TWI813770B - 偏光薄膜之製造方法、附易接著層之偏光件、偏光薄膜、光學薄膜及影像顯示裝置 - Google Patents

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Abstract

本發明提供一種偏光薄膜之製造方法，該偏光薄膜係於偏光件之至少一面隔著接著劑層設有透明保護薄膜者，該偏光薄膜之製造方法之特徵在於：其具有塗敷步驟，該步驟係於偏光件的接著劑層形成面側塗敷易接著組成物；並且，易接著組成物含有：特定含硼化合物；以及，沸點為85℃以上的有機溶劑及沸點為85℃以上的具有聚合性基之單體中之任一者或兩者。

Description

偏光薄膜之製造方法、附易接著層之偏光件、偏光薄膜、光學薄膜及影像顯示裝置
本發明涉及偏光薄膜之製造方法、附易接著層之偏光件及偏光薄膜，該偏光薄膜係於偏光件之至少一面隔著接著劑層設有透明保護薄膜者。該偏光薄膜可單獨或是以將其積層為光學薄膜的形式來形成液晶顯示裝置(LCD)、有機EL顯示裝置、CRT、PDP等影像顯示裝置。
發明背景 液晶顯示裝置於時鐘、行動電話、PDA、筆記型電腦、電腦用螢幕、DVD播放器及TV等上的市場急速擴張。液晶顯示裝置是經由液晶之切換(Switching)使偏光狀態可視化，基於其顯示原理會使用偏光件。特別是在TV等用途上益趨追求高亮度、高對比、廣視角，從而益趨追求偏光薄膜之高透射率、高偏光度、高度色再現性等。
作為偏光件，由具有高透射率、高偏光度來看，碘系偏光件最普遍廣為使用，該碘系偏光件之結構為例如使聚乙烯醇(以下亦僅稱「PVA」)吸附碘並延伸而成。一般而言偏光薄膜是使用藉由所謂水系接著劑在偏光件兩面貼合透明保護薄膜而成之物，該水系接著劑是將聚乙烯醇系材料溶於水而成者(下述專利文獻1)。透明保護薄膜是使用透濕度高的三乙醯纖維素等。使用前述水系接著劑時(即所謂濕式積層)，在將偏光件與透明保護薄膜貼合後需要進行乾燥步驟。
另一方面，已提出一種活性能量射線硬化性接著劑來取代前述水系接著劑。使用活性能量射線硬化性接著劑製造偏光薄膜時，不需乾燥步驟，故可提升偏光薄膜之生產性。例如，本發明人等已提出使用N-取代醯胺系單體作為硬化性成分的自由基聚合型活性能量射線硬化性接著劑(下述專利文獻2)。
先前技術文獻 專利文獻 專利文獻1：日本特開2001-296427號公報 專利文獻2：日本特開2012-052000號公報
發明概要 發明欲解決之課題 使用專利文獻2所記載之活性能量射線硬化性接著劑形成的接著劑層，可完全通過關於譬如於60℃的溫水中浸漬6小時後評估有無褪色、剝落之耐水性試驗。然而，近年來對於偏光薄膜用接著劑逐漸要求更進一步提升耐水性至可通過例如以下更加嚴苛的耐水性試驗的程度：於水中浸漬(飽和)後進行剝掀端部時評估有無剝落。因此，連同專利文獻2所記載的利用活性能量射線硬化性接著劑之偏光薄膜在內，就迄今提出之偏光薄膜而言，其實際情況是在耐水接著性這點上仍有進一步改良的空間。
又，近年出於生產步驟高速化、減少製程不良等觀點，係要求例如在將易接著組成物或接著劑組成物塗敷至基材時，提升其塗敷性。惟，實際上至今並無關於提升偏光薄膜的耐水接著性同時在塗敷易接著組成物或接著劑組成物時提升其塗敷性的製造方法之報告例。
本發明是有鑑於上述實情而開發者，目的在於提供一種偏光薄膜之製造方法，該偏光薄膜可在為了提升偏光薄膜的耐水接著性而於偏光件的接著劑層形成面側塗敷易接著組成物時，提升其塗敷性。
並且，目的還在於提供成為耐水接著性經提升的偏光薄膜之材料的附易接著層之偏光件、偏光薄膜、光學薄膜及影像顯示裝置。
用以解決課題之手段 上述課題可藉由下述構成解決。亦即，本發明涉及一種偏光薄膜之製造方法，該偏光薄膜係於偏光件之至少一面隔著接著劑層設有透明保護薄膜者，該偏光薄膜之製造方法之特徵在於：其具有塗敷步驟，該步驟係於前述偏光件的接著劑層形成面側塗敷易接著組成物；並且，前述易接著組成物含有： 下述通式(1)所示化合物： [化學式1] (惟，X為含有反應性基之官能基，R1 及R2 分別獨立表示氫原子、可具有取代基之脂肪族烴基、芳基或雜環基)；以及， 沸點為85℃以上的有機溶劑及沸點為85℃以上的具有聚合性基之單體中之任一者或兩者。此外，本發明中，亦將前述通式(1)記載之化合物稱為「含硼化合物」。
在上述偏光薄膜之製造方法中，前述通式(1)所示化合物宜為下述通式(1')所示化合物： [化學式2] (惟，Y為有機基，X、R1 及R2 與前述相同)。
在上述偏光薄膜之製造方法中，前述通式(1)所示化合物具有之反應性基宜為選自於由(甲基)丙烯醯胺基、α,β-不飽和羰基、乙烯基、乙烯基醚基、環氧基、氧雜環丁烷基、胺基、醛基、巰基及鹵素基所構成群組中之至少1種反應性基。
上述偏光薄膜之製造方法中，前述偏光件之水分率宜為15重量%以下。
上述偏光件之製造方法中，前述附易接著組成物宜含有水。
上述偏光薄膜之製造方法中，前述塗敷步驟宜為使用後計量塗敷方式塗敷前述易接著組成物之步驟。
上述偏光薄膜之製造方法中，前述後計量塗敷方式宜為使用凹版輥之凹版輥塗敷方式。
又，本發明涉及一種附易接著層之偏光件，其係於偏光件之至少一面形成有易接著層者，且其特徵在於： 前述易接著層含有： 下述通式(1)所示化合物： [化學式3] (惟，X為含有反應性基之官能基，R1 及R2 分別獨立表示氫原子、可具有取代基之脂肪族烴基、芳基或雜環基)；以及， 沸點為85℃以上的有機溶劑及沸點為85℃以上的具有聚合性基之單體中之任一者或兩者。
前述附易接著層之偏光件中，前述通式(1)所示化合物宜為下述通式(1')所示化合物： [化學式4] (惟，Y為有機基，X、R1 及R2 與前述相同)。
前述附易接著層之偏光件中，前述通式(1)所示化合物具有之反應性基宜為選自於由(甲基)丙烯醯胺基、α,β-不飽和羰基、乙烯基、乙烯基醚基、環氧基、氧雜環丁烷基、胺基、醛基、巰基及鹵素基所構成群組中之至少1種反應性基。
又本發明涉及：一種偏光薄膜，其特徵在於：於前述任一項記載之附易接著層之偏光件的易接著層形成面隔著接著劑層設有透明保護薄膜；一種光學薄膜，其特徵在於：積層有至少1片該偏光薄膜；以及一種影像顯示裝置，其特徵在於：使用有如前述記載之偏光薄膜及/或前述記載之光學薄膜。
發明效果 本發明偏光薄膜之製造方法中具有塗敷步驟，該步驟係為了提升偏光薄膜的耐水接著性而於偏光件的接著劑層形成面側塗敷易接著組成物。於偏光件設置易接著層之方法，以往一般係將摻混了各種樹脂並且考慮到乾燥性及處理性而摻混了異丙醇等低沸點有機溶劑或水作為稀釋劑而成的易接著組成物塗敷至偏光件，前述各種樹脂具有例如聚酯骨架、聚醚骨架、聚碳酸酯骨架、聚胺甲酸酯骨架、聚矽氧系、聚醯胺骨架、聚醯亞胺骨架、聚乙烯醇骨架等。惟，以以往之方法來說，難以控制作為稀釋劑摻混的低沸點有機溶劑或水的乾燥時機，而當無法力圖使時機最佳化時，會有發生塗敷面之平滑性惡化、或偏光件與塗敷裝置所具備之塗敷構件的剝離性惡化等，使易接著組成物的塗敷性惡化之情形。
惟，本發明係在易接著組成物中摻混了前述式(1)記載之含硼化合物，並且還摻混了沸點為85℃以上的有機溶劑及沸點為85℃以上的具有聚合性基之單體中之任一者或兩者。藉此，可同時兼顧：提升偏光薄膜的耐水接著性、提升於偏光件的接著劑層形成面側塗敷易接著組成物時的塗敷性。
易接著組成物中，前述式(1)記載之含硼化合物可與偏光件所具備之羥基等官能基反應。藉此，可提升偏光件與接著劑層之接著性，結果可發揮提升偏光薄膜之耐水接著性的效果。在此，偏光件之水分率低時，具體而言例如偏光件之水分率為15重量%以下時，會有含硼化合物與偏光件所具備之官能基無法充分反應，而無法充分獲得所述效果之情形。但即使是在偏光件之水分率低時，藉由在易接著組成物中摻混水，含硼化合物對偏光件所具備之官能基的反應性即會提高，藉此可提升偏光件與接著劑層之接著性。結果即使是在偏光件之水分率低時仍可同時兼顧：提升偏光薄膜的耐水接著性、提升於偏光件的接著劑層形成面側塗敷易接著組成物時的塗敷性。
本發明偏光薄膜之製造方法中，在塗敷步驟為使用後計量塗敷方式塗敷前述易接著組成物的步驟時，可在提升偏光薄膜之耐水接著性的同時，尤可提升於偏光件的接著劑層形成面側塗敷易接著組成物時的塗敷性。此外，本發明中「後計量塗敷方式」是指對液膜施加外力去除過剩液體，以獲得預定塗敷膜厚的方式。後計量塗敷方式之具體例可列舉凹版輥塗敷方式、順輥(forward roll)塗敷方式、氣刀塗敷方式、桿式/棒式塗敷方式等。本發明中，塗敷步驟為使用後計量塗敷方式塗敷前述易接著組成物之步驟時，可獲得前述效果之理由可推測如下。
後計量塗敷方式在其方式上會對經塗敷之易接著組成物的液膜施加外力，因此易接著組成物會容易揮發。結果在為了獲得預定塗敷膜厚而去除過剩液體時，易接著組成物會揮發掉多於必要的量，而有可能發生以下不良情況：塗敷膜厚變得不均勻(此現象亦稱為「橫紋」)；或因為易接著組成物揮發而造成塗敷膜展現黏著性，從而易接著組成物之塗敷膜對後計量塗敷方式中使用之塗敷裝置具備之塗敷構件展現黏著性，例如若為凹版輥塗敷方式即為對凹版輥展現黏著性，使屬塗敷對象的偏光件與凹版輥之剝離性惡化(此現象亦稱為「黏結(sticking)」)。惟，本發明係在易接著組成物中摻混了前述式(1)記載之含硼化合物，並且還摻混了選自於由沸點為85℃以上的有機溶劑及具有聚合性基之單體所構成群組中之至少1種。藉此，可在利用該含硼化合物提升偏光件與接著劑層之接著性的同時，減少易接著組成物揮發，防止橫紋及黏結發生。結果本發明之偏光薄膜之製造方法即使是在塗敷步驟為使用後計量塗敷方式塗敷前述易接著組成物之步驟時，仍可在提升偏光薄膜之耐水接著性的同時，尤可提升於偏光件的接著劑層形成面側塗敷易接著組成物時的塗敷性。
本發明附易接著層之偏光件中，易接著層具有：含硼化合物；以及，沸點為85℃以上的有機溶劑及沸點為85℃以上的具有聚合性基之單體中之任一者或兩者。所以，具備所述附易接著層之偏光件的偏光薄膜及光學薄膜之耐水接著性提升優異。因此，使用有本發明偏光薄膜及/或光學薄膜之影像顯示裝置在要求耐水接著性之用途上特別有用。
用以實施發明之形態 本發明係一種偏光薄膜之製造方法，該偏光薄膜係於偏光件之至少一面隔著接著劑層設有透明保護薄膜者，且該製造方法具有於偏光件的接著劑層形成面側塗敷易接著組成物之步驟。以下具體說明本發明。
>易接著組成物> 本發明中，易接著組成物含有下述通式(1)所示化合物： [化學式5] (惟，X為含有反應性基之官能基，R1 及R2 分別獨立表示氫原子、可具有取代基之脂肪族烴基、芳基或雜環基)。前述脂肪族烴基可舉如可具有碳數1~20的取代基之直鏈或支鏈烷基、可具有碳數3~20的取代基之環狀烷基、碳數2~20之烯基；芳基可舉如可具有碳數6~20的取代基之苯基、可具有碳數10~20的取代基之萘基等；雜環基可舉例如含有至少一個雜原子且可具有取代基之5員環或6員環的基團。該等可相互連結形成環。通式(1)中，作為R1 及R2 以氫原子、碳數1~3之直鏈或支鏈烷基為佳，且氫原子最佳。另外，通式(1)所示化合物在最終製造出之偏光薄膜中，可以未反應之狀態存在於偏光件與接著劑層之間的易接著層中，亦可以各官能基已反應之狀態存在。又，本發明中，可於偏光件之接著劑層形成面側整面藉由塗敷易接著組成物來形成易接著層，亦可於至少一部分的面藉由塗敷易接著組成物來形成易接著層。
通式(1)所示化合物具有之X為含有反應性基且可與構成接著劑層之硬化性成分反應之官能基，X所含有之反應性基可舉例如羥基、胺基、醛基、羧基、乙烯基、(甲基)丙烯醯基、苯乙烯基、(甲基)丙烯醯胺基、乙烯基醚基、環氧基、氧雜環丁烷基、α,β-不飽和羰基、巰基、鹵素基等。構成接著劑層之硬化性樹脂組成物為活性能量射線硬化性時，X所含有之反應性基宜為選自於由乙烯基、(甲基)丙烯醯基、苯乙烯基、(甲基)丙烯醯胺基、乙烯基醚基、環氧基、氧雜環丁烷基及巰基所構成群組中之至少1種反應性基；特別是構成接著劑層之接著劑組成物為自由基聚合性時，X所含有之反應性基宜為選自於由(甲基)丙烯醯基、苯乙烯基及(甲基)丙烯醯胺基所構成群組中之至少1種反應性基；通式(1)所示化合物具有(甲基)丙烯醯胺基時，由於反應性高，而可提高與活性能量射線硬化性樹脂組成物之共聚率，因此較為理想。又，(甲基)丙烯醯胺基之極性高，接著性優異，因此能有效率地獲得本發明效果，由此觀點而言亦適宜。構成接著劑層之硬化性樹脂組成物為陽離子聚合性時，X所含有之反應性基宜具有選自於羥基、胺基、醛、羧基、乙烯基醚基、環氧基、氧雜環丁烷基、巰基中之至少1個官能基，特別是具有環氧基時，由於所得之硬化性樹脂層與被黏著體之密著性優異，故較佳；具有乙烯基醚基時，由於硬化性樹脂組成物之硬化性優良，因此較為理想。
通式(1)所示化合物之理想具體例，可舉如下述通式(1’)所示化合物： [化學式6] (惟，Y為有機基，X、R1 及R2 與前述相同)。更佳可舉以下化合物(1a)~(1d)。
[化學式7]
在本發明中，通式(1)所示化合物可為反應性基與硼原子直接鍵結者，如前述具體例所示，通式(1)所示化合物宜為反應性基與硼原子隔著有機基鍵結者，即通式(1’)所示化合物。通式(1)所示化合物為例如隔著鍵結於硼原子之氧原子與反應性基鍵結者時，偏光薄膜之接著耐水性有劣化的傾向。另一方面，當通式(1)所示化合物不為具硼-氧鍵者，而為藉由硼原子與有機基鍵結而具有硼-碳鍵且含有反應性基者時(通式(1’)所示者)，因可提升偏光薄膜之接著耐水性，故較為理想。前述有機基具體而言意指可具有取代基之碳數1~20的有機基，更具體可舉例如可具有碳數1~20之取代基的直鏈或支鏈伸烷基、可具有碳數3~20之取代基的環狀伸烷基、可具有碳數6~20之取代基的伸苯基、可具有碳數10~20之取代基的伸萘基等。
通式(1)所示化合物除了前述舉例之化合物以外，也可舉例如羥乙基丙烯醯胺與硼酸之酯、羥甲基丙烯醯胺與硼酸之酯、丙烯酸羥乙酯與硼酸之酯、及丙烯酸羥丁酯與硼酸之酯等(甲基)丙烯酸酯與硼酸之酯。
易接著組成物中通式(1)所示化合物含量若過少，存在於易接著層表面之通式(1)所示化合物的比率會降低，而有易接著效果減低的情形。因此，易接著組成物中通式(1)所示化合物含量以0.01重量%以上為佳，0.05重量%以上較佳，0.1重量%以上更佳。
本發明中，易接著組成物係含有前述式(1)記載之含硼化合物，並且含有沸點為85℃以上的有機溶劑及沸點為85℃以上的具有聚合性基之單體中之任一者或兩者。
沸點為85℃以上的前述有機溶劑可舉例如二丙酮醇(沸點166℃)、乙二醇(沸點197.3℃)、乙酸(沸點118℃)、1-丁醇(沸點117℃)、2-丁醇(沸點99.5℃)、環己醇(沸點161℃)、1-己醇(沸點156.5℃)、二丙二醇(沸點230.5℃)、丙二醇(沸點187℃)、N,N-二甲基甲醯胺(DMF)(沸點153℃)、丙三醇二乙酸酯(沸點280℃)、甲賽璐蘇(沸點124.1℃)、1,1-二氧四氫噻吩(環丁碸)(沸點285℃)、丙三醇1,2-碳酸酯(沸點160°C/0.8mmHg)、N,N-二甲基乙醯胺(沸點165℃)、二甲亞碸(DMSO)(沸點189℃)等。由塗敷性之觀點，前述有機溶劑的沸點宜為90℃以上，且100℃以上更佳。此外，前述有機溶劑的沸點的上限無特別限定，例如可舉例為300℃左右。
本發明中，所使用之易接著組成物含有前述有機溶劑時，由兼顧提升偏光件與接著劑層之接著性與提升塗敷性的觀點，在令易接著組成物之總量為100重量%時，其含量宜為5~80重量%，更宜為10~50重量%。又，本發明中，所使用之易接著組成物含有前述有機溶劑時，可提高含硼化合物對偏光件所具備之官能基的反應性而提升偏光件與接著劑層之接著性，由此觀點來看，在令易接著組成物之總量為100重量%時，其含量宜為5~90重量%，更宜為30~80重量%。
沸點在85℃以上之具有前述單體的聚合性基可舉例如(甲基)丙烯醯基、乙烯基等碳-碳雙鍵之自由基聚合性官能基。前述單體可舉例如丙烯醯基嗎福林(沸點158℃)、乙二醇二丙烯酸酯(乙二醇部位的n數≒9)(沸點197.3℃)、羥乙基丙烯醯胺(沸點124℃)、N-乙烯基吡咯啶酮(沸點90℃)、丙烯酸(沸點141℃)、烯丙醇(沸點97℃)等。由塗敷性之觀點，前述單體的沸點宜為90℃以上，且100℃以上更佳。此外，前述單體的沸點的上限並無特別限定，可舉例如300℃左右。
本發明中，所使用之易接著組成物含有前述單體時，由兼顧提升偏光件與接著劑層之接著性與提升塗敷性的觀點，在令易接著組成物之總量為100重量%時，其含量宜為5~80重量%，更宜為10~50重量%。又，本發明中，在所使用之易接著組成物含有前述單體時亦同，可提高含硼化合物對偏光件所具備之官能基的反應性而提升偏光件與接著劑層的接著性，由此觀點來看宜進一步含有水，而此時之含量在令易接著組成物之總量為100重量%時，宜為5~90重量%，且30~80重量%更佳。
本發明中，易接著組成物亦可含有其他添加劑，例如增黏劑、紫外線吸收劑、抗氧化劑、耐熱穩定劑等穩定劑等。
>易接著層> 本發明偏光薄膜之製造方法中，可於前述偏光件的接著劑層形成面側塗敷易接著組成物之塗敷步驟之後，視需求設置乾燥步驟等，藉此來形成易接著層。在本發明中，偏光件所具備之易接著層的厚度過厚時，易接著層的凝集力會降低，而有易接著效果減低的情形。因此，在聚合性單體於乾燥步驟中揮發而不殘存於易接著層中時，易接著層之厚度為300nm以下，且宜為200nm以下，由生產性之觀點看來以100nm以下更佳。另一方面，為使易接著層充分發揮效果，其厚度之最下限可舉如至少為通式(1)所示化合物之單分子膜的厚度，通常為0.1nm以上，宜為1nm以上，2nm以上更佳。在聚合性單體未於乾燥步驟中揮發而殘存於易接著層中時，易接著層之厚度為3μm以下，且宜為2μm以下，由生產性之觀點看來以1μm以下更佳。另一方面，為使易接著層充分發揮效果，其厚度之最下限可舉如至少為通式(1)所示化合物之單分子膜的厚度，通常為0.1nm以上，宜為1nm以上，2nm以上更佳。
易接著層中通式(1)所示化合物含量若過少，存在於易接著層表面之通式(1)所示化合物的比率會降低，而有易接著效果減低的情形。因此，易接著層中通式(1)所示化合物含量以0.01重量%以上為佳，0.05重量%以上較佳，0.1重量%以上更佳。
>接著劑層> 接著劑層係將接著劑組成物硬化而形成。接著劑層的厚度宜為0.01~3.0μm。接著劑層的厚度過薄時，由於接著劑層之凝集力不足而導致剝離力會降低，故不佳。接著劑層的厚度過厚時，對偏光薄膜之截面施加應力時變得容易發生剝離，而會發生因衝撃造成的剝落不良，故不佳。接著劑層的厚度以0.1~2.5μm較佳，0.5~1.5μm最佳。
>接著劑組成物>將接著劑組成物硬化之形態可大致區分為熱硬化與活性能量射線硬化。構成熱硬化性接著劑組成物之樹脂可舉聚乙烯醇樹脂、環氧樹脂、不飽和聚酯、胺甲酸酯樹脂、丙烯酸樹脂、脲樹脂、三聚氰胺樹脂、苯酚樹脂等，並因應需要併用硬化劑來使用。構成熱硬化性接著劑組成物之樹脂可更適宜使用聚乙烯醇樹脂、環氧樹脂。活性能量射線硬化性接著劑組成物以活性能量射線來分類，可大致區分為電子射線硬化性、紫外線硬化性及可見光線硬化性。又，硬化形態可區分為自由基聚合性接著劑組成物與陽離子聚合性接著劑組成物。本發明中是將波長範圍在10nm~小於380nm之活性能量射線標記為紫外線，且將波長範圍在380nm~800nm之活性能量射線標記為可見光線。
於本發明偏光薄膜之製造中，接著劑組成物宜為活性能量射線硬化性。並且，利用380nm~450nm的可見光線之可見光線硬化性尤佳。
自由基聚合性接著劑組成物含有之硬化性成分可舉如自由基聚合性接著劑組成物所用之自由基聚合性化合物。自由基聚合性化合物可舉如具有(甲基)丙烯醯基、乙烯基等碳-碳雙鍵之自由基聚合性官能基的化合物。該等硬化性成分可使用單官能自由基聚合性化合物或雙官能以上之多官能自由基聚合性化合物中之任一者。且，該等自由基聚合性化合物可單獨使用1種或可將2種以上組合使用。該等自由基聚合性化合物譬如宜為具有(甲基)丙烯醯基之化合物。另，本發明中，所謂(甲基)丙烯醯是指丙烯醯基及/或甲基丙烯醯基，以下「(甲基)」同義。
單官能自由基聚合性化合物可舉例譬如下述通式(2)所示化合物： [化學式8] (惟，R3 為氫原子或甲基，R4 及R5 分別獨立為氫原子、烷基、羥烷基、烷氧基烷基或環狀醚基，且R4 及R5 亦可形成環狀雜環)。烷基、羥烷基及/或烷氧基烷基之烷基部分的碳數並無特別限定，可舉例如1~4個者。此外，R4 及R5 亦可形成之環狀雜環可舉例如N-丙烯醯基嗎福林等。
通式(2)所示化合物之具體例可舉例如：N-甲基(甲基)丙烯醯胺、N,N-二甲基(甲基)丙烯醯胺、N,N-二乙基(甲基)丙烯醯胺、N-異丙基(甲基)丙烯醯胺、N-丁基(甲基)丙烯醯胺、N-己基(甲基)丙烯醯胺等含N-烷基的(甲基)丙烯醯胺衍生物；N-羥甲基(甲基)丙烯醯胺、N-羥乙基(甲基)丙烯醯胺、N-羥甲基-N-丙烷(甲基)丙烯醯胺等含N-羥烷基的(甲基)丙烯醯胺衍生物；N-甲氧基甲基丙烯醯胺、N-乙氧基甲基丙烯醯胺等含N-烷氧基的(甲基)丙烯醯胺衍生物等。並且，含環狀醚基的(甲基)丙烯醯胺衍生物可舉(甲基)丙烯醯胺基的氮原子形成雜環之含雜環的(甲基)丙烯醯胺衍生物，且可列舉譬如N-丙烯醯基嗎福林、N-丙烯醯基哌啶、N-甲基丙烯醯基哌啶及N-丙烯醯基吡咯啶等。由反應性佳之觀點、可獲得高彈性係數之硬化物之觀點及對偏光件之接著性優異之觀點來看，其等當中又可適宜使用N-羥乙基丙烯醯胺或N-丙烯醯基嗎福林。
由提升透過接著劑層使偏光件與透明保護薄膜接著時的接著性及耐水性之觀點來看，接著劑組成物中，通式(2)所記載之化合物含量宜為0.01~80重量%，更宜為5~40重量%。
且，本發明中所使用之接著劑組成物除通式(2)所示化合物之外，還可含有其他單官能自由基聚合性化合物作為硬化性成分。單官能自由基聚合性化合物可舉例如具有(甲基)丙烯醯氧基之各種(甲基)丙烯酸衍生物。具體而言，可舉例如(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸正丙酯、(甲基)丙烯酸異丙酯、2-甲基-2-硝基丙基(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸正丁酯、(甲基)丙烯酸異丁酯、(甲基)丙烯酸二級丁酯、(甲基)丙烯酸三級丁酯、(甲基)丙烯酸正戊酯、(甲基)丙烯酸三級戊酯、(甲基)丙烯酸3-戊酯、2,2-二甲基丁基(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸正己酯、(甲基)丙烯酸鯨蠟酯、(甲基)丙烯酸正辛酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯、4-甲基-2-丙基戊基(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸正十八烷基酯等(甲基)丙烯酸(碳數1-20)烷基酯類。
又，前述(甲基)丙烯酸衍生物可舉例如(甲基)丙烯酸環己酯、(甲基)丙烯酸環戊酯等(甲基)丙烯酸環烷酯；(甲基)丙烯酸苄酯等(甲基)丙烯酸芳烷酯；(甲基)丙烯酸2-異莰酯、(甲基)丙烯酸2-降莰基甲酯、(甲基)丙烯酸5-降莰烯-2-基-甲酯、(甲基)丙烯酸3-甲基-2-降莰基甲酯、(甲基)丙烯酸二環戊烯酯、(甲基)丙烯酸二環戊烯氧基乙酯、(甲基)丙烯酸二環戊酯等多環式(甲基)丙烯酸酯；(甲基)丙烯酸2-甲氧基乙酯、(甲基)丙烯酸2-乙氧基乙酯、(甲基)丙烯酸2-甲氧基甲氧基乙酯、(甲基)丙烯酸3-甲氧基丁酯、乙基卡必醇(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸苯氧乙酯、烷基苯氧基聚乙二醇(甲基)丙烯酸酯等含烷氧基或苯氧基的(甲基)丙烯酸酯等等。該等之中，由與各種保護薄膜之接著性佳來看，宜為丙烯酸二環戊烯氧基乙酯、丙烯酸苯氧乙酯。
又，作為前述(甲基)丙烯酸衍生物可舉如(甲基)丙烯酸2-羥乙酯、(甲基)丙烯酸2-羥丙酯、(甲基)丙烯酸3-羥丙酯、(甲基)丙烯酸2-羥丁酯、(甲基)丙烯酸4-羥丁酯、(甲基)丙烯酸6-羥己酯、(甲基)丙烯酸8-羥辛酯、(甲基)丙烯酸10-羥癸酯、(甲基)丙烯酸12-羥月桂酯等(甲基)丙烯酸羥烷基酯；或[4-(羥甲基)環己基]甲基丙烯酸酯、環己烷二甲醇單(甲基)丙烯酸酯、2-羥-3-苯氧丙基(甲基)丙烯酸酯等含羥基的(甲基)丙烯酸酯；(甲基)丙烯酸環氧丙酯、(甲基)丙烯酸4-羥丁酯環氧丙基醚等含環氧基的(甲基)丙烯酸酯；(甲基)丙烯酸2,2,2-三氟乙酯、(甲基)丙烯酸2,2,2-三氟乙基乙酯、(甲基)丙烯酸四氟丙酯、(甲基)丙烯酸六氟丙酯、(甲基)丙烯酸八氟戊酯、(甲基)丙烯酸十七氟癸酯、(甲基)丙烯酸3-氯-2-羥丙酯等含鹵素的(甲基)丙烯酸酯；(甲基)丙烯酸二甲基胺基乙酯等(甲基)丙烯酸烷基胺基烷基酯；(甲基)丙烯酸3-氧雜環丁烷基甲酯、(甲基)丙烯酸3-甲-氧雜環丁烷基甲酯、(甲基)丙烯酸3-乙-氧雜環丁烷基甲酯、(甲基)丙烯酸3-丁-氧雜環丁烷基甲酯、(甲基)丙烯酸3-己-氧雜環丁烷基甲酯等含氧雜環丁烷基的(甲基)丙烯酸酯；(甲基)丙烯酸四氫糠酯、(甲基)丙烯酸丁內酯等具有雜環的(甲基)丙烯酸酯；或羥基三甲基乙酸新戊二醇(甲基)丙烯酸加成物、(甲基)丙烯酸對苯基苯酚酯等等。該等之中，2-羥-3-苯氧丙基丙烯酸酯因與各種保護薄膜之接著性優異，故較佳。
又，單官能自由基聚合性化合物可列舉為：(甲基)丙烯酸、丙烯酸羧乙酯、丙烯酸羧戊酯、伊康酸、馬來酸、延胡索酸、巴豆酸、異巴豆酸等含羧基之單體。
又，單官能自由基聚合性化合物可舉例如N-乙烯基吡咯啶酮、N-乙烯基-ε-己內醯胺、甲基乙烯基吡咯啶酮等內醯胺系乙烯基單體；乙烯基吡啶、乙烯基哌啶酮、乙烯基嘧啶、乙烯基哌、乙烯基吡、乙烯基吡咯、乙烯基咪唑、乙烯基㗁唑、乙烯基嗎福林等具有含氮雜環之乙烯基系單體等等。
本發明中使用之接著劑組成物中，若含有單官能自由基聚合性化合物之中具有高極性之含羥基之(甲基)丙烯酸酯、含羧基之(甲基)丙烯酸酯或含磷酸基之(甲基)丙烯酸酯等，對各種基材之密著力便會提升。相對於樹脂組成物，含羥基之(甲基)丙烯酸酯的含量宜為1重量%~30重量%。其含量過多時，硬化物之吸水率會變高而有耐水性惡化的情形。相對於樹脂組成物，含羧基的(甲基)丙烯酸酯的含量宜為1重量%~20重量%。其含量過多時，偏光薄膜之光學耐久性會降低，故不佳。含磷酸基之(甲基)丙烯酸酯可舉例如2-(甲基)丙烯醯氧基乙基酸式磷酸鹽；相對於樹脂組成物，其含量宜為0.1重量%~10重量%。其含量過多時，偏光薄膜之光學耐久性會降低，故不佳。
又，單官能自由基聚合性化合物可使用具有活性亞甲基之自由基聚合性化合物。具有活性亞甲基之自由基聚合性化合物是在末端或分子中具有(甲基)丙烯醯基等活性雙鍵基且具有活性亞甲基之化合物。活性亞甲基可列舉為：乙醯乙醯基、烷氧基丙二醯基或氰基乙醯基等。前述活性亞甲基以乙醯乙醯基為佳。具有活性亞甲基之自由基聚合性化合物之具體例可舉如2-乙醯乙醯氧基乙基(甲基)丙烯酸酯、2-乙醯乙醯氧基丙基(甲基)丙烯酸酯、2-乙醯乙醯氧基-1-甲基乙基(甲基)丙烯酸酯等乙醯乙醯氧基烷基(甲基)丙烯酸酯；2-乙氧基丙二醯氧基乙基(甲基)丙烯酸酯、2-氰基乙醯氧基乙基(甲基)丙烯酸酯、N-(2-氰基乙醯氧基乙基)丙烯醯胺、N-(2-丙醯基乙醯氧基丁基)丙烯醯胺、N-(4-乙醯乙醯氧基甲基苄基)丙烯醯胺、N-(2-乙醯乙醯基胺基乙基)丙烯醯胺等。具有活性亞甲基之自由基聚合性化合物以乙醯乙醯氧基烷基(甲基)丙烯酸酯為佳。
又，雙官能以上的多官能自由基聚合性化合物可舉例如屬多官能(甲基)丙烯醯胺衍生物之N,N’-亞甲基雙(甲基)丙烯醯胺、三丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、四乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,9-壬二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,10-癸二醇二丙烯酸酯、2-乙-2-丁基丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、雙酚A二(甲基)丙烯酸酯、雙酚A環氧乙烷加成物二(甲基)丙烯酸酯、雙酚A環氧丙烷加成物二(甲基)丙烯酸酯、雙酚A二環氧丙基醚二(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、三環癸烷二甲醇二(甲基)丙烯酸酯、環狀三羥甲丙烷甲縮醛(甲基)丙烯酸酯、二㗁烷二醇二(甲基)丙烯酸酯、三羥甲丙烷三(甲基)丙烯酸酯、新戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、新戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二新戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、二新戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、EO改質二甘油四(甲基)丙烯酸酯等(甲基)丙烯酸與多元醇的酯化物、9,9-雙[4-(2-(甲基)丙烯醯氧基乙氧基)苯基]茀。具體例以ARONIX M-220(東亞合成公司製)、LIGHT-ACRYLATE 1,9ND-A(共榮社化學公司製)、LIGHT-ACRYLATE DGE-4A(共榮社化學公司製)、LIGHT-ACRYLATE DCP-A(共榮社化學公司製)、SR-531(Sartomer公司製)、CD-536(Sartomer公司製)等為佳。此外，因應需要，可舉例如各種環氧基(甲基)丙烯酸酯、胺甲酸酯(甲基)丙烯酸酯、聚酯(甲基)丙烯酸酯或各種(甲基)丙烯酸酯系單體等。另，多官能(甲基)丙烯醯胺衍生物除聚合速度快而生產性優異之外，在將接著劑組成物作成硬化物時之交聯性優異，故宜含於接著劑組成物中。
從兼顧與偏光件或各種透明保護薄膜之接著性、以及在嚴酷環境下之光學耐久性的觀點而言，自由基聚合性化合物以併用單官能自由基聚合性化合物與多官能自由基聚合性化合物為佳。另，單官能自由基聚合性化合物之液體黏度相對較低，故使之含有於樹脂組成物中，便能降低樹脂組成物的液體黏度。且，單官能自由基聚合性化合物大多具有能表現各種機能之官能基，使之含有於樹脂組成物中，便能使樹脂組成物及/或樹脂組成物之硬化物表現各種機能。多官能自由基聚合性化合物能使樹脂組成物之硬化物產生3維交聯，故宜使之含有於樹脂組成物中。單官能自由基聚合性化合物與多官能自由基聚合性化合物之比，宜相對於100重量份之單官能自由基聚合性化合物，以10重量份至1000重量份之範圍混合多官能自由基聚合性化合物。
在將電子射線等用作活性能量射線時，自由基聚合性接著劑組成物不一定要含有光聚合起始劑，而在將紫外線或可見光線用作活性能量射線時，接著劑組成物則宜含有光聚合起始劑。
在使用自由基聚合性化合物時，光聚合起始劑可依照活性能量射線來作適當選擇。在藉由紫外線或可見光線使其硬化時，是使用紫外線或可見光線開裂之光聚合起始劑。作為前述光聚合起始劑，可舉例如二苯基乙二酮(benzil)、二苯基酮、苯甲醯苯甲酸、3,3’-二甲基-4-甲氧基二苯基酮等二苯基酮系化合物；4-(2-羥基乙氧基)苯基(2-羥-2-丙基)酮、α-羥-α,α’-二甲基苯乙酮、2-甲-2-羥基苯丙酮、α-羥基環己基苯基酮等芳香族酮化合物；甲氧基苯乙酮、2,2-二甲氧基-2-苯基苯乙酮、2,2-二乙氧基苯乙酮、2-甲-1-[4-(甲硫基)-苯基]-2-嗎福林基丙-1-酮等的苯乙酮系化合物；苯偶姻甲基醚、苯偶姻乙基醚、苯偶姻異丙基醚、苯偶姻丁基醚、大茴香偶姻甲基醚等的苯偶姻醚系化合物；苄基二甲縮酮等芳香族縮酮系化合物；2-萘磺醯氯等芳香族磺醯氯系化合物；1-苯酮-1,1-丙二酮-2-(鄰乙氧基羰基)肟等的光活性肟系化合物；9-氧硫 、2-氯9-氧硫 、2-甲基9-氧硫 、2,4-二甲基9-氧硫 、異丙基-9-氧硫 、2,4-二氯9-氧硫 、2,4-二乙基9-氧硫 、2,4-二異丙基9-氧硫 、十二基9-氧硫 等的9-氧硫 系化合物；樟腦醌；鹵化酮；醯基氧化膦；醯基膦酸酯等。
前述光聚合起始劑之摻混量相對於接著劑組成物之總量在20重量%以下。光聚合起始劑之摻混量宜為0.01~20重量%，且更宜為0.05~10重量%，進而為0.1~5重量%。
又，本發明所使用之接著劑組成物以含有自由基聚合性化合物作為硬化性成分之可見光線硬化性作使用時，尤宜使用對380nm以上的光有高感度之光聚合起始劑。對380nm以上的光有高感度之光聚合起始劑將於後詳述。
前述光聚合起始劑宜單獨使用下述通式(3)所示化合物、或併用通式(3)所示化合物與後述對380nm以上的光有高感度之光聚合起始劑： [化學式9] (式中，R6 及R7 表示-H、-CH2 CH3 、-iPr或Cl，且R6 及R7 可相同或相異)。相較於單獨使用對380nm以上的光有高感度之光聚合起始劑的情形，使用通式(3)所示化合物時之接著性較佳。通式(3)所示化合物當中，以R6 及R7 為-CH2 CH3 之二乙基9-氧硫 尤佳。硬化性樹脂組成物中，通式(3)所示化合物之組成比率相對於硬化性樹脂組成物之總量以0.1~5重量%為佳，以0.5~4重量%較佳，而0.9~3重量%更佳。
又，宜因應需要而添加聚合起始助劑。聚合起始助劑可舉例如三乙胺、二乙胺、N-甲基二乙醇胺、乙醇胺、4-二甲胺苯甲酸、4-二甲胺苯甲酸甲酯、4-二甲胺苯甲酸乙酯、4-二甲胺苯甲酸異戊酯等，尤宜為4-二甲胺苯甲酸乙酯。使用聚合起始助劑時，其添加量相對於硬化性樹脂組成物之總量，一般為0~5重量%，並以0~4重量%為佳，0~3重量%為最佳。
又，可因應需要併用公知之光聚合起始劑。具有UV吸收能的透明保護薄膜不會透射380nm以下的光線，因此光聚合起始劑宜使用對380nm以上的光有高感度之光聚合起始劑。具體而言，可舉例如2-甲-1-(4-甲基硫基苯基)-2-嗎福林基丙-1-酮、2-苄-2-二甲胺基-1-(4-嗎福林基苯基)-丁-1-酮、2-(二甲胺基)-2-[(4-甲基苯基)甲基]-1-[4-(4-嗎福林基)苯基]-1-丁酮、2,4,6-三甲基苯甲醯基-二苯基-膦氧化物、雙(2,4,6-三甲基苯甲醯基)-苯基膦氧化物、雙(η5-2,4-環戊二烯-1-基)-雙(2,6-二氟-3-(1H-吡咯-1-基)-苯基)鈦等。
特別是，光聚合起始劑除了通式(3)之光聚合起始劑之外，還宜使用下述通式(4)所示化合物： [化學式10](式中，R8 、R9 及R10 表示-H、-CH3 、-CH2 CH3 、-iPr或Cl，且R8 、R9 及R10 可相同或相異)。通式(4)所示化合物可適當使用亦屬市售品的2-甲-1-(4-甲基硫基苯基)-2-嗎福林基丙-1-酮(商品名：IRGACURE907，製造商：BASF)。除此之外，2-苄-2-二甲胺基-1-(4-嗎福林基苯基)-丁-1-酮(商品名：IRGACURE369，製造商：BASF)、2-(二甲胺基)-2-[(4-甲基苯基)甲基]-1-[4-(4-嗎福林基)苯基]-1-丁酮(商品名：IRGACURE379，製造商：BASF)由於感度高，因此較為理想。
上述接著劑組成物中，當使用具有活性亞甲基之自由基聚合性化合物作為自由基聚合性化合物時，宜與具有奪氫作用之自由基聚合起始劑組合使用。藉由前述構成，則特別是即便剛從高濕度環境或水中取出(非乾燥狀態)，偏光薄膜所具有的接著劑層之接著性仍會顯著提升。該理由並未究明，但可推測為以下原因。即，具有活性亞甲基之自由基聚合性化合物會一邊與構成接著劑層之其他自由基聚合性化合物一起聚合，一邊被組入接著劑層中基底聚合物的主鏈及/或側鏈，形成接著劑層。於前述聚合過程中，一旦存在具奪氫作用之自由基聚合起始劑，就會一邊形成構成接著劑層之基底聚合物，一邊從具有活性亞甲基之自由基聚合性化合物奪氫，而在亞甲基產生自由基。於是，產生了自由基之亞甲基會與PVA等偏光件之羥基反應，而在接著劑層與偏光件之間形成共價鍵。結果可推知特別是即便在非乾燥狀態下，偏光薄膜所具有之接著劑層之接著性仍會明顯提升。
於本發明中，具有奪氫作用之自由基聚合起始劑可舉例如9-氧硫 系自由基聚合起始劑、二苯基酮系自由基聚合起始劑等。前述自由基聚合起始劑以9-氧硫 系自由基聚合起始劑為佳。作為9-氧硫 系自由基聚合起始劑，可舉例如上述通式(3)所示化合物。通式(3)所示化合物之具體例可舉出9-氧硫 系、二甲基9-氧硫 系、二乙基9-氧硫 、異丙基9-氧硫 系、氯9-氧硫 系等。通式(3)所示化合物當中，以R6 及R7 為-CH2 CH3 之二乙基9-氧硫 尤佳。
上述接著劑組成物中，在含有具有活性亞甲基之自由基聚合性化合物與具有奪氫作用之自由基聚合起始劑的情況下，將硬化性成分之總量設為100重量%時，宜含有1~50重量%之前述具有活性亞甲基之自由基聚合性化合物，且相對於硬化性樹脂組成物之總量，宜含有0.1~10重量%之自由基聚合起始劑。
如上述，於本發明中，在具有奪氫作用之自由基聚合起始劑存在下，使具有活性亞甲基之自由基聚合性化合物之亞甲基產生自由基，而前述亞甲基會與PVA等偏光件之羥基反應形成共價鍵。因此，為了使具有活性亞甲基之自由基聚合性化合物之亞甲基產生自由基並充分形成前述共價鍵，在將硬化性成分之總量設為100重量%時，具有活性亞甲基之自由基聚合性化合物以含有1~50重量%為佳，進而以含有3~30重量%較佳。為使耐水性充分提升以提升非乾燥狀態下之接著性，具有活性亞甲基之自由基聚合性化合物宜設為1重量%以上。另一方面，若大於50重量%，會有接著劑層硬化不良的情況。此外，具有奪氫作用之自由基聚合起始劑以相對於接著劑組成物之總量含有0.1~10重量%為佳，更以含有0.3~9重量%較佳。為使奪氫反應充分地進行，宜使用0.1重量%以上的自由基聚合起始劑。另一方面，若大於10重量%，會有不完全溶解於組成物中的情況。
本發明中所使用之接著劑組成物宜因應需要更含有下述成分。
本發明中，可將前述通式(1)記載之化合物、較佳為將前述通式(1’)記載之化合物、更佳為將前述通式(1a)~(1d)記載之化合物摻混於接著劑組成物中。於接著劑組成物中摻混了該等化合物時，可提升與偏光件或透明保護薄膜之接著性故而為佳。由提升偏光件與硬化物層之接著性及耐水性的觀點，尤其由提升在透過接著劑層來接著偏光件與透明保護薄膜之情況的接著性及耐水性的觀點來看，接著劑組成物中，前述通式(1)記載之化合物含量以0.001~50重量%為佳，0.1~30重量%較佳，1~10重量%最佳。
氣泡抑制劑為一種藉由摻混於接著劑組成物中而可降低其表面張力之化合物，藉此具有可減低與貼合之被黏著體之間之氣泡的效果。氣泡抑制劑可使用具備添加至接著劑組成物中時可減低其表面張力之效果者，例如：聚二甲基矽氧烷等具有聚矽氧烷骨架之聚矽氧系氣泡抑制劑、(甲基)丙烯酸酯等聚合而成之具有(甲基)丙烯醯基骨架的(甲基)丙烯酸系氣泡抑制劑、乙烯基醚或環狀醚等聚合而成之聚醚系氣泡抑制劑、由具全氟烷基之氟系化合物所構成之氟性氣泡抑制劑等。
氣泡抑制劑宜於化合物中具有反應性基。此時，貼合偏光件及透明保護薄膜時，可降低積層氣泡之發生。氣泡抑制劑所具有的反應性基可舉如聚合性官能基，具體而言例如(甲基)丙烯醯基、乙烯基、烯丙基等具有乙烯性雙鍵之自由基聚合性官能基；環氧丙基等環氧基、氧雜環丁烷基、乙烯基醚基、環狀醚基、環狀硫醚基、內酯基等陽離子聚合性官能基等。由在接著劑組成物中之反應性的觀點來看，宜為具有雙鍵作為反應性基之氣泡抑制劑，更宜為具有(甲基)丙烯醯基之氣泡抑制劑。
考慮到抑制積層氣泡與提升接著性之效果時，前述氣泡抑制劑中以聚矽氧系氣泡抑制劑為佳。此外氣泡抑制劑中，考慮到接著劑層之接著性時，以於主鏈骨架或側鏈含有胺甲酸酯鍵或三聚異氰酸酯環結構者為佳。聚矽氧系氣泡抑制劑亦可適宜使用市售品，可舉例如丙烯醯基改質聚二甲基矽氧烷之「BYK-UV3505」(BYK・Japan公司製)。
為兼顧所得接著劑層之接著力與減低積層氣泡之效果，將接著劑組成物之總量設為100重量%時，氣泡抑制劑之含量宜為0.01~0.6重量%。
本發明中使用之接著劑組成物除了前述自由基聚合性化合物之硬化性成分之外，還可含有(甲基)丙烯酸單體聚合而成之丙烯酸系寡聚物。藉由於接著劑組成物中含有該丙烯酸系寡聚物，可在對該組成物照射活性能量射線使其硬化時降低硬化收縮，而可降低接著劑與偏光件及透明保護薄膜等被黏著體之界面應力。結果可抑制接著劑層與被黏著體的接著性降低。為能充分抑制硬化物層(接著劑層)的硬化收縮，丙烯酸系寡聚物的含量以相對於接著劑組成物之總量為20重量%以下為佳，15重量%以下較佳。若接著劑組成物中之丙烯酸系寡聚物的含量過多，對該組成物照射活性能量射線後反應速度會急遽降低，而有硬化不良的情況。另一方面，丙烯酸系寡聚物以相對於接著劑組成物之總量含有3重量%以上為佳，含有5重量%以上較佳。
考慮到塗敷時的作業性及均勻性時，接著劑組成物以低黏度為佳，所以(甲基)丙烯酸單體聚合而成之丙烯酸系寡聚物亦以低黏度為佳。作為低黏度並可防止接著劑層硬化收縮的丙烯酸系寡聚物，以重量平均分子量(Mw)在15000以下者為佳，而10000以下更佳，5000以下尤佳。另一方面，為能充分抑制硬化物層(接著劑層)之硬化收縮，丙烯酸系寡聚物之重量平均分子量(Mw)以在500以上為佳，1000以上更佳，1500以上尤佳。構成丙烯酸系寡聚物之(甲基)丙烯酸單體，具體而言可舉例如(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸正丙酯、(甲基)丙烯酸異丙酯、(甲基)丙烯酸2-甲-2-硝基丙酯、(甲基)丙烯酸正丁酯、(甲基)丙烯酸異丁酯、(甲基)丙烯酸S-丁酯、(甲基)丙烯酸三級丁酯、(甲基)丙烯酸正戊酯、(甲基)丙烯酸三級戊酯、(甲基)丙烯酸3-戊酯、(甲基)丙烯酸2,2-二甲基丁酯、(甲基)丙烯酸正己酯、(甲基)丙烯酸鯨蠟酯、(甲基)丙烯酸正辛酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯、(甲基)丙烯酸4-甲-2-丙基戊酯、N-十八基(甲基)丙烯酸酯等(甲基)丙烯酸(碳數1~20)烷基酯類；以及例如(甲基)丙烯酸環烷酯(例如，(甲基)丙烯酸環己酯、(甲基)丙烯酸環戊酯等)、(甲基)丙烯酸芳烷酯(例如，(甲基)丙烯酸苄酯等)、多環式(甲基)丙烯酸酯(例如(甲基)丙烯酸2-異莰酯、(甲基)丙烯酸2-降莰基甲酯、(甲基)丙烯酸5-降莰烯-2-基-甲酯、(甲基)丙烯酸3-甲-2-降莰基甲酯等)、含羥基的(甲基)丙烯酸酯類(例如(甲基)丙烯酸羥乙酯、(甲基)丙烯酸2-羥丙酯、2,3-二羥丙基甲基-丁基(甲基)甲基丙烯酸酯等)、含烷氧基或苯氧基的(甲基)丙烯酸酯類((甲基)丙烯酸2-甲氧基乙酯、(甲基)丙烯酸2-乙氧基乙酯、(甲基)丙烯酸2-甲氧基甲氧基乙酯、(甲基)丙烯酸3-甲氧基丁酯、乙基卡必醇(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸苯氧乙酯等)、含環氧基的(甲基)丙烯酸酯類(例如，(甲基)丙烯酸環氧丙酯等)、含鹵素的(甲基)丙烯酸酯類(例如(甲基)丙烯酸2,2,2-三氟乙酯、(甲基)丙烯酸2,2,2-三氟乙基乙酯、(甲基)丙烯酸四氟丙酯、(甲基)丙烯酸六氟丙酯、(甲基)丙烯酸八氟戊酯、(甲基)丙烯酸十七氟癸酯等)、(甲基)丙烯酸烷基胺基烷基酯(例如二甲基胺基乙基(甲基)丙烯酸酯等)等。該等(甲基)丙烯酸酯可單獨使用或併用2種以上。丙烯酸系寡聚物之具體例可舉東亞合成公司製「ARUFON」、綜研化學公司製「ACTFLOW」、BASF JAPAN公司製「JONCRYL」等。
上述接著劑組成物中可含有光酸產生劑。相較於不含光酸產生劑之情況，上述接著劑組成物中含有光酸產生劑時，可躍進地提升接著劑層之耐水性及耐久性。光酸產生劑可以下述通式(5)表示。
通式(5) [化學式11] (惟，L+ 表示任意的鎓陽離子；又，X- 表示選自於由PF6 - 、SbF6 - 、AsF6 - 、SbCl6 - 、BiCl5 - 、SnCl6 - 、ClO4 - 、二硫代胺甲酸鹽陰離子、SCN-所構成群組中的相對陰離子)。
接著，說明通式(5)中的相對陰離子X- 。
通式(5)中的相對陰離子X- 原理上並無特別限制，而以非親核性陰離子為佳。當相對陰離子X- 為非親核性陰離子時，因不易使共存於分子內的陽離子或所併用之各種材料之親核反應發生，結果便能提升通式(5)所示光酸產生劑本身或使用有其之組成物的歷時穩定性。此處所謂非親核性陰離子是指引發親核反應之能力低的陰離子。作為上述陰離子，可舉例如PF6 - 、SbF6 - 、AsF6 - 、SbCl6 - 、BiCl5 - 、SnCl6 - 、ClO4 - 、二硫代胺甲酸鹽陰離子、SCN- 等。
本發明之光酸產生劑之理想具體例，具體而言可舉例如「Cyracure-UVI-6992」、「Cyracure-UVI-6974」(以上為陶氏化學(Dow Chemical)日本股份有限公司製)、「ADEKA OPTOMER SP150」、「ADEKA OPTOMER SP152」、「ADEKA OPTOMER SP170」、「ADEKA OPTOMER SP172」(以上為股份有限公司艾迪科(ADEKA)製)、「IRGACURE250」(汽巴精化(Ciba Specialty Chemicals)公司製)、「CI-5102」、「CI-2855」(以上為日本曹達公司製)、「SANEIDO SI-60L」、「SANEIDO SI-80L」、「SANEIDO SI-100L」、「SANEIDO SI-110L」、「SANEIDO SI-180L」(以上為三新化學公司製)、「CPI-100P」、「CPI-100A」(以上為三亞普羅(SAN-APRO)股份有限公司製)、「WPI-069」、「WPI-113」、「WPI-116」、「WPI-041」、「WPI-044」、「WPI-054」、「WPI-055」、「WPAG-281」、「WPAG-567」、「WPAG-596」(以上為和光純藥公司製)。
光酸產生劑之含量相對於接著劑組成物之總量為10重量%以下，且以0.01~10重量%為佳，0.05~5重量%更佳，0.1~3重量%尤佳。
光鹼產生劑是一可藉由紫外線或可見光線等光照射使分子結構產生變化或分子開裂，而作為自由基聚合性化合物或環氧樹脂的聚合反應之觸媒發揮功能，生成1種以上鹼性物質之化合物。鹼性物質可舉例如2級胺、3級胺。作為光鹼產生劑，可舉例如上述α-胺基苯乙酮化合物、上述肟酯化合物、或具有醯氧基亞胺基、N-甲醯基化芳香族胺基、N-醯基化芳香族胺基、硝基苄基胺甲酸酯基、烷氧基苄基胺甲酸酯基等取代基的化合物。其中又以肟酯化合物較佳。
具有醯氧基亞胺基之化合物可舉出譬如O,O’-琥珀酸二苯乙酮肟、O,O’-琥珀酸二萘乙酮肟、二苯甲酮肟丙烯酸酯-苯乙烯共聚物。
具有N-甲醯基化芳香族胺基、N-醯基化芳香族胺基之化合物可舉例如二-N-(對甲醯胺基)二苯基甲烷、二-N(對乙醯胺基)二苯基甲烷、二-N-(對苯甲醯胺)二苯基甲烷、4-甲醯胺基二苯乙烯、4-乙醯胺基二苯乙烯、2,4-二甲醯胺基二苯乙烯、1-甲醯胺基萘、1-乙醯胺基萘、1,5-二甲醯胺基萘、1-甲醯胺基蒽、1,4-二甲醯胺基蒽、1-乙醯胺基蒽、1,4-二甲醯胺基蒽醌、1,5-二甲醯胺基蒽醌、3,3’-二甲基-4,4’-二甲醯胺基聯苯、4,4’-二甲醯胺基二苯基酮。
具有硝基苄基胺甲酸酯基、烷氧基苄基胺甲酸酯基之化合物可舉例如雙{{(2-硝基苄基)氧基}羰基}二胺基二苯甲烷、2,4-二{(2-硝基苄基)氧基}二苯乙烯、雙{(2-硝基苄基氧基)羰基}己烷-1,6-二胺及間茬胺{{(2-硝基-4-氯苄基)氧基}醯胺}。
光鹼產生劑宜為肟酯化合物及α-胺基苯乙酮化合物中之至少任1種，更宜為肟酯化合物。α-胺基苯乙酮化合物尤以具有2個以上氮原子者為佳。
其他光鹼產生劑亦可使用WPBG-018(商品名：9-anthrylmethyl N,N’-diethylcarbamate)、WPBG-027(商品名：(E)-1-[3-(2-hydroxyphenyl)-2-propenoyl]piperidine)、WPBG-082(商品名：guanidinium2-(3-benzoylphenyl)propionate)、WPBG-140(商品名：1-(anthraquinon-2-yl)ethyl imidazolecarboxylate)等光鹼產生劑。
上述接著劑組成物可於接著劑組成物中併用光酸產生劑、與含烷氧基或環氧基中之任一者的化合物。
使用分子內具有1個以上環氧基之化合物或分子內具有2個以上環氧基之高分子(環氧樹脂)時，亦可併用分子內具有2個以上與環氧基有反應性之官能基的化合物。此處所謂與環氧基有反應性之官能基，可舉如羧基、酚性羥基、巰基、1級或2級芳香族胺基等。考慮到3維硬化性，以在一分子中具有2個以上該等官能基尤佳。
在分子內具有1個以上環氧基之高分子可舉例如環氧樹脂，且有由雙酚A與表氯醇所衍生之雙酚A型環氧樹脂、由雙酚F與表氯醇所衍生之雙酚F型環氧樹脂、雙酚S型環氧樹脂、苯酚酚醛清漆型環氧樹脂、甲酚酚醛清漆型環氧樹脂、雙酚A酚醛清漆型環氧樹脂、雙酚F酚醛清漆型環氧樹脂、脂環式環氧樹脂、二苯基醚型環氧樹脂、氫醌型環氧樹脂、萘型環氧樹脂、聯苯型環氧樹脂、茀型環氧樹脂、3官能型環氧樹脂或4官能型環氧樹脂等多官能型環氧樹脂、縮水甘油酯型環氧樹脂、縮水甘油胺型環氧樹脂、海因(hydantoin)型環氧樹脂、三聚異氰酸酯型環氧樹脂、脂肪族鏈狀環氧樹脂等，該等環氧樹脂可被鹵素化，亦可被氫化。市售的環氧樹脂製品，可舉例如Japan Epoxy Resins股份公司製的JERCoat 828、1001、801N、806、807、152、604、630、871、YX8000、YX8034、YX4000；DIC股份公司製的Epiclon830、EXA835LV、HP4032D、HP820；股份公司ADEKA製的EP4100系列、EP4000系列、EPU系列；DAICEL化學股份公司製的CELLOXIDE系列(2021、2021P、2083、2085、3000等)、EPOLEAD系列、EHPE系列；新日鐵化學公司製的YD系列、YDF系列、YDCN系列、YDB系列、苯氧樹脂(為由雙酚類與表氯醇所合成之聚羥基聚醚並在兩末端具有環氧基；YP系列等)；NAGASE CHEMTEX公司製的DENACOL系列；共榮社化學公司製的Epolite系列等，惟不限於該等。該等環氧樹脂亦可併用2種以上。
作為分子內具有烷氧基之化合物，只要是分子內具有1個以上烷氧基者就無特別限制，可使用公知之物。此種化合物可舉如三聚氰胺化合物、胺基樹脂、矽烷耦合劑等作為代表。
相對於接著劑組成物之總量，含烷氧基或與環氧基中之任一者的化合物之摻混量通常為30重量%以下，組成物中化合物的含量若過多，接著性就會降低，對落下試驗之耐衝擊性會有惡化的情形。組成物中化合物的含量以20重量%以下較佳。另一方面，從耐水性之觀點來看，組成物中宜含有2重量%以上之化合物，且含有5重量%以上較佳。
在本發明中使用之接著劑組成物為活性能量射線硬化性的情形下，矽烷耦合劑宜使用活性能量射線硬化性的化合物，但即便不是活性能量射線硬化性，仍能賦予同樣的耐水性。
矽烷耦合劑的具體例方面，作為活性能量射線硬化性的化合物可舉如乙烯基三氯矽烷、乙烯基三甲氧基矽烷、乙烯基三乙氧基矽烷、2-(3,4環氧環己基)乙基三甲氧基矽烷、3-環氧丙氧基丙基三甲氧基矽烷、3-環氧丙氧基丙基甲基二乙氧基矽烷、3-環氧丙氧基丙基三乙氧基矽烷、對苯乙烯基三甲氧基矽烷、3-甲基丙烯醯氧基丙基甲基二甲氧基矽烷、3-甲基丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷、3-甲基丙烯醯氧基丙基甲基二乙氧基矽烷、3-甲基丙烯醯氧基丙基三乙氧基矽烷、3-丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷等。
較佳為3-甲基丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷、3-丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷。
不屬於活性能量射線硬化性之矽烷耦合劑的具體例方面，則以具有胺基之矽烷耦合劑為佳。具有胺基之矽烷耦合劑的具體例，可舉如γ-胺丙基三甲氧基矽烷、γ-胺丙基三乙氧基矽烷、γ-胺丙基三異丙氧基矽烷、γ-胺丙基甲基二甲氧基矽烷、γ-胺丙基甲基二乙氧基矽烷、γ-(2-胺乙基)胺丙基三甲氧基矽烷、γ-(2-胺乙基)胺丙基甲基二甲氧基矽烷、γ-(2-胺乙基)胺丙基三乙氧基矽烷、γ-(2-胺乙基)胺丙基甲基二乙氧基矽烷、γ-(2-胺乙基)胺丙基三異丙氧基矽烷、γ-(2-(2-胺乙基)胺乙基)胺丙基三甲氧基矽烷、γ-(6-胺己基)胺丙基三甲氧基矽烷、3-(N-乙胺基)-2-甲基丙基三甲氧基矽烷、γ-脲丙基三甲氧基矽烷、γ-脲丙基三乙氧基矽烷、N-苯基-γ-胺丙基三甲氧基矽烷、N-苄基-γ-胺丙基三甲氧基矽烷、N-乙烯基苄基-γ-胺丙基三乙氧基矽烷、N-環己基胺甲基三乙氧基矽烷、N-環己基胺甲基二乙氧基甲基矽烷、N-苯基胺甲基三甲氧基矽烷、(2-胺乙基)胺甲基三甲氧基矽烷、N,N’-雙[3-(三甲氧基矽基)丙基]乙二胺等含胺基的矽烷類；N-(1,3-二甲基亞丁基)-3-(三乙氧基矽基)-1-丙烷胺等酮亞胺(ketimine)型矽烷類。
具有胺基之矽烷耦合劑可僅使用1種，亦可將多種組合使用。其等之中，為了確保良好的接著性，係以γ-胺丙基三甲氧基矽烷、γ-(2-胺乙基)胺丙基三甲氧基矽烷、γ-(2-胺乙基)胺丙基甲基二甲氧基矽烷、γ-(2-胺乙基)胺丙基三乙氧基矽烷、γ-(2-胺乙基)胺丙基甲基二乙氧基矽烷、N-(1,3-二甲基亞丁基)-3-(三乙氧基矽基)-1-丙烷胺為佳。
矽烷耦合劑之摻混量以相對於接著劑組成物之總量為0.01~20重量%之範圍為佳，0.05~15重量%較佳，0.1~10重量%更佳。因摻混量大於20重量%時，接著劑組成物之儲存穩定性會惡化，而低於0.1重量%時則會無法充分發揮接著耐水性之效果。
上述以外之非屬活性能量射線硬化性的矽烷耦合劑之具體例，可舉如3-脲丙基三乙氧基矽烷、3-氯丙基三甲氧基矽烷、3-巰丙基甲基二甲氧基矽烷、3-巰丙基三甲氧基矽烷、雙(三乙氧基矽基丙基)四硫醚、3-異氰酸酯丙基三乙氧基矽烷、咪唑矽烷等。
本發明中使用之接著劑組成物在含有具乙烯基醚基之化合物時，偏光件與接著劑層之接著耐水性會提升，故甚為理想。獲得該效果之理由雖尚不明朗，但可推測理由之一是由於化合物所具有之乙烯基醚基與偏光件相互作用，藉此提高了偏光件與接著劑層之接著力。為能進一步提高偏光件與接著劑層之接著耐水性，化合物宜為具乙烯基醚基之自由基聚合性化合物。且，化合物之含量以相對於接著劑組成物之總量含有0.1~19重量%為佳。
本發明中使用之接著劑組成物中可含有可產生酮-烯醇互變異構性之化合物。例如，在含有交聯劑之接著劑組成物中或在摻混交聯劑作使用之接著劑組成物中，可適宜採用包含上述可產生酮-烯醇互變異構性之化合物的態樣。藉此，可抑制在摻混有機金屬化合物後接著劑組成物的黏度過度上升或膠化現象、以及微凝膠物的生成，而能實現延長該組成物之使用期限的效果。
上述可產生酮-烯醇互變異構性之化合物可使用各種β-二羰基化合物。具體例可舉如乙醯丙酮、2,4-己二酮、3,5-庚二酮、2-甲基己-3,5-二酮、6-甲基庚-2,4-二酮、2,6-二甲基庚-3,5-二酮等的β-二酮類；乙醯乙酸甲酯、乙醯乙酸乙酯、乙醯乙酸異丙酯、乙醯乙酸三級丁酯等乙醯乙酸酯類；丙醯乙酸乙酯、丙醯乙酸乙酯、丙醯乙酸異丙酯、丙醯乙酸三級丁酯等丙醯乙酸酯類；異丁醯乙酸乙酯、異丁醯乙酸乙酯、異丁醯乙酸異丙酯、異丁醯乙酸三級丁酯等異丁醯乙酸酯類；丙二酸甲酯、丙二酸乙酯等丙二酸酯類等。其中適宜的化合物可舉如乙醯丙酮及乙醯乙酸酯類。所述可產生酮-烯醇互變異構性之化合物可單獨使用，亦可將2種以上組合使用。
可產生酮-烯醇互變異構性之化合物的使用量，可設為例如相對於1重量份之有機金屬化合物為0.05重量份~10重量份，較佳為0.2重量份~3重量份(例如0.3重量份~2重量份)。上述化合物之使用量相對於1重量份之有機金屬化合物若低於0.05重量份，就會有難以發揮充分使用效果的情形。另一方面，該化合物之使用量相對於1重量份之有機金屬化合物若超過10重量份，就會對有機金屬化合物進行過剩的相互作用，而有難以展現所欲耐水性之情況。
本發明之接著劑組成物中可含有聚輪烷。上述聚輪烷具有環狀分子、貫穿該環狀分子的開口部之直鏈狀分子及封端基，該封端基係以該環狀分子不會從該直鏈狀分子脫離之方式配置於該直鏈狀分子兩端。環狀分子宜具有活性能量射線硬化性之官能基。
環狀分子只要其開口部上有直鏈狀分子被以串刺狀包接、可在直鏈狀分子上移動且具有活性能量射線聚合性基之分子，則無特別限定。另，本說明書中，「環狀分子」之「環狀」意指實質上為「環狀」。亦即，只要可在直鏈狀分子上移動，則環狀分子亦可為非完全閉環。
環狀分子之具體例可列舉環狀聚醚、環狀聚酯、環狀聚醚胺、環狀多胺等環狀聚合物；及α-環糊精、β-環糊精、γ-環糊精等環糊精。其中，就較容易取得且能夠選擇多種封端基之觀點看來，宜為α-環糊精、β-環糊精、γ-環糊精等環糊精。環狀分子亦可於聚輪烷中或接著劑中混合存在有2種以上。
本發明所用之聚輪烷中，上述環狀分子具有活性能量射線聚合性基。藉此，即使在聚輪烷與活性能量射線硬化性成分反應而硬化後，仍可獲得交聯點可動之接著劑。環狀分子具有之活性能量射線聚合性基只要是可與上述活性能量射線硬化性化合物聚合之基即可，可舉例如(甲基)丙烯醯基、(甲基)丙烯醯氧基等自由基聚合性基。
使用環糊精作為環狀分子時，活性能量射線聚合性基較佳為透過任意適當之連接子導入環糊精之羥基。聚輪烷於1分子中所具有之活性能量射線聚合性基的數量宜為2個~1280個，較佳為50個~1000個，更佳為90個~900個。
環狀分子中宜導入有疏水性改質基。藉由導入疏水性改質基，可提升與活性能量射線硬化性成分之相溶性。並且，因賦予了疏水性，故在用於偏光薄膜時可防止水浸入接著劑層與偏光件之界面，而可更進一步提升耐水性。疏水性改質基可列舉聚酯鏈、聚醯胺鏈、烷基鏈、氧伸烷基鏈、醚鏈等。具體例可舉出WO2009/145073之[0027]~[0042]中記載之基團。
將含有聚輪烷之樹脂組成物作為接著劑使用之偏光薄膜，其耐水性佳。偏光薄膜之耐水性提升的理由尚不明確，但吾等推測如下。亦即，吾等認為是因聚輪烷的環狀分子的可動性致使交聯點可移動(所謂滑輪效應)，從而對硬化後之接著劑賦予柔軟性，增加對偏光件表面凹凸之密著性，結果便防止了水侵入偏光件與接著劑層之界面。並且吾等還認為藉由聚輪烷具有疏水性改質基而可對接著劑賦予疏水性這一點，亦有助於防止水侵入偏光件與接著劑層之界面。聚輪烷的含量宜相對於樹脂組成物為2重量%~50重量%。
本發明中，為了形成接著劑層，亦可使用陽離子聚合性接著劑組成物。作為陽離子聚合性接著劑組成物中所使用的陽離子聚合性化合物，可分類為：分子內具有1個陽離子聚合性官能基的單官能陽離子聚合性化合物、與分子內具有2個以上陽離子聚合性官能基的多官能陽離子聚合性化合物。單官能陽離子聚合性化合物之液體黏度相對較低，使之含有於樹脂組成物中，便能降低樹脂組成物的液體黏度。又，單官能陽離子聚合性化合物大多具有能表現各種機能之官能基，使之含有於樹脂組成物中，便能使樹脂組成物及/或樹脂組成物之硬化物表現各種機能。多官能陽離子聚合性化合物因能使樹脂組成物之硬化物產生3維交聯，故宜使之含有於樹脂組成物中。單官能陽離子聚合性化合物與多官能陽離子聚合性化合物之比，宜相對於100重量份之單官能陽離子聚合性化合物，以10重量份至1000重量份之範圍混合多官能陽離子聚合性化合物。陽離子聚合性官能基可舉例如環氧基或氧雜環丁烷基、乙烯基醚基。具環氧基之化合物可舉出脂肪族環氧化合物、脂環式環氧化合物、芳香族環氧化合物，本發明之陽離子聚合性接著劑組成物以含有脂環式環氧化合物尤佳，因其硬化性及接著性優異。脂環式環氧化合物可舉如3,4-環氧環己基甲基-3,4-環氧環己烷羧酸酯、3,4-環氧環己基甲基-3,4-環氧環己烷羧酸酯的己內酯改質物、三甲基己內酯改質物或戊內酯改質物等，具體而言可舉出CELLOXIDE 2021、CELLOXIDE 2021A、CELLOXIDE 2021P、CELLOXIDE 2081、CELLOXIDE 2083、CELLOXIDE 2085(以上，DAICEL化學工業公司製)、Cyracure UVR-6105、Cyracure UVR-6107、Cyracure 30、R-6110(以上，DOW CHEMICAL日本公司製)等。具氧雜環丁烷基之化合物有改善本發明之陽離子聚合性接著劑組成物之硬化性、降低該組成物之液體黏度等效果，故宜含有該化合物。具有氧雜環丁烷基之化合物可舉如3-乙-3-羥甲基氧雜環丁烷、1,4-雙[(3-乙-3-氧雜環丁烷基)甲氧基甲基]苯、3-乙-3-(苯氧基甲基)氧雜環丁烷、二[(3-乙-3-氧雜環丁烷基)甲基]醚、3-乙-3-(2-乙基己氧基甲基)氧雜環丁烷、苯酚酚醛清漆氧雜環丁烷等，及市售之ARON OXETANE OXT-101、ARON OXETANE OXT-121、ARON OXETANE OXT-211、ARON OXETANE OXT-221、ARON OXETANE OXT-212(以上，東亞合成公司製)等。具乙烯基醚基之化合物有改善本發明之陽離子聚合性接著劑組成物之硬化性、降低該組成物之液體黏度等效果，故宜含有該化合物。具乙烯基醚基之化合物可舉如2-羥乙基乙烯基醚、二乙二醇單乙烯基醚、4-羥丁基乙烯基醚、二乙二醇單乙烯基醚、三乙二醇二乙烯基醚、環己烷二甲醇二乙烯基醚、環己烷二甲醇單乙烯基醚、三環癸烷乙烯基醚、環己基乙烯基醚、甲氧基乙基乙烯基醚、乙氧基乙基乙烯基醚、新戊四醇型四乙烯基醚等。
陽離子聚合性接著劑組成物含有選自於以上所說明之具環氧基的化合物、具氧雜環丁烷基的化合物、具乙烯基醚基的化合物中之至少1種化合物作為硬化性成分，且其等皆可經由陽離子聚合而硬化，所以可摻混光陽離子聚合起始劑。該光陽離子聚合起始劑藉由可見光線、紫外線、X射線、電子射線等活性能量射線之照射，會產生陽離子種或路易士酸，起始環氧基或氧雜環丁烷基的聚合反應。光陽離子聚合起始劑可使用光酸產生劑與光鹼產生劑，且適宜使用後述之光酸產生劑。又，本發明所使用之接著劑組成物以可見光線硬化性作使用時，宜使用特別對380nm以上的光具有高感度之光陽離子聚合起始劑，但光陽離子聚合起始劑一般而言是在300nm附近或比其更短的波長區域顯示極大吸收的化合物，所以可藉由摻混對較其更長之波長區域、具體而言為波長比380nm更長的光顯示極大吸收之光敏化劑，來感應在其附近波長的光，促進來自光陽離子聚合起始劑之陽離子種或酸的產生。作為光敏化劑，可舉例如蒽化合物、芘化合物、羰基化合物、有機硫化合物、過硫化物、氧化還原系化合物、偶氮及重氮化合物、鹵素化合物及光還原性色素等，其等亦可混合2種以上來使用。尤其蒽化合物因光敏化效果優異而甚為理想，具體而言可舉如ANTHRACURE UVS-1331、ANTHRACURE UVS-1221(川崎化成公司製)。光敏化劑的含量以0.1重量%~5重量%為佳，0.5重量%~3重量%較佳。
>偏光件>本發明中，由提升在高溫高濕下之嚴苛環境下的光學耐久性之觀點，作為偏光件宜使用厚度在3μm以上且15μm以下之薄型偏光件。尤宜為12μm以下，更宜為10μm以下，尤其8μm以下為佳。這種薄型偏光件的厚度參差少，視辨性佳且尺寸變化少，所以對熱衝擊的耐久性優異。
此外，薄型偏光件一般來說水分率低，具體上大部分情況為水分率在15重量%以下。所述低水分率的薄型偏光件雖具有前述效果，但另一方面其與本發明中使用之易接著組成物中所含之含硼化合物的反應性低，而有提升偏光件與接著劑層之接著性的效果不足之情形。因此，本發明偏光薄膜之製造方法中，使用水分率在15重量%以下之偏光件時，易接著組成物宜含有水，具體上係令組成物的總量為100重量%時，水含量宜為5~90重量%，更宜為30~80重量%。
偏光件係使用用了聚乙烯醇系樹脂者。偏光件可舉例如使聚乙烯醇系薄膜、部份縮甲醛化聚乙烯醇系薄膜、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物系部份皂化薄膜等親水性高分子薄膜吸附碘或二色性染料等之二色性材料並進行單軸延伸而成者，及聚乙烯醇之脫水處理物或聚氯乙烯之脫鹽酸處理物等多烯系定向薄膜等。該等之中，又以由聚乙烯醇系薄膜與碘等二色性物質所構成之偏光件為宜。
將聚乙烯醇系薄膜用碘染色並經單軸延伸的偏光件可藉由例如將聚乙烯醇浸漬於碘水溶液中來進行染色，並延伸成原長的3~7倍來製成。亦可視需要浸漬於亦可含有硼酸或硫酸鋅、氯化鋅等之碘化鉀等的水溶液中。進一步亦可視需要在染色前將聚乙烯醇系薄膜浸漬於水中進行水洗。藉由水洗聚乙烯醇系薄膜，可洗淨聚乙烯醇系薄膜表面的污垢及抗結塊劑，除此之外藉由使聚乙烯醇系薄膜膨潤亦有防止染色參差等不均的效果。延伸可於以碘染色後進行，亦可一邊染色並一邊延伸，又或可於延伸後以碘染色。亦可在硼酸或碘化鉀等之水溶液中或水浴中進行延伸。
由延伸穩定性及加濕可靠性之觀點，偏光件宜含有硼酸。又，由抑制貫穿性裂痕產生之觀點，偏光件所含有之硼酸含量宜相對於偏光件總量為22重量%以下，更宜為20重量%以下。由延伸穩定性及加濕可靠性的觀點，硼酸含量相對於偏光件總量宜為10重量%以上，更宜為12重量%以上。
薄型偏光件代表上可舉如：日本專利第4751486號說明書、日本專利第4751481號說明書、日本專利第4815544號說明書、日本專利第5048120號說明書、國際公開第2014/077599號公報手冊、國際公開第2014/077636號公報手冊等所記載的薄型偏光件或由其等所記載之製造方法製得之薄型偏光件。
在包含以積層體之狀態下進行延伸之步驟及染色步驟的製法中，從可以高倍率延伸並提升偏光性能的觀點來看，前述薄型偏光件以諸如日本專利第4751486號說明書、日本專利第4751481號說明書、日本專利4815544號說明書中所記載之以包含在硼酸水溶液中進行延伸之步驟的製法製得者為宜，且尤以如日本專利第4751481號說明書、日本專利4815544號說明書中所記載之以包含在硼酸水溶液中進行延伸前輔助性地進行空中延伸之步驟的製法製得者為宜。該等薄型偏光件可藉由包含以下步驟之製法製得：將聚乙烯醇系樹脂(以下，也稱PVA系樹脂)層與延伸用樹脂基材在積層體的狀態下延伸的步驟與染色的步驟。只要為該製法，則即使PVA系樹脂層很薄，因其被延伸用樹脂基材支持著，故可延伸而不因延伸造成斷裂等不良狀況。
>透明保護薄膜> 透明保護薄膜宜為透明性、機械強度、熱穩定性、水分阻斷性及各向同性等優異者。可舉如：聚對苯二甲酸乙二酯或聚萘二甲酸乙二酯等聚酯系聚合物；二乙醯纖維素或三乙醯纖維素等纖維素系聚合物；聚甲基丙烯酸甲酯等丙烯酸系聚合物；聚苯乙烯或丙烯腈-苯乙烯共聚物(AS樹脂)等苯乙烯系聚合物；以及聚碳酸酯系聚合物等。又，還可列舉下述聚合物作為形成上述透明保護薄膜之聚合物之例：聚乙烯、聚丙烯、具有環系乃至降莰烯結構之聚烯烴、如乙烯-丙烯共聚物之聚烯烴系聚合物、氯乙烯系聚合物、尼龍或芳香族聚醯胺等醯胺系聚合物、醯亞胺系聚合物、碸系聚合物、聚醚碸系聚合物、聚醚醚酮系聚合物、聚伸苯硫系聚合物、乙烯醇系聚合物、氯化亞乙烯系聚合物、乙烯醇縮丁醛系聚合物、芳酯系聚合物、聚甲醛系聚合物、環氧系聚合物或上述聚合物之摻合物等。透明保護薄膜中亦可含有1種以上任意適當的添加劑。添加劑可舉如紫外線吸收劑、抗氧化劑、滑劑、塑化劑、脫模劑、抗著色劑、阻燃劑、成核劑、抗靜電劑、顏料、著色劑等。透明保護薄膜中之上述熱塑性樹脂含量宜為50~100重量%，較佳為50~99重量%，更佳為60~98重量%，特佳為70~97重量%。透明保護薄膜中之上述熱塑性樹脂含量在50重量%以下時，會有無法充分發揮熱塑性樹脂原有的高透明性等之虞。
又，作為透明保護薄膜，可舉日本特開2001-343529號公報(WO01/37007)所記載之聚合物薄膜，例如一種含有(A)在側鏈具有取代及/或非取代醯亞胺基之熱塑性樹脂、與在側鏈具有取代及/或非取代苯基以及腈基之熱塑性樹脂的樹脂組成物。具體例可舉含有由異丁烯與N-甲基馬來醯亞胺所構成之交替共聚物及丙烯腈-苯乙烯共聚物的樹脂組成物之薄膜。薄膜可使用樹脂組成物之混合擠製物等所構成之薄膜。該等薄膜由於相位差小、光彈性係數小，而能消除偏光薄膜應變所造成的不均等不良狀況，且因透濕度低而有優良的加濕耐久性。
又，本發明中使用之透明保護薄膜的透濕度宜為150g/m2 /24h以下。根據所述構成，空氣中的水分就難以進入偏光薄膜中，而可抑制偏光薄膜本身的含水率變化。結果能抑制儲存環境造成偏光薄膜的彎曲或尺寸變化。
設於偏光件之單面或兩面的透明保護薄膜，以透明性、機械強度、熱穩定性、水分阻斷性及各向同性等優異者為佳，尤其是透濕度在150g/m2 /24h以下者較佳，120g/m2 /24h以下者尤佳，5~70g/m2 /24h以下者更佳。
滿足前述低透濕度之透明保護薄膜的形成材料，可使用例如聚對苯二甲酸乙二酯或聚萘二甲酸乙二酯等聚酯樹脂；聚碳酸酯樹脂；芳酯系樹脂；尼龍或芳香族聚醯胺等醯胺系樹脂；聚乙烯、聚丙烯、如乙烯-丙烯共聚物之聚烯烴系聚合物、具有環系乃至降莰烯結構之環狀烯烴系樹脂、(甲基)丙烯酸系樹脂、或是該等混合物。前述樹脂中以聚碳酸酯系樹脂、環狀聚烯烴系樹脂、(甲基)丙烯酸系樹脂為佳，環狀聚烯烴系樹脂、(甲基)丙烯酸系樹脂尤佳。
透明保護薄膜之厚度可適當決定，一般而言從強度或操作性等之作業性、薄層性等之觀點來看，宜為5~100μm。尤以10~60μm為佳，13~40μm較佳。
前述透明保護薄膜通常使用正面相位差小於40nm且厚度方向相位差小於80nm者。正面相位差Re以Re=(nx-ny)×d表示。厚度方向相位差Rth以Rth=(nx-nz)×d表示。且，Nz係數以Nz=(nx-nz)/(nx-ny)表示。[惟，將薄膜之慢軸方向、快軸方向及厚度方向之折射率分別設為nx、ny、nz，且d(nm)設為薄膜之厚度；慢軸方向設為薄膜面內之折射率成為最大的方向]。另，透明保護薄膜宜盡可能為無色。可適宜使用厚度方向之相位差值為-90nm~+75nm之保護薄膜。藉由使用所述厚度方向之相位差值(Rth)為-90nm~+75nm者，可幾乎解決透明保護薄膜造成偏光薄膜著色(光學性著色)的情形。厚度方向之相位差值(Rth)以-80nm~+60nm更佳，-70nm~+45nm特佳。
另一方面，作為前述透明保護薄膜，可使用具有正面相位差為40nm以上及/或厚度方向相位差為80nm以上之相位差的相位差板。正面相位差通常係控制在40~200nm之範圍，厚度方向相位差通常係控制在80~300nm之範圍。使用相位差板作為透明保護薄膜時，該相位差板亦可發揮作為透明保護薄膜的功能，故能謀求薄型化。
作為相位差板，可舉如將高分子素材進行單軸或雙軸延伸處理而成之雙折射性薄膜、液晶聚合物之定向薄膜、以薄膜支持液晶聚合物之定向層者等。相位差板之厚度也並無特別限制，一般為20~150μm左右。高分子素材可舉例如聚乙烯醇、聚乙烯醇縮丁醛、聚甲基乙烯基醚、聚羥乙基丙烯酸酯、羥乙基纖維素、羥丙基織維素、甲基纖維素、聚碳酸酯、聚芳酯、聚碸、聚對苯二甲酸乙二酯、聚萘二甲酸乙二酯、聚醚碸、聚苯硫、聚伸苯醚、聚芳基碸、聚醯胺、聚醯亞胺、聚烯烴、聚氯乙烯、纖維素樹脂、環狀聚烯烴樹脂(降莰烯系樹脂)、或該等之二元系、三元系各種共聚物、接枝共聚物、摻合物等。該等高分子素材藉由延伸等會成為定向物(延伸薄膜)。
液晶聚合物可舉例如聚合物之主鏈或側鏈導入有可賦予液晶定向性之共軛性直鏈狀原子團(液晶原)的各種主鏈型或側鏈型者等。主鏈型液晶聚合物的具體例，可舉在可賦予撓曲性之間隔部鍵結有液晶原基之結構的譬如向列定向型聚酯系液晶性聚合物、盤狀聚合物或膽固醇型聚合物等。側鏈型液晶聚合物的具體例，可舉：以聚矽氧烷、聚丙烯酸酯、聚甲基丙烯酸酯或聚丙二酸酯作為主鏈骨架，且隔著由共軛性原子團構成之間隔部具有賦予向列定向性之對位取代環狀化合物單元所構成的液晶原部作為側鏈者等。該等液晶聚合物是藉由下述方式進行而成：例如於已將形成於玻璃板上之聚醯亞胺或聚乙烯醇等薄膜表面進行磨擦處理者、斜向蒸鍍氧化矽者等之定向處理面上，展開液晶性聚合物溶液後進行熱處理。
相位差板可為例如以利用各種波長板或液晶層之雙折射來著色或補償視角等為目的者等因應使用目而具有適當相位差者，也可為經積層2種以上相位差板來控制相位差等光學特性者等。
相位差板可因應各種用途選擇滿足nx=ny>nz、nx>ny>nz、nx>ny=nz、nx>nz>ny、nz=nx>ny、nz>nx>ny、nz>nx=ny之關係者來使用。此外，ny=nz不只ny與nz完全相同之情況，還包含ny與nz實質上相同之情況。
舉例來說，滿足nx>ny>nz之相位差板，宜使用正面相位差滿足40~100nm、厚度方向相位差滿足100~320nm、且Nz係數滿足1.8~4.5者。舉例來說，滿足nx>ny=nz之相位差板(positive A plate)，宜使用正面相位差滿足100~200nm者。舉例來說，滿足nz=nx>ny之相位差板(negative A plate)，宜使用正面相位差滿足100~200nm者。舉例來說，滿足nx>nz>ny之相位差板，宜使用正面相位差滿足150~300nm並且Nz係數滿足大於0且至0.7者。又，如前述，可使用例如滿足nx=ny>nz、nz>nx>ny或nz>nx=ny者。
透明保護薄膜可因應所應用之液晶顯示裝置適當選擇。例如，VA(VerticalAlignment，包含MVA、PVA)的情況，以偏光薄膜之至少一面(單元側)透明保護薄膜具有相位差為佳。就具體的相位差而言，以Re=0~240nm、Rth=0~500nm之範圍為佳。以三維折射率而言，係以nx>ny=nz、nx>ny>nz、nx>nz>ny、nx=ny>nz(positive A plate，雙軸，negative C plate)之情況為佳。VA型是以使用positive A plate與negative C plate之組合、或1片雙軸薄膜為佳。於液晶單元之上下使用偏光薄膜時，液晶單元之上下皆可具有相位差，或可上下任一方之透明保護薄膜具有相位差。
例如，IPS(In-Plane Switching，包含FFS)的情況，無論在偏光薄膜之單面的透明保護薄膜具有相位差時、不具相位差時皆可使用。例如，不具相位差時，以液晶單元之上下(單元側)皆不具相位差為佳。具有相位差時，以液晶單元之上下皆具有相位差、上下任一方具有相位差為佳(例如，上側為滿足nx>nz>ny關係之雙軸薄膜且下側為不具相位差之情況，或上側為positive A plate且下側為positive C plate之情況)。具有相位差時，以Re=-500~500nm、Rth=-500~500nm之範圍為佳。以三維折射率而言，以nx>ny=nz、nx>nz>ny、nz>nx=ny、nz>nx>ny(positive A plate，雙軸，positive C plate)為佳。
透明保護薄膜為了補充其機械強度或操作性，可更積層有剝離性基材。剝離性基材可於貼合透明保護薄膜與偏光件前或後、於該步驟中或於其他步驟中，從含透明保護薄膜與偏光件之積層體剝離。
以下，就本發明偏光薄膜之製造方法中的各步驟予以說明。
本發明偏光薄膜之製造方法中，該偏光薄膜於偏光件之至少一面隔著接著劑層設有透明保護薄膜，並且該製造方法具有於偏光件的接著劑層形成面側塗敷易接著組成物之步驟。
此外偏光件及透明保護薄膜可在塗敷步驟前進行表面改質處理。尤其宜對偏光件表面進行表面改質處理。表面改質處理可舉電暈處理、電漿處理、準分子處理及火焰處理等，且以電暈處理尤佳。藉由進行電暈處理，可在偏光件表面生成羰基或胺基等反應性官能基，而提升與接著劑層之密著性。並且，藉由灰化效果可除去表面異物、減輕表面凹凸，故能作成外觀特性優異之偏光薄膜。
>易接著組成物之塗敷步驟> 本發明中，可於偏光件單面塗敷易接著組成物，亦可於偏光件兩面塗敷易接著組成物。於偏光件之接著劑層形成面側塗敷易接著組成物之方法可依組成物之黏度或所欲厚度適當選擇，惟由去除偏光件表面的異物或塗敷性之觀點看來，宜使用後計量塗敷方式。後計量塗敷方式之具體例可列舉凹版輥塗敷方式、順輥(forward roll)塗敷方式、氣刀塗敷方式、桿式/棒式塗敷方式等。該等中，由去除偏光件表面的異物或塗敷性之觀點，尤宜為舉凹版輥塗敷方式。
凹版輥塗敷方式中，可於凹版輥表面形成各種圖案，例如可形成蜂巢網格圖案、梯形圖案、格子圖案、金字塔圖案或斜線圖案等。為了有效防止最終所製得之偏光薄膜產生外觀缺陷，形成於前述凹版輥表面的圖案宜為蜂巢網格圖案。為蜂巢網格圖案時，為了提高塗敷易接著組成物後塗敷面的面精度，凹槽容積宜為1~5cm3 /m2 ，且宜為2~3cm3 /m2 。同樣為了提高塗敷易接著組成物後塗敷面的面精度，輥的每1inch之凹槽線數宜為200~3000線/inch。且，相對於偏光件的行進速度，前述凹版輥的旋轉速度比宜為100~300%。
>易接著組成物之乾燥步驟> 本發明偏光薄膜之製造方法中，可藉由於偏光件之接著劑層形成面側塗敷易接著組成物來形成附易接著層之偏光件，亦可在易接著組成物之塗敷步驟之後，視需求設置乾燥步驟，藉此來形成附易接著層之偏光件。乾燥步驟可使用熟知此項技藝之人士公知之步驟，例如風乾步驟、加熱步驟、熱風風乾步驟。
本發明偏光薄膜之製造方法包含以下步驟：接著劑組成物之塗敷步驟，係在易接著組成物之塗敷步驟、視需求經由易接著組成物之乾燥步驟形成附易接著層之偏光件後，於附易接著層之偏光件的易接著層形成面及透明保護薄膜中之至少一面塗敷接著劑組成物；貼合步驟，係貼合偏光件及透明保護薄膜；及接著步驟，係從偏光件面側或透明保護薄膜面側照射活性能量射線，使接著劑組成物硬化從而製得接著劑層，並透過該接著劑層接著偏光件及透明保護薄膜。
>接著組成物之塗敷步驟> 塗敷接著劑組成物的方法可視組成物之黏度或所欲厚度來適當選擇，可舉例如逆向式塗佈機、凹版塗佈機(直接、逆向或間接)、棒式逆向式塗佈機、輥塗佈機、模塗機、棒塗機、桿塗機等。
>貼合步驟> 透過如上述塗敷後之接著劑組成物，貼合偏光件與透明保護薄膜。偏光件與透明保護薄膜之貼合可使用輥壓積層器來進行。
>接著步驟> 在貼合偏光件與透明保護薄膜後，照射活性能量射線(電子射線、紫外線、可見光線等)，使接著劑組成物硬化形成接著劑層。活性能量射線(電子射線、紫外線、可見光線等)之照射方向可從任意適當之方向照射。較理想的是從透明保護薄膜側進行照射。若從偏光件側進行照射，則會有偏光件因活性能量射線(電子射線、紫外線、可見光線等)劣化之虞。
照射電子射線時之照射條件只要為可將上述接著劑組成物硬化之條件，即可採用任意適當條件。例如，照射電子射線時，加速電壓宜為5kV~300kV，更宜為10kV~250kV。加速電壓低於5kV時，電子射線會無法到達接著劑而有硬化不足之虞；加速電壓超過300kV時，通過試料之滲透力會過強，而有對透明保護薄膜或偏光件造成傷害之虞。照射線量為5~100kGy，較佳為10~75kGy。照射線量低於5kGy時，接著劑會硬化不足；超過100kGy時，會對透明保護薄膜或偏光件造成傷害，使機械強度降低或產生黃變，而無法獲得預定之光學特性。
電子射線之照射通常係於非活性氣體中進行照射，然若有必要，亦可於大氣中或導入了少量氧的條件下進行。雖因透明保護薄膜的材料而定，惟藉由適當導入氧可在電子射線會一開始接觸的透明保護薄膜面上特意產生氧阻障，防止對透明保護薄膜造成損害，而能有效率地只對接著劑照射電子射線。
本發明偏光薄膜之製造方法中，活性能量射線以使用包含波長範圍380nm~450nm之可見光線、特別是波長範圍380nm~450nm之可見光線的照射量最多之活性能量射線為佳。使用紫外線、可見光線時，若使用賦予了紫外線吸收能之透明保護薄膜(紫外線不穿透型透明保護薄膜)時，會吸收波長比約380nm短之光，故波長比380nm短之光不會到達接著劑組成物，而對其聚合反應沒有幫助。並且，被透明保護薄膜吸收之波長較380nm短之光會轉換成熱，使透明保護薄膜本身發熱，造成偏光薄膜產生捲曲、起皺等不良之原因。因此，本發明中採用紫外線、可見光線時，活性能量射線產生裝置以使用不發出波長比380nm短之光的裝置為佳，更具體來說，以波長範圍380~440nm之累積照度與波長範圍250~370nm之累積照度的比為100:0至100:50為佳，較佳為100:0至100:40。本發明偏光薄膜之製造方法中，活性能量射線宜為充有鎵之金屬鹵素燈、發出波長範圍380~440nm之LED光源。或可使用低壓水銀燈、中壓水銀燈、高壓水銀燈、超高壓水銀燈、白熱燈泡、氙燈、鹵素燈、碳弧燈、金屬鹵素燈、螢光燈、鎢絲燈、鎵燈、包含準分子雷射或太陽光等紫外線與可見光線之光源，亦可用帶通濾波器遮蔽波長較380nm短之紫外線來使用。為了提高偏光件與透明保護薄膜之間的接著劑層的接著性能，同時防止偏光薄膜捲曲，宜使用：使用充有鎵之金屬鹵素燈並透過可遮蔽波長較380nm短之光的帶通濾波器而得的活性能量射線、或使用LED光源而得之波長405nm的活性能量射線。
在照射紫外線或可見光線之前將接著劑組成物加溫(照射前加溫)亦適宜，此時以加溫至40℃以上為佳，加溫至50℃以上較佳。且，在照射紫外線或可見光線之後將活性能量射線硬化型接著劑組成物加溫(照射後加溫)亦適宜，此時以加溫至40℃以上為佳，加溫至50℃以上較佳。
本發明中使用之接著劑組成物尤其可適於形成用以將偏光件與波長365nm之透光率低於5%之透明保護薄膜接著的接著劑層之情形。在此，本發明所使用之接著劑組成物藉由含有上述通式(3)之光聚合起始劑，隔著具有UV吸收能之透明保護薄膜照射紫外線，可硬化形成接著劑層。因此，即便對偏光件兩面積層有具有UV吸收能之透明保護薄膜而成的偏光薄膜，亦可使接著劑層硬化。而理所當然，對積層有不具有UV吸收能之透明保護薄膜而成的偏光薄膜，亦可使接著劑層硬化。此外，所謂具有UV吸收能之透明保護薄膜，意指對380nm之光的透射率低於10%的透明保護薄膜。
對透明保護薄膜賦予UV吸收能之方法，可舉如使透明保護薄膜中含有紫外線吸收劑之方法、與使透明保護薄膜表面積層含有紫外線吸收劑之表面處理層之方法。
紫外線吸收劑之具體例可舉例如以往公知之氧二苯基酮系化合物、苯并三唑系化合物、柳酸酯系化合物、二苯基酮系化合物、氰基丙烯酸酯系化合物、鎳錯合鹽系化合物、三系化合物等。
本發明之偏光薄膜以連續生產線製造時，生產線速度係依接著劑組成物之硬化時間而定，惟以1~500m/min為佳，並以5~300m/min較佳，10~100m/min更佳。生產線速度過低時，生產性差，或對透明保護薄膜造成過大傷害，而無法製作出可承受耐久性試驗等的偏光薄膜。生產線速度過大時，硬化型樹脂組成物的硬化會不足，而有無法獲得所欲接著性的情況。
>光學薄膜> 本發明之偏光薄膜在實際使用時，可作為與其他光學層積層而成之光學薄膜來使用。關於其光學層並無特別限定，可舉如相位差薄膜(包含1/2或1/4等之波長板)、視覺補償薄膜、亮度提升薄膜、反射板或半透射板等能成為可用於形成液晶顯示裝置等的光學層者。
作為前述相位差薄膜，可使用具有正面相位差為40nm以上及/或厚度方向相位差為80nm以上之相位差者。正面相位差通常係控制在40~200nm之範圍，厚度方向相位差通常係控制在80~300nm之範圍。
作為相位差薄膜，可舉如將高分子素材進行單軸或雙軸延伸處理而成之雙折射性薄膜、液晶聚合物之定向薄膜、以薄膜支持液晶聚合物之定向層者。相位差薄膜之厚度也並無特別限制，一般為20~150μm左右。
作為相位差薄膜，亦可使用滿足下述式(1)乃至(3)之逆波長分散型相位差薄膜： 0.70>Re[450]/Re[550]>0.97…(1) 1.5×10-3>Δn>6×10-3…(2) 1.13>NZ>1.50…(3) (式中，Re[450]及Re[550]分別係在23℃下以波長450nm及550nm之光測得之相位差薄膜的面內相位差值；Δn係分別將相位差薄膜之慢軸方向、快軸方向之折射率設為nx、ny時nx-ny的面內雙折射；NZ係令nz為相位差薄膜之厚度方向的折射率時，厚度方向雙折射之nx-nz與面內雙折射之nx-ny的比)。
亦可在前述偏光薄膜或積層有至少1層偏光薄膜之光學薄膜上，設置用於與液晶單元等其他構件接著之黏著層。形成黏著層之黏著劑並無特別限制，可適當選擇以丙烯酸系聚合物、聚矽氧系聚合物、聚酯、聚胺甲酸酯、聚醯胺、聚醚、氟系或橡膠系等聚合物作為基底聚合物之物來使用。尤佳的是可使用如丙烯酸系黏著劑般可展現優異光學透明性以及適度濡濕性、凝集性與接著性等之黏著特性並且具有優異耐候性及耐熱性等之物。
黏著層亦可以不同組成或種類等之物的重疊層形式設置於偏光薄膜或是光學薄膜之單面或兩面。又，在設置於兩面之情形下，於偏光薄膜或光學薄膜之表背亦可做成組成、種類或厚度等相異的黏著層。黏著層之厚度可因應使用目的或接著力等來適宜決定，一般為1~500μm，宜為1~200μm，尤宜為1~100μm。
對於黏著層之露出面為防止其受污染，可在供實際使用前之期間用分離件暫時貼附並覆蓋。藉此，可防止在一般操作狀態下接觸到黏著層。作為分離件，除了上述厚度條件外，可使用依循習知之適當物品，例如可使用經將塑膠薄膜、橡膠片、紙、布、不織布、網狀物、發泡片或金屬箔及該等之積層體等適當的薄片體因應需要以聚矽氧系或長鏈烷基系、氟系或硫化鉬等適當的剝離劑進行塗佈處理者。
>影像顯示裝置> 本發明之偏光薄膜或光學薄膜可適宜使用在液晶顯示裝置等各種裝置的形成等等。液晶顯示裝置之形成可照以往行事。即，液晶顯示裝置一般是藉由將液晶單元與偏光薄膜或光學薄膜及因應需求的照明系統等構成零件適當組裝並組入驅動電路等而形成，而在本發明中，除使用本發明之偏光薄膜或光學薄膜此點以外無特別限定，可依習知為準。關於液晶單元，可使用譬如TN型或STN型、π型等任意型式者。
可形成液晶單元之單側或兩側配置有偏光薄膜或光學薄膜之液晶顯示裝置、或是於照明系統使用了背光件或反射板等適當的液晶顯示裝置。此時，本發明之偏光薄膜或光學薄膜可配置於液晶單元之單側或兩側。於兩側設置偏光薄膜或光學薄膜時，其等可相同亦可相異。並且於形成液晶顯示裝置時，可在適當位置上配置1層或2層以上諸如擴散板、防眩層、抗反射膜、保護板、稜鏡陣列、透鏡陣列片材、光擴散板、背光件等適當零件。 實施例
以下記載本發明之實施例，惟本發明之實施形態不受限於此。
>偏光件> 首先將非晶性PET基材上成膜有厚9μm之PVA層的積層體，利用延伸溫度130℃之空中輔助延伸生成延伸積層體，接著將延伸積層體利用染色而生成著色積層體後，利用延伸溫度65度之硼酸水中延伸將著色積層體與非晶性PET基材一體地進行延伸，以使總延伸倍率成為5.94倍，而生成出包含厚5μm之PVA層的光學薄膜積層體。而可獲得包含用以構成薄型偏光件之厚度5μm之PVA層的光學薄膜積層體，該光學薄膜積層體之成膜於非晶性PET基材之PVA層的PVA分子經所述2段延伸而高度定向，且藉染色而吸附的碘以多碘離子錯合物之形式於一方向高度定向。薄型偏光件(PVA層)的水分率為10重量%。
>透明保護薄膜A> 利用雙軸捏合機將日本特開2010-284840號公報中製造例1記載之醯亞胺化MS樹脂100重量份及三系紫外線吸收劑(ADEKA公司製，商品名：T-712)0.62重量份於220℃下混合，而製出樹脂丸粒。使所獲得之樹脂丸粒在100.5kPa、100℃下乾燥12小時，並以單軸擠製機於模具溫度270℃下從T型模頭擠製出而成形為薄膜狀(厚度160μm)。並再將該薄膜在150℃的氣體環境下沿其輸送方向延伸(厚度80μm)，接著塗佈含有水性胺甲酸酯樹脂的易接著劑後，在150℃的氣體環境下沿正交於薄膜輸送方向的方向延伸，而製得厚度40μm的透明保護薄膜A。
>透明保護薄膜B> 作為透明保護薄膜B，使用了厚度60μm之三乙醯纖維素薄膜(FUJIFILM公司製：Fujitac TG60UL)。
>活性能量射線> 活性能量射線係使用可見光線(充有鎵之金屬鹵素燈)，照射裝置：Fusion UV Systems, Inc公司製的Light HAMMER10，燈泡：V燈泡，峰值照度：1600mW/cm2 ，累積照射量1000/mJ/cm2(波長380~440nm)。此外，可見光線之照度係使用Solatell公司製Sola-Check系統測定。
(調整易接著組成物) 依表1記載之組成，調整實施例1~10及比較例1~3使用之易接著組成物。將表1記載之原料的詳細內容顯示於下。 (1)含硼化合物3-丙烯醯胺苯基硼酸；純正化學公司製 (2)調平劑商品名「OLFINE EXP.4200」，日信化學工業公司製 (3)沸點在85℃以上之具有聚合性基的單體 丙烯醯基嗎福林(沸點158℃)；商品名「ACMO」，興人公司製 乙二醇二丙烯酸酯(乙二醇部位的n數≒9)(沸點197.3℃)；商品名「LIGHT ACRYLATE 9EG-A」，共榮社化學公司製 羥乙基丙烯醯胺(沸點124℃)；商品名「HEAA」，興人公司製 (4)沸點在85℃以上之有機溶劑 二丙酮醇(沸點166℃) 乙二醇(沸點197.3℃) (5)稀釋劑 水(沸點100℃) 異丙醇(沸點82.4℃)
(易接著組成物之塗敷步驟) 使用具備凹版輥的凹版輥塗敷方式，於上述偏光件的包含厚度5μm之PVA層的光學薄膜積層體之PVA面塗敷表1記載之易接著組成物，並於25℃下使其風乾燥1分鐘，從而製作出附易接著層之偏光件。將於各實施例及比較例之塗敷步驟中，易接著組成物塗敷時之乾燥前厚度(Wet厚度)及乾燥後厚度(Dry厚度)顯示於表1。
(塗敷性評估) 各實施例及比較例之塗敷步驟中，塗敷時未產生橫紋時評估為〇，有產生時評估為×。又，凹版輥與偏光件未黏結時評估為〇，有黏結時評估為×。將結果列於表1。
(調整接著劑組成物) 在令組成物之總量為100重量%時，將丙烯醯基嗎福林43.0重量%、1,9-壬二醇二丙烯酸酯(商品名「LIGHT-ACRYLATE 1.9ND-A」，共榮社化學公司製)43.0重量%、(甲基)丙烯酸單體聚合而成的丙烯酸系寡聚物(商品名「ARUFON UG4010」，東亞合成公司製)9.7重量%、屬光起始劑的二乙基9-氧硫 (通式(3)記載之化合物，商品名「KAYACURE DETX-S」，日本化藥公司製)2.9重量%、屬光聚合起始劑的2-甲-1-(4-甲基硫基苯基)-2-嗎福林基丙-1-酮(通式(4)記載之化合物，商品名「IRGACURE 907」，BASF公司製)1.4重量%混合並於50℃下攪拌1小時，從而調整出實施例及比較例中所使用之接著劑組成物。
(製作偏光薄膜) 使用MCD塗佈機(富士機械公司製)(凹槽形狀：蜂巢狀，凹版輥線數：1000條/inch，旋轉速度140%/相對生產線速度)，於透明保護薄膜A的貼合面側將上述接著劑組成物塗佈成厚度0.7μm，而形成未硬化之接著劑層。接著，使用輥軋機從上述附易接著層之偏光件的易接著層面側貼合透明保護薄膜。之後，從已貼合之透明保護薄膜側利用活性能量射線照射裝置照射上述可見光線，使偏光件與透明保護薄膜接著後，於70℃下進行3分鐘熱風乾燥，並將積層於偏光件另一側的非晶性PET基材剝離去除，從而製得於偏光件單側具有透明保護薄膜的偏光薄膜。貼合之生產線速度係以25m/min來進行。為了評估耐水接著性，使用透明保護薄膜B，藉由與前述相同方法製出偏光薄膜。
(耐水接著性評估(初始接著力)) 將所得之偏光薄膜裁切成平行於偏光件之延伸方向為200mm、直行方向為15mm之大小，再將偏光薄膜貼合到玻璃板上。接著在透明保護薄膜與偏光件之間用美工刀劃下切痕，並以萬能試驗機(TENSILON)，於剝離速度300mm/min下往90度方向剝離保護薄膜與偏光件，測定其剝離強度(N/15mm)。然後，以ATR法測定剝離後之剝離面的紅外線吸收光譜，根據下述基準來評估剝離形態。將結果列於表1。 〇：透明保護薄膜發生材料破壞的狀況或是偏光件發生材料破壞的狀況 ×：透明保護薄膜與接著劑層間發生界面剝離的狀況，或是偏光件與接著劑層間發生界面剝離的狀況
(耐水接著性評估(冷水浸漬剝離試驗)) 將所得偏光薄膜裁切成平行於偏光件之延伸方向為200mm、直行方向為20mm之大小。將該偏光薄膜浸漬於23℃之純水中24小時後取出並用乾布擦拭後，在保護薄膜與偏光件之間用美工刀劃出切痕後，將偏光薄膜貼合至玻璃板上。並以萬能試驗機(TENSILON)，於剝離速度10m/min下往90度方向剝離透明保護薄膜與偏光件，測定其剝離強度。此外，上述評估係在將偏光薄膜從純水取出後於1分鐘內進行。將結果列於表1。
(耐水接著性評估(嚴苛冷水浸漬剝離試驗)) 將所得偏光薄膜裁切成平行於偏光件之延伸方向為200mm、直行方向為20mm之大小。將該偏光薄膜浸漬於23℃之純水中48小時後取出並用乾布擦拭後，在保護薄膜與偏光件之間用美工刀劃出切痕後，將偏光薄膜貼合至玻璃板上。並以萬能試驗機(TENSILON)，於剝離速度10m/min下往90度方向剝離透明保護薄膜與偏光件，測定其剝離強度。此外，上述評估係在將偏光薄膜從純水取出後於1分鐘內進行。將結果列於表1。
[表1]

Claims (13)

  1. 一種偏光薄膜之製造方法，該偏光薄膜係於偏光件之至少一面隔著接著劑層設有透明保護薄膜者，該偏光薄膜之製造方法之特徵在於：其具有塗敷步驟，該步驟係於前述偏光件的接著劑層形成面側塗敷易接著組成物；並且，前述易接著組成物含有水、以及下述通式(1)所示化合物：
    Figure 108133072-A0305-02-0073-1
     (惟，X為含有反應性基之官能基，R1及R2分別獨立表示氫原子、可具有取代基之脂肪族烴基、芳基或雜環基)；而且，前述易接著組成物還含有沸點為85℃以上的有機溶劑及沸點為85℃以上的具有聚合性基之單體中之任一者或兩者。
  2. 如請求項1之偏光薄膜之製造方法，其中前述通式(1)所示化合物係下述通式(1')所示化合物：
    Figure 108133072-A0305-02-0073-2
     (惟，Y為有機基，X、R1及R2與前述相同)。
  3. 如請求項1或2中任一項之偏光薄膜之製造方法，其中前述通式(1)所示化合物具有之反應性基係選自於由(甲基)丙烯醯胺基、α,β-不飽和羰基、乙烯基、乙烯基醚基、環氧基、氧雜環丁烷基、胺基、醛基、巰基及鹵素基所構成群組中之至少1種反應性基。
  4. 如請求項1或2之偏光薄膜之製造方法，其中前述偏光件之水分率為15重量%以下。
  5. 如請求項1或2之偏光薄膜之製造方法，其中前述易接著組成物含有水。
  6. 如請求項1或2之偏光薄膜之製造方法，其中前述塗敷步驟係使用後計量塗敷方式塗敷前述易接著組成物之步驟。
  7. 如請求項6之偏光薄膜之製造方法，其中前述後計量塗敷方式係使用凹版輥之凹版輥塗敷方式。
  8. 一種附易接著層之偏光件，係於偏光件之至少一面形成有易接著層者，且其特徵在於：前述易接著層含有水、以及下述通式(1)所示化合物：
    Figure 108133072-A0305-02-0074-3
     (惟，X為含有反應性基之官能基，R1及R2分別獨立表 示氫原子、可具有取代基之脂肪族烴基、芳基或雜環基)；而且，前述易接著層還含有沸點為85℃以上的有機溶劑及沸點為85℃以上的具有聚合性基之單體中之任一者或兩者。
  9. 如請求項8之附易接著層之偏光件，其中前述通式(1)所示化合物係下述通式(1')所示化合物：
    Figure 108133072-A0305-02-0075-4
     (惟，Y為有機基，X、R1及R2與前述相同)。
  10. 如請求項8或9中任一項之附易接著層之偏光件，其中前述通式(1)所示化合物具有之反應性基係選自於由(甲基)丙烯醯胺基、α,β-不飽和羰基、乙烯基、乙烯基醚基、環氧基、氧雜環丁烷基、胺基、醛基、巰基及鹵素基所構成群組中之至少1種反應性基。
  11. 一種偏光薄膜，其特徵在於：於如請求項8至10中任一項之附易接著層之偏光件的易接著層形成面隔著接著劑層設有透明保護薄膜。
  12. 一種光學薄膜，其特徵在於：積層有至少1片如請求項11之偏光薄膜。
  13. 一種影像顯示裝置，其特徵在於：使用有如請求項11之偏光薄膜及/或如請求項12之光學薄膜。
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