TW201936384A - 偏光薄膜及其製造方法、光學薄膜以及影像顯示裝置 - Google Patents

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Abstract

本發明課題係提供一種可兼顧抑制偏光件在加濕環境下的光學特性降低與優異裂痕耐久性的偏光薄膜及其製造方法，前述優異裂痕耐久性譬如在業已施行小直徑凹R加工或小直徑鑽孔加工之異形偏光薄膜格外要求。
其解決手段為一種偏光薄膜，其係透過接著劑層而於偏光件之至少一面設有纖維素系樹脂薄膜作為透明保護薄膜者，該接著劑層係由對活性能量線硬化型接著劑組成物照射活性能量線而成之硬化物層所形成，其中該活性能量線硬化型接著劑組成物在令組成物總量為100重量%時分別含有預定量之活性能量線硬化型化合物(A)、(B)及(C)，且前述活性能量線硬化型化合物(A)、(B)及(C)係SP值為29.0(MJ/m3 )1/2 以上且32.0(MJ/m3 )1/2 以下、SP值為18.0(MJ/m3 )1/2 以上且低於21.0(MJ/m3 )1/2 、及SP值為21.0(MJ/m3 )1/2 以上且26.0(MJ/m3 )1/2 以下。

Description

偏光薄膜及其製造方法、光學薄膜以及影像顯示裝置
本發明涉及一種偏光薄膜及其製造方法，且該偏光薄膜於偏光件之至少一面透過接著劑層設有透明保護薄膜。該偏光薄膜可單獨或是以將其積層為光學薄膜的形式來形成液晶顯示裝置(LCD)、有機EL顯示裝置、CRT、PDP等影像顯示裝置。
發明背景
在各種影像顯示裝置中，為了顯示影像，一般係使用偏光薄膜。譬如液晶顯示裝置(LCD)由其影像形成方式來看，於形成液晶面板表面之玻璃基板兩側配置偏光薄膜係必要不可或缺的。且，在有機EL顯示裝置上，為了遮蔽在金屬電極的外光的鏡面反射，會於有機發光層的視辨側配置積層有偏光薄膜與1/4波長板之圓偏光薄膜。
前述偏光薄膜一般係使用於聚乙烯醇系薄膜與碘等二色性材料構成之偏光件單面或兩面透過聚乙烯醇系接著劑或活性能量線硬化性接著劑等而貼合有保護薄膜者。
前述偏光薄膜在熱震(例如反覆以-40℃與85℃之溫度條件進行熱震試驗)之嚴酷環境下，會因偏光件的收縮應力之變化，而有易於偏光件之吸收軸方向整體產生裂痕(貫穿性裂痕)之問題。因此，為了抑制偏光件收縮、減輕熱衝撃之影響，只要是厚度10μm以下之薄型偏光件，由於其收縮應力之變化小，故不易產生貫穿性裂痕。舉例而言，有文獻揭示了一種偏光薄膜，其於厚度10μm以下之薄型偏光件的單面或兩面貼合有保護薄膜，而抑制了貫穿性裂痕之產生(可參照例如下述專利文獻1)。
另一方面，厚度10μm以下之薄型偏光件有於加濕環境下之光學特性容易降低之問題。所以，在下述專利文獻2中係使用對前述薄型偏光件透濕度極低之樹脂薄膜作為保護薄膜，而抑制住薄型偏光件因加濕所造成的偏光件劣化。
而且近幾年在汽車儀錶顯示部或智慧型手錶(smart watch)等也開始使用偏光板，基於其設計性等觀點，也開始期盼能將偏光板形狀做成矩形以外的形狀來使用、或於偏光板形成貫穿孔等等(可參照譬如下述專利文獻3)。在該等形式之異形加工中，追求以往前所未見之更細膩且精緻之加工處理、或是更複雜之加工處理的作法正在增加中，而且時常有施行小直徑凹R加工或小直徑鑽孔加工的情況；現已經證實，在小直徑鑽孔加工或小直徑凹R加工等之凹加工部位，具有比形狀為矩形時更容易產生裂痕的傾向。
先前技術文獻
專利文獻
專利文獻1：日本專利特開第2015-152911號公報
專利文獻2：日本專利特開第2017-211433號公報
專利文獻3：日本專利特開第2018-12182號公報
發明概要
發明欲解決之課題
在專利文獻2記載之技術中，係嘗試使用將對薄型偏光件透濕度極低之樹脂薄膜用於保護薄膜的偏光薄膜，來抑制薄型偏光件在加濕環境下劣化或在熱衝撃時產生裂痕。惟，近幾年對於業已施行小直徑凹R加工或小直徑鑽孔加工的異形偏光薄膜評估有無在熱衝撃時對加工部產生裂痕，開始要求可通過更嚴苛的裂痕試驗之耐久性。因此，就今日已提出之偏光薄膜而言，在針對裂痕之耐久性這一點上仍有進一步改良的空間卻也是事實。
本發明係有鑑於上述現況所研發，其目的在於提供一種可兼顧在加濕環境下抑制光學特性降低與優異裂痕耐久性的偏光薄膜及其製造方法，前述優異裂痕耐久性譬如在業已施行小直徑凹R加工或小直徑鑽孔加工之異形偏光薄膜格外要求。
此外，本發明目的在於提供一種至少積層有一層前述偏光薄膜的光學薄膜，以及使用有前述偏光薄膜及/或前述光學薄膜的影像顯示裝置。
用以解決課題之手段
上述課題可藉由下述構成解決。即，本發明涉及一種偏光薄膜，其係於偏光件之至少一面透過接著劑層設置有透明保護薄膜者，其特徵在於：前述透明保護薄膜為纖維素系樹脂薄膜；前述接著劑層係由硬化物層所形成，該硬化物層係對活性能量線硬化型接著劑組成物照射活性能量線而成；前述活性能量線硬化型接著劑組成物在令組成物總量為100重量%時，含有：0.0~4.0重量%之SP值為29.0(MJ/m3 )1/2 以上且32.0(MJ/m3 )1/2 以下的活性能量線硬化型化合物(A)、5.0~98.0重量%之SP值為18.0(MJ/m3 )1/2 以上且低於21.0(MJ/m3 )1/2 的活性能量線硬化型化合物(B)、及5.0~98.0重量%之SP值為21.0(MJ/m3 )1/2 以上且26.0(MJ/m3 )1/2 以下的活性能量線硬化型化合物(C)。
在上述偏光薄膜中，前述偏光件之厚度宜為3μm以上且15μm以下。
在上述偏光薄膜中，前述活性能量線硬化型接著劑組成物在令組成物總量為100重量%時，含有20~80重量%之前述活性能量線硬化型化合物(B)為宜。
在上述偏光薄膜中，前述活性能量線硬化型接著劑組成物宜含有(甲基)丙烯酸單體聚合而成的丙烯酸系寡聚物(D)。
在上述偏光薄膜中，前述活性能量線硬化型接著劑組成物之以下述式(1)表示的丙烯醯基當量Cae 宜為140以上。
Cae =1/Σ(WN /Nae )…(1)；
前述式(1)中，WN 為組成物中之活性能量線硬化型化合物N的質量分率，Nae 為活性能量線硬化型化合物N的丙烯醯基當量。
在上述偏光薄膜中，前述活性能量線硬化型接著劑組成物宜含有具有奪氫作用的自由基聚合引發劑。
在上述偏光薄膜中，前述自由基聚合引發劑宜為9-氧硫𠮿系自由基聚合引發劑。
在上述偏光薄膜中，宜為：前述活性能量線硬化型接著劑組成物為含有丙烯酸系寡聚物(D)者；並且
上述偏光薄膜在前述透明保護薄膜與前述接著劑層之間形成有該等組成呈連續變化之相溶層，且
令前述相溶層之厚度為P(μm)、組成物總量為100重量%時之前述丙烯酸系寡聚物(D)的含量為Q重量%時，P×Q之值小於10。
在上述偏光薄膜中，宜在前述偏光件及前述透明保護薄膜中之至少一貼合面具備下述通式(1)所示化合物：
[化學式1]

(惟，X為含有反應性基之官能基，R1 及R2 分別獨立表示氫原子、可具有取代基之脂肪族烴基、芳基或雜環基)；
前述通式(1)所示化合物係夾在以下一處或兩處之間：前述偏光件與前述接著劑層之間、及前述透明保護薄膜與前述接著劑層之間。
在上述偏光薄膜中，前述通式(1)所示化合物宜為下述通式(1')所示化合物：
[化學式2]

(惟，Y為有機基，X、R1 及R2 與前述相同)。
在上述偏光薄膜中，宜在前述偏光件之貼合面具備前述通式(1)所示化合物。
在上述偏光薄膜中，前述通式(1)所示化合物具有之反應性基宜為選自於由α,β-不飽和羰基、乙烯基、乙烯基醚基、環氧基、氧雜環丁烷基、胺基、醛基、巰基、鹵素基所構成群組中之至少1種反應性基。
又，本發明涉及一種偏光薄膜之製造方法，其特徵在於包含以下步驟：塗敷步驟，係於偏光件及透明保護薄膜中之至少一面塗敷活性能量線硬化型接著劑組成物；貼合步驟，係貼合前述偏光件與前述透明保護薄膜；及接著步驟，係透過接著劑層使前述偏光件與前述透明保護薄膜接著，其中該接著劑層係從前述偏光件面側或前述透明保護薄膜面側照射活性能量線，使前述活性能量線硬化型接著劑組成物硬化而製得；前述透明保護薄膜為纖維素系樹脂薄膜；前述活性能量線硬化型接著劑組成物在令組成物總量為100重量%時，含有：0.0~4.0重量%之SP值為29.0(MJ/m3 )1/2 以上且32.0(MJ/m3 )1/2 以下的活性能量線硬化型化合物(A)、5.0~98.0重量%之SP值為18.0(MJ/m3 )1/2 以上且低於21.0(MJ/m3 )1/2 的活性能量線硬化型化合物(B)、及5.0~98.0重量%之SP值為21.0(MJ/m3 )1/2 以上且26.0(MJ/m3 )1/2 以下的活性能量線硬化型化合物(C)。
在上述偏光薄膜之製造方法中，其宜包含易接著處理步驟，該易接著處理步驟係使下述通式(1)所示化合物附著於前述偏光件及前述透明保護薄膜中之至少一貼合面上：
[化學式3]

(惟，X為含有反應性基之官能基，R1 及R2 分別獨立表示氫原子、可具有取代基之脂肪族烴基、芳基或雜環基)。
在上述偏光薄膜之製造方法中，前述通式(1)所示化合物宜為下述通式(1')所示化合物：
[化學式4]

(惟，Y為有機基，X、R1 及R2 與前述相同)。
在上述偏光薄膜之製造方法中，宜在前述塗敷步驟前對前述偏光件及前述透明保護薄膜中之至少一貼合側之面進行電暈處理、電漿處理、準分子處理或火焰處理。
在上述偏光薄膜之製造方法中，前述活性能量線宜為包含波長範圍為380~450nm之可見光線者。
在上述偏光薄膜之製造方法中，前述活性能量線在波長範圍380~440nm之累積照度與在波長範圍250~370nm之累積照度之比宜為100：0~100：50。
並且本發明涉及一種光學薄膜，其特徵在於：積層有至少一層如前述任一項所記載之偏光薄膜；以及涉及一種影像顯示裝置，其特徵在於：使用有如前述任一項所記載之偏光薄膜、及/或前述記載之光學薄膜。
發明效果
誠如前述，不僅是業已施行小直徑凹R加工或小直徑鑽孔加工的異形偏光薄膜，即使是一般矩形形狀的偏光薄膜，也會因各種因素而難以兼顧抑制光學特性在加濕環境下降低以及優異的裂痕耐久性。本發明人等為了圖謀顧全雙方而努力研討之結果，首先開發了(i)活性能量線硬化型接著劑組成物，該(i)活性能量線硬化型接著劑組成物可形成能提升偏光件與透明保護薄膜之接著性且提升光學耐久性的接著劑層，並發現藉由選擇最佳的(ii)透明保護薄膜與(i)作組合，可達成前述課題之周全。
首先，針對(i)活性能量線硬化型接著劑組成物加以說明。為了形成能提升偏光件與透明保護薄膜之接著性且提升光學耐久性的接著劑層，在本發明中將活性能量線硬化型接著劑組成物做成至少含有活性能量線硬化型化合物(A)、活性能量線硬化型化合物(B)及活性能量線硬化型化合物(C)之物。活性能量線硬化型化合物(A)之SP值為29.0(MJ/m3 )1/2 以上且32.0(MJ/m3 )1/2 以下，且令組成物總量為100重量%時，其組成比率為0.0~4.0重量%。該活性能量線硬化型化合物(A)之SP值高，所以大大有助於提升譬如PVA系偏光件(譬如SP值32.8)及作為透明保護薄膜之皂化三乙酸纖維素(譬如SP值32.7)與接著劑層的接著性。另一方面，活性能量線硬化型接著劑組成物中之活性能量線硬化型化合物(A)的含量一多，光學耐久性會惡化。因此，令組成物總量為100重量%時，宜將活性能量線硬化型化合物(A)之上限設為4.0重量%，設為2.0重量%較佳，又宜設為1.5重量%，設為1.0重量%更佳，不含活性能量線硬化型化合物(A)尤佳。
活性能量線硬化型化合物(B)之SP值為18.0(MJ/m3 )1/2 以上且低於21.0(MJ/m3 )1/2 ，其組成比率為5.0~98.0重量%。該活性能量線硬化型化合物(B)之SP值低，與水(SP值47.9)之SP值差距大，大大有助於提升接著劑層之耐水性。令組成物總量為100重量%時，其組成比率宜為20~80重量%，25~70重量%較佳。
活性能量線硬化型化合物(C)之SP值為21.0(MJ/m3 )1/2 以上且26.0(MJ/m3 )1/2 以下，其組成比率為5.0~98.0重量%。活性能量線硬化型化合物(C)之SP值與譬如作為透明保護薄膜之未皂化三乙酸纖維素之SP值(譬如23.3)及丙烯酸薄膜之SP值(譬如22.2)相近，所以有助於提升與該等透明保護薄膜的接著性。令組成物總量為100重量%時，其組成比率宜為20~80重量%，25~70重量%較佳。
在本發明中係藉由前述記載之(i)活性能量線硬化型接著劑組成物使特定之(ii)透明保護薄膜與偏光件接著。
(ii)透明保護薄膜係使用纖維素系樹脂薄膜。纖維素系樹脂薄膜在熱衝撃時尺寸變化小，且線膨脹係數低。在此同時，透濕度高。因此，對於兼顧抑制偏光薄膜之光學特性在加濕環境下降低與優異的裂痕耐久性方面，纖維素系樹脂薄膜是正、負面向併存，而藉由使用由前述記載之(i)活性能量線硬化型接著劑組成物之硬化物層構成的接著劑層使其與偏光件接著，可彌補纖維素系樹脂薄膜的負面，圖謀前述課題之周全。
尤其在本發明中，係透過由特定的(i)活性能量線硬化型接著劑組成物之硬化物層構成的接著劑層，使特定的(ii)透明保護薄膜與厚度為3μm以上且15μm以下之特定的(iii)薄型偏光件接著來構成偏光薄膜，如此可以更高的水準兼顧抑制偏光薄膜之光學特性在加濕環境下降低與優異的裂痕耐久性，故為適宜。
用以實施發明之形態
本發明之偏光薄膜係透過由特定的活性能量線硬化型接著劑組成物之硬化物層構成的接著劑層，使特定的透明保護薄膜與偏光件接著來構成偏光薄膜。
＜活性能量線硬化型接著劑組成物＞
活性能量線硬化型接著劑組成物含有活性能量線硬化型化合物(A)、(B)及(C)作為硬化性成分。具體上含有令組成物總量為100重量%時，0.0~4.0重量%之SP值為29.0(MJ/m3 )1/2 以上且32.0(MJ/m3 )1/2 以下的活性能量線硬化型化合物(A)、5.0~98.0重量%之SP值為18.0(MJ/m3 )1/2 以上且低於21.0(MJ/m3 )1/2 的活性能量線硬化型化合物(B)、及5.0~98.0重量%之SP值為21.0(MJ/m3 )1/2 以上且26.0(MJ/m3 )1/2 以下的活性能量線硬化型化合物(C)。另，在本發明中，「組成物總量」意指加上活性能量線硬化型化合物包含各種引發劑或添加劑之總量。
在此，以下針對本發明中之SP值(溶解度參數)的算法加以說明。
(溶解度參數(SP值)的算法)
在本發明中，活性能量線硬化型化合物或偏光件、各種透明保護薄膜等之溶解度參數(SP值)可以Fedors法[參照期刊「Polymer Engineering and Science(Polymer Eng. & Sci.)」，第14卷，第2號(1974)，第148~154頁]計算求得，亦即：
[數學式1]

(惟，Δei係歸屬於原子或基在25℃下之蒸發能量，Δvi係在25℃下之莫耳體積)。
上述數學式中之Δei及Δvi係顯示主要分子中之i個原子及基團被賦予的固定數值。在此於以下表1列出原子或基團被賦予的Δe及Δv之數值的代表例。
[表1]
活性能量線硬化型化合物(A)只要是具有(甲基)丙烯酸酯基等自由基聚合性基且SP值為29.0(MJ/m3 )1/2 以上且32.0(MJ/m3 )1/2 以下之化合物，即可無限制地使用。活性能量線硬化型化合物(A)之具體例可舉如羥乙基丙烯醯胺(SP值29.5)、N-羥甲基丙烯醯胺(SP值31.5)等。另，在本發明中(甲基)丙烯酸酯基意指丙烯酸酯基及/或甲基丙烯酸酯基。
活性能量線硬化型化合物(B)只要是具有(甲基)丙烯酸酯基等自由基聚合性基且SP值為18.0(MJ/m3 )1/2 以上且低於21.0(MJ/m3 )1/2 之化合物，即可無限制地使用。活性能量線硬化型化合物(B)之具體例可舉如三丙二醇二丙烯酸酯(SP值19.0)、1,9-壬二醇二丙烯酸酯(SP值19.2)、三環癸烷二甲醇二丙烯酸酯(SP值20.3)、環狀三羥甲丙烷甲縮醛丙烯酸酯(SP值19.1)、二烷二醇二丙烯酸酯(SP值19.4)、EO改質二甘油四丙烯酸酯(SP值20.9)等。另，就活性能量線硬化型化合物(B)而言也適合使用市售物，譬如可舉ARONIX M-220(東亞合成公司製，SP值19.0)、LIGHT ACRYLATE 1,9ND-A(共榮社化學公司製，SP值19.2)、LIGHT ACRYLATE DGE-4A(共榮社化學公司製，SP值20.9)、LIGHT ACRYLATE DCP-A(共榮社化學公司製，SP值20.3)、SR-531(SARTOMER公司製，SP值19.1)、CD-536(SARTOMER公司製，SP值19.4)等。
活性能量線硬化型化合物(C)只要是具有(甲基)丙烯酸酯基等自由基聚合性基且SP值為21.0(MJ/m3 )1/2 以上且26.0(MJ/m3 )1/2 以下之化合物，即可無限制地使用。活性能量線硬化型化合物(C)之具體例可舉如丙烯醯嗎啉(SP值22.9)、N-甲氧基甲基丙烯醯胺(SP值22.9)、N-乙氧基甲基丙烯醯胺(SP值22.3)等。另，就活性能量線硬化型化合物(C)而言亦適合使用市售物，譬如可舉ACMO(興人公司製，SP值22.9)、Wasmer 2MA(笠野興產公司製，SP值22.9)、Wasmer EMA(笠野興產公司製，SP值22.3)、Wasmer 3MA(笠野興產公司製，SP值22.4)等。
另，在本發明中，活性能量線硬化型接著劑組成物之以下述式(1)表示的丙烯醯基當量Cae 若為140以上，即可抑制活性能量線硬化型接著劑組成物硬化時的硬化收縮。藉此可提升與被黏著物尤其是偏光件的接著性，故為適宜。
Cae =1/Σ(WN /Nae )…(1)
前述式(1)中，WN 為組成物中之活性能量線硬化型化合物N的質量分率，Nae 為活性能量線硬化型化合物N之丙烯醯基當量。另，在本發明中活性能量線硬化型接著劑組成物之丙烯醯基當量在預定以上時可提高所得接著劑層之接著力的理由可推斷如下。
活性能量線硬化型接著劑組成物之丙烯醯基當量愈高，對該組成物照射活性能量線而使其硬化時，具有抑制因形成共價鍵而產生之體積收縮的效果。藉此可緩和滯留在接著劑層與被黏著物之界面的應力，其結果即可提升接著劑層之接著力。
前述丙烯醯基當量Cae 為155以上較佳，165以上更佳。另，在本發明中丙烯醯基當量定義如下。
(丙烯醯基當量)=(丙烯酸單體之分子量)/(丙烯酸單體1分子中所含之(甲基)丙烯醯基數)
活性能量線硬化型接著劑組成物除了含有作為硬化性成分之活性能量線硬化型化合物(A)、(B)及(C)以外，亦可含有(甲基)丙烯酸單體聚合而成的丙烯酸系寡聚物(D)。活性能量線硬化型接著劑組成物因含有(D)成分，在對該組成物照射活性能量線並使其硬化時的硬化收縮會降低，而可降低接著劑層與偏光件及透明保護薄膜等被黏著物之界面應力。其結果，可抑制接著劑層與被黏著物的接著性降低。為能充分抑制硬化物層(接著劑層)之硬化收縮，接著劑組成物中宜含有3.0重量%以上之丙烯酸系寡聚物(D)，且含有5.0重量%以上更佳。另一方面，接著劑組成物中之丙烯酸系寡聚物(D)的含量一旦過多，則在對該組成物照射活性能量線時的反應速度會急遽降低，而有造成硬化不良的情況。所以，接著劑組成物中之丙烯酸系寡聚物(D)的含量宜為25重量%以下，15重量%以下較佳。
考慮到塗敷時的作業性及均勻性時，活性能量線硬化型接著劑組成物以低黏度為佳，所以(甲基)丙烯酸單體聚合而成之丙烯酸系寡聚物(D)亦以低黏度為佳。作為低黏度並可防止接著劑層硬化收縮的丙烯酸系寡聚物，以重量平均分子量(Mw)在15000以下者為佳，而10000以下者較佳，5000以下者尤佳。另一方面，為能充分抑制硬化物層(接著劑層)之硬化收縮，丙烯酸系寡聚物(D)之重量平均分子量(Mw)以在500以上為佳，1000以上較佳，1500以上尤佳。作為構成丙烯酸系寡聚物(D)之(甲基)丙烯酸單體，具體而言可舉例如(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸N-丙酯、(甲基)丙烯酸異丙酯、2-甲基-2-硝基丙基(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸N-丁酯、(甲基)丙烯酸異丁酯、(甲基)丙烯酸S-丁酯、(甲基)丙烯酸T-丁酯、(甲基)丙烯酸N-戊酯、(甲基)丙烯酸T-戊酯、(甲基)丙烯酸3-戊酯、2,2-二甲基丁基(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸N-己酯、(甲基)丙烯酸鯨蠟酯、(甲基)丙烯酸N-辛酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯、4-甲基-2-丙基戊基(甲基)丙烯酸酯、N-十八基(甲基)丙烯酸酯等(甲基)丙烯酸(碳數1-20)烷基酯類；以及例如環烷基(甲基)丙烯酸酯(例如，(甲基)丙烯酸環己酯、(甲基)丙烯酸環戊酯等)、(甲基)丙烯酸芳烷酯(例如，(甲基)丙烯酸苄酯等)、多環式(甲基)丙烯酸酯(例如(甲基)丙烯酸2-異莰酯、(甲基)丙烯酸2-降莰基甲酯、5-降莰烯-2-基-甲基(甲基)丙烯酸酯、3-甲基-2-降莰基甲基(甲基)丙烯酸酯等)、含羥基(甲基)丙烯酸酯類(例如(甲基)丙烯酸羥乙酯、(甲基)丙烯酸2-羥丙酯、2,3-二羥丙基甲基-丁基(甲基)甲基丙烯酸酯等)、含烷氧基或苯氧基的(甲基)丙烯酸酯類((甲基)丙烯酸2-甲氧基乙酯、(甲基)丙烯酸2-乙氧基乙酯、(甲基)丙烯酸2-甲氧基甲氧基乙酯、(甲基)丙烯酸3-甲氧基丁酯、乙基卡必醇(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸苯氧乙酯等)、含環氧基(甲基)丙烯酸酯類(例如，(甲基)丙烯酸環氧丙酯等)、含鹵素(甲基)丙烯酸酯類(例如(甲基)丙烯酸2,2,2-三氟乙酯、(甲基)丙烯酸2,2,2-三氟乙基乙酯、(甲基)丙烯酸四氟丙酯、(甲基)丙烯酸六氟丙酯、(甲基)丙烯酸八氟戊酯、(甲基)丙烯酸十七氟癸酯等)、(甲基)丙烯酸烷基胺基烷酯(例如二甲基胺基乙基(甲基)丙烯酸酯等)等。該等(甲基)丙烯酸酯可單獨使用或將2種以上併用。作為丙烯酸系寡聚物(D)之具體例，可舉出東亞合成公司製「ARUFON」、綜研化學公司製「ACTFLOW」、BASF JAPAN公司製「JONCRYL」等。
活性能量線硬化型接著劑組成物宜含有具有奪氫作用之自由基聚合引發劑(E)。藉由前述結構，則特別是即便是在高濕度環境或剛從水中取出(非乾燥狀態)，偏光薄膜所具有的接著劑層之接著性仍會顯著提升。該理由並未究明，但可推測為以下原因。活性能量線硬化型接著劑組成物中若存在具有奪氫作用之自由基聚合引發劑(E)，則藉由活性能量線硬化型化合物聚合，可形成構成接著劑層之基底聚合物，從活性能量線硬化型化合物之譬如亞甲基等拔去氫而產生自由基。然後，產生自由基之亞甲基等會與PVA等偏光件之羥基反應，而在接著劑層與偏光件之間形成共價鍵。就其結果可推知特別是即便在非乾燥狀態下，偏光薄膜所具有之接著劑層之接著性仍會明顯提升。
於本發明中，具有奪氫作用之自由基聚合引發劑(E)可舉例如9-氧硫𠮿系自由基聚合引發劑、二苯基酮系自由基聚合引發劑等。作為9-氧硫𠮿系自由基聚合引發劑，可舉例如下述通式(2)所示化合物。
[化學式5]

(式中，R3 及R4 表示-H、-CH2 CH3 、-iPr或Cl，R3 及R4 可相同亦可互異)。
在使用通式(2)所示化合物時，其接著性優於單獨使用對380nm以上的光有高感度之光聚合引發劑的情形。對380nm以上之光線有高感度的光聚合引發劑將於後詳述。通式(2)所示化合物當中，以R3 及R4 為-CH2 CH3 時的二乙基9-氧硫𠮿尤佳。
通式(2)之光聚合引發劑可藉由可透射具有UV吸收能之透明保護薄膜的長波長之光引發聚合，所以即使隔著UV吸收性薄膜，也能使接著劑硬化。具體而言，譬如即使是在像三乙酸纖維素-偏光件-三乙酸纖維素兩面積層具有UV吸收能之透明保護薄膜的情況下，如含有通式(2)之光聚合引發劑，接著劑組成物即可硬化。
在令組成物總量為100重量%時，組成物中之具有奪氫作用之自由基聚合引發劑(E)的組成比率特別是通式(2)所示化合物之組成比率宜為0.1~10重量%，0.2~5重量%較佳。
又，宜因應需要而添加聚合引發助劑。聚合引發助劑可舉如三乙胺、二乙胺、N-甲基二乙醇胺、乙醇胺、4-二甲胺苯甲酸、4-二甲胺苯甲酸甲酯、4-二甲胺苯甲酸乙酯、4-二甲胺苯甲酸異戊酯等，尤宜為4-二甲胺苯甲酸乙酯。使用聚合引發助劑時，其添加量在令組成物總量為100重量%時，一般為0~5重量%，並以0~4重量%為佳，0~3重量%為最佳。
又，可因應需要而併用周知之光聚合引發劑。具有UV吸收能的透明保護薄膜不透380nm以下之光線，因此光聚合引發劑宜使用對380nm以上之光線有高感度的光聚合引發劑。具體而言，可舉如2-甲基-1-(4-甲硫基苯基)-2-啉丙-1-酮、2-苄基-2-二甲胺基-1-(4-啉苯基)-丁-1-酮、2-(二甲胺基)-2-[(4-甲基苯基)甲基]-1-[4-(4-啉基)苯基]-1-丁酮、2,4,6-三甲基苯甲醯基-二苯基-膦氧化物、雙(2,4,6-三甲基苯甲醯基)-苯基膦氧化物、雙(Η5-2,4-環戊二烯-1-基)-雙(2,6-二氟-3-(1H-吡咯-1-基)-苯基)鈦等。
尤其，光聚合引發劑除了通式(2)的光聚合引發劑以外，宜進一步含有下述通式(3)所示化合物：

[化學式6]

(式中，R5 、R6 及R7 表示-H、-CH3 、-CH2 CH3 、-iPr或Cl，R5 、R6 及R7 可相同或可互異)。藉由將上述通式(2)及通式(3)之光聚合引發劑併用，可藉由該等之光敏化反應促使反應高效率化，格外提升接著劑層之接著性。
在上述活性能量線硬化型接著劑組成物中，更宜連同具有奪氫作用之自由基聚合引發劑(E)含有具有活性亞甲基之活性能量線硬化型化合物。根據該構成，可進一步提升偏光薄膜所具有之接著劑層的接著性。
具有活性亞甲基之活性能量線硬化型化合物是在末端或分子中具有(甲基)丙烯醯基等活性雙鍵基且具有活性亞甲基之化合物。活性亞甲基可列舉乙醯乙醯基、烷氧丙二醯基或氰乙醯基等。具有活性亞甲基之活性能量線硬化型化合物之具體例可舉如2-乙醯乙醯氧基乙基(甲基)丙烯酸酯、2-乙醯乙醯氧基丙基(甲基)丙烯酸酯、2-乙醯乙醯氧基-1-甲基乙基(甲基)丙烯酸酯等乙醯乙醯氧基烷基(甲基)丙烯酸酯；2-乙氧丙二醯基氧基乙基(甲基)丙烯酸酯、2-氰乙醯氧基乙基(甲基)丙烯酸酯、N-(2-氰乙醯氧基乙基)丙烯醯胺、N-(2-丙醯乙醯氧基丁基)丙烯醯胺、N-(4-乙醯乙醯氧基甲苄基)丙烯醯胺、N-(2-乙醯乙醯基胺乙基)丙烯醯胺等。另，具有活性亞甲基之活性能量線硬化型化合物的SP值並無特別限定，可使用任意值的化合物。
＜光酸產生劑＞
上述活性能量線硬化型樹脂組成物中可含有光酸產生劑。上述活性能量線硬化型樹脂組成物含有光酸產生劑時，相較於不含光酸產生劑之情況，可躍進地提升接著劑層之耐水性及耐久性。光酸產生劑可以下述通式(4)來表示。
通式(4)
[化學式7]

(惟，L+ 表示任意的鎓陽離子；又，X- 表示選自於由PF6 - 、SbF6 - 、AsF6 - 、SbCl6 - 、BiCl5 - 、SnCl6 - 、ClO4 - 、二硫胺基甲酸酯陰離子、SCN-所構成群組中的相對陰離子)。
其次，說明通式(4)中之相對陰離子X- 。
通式(4)中的相對陰離子X- 原理上並無特別限制，而以非親核性陰離子為佳。當相對陰離子X- 為非親核性陰離子時，因不易使共存於分子內的陽離子或所併用之各種材料之親核反應發生，結果便能提升通式(4)所示光酸產生劑本身或使用有其之組成物的歷時穩定性。在此所謂的非親核性陰離子是指引發親核反應的能力較低之陰離子。作為上述陰離子，可舉例如PF6 - 、SbF6 - 、AsF6 - 、SbCl6 - 、BiCl5 - 、SnCl6 - 、ClO4 - 、二硫胺甲酸鹽陰離子、SCN- 等。
作為本發明之光酸產生劑之理想具體例，具體而言可舉例如「Cyracure-UVI-6992」、「Cyracure-UVI-6974」(以上為日本陶氏化學(Dow Chemical)股份有限公司製)、「ADEKA OPTOMER SP150」、「ADEKA OPTOMER SP152」、「ADEKA OPTOMER SP170」、「ADEKA OPTOMER SP172」(以上為艾迪科(ADEKA)股份有限公司製)、「IRGACURE250」(汽巴精化(Ciba Specialty Chemicals)公司製)、「CI-5102」、「CI-2855」(以上為日本曹達公司製)、「SANEIDO SI-60L」、「SANEIDO SI-80L」、「SANEIDO SI-100L」、「SANEIDO SI-110L」、「SANEIDO SI-180L」(以上為三新化學公司製)、「CPI-100P」、「CPI-100A」(以上為三亞普羅(SAN-APRO)股份有限公司製)、「WPI-069」、「WPI-113」、「WPI-116」、「WPI-041」、「WPI-044」、「WPI-054」、「WPI-055」、「WPAG-281」、「WPAG-567」、「WPAG-596」(以上為和光純藥公司製)。
相對於組成物之總量，光酸產生劑之含量為10重量%以下，並以0.01~10重量%為佳，0.05~5重量%較佳，0.1~3重量%尤佳。
＜含有烷氧基、環氧基中任一者之化合物＞
可於上述活性能量線硬化型接著劑組成物中併用光酸產生劑與含有烷氧基或環氧基之任一者的化合物。
(具環氧基之化合物及高分子)
使用分子內具有1個以上環氧基之化合物或者分子內具有2個以上環氧基之高分子(環氧樹脂)時，亦可併用分子內具有二個以上與環氧基有反應性之官能基的化合物。此處所謂與環氧基有反應性之官能基，可舉如羧基、酚性羥基、巰基、1級或2級芳香族胺基等。考慮到3維硬化性，該等官能基以在一分子中具有2個以上尤佳。
作為在分子內具有1個以上環氧基之高分子，可舉例如環氧樹脂，以及由雙酚A與表氯醇所衍生之雙酚A型環氧樹脂、由雙酚F與表氯醇所衍生之雙酚F型環氧樹脂、雙酚S型環氧樹脂、苯酚酚醛型環氧樹脂、甲酚酚醛型環氧樹脂、雙酚A酚醛型環氧樹脂、雙酚F酚醛型環氧樹脂、脂環式環氧樹脂、二苯基醚型環氧樹脂、氫醌型環氧樹脂、萘型環氧樹脂、聯苯型環氧樹脂、茀型環氧樹脂、3官能型環氧樹脂、4官能型環氧樹脂等多官能型環氧樹脂、縮水甘油酯型環氧樹脂、縮水甘油胺型環氧樹脂、海因(hydantoin)型環氧樹脂、三聚異氰酸酯型環氧樹脂、脂肪族鏈狀環氧樹脂等，該等環氧樹脂亦可被鹵素化，亦可被氫化。市售的環氧樹脂製品，可舉例如Japan Epoxy Resins股份公司製的JERCoat 828、1001、801N、806、807、152、604、630、871、YX8000、YX8034、YX4000、DIC股份公司製的Epiclon830、EXA835LV、HP4032D、HP820、股份公司艾迪科(ADEKA)製的EP4100系列、EP4000系列、EPU系列、DAICEL化學股份公司製的CELLOXIDE系列(2021、2021P、2083、2085、3000等)、EPOLEAD系列、EHPE系列、新日鐵化學公司製的YD系列、YDF系列、YDCN系列、YDB系列、苯氧樹脂(為由雙酚類及表氯醇所合成之聚羥基聚醚並在兩末端具有環氧基；YP系列等)、NAGASE CHEMTEX公司製的DENACOL系列、共榮社化學公司製的Epolite系列等，惟不限於此。該等環氧基樹脂亦可併用2種以上。
(具有烷氧基之化合物及高分子)
作為分子內具有烷氧基之化合物，只要是分子內具有1個以上烷氧基者就無特別限制，可使用周知之物。此種化合物，可舉如三聚氰胺化合物、胺基樹脂、矽烷耦合劑等作為代表。
相對於組成物之總量，含烷氧基與環氧基中任一者之化合物之摻混量通常為30重量%以下，組成物中化合物的含量若過多，接著性就會降低，對落下試驗之耐衝擊性會有惡化的情形。組成物中化合物的含量以20重量%以下較佳。另一方面，從耐水性之觀點來看，組成物中，化合物宜含有2重量%以上，而含有5重量%以上較佳。
＜矽烷耦合劑＞
矽烷耦合劑可無特別限定地使用具有Si-O鍵者，具體例可舉如活性能量線硬化性之有機矽化合物、或非屬活性能量線硬化性之有機矽化合物。特別是以有機矽化合物所具之有機基的碳數為3以上為佳。作為活性能量線硬化性的化合物可舉如乙烯基三氯矽烷、乙烯基三甲氧基矽烷、乙烯基三乙氧基矽烷、2-(3,4環氧環己基)乙基三甲氧基矽烷、3-環氧丙氧基丙基三甲氧基矽烷、3-環氧丙氧基丙基甲基二乙氧基矽烷、3-環氧丙氧基丙基三乙氧基矽烷、對苯乙烯基三甲氧基矽烷、3-甲基丙烯醯氧基丙基甲基二甲氧基矽烷、3-甲基丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷、3-甲基丙烯醯氧基丙基甲基二乙氧基矽烷、3-甲基丙烯醯氧基丙基三乙氧基矽烷、3-丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷等。
適宜的是3-甲基丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷、3-丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷。
不屬於活性能量線硬化性之化合物的具體例方面，則以具有胺基之化合物為佳。具有胺基之化合物的具體例，可舉如γ-胺丙基三甲氧基矽烷、γ-胺丙基三乙氧基矽烷、γ-胺丙基三異丙氧基矽烷、γ-胺丙基甲基二甲氧基矽烷、γ-胺丙基甲基二乙氧基矽烷、γ-(2-胺乙基)胺丙基三甲氧基矽烷、γ-(2-胺乙基)胺丙基甲基二甲氧基矽烷、γ-(2-胺乙基)胺丙基三乙氧基矽烷、γ-(2-胺乙基)胺丙基甲基二乙氧基矽烷、γ-(2-胺乙基)胺丙基三異丙氧基矽烷、γ-(2-(2-胺乙基)胺乙基)胺丙基三甲氧基矽烷、γ-(6-胺己基)胺丙基三甲氧基矽烷、3-(N-乙胺基)-2-甲基丙基三甲氧基矽烷、γ-脲丙基三甲氧基矽烷、γ-脲丙基三乙氧基矽烷、N-苯基-γ-胺丙基三甲氧基矽烷、N-苄基-γ-胺丙基三甲氧基矽烷、N-乙烯基苄基-γ-胺丙基三乙氧基矽烷、N-環己基胺甲基三乙氧基矽烷、N-環己基胺甲基二乙氧基甲基矽烷、N-苯基胺甲基三甲氧基矽烷、(2-胺乙基)胺甲基三甲氧基矽烷、N,N’-雙[3-(三甲氧基矽基)丙基]乙二胺等含胺基的矽烷類；N-(1,3-二甲基亞丁基)-3-(三乙氧基矽基)-1-丙烷胺等酮亞胺(ketimine)型矽烷類。
具有胺基之化合物可僅使用1種，亦可將多種組合使用。其等之中，為了確保良好的接著性，係以γ-胺丙基三甲氧基矽烷、γ-(2-胺乙基)胺丙基三甲氧基矽烷、γ-(2-胺乙基)胺丙基甲基二甲氧基矽烷、γ-(2-胺乙基)胺丙基三乙氧基矽烷、γ-(2-胺乙基)胺丙基甲基二乙氧基矽烷、N-(1,3-二甲基亞丁基)-3-(三乙氧基矽基)-1-丙胺為佳。
上述以外非屬活性能量線硬化性的化合物之具體例，可舉如3-脲丙基三乙氧基矽烷、3-氯丙基三甲氧基矽烷、3-巰丙基甲基二甲氧基矽烷、3-巰丙基三甲氧基矽烷、雙(三乙氧基矽基丙基)四硫醚、3-異氰酸酯丙基三乙氧基矽烷、咪唑矽烷等。
相對於硬化性樹脂組成物之總量，矽烷偶合劑之摻混量以0.01~20重量%之範圍為佳，0.05~15重量%較佳，0.1~10重量%更佳。因為摻混量超過20重量%時，硬化性樹脂組成物之儲存穩定性會惡化，而低於0.1重量%時則會無法充分發揮接著耐水性之效果。
＜具乙烯基醚基之化合物＞
本發明中使用之活性能量線硬化型接著劑組成物含有具乙烯基醚基之化合物時，偏光件與接著劑層之接著耐水性會提升，故甚為理想。可獲得該效果之理由雖尚不明朗，但可推測出理由之一是由於化合物所具有之乙烯基醚基與偏光件相互作用，而提高了偏光件與接著劑層之接著力。為能使偏光件與接著劑層之接著耐水性進一步提高，化合物宜為具乙烯基醚基之活性能量線硬化型化合物。此外，相對於硬化性樹脂組成物之總量，化合物之含量以含有0.1~19重量%為佳。
＜上述以外的添加劑＞
又，本發明中使用之硬化性樹脂組成物可在不損及本發明之目的及效果的範圍內，摻混各種添加劑作為其他任意成分。作為此種添加劑，可舉如環氧樹脂、聚醯胺、聚醯胺醯亞胺、聚胺甲酸酯、聚丁二烯、聚氯丁二烯、聚醚、聚酯、苯乙烯-丁二烯嵌段共聚物、石油樹脂、二甲苯樹脂、酮樹脂、纖維素樹脂、氟系寡聚物、聚矽氧系寡聚物、聚硫醚系寡聚物等聚合物或寡聚物；啡噻嗪、2,6-二-第三丁基-4-甲基苯酚等聚合抑制劑；聚合引發助劑；調平劑；濕潤性改良劑；界面活性劑；可塑劑；紫外線吸收劑；無機填充劑；顏料；染料等。
相對於硬化性樹脂組成物之總量，上述添加劑通常為0~10重量%，並宜為0~5重量%，最佳為0~3重量%。
＜接著劑層＞
活性能量線硬化型接著劑組成物所形成之接著劑層的厚度宜為0.01~3.0μm。接著劑層的厚度過薄時，由於接著劑層之凝集力不足而導致剝離力會降低，故不佳。接著劑層的厚度過厚時，對偏光薄膜之截面施加應力時變得容易發生剝離，而會發生因衝撃所造成的剝落不良，故不佳。接著劑層的厚度以0.1~2.5μm較佳，0.5~1.5μm最佳。
＜透明保護薄膜＞
在本發明中係使用纖維素系樹脂薄膜作為透明保護薄膜。纖維素系樹脂薄膜意指含有乙酸纖維素等纖維素酯作為主成分之薄膜，可以纖維素酯單獨或視需求之纖維素酯與其他的聚合物成分作為原料，藉由譬如熔融擠製成形來製造。另，「主成分」一句表示樹脂薄膜中含有50重量%以上之纖維素酯，尤其從提升偏光薄膜之裂痕耐久性的觀點來看，透明保護薄膜宜使用含有50重量%以上之纖維素酯的纖維素系樹脂薄膜，尤宜使用含有70重量%以上之纖維素酯的纖維素系樹脂薄膜。纖維素酯宜為使天然高分子之纖維素與乙酸酐反應而將纖維素分子中所含羥基(OH-)取代成乙醯基(CH3 CO-)(乙醯基化)所得的乙醯基纖維素，且尤宜使用全部的羥基業經乙醯基化之TAC(三乙酸纖維素)。
另，在本發明亦可使用帶有相位差之纖維素系樹脂薄膜作為透明保護薄膜。此時，透明保護薄膜兼具相位差薄膜，所以可圖謀偏光薄膜之薄型化，故為適宜。帶有相位差之纖維素系樹脂薄膜亦可以纖維素酯單獨或視需求之纖維素酯與其他的聚合物成分作為原料，藉由譬如熔融擠製成形來製造。纖維素酯可藉由改變低級脂肪酸之取代基種類、低級脂肪酸之取代度來控制所得相位差薄膜的相位差值。而且，亦可為了控制相位差而使其含有相位差提升劑、相位差控制劑。上述纖維素酯可藉由任意的適當方法譬如日本特開2001-188128號公報中記載之方法製得。此外，纖維素酯市面上有許多產品，基於易入性及成本觀點亦相當有利。纖維素酯之市售物之例可舉Fujifilm公司製商品名「UV-50」、「UV-80」、「SH-80」、「TD-80U」、「TD-TAC」、「UZ-TAC」或柯尼卡公司製「KC系列」等。
上述纖維素酯含有乙醯基作為低級脂肪酸之取代基時，其乙醯基取代度宜為3以下，更宜為0.5~3，尤宜為1~3。上述纖維素酯含有丙醯基作為低級脂肪酸之取代基時，其丙醯基取代度宜為3以下，更宜為0.5~3，尤宜為1~3。而且，當上述纖維素酯為纖維素之部分羥基被乙醯基取代且另一部分被丙醯基取代的混合脂肪酸酯時，乙醯基取代度與丙醯基取代度之合計宜為1~3，更宜為2~3。此時，乙醯基取代度宜為0.5~2.5，丙醯基取代度宜為0.3~1.5。
另，乙醯基取代度(或丙醯基取代度)意指附於纖維素骨架中位在2、3、6位之碳的羥基已被乙醯基(或丙醯基)取代之數量。乙醯基(或丙醯基)可偏向或平均存在於纖維素骨架中位於2、3、6位之碳的任一者。上述乙醯基取代度可藉由ASTM-D817-91(乙酸纖維素等之試驗法)求得。並且上述丙醯基取代度可藉由ASTM-D817-96(乙酸纖維素等之試驗法)求得。
上述纖維素酯以四氫呋喃溶劑利用凝膠滲透層析(GPC)法測定之重量平均分子量(Mw)宜為30,000~500,000，更宜為50,000~400,000，最宜為80,000~300,000。重量平均分子量若為上述範圍，即可做成機械強度佳、溶解性、成形性、流鑄操作性良好之物。
又，上述纖維素酯之分子量分布(重量平均分子量Mw/數平均分子量Mn)宜為1.5~5.5，更宜為2~5。
帶有相位差之纖維素系樹脂薄膜宜滿足nx＞ny＞nz之關係。該帶有相位差之纖維素系樹脂薄膜的面內相位差通常係控制在40~300nm之範圍，厚度方向相位差通常係控制在80~320nm之範圍。更以面內相位差為40~100nm、厚度方向相位差為100~320nm為宜，Nz係數以滿足1.8~4.5者為佳。Nz係數代表上為3.5~4.5左右。藉由該帶有相位差之纖維素系樹脂薄膜，可改善斜視方向之視角特性。特別適合應用於IPS模式或VA模式之液晶顯示裝置之情況。另，Nz係數係以Nz=(nx-nz)/(nx-ny)表示(nx、ny、nz之定義與面內相位差及厚度方向相位差相同)。
前述帶有相位差之纖維素系樹脂薄膜譬如可使用滿足折射率nx＞ny＞nz之關係的雙軸性相位差薄膜(Fujifilm公司製「WVBZ4A6」、「WVBZ4E4」、柯尼卡公司製「KC4DR-1」等)。該等相位差之控制可將含纖維素酯之高分子薄膜往縱向或橫向進行單軸延伸或雙軸延伸而製得。
另，上述帶有相位差之纖維素系樹脂薄膜可為例如以利用各種波長板或液晶層之雙折射來著色或補償視角等為目的者等因應使用目的而具有適當相位差者，也可為經積層2種以上帶有相位差之纖維素系樹脂薄膜來控制相位差等光學特性者等。
透明保護薄膜中亦可含有1種以上任意且適當的添加劑。添加劑可舉如紫外線吸收劑、抗氧化劑、滑劑、塑化劑、脫模劑、抗著色劑、阻燃劑、成核劑、抗靜電劑、顏料、著色劑等。透明保護薄膜中，添加材含量宜為0~50重量%，較佳為1~50重量%，更佳為2~40重量%，特佳為3~30重量%。透明保護薄膜中添加劑之量若超過上述範圍，透明保護薄膜之高透明性等恐有無法充分顯現之虞。
本發明之偏光薄膜可為僅於偏光件之一面透過接著劑層設有透明保護薄膜者，亦可為在偏光件之兩面透過接著劑層設有透明保護薄膜者。若為前者，可使用纖維素系樹脂薄膜作為透明保護薄膜。另一方面，若為後者，就必須在偏光件之一面透過接著劑層積層纖維素系樹脂薄膜作為透明保護薄膜，不過另一面可積層纖維素系樹脂薄膜作為透明保護薄膜，或可積層纖維素系樹脂薄膜以外之樹脂薄膜作為透明保護薄膜。
纖維素系樹脂薄膜以外可使用之透明保護薄膜宜為透明性、機械強度、熱穩定性、水分阻斷性及各向同性等優異者。可舉如：聚對苯二甲酸乙二酯及聚萘二甲酸乙二酯等聚酯系聚合物；聚甲基丙烯酸甲酯等丙烯酸系聚合物；聚苯乙烯及丙烯腈-苯乙烯共聚物(AS樹脂)等苯乙烯系聚合物；以及聚碳酸酯系聚合物等。又，亦可列舉下述聚合物作為形成上述透明保護薄膜之聚合物之例：聚乙烯、聚丙烯、具有環系乃至降莰烯結構之聚烯烴、如乙烯-丙烯共聚物之聚烯烴系聚合物、氯乙烯系聚合物、尼龍及芳香族聚醯胺等醯胺系聚合物、亞胺系聚合物、碸系聚合物、聚醚碸系聚合物、聚醚醚酮系聚合物、聚伸苯硫系聚合物、乙烯醇系聚合物、氯化亞乙烯系聚合物、乙烯醇縮丁醛系聚合物、芳酯系聚合物、聚甲醛系聚合物、環氧系聚合物或上述聚合物之摻合物等。
又，作為纖維素系樹脂薄膜以外可使用之透明保護薄膜，可舉日本特開2001-343529號公報(WO01/37007)所記載之聚合物薄膜，例如一種含有(A)在側鏈具有取代及/或非取代醯亞胺基之熱可塑性樹脂、與在側鏈具有取代及/或非取代苯基以及腈基之熱可塑性樹脂的樹脂組成物。作為具體例，可舉如含有異丁烯與N-甲基順丁烯二醯亞胺所構成之交替共聚物以及丙烯腈-苯乙烯共聚物之樹脂組成物的薄膜。薄膜係可使用由樹脂組成物的混合擠製物等所構成之薄膜。該等薄膜由於相位差小、光彈性係數小，而能消除偏光薄膜應變所造成的不均等不良狀況，且因透濕度低而有優良的加濕耐久性。
透明保護薄膜之厚度可適當決定，一般而言從強度與操作性等之作業性、薄層性等之觀點來看，宜為5~100μm。尤以10~60μm為佳，13~40μm較佳。
＜偏光件＞
在本發明中，從提升裂痕耐久性的觀點來看，偏光件宜使用厚度為3μm以上且15μm以下之薄型偏光件。尤其由抑制偏光件之貫穿性裂痕產生之觀點，宜為12μm以下，更宜為10μm以下，尤宜為8μm以下。這種薄型偏光件的厚度參差少，視辨性佳且尺寸變化少，所以對熱震的耐久性優異。
偏光件係採用使用了聚乙烯醇系樹脂之物。偏光件可舉例如使聚乙烯醇系薄膜、部份縮甲醛化聚乙烯醇系薄膜、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物系部份皂化薄膜等親水性高分子薄膜吸附碘或二色性染料之二色性物質並進行單軸延伸而成者，及聚乙烯醇之脫水處理物或聚氯乙烯之脫鹽酸處理物等多烯系定向薄膜等。該等之中，又以由聚乙烯醇系薄膜與碘等二色性物質所構成之偏光件為宜。
將聚乙烯醇系薄膜以碘染色再單軸延伸而成之偏光件舉例來說可以下述方式製作：將聚乙烯醇浸漬到碘之水溶液藉此染色，再延伸到原長之3~7倍。亦可視需要浸漬於亦可含有硼酸或硫酸鋅、氯化鋅等之碘化鉀等的水溶液中。進一步亦可視需要在染色前將聚乙烯醇系薄膜浸漬於水中進行水洗。藉由水洗聚乙烯醇系薄膜，可洗淨聚乙烯醇系薄膜表面的污垢及抗結塊劑，除此以外藉由使聚乙烯醇系薄膜膨潤亦有防止染色參差等不均的效果。延伸可於以碘染色後進行，亦可一邊染色並一邊延伸，或可於延伸後以碘染色。亦可於硼酸或碘化鉀等水溶液中或水浴中進行延伸。
由延伸穩定性及加濕可靠性之觀點，偏光件宜含有硼酸。又，由抑制貫穿性裂痕產生之觀點，偏光件所含有之硼酸含量宜相對於偏光件總量為22重量%以下，更宜為20重量%以下。由延伸穩定性及加濕可靠性的觀點，硼酸含量宜相對於偏光件總量為10重量%以上，更宜為12重量%以上。
薄型偏光件代表上可舉以日本專利第4751486號說明書、日本專利第4751481號說明書、日本專利第4815544號說明書、日本專利第5048120號說明書、國際公開第2014/077599號手冊、國際公開第2014/077636號手冊等所記載之薄型偏光件或該等所記載之製造方法製得的薄型偏光件。
在包含以積層體之狀態進行延伸之步驟及染色步驟的製法中，從可以高倍率延伸並提升偏光性能的觀點來看，前述薄型偏光件以諸如日本專利第4751486號說明書、日本專利第4751481號說明書、日本專利4815544號說明書中所記載之以包含在硼酸水溶液中進行延伸之步驟的製法製得者為宜，且尤以如日本專利第4751481號說明書、日本專利4815544號說明書中所記載之以包含在硼酸水溶液中進行延伸前先輔助性地進行空中延伸之步驟的製法製得者為宜。該等薄型偏光件可藉由包含有將聚乙烯醇系樹脂(以下，也稱PVA系樹脂)層與延伸用樹脂基材在積層體的狀態下延伸的步驟與染色的步驟之製法製得。若為該製法，則即使PVA系樹脂層很薄，因其被延伸用樹脂基材支持著，故可在不因延伸造成斷裂等不良狀況下延伸。
＜易接著層＞
本發明之偏光薄膜，是透過上述活性能量線硬化型接著劑組成物之硬化物層所形成的接著劑層來貼合偏光件與透明保護薄膜，惟在透明保護薄膜與接著劑層之間可設置易接著層。易接著層可由具有例如下述骨架的各種樹脂所形成：聚酯骨架、聚醚骨架、聚碳酸酯骨架、聚胺甲酸乙酯骨架、聚矽氧系、聚醯胺骨架、聚醯亞胺骨架、聚乙烯醇骨架等。該等聚合物樹脂可單獨使用1種或組合2種以上來使用。又，亦可於形成易接著層時添加其他添加劑。具體上可使用賦黏劑、紫外線吸收劑、抗氧化劑、耐熱穩定劑等之穩定劑等。
易接著層通常是先設置於透明保護薄膜上，再藉由接著劑層將該透明保護薄膜之易接著層之側與偏光件相貼合。易接著層的形成，是經由將易接著層的形成材以習知技術塗佈在透明保護薄膜上並進行乾燥來實施。易接著層之形成材通常會考慮乾燥後之厚度、塗敷的圓滑性等進行調整做成稀釋成適當濃度之溶液。易接著層於乾燥後之厚度宜為0.01~5μm，較宜為0.02~2μm，更宜為0.05~1μm。又，易接著層可設置多層，此時亦宜使易接著層之總厚度落在上述範圍內。
又，在本發明之偏光薄膜中，亦可為下述構成：於偏光件及透明保護薄膜中之至少一貼合面形成含有特定的含硼酸基之化合物的易接著層，並透過接著劑層積層該偏光件及透明保護薄膜的構成。根據該構成，可提供一種偏光件及透明保護薄膜與接著劑層之接著性良好、且即使在結露環境下或浸漬於水中之嚴酷條件下也可持續接著力的偏光薄膜。
具體上，在偏光件及透明保護薄膜中之至少一貼合面具備下述通式(1)所示化合物：
[化學式8]

(惟，X為含反應性基之官能基，R1 及R2 分別獨立表示氫原子、可具有取代基之脂肪族烴基、芳基或雜環基)，並且通式(1)所示化合物宜夾在以下一處或兩處之間：偏光件與接著劑層之間、及透明保護薄膜與接著劑層之間。前述脂肪族烴基可舉如可具有碳數1~20的取代基之直鏈或支鏈烷基、可具有碳數3~20的取代基之環狀烷基、碳數2~20之烯基；芳基可舉如可具有碳數6~20的取代基之苯基、可具有碳數10~20的取代基之萘基等；雜環基可舉例如含有至少一個雜原子且可具有取代基之5員環或6員環的基團。該等可相互連結形成環狀。通式(1)中，作為R1 及R2 以氫原子、碳數1~3之直鏈或支鏈烷基為佳，且氫原子最佳。另，通式(1)所示化合物在偏光薄膜中可以未反應狀態中介於偏光件與接著劑層之間及/或透明保護薄膜與接著劑層之間，亦可以各官能基為經反應之狀態中介於其中。又，所謂「於偏光件及透明保護薄膜中之至少一貼合面具備通式(1)所示化合物」，意指於該貼合面存在有至少1分子例如通式(1)所示化合物。惟，為了充分提升偏光件及透明保護薄膜與接著劑層之間的接著耐水性，宜使用含有通式(1)所示化合物之易接著組成物，於該貼合面之至少一部份形成易接著層，更宜於該貼合面之整面形成易接著層。
在以下實施形態中係說明於該貼合面之至少一部分形成有易接著層之例，亦即一種偏光薄膜，其係在偏光件之至少一面透過接著劑層積層有透明保護薄膜的偏光薄膜，且於偏光件及透明保護薄膜中之至少一貼合面具備易接著層，該易接著層係使用含有前述通式(1)所示化合物之易接著組成物所形成。
通式(1)所示化合物具有之X為含有反應性基之官能基，係一可與用以構成接著劑層之硬化性成分反應之官能基，X所含有之反應性基可舉例如羥基、胺基、醛基、羧基、乙烯基、(甲基)丙烯醯基、苯乙烯基、(甲基)丙烯醯胺基、乙烯基醚基、環氧基、氧雜環丁烷基、α，β-不飽和羰基、巰基、鹵素基等。用以構成接著劑層之硬化性樹脂組成物屬活性能量線硬化性時，X所含有之反應性基宜為選自於由乙烯基、(甲基)丙烯醯基、苯乙烯基、(甲基)丙烯醯胺基、乙烯基醚基、環氧基、氧雜環丁烷基及巰基所構成群組中之至少1種反應性基；特別是用以構成接著劑層之硬化性樹脂組成物屬自由基聚合性時，X所含有之反應性基宜為選自於由(甲基)丙烯醯基、苯乙烯基及(甲基)丙烯醯胺基所構成群組中之至少1種反應性基；通式(1)所示化合物具有(甲基)丙烯醯胺基時，由於反應性高，而可提高與活性能量線硬化性樹脂組成物之共聚率，因此較為理想。又，(甲基)丙烯醯胺基之極性高，接著性優異，因此能有效率地獲得本發明效果，由此觀點而言亦適宜。用以構成接著劑層之硬化性樹脂組成物屬陽離子聚合性時，X所含有之反應性基宜具有選自於羥基、胺基、醛、羧基、乙烯基醚基、環氧基、氧雜環丁烷基、巰基中之至少1個官能基，特別是具有環氧基時，由於所得之硬化性樹脂層與被黏著體之密著性優異，故較佳；具有乙烯基醚基時，由於硬化性樹脂組成物之硬化性優良，因此較為理想。
通式(1)所示化合物的理想具體例可舉下述通式(1')所示化合物：
[化學式9]

(惟，Y為有機基，X、R1 及R2 與前述相同)。更佳可舉以下化合物(1a)~(1d)。
[化學式10]
在本發明中，通式(1)所示化合物可為反應性基與硼原子直接鍵結者，如前述具體例所示，通式(1)所示化合物宜為反應性基與硼原子透過有機基鍵結者，即通式(1’)所示化合物。通式(1)所示化合物為例如與隔著氧原子鍵結於硼原子之反應性基鍵結者時，偏光薄膜之接著耐水性有劣化的傾向。另一方面，通式(1)所示化合物不為具硼-氧鍵者，而為藉由硼原子與有機基鍵結而具有硼-碳鍵且含有反應性基者時(通式(1’)所示者)，因可提升偏光薄膜之接著耐水性，故較為理想。前述有機基具體而言意指可具有取代基之碳數1~20的有機基，更具體可舉例如可具有碳數1~20之取代基的直鏈或支鏈伸烷基、可具有碳數3~20之取代基的環狀伸烷基、可具有碳數6~20之取代基的伸苯基、可具有碳數10~20之取代基的伸萘基等。
通式(1)所示化合物除了前述舉例之化合物以外，也可舉例如羥乙基丙烯醯胺與硼酸之酯、羥甲基丙烯醯胺與硼酸之酯、羥乙基丙烯酸酯與硼酸之酯、及丙烯酸羥丁酯與硼酸之酯等(甲基)丙烯酸酯與硼酸之酯。
如前述，本發明之偏光薄膜係透過接著劑層而積層偏光件與透明保護薄膜，且該接著劑層係藉由對活性能量線硬化型接著劑組成物照射活性能量線而成之硬化物層所形成。在本發明中，特別是在活性能量線硬化型接著劑組成物含有丙烯酸系寡聚物(D)時，亦可在透明保護薄膜與接著劑層之間形成有該等層呈連續變化之相溶層。形成有該相溶層時，可提升透明保護薄膜與接著劑層之接著力。惟，令相溶層之厚度為P(μm)、組成物總量為100重量%時之丙烯酸系寡聚物(D)的含量為Q重量%時，P×Q之值宜小於10。具備該構成時，特別可提高接著劑層與透明保護薄膜之接著力，故為適宜。另一方面，若使丙烯酸系寡聚物(D)之含量高於Q重量%，則就一般而言因為丙烯酸系寡聚物(D)分子量大，於接著劑層與透明保護薄膜之間形成相溶層時，很難滲透至透明保護薄膜之側而容易偏佈在接著劑層與相溶層之界面，結果便容易形成脆弱層。由於容易因該脆弱層引發接著失效，所以宜設計成令丙烯酸系寡聚物(D)之含量為Q重量%時，至少P×Q之值小於10。而且，接著劑層與透明保護薄膜之間的相溶化若過度進展使得相溶層之厚度P(μm)變得太厚，依舊會有一部分變成脆弱層，使得接著劑層與透明保護薄膜之接著力容易降低。所以，關於相溶層之厚度P(μm)，亦宜設計成至少P×Q之值小於10。
本發明之偏光薄膜包含以下步驟：塗敷步驟，係於偏光件及透明保護薄膜之至少一面塗敷前述記載之活性能量線硬化型接著劑組成物；貼合步驟，係將偏光件及透明保護薄膜貼合；及接著步驟，係透過接著劑層使偏光件及透明保護薄膜接著，其中該接著劑層係從偏光件面側或透明保護薄膜面側照射活性能量線，使活性能量線硬化型接著劑組成物硬化而製得。
偏光件、透明保護薄膜可在塗敷步驟前進行表面改質處理。尤其宜對偏光件表面實施表面改質處理。表面改質處理可舉電暈處理、電漿處理、準分子處理及火焰處理等，且以電暈處理尤佳。藉由實施電暈處理，可在偏光件表面生成羰基或胺基等反應性官能基，而提升與硬化性樹脂層之密著性。並且，因灰化效果而可除去表面異物，減輕表面凹凸，故能作成外觀特性優異之偏光薄膜。
＜塗敷步驟＞
塗敷活性能量線硬化型接著劑組成物的方法可視組成物之黏度或所欲獲得之厚度來適當選擇，可舉例如逆向式塗佈機、凹版塗佈機(直接、逆向或間接)、棒式逆向式塗佈機、輥塗佈機、模塗機、棒塗機、桿塗機等。本發明中所使用之活性能量線硬化型接著劑組成物的黏度宜為3~100mPa・s，較佳為5~50mPa・s，最佳為10~30mPa・s。當組成物之黏度高時，塗敷後的表面平滑性貧乏而會產生外觀不良，故不佳。本發明中所使用之活性能量線硬化型接著劑組成物，可加熱或冷卻該組成物並調整為較佳範圍之黏度後再行塗佈。
＜貼合步驟＞
透過如上述塗佈後之活性能量線硬化型接著劑組成物，貼合偏光件與透明保護薄膜。偏光件與透明保護薄膜之貼合可使用輥壓積層器來進行。
＜接著步驟＞
在偏光件與透明保護薄膜貼合後，照射活性能量線(電子射線、紫外線、可見光線等)，使活性能量線硬化型接著劑組成物硬化形成接著劑層。活性能量線(電子射線、紫外線、可見光線等)之照射方向可從任意適當方向照射。較佳為從透明保護薄膜側照射。若從偏光件側進行照射，則有偏光件因活性能量線(電子射線、紫外線、可見光線等)而劣化之虞。
照射電子射線之照射條件若為可將上述使活性能量線硬化型接著劑組成物硬化之條件，即可採用任意的適當條件。例如，電子射線照射時，加速電壓宜為5kV~300kV，更宜為10kV~250kV。加速電壓低於5kV時，電子射線會無法到達接著劑而有硬化不足之虞；加速電壓超過300kV時，通過試料之滲透力會過強，而有對透明保護薄膜或偏光件造成傷害之虞。照射線量為5~100kGy，較佳為10~75kGy。照射線量低於5kGy時，接著劑會硬化不足；超過100kGy時，會對透明保護薄膜或偏光件造成傷害，使得機械強度降低或產生黃變，無法獲得預定之光學特性。
電子射線照射通常於惰性氣體中進行照射，然而，若有必要，亦可於大氣中或導入了少量氧的條件下進行。雖因透明保護薄膜的材料而定，惟藉由適當導入氧可在電子射線會一開始接觸的透明保護薄膜面上特意產生氧阻障，防止透明保護薄膜受損，並能有效率地只對接著劑照射電子射線。
製造本發明之偏光薄膜時，活性能量線以使用包含有波長範圍380nm~450nm之可見光線的射線為佳，特別是以使用波長範圍380nm~450nm之可見光線的照射量最多之活性能量線為佳。使用紫外線、可見光線時，若使用賦予了紫外線吸收能之透明保護薄膜(紫外線不穿透型透明保護薄膜)時，因會吸收波長比約380nm短之光，波長比380nm短之光無法到達活性能量線硬化性樹脂組成物，對其聚合反應沒有幫助。此外，被透明保護薄膜吸收之波長比380nm短之光會轉換成熱能，使透明保護薄膜本身發熱，而造成偏光薄膜產生卷曲、皺紋等不良之原因。因此，本發明中採用紫外線、可見光線時，以使用不發出波長比380nm短之光的裝置作為活性能量線產生裝置為佳，更具體來說，以波長範圍380~440nm之積算照度與波長範圍250~370nm之積算照度的比為100:0至100:50為佳，較佳為100:0至100:40。製造本發明之偏光薄膜時，宜為充有鎵之金屬鹵素燈、發出波長範圍380~440nm之LED光源。或者，可使用低壓水銀燈、中壓水銀燈、高壓水銀燈、超高壓水銀燈、白熱燈泡、氙燈、鹵素燈、碳弧燈、金屬鹵素燈、螢光燈、鎢絲燈、鎵燈、準分子雷射或太陽光等包含紫外線與可見光線之光源，亦可用帶通濾波器遮蔽波長比380nm短之紫外線來使用。為了提高偏光件與透明保護薄膜之間之接著劑層的接著性能，同時防止偏光薄膜卷曲，宜使用充有鎵之金屬鹵素燈並透過可遮蔽波長比380nm短之光的帶通濾波器而得到的活性能量線、或使用LED光源而得到之波長405nm的活性能量線。
在照射紫外線或可見光線之前將活性能量線硬化型接著劑組成物加溫(照射前加溫)亦適宜，此時以加溫至40℃以上為佳，加溫至50℃以上較佳。此外，在照射紫外線或可見光線之後將活性能量線硬化型接著劑組成物加溫(照射後加溫)亦適宜，此時以加溫至40℃以上為佳，加溫至50℃以上較佳。
本發明中使用之活性能量線硬化型接著劑組成物尤其可適用於形成可將偏光件與波長365nm之透光率低於5%之透明保護薄膜接著的接著劑層。此時，本發明之活性能量線硬化性樹脂組成物藉由含有上述通式(2)之光聚合引發劑，隔著具有UV吸收能之透明保護薄膜照射紫外線時，能夠硬化形成接著劑層。因此，即便對在偏光件兩面積層了具有UV吸收能之透明保護薄膜的偏光薄膜，亦可使接著劑層硬化。而理所當然，對積層了不具有UV吸收能之透明保護薄膜而成的偏光薄膜，亦可使接著劑層硬化。此外，所謂具有UV吸收能之透明保護薄膜，意指對於380nm之光的穿透率低於10%的透明保護薄膜。
作為對透明保護薄膜賦予UV吸收能之方法，可舉如使紫外線吸收劑含於透明保護薄膜中之方法、與在透明保護薄膜表面積層含有紫外線吸收劑之表面處理層之方法。
作為紫外線吸收劑之具體例，可舉例如周知之氧二苯基酮系化合物、苯并三唑系化合物、柳酸酯系化合物、二苯基酮系化合物、氰基丙烯酸酯系化合物、鎳錯合鹽系化合物、三系化合物等。
本發明之偏光薄膜在連續生產線上製造時，生產線速度依據硬化性樹脂組成物之硬化時間而定，惟以1~500m/min為佳，並以5~300m/min較佳，10~100m/min更佳。生產線速度過低時，會缺乏生產性，或對透明保護薄膜造成過大傷害，而無法製作出可承受耐久性試驗等的偏光薄膜。生產線速度過大時，硬化性樹脂組成物的硬化會不足，而有無法獲得作為目的之接著性的情況。
在本發明之偏光薄膜之製造方法，亦可在塗敷步驟前設易接著處理步驟，其係於偏光件及透明保護薄膜中之至少一貼合面形成含有特定的含硼酸基之化合物的易接著層。具體上為下述製造方法；
可藉由一種偏光薄膜之製造方法來製造，該製造方法係於偏光件之至少一面透過接著劑層積層有透明保護薄膜的偏光薄膜之製造方法，包含：易接著處理步驟，係使前述通式(1)所示化合物且較宜為通式(1')所示化合物附著於偏光件及透明保護薄膜中之至少一貼合面；塗敷步驟，係於偏光件及透明保護薄膜中之至少一貼合面塗敷硬化性樹脂組成物；貼合步驟，係將偏光件及透明保護薄膜貼合；及接著步驟，係透過接著劑層使偏光件及透明保護薄膜接著，其中該接著劑層係從偏光件面側或透明保護薄膜面側照射活性能量線，使硬化性樹脂組成物硬化而製得。
＜易接著處理步驟＞
於偏光件及透明保護薄膜中之至少一貼合面，使用含有通式(1)所示化合物之易接著組成物來形成易接著層之方法，可舉例如：製造含有通式(1)所示化合物之易接著組成物(A)，並將其塗佈於偏光件及透明保護薄膜中之至少一貼合面等來形成之方法。易接著組成物(A)中，除了通式(1)所示化合物以外亦可含有之物可舉例如溶劑及添加劑等。
易接著組成物(A)含有溶劑時，可於偏光件及透明保護薄膜中之至少一貼合面塗佈組成物(A)，並視需要進行乾燥步驟或硬化處理(熱處理等)。
易接著組成物(A)可含有之溶劑，宜為可使通式(1)所示化合物穩定化並使其溶解或分散者。所述溶劑可使用有機溶劑、水、或該等之混合溶劑。前述溶劑可選自以下，例如：乙酸乙酯、乙酸丁酯、乙酸2-羥乙酯等酯類；甲基乙基酮、丙酮、環己酮、甲基異丁基酮、二乙酮、甲基-正丙酮、乙醯丙酮等酮類；四氫呋喃(THF)、二㗁烷等環狀醚類；正己烷、環己烷等脂肪族或脂環族烴類；甲苯、二甲苯等芳香族烴類；甲醇、乙醇、正丙醇、異丙醇、環己醇等脂肪族或脂環族醇類；乙二醇單甲基醚、乙二醇單乙基醚、二乙二醇單乙基醚等甘醇醚類；二乙二醇單甲基醚乙酸酯、二乙二醇單乙基醚乙酸酯等甘醇醚乙酸酯類等。
易接著組成物(A)可含有之添加劑，可舉例如界面活性劑、塑化劑、增黏劑、低分子量聚合物、聚合性單體、表面潤滑劑、調平劑、抗氧化劑、防腐劑、光穩定劑、紫外線吸收劑、聚合抑制劑、矽烷偶合劑、鈦酸酯耦合劑、無機或有機填充劑、金屬粉、粒狀、箔狀物等。
另，易接著組成物(A)含有聚合引發劑時，在積層接著劑層之前，於易接著層中會有通式(1)所示化合物反應的情形，而有無法充分獲得原本所欲獲得之提升偏光薄膜之接著耐水性效果的情況。因此，易接著層中聚合引發劑含量以低於2重量%為佳，低於0.5重量%為佳，不含聚合引發劑尤佳。
易接著層中通式(1)所示化合物含量若過少，存在於易接著層表面之通式(1)所示化合物的比率會降低，而有易接著效果減低的情形。因此，易接著層中通式(1)所示化合物含量以1重量%以上為佳，20重量%以上較佳，40重量%以上更佳。
關於使用前述易接著組成物(A)於偏光件上形成易接著層之方法，可適當使用將偏光件直接浸漬於組成物(A)之處理浴中的方法或公知之塗佈方法。前述塗佈方法具體可舉例如輥塗佈、凹版塗佈、逆塗佈、輥刷、噴塗佈、空氣刮刀塗佈、淋幕式塗佈法，惟不限於此。
在本發明中，偏光件所具備之易接著層的厚度過厚時，易接著層的凝集力會降低，而有易接著效果減低的情形。因此，易接著層的厚度以2000nm以下為佳，1000nm以下較佳，500nm以下更佳。另一方面，為使易接著層充分發揮效果，其厚度之最下限可舉如至少需為通式(1)所示化合物之單分子膜的厚度，以1nm以上為佳，2nm以上較佳，3nm以上更佳。
＜光學薄膜＞
本發明之偏光薄膜在實際使用時，可作成與其他光學層積層而成之光學薄膜來使用。關於其光學層並無特別限定，可舉如相位差薄膜(包含1/2或1/4等之波長板)、視覺補償薄膜、亮度提升薄膜、反射板或半透射板等能成為可用於形成液晶顯示裝置等的光學層。該等光學層在本發明中可作為附易接著層之基材薄膜之基材薄膜使用，並且可視需求藉由施行表面改質處理而具有羥基、羰基或胺基等反應性官能基。因此，於表面至少含有反應性官能基之相位差薄膜的至少一面具備前述通式(1)所示化合物的易接著處理相位差薄膜，特別是形成有含有前述通式(1)所示化合物之易接著層的附易接著層之相位差薄膜等，可提升相位差薄膜等與接著劑層之密著性，其結果能格外提升接著性，故為適宜。
作為前述相位差薄膜，可使用具有正面相位差為40nm以上及/或厚度方向相位差為80nm以上之相位差的相位差薄膜。正面相位差通常係控制在40~200nm之範圍，厚度方向相位差通常係控制在80~300nm之範圍。
作為相位差薄膜，可舉如將高分子素材進行單軸或雙軸延伸處理而成之雙折射性薄膜、液晶聚合物之定向薄膜、以薄膜支持液晶聚合物之定向層者等。相位差薄膜之厚度也並無特別限制，一般為20~150μm左右。
作為相位差薄膜，亦可使用滿足下述式(1)至(3)之逆波長分散型相位差薄膜：
0.70＜Re[450]/Re[550]＜0.97…(1)
1.5×10-3＜Δn＜6×10-3…(2)
1.13＜NZ＜1.50…(3)
(式中，Re[450]及Re[550]分別係在23℃下以波長450nm及550nm之光測定所得之相位差薄膜的面內相位差值；Δn係分別將相位差薄膜之慢軸方向、快軸方向之折射率設為nx、ny時nx-ny的面內雙折射；NZ係令nz為相位差薄膜之厚度方向的折射率時，厚度方向雙折射之nx-nz與面內雙折射之nx-ny的比)。
在前述偏光薄膜、或積層有至少1層偏光薄膜之光學薄膜上，亦可設置用於與液晶單元等其他構件接著之黏著層。形成黏著層之黏著劑並無特別限制，可適當選擇並使用例如丙烯酸系聚合物、聚矽氧系聚合物、聚酯、聚胺甲酸酯、聚醯胺、聚醚、氟系或橡膠系等聚合物作為基底聚合物者。尤佳的是可使用如同丙烯酸系黏著劑般具優異光學透明性、可展現適度濡濕性、凝聚性與接著性等之黏著特性並且具有優異耐候性及耐熱性等之物。
黏著層可以不同組成或種類等之層的重疊層形式設置於偏光薄膜、光學薄膜之單面或兩面。又，在設置於兩面之情形下，於偏光薄膜或光學薄膜之表背亦可作成組成或種類或厚度等相異的黏著層。黏著層之厚度可因應使用目的與接著力等來作適宜決定，一般為1~500μm，宜為1~200μm，尤宜為1~100μm。
對於黏著層之露出面，在供實際使用為止之間，為了防止其受污染，可用分離件暫時貼附並覆蓋。藉此，可防止在一般操作狀態下接觸到黏著層。作為分離件，除了上述厚度條件外，可使用依循習知之適宜物品，例如可使用將塑膠薄膜、橡膠薄片、紙、布、不織布、網、發泡薄片或金屬箔、及該等之積層體等適宜的薄片物因應需要以聚矽氧系或長鏈烷系、氟系或硫化鉬等適宜的剝離劑進行塗佈處理而成者。
＜影像顯示裝置＞
本發明之偏光薄膜或光學薄膜，可適宜使用在液晶顯示裝置等各種裝置的形成等等。液晶顯示裝置的形成可依循習知來進行。即，液晶顯示裝置一般是藉由將液晶單元與偏光薄膜或光學薄膜及因應需求的照明系統等構成零件適當組裝並安裝驅動電路等而形成，在本發明中，除使用本發明之偏光薄膜或光學薄膜此點以外無特別限定，可依習知為準。關於液晶單元，可使用譬如TN型或STN型、π型等任意型式。
可形成液晶單元之單側或兩側配置有偏光薄膜或光學薄膜而成的液晶顯示裝置、或是使用了背光或反射板作為照明系統等適當的液晶顯示裝置。此時，本發明之偏光薄膜或光學薄膜可配置於液晶單元之單側或兩側。於兩側配置偏光薄膜或光學薄膜時，其等可為相同者，亦可為相異者。此外，於形成液晶顯示裝置時，可在適當位置上配置1層或2層以上之諸如擴散板、防眩層、抗反射膜、保護板、稜鏡陣列、透鏡陣列片、光擴散板、背光等適當零件。
實施例
以下記載本發明之實施例，惟本發明之實施形態不受限於此。
＜製作薄型偏光件1＞
將平均聚合度2400、皂化度99.9莫耳%之厚度30μm的聚乙烯醇薄膜浸漬在30℃溫水中60秒使其膨潤。接著，浸漬於碘/碘化鉀(重量比=0.5/8)濃度0.3%之水溶液中，一邊使其延伸到3.5倍一邊將薄膜染色。其後，在65℃之硼酸酯水溶液中進行延伸，以使總延伸倍率成為6倍。延伸後，以40℃烘箱進行3分鐘的乾燥，獲得PVA系薄型偏光件(厚度12μm)。
＜製作薄型偏光件2＞
首先將非晶性PET基材上成膜有厚9μm之PVA層的積層體，在延伸溫度130℃下利用空中輔助延伸生成延伸積層體，接著將延伸積層體利用染色生成著色積層體後，在延伸溫度65度下利用硼酸水中延伸將著色積層體與非晶性PET基材一體地進行延伸，以使總延伸倍率成為5.94倍，而生成出包含厚5μm之PVA層的光學薄膜積層體。而可獲得包含用以構成薄型偏光件2之厚度5μm之PVA層的光學薄膜積層體，該光學薄膜積層體之成膜於非晶性PET基材之PVA層的PVA分子經所述2段延伸而高度配向，且藉染色而吸附的碘以多碘離子錯合物之形式於一方向高度配向。
＜透明保護薄膜＞
三乙酸纖維素薄膜
使用厚度25μm者(商品名：TJ25UL，Fujifilm公司製)作為「TAC1」，厚度40μm者(商品名：TJ40ULF，Fujifilm公司製)作為「TAC2」，厚度60μm者作為(商品名：TG60ULS，Fujifilm公司製)「TAC3」。
帶有相位差之三乙酸纖維素薄膜
使用厚度41μm者(商品名：WVBZ4E4，Fujifilm公司製)作為「TAC4」。
丙烯酸薄膜
使用厚度40μm者(商品名：HX-40UC，東洋鋼鈑公司製)作為「ACRYL」。
環烯烴薄膜
使用厚度13μm者(商品名：ZF14-013、日本ZEON公司製)作為「COP1」，厚度25μm者(商品名：ZF14-025，日本ZEON公司製)作為「COP2」。
＜活性能量線＞活性能量線係使用可見光線(充有鎵之金屬鹵素燈)，照射裝置：Fusion UV Systems, Inc公司製的Light HAMMER10，燈泡：V燈泡，峰照度：1600mW/cm2 ，累積照射量1000/mJ/cm2 (波長380~440nm)。
此外，可見光線之照度係使用Solatell公司製Sola-Check系統來測得。
(活性能量線硬化型接著劑組成物的調整)
實施例1~10、比較例1~5
根據表2中記載之摻混表，將以下所示各成分混合後在50℃下攪拌1小時，而獲得在實施例1~10、比較例1~5中使用之活性能量線硬化型接著劑組成物。表中之數值表示將組成物總量設為100重量%時之重量%。
(1)活性能量線硬化型化合物(A)(以下亦僅稱為「成分A」)
HEAA(羥乙基丙烯醯胺)，SP值29.5，丙烯醯基當量115.15，商品名「HEAA」興人公司製
(2)活性能量線硬化型化合物(B)(以下亦僅稱為「成分B」)
1,9NDA(1,9-壬二醇二丙烯酸酯)，SP值19.2，丙烯醯基當量134，商品名「LIGHT ACRYLATE 1.9ND-A」，共榮社化學公司製
DCP-A(三環癸烷二甲醇二丙烯酸酯)，SP值20.3，丙烯醯基當量152.19，商品名「LIGHT ACRYLATE DCP-A」，共榮社化學公司製
HPPA(羥基三甲基乙酸新戊二醇丙烯酸酯加成物)，SP值19.6，丙烯醯基當量156.18，商品名「LIGHT ACRYLATE HPP-A」，共榮社化學公司製
P2H-A(苯氧基二乙二醇丙烯酸酯)，SP值20.4，丙烯醯基當量236.26，商品名「LIGHT ACRYLATE P2H-A」，共榮社化學公司製
(3)活性能量線硬化型化合物(C)(以下亦僅稱為「成分C」)
ACMO(丙烯醯嗎啉)，SP值22.9，丙烯醯基當量141.17，商品名「ACMO」，興人公司製
4HBA(丙烯酸4-羥丁酯)，SP值23.8，丙烯醯基當量144.2，大阪有機化學工業公司製；
M-5700：2-羥-3-苯氧丙基丙烯酸酯，SP值24.4，丙烯醯基當量222.24，商品名「ARONIX M-5700」，東亞合成公司製
(4)(甲基)丙烯酸單體聚合而成之丙烯酸系寡聚物(D)(以下亦僅稱為「成分D」)
UP1190，商品名「ARUFON UP1190」，東亞合成公司製
(5)含硼酸基之化合物(通式(1)中記載之化合物)
4-乙烯基苯基硼酸，丙烯醯基當量180.2
(6)具有奪氫作用之自由基聚合引發劑
KAYACURE DETX-S(二乙基9-氧硫𠮿，通式(2)中記載之化合物)，商品名「KAYACURE DETX-S」，日本化藥公司製
(7)光聚合引發劑
IRGACURE907(2-甲基-1-(4-甲硫基苯基)-2-啉丙-1-酮，通式(3)中記載之化合物)，商品名「IRGACURE907」，BASF公司製
(製作偏光薄膜)實施例1使用線棒(第一理化股份有限公司製，No.2)，於薄型偏光件1之貼合面塗佈異丙醇中含有0.3重量%之4-乙烯基苯基硼酸的易接著組成物，並在60℃下使其風乾燥1分鐘去除溶劑，製作出於單面具備易接著層的薄型偏光件1。接著，使用MCD塗佈機(富士機械公司製)(單元形狀：蜂巢狀，凹版輥筒線數：1000條/inch，轉速140%/相對生產線速度)，於透明保護薄膜之貼合面將依表1中記載之摻混量進行調整的活性能量線硬化型接著劑組成物塗敷成厚度0.7μm後，用輥軋機貼合於上述薄型偏光件1之易接著層形成面。其後，從經貼合之透明保護薄膜側用活性能量線照射裝置照射上述可見光線使活性能量線硬化型接著劑硬化後，在70℃下經3分鐘熱風乾燥，而獲得於單面具備透明保護薄膜且具有薄型偏光件1的偏光薄膜。貼合之生產線速度是在25m/min下進行。
(製作偏光薄膜)實施例2~10、比較例1~5
使用線棒(第一理化股份有限公司製，No.2)，於具備薄型偏光件2之光學薄膜積層體的薄型偏光件2之表面，塗佈異丙醇中含有0.3重量%之4-乙烯基苯基硼酸的易接著組成物，並在60℃下經1分鐘風乾燥去除溶劑，而製出附易接著層之偏光件。接著，使用MCD塗佈機(富士機械公司製)(單元形狀：蜂巢狀，凹版輥筒線數：1000條/inch，轉速140%/相對生產線速度)，於透明保護薄膜之貼合面將依表2中記載之摻混量進行調整的活性能量線硬化型接著劑組成物塗敷成厚度0.7μm後，用輥軋機貼合至附易接著層之偏光件。其後，從經貼合之透明保護薄膜側用活性能量線照射裝置照射上述可見光線使活性能量線硬化型接著劑硬化後，在70℃下進行3分鐘熱風乾燥。然後剝離非晶性PET基材而獲得具有薄型偏光膜之偏光薄膜。貼合之生產線速度是在25m/min下進行。
＜測定相溶層之厚度＞
為了觀察薄膜截面，利用穿透式電子顯微鏡(TEM)(日立製作所製，製品名「H-7650」)，以加速電壓100kV觀察以超薄切片法製出的試驗片並拍攝TEM照片，確認相溶層之存在並計測其厚度。
＜裂痕評估：熱震試驗＞
於實施例及比較例中所得之偏光薄膜的透明保護薄膜側設置黏著劑層，調製出附黏著劑層之偏光薄膜。用CO2 雷射(COMNET Inc.製，製品名：Laser Pro-SPIRIT)，將附黏著劑層之偏光薄膜裁切成圖1之形狀(50mm×150mm之長方形的一長邊側向內側凹14°度角的形狀(吸收軸方向為50mm))。將上述預定形狀之附黏著劑層之偏光薄膜1貼合於0.5mm厚的無鹼剝離而製作出樣本。將該樣本投入-40~85℃之熱震進行各30分鐘×200次之環境下後，確認圖1中所示附黏著劑層之偏光薄膜1的A部分(附黏著劑層之偏光薄膜1的一長邊側變成V字型的部分)有無發生貫穿性裂痕。將該試驗進行10次，有產生裂痕之情況評估為×，未產生裂痕之情況評估為〇。CO2 雷射之照射條件如下。
(照射條件)
波長：10.6μm
雷射輸出：30W
振盪模式：脈衝振盪
雷射光直徑：70μm雷射照射面：保護薄膜側
＜偏光薄膜之光學耐久性＞
使用附積分球之分光透射率測定器(村上色彩技術研究所之Dot-3c)測定所製造之偏光薄膜的透射率及偏光度。
另，偏光度P係將2片相同之偏光薄膜以兩者之透射軸平行重疊時的透射率(平行透射率：Tp)及以兩者之透射軸正交重疊時的透射率(正交透射率：Tc)套用至下式而求得。偏光度P(%)={(Tp-Tc)/(Tp＋Tc)}1/2 ×100
各透射率是將透過格蘭泰勒(Glan-Taylor)稜鏡偏光件所得完全偏振設為100%，並藉由JIS Z8701之2度視野(C光源)進行光視效能校正所得Y值表示。
對偏光薄膜之偏光膜面施行電暈處理後貼合厚度20μm之丙烯酸系黏著劑，並於丙烯酸系黏著劑之另一面貼合無鹼剝離後，測定上述所定義之偏光度P及透射率的初始值。接著，將該附玻璃之偏光薄膜投入65℃90%RH之環境下250小時後，測定附玻璃之偏光薄膜歷時後之偏光度P及透射率。從歷時後之偏光度P減去初始偏光度P所得之數值視為偏光度變化(Δ偏光度P)，從歷時後之透射率減去初始透射率所得之數值則視為透射率變化(Δ透射率)。關於Δ透射率，若為1.3以下，光學耐久性即佳；超過1.3時，則表示光學耐久性變差。另，關於Δ偏光度P，若為-0.1以內，光學耐久性即佳；若為-0.1以下，則表示光學耐久性變差。
＜接著力＞
將偏光薄膜切出與偏光件之延伸方向平行為200mm、直行方向為15mm的大小，並將偏光薄膜貼合於玻璃板。接著在保護薄膜與偏光件之間用美工刀劃下切痕，並以萬能試驗機(TENSILON)，於剝離速度1000mm/min下往90度方向剝離保護薄膜與偏光件，測定其剝離強度(N/15mm)。剝離強度超過1.3(N/15mm)時，表示接著力優異；剝離強度為1.0~1.3(N/mm)時，表示接著力為實用程度；剝離強度低於1.0(N/mm)，則表示接著力差。
[表2]
1‧‧‧附黏著劑層之偏光薄膜
A‧‧‧附黏著劑層之偏光薄膜的一長邊側變成V字型的部分
圖1係實施裂痕評估試驗後的附黏著劑層之偏光薄膜的概略圖。

Claims (21)

  1. 一種偏光薄膜，係於偏光件之至少一面透過接著劑層設置有透明保護薄膜者，其特徵在於： 前述透明保護薄膜為纖維素系樹脂薄膜； 前述接著劑層係由硬化物層所形成，該硬化物層係對活性能量線硬化型接著劑組成物照射活性能量線而成； 前述活性能量線硬化型接著劑組成物在令組成物總量為100重量%時，含有：0.0~4.0重量%之SP值為29.0(MJ/m3 )1/2 以上且32.0(MJ/m3 )1/2 以下的活性能量線硬化型化合物(A)、5.0~98.0重量%之SP值為18.0(MJ/m3 )1/2 以上且低於21.0(MJ/m3 )1/2 的活性能量線硬化型化合物(B)、及5.0~98.0重量%之SP值為21.0(MJ/m3 )1/2 以上且26.0(MJ/m3 )1/2 以下的活性能量線硬化型化合物(C)。
  2. 如請求項1之偏光薄膜，其中前述偏光件之厚度為3μm以上且15μm以下。
  3. 如請求項1或2之偏光薄膜，其中前述活性能量線硬化型接著劑組成物在令組成物總量為100重量%時，含有20~80重量%之前述活性能量線硬化型化合物(B)。
  4. 如請求項1至3中任一項之偏光薄膜，其中前述活性能量線硬化型接著劑組成物含有(甲基)丙烯酸單體聚合而成的丙烯酸系寡聚物(D)。
  5. 如請求項1至4中任一項之偏光薄膜，其中前述活性能量線硬化型接著劑組成物之以下述式(1)表示的丙烯醯基當量Cae 為140以上； Cae =1/Σ(WN /Nae )…(1)； 前述式(1)中，WN 為組成物中之活性能量線硬化型化合物N的質量分率，Nae 為活性能量線硬化型化合物N的丙烯醯基當量。
  6. 如請求項1至5中任一項之偏光薄膜，其中前述活性能量線硬化型接著劑組成物含有具有奪氫作用的自由基聚合引發劑。
  7. 如請求項6之偏光薄膜，其中前述自由基聚合引發劑為9-氧硫𠮿系自由基聚合引發劑。
  8. 如請求項1至7中任一項之偏光薄膜，其中前述活性能量線硬化型接著劑組成物係含有丙烯酸系寡聚物(D)者；並且 該偏光薄膜在前述透明保護薄膜與前述接著劑層之間形成有該等組成呈連續變化之相溶層，且 令前述相溶層之厚度為P(μm)、組成物總量為100重量%時之前述丙烯酸系寡聚物(D)的含量為Q重量%時，P×Q之值小於10。
  9. 如請求項1至8中任一項之偏光薄膜，其中在前述偏光件及前述透明保護薄膜中之至少一貼合面具備下述通式(1)所示化合物： [化學式1] (惟，X為含有反應性基之官能基，R1 及R2 分別獨立表示氫原子、可具有取代基之脂肪族烴基、芳基或雜環基)； 前述通式(1)所示化合物係夾在以下一處或兩處之間：前述偏光件與前述接著劑層之間、及前述透明保護薄膜與前述接著劑層之間。
  10. 如請求項9之偏光薄膜，其中前述通式(1)所示化合物係下述通式(1')所示化合物： [化學式2] (惟，Y為有機基，X、R1 及R2 與前述相同)。
  11. 如請求項9或10之偏光薄膜，其中在前述偏光件之貼合面具備前述通式(1)所示化合物。
  12. 如請求項9至11中任一項之偏光薄膜，其中前述通式(1)所示化合物具有之反應性基係選自於由α,β-不飽和羰基、乙烯基、乙烯基醚基、環氧基、氧雜環丁烷基、胺基、醛基、巰基、鹵素基所構成群組中之至少1種反應性基。
  13. 一種偏光薄膜之製造方法，其特徵在於包含以下步驟： 塗敷步驟，係於偏光件及透明保護薄膜中之至少一面塗敷活性能量線硬化型接著劑組成物； 貼合步驟，係貼合前述偏光件與前述透明保護薄膜；及 接著步驟，係透過接著劑層使前述偏光件與前述透明保護薄膜接著，其中該接著劑層係從前述偏光件面側或前述透明保護薄膜面側照射活性能量線，使前述活性能量線硬化型接著劑組成物硬化而製得；且前述透明保護薄膜為纖維素系樹脂薄膜； 前述活性能量線硬化型接著劑組成物在令組成物總量為100重量%時，含有：0.0~4.0重量%之SP值為29.0(MJ/m3 )1/2 以上且32.0(MJ/m3 )1/2 以下的活性能量線硬化型化合物(A)、5.0~98.0重量%之SP值為18.0(MJ/m3 )1/2 以上且低於21.0(MJ/m3 )1/2 的活性能量線硬化型化合物(B)、及5.0~98.0重量%之SP值為21.0(MJ/m3 )1/2 以上且26.0(MJ/m3 )1/2 以下的活性能量線硬化型化合物(C)。
  14. 如請求項13之偏光薄膜之製造方法，其中前述偏光件之厚度為3μm以上且15μm以下。
  15. 如請求項13或14之偏光薄膜之製造方法，其包含易接著處理步驟，該易接著處理步驟係使下述通式(1)所示化合物附著於前述偏光件及前述透明保護薄膜中之至少一貼合面上： [化學式3] (惟，X為含有反應性基之官能基，R1 及R2 分別獨立表示氫原子、可具有取代基之脂肪族烴基、芳基或雜環基)。
  16. 如請求項13至15中任一項之偏光薄膜之製造方法，其中前述通式(1)所示化合物係下述通式(1')所示化合物： [化學式4] (惟，Y為有機基，X、R1 及R2 與前述相同)。
  17. 如請求項13至16中任一項之偏光薄膜之製造方法，其中在前述塗敷步驟前對前述偏光件及前述透明保護薄膜中之至少一貼合側之面進行電暈處理、電漿處理、準分子處理或火焰處理。
  18. 如請求項13至17中任一項之偏光薄膜之製造方法，其中前述活性能量線係包含波長範圍為380~450nm之可見光線者。
  19. 如請求項13至18中任一項之偏光薄膜之製造方法，其中前述活性能量線在波長範圍380~440nm之累積照度與在波長範圍250~370nm之累積照度之比為100：0~100：50。
  20. 一種光學薄膜，其特徵在於：積層有至少一層如請求項1至12中任一項之偏光薄膜。
  21. 一種影像顯示裝置，其特徵在於：使用有如請求項1至12中任一項之偏光薄膜、及/或如請求項20之光學薄膜。
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