TW201351238A - 觸控面板 - Google Patents

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TW201351238A
TW201351238A TW102114495A TW102114495A TW201351238A TW 201351238 A TW201351238 A TW 201351238A TW 102114495 A TW102114495 A TW 102114495A TW 102114495 A TW102114495 A TW 102114495A TW 201351238 A TW201351238 A TW 201351238A
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Mitsuhiro Sekizawa
Shigemi Kurashima
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Fujitsu Component Ltd
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Abstract

一種觸控面板,其特徵在於,具有:第1導電膜,具有複數個沿一個方向被形成為較長的方塊圖案;及、第2導電膜,被設置為面對該第1導電膜。其中,該方塊圖案係,在複數個形成為方塊形狀的方塊形狀部之間由方塊形狀部連接部所連接者。在該方塊形狀部上形成導電膜去除區域,該導電膜去除區域係藉由去除形成該第1導電膜的導電膜的一部分而形成的。

Description

觸控面板
本發明涉及一種觸控面板。
觸控面板係一可直接向顯示器進行輸入的輸入裝置,在多數情況下,其係被設置在顯示器的前面以被使用。因為根據藉由顯示器所獲得的視覺資訊可直接進行輸入,所以觸控面板可被應用於各種用途。
作為這樣的觸控面板,廣為周知的有電阻膜方式及靜電容方式。電阻膜方式的觸控面板係,在形成有透明導電膜的上部電極基板及下部電極基板上各透明導電膜彼此相向(面對)地被設置,藉由在上部電極基板的一點進行施力,各透明導電膜彼此接觸,可進行施力位置的位置檢測者。
電阻膜方式觸控面板可大致分為4線式、5線式、及二極體式。4線式係,在上部電極基板或下部電極基板中的任一個上設置有X軸電極,在另一個上設置有Y軸電極者(例如,參照專利文獻1)。又,5線式係,在下部電極基板上皆設置有X軸電極及Y軸電極,上部電極基板具有用於檢測電壓的探針的功能(例如,參照專利文獻2)者。又,二極體式係,在下部電極基板上設置有二極體結構,並設置有用於施加電壓的2個電極及用於監視電位的4個電極者,因為與在具有用於檢測電壓的探針的功能的上部電極基板上所形成的電極一起,共形成了7個電極,所以也被稱為7線式(例如,參照專利文獻3)。
又,靜電容方式係,藉由手指等接近觸控面板,對觸控面板的透 明電極等中所流動的電流進行檢測,以進行位置檢測者。因為在觸控面板中靜電容方式及電阻膜方式具有不同的特徵,所以還公開了一具有將電阻膜方式觸控面板和靜電容方式觸控面板進行了積層的結構的觸控面板(例如,參照專利文獻4、5)。
[先前技術文獻] [專利文獻]
[專利文獻1](日本)特開2004-272722號公報
[專利文獻2](日本)特開2008-293129號公報
[專利文獻3](日本)特開2005-196280號公報
[專利文獻4](日本)實用新案登錄第3132106號公報
[專利文獻5](日本)實用新案登錄第3139196號公報
[專利文獻6](日本)特開2009-116849號公報
然,因為靜電容方式觸控面板係基於靜電容結合的檢測方式,所以其具有不需要進行壓下、僅進行接觸(touch)就可以實施位置檢測的特徵;然,在進行基於絕緣體的接觸時,則不能實施位置檢測。又,在電阻膜方式觸控面板中,盡管具有不需要考慮與觸控面板接觸的物體的材質等的特徵,然,因為位置檢測係藉由作為上部電阻膜的透明導電膜和作為下部電阻膜的透明導電膜相接觸而進行的,所以,需要以所定(predetermined)的力對觸控面板進行壓下。
另一方面,專利文獻4及5中所記載的係,具有將靜電容方式觸控面板和電阻膜方式觸控面板進行了積層的結構者,其具有靜電容方式觸控面板和電阻膜方式觸控面板這兩者的良好特徵。然,在具有這樣的結構的觸控面板中,因為對2種觸控面板進行了積層,所以存在著厚度變厚的問題,還存在著成本較高的問題。
本發明係鑒於上述問題提出的,其目的在於提供一種觸控面板,該觸控面板具有靜電容方式和電阻膜方式的特徵,較薄,並具有較高的位置檢測精度。
一種觸控面板,其特徵在於,具有:第1導電膜,具有複數個沿一個方向被形成為較長的方塊圖案;及、第2導電膜,被設置為面對該第1導電膜。其中,該方塊圖案係,在複數個形成為方塊形狀的方塊形狀部之間由方塊形狀部連接部所連接者。在該方塊形狀部上形成導電膜去除區域,該導電膜去除區域係藉由去除形成該第1導電膜的導電膜的一部分而形成的。
又,一種觸控面板,其特徵在於,具有:第1導電膜,具有複數個沿一個方向被形成為較長的方塊圖案;及、第2導電膜,被設置為面對該第1導電膜。其中,該方塊圖案係,在複數個形成為方塊形狀的方塊形狀部之間由方塊形狀部連接部所連接者,在該方塊形狀部連接部、或、該方塊形狀部連接部的附近的該方塊形狀部上形成高導電區域,該高導電區域的導電性比該方塊形狀部的中央部分的導電性高。
又,一種觸控面板,其特徵在於,具有:第1導電膜,具有複數個沿一個方向被形成為較長的方塊圖案;及、第2導電膜,被設置為面對該第1導電膜。其中,該方塊圖案係,在複數個形成為方塊形狀的方塊形狀部之間由方塊形狀部連接部所連接者。該方塊圖案被形成為複數個。為了連接該各方塊圖案和外部連接基板,與該各方塊圖案相對應地設置了各配線。該配線的長度為大致均一。
又,一種觸控面板,其特徵在於,具有:第1導電膜,具有複數個沿一個方向被形成為較長的方塊圖案;及、第2導電膜,被設置為面對該第1導電膜。其中,該方塊圖案係,在複數個形成為方塊形狀的方塊形狀部之間由方塊形狀部連接部所連接者。該方塊圖案被形成為複 數個。為了連接該各方塊圖案和外部連接基板,與該各方塊圖案相對應地設置了各配線。在該複數個配線中,一個配線的長度被形成為比其它配線的長度短,該其它配線被形成為一部分或全部的寬度比該一個配線的寬度寬。
又,一種觸控面板,其特徵在於,具有:第1導電膜,具有複數個沿一個方向被形成為較長的方塊圖案;及、第2導電膜,被設置為面對該第1導電膜。其中,該方塊圖案係,在複數個形成為方塊形狀的方塊形狀部之間由方塊形狀部連接部所連接者。該方塊圖案被形成為複數個。為了連接該各方塊圖案和外部連接基板,與該各方塊圖案相對應地設置了各配線。在該複數個配線中,一個配線的長度被形成為比其它配線的長度短,該其它配線被形成為一部分或全部的厚度比該一個配線的厚度厚。
又,一種觸控面板,其特徵在於,具有:第1導電膜,具有複數個沿一個方向被形成為較長的方塊圖案;及、第2導電膜,被設置為面對該第1導電膜。其中,該方塊圖案係,在複數個形成為方塊形狀的方塊形狀部之間由方塊形狀部連接部所連接者。該方塊圖案被形成為複數個。為了連接該各方塊圖案和外部連接基板,與該各方塊圖案相對應地設置了各配線。在該複數個配線中,一個配線的長度被形成為比其它配線的長度短,該其它配線和與該其它配線相對應的該方塊圖案之間的接觸點的位置被設置為,位於比該一個配線和與該一個配線相對應的該方塊圖案之間的接觸點的位置還往內的內側。
又,一種觸控面板,其特徵在於,具有:第1導電膜,具有複數個沿一個方向被形成為較長的方塊圖案;及、第2導電膜,被設置為面對該第1導電膜。其中,該方塊圖案係,在複數個形成為方塊形狀的方塊形狀部之間由方塊形狀部連接部所連接者。該方塊圖案被形成為複數個。為了連接該各方塊圖案和外部連接基板,與該各方塊圖案相對 應地設置了各配線。該方塊圖案和該配線相接觸的該配線中的接觸部的兩端的端部彎向設置了該方塊圖案的一側。
根據本發明,能夠提供一種觸控面板,其具有靜電容方式和電阻膜方式的特徵,較薄,並具有較高的位置檢測精度。
10‧‧‧第1透明導電膜
11‧‧‧第1基板
12‧‧‧方塊(diamond)圖案
121~12n‧‧‧方塊(diamond)圖案
12a‧‧‧方塊形狀部
12b‧‧‧方塊形狀部連接部
12k‧‧‧方塊圖案
12k+1‧‧‧方塊圖案
13‧‧‧導電膜去除區域
14‧‧‧高導電區域
20‧‧‧第2透明導電膜
21‧‧‧第2基板
40‧‧‧可撓性基板
511~51n‧‧‧配線
521~52n‧‧‧配線
531~53n‧‧‧配線
541、54k‧‧‧配線
551~55n‧‧‧配線
55k‧‧‧配線
561~56n‧‧‧接觸點
56k‧‧‧接觸點
57k、57k+1‧‧‧配線
58k、58k+1‧‧‧接觸部
59k、59k+1‧‧‧端部
60k、60k+1‧‧‧區域
120‧‧‧方塊形狀圖案
120a‧‧‧角
120b‧‧‧角
910‧‧‧圖案
957k‧‧‧配線
957k+1‧‧‧配線
958k‧‧‧接觸部
958k+1‧‧‧接觸部
960k‧‧‧電位扭曲(distorted)區域
960k+1‧‧‧電位扭曲區域
R‧‧‧圖案電阻
R0‧‧‧圖案電阻
r‧‧‧配線電阻
r0‧‧‧配線電阻
[圖1]第1實施方式的觸控面板的結構圖。
[圖2]觸控面板的第1透明導電膜的說明圖。
[圖3(a)、(b)]透明導電膜的電位分布的說明圖(1)。
[圖4(a)、(b)]透明導電膜的電位分布的說明圖(2)。
[圖5]第1實施方式的觸控面板的說明圖。
[圖6]圖5的要部擴大圖。
[圖7]第1實施方式的其它觸控面板的說明圖。
[圖8]圖7的要部擴大圖。
[圖9]第2實施方式的觸控面板的說明圖。
[圖10]第2實施方式的其它觸控面板的說明圖(1)。
[圖11]第2實施方式的其它觸控面板的說明圖(2)。
[圖12]沿圖11的一點鎖線11A-11B進行切斷所得到的斷面概要圖。
[圖13]使配線的電阻值均一化的說明圖。
[圖14]第2實施方式的其它觸控面板的說明圖(3)。
[圖15]使配線的電阻值比率均一化的說明圖。
[圖16]第1透明導電膜和配線的接觸部分的說明圖。
[圖17]第3實施方式的第1透明導電膜和配線的接觸部分的說明圖。
以下對本發明的實施方式進行說明。這裡需要說明的是,相同部 件等被標註了相同的符號,並省略其說明。
[第1實施方式]
對第1實施方式的觸控面板進行說明。如圖1所示,本實施方式的觸控面板具有在第1基板11的一個面上形成的第1透明導電膜10、及在第2基板21的一個面上形成的第2透明導電膜20,第1基板11和第2基板21被設置為與第1透明導電膜10和第2透明導電膜20呈對向(面對)的狀態。藉此,本實施方式的觸控面板使用第1透明導電膜10可進行基於靜電容方式的位置檢測,使用第1透明導電膜10和第2透明導電膜20可進行基於電阻膜方式的位置檢測。
這樣,在可進行基於靜電容方式的位置檢測和基於電阻膜方式的位置檢測的觸控面板中,如圖2所示,在第1透明導電膜10上形成了方塊圖案12。這樣的方塊圖案12係,形成為方塊形狀的方塊形狀部12a被配置為一列,並且相鄰的各方塊形狀部12a之間被方塊形狀部連接部12b所連接者。這樣,藉由以方塊圖案12形成第1透明導電膜10,使用第1透明導電膜10可進行基於靜電容方式的位置檢測。這裡需要說明的是,因為係使用第1透明導電膜10和第2透明導電膜20高精度地進行基於電阻膜方式的位置檢測,所以形成於方塊圖案12的間隙被形成為儘可能的窄。
然,在將形成有方塊圖案12的第1透明導電膜10應用於電阻膜方式的情況下,電壓和距離之間的關係並非線性關係。具體而言,如圖3(a)所示,在第1透明導電膜係由具有相同寬度的圖案910所形成的情況下,例如,如果在該圖案910的兩端的一端施加5V的電壓,另一端施加0V的電壓,則在圖案910中會產生等間隔的電位分布。這樣,如果可產生等間隔的電位分布,則因為電位和接觸位置之間係線性關係,所以根據檢測到的電位,可以容易地對接觸位置進行高精度的位置檢測。
然,如圖3(b)所示,在第1透明導電膜10係由方塊圖案12所形成的情況下,如果對形成了方塊圖案12的方塊形狀部12a的兩側的方塊形狀部連接部12b中的一個施加5V的電壓,對另一個施加0V的電壓,則在方塊形狀部連接部12b、方塊形狀部連接部12b附近的方塊形狀部12a、及方塊形狀部12a的中央部分,電位分布的間隔並非等間隔。這樣,因為電位和接觸位置之間並非線性關係,所以,根據檢測到的電位,並非可容易地對接觸位置進行位置檢測。因此,在第1透明導電膜10上形成了方塊圖案12的情況下,根據檢測到的電位,並非可容易地對接觸位置進行高精度的位置檢測。
針對上述,基於相當於圖4(a)所示方塊形狀部12a的方塊形狀圖案120進行更詳細的說明。在圖4(a)所示方塊形狀圖案120中,從方塊形狀圖案120的一個角120a至面對該一個角120a的另一個角120b的方塊形狀圖案120的單位長度的電阻值示於圖4(b)的實線4A。
如實線4A所示,方塊形狀圖案120的單位長度的電阻值在方塊形狀圖案120的一個角120a及另一個角120b附近較高,在方塊形狀圖案120的中央部分較低。為此,在方塊形狀圖案120的一個角120a和另一個角120b之間施加了電壓的情況下,隨方塊形狀圖案120的位置的不同,電位分布的間隔也不同,即,電位分布的間隔並非等間隔。因此,為了容易地進行高精度的位置檢測,如一點鎖線4B所示,需要對單位長度的電阻值進行均一化。
本實施方式的觸控面板如圖5及圖6所示,係在方塊形狀部12a的內部形成了一對透明導電膜進行了去除的導電膜去除區域13,以使方塊形狀部12a及方塊形狀部連接部12b的電位分布為等間隔的結構。藉此,即使在第1透明導電膜10係由方塊圖案12所形成的情況下,也可以使電位分布呈等間隔。因此,在這樣的情況下,因為電位和接觸位置之間係線性關係,所以,根據檢測到的電位,可以容易地對接觸位置 進行正確的位置檢測。這裡需要說明的是,上述的導電膜去除區域13可藉由在形成方塊圖案12時,同時實施蝕刻或雷射濺鍍(laser ablation)等以去除透明導電膜的方式而形成。又,圖5係對此情況下的第1透明導電膜10進行顯示者,圖6係對圖5所示的第1透明導電膜10的方塊形狀部12a進行顯示者。
又,本實施方式的觸控面板如圖7及圖8所示,係在方塊形狀部連接部12b和/或方塊形狀部連接部12b的方塊形狀部12a上形成了高導電區域14,以使方塊形狀部12a及方塊形狀部連接部12b的電位分布為等間隔的結構。這樣的高導電區域14因為其導電性比方塊形狀部12a的中央部分的導電性高,所以,即使在第1透明導電膜10由方塊圖案12所形成的情況下,也可使電位分布呈等間隔。因此,在此情況下,因為電位和接觸位置之間係線性關係,所以,根據檢測到的電位,可容易地對接觸位置進行正確的位置檢測。這裡需要說明的是,高導電區域14可藉由塗敷或印刷導電性較高的微粒子(例如,金屬或透明導電材料等的微粒子)而形成。又,圖7係對此情況下的第1透明導電膜10進行顯示者,圖8係對圖7所示的第1透明導電膜10的方塊形狀部12a進行顯示者。
[第2實施方式]
下面對第2實施方式進行說明。本實施方式係與具有圖1及圖2所示結構的觸控面板上的、與形成有方塊圖案的第1透明導電膜10相連接的配線相關者。具體而言,第1透明導電膜10因為係由方塊圖案所形成的,所以,形成了複數個方塊圖案列。在這樣的方塊圖案列中,觸控面板的一個端部附近所形成的方塊圖案列與另一個端部附近所形成的方塊圖案列的形成位置並不同,所以,與各方塊圖案列相連接的配線長度也不同。這樣,如果配線的長度不同,則一般而言,配線的電阻值也不同,所以,即使在對各配線施加了相同電壓的情況下,配線的電壓降下也不同。因此,在此情況下,由於觸控面板的一個端部附近 的方塊圖案列和另一個端部附近的方塊圖案列上所施加的電壓出現了不同,導致了觸控面板上所檢測的接觸位置的檢測精度降低。
為此,在本實施方式的觸控面板中,係被形成為,與形成有方塊圖案的第1透明導電膜10的複數個方塊圖案列相連接的配線的電阻為大致均一等的結構。
具體而言,本實施方式的觸控面板如圖9所示,係被形成為,與各方塊圖案列相連接的配線的寬度各不相同者。即,在本實施方式的觸控面板中,由複數個方塊圖案121~12n所構成的方塊圖案形成了第1透明導電膜10,在觸控面板的一個端部附近,連接了用於對方塊圖案121~12n施加電壓的可撓性基板(FPC)40,並形成了用於對可撓性基板40的電極端子和複數個方塊圖案121~12n分別進行連接的配線511~51n。這裡需要說明的是,複數個方塊圖案121~12n係按從觸控面板的一個端部附近至另一個端部附近的順序所形成的,方塊圖案121形成在觸控面板的一個端部附近,方塊圖案12n形成在觸控面板的另一個端部附近。
又,配線511~51n係與方塊圖案121~12n相對應而形成的,例如,藉由配線511,可撓性基板40的電極端子與方塊圖案121的一個端部電氣連接,藉由配線51n,可撓性基板40的電極端子與方塊圖案12n的另一個端部電氣連接。這裡需要說明的是,圖9等係模式地對本實施方式的觸控面板的概念進行顯示者,在圖9中,顯示了與方塊圖案121~12n的一側相連接的配線511~51n,然,與另一側相連接的配線被省略了。該事項在後述的圖10、圖11、圖13~圖15中也同樣。
在圖9所示的觸控面板中,通常,沿方塊圖案121~12n從與可撓性基板40相連接的一個端部附近向另一個端部附近遠離的方向上,與各方塊圖案121~12n相連接的配線511~51n的長度逐漸變長。即,與方塊圖案12n相連接的配線51n的長度大於與方塊圖案121相連接的配線511的 長度。
然,在本實施方式中,因為配線511~51n的寬度被形成為依次逐漸變寬,所以,即使配線511~51n的長度各不相同,也可以使配線511~51n的各電阻值大致相同。藉此,可使施加至各方塊圖案121~12n的電壓大致均一,這樣,在兼具靜電容方式的功能和電阻膜方式的功能的觸控面板中,就可以進行高精度的位置檢測。
如果更具體地進行說明,則在本實施方式中,藉由使從短配線511開始依次至長配線51n為止的配線的寬度逐漸變寬,可使配線511~配線51n的電阻值為大致一定,這樣,就可以使施加至各方塊圖案121~12n的電壓大致均一。藉此,可對第1透明導電膜10的方塊圖案121~12n的電位分布進行均一化,並可進行高精度的位置檢測。這裡需要說明的是,配線511~配線51n可使用銀漿糊(paste)等藉由絲網印刷(screen print)而形成。
又,如圖10所示,本實施方式的觸控面板也可被形成為,配線521~配線52n的配線寬度及長度大致相同。在此情況下,因為配線521~配線52n中的配線長度j和寬度大致均一,所以,可使配線521~配線52n的電阻值大致均一。這裡需要說明的是,在圖10中,配線521~配線52n係與各方塊圖案121~12n相對應地被連接的。
又,如圖11及圖12所示,本實施方式的觸控面板還可被形成為,就配線531~配線53n的配線寬度而言,皆大致相同,然,就配線531~配線53n的厚度而言,一部分較厚。具體而言,就配線531~配線53n的厚度而言,將其中的一部分形成為較厚,以使配線531~配線53n的電阻值大致均一。藉此,可對配線531~配線53n的電阻值進行大致均一化。這裡需要說明的是,圖12係沿圖11的一點鎖線11A-11B進行切斷所得到的斷面圖。又,在圖11中,配線531~配線53n係與各方塊圖案121~12n相對應地被連接的。
如上所述,具有圖9~圖12所示結構的觸控面板係,使與方塊圖案121~12n相對應地被設置的配線電阻值大致均一的結構,對該些結構,可進行一般化。具體而言,如圖13所示,在與方塊圖案121連接的配線541係以寬度為D0、長度為L0的方式被形成,並且,與任意的方塊圖案12k連接的配線54k係以寬度為D、長度為L的方式被形成的情況下,被形成為:D≒D0×L/L0(這裡,「≒」係指「約等於」)。又,較佳係被形成為:D=D0×L/L0。藉此,在兼具靜電容方式的功能和電阻膜方式的功能的觸控面板中,可進行高精度的位置檢測。這裡需要說明的是,k為自然數,1<k<n。
又,如圖14所示,本實施方式的觸控面板也可係,改變了與各方塊圖案121~12n的一個端部的配線551~配線55n相連接的接觸點561~56n的位置者。即,因為形成了方塊圖案121~12n的透明導電膜的電阻比較高,所以,藉由對與方塊圖案121~12n的一個端部的配線551~配線55n相連接的接觸點561~56n的位置進行改變,可使各方塊圖案121~12n的電位分布大致均一。具體而言,藉由將與方塊圖案12n的一個端部的配線55n相連接的接觸點56n的位置設置為比與方塊圖案121的一個端部的配線551相連接的接觸點561的位置還靠近方塊圖案12n的內側,在方塊圖案121和方塊圖案12n中,可對電位分布進行大致均一化。這樣,藉由在方塊圖案121~12n的一個端部,使與配線551~配線55n相連接的接觸點561~56n的位置按順序漸進地形成在方塊圖案121~12n的內部,可使各方塊圖案121~12n的電位分布大致均一。
下面,基於圖15對具有圖14所示結構的觸控面板的一般化情況進行說明。具體而言,圖14所示的觸控面板被形成為,相對於與接觸點相連接的配線的電阻及方塊圖案的電阻之和的配線的電阻值為大致一定。即,如圖15所示,在與方塊圖案121的一個端部的接觸點561相連接的配線551的配線電阻為r0,從方塊圖案121的一個端部的接觸點561 開始至另一個端部的圖案電阻為R0,與方塊圖案12k的一個端部的接觸點56k相連接的配線55k的配線電阻為r,從方塊圖案12k的一個端部的接觸點56k開始至另一個端部的圖案電阻為R的情況下,被形成為:r0/(R0+r0)≒r/(R+r)。又,較佳係被形成為:r0/(R0+r0)=r/(R+r)。藉此,在兼具靜電容方式的功能和電阻膜方式的功能的觸控面板中,可進行高精度的位置檢測。
這裡需要說明的是,關於上述之外的內容,係與第1實施方式同樣者。
[第3實施方式]
下面,對第3實施方式進行說明。本實施方式係與第1透明導電膜10的方塊圖案列和配線的接觸部分、即、接觸部的形狀相關者。如圖16所示,在與第1透明導電膜10的方塊圖案12k的端部相接觸的配線957k上形成了與方塊圖案12k的端部相接觸的接觸部958k,與方塊圖案12k+1的端部相接觸的配線957k+1上形成了與方塊圖案12k+1的端部相接觸的接觸部958k+1的情況下,如果接觸部958k及接觸部958k+1的形狀被形成為大致直線狀,則在方塊圖案12k的端部的接觸部958k的附近,會形成電位扭曲(distorted)區域960k,在方塊圖案12k+1的端部的接觸部958k+1的附近,會形成電位扭曲區域960k+1。在此情況下,因為電位扭曲區域960k及960k+1中的電位發生了扭曲,所以導致了位置檢測精度下將。
因此,在本實施方式的觸控面板中,如圖17所示,盡管在與第1透明導電膜10的方塊圖案12k的端部相接觸的配線57k中形成了與方塊圖案12k的端部相接觸的接觸部58k,然,接觸部58k的兩端的端部59k被形成為彎向設置了方塊圖案12k的一側。同樣,儘管在與方塊圖案12k+1的端部相接觸的配線57k+1中形成了與方塊圖案12k+1的端部相接觸的接觸部58k+1,然,接觸部58k+1的兩端的端部59k+1被形成為彎向設 置了方塊圖案12k+1的一側。
藉由形成具有端部59k的接觸部58k及具有端部59k+1的接觸部58k+1,在方塊圖案12k的區域60k及方塊圖案12k+1的區域60k+1中,可以對電位分布的扭曲進行緩和,進而可提高接觸位置檢測的檢測精度。
這裡需要說明的是,關於上述之外的內容,係與第2實施方式同樣者。
以上對本發明的實施方式進行了說明,然,上述內容並非用於限定本發明的內容者。
10‧‧‧第1透明導電膜
12‧‧‧方塊圖案
12a‧‧‧方塊形狀部
12b‧‧‧方塊形狀部連接部
13‧‧‧導電膜去除區域

Claims (11)

  1. 一種觸控面板,其特徵在於,具有:第1導電膜,具有複數個沿一個方向被形成為較長的方塊圖案;及第2導電膜,被設置為面對該第1導電膜,其中,該方塊圖案係,在複數個形成為方塊形狀的方塊形狀部之間由方塊形狀部連接部所連接者,在該方塊形狀部上形成導電膜去除區域,該導電膜去除區域係藉由去除形成該第1導電膜的導電膜的一部分而形成的。
  2. 一種觸控面板,其特徵在於,具有:第1導電膜,具有複數個沿一個方向被形成為較長的方塊圖案;及第2導電膜,被設置為面對該第1導電膜,其中,該方塊圖案係,在複數個形成為方塊形狀的方塊形狀部之間由方塊形狀部連接部所連接者,在該方塊形狀部連接部、或、該方塊形狀部連接部的附近的該方塊形狀部上形成高導電區域,該高導電區域的導電性比該方塊形狀部的中央部分的導電性高。
  3. 根據請求項1或2之觸控面板,其特徵在於,該方塊形狀部在施加電壓時的電位分布為大致等間隔。
  4. 一種觸控面板,其特徵在於,具有:第1導電膜,具有複數個沿一個方向被形成為較長的方塊圖案;及第2導電膜,被設置為面對該第1導電膜,其中,該方塊圖案係,在複數個形成為方塊形狀的方塊形狀部 之間由方塊形狀部連接部所連接者,該方塊圖案被形成為複數個,為了連接該各方塊圖案和外部連接基板,與該各方塊圖案相對應地設置了各配線,該配線的長度為大致均一。
  5. 一種觸控面板,其特徵在於,具有:第1導電膜,具有複數個沿一個方向被形成為較長的方塊圖案;及第2導電膜,被設置為面對該第1導電膜,其中,該方塊圖案係,在複數個形成為方塊形狀的方塊形狀部之間由方塊形狀部連接部所連接者,該方塊圖案被形成為複數個,為了連接該各方塊圖案和外部連接基板,與該各方塊圖案相對應地設置了各配線,在該複數個配線中,一個配線的長度被形成為比其它配線的長度短,該其它配線被形成為一部分或全部的寬度比該一個配線的寬度寬。
  6. 一種觸控面板,其特徵在於,具有:第1導電膜,具有複數個沿一個方向被形成為較長的方塊圖案;及第2導電膜,被設置為面對該第1導電膜,其中,該方塊圖案係,在複數個形成為方塊形狀的方塊形狀部之間由方塊形狀部連接部所連接者,該方塊圖案被形成為複數個,為了連接該各方塊圖案和外部連接基板,與該各方塊圖案相對應地設置了各配線, 在該複數個配線中,一個配線的長度被形成為比其它配線的長度短,該其它配線被形成為一部分或全部的厚度比該一個配線的厚度厚。
  7. 根據請求項4、5或6之觸控面板,其特徵在於,該各配線的電阻值為大致均一。
  8. 一種觸控面板,其特徵在於,具有:第1導電膜,具有複數個沿一個方向被形成為較長的方塊圖案;及第2導電膜,被設置為面對該第1導電膜,其中,該方塊圖案係,在複數個形成為方塊形狀的方塊形狀部之間由方塊形狀部連接部所連接者,該方塊圖案被形成為複數個,為了連接該各方塊圖案和外部連接基板,與該各方塊圖案相對應地設置了各配線,在該複數個配線中,一個配線的長度被形成為比其它配線的長度短,該其它配線和與該其它配線相對應的該方塊圖案之間的接觸點的位置被設置為,位於比該一個配線和與該一個配線相對應的該方塊圖案之間的接觸點的位置還往內的內側。
  9. 根據請求項8之觸控面板,其特徵在於,在該各配線及該各方塊圖案中,相對於與接觸點連接的該配線的電阻和該方塊圖案的電阻之和的該配線的電阻值為大致一定。
  10. 一種觸控面板,其特徵在於,具有:第1導電膜,具有複數個沿一個方向被形成為較長的方塊圖案;及第2導電膜,被設置為面對該第1導電膜, 其中,該方塊圖案係,在複數個形成為方塊形狀的方塊形狀部之間由方塊形狀部連接部所連接者,該方塊圖案被形成為複數個,為了連接該各方塊圖案和外部連接基板,與該各方塊圖案相對應地設置了各配線,該方塊圖案和該配線相接觸的該配線中的接觸部的兩端的端部彎向設置了該方塊圖案的一側。
  11. 根據請求項1、2、4、5、6、8、9或10之觸控面板,其特徵在於,藉由該第1導電膜和該第2導電膜的接觸,可實施接觸位置的位置檢測,藉由檢測該第1導電膜內所流動的電荷,可實施接觸位置的位置檢測。
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