保護薄膜間的接著劑層時，可防止偏光件之熱震裂紋的發生。在此，自由基聚合性化合物之均聚物的Tg，意指單獨使自由基聚合性化合物硬化(聚合)時的Tg。關於Tg的測定方法容後詳述。

活性能量線硬化型接著劑組成物，在考量塗佈時的作業性及均勻性時，係使用低黏度者為宜，因此由(甲基)丙烯醯基單體聚合而成的丙烯酸系寡聚物(D)亦宜為低黏度者。作為低黏度並可防止接著劑層硬化收縮的丙烯酸系寡聚物，宜為重量平均分子量(Mw)15000以下者，而10000 以下者較佳，5000以下者尤佳。另一方面，為能充份抑制硬化物層(接著劑層)的硬化收縮，丙烯酸系寡聚物(D)的重量平均分子量(Mw)宜為500以上，而1000以上較佳，1500以上尤佳。作為構成丙烯酸系寡聚物(D)的(甲基)丙烯醯基單體，具體上可列舉例如：(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸正丙酯、(甲基)丙烯酸異丙酯、2-甲基-2-硝丙基(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸正丁酯、(甲基)丙烯酸異丁酯、(甲基)丙烯酸第二丁酯、(甲基)丙烯酸第三丁酯、(甲基)丙烯酸正戊酯、(甲基)丙烯酸第三戊酯、3-戊基(甲基)丙烯酸酯、2,2-二甲基丁基(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸正己酯、(甲基)丙烯酸十六酯、(甲基)丙烯酸正辛酯、2-乙基己基(甲基)丙烯酸酯、4-甲基-2-丙基戊基(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸正十八酯等(甲基)丙烯酸(碳數1-20)烷基酯類；再者，例如環烷基(甲基)丙烯酸酯(如環己基(甲基)丙烯酸酯、環戊基(甲基)丙烯酸酯等)、芳烷基(甲基)丙烯酸酯(如苄基(甲基)丙烯酸酯等)；多環式(甲基)丙烯酸酯(例如、2-異莰基(甲基)丙烯酸酯、2-降莰基甲基(甲基)丙烯酸酯、5-降莰烯-2-基-甲基(甲基)丙烯酸酯、3-甲基-2-降莰基甲基(甲基)丙烯酸酯等)；含羥基之(甲基)丙烯酸酯類(例如羥乙基(甲基)丙烯酸酯、2-羥丙基(甲基)丙烯酸酯、2,3-二羥丙基甲基-丁基(甲基)甲基丙烯酸酯等)；含烷氧基或酚氧基含有(甲基)丙烯酸酯類(2-甲氧基乙基(甲基)丙烯酸酯、2-乙氧基乙基(甲基)丙烯酸酯、2-甲氧基甲氧基乙基(甲基)丙烯酸酯、3-甲氧基丁基(甲基)丙烯酸酯、乙基卡必醇(甲基)丙烯酸酯、酚氧基乙基(甲基)丙烯酸酯等)；含環氧基之(甲基)丙烯酸酯類(例如環氧丙基(甲基)丙烯酸酯等)；含鹵素之(甲基)丙烯酸酯類(例如2,2,2-三氟乙基(甲基)丙烯酸酯、2,2,2-三氟乙基乙基(甲基)丙烯酸酯、四氟丙基(甲基)丙烯酸酯、六氟丙基(甲基)丙烯酸酯、八氟戊基(甲基)丙烯酸酯、十七氟癸基(甲基)丙烯酸酯等)；烷基胺烷基(甲基)丙烯酸酯(例如二甲基胺乙基(甲基)丙烯酸酯等)等。此等(甲基)丙烯酸酯可單獨使用或併用2種以上。作為丙烯酸系寡聚物(D)的具體例，可舉例為東亞合成公司製「ARUFON」、綜研化學公司製「ACTFLOW」、BASF日本公司製「JONCRYL」等。

上述活性能量線硬化型接著劑組成物之中，宜進一步含有具有活性亞甲基之自由基聚合性化合物(E)、及具有奪氫作用的自由基聚合起始劑(F)。

具有活性亞甲基之自由基聚合性化合物(E)，係於末端或分子中具有(甲基)丙烯醯基等活性雙鍵基、並具有活性亞甲基之化合物。作為活性亞甲基，可舉例如乙醯乙醯基、烷氧基丙二醯基，或氰基乙醯基等。作為具有活性亞甲基之自由基聚合性化合物(E)的具體例，可舉例如2-乙醯乙醯氧基乙基(甲基)丙烯酸酯、2-乙醯乙醯氧基丙基(甲基)丙烯酸酯、2-乙醯乙醯氧基-1-甲基乙基(甲基)丙烯酸酯等乙醯乙醯氧基烷基(甲基)丙烯酸酯；2-乙氧基丙二醯氧基乙基(甲基)丙烯酸酯、2-氰基乙醯氧基乙基(甲基)丙烯酸酯、N-(2-氰基乙醯氧基乙基)丙烯醯胺、N-(2-丙醯基乙醯氧基丁基)丙烯醯胺、N-(4-乙醯乙醯氧基甲基苄基)丙烯醯胺、N-(2-乙醯乙醯基胺乙基)丙烯醯胺等。另外，具有活性亞甲基之自由基聚合性化合物(E)的SP值並無特別限制，可使用任意值的化合物。

本發明中，作為具奪氫作用之自由基聚合起始劑 (F)，可舉例如9-氧硫系自由基聚合起始劑、二苯基酮系自由基聚合起始劑等。作為9-氧硫系自由基聚合起始劑，可舉例如以上述一般式(1)表示的化合物。以一般式(1)表示之化合物的具體例方面，可舉例如，9-氧硫，二甲基9-氧硫，二乙基9-氧硫，異丙基9-氧硫，氯9-氧硫等。以一般式(1)表示之化合物中，R¹及R²為-CH₂CH₃的二乙基9-氧硫尤佳。

如上所述，本發明中，在具有奪氫作用的自由基聚合起始劑(F)的存在下，於具有活性亞甲基之自由基聚合性化合物(E)的亞甲基產生自由基，所述亞甲基與PVA等偏光件的羥基發生反應，形成共價鍵。因此，為能使具有活性亞甲基之自由基聚合性化合物(E)的亞甲基產生自由基，而充份形成所述共價鍵結，在以組成物總量為100重量%時，宜含有1~50重量%之具有活性亞甲基之自由基聚合性化合物(E)，及0.1~10重量%之自由基聚合起始劑(F)，較佳係含有3~30重量%之具有活性亞甲基之自由基聚合性化合物(E)，及0.3~9重量%之自由基聚合起始劑(F)。若具有活性亞甲基之自由基聚合性化合物(E)低於1重量%，則時有非乾燥狀態下接著性提升效果不高、耐水性未充份提升的狀況；若超過50重量%，則時有接著劑層發生硬化不良的狀況。又，若具有奪氫作用的自由基聚合起始劑(F)低於0.1重量%，則時有奪氫反應未充份進從的狀況；若超過10重量%，則時有在組成物中未完全溶解的狀況。

本發明中，當活性能量線硬化型樹脂組成物含有光酸產生劑時，與不含有光酸產生劑的情況相較，接著劑層的耐水性及耐久性可飛躍性地提升。光酸產生劑(G)係可以下述一般式(3)表示。

一般式(3)[化3]L⁺ X^-

(惟其中L⁺表示任意的鎓陽離子。又，X^-為選自於由PF₆ ^-、SbF₆ ^-、AsF₆ ^-、SbCl₆ ^-、BiCl₅ ^-、SnCl₆ ^-、ClO₄ ^-、二硫胺甲酸酯陰離子、及SCN^-所構成之群組中的相對陰離子)。

構成一般式(3)之鎓陽離子L⁺方面，適宜的鎓陽離子的結構，可舉例如選自於下述一般式(4)~一般式(12)中的鎓陽離子。

一般式(4)

一般式(5)

一般式(6)

一般式(7)

一般式(8)[化8]

一般式(9)

一般式(10)

一般式(11)

一般式(12)

(惟上述一般式(4)-(12)中，R¹、R²及R³係各自獨立地表示選自於氫原子、取代或未取代的烷基、取代或未取代的烯基、取代或未取代的芳烷基、取代或未取代的雜環基、取代或未取代的烷氧基、取代或未取代的芳氧基、取代或未取代的雜環氧基、取代或未取代的醯基、取代或未取代的羰基氧基、取代或未取代的氧羰基、或鹵素原子的基團。R⁴係表示與R¹、R²及R³所記載的基團相同的基。R⁵係表示取代或未取代的烷基、取代或未取代的烷基硫基。R⁶及R⁷係各自獨立地表示取代或未取代的烷基、取代或未取代的烷氧基。R係表示任何鹵素原子、羥基、羧基、巰基、氰基、硝基、取代或未取代的胺甲醯基、取代或未取代的烷基、取代或未取代的烯基、取代或未取代的芳烷基、取代或未取代的雜環基、取代或未取代的烷氧基、取代或未取代的芳氧基、取代或未取代的雜環氧基、取代或未取代的烷基硫基、取代或未取代的芳硫基、取代或未取代的雜環硫基、取代或未取代的醯基、取代或未取代的羰基氧基、或者取代或未取代的氧羰基。Ar⁴、Ar⁵係表示任何取代或未取代的芳烷基、取代或未取代的雜環基。X表示氧或硫原子。i表示0~5的整數。j表示0~4的整數。k表示0~3的整數。又，相鄰R彼此間、Ar⁴與Ar⁵、R²與R³、R²與R⁴、R³與R⁴、R¹與R²、R¹與R³、R¹與R⁴、R¹與R、或R¹與R⁵，可相互結合成環狀構造)。

符合一般式(4)的鎓陽離子(鋶陽離子)可舉例如：二甲基苯基鋶、二甲基(鄰氟苯基)鋶、二甲基(間氯苯基)鋶、二甲基(對溴苯基)鋶、二甲基(對氰基苯基)鋶、二甲基(間硝基苯基)鋶、二甲基(2,4,6-三溴苯基)鋶、二甲基(五氟苯基)鋶、二甲基(對(三氟甲基)苯基)鋶、二甲基(對羥基苯基)鋶、二甲基(對巰基苯基)鋶、二甲基(對甲基亞磺醯基苯基)鋶、二甲基(對甲基磺醯基苯基)鋶、二甲基(鄰乙醯基苯基)鋶、二甲基(鄰苯甲醯基苯基)鋶、二甲基(對甲基苯基)鋶、二甲基(對異丙基苯基)鋶、二甲基(對十八基苯基)鋶、二甲基(對環己基苯基)鋶、二甲基(對甲氧基苯基)鋶、二甲基(鄰甲氧基羰基苯基)鋶、二甲基(對苯基磺醯基苯基)鋶、(7-甲氧基-2-氧-2H-苯并哌喃-4-基)二甲基鋶、(4-甲氧基萘-1-基)二甲基鋶、二甲基(對異丙氧基羰基苯基)鋶、二甲基(2-萘基)鋶、二甲基(9-蒽基)鋶、二乙基苯基鋶、甲基乙基苯基鋶、甲基二苯基鋶、三苯基鋶、二異丙基苯基鋶、二苯基(4-苯基磺醯基-苯基)-鋶、4,4’-雙(二苯基鋶)二苯基硫化物、4,4’-雙[二[(4-(2-羥基-乙氧基)-苯基)]鋶]]二苯基硫化物、4,4’-雙(二苯基鋶)聯苯、二苯基(鄰氟苯基)鋶、二苯基(間氯苯基)鋶、二苯基(對溴苯基)鋶、二苯基(對氰基苯基)鋶、二苯基(間硝基苯基)鋶、二苯基(2,4,6-三溴苯基)鋶、二苯基(五氟苯基)鋶、二苯基(對(三氟甲基)苯基)鋶、二苯基(對羥基苯基)鋶、二苯基(對巰基苯基)鋶、二苯基(對甲基亞磺醯基苯基)鋶、二苯基(對甲基磺醯基苯基)鋶、二苯基(鄰乙醯基苯基)鋶、二苯基(鄰苯甲醯基苯基)鋶、二苯基(對甲基苯基)鋶、二苯基(對異丙基苯基)鋶、二苯基(對十八基苯基)鋶、二苯基(對環己基苯基)鋶、二苯基(對甲氧基苯基)鋶、二苯基(鄰甲氧基羰基苯基)鋶、二苯基(對苯基磺醯基苯基)鋶、(7-甲氧基-2-氧-2H-苯并哌喃-4-基)二苯基鋶、(4-甲氧基萘-1-基)二苯基鋶、二苯基(對異丙氧基羰基苯基)鋶、二苯基(2-萘基)鋶、二苯基(9-蒽基)鋶、乙基二苯基鋶、甲基乙基(鄰甲苯基)鋶、甲基二(對甲苯基)鋶、三(對甲苯基)鋶、二異丙基(4-苯基磺醯基苯基)鋶、二苯基(2-噻吩基)鋶、二苯基(2-呋喃基)鋶、二苯基(9-乙基-9H咔唑-3-基)鋶等，但不受限於此。

符合一般式(5)的鎓陽離子(硫氧鎓陽離子，sulfoxonium cation)可舉例如：二甲基苯基硫氧鎓、二甲基(鄰氟苯基)硫氧鎓、二甲基(間氯苯基)硫氧鎓、二甲基(對溴苯基)硫氧鎓、二甲基(對氰基苯基)硫氧鎓、二甲基(間硝基苯基)硫氧鎓、二甲基(2,4,6-三溴苯基)硫氧鎓、二甲基(五氟苯基)硫氧鎓、二甲基(對(三氟甲基)苯基)硫氧鎓、二甲基(對羥基苯基)硫氧鎓、二甲基(對巰基苯基)硫氧鎓、二甲基(對甲基亞磺醯基苯基)硫氧鎓、二甲基(對甲基磺醯基苯基)硫氧鎓、二甲基(鄰乙醯基苯基)硫氧鎓、二甲基(鄰苯甲醯基苯基)硫氧鎓、二甲基(對甲基苯基)硫氧鎓、二甲基(對異丙基苯基)硫氧鎓、二甲基(對十八基苯基)硫氧鎓、二甲基(對環己基苯基)硫氧鎓、二甲基(對甲氧基苯基)硫氧鎓、二甲基(鄰甲氧基羰基苯基)硫氧鎓、二甲基(對苯基磺醯基苯基)硫氧鎓、(7-甲氧基-2-氧-2H-苯并哌喃-4-基)二甲基硫氧鎓、(4-甲氧基萘-1-基)二甲基硫氧鎓、二甲基(對異丙氧基羰基苯基)硫氧鎓、二甲基(2-萘基)硫氧鎓、二甲基(9-蒽基)硫氧鎓、二乙基苯基硫氧鎓、甲基乙基苯基硫氧鎓、甲基二苯基硫氧鎓、三苯基硫氧鎓、二異丙基苯基硫氧鎓、二苯基(4-苯基磺醯基-苯基)-硫氧鎓、4,4’-雙(二苯基硫氧鎓)二苯基硫化物、4,4’-雙[二[(4-(2-羥基-乙氧基)-苯基)]硫氧鎓]二苯基硫化物、4,4’-雙(二苯基硫氧鎓)聯苯、二苯基(鄰氟苯基)硫氧鎓、二苯基(間氯苯基)硫氧鎓、二苯基(對溴苯基)硫氧鎓、二苯基(對氰基苯基)硫氧鎓、二苯基(間硝基苯基)硫氧鎓、二苯基(2,4,6-三溴苯基)硫氧鎓、二苯基(五氟苯基)硫氧鎓、二苯基(對(三氟甲基)苯基)硫氧鎓、二苯基(對羥基苯基)硫氧鎓、二苯基(對巰基苯基)硫氧鎓、二苯基(對甲基亞磺醯基苯基)硫氧鎓、二苯基(對甲基磺醯基苯基)硫氧鎓、二苯基(鄰乙醯基苯基)硫氧鎓、二苯基(鄰苯甲醯基苯基)硫氧鎓、二苯基(對甲基苯基)硫氧鎓、二苯基(對異丙基苯基)硫氧鎓、二苯基(對十八基苯基)硫氧鎓、二苯基(對環己基苯基)硫氧鎓、二苯基(對甲氧基苯基)硫氧鎓、二苯基(鄰甲氧基羰基苯基)硫氧鎓、二苯基(對苯基磺醯基苯基)硫氧鎓、(7-甲氧基-2-氧-2H-苯并哌喃-4-基)二苯基硫氧鎓、(4-甲氧基萘-1-基)二苯基硫氧鎓、二苯基(對異丙氧基羰基苯基)硫氧鎓、二苯基(2-萘基)硫氧鎓、二苯基(9-蒽基)硫氧鎓、乙基二苯基硫氧鎓、甲基乙基(鄰甲苯基)硫氧鎓、甲基二(對甲苯基)硫氧鎓、三(對甲苯基)硫氧鎓、二異丙基(4-苯基磺醯基苯基)硫氧鎓、二苯基(2-噻吩基)硫氧鎓、二苯基(2-呋喃基)硫氧鎓、二苯基(9-乙基-9H咔唑-3-基)硫氧鎓等，但不受限於此。

符合一般式(6)的鎓陽離子(鏻陽離子)：鏻陽離子之例可列舉為：三甲基苯基鏻、三乙基苯基鏻、四苯基鏻、三苯基(對氟苯基)鏻、三苯基(鄰氯苯基)鏻、三苯基(間溴苯基)鏻、三苯基(對氰基苯基)鏻、三苯基(間硝基苯基)鏻、三苯基(對苯基磺醯基苯基)鏻、(7-甲氧基-2-氧-2H-苯并哌喃-4-基)三苯基鏻、三苯基(鄰羥基苯基)鏻、三苯基(鄰乙醯基苯基)鏻、三苯基(間苯甲醯基苯基)鏻、三苯基(對甲基苯基)鏻、三苯基(對異丙氧基苯基)鏻、三苯基(鄰甲氧基羰基苯基)鏻、三苯基(1-萘基)鏻、三苯基(9-蒽基)鏻、三苯基(2-噻吩基)鏻、三苯基(2-呋喃基)鏻、三苯基(9-乙基-9H咔唑-3-基)鏻等，但不受限於此。

符合一般式(7)的鎓陽離子(吡啶鎓陽離子)：吡啶鎓陽離子之例可列舉為：N-苯基吡啶鎓、N-(鄰氯苯基)吡啶鎓、N-(間氯苯基)吡啶鎓、N-(對氰基苯基)吡啶鎓、N-(鄰硝基苯基)吡啶鎓、N-(對乙醯基苯基)吡啶鎓、N-(對異丙基苯基)吡啶鎓、N-(對十八基氧基苯基)吡啶鎓、N-(對甲氧基羰基苯基)吡啶鎓、 N-(9-蒽基)吡啶鎓、2-氯-1-苯基吡啶鎓、2-氰基-1-苯基吡啶鎓、2-甲基-1-苯基吡啶鎓、2-乙烯-1-苯基吡啶鎓、2-苯基-1-苯基吡啶鎓、1,2-二苯基吡啶鎓、2-甲氧基-1-苯基吡啶鎓、2-酚氧基-1-苯基吡啶鎓、2-乙醯基-1-(對甲苯基)吡啶鎓、2-甲氧基羰基-1-(對甲苯基)吡啶鎓、3-氟-1-萘基吡啶鎓、4-甲基-1-(2-呋喃基)吡啶鎓、N-甲基吡啶鎓、N-乙基吡啶鎓等，但不受限於此。

符合一般式(8)的鎓陽離子(喹啉鎓陽離子)：喹啉鎓陽離子之例可列舉為：N-甲基喹啉鎓、N-乙基喹啉鎓、N-苯基喹啉鎓、N-萘基喹啉鎓、N-(鄰氯苯基)喹啉鎓、N-(間氯苯基)喹啉鎓、N-(對氰基苯基)喹啉鎓、N-(鄰硝基苯基)喹啉鎓、N-(對乙醯基苯基)喹啉鎓、N-(對異丙基苯基)喹啉鎓、N-(對十八基氧基苯基)喹啉鎓、N-(對甲氧基羰基苯基)喹啉鎓、N-(9-蒽基)喹啉鎓、2-氯-1-苯基喹啉鎓、2-氰基-1-苯基喹啉鎓、2-甲基-1-苯基喹啉鎓、2-乙烯-1-苯基喹啉鎓、2-苯基-1-苯基喹啉鎓、1,2-二苯基喹啉鎓、2-甲氧基-1-苯基喹啉鎓、2-酚氧基-1-苯基喹啉鎓、2-乙醯基-1-苯基喹啉鎓、2-甲氧基羰基-1-苯基喹啉鎓、3-氟-1-苯基喹啉鎓、4-甲基-1-苯基喹啉鎓、2-甲氧基-1-(對甲苯基)喹啉鎓、2-酚氧基-1-(2-呋喃基)喹啉鎓、2-乙醯基-1-(2-噻吩基)喹啉鎓、2-甲氧基羰基-1-甲基喹啉鎓、3-氟-1-乙基喹啉鎓、4-甲基-1-異丙基喹啉鎓等，但不受限於此。

符合一般式(9)的鎓陽離子(異喹啉鎓陽離子)：異喹啉鎓陽離子之例可列舉為：N-苯基異喹啉鎓、N-甲基異喹啉鎓、N-乙基異喹啉鎓、N-(鄰氯苯基)異喹啉鎓、N-(間氯苯基)異喹啉鎓、N-(對氰基苯基)異喹啉鎓、N-(鄰硝基苯基)異喹啉鎓、N-(對乙醯基苯基)異喹啉鎓、N-(對異丙基苯基)異喹啉鎓、N-(對十八基氧基苯基)異喹啉鎓、N-(對甲氧基羰基苯基)異喹啉鎓、N-(9-蒽基)異喹啉鎓、1,2-二苯基異喹啉鎓、N-(2-呋喃基)異喹啉鎓、N-(2-噻吩基)異喹啉鎓、N-萘基異喹啉鎓等，但不受限於此。

符合一般式(10)之鎓陽離子(苯并唑鎓陽離子、苯并噻唑鎓陽離子)：苯并唑鎓陽離子之例可列舉為：N-甲基苯并唑鎓、N-乙基苯并唑鎓、N-萘基苯并唑鎓、N-苯基苯并唑鎓、N-(對氟苯基)苯并唑鎓、N-(對氯苯基)苯并唑鎓、N-(對氰基苯基)苯并唑鎓、N-(鄰甲氧基羰基苯基)苯并唑鎓、N-(2-呋喃基)苯并唑鎓、N-(鄰氟苯基)苯并唑鎓、N-(對氰基苯基)苯并唑鎓、N-(間硝基苯基)苯并唑鎓、N-(對異丙氧基羰基苯基)苯并唑鎓、N-(2-噻吩基)苯并唑鎓、N-(間羧基苯基)苯并唑鎓、2-巰基-3-苯基苯并唑鎓、2-甲基-3-苯基苯并唑鎓、2-甲硫基-3-(4-苯基磺醯基苯基)苯并唑鎓、6-羥基-3-(對甲苯基)苯并唑鎓、7-巰基-3-苯基苯并唑鎓、4,5-二氟-3-乙基苯并唑鎓等，但不受限於此。

苯并噻唑鎓陽離子之例可列舉為： N-甲基苯并噻唑鎓、N-乙基苯并噻唑鎓、N-苯基苯并噻唑鎓、N-(1-萘基)苯并噻唑鎓、N-(對氟苯基)苯并噻唑鎓、N-(對氯苯基)苯并噻唑鎓、N-(對氰基苯基)苯并噻唑鎓、N-(鄰甲氧基羰基苯基)苯并噻唑鎓、N-(對甲苯基)苯并噻唑鎓、N-(鄰氟苯基)苯并噻唑鎓、N-(間硝基苯基)苯并噻唑鎓、N-(對異丙氧基羰基苯基)苯并噻唑鎓、N-(2-呋喃基)苯并噻唑鎓、N-(4-甲硫基苯基)苯并噻唑鎓、N-(4-苯基磺醯基苯基)苯并噻唑鎓、N-(2-萘基)苯并噻唑鎓、N-(間羧基苯基)苯并噻唑鎓、2-巰基-3-苯基苯并噻唑鎓、2-甲基-3-苯基苯并噻唑鎓、2-甲硫基-3-苯基苯并噻唑鎓、6-羥基-3-苯基苯并噻唑鎓、7-巰基-3-苯基苯并噻唑鎓、4,5-二氟-3-苯基苯并噻唑鎓等，但不受限於此。

符合一般式(11)之鎓陽離子(呋喃基或噻吩基碘鎓陽離子)可列舉為：二呋喃基碘鎓、二噻吩基碘鎓、雙(4,5-二甲基-2-呋喃基)碘鎓、雙(5-氯-2-噻吩基)碘鎓、雙(5-氰基-2-呋喃基)碘鎓、雙(5-硝基-2-噻吩基)碘鎓、雙(5-乙醯基-2-呋喃基)碘鎓、雙(5-羧基-2-噻吩基)碘鎓、雙(5-甲氧基羰基-2-呋喃基)碘鎓、雙(5-苯基-2-呋喃基)碘鎓、雙(5-(對甲氧基苯基)-2-噻吩基)碘鎓、雙(5-乙烯-2-呋喃基)碘鎓、雙(5-乙烯基-2-噻吩基)碘鎓、雙(5-環己基-2-呋喃基)碘鎓、雙(5-羥基-2-噻吩基)碘鎓、雙(5-酚氧基-2-呋喃基)碘鎓、雙(5-巰基-2-噻吩基)碘鎓、雙(5-丁硫基-2-噻吩基)碘鎓、雙(5-苯硫基-2-噻吩基)碘鎓等，但不受限於此。

符合一般式(12)之鎓陽離子(二芳基碘鎓陽離子)可列舉為：二苯基碘鎓、雙(對甲苯基)碘鎓、雙(對辛基苯基)碘鎓、雙(對十八基苯基)碘鎓、雙(對辛基氧基苯基)碘鎓、雙(對十八基氧基苯基)碘鎓、苯基(對十八基氧基苯基)碘鎓、4-異丙基-4’-甲基二苯基碘鎓、(4-異丁基苯基)-對甲苯基碘鎓、雙(1-萘基)碘鎓、雙(4-苯基磺醯基苯基)碘鎓、苯基(6-苯甲醯基-9-乙基-9H-咔唑-3-基)碘鎓、(7-甲氧基-2-氧-2H-苯并哌喃-3-基)-4’-異丙基苯基碘鎓等，但不受限於此。

接下來，說明有關一般式(3)中的相對陰離子X^-。一般式(3)中的相對陰離子X^-原則上並無特別限制，但宜為非親核性陰離子。相對陰離子X^-為非親核性陰離子時，會不易與分子內共存的陽離子或併用的各種材料發生親核反應，結果可使一般式(2)表示的光酸產生劑本身或使用其之組成物的經時安定性提升。在此所謂的非親核性陰離子，係指發生親核反應的能力低的陰離子。這種陰離子可舉例為PF₆ ^-、SbF₆ ^-、AsF₆ ^-、SbCl₆ ^-、BiCl₅ ^-、SnCl₆ ^-、ClO₄ ^-、二硫胺甲酸酯陰離子、SCN^-等。

在上述所例示陰離子中，特別適合作為一般式(3)中的相對陰離子X^-者可舉例為PF₆ ^-、SbF₆ ^-及AsF₆ ^-，尤佳者可列舉為PF₆ ^-、SbF₆ ^-。

因此，構成本發明之光酸產生劑(G)的適宜鎓鹽的具體例方面，係由上述例示之一般式(3)~一般式(12)所示鎓陽離子之結構的具體例、以及選自PF₆ ^-、SbF₆ ^-、AsF₆ ^-、SbCl₆ ^-、BiCl₅ ^-、SnCl₆ ^-、ClO₄ ^-、二硫胺甲酸酯陰離子、SCN^-之陰離子所構成的鎓鹽。

具體而言，「CYRACURE UVI-6992」、「CYRACURE UVI-6974」(以上，陶氏化學日本股份公司製)、「ADEKA OPTOMER SP150」、「ADEKA OPTOMER SP152」、「ADEKA OPTOMER SP170」、「ADEKA OPTOMER SP172」(以上，ADEKA股份公司製)、「IRGACURE250」(汽巴精化公司製)、「CI-5102」、「CI-2855」(以上，日本曹達公司製)、「SUN AID SI-60L」、「SUN AID SI-80L」、「SUN AID SI-100L」、「SUN AID SI-110L」、「SUN AID SI-180L」(以上，三新化學公司製)、「CPI-100P」、「CPI-100A」(以上，SAN-APRO股份公司製)、「WPI-069」、「WPI-113」、「WPI-116」、「WPI-041」、「WPI-044」、「WPI-054」、「WPI-055」、「WPAG-281」、「WPAG-567」、「WPAG-596」(以上，和光純藥公司製)係列舉作為本發明之光酸產生劑(G)的適宜具體例。

光酸產生劑(G)的含量，對活性能量線硬化型樹脂組成物之合計量，宜為0.01~10質量份，而0.05~5質量份較佳、0.1~3質量份尤佳。

(具有環氧基之化合物及高分子)(H)

當使用分子內具有1個以上環氧基的化合物、或分子內具有2個以上環氧基的高分子(環氧樹脂)時，亦可併用分子內有二個以上對環氧基具有反應性之官能基的化合物。在此所謂對環氧基具有反應性之官能基，可舉例如羧基、酚性羥基、巰基、1級或2級芳香族胺基等。此等官能基，在考量3次元硬化性下，係以一分子中具有2個以上者尤佳。

分子內具有1個以上環氧基的高分子方面，係例如環氧樹脂：衍生自雙酚A與環氧氯丙烷的雙酚A型環氧樹脂、衍生自雙酚F與環氧氯丙烷的雙酚F型環氧樹脂、雙酚S型環氧樹脂、酚酚醛環氧樹脂、甲酚酚醛環氧樹脂、雙酚A酚醛環氧樹脂、雙酚F酚醛環氧樹脂、脂環式環氧樹脂、二苯基醚型環氧樹脂、氫醌型環氧樹脂、萘型環氧樹脂、聯苯型環氧樹脂、茀型環氧樹脂、3官能型環氧樹脂或4官能型環氧樹脂等多官能型環氧樹脂、環氧丙基酯型環氧樹脂、環氧丙基胺型環氧樹脂、乙內醯脲型環氧樹脂、三聚異氰酸酯型環氧樹脂、脂肪族鎖狀環氧樹脂等，該等環氧樹脂可經鹵化，亦可經加氫反應。市售中的環氧樹脂製品方面，係可列舉例如日本環氧樹脂(JER)股份公司製的JER COAT 828、1001、801N、806、807、152、604、630、871、YX8000、YX8034、YX4000；DIC股份公司製的EPICLON 830、EXA835LV、HP4032D、HP820；ADEKA股份公司製的EP4100系列、EP4000系列、EPU系列；Daicel化學股份公司製的Celloxide系列(2021、2021P、2083、2085、3000等)、Epolead系列、EHPE系列；新日鐵化學公司製的YD系列、YDF系列、YDCN系列、YDB系列、酚氧基樹脂(由雙酚類與環氧氯丙烷合成的多羥基多醚而兩末端具有環氧基者；YP系列等)；長瀨化成公司製的DENACOL系列；共榮社化學公司製的EPOLITE系列等，但不受限於此。該等環氧樹脂亦可併用2種以上。另外，在計算接著劑層之玻璃轉移溫度Tg時，並不將具有環氧基之化合物及高分子(H)計算在內。

(具有烷氧基的化合物及高分子)(H)

作為分子內具有烷氧基的化合物，只要是分子內具有1個以上烷氧基者即可，並無特定限制，可使用習所周知者。此種化合物方面，可列舉三聚氰胺化合物、胺基樹脂、矽烷偶合劑等作為代表。另外，在計算接著劑層的玻璃轉移溫度Tg時，具有烷氧基之化合物及高分子(H)並不納入計算。

作為具有胺基的矽烷偶合劑(I)的具體例，可列舉為γ-胺丙基三甲氧基矽烷、γ-胺丙基三乙氧基矽烷、γ-胺丙基三異丙氧基矽烷、γ-胺丙基甲基二甲氧基矽烷、γ-胺丙基甲基二乙氧基矽烷、γ-(2-胺乙基)胺丙基三甲氧基矽烷、γ-(2-胺乙基)胺丙基甲基二甲氧基矽烷、γ-(2-胺乙基)胺丙基三乙氧基矽烷、γ-(2-胺乙基)胺丙基甲基二乙氧基矽烷、γ-(2-胺乙基)胺丙基三異丙氧基矽烷、γ-(2-(2-胺乙基)胺乙基)胺丙基三甲氧基矽烷、γ-(6-胺基己基)胺丙基三甲氧基矽烷、3-(N-乙基胺基)-2-甲基丙基三甲氧基矽烷、γ-脲基丙基三甲氧基矽烷、γ-脲基丙基三乙氧基矽烷、N-苯基-γ-胺丙基三甲氧基矽烷、N-苄基-γ-胺丙基三甲氧基矽烷、N-乙烯苄基-γ-胺丙基三乙氧基矽烷、N-環己基胺甲基三乙氧基矽烷、N-環己基胺甲基二乙氧基甲基矽烷、N-苯基胺甲基三甲氧基矽烷、(2-胺乙基)胺甲基三甲氧基矽烷、N,N’-雙[3-(三甲氧基矽基)丙基]乙二胺等含胺基的矽烷類；N-(1,3-二甲基亞丁基)-3-(三乙氧基矽基)-1-丙胺等酮亞胺型(ketimine)矽烷類。

具有胺基的矽烷偶合劑(I)，可僅使用1種，亦可組合多種而使用。其等之中，為能確保良好的接著性，係γ-胺丙基三甲氧基矽烷、γ-(2-胺乙基)胺丙基三甲氧基矽烷、γ-(2-胺乙基)胺丙基甲基二甲氧基矽烷、γ-(2-胺乙基)胺丙基三乙氧基矽烷、γ-(2-胺乙基)胺丙基甲基二乙氧基矽烷、N-(1、3-二甲基亞丁基)-3-(三乙氧基矽基)-1-丙胺為宜。

具有胺基之矽烷偶合劑(I)的配比，在以組成物總量為100重量%時，係宜為0.01~20重量%，而0.05~15重量份較佳，0.1~10重量份更佳。蓋因在超過20重量份的配比時，接著劑的保存安定性變差；而低於0.1重量份時，耐水接著性的效果無法充分發揮之故。另外，在計算接著劑層的玻璃轉移溫度Tg時，具有胺基的矽烷偶合劑(I)並不納入計算。

本發明之活性能量線硬化型接著劑組成物，當以組成物總量為100重量%時，係含自由基聚合性化合物(B)25~80重量%。再者，活性能量線硬化型接著劑組成物，當以組成物總量為100重量%時，宜含有前述自由基聚合性化合物(A)3~40重量%、前述自由基聚合性化合物(C)5~55重量%，及前述丙烯酸系寡聚物(D)3~20重量%。

在將本發明之活性能量線硬化型接著劑組成物使用為電子束硬化型時，在組成物中雖毋須特別含有光聚合起始劑，但在使用為紫外線硬化型時，則宜使用光聚合起始劑，尤其以使用對380nm以上的光有高感度的光聚合起始劑為宜。對380nm以上的光有高感度的光聚合起始劑方面容後詳述。

本發明之活性能量線硬化型接著劑組成物中，光聚合起始劑方面，係宜單獨使用以下述一般式(1)表示之化合物； (式中，R¹及R²表示-H、-CH₂CH₃、-iPr或Cl，R¹及R²可相同或相異)，或併用以一般式(1)表示之化合物及後述之對380nm以上的光有高感度的光聚合起始劑。在使用一般式(1)所表示之化合物時，相較於單獨使用對380nm以上的光具高感度的光聚合起始劑，其接著性較佳。在以一般式(1)表示之化合物中，R¹及R²為-CH₂CH₃的二乙基9-氧硫尤佳。組成物中以一般式(1)表示之化合物的組成比率，在以組成物總量為100重量%時，宜為0.1~5.0重量%，而0.5~4.0重量%較佳，0.9~3.0重量%更佳。

又，宜視需要添加聚合起始助劑。聚合起始助劑方面，可列舉三乙基胺、二乙基胺、N-甲基二乙醇胺、乙醇胺、4-二甲基胺基安息香酸、4-二甲基胺基安息香酸甲酯、 4-二甲基胺基安息香酸乙酯、4-二甲基胺基安息香酸異戊酯等，以4-二甲基胺基安息香酸乙酯尤佳。在使用聚合起始助劑時，其添加量，在以組成物總量為100重量%時，通常為0~5重量%，較佳為0~4重量%，最佳為0~3重量%。

又，視需要可併用習知的光聚合起始劑。由於具有UV吸收能的透明保護薄膜不會使380nm以下的光穿透，故光聚合起始劑方面，宜使用對380nm以上的光具高感度的光聚合起始劑。具體而言，可列舉如2-甲基-1-(4-甲硫基苯基)-2-嗎啉基丙-1-酮、2-苄基-2-二甲基胺基-1-(4-嗎啉基苯基)-丁酮-1,2-(二甲基胺基)-2-[(4-甲基苯基)甲基]-1-[4-(4-嗎福啉基)苯基]-1-丁酮、2,4,6-三甲基苯甲醯基-二苯基-膦氧化物、雙(2,4,6-三甲基苯甲醯基)-苯基膦氧化物、雙(η5-2,4-環戊二烯-1-基)-雙(2,6-二氟-3-(1H-吡咯-1-基)-苯基)鈦等。

尤其，作為光聚合起始劑，宜在一般式(1)的光聚合起始劑外，進一步使用以下述一般式(2)表示之化合物(J)： (式中，R³、R⁴及R⁵表示-H、-CH₃、-CH₂CH₃、-iPr或Cl，R³、R⁴及R⁵可相同或相異)。作為以一般式(2)表示之化合物，可適合使用亦有市售品的2-甲基-1-(4-甲硫基苯基)-2-嗎啉基丙-1-酮(商品名：IRGACURE907，製造商：BASF)。其他如2-苄基-2-二甲基胺基-1-(4-嗎啉基苯基)-丁酮-1(商品名：IRGACURE369製造商：BASF)，2-(二甲基胺基)-2-[(4-甲基苯基)甲基]-1-[4-(4-嗎福啉基)苯基]-1-丁酮(商品名：IRGACURE379製造商：BASF)因感度高故而為宜。

又，本發明之活性能量線硬化型接著劑組成物中，在不減損本發明之目的、效果的範圍內，可混合其他作為任意成分的各種添加劑。所述添加劑方面，可列舉如環氧樹脂、聚醯胺、聚醯胺醯亞胺、聚胺甲酸乙酯、聚丁二烯、聚氯平、聚醚、聚酯、苯乙烯-丁二烯嵌段共聚物、石油樹脂、二甲苯樹脂、酮樹脂、纖維素樹脂、氟系寡聚物、聚矽氧系寡聚物、多硫化物系寡聚物等聚合物或寡聚物；酚噻嗪、2,6-二-第三丁基-4-甲基酚等聚合抑制劑；聚合起始助劑；流平劑；濕潤性改良劑；界面活性劑；可塑劑；紫外線吸收劑；矽烷偶合劑；無機充填劑；顏料；染料等。

在上述添加劑中，矽烷偶合劑可在偏光件表面作用，而賦予更進一步的耐水性。使用矽烷偶合劑時，其添加量在以組成物總量為100重量%時一般為0~10重量%，較佳為0~5重量%，最佳為0~3重量%。

矽烷偶合劑宜使用活性能量線硬化型化合物，但即便不是活性能量線硬化性仍可同樣提供耐水性。

矽烷偶合劑的具體例方面，作為活性能量線硬化性之化合物可列舉如乙烯基三氯矽烷、乙烯基三甲氧基矽烷、乙烯基三乙氧基矽烷、2-(3,4環氧基環己基)乙基三甲氧基矽烷、3-環氧丙氧基丙基三甲氧基矽烷、3-環氧丙氧基丙基甲基二乙氧基矽烷、3-環氧丙氧基丙基三乙氧基矽烷、對苯乙烯基三甲氧基矽烷、3-甲基丙醯烯氧基丙基甲基二甲氧基矽烷、3-甲基丙醯烯氧基丙基三甲氧基矽烷、3-甲基丙醯烯氧基丙基甲基二乙氧基矽烷、3-甲基丙醯烯氧基丙基三乙氧基矽烷、3-丙醯烯氧基丙基三甲氧基矽烷等。

在非活性能量線硬化性矽烷偶合劑的具體例方面，可列舉如：N-2(胺乙基)3-胺基丙基甲基二甲氧基矽烷、N-2(胺基乙基)3-胺基丙基三甲氧基矽烷、N-2(胺乙基)3-胺丙基三乙氧基矽烷、3-胺丙基三甲氧基矽烷、3-胺丙基三乙氧基矽烷、3-三乙氧基矽基-N-(1,3-二甲基亞丁基)丙胺、N-苯基-3-胺丙基三甲氧基矽烷、N-(乙烯苄基)-2-胺乙基-3-胺丙基三甲氧基矽烷鹽酸鹽、3-脲丙基三乙氧基矽烷、3-氯丙基三甲氧基矽烷、3-巰基丙基甲基二甲氧基矽烷、3-巰基丙基三甲氧基矽烷、雙(三乙氧基矽基丙基)四硫化物、3-異氰酸酯丙基三乙氧基矽烷、咪唑矽烷等。

較佳的是3-甲基丙醯烯氧基丙基三甲氧基矽烷、 3-丙醯烯氧基丙基三甲氧基矽烷。

本發明之活性能量線硬化型接著劑組成物，係藉由照射活性能量線而硬化，形成接著劑層。

活性能量線方面，可使用電子束、含波長範圍 380nm~450nm之可見光線者。另外，可見光線的長波長極限為約780nm，但超過450nm的可見光線不僅無益於聚合起始劑的吸收，還會變成引起透明保護薄膜及偏光件之發熱的原因。因此，本發明中，宜使用帶通濾波器將超過450nm 之長波長方面的可見光線阻斷。

電子束的照射條件，只要是能使上述活性能量線硬化型接著劑組成物硬化的條件，可採用任意的適當條件。例如，電子束照射時，加速電壓宜為5kV~300kV，較佳為10kV~250kV。加速電壓低於5kV時，可能會有電子束未送至接著劑而硬化不足的問題；若加速電壓超過300kV，則有可能穿透試料的滲透力過強而對透明保護薄膜或偏光件帶來傷害。照射線量方面係5~100kGy，而10~75kGy較佳。照射線量低於5kGy時，接著劑會硬化不足；若超過100kGy，則會對透明保護薄膜或偏光件帶來傷害，出現機械強度低落或黃變的狀況，而無法得到所欲的光學特性。

電子束的照射，通常是在惰性氣體中進行照射，但視需要亦可在大氣中或導入少量氧的條件下進行。雖依透明保護薄膜的材料而定，但藉著將氧適當導入，讓一開始電子束通過的透明保護薄膜面產生氧阻障，可防止對透明保護薄膜的傷害，而可僅對接著劑有效照射電子束。

惟在本發明之偏光薄膜之製造方法中，為能使偏光件與透明保護薄膜之間的接著劑層接著性能提高、並同時防止偏光薄膜的翹曲，活性能量線方面宜使用包含波長範圍380nm~450nm之可見光線者，尤其是波長範圍380nm~450nm之可見光線的照射量最多的活性能量線。在使用賦有紫外線吸收能的透明保護薄膜(紫外線不穿透型透明保護薄膜)時，由於吸收了大體上較380nm更短波長的光，故較380nm更短波長的光不會到達活性能量線硬化型接著劑組成物，因此無益於該聚合反應。再者，由透明保護薄膜所吸收之較380nm更短波長的光會轉換為熱，讓透明保護薄膜本身發熱，成為偏光薄膜的翹曲及皺紋等不良的原因。因此，本發明中，活性能量線產生裝置宜使用不會發出較380nm更短波長的光的裝置，更具體來說，波長範圍380~440nm的積算照度與波長範圍250~370nm的積算照度的比宜為100：0~100：50，而100：0~100：40較佳。滿足這樣的積算照度關係的活性能量線，宜為鎵封入金屬鹵素燈、發出波長範圍380~440nm之光的LED光源。或者，亦可以低壓水銀燈、中壓水銀燈、高壓水銀燈、超高壓水銀燈、白熱電球、氙燈、鹵素燈、碳弧燈、金屬鹵素燈、螢光燈、鎢燈、鎵燈、準分子雷射或太陽光為光源，並使用帶通濾波器將較380nm更短波長的光阻斷。為能使偏光件與透明保護薄膜之間的接著劑層接著性能提高、並同時防止偏光薄膜的翹曲，宜使用得自於用了能阻斷較400nm更短波長之光之帶通濾波器的活性能量線，或得自於使用LED光源之波長405nm的活性能量線。

在可見光線硬化型中，宜於照射可見光線之前使活性能量線硬化型接著劑組成物升溫(照射前加熱)，此時宜加熱至40℃以上，而加溫至50℃以上較佳。又，亦宜於照射可見光線後將活性能量線硬化型接著劑組成物加熱(照射後加熱)，此時宜加熱至40℃以上，而加熱至50℃以上較佳。

本發明之活性能量線硬化型接著劑組成物，尤其可適合使用在形成用於黏接偏光件與波長365nm光線穿透率低於5%之透明保護薄膜的接著劑層。在此，本發明之活性能量線硬化型接著劑組成物，藉著含有上述一般式(1)之光聚合起始劑，能以穿越具UV吸收能之透明保護薄膜的方式照射紫外線，硬化並形成接著劑層。因此，即使是偏光件的兩面積層了具有UV吸收能之透明保護薄膜的偏光薄膜，亦可使接著劑層硬化。而當然，對積層了不具有UV吸收能之透明保護薄膜的偏光薄膜，亦可使接著劑層硬化。另外，所具UV吸收能的透明保護薄膜，意指380nm光穿透率低於10%的透明保護薄膜。

賦與透明保護薄膜UV吸收能的方法，可舉如使透明保護薄膜中含有紫外線吸收劑的方法，在透明保護薄膜表面積層含紫外線吸收劑之表面處理層的方法。

紫外線吸收劑的具體例方面，例如可舉以往習知的氧基二苯基酮系化合物、苯并三唑系化合物、柳酸酯系化合物、二苯基酮系化合物、氰基丙烯酸酯系化合物、鎳錯鹽系化合物、三系化合物等。

由活性能量線硬化型接著劑組成物所形成的接著劑層，較水系接著劑層耐久性高。本發明之中，宜使用Tg為60℃以上者作為接著劑層。又，接著劑層的厚度宜控制使其在0.01~7μm。如此一來，在本發明之偏光薄膜中，接著劑層呈60℃以上之高Tg狀態，當使用活性能量線硬化型接著劑組成物並將接著劑層厚度控制在上述範圍內時，可滿足高濕及高溫之嚴苛環境下的耐久性。在考量偏光薄膜的耐久性下，若將接著劑層的Tg(℃)定義為A、接著劑層的厚度(μm)定義為B，則在本發明中尤以能滿足以下數學式(1)為宜：A-12×B>58。

如上所述，活性能量線硬化型接著劑組成物，宜經選擇以使該組成物所形成的接著劑層Tg在60℃以上，進而以70℃以上、75℃以上、100℃以上、120℃以上者為宜。另一方面，若接著劑層Tg過高則偏光薄膜的撓曲性會降低，故接著劑層的Tg宜為300℃以下，進而以240℃以下、180℃以下為宜。

又，如上所述，接著劑層的厚度宜為0.01~7μm，較佳為0.01~5μm，更佳為0.01~2μm，最佳為0.01~1μm。接著劑層的厚度較0.01μm更薄時，恐有缺乏接著力本身的內聚力而失去接著強度的可能。另一方面，接著劑層的厚度若超過7μm，則偏光薄膜無法滿足耐久性的要求。

本發明之偏光薄膜的製造方法，係於偏光件之至少一側的面上，隔著接著劑層設置波長365nm光線穿透率低於5%之透明保護薄膜的偏光薄膜之製造方法，其包含：塗佈步驟，於前述偏光件或前述透明保護薄膜之至少一側的面上，塗佈前述記載之任何活性能量線硬化型接著劑組成物；將前述偏光件及前述透明保護薄膜相貼合的貼合步驟；接著步驟，從前述偏光件面側或前述透明保護薄膜面側照射活性能量線，使前述活性能量線硬化型接著劑組成物硬化從而得到接著劑層，隔著該接著劑層黏接前述偏光件及前述透明保護薄膜。前述貼合步驟時，若前述偏光件的水分率低於15%，則可降低貼合步驟(層合)後所得之偏光薄膜的乾燥負荷，故而為宜。所述低水分率的偏光件可舉例如：在加熱乾燥時易於使水分率降低的薄型偏光件。關於薄型偏光件容後詳述。

偏光件及透明保護薄膜，在塗佈上述活性能量線硬化型接著劑組成物之前，可進行表面改質處理。具體的處理方式係例如利用電暈處理、電漿處理、皂化處理、準分子處理或火焰處理的處理方式等。

活性能量線硬化型接著劑組成物的塗佈方式，係可依組成物的黏度或目標厚度而適當選擇。塗佈方式之例，可舉例如：逆轉式塗佈機、凹版塗佈機(直接、逆轉或平版)、棒逆轉式塗佈機、輥塗佈機、鑄模塗佈機、棒塗佈機、刮棒式塗佈機等。其他在塗佈方面亦可宜使用浸塗方式等方法。

隔著經上述塗佈方式之接著劑，使偏光件及透明保護薄膜相貼合。偏光件及透明保護薄膜的貼合，可利用輥式層壓機等來進行。

偏光件及透明保護薄膜貼合後，即照射活性能量線(電子束、紫外線及可見光線等)，使活性能量線硬化型接著劑組成物硬化，而形成接著劑層。活性能量線(電子束、紫外線及可見光線等)的照射方向，可從任意的適當方向照射。較佳的是從透明保護薄膜側照射。若從偏光件側照射，則恐有偏光件因活性能量線(電子束、紫外線及可見光線等) 而劣化的可能。

另外，在製造偏光件兩面均隔著接著劑層設置有透明保護薄膜(其波長365nm之光線穿透率低於5%)的偏光薄膜時，亦可含以下的接著步驟：首先，從一透明保護薄膜側照射活性能量線，然後從另一透明保護薄膜之側照射活性能量線，使活性能量線硬化型接著劑組成物硬化，從而得到接著劑層，隔著該接著劑層，使偏光件及前述透明保護薄膜相黏接。

先從一透明保護薄膜側照射活性能量線、再從另一透明保護薄膜側照射活性能量線的方式(2段階照射)，相較於僅從一透明保護薄膜側照射活性能量線的1段階照射，可防止透明保護薄膜的翹曲，並可提高接著劑層的反應率，使得偏光件與透明保護薄膜間的接著性提升。

以連續生產線製造本發明之偏光薄膜時，線速度依接著劑的硬化時間，宜為1~500m/min，較佳為5~300m/min，更佳為10~100m/min。線速度過低時，生產性不足，或對透明保護薄膜的傷害過大，無法製得可經受耐久性試驗等的偏光薄膜。若線速度過高，則時有接著劑硬化不足、未獲得目標接著性的狀況。

另外，本發明之偏光薄膜，其偏光件與透明保護薄膜，係隔著由上述活性能量線硬化型接著劑組成物之硬化物層所形成之接著劑層而相貼合，但透明保護薄膜與接著劑層之間，亦可設置易接著層。易接著層可為例如由具有聚酯骨架、聚醚骨架、聚碳酸酯骨架、聚胺甲酸乙酯骨架、聚矽氧系、聚醯胺骨架、聚醯亞胺骨架、聚乙烯醇骨架等各種樹脂所形成者。該等聚合物樹脂可單獨使用1種、或組合2種以上而使用。又，在易接著層的形成方面可添加其他的添加劑。具體上可進一步使用黏著賦與劑、紫外線吸收劑、抗氧化劑、耐熱安定劑等安定劑等。

易接著層，通常已預先設置於透明保護薄膜上，使該透明保護薄膜之易接著層側與偏光件藉由接著劑層相貼合。易接著層的形成，可藉由將易接著層的形成材料以習知技術塗佈於透明保護薄膜上並乾燥而實施。易接著層的形成材料，考量乾燥後的厚度、塗佈的圓滑性等，一般調配為經稀釋至適當濃度的溶液。易接著層之乾燥後的厚度宜為0.01~5μm，較佳為0.02~2μm，更佳為0.05~1μm。另外，易接著層可設置為複數層的形式，但此時易接著層的總厚度仍使其為上述範圍內為宜。

本發明之偏光薄膜，係於偏光件之至少單面上，隔著由上述活性能量線硬化型接著劑組成物之硬化物層所形成之接著劑層，貼合有透明保護薄膜。

偏光件並無特別限制，可使用各種物質。偏光件可舉例如：吸附有碘或二色性染料等二色性材料並經單軸拉伸之聚乙烯醇系薄膜、部分甲醛化聚乙烯醇系薄膜、或乙烯-醋酸乙烯共聚物系部分皂化薄膜等親水性高分子薄膜；聚乙烯醇之脫水處理物或聚氯乙烯之脫鹽酸處理物等聚烯烴系配向薄膜等。其等之中適宜的是由聚乙烯醇系薄膜與碘等二色性物質所構成的偏光件。該等偏光件的厚度並無特別限制，惟一般在約80μm以下。

將聚乙烯醇系薄膜以碘染色並經單軸拉伸而成的偏光件，例如，可經由將聚乙烯醇浸漬於碘的水溶液藉此染色並拉伸至原長之3~7倍而製作。視需要亦可浸漬於硼酸或碘化鉀等水溶液。再視需要亦可於染色前將聚乙烯醇系薄膜浸漬於水而水洗。藉著將聚乙烯醇系薄膜水洗，除了可將聚乙烯醇系薄膜表面的髒汚或抗結塊劑洗淨外，亦有防止因聚乙烯醇系薄膜膨潤而造成的染色不均缺陷等不均勻的效果。拉伸可於碘染色後進行，亦可染色同時進行拉伸，又亦可先拉伸再以碘染色。亦可在硼酸或碘化鉀等水溶液中或水浴中進行拉伸。

又可使用厚度10μm以下的薄型偏光件作為偏光件。從薄型化的觀點而言，其厚度宜為1~7μm。此種薄型偏光件，厚度不均缺陷少，可見性優良，且尺寸變化低，故耐久性佳，再者由偏光薄膜的厚度亦謀求薄型化的觀點而言係為較佳。又，薄型偏光件在加熱乾燥時水分率容易降低，故可使用作為水分率15%以下的偏光件。

作為薄型偏光件，代表性地可列舉如：日本專利公開案特開昭51-069644號公報或特開2000-338329號公報，WO2010/100917號說明書，PCT/JP2010/001460說明書說明書，或日本專利申請案特願2010-269002號說明書或特願2010-263692號說明書所記載的薄型偏光膜。該等薄型偏光膜，可經由包含將聚乙烯醇系樹脂(以下亦稱PVA系樹脂)層與拉伸用樹脂基材以積層體的狀態予以拉伸的步驟及染色步驟的製法而獲得。根據該製法，即使PVA系樹脂層很薄，藉由被拉伸用樹脂基材所支撐，可在沒有拉伸所致之破裂等不良狀況下而進行拉伸。

作為前述薄型偏光膜，在包含以積層體的狀態進行拉伸之步驟及染色步驟的製法中，從可高倍率地拉伸並使偏光性能提升的觀點，較佳的是得自於WO2010/100917號說明書、PCT/JP2010/001460說明書、或日本專利申請案特願2010-269002號說明書或特願2010-263692號說明書所記載之含有在硼酸水溶液中進行拉伸步驟的製法者，尤宜的是得自於日本專利申請案特願2010-269002號說明書或特願2010-263692號說明書所記載之包含輔助空中拉伸步驟的製法，其係於在硼酸水溶液中拉伸之前進行輔助空中拉伸。

上述記載於PCT/JP2010/001460說明書的薄型高機能偏光膜，係由經樹脂基材一體製膜並配向有二色性物質的PVA系樹脂構成之厚度7μm以下的薄型高機能偏光膜，具有單膜穿透率42.0%以上及偏光度99.95%以上的光學特性。

上述薄型高機能偏光膜可藉由下述方法製造：在具有至少20μm之厚度的樹脂基材上，由PVA系樹脂的塗佈及乾燥而產生PVA系樹脂層，將所產生的PVA系樹脂層浸漬於二色性物質的染色液中，使二色性物質吸附於PVA系樹脂層，將吸附了二色性物質的PVA系樹脂層與樹脂基材在硼酸水溶液中一起拉伸，以使總拉伸倍率達原長的5倍以上。

又，製造包含配向有二色性物質之薄型高機能偏光膜之積層體薄膜的方法，係包含以下步驟：積層體薄膜生成步驟，該積層體薄膜包含至少具有20μm厚度之樹脂基材及PVA系樹脂層，該PVA系樹脂層係將含PVA系樹脂之水溶液塗佈於樹脂基材之單面上並乾燥而形成者；吸附二色性物質之步驟，將包含樹脂基材及形成於樹脂基材單面之PVA系樹脂層的前述積層體薄膜，浸漬於含二色性物質之染色液中，從而使二色性物質吸附於積層體薄膜所含之PVA系樹脂層；拉伸步驟，將包含吸附了二色性物質之PVA系樹脂層的前述積層體薄膜於硼酸水溶液中拉伸，以使總拉伸倍率達原長的5倍以上；積層體薄膜製造步驟，藉著將吸附了二色性物質之PVA系樹脂層與樹脂基材一起拉伸，於樹脂基材的單面上，製出配向有二色性物質之PVA系樹脂層所構成之厚度7μm以下並具有單膜穿透率42.0%以上及偏光度99.95%以上之光學特性的薄型高機能偏光膜，藉以上步驟可製造上述薄型高機能偏光膜。

上述日本專利申請案特願2010-269002號說明書或特願2010-263692號說明書之薄型偏光膜係，配向有二色性物質之PVA系樹脂構成之連續卷狀物的偏光膜，其係由包含成膜於非晶性酯系熱可塑性樹脂基材之PVA系樹脂層的積層體經2段拉伸步驟(由空中補助拉伸及硼酸水中拉伸所構成)拉伸而作成10μm以下厚度者。所述薄型偏光膜，當單體穿透率為T、偏光度為P時，宜使其具有滿足 P>-(100.929T-42.4-1)×100(惟T<42.3)，及P≧99.9(惟T≧42.3)之條件的光學特性。

具體上，前述薄型偏光膜係可藉由包含下述步驟之薄型偏光膜之製造方法來製造：生成拉伸中間生成物的步驟，經由對製膜於連續卷狀之非晶性酯系熱可塑性樹脂基材上的PVA系樹脂層施予空中高溫拉伸，生成由經配向之PVA系樹脂層構成之拉伸中間生成物；生成著色中間生成物之步驟，經由對拉伸中間生成物作二色性物質的吸附，生成配向有二色性物質(宜為碘或碘與有機染料的混合物)之PVA系樹脂層構成的著色中間生成物；及生成偏光膜之步驟，經由對著色中間生成物作硼酸水中拉伸，生成配向有二色性物質之PVA系樹脂層構成的厚度10μm以下之偏光膜。

在該製造方法之中，經由空中高溫拉伸與硼酸水中拉伸而製膜於非晶性酯系熱可塑性樹脂基材上的PVA系樹脂層的總拉伸倍率，最好使其在5倍以上。用於硼酸水中拉伸的硼酸水溶液的液溫，可為在60℃以上者。於將著色中間生成物在硼酸水溶液中拉伸之前，最好對著色中間生成物施以不溶化處理，此時，較理想的是將前述著色中間生成物浸漬在液溫不超過40℃的硼酸水溶液中。上述非晶性酯系熱可塑性樹脂基材，可為包含下述之非晶性聚對苯二甲酸乙二酯：共聚有異苯二甲酸之聚對苯二甲酸乙二酯共聚物、共聚有環己烷二甲醇之聚對苯二甲酸乙二酯共聚物或其他聚對苯二甲酸乙二酯之共聚物，並且該基材係由透明樹脂構成者為宜，其厚度可為經製膜之PVA系樹脂層之厚度的7倍以上。又，空中高溫拉伸的拉伸倍率宜為3.5倍以下，空中高溫拉伸的拉伸溫度宜在PVA系樹脂的玻璃轉移溫度以上，具體上為95℃~150℃之範圍。以自由端單軸拉伸來進行空中高溫拉伸時，製膜於非晶性酯系熱可塑性樹脂基材之PVA系樹脂層的總拉伸倍率，宜為5倍以上7.5倍以下。又，以固定端單軸拉伸來進行空中高溫拉伸時，製膜於非晶性酯系熱可塑性樹脂基材之PVA系樹脂層的總拉伸倍率，宜為5倍以上8.5倍以下。

更具體地，可依如下方法製造薄型偏光膜。

製作共聚有6mol%異苯二甲酸之異苯二甲酸-co-聚對苯二甲酸乙二酯(非晶性PET)之連續卷狀基材。非晶性PET的玻璃轉移溫度為75℃。依以下方式，製作由連續卷狀之非晶性PET基材與聚乙烯醇(PVA)層構成之積層體。附帶一提PVA的玻璃轉移溫度為80℃。

備妥200μm厚之非晶性PET基材、以及於水中溶解聚合度1000以上、皂化度99%以上之PVA粉末而成的4~5%濃度之PVA水溶液。接下來，將PVA水溶液塗佈於200μm厚的非晶性PET基材上，在50~60℃的溫度下乾燥，獲得在非晶性PET基材上製膜有7μm厚之PVA層的積層體。

令含7μm厚PVA層之積層體，通過包含空中補助拉伸及硼酸水中拉伸之2段拉伸步驟的下述步驟，製作3μm厚之薄型高機能偏光膜。由第1段的空中補助拉伸步驟，將含7μm厚PVA層之積層體與非晶性PET基材一同拉伸，生成含5μm厚PVA層之拉伸積層體。具體上，該拉伸積層體，係將含7μm厚PVA層之積層體放上配備有設定在130℃拉伸溫度環境之烘箱的拉伸裝置，經自由端單軸拉伸以使拉伸倍率為1.8倍而作成者。經由該拉伸處理，使得拉伸積層體所含PVA層轉變為PVA分子經配向之5μm厚PVA層。

接下來，經由染色步驟，生成已使碘吸附於該 PVA分子經配向之5μm厚PVA層的著色積層體。具體上，該著色積層體係依以下而作成者：於液溫30℃之含碘及碘化鉀的染色液中，將拉伸積層體浸漬任意時間以使構成最終生成之高機能偏光膜的PVA層的單體穿透率達40~44%，藉此使碘吸附於該拉伸積層體所含之PVA層。在本步驟中，染色液係以水為溶劑，並使碘濃度在0.12~0.30重量%之範圍內、而碘化鉀濃度在0.7~2.1重量%之範圍內。碘及碘化鉀的濃度比為1比7。附帶一提，要將碘溶解於水，碘化鉀是必須的。再詳而言之，係將拉伸積層體浸漬於碘濃度0.30重量%、碘化鉀濃度2.1重量%的染色液中60秒，藉此生成已使碘吸附於PVA分子經配向之5μm厚PVA層的著色積層體。

其次，由第2段之硼酸水中拉伸步驟，將著色積層體與非晶性PET基材一同再次拉伸，生成含有3μm厚之構成高機能偏光膜之PVA層的光學薄膜積層體。具體上，該光學薄膜積層體，係將著色積層體放上配備有處理裝置之拉伸裝置，且該處理裝置已設有含硼酸與碘化鉀之液溫範圍60~85℃的硼酸水溶液，並經自由端單軸拉伸以使其拉伸倍率為3.3倍而作成者。更詳細地，硼酸水溶液的液溫為65℃。其又，使硼酸含量相對於100重量份水而為4重量份，使碘化鉀含量相對於100重量份水而為5重量份。本步驟中，將碘吸附量經調整之著色積層體先浸漬於硼酸水溶液中5~10秒。然後，將該著色積層體保持原樣通過配備有處理裝置之拉伸裝置的周速相異之複數組輥筒之間，費時30~90秒進行自由端單軸拉伸以使拉伸倍率達3.3倍。經由該拉伸處理，將著色積層體所含PVA層轉變為3μm厚且所吸附碘係作為多碘離子錯合物而單向高度配向的PVA層。該PVA層係構成光學薄膜積層體的高機能偏光膜。

在光學薄膜積層體的製造方面，雖然不是必要步驟，惟宜藉由洗淨步驟，將光學薄膜積層體自硼酸水溶液中取出，將附著在經製膜於非晶性PET基材之3μm厚PVA層表面的硼酸以碘化鉀水溶液洗淨。然後，將經洗淨之光學薄膜積層體藉由使用60℃溫風之乾燥步驟加以乾燥。另外，洗淨步驟係為消除硼酸析出等外觀不良的步驟。

同樣地，在光學薄膜積層體的製造上雖非應有之必要步驟，但亦可藉由貼合及/或轉移步驟，將接著劑塗佈在經製膜於非晶性PET基材之3μm厚PVA層的表面上，並貼合80μm厚之三醋酸纖維素薄膜，之後將非晶性PET基材剝離，使3μm厚PVA層轉移至80μm厚的三醋酸纖維素薄膜上。

〔其他步驟〕

上述薄型偏光膜之製造方法，除了上述步驟以外亦可包含其他步驟。其他步驟方面，可舉例如不溶化步驟、交聯步驟、乾燥(水分率的調節)步驟等。其他步驟可在任意的適當時間點進行。

上述不溶化步驟，代表性地，係藉由將PVA系樹脂層浸漬於硼酸水溶液中而進行。藉由實施不溶化處理，可賦予PVA系樹脂層耐水性。該硼酸水溶液的濃度，宜相對於100重量份的水而為1重量份~4重量份。不溶化浴(硼酸水溶液)的液溫，宜為20℃~50℃。不溶化步驟係宜於積層體製作後、染色步驟或水中拉伸步驟之前進行。

上述交聯步驟，代表性地，可藉由將PVA系樹脂層浸漬於硼酸水溶液中來進行。藉由實施交聯處理，可賦與PVA系樹脂層耐水性。該硼酸水溶液的濃度，宜相對於100重量份的水而為1重量份~4重量份。又，在上述染色步驟後進行交聯步驟的情況時，係以混入碘化物者較佳。藉由混入碘化物，可抑制該等吸附於PVA系樹脂層之碘的溶出。碘化物的混合量，宜相對於100重量份的水而為1重量份~5重量份。碘化物的具體例如上所述。交聯浴(硼酸水溶液)的液溫宜為20℃~50℃。交聯步驟宜於上述第2硼酸水中拉伸步驟之前進行。在一較佳實施形態中，係以染色步驟、交聯步驟與第2硼酸水中拉伸步驟此一順序進行。

作為形成設置於上述偏光件的單面或兩面之透明保護薄膜的材料，宜為透明性、機械強度、熱安定性、水分阻斷性、等方性等優良者，尤其宜為透濕度在150g/m²/24h以下者，而140g/m²/24h以下特佳，120g/m²/24h 以下尤佳。透濕度係依實施例所記載的方法求得。

透明保護薄膜的厚度可適當地決定，惟從強度及處理性等作業性、和薄層性等觀點，一般約為1~500μm，並宜為1~300μm，較佳為5~200μm。進一步以10~200μm為佳，20~80μm尤佳。

作為滿足前述低透濕度的透明保護薄膜形成材料，可使用例如：聚對苯二甲酸乙二酯或聚萘二甲酸乙二酯等聚酯樹脂；聚碳酸酯樹脂；芳酯系樹脂；耐綸或芳香族聚醯胺等醯胺系樹脂；如聚乙烯、聚丙烯、乙烯-丙烯共聚物等聚烯烴系聚合物、至於環系為具降莰烯結構之環狀烯烴系樹脂、(甲基)丙烯酸系樹脂、或其等之混合物。但前述樹脂中，係以聚碳酸酯系樹脂、環狀聚烯烴系樹脂、(甲基)丙烯酸系樹脂為宜，尤以環狀聚烯烴系樹脂、(甲基)丙烯酸系樹脂為佳。

作為環狀聚烯烴樹脂的具體例，係以降莰烯系樹脂為宜。環狀烯烴系樹脂，係將環狀烯烴作為聚合單位而聚合之樹脂的總稱，可舉例如，日本專利公開案特開平1-240517號公報、特開平3-14882號公報、特開平3-122137號公報等所記載之樹脂。具體例方面，可舉例為：環狀烯烴的開環(共)聚合物、環狀烯烴的加成聚合物，環狀烯烴與乙烯或丙烯等α-烯烴的共聚物(代表性為無規共聚物)，以及將其等以不飽和羧酸或其衍生物加以改質而成的接枝聚合物，還有其等之氫化物等。作為環狀烯烴的具體例，可舉例為降莰烯系單體。

作為環狀聚烯烴樹脂，有各種製品在市售中。具體例方面，例如日本ZEON股份公司製，商品名「ZEONEX」、「ZEONOR」；JSR股份公司製，商品名「ARTON」；TICONA公司製，商品名「TOPAS」；三井化學股份公司製，商品名「APEL」。

作為(甲基)丙烯酸系樹脂，其Tg(玻璃轉移溫度) 宜在115℃以上，較佳為120℃以上，更佳為125℃以上，特佳為130℃以上。藉由讓Tg在115℃以上，偏光板的耐久性得以良好。上述(甲基)丙烯酸系樹脂的Tg上限值雖無特別限制，惟從成形性等觀點出發，宜為170℃以下。可由(甲基)丙烯酸系樹脂獲得到面內相位差(Re)、厚度方向相位差(Rth)幾乎為零的薄膜。

(甲基)丙烯酸系樹脂方面，在不減損本發明效果的範圍內，可任意採用適當的(甲基)丙烯酸系樹脂。例如，聚甲基丙烯酸甲酯等聚(甲基)丙烯酸酯、甲基丙烯酸甲酯-(甲基)丙烯酸共聚物、甲基丙烯酸甲酯-(甲基)丙烯酸酯共聚物、甲基丙烯酸甲酯-丙烯酸酯-(甲基)丙烯酸共聚物、(甲基)丙烯酸甲基-苯乙烯共聚物(MS樹脂等)、具脂環族碳化氫基之聚合物(例如甲基丙烯酸甲酯-甲基丙烯酸環己基共聚物、甲基丙烯酸甲酯-(甲基)丙烯酸”降莰基”共聚物等)。適宜的是例如聚(甲基)丙烯酸甲基等聚(甲基)丙烯酸C1-6烷酯。較佳的是例為以甲基丙烯酸甲酯作為主成分(50~100重量%、且70~100重量%為佳)的甲基丙烯酸甲酯系樹脂。

作為(甲基)丙烯酸系樹脂的具體例，可舉例如：三菱麗陽股份公司製的ACRYPET VH或ACRYPET VRL20A、日本專利公開案特開2004-70296號公報所記載之分子內有環結構的(甲基)丙烯酸系樹脂、由分子內交聯或分子內環化反應而成之高Tg(甲基)丙烯酸系樹脂。

作為(甲基)丙烯酸系樹脂，可使用具有內酯環結構的(甲基)丙烯酸系樹脂。此係因具有高耐熱性、高透明性、經由雙軸拉伸之高機械強度之故。

作為具有內酯環結構之(甲基)丙烯酸系樹脂可舉例為：日本專利公開案特開2000-230016號公報、特開2001-151814號公報、特開2002-120326號公報、特開2002-254544號公報、特開2005-146084號公報等所記載之具有內酯環結構的(甲基)丙烯酸系樹脂。

另外，設置於偏光件兩面的前述低透濕度之透明保護薄膜，可使用其表裡由相同聚合物材料構成的透明保護薄膜，亦可使用由相異聚合物材料等構成的透明保護薄膜。

作為前述透明保護薄膜，可使用具有40nm以上正面相位差及/或80nm以上厚度方向相位差此種相位差的相位差板。正面相位差，通常控制在40~200nm的範圍；厚度方向相位差通常控制在80~300nm的範圍。使用相位差板作為透明保護薄膜時，由於該相位差板亦發揮透明保護薄膜的功能，故亦可謀求其薄型化。

相位差板方面，例如：將高分子素材單軸或雙軸拉伸處理而成之多重折射率性薄膜、液晶聚合物的配向薄膜、將液晶聚合物配向層以薄膜支持而成者等。相位差板的厚度亦無特別限制，惟一般約為20~150μm。

另外，前述具有相位差的薄膜，亦可另行貼合在不具相位差之透明保護薄膜，而賦與上述機能。

上述透明保護薄膜之未黏著偏光件的面上，可設有硬質層、抗反射層、抗黏層、擴散層乃至抗眩層等機能層。另外，上述硬質層、抗反射層、抗黏層、擴散層或抗眩層等機能層，除了設置在透明保護薄膜其上外，亦可另行設置作為與透明保護薄膜不同的物體。

本發明之偏光薄膜，實際應用時可作為經與其他光學層積層之光學薄膜而使用。該光學層方面並無特別限制，例如可使用1層或2層以上的反射板或半穿透板、相位差板(包括1/2或1/4等波長板)、視角補償薄膜等在形成液晶顯示裝置等所用之光學層。較佳的是，在本發明之偏光薄膜再積層反射板或半穿透反射板而成的反射型偏光薄膜或半穿透型偏光薄膜、於偏光薄膜再積層相位差板而成的楕圓偏光薄膜或圓偏光薄膜、於偏光薄膜再積層視角補償薄膜而成的廣視角偏光薄膜，或於偏光薄膜再積層增亮膜而成的偏光薄膜。

於偏光薄膜積層上述光學層而成的光學薄膜，可利用在液晶顯示裝置等製造過程中依次各別積層的方式來形成，惟預先積層而作為光學薄膜者，有品質安定性、組裝作業等優良而可使液晶顯示裝置等製造步驟提升的優點。積層方面可使用黏著層等適當的接著方式。在上述偏光薄膜或其他光學薄膜的接著時，其等之光學軸可依目標相位差特性等而作成適當的配置角度。

在前述偏光薄膜、或至少積層有1層偏光薄膜的光學薄膜，亦可設置用於與液晶胞等其他元件黏接的黏著層。形成黏著層的黏著劑並無特別限制，可適當選擇並使用例如以丙烯酸系聚合物、聚矽氧系聚合物、聚酯、聚胺甲酸乙酯、聚醯胺、聚醚、氟系或橡膠系等聚合物作為基底聚合物者。尤其，較佳可使用如丙烯酸系黏著劑這種光學透明性優良、表現出適度濕潤性、內聚性與接著性之黏著特性，並且耐候性耐熱性等優良者。

黏著層，可作成不同組成或種類等物質的重疊層而設於偏光薄膜或光學薄膜的單面或兩面。並且，在設置於兩面時，亦可作成在偏光薄膜或光學薄膜的表裡兩面為不同組成、種類或厚度等的黏著層。黏著層的厚度，可依使用目的或接著力等適當地決定，一般為1~500μm，並以1~200μm為宜，1~100μm尤佳。

對黏著層的露出面，在實用性的範圍內，可以其抗污等為目的，讓離型膜附貼而覆蓋。藉此，可防止在一般處理狀態下接觸到黏著層。作為離型膜，除了上述厚度條件外，可使用例如將塑膠薄膜、橡膠片材、紙、布、不織布、網布、發泡片材或金屬箔、其等之層合體等適當的薄片材，視需要經聚矽氧系或長鏈烷基系、氟系或硫化鉬等適當的剝離劑塗覆處理而作成者等中，依習知經驗為適當者。

本發明之偏光薄膜或光學薄膜，係可適宜使用在液晶顯示裝置等各種裝置的形成等。液晶顯示裝置的形成，可依習知方式進行。亦即，液晶顯示裝置，一般而言，係經由將液晶胞與偏光薄膜或光學薄膜及視需要的照明系統等的構成元件適當組裝並裝入驅動電路等而形成，但本發明中，除了使用由本發明之偏光薄膜或光學薄膜此點以外並無特別限制，可依習知方式為準。關於液晶胞，亦可使用例如TN型或STN型、π型等任意型式。

在液晶胞的單側或兩側配置偏光薄膜或光學薄膜而成的液晶顯示裝置，可形成照明系統使用背光或反射板等適當的液晶顯示裝置。此時，依據本發明之偏光薄膜或光學薄膜，可設置於液晶胞的單側或兩側。在偏光薄膜或光學薄膜設置於兩側時，其等可為相同薄膜、亦可為不同者。再者，在液晶顯示裝置形成時，可將例如擴散板、抗眩層、抗反射膜、保護板、棱柱陣列(prism array)、稜鏡陣列片材、光擴散板、背光等適當元件在適當位置配置1層或2層以上。

[實施例]

以下記載本發明之實施例，惟本發明之實施形態不受限於此。

<Tg：玻璃轉移溫度>

Tg，係使用TA設備公司製動態黏彈性測定裝置RSAIII依以下測定條件予以測定。

樣本尺寸：寬10mm，長30mm，夾具距離20mm，測定模式：拉伸，頻率：1Hz，升溫速度：5℃/分

進行動態黏彈性的測定，採用tanδ之峰頂溫度作為Tg。

<透明保護薄膜的透濕度>

透濕度的測定，係依據JIS Z0208的透濕度試驗(圓筒法)予以測定。將切成直徑60mm的樣本設置在裝有約15g氯化鈣的透濕杯，放入溫度40℃濕度90%R.H.的恆溫機中，測定放置24小時前後的氯化鈣的重量增加，藉此求得透濕度(g/m²/24h)。

<透明保護薄膜>

於厚度40μm之具有內酯環結構之(甲基)丙烯酸樹脂(SP值22.2，透濕度96g/m²/24h)施以電暈處理而使用作為透明保護薄膜。

<活性能量線>

使用下述作為活性能量線：紫外線(鎵封入金屬鹵素燈)

照射裝置：Fusion UV Systems，Inc公司製Light HAMMER10

燈泡：V燈泡

峰照度：1600mW/cm²，積算照射量1000/mJ/cm²(波長380~440nm)。另外，紫外線的照度係使用Solatell公司製Sola-Check系統測定。

(活性能量線硬化型接著劑組成物的調整)

實施例1~16、比較例1~10

依據表2及表3記載的配製表，混合各成分並在50℃下攪拌1小時，獲得實施例1~16及比較例1~10之活性能量線硬化型接著劑組成物。表中的數值係表示當組成物總量為100重量%時的重量%。依據下述條件評價該接著劑組成物的相溶性。所用各成分如下所述。

實施例15A及16A

在塗佈步驟前，於偏光件單面(與透明保護薄膜相貼合的面)實施電暈處理，除此之外，使用和實施例15及16相同的活性能量線硬化型接著劑組成物製造偏光薄膜，進行和實施例15及16相同的評價。所使用的各成分如下。

(1)自由基聚合性化合物(A)

HEAA(羥乙基丙烯醯胺)，SP值29.6，均聚物的Tg 123℃，興人公司製

(2)自由基聚合性化合物(B)

ARONIX M-220(M-220)(三丙二醇二丙烯酸酯)，SP值19.0，均聚物的Tg 69℃，東亞合成公司製

(3)自由基聚合性化合物(C)

ACMO(丙烯醯基嗎福林)，SP值22.9，均聚物的Tg 150℃，興人公司製

(4)由(甲基)丙烯醯基單體聚合而成的丙烯酸系寡聚物(D)

ARUFON UP-1190(UP-1190)，東亞合成公司製

(5)具有活性亞甲基之自由基聚合性化合物(E)

AAEM(2-乙醯乙醯氧基甲基丙烯酸乙酯)，SP值20.23(kJ/m³)^1/2，均聚物的Tg 9℃，日本合成化學公司製

(6)具奪氫作用的自由基聚合起始劑(F)KAYACURE DETX-S(DETX-S)(二乙基9-氧硫)，日本化藥公司製

(7)光聚合起始劑(以一般式(2)表示之化合物)

IRGACURE907(IRG907)(2-甲基-1-(4-甲基硫苯基)-2-嗎啉基丙-1-酮)，BASF公司製

(薄型偏光膜X的製作及使用其之偏光薄膜的製作)

為了製作薄型偏光膜X，首先，將在非晶性PET基材上製膜有24μm厚PVA層的積層體施以拉伸溫度130℃的空中補助拉伸，藉此生成拉伸積層體；接下來，將拉伸積層體染色，藉此生成著色積層體；再藉由將著色積層體施予拉伸溫度65度的硼酸水中拉伸，生成光學薄膜積層體，其包含以使總拉伸倍率成為5.94倍的方式而與非晶性PET基材一同拉伸的10μm厚PVA層。藉由這樣的2段拉伸，可生成含有構成高機能偏光膜Y之10μm厚PVA層的光學薄膜積層體，該高機能偏光膜Y係為製膜於非晶性PET基材之PVA層的PVA分子被高度配向，且藉由染色而吸附的碘作為多碘離子錯合物而單方向高度配向的高機能偏光膜。接著，在該光學薄膜積層體的薄型偏光膜X(水分率5.0%)表面上，使用MCD塗佈機(富士機械公司製)(胞室形狀：蜂巢狀，凹紋數：1000條/inch，旋轉速度140%/對線速)塗佈實施例1~16及比較例1~10之活性能量線硬化型接著劑組成物，以使其厚度成為0.5μm，並將透明保護薄膜從接著劑塗布面貼合。之後，從貼合了透明保護薄膜側(兩側)，使用IR加熱器加熱到50℃，在兩面照射上述紫外線，使實施例1~16及比較例1~10之活性能量線硬化型接著劑組成物硬化後，在70℃下熱風乾燥3分鐘。之後，將非晶性PET基材剝離，製作使用了薄型偏光膜X的偏光薄膜。貼合的線速度係以25m/min進行。依據下述條件，評估所得各偏光薄膜的接著力、耐水性(溫水浸漬試驗)及耐久性(熱震試驗)。

<接著力>

將偏光薄膜切成與偏光件拉伸方向平行方向200mm、縱向20mm的大小，在透明保護薄膜(丙烯酸樹脂薄膜，SP值22.2)與偏光件(SP值32.8)之間以截切刀劃入切口，將偏光薄膜貼合在玻璃板上。藉由萬能試驗機，在90度方向將保護薄膜與偏光件以剝離速度500mm/min剝離，測定其剝離強度。又，將剝離後之剝離面的紅外線吸收圖譜以ATR法測定，依據下述標準評價剝離界面。

A：保護薄膜的內聚破壞

B：保護薄膜/接著劑層間的界面剝離

C：接著劑層/偏光件間的界面剝離

D：偏光件的內聚破壞

在上述標準中，A及D意味著由於接著力為薄膜的內聚力以上，故接著力非常優良。另一方面，B及C意味著保護薄膜/接著劑層(接著劑層/偏光件)界面的接著力不足(接著力差)。考量該等狀況，將A或D時的接著力作為○；A‧B(「保護薄膜的內聚破壞」與「保護薄膜/接著劑層間的界面剝離」同時發生)或者A‧C(「保護薄膜的內聚破壞」與「接著劑層/偏光件間的界面剝離」同時發生)時的接著力作為△；將B或C時的接著力作為×。

<耐水性(溫水浸漬試驗)>

將偏光薄膜切成偏光件拉伸方向50mm、垂直方向25mm的長方形。將所述偏光薄膜浸漬於60℃溫水中6小時後，目視觀察其偏光件/透明保護薄膜間的剝離，依據下述標準評價。○：未辨識出剝離

△：從端部出現剝離，但未辨識有中心部的剝離

×：前面出現剝離

<耐久性(熱震試驗)>

將黏著劑層積層於偏光薄膜的偏光膜面，將其切成偏光件拉伸方向200mm、垂直方向400mm的長方形。將上述偏光薄膜層合於玻璃板，進行-40℃85℃的熱循環試驗，目視觀察循環50次後的偏光薄膜，依據下述標準評價。

○：未觀察到裂紋的發生

△：出現未貫穿偏光件拉伸方向的裂紋(裂紋長200mm以下)

×：出現貫穿偏光件拉伸方向的裂紋(裂紋長200mm)

<相溶性>

將2片玻璃板平行配置於1mm隔板的兩側，在2片玻璃板之間填充活性能量線硬化型樹脂組成物，作成積層體。從積層體兩側，將前述活性能量線分別以積算照射量5000mJ/cm²逐次照射，作成活性能量線硬化型樹脂組成物的硬化物。藉由目視該活性能量線硬化型樹脂組成物之硬化物來確認，若確認為混濁時，判斷為相溶性差(×)。若確認無混濁時，判斷為相溶性良好(○)。

[表2]

實施例17~23

根據表4記載的配製表，混合各成分並在50℃下攪拌1小時，以和實施例1~16相同的方法，獲得實施例17~23之活性能量線硬化型接著劑組成物。表中的數值係表示當以自由基聚合性化合物總量(自由基聚合性化合物(A)~(E)的合計量)為100重量%時的重量%。依據下述條件，評價所得各偏光薄膜的接著力、耐水性(溫水浸漬試驗)及耐久性(熱震試驗)。另外，有關相溶性，係以和前述相溶性測定條件相同的條件予以評價。所用各成分係如下所述。

(8)光酸產生劑(G)

CPI-100P(以三芳基鋶六氟磷酸鹽為主成分之有效成分50%的碳酸丙烯酯溶液)，SAN-APRO公司製

(9)含烷氧基、環氧基任一者的化合物(H)

DENACOL EX-611(山梨糖醇聚環氧丙基醚)，長瀨化成公司製

NIKA RESIN S-260(羥甲基化三聚氰胺)，日本碳化物工業公司製

KBM-5103(3-丙醯烯氧基丙基三甲氧基矽烷)，信越化學工業公司製

(10)具有胺基之矽烷偶合劑(I)

KBM-603(γ-(2-胺乙基)胺丙基三甲氧基矽烷)，信越化學工業公司製

KBM-602(γ-(2-胺乙基)胺丙基甲基二甲氧基矽烷)，信越化學工業公司製

<初始接著力>

將偏光薄膜切成與偏光件延伸方向平行方向為200mm、縱向為15mm的大小，偏光件之間以截切刀劃入切口，將偏光薄膜貼合於玻璃板上。藉由萬能試驗機，於90度方向將保護薄膜與偏光件以剝離速度300mm/min剝離，測試其初始剝離強度(N/15mm)。初始剝離強度在0.5N/15mm以上時為○；而低於0.5N/15mm時為×。

<溫水浸漬後的接著力(耐水性評價)>將偏光薄膜切成與偏光件拉伸方向平行方向200mm、縱向15mm的大小，在透明保護薄膜(丙烯酸樹脂薄膜)與偏光件之間以截切刀劃入切口，將偏光薄膜貼合於玻璃板上。將所述偏光薄膜浸漬於40℃溫水中2小時後，取出並在30分內(非乾燥狀態下)以萬能試驗機，於90度方向將保護薄膜與偏光件以剝離速度300mm/min剝離，測試其剝離強度(N/15mm)。剝離強度在0.5N/15mm以上時為○；而低於0.5N/15mm時為×。

<耐久性(熱震試驗)>

○：未觀察到裂紋的發生

△：出現未貫穿偏光件拉伸方向的裂紋(裂紋長200mm以下)

×：出現貫穿偏光件拉伸方向的裂紋(裂紋長200mm)

由從表4的結果可知，除了(A)~(D)成分外，還在具奪氫作用之自由基聚合起始劑(F)的存在下包含具活性亞甲基之自由基聚合性化合物(E)的接著劑組成物的硬化物，其溫水浸漬後的接著力相當高，且耐水性良好。同樣地，包含光酸產生劑(G)及含烷氧基、環氧基任一者之化合物(H)的接著劑組成物的硬化物，及進一步包含含胺基之矽烷偶合劑(I)的接著劑組成物的硬化物，其溫水浸漬後的接著力亦相當高且耐水性良好。

Claims

一種活性能量線硬化型接著劑組成物，包含：作為硬化性成分的自由基聚合性化合物(A)、(B)及(C)；以及由(甲基)丙烯醯基單體聚合而成的丙烯酸系寡聚物(D)，其特徵在於：前述自由基聚合性化合物(A)係SP值為29.0(kJ/m³)^1/2以上且32.0以下(kJ/m³)^1/2，前述自由基聚合性化合物(B)係SP值為18.0(kJ/m³)^1/2以上且低於21.0(kJ/m³)^1/2，前述自由基聚合性化合物(C)係SP值為21.0(kJ/m³)^1/2以上且23.0(kJ/m³)^1/2以下，並且，當以組成物總量為100重量%時，係含有前述自由基聚合性化合物(B)25~80重量%。
如請求項1之活性能量線硬化型接著劑組成物，其包含：具活性亞甲基之自由基聚合性化合物(E)、以及具奪氫作用的自由基聚合起始劑(F)。
如請求項2之活性能量線硬化型接著劑組成物，其中前述活性亞甲基為乙醯乙醯基。
如請求項2或3之活性能量線硬化型接著劑組成物，其中前述具活性亞甲基之自由基聚合性化合物(E)為乙醯乙醯氧基烷基(甲基)丙烯酸酯。
如請求項2或3之活性能量線硬化型接著劑組成物，其中前述自由基聚合起始劑(F)為9-氧硫系自由基聚合起始劑。
如請求項2或3之活性能量線硬化型接著劑組成物，其係當以組成物總量為100重量%時，含前述具活性亞甲基之自由基聚合性化合物(E)1~50重量%，且含自由基聚合起始劑(F)0.1~10重量%。
如請求項1或2之活性能量線硬化型接著劑組成物，其係包含光酸產生劑(G)。
如請求項1或2之活性能量線硬化型接著劑組成物，其中該光酸產生劑(G)包含：具有選自於由PF₆ ^-、SbF₆ ^-及AsF₆ ^-所構成群組中至少1種作為相對陰離子的光酸產生劑。
如請求項1或2之活性能量線硬化型接著劑組成物，其係於該活性能量線硬化型接著劑組成物中併用光酸產生劑(G)及含烷氧基和環氧基任一者之化合物(H)。
如請求項1或2之活性能量線硬化型接著劑組成物，其係包含：具有胺基之矽烷偶合劑(I)。
如請求項10之活性能量線硬化型接著劑組成物，其係當以組成物總量為100重量%時，含有該具胺基之矽烷偶合劑(I)0.01~20重量%。
如請求項1或2之活性能量線硬化型接著劑組成物，其係當以組成物總量為100重量%時，含前述自由基聚合性化合物(A)3~40重量%，含前述自由基聚合性化合物(C)5~55重量%，且含前述丙烯酸系寡聚物(D)3~20重量%。
如請求項1或2之活性能量線硬化型接著劑組成物，其中前述自由基聚合性化合物(A)、(B)及(C)各自的均聚物的玻璃轉移溫度(Tg)均在60℃以上。
如請求項1或2之活性能量線硬化型接著劑組成物，其中前述自由基聚合性化合物(A)為羥乙基丙烯醯胺及/或N-羥甲基丙烯醯胺。
如請求項1或2之活性能量線硬化型接著劑組成物，其中前述自由基聚合性化合物(B)為三丙二醇二丙烯酸酯。
如請求項1或2之活性能量線硬化型接著劑組成物，其中前述自由基聚合性化合物(C)為丙烯醯基嗎福林及/或N-甲氧基甲基丙烯醯胺。
如請求項1或2之活性能量線硬化型接著劑組成物，其係包含以下述一般式(1)所表示的化合物作為光聚合起始劑： (式中，R¹及R²表示-H、-CH₂CH₃、-iPr或Cl；R¹及R²可相同或相異)。
如請求項17之活性能量線硬化型接著劑組成物，其係進一步包含以下述一般式(2)表示之化合物作為光聚合起始劑： (式中，R³、R⁴及R⁵表示-H、-CH₃、-CH₂CH₃、-iPr或Cl，R³、R⁴及R⁵可為相同一或相異)。
一種偏光薄膜，係於偏光件之至少一側的面上，隔著接著劑層設置有波長365nm光線穿透率低於5%的透明保護薄膜，其特徵在於：前述接著劑層係由照射活性能量線至如請求項1~18中任一項之活性能量線硬化型接著劑組成物而成之硬化物層所形成者。
如請求項19之偏光薄膜，其中前述接著劑層的玻璃轉移溫度(Tg)為60℃以上。
如請求項19或20之偏光薄膜，其中前述透明保護薄膜之透濕度為150g/m²/24h以下。
如請求項19或20之偏光薄膜，其中前述透明保護薄膜的SP值為29.0(kJ/m³)^1/2以上且低於33.0(kJ/m³)^1/2。
如請求項19或20之偏光薄膜，其中前述透明保護薄膜的SP值為18.0(kJ/m³)^1/2以上且低於24.0(kJ/m³)^1/2。
一種偏光薄膜之製造方法，係製造在偏光件至少一側的面上隔著接著劑層設置波長365nm光線穿透率低於5%的透明保護薄膜者，其特徵在於包含下述步驟：塗佈步驟，於前述偏光件及前述透明保護薄膜之至少一側的面上，塗佈請求項1至18中任一項之活性能量線硬化型接著劑組成物；貼合步驟，將前述偏光件及前述透明保護薄膜相貼合；及接著步驟，自前述偏光件面側或前述透明保護薄膜面側照射活性能量線，使前述活性能量線硬化型接著劑組成物硬化，藉此得到接著劑層，將前述偏光件及前述透明保護薄膜隔著該接著劑層相接著。
如請求項24之偏光薄膜之製造方法，其係於前述塗佈步驟前，在前述偏光件及前述透明保護薄膜至少一側的面亦即欲行貼合之側的面，施行電暈處理、電漿處理、準分子處理或火焰處理。
如請求項24或25之偏光薄膜之製造方法，其中前述偏光薄膜係在偏光件的兩面，隔著接著劑層設置有波長365nm光線穿透率低於5%的透明保護薄膜者，而該製造方法含有下述接著步驟：首先，從一邊的透明保護薄膜側照射活性能量線，接著從另一邊的透明保護薄膜側照射活性能量線，使前述活性能量線硬化型接著劑組成物硬化，藉此得到接著劑層，將前述偏光件及前述透明保護薄膜隔著該接著劑層相接著。
如請求項24或25之偏光薄膜之製造方法，其中前述活性能量線係包含波長範圍380~450nm可見光線。
如請求項24或25之偏光薄膜之製造方法，其中前述活性能量線係波長範圍380~440nm積算照度對波長範圍 250~370nm積算照度的比為100：0~100：50。
如請求項24或25之偏光薄膜之製造方法，其中前述偏光件在前述貼合步驟時的的水分率係低於15%。
一種光學薄膜，其特徵在於積層有至少一片如請求項19至23中任一項之偏光薄膜。
一種影像顯示裝置，其特徵在於使用了如請求項19至23中任一項之偏光薄膜，及/或如請求項30之光學薄膜。