TW201443183A - 活性能量線硬化型接著劑組成物、偏光薄膜及其製造方法、光學薄膜以及影像顯示裝置 - Google Patents

活性能量線硬化型接著劑組成物、偏光薄膜及其製造方法、光學薄膜以及影像顯示裝置 Download PDF

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Abstract

本發明係一種可提供用以積層至少2片構件之接著劑層的活性能量線硬化型接著劑組成物，為提供一種可提供於常溫水中浸漬數小時後仍可發揮接著性之耐水性極為優異的接著劑之活性能量線硬化型接著劑組成物，至少以自由基聚合性化合物(A)、自由基產生劑(B)、光酸產生劑(C)、及含烷氧基之胺基化合物(D)構成活性能量線硬化型接著劑組成物。

Description

活性能量線硬化型接著劑組成物、偏光薄膜及其製造方法、光學薄膜以及影像顯示裝置 技術領域
本發明係有關於形成接著2個以上構件之接著劑層的活性能量線硬化型接著劑組成物，特別是形成偏光件與透明保護薄膜之接著劑層的活性能量線硬化型接著劑組成物、及偏光薄膜。該偏光薄膜可單獨、或將其積層後作為光學薄膜，形成液晶顯示裝置(LCD)、有機EL顯示裝置、CRT、PDP等影像顯示裝置。此外，本發明並有關於該偏光薄膜之製造方法、光學薄膜及影像顯示裝置。
背景技術
鐘錶、行動電話、PDA、筆記型電腦、電腦用螢幕、DVD撥放器、TV等液晶顯示裝置正急遽地佔領市場。液晶顯示裝置藉由液晶之交換使偏光狀態可視化，其顯示原理係使用偏光件。特別是，於TV等用途中，逐漸要求高亮度、高對比、廣角，且偏光薄膜方面亦陸續追求高透射率、高偏光度、高色彩真實度等。
偏光件由具高透射率、高偏光度來看，一般最廣泛使用例如，使碘吸附於聚乙烯醇(以下，僅稱作「PVA」) 後延伸之構造的碘系偏光件。一般而言，偏光薄膜正使用藉由於水中溶解有聚乙烯醇系材料之所謂水系接著劑，將透明保護薄膜貼合於偏光件的兩面者(下述專利文獻1及專利文獻2)。透明保護薄膜使用有透濕度高之三乙酸纖維素等。
製造偏光薄膜時，於使用有如聚乙烯醇系接著劑之水系接著劑(即濕式積層)時，於貼合偏光件與透明保護薄膜後，需要乾燥步驟。為提升偏光薄膜之生產性，以縮短乾燥步驟、或使用不需乾燥步驟之其他接著方法為佳。
又，於使用水系接著劑時，為提高與偏光件之接著性，需相對地提高偏光件之含水率(通常偏光件之含水率為30%左右)，才可得到接著性良好之偏光薄膜。但，如此所得之偏光薄膜中，有高溫、或高溫高濕度下尺寸變化大、光學特性差等問題。另一方面，為抑制尺寸變化，可降低偏光件之含水率、或使用透濕度低的透明保護薄膜。然而，於使用水系接著劑貼合如此之偏光件與透明保護薄膜時，將產生乾燥效率下降、偏光特性下降、或外觀不良，未能得到實質上有用之偏光薄膜。
又，特別是如TV中具代表性者，近年來，隨著影像顯示裝置之大螢幕化，偏光薄膜之大型化由生產性或成本面(提升良率、收率)來看亦非常重要。但，使用有前述水系接著劑之偏光薄膜中，有因背光源之熱引起偏光薄膜之尺寸變化而不均勻，造成畫面全體之一部分黑色螢幕反白的所謂漏光(不均勻)變得顯著的問題。
為解決上述濕式積層之問題，有人提出了未含水或有機溶劑的活性能量線硬化型接著劑。例如，下述專利文獻3中，揭示了一種含有(A)含有極性基之分子量1,000以下的自由基聚合性化合物、(B)未含極性基之分子量1,000以下的自由基聚合性化合物、及(D)自由基產生劑的活性能量線硬化型接著劑。然而，構成如此之接著劑的自由基聚合性化合物(單體)之組合係特別為了提升對降冰片烯系樹脂薄膜之接著性為目的所設計者，故有與偏光膜之接著性差的傾向。
下述專利文獻4中，揭示了一種以360~450nm波長之莫耳吸光係數為400以上的自由基產生劑與紫外線硬化性化合物作為必須成分的活性能量線硬化型接著劑。然而，構成此種接著劑之單體的組合，主要係以防止接著光碟等時翹曲．變形為目的所設計者，於作為偏光膜用使用時，有與偏光膜之接著性差的傾向。
下述專利文獻5中，揭示了一種於(甲基)丙烯酸系化合物之合計量100重量份中含有(a)分子中具有2個以上(甲基)丙烯醯基的(甲基)丙烯酸系化合物、(b)分子中具有羥基並僅具有1個聚合性雙鍵的(甲基)丙烯酸系化合物、及(c)含有酚環氧乙烷改質丙烯酸酯或壬基酚環氧乙烷改質丙烯酸酯的活性能量線硬化型接著劑。然而，構成此種接著劑之單體的組合，因各單體間之相溶性相對的低，且隨之進行相分離，有接著劑層之透明性下降的疑慮。又，此種接著劑藉使硬化物(接著劑層)變軟(減少Tg)來提升接著性，有 抗裂性等耐久性惡化的疑慮。抗裂性可藉由冷熱衝撃試驗(熱震試驗)評價。
本發明人等開發了一種含有自由基聚合性化合物、光自由基產生劑及光酸產生劑之活性能量線硬化型接著劑(下述專利文獻6及專利文獻7)。此外，本發明人等開發了一種含有至少3種SP值相異之自由基聚合性化合物的活性能量線硬化型接著劑組成物(下述專利文獻8)。
先前技術文獻 專利文獻
專利文獻1：日本專利特開2006-220732號公報
專利文獻2：日本專利特開2001-296427號公報
專利文獻3：日本專利特開2008-009329號公報
專利文獻4：日本專利特開平09-31416號公報
專利文獻5：日本專利特開2008-174667號公報
專利文獻6：日本專利特開2012-67260號公報
專利文獻7：日本專利特開2012-68593號公報
專利文獻8：日本專利特開2012-144690號公報
發明概要
前述專利文獻6-8中記載之接著劑係接著性及耐水性優異者，近年來，正追求於常溫水中浸漬數小時後仍可發揮接著性之耐水性極為優異的接著劑。相對於此，專利文獻6-8中記載之接著劑要將耐水性提高至於常溫水中 浸漬數小時後仍可發揮接著性之程度，還有進步的空間。
本發明係有鑑於前述課題所作成者，其目的在於提供一種可提供用以積層至少2片構件之接著劑層的活性能量線硬化型接著劑組成物，該活性能量線硬化型接著劑組成物於常溫水中浸漬數小時後仍可發揮接著性，耐水性極為優異。進而本發明之目的並在於提供具耐水性極為優異之接著劑層的偏光薄膜及其製造方法、光學薄膜以及影像顯示裝置。
前述目的可藉由如下之本發明達成。換言之，本發明之活性能量線硬化型接著劑組成物含有：自由基聚合性化合物(A)、自由基產生劑(B)、光酸產生劑(C)、及含烷氧基之胺基化合物(D)。
前述活性能量線硬化型接著劑組成物中，前述含烷氧基之胺基化合物(D)以含烷氧基之胺基矽烷耦合劑(D1)為佳。
前述活性能量線硬化型接著劑組成物中，令前述自由基聚合性化合物(A)之總量為100重量份時，前述含烷氧基之胺基矽烷耦合劑(D1)之含量以0.1~20重量份為佳。
前述活性能量線硬化型接著劑組成物中，前述光酸產生劑(C)宜含有具選自於由PF6 -、SbF6 -及AsF6 -所構成群組中之至少1種作為相對陰離子的光酸產生劑。
前述活性能量線硬化型接著劑組成物中，前述自由基聚合性化合物(A)宜含有丙烯醯胺衍生物。
前述活性能量線硬化型接著劑組成物中，前述自由基聚合性化合物(A)以選自於由羥乙基丙烯醯胺、N-羥甲基丙烯醯胺、丙烯醯基啉及N-甲氧甲基丙烯醯胺所構成群組中的至少1種為佳。
前述活性能量線硬化型接著劑組成物中，前述產生劑(B)宜含有下述通式(1)所表示之化合物；
(式中，R1及R2表示-H、-CH2CH3、-iPr或Cl，R1及R2可相同亦可相異)。
前述活性能量線硬化型接著劑組成物中，前述自由基產生劑(B)宜更含有下述通式(2)所表示之化合物；
(式中，R3、R4及R5表示-H、-CH3、-CH2CH3、-iPr或Cl，R3、R4及R5可相同亦可相異)。
又，本發明之偏光薄膜係於偏光件之至少一面透過接著劑層，設有波長365nm之光線透射率小於5%之透明 保護薄膜的偏光薄膜，且前述接著劑層係由對請求項1~10之任一記載的活性能量線硬化型接著劑組成物照射活性能量線而成的硬化物層所形成者。
於前述偏光薄膜中，前述接著劑層之玻璃轉移溫度(Tg)以20℃以上為佳。
於前述偏光薄膜中，前述透明保護薄膜之透濕度以150g/m2/24h以下為佳。
於前述偏光薄膜中，前述透明保護薄膜之SP值以29.0(MJ/m3)1/2以上且小於33.0(MJ/m3)1/2為佳。
於前述偏光薄膜中，前述透明保護薄膜之SP值以18.0(MJ/m3)1/2以上且小於24.0(MJ/m3)1/2為佳。
又，本發明之偏光薄膜之製造方法係一種於偏光件之至少一面透過接著劑層設有波長365nm之光線透射率小於5%之透明保護薄膜的偏光薄膜之製造方法，其包含以下步驟：塗布步驟，於前述偏光件或前述透明保護薄膜之至少一面塗布如請求項1~10中任一項記載的活性能量線硬化型接著劑組成物；貼合步驟，貼合前述偏光件及前述透明保護薄膜；及接著步驟，透過自前述偏光件面側或前述透明保護薄膜面側照射活性能量線使前述活性能量線硬化型接著劑組成物硬化所得之接著劑層，接著前述偏光件及前述透明保護薄膜。
前述偏光薄膜之製造方法中，宜於前述塗布步驟前於前述偏光件或前述透明保護薄膜之至少一面、且為塗布前述活性能量線硬化型接著劑組成物側之面，實施電暈 處理、電漿處理、火焰處理或準分子處理。
於前述偏光薄膜之製造方法中，前述貼合步驟時 前述偏光件之含水率以小於15%為佳。
於前述偏光薄膜之製造方法中，前述接著步驟時宜於照射活性能量線時或照射後具有加熱步驟。
此外，本發明並有關於一種至少積層有1片如前述任一記載之偏光薄膜的光學薄膜、及一種使用有如前述任一記載之偏光薄膜、及/或如前述記載之光學薄膜的影像顯示裝置。
本發明之活性能量線硬化型接著劑組成物藉由照射活性能量線，使自由基產生劑(B)產生自由基，並使自由基聚合性化合物(A)進行自由基聚合，而可形成由硬化物層構成之接著劑層。本發明中，活性能量線硬化型接著劑組成物因除了自由基聚合性化合物(A)及自由基產生劑(B)以外，亦含有光酸產生劑(C)及含烷氧基之胺基化合物(D)，相較於未含有光酸產生劑(C)及含烷氧基之胺基化合物(D)的情況，可迅即提升接著劑層之耐水性及接著性。本發明中，雖未確知接著劑層之耐水性及接著性提升的理由，但推測如下。
光酸產生劑(C)及含烷氧基之胺基化合物(D)共存於活性能量線硬化型接著劑組成物中時，含烷氧基之胺基化合物(D)中之胺基與來自光酸產生劑之酸將進行反應，同時含烷氧基之胺基化合物(D)中的烷氧基被水分水 解，生成反應性之羥基。藉此，含烷氧基之胺基化合物(D)中的反應性之羥基與存在於偏光件表面之羥基形成氫鍵。此外，含烷氧基之胺基化合物(D)中的反應性之羥基與存在於偏光件表面之羥基直接反應，可形成共價鍵。結果，光酸產生劑(C)及含烷氧基之胺基化合物(D)共存於活性能量線硬化型接著劑組成物中時，接著劑層與偏光件之相互作用顯著地升高，因此接著劑層之耐水性、及接著劑層與偏光件之接著性迅即提升。
含烷氧基之胺基化合物(D)係含烷氧基之胺基矽烷耦合劑(D1)時，若烷氧基被水分水解，將生成反應性更高之矽醇基。藉此，含烷氧基之胺基矽烷耦合劑(D1)中之矽醇基與存在於偏光件表面之羥基經由氫鍵及/或共價鍵可更強力地互相作用。結果，接著劑層之耐水性、及接著劑層與偏光件之接著性更加躍升。
本發明之活性能量線硬化型接著劑組成物的接著劑層之接著性及耐久性優異，特別於常溫水中浸漬數小時後仍可發揮接著性，耐水性極為優異。因此，透過此種接著劑層積層至少有2片構件之積層體可適於用在各種用途。例如，就具有本發明之接著劑層的偏光薄膜而言，因尺寸變化非常小，故可輕易地對應偏光薄膜之大型化，由良率、收率之觀點來看可降低生產成本，並且可抑制因背光源之外部熱源產生的影像顯示裝置之不均。
用以實施發明之形態
本發明之活性能量線硬化型接著劑組成物含有：自由基聚合性化合物(A)、自由基產生劑(B)、光酸產生劑(C)、及含烷氧基之胺基化合物(D)。
前述自由基聚合性化合物(A)係作為在對自由基產生劑(B)照射活性能量線所產生之自由基的存在下進行自由基聚合、特別是光自由基聚合之硬化性成分而作用。因此，本發明中自由基聚合性化合物(A)只要為具有包含1個以上之碳-碳雙鍵之乙烯基、(甲基)丙烯醯基等的化合物的話，不需特別限定即可使用。然而，於本發明中，自由基聚合性化合物(A)亦以下述通式(1)所表示丙烯醯胺衍生物為佳：CH2=C(R1)-CONH2-m-(X-O-R2)m (1)
(R1表示氫原子或甲基，X表示-CH2-基或-CH2CH2-基，R2表示-(CH2)n-H基(但，n係0、1或2)，m表示1或2)。
前述通式(1)所表示之丙烯醯胺衍生物的具體例，可舉例如：N-羥乙基(甲基)丙烯醯胺、N-羥甲基(甲基)丙烯醯胺、N-甲氧甲基(甲基)丙烯醯胺、N-乙氧甲基(甲基)丙烯醯胺、N-甲氧乙基(甲基)丙烯醯胺、N-乙氧乙基(甲基)丙烯醯胺等。該等丙烯醯胺衍生物可單獨使用1種、或組合2種以上使用。
前述通式(1)所表示之丙烯醯胺衍生物亦可使用市售品。具體而言，可舉例如：N-羥乙基丙烯醯胺(商品名 「HEAA」，興人社製)、N-甲氧甲基丙烯醯胺(商品名「NMMA」，MRC UNITEC社製)、N-丁氧甲基丙烯醯胺(商品名「NBMA」，MRC UNITEC社製)、N-甲氧甲基甲基丙烯醯胺(商品名「WASMER 2MA」，笠野興產社製)等。
前述通式(1)所表示之丙烯醯胺衍生物以N-羥乙基(甲基)丙烯醯胺為佳。相對於低含水率之偏光件、或使用有透濕度低之材料的透明保護薄膜，丙烯醯胺衍生物顯示良好之接著性，但於前述例示之單體中，N-羥乙基丙烯醯胺顯示特別良好之接著性。
本發明之活性能量線硬化型接著劑組成物中，自由基聚合性化合物(A)亦可含有前述通式(1)所表示以外之丙烯醯胺衍生物、具有各種芳香環及羥基之單官能(甲基)丙烯酸酯、胺甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯、聚酯(甲基)丙烯酸酯、具有各種(甲基)丙烯醯基之化合物等。但，考量到接著劑層之接著性及耐水性，令自由基聚合性化合物(A)之總量為100重量份時，前述通式(1)所表示之丙烯醯胺衍生物的比例以1~50重量份為佳，以3~30重量份較佳。
前述通式(1)所表示以外之丙烯醯胺衍生物，可舉例如：N-甲基(甲基)丙烯醯胺、N,N-二甲基(甲基)丙烯醯胺、N,N-二甲基(甲基)丙烯醯胺、N-異丙基丙烯醯胺、N-丁基(甲基)丙烯醯胺、N-己基(甲基)丙烯醯胺、胺基甲基(甲基)丙烯醯胺、胺基乙基(甲基)丙烯醯胺、巰基甲基(甲基)丙烯醯胺、巰基乙基(甲基)丙烯醯胺、N-丙烯醯基啉、N-丙烯醯基哌啶、N-甲基丙烯醯基哌啶、N-丙烯醯基吡咯 啶等。
具有芳香環及羥基之單官能(甲基)丙烯酸酯可使用具芳香環及羥基之各種單官能(甲基)丙烯酸酯。羥基可作為芳香環之取代基存在，但本發明中以作為鍵結芳香環與(甲基)丙烯酸酯之有機基(羥基，特別是鍵結於伸烷基者)存在者為佳。
前述具芳香環及羥基之單官能(甲基)丙烯酸酯，可舉具芳香環之單官能環氧化合物與(甲基)丙烯酸的反應物為例。具芳香環之單官能環氧化合物，可舉例如：苯基環氧丙基醚、t-丁基苯基環氧丙基醚、苯基聚乙二醇環氧丙基醚等。具芳香環及羥基之單官能(甲基)丙烯酸酯的具體例，可舉例如：2-羥-3-苯氧丙基(甲基)丙烯酸酯、2-羥-3-t-丁基苯氧丙基(甲基)丙烯酸酯、2-羥-3-苯基聚乙二醇丙基(甲基)丙烯酸酯等。
又，前述胺甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯，可舉具異氰酸酯基之(甲基)丙烯酸酯與聚胺甲酸乙酯二醇、聚酯二醇、聚醚二醇或聚乙二醇、聚丙二醇等聚伸烷醇等二醇化合物一末端之羥基的反應物等為例。
具(甲基)丙烯醯基之化合物，可舉例如：甲基(甲基)丙烯酸酯、乙基(甲基)丙烯酸酯、n-丁基(甲基)丙烯酸酯、2-乙基己基(甲基)丙烯酸酯、異辛基(甲基)丙烯酸酯、異壬基(甲基)丙烯酸酯、十二基(甲基)丙烯酸酯等碳數1~12之烷基(甲基)丙烯酸酯；(甲基)丙烯酸甲氧乙基、(甲基)丙烯酸乙氧乙基等(甲基)丙烯酸烷氧烷基系單體；(甲基)丙烯 酸2-羥乙基、(甲基)丙烯酸2-羥丙酯、(甲基)丙烯酸4-羥丁酯、(甲基)丙烯酸6-羥己酯、(甲基)丙烯酸8-羥辛酯、(甲基)丙烯酸10-羥癸酯、(甲基)丙烯酸12-羥十二酯或(4-羥甲基環己基)-甲基丙烯酸酯等含羥基單體；順丁烯二酸酐、亞甲基丁二酸酐等含酸酐基單體；丙烯酸之己內酯加成物；苯乙烯磺酸或芳基磺酸、2-(甲基)丙烯醯胺-2-甲基丙磺酸、(甲基)丙烯醯胺丙磺酸、磺酸丙基(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯醯基氧萘磺酸等含磺酸基單體；2-羥乙基丙烯醯基磷酸酯等含燐酸基單體等。又，可舉例如：(甲基)丙烯醯胺；順丁烯二醯亞胺、N-環己基順丁烯二醯亞胺、N-苯基順丁烯二醯亞胺等；(甲基)丙烯酸胺基乙基、(甲基)丙烯酸胺基丙基、(甲基)丙烯酸N,N-二甲基胺基乙基、(甲基)丙烯酸t-丁基胺基乙基、3-(3-氮茚(pyrinidyl))丙基(甲基)丙烯酸酯等(甲基)丙烯酸烷胺基烷基系單體；N-(甲基)丙烯醯基甲醛琥珀醯亞胺或N-(甲基)丙烯醯基-6-氧六亞甲基琥珀醯亞胺、N-(甲基)丙烯醯基-8-氧伸辛基琥珀醯亞胺等琥珀醯亞胺系單體等含氮之單體。
本發明之活性能量線硬化型接著劑組成物的自由基聚合性化合物(A)，除了上述具1個碳-碳雙鍵之單體以外，於更具2個以上碳-碳雙鍵之單體、特佳者係含有多官能(甲基)丙烯酸酯系單體時，因可提升接著劑層之耐水性而為佳。考量到接著劑層之耐水性，以具2個以上碳-碳雙鍵之單體並具疏水性較佳。疏水性之具2個以上碳-碳雙鍵之單體，特別是疏水性之多官能(甲基)丙烯酸酯系單體，可舉 例如：三環癸烷二甲醇二丙烯酸酯、二苯乙烯、N,N’-亞甲基雙丙烯醯胺、乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、二乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、三乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、聚乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、二丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、三丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、聚丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,4-丁二醇二(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,9-壬二醇酯二(甲基)丙烯酸酯、甘油二(甲基)丙烯酸酯、EO改質甘油三(甲基)丙烯酸酯、EO改質二甘油四(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸2-(2-乙烯氧基乙氧基)乙基、雙酚A-EO加成物二(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、羥三甲基乙酸新戊二醇(甲基)丙烯酸加成物、EO改質三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、新戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、新戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二新戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、異三聚氰酸EO改質二(甲基)丙烯酸酯、異三聚氰酸EO改質三(甲基)丙烯酸酯、ε-己內酯改質三((甲基)acroxy乙基(acroxyethyl))異三聚氰酸、1,1-雙((甲基)丙烯醯基氧基甲基)乙基異氰酸酯、2-羥乙基(甲基)丙烯酸酯與1,6-二異氰酸酯己烷之物、9,9-雙[4-(2-(甲基)丙烯醯基氧基乙氧基)苯基]茀等。
於本發明中，相對於自由基聚合性化合物(A)之合計量的具2個以上碳-碳雙鍵之單體的比例，以5~80重量份為佳，以10~70重量份較佳。該比例小於5重量份時，有未能得到充分之耐水性的情形，另一方面，大於80重量份時，又未能得到充分之接著性的情形。
於本發明中，因光酸產生劑(C)及含烷氧基之胺基化合物(D)共存於活性能量線硬化型接著劑組成物中，故含烷氧基之胺基化合物(D)中之烷氧基將被水分水解，結果，與存在於偏光件表面之羥基氫鍵結及/或共價鍵結作為特徵。因此，光酸產生劑(C)被消耗於含環氧基之化合物的光陽離子聚合時，因不易充分地提升上述接著劑層之耐水性及耐久性，故不佳。因此，活性能量線硬化型接著劑組成物中，相對於自由基聚合性化合物(A)與含環氧基之化合物的合計量之含環氧基之化合物的比例以5重量%以下為佳，以1重量%以下較佳，以未含有含環氧基之化合物特佳。
本發明之活性能量線硬化型接著劑組成物含有自由基產生劑(B)。自由基產生劑(B)可藉由照射活性能量線產生自由基。
本發明之活性能量線硬化型接著劑組成物中，自由基產生劑(B)可單獨使用下述通式(1)所表示之化合物；
(式中，R1及R2表示-H、-CH2CH3、-iPr或Cl，R1及R2可相同亦可相異)、或以併用通式(1)所表示之化合物與後述之對380nm以上之光具高感度的自由基產生劑為佳。於使用通式(1)所表示之化合物時，相較於單獨使用對380nm以上之 光具高感度的自由基產生劑時之接著性優異。通式(1)所表示之化合物中，亦以R1及R2為-CH2CH3之二乙基9-氧硫特佳。組成物中之通式(1)所表示之化合物的組成比率，於令自由基聚合性化合物(A)之總量為100重量份時，以0.5~10重量份為佳，以1~7重量份較佳，以1~5重量份更佳。
又，以視需要添加聚合起始助劑為佳。聚合起始助劑，可舉例如：三乙胺、二乙胺、N-甲基二乙醇胺、乙醇胺、4-二甲基胺苯甲酸、4-二甲基胺苯甲酸甲酯、4-二甲基胺苯甲酸乙酯、4-二甲基胺苯甲酸異戊酯等，以4-二甲基胺苯甲酸甲酯特佳。於使用聚合起始助劑時，若令自由基聚合性化合物(A)之總量為100重量份，其添加量通常係0~5重量份，以0~4重量份為佳，最佳者是0~3重量份。
又，可視需要併用眾所周知的自由基產生劑。具有UV吸收能力之透明保護薄膜因不透過380nm以下的光，故自由基產生劑以使用對380nm以上之光具高感度之自由基產生劑為佳。具體而言，可舉例如：2-甲基-1-(4-甲基苯硫基)-2-啉基丙烷-1-酮、2-苯甲基-2-二甲胺-1-(4-啉基苯)-丁酮-1、2-(二甲胺)-2-[(4-甲基苯基)甲基]-1-[4-(4-啉基)苯基]-1-丁酮、2,4,6-三甲基苯甲醯氧化二苯膦、雙(2,4,6-三甲基苯甲醯)-氧化苯膦、雙(η5-2,4-環戊二烯-1-基)-雙(2,6-二氟-3-(1H-吡咯-1-基)-苯基)鈦等。
特別是，除了通式(1)之自由基產生劑以外，自由基產生劑更以使用下述通式(2)所表示之化合物為佳；[化4]
(式中，R3、R4及R5表示-H、-CH3、-CH2CH3、-iPr或Cl，R3、R4及R5可相同亦可相異)。通式(2)所表示之化合物可較佳地使用市售品2-甲基-1-(4-甲基苯硫基)-2-啉基丙烷-1-酮(商品名：IRGACURE907製造商：BASF)。其他，2-苯甲基-2-二甲胺-1-(4-啉基苯)-丁酮-1(商品名：IRGACURE369製造商：BASF)、2-(二甲胺)-2-[(4-甲基苯基)甲基]-1-[4-(4-啉基)苯基]-1-丁酮(商品名：IRGACURE379製造商：BASF)因感度高而為佳。
令自由基聚合性化合物(A)之總量為100重量份時，自由基產生劑(B)之含量以0.5~10重量份為佳，以1~7重量份較佳，以1~5重量份更佳。
本發明中活性能量線硬化型接著劑組成物除了自由基聚合性化合物(A)及自由基產生劑(B)以外，含有光酸產生劑(C)及含烷氧基之胺基化合物(D)。結果，相較於未含有光酸產生劑(C)及含烷氧基之胺基化合物(D)的情形，可迅即提升接著劑層之耐水性及耐久性。光酸產生劑(C)可以下述通式(3)表示。
通式(3)
[化5]L+ X-
(又，L+表示任意之鎓鹽陽離子。又，X-表示選自於由 PF6 -、SbF6 -、AsF6 -、SbCl6 -、BiCl5 -、SnCl6 -、ClO4 -、二硫胺甲酸酯陰離子、SCN-所構成之群組的相對陰離子。)
構成通式(3)之鎓鹽陽離子L+的較佳鎓鹽陽離子構造，可舉選自於下述通式(4)~通式(12)之鎓鹽陽離子為例。
通式(4)
通式(5)
通式(6)
通式(7)
通式(9)
通式(10)
通式(11)
通式(12)
[化14]Ar4-I+-Ar5
(前述通式(4)-(12)中，R1、R2及R3表示分別獨立之選自於氫原子、經取代或未取代之烷基、經取代或未取代之烯基、經取代或未取代之芳基、經取代或未取代之雜環基、經取代或未取代之烷氧基、經取代或未取代之芳氧基、經取代或未取代之雜環氧基、經取代或未取代之醯基、經取代或未取代之羰基、經取代或未取代之氧羰基、或鹵素原子的基。R4表示與R1、R2及R3記載之基相同的基。R5表示經取代或未取代之烷基、經取代或未取代之烷硫基。R6及R7表示分別獨立之經取代或未取代之烷基、經取代或未取代之烷氧基。R表示任一鹵素原子、羥基、羧基、巰基、氰基、硝基、經取代或未取代之胺甲醯基、經取代或未取代之烷基、經取代或未取代之烯基、經取代或未取代之芳基、經取代或未取代之雜環基、經取代或未取代之烷氧基、經取代或未取代之芳氧基、經取代或未取代之雜環氧基、經取代或未取代之烷硫基、經取代或未取代之芳硫基、經取代或未取代之雜環硫基、經取代或未取代之醯基、經取代或未取代之羰基、經取代或未取代之氧羰基。Ar4、Ar5表示任一經取代或未取代之芳基、經取代或未取代之雜環基。X表示氧或硫磺原子。i表示0~5之整數。j表示0~4之整數。k表示0~3之整數。又，鄰接之R之間，Ar4與Ar5、R2與R3、R2與R4、R3與R4、R1與R2、R1與R3、R1與R4、R1與R、或R1與R5亦可為互相結合的環狀構造。)
屬於通式(4)之鎓鹽陽離子(鋶陽離子)：可舉例如：二甲基苯基鋶、二甲基(鄰氟苯基)鋶、二甲基(間氯苯基)鋶、二甲基(對溴苯基)鋶、二甲基(對氰苯基)鋶、二甲基(間硝苯基)鋶、二甲基(2,4,6-三溴苯基)鋶、二甲基(五氟苯基)鋶、二甲基(對(三氟甲基)苯基)鋶、二甲基(對羥苯基)鋶、二甲基(對巰基苯基)鋶、二甲基(對甲亞磺醯基苯基)鋶、二甲基(對甲磺醯基苯基)鋶、二甲基(鄰乙醯基苯基)鋶、二甲基(鄰苯甲醯基苯基)鋶、二甲基(對甲基苯基)鋶、二甲基(對異丙基苯基)鋶、二甲基(對十八基苯基)鋶、二甲基(對環己基苯基)鋶、二甲基(對甲氧苯基)鋶、二甲基(鄰甲氧羰基苯基)鋶、二甲基(對苯基亞磺醯基苯基)鋶、(7-甲氧-2-側氧-2H-唏-4-基)二甲基鋶、(4-甲氧萘-1-基)二甲基鋶、二甲基(對異丙氧基羰基苯基)鋶、二甲基(2-萘基)鋶、二甲基(9-蒽基)鋶、二乙基苯基鋶、甲基乙基苯基鋶、甲基二苯基鋶、三苯基鋶、二異丙基苯基鋶、二苯基(4-苯基磺醯基-苯基)-鋶、4,4’-雙(二苯基鋶)二苯硫、4,4’-雙[二[(4-(2-羥-乙氧)-苯基)]鋶]]二苯硫、4,4’-雙(二苯基鋶)伸苯基、二苯基(鄰氟苯基)鋶、二苯基(間氯苯基)鋶、二苯基(對溴苯基)鋶、二苯基(對氰苯基)鋶、二苯基(間硝苯基)鋶、二苯基(2,4,6-三溴苯基)鋶、二苯基(五氟苯基)鋶、二苯基(對(三氟甲基)苯基)鋶、二苯基(對羥苯基)鋶、二苯基(對巰基苯基)鋶、二苯基(對甲亞磺醯基苯基)鋶、二苯基(對甲磺醯基苯基)鋶、二苯基(鄰乙醯基苯基)鋶、二苯基(鄰苯甲醯基苯基)鋶、二苯基(對甲基苯基)鋶、二苯基(對異丙基苯基)鋶、二 苯基(對十八基苯基)鋶、二苯基(對環己基苯基)鋶、二苯基(對甲氧苯基)鋶、二苯基(鄰甲氧羰基苯基)鋶、二苯基(對苯基亞磺醯基苯基)鋶、(7-甲氧-2-側氧-2H-唏-4-基)二苯基鋶、(4-甲氧萘-1-基)二苯基鋶、二苯基(對異丙氧基羰基苯基)鋶、二苯基(2-萘基)鋶、二苯基(9-蒽基)鋶、乙基二苯基鋶、甲基乙基(鄰甲苯基)鋶、甲基二(對甲苯基)鋶、三(對甲苯基)鋶、二異丙基(4-苯基亞磺醯基苯基)鋶、二苯基(2-噻吩基)鋶、二苯基(2-呋喃基)鋶、二苯基(9-乙基-9H咔唑-3-基)鋶等，但並未限定為該等。
屬於通式(5)之鎓鹽陽離子(亞碸鎓鹽(sulfoxonium)陽離子)：可舉例如：二甲基苯基亞碸鎓鹽、二甲基(鄰氟苯基)亞碸鎓鹽、二甲基(間氯苯基)亞碸鎓鹽、二甲基(對溴苯基)亞碸鎓鹽、二甲基(對氰苯基)亞碸鎓鹽、二甲基(間硝苯基)亞碸鎓鹽、二甲基(2,4,6-三溴苯基)亞碸鎓鹽、二甲基(五氟苯基)亞碸鎓鹽、二甲基(對(三氟甲基)苯基)亞碸鎓鹽、二甲基(對羥苯基)亞碸鎓鹽、二甲基(對巰基苯基)亞碸鎓鹽、二甲基(對甲亞磺醯基苯基)亞碸鎓鹽、二甲基(對甲磺醯基苯基)亞碸鎓鹽、二甲基(鄰乙醯基苯基)亞碸鎓鹽、二甲基(鄰苯甲醯基苯基)亞碸鎓鹽、二甲基(對甲基苯基)亞碸鎓鹽、二甲基(對異丙基苯基)亞碸鎓鹽、二甲基(對十八基苯基)亞碸鎓鹽、二甲基(對環己基苯基)亞碸鎓鹽、二甲基(對甲氧苯基)亞碸鎓鹽、二甲基(鄰甲氧羰基苯基)亞碸鎓鹽、二甲基(對苯基亞磺醯基苯基)亞碸鎓鹽、(7-甲氧-2-側氧-2H- 唏-4-基)二甲基亞碸鎓鹽、(4-甲氧萘-1-基)二甲基亞碸鎓鹽、二甲基(對異丙氧基羰基苯基)亞碸鎓鹽、二甲基(2-萘基)亞碸鎓鹽、二甲基(9-蒽基)亞碸鎓鹽、二乙基苯基亞碸鎓鹽、甲基乙基苯基亞碸鎓鹽、甲基二苯基亞碸鎓鹽、三苯基亞碸鎓鹽、二異丙基苯基亞碸鎓鹽、二苯基(4-苯基磺醯基-苯基)-亞碸鎓鹽、4,4’-雙(二苯基亞碸鎓鹽)二苯硫、4,4’-雙[二[(4-(2-羥-乙氧)-苯基)]亞碸鎓鹽]二苯硫、4,4’-雙(二苯基亞碸鎓鹽)伸苯基、二苯基(鄰氟苯基)亞碸鎓鹽、二苯基(間氯苯基)亞碸鎓鹽、二苯基(對溴苯基)亞碸鎓鹽、二苯基(對氰苯基)亞碸鎓鹽、二苯基(間硝苯基)亞碸鎓鹽、二苯基(2,4,6-三溴苯基)亞碸鎓鹽、二苯基(五氟苯基)亞碸鎓鹽、二苯基(對(三氟甲基)苯基)亞碸鎓鹽、二苯基(對羥苯基)亞碸鎓鹽、二苯基(對巰基苯基)亞碸鎓鹽、二苯基(對甲亞磺醯基苯基)亞碸鎓鹽、二苯基(對甲磺醯基苯基)亞碸鎓鹽、二苯基(鄰乙醯基苯基)亞碸鎓鹽、二苯基(鄰苯甲醯基苯基)亞碸鎓鹽、二苯基(對甲基苯基)亞碸鎓鹽、二苯基(對異丙基苯基)亞碸鎓鹽、二苯基(對十八基苯基)亞碸鎓鹽、二苯基(對環己基苯基)亞碸鎓鹽、二苯基(對甲氧苯基)亞碸鎓鹽、二苯基(鄰甲氧羰基苯基)亞碸鎓鹽、二苯基(對苯基亞磺醯基苯基)亞碸鎓鹽、(7-甲氧-2-側氧-2H-唏-4-基)二苯基亞碸鎓鹽、(4-甲氧萘-1-基)二苯基亞碸鎓鹽、二苯基(對異丙氧基羰基苯基)亞碸鎓鹽、二苯基(2-萘基)亞碸鎓鹽、二苯基(9-蒽基)亞碸鎓鹽、乙基二苯基亞碸鎓鹽、甲基乙基(鄰甲苯基)亞碸鎓鹽、甲基二(對甲苯基)亞碸鎓鹽、三 (對甲苯基)亞碸鎓鹽、二異丙基(4-苯基亞磺醯基苯基)亞碸鎓鹽、二苯基(2-噻吩基)亞碸鎓鹽、二苯基(2-呋喃基)亞碸鎓鹽、二苯基(9-乙基-9H咔唑-3-基)亞碸鎓鹽等，但並未限定為該等。
屬於通式(6)之鎓鹽陽離子(鏻鎓鹽陽離子)：鏻鎓鹽陽離子之例，可舉例如：三甲基苯基鏻鎓鹽、三乙基苯基鏻鎓鹽、四苯基鏻鎓鹽、三苯基(對氟苯基)鏻鎓鹽、三苯基(鄰氯苯基)鏻鎓鹽、三苯基(間溴苯基)鏻鎓鹽、三苯基(對氰苯基)鏻鎓鹽、三苯基(間硝苯基)鏻鎓鹽、三苯基(對苯基亞磺醯基苯基)鏻鎓鹽、(7-甲氧-2-側氧-2H-唏-4-基)三苯基鏻鎓鹽、三苯基(鄰羥苯基)鏻鎓鹽、三苯基(鄰乙醯基苯基)鏻鎓鹽、三苯基(間苯甲醯基苯基)鏻鎓鹽、三苯基(對甲基苯基)鏻鎓鹽、三苯基(對異丙氧基苯基)鏻鎓鹽、三苯基(鄰甲氧羰基苯基)鏻鎓鹽、三苯基(1-萘基)鏻鎓鹽、三苯基(9-蒽基)鏻鎓鹽、三苯基(2-噻吩基)鏻鎓鹽、三苯基(2-呋喃基)鏻鎓鹽、三苯基(9-乙基-9H咔唑-3-基)鏻鎓鹽等，但並未限定為該等。
屬於通式(7)之鎓鹽陽離子(吡啶鎓鹽陽離子)：吡啶鎓鹽陽離子之例，可舉例如：N-苯基吡啶鎓鹽、N-(鄰氯苯基)吡啶鎓鹽、N-(間氯苯基)吡啶鎓鹽、N-(對氰苯基)吡啶鎓鹽、N-(鄰硝苯基)吡啶鎓鹽、N-(對乙醯基苯基)吡啶鎓鹽、N-(對異丙基苯基)吡啶鎓鹽、N-(對十八基氧基苯基)吡啶鎓鹽、N-(對甲氧羰基苯基)吡啶鎓鹽、N-(9-蒽基)吡啶鎓鹽、2-氯-1-苯基吡啶鎓鹽、 2-氰-1-苯基吡啶鎓鹽、2-甲基-1-苯基吡啶鎓鹽、2-乙烯-1-苯基吡啶鎓鹽、2-苯基-1-苯基吡啶鎓鹽、1,2-二苯基吡啶鎓鹽、2-甲氧-1-苯基吡啶鎓鹽、2-苯氧-1-苯基吡啶鎓鹽、2-乙醯-1-(對甲苯基)吡啶鎓鹽、2-甲氧羰基-1-(對甲苯基)吡啶鎓鹽、3-氟-1-萘基吡啶鎓鹽、4-甲基-1-(2-呋喃基)吡啶鎓鹽、N-甲基吡啶鎓鹽、N-乙基吡啶鎓鹽等，但並未限定為該等。
屬於通式(8)之鎓鹽陽離子(喹啉鎓鹽陽離子)：喹啉鎓鹽陽離子之例，可舉例如：N-甲基喹啉鎓鹽、N-乙基喹啉鎓鹽、N-苯基喹啉鎓鹽、N-萘基喹啉鎓鹽、N-(鄰氯苯基)喹啉鎓鹽、N-(間氯苯基)喹啉鎓鹽、N-(對氰苯基)喹啉鎓鹽、N-(鄰硝苯基)喹啉鎓鹽、N-(對乙醯基苯基)喹啉鎓鹽、N-(對異丙基苯基)喹啉鎓鹽、N-(對十八基氧基苯基)喹啉鎓鹽、N-(對甲氧羰基苯基)喹啉鎓鹽、N-(9-蒽基)喹啉鎓鹽、2-氯-1-苯基喹啉鎓鹽、2-氰-1-苯基喹啉鎓鹽、2-甲基-1-苯基喹啉鎓鹽、2-乙烯-1-苯基喹啉鎓鹽、2-苯基-1-苯基喹啉鎓鹽、1,2-二苯基喹啉鎓鹽、2-甲氧-1-苯基喹啉鎓鹽、2-苯氧-1-苯基喹啉鎓鹽、2-乙醯-1-苯基喹啉鎓鹽、2-甲氧羰基-1-苯基喹啉鎓鹽、3-氟-1-苯基喹啉鎓鹽、4-甲基-1-苯基喹啉鎓鹽、2-甲氧-1-(對甲苯基)喹啉鎓鹽、2-苯氧-1-(2-呋喃基)喹啉鎓鹽、2-乙醯-1-(2-噻吩基)喹啉鎓鹽、2-甲氧羰基-1-甲基喹啉鎓鹽、3-氟-1-乙基喹啉鎓鹽、4-甲基-1-異丙基喹啉鎓鹽等，但並未限定為該等。
屬於通式(9)之鎓鹽陽離子(異喹啉鎓鹽陽離子)：異喹啉鎓鹽陽離子之例，可舉例如：N-苯基異喹啉鎓鹽、N-甲基異喹啉鎓鹽、N-乙基異喹啉鎓鹽、N-(鄰氯苯基)異喹啉鎓鹽、N-(間氯苯基)異喹啉鎓鹽、N-(對氰苯基)異喹啉鎓鹽、N-(鄰硝苯基)異喹啉鎓鹽、N-(對乙醯基苯基)異喹啉鎓鹽、N-(對異丙基苯基)異喹啉鎓鹽、N-(對十八基氧基苯基)異喹啉鎓鹽、N-(對甲氧羰基苯基)異喹啉鎓鹽、N-(9-蒽基)異喹啉鎓鹽、1,2-二苯基異喹啉鎓鹽、N-(2-呋喃基)異喹啉鎓鹽、N-(2-噻吩基)異喹啉鎓鹽、N-萘基異喹啉鎓鹽等，但並未限定為該等。
屬於通式(10)之鎓鹽陽離子(苯并唑鎓鹽陽離子、苯并噻唑鎓鹽陽離子)：苯并唑鎓鹽陽離子之例，可舉例如：N-甲基苯并唑鎓鹽、N-乙基苯并唑鎓鹽、N-萘基苯并唑鎓鹽、N-苯基苯并唑鎓鹽、N-(對氟苯基)苯并唑鎓鹽、N-(對氯苯基)苯并唑鎓鹽、N-(對氰苯基)苯并唑鎓鹽、N-(鄰甲氧羰基苯基)苯并唑鎓鹽、N-(2-呋喃基)苯并唑鎓鹽、N-(鄰氟苯基)苯并唑鎓鹽、N-(對氰苯基)苯并唑鎓鹽、N-(間硝苯基)苯并唑鎓鹽、N-(對異丙氧基羰基苯基)苯并唑鎓鹽、N-(2-噻吩基)苯并唑鎓鹽、N-(間羧基苯基)苯并唑鎓鹽、2-巰-3-苯基苯并唑鎓鹽、2-甲基-3-苯基苯并唑鎓鹽、2-甲硫-3-(4-苯基亞磺醯基苯基)苯并唑鎓鹽、6-羥-3-(對甲苯基)苯并唑鎓鹽、7-巰-3-苯基苯并唑鎓鹽、4,5-二氟-3-乙基苯并唑 鎓鹽等，但並未限定為該等。
苯并噻唑鎓鹽陽離子之例：可舉例如：N-甲基苯并噻唑鎓鹽、N-乙基苯并噻唑鎓鹽、N-苯基苯并噻唑鎓鹽、N-(1-萘基)苯并噻唑鎓鹽、N-(對氟苯基)苯并噻唑鎓鹽、N-(對氯苯基)苯并噻唑鎓鹽、N-(對氰苯基)苯并噻唑鎓鹽、N-(鄰甲氧羰基苯基)苯并噻唑鎓鹽、N-(對甲苯基)苯并噻唑鎓鹽、N-(鄰氟苯基)苯并噻唑鎓鹽、N-(間硝苯基)苯并噻唑鎓鹽、N-(對異丙氧基羰基苯基)苯并噻唑鎓鹽、N-(2-呋喃基)苯并噻唑鎓鹽、N-(4-甲基苯硫基)苯并噻唑鎓鹽、N-(4-苯基亞磺醯基苯基)苯并噻唑鎓鹽、N-(2-萘基)苯并噻唑鎓鹽、N-(間羧基苯基)苯并噻唑鎓鹽、2-巰-3-苯基苯并噻唑鎓鹽、2-甲基-3-苯基苯并噻唑鎓鹽、2-甲硫-3-苯基苯并噻唑鎓鹽、6-羥-3-苯基苯并噻唑鎓鹽、7-巰-3-苯基苯并噻唑鎓鹽、4,5-二氟-3-苯基苯并噻唑鎓鹽等，但並未限定為該等。
屬於通式(11)之鎓鹽陽離子(呋喃基或噻吩基錪鎓陽離子)：可舉例如：二呋喃基錪鎓、二噻吩基錪鎓、雙(4,5-二甲基-2-呋喃基)錪鎓、雙(5-氯-2-噻吩基)錪鎓、雙(5-氰-2-呋喃基)錪鎓、雙(5-硝-2-噻吩基)錪鎓、雙(5-乙醯-2-呋喃基)錪鎓、雙(5-羧-2-噻吩基)錪鎓、雙(5-甲氧羰基-2-呋喃基)錪鎓、雙(5-苯基-2-呋喃基)錪鎓、雙(5-(對甲氧苯基)-2-噻吩基)錪鎓、雙(5-乙烯-2-呋喃基)錪鎓、雙(5-乙炔-2-噻吩基)錪鎓、雙(5-環己基-2-呋喃基)錪鎓、雙(5-羥-2-噻吩基)錪 鎓、雙(5-苯氧-2-呋喃基)錪鎓、雙(5-巰-2-噻吩基)錪鎓、雙(5-丁硫-2-噻吩基)錪鎓、雙(5-苯硫-2-噻吩基)錪鎓等，但並未限定為該等。
屬於通式(12)之鎓鹽陽離子(二芳基錪鎓陽離子)：可舉例如：二苯基錪鎓、雙(對甲苯基)錪鎓、雙(對辛基苯基)錪鎓、雙(對十八基苯基)錪鎓、雙(對辛基氧基苯基)錪鎓、雙(對十八基氧基苯基)錪鎓、苯基(對十八基氧基苯基)錪鎓、4-異丙-4’-甲基二苯基錪鎓、(4-異丁基苯基)-對甲苯基錪鎓、雙(1-萘基)錪鎓、雙(4-苯基亞磺醯基苯基)錪鎓、苯基(6-苯甲醯基-9-乙-9H-咔唑-3-基)錪鎓、(7-甲氧-2-側氧-2H-唏-3-基)-4’-異丙基苯基錪鎓等，但並未限定為該等。
接著，說明通式(3)中之相對陰離子X-。
原則上並未特別限定通式(3)中之相對陰離子X-，但以非親核性陰離子為佳。相對陰離子X-為非親核性陰離子時，因分子內共存之陽離子或併用之各種材料中不易產生親核反應，結果，可提升通式(3)所表示之光酸產生劑本身或使用其之組成物的時間穩定性。此處所稱之非親核性陰離子係指產生親核反應之能力低的陰離子。如此之陰離子，可舉PF6 -、SbF6 -、AsF6 -、SbCl6 -、BiCl5 -、SnCl6 -、ClO4 -、二硫胺甲酸酯陰離子、SCN-等為例。
前述例示之陰離子中，作為通式(3)中的相對陰離子X-為佳者，可舉PF6 -、SbF6 -、及AsF6 -為例，特佳者是PF6 -、SbF6 -。
因此，構成本發明之光酸產生劑(C)較佳的鎓鹽之具體例係前述例示之通式(3)~通式(12)所表示之鎓鹽陽離子構造的具體例與由選自於PF6 -、SbF6 -、AsF6 -、SbCl6 -、BiCl5 -、SnCl6 -、ClO4 -、二硫胺甲酸酯陰離子、SCN-之陰離子所構成的鎓鹽。
具體而言，本發明之光酸產生劑(C)的較佳具體例，可舉例如：「Cyracure UVI-6992」、「Cyracure UVI-6974」(以上，Dow Chemical日本股份公司製)、「ADEKA OPTOMER SP150」、「ADEKA OPTOMER SP152」、「ADEKA OPTOMER SP170」、「ADEKA OPTOMER SP172」(以上，ADEKA股份公司製)、「IRGACURE250」(Chiba Specialty Chemicals社製)、「CI-5102」、「CI-2855」(以上，日本SODA社製)、「SAN-AID SI-60L」、「SAN-AID SI-80L」、「SAN-AID SI-100L」、「SAN-AID SI-110L」、「SAN-AID SI-180L」(以上，三新化學社製)、「CPI-100P」、「CPI-100A」(以上，San-apro股份公司製)、「WPI-069」、「WPI-113」、「WPI-116」、「WPI-041」、「WPI-044」、「WPI-054」、「WPI-055」、「WPAG-281」、「WPAG-567」、「WPAG-596」(以上，和光純藥社製)。
相對於活性能量線硬化型接著劑組成物之合計量，光酸產生劑(C)之含量以0.01~10重量份為佳，以0.05~5重量份較佳，以0.1~3重量份更佳、以0.8~2重量份特佳。
又，本發明之活性能量線硬化型接著劑組成物中，除了前述光自由基產生劑以外，亦可添加可提升羰基 化合物等代表電子線之硬化速度或感度的敏化劑。
敏化劑可舉例如：蒽、啡噻(phenothiazene)、苝、9-氧硫、二苯基酮9-氧硫等。此外，感光染料可舉例如：硫代吡喃鎓(thiopyrylium)鹽系染料、部花青素系染料、喹啉系染料、苯乙烯喹啉系染料、香豆素酮(ketocoumarin)系染料、硫系染料、系染料、氧雜菁(oxonol)系染料、花青系染料、玫瑰紅系染料、吡喃鹽系染料等。
具體之蒽化合物以二丁氧基蒽、二丙氧基蒽醌(川崎化成社製Anthracure UVS-1331、1221)等為有效。
於添加敏化劑時，相對於活性能量線硬化型接著劑組成物總量，敏化劑之含量以0.01~20重量份為佳，以0.01~10重量份較佳，以0.1~3重量份特佳。
本發明之特徵係光酸產生劑(C)與含烷氧基之胺基化合物(D)共存於活性能量線硬化型接著劑組成物中。含烷氧基之胺基化合物(D)可舉含烷氧基之胺基矽烷耦合劑(D1)、及烷基化尿素(D2)等為例。該等中，由提升接著劑層之耐水性及接著性來看，特別以使用含烷氧基之胺基矽烷耦合劑(D1)為佳。另，於計算接著劑層之玻璃轉移溫度Tg時，並未計算含烷氧基之胺基化合物(D)。
含烷氧基之胺基矽烷耦合劑(D1)，可舉例如：N-2(胺基乙基)3-胺基丙基甲基二甲氧基矽烷、N-2(胺基乙基)-3-胺基丙基三甲氧基矽烷、N-2(胺基乙基)-3-胺基丙基三乙氧基矽烷、3-胺基丙基三甲氧基矽烷、3-胺基丙基三乙 氧基矽烷、3-三乙氧矽基-N-(1,3-二甲基-亞丁基)丙胺、N-苯基-3-胺基丙基三甲氧基矽烷、N-(乙烯苯甲基)-2-胺基乙基-3-胺基丙基三甲氧基矽烷塩酸塩、3-脲基丙基三乙氧基矽烷、3-氯丙基三甲氧基矽烷、3-巰基丙基甲基二甲氧基矽烷、3-巰基丙基三甲氧基矽烷、四硫化雙(三乙氧矽基丙基)、3-異氰酸丙酯三乙氧基矽烷、咪唑矽烷等。該等可單獨使用，亦可混合2種以上使用。為更加提高接著劑層之耐水性及接著性，令自由基聚合性化合物(A)之總量為100重量份時，含烷氧基之胺基矽烷耦合劑(D1)的含量以0.1~20重量份為佳，以0.2~12重量份較佳，以0.5~3重量份更佳。
另，於本發明中，除了含烷氧基之胺基矽烷耦合劑(D1)以外，以併用活性能量線硬化性之矽烷耦合劑為佳，可舉例如：乙烯三氯矽烷、乙烯三甲氧基矽烷、乙烯三乙氧基矽烷、2-(3,4環氧環己基)乙基三甲氧基矽烷、3-環氧丙氧基丙基三甲氧基矽烷、3-環氧丙氧基丙基甲基二乙氧基矽烷、3-環氧丙氧基丙基三乙氧基矽烷、對苯乙烯三甲氧基矽烷、3-甲基丙烯醯氧丙基甲基二甲氧基矽烷、3-甲基丙烯醯氧丙基三甲氧基矽烷、3-甲基丙烯醯氧丙基甲基二乙氧基矽烷、3-甲基丙烯醯氧丙基三乙氧基矽烷、3-丙烯醯氧丙基三甲氧基矽烷等。
烷基化尿素(D2)可舉於具尿素之氮原子上具有羥甲基、羥乙基等羥烷基、甲氧甲基、乙氧甲基等烷氧烷基、烷基及/或氫原子者為例。為更加提高接著劑層之耐水性及接著性，於令自由基聚合性化合物(A)之總量為100重 量份時，烷基化尿素(D2)之含量以0.1~30重量份為佳，以0.5~20重量份較佳，以1~15重量份更佳，以8~12重量份特佳。
烷基化尿素(D2)以使用市售品為佳，可舉三和化學社製之NIKALAC MX-270、NIKALAC MX280、NIKALAC MX-290等為例。烷基化尿素(D2)亦可為經樹脂化者(尿素樹脂)。
另，尿素樹脂雖為胺樹脂的一種，但亦可使用其它胺樹脂作為含烷氧基之化合物(D)。
又，可於不損及本發明目的、效果之範圍內，於本發明之活性能量線硬化型接著劑組成物中混合作為其他任意成分之各種添加劑。此種添加劑，可舉例如：聚醯胺、聚醯胺醯亞胺、聚胺甲酸乙酯、聚丁二烯、聚氯丁二烯、聚醚、聚酯、苯乙烯-丁二烯嵌段共聚物、石油樹脂、二甲苯樹脂、酮樹脂、纖維素樹脂、氟系寡聚物、矽系寡聚物、聚硫系寡聚物等聚合物或寡聚物；硫二苯胺、2,6-二-t-丁基-4-甲基酚等聚合抑制劑；聚合起始助劑；均染劑；濕潤性改良劑；界面活性劑；可塑劑；紫外線吸收劑無機填充劑；顏料；染料等。但，活性能量線硬化型接著劑組成物中，相對於活性能量線硬化型接著劑組成物總量，上述添加劑之含量以0.005~20重量份為佳，以0.01~10重量份較佳，以0.1~5重量份特佳。
本發明之活性能量線硬化型接著劑組成物可於使用電子線作為活性能量線之電子線硬化型、使用紫外線 作為活性能量線之紫外線硬化型的態樣下使用。
電子線硬化型方面，只要電子線之照射條件係可使前述活性能量線硬化型接著劑組成物硬化的條件的話，可使用任意適當之條件。例如，電子線照射之加速電壓以5kV~300kV為佳，更加者是10kV~250kV。加速電壓小於5kV時，有電子線未能到達硬化物層造成硬化不足的疑慮，加速電壓大於300kV時，有通過試料之滲透力過強，電子線反射而損害各構件的疑慮。照射線量係5~100kGy，以10~75kGy更佳。照射線量小於5kGy時，落下物層之硬化不足，大於100kGy時，將損害各構件，造成機械強度下降或黃變，未能得到預定之光學特性。
電子線照射通常係於惰性氣體中進行照射，但視需要亦可於大氣中或導入有少許氧氣之條件下進行。雖因積層構件之材料而有差異，但藉由適當地導入氧，反倒可使電子線最先碰觸到之構件表面產生氧抑制性，可防止對該構件之損害，可有效率地使電子線僅照射硬化物層。
另一方面，於紫外線硬化型中，於使用具約可吸收較380nm短波長之光的紫外線吸收能力之構件時，較380nm短波長之光未能到達活性能量線硬化型接著劑組成物，無助於其聚合反應。此外，藉由該構件所吸收之較380nm短波長之光將轉換成熱，使該構件本身發熱，成為用於此種構件之積層體產生翹曲、皺折等不良的原因。因此，於本發明中使用紫外線硬化型時，紫外線發生裝置以使用未發較380nm短波長之光的裝置為佳，更具體而言，波長範圍 380~440nm之積算照度與波長範圍250~370nm之積算照度比以100：0~100：50為佳，以100：0~100：40較佳。滿足如此之積算照度關係的紫外線，以封入有鎵之金屬鹵素燈、發波長範圍380~440nm之光的LED光源為佳。抑或，亦可使用低壓水銀燈、中壓水銀燈、高壓水銀燈、超高壓水銀燈、白熾燈、氙燈、鹵素燈、碳弧燈、金屬鹵素燈、螢光燈、鎢絲燈、鎵絲燈、準分子雷射或太陽光作為光源，並使用帶通濾光片遮擋較380nm短波長之光。
本發明所得之接著劑層係於活性能量線硬化型接著劑組成物照射活性能量線而形成者。透過此種接著劑層積層至少2片構件，可製造各種積層體。以下，顯示於偏光件之至少一面透過接著劑層，設有透明保護薄膜的偏光薄膜之例，作為積層體之例。偏光薄膜中，接著劑層係由對活性能量線硬化型接著劑組成物照射活性能量線而成之硬化物層所形成。但，本發明之活性能量線硬化型接著劑組成物可形成偏光薄膜以外之各種積層體的接著劑層，並未限定為偏光薄膜用途。
於選擇活性能量線硬化型接著劑組成物中使用之硬化性成分(除了含烷氧基之胺基化合物(D)以外的自由基聚合性化合物(A))使藉其所形成之接著劑層的Tg為20℃以上時，因耐久性提升故為佳。由耐久性來看，以50℃以上為佳，又以60℃以上為佳，以70℃以上較佳，以85℃以上更佳。另一方面，硬化物層之Tg變得過高時，將導致偏光薄膜之彎屈性下降，故硬化物層之Tg以120℃以下為佳， 以110℃以下較佳，以100℃以下更佳。
藉由活性能量線硬化型接著劑組成物所形成之硬化物層的耐久性較水系接著劑層高。於使用偏光薄膜用時，以使用Tg為20℃以上者作為接著劑層，且控制接著劑層之厚度為300nm~1μm為佳。接著劑層之厚度較300nm薄時，未能得到接著力本身的凝集力，有未能得到接著強度之疑慮。另一方面，接著劑層之厚度大於1μm時，有偏光薄膜之耐水性惡化的疑慮。
本發明之偏光薄膜於偏光件之至少一面透過接著劑層，設有波長365nm之光線透射率小於5%的透明保護薄膜。特別是，因接著劑層係由對前述記載之活性能量線硬化型接著劑組成物照射活性能量線而成的硬化物層所形成者，故偏光件與透明保護薄膜間之接著性優異，且耐水性極為優異。
以下，說明適當地使用本發明之活性能量線硬化型接著劑組成物的偏光薄膜之製造方法。
本發明之偏光薄膜之製造方法係於偏光件之至少一面透過接著劑層設有波長365nm之光線透射率小於5%的透明保護薄膜之偏光薄膜之製造方法，其包含有以下步驟：塗布步驟，於偏光件或透明保護薄膜之至少一面塗布前述記載之活性能量線硬化型接著劑組成物；貼合步驟，貼合偏光件及透明保護薄膜；以及接著步驟，透過自偏光件面側或透明保護薄膜面側照射活性能量線使活性能量線硬化型接著劑組成物硬化所得之接著劑層，接著偏光件及 透明保護薄膜。
偏光件、透明保護薄膜於塗布前述活性能量線硬化型接著劑組成物前亦可進行表面改質處理。具體而言，於偏光件或透明保護薄膜之至少一面，且為塗布活性能量線硬化型接著劑組成物側之面，進行電暈處理、電漿處理、火焰處理或準分子處理。
活性能量線硬化型接著劑組成物之塗布步驟中可使用的塗布方式，可視組成物之黏度或目的之厚度適當地選擇。塗布方式之例，可舉例如：反向塗布機、凹版塗布機(直接、反向或平版(offset))、桿反向塗布機、輥塗布機、模具塗布機、桿塗布機(bar coater)、棒塗布機(rod coater)等。其他，塗布可適當地使用浸漬方式等方式。
透過如前述地塗布之接著劑貼合偏光件與透明保護薄膜(貼合步驟)。偏光件與透明保護薄膜之貼合可藉由輥壓機等進行。
於貼合偏光件與透明保護薄膜後照射活性能量線(電子線、紫外線等)，使活性能量線硬化型接著劑組成物硬化後形成接著劑層(接著步驟)。可自任意適當之方向照射活性能量線(電子線、紫外線等)之照射方向。以自透明保護薄膜側照射為佳。自偏光件側照射時，有偏光件因活性能量線(電子線、紫外線等)產生劣化的疑慮。
於連續生產線製造本發明之偏光薄膜時，雖因接著劑之硬化時間而異，生產線速度以1~500m/min為佳，較佳者是5~300m/min，更佳者為10~100m/min。生產線速度 過慢時將缺乏生產性、或對透明保護薄膜之損害過大，未能製作可耐耐久性試驗等的偏光薄膜。生產線速度過快時，接著劑之硬化並不充分，有未能得到目的之接著性的情形。
如前述，光酸產生劑(C)及含烷氧基之胺基化合物(D)共存於活性能量線硬化型接著劑組成物中時，含烷氧基之胺基化合物(D)中之胺基與來自光酸產生劑之酸將進行反應，同時含烷氧基之胺基化合物(D)中之烷氧基將被水分水解，生成反應性之羥基。藉此，含烷氧基之胺基化合物(D)中反應性之羥基可與存在於偏光件表面之羥基形成氫鍵及/或共價鍵。於本發明中，前述接著步驟中於照射活性能量線時或照射後具有加熱步驟時，將促進含烷氧基之胺基化合物(D)中烷氧基的水解反應、及於水解反應後生成之羥基與存在於偏光件表面之羥基之間形成氫鍵及/或共價鍵的反應。藉此，可製造具有耐水性更加躍升之接著劑層的偏光薄膜。
於前述偏光薄膜之製造方法中，以前述貼合步驟時前述偏光件之含水率小於15%為佳。利用此種製造方法，可降低貼合步驟(積層)後所得之偏光薄膜的乾燥負擔，並製造具有偏光件與透明保護薄膜之接著性優異，且接著劑層之耐久性及耐水性優異的接著劑層之偏光薄膜。
另，本發明之偏光薄膜之偏光件與透明保護薄膜透過藉由前述活性能量線硬化型接著劑組成物之硬化物層所形成的接著劑層貼合，但於透明保護薄膜與接著劑層之 間可設置易接著層。易接著層可藉由具有例如：聚酯骨架、聚醚骨架、聚碳酸酯骨架、聚胺甲酸乙酯骨架、矽系、聚醯胺骨架、聚醯亞胺骨架、聚乙烯醇骨架等之各種樹脂形成。該等聚合物樹脂可單獨使用1種、或組合2種以上使用。又，易接著層之形成亦可添加其他之添加劑。具體而言，亦可使用增黏劑、紫外線吸收劑、抗氧化劑、耐熱穩定劑等穩定劑等。
易接著層通常係預先設於透明保護薄膜上，藉由接著劑層貼合該透明保護薄膜之易接著層側與偏光件。易接著層之形成係於透明保護薄膜上利用眾所周知的技術塗布、乾燥易接著層之形成材所進行。考量到乾燥後之厚度、塗布之圓滑性等，易接著層之形成材通常調整作為稀釋成適當濃度的溶液。易接著層乾燥後之厚度，以0.01~5μm為佳，較佳者是0.02~2μm，更佳者為0.05~1μm。另，雖可設置複數層易接著層，但此時仍以將易接著層之總厚度設為前述範圍內為佳。
本發明之偏光薄膜係於偏光件之至少一面，透過藉由前述活性能量線硬化型接著劑組成物之硬化物層所形成的接著劑層貼合透明保護薄膜。
可使用各種偏光件，並未特別限制。偏光件可舉例如：於聚乙烯醇系薄膜、部分縮甲醛化聚乙烯醇系薄膜、乙烯．乙酸乙烯共聚合物系部分皂化薄膜等親水性高分子薄膜吸附碘或二色性染料等二色性材料後單軸延伸者；聚乙烯醇之脫水處理物或聚氯乙烯之去氯化氫處理物等多烯 系定向薄膜等。該等中，亦以選自於由聚乙烯醇系薄膜與碘等二色性物質所構成之偏光件為佳。並未特別限制該等偏光件之厚度，但一般係80μm左右以下。
經碘染色聚乙烯醇系薄膜並單軸延伸之偏光件，可藉由例如，將聚乙烯醇浸漬碘之水溶液後染色，延伸至原長度之3~7倍地製作。視需要，亦可浸漬於硼酸或碘化鉀等水溶液中。更可視需要，於染色前將聚乙烯醇系薄膜浸漬於水中水洗。藉由水洗聚乙烯醇系薄膜，不但可洗淨聚乙烯醇系薄膜表面之髒汙或抗結塊劑，亦可藉使聚乙烯醇系薄膜膨潤而具有防止染色差異等不均勻的效果。延伸可於以碘染色後進行，亦可一面染色一面延伸、或亦可於延伸後以碘染色。可於硼酸或碘化鉀等水溶液中或水浴中延伸。
又，偏光件可使用厚度10μm以下之薄型偏光件。由薄型化之觀點來看，該厚度以1~7μm為佳。如此之薄型偏光件厚度差異小，目視確認性優異，又因尺寸變化少故耐久性優異，此外，作為偏光薄膜之厚度亦以追求薄型化為佳。
具代表性之薄型偏光件，可舉例如：日本專利特開昭51-069644號公報、日本專利特開2000-338329號公報、WO2010/100917號說明書、PCT/JP2010/001460之說明書、日本專利特願2010-269002號說明書或日本專利特願2010-263692號說明書所記載之薄型偏光膜為例。該等薄型偏光膜可藉由包含以下步驟之製法得到：將聚乙烯醇系樹 脂(以下，亦稱作PVA系樹脂)層與延伸用樹脂基材於積層體之狀態下延伸的步驟、及染色步驟。若為該等製法，即使PVA系樹脂層為薄，仍可藉由延伸用樹脂基材支撐，可未產生因延伸造成的破裂等不良情形地延伸。
前述薄型偏光膜的包含於積層體之狀態下延伸的步驟與染色步驟之製法中，由可高倍率地延伸並提升偏光性能之點來看，以包含如WO2010/100917號說明書、PCT/JP2010/001460之說明書、日本專利特願2010-269002號說明書或日本專利特願2010-263692號說明書記載之於硼酸水溶液中延伸之步驟的製法所得到者為佳，特別是以藉由包含日本專利特願2010-269002號說明書或日本專利特願2010-263692號說明書記載之於硼酸水溶液中延伸前輔助地空中延伸之步驟的製法所得到者為佳。
前述PCT/JP2010/001460說明書中記載之薄型高機能偏光膜係於樹脂基材上一體地製膜並由已使二色性物質定向之PVA系樹脂所構成的厚度7μm以下之薄型高機能偏光膜，具有單體透射率42.0%以上及偏光度99.95%以上的光學特性。
前述薄型高機能偏光膜可如以下地製造：於至少具有20μm厚度之樹脂基材藉由塗布及乾燥PVA系樹脂生成PVA系樹脂層，將經生成之PVA系樹脂層浸漬於二色性物質之染色液中，使PVA系樹脂層吸附二色性物質，將吸附有二色性物質之PVA系樹脂層於硼酸水溶液中與樹脂基材一起延伸至總延伸倍率為原長度之5倍以上。
又，製造包含已使二色性物質定向之薄型高機能偏光膜的積層體薄膜之方法，包含以下步驟：生成含有至少具有20μm厚度之樹脂基材及PVA系樹脂層之積層體薄膜的步驟，該PVA系樹脂層係藉於樹脂基材之一面塗布含PVA系樹脂之水溶液並加以乾燥而形成；將包含樹脂基材與形成於樹脂基材一面之PVA系樹脂層的前述積層體薄膜浸漬於含二色性物質之染色液中，使積層體薄膜所含之PVA系樹脂層吸附二色性物質的步驟；將包含吸附有二色性物質之PVA系樹脂層之前述積層體薄膜於硼酸水溶液中延伸至總延伸倍率為原長度之5倍以上的步驟；及藉由一起延伸吸附有二色性物質之PVA系樹脂層與樹脂基材，製造於樹脂基材之一面製有薄型高機能偏光膜之積層體薄膜的步驟，該薄型高機能偏光膜係由已使二色性物質定向之PVA系樹脂層所構成，其厚度7μm以下，並具有單體透射率42.0%以上且偏光度99.95%以上之光學特性；藉由以上步驟，可製造前述薄型高機能偏光膜。
前述日本專利特願2010-269002號說明書或日本專利特願2010-263692號說明書之薄型偏光膜係由已使二色性物質定向之PVA系樹脂所構成之連續網狀物的偏光膜，並為含有在非晶性酯系熱可塑性樹脂基材上製膜而成之PVA系樹脂層的積層體，藉由空中輔助延伸與硼酸水中延伸所構成之2段延伸步驟延伸而形成10μm以下之厚度者。此種薄型偏光膜以具有以下光學特性者為佳，該光學特性為：令單體透射率為T、偏光度為P時，滿足 P>-(100.929T-42.4-1)×100(惟，T<42.3)、及P≧99.9(惟，T≧42.3)之條件。
具體而言，前述薄型偏光膜可藉由包含下述步驟之薄型偏光膜之製造方法製造：藉由對在連續網狀物之非晶性酯系熱可塑性樹脂基材上製膜而成的PVA系樹脂層進行空中高溫延伸，生成由經定向之PVA系樹脂層所構成的延伸中間生成物之步驟、藉使延伸中間生成物吸附二色性物質，生成由已使二色性物質(以碘或碘與有機染料之混合物為佳)定向之PVA系樹脂層所構成的著色中間生成物之步驟、及藉由對著色中間生成物進行硼酸水中延伸，生成由已使二色性物質定向之PVA系樹脂層所構成的厚度10μm以下之偏光膜的步驟。
於該製造方法中，利用空中高溫延伸與硼酸水中延伸之製膜於非晶性酯系熱可塑性樹脂基材的PVA系樹脂層之總延伸倍率，以5倍以上為佳。用以硼酸水中延伸之硼酸水溶液的液溫可設為60℃以上。於硼酸水溶液中延伸著色中間生成物前，以先對著色中間生成物施行不溶化處理為佳，此時，以藉將前述著色中間生成物浸漬於液溫不大於40℃之硼酸水溶液中進行為佳。前述非晶性酯系熱可塑性樹脂基材，可為使異苯二甲酸共聚合之共聚合聚對苯二甲酸乙二酯、使環己烷二甲醇共聚合之共聚合聚對苯二甲酸乙二酯、或包含其他共聚合聚對苯二甲酸乙二酯之非晶性聚對苯二甲酸乙二酯，以由透明樹脂所構成者為佳，其厚度可為所製膜之PVA系樹脂層厚度的7倍以上。又，空中 高溫延伸之延伸倍率以3.5倍以下為佳，空中高溫延伸之延伸溫度係PVA系樹脂之玻璃轉移溫度以上，具體而言以95℃~150℃之範圍為佳。以自由端單軸延伸進行空中高溫延伸時，製膜於非晶性酯系熱可塑性樹脂基材之PVA系樹脂層的總延伸倍率，以5倍以上且7.5倍以下為佳。又，於以固定端單軸延伸進行空中高溫延伸時，製膜於非晶性酯系熱可塑性樹脂基材之PVA系樹脂層的總延伸倍率，以5倍以上且8.5倍以下為佳。
更具體而言，可藉由以下方法製造薄型偏光膜。
製作共聚合有異苯二甲酸6mol%之異苯二甲酸共聚合聚對苯二甲酸乙二酯(非晶性PET)的連續網狀物基材。非晶性PET之玻璃轉移溫度係75℃。如以下地製作由連續網狀物之非晶性PET基材與聚乙烯醇(PVA)層所構成的積層體。又，PVA之玻璃轉移溫度係80℃。
準備200μm厚之非晶性PET基材、及於水中溶解有聚合度1000以上、皂化度99%以上之PVA粉末的4~5%濃度之PVA水溶液。接著，於200μm厚之非晶性PET基材塗布PVA水溶液，以50~60℃之溫度乾燥，得到於非晶性PET基材製膜有7μm厚度之PVA層的積層體。
將包含7μm厚之PVA層的積層體經由包含空中輔助延伸及硼酸水中延伸之2段延伸步驟的以下步驟，製造3μm厚之薄型高機能偏光膜。藉由第1段之空中輔助延伸步驟，將包含7μm厚之PVA層的積層體與非晶性PET基材一起延伸，生成包含5μm厚之PVA層的延伸積層體。具體而言， 該延伸積層體係將包含7μm厚之PVA層的積層體置於裝於設定有130℃之延伸溫度環境的烘箱之延伸裝置，於自由端單軸延伸延伸至倍率為1.8倍。藉由該延伸處理，可將延伸積層體中所含之PVA層變更為PVA分子業經定向之5μm厚的PVA層。
接著，藉由染色步驟，生成使PVA分子業經定向之5μm厚的PVA層吸附有碘之著色積層體。具體而言，該著色積層體藉將延伸積層體浸漬於液溫30℃之含碘及碘化鉀之染色液中任意時間，使構成最終所生成之高機能偏光膜之PVA層的單體透射率為40~44%，使碘吸附於延伸積層體所含之PVA層。本步驟中，染色液係以水作為溶劑，將碘濃度設為0.12~0.30重量%之範圍內，將碘化鉀濃度設為0.7~2.1重量%之範圍內。碘與碘化鉀之濃度比係1：7。換言之，為於水中溶解碘，碘化鉀係為必要。更詳而言之，藉將延伸積層體於碘濃度0.30重量%、碘化鉀濃度2.1重量%之染色液中浸漬60秒，生成使PVA分子業經定向之5μm厚之PVA層吸附有碘的著色積層體。
此外，藉由第2階段之硼酸水中延伸步驟，更一起延伸著色積層體與非晶性PET基材，可生成包含構成3μm厚之高機能偏光膜之PVA層的光學薄膜積層體。具體而言，該光學薄膜積層體係將著色積層體，置於配置於包含硼酸與碘化鉀之設定有液溫範圍為60~85℃之硼酸水溶液之處理裝置的延伸裝置，再以自由端單軸延伸至延伸倍率為3.3倍者。更詳而言之，硼酸水溶液之液溫係65℃。又， 相對於水100重量份，以硼酸含量為4重量份，相對於水100重量份，以碘化鉀含量為5重量份。本步驟中，首先將調整有碘吸附量之著色積層體浸漬於硼酸水溶液中5~10秒。之後，使該著色積層體直接通過配置於處理裝置之延伸裝置的周速相異之複數組的軋輥間，以自由端單軸延伸30~90秒至延伸倍率為3.3倍。藉由該延伸處理，將著色積層體所含之PVA層，轉變成使所吸附之碘經單向高階定向為聚碘離子錯合物的3μm厚之PVA層。該PVA層構成光學薄膜積層體之高機能偏光膜。
雖非製造光學薄膜積層體所必須之步驟，但以藉由洗淨步驟將光學薄膜積層體自硼酸水溶液取出，以碘化鉀水溶液洗淨附著於製膜在非晶性PET基材之3μm厚的PVA層表面之硼酸為佳。之後，藉由利用60℃之溫風的乾燥步驟，乾燥洗淨後之光學薄膜積層體。另，洗淨步驟係用以消除硼酸析出等外觀不良之步驟。
同樣雖非製造光學薄膜積層體所必須之步驟，但亦可藉由貼合及/或轉印步驟，一面於製膜有非晶性PET基材之3μm厚的PVA層表面塗布接著劑，一面貼合80μm厚之三乙酸纖維素薄膜後，剝離非晶性PET基材，將3μm厚之PVA層轉印於80μm厚之三乙酸纖維素薄膜。
[其他步驟]
前述薄型偏光膜之製造方法除了前述步驟以外，可包含其他步驟。其他步驟可舉不溶化步驟、交聯步驟、乾燥(含水率之調節)步驟等為例。其他步驟可於任意適當之時機下 進行。
前述不溶化步驟具代表性者係藉由將PVA系樹脂層浸漬於硼酸水溶液中進行。藉由施行不溶化處理，可賦與PVA系樹脂層耐水性。相對於水100重量份，該硼酸水溶液之濃度以1重量份~4重量份為佳。不溶化浴(硼酸水溶液)之液溫以20℃~50℃為佳。不溶化步驟以於製作積層體後、染色步驟或水中延伸步驟前進行為佳。
前述交聯步驟具代表性者係藉由將PVA系樹脂層浸漬於硼酸水溶液中進行。藉由施行交聯處理可賦與PVA系樹脂層耐水性。相對於水100重量份，該硼酸水溶液之濃度以1重量份~4重量份為佳。又，於前述染色步驟後進行交聯步驟時，以更混合碘化物為佳。藉由混合碘化物，可抑制吸附於PVA系樹脂層之碘的溶出。相對於水100重量份，碘化物之混合量以1重量份~5重量份為佳。碘化物之具體例係如上述。交聯浴(硼酸水溶液)之液溫以20℃~50℃為佳。以於前述第2硼酸水中延伸步驟前進行交聯步驟為佳。較佳之實施形態中，係依序進行染色步驟、交聯步驟及第2硼酸水中延伸步驟。
形成設於前述偏光件之一面或兩面的透明保護薄膜之材料，以透明性、機械強度、熱穩定性、水份截取性、等向性等優異者為佳，特別以透濕度為150g/m2/24h以下者較佳，以140g/m2/24h以下者特佳，以120g/m2/24h以下者更佳。透濕度係藉由實施例記載之方法所求得。
可適當地決定透明保護薄膜之厚度，一般而言， 考量到強度或處理性等作業性、薄層性等，係1~500μm左右，以1~300μm為佳，以5~200μm較佳。更佳者為20~200μm，30~80μm特佳。
滿足前述低透濕度之透明保護薄膜的形成材料可使用例如：聚對苯二甲酸乙二酯或聚萘二甲酸乙二酯等聚酯樹脂；聚碳酸酯樹脂；芳酯系樹脂；尼龍或芳香族聚醯胺等醯胺系樹脂；如聚乙稀、聚丙烯、乙烯．丙烯共聚物之聚烯烴系聚合物、具環系或降冰片烯結構之環狀烯烴系樹脂、(甲基)丙烯酸系樹脂、或該等之混合體。前述樹脂中，亦以聚碳酸酯系樹脂、環狀聚烯烴系樹脂、(甲基)丙烯酸系樹脂為佳，特別是，以環狀聚烯烴系樹脂、(甲基)丙烯酸系樹脂為佳。
環狀聚烯烴樹脂之具體例以冰片烯系樹脂為佳。環狀烯烴系樹脂係以環狀烯烴作為聚合單位所聚合之樹脂的總稱，可舉日本專利特開平1-240517號公報、日本專利特開平3-14882號公報、日本專利特開平3-122137號公報等所記載之樹脂為例。具體例，可舉例如：環狀烯烴之開環(共)聚合物、環狀烯烴之加成聚合物、環狀烯烴與乙烯、丙烯等α-烯烴與其共聚物(具代表性者係隨機共聚物)、及將該等經不飽和羧酸或其衍生物改質之接枝聚合物，以及該等之氫化物等。環狀烯烴之具體例可舉降冰片烯系單體為例。
環狀聚烯烴樹脂可為各種市售製品。具體例可舉例如：日本ZEON股份公司製之商品名「ZEONEX」、 「ZEONOR」、JSR股份公司製之商品名「ArTON」、TICONA社製之商品名「TOPAS」、三井化學股份公司製之商品名「APEL」。
(甲基)丙烯酸系樹脂之Tg(玻璃轉移溫度)，以115℃以上為佳，較佳者是120℃以上，更佳者為125℃以上，特佳者係130℃以上。藉使Tg為115℃以上，可為偏光薄膜之耐久性優異者。並未特別限定前述(甲基)丙烯酸系樹脂的Tg上限值，但由成形性等觀點來看，以170℃以下為佳。以(甲基)丙烯酸系樹脂可得面內相位差(Re)、厚度方向相位差(Rth)幾為0的薄膜。
只要於不損及本發明效果之範圍內，(甲基)丙烯酸系樹脂可使用任意適當之(甲基)丙烯酸系樹脂。可舉例如：聚甲基丙烯酸甲酯等聚(甲基)丙烯酸酯、甲基丙烯酸甲酯-(甲基)丙烯酸共聚物、甲基丙烯酸甲酯-(甲基)丙烯酸酯共聚物、甲基丙烯酸甲酯-丙烯酸酯-(甲基)丙烯酸共聚物、(甲基)丙烯酸甲基-苯乙烯共聚物(MS樹脂等)、具脂環族羥基之聚合物(例如，甲基丙烯酸甲酯-甲基丙烯酸環己酯共聚物、甲基丙烯酸甲酯-(甲基)丙烯酸降莰酯共聚物等)。以聚(甲基)丙烯酸甲酯等聚(甲基)丙烯酸C1-6烷酯為佳。較佳者是以甲基丙烯酸甲酯作為主成分(50~100重量%，以70~100重量%為佳)之甲基丙烯酸甲酯系樹脂。
(甲基)丙烯酸系樹脂之具體例，可舉例如：三菱RAYON股份公司製之ACRYPET VH或ACRYPET VRL20A、特開2004-70296號公報記載之於分子內具有環構 造之(甲基)丙烯酸系樹脂、藉由分子內交聯或分子內環化反應所得之高Tg(甲基)丙烯酸系樹脂。
(甲基)丙烯酸系樹脂亦可使用具有內酯環結構之(甲基)丙烯酸系樹脂。這是因為可藉由高耐熱性、高透明性、雙軸延伸而具有高機械強度之故。
具有內酯環結構之(甲基)丙烯酸系樹脂，可舉日本專利特開2000-230016號公報、日本專利特開2001-151814號公報、日本專利特開2002-120326號公報、日本專利特開2002-254544號公報、日本專利特開2005-146084號公報等記載之具有內酯環構造的(甲基)丙烯酸系樹脂為例。
另，設於偏光件兩面之前述低透濕度的透明保護薄膜，其表面與背面可使用由相同聚合物材料所構成之透明保護薄膜，亦可使用由相異之聚合物材料等所構成的透明保護薄膜。
前述偏光薄膜中，透明保護薄膜之SP值以29.0(MJ/m3)1/2以上且小於33.0(MJ/m3)1/2為佳。透明保護薄膜之SP值於前述範圍內時，活性能量線硬化型接著劑組成物中之自由基聚合性化合物(A)於例如，含有羥乙基丙烯醯胺(SP值29.6)、N-羥甲基丙烯醯胺(SP值31.5)等時，因該等之SP值非常地接近，故可大幅地提升透明保護薄膜與接著劑層的接著性。SP值為29.0(MJ/m3)1/2以上且小於33.0(MJ/m3)1/2之透明保護薄膜，可舉皂化三乙酸纖維素(例如，SP值32.7)為例。
又，前述偏光薄膜中，透明保護薄膜之SP值以 18.0(MJ/m3)1/2以上且小於24.0(MJ/m3)1/2為佳。透明保護薄膜之SP值於前述範圍內時，活性能量線硬化型接著劑組成物中之自由基聚合性化合物(A)於例如，含有丙烯醯基啉(SP值22.9)、N-甲氧甲基丙烯醯胺(SP值22.9)、N-乙氧甲基丙烯醯胺(SP值22.3)等時，因該等之SP值非常地接近，故可大幅地提升透明保護薄膜與接著劑層的接著性。SP值為18.0(MJ/m3)1/2以上且小於24.0(MJ/m3)1/2之透明保護薄膜，可舉未皂化三乙酸纖維素(SP值23.3)及丙烯酸薄膜(SP值22.2)等為例。
又，前述透明保護薄膜可使用具有正面相位差為40nm以上、及/或厚度方向相位差為80nm以上之相位差的相位差板。正面相位差通常控制在40~200nm範圍內，厚度方向相位差通常控制在80~300nm範圍內。於使用相位差板作為透明保護薄膜時，因該該相位差板亦具有作為透明保護薄膜之功用，可期待薄型化。
相位差板，可舉例如：將高分子素材單軸或雙軸延伸處理後而成之雙折射性薄膜、液晶聚合物之定向薄膜、以薄膜支撐有液晶聚合物之定向層者等。並未特別限制相位差板之厚度，但一般係20~150μm左右。
又，前述具有相位差之薄膜可另外貼附於未具有相位差之透明保護薄膜，而賦與前述機能。
於未接著前述透明保護薄膜之偏光件之面，可設置硬塗層、反射防止層、防黏層、擴散層或防眩光層等機能層。另，前述硬塗層、反射防止層、防黏層、擴散層或 防眩光層等機能層可直接設於透明保護薄膜，亦可設於與透明保護薄膜不同者上。
於實際使用本發明之偏光薄膜時，可作為與其他光學層積層後的光學薄膜使用。並未特別限定該光學層，可使用1層或2層以上之例如，反射板或半透射板、相位差板(包含1/2或1/4等之波長板)、視角補償薄膜等可使用於形成液晶顯示裝置等的光學層。特別是，以於本發明之偏光薄膜更積層反射板或半透射反射板後而成之反射型偏光薄膜或半透過型偏光薄膜、於偏光薄膜更積層相位差板後而成之橢圓偏光薄膜或圓偏光薄膜、於偏光薄膜更積層視角補償薄膜後而成之廣視角偏光薄膜、或於偏光薄膜更積層亮度提升薄膜後而成之偏光薄膜為佳。
於偏光薄膜積層有前述光學層之光學薄膜亦可藉由於液晶顯示裝置等製造過程中依序個別地積層的方式形成，但以預先積層後作為光學薄膜者，品質穩定性或組裝作業等優異，並具有提升液晶顯示裝置等之製造步驟的優點。積層可使用黏著層等適當的接著方法。於接著前述偏光薄膜或其他光學薄膜時，可對應目的之相位差特性等將該等之光學軸設為適當的配置角度。
於前述偏光薄膜、或至少積層有1層之偏光薄膜的光學薄膜，亦可設置用以與液晶單元等其他構件接著的黏著層。並未特別限制形成黏著層之黏著劑，可適當地選擇以例如：丙烯酸系聚合物、矽系聚合物、聚酯、聚胺甲酸乙酯、聚醯胺、聚醚、氟系或橡膠系等聚合物作為基質 聚合物者使用。特別是，如丙烯酸系黏著劑之光學透明性優異，顯示適當之濕潤性、凝集性、接著性之黏著特性，可較佳地使用耐候性或耐熱性等優異者。
黏著層亦可作為相異之組成或種類等者的重疊層，設於偏光薄膜或光學薄膜之一面或兩面。又，設於兩面時，於偏光薄膜或光學薄膜之表面與背面，亦可作為相異組成或種類、厚度等地黏著層。可視使用之目的或接著力等適當地決定黏著層之厚度，一般係1~500μm，以1~200μm為佳，以1~100μm特佳。
於黏著層之露出面，於實際使用前可暫時覆蓋以防止汙染等為目的的隔離層。藉此，可防止於通常之處理狀態下與黏著層接觸。隔離層除了前述厚度條件以外，可適當地使用以往使用之例如：塑膠薄膜、橡膠騙材、紙、布、不織布、網、發泡片材或金屬箔、該等之積層體等適當之薄片體，視需要可使用經以矽系或長鏈烷基系、氟系或硫化鉬等適宜之剝離劑覆蓋處理者等。
本發明之偏光薄膜或光學薄膜以使用於形成液晶顯示裝置等各種裝置等為佳。液晶顯示裝置之形成可如以往地進行。換言之，液晶顯示裝置一般係藉由適當地組裝液晶單元與偏光薄膜或光學薄膜、及視需要之照明系統等構成零件後，裝入驅動電路等所形成，本發明中除了使用本發明之偏光薄膜或光學薄膜以外，並未特別限定，可如以往地進行。液晶單元可使用例如，TN型、STN型、π型等任意型式者。
可形成於液晶單元之一側或兩側配置有偏光薄膜或光學薄膜的液晶顯示裝置、或於照明系統中使用有背光源或反射板者等適當之液晶顯示裝置。此時，本發明之偏光薄膜或光學薄膜可設置於液晶單元之一側或兩側。於兩側設置偏光薄膜或光學薄膜時，該等可相同亦可相異。此外，於形成液晶顯示裝置時，可於適當之位置配置1層或2層以上之擴散板、防眩光層、反射防止膜、保護板、稜鏡陣列、透鏡陣列片、光擴散板、背光源等適當之零件。
[實施例]
以下，記載本發明之實施例，但本發明之實施形態並未受該等所限定。
(活性能量線硬化型接著劑組成物之調整)
使用之各成分係如以下所述。
(1)自由基聚合性化合物(A)
HEAA(羥乙基丙烯醯胺)，SP值29.6(MJ/m3)1/2，同元聚合物之Tg；123℃，興人社製
LIGHT ACRYLATE 1.9ND-A(1.9-壬二醇二丙烯酸酯)，SP值19.2(MJ/m3)1/2，同元聚合物之Tg69℃，共榮社化學社製
ACMO(丙烯醯基啉)，SP值22.9(MJ/m3)1/2，同元聚合物之Tg；150℃，興人社製
(2)自由基產生劑(B)
IRGACURE907(2-甲基-1-(4-甲基苯硫基)-2-啉基丙烷-1-酮)，BASF社製
(3)光產生劑(C)
CPI-101A(三芳基鋶-SbF6鹽)，San-apro社製
(4)含烷氧基之胺基化合物(D)
含烷氧基之胺基矽烷耦合劑(D1)：KBM603(N-2(胺基乙基)-3-胺基丙基三甲氧基矽烷)，信越有機矽社製
實施例1
調整接著劑組成物為相對於表1記載之自由基聚合性化合物(A)(令自由基聚合性化合物(A)之總量為100重量份時，HEAA為30重量份、LIGHT ACRYLATE1.9ND-A為30重量份、ACMO為40重量份)100重量份，添加有1重量份之自由基產生劑(B)(IRGACURE819)、1重量份之作為光酸產生劑(C)之CPI-101A、1重量份之含烷氧基之胺基矽烷耦合劑(D1)(KBM603)。於2片未處理丙烯酸薄膜(透明保護薄膜、SP值22.2、透濕度70g/m2/24h)之一面(貼合面)，以微凹版塗布機塗布接著劑組成物，使最終之接著劑層的厚度為0.6μm。接著，於偏光件之兩面以100W．min/m2之放電量進行電暈處理，於偏光件之兩面分別自塗布面側貼合2片塗布有接著劑組成物的透明保護薄膜。並且，自經貼合之兩側透明保護薄膜側分別照射以積算光量計700mJ/cm2的紫外線，製造於偏光件之兩面具有透明保護薄膜的偏光薄膜。
實施例2~3
除了將含烷氧基之胺基矽烷耦合劑(D1)(KBM603)之混合量變更為如表1記載之配合量以外，藉由與實施例1相同的方法製造偏光薄膜。
比較例1~2
除了未使用光產生劑(C)、或含烷氧基之胺基化合物(D)之任一者以外，藉由與實施例1相同的方法製造偏光薄膜。
[評價]
對實施例及比較例所得之偏光薄膜進行下述評價。於表1顯示結果。
<Tg：玻璃轉移溫度>
Tg係使用TA Instruments製之動態黏彈性測定裝置RSAIII，以以下的測定條件測定。
試樣尺寸：寬度10mm、長度30mm、夾持距離20mm、測定模式：拉伸、頻率：1Hz、升溫速度：5℃/分、進行動態黏彈性之測定，作為tanδ之峰頂溫度Tg使用。
<透明保護薄膜之透濕度>
透濕度之測定係以JIS Z0208之透濕度試驗(圓筒平板法)為準測定。將切成直徑60mm之試樣置入裝有約15g之氯化鈣的透濕筒，再放入溫度40℃、濕度90%R.H.之恆溫機，藉由測定放置24小時前後之氯化鈣的重量増加，求出透濕度(g/m2/24h)。
<耐水性試驗>
關於耐水性試驗，進行如下述3種試驗。
[試驗(1)：40℃、92%R.H.、500h]
於40℃且92%R.H.環境下，將偏光薄膜切成1.5cm×15cm見方的試樣放置500小時，取出後立刻以剝離速度300m/min之速度進行90°剝離，測定其剝離力。
[試驗(2)：40℃溫水、2h]
將試樣(與試驗(1)相同形狀之試樣)浸漬於40℃之溫水中2小時，取出後立刻以剝離速度300m/min之速度進行90°剝離，測定其剝離力。
[試驗(3)：40℃溫水、2h、有老化]
於試驗前，以50℃加熱試樣(與試驗(1)相同形狀之試樣)加熱12小時(老化)，再將其浸漬於40℃之溫水中2小時，取出後立刻以剝離速度300m/min之速度進行90°剝離，測定其剝離力。
於試驗(1)~(3)中，經測定之剝離力的評價基準如下。
◎：剝離力1.0N/15mm以上
○：剝離力0.5N以上且小於1.0N/15mm
△：剝離力0.2N以上且小於0.5N/15mm
×：剝離力小於0.2N/15mm

Claims (19)

  1. 一種活性能量線硬化型接著劑組成物，其特徵在於，含有自由基聚合性化合物(A)、自由基產生劑(B)、光酸產生劑(C)、及含烷氧基之胺基化合物(D)。
  2. 如請求項1之活性能量線硬化型接著劑組成物，其中前述含烷氧基之胺基化合物(D)係含烷氧基之胺基矽烷耦合劑(D1)。
  3. 如請求項2之活性能量線硬化型接著劑組成物，其中令前述自由基聚合性化合物(A)之總量為100重量份時，前述含烷氧基之胺基矽烷耦合劑(D1)之含量係0.1~20重量份。
  4. 如請求項1或2之活性能量線硬化型接著劑組成物，其中前述光酸產生劑(C)含有具選自於由PF6 -、SbF6 -及AsF6 -所構成群組中之至少1種作為相對陰離子的光酸產生劑。
  5. 如請求項1或2之活性能量線硬化型接著劑組成物，其中前述自由基聚合性化合物(A)含有丙烯醯胺衍生物。
  6. 如請求項1或2之活性能量線硬化型接著劑組成物，其中前述自由基聚合性化合物(A)係選自於由羥乙基丙烯醯胺、N-羥甲基丙烯醯胺、丙烯醯基啉及N-甲氧甲基丙烯醯胺所構成群組中之至少1種。
  7. 如請求項1或2之活性能量線硬化型接著劑組成物，其中前述自由基產生劑(B)含有下述通式(1)所表示之化合 物； (式中，R1及R2表示-H、-CH2CH3、-iPr或Cl，R1及R2可相同亦可相異)。
  8. 如請求項7之活性能量線硬化型接著劑組成物，其中前述自由基產生劑(B)更含有下述通式(2)所表示之化合物； (式中，R3、R4及R5表示-H、-CH3、-CH2CH3、-iPr或Cl，R3、R4及R5可相同亦可相異)。
  9. 一種偏光薄膜，係於偏光件之至少一面透過接著劑層，設有波長365nm之光線透射率小於5%之透明保護薄膜者，其特徵在於，前述接著劑層係由對如請求項1~8中任一項之活性能量線硬化型接著劑組成物照射活性能量線而成的硬化物層所形成者。
  10. 如請求項9之偏光薄膜，其中前述接著劑層之玻璃轉移溫度(Tg)係20℃以上。
  11. 如請求項9之偏光薄膜，其中前述透明保護薄膜之透濕度係150g/m2/24h以下。
  12. 如請求項9之偏光薄膜，其中前述透明保護薄膜之SP值係29.0(MJ/m3)1/2以上且小於33.0(MJ/m3)1/2。
  13. 如請求項9之偏光薄膜，其中前述透明保護薄膜之SP值係18.0(MJ/m3)1/2以上且小於24.0(MJ/m3)1/2。
  14. 一種偏光薄膜之製造方法，該偏光薄膜係於偏光件之至少一面透過接著劑層，設有波長365nm之光線透射率小於5%的透明保護薄膜者，前述製造方法之特徵在於包含以下步驟：塗布步驟，於前述偏光件或前述透明保護薄膜之至少一面塗布如請求項1~8中任一項之活性能量線硬化型接著劑組成物；貼合步驟，貼合前述偏光件及前述透明保護薄膜；及接著步驟，透過自前述偏光件面側或前述透明保護薄膜面側照射活性能量線使前述活性能量線硬化型接著劑組成物硬化所得之接著劑層，接著前述偏光件及前述透明保護薄膜。
  15. 如請求項14之偏光薄膜之製造方法，其中前述塗布步驟前，於前述偏光件或前述透明保護薄膜之至少一面、且為塗布前述活性能量線硬化型接著劑組成物側之面，實施電暈處理、電漿處理、火焰處理或準分子處理。
  16. 如請求項14之偏光薄膜之製造方法，其中前述貼合步驟時前述偏光件之含水率係小於15%。
  17. 如請求項14之偏光薄膜之製造方法，其中前述接著步驟時，於照射活性能量線時或照射後具有加熱步驟。
  18. 一種光學薄膜，其特徵在於，至少積層有1片如請求項9~13中任一項之偏光薄膜。
  19. 一種影像顯示裝置，其特徵在於，使用有如請求項9~13中任一項之偏光薄膜、及/或請求項18之光學薄膜。
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